JP2008234584A - Reference voltage generation circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基準電圧発生回路に関する。 The present invention relates to a reference voltage generation circuit.
従来、ゲートとソースを接続したデプレッション型MOSトランジスタを定電流源とし、ゲートとドレインが接続されたエンハンスメント型MOSトランジスタをその定電流で駆動するように直列に接続し、デプレッション型MOSトランジスタの閾値電圧とエンハンスメント型MOSトランジスタの閾値電圧の差分を基準電圧として出力する基準電圧発生回路が知られている。 Conventionally, a depletion type MOS transistor having a gate and a source connected is used as a constant current source, and an enhancement type MOS transistor having a gate and a drain connected to each other is connected in series so as to be driven by the constant current. There is known a reference voltage generation circuit that outputs the difference between the threshold voltages of the MOS transistor and the enhancement type MOS transistor as a reference voltage.
然しながら、定電流源であるゲートがソースに接続されたデプレッション型MOSトランジスタは、基板効果による相互コンダクタンスgmbのみで動作するので、相互コンダクタンスが小さくなるという問題がある。
その結果、この基準電圧発生回路には、電源電圧の変動に対する基準電圧の変動比率を示す電源リップルリジェクト特性が悪いと言う問題がある。
However, the depletion type MOS transistor in which the gate, which is a constant current source, is connected to the source operates only with the mutual conductance gmb due to the substrate effect, so that there is a problem that the mutual conductance becomes small.
As a result, this reference voltage generating circuit has a problem that the power supply ripple rejection characteristic indicating the fluctuation ratio of the reference voltage with respect to the fluctuation of the power supply voltage is poor.
また、ゲートとソースを接続したデプレッション型MOSトランジスタを定電流源とし、そのデプレッション型MOSトランジスタに閾値電圧の異なる2つ以上のエンハンスメント型MOSトランジスタを直列に接続した基準電圧発生回路が知られている(例えば、特許文献1参照。)。 There is also known a reference voltage generation circuit in which a depletion type MOS transistor having a gate and a source connected is used as a constant current source, and two or more enhancement type MOS transistors having different threshold voltages are connected in series to the depletion type MOS transistor. (For example, refer to Patent Document 1).
特許文献1に開示された基準電圧発生回路は、フローティングゲートとコントロールゲートとを備え、フローティングゲートとコントロールゲートのカップリング係数の違いにより閾値電圧が決定されるMOSトランジスタを具備している。
これにより、プロセスばらつきや、温度変化に対して依存性が小さく、半導体装置完成に近い工程で基準電圧を調整できるようにしている。
The reference voltage generation circuit disclosed in
As a result, the dependence on process variations and temperature changes is small, and the reference voltage can be adjusted in a process close to completion of the semiconductor device.
然しながら、特許文献1に開示された基準電圧発生回路は、事後的にMOSトランジスタの閾値電圧をシフトさせて基準電圧を調整するものであり、電源リップルリジェクト特性については何も開示しておらず、また何ら効果を奏しない。
本発明は、十分な電源リップルリジェクト特性を有する基準電圧発生回路を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a reference voltage generation circuit having sufficient power supply ripple reject characteristics.
本発明の一態様の基準電圧発生回路は、第1電極が第1電位線に接続され、制御電極が第1電源に接続された第1デプレッション型絶縁ゲート電界効果トランジスタと、第1電極が前記第1デプレッション型絶縁ゲート電界効果トランジスタの第2電極に接続され、制御電極が第2電極に接続された第2デプレッション型絶縁ゲート電界効果トランジスタと、第1電極が前記第2絶縁ゲート電界効果トランジスタの第2電極に接続され、制御電極が前記第1電極に接続され、第2電極が第2電位線に接続されたエンハンスメント型絶縁ゲート電界効果トランジスタと、を具備することを特徴としている。 The reference voltage generation circuit of one embodiment of the present invention includes a first depletion type insulated gate field effect transistor in which a first electrode is connected to a first potential line and a control electrode is connected to a first power supply, A second depletion type insulated gate field effect transistor connected to the second electrode of the first depletion type insulated gate field effect transistor and having a control electrode connected to the second electrode, and a first electrode serving as the second insulated gate field effect transistor And an enhancement-type insulated gate field effect transistor having a control electrode connected to the first electrode and a second electrode connected to the second potential line.
