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JP2009015914A - Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, manufacturing apparatus, and manufacturing method of magnetic disk - Google Patents

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, manufacturing apparatus, and manufacturing method of magnetic disk Download PDF

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JP2009015914A
JP2009015914A JP2007173581A JP2007173581A JP2009015914A JP 2009015914 A JP2009015914 A JP 2009015914A JP 2007173581 A JP2007173581 A JP 2007173581A JP 2007173581 A JP2007173581 A JP 2007173581A JP 2009015914 A JP2009015914 A JP 2009015914A
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JP
Japan
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glass substrate
shaft
holding portion
polishing
inner hole
Prior art date
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Application number
JP2007173581A
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Japanese (ja)
Inventor
Osamu Koshimizu
修 輿水
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To highly accurately polish an inner peripheral end surface while the number of layered glass substrates is secured and to enhance tolerance and roundness of inner holes. <P>SOLUTION: A bottom wall part 19 of a holder body 17 of a work holder is attached onto a table 5, a plurality of glass substrates 2 are layered on the bottom wall part 19, the glass substrates 2 are positioned on the bottom wall part 19 by providing a shaft 12 on the bottom wall part 19 in an erected state so that the shaft 12 penetrates through the communicating inner holes of the layered glass substrates 2, the positioned glass substrates 2 are pushed and fixed from an upper part by a pushing part 22 of a holder cover 18 of the work holder, then the shaft 12 is removed from the communicating inner holes of the glass substrates 2 and a polishing brush is inserted in the inner holes to polish the inner holes. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び製造装置、並びに、これらにより製造されるガラス基板を用いた磁気ディスクの製造方法に関し、詳しくはガラス基板に形成された内孔の内周端面の研磨技術に関する。   The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, and a method for manufacturing a magnetic disk using the glass substrate manufactured by these, and more specifically, the inner peripheral end surface of an inner hole formed in the glass substrate. It relates to polishing technology.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化及び高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べて基板表面の平坦性及び基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. An aluminum substrate has been widely used as a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of the magnetic recording media. However, with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, glass substrates that are superior in substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates are gradually being replaced.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が8nm程度にまで狭くなってきている。このため、磁気ディスク面上の凹凸形状により磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮又は磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触に起因する加熱により読出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害が起こる場合がある。上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。特許文献1では、基板の外周及び内周の各端面を鏡面に至るまで研磨することにより、基板端面におけるパーティクルの発生や吸着を防止し、上記問題を解決できるとしている。   As the magnetic recording technology has been increased in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The flying height of this is narrowing to about 8 nm. For this reason, there may be a crash failure that the magnetic head collides due to the uneven shape on the magnetic disk surface, or a thermal asperity failure that causes a read error due to adiabatic compression of air or heating due to contact between the magnetic head and the magnetic disk. . Under the circumstances as described above, the importance of the smoothness of the end face of the substrate has been recognized conventionally. In Patent Document 1, it is said that by polishing each end face of the outer periphery and inner periphery of the substrate up to a mirror surface, generation and adsorption of particles on the end face of the substrate can be prevented, and the above problem can be solved.

ガラス基板の内周端面を研磨する技術としては、特許文献2に記載されているような回転ブラシによる研磨方法が知られている。この研磨方法は、内孔が形成された円盤状のガラス基板を積層して基板ケースと締め付けカバー(ワークホルダ)に収容し、これを回転保持台(テーブル)に固定した上でガラス基板の連通した内孔に回転ブラシを挿入し、研磨液に浸漬させながら回転保持台と回転ブラシとをそれぞれ回転させることによって、内周端面を研磨するものである。
特開平10−154321号公報 特開平11−221742号公報
As a technique for polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, a polishing method using a rotating brush as described in Patent Document 2 is known. In this polishing method, a disk-shaped glass substrate having an inner hole is stacked and accommodated in a substrate case and a tightening cover (work holder), which is fixed to a rotation holding table (table), and then the glass substrate is communicated. The inner peripheral end face is polished by inserting a rotating brush into the inner hole and rotating the rotating holding base and the rotating brush while being immersed in the polishing liquid.
JP-A-10-154321 JP-A-11-221742

最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められる。なかでも、HDDの読書速度の向上のために磁気ディスクの回転速度は大きくなる傾向にあり、磁気ディスクの回転の重心は極めて重要であるため、内孔(内周端面)の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささが求められる。   Recently, in order to further improve the recording density, a perpendicular magnetic recording system is being adopted. In the case of this perpendicular magnetic recording medium, the influence of the glass substrate tends to appear more conspicuously than in the case of the in-plane magnetic recording system. For this reason, the glass substrate is required to have lower roughness, flatness, and shape accuracy. In particular, the rotational speed of the magnetic disk tends to increase in order to improve the reading speed of the HDD, and the center of gravity of the rotation of the magnetic disk is extremely important, so the dimensional tolerance of the inner hole (inner peripheral end face) is small. A high roundness, and therefore a small tolerance for fitting with the spindle is required.

一方、近年は特に携帯電話やデジタルカメラ、携帯型音楽再生機等にも小型のHDDが搭載される要請があり、磁気ディスクには一層の小型化、高記録密度化及び低コスト化が求められている。   On the other hand, in recent years, there has been a demand for a small HDD to be mounted especially on mobile phones, digital cameras, portable music players, etc., and magnetic disks are required to be further miniaturized, higher recording density and lower cost. ing.

ここで、ガラス基板の内周端面を研磨するにあたり、生産コストを低廉化するためには、研磨の際に積層する枚数を増加させることが考えられる。例えば100枚ずつ積層して研磨していたところを300枚ずつ積層して研磨すれば、単純には1/3のタクト(処理時間)で生産をすることが可能となる。しかし、積層枚数を増加させるほど、内孔の公差や真円度は低下してしまう傾向にある。   Here, in order to reduce the production cost in polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, it is conceivable to increase the number of sheets to be laminated at the time of polishing. For example, if 300 sheets are laminated and polished every 300 sheets, it is possible to simply produce with 1/3 tact (processing time). However, as the number of stacked layers increases, the tolerance and roundness of the inner hole tend to decrease.

そこで本発明は、ガラス基板の積層枚数を確保しつつ内周端面を高精度に研磨し、内孔の公差及び真円度を向上させることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、製造装置と、これらにより製造されるガラス基板を用いた磁気ディスクの製造方法を提供することを課題としている。   Accordingly, the present invention provides a method and apparatus for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, which can polish the inner peripheral end face with high accuracy while ensuring the number of laminated glass substrates, and improve tolerance and roundness of the inner hole. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a magnetic disk using a glass substrate manufactured by these methods.

本発明の発明者は、上記問題について鋭意検討した結果、積層した複数のガラス基板が内周端面を研磨する際に回転軸に対して傾いていると、内孔の公差や真円度が低下してしまうことを突き止めた。そして、この問題を解決するために研磨工程を検討した結果、ワークホルダにガラス基板を積層して保持させる段階においてガラス基板の枚数が増えると内孔の軸心と回転軸との一致の度合いが低下しやすく、また、たとえガラス基板をワークホルダに精度よく保持させることができたとしても、そのワークホルダをテーブル上にセットする際に傾きが生じやすいという事実を突き止めた。そして、ワークホルダをテーブル上にセットした後にガラス基板をワークホルダにセットすることにより、内孔の軸心と回転軸との一致の度合いを向上させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   The inventor of the present invention diligently studied the above problem, and as a result, when the laminated glass substrates are inclined with respect to the rotation axis when polishing the inner peripheral end face, the tolerance and roundness of the inner hole are lowered. I found out. And, as a result of examining the polishing process to solve this problem, the degree of coincidence between the axis of the inner hole and the rotation axis increases as the number of glass substrates increases in the stage of stacking and holding the glass substrates on the work holder. The present inventors have found out that even if the glass substrate can be held on the work holder with high accuracy, the inclination tends to occur when the work holder is set on the table. Then, after setting the work holder on the table, by setting the glass substrate on the work holder, it is found that the degree of coincidence between the axis of the inner hole and the rotation axis can be improved, and the present invention is completed. It came.

すなわち上記課題を解決するために、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、内孔を有するガラス基板を積層し、連通した内孔に研磨体を挿入して研磨する内周端面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨装置の研磨体を取り付ける位置に、該研磨体に代えて、位置決め部材をその中心軸が研磨体の中心軸と一致するように取り付ける工程と、複数枚のガラス基板を積層する工程と、位置決め部材を積層したガラス基板の連通した内孔に貫通させる工程と、積層したガラス基板を固定する工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔から位置決め部材を抜脱する工程と、研磨装置に位置決め部材に代えて研磨体を取り付ける工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔に研磨体を挿入する工程とを含むことを特徴とする。   That is, in order to solve the above problems, a typical configuration of the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is to laminate a glass substrate having an inner hole and insert a polishing body into the communicating inner hole for polishing. In the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk including the inner peripheral end face polishing step, the positioning member has a central axis that coincides with the central axis of the polishing body instead of the polishing body at a position where the polishing body of the polishing apparatus is attached. Mounting step, a step of laminating a plurality of glass substrates, a step of penetrating through an inner hole of a glass substrate laminated with a positioning member, a step of fixing the laminated glass substrate, and a positioned glass substrate Removing the positioning member from the communicating inner hole, attaching the polishing body to the polishing apparatus instead of the positioning member, and communicating the inner hole of the positioned glass substrate Characterized in that it comprises a step of inserting the abrasive body.

上記構成によれば、内周端面を研磨する研磨装置の研磨体を取り付ける位置に位置決め部材を取り付けることにより、まさに研磨体と同じ位置や姿勢の位置決め部材によって積層したガラス基板を位置決めすることができる。このため、ガラス基板の積層枚数が多くても各ガラス基板の内周端面を高精度に研磨することができ、内孔の公差及び真円度、同芯度を向上させることができる。   According to the said structure, the glass substrate laminated | stacked by the positioning member of the exact same position and attitude | position as a grinding | polishing body can be positioned by attaching a positioning member to the position which attaches the grinding | polishing body of the grinding | polishing apparatus which grind | polishes an inner peripheral end surface. . For this reason, even if the number of laminated glass substrates is large, the inner peripheral end face of each glass substrate can be polished with high accuracy, and the tolerance, roundness, and concentricity of the inner holes can be improved.

