JP2008288600A - 基板の縁部除外領域の大きさを制御する方法及び装置 - Google Patents
基板の縁部除外領域の大きさを制御する方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008288600A JP2008288600A JP2008132089A JP2008132089A JP2008288600A JP 2008288600 A JP2008288600 A JP 2008288600A JP 2008132089 A JP2008132089 A JP 2008132089A JP 2008132089 A JP2008132089 A JP 2008132089A JP 2008288600 A JP2008288600 A JP 2008288600A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- substrate
- edge exclusion
- width
- edge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/02—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation according to the instantaneous size and required size of the workpiece acted upon, the measuring or gauging being continuous or intermittent
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
【課題】基板の縁部を除いた領域の幅を精密に制御できる基板の縁部の研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨ヘッド304を回転させる角度の範囲を決定するステップと、基板100の縁部104除外領域の幅を予め設定された寸法にするように、決定された角度の範囲で研磨ヘッド304を回転させるステップと、研磨ヘッドを用いて基板の縁部を研磨するステップとを含む。さらに、予め予定された縁部除外領域の幅が得られたか否かの判断に基づいて、縁部除外領域の幅が所定の値になるように、研磨ヘッド304を回転する角度を調整するステップを備える。
【選択図】図4
【解決手段】研磨ヘッド304を回転させる角度の範囲を決定するステップと、基板100の縁部104除外領域の幅を予め設定された寸法にするように、決定された角度の範囲で研磨ヘッド304を回転させるステップと、研磨ヘッドを用いて基板の縁部を研磨するステップとを含む。さらに、予め予定された縁部除外領域の幅が得られたか否かの判断に基づいて、縁部除外領域の幅が所定の値になるように、研磨ヘッド304を回転する角度を調整するステップを備える。
【選択図】図4
Description
[0001]本出願は、発明の名称が「基板の縁部除外領域の大きさを制御する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された、米国仮特許出願番号第60/939,209号(代理人整理番号:11987/L)に対して優先権を主張しており、該出願は、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
[0002]本出願は、同一出願人による、共に係属中である以下の米国特許出願に関連しており、それらの出願のそれぞれは、すべての目的のために、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
[0003]発明の名称は、「基板を処理する方法及び装置」であり、2005年12月9日付で出願された米国特許出願番号第11/299,295号(代理人整理番号:10121);
[0004]発明の名称は、「基板を処理する方法及び装置」であり、2005年12月9日付で出願された米国特許出願番号第11/298,555号(代理人整理番号:10414);
[0005]発明の名称は、「膨張式研磨ホイールを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置"であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,351号(代理人整理番号:10674/L);
[0006]発明の名称は、「基板ノッチの中心を見つける方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,353号(代理人整理番号:11244/L);
[0007]発明の名称は、「エピタキシャル膜の基板斜面及び縁部の研磨プロファイルを制御する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,343号(代理人整理番号:11417/L);
[0008]発明の名称は、「成形されたバッキングパッドを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,219号(代理人整理番号:11483/L);
[0009]発明の名称は、「バッキングパッドを使用して基板の両面の縁部から膜及び薄片を除去する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,342号(代理人整理番号:11564/L);
[0010]発明の名称は、「効率的なテープのルーティング配置を有する斜面研磨ヘッドを使用する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,350号(代理人整理番号:11565/L);
[0011]発明の名称は、「基板研磨のためにローリングバッキングパッドを使用する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,344号(代理人整理番号:11566/L);
[0012]発明の名称は、「研磨アームを使用して基板の縁部を研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,333号(代理人整理番号:11567/L);
[0013]発明の名称は、「基板縁部のプロファイルを識別し、その識別された縁部のプロファイルによって基板の処理を調整する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,212号(代理人整理番号:11695/L);
[0014]発明の名称は、「半導体の製造における高性能の基板斜面及び縁部の研磨のための方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,337号(代理人整理番号:11809/L);及び、
[0015]発明の名称は、「基板の振動により基板のノッチを研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,228号(代理人整理番号:11952/L)。
[0004]発明の名称は、「基板を処理する方法及び装置」であり、2005年12月9日付で出願された米国特許出願番号第11/298,555号(代理人整理番号:10414);
[0005]発明の名称は、「膨張式研磨ホイールを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置"であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,351号(代理人整理番号:10674/L);
[0006]発明の名称は、「基板ノッチの中心を見つける方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,353号(代理人整理番号:11244/L);
[0007]発明の名称は、「エピタキシャル膜の基板斜面及び縁部の研磨プロファイルを制御する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,343号(代理人整理番号:11417/L);
[0008]発明の名称は、「成形されたバッキングパッドを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,219号(代理人整理番号:11483/L);
[0009]発明の名称は、「バッキングパッドを使用して基板の両面の縁部から膜及び薄片を除去する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,342号(代理人整理番号:11564/L);
[0010]発明の名称は、「効率的なテープのルーティング配置を有する斜面研磨ヘッドを使用する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,350号(代理人整理番号:11565/L);
