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JP2009051927A - Polyacetal resin having new crystal structure and method for controlling crystal structure - Google Patents

Polyacetal resin having new crystal structure and method for controlling crystal structure Download PDF

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JP2009051927A
JP2009051927A JP2007219495A JP2007219495A JP2009051927A JP 2009051927 A JP2009051927 A JP 2009051927A JP 2007219495 A JP2007219495 A JP 2007219495A JP 2007219495 A JP2007219495 A JP 2007219495A JP 2009051927 A JP2009051927 A JP 2009051927A
Authority
JP
Japan
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unit
polyacetal resin
polyalkylene glycol
lamellar
polyoxymethylene
Prior art date
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Pending
Application number
JP2007219495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomohiro Kadoma
智宏 門間
Hatsuhiko Harashina
初彦 原科
Yoshihisa Tajima
義久 田島
Koji Tashiro
孝二 田代
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Polyplastics Co Ltd
Original Assignee
Polyplastics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Polyplastics Co Ltd filed Critical Polyplastics Co Ltd
Priority to JP2007219495A priority Critical patent/JP2009051927A/en
Publication of JP2009051927A publication Critical patent/JP2009051927A/en
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyacetal resin having a new crystal structure characterized by a lamellar period structure of 20-40 nm at 25°C. <P>SOLUTION: The polyacetal resin contains a polyoxymethylene unit formed by the repetition of mainly oxymethylene unit and a polyalkylene glycol unit and has a lamellar period structure of 20-40 nm at 25°C. Preferably, the polyalkylene glycol is polyethylene glycol and its number-average molecular weight is ≥2,000. The oxymethylene unit contains 0-10 mol of 2-6C oxyalkylene units based on 100 mol of the oxymethylene unit. The ratio of the polyoxymethylene unit to the polyalkylene glycol unit (former unit/latter unit) is 99/1 to 50/50 in terms of weight percent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な結晶構造を有するポリアセタール樹脂および結晶構造の制御方法に関するものである。   The present invention relates to a polyacetal resin having a novel crystal structure and a crystal structure control method.

結晶性高分子であるポリアセタール樹脂は、結晶化温度以下の温度領域では結晶相と非晶相からなるものになり、結晶相はさらに折りたたみ鎖結晶(ラメラ結晶)と伸びきり鎖結晶に分けられる。   The polyacetal resin, which is a crystalline polymer, has a crystalline phase and an amorphous phase in a temperature range below the crystallization temperature, and the crystalline phase is further divided into a folded chain crystal (lamellar crystal) and an extended chain crystal.

そして、室温においてはラメラ結晶相の間隔は14〜20nmにあることが知られており(非特許文献1)、また、高温で結晶化した場合はラメラ周期が拡大することが知られている(非特許文献2)。
Polymer 44(2003)2159-2168 Polymer 44(2003)6973-6988
And it is known that the space | interval of a lamellar crystal phase exists in 14-20 nm at room temperature (nonpatent literature 1), and when it crystallizes at high temperature, it is known that a lamellar period will expand ( Non-patent document 2).
Polymer 44 (2003) 2159-2168 Polymer 44 (2003) 6973-6988

しかしながら、通常ポリアセタール樹脂が使用される温度範囲、例えば20〜100℃の温度範囲において、20nm以上のラメラ周期を有するポリアセタール樹脂はこれまでのところ知られていない。   However, a polyacetal resin having a lamellar period of 20 nm or more in a temperature range in which a polyacetal resin is usually used, for example, a temperature range of 20 to 100 ° C. has not been known so far.

このような結晶高次構造を有するポリアセタール樹脂は、従来のポリアセタール樹脂に比べて機械物性や気体透過性などの改善が期待されるものであり、その制御手法の開発とこれによって得られる新規な結晶構造を有するポリアセタール樹脂が求められてきた。   The polyacetal resin having such a crystalline higher-order structure is expected to improve mechanical properties and gas permeability as compared with the conventional polyacetal resin. Development of the control method and new crystals obtained thereby There has been a need for polyacetal resins having a structure.

