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JP2008243618A - Photoelectric conversion element - Google Patents

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JP2008243618A
JP2008243618A JP2007082864A JP2007082864A JP2008243618A JP 2008243618 A JP2008243618 A JP 2008243618A JP 2007082864 A JP2007082864 A JP 2007082864A JP 2007082864 A JP2007082864 A JP 2007082864A JP 2008243618 A JP2008243618 A JP 2008243618A
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JP
Japan
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electrode
photoelectric conversion
semiconductor layer
conversion element
electrolytic solution
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Pending
Application number
JP2007082864A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Nakamura
将啓 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/542Dye sensitized solar cells

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoelectric conversion element capable of providing high output, and hardly causing aged deterioration. <P>SOLUTION: The photoelectric conversion element includes: an electrode 1; a semiconductor layer 2 arranged in contact with one surface of the electrode 1, and having a sensitizing dye fixed thereto; a counter electrode 3 arranged to face the electrode 1 on the semiconductor layer 2 side; and a charge transport layer 4 arranged between the electrode 1 and the counter electrode 3. The charge transport layer 4 is formed of an electrolytic solution 41 containing a water-containing porous body 42. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、光電変換素子に関する。   The present invention relates to a photoelectric conversion element.

現在実用化されている太陽電池の大部分は、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン等のシリコンを用いたものである。しかし、これらシリコン系太陽電池の製造プロセスは複雑でコストが高いため、製造コストの低減が大きな課題となっている。   Most of the solar cells currently in practical use use silicon such as single crystal silicon, polycrystalline silicon, and amorphous silicon. However, since the manufacturing processes of these silicon-based solar cells are complicated and expensive, reduction of manufacturing costs has become a major issue.

そこで、近年、高純度材料および高エネルギープロセスを比較的必要としない太陽電池として、色素増感太陽電池が注目されている。この色素増感太陽電池は、半導体電極の表面に光を吸収する増感色素を吸着させ、半導体電極のバンドギャップより長波長の可視光を増感色素で吸収させることで光電変換効率の向上を図った光電変換素子にて構成されるものである。   Therefore, in recent years, dye-sensitized solar cells have attracted attention as solar cells that do not require high-purity materials and high-energy processes. This dye-sensitized solar cell adsorbs a sensitizing dye that absorbs light on the surface of a semiconductor electrode, and absorbs visible light having a wavelength longer than the band gap of the semiconductor electrode with the sensitizing dye, thereby improving photoelectric conversion efficiency. The photoelectric conversion element shown in FIG.

色素増感太陽電池の一例としてグレッツェル・セルを挙げることができる。その一般的な構造は、透光性で導電性の高い電極と、その電極の一方の面に二酸化チタン等の酸化物半導体ナノ粒子を用いた多孔質膜を形成しこれに増感色素を担持させた半導体層と、この半導体層側で前記電極に対向するように配置された白金等の金属がドープされた導電性ガラス等の対電極と、両電極間に電解液が充填されてなる電荷輸送層とから構成されている。ここで、色素増感太陽電池における電解液は、例えばエチレンカーボネートとアセトニトリルとの混合有機溶媒にヨウ化テトラ−n−プロピルアンモニウムとヨウ素を溶解したものを挙げることができる。しかしながら、有機溶媒の高い蒸気圧のために徐々に電解液が抜けて所定の性能が出なくなったり、水の進入により電池内部で電解質が析出したりして効率が落ちるという問題があった。そこで、例えば、特許文献1のように水を含有する電解液を用いることが提案されている。
特開2002−110262号公報
An example of a dye-sensitized solar cell is a Gretzel cell. Its general structure is a translucent and highly conductive electrode, and a porous film using oxide semiconductor nanoparticles such as titanium dioxide is formed on one side of the electrode, and this is loaded with a sensitizing dye. And a counter electrode made of a conductive glass or the like doped with a metal such as platinum arranged to face the electrode on the semiconductor layer side, and an electric charge formed by filling an electrolyte between both electrodes And a transport layer. Here, examples of the electrolyte solution in the dye-sensitized solar cell include a solution in which tetra-n-propylammonium iodide and iodine are dissolved in a mixed organic solvent of ethylene carbonate and acetonitrile. However, due to the high vapor pressure of the organic solvent, there has been a problem that the electrolyte is gradually discharged and the predetermined performance is not obtained, or the electrolyte is deposited inside the battery due to the ingress of water and the efficiency is lowered. Thus, for example, it has been proposed to use an electrolytic solution containing water as in Patent Document 1.
JP 2002-110262 A

上記特許文献1のように水を含有する電解液を用いることで高い出力を得ることができる。しかしながら、出力の経時劣化についてはいまだ十分に改善されていないのが実情である。   High output can be obtained by using an electrolytic solution containing water as in Patent Document 1 described above. However, the actual situation is that the deterioration over time of the output has not been sufficiently improved.

