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JP2008227093A - Manufacturing method of multilayer electronic component - Google Patents

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JP2008227093A
JP2008227093A JP2007062242A JP2007062242A JP2008227093A JP 2008227093 A JP2008227093 A JP 2008227093A JP 2007062242 A JP2007062242 A JP 2007062242A JP 2007062242 A JP2007062242 A JP 2007062242A JP 2008227093 A JP2008227093 A JP 2008227093A
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Japan
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oxide
internal electrode
mol
firing
dielectric layer
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Withdrawn
Application number
JP2007062242A
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Japanese (ja)
Inventor
Jun Sato
佐藤  淳
Toshihiko Kaneko
俊彦 兼子
Tomoyoshi Fujimura
友義 藤村
Tetsuhiro Takahashi
哲弘 高橋
Akira Sato
陽 佐藤
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TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor capable of improving acceleration life of an insulation resistance while keeping specific inductive capacity and insulation resistance well even if a dielectric layer is reduced in thickness. <P>SOLUTION: With the use of internal electrode layer paste and dielectric layer paste, a green sheet and an electrode paste layer are alternately stacked to provide a green chip. The manufacturing method of a multilayer electronic component includes a process for baking it. The internal electrode layer paste contains conductor material, titanic acid barium, and 0.2 mols or more of oxide of V against 100 mols of titanic acid barium and/or compound that becomes oxide of V after baking. The dielectric layer paste contains titanic acid barium and oxide of V which is more than 0 mol but less than 0.1 mols against 100 mols of titanic acid barium and/or compound that becomes oxide of V after baking. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法に係り、さらに詳しくは、比誘電率および絶縁抵抗(特に、高温時における絶縁抵抗)を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命の向上が可能な積層型電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor. More specifically, the present invention relates to an accelerated life of an insulation resistance while maintaining a good dielectric constant and insulation resistance (particularly, insulation resistance at high temperatures). The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer electronic component that can be improved.

電子部品の一例である積層セラミックコンデンサは、たとえば、所定の誘電体層用ペーストを用いて形成されるセラミックグリーンシートに、内部電極層用ペーストを用いて、所定パターンの内部電極を印刷し、それらを複数枚交互に重ね、その後一体化して得られるグリーンチップを、同時焼成して製造される。積層セラミックコンデンサの内部電極層は、焼成によりセラミック誘電体と一体化されるために、誘電体材料と反応しないような材料を選択する必要がある。このため、内部電極層を構成する材料として、従来では白金やパラジウムなどの高価な貴金属を用いることを余儀なくされていた。   A multilayer ceramic capacitor, which is an example of an electronic component, prints internal electrodes in a predetermined pattern using, for example, internal electrode layer paste on a ceramic green sheet formed using a predetermined dielectric layer paste. A green chip obtained by alternately stacking a plurality of sheets and then integrating them is manufactured by simultaneous firing. Since the internal electrode layer of the multilayer ceramic capacitor is integrated with the ceramic dielectric by firing, it is necessary to select a material that does not react with the dielectric material. For this reason, as a material constituting the internal electrode layer, conventionally, an expensive noble metal such as platinum or palladium has been inevitably used.

しかしながら、近年ではニッケルや銅などの安価な卑金属を用いることができる誘電体磁器組成物が開発され、大幅なコストダウンが実現した。   However, in recent years, dielectric ceramic compositions that can use inexpensive base metals such as nickel and copper have been developed, and a significant cost reduction has been realized.

また、近年、電子回路の高密度化に伴う電子部品の小型化に対する要求は高く、積層セラミックコンデンサの小型化、大容量化が急速に進んでいる。それに伴い、積層セラミックコンデンサにおける誘電体層の薄層化が進み、そのため、誘電体層を構成する誘電体材料として、薄層化してもコンデンサとしての信頼性を維持できる誘電体材料が求められている。特に、小型化および大容量化のためには、誘電体材料に対して非常に高い信頼性が要求される。なぜなら、小型化および大容量化のために、誘電体層の薄層化が進むと、直流電圧を印加した時に、各誘電体層に印加される電界が強くなるため、比誘電率の経時変化、すなわち、容量の経時変化や高温負荷試験における絶縁抵抗(絶縁抵抗の加速寿命)の劣化が著しく大きくなってしまうからである。   In recent years, there has been a high demand for downsizing of electronic components due to higher density of electronic circuits, and downsizing and increase in capacity of multilayer ceramic capacitors are rapidly progressing. As a result, the dielectric layer of a multilayer ceramic capacitor has been made thinner. Therefore, a dielectric material that can maintain the reliability as a capacitor even if the layer is made thinner is required as a dielectric material constituting the dielectric layer. Yes. In particular, in order to reduce the size and increase the capacity, very high reliability is required for the dielectric material. This is because when the dielectric layer is made thinner for miniaturization and larger capacity, the electric field applied to each dielectric layer becomes stronger when a DC voltage is applied. That is, the deterioration of the insulation resistance (acceleration life of the insulation resistance) in the capacity change with time and the high-temperature load test is remarkably increased.

これに対して、特許文献1では、温度特性や寿命特性を改善するために、積層セラミックコンデンサの誘電体層を構成する誘電体材料として、特定の成分元素の濃度を異にする2種以上のセラミック粒子から構成される誘電体材料を用いる方法が提案されている。この特許文献1では、具体的な態様である実施例において、内部電極層用のペースト中に所定量のMn、Cr、CoおよびVを添加し、これにより、誘電体層を構成する誘電体材料中におけるセラミック粒子の成分濃度を変化させた態様が開示されている。   On the other hand, in Patent Document 1, in order to improve temperature characteristics and life characteristics, two or more kinds of specific component elements having different concentrations are used as the dielectric material constituting the dielectric layer of the multilayer ceramic capacitor. A method using a dielectric material composed of ceramic particles has been proposed. In this Patent Document 1, in a specific embodiment, a predetermined amount of Mn, Cr, Co, and V is added to the internal electrode layer paste, thereby forming a dielectric material constituting the dielectric layer. The aspect which changed the component density | concentration of the ceramic particle | grains in is disclosed.

しかしながら、この特許文献1では、誘電体層を構成する誘電体ペースト中にはVを全く添加しておらず、そのため、焼成後の誘電体層中には、Vが実質的に含まれていないセラミック粒子が含まれる結果となっている。そのため、この特許文献1に記載された積層セラミックコンデンサでは、寿命特性のサンプル間でのばらつきが大きくなってしまい、信頼性に劣るという問題があった。   However, in Patent Document 1, V is not added at all in the dielectric paste constituting the dielectric layer, and therefore V is not substantially contained in the fired dielectric layer. The result is the inclusion of ceramic particles. For this reason, the multilayer ceramic capacitor described in Patent Document 1 has a problem in that the variation in the life characteristics between samples becomes large, resulting in poor reliability.

特開2003−100544号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-1000054

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、誘電体層の厚みを薄層化した場合においても、比誘電率および絶縁抵抗(特に、高温時における絶縁抵抗)を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命の向上が可能な積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and even when the thickness of the dielectric layer is reduced, the dielectric constant and the insulation resistance (particularly, the insulation resistance at high temperatures) are maintained while maintaining the insulation resistance. It is an object of the present invention to provide a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor capable of improving the accelerated life of the multilayer ceramic capacitor.

絶縁抵抗の加速寿命を改善するためには、希土類元素等のドナー成分を、誘電体層中に添加することが一般的である。一方で、希土類元素を添加しただけでは容量の温度特性、特に高温側の容量低下が大きくなるため、希土類以外のドナー成分として、Vの酸化物等を添加することも行われている。しかしながら、寿命特性の改善効果を有するVの酸化物を添加すると、比誘電率が低下してしまうため、誘電体層中における添加量をあまり多くすることができなかった。そのため、比誘電率と絶縁抵抗の加速寿命との両立をすることが困難であった。   In order to improve the accelerated lifetime of insulation resistance, it is common to add a donor component such as a rare earth element into the dielectric layer. On the other hand, the addition of rare earth elements increases the temperature characteristics of the capacity, particularly the lowering of the capacity on the high temperature side, so that an oxide of V or the like is also added as a donor component other than the rare earth. However, when the oxide of V having the effect of improving the life characteristics is added, the relative dielectric constant is lowered, so that the amount added in the dielectric layer cannot be increased too much. For this reason, it has been difficult to achieve both the relative dielectric constant and the accelerated lifetime of the insulation resistance.