本発明者らは、かかる要求に応えるため鋭意検討を重ねた結果、ポリアセタール樹脂のラメラ周期を制御する有効な手法と、これにより達成される新規な結晶構造を有するポリアセタール樹脂を見出し、本発明に到達した。   As a result of intensive studies to meet such demands, the present inventors have found an effective method for controlling the lamellar period of the polyacetal resin, and a polyacetal resin having a novel crystal structure achieved thereby, and have found the present invention. Reached.

即ち本発明は、主としてオキシメチレン単位の繰り返しで形成されるポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを有してなり、25℃において20〜40nmのラメラ周期構造を有することを特徴とするポリアセタール樹脂、及びポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法に関する。   That is, the present invention relates to a polyacetal resin comprising a polyoxymethylene unit and a polyalkylene glycol unit mainly formed by repeating oxymethylene units, and having a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm at 25 ° C. And a method for controlling a lamellar period of a polyacetal resin.

本発明により、従来にない20〜40nmのラメラ周期構造を有するポリアセタール樹脂が得られることが確認された。またラメラ周期は重合に用いるポリエチレングリコールの分子量によって制御が可能であることが明らかとなった。このように結晶高次構造を制御されたポリアセタール樹脂により柔軟性や気体透過性が改善され、新規用途への展開が期待される。   According to the present invention, it was confirmed that an unprecedented polyacetal resin having a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm can be obtained. It was also found that the lamellar period can be controlled by the molecular weight of polyethylene glycol used for polymerization. Thus, the polyacetal resin having a controlled crystal higher-order structure improves flexibility and gas permeability, and is expected to develop into new applications.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のポリアセタール樹脂は、前述の如く、主としてオキシメチレン単位の繰り返しで形成されるポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを有してなり、25℃において20〜40nmのラメラ周期構造を有することを特徴とするものである。このラメラ周期構造は温度の上昇に伴い幾分かは増大するが、その程度は僅かであり、通常ポリアセタール樹脂が使用される20〜100℃程度の温度範囲においては、20〜45nmのラメラ周期構造を保持したものとなる。このような特異的なラメラ周期構造は、ポリオキシメチレン単位からなるポリマー骨格のいずれか一方の末端、もしくは両末端に、ポリアルキレングリコール単位をブロック共重合的に付加又は導入することにより達成される。   As described above, the polyacetal resin of the present invention has a polyoxymethylene unit mainly formed by repeating oxymethylene units and a polyalkylene glycol unit, and has a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm at 25 ° C. It is characterized by. This lamellar periodic structure increases somewhat with increasing temperature, but the degree is slight, and in the temperature range of about 20-100 ° C where polyacetal resin is usually used, the lamellar periodic structure of 20-45 nm Will be retained. Such a specific lamellar periodic structure is achieved by adding or introducing a polyalkylene glycol unit in a block copolymerization manner to one or both ends of a polymer skeleton composed of polyoxymethylene units. .

ここで、本発明のポリアセタール樹脂を形成するポリオキシメチレン単位としては、ホルムアルデヒド、その環状オリゴマーであるトリオキサンやテトラオキサン等の単独重合によって形成されるオキシメチレン単位の繰り返しのみからなるもの、及び、オキシメチレン単位以外に他の構成単位を少量有してなるものが含まれる。   Here, the polyoxymethylene unit that forms the polyacetal resin of the present invention includes formaldehyde, repeating units of oxymethylene units formed by homopolymerization such as trioxane and tetraoxane, which are cyclic oligomers thereof, and oxymethylene. What has a small amount of other structural units besides the unit is included.