[0011]発明の名称は、「基板研磨のためにローリングバッキングパッドを使用する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,344号(代理人整理番号:11566/L);
[0012]発明の名称は、「研磨アームを使用して基板の縁部を研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,333号(代理人整理番号:11567/L);
[0013]発明の名称は、「基板縁部のプロファイルを識別し、その識別された縁部のプロファイルによって基板の処理を調整する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,212号(代理人整理番号:11695/L);
[0014]発明の名称は、「半導体の製造における高性能の基板斜面及び縁部の研磨のための方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,337号(代理人整理番号:11809/L);及び、
[0015]発明の名称は、「基板の振動により基板のノッチを研磨する方法及び装置」であり、2007年5月21日付で出願された米国特許出願番号第60/939,228号(代理人整理番号:11952/L)。
[0016]本発明は、一般的に、基板の処理に関し、より詳細には、基板の縁部を研磨する方法及び装置に関する。
[0017]半導体デバイスの製造のための基板を作成するに際して、基板の縁部は、一般的にクリーニング及び/または研磨される。典型的に、デバイス領域を保護するために、デバイス領域と基板の縁部との間にバッファ領域または「縁部除外領域」が提供されている。ますます厳しくなる要求条件によって、縁部除外領域の幅の精密な制御は、デバイス収率を最適化するための優先事項となった。縁部除外領域の幅に対するそのような精密な制御を提供することは困難であるというのが証明されてきた。したがって、縁部除外領域に対する制御を達成するために基板の縁部の研磨を制御する、改善された方法及び装置が要求されている。
[0018]本発明の第1の態様において、基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法が提供される。この方法は、研磨ヘッドを回転させる角度の範囲を決定するステップと、上記基板の縁部除外領域に対する予め設定された幅を達成するように、上記決定された範囲で上記研磨ヘッドを回転させるステップと、上記研磨ヘッドを用いて上記基板の縁部を研磨するステップと、を含んでいる。
[0019]本発明の他の態様において、基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法が提供される。この方法は、上記基板に対する縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、基板に対して研磨ヘッドを位置させるべき半径位置を決定するステップと、上記研磨ヘッドを上記決定された半径位置に移動させるステップと、上記研磨ヘッドを用いて上記基板を研磨するステップと、を含んでいる。
[0020]本発明のさらに他の態様において、基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法が提供される。この方法は、ヘッドスペーサ及びバッキングローラーを有する研磨ヘッドを提供するステップであって、上記バッキングローラーは、中心から外れた位置で上記ヘッドスペーサに結合されて、研磨中に、基板に研磨テープを付けるように適合されている、ステップと、研磨中に、上記研磨ヘッドを使用して、上記研磨テープを上記基板の縁部除外領域に付けるステップとを含んでいる。
[0021]また、本発明のさらに他の態様において、基板上の縁部除外領域の幅を制御するシステムが提供される。このシステムは、ヘッドスペーサを有し、基板の縁部に接触するように適合された研磨ヘッドと、中心から外れた位置で上記ヘッドスペーサに結合されるバッキングパッドと、上記研磨ヘッドに結合される研磨アームと、上記研磨ヘッド及び研磨アームを作動させて、上記基板の縁部除外領域を制御するように適合されたコントローラとを備えている。
[0022]本発明の更なる特徴及び態様は、後述する詳細な説明、添付の特許請求の範囲及び添付の図面に基づいてより明らかになる。
[0034]本発明は、基板上の縁部除外領域の幅を制御するための改善された方法及びシステムを提供する。基板の縁部除外領域の幅は、異なる電子デバイス製造業者によって異なることがある。典型的に、縁部除外領域は、基板の製造またはデバイス領域と基板縁部との間に位置される。基板の縁部を研磨することは、好ましい場合が多いが、製造またはデバイス領域内の基板を研磨することは、好ましくない。したがって、本発明は、基板の縁部除外領域の幅(例えば、研磨された幅)を制御する方法及びシステムを提供する。
[0035]本発明の一実施形態において、縁部除外領域の幅に対する精密な制御は、異なる角度(「揺動(rocking)角度」)で研磨ヘッドを角をなしながら平行移動(「揺動」)することにより提供することができるが、ここで、より大きい角度で湾曲運動(sweep)、研磨中に除去される材料の量がより多くなり、それによって、除外領域の幅が増加する。
[0036]本発明に他の実施形態において、縁部除外領域の幅に対する精密な制御は、研磨ヘッドが基板上に研磨テープを付ける位置を制御することにより、そして、特に、研磨ヘッドを含む研磨アームを基板の中心の方に向かってまたはそこから離れるように制御可能に移動させることにより、提供することができる。基板の中心の方に向かって研磨アームを移動することにより、縁部除外領域の幅を増加することができ、基板の中心から離れるように研磨アームを移動することにより、縁部除外領域の幅を減少することができる。
[0037]本発明のさらに他の実施形態において、縁部除外領域の幅に対する精密な制御は、基板表面に対するバッキングパッドの位置を制御するために、研磨ヘッドにおいてバッキングパッド(例えば、パッド、袋、ローラーなど)の位置をオフセットすることにより提供することができる。一部の実施形態において、中心から外れた研磨ヘッドスペーサの構成要素を使用してオフセットを提供することもできる。1つ以上の実施形態において、このような方法が使用されて、除外領域の幅をサブミリメートル以下の正確度で制御することができる。
[0038]図1をみると、基板100の一部の概略的断面図が提供される。基板100は、2個の主面102、102’、及び縁部104を含むことができる。基板100のそれぞれの主面102、102’は、その上にデバイスが製造されるデバイス領域106、106’及びデバイス製造が行われないことを意味する除外領域108、108’(ここでは「縁部除外領域」と呼ばれる)を含むことができる(しかしながら、典型的に、2個の主面102、102’のうちの1つだけが、デバイス領域及び除外領域を含むようになる)。除外領域108、108’は、デバイス領域106、106’と縁部104との間のバッファとして機能することもできる。基板100の縁部104は、外縁部110及び斜面112、114を含むことができる。斜面112、114は、2個の主面102、102’の除外領域108、108’と外縁部110との間に位置することができ、主面102、102'に対して角度を有しながら整列された表面を有することができる。縁部の研磨処理において、斜面112、114及び/または縁部除外領域108、108'は、欠陥または汚染物を除去するために、膜厚を減少させるために、そして、より一般的には表面の均一性を改善するために、研磨することができる。
[0039]縁部除外領域108、108'は、デバイスの製造に使用することのできない空間を占めることから、生産収率を高めるために、縁部除外領域108、108'の幅は最小化される傾向がある。しかしながら、縁部除外領域108、108'の幅があまりに小さすぎると、領域108、108'は、それ以上バッファとして適切に機能しなくなることがあり、縁部104とデバイス領域106、106'との間の近い距離によって、デバイス領域106、106'が誤って研磨され、或いは、縁部の研磨処理によって悪い影響を受けてしまうことがある。また、縁部除外領域108、108'の最適の幅は、基板の大きさと種類、基板に施されるべき製造処理、及び/または他のエンドユーザ仕様に基づいて変動することが可能であり、これは、厳密なことがある。したがって、領域108、108'のバッファリング機能を持続させながらも、収率における不要な損失を回避し、他のエンドユーザの必要条件を満足させるために、縁部除外領域108、108'の幅に対する精密な制御を有することが有用である。