本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、高い出力を実現し、経時劣化の少ない光電変換素子を提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and an object of the present invention is to provide a photoelectric conversion element that realizes high output and little deterioration with time.

本発明は、上記の課題を解決するために、以下のことを特徴としている。   The present invention is characterized by the following in order to solve the above problems.

第1に、本発明の光電変換素子は、電極と、前記電極の一方の面に接して配置された増感色素が固定された半導体層と、この半導体層側において前記電極に対向するように配置された対電極と、前記電極と前記対電極との間に配置された電荷輸送層と、を備えた光電変換素子であって、電荷輸送層は含水多孔質体を含有する電解液からなるものである。   First, the photoelectric conversion element of the present invention has an electrode, a semiconductor layer in which a sensitizing dye disposed in contact with one surface of the electrode is fixed, and the semiconductor layer side so as to face the electrode. A photoelectric conversion element comprising a counter electrode disposed and a charge transport layer disposed between the electrode and the counter electrode, wherein the charge transport layer is made of an electrolytic solution containing a hydrous porous body. Is.

第2に、含水多孔質体は、0.1〜30wt%の割合で電解液中に含有されるものである。   Secondly, the water-containing porous body is contained in the electrolytic solution at a ratio of 0.1 to 30 wt%.

第3に、上記光電変換素子は、基板の一方の表面に対電極が形成され、他方の表面に加熱素子を備えたものである。   Third, the photoelectric conversion element has a counter electrode formed on one surface of a substrate and a heating element on the other surface.

上記第1の発明によれば、含水多孔質体を含有する電解液を用いることで高い出力を実現し、経時劣化の少ない光電変換素子を得ることができる。   According to the first aspect of the invention, it is possible to achieve a high output by using the electrolytic solution containing the hydrous porous body and obtain a photoelectric conversion element with little deterioration with time.

上記第2の発明によれば、上記第1の発明の効果をさらに向上させることができる。   According to the second aspect, the effects of the first aspect can be further improved.

上記第3の発明によれば、加熱素子により含水多孔質体を加熱して、含水多孔質体から水分を強制的に放出することができ、より経時劣化の少ない光電変換素子を得ることができる。   According to the third aspect of the present invention, the water-containing porous body can be heated by the heating element to forcibly release moisture from the water-containing porous body, and a photoelectric conversion element with less deterioration with time can be obtained. .

本発明の実施の形態について図面を用いて説明する。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本発明の光電変換素子の第1の実施形態である。この実施形態では、図1に示すように、第1基板5の一方の表面に電極1が形成され、この電極1の表面には増感色素が固定された半導体層2が形成されている。この半導体層2側において電極1に対向するように対電極3が配置されている。対電極3は第2基板6の一方の表面上に形成されている。電極1と対電極3との間には、電荷輸送層4が形成されるとともに、この電荷輸送層4を保持するためにその周囲に封止材7が形成されている。増感色素が固定された半導体層2は多孔質構造をしており、半導体層2内には電荷輸送層4が浸透している。なお、この実施形態では第1基板5側から光が入射している。   FIG. 1 shows a first embodiment of the photoelectric conversion element of the present invention. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the electrode 1 is formed on one surface of the first substrate 5, and the semiconductor layer 2 on which the sensitizing dye is fixed is formed on the surface of the electrode 1. The counter electrode 3 is disposed so as to face the electrode 1 on the semiconductor layer 2 side. The counter electrode 3 is formed on one surface of the second substrate 6. A charge transport layer 4 is formed between the electrode 1 and the counter electrode 3, and a sealing material 7 is formed around the charge transport layer 4 in order to hold the charge transport layer 4. The semiconductor layer 2 to which the sensitizing dye is fixed has a porous structure, and the charge transport layer 4 penetrates into the semiconductor layer 2. In this embodiment, light is incident from the first substrate 5 side.

