JP2008222520A - Dielectric porcelain composition and electronic component - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、誘電体磁器組成物、およびこの誘電体磁器組成物を誘電体層に有する電子部品に係り、さらに詳しくは、定格電圧の高い(たとえば100V以上)中高圧用途に好適に用いられる誘電体磁器組成物および電子部品に関する。 The present invention relates to a dielectric ceramic composition and an electronic component having the dielectric ceramic composition in a dielectric layer. More specifically, the dielectric ceramic composition is suitably used for medium-high voltage applications having a high rated voltage (for example, 100 V or more). The present invention relates to a body porcelain composition and an electronic component.
近年、電子回路の高密度化に伴う電子部品の小型化に対する要求は高く、積層セラミックコンデンサの小型・大容量化が急速に進むとともに、用途も拡大し、要求される特性は様々である。 In recent years, there has been a high demand for downsizing of electronic components due to higher density of electronic circuits, and the use of multilayer ceramic capacitors has rapidly increased in size and capacity, and applications have been expanded.
たとえば、高い定格電圧(たとえば、100V以上)で使用される中高圧用コンデンサは、ECM(エンジンエレクトリックコンピュータモジュール)、燃料噴射装置、電子制御スロットル、インバータ、コンバータ、HIDヘッドランプユニット、ハイブリッドエンジンのバッテリコントロールユニット、デジタルスチールカメラ等の機器に好適に用いられる。 For example, the medium- and high-voltage capacitors used at a high rated voltage (for example, 100 V or more) are ECM (engine electric computer module), fuel injection device, electronic control throttle, inverter, converter, HID headlamp unit, hybrid engine battery. It is suitably used for devices such as control units and digital still cameras.
したがって、上記の機器に中高圧用コンデンサを用いる場合、電子部品の高密度の実装により生じる発熱や、自動車用電子部品に代表される過酷な使用環境が問題となるため、高電圧下で使用できることだけでなく、特に、100℃以上の高温度下においても容量温度変化率が小さいことが望まれている。 Therefore, when using a medium- or high-voltage capacitor for the above equipment, heat generation caused by high-density mounting of electronic components and the harsh use environment typified by automotive electronic components are problematic, so it can be used under high voltage. In addition, in particular, it is desired that the rate of change in the capacity temperature is small even at a high temperature of 100 ° C. or higher.
このような要求に対して、たとえば、特許文献1には、結晶粒子中のMg、Mnおよび希土類元素の濃度が、結晶粒子の中心から結晶粒界に向かうにつれ徐々に大きくなる構成を有する誘電体層を有する積層セラミックコンデンサが提案されている。 In response to such a demand, for example, Patent Document 1 discloses a dielectric having a configuration in which the concentrations of Mg, Mn, and rare earth elements in crystal grains gradually increase from the center of the crystal grains toward the crystal grain boundary. Multilayer ceramic capacitors having layers have been proposed.
また、特許文献2には、コアシェル構造を有する誘電体粒子からなる誘電体層を有する積層セラミックコンデンサであって、シェル部にMn等のアクセプタ型元素、Mg、希土類元素が含まれており、シェル部に含まれるアクセプタ型元素および希土類元素の濃度が、コア部とシェル部の境界から結晶粒界に向かうにつれ徐々に大きくなる構成を有するものが提案されている。
Further,
さらに、特許文献3には、固溶体である誘電体粒子からなる誘電体層を有する積層セラミックコンデンサであって、誘電体粒子に含まれるMn等のアクセプタ型元素およびHo等の希土類元素の濃度が、該粒子の中心から結晶粒界に向かうにつれ徐々に大きくなる構成を有するものが提案されている。
Further,
しかしながら、特許文献1に開示された積層セラミックコンデンサにおいては、IR(絶縁抵抗)寿命の試験電圧が4.75V/μmと低く、高電圧における使用を目的とするものではない。一方、特許文献2に開示された積層セラミックコンデンサは、容量温度特性としてB特性を満足することが好ましいと記載されているのみであり、高温における使用を目的とするものではない。また、特許文献3に開示された積層セラミックコンデンサは、容量温度特性としてF特性を満足するのみであり、特許文献2と同様に、高温における使用を目的とするものではない。
However, in the multilayer ceramic capacitor disclosed in Patent Document 1, the test voltage for IR (insulation resistance) life is as low as 4.75 V / μm and is not intended for use at a high voltage. On the other hand, the multilayer ceramic capacitor disclosed in
また、強誘電性を示すチタン酸バリウムを主成分とする誘電体磁器組成物を使用した積層セラミックコンデンサにおいては、電界を印加した際に、機械的歪みが発生するという電歪現象を伴う。この電歪現象による振動により発生する振動音は、人に不快な音域の場合もあり、対策が必要とされていた。
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、電圧印加時における電歪量が低く、高温における容量温度変化率を向上させることができる誘電体磁器組成物、およびこの誘電体磁器組成物を誘電体層として有する電子部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a dielectric ceramic composition that has a low amount of electrostriction when a voltage is applied and that can improve the rate of change in capacitance temperature at high temperatures, and a dielectric ceramic composition that is a dielectric ceramic composition. An object is to provide an electronic component having a body layer.
本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、チタン酸バリウムを含む主成分と、特定の副成分とを有する誘電体磁器組成物が、電圧印加時における電歪量が低くすることができることを見出し、さらに、この誘電体磁器組成物を構成する誘電体粒子において、副成分元素が主成分元素に拡散している領域における特定の副成分元素の濃度を、結晶粒界の界面近傍におけるその副成分元素の濃度よりも大きくすることで、高温における容量温度変化率を向上することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive investigations to achieve the above object, the present inventors have found that a dielectric ceramic composition having a main component containing barium titanate and a specific subcomponent has an electrostriction amount when a voltage is applied. In addition, in the dielectric particles constituting the dielectric ceramic composition, the concentration of a specific subcomponent element in the region where the subcomponent element diffuses into the main component element is reduced. It has been found that the capacity temperature change rate at a high temperature can be improved by increasing the concentration of the subcomponent element in the vicinity of the interface of the boundary, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明に係る誘電体磁器組成物は、
チタン酸バリウムを含む主成分と、
BaZrO3 を含む第1副成分と、
Mgの酸化物を含む第2副成分と、
Rの酸化物(ただし、Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を含む第3副成分と、
Mn、Cr、CoおよびFeから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第4副成分と、
Si、Al、Ge、BおよびLiから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第5副成分と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記誘電体磁器組成物が、複数の誘電体粒子と、隣り合う前記誘電体粒子間に存在する結晶粒界と、を有しており、
前記複数の誘電体粒子のうち、少なくとも一部の誘電体粒子が、中心層と、前記中心層の周囲に存在する、前記副成分が拡散している拡散層とから構成される表面拡散構造を有しており、
前記表面拡散構造を有する誘電体粒子において、前記結晶粒界から前記誘電体粒子の略中心に向かう方向に、前記結晶粒界の界面から該誘電体粒子の粒子径の5%の距離に位置する界面近傍点における前記Rの濃度をCbとし、前記拡散層における前記Rの濃度の最大値をCmaxとした場合に、Cmax/Cb>1である関係を満足することを特徴とする。
That is, the dielectric ceramic composition according to the present invention is
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising BaZrO 3 ;
A second subcomponent comprising an oxide of Mg;
R oxide (where R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu) A third subcomponent comprising
A fourth subcomponent comprising an oxide of at least one element selected from Mn, Cr, Co and Fe;
A dielectric ceramic composition comprising: a fifth subcomponent including an oxide of at least one element selected from Si, Al, Ge, B and Li,
The dielectric ceramic composition has a plurality of dielectric particles and a crystal grain boundary existing between the adjacent dielectric particles;
A surface diffusion structure in which at least some of the plurality of dielectric particles are composed of a central layer and a diffusion layer in which the subcomponent is diffused, which exists around the central layer. Have
In the dielectric particle having the surface diffusion structure, the dielectric particle is located at a distance of 5% of the particle diameter of the dielectric particle from the interface of the crystal grain boundary in the direction from the crystal grain boundary toward the approximate center of the dielectric particle. The relationship of Cmax / Cb> 1 is satisfied, where Cb is the concentration of R in the vicinity of the interface and Cmax is the maximum value of the concentration of R in the diffusion layer.
