JP2008237952A - Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device - Google Patents
Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008237952A JP2008237952A JP2007077834A JP2007077834A JP2008237952A JP 2008237952 A JP2008237952 A JP 2008237952A JP 2007077834 A JP2007077834 A JP 2007077834A JP 2007077834 A JP2007077834 A JP 2007077834A JP 2008237952 A JP2008237952 A JP 2008237952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- liquid chamber
- piezoelectric element
- meniscus
- droplet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
Description
本発明は、塗布体の製造方法及び液滴噴射塗布装置に関し、特に、液滴をノズルから噴射させた場合に発生するメニスカス残留振動を減衰させて行う塗布体の製造方法及びメニスカス残留振動を減衰させる機能を備えた液滴噴射塗布装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a coated body and a droplet spray coating apparatus, and more particularly to a method for manufacturing a coated body that attenuates meniscus residual vibration that occurs when droplets are ejected from a nozzle, and attenuates meniscus residual vibration. The present invention relates to a droplet spray coating apparatus having a function of causing
パルス電圧を印加することにより圧電素子を変位させ、圧電素子の変位を利用して液室内の液体をノズルから液滴として噴射させ、噴射された液滴を塗布対象物に塗付する液滴噴射塗布装置が知られている。この液滴噴射塗布装置から噴射された液滴は、噴射方向先端側に位置する頭部と、頭部の後方に繋がって伸びた尾部とからなる水滴状となって飛翔する。 Droplet ejection that displaces a piezoelectric element by applying a pulse voltage, ejects the liquid in the liquid chamber as a droplet from the nozzle using the displacement of the piezoelectric element, and applies the ejected liquid droplet to a coating object Application devices are known. The droplets ejected from the droplet spray coating apparatus fly in the form of water droplets composed of a head located on the tip side in the ejecting direction and a tail extending behind the head.
このような液滴噴射塗布装置において、下記特許文献1に記載されたように、圧電素子に対し、パルス幅の大きい第1のパルス電圧とパルス幅の小さい第2のパルス電圧とを印加するようにした発明が知られている。 In such a droplet spray coating apparatus, as described in Patent Document 1 below, a first pulse voltage having a large pulse width and a second pulse voltage having a small pulse width are applied to the piezoelectric element. The present invention is known.
この発明によれば、第1のパルス電圧を圧電素子に印加することにより、液室内の液体の一部がオリフィスから液滴として噴射されされる。第2のパルス電圧を圧電素子に印加することにより、頭部からの尾部の切り離しが良好に行われ、発生する尾部の長さが短くなり、噴射されて飛翔する液滴の長さ寸法が小さくなる。
しかしながら、上述した特表2001−518030号公報に記載された発明では、以下の点について考慮されていない。 However, in the invention described in the above-mentioned special table 2001-518030, the following points are not considered.
圧電素子にパルス電圧を印加して液滴を噴射させた場合、液滴が噴射された後の液体中にはノズルの液面のメニスカスが振動するメニスカス残留振動が生じる。液体中にメニスカス残留振動が生じているときに液滴を連続して噴射すると、メニスカス残留振動の影響により、飛翔する液滴中に液量の“疎”の部分と“密”の部分とが生じ、液滴中の“疎密”の存在により、飛翔中の液滴が“疎”の部分でくびれを生じ、2つ以上に分離されるという問題がある。 When a droplet is ejected by applying a pulse voltage to the piezoelectric element, residual meniscus vibration in which the meniscus on the liquid level of the nozzle vibrates occurs in the liquid after the droplet is ejected. If droplets are ejected continuously when meniscus residual vibration is generated in the liquid, the liquid volume “sparse” part and “dense” part appear in the flying liquid droplet due to the influence of the meniscus residual vibration. As a result, the presence / absence of “dense / dense” in the droplets causes a problem that the flying droplets are constricted in the “sparse” part and separated into two or more.