また本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の他の代表的な構成は、ガラス基板に形成された内孔の内周端面を研磨する研磨装置のテーブル上に、ガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダの下側保持部を取り付ける工程と、ガラス基板を下側保持部上に複数積層する工程と、下側保持部上に積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように、下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置する工程と、シャフトにより積層されたガラス基板を位置決めする工程と、下側保持部上に位置決めされたガラス基板を上側保持部で上方から押さえる工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱する工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔に研磨体を挿入する工程と、テーブル及び研磨体を相対的に回転又は移動させて内周端面を研磨体により研磨する工程とを含むことを特徴とする。   Another typical configuration of the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is to laminate a plurality of glass substrates on a table of a polishing apparatus for polishing an inner peripheral end surface of an inner hole formed in the glass substrate. Attaching the lower holding part of the work holder sandwiched between the upper holding part and the lower holding part in a state, the step of laminating a plurality of glass substrates on the lower holding part, and the glass laminated on the lower holding part The step of installing the shaft in an upright state with respect to the lower holding portion, the step of positioning the glass substrate laminated by the shaft, and the positioning on the lower holding portion so as to penetrate the inner hole communicated with the substrate Pressing the glass substrate from above with the upper holding portion, removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate, and inserting the polishing body into the communicating inner hole of the positioned glass substrate A step of entering, characterized in that it comprises a step of polishing by the polishing body inner peripheral edge surface by relatively rotating or moving the table and the polishing body.

本発明においては、上下は必ずしも重力の作用方向に対応することを要せず、テーブルからみて遠い方を上、近い方を下とすればよい。下側保持部と上側保持部の結合部は作業に支障がない位置であればよい。下側保持部をテーブル上に取り付ける際には両者の間に何らかの部材等を介在させてもよく、シャフトの直立状態はシャフトによるガラス基板の位置決めが可能な程度の精度があればよい。研磨体による内周端面の研磨時には、テーブル及び研磨体を相対的に回転又は移動させるが、「相対的」とはテーブル及び研磨体のいずれか一方又は双方が駆動されて研磨体が内周端面に対して(研磨液を介して)摺接すればよいことを意味し、「移動」とは例えば研磨体がテーブルに対して略直交する方向(内孔の軸方向)に往復道するような場合を含む。   In the present invention, the top and bottom do not necessarily correspond to the direction of gravity, and the far side as viewed from the table may be up and the near side may be down. The connecting portion between the lower holding portion and the upper holding portion may be a position that does not hinder the work. When the lower holding portion is mounted on the table, some member or the like may be interposed between the two, and the shaft upright state only needs to be accurate enough to position the glass substrate by the shaft. At the time of polishing the inner peripheral end surface by the polishing body, the table and the polishing body are relatively rotated or moved. “Relative” means that either or both of the table and the polishing body are driven and the polishing body is moved to the inner peripheral end surface. Means that the polishing body reciprocates in a direction substantially perpendicular to the table (in the axial direction of the inner hole), for example. including.

上記構成によれば、テーブル上にワークホルダの下側保持部を取り付け、ガラス基板を下側保持部上に複数積層し,積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置することによって、ガラス基板を下側保持部上に位置決めし、位置決めされたガラス基板を上側保持部により上方から押さえて固定した上でガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱し、その内孔に研磨体を挿入して研磨するので、ガラス基板の位置決め及び固定が研磨の直前に行われることになり、内孔の公差及び真円度を向上させることができる。すなわち、ガラス基板の位置決め・固定段階と研磨段階との間においてシャフトの抜脱は行われるが、この抜脱工程は位置決め・固定されたガラス基板同士(内孔同士)の重なり合いを径方向にずらしてガラス基板のテーブルに対する位置を乱す性質のものではない。また、積層状態のガラス基板をワークホルダに収容した後にワークホルダをテーブル上に固定する場合には、ワークホルダとテーブルとの間に砥粒が入り込む等してワークホルダのテーブルに対する取付精度が低下し、これに伴いガラス基板のテーブルに対する位置決め精度も低下するという事態が懸念されるが、上記構成ではワークホルダが事前(ガラス基板を保持する前)にテーブルに取り付けられているので、もしワークホルダのテーブルに対する取付精度に多少の問題があっても、その誤差はその後に行われるガラス基板の位置決め工程で吸収することができる。   According to the above configuration, the lower holding portion of the work holder is mounted on the table, a plurality of glass substrates are stacked on the lower holding portion, and the lower holding is performed so as to penetrate through the inner holes communicated with the stacked glass substrates. The glass substrate is positioned on the lower holding part by installing the shaft in an upright state with respect to the part, and the glass substrate is communicated with the upper side holding part by pressing and fixing the positioned glass substrate from above. The shaft is removed from the hole, and the polishing body is inserted into the inner hole for polishing. Therefore, the glass substrate is positioned and fixed immediately before polishing, and the tolerance and roundness of the inner hole are improved. Can do. That is, the shaft is pulled out between the positioning / fixing stage and the polishing stage of the glass substrate, but this pulling process shifts the overlap between the positioned and fixed glass substrates (inner holes) in the radial direction. Therefore, the position of the glass substrate relative to the table is not disturbed. In addition, when the work holder is fixed on the table after the laminated glass substrate is accommodated in the work holder, the accuracy of mounting the work holder on the table decreases due to, for example, abrasive grains entering between the work holder and the table. However, there is a concern that the positioning accuracy of the glass substrate with respect to the table may be lowered. However, in the above configuration, the work holder is attached to the table in advance (before holding the glass substrate). Even if there is some problem in the mounting accuracy with respect to the table, the error can be absorbed in the glass substrate positioning step performed thereafter.

上記シャフトは径方向に拡縮可能としてもよく、シャフトにより積層されたガラス基板を位置決めする工程では、シャフトを径方向に拡張させて位置決めを行い、位置決めされたガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱する工程では、シャフトを径方向に収縮させて抜脱するようにしてもかまわない。これにより、シャフトの脱抜時にシャフトの縮径によってガラス基板に無理な力が加わることを防止することができ、かつ、ガラス基板の位置決め時にシャフトの拡径によって位置決めを高精度に行うことができる。   The shaft may be expandable / contractable in the radial direction, and in the step of positioning the glass substrate laminated by the shaft, the shaft is expanded in the radial direction to perform positioning, and the shaft is removed from the inner hole communicated with the positioned glass substrate. In the removal process, the shaft may be contracted in the radial direction and removed. Thereby, it is possible to prevent an excessive force from being applied to the glass substrate due to the reduced diameter of the shaft when the shaft is removed, and it is possible to perform positioning with high accuracy by expanding the diameter of the shaft when positioning the glass substrate. .

上記構成において、ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程は、上方に開放した有底筒状のワークカバーにガラス基板を複数積層した状態で収容する工程と、ワークカバーに収容されたガラス基板をワークカバーごと下側保持部上に設置する工程とを含んでいてもよい。本発明においては、ワークカバーの筒状は、全面的に壁体により構成されず、全体として筒状をなすフレーム体等により構成されてもよい。このようにワークカバーを用いることにより、テーブルに下部保持部が固定されたワークホルダに対し、ガラス基板を容易にセットすることができる。   In the above configuration, the step of laminating a plurality of glass substrates on the lower holding portion is accommodated in a step of accommodating a plurality of glass substrates in a state where a plurality of glass substrates are laminated on a bottomed cylindrical work cover opened upward, and being accommodated in the work cover. And a step of installing the glass substrate together with the work cover on the lower holding portion. In the present invention, the cylindrical shape of the work cover may not be entirely constituted by the wall body, but may be constituted by a frame body or the like having a cylindrical shape as a whole. By using the work cover in this manner, the glass substrate can be easily set on the work holder in which the lower holding portion is fixed to the table.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造装置の代表的な構成は、内孔が形成されたガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダと、下側保持部が取り付けられるテーブルと、径方向に拡縮可能なシャフトと、テーブルとの相対的な回転又は移動により内孔の内周端面を研磨する研磨体が取り付けられる研磨体取付部とを備え、シャフトが、テーブルに取り付けられた下側保持部上にガラス基板が複数積層されたときに内孔を貫通し径方向に拡張してガラス基板を位置決めするように、テーブルに対して直立状態で設置可能であるとともに、位置決めされたガラス基板を上側保持部が上方から押さえた状態で径方向に収縮して内孔から抜脱可能であり、研磨体取付部に取り付けられる研磨体が、シャフトが位置決めされたガラス基板の内孔から抜脱された後にその内孔に挿入され、内周端面を研磨することを特徴とする。   A representative configuration of a magnetic disk glass substrate manufacturing apparatus according to the present invention includes a work holder that is sandwiched between an upper holding portion and a lower holding portion in a state in which a plurality of glass substrates having inner holes are stacked, and a lower side. A shaft provided with a table to which the holding portion is attached, a shaft that can be expanded and contracted in the radial direction, and a polishing body attachment portion to which a polishing body that polishes the inner peripheral end surface of the inner hole by relative rotation or movement with the table is attached. However, when multiple glass substrates are stacked on the lower holding part attached to the table, it can be installed upright with respect to the table so that the glass substrate is positioned by extending through the inner hole and expanding in the radial direction. In addition, the positioned glass substrate can be removed from the inner hole by shrinking in the radial direction with the upper holding portion pressed from above, and the polishing body attached to the polishing body mounting portion is Shift is inserted into the inner hole after being pulled out from the inner hole of the glass substrate positioned, characterized by polishing the inner peripheral end surface.

上記構成によれば、テーブル上にワークホルダの下側保持部を取り付け、ガラス基板を下側保持部上に複数積層し,積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置することによって、ガラス基板を下側保持部上に位置決めし、位置決めされたガラス基板を上側保持部により上方から押さえて固定した上でガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱し、その内孔に研磨体を挿入して研磨することにより、ガラス基板の位置決め及び固定が研磨の直前に行われることになり、内孔の公差及び真円度を向上させることができる。また、シャフトの脱抜時にシャフトの縮径によってガラス基板に無理な力が加わることを防止することができ、ガラス基板の位置決め時にシャフトの拡径によって位置決めを高精度に行うことができる。   According to the above configuration, the lower holding portion of the work holder is mounted on the table, a plurality of glass substrates are stacked on the lower holding portion, and the lower holding is performed so as to penetrate through the inner holes communicated with the stacked glass substrates. The glass substrate is positioned on the lower holding part by installing the shaft in an upright state with respect to the part, and the glass substrate is communicated with the upper side holding part by pressing and fixing the positioned glass substrate from above. By removing the shaft from the hole and inserting a polishing body into the inner hole for polishing, the glass substrate is positioned and fixed immediately before polishing, improving the tolerance and roundness of the inner hole. be able to. Further, it is possible to prevent an excessive force from being applied to the glass substrate due to the reduced diameter of the shaft when the shaft is removed, and positioning can be performed with high accuracy by expanding the shaft when positioning the glass substrate.