本発明の誘電体磁器組成物は、チタン酸バリウムを含む主成分と、上記の特定の副成分とを含むことで、電圧印加時における電歪量を小さくすることができる。また、本発明の誘電体磁器組成物を構成する複数の誘電体粒子のうち、少なくとも一部の誘電体粒子が表面拡散構造を有している。表面拡散構造とは、実質的に主成分からなる中心層と、中心層の周囲に存在し主成分に副成分が拡散した拡散層と、からなる構造である。 The dielectric ceramic composition of the present invention can reduce the amount of electrostriction when a voltage is applied by including a main component containing barium titanate and the specific subcomponent. In addition, among the plurality of dielectric particles constituting the dielectric ceramic composition of the present invention, at least some of the dielectric particles have a surface diffusion structure. The surface diffusion structure is a structure composed of a central layer that is substantially composed of the main component and a diffusion layer that exists around the central layer and in which the subcomponent diffuses into the main component.
本発明においては、拡散層にRの元素が存在しており、しかも、拡散層内におけるRの濃度分布は、誘電体粒子の界面近傍点におけるRの濃度(Cb)よりも、拡散層内の任意の点におけるRの濃度の最大値(Cmax)が大きい構成となっている。すなわち、拡散層においては、Cmax/Cb>1である濃度分布を示す。 In the present invention, the R element is present in the diffusion layer, and the concentration distribution of R in the diffusion layer is higher than the concentration (Cb) of R in the vicinity of the interface of the dielectric particles. The maximum value (Cmax) of the R concentration at an arbitrary point is large. That is, the diffusion layer shows a concentration distribution where Cmax / Cb> 1.
R元素の濃度分布が上記の構成となっていることで、容量温度特性を向上させることができる。 Since the concentration distribution of the R element has the above configuration, the capacity-temperature characteristic can be improved.
好ましくは、Cmax/Cb>1である関係を満足する誘電体粒子の存在割合が、前記表面拡散構造を有する全誘電体粒子に対して、70%以上、より好ましくは90%以上である。 Preferably, the ratio of the dielectric particles satisfying the relationship of Cmax / Cb> 1 is 70% or more, more preferably 90% or more with respect to all the dielectric particles having the surface diffusion structure.
Cmax/Cb>1である関係を満足する誘電体粒子の存在割合を上記の範囲とすることで、上述した効果をさらに大きくすることができる。 By setting the ratio of the dielectric particles satisfying the relationship of Cmax / Cb> 1 within the above range, the above-described effect can be further increased.
好ましくは、前記主成分100モルに対する、各副成分の酸化物または複合酸化物換算での比率が、第1副成分:9〜13モル、第2副成分:2.7〜5.7モル、第3副成分:4.5〜5.5モル、第4副成分:0.5〜1.5モル、第5副成分:3.0〜3.9モルである。各副成分の添加量を上記の範囲とすることで、特に、容量温度変化率をさらに向上することができる。 Preferably, the ratio of each subcomponent in terms of oxide or composite oxide to 100 mol of the main component is as follows: first subcomponent: 9 to 13 mol, second subcomponent: 2.7 to 5.7 mol, Third subcomponent: 4.5 to 5.5 mol, fourth subcomponent: 0.5 to 1.5 mol, and fifth subcomponent: 3.0 to 3.9 mol. In particular, the capacity temperature change rate can be further improved by setting the addition amount of each subcomponent within the above range.
また、本発明によれば、誘電体層と内部電極層とを有する電子部品であって、前記誘電体層が、上記のいずれかの誘電体磁器組成物で構成された電子部品が提供される。 According to the present invention, there is also provided an electronic component having a dielectric layer and an internal electrode layer, wherein the dielectric layer is composed of any one of the above dielectric ceramic compositions. .
本発明に係る電子部品としては、特に限定されないが、積層セラミックコンデンサ、圧電素子、チップインダクタ、チップバリスタ、チップサーミスタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品が例示される。 The electronic component according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a multilayer ceramic capacitor, a piezoelectric element, a chip inductor, a chip varistor, a chip thermistor, a chip resistor, and other surface mount (SMD) chip type electronic components.
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図、
図2は、本発明の一実施形態に係る表面拡散粒子の模式図、
図3(A)は、本発明の一実施形態に係る表面拡散粒子におけるRの元素のCmaxおよびCbを測定する方法を説明するための模式図、
図3(B)は、従来例に係る表面拡散粒子におけるRの元素のCmaxおよびCbを測定する方法を説明するための模式図、
図4は、本発明の実施例に係る表面拡散粒子のTEM写真、
図5は、本発明の実施例および比較例に係る表面拡散粒子のRの元素の濃度分布を示すグラフである。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram of surface diffusion particles according to an embodiment of the present invention,
FIG. 3A is a schematic diagram for explaining a method of measuring Cmax and Cb of an element of R in surface diffusion particles according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3B is a schematic diagram for explaining a method of measuring Cmax and Cb of an R element in surface diffusion particles according to a conventional example,
FIG. 4 is a TEM photograph of surface diffusion particles according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a graph showing the concentration distribution of the R element of the surface diffusion particles according to the examples and comparative examples of the present invention.
積層セラミックコンデンサ1
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよい。
Multilayer ceramic capacitor 1
As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 1 according to an embodiment of the present invention includes a
内部電極層3は、各端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。また、一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
The
誘電体層2
誘電体層2は、本発明の誘電体磁器組成物を含有する。
本発明の誘電体磁器組成物は、チタン酸バリウムを含む主成分と、
BaZrO3 を含む第1副成分と、
Mgの酸化物を含む第2副成分と、
Rの酸化物(ただし、Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を含む第3副成分と、
Mn、Cr、CoおよびFeから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第4副成分と、
Si、Al、Ge、BおよびLiから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第5副成分と、を有するものである。
The
The dielectric ceramic composition of the present invention comprises a main component containing barium titanate,
A first subcomponent comprising BaZrO 3 ;
A second subcomponent comprising an oxide of Mg;
R oxide (where R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu) A third subcomponent comprising
A fourth subcomponent comprising an oxide of at least one element selected from Mn, Cr, Co and Fe;
And a fifth subcomponent including an oxide of at least one element selected from Si, Al, Ge, B, and Li.
主成分として含有されるチタン酸バリウムとしては、たとえば、組成式Bam TiO2+m で表され、前記組成式中のmが、0.990<m<1.010であり、BaとTiとの比が0.990<Ba/Ti<1.010であるものなどを用いることができる。 The barium titanate contained as the main component is represented by, for example, the composition formula Ba m TiO 2 + m , and m in the composition formula is 0.990 <m <1.010, and the ratio of Ba to Ti Can be used such that is 0.990 <Ba / Ti <1.010.
第1副成分(BaZrO3 )の含有量は、主成分100モルに対して、BaZrO3 換算で、好ましくは9〜13モルであり、より好ましくは10〜13モルである。第1副成分は、主に、主成分であるチタン酸バリウムの強誘電性を抑制する効果を有する。第1副成分の含有量が少なすぎると、電圧印加時における温度特性が悪化する傾向にあり、一方、多すぎると比誘電率が低下する傾向にある。 The content of the first subcomponent (BaZrO 3 ) is preferably 9 to 13 mol and more preferably 10 to 13 mol in terms of BaZrO 3 with respect to 100 mol of the main component. The first subcomponent mainly has an effect of suppressing the ferroelectricity of the main component barium titanate. If the content of the first subcomponent is too small, the temperature characteristics at the time of voltage application tend to deteriorate, while if too large, the relative dielectric constant tends to decrease.
第2副成分(Mgの酸化物)の含有量は、主成分100モルに対して、MgO換算で、好ましくは2.7〜5.7モル、より好ましくは4.0〜5.7モルである。第2副成分は、主に、主成分であるチタン酸バリウムの強誘電性を抑制する効果を有する。第2副成分の含有量が少なすぎると、電圧印加時における温度特性が悪化する傾向にあり、一方、多すぎると比誘電率が低下する傾向にある。 The content of the second subcomponent (Mg oxide) is preferably 2.7 to 5.7 mol, more preferably 4.0 to 5.7 mol in terms of MgO with respect to 100 mol of the main component. is there. The second subcomponent mainly has an effect of suppressing the ferroelectricity of the main component barium titanate. If the content of the second subcomponent is too small, the temperature characteristics at the time of voltage application tend to deteriorate, while if too large, the relative dielectric constant tends to decrease.