1つの液滴として飛翔すべき液滴が2つ以上に分離した状態で飛翔すると、塗布対象物上では分離して飛翔した液滴が次々に塗布される。このため、塗布された液滴の形状が細長い筋状又は楕円状となる場合があり、あるいは、2つ以上の箇所に分離して塗布される場合がある。 When the droplets that should fly as one droplet fly in a state in which the droplets are separated into two or more, the droplets that have separated and flew are applied one after another on the object to be coated. For this reason, the shape of the applied droplet may be an elongated streak or ellipse, or may be applied separately at two or more locations.
飛翔した液滴が細長い筋状や楕円状となって、又は、2つ以上に分離して塗布対象物に塗布されると、塗布対象物への液滴の塗布状態が不良になり、塗布対象物に液滴が塗布されて製造される塗布体の品質がバラツキを生じる。 If the flying droplets are elongated, oval, or separated into two or more and applied to the application object, the application state of the droplets on the application object becomes poor, and the application object The quality of the coated body produced by applying droplets to an object varies.
本発明はこのような課題を解決するためになされたもので、その目的は、液滴を噴射した後の液体中におけるメニスカス残留振動を速やかに減衰させ、メニスカス残留振動が存在することが原因となる塗布体の品質不良の発生を防止することができる塗布体の製造方法及び液滴噴射塗布装置を提供することである。 The present invention has been made to solve such a problem, and its purpose is to quickly attenuate the meniscus residual vibration in the liquid after ejecting the liquid droplets, and to cause the meniscus residual vibration to exist. Another object of the present invention is to provide an application body manufacturing method and a droplet spray coating apparatus capable of preventing the occurrence of poor quality of the applied body.
本発明の実施の形態に係る第1の特徴は、塗布体の製造方法において、圧電素子に第1パルス電圧を印加して液体が貯留される液室の容積を可変させ、前記液体の一部を塗布対象物に塗布される液滴として前記液室に連通するノズルから噴射させるステップと、前記圧電素子に複数の第2パルス電圧を印加して前記液室の容積を可変させ、前記液滴の噴射後に前記液室内の液体中に発生するメニスカス残留振動と逆位相の振動を前記液体中に連続して発生させることにより前記メニスカス残留振動を減衰させるステップと、を備えることである。 A first feature according to an embodiment of the present invention is that, in the method of manufacturing an application body, the first pulse voltage is applied to the piezoelectric element to change the volume of the liquid chamber in which the liquid is stored, and a part of the liquid Spraying from a nozzle communicating with the liquid chamber as a droplet to be applied to an object to be applied, and applying a plurality of second pulse voltages to the piezoelectric element to vary the volume of the liquid chamber, And attenuating the meniscus residual vibration by continuously generating in the liquid a vibration having a phase opposite to that of the meniscus residual vibration generated in the liquid in the liquid chamber.
本発明の実施の形態に係る第2の特徴は、液滴噴射塗布装置において、液体が貯留される液室と、前記液室に連通されるノズルと、前記液室の容積を可変させ、前記液体の一部を前記ノズルから液滴として噴射させる圧電素子と、請求項1ないし3のいずれか一記載の塗布体の製造方法の第1パルス電圧と第2パルス電圧とを前記圧電素子に印加する制御部と、を備えることである。 According to a second aspect of the present invention, in the droplet spray coating apparatus, the liquid chamber storing the liquid, the nozzle communicating with the liquid chamber, the volume of the liquid chamber is varied, A piezoelectric element that ejects a part of the liquid as droplets from the nozzle, and a first pulse voltage and a second pulse voltage of the method for manufacturing a coated body according to any one of claims 1 to 3 are applied to the piezoelectric element. And a control unit.
本発明によれば、液滴を噴射した後の液体中におけるメニスカス残留振動を速やかに減衰させることができ、メニスカス残留振動が存在することが原因となる塗布体の品質不良の発生を防止することができる。 According to the present invention, the residual meniscus vibration in the liquid after ejecting the liquid droplets can be quickly damped, and the occurrence of poor quality of the coated body due to the presence of the residual meniscus vibration can be prevented. Can do.