この製造装置は、上方に開放した有底筒状を呈し、ガラス基板を複数積層した状態で収容するワークカバーを備え、ワークカバーに収容されたガラス基板は、ワークカバーごと下側保持部上に設置されるように構成されてもよい。このようなワークカバーを用いることにより、テーブルに下部保持部が固定されたワークホルダに対し、ガラス基板を容易にセットすることができる。   This manufacturing apparatus has a bottomed cylindrical shape that opens upward, and includes a work cover that accommodates a plurality of glass substrates stacked together. The glass substrate accommodated in the work cover is placed on the lower holding portion together with the work cover. It may be configured to be installed. By using such a work cover, the glass substrate can be easily set to the work holder in which the lower holding portion is fixed to the table.

本発明に係る磁気ディスクの製造方法の代表的な構成は、ガラス基板に形成された内孔の内周端面を研磨する研磨装置のテーブル上に、ガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダの下側保持部を取り付ける工程と、ガラス基板を下側保持部上に複数積層する工程と、下側保持部上に積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように、下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置する工程と、シャフトにより積層されたガラス基板を位置決めする工程と、下側保持部上に位置決めされたガラス基板を上側保持部で上方から押さえる工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱する工程と、位置決めされたガラス基板の連通した内孔に研磨体を挿入する工程と、テーブル及び研磨体を相対的に回転又は移動させて内周端面を研磨体により研磨する工程と、ガラス基板が研磨された後、その表面に磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする。   A typical configuration of the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention includes an upper holding portion in a state where a plurality of glass substrates are stacked on a table of a polishing apparatus for polishing an inner peripheral end surface of an inner hole formed in a glass substrate. A step of attaching the lower holding part of the work holder sandwiched by the lower holding part, a step of laminating a plurality of glass substrates on the lower holding part, and an internal hole of the glass substrate laminated on the lower holding part A step of installing the shaft in an upright state with respect to the lower holding portion, a step of positioning the glass substrate laminated by the shaft, and an upper holding of the glass substrate positioned on the lower holding portion. A step of pressing from above, a step of removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate, a step of inserting an abrasive body into the communicating inner hole of the positioned glass substrate, and a table And a step of polishing bodies are relatively rotated or moved to polish the inner peripheral end surface by the polishing body, after the glass substrate is polished, characterized in that it comprises a step of forming a magnetic layer on the surface thereof.

上記構成によれば、テーブル上にワークホルダの下側保持部を取り付け、ガラス基板を下側保持部上に複数積層し,積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置することによって、ガラス基板を下側保持部上に位置決めし、位置決めされたガラス基板を上側保持部により上方から押さえて固定した上でガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱し、その内孔に研磨体を挿入して研磨するので、ガラス基板の位置決め及び固定が研磨の直前に行われることになり、内孔の公差及び真円度を向上させることができる。   According to the above configuration, the lower holding portion of the work holder is mounted on the table, a plurality of glass substrates are stacked on the lower holding portion, and the lower holding is performed so as to penetrate through the inner holes communicated with the stacked glass substrates. The glass substrate is positioned on the lower holding part by installing the shaft in an upright state with respect to the part, and the glass substrate is communicated with the upper side holding part by pressing and fixing the positioned glass substrate from above. The shaft is removed from the hole, and the polishing body is inserted into the inner hole for polishing. Therefore, the glass substrate is positioned and fixed immediately before polishing, and the tolerance and roundness of the inner hole are improved. Can do.

上記シャフトは径方向に拡縮可能としてもよく、シャフトにより積層されたガラス基板を位置決めする工程では、シャフトを径方向に拡張させて位置決めを行い、位置決めされたガラス基板の連通した内孔からシャフトを抜脱する工程では、シャフトを径方向に収縮させて抜脱するようにしてもかまわない。これにより、シャフトの脱抜時にシャフトの縮径によってガラス基板に無理な力が加わることを防止することができ、かつ、ガラス基板の位置決め時にシャフトの拡径によって位置決めを高精度に行うことができる。   The shaft may be expandable / contractable in the radial direction, and in the step of positioning the glass substrate laminated by the shaft, the shaft is expanded in the radial direction to perform positioning, and the shaft is removed from the inner hole communicated with the positioned glass substrate. In the removal process, the shaft may be contracted in the radial direction and removed. Thereby, it is possible to prevent an excessive force from being applied to the glass substrate due to the reduced diameter of the shaft when the shaft is removed, and it is possible to perform positioning with high accuracy by expanding the diameter of the shaft when positioning the glass substrate. .

上記構成において、ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程は、上方に開放した有底筒状のワークカバーにガラス基板を複数積層した状態で収容する工程と、ワークカバーに収容されたガラス基板をワークカバーごと下側保持部上に設置する工程とを含んでいてもよい。このようにワークカバーを用いることにより、テーブルに下部保持部が固定されたワークホルダに対し、ガラス基板を容易にセットすることができる。   In the above configuration, the step of laminating a plurality of glass substrates on the lower holding portion is accommodated in a step of accommodating a plurality of glass substrates in a state where a plurality of glass substrates are laminated on a bottomed cylindrical work cover opened upward, and being accommodated in the work cover. And a step of installing the glass substrate together with the work cover on the lower holding portion. By using the work cover in this manner, the glass substrate can be easily set on the work holder in which the lower holding portion is fixed to the table.

本発明によれば、ガラス基板の積層枚数が多くても各ガラス基板の内周端面を高精度に研磨することができ、内孔の公差及び真円度、同芯度を向上させることができる。   According to the present invention, even when the number of laminated glass substrates is large, the inner peripheral end face of each glass substrate can be polished with high accuracy, and the tolerance, roundness, and concentricity of the inner holes can be improved. .

本発明を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は磁気ディスク用ガラス基板の研磨装置(製造装置)を示す断面図、図2はテーブルを示す平面図、図3はワークホルダのホルダ本体を示す平面図、図4はワークカバーを示す断面図、図5はシャフトを示す側面図、図6はホルダ本体の取付手順を示す説明図、図7は積層されたガラス基板をワークホルダに保持させる手順を示す説明図、図8は磁気ディスクの製造方法を示す流れ図、図9は研磨装置による研磨方法を示す流れ図、図10は拡縮可能なシャフトを示す説明図、図11は拡縮可能なシャフトを用いて積層されたガラス基板をワークホルダに保持させる手順を示す説明図、図12は拡縮可能なシャフトの他の例を示す説明図である。なお、以下の実施形態に示す具体的な寸法、形状、材質、その他の数値等は発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。   1 is a sectional view showing a polishing apparatus (manufacturing apparatus) for a glass substrate for a magnetic disk, FIG. 2 is a plan view showing a table, FIG. 3 is a plan view showing a holder body of a work holder, and FIG. 4 is a cross section showing a work cover. 5 is a side view showing the shaft, FIG. 6 is an explanatory view showing a procedure for attaching the holder body, FIG. 7 is an explanatory view showing a procedure for holding the laminated glass substrate on the work holder, and FIG. FIG. 9 is a flowchart showing a polishing method by a polishing apparatus, FIG. 10 is an explanatory diagram showing a shaft that can be expanded and contracted, and FIG. 11 is a diagram showing a method of holding a glass substrate laminated using a shaft that can be expanded and contracted on a work holder. FIG. 12 is an explanatory view showing another example of an expandable / contractible shaft. The specific dimensions, shapes, materials, and other numerical values shown in the following embodiments are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. .

図1に示すように、磁気ディスク用ガラス基板の研磨装置1は、ガラス基板2を積層してなる円筒状の被研磨体3の内周端面3aを研磨するもので、ベース4と、テーブル5と、ワークホルダ6と、ワークカバー7と、ツール軸8と、駆動モータ9と、研磨ブラシ10と、ノズル11と、位置決め部材の例としてのシャフト12(図5参照)とを有する。   As shown in FIG. 1, a magnetic disk glass substrate polishing apparatus 1 polishes an inner peripheral end surface 3a of a cylindrical object 3 formed by laminating glass substrates 2, and includes a base 4 and a table 5. And a work holder 6, a work cover 7, a tool shaft 8, a drive motor 9, a polishing brush 10, a nozzle 11, and a shaft 12 (see FIG. 5) as an example of a positioning member.

被研磨体3は、複数(例えば300枚)のガラス基板2を不織布等からなる円環状のスペーサ13と交互に積層して構成されている。ガラス基板2は、円盤状のガラスの中心に内孔が形成されてなり、その外周端面及び内孔の内周端面2aは面取り加工されている(図1において符合2b,2cは内周端面2aの面取部を示す。)。スペーサ13は、ガラス基板2の面取部の研磨残り及び研磨時における損傷等を確実に防止するために設けられている。被研磨体3の内孔(筒内空間)はガラス基板2の内孔が連通して構成され、被研磨体3の内周端面3aはガラス基板2の内周端面2aが(スペーサ13を挟みつつ)連続して構成されている。   The object to be polished 3 is formed by alternately laminating a plurality (for example, 300) of glass substrates 2 with annular spacers 13 made of a nonwoven fabric or the like. The glass substrate 2 has an inner hole formed at the center of the disk-shaped glass, and the outer peripheral end face and the inner peripheral end face 2a of the inner hole are chamfered (in FIG. 1, reference numerals 2b and 2c are inner peripheral end faces 2a). Shows the chamfered part.) The spacer 13 is provided in order to reliably prevent the polishing residue of the chamfered portion of the glass substrate 2 and damage during polishing. The inner hole (in-cylinder space) of the object to be polished 3 is formed by communicating with the inner hole of the glass substrate 2, and the inner peripheral end face 3 a of the object to be polished 3 is formed by the inner peripheral end face 2 a of the glass substrate 2 (with the spacer 13 interposed). However, it is composed continuously.

ベース4は水平面上に設置され、テーブル5はベアリング14を介してベース4に回転可能に支持されている。テーブル5は、図2に示すように、平面視円形を呈し、図示を略す駆動装置により駆動されて水平面内で正逆任意の方向に回転する。   The base 4 is installed on a horizontal plane, and the table 5 is rotatably supported by the base 4 via a bearing 14. As shown in FIG. 2, the table 5 has a circular shape in a plan view, and is driven by a driving device (not shown) to rotate in an arbitrary direction on the horizontal plane.

テーブル5の上面5aには、回転軸Oを中心とする半径rの円周上でこの円周を3等分する位置(120°ごとの位置)に、ネジ孔15が設けられている。テーブル5の外周面5bには、後述の治具16が脱着自在に取付可能となっている。 On the upper surface 5a of the table 5, screw holes 15 are provided at positions (positions every 120 °) that divide the circumference into three equal parts on the circumference of the radius r 1 centering on the rotation axis O 1 . . A jig 16, which will be described later, can be detachably attached to the outer peripheral surface 5b of the table 5.

