JP2008218611A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 半導体装置6は、バイポーラトランジスタ30と、半導体装置6外のゲート駆動回路2に接続されるゲート端子4と、半導体装置6外の定電圧点20に接続される接続端子16と、ゲート端子4とトランジスタ30内のゲート電極12を接続している第1内部配線10と、ゲート電極12と接続端子16を接続している第2内部配線14を備えており、第1内部配線10に正の抵抗温度係数を有する第1ゲート抵抗8が挿入されている。半導体装置6の温度が上昇すると、第1ゲート抵抗8の抵抗値が上昇し、ゲート電極12に印加される印加電圧が下降する。半導体装置6の通電電力量と発熱量が抑制され、半導体装置6の過熱が避けられる。
【選択図】 図1
Description
この種の半導体装置の小型化が進んでおり、半導体装置を高密度に集積して利用することが多くなっている。あるいは、この種の半導体装置でオン・オフする電力量が大きくなっている。このために、この種の半導体装置が過熱する可能性が高まっている。
本発明は、温度検出回路と、ゲート駆動回路が出力するゲートオン電圧を調整する回路を別々に用意する必要がなく、半導体装置の温度が上昇したことを検知する回路が、ゲート電極に印加するゲートオン電圧を調整する回路を兼用する技術を提案する。
本発明の半導体装置は、少なくとも、第1半導体領域と、第2半導体領域と、第3半導体領域と、ゲート電極を備えている。第1半導体領域は、第1導電型である。第2半導体領域は、第1半導体領域と第3半導体領域を分離しており、第2導電型である。第3半導体領域は、第1導電型である。ゲート電極は、第1半導体領域から第2半導体領域を経て第3半導体領域に達する範囲に存在している半導体に絶縁膜を介して対向している。
本発明の半導体装置は、さらに、ゲート端子と、接続端子と、第1内部配線と、第2内部配線を備えている。ゲート端子は、半導体装置外に存在するゲート駆動回路に接続される。接続端子は、半導体装置外にあって一定の電圧に維持されている点(定電圧点)に接続される。第1内部配線は、ゲート端子とゲート電極を接続している。第2内部配線は、ゲート電極と接続端子を接続している。本発明の半導体装置では、第1内部配線に正の抵抗温度係数を有する第1ゲート抵抗が挿入されている。あるいは、第2内部配線に負の抵抗温度係数を有する第2ゲート抵抗が挿入されている。あるいは、第1内部配線に正の抵抗温度係数を有する第1ゲート抵抗が挿入されているとともに、第2内部配線に負の抵抗温度係数を有する第2ゲート抵抗が挿入されている。
参照番号4は、ゲート駆動回路2に接続されるゲート端子であり、第1内部配線10によってトランジスタ30のゲート電極12に接続されている。参照番号16は、一定電圧に維持されている点20に接続される接続端子であり、第2内部配線14によってトランジスタ30のゲート電極12に接続されている。図1では、定電圧点20が接地されている状態が図示されているが、一定電圧に維持されていればよく、必ずしも接地されている必要はない。
(A)に示すように、第2内部配線14に第2ゲート抵抗が挿入されていない場合、接続端子16と定電圧点20の間に第2ゲート抵抗18aを挿入すればよい。この場合、第2ゲート抵抗18aの抵抗温度係数は制約されない。第2内部配線14に第2ゲート抵抗が挿入されている場合、(B)に示すように、第2ゲート抵抗18が、負の抵抗温度係数を有するか、あるいは(C)に示すように、第2ゲート抵抗18bが、第1ゲート抵抗8の抵抗温度係数に比して無視できる程度に小さな抵抗温度係数を持っていればよい。図1において、+は正の抵抗温度係数を有することを示し、−は負の抵抗温度係数を有することを示し、0は抵抗温度係数の絶対値が小さいことを示している。
第2内部配線14に負の抵抗温度係数を有する第2ゲート抵抗18が挿入されている場合、第1内部配線10に第1ゲート抵抗が挿入されていなくてもよいし、第1内部配線10に第1ゲート抵抗が挿入されていてもよい。
(D)に示すように、第1内部配線10に第1ゲート抵抗が挿入されていない場合、ゲート駆動回路2とゲート端子4の間に第1ゲート抵抗8aを挿入すればよい。この場合、第1ゲート抵抗8aの抵抗温度係数は制約されない。第1内部配線14に第1ゲート抵抗が挿入されている場合、(B)に示すように、第1ゲート抵抗8が、正の抵抗温度係数を有するか、あるいは(E)に示すように、第1ゲート抵抗8bが、第2ゲート抵抗18の抵抗温度係数の絶対値に比して無視できる程度に小さいな抵抗温度係数を持っていればよい。