[0040]図2は、本発明による例示的な縁部研磨システムまたは「モジュール」200の平面図を示している。縁部研磨モジュール200は、電子デバイスの製造設備において使用されるより大きい基板準備システム(図示せず)内に組み込まれることができる。例えば、基板準備システムは、新しい、処理されていない基板を受け取る工場インターフェース、及び縁部研磨モジュール200のような研磨モジュール以外にも、基板100からどのような塵埃または粒子を除去する1つ以上の洗浄モジュール等を含むことができる。基板準備システムは、エッチング、堆積などのような後続処理に、またはそのような処理の後に対して、基板の調子を調節するために使用することができる。
[0041]図2の縁部研磨モジュール200は、1つ以上の縁部研磨装置202、204、206が位置するハウジング201を含むことができる。図示された実施形態は、3個の研磨装置を含んでいるが、異なる個数(例えば、1、2、または3つ以上)の装置が使用されることもできる。縁部研磨装置202、204、206は、基板100が搭載されて且つ支持される、中央プラットフォーム208(図3に示されている)の周囲に位置される。中央プラットフォーム208は、駆動装置211(例えば、モータ、ギア、ベルト、チェーンなど)(図3にも示されている)により回転可能とすることができ、中央プラットフォーム208が回転中に、基板100を所定の位置に保持するための真空チャックまたは他のメカニズムを含むことができる。描写された実施形態において、基板100は、水平面方向に配向された主面を有する円盤形状である。しかし、他の実施形態において、基板100は、その他の形状及び配向を有することもできる。
[0042]それぞれの縁部研磨装置202、204、206は、対応する研磨テープのスプールの組212、214、216によって、砥粒研磨テープに結合されるか、一緒に提供することができる。それぞれの研磨テープのスプールの組212、214、216は、供給スプール及び巻取りスプール(図3に示されている)を含むことができる。供給スプールは、基板100に隣接して位置しており、巻き出されて対応する研磨装置202、204、206に引き込まれるように使用可能な、未使用研磨テープを保管することができ、一方、巻取りスプールは、使用済み及び/または磨耗された研磨テープを受け入れるように適合することができる。供給及び巻取りスプールのうちの1つまたは両方は共に、対応する縁部研磨装置202、204、206に前進する研磨テープの量を精密に制御するように段階的に移動することができる。
[0043]また、縁部研磨モジュール200は、研磨装置202、204、206、駆動装置211、及びスプール212、214、216の組を含む、縁部研磨モジュールの構成要素の動作を指示するように適合されたコントローラ220(例えば、ソフトウェアにより駆動されるコンピューター、プログラミングされたプロセッサ、マイクロコントローラ、ゲートアレイ、論理回路、埋め込まれたリアルタイムプロセッサ等)を含んでいてもよい。1つ以上の実施形態において、それぞれの研磨装置202、204、206は、それ自身のコントローラを装備していることができる。コントローラ220は、メモリ資源(例えば、RAM、ROM、フラッシュメモリー、光学ディスク、近距離ネットワーク(LAN)ストレージ)(図示せず)を含むか、もしくは、それに結合されることができる。1つ以上の実施形態において、コントローラ220は、縁部研磨モジュール200の作動に関するデータにアクセスするように適合することができ、そのデータは、メモリ資源内に格納される、問い合わせ−アクセス可能なデータベースに格納することができる。
[0044]また、研磨モジュール200は、基板100上の縁部除外領域108、108'の幅を測定するように適合された1つ以上のセンサ(例えば、光度計などの検出器、及び光源のような光学センサ300)を含むことができる。例えば、センサ300は、基板100の縁部除外領域に光ビームを向けることができる。反射されてきてセンサ300で検出された光量により、基板の縁部除外領域の幅を決定することができる。他の方法では、カメラにより縁部除外領域の幅を直接測定することができる。また、カメラが基板を撮像し、イメージ処理ソフトウェアが、そのイメージに基づいて縁部除外領域の幅を決定することもできる。いずれの適切な測定システムであっても、使用することができる。
[0045]後で詳しく記述するように、それぞれの縁部研磨装置202、204、206は、対応するスプールの組212、214、216からの研磨テープの供給を受けるとき、研磨テープが強制的に基板100の縁部に接触するようにローディング可能に適合することができる。研磨テープ306(図3に示されている)と基板縁部104との間の摩擦(すなわち、研磨接触)は、研磨テープ306に対して基板100が回転中に発揮されるトルク、及び、基板100の縁部104に研磨テープ306を押し付けるときに発揮される力を含むことができる。一部の実施形態において、接触点における結合力は、約0.5lbs〜約2.0lbsに及ぶことができる。異なる量の力が使用されることもできる。
[0046]図3を見ると、縁部研磨装置、例えば202の概略図が描写されている。装置202は、基板100の縁部104にほぼ接線方向である水平面に整列される研磨アーム301を含むことができる。研磨アーム301は、フレーム303によって支持されることができる。他の実施形態において、研磨アーム301は、異なるように、例えば、水平面に対して垂直にまたは角度を有しながら整列されていてもよい。研磨アーム301は、供給スプール308及び巻取りスプール310を含むスプールの組から研磨テープ306を受け取るように適合され、また、基板100が中央プラットフォーム208によって、或いは他のメカニズム(例えば、ドライブローラー)によって回転されるとき、研磨テープ306を基板100の縁部104に強制的に付けるように適合された研磨ヘッド部304(「ヘッド」)を含むことができる。スプール308、310は、特定量の未使用研磨テープ306が基板の縁部104に前進したり、継続的に移送されるようにするインデキシング(indexing)能力、及び研磨テープ306が伸張されて、基板の縁部104に圧力を加えるようにする張力付与(tensioning)能力を提供可能な、1つ以上の駆動装置(例えば、サーボモータ)により駆動することができる。一部の実施形態において、スプール308、310は、約1インチの直径であり、約500インチの研磨テープ306を保持することができ、ポリウレタン、ポリビニルジフルオライド(PVDF)等のような任意の適切な材料から構成することができる。また、他の材料及びスプールの寸法が使用されていてもよい。図3に示されているように、全体の縁部研磨モジュール200及び研磨装置202によって占有されたフットプリントが最小化されるように、スプール308、310は、垂直に配向されていてもよい。
[0047]また、研磨テープ306は、ヘッド304(示されているように)上にまたは他の地点に位置された1つ以上の張力ローラー312によって、さらに引っ張られることができる。張力ローラー312は、縁部の研磨処理に対する精密な制御を得るために、基板縁部104に対して可変量の張力を加えるように適合することができ、この縁部の研磨処理は、材料が縁部104及び/または縁部除外領域108、108'から除去されるとき、基板100の異なる縁部構造及び変化を補償するために使用することができる。
[0048]1つ以上の実施形態において、研磨テープ306は、例えば、アルミニウム酸化物、シリコン酸化物、シリコン炭化物等を含む、1つ以上の異なる材料から作製することができる。また、他の材料が使用されてもよい。一部の実施形態において、使用される研磨材は、約0.5ミクロン〜約3ミクロンの大きさに及ぶもの、もしくは、他の大きさのものが使用されることができる。約0.2インチ〜約1.5インチの範囲内の多様な幅の研磨テープ306が使用されることができる(異なる幅のものが使用されることもできる)。1つ以上の実施形態において、研磨テープ306は、約0.002インチ〜約0.02インチの厚さであり、パッド(後述する)を使用する実施形態においては、約1〜約5lbsの張力に耐えることができ、パッドを使用しない実施形態においては、約3〜約8lbsの張力に耐えることができる。異なる厚さ及び強度を有するその他のテープが使用されることもできる。
[0049]縁部の研磨は、1つ以上の研磨装置(例えば、202、204、206)を使用して行うことができる。1つ以上の実施形態において、複数の研磨装置(例えば、202、204、206)が採用されて、それぞれの研磨装置は、類似の、或いは異なる特徴及び/またはメカニズムを有することができる。後者の場合には、特定の動作のために特定の研磨装置が採用されることがある。例えば、1つ以上の複数の研磨装置は、相対的に粗い研磨及び/または調整を行うように適合されながら、その一方で、1つ以上の複数の他の研磨装置は、相対的に細かい研磨及び/または調整を行うように適合されることができる。例えば、一部の実施形態において、縁部研磨モジュール200の多様な研磨装置202、204、206は、所定の手順にて同時に或いは異なる時期に使用することができる、異なる種類の研磨テープ306(例えば、異なる研磨材のテープ)を支持することができる。また、研磨装置202、204、206のヘッド(例えば、304)が異なる位置に配置されて、支持されるテープが、回転する基板100の縁部104の異なる部分を研磨するようにすることができる。このような方式で、研磨装置(例えば、202、204、206)は、例えば、相対的におおまかな研磨に合わせて調整するために、まず先に粗い研磨処理が行われて、必要に応じて、または研磨方法に従って、細かい研磨処理がその後に続けて行われるような順序で使用されることもできる。