第3副成分(Rの酸化物)の含有量は、主成分100モルに対して、R2 O3 換算で、好ましくは4.5〜5.5モルであり、より好ましくは4.7〜5.5モルである。第3副成分は、主に、主成分であるチタン酸バリウムの強誘電性を抑制する効果を有する。第3副成分の含有量が少なすぎると、電圧印加時における温度特性が悪化する傾向にあり、一方、多すぎると比誘電率が低下する傾向にある。なお、上記Rの酸化物を構成するR元素としては、Gd、Tb、Eu、Y、La、Ceから選択される少なくとも1種がより好ましく、Gdが特に好ましい。
The content of the third subcomponent (oxide of R), relative to 100 moles of the main component in
第4副成分(Mn、Cr、CoおよびFeの酸化物)の含有量は、主成分100モルに対して、MnO、Cr2 O3 、Co3 O4 またはFe2 O3 換算で、好ましくは0.5〜1.5モルであり、より好ましくは0.7〜1.2モルである。第4副成分の含有量が少なすぎても、また多すぎても、絶縁抵抗が低下する傾向にある。なお、第4副成分としては、上記各酸化物のなかでも特性の改善効果が大きいという点から、Mnの酸化物を用いることが好ましい。 The content of the fourth subcomponent (oxide of Mn, Cr, Co and Fe) is preferably in terms of MnO, Cr 2 O 3 , Co 3 O 4 or Fe 2 O 3 with respect to 100 mol of the main component. It is 0.5-1.5 mol, More preferably, it is 0.7-1.2 mol. If the content of the fourth subcomponent is too small or too large, the insulation resistance tends to decrease. As the fourth subcomponent, it is preferable to use an oxide of Mn from the viewpoint that the effect of improving the characteristics is large among the above oxides.
第5副成分(Si、Al、Ge、BおよびLiの酸化物)の含有量は、主成分100モルに対して、SiO2 、Al2 O3 、GeO2 、B2 O3 またはLi2O換算で、好ましくは3.0〜3.9モルである。第5副成分の含有量が少なすぎると、焼結性が悪化する傾向にある。一方、多すぎると、比誘電率が低下する傾向にある。なお、第5副成分としては、上記各酸化物のなかでも特性の改善効果が大きいという点から、Siの酸化物を用いることが好ましい。 The content of the fifth subcomponent (oxide of Si, Al, Ge, B and Li) is SiO 2 , Al 2 O 3 , GeO 2 , B 2 O 3 or Li 2 O with respect to 100 mol of the main component. It is preferably 3.0 to 3.9 mol in terms of conversion. If the content of the fifth subcomponent is too small, the sinterability tends to deteriorate. On the other hand, if the amount is too large, the relative permittivity tends to decrease. As the fifth subcomponent, it is preferable to use an oxide of Si from the viewpoint that the effect of improving the characteristics is large among the above oxides.
誘電体粒子の構造
本実施形態においては、上記の誘電体層2に含有される誘電体粒子のうち、少なくとも一部の粒子は、図2に示すような、表面拡散構造を有する表面拡散粒子20となっており、隣り合う粒子の間に結晶粒界22が存在する。表面拡散粒子20は、チタン酸バリウムを主成分として含有する中心層20aと、中心層20aの周囲に存在し、チタン酸バリウムにチタン酸バリウム以外の成分が拡散している拡散層20bと、から構成される。中心層20aは実質的にチタン酸バリウムからなっているため、強誘電特性を示す。一方、拡散層20bには、主に、上記の副成分として添加される元素がチタン酸バリウム中に拡散(固溶)しているため、強誘電特性が失われ、常誘電特性を示す。本実施形態では、拡散層20bには、Rの元素が存在しており、それ以外の副成分元素も存在していると考えられる。
Structure of Dielectric Particle In the present embodiment, at least some of the dielectric particles contained in the
誘電体粒子が、上記の表面拡散構造を有しているか否かは、たとえば、誘電体粒子について、透過型電子顕微鏡(TEM)に付属のエネルギー分散型X線分光装置を用いて分析することにより判断することができる。具体的には、まず、誘電体粒子に対して、該粒子の略中心を通る直線上に線分析を行い、各元素の濃度分布を得る。次いで、直線を90度ずらして同一の粒子に対して、再度線分析を行う。そして、得られた濃度分布から、たとえば、副成分元素の濃度が急激に減少している領域、すなわち、中心層20aが存在するか否かを判断する。
Whether or not the dielectric particles have the above-described surface diffusion structure is determined by, for example, analyzing the dielectric particles using an energy dispersive X-ray spectrometer attached to a transmission electron microscope (TEM). Judgment can be made. Specifically, first, the dielectric particles are subjected to line analysis on a straight line passing through the approximate center of the particles to obtain the concentration distribution of each element. Next, the line analysis is performed again on the same particle with the straight line shifted by 90 degrees. Then, from the obtained concentration distribution, for example, it is determined whether or not there is a region where the concentration of the subcomponent element is rapidly decreased, that is, the
誘電体粒子をこのような構造とすると、常誘電性を示す拡散層20bが、中心層20aの周囲に存在することにより、たとえば、印加される直流電圧は誘電率の低い拡散層20bに掛かるため、絶縁抵抗の減少を抑制することができる。しかも、強誘電性を示す中心層20aの存在により、高い比誘電率をも実現することができる。
If the dielectric particles have such a structure, the
上記構成を有する表面拡散粒子20の存在割合は、誘電体層2を構成する全誘電体粒子の個数を100%とした場合に、個数割合で、好ましくは50〜100%、より好ましくは70〜100%である。
The abundance ratio of the
本発明に係る表面拡散構造を有する誘電体粒子においては、Rの元素(Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)について、拡散層20bの界面近傍点における濃度よりも高い濃度を示す部分が、拡散層20b内に存在していることが特徴的である。また、副成分元素であるR元素は、中心層20aにはほとんど拡散していないため、中心層20aにおけるR元素の濃度は、拡散層20bにおける濃度より低い。したがって、本発明においては、誘電体粒子の中心部からその表面に向かうにつれ、R元素の濃度分布は山型を示すこととなる。
In the dielectric particles having a surface diffusion structure according to the present invention, R elements (R is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, As for at least one selected from Tm, Yb, and Lu, it is characteristic that a portion showing a concentration higher than the concentration at the interface vicinity point of the
R元素が、このような特徴的な濃度分布を示すことにより、比誘電率や電歪量を良好に維持しつつ、高温、たとえば125℃における容量温度変化率を向上させることができる。 When the R element exhibits such a characteristic concentration distribution, it is possible to improve the capacity temperature change rate at a high temperature, for example, 125 ° C., while maintaining a good dielectric constant and electrostriction.
本実施形態では、R元素が山型の濃度分布を示すか否かの判断は、以下のようにして行う。 In the present embodiment, whether or not the R element exhibits a mountain-shaped concentration distribution is determined as follows.
図3(A)に示すように、上記表面拡散構造を有する誘電体粒子に対して、該粒子の端から略中心まで、好ましくは、該粒子の略中心を通るように粒子の端から端までの一直線上をTEMに付属のエネルギー分散型X線分光装置で線分析を行い、線上の各点におけるR元素の濃度を測定する。このとき、界面近傍点Bと、界面近傍点Bとは異なる拡散層内の任意の点Xとの少なくとも2点において、分析を行う。 As shown in FIG. 3A, with respect to the dielectric particles having the above surface diffusion structure, from the end of the particle to the substantial center, preferably from the end of the particle so as to pass through the approximate center of the particle. A line analysis is performed on the straight line with an energy dispersive X-ray spectrometer attached to the TEM, and the concentration of R element at each point on the line is measured. At this time, the analysis is performed at at least two points of the interface vicinity point B and an arbitrary point X in the diffusion layer different from the interface vicinity point B.
なお、界面近傍点Bは、結晶粒界から誘電体粒子の略中心に向かう方向に、結晶粒界の界面から該誘電体粒子の粒子径の5%の距離に位置する点とする。 The interface vicinity point B is a point located at a distance of 5% of the particle diameter of the dielectric particle from the interface of the crystal grain boundary in the direction from the crystal grain boundary to the approximate center of the dielectric particle.