本発明における電荷輸送層4は、含水多孔質体42を含有する電解液41からなる。含水多孔質体42を用いずに水分だけを電解液41に加えた場合、初期特性が向上して高い出力が得られる反面、経時劣化が大きいという問題があるが、含水多孔質体42を用いると、徐々に水分を電解液41に供給することができ、経時劣化の少ない光電変換素子となる。ここで、含水多孔質体42とは、例えば、ゼオライト(モレキュラーシーブ)、シリカゲル、酸化アルミニウム等の多孔質体に水が吸湿された状態のものをいい、例えば多孔質体の細孔に水が吸着されている。多孔質体の大きさや平均細孔径は特に制限されるものではない。例えば細孔径については50nmより大きいマクロ細孔、2〜50nmのメソ細孔、2nmより小さいミクロ細孔のいずれのものでもよい。一般的にはゼオライトであればミクロ細孔、シリカゲルや酸化アルミニウムであればメソ細孔のものが考慮される。多孔質体における水の含水率は細孔径、比表面積等によって異なるが、例えば5〜50%程度である。   The charge transport layer 4 in the present invention is composed of an electrolytic solution 41 containing a hydrous porous body 42. When only water is added to the electrolytic solution 41 without using the hydrous porous body 42, the initial characteristics are improved and a high output is obtained, but there is a problem that deterioration with time is large, but the hydrous porous body 42 is used. Then, moisture can be gradually supplied to the electrolytic solution 41, and a photoelectric conversion element with little deterioration with time can be obtained. Here, the water-containing porous body 42 refers to a state in which water is absorbed by a porous body such as zeolite (molecular sieve), silica gel, and aluminum oxide, for example, water is present in the pores of the porous body. Adsorbed. The size and average pore diameter of the porous body are not particularly limited. For example, the pore diameter may be any of macropores larger than 50 nm, mesopores of 2 to 50 nm, and micropores smaller than 2 nm. Generally, micropores are considered for zeolite, and mesopores are considered for silica gel and aluminum oxide. The water content of water in the porous body varies depending on the pore diameter, specific surface area, etc., but is, for example, about 5 to 50%.

上記含水多孔質体42は、電解液41に0.1wt%〜30wt%の割合で含有されることが考慮される。中でも出力を向上させ、経時劣化を少なくさせるために3wt%〜30wt%の割合で含有されることが好ましい。0.1wt%未満では、経時劣化を少なくさせる効果が小さいため好ましくなく、30wt%を超える場合には、電解液41中の有機溶媒の比率が減って発電効率が低下する場合があり好ましくない。また、含水多孔質体42に含有する水分の電解液41に対する比率は、0.1wt%〜15wt%、より好ましくは3wt%〜15wt%の割合で含有されることが考慮される。0.1wt%未満では、経時劣化を少なくさせる効果が小さいため好ましくなく、15wt%を超える場合には、電解液41中の有機溶媒の比率が減って発電効率が低下する場合があり好ましくない。   It is considered that the water-containing porous body 42 is contained in the electrolytic solution 41 at a ratio of 0.1 wt% to 30 wt%. In particular, it is preferably contained in a proportion of 3 wt% to 30 wt% in order to improve output and reduce deterioration with time. If it is less than 0.1 wt%, the effect of reducing deterioration over time is small, which is not preferable. If it exceeds 30 wt%, the ratio of the organic solvent in the electrolytic solution 41 is reduced, and the power generation efficiency may be reduced. Moreover, it is considered that the ratio of the moisture contained in the hydrous porous body 42 to the electrolytic solution 41 is 0.1 wt% to 15 wt%, more preferably 3 wt% to 15 wt%. If it is less than 0.1 wt%, the effect of reducing deterioration over time is small, which is not preferable. If it exceeds 15 wt%, the ratio of the organic solvent in the electrolytic solution 41 is reduced, and power generation efficiency may be reduced.

上記含水多孔質体42は、例えば、多孔質体を高湿雰囲気下に曝して水分を吸湿させることで、安価でかつ簡便に含水多孔質体を調製することができる。   For example, the water-containing porous body 42 can be easily and inexpensively prepared by exposing the porous body to a high humidity atmosphere to absorb moisture.