[0050]複数の研磨装置(例えば、202、204、206)は、単一チャンバまたはモジュール(例えば、200)に位置することができ、さらに、別の方法では、1つ以上の研磨装置は、別個のチャンバまたはモジュールに位置することもできる。複数のチャンバが採用される場合は、チャンバ同士の間で基板を移動させるためにロボットまたは別の種類の移送メカニズムが採用されて、別個のチャンバにおける研磨装置が、連続的にまたは他の方式で使用されることもできる。
[0051]ヘッド304は、異なる角度にて基板縁部104上に力を加えるために、基板縁部104に接線方向の軸の回りで角をなしながら平行移動されることができる。角をなす平行移動は、ヘッド304が基板縁部104の前後及び上下で「揺動(rock)」するように、振動するものであり得る。例えば、図4は、本発明の実施形態によって、基板100の縁部104に対して研磨テープ306を付けるために位置された、例示的な研磨ヘッド304の拡大斜視図を示している。ヘッド304は、ロッカーアーム402(その一部が図4に示されている)及び/またはアクチュエータやロードアーム(図示せず)のような研磨アーム301の他の構成要素を介して、研磨装置202の研磨アーム301に結合(例えば、強固に)されることができる。ヘッド304は、供給スプール308から移送された研磨テープ306を受け取って張力を付与するように適合された張力ローラー406(図面には1つだけ示されている)を支持するロッカーアーム402に結合されたフレーム401を含む。研磨テープ306は、張力ローラー406によって引っ張られながら、バッキングローラー408に供給される。バッキングローラー408は、ローラー状に成形された回転可能なパッドを備えることができ、(図示されていないアクチュエータを介して)基板縁部104に向かって押圧されることができる。バッキングローラー408に対する圧力は、バッキングローラー408及び/または研磨テープ306(またはその一部)が、研磨中に、基板縁部104に合わせて輪郭を形成するようにすることができる。バッキングローラー408は、固定されたバッキングパッドに比較して、研磨テープ306に対する摩擦を減少させることができる。しかし、回転するもしくは固定されている、他のバッキングパッドが使用されることもできる。
[0052]バッキングローラー408は、ヘッドスペーサ410に(例えば、ピンジョイント、ボルトなどによって)回転可能に結合されることができ、ヘッドスペーサ410は、引き続き、ロッカーアーム402に結合されることができる。描写されているように、ロッカーアーム402は、ヘッドスペーサ410が位置可能な内部空間を有する、C形状の断面を有することができる。本発明の一部の実施形態において、バッキングローラー408は、ヘッドスペーサ410の中心から外れた位置でヘッドスペーサ410に結合されることができる。中心から外れた結合は、縁部の研磨、及び、特に図6Cと関連して詳しく後述する、縁部除外領域108、108'の幅に対する付加的な程度の制御を提供することができる。
[0053]ロッカーアーム402は、基板100の縁部104に接線方向である長手方向軸の回りで回転するように適合することができる。長手方向軸は、バッキングローラー408の回転軸と一致していてもよく、より好ましくは、それから少しの距離を置いて位置されて、ヘッド304が十分な揺動角度で回転しているときに、バッキングローラー408が、基板100の上または下で(単純に回転することとは対照的に)角をなしながら平行移動することができる。本発明は、揺動角度を調整可能なものとして、それにより、研磨されるべき基板100の表面に対して、バッキングローラー408(及びそれによって、研磨テープ306)の角をなす平行移動に対する制御を提供する。そのような調整能力は、縁部除外領域108、108'でまたはその近方において、研磨のレベルに対する精密な制御を可能とするということが明らかにされている。
[0054]揺動角度は、研磨ヘッド304のフレーム401に沿って標準ラインY−Y'(図5Aに示されている)に対して画成することができる。図4に描写されている研磨ヘッド304の実施形態において、標準ラインY−Y'(図5Aに表示)は、ヘッド304の長手方向回転軸に対して直交するように整列される。基板縁部104方向に向けられたバッキングローラー408に対して標準ラインが垂直に整列するとき(すなわち、図5Aに示されているように、標準ラインYが基板100の水平面に直交するとき)、揺動角度は、0と画成される。図5Aにおいて、正の揺動角度は、0から時計方向の回転として画成することができ(図5Aに太い点線の曲線矢印で表示)、この時計方向の回転で、バッキングローラー408(またはその一部)が基板100の上部表面102の上で角をなしながら平行移動される。負の揺動角度は、0から反時計方向の回転として画成することができ、この反時計方向の回転で、バッキングローラー408(またはその一部)は基板100の下部主面102'の下で角をなしながら平行移動される。したがって、図4は、ローリングパッド408とともに負の揺動角度であるヘッド304、及び基板100の下部主面102'の下に(そして、それにより隠れて)位置されたフレーム401の一部を描写する。
[0055]図5Aは、研磨アーム301の角回転を制御することにより縁部除外幅を制御する独創的な方法を図示した概略的断面図である。示されているように、揺動アーム402及びバッキングローラー408を含むヘッド304が、Y−Y'線に対して角度Θ1の、第1の位置にあるとき、バッキングローラー408及び関連研磨テープ(図示せず)は、基板100の斜面112部分上に位置して、基板100の縁部除外領域108を研磨する位置にいない。ロッカーアーム402は、角度Θ1で第1の位置から角度Θ2で第2の位置まで湾曲運動するように回転される。認識することができるように、ロッカーアーム402が、Y−Y'線(仮想で示されている)に対して角度Θ2で第2の位置まで回転されるとき、バッキングローラー408及び関連研磨テープ(図示せず)は、縁部除外領域108の直上に位置し、この位置で基板100を研磨するように適用されることができる。このような方式で、揺動アーム402及び研磨ヘッド304の角度のある湾曲運動は、縁部除外領域108の幅を決定することができる。例えば、ヘッド304を60度から80度まで湾曲運動することにより、ヘッド304を60度から70度まで湾曲運動することとは異なって、より多くの量の材料が除去され、それにより、縁部除外領域108の幅は、例えば、約1ミリメートル増加することができる。
[0056]コントローラ220は、多様な基板の位置における研磨中に除去される材料の予測量(例えば、実験的に決定される)を角度のある湾曲運動に関連付ける、公知の研磨プロファイルに基づいて、予め設定された所望の縁部除外領域の幅を達成するために、適切な角度のある湾曲運動を決定することができる。例えば、そのようなプロファイルは、コントローラ220によってアクセス可能な1つ以上のデータベースに保存することができる。その後、コントローラ220は、決定された適切な角度のある湾曲運動に基づいて、ロッカーアーム402を作動させる制御信号を送信してもよい。
[0057]図5Bは、基板100上の研磨アーム301の位置を介して縁部除外幅を制御する、他の方法を図示した概略的断面図である。研磨アーム301は、ヘッド304が基板100の中心の方に向かってまたはそれから離れる半径方向に移動するように、移動及び/または回転することができる。図5Bに示されているように、ヘッド304(例えば、バッキングローラー408)の中心線(太い点線)は、第1の位置X1から第2の位置X2まで内側に移動することができ、それによって、ヘッド304及びバッキングローラー408(仮想で示されている)を基板100の中心により近く移動させる。例えば、位置X1が縁部除外領域108の第1の端部を意味するなら、X1からX2までの距離Δは、バッキングローラー408及び関連研磨テープ(図示せず)が基板100の主面102の縁部除外領域109に適用されるとき、縁部除外領域108の研磨された幅の対応する変化(例えば、増加)を意味することができる。このような方式で、ヘッド304が半径方向に移動される距離は、縁部除外領域108の幅を決定することができる。この方法の実施形態によると、コントローラ220は、研磨アーム301の移動及び/または回転、及びヘッド304の位置を制御して、予め設定された所望の除外領域の幅を達成することができる。