そして、拡散層内の任意の点X1、X2・・Xn(nは1以上)におけるR元素の濃度C1、C2・・Cn(nは1以上)のうち、最大値Cmaxと、界面近傍点BにおけるR元素の濃度Cbと、を比較し、CmaxがCbよりも大きい、すなわち、Cmax/Cb>1であれば、R元素が山型の濃度分布を示すと判断する。Cmax以外のすべてのCnが、Cbよりも小さい場合であっても、CmaxがCbよりも大きければよい。任意の点Xは、拡散層20b内であれば1点のみでもよいが、好ましくは5点以上である。また、任意の点Xのうちの1点が、拡散層20bと中心層20aの境界点Aであることが好ましい。さらに、境界点AにおけるRの元素の濃度をCaとすると、好ましくはCmax/Ca≧1、さらに好ましくはCmax/Ca>1である。
The maximum value Cmax and the interface vicinity point B among the concentrations C1, C2,... Cn (n is 1 or more) of the R element at arbitrary points X1, X2... Xn (n is 1 or more) in the diffusion layer. Is compared with the concentration Cb of the R element, and if Cmax is larger than Cb, that is, if Cmax / Cb> 1, it is determined that the R element exhibits a mountain-shaped concentration distribution. Even if all Cn other than Cmax are smaller than Cb, it is only necessary that Cmax is larger than Cb. The arbitrary point X may be only one point as long as it is in the
好ましくは、1.1≦Cmax/Cb≦4.8である。Cmax/Cbが小さすぎると、容量温度特性が悪化する傾向にある。また、Cmax/Cbが大きすぎると、容量温度特性が悪化する傾向にある。 Preferably, 1.1 ≦ Cmax / Cb ≦ 4.8. When Cmax / Cb is too small, the capacity-temperature characteristic tends to deteriorate. Further, if Cmax / Cb is too large, the capacity-temperature characteristic tends to deteriorate.
なお、上記の線分析を該粒子の端から略中心までの一直線上において行った場合には、1箇所におけるR元素の濃度分布が得られ、上記の線分析を該粒子の略中心を通るように粒子の端から端までの一直線上において行った場合には、粒子の中心層を挟んで対向する2箇所におけるR元素の濃度分布が得られることとなる。本実施形態では、上記の線分析を該粒子の略中心を通るように粒子の端から端までの一直線上において行い、その後90度ずらしてさらに線分析を行うことが好ましい。この場合においては、拡散層20bの4箇所におけるR元素の濃度分布が得られることとなる。
When the above line analysis is performed on a straight line from the end of the particle to the approximate center, a concentration distribution of R element at one location is obtained, and the above line analysis passes through the approximate center of the particle. In addition, when it is performed on a straight line from the end of the particle to the end of the particle, the concentration distribution of the R element at two locations facing each other across the central layer of the particle is obtained. In the present embodiment, it is preferable that the above line analysis is performed on a straight line from the end of the particle so as to pass through the approximate center of the particle, and then the line analysis is further performed by shifting by 90 degrees. In this case, the concentration distribution of the R element at four locations of the
そして、得られた濃度分布のうち、R元素が山型の濃度分布を示す箇所が1箇所でもあれば、該粒子において、R元素が山型の濃度分布を示すと判断する。上記の線分析は、少なくとも10個、好ましくは20個以上の誘電体粒子について行う。R元素が山型の濃度分布を示すか否かの判断と、上述した表面拡散構造を有するか否かの判断と、は同時に行うのが好ましい。 In the obtained concentration distribution, if there is at least one portion where the R element exhibits a mountain-shaped concentration distribution, it is determined that the R element exhibits a mountain-shaped concentration distribution in the particle. The above line analysis is performed on at least 10, preferably 20 or more dielectric particles. It is preferable that the determination as to whether or not the R element has a mountain-shaped concentration distribution and the determination as to whether or not it has the above-described surface diffusion structure be performed simultaneously.
なお、従来例に係る表面拡散構造を有する誘電体粒子においては、図3(B)に示すように、通常、粒子の中心部あるいは拡散層20bと中心層20aとの境界領域から、拡散層20bの表面に至るまでは、拡散層20bに拡散した副成分元素は、その濃度が徐々に高くなる構成となっている。すなわち、Cmax/Cb≦1である。
In the dielectric particles having the surface diffusion structure according to the conventional example, as shown in FIG. 3B, the
上述した拡散層20bにおけるR元素の山型の濃度分布は、後述するが、副成分の原料の仮焼の有無、焼成条件の制御等により、R元素の拡散を制御し実現することができる。
The mountain-shaped concentration distribution of the R element in the
誘電体層2に含有される誘電体粒子の平均粒子径は、以下のようにして測定される。すなわち、コンデンサ素子本体10を誘電体層2および内部電極層3の積層方向に切断し、その断面において誘電体粒子の平均面積を測定し、円相当径として直径を算出し1.5倍した値である。200個以上の誘電体粒子について測定し、得られた粒径の累積度数分布から累積が50%となる値を平均粒子径(単位:μm)とした。
The average particle diameter of the dielectric particles contained in the
本実施形態では、平均粒子径は、誘電体層2の厚さなどに応じて決定すればよいが、好ましくは、1.5μm以下である。
In the present embodiment, the average particle diameter may be determined according to the thickness of the
内部電極層3
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、比較的安価な卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。また、内部電極層3は、市販の電極用ペーストを使用して形成してもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよい。
The conductive material contained in the
外部電極4
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本発明では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよい。
External electrode 4
The conductive material contained in the external electrode 4 is not particularly limited, but in the present invention, inexpensive Ni, Cu, and alloys thereof can be used. What is necessary is just to determine the thickness of the external electrode 4 suitably according to a use etc.
積層セラミックコンデンサ1の製造方法
本実施形態の積層セラミックコンデンサ1は、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor 1 The multilayer ceramic capacitor 1 of the present embodiment is the same as a conventional multilayer ceramic capacitor. After producing a green chip by a normal printing method or a sheet method using a paste and firing it, It is manufactured by printing or transferring an external electrode and firing. Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described.
まず、誘電体層用ペーストに含まれる誘電体原料(誘電体磁器組成物粉末)を準備し、これを塗料化して、誘電体層用ペーストを調製する。 First, a dielectric material (dielectric ceramic composition powder) contained in the dielectric layer paste is prepared, and this is made into a paint to prepare a dielectric layer paste.
誘電体層用ペーストは、誘電体原料と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。 The dielectric layer paste may be an organic paint obtained by kneading a dielectric material and an organic vehicle, or may be a water-based paint.
誘電体原料としては、上記した主成分および副成分の酸化物やその混合物、複合酸化物を用いることができるが、その他、焼成により上記した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、たとえば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。誘電体原料中の各化合物の含有量は、焼成後に上記した誘電体磁器組成物の組成となるように決定すればよい。塗料化する前の状態で、誘電体原料の粒径は、通常、平均粒径0.1〜1μm程度である。 As the dielectric material, the above-mentioned main component and subcomponent oxides, mixtures thereof, and composite oxides can be used. In addition, various compounds that become the above oxides or composite oxides by firing, such as carbonic acid, can be used. A salt, an oxalate salt, a nitrate salt, a hydroxide, an organometallic compound, or the like can be selected as appropriate and used in combination. What is necessary is just to determine content of each compound in a dielectric material so that it may become a composition of an above-mentioned dielectric ceramic composition after baking. In the state before forming a paint, the particle size of the dielectric material is usually about 0.1 to 1 μm in average particle size.
主成分原料としてのチタン酸バリウム粉末は、いわゆる固相法の他、各種液相法(たとえば、シュウ酸塩法、水熱合成法、アルコキシド法、ゾルゲル法など)により製造されたものなど、種々の方法で製造されたものを用いることができる。
なお、副成分の原料として上記の原料をそのまま主成分原料に添加して誘電体原料としてもよいが、好ましくは、副成分の原料のみを予め仮焼きし、仮焼き後の原料を主成分原料に添加して誘電体原料とする。
The barium titanate powder as the main ingredient is various, such as those produced by various liquid phase methods (for example, oxalate method, hydrothermal synthesis method, alkoxide method, sol-gel method, etc.) in addition to the so-called solid phase method. What was manufactured by the method of can be used.
The above-mentioned raw materials may be added as they are to the main component raw materials as the subcomponent raw materials, but it is preferable to calcine only the subcomponent raw materials in advance and use the calcined raw materials as the main component raw materials. To make a dielectric material.
有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。 An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from usual various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. The organic solvent to be used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, toluene, and the like according to a method to be used such as a printing method or a sheet method.
また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、たとえば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。 Further, when the dielectric layer paste is used as a water-based paint, a water-based vehicle in which a water-soluble binder or a dispersant is dissolved in water and a dielectric material may be kneaded. The water-soluble binder used for the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, etc. may be used.
内部電極層用ペーストは、上記した各種導電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。 The internal electrode layer paste is prepared by kneading the above-mentioned organic vehicle with various conductive metals and alloys as described above, or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. that become the above-mentioned conductive materials after firing. Prepare.
外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。 The external electrode paste may be prepared in the same manner as the internal electrode layer paste described above.