本発明における電解液41の調製方法は、従来から知られた方法を採用できる。例えば、ヨウ化物およびヨウ素(I)を下記の有機溶媒等に溶解することにより調製できる。ヨウ化物としては、テトラプロピルアンモニウムヨージド等のテトラアルキルアンモニウムヨージド、メチルトリプロピルアンモニウムヨージドやジエチルジブチルアンモニウムヨージド等の非対称なアルキルアンモニウムヨージド、またはピリジニウムヨージド等のヨウ化4級アンモニウム塩化合物、ヨウ化リチウム、1,2−ジメチル−3−プロピル−イミダゾリウムヨージド等が好ましい。 As a method for preparing the electrolytic solution 41 in the present invention, a conventionally known method can be adopted. For example, it can be prepared by dissolving iodide and iodine (I 2 ) in the following organic solvent or the like. Examples of iodides include tetraalkylammonium iodides such as tetrapropylammonium iodide, asymmetrical alkylammonium iodides such as methyltripropylammonium iodide and diethyldibutylammonium iodide, and quaternary ammonium iodides such as pyridinium iodide. Salt compounds, lithium iodide, 1,2-dimethyl-3-propyl-imidazolium iodide and the like are preferable.

有機溶媒としては、少なくともN−メチルホルムアミドを含むことが好ましく、N−メチルホルムアミド単体を有機溶媒としない場合には以下の有機溶媒との混合系で使用することが好ましい。例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、1,3−ジオキソシラン、テトラヒドロフラン、2−メチル−テトラヒドロフラン等のエーテル化合物、3−メチル−2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドン等の複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、3−メトキシプロピオニトリル、吉草酸ニトリル等のニトリル化合物、スルフォラン、ジジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性化合物等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でN−メチルホルムアミドと混合してもよいし、2種類以上をN−メチルホルムアミドと混合して用いてもよい。例えば、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、γ−ブチロラクトン等のエステル化合物、3−メチルー2−オキサゾジリノン、2−メチルピロリドン等の複素環化合物、アセトニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、3−メトキシプロピオニトリル、吉草酸ニトリル等のニトリル化合物との混合系を用いることができる。   The organic solvent preferably contains at least N-methylformamide, and when N-methylformamide alone is not used as an organic solvent, it is preferably used in a mixed system with the following organic solvent. For example, carbonate compounds such as dimethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, ethylene carbonate and propylene carbonate, ester compounds such as methyl acetate, methyl propionate and γ-butyrolactone, diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, 1,3 -Ether compounds such as dioxosilane, tetrahydrofuran, 2-methyl-tetrahydrofuran, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazodilinone, 2-methylpyrrolidone, acetonitrile, methoxyacetonitrile, propionitrile, 3-methoxypropionitrile, Yoshi Examples include nitrile compounds such as valeric acid nitrile, aprotic polar compounds such as sulfolane, didimethyl sulfoxide, and dimethylformamide. Each of these may be mixed alone with N-methylformamide, or two or more may be mixed with N-methylformamide. For example, carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate, ester compounds such as γ-butyrolactone, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazolidinone and 2-methylpyrrolidone, acetonitrile, methoxyacetonitrile, propionitrile, 3-methoxypropyl A mixed system with nitrile compounds such as pionitrile and valeric nitrile can be used.

また、これらの有機溶媒に代えてイオン性液体(常温溶融塩ともいう)を用いてもよい。イオン性液体は、不揮発性、燃性等の観点から好ましい。イオン性液体としては、例えば、イミダゾリウム塩、ピリジン塩、アンモニウム塩、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、アゾニウムアミン系等が挙げられる。あるいは、EP−718288号公報、WO95/18456号公報、電気化学 第65巻 11号 923頁(1997年)、J.Electrochem.Soc.143巻 10号 3099頁(1996年)、Inorg.chem.35巻 1168頁(1996年)に記載されたイオン性液体を用いることもできる。   Further, an ionic liquid (also referred to as a room temperature molten salt) may be used in place of these organic solvents. The ionic liquid is preferable from the viewpoints of non-volatility and flammability. Examples of the ionic liquid include imidazolium salts, pyridine salts, ammonium salts, alicyclic amines, aliphatic amines, azonium amines, and the like. Alternatively, EP-718288, WO95 / 18456, Electrochemistry 65, 11, 923 (1997), J. Org. Electrochem. Soc. 143, No. 10, 3099 (1996), Inorg. chem. An ionic liquid described in Vol. 35, page 1168 (1996) can also be used.