以下、本発明の一実施の形態を図面を用いて説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明の一実施の形態に係る液滴噴射塗布装置は、インク等の液体を液滴として噴射し、噴射されて飛翔する液滴を塗布対象物に塗布して塗布体である液晶パネル等を製造する装置である。この液滴噴射塗布装置1は、図1に示すように、液滴Eを噴射する部分である液滴噴射塗布ヘッド2と、液滴噴射塗布ヘッド2を液滴噴射位置に移動させる移動機構(図示せず)と、液体を液滴噴射塗布ヘッド2に供給する液体供給機構(図示せず)とを備えている。 A liquid droplet spray coating apparatus according to an embodiment of the present invention ejects a liquid such as ink as liquid droplets, and applies liquid droplets that are ejected and flying to a coating object to provide a liquid crystal panel or the like as an application body. It is a device to manufacture. As shown in FIG. 1, the droplet spray coating apparatus 1 includes a droplet spray coating head 2 that is a portion that sprays droplets E, and a moving mechanism that moves the droplet spray coating head 2 to a droplet spray position. (Not shown) and a liquid supply mechanism (not shown) for supplying the liquid to the droplet jet coating head 2.
液滴噴射塗布ヘッド2は、液体が貯留される複数の液室3と、各液室3に連通された液体溜まり部4と、各液室3の壁の一部を形成するノズルプレート5と、液室3の壁の他の一部を形成するダイヤフラム6と、各液室3毎に1つずつ設けられ、弾性材7を介してダイヤフラム6に固定された圧電素子8とを備えている。
The droplet spraying application head 2 includes a plurality of liquid chambers 3 in which liquid is stored, a liquid reservoir 4 communicating with each liquid chamber 3, and a
ノズルプレート5には複数個のノズル9が形成され、各ノズル9は各液室3に1つずつ連通されている。各ノズル9からは、各液室3内の液体が液滴Eとして噴射される。圧電素子8には、この圧電素子8にパルス電圧を印加することにより圧電素子8を伸縮方向に変形させ、及び、印加するパルス電圧の電圧値とタイミングとを制御する制御部10が接続されている。
A plurality of nozzles 9 are formed on the
制御部10の制御により圧電素子8に印加されるパルス電圧しては、第1パルス電圧P1と第2パルス電圧P2とが挙げられる。なお、第1パルス電圧P1は、1つの液滴Eを噴射するごとに1回印加される。第2パルス電圧P2は、1つの液滴Eを噴射するごとに複数回連続して印加される。
Examples of the pulse voltage applied to the piezoelectric element 8 under the control of the
第1パルス電圧P1が圧電素子8に印加されることにより、圧電素子8が縮む方向へ変形し、ダイヤフラム6が図1中の実線で示す位置に撓んで液室3の容積が大きくなる。これに伴い、液室3内のノズル9側の液体が矢印Aで示すようにダイヤフラム6側に吸引されるとともに、液体溜まり部4内の液体が矢印Bで示すように液室3内に吸引される。その後、第1パルス電圧P1の印加が終了することにより、圧電素子8とダイヤフラム6とが図1中の破線で示す位置に復帰し、液室3内の容積が小さくなる。これにより、液室3内の液体の一部がノズル9から液滴Eとして噴射され、ノズル9から噴射された液滴Eはノズル9に対向する位置に配置された塗布対象物11に塗布される。なお、ノズル9から液滴Eが噴射された後は、液室3内の液体中に、ノズル9の液面のメニスカスが振動するメニスカス残留振動が発生する。
When the first pulse voltage P1 is applied to the piezoelectric element 8, the piezoelectric element 8 is deformed in a contracting direction, and the
第2パルス電圧P2が圧電素子8に印加されることにより、ノズル9からの液滴Eの噴射後に液室3内の液体中に発生するメニスカス残留振動と逆位相の振動が、液室3内の液体中に発生する。 By applying the second pulse voltage P <b> 2 to the piezoelectric element 8, a vibration having a phase opposite to the meniscus residual vibration generated in the liquid in the liquid chamber 3 after the ejection of the droplet E from the nozzle 9 is generated in the liquid chamber 3. Occurs in liquids.
