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JP2009063551A5 - - Google Patents

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JP2009063551A5
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Claims (32)

支持枠と、前記支持枠の内側に配置される構造体と、前記構造体を前記支持枠に揺動可能に支持する支持部とを含み、前記構造体の変位量に応じて物理量を検出するセンサ素子と、
上面上に、前記センサ素子が固定される基板と、
少なくとも、前記センサ素子を封止する樹脂封止層とを備え、
前記基板には、少なくとも前記支持枠の内側の領域と対応する領域に、上面から厚み方向に所定の深さを有する凹部が形成されていることを特徴とする、半導体センサ装置。
A support frame, a structure disposed inside the support frame, and a support unit that swingably supports the structure on the support frame, and detects a physical quantity in accordance with a displacement amount of the structure. A sensor element;
A substrate on which the sensor element is fixed on the upper surface;
And at least a resin sealing layer for sealing the sensor element,
The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein a concave portion having a predetermined depth in the thickness direction from the upper surface is formed in the substrate at least in a region corresponding to a region inside the support frame.
前記センサ素子を前記基板上に固定する固定部材をさらに備え、
前記固定部材は、平面的に見て、前記凹部を囲むように、前記基板の上面上に形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体センサ装置。
A fixing member for fixing the sensor element on the substrate;
The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the fixing member is formed on an upper surface of the substrate so as to surround the concave portion when viewed in a plan view.
前記固定部材は、前記センサ素子の外周部に形成されており、
前記センサ素子は、前記支持枠の底面と前記基板の上面とが当接するように、前記基板上に固定されていることを特徴とする、請求項2に記載の半導体センサ装置。
The fixing member is formed on the outer periphery of the sensor element,
The semiconductor sensor device according to claim 2, wherein the sensor element is fixed on the substrate such that a bottom surface of the support frame and an upper surface of the substrate are in contact with each other.
前記固定部材は、前記センサ素子の前記支持枠と前記基板との間の領域に形成されており、
前記センサ素子は、前記固定部材によって、前記基板の上面から上方に所定の距離だけ離間するように固定されていることを特徴とする、請求項2に記載の半導体センサ装置。
The fixing member is formed in a region between the support frame of the sensor element and the substrate,
The semiconductor sensor device according to claim 2, wherein the sensor element is fixed by the fixing member so as to be spaced apart from the upper surface of the substrate by a predetermined distance.
前記固定部材は、銀ペーストから構成されていることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。   The semiconductor sensor device according to claim 2, wherein the fixing member is made of a silver paste. 突起電極を含み、前記突起電極を介して、前記センサ素子と電気的に接続される半導体素子をさらに備え、
前記半導体素子は、前記センサ素子の上面上に、少なくとも、前記センサ素子の前記構造体および前記支持部を覆うように配置されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。
A semiconductor element that includes a protruding electrode and is electrically connected to the sensor element via the protruding electrode;
The said semiconductor element is arrange | positioned on the upper surface of the said sensor element so that the said structure and the said support part of the said sensor element may be covered at least. The semiconductor sensor device described in 1.
前記センサ素子が前記樹脂封止層で封止され、QFN型またはBGA型のパッケージ形態に構成されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。 The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the sensor element is sealed with the resin sealing layer, and is configured in a QFN type or BGA type package form. . 前記半導体素子は制御回路素子であることを特徴とする、請求項6に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 6, wherein the semiconductor element is a control circuit element. 前記基板はリードフレームであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the substrate is a lead frame. 前記リードフレームは、銅材料を含む金属板によって構成されていることを特徴とする、請求項9に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 9, wherein the lead frame is made of a metal plate containing a copper material. 前記リードフレームは、ダイパッドと、前記ダイパッドから分離された複数のリード端子とを含むことを特徴とする、請求項9または10に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 9, wherein the lead frame includes a die pad and a plurality of lead terminals separated from the die pad. 前記リード端子は、ボンディングワイヤを介して、前記センサ素子と電気的に接続されていることを特徴とする、請求項11に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 11, wherein the lead terminal is electrically connected to the sensor element via a bonding wire. 前記樹脂封止層は、熱硬化性樹脂によって構成されていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the resin sealing layer is made of a thermosetting resin. 前記センサ素子は、3軸方向の加速度を検出可能なピエゾ抵抗型の加速度センサ素子であることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein the sensor element is a piezoresistive acceleration sensor element capable of detecting acceleration in three axial directions. 