[0058]図5Cは、オフセット位置において研磨ヘッドスペーサ410を介して縁部除外幅を制御する、独創的な方法を図示した概略的断面図である。図6は、本発明によるヘッドスペーサ410の例示的な実施形態の斜視図である。ヘッドスペーサ410は、第1のセクション602及び第2のセクション604を備える。第2のセクション604は、第1の端部(図示せず)で第1のセクション602にずらされて長手方向に結合され、自由な第2の端部606を有する。自由端606は、バッキングローラー408を受け入れ、回転可能に結合するように適合された開口608を含むことができる。1つ以上の実施形態において、開口608は、長手方向(例えば、ヘッドスペーサ410の第1及び第2のセクション602、604が結合する方向)に交差して、中心を外れて位置することができる。一部の実施形態において、図5Cに示されているように、開口608がヘッドスペーサ410の自由端606上の中心に位置するとき、バッキングローラー408の中心線は、第1の位置X3(図5Cに図示)に位置する。開口608が基板100の中心に向かって距離Dだけオフセットされたとき、ヘッドの中心線は、基板100の中心により近く(仮想線で表示)対応する距離Dだけ位置X4(図5Dに図示)に移動する。他の方法では、第1及び第2のセクション602、604がずらされる量は、開口608がヘッドスペーサ402の自由端606の中心に位置するようにしておきながら、同じように開口608を距離Dだけ移動して、調整することができる。バッキングローラー408及び関連研磨テープ(図示せず)が縁部除外領域108を研磨するように適用されるとき、開口608のオフセットの距離Dは、縁部除外領域108の研磨された幅において対応する変化(例えば、増加)を引き起こすことができる。このような方式で、開口608のオフセット距離Dは、縁部除外領域108の幅または幅の変化を決定することができる。
[0059]縁部除外領域108の幅の変化は、例えば、研磨動作中に基板100に適用されるとき、研磨アーム301及びヘッド304の回転移動及び/または角度移動に起因した、オフセット距離Dに正確に対応しないこともある(例えば、異なることがある)。公知のプロファイルに関する、多様なオフセット距離Dにおいて研磨中に除去された材料の予測量(例えば、実験的に決定される)は、コントローラ220によってアクセス可能な1つ以上のデータベース(図示せず)に保存することができ、予め設定された所望の除外領域の幅を達成するために行われる、前述した回転及び位置の変化のような位置調整を決定することに使用することができる。
[0060]したがって、前述したそれぞれの方法が、単独でまたは組み合わされて、さらに、順序に従ってまたは同時に使用され、予め設定された所望の除外領域の幅を達成することができる。
[0061]図7は、本発明による、研磨ヘッドの角回転を介して縁部除外領域の幅を制御する例示的な方法700を図示したフローチャートである。ステップS702において、方法700が開始される。ステップS704において、所望の縁部除外領域の幅が前もって設定される。ユーザは、幅値をコントローラ220に入力することにより縁部除外領域を予め設定することができ、または、基板100上に製造されるべきデバイスの基板の大きさ及び種類のような入力された値に基づいて自動的に、予め設定される縁部除外領域の幅が決定されていてもよい。ステップS706において、研磨アーム301及びヘッド304の揺動角度(例えば、角度のある湾曲運動)の範囲は、予め設定された縁部除外領域の幅に基づき、コントローラ220によって決定されることができる。前述したように、コントローラ220は、この決定を行うに当たり、研磨プロファイル情報を有する1つ以上のデータベースにアクセスすることができる。ステップS708において、コントローラ220は、研磨中に、研磨アーム301及びヘッド304に、その決定された揺動角度で回転するという制御信号を送信する。
[0062]ステップS710において、コントローラ220により、縁部除外領域の幅が達成されたか否か、または、到逹可能な許容範囲内にあるか否かが決定される。この決定は、例えば、センサを使用して実際の縁部除外の幅を測定し、例えば、測定された縁部除外領域の幅を予め設定された所望の縁部除外領域の幅と比較することにより、行うことができる。他の測定手段が使用されていてもよい。もし、ステップS710において縁部除外幅が達成されておらず、許容範囲内でもない場合、この方法は、ステップS712へ進め、このステップS712において、コントローラ220は、予め設定された縁部除外領域の幅(例えば、測定された除外領域の幅と予め設定された除外領域の幅との間の差に基づいて)を達成するために、研磨アーム301とヘッド304の揺動角度範囲に対して行われるべき調整を決定する。ステップS714において、コントローラ220は、研磨中に、その調整された範囲の揺動角度で動作するように、研磨アーム301とヘッド304に制御信号を送信する。ステップS714の後、この方法は、S710に戻る。もし、ステップS710において縁部除外領域の幅が達成され、許容範囲内であるとコントローラ220が判断すれば、ステップS716において、この方法は終了する。一部の実施形態において、実際の縁部除外幅は、それぞれの基板に対してチェックされるものではない(もし、全部がチェックされるとしたら、例えば、初期にだけチェックするか、周期的にまたはその他の時間にチェックされる)。
[0063]図8は、本発明による、基板100上に研磨アーム301を位置を介して縁部除外領域の幅を制御する例示的な方法800を図示したフローチャートである。ステップS802において、方法800が開始される。ステップS804において、所望の縁部除外領域の幅が前もって設定される。図7に関して前述したように、ユーザは、幅値をコントローラ220に入力することにより縁部除外領域の幅を予め設定することができ、または、基板100上に製造されるべきデバイスの基板の大きさ及び種類(等)のような入力値に基づいて自動的に、予め設定される縁部除外領域の幅が決定されていてもよい。ステップS806において、基板100に対する研磨アーム301及びヘッド304の半径位置が、予め設定された縁部除外領域の幅に基づき、コントローラ220によって決定される。ステップS808において、コントローラ220は、研磨アーム301に、研磨アーム301を(例えば、水平面で)移動及び/または回転させるように制御信号を送信し、それによって、その決定された半径位置にヘッド304を移動させる。その後、研磨が行われる。
[0064]ステップS810において、コントローラにより、縁部除外領域の幅が達成されたか否か、または、到逹可能な許容範囲内にあるか否かが決定される。この決定は、例えば、センサを使用して実際の縁部除外の幅を測定し、例えば、測定された縁部除外領域の幅を予め設定された所望の縁部除外領域の幅と比較することにより、行うことができる。もし、ステップS810において縁部除外幅が達成されておらず、許容範囲内でもない場合、この方法は、ステップS812へ進め、このステップS812において、コントローラ220は、予め設定された縁部除外領域の幅(例えば、測定された除外領域の幅と予め設定された除外領域の幅との間の差に基づいて)を達成するために適合された、ヘッド304の半径位置に対して行われるべき調整を決定する。ステップS814において、コントローラ220は、その調整された半径位置に移動するように、研磨アーム301とヘッド304に制御信号を送信し、研磨が行われる。ステップS814の後、この方法は、S810に戻る。もし、ステップS810において縁部除外領域の幅が達成され、許容範囲内であるとコントローラ220が判断すれば、ステップS816において、この方法は終了する。一部の実施形態において、実際の縁部除外幅は、それぞれの基板に対してチェックされるものではない(もし、全部がチェックされるとしたら、例えば、初期にだけチェックするか、周期的にまたはその他の時間にチェックされる)。
[0065]図9は、本発明による、ヘッドスペーサオフセットを介して縁部除外領域の幅を制御する例示的な方法900を図示したフローチャートである。ステップS902において、方法900が開始される。ステップS904において、所望の縁部除外領域の幅が前もって設定される。図7及び図8に関して前述したように、ユーザは、幅値をコントローラ220に入力することにより縁部除外領域を予め設定することができ、または、基板100上に製造されるべきデバイスの基板の大きさ及び種類のような入力された値に基づいて自動的に、予め設定される縁部除外領域の幅が決定されていてもよい。ステップS906において、バッキングローラー408に結合されるように適合されたオフセット開口608を有するヘッドスペーサ410が設けられて、オフセット距離Dは、縁部除外幅と比較される。ステップS908において、コントローラ220は、オフセット位置でバッキングローラー408とともに、研磨アーム301及びヘッド304を動作させる制御信号を送信する。