本発明によれば、十分な電源リップルリジェクト特性を有する基準電圧発生回路が得られる。 According to the present invention, a reference voltage generating circuit having sufficient power supply ripple rejection characteristics can be obtained.
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
本発明の実施例1に係る基準電圧発生回路について、図1および図2を用いて説明する。図1は基準電圧発生回路を示す回路図、図2は電源リップルリジェクト特性解析用等価回路図である。
A reference voltage generation circuit according to
図1に示すように、本実施例の基準電圧発生回路10は、ドレイン(第1電極)が電源ライン(第1電位線)11に接続され、ゲート(制御電極)が第1電源12に接続されたnチャネルの第1デプレッション型MOSトランジスタ(絶縁ゲート電界効果トランジスタ)MD21と、ドレインが第1デプレッション型MOSトランジスタMD21のソース(第2電極)に接続され、ゲートがソースに接続されたnチャネルの第2デプレッション型MOSトランジスタMD22と、ドレインが第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のソースに接続され、ゲートがドレインに接続され、ソースが接地ライン(第2電位線)13に接続されたnチャネルのエンハンスメント型MOSトランジスタME2と、を具備している。
As shown in FIG. 1, in the reference
第1デプレッション型MOSトランジスタMD21、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22およびエンハンスメント型MOSトランジスタME2の基板であるバックゲート(図示せず)は、それぞれ接地ライン13に接続されている。
Back gates (not shown) that are substrates of the first depletion type MOS transistor M D21 , the second depletion type MOS transistor M D22, and the enhancement type MOS transistor M E2 are connected to the
基準電圧Vref2は、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22の閾値電圧とエンハンスメント型MOSトランジスタME2の閾値電圧との差分として得られる。 The reference voltage Vref2 is obtained as a difference between the second threshold voltage of the depletion type MOS transistor M D22 and the threshold voltage of the enhancement type MOS transistor M E2.
電圧入力端子14に入力電圧Vinを供給することにより、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のソースとエンハンスメント型MOSトランジスタME2のドレインとの接続ノードから基準電圧Vref2が、出力電圧Voutとして電圧出力端子15を介して外部に出力される。
By supplying the input voltage Vin to the
第1デプレッション型MOSトランジスタMD21は、ゲートが第1電源12に接続されているので、ゲート・ソース間電圧Vgsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量を示す相互コンダクタンスgm=ΔId/ΔVgsおよび基板・ソース間電圧Vbsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量を示す相互コンダクタンスgmb=ΔId/ΔVbsにより動作する。
Since the gate of the first depletion type MOS transistor MD21 is connected to the
第2デプレッション型MOSトランジスタMD22は、ゲートがソースに接続されているので、gm=0となり、gmbのみで動作する。 The second depletion type MOS transistor M D22 is, the gate is connected to the source, gm = 0, and the only work with gmb.
ここで、gmと基板効果によるgmbとは、gmb=ηgmの関係にある。ηは製造プロセスパラメータに依存し、一般にη≒0.1〜0.9程度である。 Here, gm and gmb due to the substrate effect have a relationship of gmb = ηgm. η depends on manufacturing process parameters and is generally about η≈0.1 to 0.9.
第1電源12の電位E1は、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21のゲート・ソース間電圧が、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21が動作可能な範囲、例えば閾値電圧より大きく、ピンチオフ電圧より小さい範囲であれば、特に限定されない。
Potential E1 of the
次に、第1電源12の電位E1が0V(接地電位GND)として、基準電圧発生回路10の動作を説明する。
Next, the operation of the reference
第1デプレッション型MOSトランジスタMD21、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22およびエンハンスメント型MOSトランジスタME2は直列接続されているので、各トランジスタのドレイン電流Idは等しく、次式で表される。
ここで、KE2、KD21、KD22は、各トランジスタのコンダクタンスファクタである。VthE2、VthD22、VthD21は、各トランジスタの閾値電圧である。VSD21は第1デプレッション型MOSトランジスタMD21のゲート・ソース間電圧(E1−Vb)である。
基準電圧Vref2は、エンハンスメント型MOSトランジスタME2と第2デプレッション型MOSトランジスタMD22に注目した場合、次式で表わされる。
The reference voltage Vref2 is expressed by the following equation when attention is paid to the enhancement type MOS transistor M E2 and the second depletion type MOS transistor MD22 .