上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、たとえば、バインダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度とすればよい。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10重量%以下とすることが好ましい。 There is no restriction | limiting in particular in content of the organic vehicle in each above-mentioned paste, For example, what is necessary is just about 1-5 weight% of binders, for example, about 10-50 weight% of binders. Each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators, and the like as necessary. The total content of these is preferably 10% by weight or less.
印刷法を用いる場合、誘電体層用ペーストおよび内部電極層用ペーストを、PET等の基板上に印刷、積層し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。 When the printing method is used, the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste are printed and laminated on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip.
また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層してグリーンチップとする。 When the sheet method is used, a dielectric layer paste is used to form a green sheet, the internal electrode layer paste is printed thereon, and these are stacked to form a green chip.
焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ条件としては、昇温速度を好ましくは5〜300℃/時間、保持温度を好ましくは180〜400℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜24時間とする。また、焼成雰囲気は、空気もしくは還元性雰囲気とする。 Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. As binder removal conditions, the temperature rising rate is preferably 5 to 300 ° C./hour, the holding temperature is preferably 180 to 400 ° C., and the temperature holding time is preferably 0.5 to 24 hours. The firing atmosphere is air or a reducing atmosphere.
グリーンチップの焼成は、還元性雰囲気とすることが好ましく、雰囲気ガスとしてはたとえば、N2 とH2 との混合ガスを加湿して用いることができる。その他の条件は、以下のようにするのが好ましい。 The firing of the green chip is preferably performed in a reducing atmosphere. As the atmosphere gas, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 can be used by humidification. Other conditions are preferably as follows.
まず、昇温速度は、好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは200〜400℃/時間である。また、焼成時の保持温度に達するまで、昇温速度を変化させることが好ましい。具体的には、たとえば、800℃までは、200℃/時間とし、800℃〜1000℃までは、300℃/時間とし、1000℃から保持温度までは、400℃/時間とすることができる。 First, the rate of temperature rise is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 400 ° C./hour. Moreover, it is preferable to change a temperature increase rate until it reaches the holding temperature at the time of firing. Specifically, for example, the temperature can be 200 ° C./hour up to 800 ° C., 300 ° C./hour from 800 ° C. to 1000 ° C., and 400 ° C./hour from 1000 ° C. to the holding temperature.
焼成時の保持温度は、好ましくは1000〜1400℃、より好ましくは1200〜1350℃であり、その保持時間は、好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは1〜3時間である。保持温度が上記範囲未満であると緻密化が不十分となり、前記範囲を超えると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れや、内部電極層構成材料の拡散による容量温度特性の悪化、誘電体磁器組成物の還元が生じやすくなる。
焼成時の酸素分圧は、内部電極層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、焼成雰囲気中の酸素分圧は、10−14〜10−10MPaとすることが好ましい。酸素分圧が上記範囲未満であると、内部電極層の導電材が異常焼結を起こし、途切れてしまうことがある。また、酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。
The holding temperature during firing is preferably 1000 to 1400 ° C, more preferably 1200 to 1350 ° C, and the holding time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 3 hours. If the holding temperature is lower than the above range, the densification becomes insufficient. If the holding temperature is higher than the above range, the electrode is interrupted due to abnormal sintering of the internal electrode layer, the capacity temperature characteristic is deteriorated due to diffusion of the constituent material of the internal electrode layer, and the dielectric Reduction of the body porcelain composition is likely to occur.
The oxygen partial pressure during firing may be appropriately determined according to the type of the conductive material in the internal electrode layer paste, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, the oxygen content in the firing atmosphere The pressure is preferably 10 −14 to 10 −10 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the conductive material of the internal electrode layer may be abnormally sintered and may be interrupted. Further, when the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized.
降温速度は、好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは200〜400℃/時間である。降温速度も、昇温速度と同様に、室温に達するまで、昇温速度を変化させることが好ましい。具体的には、たとえば、保持温度から1000℃までは、400℃/時間とし、1000℃〜800℃までは、300℃/時間とし、800℃以下は、200℃/時間とすることができる。 The rate of temperature reduction is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 400 ° C./hour. Similarly to the temperature rising rate, the temperature decreasing rate is preferably changed until the temperature reaches room temperature. Specifically, for example, the temperature from the holding temperature to 1000 ° C. can be 400 ° C./hour, the temperature from 1000 ° C. to 800 ° C. can be 300 ° C./hour, and the temperature below 800 ° C. can be 200 ° C./hour.
本実施形態では、副成分の原料粉末の添加量、副成分の原料の仮焼の有無、上記の焼成条件の制御等を組み合わせることにより、拡散層20b内に存在する特定の副成分の拡散度合いを制御することができる。その結果、R元素について、Cmax/Cb>1を満足する特徴的な濃度分布を得ることができる。
In the present embodiment, the degree of diffusion of a specific subcomponent present in the
還元性雰囲気中で焼成した後、コンデンサ素子本体にはアニールを施すことが好ましい。アニールは、誘電体層を再酸化するための処理であり、これによりIR寿命を著しく長くすることができるので、信頼性が向上する。 After firing in a reducing atmosphere, the capacitor element body is preferably annealed. Annealing is a process for re-oxidizing the dielectric layer, and this can significantly increase the IR lifetime, thereby improving the reliability.
アニール雰囲気中の酸素分圧は、10−9〜10−5MPaとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると誘電体層の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層の酸化が進行する傾向にある。 The oxygen partial pressure in the annealing atmosphere is preferably 10 −9 to 10 −5 MPa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, it is difficult to re-oxidize the dielectric layer, and when it exceeds the above range, oxidation of the internal electrode layer tends to proceed.
アニールの際の保持温度は、1100℃以下、特に500〜1100℃とすることが好ましい。保持温度が上記範囲未満であると誘電体層の酸化が不十分となるので、IRが低く、また、IR寿命が短くなりやすい。一方、保持温度が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化して容量が低下するだけでなく、内部電極層が誘電体素地と反応してしまい、容量温度特性の悪化、IRの低下、IR寿命の低下が生じやすくなる。なお、アニールは昇温過程および降温過程だけから構成してもよい。すなわち、温度保持時間を零としてもよい。この場合、保持温度は最高温度と同義である。 The holding temperature at the time of annealing is preferably 1100 ° C. or less, particularly 500 to 1100 ° C. When the holding temperature is lower than the above range, the dielectric layer is not sufficiently oxidized, so that the IR is low and the IR life tends to be short. On the other hand, if the holding temperature exceeds the above range, not only the internal electrode layer is oxidized and the capacity is lowered, but the internal electrode layer reacts with the dielectric substrate, the capacity temperature characteristic is deteriorated, the IR is lowered, the IR Life is likely to decrease. Note that annealing may be composed of only a temperature raising process and a temperature lowering process. That is, the temperature holding time may be zero. In this case, the holding temperature is synonymous with the maximum temperature.
これ以外のアニール条件としては、温度保持時間を好ましくは0〜20時間、より好ましくは2〜10時間、降温速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは100〜300℃/時間とする。また、アニールの雰囲気ガスとしては、たとえば、加湿したN2 ガス等を用いることが好ましい。 As other annealing conditions, the temperature holding time is preferably 0 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours, and the cooling rate is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 100 to 300 ° C./hour. . Further, as the annealing atmosphere gas, for example, humidified N 2 gas or the like is preferably used.
上記した脱バインダ処理、焼成およびアニールにおいて、N2 ガスや混合ガス等を加湿するには、たとえばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5〜75℃程度が好ましい。 In the above-described binder removal processing, firing and annealing, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas or mixed gas. In this case, the water temperature is preferably about 5 to 75 ° C.
脱バインダ処理、焼成およびアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。 The binder removal treatment, firing and annealing may be performed continuously or independently.
上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、例えばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを塗布して焼成し、外部電極4を形成する。そして、必要に応じ、外部電極4表面に、めっき等により被覆層を形成する。 The capacitor element main body obtained as described above is subjected to end face polishing, for example, by barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is applied and fired to form the external electrode 4. Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like.
このようにして製造された本実施形態の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。 The multilayer ceramic capacitor of this embodiment manufactured in this way is mounted on a printed circuit board or the like by soldering or the like and used for various electronic devices.
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the embodiment mentioned above at all, and can be variously modified within the range which does not deviate from the summary of this invention.
たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記構成の誘電体層を有するものであれば何でも良い。 For example, in the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the electronic component according to the present invention. However, the electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and has a dielectric layer having the above configuration. Anything is fine.