メニスカス残留振動は、液室3の幾何学的形状や液体の粘性等により決定される固有周波数をもつ自由振動であるため、発生タイミングを予測することができる。従って、メニスカス残留振動と逆位相の振動を液体中に発生させる複数の第2パルス電圧P2を印加するタイミングに関しても予測することができる。第2パルス電圧P2は、予測されたメニスカス残留振動と逆位相となるタイミングで印加される。 Since the meniscus residual vibration is a free vibration having a natural frequency determined by the geometric shape of the liquid chamber 3, the viscosity of the liquid, and the like, the generation timing can be predicted. Therefore, it is also possible to predict the timing of applying a plurality of second pulse voltages P2 that generate vibrations in phase opposite to the meniscus residual vibration. The second pulse voltage P2 is applied at a timing that is in reverse phase to the predicted meniscus residual vibration.
図2は、第1パルス電圧P1と複数の第2パルス電圧P2とを示したものである。図2(a)、(b)、(c)のいずれの場合にも、第1パルス電圧P1が圧電素子8に印加されることにより、液室3内の液体の一部が液滴Eとなってノズル9から噴射される。ノズル9から液滴Eが噴射された後に印加される複数の第2パルス電圧P2に関しては、図2(a)に示すように、電圧値とパルス幅とを同じにしてもよく、又は、図2(b)に示すように、パルス幅を同じにして電圧値を次第に小さくしてもよく、又は、図2(c)に示すように、電圧値を同じにしてパルス幅を次第に小さくしてもよい。 FIG. 2 shows the first pulse voltage P1 and a plurality of second pulse voltages P2. 2A, 2 </ b> B, and 2 </ b> C, the first pulse voltage P <b> 1 is applied to the piezoelectric element 8, whereby a part of the liquid in the liquid chamber 3 is changed to the droplet E. And is ejected from the nozzle 9. Regarding the plurality of second pulse voltages P2 applied after the droplet E is ejected from the nozzle 9, the voltage value and the pulse width may be the same as shown in FIG. As shown in FIG. 2 (b), the voltage value may be made smaller by making the pulse width the same, or by making the voltage value the same and making the pulse width gradually made smaller as shown in FIG. 2 (c). Also good.
図2(a)、(b)、(c)に示す第2パルス電圧P2の電圧値、及び、パルス幅は、第2パルス電圧P2が印加された場合に、ノズル9からの液滴Eの噴射が行われない値に設定されている。 The voltage value and pulse width of the second pulse voltage P2 shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C are the same as those of the droplet E from the nozzle 9 when the second pulse voltage P2 is applied. The value is set so that injection is not performed.
第2パルス電圧P2を印加するタイミング、及び、第2パルス電圧P2の電圧値、パルス幅の減少の制御は、予め設定されたアルゴリズムに従って制御部10において行われる。
The timing of applying the second pulse voltage P2, and the voltage value and pulse width reduction of the second pulse voltage P2 are controlled by the
このような構成において、ノズル9から液滴Eが噴射された後、液室3内の液体中にはノズル9の液面のメニスカスが振動するメニスカス残留振動が生じる。そこで、圧電素子8に複数の第2パルス電圧P2を印加してメニスカス残留振動と逆位相の振動を液室3内の液体中に発生させることより、メニスカス残留振動を速やかに減衰させることができる。 In such a configuration, after the droplet E is ejected from the nozzle 9, a meniscus residual vibration in which the meniscus on the liquid surface of the nozzle 9 vibrates occurs in the liquid in the liquid chamber 3. Therefore, by applying a plurality of second pulse voltages P <b> 2 to the piezoelectric element 8 and generating a vibration in the opposite phase to the meniscus residual vibration in the liquid in the liquid chamber 3, the meniscus residual vibration can be quickly attenuated. .