これに対して、本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意検討を行ったところ、積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品を製造する際に、誘電体層を構成することとなる誘電体層用ペーストに含有させるVの化合物の比率を、チタン酸バリウム100モルに対して、0モルより多く、0.1モル以下の範囲とし、かつ、内部電極層用のペーストに、所定量のVの化合物を含有させることにより、上記目的を達成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させるに至った。   On the other hand, the present inventors have conducted intensive studies in order to achieve the above object, and as a result, when manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor, a dielectric layer that constitutes a dielectric layer. The ratio of the compound of V to be contained in the body layer paste is in the range of more than 0 mole and 0.1 mole or less with respect to 100 moles of barium titanate, and a predetermined amount of paste is added to the internal electrode layer paste. It has been found that the above object can be achieved by containing the compound of V, and the present invention has been completed based on this finding.

すなわち、本発明によれば、内部電極層と誘電体層とが交互に積層された積層型電子部品を製造する方法であって、
内部電極層用ペーストおよび誘電体層用ペーストを用いて、焼成後に前記誘電体層となるグリーンシートと、焼成後に前記内部電極層となる電極ペースト層と、が交互に積層されたグリーンチップを得る工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有し、
前記内部電極層用ペーストが、導電体材料と、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を含有し、
前記内部電極層用ペーストにおける前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、前記チタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0.2モル以上であり、
前記誘電体層用ペーストが、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を含有し、
前記誘電体層用ペーストにおける前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、前記チタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0モルより多く、0.1モル以下である積層型電子部品の製造方法が提供される。
That is, according to the present invention, a method of manufacturing a multilayer electronic component in which internal electrode layers and dielectric layers are alternately stacked,
Using the internal electrode layer paste and the dielectric layer paste, a green chip is obtained in which a green sheet that becomes the dielectric layer after firing and an electrode paste layer that becomes the internal electrode layer after firing are alternately laminated. Process,
Firing the green chip,
The internal electrode layer paste contains a conductive material, barium titanate, a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing,
In the internal electrode layer paste, the ratio of the V oxide and / or the compound that becomes a V oxide after firing is 0.2 mol or more in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of the barium titanate. And
The dielectric layer paste contains barium titanate and a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing,
In the dielectric layer paste, the ratio of the oxide of V and / or the compound that becomes an oxide of V after firing is more than 0 mol in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of the barium titanate, Provided is a method for producing a multilayer electronic component of 0.1 mol or less.

好ましくは、前記内部電極層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Eモルとし、
前記誘電体層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Dモルとした場合に、
前記EとDとの関係が、E/D≧5である。
Preferably, the ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compound of V with respect to the 100 mol of barium titanate in the internal electrode layer paste, and E V moles,
The ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compound of V with respect to the 100 mol of barium titanate in the dielectric layer paste, the case of the D V moles,
Relationship between the E V and D V is the E V / D V ≧ 5.

好ましくは、前記内部電極層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、1モル未満である。   Preferably, the ratio of the oxide of V and / or the compound which becomes an oxide of V after firing to 100 mol of the barium titanate in the internal electrode layer paste is less than 1 mol.

本発明に係る積層型電子部品としては、特に限定されないが、積層セラミックコンデンサ、圧電素子、チップインダクタ、チップバリスタ、チップサーミスタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品が例示される。   The multilayer electronic component according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include multilayer ceramic capacitors, piezoelectric elements, chip inductors, chip varistors, chip thermistors, chip resistors, and other surface mount (SMD) chip electronic components. .

本発明の積層型電子部品の製造方法によれば、上記した所定の構成を有する内部電極層用ペーストおよび誘電体層用ペーストを用いるため、誘電体層の厚みを薄層化した場合においても、比誘電率および絶縁抵抗(特に、高温時における絶縁抵抗)を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命の向上された積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品を提供することができる。   According to the method for manufacturing a multilayer electronic component of the present invention, since the internal electrode layer paste and the dielectric layer paste having the above-described predetermined configuration are used, even when the thickness of the dielectric layer is reduced, It is possible to provide a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor in which the accelerated lifetime of the insulation resistance is improved while maintaining a good dielectric constant and insulation resistance (particularly, insulation resistance at high temperatures).

特に、本発明によれば、誘電体層を構成することとなる誘電体層用ペーストに含有させるVの化合物(Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物)の比率を、チタン酸バリウム100モルに対して、0.1モル以下の範囲としているため、Vの化合物の添加による比誘電率の低下を有効に防止することができ、これにより、比誘電率を良好なものとすることができる。また、誘電体層用ペースト中にVの化合物を含有させることにより、絶縁抵抗、特に高温時における絶縁抵抗を良好なものとすることができ、さらには、絶縁抵抗の加速寿命のサンプル間のバラツキの発生も有効に防止することができる。すなわち、高温負荷寿命特性を安定なものとすることができる。   In particular, according to the present invention, the ratio of the compound of V (the oxide of V and / or the compound that becomes an oxide of V after firing) to be included in the dielectric layer paste that constitutes the dielectric layer, Since the range of 0.1 mol or less with respect to 100 mol of barium titanate, it is possible to effectively prevent a decrease in the dielectric constant due to the addition of the compound of V, thereby improving the dielectric constant. It can be. In addition, by including a V compound in the dielectric layer paste, the insulation resistance, particularly the insulation resistance at high temperatures, can be improved, and further, the accelerating life of the insulation resistance varies between samples. Can also be effectively prevented. That is, the high temperature load life characteristic can be stabilized.

加えて、本発明においては、内部電極層を構成することとなる内部電極層用ペースト中に、添加材料としてチタン酸バリウムとVの化合物とを含有させ、しかも、内部電極層用ペースト中におけるVの化合物の比率を、チタン酸バリウム100モルに対して、0.2モル以上としている。そのため、比誘電率および絶縁抵抗を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命を向上させることができる。   In addition, in the present invention, the internal electrode layer paste that constitutes the internal electrode layer contains barium titanate and a V compound as additive materials, and the V in the internal electrode layer paste The ratio of the compound is set to 0.2 mol or more with respect to 100 mol of barium titanate. Therefore, it is possible to improve the accelerated life of the insulation resistance while keeping the relative dielectric constant and the insulation resistance good.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図、
図2は本発明の実施例および比較例に係る積層セラミックコンデンサの絶縁抵抗の加速寿命を評価時における、各評価サンプルの故障時間を表すグラフである。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the failure time of each evaluation sample at the time of evaluating the accelerated life of the insulation resistance of the multilayer ceramic capacitor according to the example and the comparative example of the present invention.

積層セラミックコンデンサ
まず、本発明の製造方法について説明する前に、本発明の製造方法により得られる一実施形態としての積層セラミックコンデンサについて説明する。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素体10を有する。このコンデンサ素体10の両側端部には、素体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4,4が形成してある。内部電極層3は、各側端面がコンデンサ素体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4,4は、コンデンサ素体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer Ceramic Capacitor First, before describing the manufacturing method of the present invention, a multilayer ceramic capacitor as an embodiment obtained by the manufacturing method of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 1 according to an embodiment of the present invention includes a capacitor body 10 having a configuration in which dielectric layers 2 and internal electrode layers 3 are alternately stacked. A pair of external electrodes 4, 4 are formed at both ends of the capacitor body 10 and are electrically connected to the internal electrode layers 3 arranged alternately in the body 10. The internal electrode layers 3 are laminated so that the side end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor body 10. The pair of external electrodes 4, 4 are formed at both ends of the capacitor body 10 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 3 to constitute a capacitor circuit.