また、上述の実施形態では、Rの元素の濃度が、Cmax/Cb>1を満足する場合について述べているが、他の副成分元素の濃度が、Cmax/Cb>1を満足するように上記の各条件を制御してもよい。 In the above-described embodiment, the case where the concentration of the element of R satisfies Cmax / Cb> 1 has been described. However, the concentration of the other subcomponent element is set so as to satisfy Cmax / Cb> 1. These conditions may be controlled.
特に、Rの元素の濃度と、第2副成分に含まれるMgの濃度とが、同時にCmax/Cb>1を満足する場合には、容量温度変化率だけでなく、IR寿命をも良好とすることができる。 In particular, when the concentration of the element of R and the concentration of Mg contained in the second subcomponent simultaneously satisfy Cmax / Cb> 1, not only the capacity-temperature change rate but also the IR lifetime is improved. be able to.
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。 Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
実施例1
まず、主成分の原料として、BaTiO3 粉末を、副成分の原料として、BaZrO3 、MgCO3 、Gd2 O3 、MnOおよびSiO2 を、それぞれ準備した。次に、上記で準備した副成分の原料のみを、1000℃で仮焼きした。この仮焼き後の原料と、主成分の原料とをボールミルで15時間、湿式粉砕し、乾燥して、誘電体原料を得た。なお、各副成分の添加量は、主成分であるBaTiO3 100モルに対して、表1に示す量とした。
なお、表1に示す量は、複合酸化物(第1副成分)または各酸化物(第1〜第5副成分)換算の量である。また、第2副成分であるMgCO3 は、焼成後には、MgOとして誘電体磁器組成物中に含有されることとなる。
Example 1
First, BaTiO 3 powder was prepared as a main component material, and BaZrO 3 , MgCO 3 , Gd 2 O 3 , MnO and SiO 2 were prepared as subcomponent materials. Next, only the auxiliary component materials prepared above were calcined at 1000 ° C. The calcined raw material and the main component raw material were wet pulverized in a ball mill for 15 hours and dried to obtain a dielectric raw material. The addition amount of each subcomponent, with respect to
In addition, the amount shown in Table 1 is the amount in terms of complex oxide (first subcomponent) or each oxide (first to fifth subcomponent). Further, MgCO 3 as the second subcomponent will be contained in the dielectric ceramic composition as MgO after firing.
次いで、得られた誘電体原料:100重量部と、ポリビニルブチラール樹脂:10重量部と、可塑剤としてのジブチルフタレート(DOP):5重量部と、溶媒としてのアルコール:100重量部とをボールミルで混合してペースト化し、誘電体層用ペーストを得た。 Next, the obtained dielectric material: 100 parts by weight, polyvinyl butyral resin: 10 parts by weight, dibutyl phthalate (DOP) as a plasticizer: 5 parts by weight, and alcohol as a solvent: 100 parts by weight with a ball mill The mixture was made into a paste to obtain a dielectric layer paste.
また、上記とは別に、Ni粒子:44.6重量部と、テルピネオール:52重量部と、エチルセルロース:3重量部と、ベンゾトリアゾール:0.4重量部とを、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極層用ペーストを作製した。 In addition to the above, Ni particles: 44.6 parts by weight, terpineol: 52 parts by weight, ethyl cellulose: 3 parts by weight, and benzotriazole: 0.4 parts by weight are kneaded with three rolls to obtain a slurry. Thus, an internal electrode layer paste was produced.
そして、上記にて作製した誘電体層用ペーストを用いて、PETフィルム上に、乾燥後の厚みが30μmとなるようにグリーンシートを形成した。次いで、この上に内部電極層用ペーストを用いて、電極層を所定パターンで印刷した後、PETフィルムからシートを剥離し、電極層を有するグリーンシートを作製した。次いで、電極層を有するグリーンシートを複数枚積層し、加圧接着することによりグリーン積層体とし、このグリーン積層体を所定サイズに切断することにより、グリーンチップを得た。 Then, using the dielectric layer paste prepared above, a green sheet was formed on the PET film so that the thickness after drying was 30 μm. Next, the electrode layer was printed in a predetermined pattern using the internal electrode layer paste thereon, and then the sheet was peeled off from the PET film to produce a green sheet having the electrode layer. Next, a plurality of green sheets having electrode layers were laminated and pressure-bonded to obtain a green laminated body, and the green laminated body was cut into a predetermined size to obtain a green chip.
次いで、得られたグリーンチップについて、脱バインダ処理、焼成およびアニールを下記条件にて行って、積層セラミック焼成体を得た。
脱バインダ処理条件は、昇温速度:25℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。
焼成は、昇温速度は、800℃までは、200℃/時間とし、800℃〜1000℃までは、300℃/時間とし、1000℃から保持温度までは、400℃/時間とした。また、保持温度は、1220〜1320℃とし、降温速度は、昇温速度と同様にした。なお、雰囲気ガスは、加湿したN2 +H2 混合ガスとし、酸素分圧が10−12MPaとなるようにした。
アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、降温速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 ガス(酸素分圧:10−7MPa)とした。
なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用いた。
Next, the obtained green chip was subjected to binder removal treatment, firing and annealing under the following conditions to obtain a multilayer ceramic fired body.
The binder removal treatment conditions were temperature rising rate: 25 ° C./hour, holding temperature: 260 ° C., temperature holding time: 8 hours, and atmosphere: in the air.
The firing rate was 200 ° C./hour up to 800 ° C., 300 ° C./hour from 800 ° C. to 1000 ° C., and 400 ° C./hour from 1000 ° C. to the holding temperature. The holding temperature was 1220 to 1320 ° C., and the temperature lowering rate was the same as the temperature rising rate. The atmospheric gas was a humidified N 2 + H 2 mixed gas, and the oxygen partial pressure was 10 −12 MPa.
The annealing conditions were: temperature rising rate: 200 ° C./hour, holding temperature: 1000 ° C., temperature holding time: 2 hours, temperature falling rate: 200 ° C./hour, atmospheric gas: humidified N 2 gas (oxygen partial pressure: 10 −7 MPa).
A wetter was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.
次いで、得られた積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨した後、外部電極としてIn−Gaを塗布し、図1に示す積層セラミックコンデンサの試料を得た。得られたコンデンサ試料のサイズは、3.2mm×1.6mm×0.6mmであり、誘電体層の厚み20μm、内部電極層の厚み1.5μm、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は10とした。なお、本実施例では、表1に示すように、各副成分の添加量を変化させた複数の試料を作製した。 Next, after polishing the end face of the obtained multilayer ceramic fired body by sand blasting, In-Ga was applied as an external electrode to obtain a sample of the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. The size of the obtained capacitor sample is 3.2 mm × 1.6 mm × 0.6 mm, the thickness of the dielectric layer is 20 μm, the thickness of the internal electrode layer is 1.5 μm, and the dielectric layer sandwiched between the internal electrode layers is The number was 10. In this example, as shown in Table 1, a plurality of samples in which the addition amount of each subcomponent was changed were prepared.
得られた各コンデンサ試料について、拡散層におけるGd元素の濃度測定を下記に示す方法で行った。次に、比誘電率(εs)、容量温度変化率および電圧印加による電歪量を下記に示す方法により測定した。 About each obtained capacitor | condenser sample, the density | concentration measurement of the Gd element in a diffused layer was performed by the method shown below. Next, the relative dielectric constant (εs), the rate of change in capacitance temperature, and the amount of electrostriction due to voltage application were measured by the following methods.
拡散層におけるR元素の濃度測定
各試料について、任意の表面拡散粒子10個を選択し、透過型電子顕微鏡(TEM)に付属のエネルギー分散型X線分光装置を用いて線分析を行うことにより、Gd元素の拡散層における濃度分布を測定した。まず、誘電体粒子の略中心を通るように粒子の端から端まで一直線上で線分析を行い、その後90度ずらして同一の粒子に対して、線分析を行った。このとき、界面近傍点および拡散層と中心層との境界点を含めて拡散層中の8点について分析した。
Measurement of concentration of R element in diffusion layer For each sample, by selecting 10 arbitrary surface diffusion particles and performing line analysis using an energy dispersive X-ray spectrometer attached to a transmission electron microscope (TEM), The concentration distribution of the Gd element in the diffusion layer was measured. First, line analysis was performed in a straight line from the end to the end of the particle so as to pass through the approximate center of the dielectric particle, and then the line analysis was performed on the same particle with a 90 ° shift. At this time, 8 points in the diffusion layer were analyzed including points near the interface and boundary points between the diffusion layer and the central layer.