ワークホルダ6は、ホルダ本体17とホルダカバー18とを備える。ホルダ本体17は、平面視円形の底壁部19と、底壁部19の外縁から起立する円筒状の周壁部20と、周壁部20の下部から径方向外側に向かって延設されたフランジ部21とが一体的に形成されて構成されている。ホルダカバー18は、円環状の押さえ部22と、押さえ部22の外縁から下方に延在した周壁部23とを備え、例えば周壁部20の上部外周面20aに雄ネジを形成するとともに、周壁部23の内周面23aに雌ネジを形成し、その雄ネジと雌ネジとを螺合させることによって、ホルダカバー18がホルダ本体17の蓋体として周壁部20上に取付固定されるようになっている。   The work holder 6 includes a holder main body 17 and a holder cover 18. The holder body 17 includes a bottom wall portion 19 that is circular in plan view, a cylindrical peripheral wall portion 20 that stands up from the outer edge of the bottom wall portion 19, and a flange portion that extends radially outward from the lower portion of the peripheral wall portion 20. 21 is integrally formed. The holder cover 18 includes an annular pressing portion 22 and a peripheral wall portion 23 extending downward from the outer edge of the pressing portion 22. For example, the holder cover 18 forms a male screw on the upper outer peripheral surface 20 a of the peripheral wall portion 20. By forming a female screw on the inner peripheral surface 23a of 23 and screwing the male screw and the female screw together, the holder cover 18 is attached and fixed on the peripheral wall portion 20 as a lid body of the holder main body 17. ing.

ホルダ本体17の底壁部19の中心には、図3に示すように、底壁部19を上下に貫通する貫通部24が設けられている。貫通部24は、シャフト12のテーパー部25(図5参照)の形状に対応する逆円錐状の凹部26と、凹部26に連通する円孔27とが上下に並んで概略構成されている。フランジ部21には、円孔27の軸心Oを中心とする半径r(r=r)の円周上でこの円周を3等分する位置に、ネジ孔15よりも若干大径の挿通孔28が設けられている。また、同円周上で隣接する挿通孔28から等距離の位置にネジ孔29が設けられている。フランジ部21の外周面21aには、後述の治具30が脱着自在に取付可能となっている。ホルダ本体17は、挿通孔28を挿通したローレットボルト31の先端部がネジ孔15に螺着することにより、テーブル5の上面5aに取り付けられている。 At the center of the bottom wall portion 19 of the holder main body 17, as shown in FIG. 3, a through portion 24 that penetrates the bottom wall portion 19 up and down is provided. The penetrating portion 24 is generally configured by an inverted conical concave portion 26 corresponding to the shape of the tapered portion 25 (see FIG. 5) of the shaft 12 and a circular hole 27 communicating with the concave portion 26 arranged vertically. The flange portion 21 is slightly more than the screw hole 15 at a position that divides the circumference into three equal parts on the circumference of the radius r 2 (r 2 = r 1 ) centered on the axis O 2 of the circular hole 27. A large-diameter insertion hole 28 is provided. A screw hole 29 is provided at a position equidistant from the adjacent insertion hole 28 on the same circumference. A jig 30 described later can be detachably attached to the outer peripheral surface 21 a of the flange portion 21. The holder main body 17 is attached to the upper surface 5 a of the table 5 by screwing the tip of the knurled bolt 31 inserted through the insertion hole 28 into the screw hole 15.

ワークカバー7は、図4に示すように、ステンレス等の金属製で円筒状の金属筒32と、ポリアセタール等の樹脂製で円環状の樹脂リング33とにより構成されている。金属筒32は、その下端に内側に折曲した折曲部34を有し、折曲部34に樹脂リング33が係止されることにより、ワークカバー7全体としては底部に挿通孔35(樹脂リング33の内孔)が形成され、かつ、上方に開放した有底筒状を呈する。   As shown in FIG. 4, the work cover 7 includes a cylindrical metal tube 32 made of a metal such as stainless steel and an annular resin ring 33 made of a resin such as polyacetal. The metal cylinder 32 has a bent portion 34 that is bent inward at the lower end thereof, and the resin ring 33 is locked to the bent portion 34, whereby the work cover 7 as a whole has an insertion hole 35 (resin An inner hole) of the ring 33 is formed and has a bottomed cylindrical shape opened upward.

被研磨体3は、このワークカバー7の金属筒32の内部に収容され、ワークカバー7ごとホルダ本体17の底壁部19上にセットされる。そして、ポリアセタール等の樹脂製で円環状のスペーサ36が被研磨体3上に載置され、スペーサ36を介してホルダカバー18の押さえ部22により上方から押さえられることによって、被研磨体3は底壁部19と押さえ部22とに挟持された状態でワークホルダ6に保持される。   The object to be polished 3 is accommodated inside the metal tube 32 of the work cover 7 and set together with the work cover 7 on the bottom wall portion 19 of the holder body 17. An annular spacer 36 made of resin such as polyacetal is placed on the object to be polished 3, and is pressed from above by the pressing portion 22 of the holder cover 18 through the spacer 36. The workpiece holder 6 is held between the wall portion 19 and the pressing portion 22.

ツール軸8はテーブル5の上方に配置され、駆動モータ9により駆動されてテーブル5の回転軸Oと同心で正逆任意の方向に回転する。ツール軸8及び駆動モータ9は、図示を略す昇降装置により駆動されて上昇・下降する。 The tool shaft 8 is arranged above the table 5 and is driven by a drive motor 9 to rotate in any direction forward and reverse concentric with the rotation axis O 1 of the table 5. The tool shaft 8 and the drive motor 9 are driven up and down by a lifting device (not shown).

研磨ブラシ10はツール軸8に脱着自在に取り付けられて被研磨体3の内孔を貫通し、その下端はホルダ本体17の凹部26の付近に達する。研磨ブラシ10の下端側は、ワークホルダ6の底壁部19やテーブル5を貫通してベース4等に回転可能に軸支されてもよく、このように研磨ブラシを下側からも支持することにより、研磨ブラシの研磨時のぶれを防止して研磨精度を高めることができる。   The polishing brush 10 is detachably attached to the tool shaft 8 and passes through the inner hole of the object to be polished 3, and the lower end thereof reaches the vicinity of the recess 26 of the holder body 17. The lower end side of the polishing brush 10 may be pivotally supported by the base 4 or the like through the bottom wall portion 19 or the table 5 of the work holder 6 and thus supporting the polishing brush from the lower side. Therefore, it is possible to improve the polishing accuracy by preventing the shaking of the polishing brush during polishing.

ノズル11はツール軸8を臨むように設けられ、研磨ブラシ10の上方から研磨液を供給する。供給された研磨液は、研磨ブラシ10と被研磨体3の内周端面3aとの間を流下して貫通部24を通り、図示を略す排液口に回収される。   The nozzle 11 is provided so as to face the tool shaft 8 and supplies the polishing liquid from above the polishing brush 10. The supplied polishing liquid flows down between the polishing brush 10 and the inner peripheral end surface 3a of the object 3 to be polished, passes through the through portion 24, and is collected in a drain port (not shown).

シャフト12は、図5に示すように概略円柱状を呈し、研磨ブラシ10の替わりにワークホルダ6内に設けられて後述するように被研磨体3を構成するガラス基板2の位置決めに供する。シャフト12は、ツール軸8に取り付けられる取付部37と、取付部37に連続して形成され、ガラス基板2の内孔と略同一の径を有する円柱状の大径シャフト部38と、大径シャフト部38に連続して形成され、下方に向かうにつれて縮径するテーパー部25と、テーパー部25に連続して形成され、円孔27と略同一の径を有する円柱状の小径シャフト部39とを備える。   As shown in FIG. 5, the shaft 12 has a substantially cylindrical shape and is provided in the work holder 6 instead of the polishing brush 10 to serve for positioning of the glass substrate 2 constituting the object to be polished 3 as described later. The shaft 12 is attached to the tool shaft 8, an attachment portion 37, a columnar large-diameter shaft portion 38 that is formed continuously with the attachment portion 37 and has substantially the same diameter as the inner hole of the glass substrate 2, and a large diameter. A tapered portion 25 continuously formed on the shaft portion 38 and having a diameter reduced toward the lower side, and a columnar small-diameter shaft portion 39 formed continuously with the tapered portion 25 and having substantially the same diameter as the circular hole 27; Is provided.

研磨装置1を用いて被研磨体3を研磨するには、まず、テーブル5の上面5aにワークホルダ6のホルダ本体17を取り付ける。   In order to polish the object 3 using the polishing apparatus 1, first, the holder body 17 of the work holder 6 is attached to the upper surface 5 a of the table 5.

図6及び図9に示すように、フランジ部21の挿通孔28にローレットボルト31を挿通させ、その先端部をテーブル5のネジ孔15に仮留めした状態で(ステップ401(図中「S.401」と記載。以下同様。))、フランジ部21のネジ孔29にローレットボルト40を螺着させ、このローレットボルト40のフランジ部21の下面21aからの突出量を調整してホルダ本体17を水平にする。詳細には、ツール軸8に変位測定用のゲージ41を取り付け、ゲージ41の触針42を底壁部19に当て、テーブル5を低速で回転させながらゲージ41が一定値を示すように3つのローレットボルト40をネジ孔29に沿って上下方向に進退させる。3つのローレットボルト40の各先端部がテーブル5の上面5aにバランスよく当接すると、ゲージ41の指示値がテーブル5の回転にもかかわらず一定となり、ホルダ本体17の傾き調整が完了する(ステップ402、図6(A))。   As shown in FIGS. 6 and 9, the knurled bolt 31 is inserted into the insertion hole 28 of the flange portion 21, and the tip end portion is temporarily fixed to the screw hole 15 of the table 5 (step 401 (“S. 401 ”. The same applies hereinafter))), and the knurled bolt 40 is screwed into the screw hole 29 of the flange portion 21, and the amount of protrusion of the knurled bolt 40 from the lower surface 21a of the flange portion 21 is adjusted. Make it horizontal. Specifically, the gauge 41 for measuring displacement is attached to the tool shaft 8, the stylus 42 of the gauge 41 is applied to the bottom wall portion 19, and the three pieces of the gauge 41 show a constant value while rotating the table 5 at a low speed. The knurled bolt 40 is moved forward and backward along the screw hole 29. When the tips of the three knurled bolts 40 come into contact with the upper surface 5a of the table 5 in a well-balanced manner, the indicated value of the gauge 41 becomes constant regardless of the rotation of the table 5, and the tilt adjustment of the holder body 17 is completed (step) 402, FIG. 6 (A)).