コンデンサ素体10の外形や寸法には特に制限はなく、用途に応じて適宜設定することができ、通常、外形はほぼ直方体形状とし、寸法は通常、縦(0.4〜5.6mm)×横(0.2〜5.0mm)×高さ(0.2〜2.5mm)程度とすることができる。   The outer shape and dimensions of the capacitor body 10 are not particularly limited and can be appropriately set depending on the application. Usually, the outer shape is substantially a rectangular parallelepiped shape, and the dimensions are usually vertical (0.4 to 5.6 mm) × It can be about horizontal (0.2 to 5.0 mm) × height (0.2 to 2.5 mm).

誘電体層2
誘電体層2は、誘電体磁器組成物で構成される。本発明に係る誘電体磁器組成物は、少なくともチタン酸バリウムを含む主成分と、副成分としてVの酸化物を含有するものである。
Dielectric layer 2
The dielectric layer 2 is composed of a dielectric ceramic composition. The dielectric ceramic composition according to the present invention contains a main component containing at least barium titanate and an oxide of V as a subcomponent.

主成分であるチタン酸バリウムとしては、組成式BaTiO2+m で表され、前記組成式中のmが0.990<m<1.010であり、BaとTiとの比が0.990<Ba/Ti<1.010であるものが好ましく用いられる。この際、酸素(O)量は、上記式の化学量論組成から若干偏倚してもよい。 The main component barium titanate is represented by the composition formula Ba m TiO 2 + m , m in the composition formula is 0.990 <m <1.010, and the ratio of Ba to Ti is 0.990 < Those with Ba / Ti <1.010 are preferably used. At this time, the amount of oxygen (O) may be slightly deviated from the stoichiometric composition of the above formula.

誘電体層2中に含有される副成分としては、少なくともVの酸化物を含むものであれば良い。誘電体層2中における、Vの酸化物の比率は、特に限定されないが、主成分であるチタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、好ましくは0.03〜0.06モルである。なお、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサは、後述する本発明の製造方法により製造されるため、誘電体層2中におけるVの酸化物の比率に関して、内部電極層3付近におけるVの酸化物の比率が、誘電体層中央部分(厚み方向における中央部分)におけるVの酸化物の比率と比較して、高くなるような構成となっていると考えられる。 As a subcomponent contained in the dielectric layer 2, it is sufficient if it contains at least a V oxide. The ratio of the oxide of V in the dielectric layer 2 is not particularly limited, but is preferably 0.03 to 0.06 mol in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of barium titanate as the main component. It is. Since the multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment is manufactured by the manufacturing method of the present invention described later, the V oxide ratio in the vicinity of the internal electrode layer 3 is related to the ratio of the V oxide in the dielectric layer 2. It is considered that the ratio is higher than the ratio of the oxide of V in the central portion of the dielectric layer (the central portion in the thickness direction).

また、誘電体層2中に含有される副成分としては、上述のVの酸化物に加えて、必要に応じて、Vの酸化物以外の副成分が含有されていても良い。このような副成分としては、Sr,Zr,Y,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Mo,Zn,Cd,Ti,Sn,W,Ba,Ca,Mn,Mg,Cr,Si,Li,BおよびPの酸化物から選ばれる1種類以上が例示される。副成分として、Vの酸化物以外の副成分を添加することにより、各種特性の向上を図ることができる。   Moreover, as a subcomponent contained in the dielectric layer 2, a subcomponent other than the V oxide may be contained as necessary in addition to the above-mentioned V oxide. Such subcomponents include Sr, Zr, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Mo, Zn, Cd, One or more types selected from oxides of Ti, Sn, W, Ba, Ca, Mn, Mg, Cr, Si, Li, B, and P are exemplified. Various properties can be improved by adding subcomponents other than the oxide of V as subcomponents.

たとえば、Vの酸化物以外の副成分は、好ましくは、以下のような組成および添加量とすることができる。
すなわち、MgO、CaO、BaOおよびSrOから選択される少なくとも1種を、チタン酸バリウム100モルに対して、0.1〜5モル、
SiOを主として含有し、MO(ただし、MはMg、Ca、BaおよびSrから選択される少なくとも1種)を含む成分を、チタン酸バリウム100モルに対して、0.1〜12モル、
Rの酸化物(ただし、RはY,La,Ce,Pr,Nd,Pm,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を、チタン酸バリウム100モルに対して、R換算で0.1〜10モル、
MnOおよびCrから選択される少なくとも1種を、チタン酸バリウム100モルに対して、0.05〜1.0モル、
の組成および添加量とすることができる。
For example, the subcomponents other than the oxide of V can preferably have the following composition and addition amount.
That is, at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO is 0.1 to 5 mol with respect to 100 mol of barium titanate,
0.1 to 12 mol of a component mainly containing SiO 2 and containing MO (wherein M is at least one selected from Mg, Ca, Ba and Sr) with respect to 100 mol of barium titanate,
An oxide of R (wherein R is at least one selected from Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu), 0.1 to 10 mol in terms of R with respect to 100 mol of barium titanate,
0.05 to 1.0 mol of at least one selected from MnO and Cr 2 O 3 with respect to 100 mol of barium titanate,
And the amount of addition.

Vの酸化物以外の副成分を上記組成および添加量とすることにより、比誘電率を高く保ちながら、低温焼成を可能とするとともに、容量温度特性の改善を図ることができる。ただし、本発明においては、誘電体層2の組成は上記に限定されるものではない。   By setting the subcomponents other than the oxide of V to the above composition and addition amount, it is possible to perform low-temperature firing while keeping the relative dielectric constant high, and to improve the capacity-temperature characteristics. However, in the present invention, the composition of the dielectric layer 2 is not limited to the above.

図1に示す誘電体層2の積層数や厚み等の諸条件は、目的や用途に応じ適宜決定すればよいが、本実施形態では、誘電体層2の厚みは、好ましくは5μm以下、より好ましくは2μm以下に薄層化されている。厚みの下限は、特に限定されないが、たとえば0.5μm程度である。   Various conditions such as the number and thickness of the dielectric layers 2 shown in FIG. 1 may be appropriately determined according to the purpose and application. In this embodiment, the thickness of the dielectric layer 2 is preferably 5 μm or less. The layer is preferably thinned to 2 μm or less. Although the minimum of thickness is not specifically limited, For example, it is about 0.5 micrometer.

誘電体層2の積層数は、特に限定されないが、20以上であることが好ましく、より好ましくは50以上、特に好ましくは、100以上である。積層数の上限は、特に限定されないが、たとえば2000程度である。   The number of laminated dielectric layers 2 is not particularly limited, but is preferably 20 or more, more preferably 50 or more, and particularly preferably 100 or more. The upper limit of the number of stacked layers is not particularly limited, but is about 2000, for example.

内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、比較的安価な卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.1〜3μm、特に0.2〜2.0μm程度であることが好ましい。
Internal electrode layer 3
The conductive material contained in the internal electrode layer 3 is not particularly limited, but a relatively inexpensive base metal can be used because the constituent material of the dielectric layer 2 has reduction resistance. As the base metal used as the conductive material, Ni or Ni alloy is preferable. The Ni alloy is preferably an alloy of Ni and one or more elements selected from Mn, Cr, Co and Al, and the Ni content in the alloy is preferably 95% by weight or more. In addition, in Ni or Ni alloy, various trace components, such as P, may be contained about 0.1 wt% or less. The thickness of the internal electrode layer 3 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually 0.1 to 3 μm, particularly preferably about 0.2 to 2.0 μm.

外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本発明では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
External electrode 4
The conductive material contained in the external electrode 4 is not particularly limited, but in the present invention, inexpensive Ni, Cu, and alloys thereof can be used. The thickness of the external electrode 4 may be appropriately determined according to the application and the like, but is usually preferably about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサの製造方法
本実施形態の積層セラミックコンデンサは、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor The multilayer ceramic capacitor of the present embodiment is the same as the conventional multilayer ceramic capacitor. After producing a green chip by a normal printing method or sheet method using a paste and firing it, the external electrode It is manufactured by printing or transferring and baking. Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described.