オキシメチレン単位以外の他の構成単位としては、炭素数2〜6のオキシアルキレン単位が好ましく、その割合は、オキシメチレン単位100モルに対し0〜10モルが好ましく、特に0.1〜5モルが好ましい。かかるオキシアルキレン単位は、例えばエチレンオキシド、1,3−ジオキソラン、ジエチレングリコールホルマール、1,4−ブタンジオールホルマール等を共重合成分として使用することにより導入することができる。   As a structural unit other than the oxymethylene unit, an oxyalkylene unit having 2 to 6 carbon atoms is preferable, and the ratio thereof is preferably 0 to 10 mol, particularly preferably 0.1 to 5 mol, per 100 mol of the oxymethylene unit. Such oxyalkylene units can be introduced by using, for example, ethylene oxide, 1,3-dioxolane, diethylene glycol formal, 1,4-butanediol formal and the like as a copolymerization component.

また、本発明において、ポリアルキレングリコール単位を形成するための化合物としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。好ましくは、ポリエチレングルコールである。ポリアルキレングリコールは、数平均分子量が2000以上のものが好ましく、これにより、所望するラメラ周期構造をより適切に制御することができる。   In the present invention, examples of the compound for forming a polyalkylene glycol unit include polyethylene glycol and polypropylene glycol. Polyethylene glycol is preferable. The polyalkylene glycol preferably has a number average molecular weight of 2000 or more, whereby the desired lamellar periodic structure can be controlled more appropriately.

本発明において、ポリアセタール樹脂を構成する上記の如きポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位の割合は、前者/後者=99〜50/1〜50(重量%)が好ましく、特に好ましくは前者/後者=90〜60/10〜40(重量%)である。   In the present invention, the ratio of the polyoxymethylene unit and the polyalkylene glycol unit as described above constituting the polyacetal resin is preferably the former / the latter = 99-50 / 1-50 (% by weight), particularly preferably the former / the latter = It is 90-60 / 10-40 (weight%).

ポリオキシメチレン単位の割合が過多の場合は所望する特異的なラメラ周期構造を得ることができず、逆にポリオキシメチレン単位の割合が少なくなると、ポリアセタール樹脂が本来有する特性が損なわれることになる。   When the proportion of polyoxymethylene units is excessive, the desired specific lamellar periodic structure cannot be obtained. Conversely, when the proportion of polyoxymethylene units decreases, the properties inherent to polyacetal resin are impaired. .

次に、本発明におけるポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法について説明する。   Next, the control method of the lamellar period of the polyacetal resin in this invention is demonstrated.

本発明におけるポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御は、基本的には、ポリオキシメチレン単位からなるポリマー骨格のいずれか一方の末端、もしくは両末端に、ポリアルキレングリコール単位がブロック共重合的に付加又は導入された構造とすることにより行われる。   The control of the lamellar period of the polyacetal resin in the present invention is basically performed by adding or introducing a polyalkylene glycol unit in a block copolymerization manner at one or both ends of a polymer skeleton composed of polyoxymethylene units. This is done by adopting a structured.

従って、一旦ポリオキシメチレン単位からなるポリマーを調製し、ブロック共重合又はグラフト共重合等によって、その一方の末端もしくは両末端にポリアルキレングリコール単位を付加する方法によってもラメラ周期の制御は可能であるが、より好ましくは、以下に記載する方法によるラメラ周期の制御である。   Therefore, the lamella cycle can also be controlled by a method in which a polymer composed of polyoxymethylene units is once prepared and a polyalkylene glycol unit is added to one or both ends by block copolymerization or graft copolymerization. However, it is more preferable to control the lamella cycle by the method described below.

即ち、ポリアルキレングリコールの存在下で、トリオキサン100モルと環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物0〜30モルの重合を行い、主としてオキシメチレン単位の繰り返しで形成されるポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを有するブロック共重合体とすることによってポリアセタール樹脂のラメラ周期を制御する方法である。これにより、ポリアセタール樹脂を25℃において20〜40nmのラメラ周期構造を有するものに制御することが可能となる。   That is, in the presence of polyalkylene glycol, polymerization of 0 to 30 moles of a compound selected from 100 moles of trioxane and cyclic ether and cyclic formal is carried out, and polyoxymethylene units and polyalkylenes formed mainly by repeating oxymethylene units. This is a method for controlling the lamellar period of a polyacetal resin by using a block copolymer having a glycol unit. Thereby, it becomes possible to control the polyacetal resin to have a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm at 25 ° C.