すなわち、界面近傍点におけるGd元素の濃度がCbであり、上記境界点の2点を除く6点のなかで、Gd元素の濃度の最大値がCmaxである。 That is, the concentration of the Gd element at the interface vicinity point is Cb, and the maximum value of the concentration of the Gd element is Cmax among 6 points excluding 2 points of the boundary point.
拡散層において得られた4箇所のGdの濃度分布のうち、1箇所でも山型の濃度分布を示す場合には、該粒子は、Gd元素の山型の濃度分布を示すと判断した。結果を表1に示す。なお、表1における(Cmax/Cb)値は、測定した4箇所の(Cmax/Cb)値のうち、最大値を示す。 When one of the four Gd concentration distributions obtained in the diffusion layer showed a mountain-shaped concentration distribution, the particle was judged to exhibit a mountain-shaped concentration distribution of the Gd element. The results are shown in Table 1. In addition, the (Cmax / Cb) value in Table 1 indicates the maximum value among the four (Cmax / Cb) values measured.
なお、各コンデンサ試料について、上記の測定を行うと共に、誘電体粒子が表面拡散構造を有している割合を、透過型電子顕微鏡(TEM)に付属のエネルギー分散型X線分光装置を用いて線分析を行うことにより測定した。その結果、すべての試料について、その割合は60%以上であった。 For each capacitor sample, the above measurement was performed, and the ratio of the dielectric particles having a surface diffusion structure was measured using an energy dispersive X-ray spectrometer attached to a transmission electron microscope (TEM). It was measured by performing an analysis. As a result, the ratio was 60% or more for all samples.
比誘電率εs
コンデンサ試料に対し、25℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4284A)にて、周波数1kHz、入力信号レベル(測定電圧)1Vrmsの信号を入力し、静電容量Cを測定した。そして、比誘電率εs(単位なし)を、誘電体層の厚みと、有効電極面積と、測定の結果得られた静電容量Cとに基づき算出した。本実施例では、10個のコンデンサ試料を用いて算出した値の平均値を比誘電率とした。比誘電率は高いほうが好ましい。結果を表1に示す。
Dielectric constant εs
At 25 ° C., a capacitor having a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1 Vrms was input at 25 ° C. with a digital LCR meter (Y284, 4284A), and the capacitance C was measured. The relative dielectric constant εs (no unit) was calculated based on the thickness of the dielectric layer, the effective electrode area, and the capacitance C obtained as a result of the measurement. In this example, the average value of values calculated using 10 capacitor samples was taken as the relative dielectric constant. A higher dielectric constant is preferred. The results are shown in Table 1.
容量温度特性(TC)
コンデンサ試料に対し、125℃における静電容量を測定し、基準温度(25℃)における静電容量に対する変化率を算出した。変化率は小さいほうが好ましく、±25%以内であることが好ましい。結果を表1に示す。
Capacity temperature characteristics (TC)
The capacitance at 125 ° C. was measured for the capacitor sample, and the rate of change relative to the capacitance at the reference temperature (25 ° C.) was calculated. The rate of change is preferably as small as possible and is preferably within ± 25%. The results are shown in Table 1.
電圧印加による電歪量
まず、コンデンサ試料を、所定パターンの電極がプリントしてあるガラスエポキシ基板にハンダ付けすることにより固定した。次いで、基板に固定したコンデンサ試料に対して、AC:10Vrms/μm、周波数3kHzの条件で電圧を印加し、電圧印加時におけるコンデンサ試料表面の振動幅を測定し、これを電歪量とした。なお、コンデンサ試料表面の振動幅の測定には、レーザードップラー振動計を使用した。また、本実施例では、10個のコンデンサ試料を用いて測定した値の平均値を電歪量とした。電歪量は低いほうが好ましい。結果を表1に示す。
Electrostriction due to voltage application First, the capacitor sample was fixed by soldering to a glass epoxy substrate on which electrodes of a predetermined pattern were printed. Next, a voltage was applied to the capacitor sample fixed on the substrate under the conditions of AC: 10 Vrms / μm and a frequency of 3 kHz, and the vibration width of the capacitor sample surface at the time of voltage application was measured. A laser Doppler vibrometer was used to measure the vibration width of the capacitor sample surface. In this example, the average value of values measured using 10 capacitor samples was used as the amount of electrostriction. It is preferable that the amount of electrostriction is low. The results are shown in Table 1.
また、図4に、試料番号1の誘電体粒子のTEM写真を示す。TEM写真から、誘電体粒子に中心層と、その周囲を取り囲んでいる拡散層とが存在していることが確認できる。さらに、図5に、試料番号1、5および6に係る表面拡散粒子におけるGd元素の濃度分布のグラフを示す。 FIG. 4 shows a TEM photograph of the dielectric particles of sample number 1. From the TEM photograph, it can be confirmed that the center layer and the diffusion layer surrounding the periphery exist in the dielectric particles. Further, FIG. 5 shows a graph of the concentration distribution of the Gd element in the surface diffusion particles according to sample numbers 1, 5, and 6.
表1より、Gd元素についてのCmax/Cbが1より大きい試料(試料番号1〜4)は、比誘電率および電歪量が良好であり、かつ、125℃における容量温度変化率を良好とすることができる。一方、Cmax/Cbが1より小さい試料(試料番号5〜8)は、125℃における容量温度変化率が劣っていることが確認できる。また、図5より、試料番号1(実施例1)が、Cmax/Cb>1の関係を満足し、試料番号5および6(比較例5および6)が、本発明の範囲外であることが視覚的に確認することができる。さらに、試料番号1においては、中心層と拡散層との境界点AにおけるGd元素の濃度をCaとすると、Ca<Cb<Cmaxとなっていることが確認できる。
なお、図5に示す試料1、5および6についての濃度分布の測定は、中心層および拡散層の厚みが同じである誘電体粒子を選択して行った。
From Table 1, samples (sample numbers 1 to 4) having Cmax / Cb greater than 1 for the Gd element have good relative permittivity and electrostriction, and good capacity-temperature change rate at 125 ° C. be able to. On the other hand, it can be confirmed that the samples with the Cmax / Cb smaller than 1 (sample numbers 5 to 8) are inferior in the capacity temperature change rate at 125 ° C. Further, from FIG. 5, sample number 1 (Example 1) satisfies the relationship of Cmax / Cb> 1, and sample numbers 5 and 6 (Comparative Examples 5 and 6) are outside the scope of the present invention. It can be confirmed visually. Furthermore, in sample number 1, it is possible to confirm that Ca <Cb <Cmax is satisfied when the concentration of the Gd element at the boundary point A between the center layer and the diffusion layer is Ca.
Note that the measurement of the concentration distribution for samples 1, 5 and 6 shown in FIG. 5 was performed by selecting dielectric particles having the same thickness of the central layer and the diffusion layer.
実施例2
各副成分の含有量を表2に示す量とした以外は、実施例1と同様にして、コンデンサ試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表2に示す。
Example 2
A capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the content of each subcomponent was changed to the amount shown in Table 2, and the same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 2.
表2より、各副成分の含有量を変化させた場合、各副成分の含有量を本発明の好ましい範囲内とすることで、比誘電率と電歪量とを維持しつつ125℃における容量温度変化率をさらに良好とすることができる。これに対して、各副成分の含有量を本発明の範囲外とした試料は、容量温度変化率が若干劣る傾向にあることが確認できる。 From Table 2, when the content of each subcomponent is changed, the capacity at 125 ° C. is maintained while maintaining the relative permittivity and the amount of electrostriction by keeping the content of each subcomponent within the preferred range of the present invention. The temperature change rate can be further improved. On the other hand, it can be confirmed that the sample in which the content of each subcomponent is out of the range of the present invention tends to be slightly inferior in the capacity-temperature change rate.
実施例3
第3副成分のGdの代わりにR元素を表3に示す元素とし、各副成分の含有量を表3に示す量とした以外は、実施例1と同様にして、コンデンサ試料を作製し、実施例1と同様の特性評価を行った。結果を表3に示す。
Example 3
A capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the R element was replaced with the element shown in Table 3 instead of the third subcomponent Gd, and the content of each subcomponent was changed to the amount shown in Table 3. The same characteristic evaluation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 3.
表3より、第3副成分のR元素を変えた場合であっても、Cmax/Cbを1より大きくすることにより、Gdの場合と同様の特性を示すことが確認できる。 From Table 3, it can be confirmed that even when the R element of the third subcomponent is changed, by setting Cmax / Cb to be larger than 1, the same characteristics as in the case of Gd are exhibited.