まず、図1に示す誘電体層2を形成するための誘電体層用ペーストに含まれる誘電体磁器組成物粉末を調製する。本実施形態では、誘電体層用ペーストに含まれる誘電体磁器組成物粉末として、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を少なくとも含有するものを用いる。Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の含有量は、チタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0モルより多く、0.1モル以下であり、好ましくは0.03モル以上、0.06モル以下である。 First, a dielectric ceramic composition powder contained in a dielectric layer paste for forming the dielectric layer 2 shown in FIG. 1 is prepared. In the present embodiment, the dielectric ceramic composition powder contained in the dielectric layer paste contains at least barium titanate and a compound that becomes an oxide of V and / or becomes an oxide of V after firing. Use. The content of the V oxide and / or the compound that becomes the V oxide after firing is more than 0 mol and 0.1 mol or less in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of barium titanate, Preferably they are 0.03 mol or more and 0.06 mol or less.

誘電体層用ペーストに、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物を添加しないと、焼成後の誘電体層中に、Vの酸化物を実質的に含まないセラミック粒子が存在することとなってしまい、その結果、絶縁抵抗の加速寿命のサンプル間におけるバラツキが大きくなってしまい、信頼性に劣ってしまう。一方、多すぎると、比誘電率が低下してしまい、小型・大容量化に対応できなくなってしまう。   If no oxide of V and / or a compound that becomes an oxide of V after firing is added to the dielectric layer paste, ceramic particles substantially free of the oxide of V are contained in the dielectric layer after firing. As a result, the variation in the accelerated life of the insulation resistance between samples becomes large, and the reliability becomes poor. On the other hand, if the amount is too large, the relative dielectric constant will be lowered, and it will not be possible to cope with a reduction in size and capacity.

焼成後にVの酸化物となる化合物としては、たとえば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等が挙げられ、これらは混合して用いることもできる。   Examples of the compound that becomes an oxide of V after firing include carbonates, oxalates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like, and these can also be used in combination.

また、必要に応じて、誘電体磁器組成物粉末中には、上記したVの酸化物以外の各種副成分の原料を含有させても良い。この場合においては、上記した酸化物やその混合物、複合酸化物を用いることができるが、その他、焼成により上記した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。誘電体磁器組成物粉末中の各化合物の含有量は、焼成後に所望の組成となるように決定すればよい。   Further, if necessary, the dielectric ceramic composition powder may contain raw materials for various subcomponents other than the oxide of V described above. In this case, the above-described oxide, a mixture thereof, or a composite oxide can be used. In addition, various compounds that become the above-described oxide or composite oxide by firing, such as carbonate, oxalate, and nitrate. , Hydroxides, organometallic compounds and the like may be selected as appropriate and used in combination. What is necessary is just to determine content of each compound in a dielectric ceramic composition powder so that it may become a desired composition after baking.

次いで、得られた誘電体磁器組成物粉末を用いて、誘電体層用ペーストを製造する。誘電体層用ペーストは、誘電体磁器組成物粉末と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。   Next, a dielectric layer paste is manufactured using the obtained dielectric ceramic composition powder. The dielectric layer paste may be an organic paint obtained by kneading a dielectric ceramic composition powder and an organic vehicle, or may be a water-based paint.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。また、用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from usual various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. Further, the organic solvent to be used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, toluene, and the like, depending on a method to be used such as a printing method or a sheet method.

また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体磁器組成物粉末とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。   Further, when the dielectric layer paste is used as a water-based paint, a water-based vehicle in which a water-soluble binder, a dispersant, or the like is dissolved in water and a dielectric ceramic composition powder may be kneaded. The water-soluble binder used for the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, or the like may be used.

有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、たとえば、バインダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度とすればよい。また、誘電体層用ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10重量%以下とすることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in content of an organic vehicle, What is necessary is just to set normal content, for example, a binder about 1 to 5 weight% and a solvent about 10 to 50 weight%. In addition, the dielectric layer paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators and the like as required. The total content of these is preferably 10% by weight or less.

次いで、図1に示す内部電極層3を形成するための内部電極層用ペーストを調製する。内部電極層用ペーストは、少なくとも、導電体材料と、添加成分としてのチタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を含有する。   Next, an internal electrode layer paste for forming the internal electrode layer 3 shown in FIG. 1 is prepared. The internal electrode layer paste contains at least a conductor material, barium titanate as an additive component, and a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing.

導電体材料としては、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等が挙げられる。   Examples of the conductor material include conductive materials composed of the various conductive metals and alloys described above, and various oxides, organometallic compounds, resinates, and the like that become the conductive materials described above after firing.

また、添加成分として含有されるチタン酸バリウムとしては、上記した誘電体層用ペーストで用いたものと同様のものを用いれば良い。添加成分としてのチタン酸バリウムは、焼成過程において導電体材料の焼結を抑制する作用を奏する。内部電極層用ペースト中におけるチタン酸バリウムの添加量は、特に限定されないが、導電体材料100重量部に対して、好ましくは10〜40重量部である。チタン酸バリウムの含有量が少なすぎると、焼結抑制効果が不十分となり、焼成過程において導電体材料が球状化し、電極途切れが発生し易くなる。一方、多すぎると、内部電極層用ペースト中における、導電体材料の含有量が相対的に少なくなるため、同様に、電極途切れが発生し易くなる。   Further, as the barium titanate contained as an additive component, the same one as used in the above-described dielectric layer paste may be used. Barium titanate as an additive component has an effect of suppressing sintering of the conductor material in the firing process. The addition amount of barium titanate in the internal electrode layer paste is not particularly limited, but is preferably 10 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the conductor material. If the content of barium titanate is too small, the effect of suppressing the sintering becomes insufficient, the conductor material becomes spheroidized during the firing process, and electrode breakage is likely to occur. On the other hand, if the amount is too large, the content of the conductor material in the internal electrode layer paste is relatively reduced, and similarly, electrode breakage is likely to occur.

添加成分として含有されるVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物としては、上記した誘電体層用ペーストで用いたものと同様のものを用いれば良い。内部電極層用ペースト中に、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物を所定量含有させることにより、絶縁抵抗の加速寿命の向上を図ることができる。   As the V oxide and / or the compound that becomes the V oxide after firing as the additive component, the same compounds as those used for the dielectric layer paste may be used. By including a predetermined amount of a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing in the internal electrode layer paste, the accelerated life of the insulation resistance can be improved.

内部電極層用ペースト中におけるVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の含有量は、内部電極層用ペーストに含有されるチタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0.2モル以上であり、好ましくは0.2モル以上、1モル未満、より好ましくは0.25モル以上、0.75モル以下である。内部電極層用ペースト中におけるVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の含有量が少なすぎると、絶縁抵抗の加速寿命の向上効果を得ることができない。一方、多すぎると、絶縁抵抗、特に高温時の絶縁抵抗が悪化する傾向にある。 The content of the V oxide in the internal electrode layer paste and / or the compound that becomes the V oxide after firing is V 2 O 5 with respect to 100 mol of barium titanate contained in the internal electrode layer paste. In conversion, it is 0.2 mol or more, preferably 0.2 mol or more and less than 1 mol, more preferably 0.25 mol or more and 0.75 mol or less. If the content of the V oxide and / or the compound that becomes the V oxide after firing in the internal electrode layer paste is too small, the effect of improving the accelerated life of the insulation resistance cannot be obtained. On the other hand, if the amount is too large, the insulation resistance, particularly the insulation resistance at high temperatures, tends to deteriorate.

本発明においては、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストとして、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物を上記所定量含有するペーストを、それぞれ用いることを特徴とする。本発明はこの点に最大の特徴点を有し、このような構成を採用することにより、誘電体層2の厚みを薄層化した場合においても、比誘電率および絶縁抵抗(特に、高温時における絶縁抵抗)を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命の向上が可能となる。   In the present invention, as the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste, a paste containing the above-mentioned predetermined amount of a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing is used. . The present invention has the greatest feature in this respect. By adopting such a configuration, even when the thickness of the dielectric layer 2 is reduced, the relative permittivity and the insulation resistance (especially at high temperatures). It is possible to improve the accelerated life of the insulation resistance while keeping the insulation resistance) in good condition.