環状エーテル又は環状ホルマールとしてはエチレンオキシド、1,3−ジオキソラン、ジエチレングリコールホルマール、1,4−ブタンジオールホルマール等が使用可能であり、ポリアルキレングリコールとしてはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が使用できる。また、ラメラ周期構造をより適切に制御するためには、使用するポリアルキレングリコールは数平均分子量が2000以上のものが好ましい。また、上記反応において、トリオキサンと環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物の合計量と、存在させるポリアルキレングリコールとの割合は、前者/後者=99〜50/1〜50(重量%)とするのが好ましい。   As the cyclic ether or cyclic formal, ethylene oxide, 1,3-dioxolane, diethylene glycol formal, 1,4-butanediol formal and the like can be used, and as the polyalkylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol and the like can be used. In order to more appropriately control the lamellar periodic structure, the polyalkylene glycol used preferably has a number average molecular weight of 2000 or more. In the above reaction, the ratio of the total amount of the compound selected from trioxane, cyclic ether and cyclic formal and the polyalkylene glycol to be present is the former / the latter = 99-50 / 1-50 (% by weight). Is preferred.

上記の如きポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法において、重合方法としては特に制限されるものではなく、例えば塊状重合を挙げることができる。塊状重合はバッチ式、連続式のいずれであっても良い。   In the method for controlling the lamellar period of the polyacetal resin as described above, the polymerization method is not particularly limited, and examples thereof include bulk polymerization. The bulk polymerization may be either batch type or continuous type.

より具体的には、トリオキサン及び所望により用いられる環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物にポリアルキレングリコールを溶解させ、これに触媒を添加して重合を行えばよい。重合温度は60〜120℃に保つのが好ましい。重合触媒としては、従来からポリアセタール樹脂の製造用触媒として知られた化合物がいずれも使用でき、例えば、三フッ化ホウ素、四塩化スズ、四塩化チタン、五フッ化リン、五塩化リン、五フッ化アンチモン、ヘテロポリ酸、パーフルオロアルキルスルホン酸、これらの錯化合物及び塩が挙げられる。   More specifically, polyalkylene glycol may be dissolved in a compound selected from trioxane and optionally used cyclic ether and cyclic formal, and polymerization may be performed by adding a catalyst thereto. The polymerization temperature is preferably maintained at 60 to 120 ° C. As the polymerization catalyst, any compound conventionally known as a catalyst for producing polyacetal resin can be used. For example, boron trifluoride, tin tetrachloride, titanium tetrachloride, phosphorus pentafluoride, phosphorus pentachloride, pentafluoride, Antimony chloride, heteropolyacid, perfluoroalkylsulfonic acid, and complex compounds and salts thereof.

これらの重合触媒の使用量は、触媒活性の程度によっても異なるが、トリオキサンと環状エーテル及び/又は環状ホルマールの合計量1モルに対し1×10-6 〜1×10-2 モルが好ましく、5×10-6 〜1×10-4 モルが更に好ましい。得られた重合体は、必要に応じて常法に従って重合触媒の失活、末端安定化及び安定剤の添加を行う。 The amount of the polymerization catalyst varies depending on the degree of catalytic activity, 1 × 10 -6 ~1 × 10- 2 mol is preferred to 1 mol of the total amount of trioxane and cyclic ether and / or cyclic formal, 5 More preferably, × 10 −6 to 1 × 10 −4 mol. The obtained polymer is subjected to deactivation of the polymerization catalyst, terminal stabilization and addition of a stabilizer according to a conventional method as necessary.