図1(B)に示すように、第2ゲート抵抗18が半導体装置6内にあって、半導体装置6の温度の影響を受ける場合、第2ゲート抵抗18が負の抵抗温度係数を持っていれば、印加電圧の自律的な調整作用が得られる。第2ゲート抵抗18aが負の抵抗温度係数を持つ場合、印加電圧の自律的な調整作用が強調される。
図1(c)に示すように、第2ゲート抵抗18が半導体装置6内にあって、半導体装置6の温度の影響を受ける場合、第2ゲート抵抗18bの抵抗温度係数が第1ゲート抵抗8の抵抗温度係数よりも格段に小さいものであれば、前記した印加電圧の自律的な調整作用が得られる。
上記の場合、ゲート駆動回路2と、第1ゲート抵抗8(または8a,8b)と、ゲート電極12と、第2ゲート抵抗18と、定電位点20が直列に接続された回路が形成されるために、ゲート電極12に印加される印加電圧は、出力電圧に等しくならない。すなわち、印加電圧は、ゲート駆動回路駆動2の出力電圧を第1ゲート抵抗8(または8a,8b)と第2ゲート抵抗18で分圧した電圧に等しくなる。
図1(B)に示すように、第1ゲート抵抗8が半導体装置6内にあって、半導体装置6の温度の影響を受ける場合、第1ゲート抵抗8が正の抵抗温度係数を持っていれば、印加電圧の自律的な調整作用が得られる。第1ゲート抵抗8が正の抵抗温度係数を持つ場合、印加電圧の自律的な調整作用が強調される。
図1(E)に示すように、第1ゲート抵抗8bが半導体装置6内にあって、半導体装置6の温度の影響を受ける場合、第1ゲート抵抗8bの抵抗温度係数が第2ゲート抵抗18の抵抗温度係数よりも格段に小さいものであれば、前記した印加電圧の自律的な調整作用が得られる。
本発明によると、半導体装置の配置位置に無関係に共通ゲート端子と共通接続端子に接続すればよい。中心近傍にあって過熱しやすい半導体装置の温度が上昇すると、その半導体装置に対応する第1ゲート抵抗の抵抗値が上昇するか、あるいは、その半導体装置に対応する第2ゲート抵抗の抵抗値が下降し、その半導体装置のゲート電極に印加される印加電圧が下げられる。個々の半導体装置の温度に対応して印加電圧が自律的に調整される。半導体チップ内の温度のばらつきを小さくすることができる。
ここでいう調整可能とは、印刷等の技術によって抵抗パターンを作成した後に、例えばレーザなどを照射することによって抵抗値を調整可能なことをいう。
各々の第1ゲート抵抗および/または第2ゲート抵抗を調整することによって、チップ内での不均一な温度分布を抑制することができる。
本発明は、複数の半導体装置を半導体チップ内に集積する場合に特に有用であり、半導体チップ内の温度のばらつきを小さく抑えることができる。過熱の発生を防止できる範囲内で、各々の半導体装置を駆動することができる。
(第1特徴) 第1ゲート抵抗を半導体装置内に設け、第2ゲート抵抗を半導体装置外に設ける。
(第2特長) 第1ゲート抵抗を半導体装置外に設け、第2ゲート抵抗を半導体装置内に設ける。
(第3特徴) 第1ゲート抵抗と第2ゲート抵抗の双方を半導体装置内に設ける。
(第4特長) 第1ゲート抵抗と第2ゲート抵抗の合計抵抗値に対して、温度に対応して変化する抵抗値の変化幅が、5%〜50%の範囲である。
またバイポーラトランジスタ30は、エミッタ電極24とコレクタ電極32を備えている。エミッタ電極24は、エミッタ領域26とボディコンタクト領域40に接しており、層間絶縁膜42によってトレンチゲート電極12から絶縁されている。コレクタ電極32は、コレクタ領域28に接している。トレンチゲート電極12は、エミッタ電極24が存在しない位置において半導体チップ56の表面に露出している。
バイポーラトランジスタ30のゲート電極12は、第1ゲート抵抗8を介して半導体チップ56の表面に形成されているゲート端子4に接続されている。第1ゲート抵抗8は、半導体チップ56の表面に形成されている。第1ゲート抵抗8を介してゲート電極12とゲート端子4を接続する配線10(第1内部配線の実施例)も、半導体チップ56の表面に形成されている。ゲート電極12は、半導体チップ56の表面に形成されている配線14(第2内部配線の実施例)によって、半導体チップ56の表面に形成されている接続端子16にも接続されている。