図2に示すように、基準電圧発生回路10の電源リップルリジェクト特性(Power Ripple Suppression Ratio:以後、PSRともいう)解析用等価回路20は、ゲートが第1電源12に接続された第1デプレッション型MOSトランジスタMD21を示すインピターンスZD21と相互コンダクタンスgmD21を有する定電流源21の並列回路と、ゲートがソースに接続された第2デプレッション型MOSトランジスタMD22を示すインピターンスZD22と基板効果による相互コンダクタンスgmbD22を有する定電流源22の並列回路と、ゲートがドレインに接続されたエンハンスメント型MOSトランジスタME2を示すインピーダンスZE2との直列回路で現される。
As shown in FIG. 2, a power ripple rejection characteristic (Power Ripple Suppression Ratio: hereinafter also referred to as PSR) analysis
これにより、基準電圧発生回路10の電源リップルリジェクト特性PSR2は、次式で表わされる。
一方、比較例として、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21のゲートが第1電源12でなく、ソースに接続された基準電圧発生回路のPSR1は、式(3)と同様にして、次式で現される。
式(3)、式(4)およびgmb=ηgmなる関係を用いて、本実施例の基準電圧発生回路10のPSR2と比較例の基準電圧発生回路のPSR1との比を求める。
これにより、ηが1より小さいので、本実施例のゲートが第1電源12に接続された第1デプレッション型MOSトランジスタMD21を有する基準電圧発生回路10は、比較例のゲートがソースに接続された第1デプレッション型MOSトランジスタMD21を有する基準電圧発生回路より、PSRが小さくなり、電源リップルリジェクト特性を改善することが可能である。
Since Accordingly, eta is smaller than 1, the reference
例えば、η≒0.2程度の第1デプレッション型MOSトランジスタMD21を使用することにより、本実施例の基準電圧発生回路10のPSR2は、比較例の基準電圧発生回路のPSR1の1/5となり、約5倍の改善効果が見込まれる。従って、電源リップルリジェクト特性の改善には、ηが小さいほうが好ましい。
For example, by using a first depletion type MOS transistor M D21 of about eta ≒ 0.2, PSR2 of the reference voltage generating
更に、温度に依存しない安定な基準電圧Vref2を得る条件は、次式で表される。
これから、次式で示すように、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のコンダクタンスファクタKD22とエンハンスメント型MOSトランジスタME2のコンダクタンスファクタKE2との比の平方根が、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22の閾値電圧VthD22の温度依存性とエンハンスメント型MOSトランジスタME2の閾値電圧VthE2の温度依存性との比に等しくなるように設定することにより、温度依存性のない安定な基準電圧Vref2を得ることが可能である。
図3は基準電圧発生回路10を用いたシリーズレギュレータを示す回路図である。
図3に示すように、シリーズレギュレータ30は、ソースが電圧入力端子31に接続され、ドレインが電圧出力端子32に接続されたpチャネルのMOSトランジスタM1と、一端が電圧出力端子32に接続された抵抗R1と一端が接地端子33に接続された抵抗R2との直列回路を有し、電圧出力端子32の出力電圧Voutを分圧し、帰還電圧Vfを出力する分圧回路34と、非反転入力端子が分圧回路34の分圧点に接続され、反転入力端子が基準電圧Vref2を出陸する基準電圧発生回路10に接続された差動増幅器35とを具備している。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a series regulator using the reference
As shown in FIG. 3, the
差動増幅器35により、出力電圧Voutを分圧した帰還電圧Vfが基準電圧Vref2に等しくなるようにMOSトランジスタM1が駆動され、出力電圧Voutが制御される。
The
十分な電源リップルリジェクト特性および温度特性を有する基準電圧Vref2を供給する基準電圧発生回路10を用いることにより、安定した出力電圧Voutを負荷に供給することができるようになる。
By using the reference
基準電圧発生回路10が適用される装置や機器は、上述したシリーズレギュレータに限らず、安定した基準電圧Vref2が必要とされるものであればすべてに適用することができる。
The apparatus and apparatus to which the reference
以上説明したように、本実施例の基準電圧発生回路10は、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21のゲートを第1の電源12に接続している。
その結果、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21は、ゲート・ソース間電圧Vgsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量を示す相互コンダクタンスgm=ΔId/ΔVgsにより動作し、基板効果による相互コンダクタンスgmb=ΔId/ΔVbsより大きな相互コンダクタンスを有している。従って、十分な電源リップルリジェクト特性を有する基準電圧発生回路10が得られる。
As described above, the reference voltage generating