[0066]ステップS910において、コントローラ220により、縁部除外領域の幅が達成されたか否か、または、到逹可能な許容範囲内にあるか否かが決定される。この決定は、例えば、センサを使用して実際の縁部除外の幅を測定し、測定された縁部除外領域の幅を予め設定された所望の縁部除外領域の幅と比較することにより、行うことができる。もし、ステップS910において縁部除外幅が達成されておらず、許容範囲内でもない場合、この方法は、ステップS912へ進め、このステップS912において、コントローラ220は、予め設定された縁部除外領域の幅を達成するように適合された、1つ以上の揺動角度範囲、または半径ヘッド位置に対して行われるべき調整を決定する。ステップS914において、コントローラ220は、その決定された調整によって移動及び/または回転するように、研磨アーム301とヘッド304に制御信号を送信する。その後、研磨が行われる。ステップS914の後、この方法は、S910に戻る。もし、ステップS910において縁部除外領域の幅が達成され、許容範囲内であるとコントローラ220が判断すれば、ステップS916において、この方法は終了する。一部の実施形態において、実際の縁部除外幅は、それぞれの基板に対してチェックされるものではない(もし、全部がチェックされるとしたら、例えば、初期にだけチェックするか、周期的にまたはその他の時間にチェックされる)。
[0067]上述した説明は、単に本発明の例示的な実施形態を開示したものである。本発明の範囲に含まれる、以上で開示した装置及び方法の変更は、当業界における通常の技術を有する者にとっては非常に明らかなことである。たとえば、円形の基板を洗浄する実施例のみが開示されているが、本発明は、他の形状を有する基板(例えば、平面パネルディスプレー用のガラスまたはポリマープレート)を洗浄するように変更することも可能である。さらに、装置による単一基板の処理のみが示されているが、一部の実施形態において、装置は、複数の基板を同時に処理することも可能である。
[0068]したがって、本発明は、例示的な実施形態に基づいて開示されているが、次の請求の範囲により特定されているとおり、その他の実施形態であっても本発明の精神及び範囲内に含まれることができるのを理解しなければならない。
100…基板、102,102’…主面、104…縁部、106,106’…デバイス領域、108,108’…除外領域、110…外縁部、112、114…斜面、200…研磨モジュール、201…ハウジング、202、204、206…研磨装置、208…中央プラットフォーム、211…駆動装置、212、214、216…スプール、220…コントローラ、300…光学センサ、301…研磨アーム、303…フレーム、304…ヘッド、306…研磨テープ、308…供給スプール、310…巻取りスプール、402…ロッカーアーム、406…張力ローラー、408…バッキングローラー、410…ヘッドスペーサ、602…第1のセクション、604…第2のセクション、606…自由端、608… 開口
Claims (22)
- 基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法であって、
研磨ヘッドを回転させる角度の範囲を決定するステップと、
前記基板の縁部除外領域に対する予め設定された幅を達成するように、前記決定された角度の範囲で前記研磨ヘッドを回転させるステップと、
前記研磨ヘッドを用いて前記基板の縁部を研磨するステップと
を備える方法。 - 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するステップと、
前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かに対する判断に基づいて、前記縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、前記研磨ヘッドを回転させる角度の範囲を調整するステップと
をさらに備える、請求項1に記載の方法。 - 前記縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、研磨中に、前記研磨ヘッドを介して研磨テープを前記基板に付けるステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- コントローラを介して前記研磨ヘッドを作動させるステップをさらに備える、請求項1に記載の方法。
- 前記研磨ヘッドが、バッキングローラーを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記基板に接触させるために、前記バッキングローラーを研磨テープに対して押圧するステップをさらに備える、請求項5に記載の方法。
- 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するために、実際の縁部除外幅を測定するステップをさらに備える、請求項2に記載の方法。
- 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するために、前記実際の縁部除外幅と前記予め設定された縁部除外幅とを比較するステップをさらに備える、請求項7に記載の方法。
- 1つ以上のセンサを介して前記実際の縁部除外幅を測定するステップをさらに備える、請求項7に記載の方法。
- 基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法であって、
前記基板に対する縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、基板に対して研磨ヘッドを位置させるべき半径位置を決定するステップと、
前記研磨ヘッドを前記決定された半径位置に移動させるステップと、
前記研磨ヘッドを用いて前記基板を研磨するステップと、
を備える方法。 - 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するステップと、
前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かに対する決定に基づいて、前記縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、前記研磨ヘッドの半径位置を調整するステップと、
をさらに備える、請求項10に記載の方法。 - 前記研磨ヘッドが前記基板に接触しているときに、前記研磨ヘッドを回転させるステップをさらに備える、請求項10に記載の方法。
- 前記縁部除外領域の予め設定された幅を達成するように、前記回転する研磨ヘッドを介して研磨テープを前記基板に付けるステップをさらに備える、請求項12に記載の方法。
- 基板上の縁部除外領域の幅を制御する方法であって、
ヘッドスペーサ及びバッキングローラーを有する研磨ヘッドを提供するステップであって、前記バッキングローラーが、中心から外れた位置で前記ヘッドスペーサに結合されて、研磨中に、基板に研磨テープを付けるように適合されている、ステップと、
研磨中に、前記研磨ヘッドを使用して、前記研磨テープを前記基板の縁部除外領域に付けるステップと、
を備える方法。 - 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するステップと、
前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かの決定に基づいて、前記研磨ヘッドを回転させる角度範囲及び前記研磨ヘッドの半径位置のうちの少なくとも1つを調整するステップと、
をさらに備える、請求項14に記載の方法。 - コントローラを介して前記研磨ヘッドを作動させるステップをさらに備える、請求項14に記載の方法。
- 前記縁部除外領域の予め設定された幅が達成されたか否かを決定するために、実際の縁部除外幅を測定するステップをさらに備える、請求項15に記載の方法。
- 基板上の縁部除外領域の幅を制御するシステムであって、
ヘッドスペーサを有し、基板の縁部に接触するように適合された研磨ヘッドと、
中心から外れた位置で前記ヘッドスペーサに結合されるバッキングパッドと、
前記研磨ヘッドに結合される研磨アームと、
前記研磨ヘッド及び研磨アームを作動させて、前記基板の縁部除外領域を制御するように適合されたコントローラと、
を備えるシステム。 - 研磨テープをさらに備え、
前記研磨ヘッドが、前記基板の縁部に前記研磨テープを押し付けるように適合された、請求項18に記載のシステム。 - 前記研磨ヘッドが、前記基板縁部の周りに異なる角度で角をなしながら平行移動するように適合された、請求項18に記載のシステム。
- 前記研磨アームが、異なる幅を有する除外領域を提供するために移動するように適合された、請求項18に記載のシステム。