なお、この理由としては、必ずしも明らかではないが、たとえば、次の理由が考えられる。
すなわち、内部電極層用ペーストに、チタン酸バリウムとともに、Vの化合物(Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物)を上記所定量添加することにより、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを用いて製造されるグリーンチップを焼成するに際して、焼成時に、内部電極層用ペーストに含有させたVの化合物が、誘電体層2側に拡散する。そして、内部電極層用ペーストに含有させたVの化合物が、誘電体層2側に拡散することにより、誘電体層2を構成する誘電体磁器組成物が、内部電極層3付近において、Vの化合物の含有量が誘電体層2の厚み方向中央付近と比較して多い構成となる。そして、これにより、誘電体層2全体としては、Vの化合物の含有量を低く抑えながら、内部電極層3付近においては、Vの化合物の含有量を比較的に多い構成とすることができ、その結果、上記効果を奏することができると考えられる。すなわち、誘電体層2中における微細構造、具体的には、誘電体層2中におけるVの化合物の含有量の分布を制御することができ、これにより、上記効果を奏することができると考えられる。
This reason is not necessarily clear, but for example, the following reason can be considered.
That is, by adding the predetermined amount of the V compound (the oxide of V and / or the compound which becomes an oxide of V after firing) together with barium titanate to the internal electrode layer paste, the dielectric layer paste and When firing the green chip manufactured using the internal electrode layer paste, the V compound contained in the internal electrode layer paste diffuses to the dielectric layer 2 side during firing. Then, the V compound contained in the internal electrode layer paste diffuses to the dielectric layer 2 side, so that the dielectric ceramic composition constituting the dielectric layer 2 becomes V in the vicinity of the internal electrode layer 3. The compound content is higher than that in the vicinity of the center of the dielectric layer 2 in the thickness direction. As a result, the entire dielectric layer 2 can be configured such that the content of the V compound is relatively high in the vicinity of the internal electrode layer 3 while keeping the content of the V compound low. As a result, it is considered that the above effects can be achieved. That is, it is considered that the fine structure in the dielectric layer 2, specifically, the distribution of the content of the V compound in the dielectric layer 2 can be controlled, and thereby the above-described effect can be achieved. .

なお、本発明においては、誘電体層用ペーストに含有させるVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、内部電極層用ペーストに含有させるVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、は上記範囲とすれば良いが、これらの比率を次のような関係とすることが、より好ましい。すなわち、内部電極層用ペーストにおけるチタン酸バリウム100モルに対するVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Eモルとし、誘電体層用ペーストにおけるチタン酸バリウム100モルに対するVの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Dモルとした場合に、EとDとの関係を、好ましくはE/D≧5、より好ましくは5≦E/D≦15とする。EとDとの関係をこのような関係とすることにより、上記効果の更なる向上を図ることができる。 In the present invention, the V oxide contained in the dielectric layer paste and / or the compound that becomes the V oxide after firing, and the V oxide contained in the internal electrode layer paste and / or after firing. The compound to be an oxide of V may be in the above range, but it is more preferable that these ratios have the following relationship. That is, the ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compounds of V with respect to 100 moles of barium titanate in the internal electrode layer paste, and E V moles of barium titanate in the dielectric layer paste 100 mol the ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compounds of V with respect to the case of the D V mole, the relationship between E V and D V, preferably E V / D V ≧ 5, more Preferably, 5 ≦ E V / D V ≦ 15. The relationship between E V and D V With such a relationship, it is possible to further improve the above effects.

次いで、上記した導電体材料と、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を上記した有機ビヒクルととともに混練して、内部電極層用ペーストを調製する。有機ビヒクルの含有量は、上記と同様とすれば良い。   Next, the above-described conductor material, barium titanate, and the oxide of V and / or the compound that becomes an oxide of V after firing are kneaded together with the above-described organic vehicle to prepare an internal electrode layer paste. To do. The content of the organic vehicle may be the same as described above.

次いで、上記方法にて調製される誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを用いて、焼成後に誘電体層2となるグリーンシートと焼成後に内部電極層3となる電極ペースト層とが交互に積層されたグリーンチップを得る。   Next, using the dielectric layer paste and internal electrode layer paste prepared by the above method, the green sheet that becomes the dielectric layer 2 after firing and the electrode paste layer that becomes the internal electrode layer 3 after firing alternately Get stacked green chips.

これらを積層する方法としては、特に限定されないが、たとえば、印刷法やシート法などが挙げられる。印刷法を用いる場合、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを、PET等の基板上に積層印刷し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層してグリーンチップとする。   A method of laminating these is not particularly limited, and examples thereof include a printing method and a sheet method. When the printing method is used, the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste are laminated and printed on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip. When the sheet method is used, a dielectric layer paste is used to form a green sheet, the internal electrode layer paste is printed thereon, and these are stacked to form a green chip.

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ条件としては、昇温速度を好ましくは5〜300℃/時間、より好ましくは10〜100℃/時間、保持温度を好ましくは180〜400℃、より好ましくは200〜300℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは5〜20時間とする。また、脱バインダ雰囲気は、空気中とすることが好ましい。   Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. As the binder removal conditions, the temperature rising rate is preferably 5 to 300 ° C./hour, more preferably 10 to 100 ° C./hour, the holding temperature is preferably 180 to 400 ° C., more preferably 200 to 300 ° C., and the temperature holding time. Is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 5 to 20 hours. The binder removal atmosphere is preferably in the air.

次いで、脱バインダ処理を施したグリーンチップを焼成する。グリーンチップ焼成時の雰囲気は、内部電極層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、焼成雰囲気中の酸素分圧は、10−9〜10−4Paとすることが好ましい。酸素分圧が上記範囲未満であると、内部電極層の導電材が異常焼結を起こし、途切れてしまうことがある。また、酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。 Next, the green chip subjected to the binder removal process is fired. The atmosphere at the time of green chip firing may be appropriately determined according to the type of conductive material in the internal electrode layer paste, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, the oxygen content in the firing atmosphere The pressure is preferably 10 −9 to 10 −4 Pa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the conductive material of the internal electrode layer may be abnormally sintered and may be interrupted. Further, when the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized.

また、焼成時の保持温度は、好ましくは1000〜1400℃、より好ましくは1100〜1350℃である。保持温度が上記範囲未満であると緻密化が不十分となり、前記範囲を超えると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れや、内部電極層構成材料の拡散による容量温度特性の悪化、誘電体磁器組成物の還元が生じやすくなる。   Moreover, the holding temperature at the time of baking becomes like this. Preferably it is 1000-1400 degreeC, More preferably, it is 1100-1350 degreeC. If the holding temperature is lower than the above range, the densification becomes insufficient. If the holding temperature is higher than the above range, the electrode is interrupted due to abnormal sintering of the internal electrode layer, the capacity temperature characteristic is deteriorated due to diffusion of the constituent material of the internal electrode layer, and the dielectric Reduction of the body porcelain composition is likely to occur.

これ以外の焼成条件としては、昇温速度を好ましくは100〜2000℃/時間、より好ましくは200〜1000℃/時間、温度保持時間を好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは1〜3時間、冷却速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは200〜300℃/時間とする。また、焼成雰囲気は還元性雰囲気とすることが好ましく、雰囲気ガスとしてはたとえば、NとHとの混合ガスを加湿して用いることが好ましい。 As other firing conditions, the rate of temperature rise is preferably 100 to 2000 ° C./hour, more preferably 200 to 1000 ° C./hour, and the temperature holding time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 3 hours. The time and cooling rate are preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 300 ° C./hour. Further, the firing atmosphere is preferably a reducing atmosphere, and as the atmosphere gas, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 is preferably used by humidification.

還元性雰囲気中で焼成した場合、コンデンサ素子本体にはアニールを施すことが好ましい。アニールは、誘電体層を再酸化するための処理であり、これによりIR寿命を著しく長くすることができるので、信頼性が向上する。   When firing in a reducing atmosphere, it is preferable to anneal the capacitor element body. Annealing is a process for re-oxidizing the dielectric layer, and this can significantly increase the IR lifetime, thereby improving the reliability.