As a result, the first depletion type MOS transistor M D21 is operated by the mutual conductance gm = .DELTA.Id / .DELTA.Vgs showing the variation of the drain current Id with respect to the amount of change in gate-source voltage Vgs, transconductance gmb = .DELTA.Id by the substrate effect It has a transconductance larger than / ΔVbs. Therefore, the reference
更に、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のコンダクタンスファクタKD22とエンハンスメント型MOSトランジスタME2のコンダクタンスファクタKE2との比の平方根が、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22の閾値電圧VthD22の温度依存性とエンハンスメント型MOSトランジスタME2の閾値電圧VthE2の温度依存性との比に等しくなるように設定することにより、十分な温度特性を有する基準電圧発生回路10が得られる。
Furthermore, the ratio of the square root of the conductance factor K E2 of the second depletion type MOS transistor M conductance factor K D22 of D22 and the enhancement-type MOS transistor M E2 is a second depletion-type temperature dependence of the MOS transistor M D22 threshold voltage Vth D22 The reference
ここでは、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22およびエンハンスメント型MOSトランジスタME2の導電型がnチャネルである場合について説明したが、pチャネルとしても構わない。 Here, the case where the conductivity type of the first depletion type MOS transistor M D21 , the second depletion type MOS transistor M D22, and the enhancement type MOS transistor M E2 is an n channel has been described, but a p channel may be used.
即ち、図4に示すように、基準電圧発生回路40は、ドレイン(第1電極)が接地ライン(第1電位線)13に接続され、ゲート(制御電極)が第1電源41に接続されたpチャネルの第1デプレッション型MOSトランジスタMD31と、ドレインが第1デプレッション型MOSトランジスタMD31のソースに接続され、ゲートがソースに接続されたnチャネルの第2デプレッション型MOSトランジスタMD32と、ドレイン(第1電極)が第2デプレッション型MOSトランジスタMD32のソースに接続され、ゲートがドレインに接続され、ソースが電源ライン(第2電位線)11に接続されたpチャネルのエンハンスメント型MOSトランジスタME3と、を具備している。
That is, as shown in FIG. 4, the reference
基準電圧Vref3は、第2デプレッション型MOSトランジスタMD32のソースとエンハンスメント型MOSトランジスタME3のドレインとの接続ノードから、電源ライン11を基準にして出力される。
The reference voltage Vref3 from the connection node between the source and the drain of the enhancement-type MOS transistor M E3 of the second depletion type MOS transistor M D32, is output to the
第1デプレッション型MOSトランジスタMD31、第2デプレッション型MOSトランジスタMD32およびエンハンスメント型MOSトランジスタME3の基板であるバックゲート(図示せず)は、それぞれ電源ライン11に接続されている。
Back gates (not shown), which are substrates of the first depletion type MOS transistor M D31 , the second depletion type MOS transistor M D32, and the enhancement type MOS transistor M E3 , are respectively connected to the
これにより、基準電圧発生回路10と同様に、十分な電源リップルリジェクト特性を有する基準電圧発生回路40が得られる。
Thereby, like the reference
本発明の実施例2に係る基準電圧発生回路について、図5および図6を用いて説明する。図5は基準電圧発生回路を示す回路図、図6は電源リップルリジェクト特性解析用等価回路図である。 A reference voltage generation circuit according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a circuit diagram showing a reference voltage generation circuit, and FIG. 6 is an equivalent circuit diagram for power supply ripple rejection characteristic analysis.