- 前記バッキングパッドが、研磨中に、前記基板の縁部に研磨テープを付けるように適合された、請求項18に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US93920907P | 2007-05-21 | 2007-05-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008288600A true JP2008288600A (ja) | 2008-11-27 |
Family
ID=40072852
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008132089A Withdrawn JP2008288600A (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-20 | 基板の縁部除外領域の大きさを制御する方法及び装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080293333A1 (ja) |
JP (1) | JP2008288600A (ja) |
TW (1) | TW200903619A (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008306179A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-12-18 | Applied Materials Inc | バッキングパッドを使用して基板の両面の縁部から膜及び薄片を除去する方法及び装置 |
JP2008284683A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials Inc | 基板の振動により基板のノッチを研磨する方法及び装置 |
TW200908124A (en) * | 2007-05-21 | 2009-02-16 | Applied Materials Inc | Methods and apparatus for using a bevel polishing head with an efficient tape routing arrangement |
JP2009004765A (ja) * | 2007-05-21 | 2009-01-08 | Applied Materials Inc | 基板研磨のためにローリングバッキングパッドを使用する方法及び装置 |
JP2008284684A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials Inc | 研磨アームを使用して基板の縁部を研磨する方法及び装置 |
US20080293329A1 (en) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for identifying a substrate edge profile and adjusting the processing of the substrate according to the identified edge profile |
JP2008306180A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-12-18 | Applied Materials Inc | 膜の基板斜面及び縁部の研磨プロファイルを制御する方法及び装置 |
US20090264053A1 (en) * | 2008-04-21 | 2009-10-22 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for using a polishing tape cassette |
US20100105291A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for polishing a notch of a substrate |
US20100105290A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for indicating a polishing tape end |
JP2011224680A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Ebara Corp | 研磨方法及び研磨装置 |
US9457447B2 (en) * | 2011-03-28 | 2016-10-04 | Ebara Corporation | Polishing apparatus and polishing method |
US9809898B2 (en) * | 2013-06-26 | 2017-11-07 | Lam Research Corporation | Electroplating and post-electrofill systems with integrated process edge imaging and metrology systems |
US9822460B2 (en) | 2014-01-21 | 2017-11-21 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for electroplating and seed layer detection |
US9735035B1 (en) | 2016-01-29 | 2017-08-15 | Lam Research Corporation | Methods and apparatuses for estimating on-wafer oxide layer reduction effectiveness via color sensing |
CN113103071B (zh) * | 2021-03-22 | 2022-05-27 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其磨边方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4533399A (en) * | 1983-04-12 | 1985-08-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens cleaning method |
US6739947B1 (en) * | 1998-11-06 | 2004-05-25 | Beaver Creek Concepts Inc | In situ friction detector method and apparatus |
JP2001205549A (ja) * | 2000-01-25 | 2001-07-31 | Speedfam Co Ltd | 基板エッジ部の片面研磨方法およびその装置 |
JP2002043267A (ja) * | 2000-07-21 | 2002-02-08 | Ebara Corp | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び基板処理装置 |
US6257953B1 (en) * | 2000-09-25 | 2001-07-10 | Center For Tribology, Inc. | Method and apparatus for controlled polishing |
JP2002329687A (ja) * | 2001-05-02 | 2002-11-15 | Speedfam Co Ltd | デバイスウエハの外周研磨装置及び研磨方法 |
JP3949941B2 (ja) * | 2001-11-26 | 2007-07-25 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法および研磨装置 |
JP4090247B2 (ja) * | 2002-02-12 | 2008-05-28 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
JP4125148B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2008-07-30 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
JP4284215B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2009-06-24 | 株式会社東芝 | 基板処理方法 |
JP2006142388A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 研磨テープ及び方法 |