つぎに、テーブル5の外周面5bの2箇所に治具16を取り付け(望ましくは各取付箇所と回転軸Oとを結ぶ2本の直線が平面視で直交する位置に取り付ける。)、フランジ部21の外周面21aの2箇所(回転軸Oを挟んで治具16の取付箇所と反対側の位置)に治具30を取り付ける。治具16,30の取付方法としては、例えば外周面5b,21aと磁着させることが考えられる。 Then, the jig 16 attached to the two positions of the outer circumferential surface 5b of the table 5 (preferably attached to position two straight lines connecting the rotation axis O 1 and each mounting portion is orthogonal in plan view.), Flange 21 two places of the outer peripheral surface 21a of the (attachment point of the jig 16 across the rotation axis O 1 and the opposite-side position) attaching the jig 30. As a method of attaching the jigs 16 and 30, for example, it is conceivable to magnetically attach to the outer peripheral surfaces 5b and 21a.

治具16は、テーブル5の上面5aよりも上方に突出し、この突出した部分には水平方向に沿ってネジ孔43が形成され、ネジ孔43にはローレットボルト44が螺合する。一方、治具30は、フランジ部21の外周面21aから水平方向に延在して下方に屈曲するL字状を呈し、この下方に屈曲した部分には水平方向に沿ってネジ孔45が形成され、ネジ孔45にはローレットボルト46が螺合する。   The jig 16 protrudes above the upper surface 5 a of the table 5, and a screw hole 43 is formed in the protruding portion along the horizontal direction. A knurled bolt 44 is screwed into the screw hole 43. On the other hand, the jig 30 has an L shape extending in the horizontal direction from the outer peripheral surface 21a of the flange portion 21 and bending downward, and a screw hole 45 is formed along the horizontal direction in the downward bent portion. The knurled bolt 46 is screwed into the screw hole 45.

ここで、ホルダ本体17はテーブル5に対して仮留めされているだけであって、挿通孔28はネジ孔15よりも若干大径であり、挿通孔28とローレットボルト31との遊びの分だけホルダ本体17には水平方向に移動する余地があるので、ローレットボルト44,46をネジ孔43,45に沿って進退させると、ローレットボルト44,46の先端部が外周面21a,5bに当接してホルダ本体17を水平移動させる。このことを利用して、ローレットボルト44,46を進退させて各ローレットボルトの治具からの突出量を調整し、軸心Oが回転軸Oに一致するようにホルダ本体17の位置を調整する。すなわち、ツール軸8に取り付けたゲージ41の触針42を凹部26に当て、テーブル5を低速で回転させながらゲージ41が一定値を示すように2組のローレットボルト44,46をそれぞれ進退させ、ローレットボルト44,46の各先端部が外周面21a,5bにバランスよく当接してゲージ41の指示値が一定となると、ホルダ本体17の同軸調整(芯出し)が完了する(ステップ403、図6(B))。 Here, the holder main body 17 is only temporarily fixed to the table 5, and the insertion hole 28 is slightly larger in diameter than the screw hole 15, and only the amount of play between the insertion hole 28 and the knurled bolt 31 is achieved. Since there is room for the holder body 17 to move in the horizontal direction, when the knurled bolts 44 and 46 are advanced and retracted along the screw holes 43 and 45, the tips of the knurled bolts 44 and 46 come into contact with the outer peripheral surfaces 21a and 5b. The holder body 17 is moved horizontally. Using this fact, the knurled bolts 44 and 46 are advanced and retracted to adjust the amount of protrusion of each knurled bolt from the jig, and the position of the holder body 17 is adjusted so that the axis O 2 coincides with the rotation axis O 1. adjust. That is, the stylus 42 of the gauge 41 attached to the tool shaft 8 is applied to the concave portion 26, and the two sets of knurled bolts 44 and 46 are advanced and retracted so that the gauge 41 shows a constant value while rotating the table 5 at a low speed. When the tips of the knurled bolts 44 and 46 come into contact with the outer peripheral surfaces 21a and 5b in a balanced manner and the indicated value of the gauge 41 becomes constant, the coaxial adjustment (centering) of the holder body 17 is completed (step 403, FIG. 6). (B)).

そして、仮留めしていた3つのローレットボルト31を均等に増締めするとともに治具16,30やゲージ41を取り外し、ホルダ本体17をテーブル5上に完全に固定する(ステップ404)。   Then, the three knurled bolts 31 that have been temporarily fastened are evenly tightened, the jigs 16 and 30 and the gauge 41 are removed, and the holder body 17 is completely fixed on the table 5 (step 404).

ホルダ本体17のテーブル5への取付けが完了すると、被研磨体3をワークホルダ6に保持させる。   When the attachment of the holder body 17 to the table 5 is completed, the workpiece 3 is held by the work holder 6.

図7及び図9に示すように、予めワークカバー7に収容された被研磨体3を、ホルダ本体17にワークカバー7ごと収める(ステップ405、図7(A))。   As shown in FIGS. 7 and 9, the workpiece 3 previously stored in the work cover 7 is stored together with the work cover 7 in the holder body 17 (step 405, FIG. 7A).

つぎに、シャフト12の取付部37を上昇位置にあるツール軸8に取り付けるとともに、被研磨体3上にスペーサ36を、ホルダ本体17上にホルダカバー18をそれぞれ載置し(図7(B))、ツール軸8を下降させてシャフト12を被研磨体3の内孔に挿入させる(図7(C))。これにより、テーパー部25は凹部26に係合し、小径シャフト部39は円孔27に嵌挿し、シャフト12はツール軸8及び貫通部24により上下から支持されて底壁部19に対して直立状態で設置され、シャフト12の軸心は回転軸Oに合致する。シャフト12の挿入につれ、被研磨体3を構成するガラス基板2のうち所定の位置にないものは、その内周端面2aの一部がテーパー部25又は大径シャフト部38の外周面に押圧され、これによりガラス基板2は内孔の軸心が回転軸Oと合致するように位置決めされる。 Next, the attachment portion 37 of the shaft 12 is attached to the tool shaft 8 in the raised position, and the spacer 36 is placed on the object 3 and the holder cover 18 is placed on the holder body 17 (FIG. 7B). ), The tool shaft 8 is lowered, and the shaft 12 is inserted into the inner hole of the object to be polished 3 (FIG. 7C). As a result, the tapered portion 25 engages with the concave portion 26, the small-diameter shaft portion 39 is fitted into the circular hole 27, and the shaft 12 is supported from above and below by the tool shaft 8 and the through portion 24 and is upright with respect to the bottom wall portion 19. It is installed in a state, and the axis of the shaft 12 coincides with the rotation axis O 1 . As the shaft 12 is inserted, a part of the inner peripheral end surface 2a of the glass substrate 2 constituting the object to be polished 3 that is not in a predetermined position is pressed against the outer peripheral surface of the tapered portion 25 or the large-diameter shaft portion 38. Thereby, the glass substrate 2 is positioned so that the axis of the inner hole coincides with the rotation axis O 1 .

続いて、ホルダカバー18をホルダ本体17に取り付け、被研磨体3を底壁部19及び押さえ部22に挟持させることにより、各ガラス基板2が位置決めされた被研磨体3を固定する(ステップ406、図7(D))。   Subsequently, the holder cover 18 is attached to the holder main body 17, and the object to be polished 3 on which each glass substrate 2 is positioned is fixed by sandwiching the object to be polished 3 between the bottom wall part 19 and the pressing part 22 (step 406). FIG. 7 (D)).

この位置決め及び固定の後、ツール軸8を上昇させてシャフト12を上方に引き抜き、被研磨体3の内孔から抜脱する(ステップ407、図7(E))。被研磨体3は前ステップで固定されているので、位置決めされた状態がシャフト12の抜脱に伴いずれることは防止される。   After this positioning and fixing, the tool shaft 8 is raised, the shaft 12 is pulled upward, and is removed from the inner hole of the object to be polished 3 (step 407, FIG. 7E). Since the object to be polished 3 is fixed in the previous step, it is prevented that the positioned state accompanies the removal of the shaft 12.

シャフト12は抜脱後ツール軸8から取り外し、替わりに研磨ブラシ10をツール軸8に取り付け、この研磨ブラシ10を被研磨体3の内孔に挿入する(ステップ408)。   The shaft 12 is removed from the tool shaft 8 after being pulled out. Instead, the polishing brush 10 is attached to the tool shaft 8, and the polishing brush 10 is inserted into the inner hole of the object to be polished 3 (step 408).

そして、テーブル5及びツール軸8の双方を異なる角速度で回転させるか又は一方を回転させ、両者を相対的に回転させることにより、研磨ブラシ10がノズル11から供給される研磨液を介して被研磨体3の内周端面3aに摺接し、内周端面3aを研磨する(ステップ409)。なお、研磨時に研磨ブラシ10は上記昇降装置により上下動を繰り返してもよい。   Then, either the table 5 and the tool shaft 8 are rotated at different angular velocities, or one of them is rotated, and both are rotated relatively, whereby the polishing brush 10 is polished via the polishing liquid supplied from the nozzle 11. The inner peripheral end face 3a is slidably contacted with the inner peripheral end face 3a of the body 3, and the inner peripheral end face 3a is polished (step 409). Note that the polishing brush 10 may be repeatedly moved up and down by the lifting device during polishing.

本実施形態では、テーブル5上にワークホルダ6のホルダ本体17の底壁部19を取り付け、ガラス基板2を底壁部19上に複数積層し,積層されたガラス基板2の連通した内孔(被研磨体3の内孔)を貫通するように底壁部19に対して直立状態でシャフト12を設置することによって、ガラス基板2を下側保持部上に位置決めし、位置決めされたガラス基板2をホルダカバー18の押さえ部22により上方から押さえて固定した上で被研磨体3の内孔からシャフト12を抜脱し、その内孔に研磨ブラシ10を挿入して研磨するので、ガラス基板2の位置決め及び固定が研磨の直前に行われることになり、内孔の公差及び真円度を向上させることができる。すなわち、ガラス基板2の位置決め・固定段階と研磨段階との間においてシャフト12の抜脱は行われるが、この抜脱工程は位置決め・固定されたガラス基板2同士(内孔同士)の重なり合いを径方向にずらしてガラス基板2のテーブル5に対する位置を乱す性質のものではない。また、積層状態のガラス基板をワークホルダに収容した後にワークホルダをテーブル上に固定する場合には、ワークホルダとテーブルとの間に砥粒が入り込む等してワークホルダのテーブルに対する取付精度が低下し、これに伴いガラス基板のテーブルに対する位置決め精度も低下するという事態が懸念されるが、上記構成ではワークホルダ6のホルダ本体17が事前(ガラス基板2を保持する前)にテーブル5に取り付けられているので、もしワークホルダ6のテーブル5に対する取付精度に多少の問題があっても、その誤差はその後に行われるガラス基板2の位置決め工程で吸収することができる。   In this embodiment, the bottom wall part 19 of the holder main body 17 of the work holder 6 is attached on the table 5, a plurality of glass substrates 2 are laminated on the bottom wall part 19, and the inner holes ( The glass substrate 2 is positioned on the lower holding portion by installing the shaft 12 in an upright state with respect to the bottom wall portion 19 so as to pass through the inner hole) of the object 3 to be polished, and the positioned glass substrate 2 is positioned. Since the shaft 12 is removed from the inner hole of the object to be polished 3 and is polished by inserting the polishing brush 10 into the inner hole, the glass substrate 2 is polished. Positioning and fixing are performed immediately before polishing, and the tolerance and roundness of the inner hole can be improved. That is, the shaft 12 is pulled out between the positioning / fixing stage and the polishing stage of the glass substrate 2, and this pulling process is performed by measuring the overlap between the positioned and fixed glass substrates 2 (inner holes). The position of the glass substrate 2 with respect to the table 5 is not disturbed by shifting in the direction. In addition, when the work holder is fixed on the table after the laminated glass substrate is accommodated in the work holder, the accuracy of mounting the work holder on the table decreases due to, for example, abrasive grains entering between the work holder and the table. However, there is a concern that the positioning accuracy of the glass substrate with respect to the table may be lowered. However, in the above configuration, the holder body 17 of the work holder 6 is attached to the table 5 in advance (before holding the glass substrate 2). Therefore, even if there is some problem in the mounting accuracy of the work holder 6 with respect to the table 5, the error can be absorbed in the subsequent positioning process of the glass substrate 2.