印加電圧は、ゲート駆動回路2が出力するゲートオン電圧を、第1ゲート抵抗8の抵抗値と第2ゲート抵抗18の抵抗値で分圧した電圧であり、第1ゲート抵抗8の抵抗値が増大すれば、印加電圧は下降する関係にある。なお、第1ゲート抵抗8の抵抗値が増大すれば印加電圧が下降する関係は、トランジスタ30の温度によって第2ゲート抵抗18の抵抗値が変化しない場合、あるいは、トランジスタ30の温度の上昇によって第2ゲート抵抗18の抵抗値が下降する場合にも得られる。図1(A)の場合、第2ゲート抵抗18は半導体装置6の外部にあり、トランジスタ30の温度が変化しても、第2ゲート抵抗18の温度は変化しない。したがって、トランジスタ30の温度が変化しても、第2ゲート抵抗18の抵抗値は変化しない。図1(B)の場合、トランジスタ30の温度変化に追従して第2ゲート抵抗18の温度も変化する。第2ゲート抵抗18の抵抗値は温度上昇に伴って下降する。トランジスタ30の温度が上昇すると、第2ゲート抵抗18の抵抗値は下降し、印加電圧は下降する。図1(C)の場合、トランジスタ30の温度変化に追従して第2ゲート抵抗18の温度も変化するが、第2ゲート抵抗18の抵抗温度係数は小さいために、温度変化があっても抵抗値はさほど変化しない。トランジスタ30の温度が上昇すると、印加電圧は下降する。
図6の場合、トランジスタ30A〜30Fの各々に対して第1トランジスタ8A〜8Fが形成されており、共通のゲート端子4に接続されている。トランジスタ30A〜30Fの各々のゲート電極12A〜12Fは、共通の接続端子16に接続されている。また、トランジスタ30A〜30Fに対しての共通の第2ゲート抵抗18が接続されている。
熱的環境によってグループ化し、グループ毎に第1ゲート抵抗を利用してもよい。
4:ゲート端子
6:半導体装置
8、8a、8b、8A〜8F、38A〜38F:第1ゲート抵抗
10:第1内部配線
12、12A〜12F:ゲート電極
14:第2内部配線
16:接続端子
18、18a、18b:第2ゲート抵抗
20:定電圧点
22:接地点
24:エミッタ電極
26:エミッタ領域
28:コレクタ領域
30、30A〜30F:トランジスタ
32:コレクタ電極
34:負荷
36:直流電源
40:ボディコンタクト領域
42:層間絶縁膜
44:ゲート絶縁膜
48:ボディ領域
50:ドレイン領域
52:n型バッファ領域
56:半導体チップ
60a〜60e:切れ目
70:回路
Claims (4)
- 過熱防止機能を有する半導体装置であり、
第1導電型の第1半導体領域と、
第1導電型の第3半導体領域と、
前記第1半導体領域と前記第3半導体領域を分離している第2導電型の第2半導体領域と、
前記第1半導体領域から前記第2半導体領域を経て前記第3半導体領域に達する範囲に存在している半導体に絶縁膜を介して対向しているゲート電極と、
半導体装置外のゲート駆動回路に接続されるゲート端子と、
半導体装置外の定電圧点に接続される接続端子と、
前記ゲート端子と前記ゲート電極を接続している第1内部配線と、
前記ゲート電極と前記接続端子を接続している第2内部配線を備えており、
前記第1内部配線に正の抵抗温度係数を有する第1ゲート抵抗が挿入されているか、あるいは、前記第2内部配線に負の抵抗温度係数を有する第2ゲート抵抗が挿入されていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置の複数個が集積されている半導体チップであり、
複数個の半導体装置の各々が、共通ゲート端子と共通接続端子に接続されていることを特徴とする半導体チップ。 - 請求項2に記載の半導体チップであり、
第1ゲート抵抗の各々、および/または、第2ゲート抵抗の各々が、抵抗値を調整可能な抵抗パターンで形成されていることを特徴とする半導体チップ。 - 電界効果型トランジスタと、
一定電圧に調整されているオン電圧とオフ電圧の間で変化する電圧を出力するゲート駆動回路と、
前記電界効果型トランジスタのゲート電極と前記ゲート駆動回路の間に挿入されており、前記電界効果型トランジスタに熱的に接合されているとともに、正の抵抗温度係数を有するゲート抵抗と、
前記電界効果型トランジスタのゲート電極と定電圧点の間に挿入されている一定の抵抗値を有する抵抗を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタの過熱防止機能を有する回路。
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