実施例4
実施例1の試料番号1〜4の試料について、実施例1とは異なる焼成条件とすることで、Gdだけではなく、第2副成分に含まれるMgの拡散の制御を行った。その他の点については、実施例1の試料番号1〜4と同様にして、コンデンサ試料を作製し、実施例1と同様の特性評価とさらにIR寿命の測定を行った。結果を表4に示す。なお、IR寿命の測定は、以下のようにして行った。
Example 4
For the samples of Sample Nos. 1 to 4 in Example 1, the diffusion conditions of Mg contained in the second subcomponent were controlled in addition to Gd by setting the firing conditions different from those in Example 1. In other respects, a capacitor sample was prepared in the same manner as in Sample Nos. 1 to 4 in Example 1, and the same characteristic evaluation as in Example 1 and the IR lifetime were measured. The results are shown in Table 4. The IR lifetime was measured as follows.
IR寿命
コンデンサ試料に対し、200℃にて、40V/μmの電界下で直流電圧の印加状態に保持し、寿命時間を測定することにより、IR寿命を評価した。本実施例においては、印加開始から絶縁抵抗が一桁落ちるまでの時間を寿命と定義した。また、このIR寿命は、10個のコンデンサ試料について行った。評価基準は、20時間以上を良好とした。結果を表4に示す。
The IR lifetime was evaluated by holding a DC voltage applied to an IR lifetime capacitor sample at 200 ° C. under an electric field of 40 V / μm and measuring the lifetime. In this example, the time from the start of application until the insulation resistance drops by an order of magnitude was defined as the lifetime. Further, this IR life was performed for 10 capacitor samples. The evaluation criteria were good for 20 hours or more. The results are shown in Table 4.
表4より、GdおよびMgの拡散を制御することにより、GdおよびMgの濃度分布がCmax/Cb>1を満足していることが確認できる。
試料番号101〜104では、Gdだけでなく、Mgの濃度分布がCmax/Cb>1を満足していることにより、試料番号1〜4が示す良好な特性に加え、さらに、IR寿命をも良好とすることができる。
From Table 4, it can be confirmed that the concentration distribution of Gd and Mg satisfies Cmax / Cb> 1 by controlling the diffusion of Gd and Mg.
In Sample Nos. 101 to 104, not only Gd but also the Mg concentration distribution satisfies Cmax / Cb> 1, so that in addition to the good characteristics shown by Sample Nos. 1 to 4, the IR life is also good. It can be.
1… 積層セラミックコンデンサ
10… コンデンサ素子本体
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
20… 表面拡散粒子
20a… 中心層
20b… 拡散層
22… 結晶粒界
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer
Claims (6)
BaZrO3 を含む第1副成分と、
Mgの酸化物を含む第2副成分と、
Rの酸化物(ただし、Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を含む第3副成分と、
Mn、Cr、CoおよびFeから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第4副成分と、
Si、Al、Ge、BおよびLiから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第5副成分と、を含有する誘電体磁器組成物であって、
前記誘電体磁器組成物が、複数の誘電体粒子と、隣り合う前記誘電体粒子間に存在する結晶粒界と、を有しており、
前記複数の誘電体粒子のうち、少なくとも一部の誘電体粒子が、中心層と、前記中心層の周囲に存在する、前記副成分が拡散している拡散層と、から構成される表面拡散構造を有しており、
前記表面拡散構造を有する誘電体粒子において、前記結晶粒界から前記誘電体粒子の略中心に向かう方向に、前記結晶粒界の界面から該誘電体粒子の粒子径の5%の距離に位置する界面近傍点における前記Rの濃度をCbとし、前記拡散層における前記Rの濃度の最大値をCmaxとした場合に、Cmax/Cb>1である関係を満足することを特徴とする誘電体磁器組成物。 A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising BaZrO 3 ;
A second subcomponent comprising an oxide of Mg;
R oxide (where R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu) A third subcomponent comprising
A fourth subcomponent comprising an oxide of at least one element selected from Mn, Cr, Co and Fe;
A dielectric ceramic composition comprising: a fifth subcomponent including an oxide of at least one element selected from Si, Al, Ge, B and Li,
The dielectric ceramic composition has a plurality of dielectric particles and a crystal grain boundary existing between the adjacent dielectric particles;
A surface diffusion structure in which at least a part of the plurality of dielectric particles includes a central layer and a diffusion layer in which the subcomponent is diffused, which exists around the central layer. Have
In the dielectric particle having the surface diffusion structure, the dielectric particle is located at a distance of 5% of the particle diameter of the dielectric particle from the interface of the crystal grain boundary in the direction from the crystal grain boundary toward the approximate center of the dielectric particle. A dielectric ceramic composition satisfying a relationship of Cmax / Cb> 1, where Cb is the concentration of R at a point near the interface and Cmax is the maximum value of the concentration of R in the diffusion layer. object.
第1副成分:9〜13モル、
第2副成分:2.7〜5.7モル、
第3副成分:4.5〜5.5モル、
第4副成分:0.5〜1.5モル、
第5副成分:3.0〜3.9モルである請求項1または2に記載の誘電体磁器組成物。 The ratio of each subcomponent in terms of oxide or composite oxide to 100 mol of the main component is as follows:
First subcomponent: 9 to 13 mol,
Second subcomponent: 2.7 to 5.7 mol,
Third subcomponent: 4.5 to 5.5 mol,
4th subcomponent: 0.5-1.5 mol,
The dielectric ceramic composition according to claim 1, wherein the fifth subcomponent is 3.0 to 3.9 mol.
前記誘電体層が、チタン酸バリウムを含む主成分と、
BaZrO3 を含む第1副成分と、
Mgの酸化物を含む第2副成分と、
Rの酸化物(ただし、Rは、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、YbおよびLuから選択される少なくとも1種)を含む第3副成分と、
Mn、Cr、CoおよびFeから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第4副成分と、
Si、Al、Ge、BおよびLiから選択される少なくとも1種の元素の酸化物を含む第5副成分と、を含有する誘電体磁器組成物で構成され、
前記誘電体磁器組成物が、複数の誘電体粒子と、隣り合う前記誘電体粒子間に存在する結晶粒界と、を有しており、
前記複数の誘電体粒子のうち、少なくとも一部の誘電体粒子が、中心層と、前記中心層の周囲に存在する、前記副成分が拡散している拡散層と、から構成される表面拡散構造を有しており、
前記表面拡散構造を有する誘電体粒子において、前記結晶粒界から前記誘電体粒子の略中心に向かう方向に、前記結晶粒界の界面から該誘電体粒子の粒子径の5%の距離に位置する界面近傍点における前記Rの濃度をCbとし、前記拡散層における前記Rの濃度の最大値をCmaxとした場合に、Cmax/Cb>1である関係を満足することを特徴とする電子部品。 An electronic component having a dielectric layer and an internal electrode layer,
The dielectric layer comprises a main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising BaZrO 3 ;
A second subcomponent comprising an oxide of Mg;
R oxide (where R is at least one selected from Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu) A third subcomponent comprising
A fourth subcomponent comprising an oxide of at least one element selected from Mn, Cr, Co and Fe;
A dielectric ceramic composition containing a fifth subcomponent containing an oxide of at least one element selected from Si, Al, Ge, B and Li,
The dielectric ceramic composition has a plurality of dielectric particles and a crystal grain boundary existing between the adjacent dielectric particles;
A surface diffusion structure in which at least a part of the plurality of dielectric particles includes a central layer and a diffusion layer in which the subcomponent is diffused, which exists around the central layer. Have
In the dielectric particle having the surface diffusion structure, the dielectric particle is located at a distance of 5% of the particle diameter of the dielectric particle from the interface of the crystal grain boundary in the direction from the crystal grain boundary toward the approximate center of the dielectric particle. An electronic component satisfying a relationship of Cmax / Cb> 1, where C is the concentration of R at a point near the interface and Cmax is the maximum value of the concentration of R in the diffusion layer.
第1副成分:9〜13モル、
第2副成分:2.7〜5.7モル、
第3副成分:4.5〜5.5モル、
第4副成分:0.5〜1.5モル、
第5副成分:3.0〜3.9モルである請求項4または5に記載の電子部品。 The ratio of each subcomponent in terms of oxide or composite oxide to 100 mol of the main component is as follows:
First subcomponent: 9 to 13 mol,
Second subcomponent: 2.7 to 5.7 mol,
Third subcomponent: 4.5 to 5.5 mol,
4th subcomponent: 0.5-1.5 mol,
The electronic component according to claim 4 or 5, wherein the fifth subcomponent is 3.0 to 3.9 mol.
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