ここでは、特に、ガラス基板2を底壁部19上に複数積層する際に、上方に開放した有底筒状のワークカバー7にガラス基板2を複数積層した状態で収容し、このワークカバー7に収容されたガラス基板2をワークカバー7ごと底壁部19上に設置するので、テーブル5にホルダ本体17が固定されたワークホルダ6に対し、ガラス基板2を容易にセットすることができる。   Here, in particular, when a plurality of glass substrates 2 are stacked on the bottom wall portion 19, the glass substrate 2 is accommodated in a state where a plurality of glass substrates 2 are stacked on a bottomed cylindrical work cover 7 opened upward. Since the glass substrate 2 housed in is installed on the bottom wall portion 19 together with the work cover 7, the glass substrate 2 can be easily set to the work holder 6 in which the holder body 17 is fixed to the table 5.

ところで、研磨装置1は、シャフトとして、径方向に拡縮可能なものを有していてもよい。例えば図10に示すシャフト47は、ツール軸8に取り付けられる取付部48と、取付部と同軸で下方に向かって径が小さくなる円錐面49aを備えた棒状部49と、棒状部49に対して相対的に上下方向にスライド可能であるとともに径方向に移動可能で、棒状部49の外周に計3つ設けられた連動部50とを有する。連動部50は、その外面50aが円柱面を構成するとともに、その内面50bが棒状部49の円錐面49aに全体的に当接し、図示を略す弾性部材により径方向内側に向けて付勢されている。棒状部49が連動部50に対して相対的に下方にスライドすると、棒状部49の円錐面49が各連動部50の内面50b同士の間隔を押し広げて各連動部50が径方向外側に移動し、連動部50の外面50aにより規定されるシャフト47の径が増大する。一方、棒状部49が連動部50に対して相対的に上方にスライドすると、上記弾性部材の付勢力により各連動部50の内面50b同士の間隔は狭まって各連動部50が径方向内側に移動し、シャフト47の径が減少する。   Incidentally, the polishing apparatus 1 may have a shaft that can be expanded and contracted in the radial direction. For example, the shaft 47 shown in FIG. 10 has an attachment portion 48 attached to the tool shaft 8, a rod-like portion 49 having a conical surface 49 a that is coaxial with the attachment portion and decreases in diameter downward, and the rod-like portion 49. It is relatively slidable in the vertical direction and is movable in the radial direction, and has a total of three interlocking portions 50 provided on the outer periphery of the rod-like portion 49. The interlocking portion 50 has an outer surface 50a that forms a cylindrical surface, an inner surface 50b that abuts against the conical surface 49a of the rod-like portion 49, and is biased radially inward by an elastic member (not shown). Yes. When the rod-like portion 49 slides relatively downward with respect to the interlocking portion 50, the conical surface 49 of the rod-like portion 49 widens the space between the inner surfaces 50b of each interlocking portion 50, and each interlocking portion 50 moves radially outward. And the diameter of the shaft 47 prescribed | regulated by the outer surface 50a of the interlocking | linkage part 50 increases. On the other hand, when the rod-like portion 49 slides relatively upward with respect to the interlocking portion 50, the interval between the inner surfaces 50b of the interlocking portions 50 is narrowed by the urging force of the elastic member, and the interlocking portions 50 move inward in the radial direction. As a result, the diameter of the shaft 47 decreases.

シャフト47を用いてガラス基板2の位置決めを行うには、図11に示すように、まず被研磨体3が収容されたワークホルダ7をテーブル5上に取り付けられたホルダ本体17の中に入れるとともに(図11(A))、ツール軸8に収縮状態のシャフト47を取り付け(図11(B))、シャフト47を縮径したまま下降させて被研磨体3の内孔に挿入する(図11(C))。そして、棒状部49と連動部50との相対的スライドによりシャフト47を径方向に拡張させ、3つの連動部50の外面50aにより各ガラス基板2の内周端面2a全体に押圧力を加えることによって、各ガラス基板2を所定の位置に位置決めし(図11(D))、この位置決め状態をホルダカバー18で固定した後(図11(E))、シャフト47を径方向に収縮させて被研磨体3の内孔から上方に引き抜く(図11(F))。このようにシャフト47を挿入・抜脱するときにはシャフト47を径方向に収縮させ、ガラス基板2を位置決めするときにはシャフト47を径方向に拡張させることにより、シャフト47の挿脱時にはシャフト47の縮径によってガラス基板2に無理な力が加わることを防止することができ、かつ、ガラス基板2の位置決め時にはシャフト47の拡径によって位置決めを高精度に行うことができる。   In order to position the glass substrate 2 using the shaft 47, first, as shown in FIG. 11, the work holder 7 in which the object to be polished 3 is accommodated is placed in the holder main body 17 attached on the table 5. (FIG. 11 (A)), the contracted shaft 47 is attached to the tool shaft 8 (FIG. 11 (B)), and the shaft 47 is lowered and inserted into the inner hole of the object 3 (FIG. 11). (C)). Then, the shaft 47 is expanded in the radial direction by relative sliding between the rod-shaped portion 49 and the interlocking portion 50, and a pressing force is applied to the entire inner peripheral end surface 2 a of each glass substrate 2 by the outer surfaces 50 a of the three interlocking portions 50. Each glass substrate 2 is positioned at a predetermined position (FIG. 11D), and after this positioning state is fixed by the holder cover 18 (FIG. 11E), the shaft 47 is contracted in the radial direction to be polished. It is pulled upward from the inner hole of the body 3 (FIG. 11 (F)). As described above, when the shaft 47 is inserted / removed, the shaft 47 is contracted in the radial direction, and when the glass substrate 2 is positioned, the shaft 47 is expanded in the radial direction. Therefore, it is possible to prevent an excessive force from being applied to the glass substrate 2, and at the time of positioning the glass substrate 2, positioning can be performed with high accuracy by expanding the diameter of the shaft 47.

なお、上記の説明では、ホルダ本体17を研磨装置にセットした後、シャフト12をセットし、その中に、予め基板を積層させた積層体が載置されているワークホルダ7を入れるようになっている。しかしながら、上記に限定されるものではなく、たとえば、ワークホルダ7を使用せずにガラス基板2をホルダ本体17にセットするようにしてもよい。   In the above description, after the holder main body 17 is set in the polishing apparatus, the shaft 12 is set, and the work holder 7 on which the laminated body in which the substrates are laminated in advance is placed. ing. However, the present invention is not limited to the above. For example, the glass substrate 2 may be set on the holder body 17 without using the work holder 7.

また、ホルダカバー18は、ねじ止めする構成以外にも、ホルダカバー18自体とホルダ本体17との接触する部分にネジ機構(雄ネジ、雌ネジ)を持たせ、ホルダカバー18を回すことで、ガラス基板2の積層体を固定する構成としてもよい。   Besides, the holder cover 18 has a screw mechanism (male screw, female screw) at a portion where the holder cover 18 itself and the holder body 17 are in contact with each other, and by rotating the holder cover 18, It is good also as a structure which fixes the laminated body of the glass substrate 2. FIG.

さらには、ホルダ本体17の一部を失くし(周壁部20をなくし、底壁部19のみとする)、ホルダカバー18とホルダ本体17の一部(周壁部20)とが一体となった構造を採用してもよい。具体的には、ホルダカバーが円筒状の形状をしており、ガラス基板2をセットする際には、このホルダカバーと底壁部19とを固定する方式としてもよい。この場合、ガラス基板をセットする際に、周壁部20がないため、ホルダカバー18を失くすことができ、かつ、簡単に、ガラス基板の積層体をセットすることができる。   Furthermore, a part of the holder main body 17 is lost (the peripheral wall portion 20 is eliminated and only the bottom wall portion 19 is used), and the holder cover 18 and a part of the holder main body 17 (the peripheral wall portion 20) are integrated. May be adopted. Specifically, the holder cover has a cylindrical shape, and when the glass substrate 2 is set, the holder cover and the bottom wall portion 19 may be fixed. In this case, since there is no peripheral wall part 20 when setting a glass substrate, the holder cover 18 can be lost and the laminated body of a glass substrate can be set easily.

[実施例]
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この実施例は、0.8インチ型、1.0インチ型、1.8インチ型、2.5インチ型又は3.5インチ型のいずれの大きさのディスクについても成り立つ。
[Example]
Examples of a glass substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. This embodiment is valid for any size of disk of 0.8 inch type, 1.0 inch type, 1.8 inch type, 2.5 inch type or 3.5 inch type.

(1)形状加工工程及び第1ラッピング工程(ステップ1:図8参照)
まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型及び胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状の磁気ディスク用ガラス基板を得てもよい。
(1) Shape processing step and first lapping step (step 1: see FIG. 8)
First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a body mold to obtain an amorphous plate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate for a magnetic disk may be obtained by cutting a sheet glass formed by a downdraw method or a float method with a grinding wheel.