KR20080005974A (ko) * | 2005-04-25 | 2008-01-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 기판의 에지를 세정하기 위한 방법 및 장치 |
US20070131653A1 (en) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Ettinger Gary C | Methods and apparatus for processing a substrate |
US7993485B2 (en) * | 2005-12-09 | 2011-08-09 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for processing a substrate |
JP2009532210A (ja) * | 2006-03-30 | 2009-09-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 基板の縁部を研摩するための方法及び装置 |
JP2008284684A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials Inc | 研磨アームを使用して基板の縁部を研磨する方法及び装置 |
JP2008284683A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials Inc | 基板の振動により基板のノッチを研磨する方法及び装置 |
US20080293329A1 (en) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for identifying a substrate edge profile and adjusting the processing of the substrate according to the identified edge profile |
JP2008306179A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-12-18 | Applied Materials Inc | バッキングパッドを使用して基板の両面の縁部から膜及び薄片を除去する方法及び装置 |
JP2008306180A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-12-18 | Applied Materials Inc | 膜の基板斜面及び縁部の研磨プロファイルを制御する方法及び装置 |
TW200908124A (en) * | 2007-05-21 | 2009-02-16 | Applied Materials Inc | Methods and apparatus for using a bevel polishing head with an efficient tape routing arrangement |
US20080291448A1 (en) * | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for finding a substrate notch center |
JP2008290233A (ja) * | 2007-05-21 | 2008-12-04 | Applied Materials Inc | 半導体製造における基板斜面及び縁部の研磨用の高性能及び低価格の研磨テープのための方法及び装置 |
TW200908125A (en) * | 2007-05-21 | 2009-02-16 | Applied Materials Inc | Methods and apparatus for polishing a notch of a substrate using a polishing pad |
JP2009004765A (ja) * | 2007-05-21 | 2009-01-08 | Applied Materials Inc | 基板研磨のためにローリングバッキングパッドを使用する方法及び装置 |
-
2008
- 2008-05-20 JP JP2008132089A patent/JP2008288600A/ja not_active Withdrawn
- 2008-05-20 US US12/124,132 patent/US20080293333A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-21 TW TW097118762A patent/TW200903619A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200903619A (en) | 2009-01-16 |
US20080293333A1 (en) | 2008-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008288600A (ja) | 基板の縁部除外領域の大きさを制御する方法及び装置 | |
TWI446992B (zh) | 利用由彎曲資料的反饋之奈米形貌控制及最佳化 | |
US8834230B2 (en) | Wafer polishing method and double-side polishing apparatus | |
KR102450002B1 (ko) | 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 | |
JP2008306181A (ja) | 基板ノッチの中心を見つける方法及び装置 | |
US20080293336A1 (en) | Methods and apparatus to control substrate bevel and edge polishing profiles of films | |
JP2008284682A (ja) | 効率的なテープのルーティング配置を有する斜面研磨ヘッドを使用する方法及び装置 | |
JP2004241434A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20010033902A (ko) | 반도체 웨이퍼 및 그 제조방법 | |
US20080293341A1 (en) | Methods and apparatus for using a rolling backing pad for substrate polishing | |
JP2005203729A (ja) | 基板研磨装置 | |
JP2019093517A (ja) | 被加工物の加工方法、及び、研削研磨装置 | |
JP6937370B2 (ja) | 研削装置、研削方法及びコンピュータ記憶媒体 | |
KR20170061653A (ko) | 반도체 웨이퍼의 매엽식 편면 연마 방법 및 반도체 웨이퍼의 매엽식 편면 연마 장치 | |
WO2020054811A1 (ja) | ウェーハの鏡面面取り方法、ウェーハの製造方法、及びウェーハ | |
JP6099960B2 (ja) | ウェーハの面取り加工方法およびウェーハの面取り装置 | |
JP5037974B2 (ja) | 研磨加工ステージにおける半導体基板の監視機器および監視方法 | |
KR102340660B1 (ko) | 연마 장치 및 연마 방법 | |
TWI794530B (zh) | 基板定位設備及方法 | |
JP7434351B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JP2000133696A (ja) | ウエハ位置決め装置 | |
US6620029B2 (en) | Apparatus and method for front side chemical mechanical planarization (CMP) of semiconductor workpieces | |
US20100105294A1 (en) | Methods and apparatus to minimize the effect of tape tension in electronic device polishing | |
JP7434352B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
JPH03104545A (ja) | 平面研削装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20101130 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101210 |
|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20110802 |