上記のようにして調製された本発明におけるポリアセタール樹脂のラメラ周期構造は、小角X線散乱測定により観測される。例えば株式会社リガク製 RINT 2500が使用され、得られた散乱ピークの散乱ベクトルqからラメラ間隔dが算出される。なお、散乱ベクトルqは以下の(1)式にて定義され、ラメラ間隔dは(2)式にて与えられる。   The lamellar periodic structure of the polyacetal resin in the present invention prepared as described above is observed by small angle X-ray scattering measurement. For example, RINT 2500 manufactured by Rigaku Corporation is used, and the lamella interval d is calculated from the scattering vector q of the obtained scattering peak. The scattering vector q is defined by the following formula (1), and the lamella interval d is given by the formula (2).

q =(4πsinθ)/λ …(1)
なお、θは散乱角、λは小角X線散乱測定に用いたX線の波長である。
q = (4πsinθ) / λ (1)
Here, θ is the scattering angle, and λ is the X-ray wavelength used for the small-angle X-ray scattering measurement.

d =2π/q …(2)   d = 2π / q (2)

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
数平均分子量3000のポリエチレングリコール40重量部を80℃のトリオキサン60重量部に溶解させ、三フッ化ホウ素ジブチルエーテル錯体をトリオキサンに対しモル比で5.1×10-3添加し、80℃で35分間、重合反応を行った。得られた重合物の内、5gをジメチルホルムアミド(DMF)10mlに150℃で溶解し、ジアザビシクロウンデセン(DBU)を10μl添加しアルカリ不安定成分を分解除去した。
得られた重合体をヘキサフルオロイソプロパノール-d2に溶解し、1H NMR測定を行ったところ、全ポリマー組成中に37.6重量%のポリエチレングリコール単位を有するブロック共重合体であり、その数平均分子量は28400であることが確認された。
次に、25℃の温度条件下で、この重合体の小角X線散乱測定を行った。散乱は図1に示すように、q =0.3, 0.42の位置に強い散乱が見られ、それぞれ20.9nm、15.0nmのラメラ周期構造を有することが示された。
Example 1
40 parts by weight of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 3000 is dissolved in 60 parts by weight of trioxane at 80 ° C., and boron trifluoride dibutyl ether complex is added at a molar ratio of 5.1 × 10 −3 to trioxane, and at 80 ° C. for 35 minutes. A polymerization reaction was performed. 5 g of the obtained polymer was dissolved in 10 ml of dimethylformamide (DMF) at 150 ° C., and 10 μl of diazabicycloundecene (DBU) was added to decompose and remove the alkali labile component.
When the obtained polymer was dissolved in hexafluoroisopropanol-d2 and subjected to 1H NMR measurement, it was a block copolymer having 37.6% by weight of polyethylene glycol units in the total polymer composition, and its number average molecular weight was 28400. It was confirmed that.
Next, small angle X-ray scattering measurement of this polymer was performed under a temperature condition of 25 ° C. As shown in FIG. 1, strong scattering was observed at the positions of q = 0.3 and 0.42, and it was shown that the scattering has a lamellar periodic structure of 20.9 nm and 15.0 nm, respectively.

実施例2
実施例1におけるポリエチレングリコールを数平均分子量が6000のものに変え、三フッ化ホウ素ジブチルエーテル錯体をトリオキサンに対しモル比で2.8×10-3、重合時間を7分間とした以外は、実施例1と同様にして重合を行い、得られた重合物のアルカリ不安定成分の分解除去を行った。得られた重合体は、全ポリマー組成中に36.5重量%のポリエチレングリコール単位を有するブロック共重合体であり、その数平均分子量は24500であることが確認された。また、小角X線散乱によりq =0.27、0.43の位置に強い散乱が見られ、それぞれ23.3nm、14.6nmのラメラ周期構造を有することが示された。
Example 2
Example 1 except that the polyethylene glycol in Example 1 is changed to one having a number average molecular weight of 6000, the boron trifluoride dibutyl ether complex is 2.8 × 10 −3 in molar ratio to trioxane, and the polymerization time is 7 minutes. Polymerization was carried out in the same manner as above, and the alkali-labile components of the resulting polymer were decomposed and removed. The obtained polymer was a block copolymer having 36.5% by weight of polyethylene glycol units in the total polymer composition, and the number average molecular weight was confirmed to be 24,500. In addition, strong scattering was observed at the positions of q = 0.27 and 0.43 by small-angle X-ray scattering, indicating that they have lamellar periodic structures of 23.3 nm and 14.6 nm, respectively.