つぎに、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。ラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. The lapping process was performed using alumina free abrasive grains by a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed from above and below on both sides of the plate glass, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively to perform lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切出工程(ステップ2)
前工程で得たガラス母材をダイヤモンドカッタを用いて切断し、円盤状のガラス基板を切り出した。つぎに、円筒状のダイヤモンドドリルを用いてガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。そして、外周端面及び内周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取加工を施した(フォーミング、チャンファリング)。
(2) Cutting process (Step 2)
The glass base material obtained in the previous step was cut using a diamond cutter to cut out a disk-shaped glass substrate. Next, the inner hole was formed in the center part of the glass substrate using the cylindrical diamond drill, and it was set as the annular | circular shaped glass substrate (coring). Then, the outer peripheral end face and the inner peripheral end face were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming, chamfering).

(3)第2ラッピング工程(ステップ3)
前工程で得られたガラス基板の表裏の両主表面について、第1ラッピング工程と同様にラッピング加工する第2ラッピング工程を行った。第2ラッピング工程を行うことにより、前工程の切出しや端面研磨によって主表面にできた微細な凹凸を除去しておくことができ、後述の主表面研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Second wrapping step (Step 3)
A second lapping process for lapping was performed on both the front and back main surfaces of the glass substrate obtained in the previous process in the same manner as in the first lapping process. By performing the second lapping step, it is possible to remove fine irregularities formed on the main surface by cutting and end face polishing in the previous step, and to complete the main surface polishing step described later in a short time. become.

(4)端面研磨工程(ステップ4)
続いて、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。
(4) End face polishing process (Step 4)
Subsequently, the outer peripheral end face of the glass substrate was mirror polished by a brush polishing method. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

内周端面については、研磨装置1による鏡面研磨を行った。これについては既述であるので説明を省略する(図6、図7及び図9参照)。   The inner peripheral end surface was mirror polished by the polishing apparatus 1. Since this has already been described, a description thereof will be omitted (see FIGS. 6, 7 and 9).

外周及び内周の各端面の研磨を終えたガラス基板は水洗浄した。この研磨により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止することができる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、200〜300枚ほどの多数のガラス基板を積層して研磨した場合であっても、内孔の寸法公差や真円度を良好なものとすることができた。   The glass substrate that had finished the polishing of the end faces on the outer periphery and inner periphery was washed with water. By this polishing, the end surface of the glass substrate was processed into a mirror surface state capable of preventing the precipitation of sodium and potassium. In particular, the inner peripheral end face was able to improve the dimensional tolerance and roundness of the inner hole even when a large number of 200 to 300 glass substrates were laminated and polished.

(5)主表面研磨工程(ステップ5)
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を行った。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて主表面の研磨を行い、研磨液には酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step (Step 5)
As the main surface polishing step, first, the first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism, and cerium oxide abrasive grains were used as the polishing liquid.

第1研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬させて洗浄した。   The glass substrate after the first polishing step was washed by being sequentially immersed in each washing tank of neutral detergent, pure water, and IPA (isopropyl alcohol).

つぎに、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする第2研磨工程を行った。第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて主表面の鏡面研磨を行った。研磨液には、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, the 2nd grinding | polishing process aiming at finishing a main surface in a mirror surface shape was performed. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foam resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the polishing liquid, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

第2研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、IPAの各洗浄槽に順次浸漬させて超音波洗浄した。   The glass substrate which finished the 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA one by one, and ultrasonically cleaned.

(6)化学強化工程(ステップ6)
前工程で得たガラス基板には化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合した化学強化溶液を準備してこれを加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を予熱し、このガラス基板を化学強化溶液中に浸漬させることにより行った。化学強化溶液への浸漬は、ガラス基板の表面全体が化学強化されるように、複数のガラス基板を端面で保持するホルダに収納して行った。
(6) Chemical strengthening process (Step 6)
The glass substrate obtained in the previous process was chemically strengthened. Chemical strengthening is performed by preparing a chemical strengthening solution in which potassium nitrate and sodium nitrate are mixed and heating it, preheating the cleaned glass substrate, and immersing the glass substrate in the chemical strengthening solution. It was. The immersion in the chemical strengthening solution was performed by storing a plurality of glass substrates in a holder that holds the end surfaces so that the entire surface of the glass substrate is chemically strengthened.

化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。   By immersing in the chemical strengthening solution, lithium ions and sodium ions on the surface layer of the glass substrate are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate is strengthened.

化学強化処理を終えたガラス基板は水槽に浸漬させて急冷し、その後濃硫酸に浸漬させて洗浄を行い、さらに、純水、IPAの各洗浄槽に順次浸漬させて超音波洗浄を行った。   The glass substrate after the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath and rapidly cooled, then immersed in concentrated sulfuric acid for cleaning, and further immersed in each cleaning bath of pure water and IPA for ultrasonic cleaning.

ここまでの工程を経て、平坦、かつ、平滑な高剛性の磁気ディスク用ガラス基板が得られた。   Through the steps so far, a flat and smooth high-rigidity glass substrate for a magnetic disk was obtained.

(7)磁気ディスク製造工程(ステップ7)
(6)までの工程を経て得られたガラス基板の両主表面に、Cr合金からなる付着層、FeCoCrB基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrTi基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、ここでは垂直磁気記録方式のディスクを製造したが、面内磁気記録方式として磁性層等を形成してもよい。
(7) Magnetic disk manufacturing process (Step 7)
On both main surfaces of the glass substrate obtained through the steps up to (6), an adhesion layer made of Cr alloy, a soft magnetic layer made of FeCoCrB base alloy, an underlayer made of Ru, and a perpendicular magnetic recording layer made of CoCrTi base alloy A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a protective layer made of hydrogenated carbon and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although a perpendicular magnetic recording type disk is manufactured here, a magnetic layer or the like may be formed as an in-plane magnetic recording type.

以上、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことはいうまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring drawings, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to this example. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

例えば上記形態では拡縮可能なシャフトとしてシャフト47について説明したが、拡縮方法はこれに限定されるものでは勿論なく、図12に示すように、シャフト47が、取付部48と同軸で正逆方向に回転可能な棒状部49と、径方向に移動可能で棒状部49の外周に計3つ設けられた連動部50とを有していてもよい。棒状部49は外周面が3つのカム面(面の横断軌跡が棒状部49の軸心に対して徐々に遠退く(近付く)曲線である面)49aで構成され、連動部50は横断面が扇形状を呈して外周面50aが円柱面を構成するとともに、頂部50bが図示を略す弾性部材の付勢力によりカム面49aに当接する。そして、棒状部49が矢印A方向に回転するとシャフト47が径方向に拡張し、棒状部49が矢印B方向に回転するとシャフト47が径方向に収縮する。   For example, in the above embodiment, the shaft 47 has been described as a shaft that can be expanded and contracted. However, the expansion and contraction method is not limited to this, and the shaft 47 is coaxial with the mounting portion 48 in the forward and reverse directions as shown in FIG. You may have the rod-shaped part 49 which can rotate, and the interlocking | linkage part 50 which can be moved to a radial direction and was provided in the outer periphery of the rod-shaped part 49 a total of three. The rod-shaped portion 49 is composed of three cam surfaces (surfaces having a curved surface in which the traversing trajectory of the surface gradually moves away (approaches) with respect to the axis of the rod-shaped portion 49). The outer peripheral surface 50a forms a cylindrical surface with a fan shape, and the top portion 50b contacts the cam surface 49a by the biasing force of an elastic member (not shown). When the rod-like portion 49 rotates in the arrow A direction, the shaft 47 expands in the radial direction, and when the rod-like portion 49 rotates in the arrow B direction, the shaft 47 contracts in the radial direction.

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造、特に内周端面の研磨において利用することができる。   The present invention can be used for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, particularly for polishing an inner peripheral end face.

磁気ディスク用ガラス基板の研磨装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the grinding | polishing apparatus of the glass substrate for magnetic discs. テーブルを示す平面図である。It is a top view which shows a table. ワークホルダのホルダ本体を示す平面図である。It is a top view which shows the holder main body of a work holder. ワークカバーを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a work cover. シャフトを示す側面図である。It is a side view which shows a shaft. ホルダ本体のテーブル上への取付手順を示し、(A)はホルダ本体の傾き調整を示す説明図、(B)はホルダ本体の同軸調整を示す説明図である。The attachment procedure on the table of a holder main body is shown, (A) is explanatory drawing which shows the inclination adjustment of a holder main body, (B) is explanatory drawing which shows the coaxial adjustment of a holder main body. 積層されたガラス基板をワークホルダに保持させる手順を示し、(A)はワークカバーに収容された被研磨体をホルダ本体に収容する様子を示す説明図、(B)はツール軸にシャフトを取り付けた様子を示す説明図、(C)はシャフトを被研磨体の内孔に挿入した様子を示す説明図、(D)はホルダカバーをホルダ本体に取り付けた様子を示す説明図、(E)はシャフトを被研磨体の内孔から抜脱した様子を示す説明図である。The procedure for holding the laminated glass substrate on the work holder is shown. (A) is an explanatory view showing the state in which the object to be polished accommodated in the work cover is accommodated in the holder main body. (B) is the shaft attached to the tool shaft. (C) is an explanatory view showing a state in which the shaft is inserted into the inner hole of the object to be polished, (D) is an explanatory view showing a state in which the holder cover is attached to the holder body, (E) It is explanatory drawing which shows a mode that the shaft was extracted from the inner hole of the to-be-polished body. 磁気ディスクの製造方法を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of a magnetic disc. 研磨装置による研磨方法を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the grinding | polishing method by a grinding | polishing apparatus. 拡縮可能なシャフトを示し、(A)はその側面図、(B)は縦断面図である。The shaft which can be expanded-contracted is shown, (A) is the side view, (B) is a longitudinal cross-sectional view. 拡縮可能なシャフトを用いて積層されたガラス基板をワークホルダに保持させる手順を示し、(A)はワークカバーに収容された被研磨体をホルダ本体に収容する様子を示す説明図、(B)はツール軸に縮径したシャフトを取り付けた様子を示す説明図、(C)は縮径したシャフトを被研磨体の内孔に挿入した様子を示す説明図、(D)はシャフトを拡径させて被研磨体を構成するガラス基板を位置決めした様子を示す説明図、(E)はホルダカバーをホルダ本体に取り付けた様子を示す説明図、(E)はシャフトを縮径させて被研磨体の内孔から抜脱した様子を示す説明図である。The procedure for holding a glass substrate laminated using a shaft that can be expanded and contracted by a work holder is shown, (A) is an explanatory view showing a state in which an object to be polished housed in a work cover is housed in a holder body, (B) Is an explanatory view showing a state where a reduced diameter shaft is attached to the tool shaft, (C) is an explanatory view showing a state where the reduced diameter shaft is inserted into the inner hole of the object to be polished, and (D) is an enlarged view of the shaft. (E) is an explanatory view showing a state in which the holder cover is attached to the holder main body, (E) is a diameter reduction of the shaft, and (E) is an explanatory view showing the state of positioning the glass substrate constituting the polished body. It is explanatory drawing which shows a mode that it pulled out from the inner hole. 拡縮可能なシャフトの他の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the shaft which can be expanded / contracted.