本実施例において、上記実施例1と同一の構成部分には同一符号を付してその部分の説明は省略し、異なる部分について説明する。
本実施例が実施例1と異なる点は、第2デプレッション型MOSトランジスタの制御電極が、第2電源に接続されていることにある。
In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, description thereof will be omitted, and different portions will be described.
This embodiment differs from the first embodiment in that the control electrode of the second depletion type MOS transistor is connected to the second power source.
即ち、図5に示すように、本実施例の基準電圧発生回路50は、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のゲートが第2電源51に接続されている。
That is, as shown in FIG. 5, in the reference
これにより、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22は、ゲート・ソース間電圧Vgsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量を示す相互コンダクタンスgm=ΔId/ΔVgsにより動作し、基板・ソース間電圧Vbsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量による相互コンダクタンスgmb=ΔId/ΔVbsより大きな相互コンダクタンスを有している。 Thus, the second depletion type MOS transistor M D22 is operated by the mutual conductance gm = .DELTA.Id / .DELTA.Vgs showing the variation of the drain current Id with respect to the amount of change in gate-source voltage Vgs, the change of the voltage Vbs between the substrate and the source The mutual conductance is larger than the mutual conductance gmb = ΔId / ΔVbs depending on the amount of change in the drain current Id with respect to the amount.
第2電源51の電位E2は、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のゲート・ソース間電圧が、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22が動作可能な範囲、例えば閾値電圧より大きく、ピンチオフ電圧より小さい範囲であれば、特に限定されない。
Potential E2 of the
従って、第2電源51の電位E2は第1電源12の電位E1と等しくても良く、あるいは異なっていても良い。
Therefore, the potential E2 of the
次に、第1電源12の電位E1および第2電源61の電位E2がともに0V(接地電位GND)であるときに、基準電圧発生回路50の動作について説明する。
Next, the operation of the reference
第1デプレッション型MOSトランジスタMD21、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22およびエンハンスメント型MOSトランジスタME2は直列接続されているので、各MOSトランジスタのドレイン電流Idは等しく、次式で表される。
基準電圧Vref2は、エンハンスメント型MOSトランジスタME2と第2デプレッション型MOSトランジスタMD22に注目して、次式で表わされる。
図6に示すように、基準電圧発生回路50の電源リップルリジェクト特性解析用等価回路60は、ゲートが第2電源51に接続された第2デプレッショク型MOSトランジスタMD22を示すインピターンスZD22と相互コンダクタンスgmD22を有する定電流源61との並列回路を具備している。
As shown in FIG. 6, the power supply ripple rejection characteristics analysis
これにより、基準電圧発生回路50の電源リップルリジェクト特性PSR2は、次式で表わされる。
基準電圧発生回路50の電源リップルリジェクト特性PSR2を、式(4)に示す比較例の基準電圧発生回路の電源リップルリジェクト特性PSR1と比較する。
ここで、gmD12ZE1≫1を満たすように設定することにより、次式が得られる。
これにより、本実施例のゲートが第1電源51に接続された第1デプレッション型MOSトランジスタMD21およびゲートが第2電源51に接続された第2デプレッション型MOSトランジスタMD22を有する基準電圧発生回路50は、比較例のゲートがソースに接続された第1デプレッション型MOSトランジスタMD21およびゲートがソースに接続された第2デプレッション型MOSトランジスタMD22を有する基準電圧発生回路より、PSRが小さくなり、更に電源リップルリジェクト特性を改善することが可能である。
Thus, the reference voltage generation circuit having the first depletion type MOS transistor M D21 whose gate is connected to the
例えば、η≒0.2程度の第1デプレッション型MOSトランジスタMD21および第1デプレッション型MOSトランジスタMD22を使用することにより、本実施例の基準電圧発生回路50のPSR2は、比較例の基準電圧発生回路のPSR1の1/25となり、約25倍の改善効果が見込まれる。
For example, by using a first depletion type MOS transistor M D21 and the first depletion type MOS transistor M D22 of about eta ≒ 0.2, PSR2 of the reference
温度に依存しない安定な基準電圧Vref2を得る条件は、式(7)、式(8)と同様に表わされる。 Conditions for obtaining a stable reference voltage Vref2 that does not depend on temperature are expressed in the same manner as in equations (7) and (8).