アニール雰囲気中の酸素分圧は、10−3Pa以上、特に10−2〜10Paとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると誘電体層の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層が酸化する傾向にある。 The oxygen partial pressure in the annealing atmosphere is preferably 10 −3 Pa or more, particularly preferably 10 −2 to 10 Pa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, it is difficult to reoxidize the dielectric layer, and when it exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized.

アニールの際の保持温度は、1200℃以下、特に500〜1200℃とすることが好ましい。保持温度が上記範囲未満であると誘電体層の酸化が不十分となるので、IRが低く、また、高温負荷寿命が短くなりやすい。一方、保持温度が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化して容量が低下するだけでなく、内部電極層が誘電体素地と反応してしまい、容量温度特性の悪化、IRの低下、高温負荷寿命の低下が生じやすくなる。   The holding temperature at the time of annealing is preferably 1200 ° C. or less, particularly 500 to 1200 ° C. When the holding temperature is lower than the above range, the dielectric layer is not sufficiently oxidized, so that the IR is low and the high temperature load life is likely to be shortened. On the other hand, when the holding temperature exceeds the above range, not only the internal electrode layer is oxidized and the capacity is lowered, but the internal electrode layer reacts with the dielectric substrate, the capacity temperature characteristic is deteriorated, the IR is lowered, and the high temperature is increased. The load life is likely to decrease.

これ以外のアニール条件としては、昇温速度を好ましくは100〜900℃/時間、より好ましくは200〜900℃/時間、温度保持時間を好ましくは0.5〜12時間、より好ましくは1〜10時間、冷却速度を好ましくは50〜600℃/時間、より好ましくは100〜300℃/時間とする。また、アニールの雰囲気ガスとしては、たとえば、加湿したNガス等を用いることが好ましい。 As other annealing conditions, the rate of temperature rise is preferably 100 to 900 ° C./hour, more preferably 200 to 900 ° C./hour, and the temperature holding time is preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 1 to 10 hours. The time and cooling rate are preferably 50 to 600 ° C./hour, more preferably 100 to 300 ° C./hour. Further, as the annealing atmosphere gas, for example, humidified N 2 gas or the like is preferably used.

上記した脱バインダ処理、焼成およびアニールにおいて、Nガスや混合ガス等を加湿するには、例えばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5〜75℃程度が好ましい。
脱バインダ処理、焼成およびアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。
In the above-described binder removal processing, firing and annealing, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas or mixed gas. In this case, the water temperature is preferably about 5 to 75 ° C.
The binder removal treatment, firing and annealing may be performed continuously or independently.

上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、たとえば、バレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを印刷または転写して焼成し、外部電極4を形成する。外部電極用ペーストの焼成条件は、たとえば、加湿したNとHとの混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、外部電極4表面に、めっき等により被覆層を形成する。なお、外部電極用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製すればよい。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
The capacitor element body obtained as described above is subjected to end face polishing by, for example, barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is printed or transferred and baked to form the external electrode 4. The firing conditions of the external electrode paste are preferably, for example, about 10 minutes to 1 hour at 600 to 800 ° C. in a humidified mixed gas of N 2 and H 2 . Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like. The external electrode paste is prepared by kneading the above-mentioned organic vehicle with various conductive metals and alloys as described above, or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. that become the above-mentioned conductive materials after firing. Can be prepared.
The multilayer ceramic capacitor of the present invention thus manufactured is mounted on a printed circuit board by soldering or the like and used for various electronic devices.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。   As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the embodiment mentioned above at all, and can be variously modified within the range which does not deviate from the summary of this invention.

たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る積層型電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る積層型電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記方法により製造されるものであれば何でも良い。   For example, in the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the multilayer electronic component according to the present invention. However, the multilayer electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and is manufactured by the above method. Anything can be used.

以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。   Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1
誘電体層用ペーストの作製
まず、出発原料として、主成分原料であるBaTiO粉末(平均粒子径0.2μm)と、添加成分としてのV、Y、SiO、MgO、MnOを準備した。なお、添加成分の使用量は、主成分であるBaTiO:100モルに対して、下記の通りとした。
:0.03モル
:0.5モル
SiO:0.5モル
MgO:1.5モル
MnO:0.2モル
そして、これら主成分原料と、添加成分の原料とをボールミルにより16時間湿式混合し、その後乾燥することにより、誘電体磁器組成物粉末を調製した。
Example 1
Preparation of Dielectric Layer Paste First, as a starting material, BaTiO 3 powder (average particle diameter: 0.2 μm) as a main component material and V 2 O 5 , Y 2 O 3 , SiO 2 , MgO as additive components, MnO was prepared. Incidentally, the amount of additive component, BaTiO 3 as the main component with respect to 100 moles, were as follows.
V 2 O 5 : 0.03 mol Y 2 O 3 : 0.5 mol SiO 2 : 0.5 mol MgO: 1.5 mol MnO: 0.2 mol And these main component raw materials and raw materials for additive components Was mixed with a ball mill for 16 hours and then dried to prepare a dielectric ceramic composition powder.

次いで、上記にて調製した誘電体磁器組成物粉末:100重量部と、ブチラール樹脂:4.8重量部と、トルエン:10重量部と、酢酸エチル70重量部と、ミネラルスピリット:6重量部と、アセトン:4重量部と、をボールミルで混合し、ペースト化して誘電体層用ペーストを得た。   Next, the dielectric ceramic composition powder prepared above: 100 parts by weight, butyral resin: 4.8 parts by weight, toluene: 10 parts by weight, ethyl acetate 70 parts by weight, mineral spirit: 6 parts by weight Acetone: 4 parts by weight was mixed with a ball mill and formed into a paste to obtain a dielectric layer paste.

内部電極層用ペーストの作製
上記とは別に、次の方法により、内部電極層用ペーストを調製した。すなわち、まず、Ni粒子:100重量部と、添加成分であるチタン酸バリウム:20重量部および所定量のVと、有機ビヒクル(エチルセルロース8重量部をブチルカルビトール92重量部に溶解したもの):40重量部と、ブチルカルビトール:10重量部と、を3本ロールにより混練し、ペースト化して内部電極層用ペーストを得た。
なお、本実施例では、内部電極層用ペースト中におけるVの添加量を、表1に示す各量とした複数の内部電極層用ペースト(試料番号1〜7)を準備した。ここで、表1に示すVの添加量は、チタン酸バリウム100モルに対する添加量である。
Preparation of Internal Electrode Layer Paste Separately from the above, an internal electrode layer paste was prepared by the following method. That is, first, Ni particles: 100 parts by weight, additive barium titanate: 20 parts by weight and a predetermined amount of V 2 O 5 , an organic vehicle (ethyl cellulose 8 parts by weight dissolved in butyl carbitol 92 parts by weight) Things): 40 parts by weight and butyl carbitol: 10 parts by weight were kneaded with three rolls to obtain a paste for an internal electrode layer.
In this example, a plurality of internal electrode layer pastes (sample numbers 1 to 7) were prepared in which the amounts of V 2 O 5 added to the internal electrode layer paste were as shown in Table 1. Here, the addition amount of V 2 O 5 shown in Table 1 is an addition amount with respect to 100 mol of barium titanate.

グリーンチップの形成、焼成など
そして、得られた誘電体層用ペーストを用いてPETフィルム上にグリーンシートを形成し、この上に内部電極用ペーストを印刷した後、PETフィルムからシートを剥離した。次いで、これらのグリーンシートと保護用グリーンシート(内部電極層用ペーストを印刷しないもの)とを積層、圧着して、グリーンチップを得た。
The green sheet was formed, fired, and the like, and the obtained dielectric layer paste was used to form a green sheet on the PET film. After the internal electrode paste was printed thereon, the sheet was peeled from the PET film. Next, these green sheets and protective green sheets (not printed with internal electrode layer paste) were laminated and pressure-bonded to obtain green chips.