符号の説明Explanation of symbols

1 …研磨装置(製造装置)
2 …ガラス基板
2a …(ガラス基板の)内周端面
3 …被研磨体
3a …(被研磨体の)内周端面
5 …テーブル
6 …ワークホルダ
7 …ワークカバー
10 …研磨ブラシ(研磨体)
12 …シャフト
19 …底壁部(下側保持部)
22 …押さえ部(上側保持部)
24 …貫通部
25 …テーパー部
26 …凹部
35 …挿通孔
47 …(拡縮可能な)シャフト
1 ... Polishing device (manufacturing device)
2 ... glass substrate 2a ... inner peripheral end face 3 (of glass substrate) ... object 3a to be polished ... inner peripheral end face 5 (of object to be polished) ... table 6 ... work holder 7 ... work cover 10 ... polishing brush (polishing object)
12 ... Shaft 19 ... Bottom wall (lower holding part)
22 ... holding part (upper holding part)
24 ... penetrating part 25 ... taper part 26 ... concave part 35 ... insertion hole 47 ... (expandable / shrinkable) shaft

Claims (9)

内孔を有するガラス基板を積層し、連通した内孔に研磨体を挿入して研磨する内周端面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
研磨装置の前記研磨体を取り付ける位置に、該研磨体に代えて、位置決め部材をその中心軸が前記研磨体の中心軸と一致するように取り付ける工程と、
複数枚のガラス基板を積層する工程と、
前記位置決め部材を前記積層したガラス基板の連通した内孔に貫通させる工程と、
前記積層したガラス基板を固定する工程と、
位置決めされた前記ガラス基板の連通した内孔から前記位置決め部材を抜脱する工程と、
前記研磨装置に前記位置決め部材に代えて前記研磨体を取り付ける工程と、
位置決めされた前記ガラス基板の連通した内孔に前記研磨体を挿入する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
In the method for producing a glass substrate for a magnetic disk, comprising a step of polishing an inner peripheral end face by laminating a glass substrate having an inner hole and inserting a polishing body into the communicating inner hole to polish
At the position where the polishing body of the polishing apparatus is attached, instead of the polishing body, a step of attaching a positioning member so that its central axis coincides with the central axis of the polishing body;
A step of laminating a plurality of glass substrates;
Passing the positioning member through the communicating inner hole of the laminated glass substrate;
Fixing the laminated glass substrate;
Removing the positioning member from the communicating inner hole of the positioned glass substrate;
Attaching the polishing body to the polishing apparatus instead of the positioning member;
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising: inserting the polishing body into an inner hole communicating with the positioned glass substrate.
ガラス基板に形成された内孔の内周端面を研磨する研磨装置のテーブル上に、前記ガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダの前記下側保持部を取り付ける工程と、
前記ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程と、
前記下側保持部上に積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように、前記下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置する工程と、
前記シャフトにより前記積層されたガラス基板を位置決めする工程と、
前記下側保持部上に位置決めされたガラス基板を前記上側保持部で上方から押さえる工程と、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔から前記シャフトを抜脱する工程と、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔に研磨体を挿入する工程と、
前記テーブル及び前記研磨体を相対的に回転又は移動させて前記内周端面を前記研磨体により研磨する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The lower holding portion of the work holder that is sandwiched between the upper holding portion and the lower holding portion in a state where a plurality of the glass substrates are stacked on a table of a polishing apparatus that polishes the inner peripheral end surface of the inner hole formed in the glass substrate. Attaching the process,
A step of laminating a plurality of the glass substrates on the lower holding portion;
A step of installing the shaft in an upright state with respect to the lower holding portion so as to penetrate through the inner hole communicated with the glass substrate laminated on the lower holding portion;
Positioning the laminated glass substrate by the shaft;
Pressing the glass substrate positioned on the lower holding portion from above with the upper holding portion;
Removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate;
Inserting a polishing body into the communicating inner hole of the positioned glass substrate;
And a step of polishing the inner peripheral end surface with the polishing body by relatively rotating or moving the table and the polishing body.
前記シャフトは径方向に拡縮可能であり、
前記シャフトにより前記積層されたガラス基板を位置決めする工程では、前記シャフトを径方向に拡張させて位置決めを行い、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔から前記シャフトを抜脱する工程では、前記シャフトを径方向に収縮させて抜脱することを特徴とする請求項4に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The shaft is expandable / contractable in the radial direction,
In the step of positioning the laminated glass substrate by the shaft, the shaft is expanded in the radial direction for positioning,
5. The magnetic disk glass substrate according to claim 4, wherein in the step of removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate, the shaft is contracted in the radial direction and removed. Production method.
前記ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程は、
上方に開放した有底筒状のワークカバーに前記ガラス基板を複数積層した状態で収容する工程と、
前記ワークカバーに収容されたガラス基板を前記ワークカバーごと前記下側保持部上に設置する工程とを含むことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The step of laminating a plurality of the glass substrates on the lower holding part,
A step of accommodating a plurality of the glass substrates stacked in a bottomed cylindrical work cover opened upward;
4. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 2, further comprising a step of placing the glass substrate accommodated in the work cover together with the work cover on the lower holding portion. 5. .
内孔が形成されたガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダと、
前記下側保持部が取り付けられるテーブルと、
径方向に拡縮可能なシャフトと、
前記テーブルとの相対的な回転又は移動により前記内孔の内周端面を研磨する研磨体が取り付けられる研磨体取付部とを備え、
前記シャフトは、前記テーブルに取り付けられた下側保持部上に前記ガラス基板が複数積層されたときに前記内孔を貫通し径方向に拡張して前記ガラス基板を位置決めするように、前記テーブルに対して直立状態で設置可能であるとともに、位置決めされたガラス基板を前記上側保持部が上方から押さえた状態で径方向に収縮して前記内孔から抜脱可能であり、
前記研磨体取付部に取り付けられる研磨体は、前記シャフトが前記位置決めされたガラス基板の内孔から抜脱された後にその内孔に挿入され、前記内周端面を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造装置。
A work holder sandwiched between the upper holding portion and the lower holding portion in a state in which a plurality of glass substrates having inner holes formed thereon are laminated,
A table to which the lower holding portion is attached;
A shaft that can expand and contract in the radial direction;
A polishing body mounting portion to which a polishing body for polishing the inner peripheral end surface of the inner hole by relative rotation or movement with the table is mounted;
The shaft is positioned on the table so as to position the glass substrate by extending radially through the inner hole when a plurality of the glass substrates are stacked on a lower holding portion attached to the table. On the other hand, it can be installed in an upright state, and can be removed from the inner hole by contracting in a radial direction with the upper glass holding portion held from above.
The polishing body attached to the polishing body attaching portion is inserted into the inner hole after the shaft is removed from the inner hole of the positioned glass substrate, and the inner peripheral end face is polished. Equipment for manufacturing glass substrates for disks.
上方に開放した有底筒状を呈し、前記ガラス基板を複数積層した状態で収容するワークカバーを備え、
前記ワークカバーに収容されたガラス基板は、前記ワークカバーごと前記下側保持部上に設置されることを特徴とする請求項5に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造装置。
It has a bottomed cylindrical shape that opens upward, and includes a work cover that accommodates the glass substrate in a stacked state,
6. The apparatus for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 5, wherein the glass substrate accommodated in the work cover is installed on the lower holding portion together with the work cover.
ガラス基板に形成された内孔の内周端面を研磨する研磨装置のテーブル上に、前記ガラス基板を複数積層した状態で上側保持部及び下側保持部で挟持するワークホルダの前記下側保持部を取り付ける工程と、
前記ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程と、
前記下側保持部上に積層されたガラス基板の連通した内孔を貫通するように、前記下側保持部に対して直立状態でシャフトを設置する工程と、
前記シャフトにより前記積層されたガラス基板を位置決めする工程と、
前記下側保持部上に位置決めされたガラス基板を前記上側保持部で上方から押さえる工程と、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔から前記シャフトを抜脱する工程と、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔に研磨体を挿入する工程と、
前記テーブル及び前記研磨体を相対的に回転又は移動させて前記内周端面を前記研磨体により研磨する工程と、
前記ガラス基板が研磨された後、その表面に磁性層を形成する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
The lower holding portion of the work holder that is sandwiched between the upper holding portion and the lower holding portion in a state where a plurality of the glass substrates are stacked on a table of a polishing apparatus that polishes the inner peripheral end surface of the inner hole formed in the glass substrate. Attaching the process,
A step of laminating a plurality of the glass substrates on the lower holding portion;
A step of installing the shaft in an upright state with respect to the lower holding portion so as to penetrate through the inner hole communicated with the glass substrate laminated on the lower holding portion;
Positioning the laminated glass substrate by the shaft;
Pressing the glass substrate positioned on the lower holding portion from above with the upper holding portion;
Removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate;
Inserting a polishing body into the communicating inner hole of the positioned glass substrate;
Polishing the inner peripheral end surface with the polishing body by relatively rotating or moving the table and the polishing body;
And a step of forming a magnetic layer on a surface of the glass substrate after the glass substrate is polished.
前記シャフトは径方向に拡縮可能であり、
前記シャフトにより前記積層されたガラス基板を位置決めする工程では、前記シャフトを径方向に拡張させて位置決めを行い、
前記位置決めされたガラス基板の連通した内孔から前記シャフトを抜脱する工程では、前記シャフトを径方向に収縮させて抜脱することを特徴とする請求項7に記載の磁気ディスクの製造方法。
The shaft is expandable / contractable in the radial direction,
In the step of positioning the laminated glass substrate by the shaft, the shaft is expanded in the radial direction for positioning,
8. The method of manufacturing a magnetic disk according to claim 7, wherein, in the step of removing the shaft from the communicating inner hole of the positioned glass substrate, the shaft is contracted in the radial direction and removed.
前記ガラス基板を前記下側保持部上に複数積層する工程は、
上方に開放した有底筒状のワークカバーに前記ガラス基板を複数積層した状態で収容する工程と、
前記ワークカバーに収容されたガラス基板を前記ワークカバーごと前記下側保持部上に設置する工程とを含むことを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の磁気ディスクの製造方法。
The step of laminating a plurality of the glass substrates on the lower holding part,
A step of accommodating a plurality of the glass substrates stacked in a bottomed cylindrical work cover opened upward;
The method for manufacturing a magnetic disk according to claim 7, further comprising a step of placing the glass substrate accommodated in the work cover together with the work cover on the lower holding portion.
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