実施例3
実施例1におけるポリエチレングリコールを数平均分子量が10000のものに変え、三フッ化ホウ素ジブチルエーテル錯体をトリオキサンに対しモル比で1.9×10-3、重合時間を45分間とした以外は、実施例1と同様にして重合を行い、得られた重合物のアルカリ不安定成分の分解除去を行った。得られた重合体は、全ポリマー組成中に36.9重量%のポリエチレングリコール単位を有するブロック共重合体であり、その数平均分子量は48100であることが確認された。また、小角X線散乱によりq =0.2、0.27の位置に強い散乱が見られ、それぞれ31.4nm、23.3nmのラメラ周期構造を有することが示された。
Example 3
Example 1 except that the polyethylene glycol in Example 1 was changed to a number average molecular weight of 10,000, the boron trifluoride dibutyl ether complex was 1.9 × 10 −3 in terms of molar ratio to trioxane, and the polymerization time was 45 minutes. Polymerization was carried out in the same manner as above, and the alkali-labile components of the resulting polymer were decomposed and removed. The obtained polymer was a block copolymer having 36.9% by weight of polyethylene glycol units in the total polymer composition, and the number average molecular weight was confirmed to be 48100. In addition, strong scattering was observed at the positions of q = 0.2 and 0.27 by small-angle X-ray scattering, indicating that they have lamellar periodic structures of 31.4 nm and 23.3 nm, respectively.

比較例1
市販されているポリアセタール樹脂(ポリプラスチックス(株)製 ジュラコン(登録商標)M450-44)を用いて、小角X線散乱測定を行った。散乱はq =0.38の位置に強い散乱を示すのみで、ラメラ周期16.5nmであった。
Comparative Example 1
Small angle X-ray scattering measurement was performed using a commercially available polyacetal resin (Duracon (registered trademark) M450-44 manufactured by Polyplastics Co., Ltd.). Scattering only showed strong scattering at the position of q = 0.38, and the lamellar period was 16.5 nm.

比較例2
市販されているポリアセタール樹脂(ポリプラスチックス(株)製 ジュラコン(登録商標)M450-44)60重量部と数平均分子量を6000のポリエチレングリコール 40重量部をヘキサフルオロイソプロパノールに溶解した後、溶媒を除去してポリオキシメチレンとポリエチレングリコールの混合物を調整し、小角X線散乱測定を行った。散乱はq =0.39の位置に強い散乱を示すのみで、ラメラ周期16.1nmであった。
Comparative Example 2
60 parts by weight of a commercially available polyacetal resin (Duracon (registered trademark) M450-44 manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) and 40 parts by weight of polyethylene glycol having a number average molecular weight of 6000 were dissolved in hexafluoroisopropanol, and then the solvent was removed. Then, a mixture of polyoxymethylene and polyethylene glycol was prepared, and small-angle X-ray scattering measurement was performed. Scattering only showed strong scattering at the position of q = 0.39, and the lamellar period was 16.1 nm.

(解析)
実施例1〜3において重合に使用したポリエチレングリコールの数平均分子量と、得られるポリアセタール樹脂のラメラ間隔には図2に示すように相関があることが判明し、このことからポリエチレングリコールの分子量によってラメラ周期が制御可能であるという知見を初めて見出した。これはポリエチレングリコールによってポリアセタール樹脂のラメラ周期が拡大されているものと考えられる。
(analysis)
The number average molecular weight of the polyethylene glycol used for polymerization in Examples 1 to 3 and the lamellar spacing of the resulting polyacetal resin were found to be correlated as shown in FIG. We have found for the first time that the cycle is controllable. This is considered that the lamellar period of the polyacetal resin is expanded by polyethylene glycol.