次いで、上記にて作製したグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にて行って、積層セラミック焼成体を得た。
脱バインダ処理条件は、昇温速度:32.5℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。
焼成条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1210または1230℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN+H混合ガス(酸素分圧:10−6 Pa)とした。
アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1050℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したNガス(酸素分圧:10−1Pa)とした。
なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、水温を20℃としたウエッターを用いた。
Next, the green chip produced above was subjected to binder removal processing, firing and annealing under the following conditions to obtain a multilayer ceramic fired body.
The binder removal treatment conditions were temperature rising rate: 32.5 ° C./hour, holding temperature: 260 ° C., temperature holding time: 8 hours, and atmosphere: in the air.
Firing conditions are: temperature rising rate: 200 ° C./hour, holding temperature: 1210 or 1230 ° C., temperature holding time: 2 hours, cooling rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N 2 + H 2 mixed gas (oxygen content) Pressure: 10 −6 Pa).
The annealing conditions were as follows: temperature rising rate: 200 ° C./hour, holding temperature: 1050 ° C., temperature holding time: 2 hours, cooling rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N 2 gas (oxygen partial pressure: 10 −1 Pa).
Note that a wetter with a water temperature of 20 ° C. was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.

次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてIn−Gaを塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサの試料(試料番号1〜7)を得た。なお、試料番号1〜7は、内部電極層用ペーストとして、表1に示すように、Vの添加量のそれぞれ異なるペーストを使用した試料である。 Next, after polishing the end face of the obtained multilayer ceramic fired body by sand blasting, In-Ga was applied as an external electrode to obtain samples (sample numbers 1 to 7) of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. Sample numbers 1 to 7 are samples using pastes having different amounts of V 2 O 5 as shown in Table 1 as internal electrode layer pastes.

得られたコンデンサ試料のサイズは、3.2mm×1.6mm×0.6mmであり、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は4、1層あたりの誘電体層の厚み(層間厚み)は約3.5μmであり、内部電極層の厚さは0.9μmであった。   The size of the obtained capacitor sample was 3.2 mm × 1.6 mm × 0.6 mm, the number of dielectric layers sandwiched between internal electrode layers was 4, and the thickness of the dielectric layers per layer (interlayer thickness) ) Was about 3.5 μm, and the thickness of the internal electrode layer was 0.9 μm.

そして、得られたコンデンサ試料に対して、比誘電率ε、絶縁抵抗の加速寿命、および高温時における絶縁抵抗の各評価を、以下の方法にて行った。   And each evaluation of the dielectric constant ε, the accelerated life of the insulation resistance, and the insulation resistance at high temperature was performed on the obtained capacitor sample by the following methods.

比誘電率ε
コンデンサの試料に対し、基準温度20℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4274A)にて、周波数1kHz、入力信号レベル(測定電圧)0.5Vrms/μmの条件下で、静電容量Cおよび誘電損失tanδを測定した。そして、得られた静電容量から、比誘電率ε(単位なし)を算出した。本実施例では、比誘電率εの値は、コンデンサの試料数n=20個を用いて測定した値の平均値として算出した。比誘電率εは、高い方が好ましく、小型・大容量のコンデンサを作製するために重要な特性である。結果を表1に示す。
Dielectric constant ε
Capacitor C and dielectric with respect to a capacitor sample under the conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 0.5 Vrms / μm with a digital LCR meter (YHP 4274A) at a reference temperature of 20 ° C. The loss tan δ was measured. Then, the relative dielectric constant ε (no unit) was calculated from the obtained capacitance. In this example, the value of the relative dielectric constant ε was calculated as an average value of values measured using the number of capacitor samples n = 20. The relative dielectric constant ε is preferably high, and is an important characteristic for producing a small-sized and large-capacity capacitor. The results are shown in Table 1.

絶縁抵抗の加速寿命(高温負荷寿命)
コンデンサの試料に対し、180℃で16V/μmの直流電圧の印加状態に保持することにより、絶縁抵抗の加速寿命を測定した。本実施例では印加開始から抵抗が一桁落ちるまでの時間を寿命と定義し、これを10個のコンデンサ試料に対して行い、その平均寿命時間を算出した。結果を表1に示す。
Accelerated life of insulation resistance (high temperature load life)
The accelerated life of the insulation resistance was measured by maintaining a DC voltage of 16 V / μm at 180 ° C. with respect to the capacitor sample. In this example, the time from the start of application until the resistance drops by an order of magnitude was defined as the lifetime, and this was performed for 10 capacitor samples, and the average lifetime was calculated. The results are shown in Table 1.

高温時における絶縁抵抗
コンデンサ試料に対し、絶縁抵抗計(アドバンテスト社製R8340A)を用いて、20Vの直流電圧を1分間印加した後の絶縁抵抗を、温度125℃の条件にて測定した。高温時における絶縁抵抗(単位は、GΩ)は、大きいほど好ましく、本実施例では、1.0GΩ以上となることが好ましい。結果を表1に示す。
The insulation resistance after applying a DC voltage of 20 V for 1 minute to the insulation resistance capacitor sample at high temperature using an insulation resistance meter (R8340A manufactured by Advantest) was measured under the condition of a temperature of 125 ° C. The insulation resistance (unit: GΩ) at a high temperature is preferably as large as possible. The results are shown in Table 1.

Figure 2008227093
表1中、誘電体層用ペースト中のV量(D)は、誘電体層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対する量であり、また、内部電極層用ペースト中のV量(E)は、内部電極層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対する量であり、さらに、E/Dはこれらの比である(以下、表2〜表4も同様)。
Figure 2008227093
In Table 1, the amount of V 2 O 5 (D V ) in the dielectric layer paste is an amount with respect to 100 mol of barium titanate contained in the dielectric layer paste, and the amount of V 2 O 5 in the internal electrode layer paste The amount of V 2 O 5 (E V ) is an amount relative to 100 mol of barium titanate contained in the internal electrode layer paste, and E V / D V is a ratio thereof (hereinafter, Table 2 to Table 2). 4 is the same).

表1より、誘電体層用ペースト中のV量を0.03モルとし、および、内部電極層用ペースト中のV量を0.2〜1モルの範囲とすることにより、比誘電率を良好に保ちながら、絶縁抵抗の加速寿命の向上が可能となることが確認できる。なお、これらの試料は、いずれもE/D≧5を満足する試料である。一方、内部電極層用ペーストに、Vを添加しない場合、およびV量を0.1モルとした場合には、絶縁抵抗の加速寿命に劣る結果となった。なお、V量を1モルとすると、高温時における絶縁抵抗が低下する傾向にあった。 From Table 1, the V 2 O 5 content in the dielectric layer paste was 0.03 mol, and the V 2 O 5 content in the internal electrode layer paste by a 0.2 to 1 mols It can be confirmed that the accelerated life of the insulation resistance can be improved while keeping the relative dielectric constant good. These samples are samples that satisfy E V / D V ≧ 5. On the other hand, when V 2 O 5 was not added to the internal electrode layer paste and when the amount of V 2 O 5 was 0.1 mol, the accelerated life of insulation resistance was inferior. When the amount of V 2 O 5 was 1 mol, the insulation resistance at high temperature tended to decrease.

実施例2
誘電体層用ペースト中のV量を、誘電体層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対して、0.06モルに変更するとともに、内部電極層用ペーストに含有させるV量を、内部電極層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対して、表2に示す量とした以外は、実施例1と同様にして、コンデンサ試料(試料番号11〜18)を作製し、同様に評価を行った。結果を表2に示す。
Example 2
The amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste is changed to 0.06 mol with respect to 100 mol of barium titanate contained in the dielectric layer paste, and V is contained in the internal electrode layer paste. A capacitor sample (sample numbers 11 to 18) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of 2 O 5 was changed to the amount shown in Table 2 with respect to 100 moles of barium titanate contained in the internal electrode layer paste. ) And evaluated in the same manner. The results are shown in Table 2.

Figure 2008227093
Figure 2008227093

表2より、誘電体層用ペースト中のV量を0.06モルとした場合においても、同様の傾向となることが確認できる。なお、実施例2においては、E/D≧5とした場合に、特に良好な結果が得られることが確認できる。 From Table 2, it can be confirmed that the same tendency is observed even when the amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste is 0.06 mol. In Example 2, it can be confirmed that particularly good results are obtained when E V / D V ≧ 5.