このため、液滴Eを短い間隔で連続して噴射する場合であっても、各液滴Eがメニスカス残留振動の影響を受けることがなくなり、飛翔する液滴Eがメニスカス残留振動の影響を受けて2つ以上に分離されるということが発生しない。そして、飛翔する液滴Eを塗布対象物11上の目的とする塗布位置に精度良く塗付することができ、塗布対象物11に液滴Eが塗布されることにより製造される塗布体の品質の均一化、及び、高品質化を達成することができる。
For this reason, even when the droplets E are continuously ejected at short intervals, each droplet E is not affected by the residual meniscus vibration, and the flying droplet E is affected by the residual meniscus vibration. Therefore, it does not occur that it is separated into two or more. Then, the flying droplet E can be applied to the target application position on the
メニスカス残留振動は、第2パルス電圧P2が印加されることに伴って減衰される。このため、メニスカス残留振動の減衰に応じて、印加する複数の第2パルス電圧P2の電圧値を図2(b)に示すように次第に小さくすることにより、メニスカス残留振動を効率良く減衰させることができる。又は、メニスカス残留振動の減衰に応じて、印加する複数の第2パルス電圧P2のパルス幅を図2(c)に示すように次第に小さくすることにより、メニスカス残留振動を効率良く減衰させることができる。さらに、印加する複数の第2パルス電圧P2の電圧値を図2(b)に示すように次第に小さくすることにより、又は、印加する複数の第2パルス電圧P2のパルス幅を図2(c)に示すように次第に小さくすることにより、第2パルス電圧P2を印加するために消費される電力を低減させることができる。 The meniscus residual vibration is attenuated as the second pulse voltage P2 is applied. Therefore, according to the attenuation of the meniscus residual vibration, the meniscus residual vibration can be efficiently damped by gradually reducing the voltage values of the plurality of second pulse voltages P2 to be applied as shown in FIG. it can. Alternatively, the meniscus residual vibration can be efficiently damped by gradually reducing the pulse width of the applied plurality of second pulse voltages P2 as shown in FIG. 2 (c) in accordance with the attenuation of the meniscus residual vibration. . Further, the voltage values of the plurality of second pulse voltages P2 to be applied are gradually reduced as shown in FIG. 2B, or the pulse widths of the plurality of second pulse voltages P2 to be applied are shown in FIG. As shown in FIG. 5, the power consumed to apply the second pulse voltage P2 can be reduced by gradually reducing the voltage.
3…液室、8…圧電素子、9…ノズル、10…制御部、11…塗布対象物、E…液滴、P1…第1パルス電圧、P2…第2パルス電圧 DESCRIPTION OF SYMBOLS 3 ... Liquid chamber, 8 ... Piezoelectric element, 9 ... Nozzle, 10 ... Control part, 11 ... Application | coating object, E ... Droplet, P1 ... 1st pulse voltage, P2 ... 2nd pulse voltage
Claims (4)
前記圧電素子に複数の第2パルス電圧を印加して前記液室の容積を可変させ、前記液滴の噴射後に前記液室内の液体中に発生するメニスカス残留振動と逆位相の振動を前記液体中に連続して発生させることにより前記メニスカス残留振動を減衰させるステップと、
を備えることを特徴とする塗布体の製造方法。 A first pulse voltage is applied to the piezoelectric element to vary the volume of the liquid chamber in which the liquid is stored, and a part of the liquid is ejected from a nozzle communicating with the liquid chamber as a droplet applied to the application target. Steps,
A plurality of second pulse voltages are applied to the piezoelectric element to vary the volume of the liquid chamber, and a vibration in the phase opposite to the meniscus residual vibration generated in the liquid in the liquid chamber after ejection of the liquid droplets is generated in the liquid. Dampening the meniscus residual vibration by continuously generating
The manufacturing method of the application body characterized by the above-mentioned.