前記構造体は、4つの前記支持部を介して前記支持枠に支持された直方体状のコア部と、平面的に見て、前記コア部の四隅の各々に一体的に連結された直方体状の4つの付随部とを含むことを特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The structure includes a rectangular parallelepiped core portion supported by the support frame via the four support portions, and a rectangular parallelepiped shape integrally connected to each of the four corners of the core portion in plan view. The semiconductor sensor device according to claim 1, further comprising four associated parts. 前記付随部と、前記支持枠および前記支持部との間には、隙間部が設けられていることを特徴とする、請求項15に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 15, wherein a gap portion is provided between the accompanying portion and the support frame and the support portion. 前記隙間部は、加速度を受けて前記構造体が揺動した際に、前記付随部が前記支持枠や前記支持部と接触しない大きさを有することを特徴とする、請求項16に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor device according to claim 16, wherein the gap portion has a size such that the accompanying portion does not contact the support frame or the support portion when the structure is swung by receiving an acceleration. Sensor device. 4つの前記支持部の各々の表面には、ピエゾ抵抗素子が形成されていることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  18. The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein a piezoresistive element is formed on a surface of each of the four support portions. 19. 前記凹部は、平面的に見て、前記センサ素子の前記支持枠の内側の領域よりも大きい平面積が形成されていることを特徴とする、請求項1〜18のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The planar area of the concave portion is larger than a region inside the support frame of the sensor element when seen in a plan view. Semiconductor sensor device. 前記リードフレームの厚みは0.15mm〜0.2mmであることを特徴とする、請求項9〜12のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 9, wherein a thickness of the lead frame is 0.15 mm to 0.2 mm. 前記凹部の深さは、40μm〜100μmであることを特徴とする、請求項1〜20のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  21. The semiconductor sensor device according to claim 1, wherein a depth of the recess is 40 [mu] m to 100 [mu] m. 前記固定部材は、接着層であることを特徴とする、請求項2〜5のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 2, wherein the fixing member is an adhesive layer. 前記接着層は、樹脂接着剤、導電性接着剤、銀ペーストのいずれかを含むことを特徴とする、請求項22に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 22, wherein the adhesive layer includes any one of a resin adhesive, a conductive adhesive, and a silver paste. 前記制御回路素子は、前記センサ素子によって検出された電気信号を、増幅・補正するとともに、前記電気信号を、加速度に比例した電圧として出力する機能を有していることを特徴とする、請求項8に記載の半導体センサ装置。  The control circuit element has a function of amplifying and correcting an electric signal detected by the sensor element and outputting the electric signal as a voltage proportional to acceleration. 9. The semiconductor sensor device according to 8. 前記制御回路素子は、前記センサ素子の上面上に、フリップチップ実装されていることを特徴とする、請求項8または24に記載の半導体センサ装置。  25. The semiconductor sensor device according to claim 8, wherein the control circuit element is flip-chip mounted on an upper surface of the sensor element. 前記突起電極はAuバンプであることを特徴とする、請求項6、8、24、25のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  26. The semiconductor sensor device according to claim 6, 8, 24, or 25, wherein the protruding electrode is an Au bump. 前記センサ素子の上面と前記制御回路素子との間には隙間部が形成されていることを特徴とする、請求項8、24、25のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to any one of claims 8, 24, and 25, wherein a gap is formed between an upper surface of the sensor element and the control circuit element. 前記隙間部は、20μm〜100μmの高さを有することを特徴とする、請求項27に記載の半導体センサ装置。  28. The semiconductor sensor device according to claim 27, wherein the gap portion has a height of 20 [mu] m to 100 [mu] m. 前記制御回路素子の外周部には、全周にわたって樹脂部材が形成されていることを特徴とする、請求項8、24、25、27、28のいずれか1項に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to any one of claims 8, 24, 25, 27, and 28, wherein a resin member is formed on an outer peripheral portion of the control circuit element over the entire periphery. 前記樹脂部材は熱硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項29に記載の半導体センサ装置。  30. The semiconductor sensor device according to claim 29, wherein the resin member is a thermosetting resin. 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であることを特徴とする、請求項30に記載の半導体センサ装置。  The semiconductor sensor device according to claim 30, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. 前記接着層の厚みは、10μm〜20μmであることを特徴とする、請求項22または23に記載の半導体センサ装置。  24. The semiconductor sensor device according to claim 22, wherein the adhesive layer has a thickness of 10 to 20 [mu] m.
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