実施例3
誘電体層用ペースト中のV量を、誘電体層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対して、0.1モルに変更するとともに、内部電極層用ペーストに含有させるV量を、内部電極層用ペースト中に含有させるチタン酸バリウム100モルに対して、表3に示す量とした以外は、実施例1と同様にして、コンデンサ試料(試料番号21〜28)を作製し、同様に評価を行った。結果を表3に示す。
Example 3
The amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste is changed to 0.1 mol with respect to 100 mol of barium titanate contained in the dielectric layer paste, and V is contained in the internal electrode layer paste. A capacitor sample (sample numbers 21 to 28) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of 2 O 5 was changed to the amount shown in Table 3 with respect to 100 moles of barium titanate contained in the internal electrode layer paste. ) And evaluated in the same manner. The results are shown in Table 3.

Figure 2008227093
Figure 2008227093

表3より、誘電体層用ペースト中のV量を0.1モルとした場合においても、同様の傾向となることが確認できる。なお、実施例3においても、E/D≧5とした場合に、特に良好な結果が得られることが確認できる。 From Table 3, it can be confirmed that the same tendency is observed even when the amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste is 0.1 mol. In Example 3, it can be confirmed that particularly good results are obtained when E V / D V ≧ 5.

実施例4
誘電体層用ペースト中のV量、および内部電極層用ペーストに含有させるV量を、表4に示す量とした以外は、実施例1と同様にして、コンデンサ試料を作製し、同様に評価を行った。
すなわち、本実施例では、誘電体層用ペースト中のV量を0.15モルとし、内部電極層用ペーストにはVを添加しなかった試料(試料番号31)、内部電極層用ペースト中のV量を0.25モルとし、誘電体層用ペーストにはVを添加しなかった試料(試料番号32)を、それぞれ作製し、評価を行った。結果を表4に示す。
Example 4
V 2 O 5 of the dielectric layer paste, and V 2 O 5 amount to be contained in the internal electrode layer paste, except that the amount shown in Table 4, in the same manner as in Example 1, capacitor samples It produced and evaluated similarly.
That is, in this example, the amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste was 0.15 mol, and the internal electrode layer paste was not added with V 2 O 5 (sample number 31), the internal A sample (sample number 32) in which the amount of V 2 O 5 in the electrode layer paste was 0.25 mol and V 2 O 5 was not added to the dielectric layer paste was prepared and evaluated. . The results are shown in Table 4.

Figure 2008227093
Figure 2008227093

表4より、試料番号31においては、誘電体層用ペースト中のV量を0.15モルと多くしたため、絶縁抵抗の加速寿命が向上する結果となったものの、比誘電率が低くなる結果となった。さらに、高温時における絶縁抵抗も低くなる結果となった。 From Table 4, in Sample No. 31, the amount of V 2 O 5 in the dielectric layer paste was increased to 0.15 mol, and as a result, the accelerated lifetime of insulation resistance was improved, but the relative dielectric constant was low. It became the result. Furthermore, the insulation resistance at high temperature was also lowered.

また、誘電体層用ペースト中に、Vを添加しなかった試料番号32においては、絶縁抵抗の加速寿命が不十分であった。加えて、この試料番号32は、図2にグラフ化して示すように、絶縁抵抗の加速寿命を評価した際に、各サンプル間において、故障時間に大きなバラツキが発生する結果となり、信頼性に劣る結果となった。なお、図2は、実施例1の試料番号2、および本実施例の試料番号32の絶縁抵抗の加速寿命を評価時における、各評価サンプルの故障時間を表すグラフであり、横軸を故障時間、縦軸を信頼性関数の自然対数としてグラフ化して示したものである。ここにおいて、各プロットが、縦方向に近い形で並ぶ(すなわち、各プロットにおける故障時間がほぼ同じとなる場合)ほど、各サンプル間の特性バラツキが小さいことを示している。 In Sample No. 32 in which V 2 O 5 was not added to the dielectric layer paste, the accelerated life of the insulation resistance was insufficient. In addition, as shown in the graph of FIG. 2, this sample number 32 results in a large variation in the failure time between samples when evaluating the accelerated life of the insulation resistance, resulting in poor reliability. As a result. FIG. 2 is a graph showing the failure time of each evaluation sample when evaluating the accelerated life of the insulation resistance of Sample No. 2 of Example 1 and Sample No. 32 of this example, and the horizontal axis represents the failure time. The vertical axis is plotted as a natural logarithm of the reliability function. Here, as the plots are arranged in a form closer to the vertical direction (that is, when the failure times in the plots are substantially the same), the characteristic variation between the samples is smaller.

図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2は本発明の実施例および比較例に係る積層セラミックコンデンサの絶縁抵抗の加速寿命を評価時における、各評価サンプルの故障時間を表すグラフである。FIG. 2 is a graph showing the failure time of each evaluation sample at the time of evaluating the accelerated life of the insulation resistance of the multilayer ceramic capacitor according to the example and the comparative example of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1… 積層セラミックコンデンサ
10… コンデンサ素子本体
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 10 ... Capacitor element main body 2 ... Dielectric layer 3 ... Internal electrode layer 4 ... External electrode

Claims (3)

内部電極層と誘電体層とが交互に積層された積層型電子部品を製造する方法であって、
内部電極層用ペーストおよび誘電体層用ペーストを用いて、焼成後に前記誘電体層となるグリーンシートと、焼成後に前記内部電極層となる電極ペースト層と、が交互に積層されたグリーンチップを得る工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有し、
前記内部電極層用ペーストが、導電体材料と、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を含有し、
前記内部電極層用ペーストにおける前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、前記チタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0.2モル以上であり、
前記誘電体層用ペーストが、チタン酸バリウムと、Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物と、を含有し、
前記誘電体層用ペーストにおける前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、前記チタン酸バリウム100モルに対して、V換算で、0モルより多く、0.1モル以下である積層型電子部品の製造方法。
A method of manufacturing a laminated electronic component in which internal electrode layers and dielectric layers are alternately laminated,
Using the internal electrode layer paste and the dielectric layer paste, a green chip is obtained in which a green sheet that becomes the dielectric layer after firing and an electrode paste layer that becomes the internal electrode layer after firing are alternately laminated. Process,
Firing the green chip,
The internal electrode layer paste contains a conductor material, barium titanate, a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing,
In the internal electrode layer paste, the ratio of the oxide of V and / or the compound that becomes an oxide of V after firing is 0.2 mol or more in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of the barium titanate. And
The dielectric layer paste contains barium titanate and a V oxide and / or a compound that becomes a V oxide after firing,
In the dielectric layer paste, the ratio of the oxide of V and / or the compound that becomes an oxide of V after firing is more than 0 mol in terms of V 2 O 5 with respect to 100 mol of the barium titanate, A method for producing a multilayer electronic component having a content of 0.1 mol or less.
前記内部電極層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Eモルとし、
前記誘電体層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率を、Dモルとした場合に、
前記EとDとの関係が、E/D≧5である請求項1に記載の積層型電子部品の製造方法。
The ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compound of V with respect to the 100 mol of barium titanate in the internal electrode layer paste, and E V moles,
The ratio of the oxide and / or become oxides of V after firing compound of V with respect to the 100 mol of barium titanate in the dielectric layer paste, the case of the D V moles,
The relationship between E V and D V is stacked method of manufacturing an electronic component according to claim 1 which is E V / D V ≧ 5.
前記内部電極層用ペーストにおける前記チタン酸バリウム100モルに対する前記Vの酸化物および/または焼成後にVの酸化物になる化合物の比率が、1モル未満である請求項1または2に記載の積層型電子部品の製造方法。   3. The stacked type according to claim 1, wherein a ratio of the oxide of V and / or a compound which becomes an oxide of V after firing to 100 mol of the barium titanate in the internal electrode layer paste is less than 1 mol. Manufacturing method of electronic components.
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