以上説明したように、本実施例の基準電圧発生回路50は、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22のゲートを第2電源51に接続している。
その結果、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22は、ゲート・ソース間電圧Vgsの変化量に対するドレイン電流Idの変化量を示す相互コンダクタンスgm=ΔId/ΔVgsにより動作し、基板効果による相互コンダクタンスgmb=ΔId/ΔVbsより大きな相互コンダクタンスを有している。従って、更に高い電源リップルリジェクト特性を有する基準電圧発生回路50が得られる。
As described above, the reference
As a result, the second depletion type MOS transistor M D22 is operated by the mutual conductance gm = .DELTA.Id / .DELTA.Vgs showing the variation of the drain current Id with respect to the amount of change in gate-source voltage Vgs, transconductance gmb = .DELTA.Id by the substrate effect It has a transconductance larger than / ΔVbs. Therefore, the reference
ここでは、第1デプレッション型MOSトランジスタMD21、第2デプレッション型MOSトランジスタMD22およびエンハンスメント型MOSトランジスタME2の導電型がnチャネルである場合について説明足したが、pチャネルとしても構わない。 Here, the case where the conductivity type of the first depletion type MOS transistor M D21 , the second depletion type MOS transistor M D22, and the enhancement type MOS transistor M E2 is an n channel is described, but a p channel may be used.
即ち、図7に示すように、基準電圧発生回路70は、pチャネルの第1デプレッション型MOSトランジスタMD31のゲートが第1電源41に接続され、第2デプレッション型MOSトランジスタMD32のゲートが第2電源71に接続されている。
That is, as shown in FIG. 7, in the reference voltage generation circuit 70, the gate of the p-channel first depletion type MOS transistor MD31 is connected to the
これにより、基準電圧発生回路50と、同様に更に高い電源リップルリジェクト特性が得られる。
As a result, the power supply ripple rejection characteristic can be further increased as with the reference
10、40、50、70 基準電圧発生回路
11 電源ライン
12、41 第1電源
13 接地ライン
14 電圧入力端子
15 基準電圧出力端子
16 接地端子
20、60 PSR解析用等価回路
21、22、61 定電流源
30 シリーズレギュレータ
51、71 第2電源
Vref2、Vref3 基準電圧
MD21 nチャネル第1デプレッション型MOSトランジスタ
MD22 nチャネル第2デプレッション型MOSトランジスタ
MD31 pチャネル第1デプレッション型MOSトランジスタ
MD32 pnチャネル第2デプレッション型MOSトランジスタ
ME2 nチャネルエンハンスメント型MOSトランジスタ
ME3 pチャネルエンハンスメント型MOSトランジスタ
10, 40, 50, 70 Reference
Claims (5)
第1電極が前記第1デプレッション型絶縁ゲート電界効果トランジスタの第2電極に接続され、制御電極が第2電極に接続された第2デプレッション型絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
第1電極が前記第2絶縁ゲート電界効果トランジスタの第2電極に接続され、制御電極が前記第1電極に接続され、第2電極が第2電位線に接続されたエンハンスメント型絶縁ゲート電界効果トランジスタと、
を具備することを特徴とする基準電圧発生回路。 A first depletion type insulated gate field effect transistor having a first electrode connected to a first potential line and a control electrode connected to a first power source;
A second depletion type insulated gate field effect transistor having a first electrode connected to the second electrode of the first depletion type insulated gate field effect transistor and a control electrode connected to the second electrode;
An enhancement type insulated gate field effect transistor having a first electrode connected to a second electrode of the second insulated gate field effect transistor, a control electrode connected to the first electrode, and a second electrode connected to a second potential line When,
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2007
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