前記液室に連通されるノズルと、
前記液室の容積を可変させ、前記液体の一部を前記ノズルから液滴として噴射させる圧電素子と、
請求項1ないし3のいずれか一記載の塗布体の製造方法の第1パルス電圧と第2パルス電圧とを前記圧電素子に印加する制御部と、
を備えることを特徴とする液滴噴射塗布装置。 A liquid chamber in which liquid is stored;
A nozzle communicating with the liquid chamber;
A piezoelectric element that varies the volume of the liquid chamber and ejects a part of the liquid as droplets from the nozzle;
A control unit that applies the first pulse voltage and the second pulse voltage of the manufacturing method of the application body according to any one of claims 1 to 3 to the piezoelectric element;
A droplet spray coating apparatus comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007077834A JP2008237952A (en) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007077834A JP2008237952A (en) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008237952A true JP2008237952A (en) | 2008-10-09 |
Family
ID=39909931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007077834A Pending JP2008237952A (en) | 2007-03-23 | 2007-03-23 | Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008237952A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013177001A (en) * | 2013-05-20 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | Liquid discharge device and liquid discharge method |
JP2014091317A (en) * | 2012-11-07 | 2014-05-19 | Seiko Epson Corp | Liquid jet apparatus and method for controlling liquid jet apparatus |
KR20190126631A (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 연세대학교 산학협력단 | Apparatus for vapor deposition and method of vapor deposition of thin film |
-
2007
- 2007-03-23 JP JP2007077834A patent/JP2008237952A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014091317A (en) * | 2012-11-07 | 2014-05-19 | Seiko Epson Corp | Liquid jet apparatus and method for controlling liquid jet apparatus |
JP2013177001A (en) * | 2013-05-20 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | Liquid discharge device and liquid discharge method |
KR20190126631A (en) * | 2018-05-02 | 2019-11-12 | 연세대학교 산학협력단 | Apparatus for vapor deposition and method of vapor deposition of thin film |
KR102072909B1 (en) * | 2018-05-02 | 2020-02-03 | 연세대학교 산학협력단 | Apparatus for vapor deposition and method of vapor deposition of thin film |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7393072B2 (en) | Method of driving an ink-jet printhead | |
US8393702B2 (en) | Separation of drive pulses for fluid ejector | |
JP5872628B2 (en) | Method and apparatus for variable droplet size release by attenuating the pressure in the pumping chamber | |
JP2011037257A (en) | Device and method for discharging liquid | |
JP2008237952A (en) | Method of manufacturing coated body and droplet spray coating device | |
US9682548B2 (en) | Print device and print method | |
JP2010110968A (en) | Liquid ejecting apparatus and liquid ejecting method | |
US10328693B2 (en) | Fluid jetting device, printing apparatus, and method therefor | |
JP6029308B2 (en) | Method for driving liquid discharge head and liquid discharge apparatus | |
JP2012096423A (en) | Liquid ejecting apparatus and control method | |
JP5139155B2 (en) | Droplet ejection method | |
JP2009066867A (en) | Ink-jet device and ink-jet method | |
JP2012218382A (en) | Liquid injection device, and method of controlling the same | |
JP2018187791A (en) | Driving method for liquid discharge device and liquid discharge device | |
JP5034309B2 (en) | Droplet discharge device | |
JP2013103460A (en) | Drive waveform of inkjet head, and method of driving inkjet head | |
KR20120026814A (en) | Piezo-electric inkjet print head and apparatus for driving said print head | |
JP2017105021A (en) | Liquid discharge method and liquid discharge device | |
JP2006088392A (en) | Inkjet recording head and inkjet recording device | |
JP2005040652A (en) | Method and apparatus for applying liquid, curved body, method and apparatus for manufacturing contact lens, and contact lens | |
JPH0464446A (en) | Ink jet recording head | |
KR100792351B1 (en) | Ink jet printer head | |
JP5810739B2 (en) | Liquid ejection apparatus and liquid ejection method | |
JP2014210408A (en) | Ink ejection method | |
JPS634958A (en) | Printing head of ink jet printer |