実施例1で得られた重合体の小角X線散乱強度を示す。縦軸は散乱強度、横軸は散乱ベクトルqである。The small angle X-ray scattering intensity of the polymer obtained in Example 1 is shown. The vertical axis represents the scattering intensity, and the horizontal axis represents the scattering vector q. 実施例1〜3において得られた重合体のラメラ周期と重合に用いたポリエチレングリコールの数平均分子量の関係を示す。The relationship between the lamella period of the polymer obtained in Examples 1-3 and the number average molecular weight of the polyethyleneglycol used for superposition | polymerization is shown.

Claims (8)

主としてオキシメチレン単位の繰り返しで形成されるポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを有してなり、25℃において20〜40nmのラメラ周期構造を有することを特徴とするポリアセタール樹脂。   A polyacetal resin comprising a polyoxymethylene unit and a polyalkylene glycol unit mainly formed by repeating oxymethylene units and having a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm at 25 ° C. ポリアルキレングリコールがポリエチレングリコールである請求項1に記載のポリアセタール樹脂。   The polyacetal resin according to claim 1, wherein the polyalkylene glycol is polyethylene glycol. ポリアルキレングリコールの数平均分子量が2000以上である請求項1又は2に記載のポリアセタール樹脂。   The polyacetal resin according to claim 1 or 2, wherein the number average molecular weight of the polyalkylene glycol is 2000 or more. ポリオキシメチレン単位が、オキシメチレン単位100モルに対し0〜10モルの割合で炭素数2〜6のオキシアルキレン単位を有するものである請求項1〜3の何れか1項に記載のポリアセタール樹脂。   The polyacetal resin according to any one of claims 1 to 3, wherein the polyoxymethylene unit has an oxyalkylene unit having 2 to 6 carbon atoms in a proportion of 0 to 10 mol with respect to 100 mol of the oxymethylene unit. ポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを、前者/後者=99〜50/1〜50(重量%)の割合で有してなる請求項1〜4の何れか1項に記載のポリアセタール樹脂。   The polyacetal resin according to any one of claims 1 to 4, comprising a polyoxymethylene unit and a polyalkylene glycol unit at a ratio of the former / the latter = 99 to 50/1 to 50 (wt%). ポリアルキレングリコールの存在下でトリオキサン100モルと環状エーテル及び環状ホルマールから選ばれた化合物0〜30モルの重合を行い、主としてオキシメチレン単位の繰り返しで形成されるポリオキシメチレン単位とポリアルキレングリコール単位とを有するブロック共重合体とすることによって、25℃において20〜40nmのラメラ周期構造を有するものに制御する、ポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法。   In the presence of polyalkylene glycol, 100 mol of trioxane and 0 to 30 mol of a compound selected from cyclic ether and cyclic formal are polymerized, and a polyoxymethylene unit and a polyalkylene glycol unit mainly formed by repeating oxymethylene units, A method for controlling a lamellar period of a polyacetal resin, which is controlled to have a lamellar periodic structure of 20 to 40 nm at 25 ° C. ポリアルキレングリコールがポリエチレングリコールである請求項6に記載のポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法。   The method for controlling a lamellar period of a polyacetal resin according to claim 6, wherein the polyalkylene glycol is polyethylene glycol. ポリアルキレングリコールの数平均分子量が2000以上である請求項6又は7に記載のポリアセタール樹脂のラメラ周期の制御方法。   The method for controlling a lamellar period of a polyacetal resin according to claim 6 or 7, wherein the number average molecular weight of the polyalkylene glycol is 2000 or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014102696A3 (en) * 2012-12-31 2014-11-06 Ticona Gmbh Polyoxymethylene polymer with long chain alkylene glycol end groups

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