さらに電解液41には、ピリジン、ピリジン誘導体、イミダゾール、およびイミダゾール誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種を含んでいることが好ましい。ピリジン誘導体としては、例えば、4−tert−ブチルピリジンを挙げることができ、イミダゾール誘導体としては、例えば、N−メチルベンゾイミダゾール等を挙げることができる。これらは、半導体層2の表面のうち増感色素が吸着していない表面に吸着することで、初期出力を向上させる効果を有する。   Furthermore, the electrolytic solution 41 preferably contains at least one selected from the group consisting of pyridine, pyridine derivatives, imidazoles, and imidazole derivatives. Examples of the pyridine derivative include 4-tert-butylpyridine, and examples of the imidazole derivative include N-methylbenzimidazole. These have the effect of improving the initial output by adsorbing on the surface of the semiconductor layer 2 where no sensitizing dye is adsorbed.

第1基板5の材料としては、透光性、耐候性およびガスバリア性が優れた材料であれば特に制限されるものではない。例えば、可視光(波長400nm〜800nm)の光に対して透過性のある透明なガラス板、または樹脂フィルムが挙げられる。可撓性を有する樹脂フィルムを用いる場合は、半導体層2をプレスにより形成できる。   The material of the first substrate 5 is not particularly limited as long as it is a material having excellent translucency, weather resistance, and gas barrier properties. For example, a transparent glass plate or resin film that is transmissive to visible light (wavelength 400 nm to 800 nm) can be used. When a resin film having flexibility is used, the semiconductor layer 2 can be formed by pressing.

上記樹脂フィルムの材料としては、例えば、再生セルロース、ジアセテートセルロース、トリアセテートセルロース、テトラアセチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー、ノルボルネン樹脂、ポリスチレン、塩酸ゴム、ナイロン、ポリアクリレート、ポリフッ化ビニル、およびポリ四フッ化エチレンからなる群から選ばれる1種、または2種以上を用いることができる。特には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、ポリアリレート、シクロオレフィンポリマー、およびノルボルネン樹脂からなる群から選ばれる1種、または2種以上を用いることが好ましい。これらの樹脂を用いた樹脂フィルムは、強靭でかつ耐熱性に優れている。   Examples of the resin film material include regenerated cellulose, diacetate cellulose, triacetate cellulose, tetraacetyl cellulose, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and polyether. Group consisting of sulfone, polyether ether ketone, polysulfone, polyether imide, polyimide, polyarylate, cycloolefin polymer, norbornene resin, polystyrene, hydrochloric acid rubber, nylon, polyacrylate, polyvinyl fluoride, and polytetrafluoroethylene 1 type, or 2 or more types selected from can be used. In particular, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, polyimide, polyarylate, cycloolefin polymer, and norbornene resin. Resin films using these resins are tough and excellent in heat resistance.

第2基板6の材料としては、例えば、第1基板5と同じ材料を使用できるが、ニッケル、亜鉛、チタン等の金属箔であってもよい。第2基板6の材料として第1基板5と同様の透光性を有する材料を用いた場合には、本発明の光電変換素子は両基板側から光を入射させることができるため好ましい。   As the material of the second substrate 6, for example, the same material as that of the first substrate 5 can be used, but a metal foil such as nickel, zinc, or titanium may be used. When a material having the same translucency as that of the first substrate 5 is used as the material of the second substrate 6, the photoelectric conversion element of the present invention is preferable because light can enter from both substrate sides.

第1基板5および第2基板6の厚みについては特に制限はない。例えば、基板の材料がガラス板である場合には0.1mm〜5mmが適当であり、特には0.7mm〜2mm程度のものが考慮される。樹脂フィルムや金属箔である場合には、その厚みは0.01mm〜5mmが適当であり、特には、0.07mm〜1mm程度のものが考慮される。   There are no particular restrictions on the thickness of the first substrate 5 and the second substrate 6. For example, when the material of the substrate is a glass plate, 0.1 mm to 5 mm is appropriate, and in particular, about 0.7 mm to 2 mm is considered. In the case of a resin film or metal foil, the thickness is suitably from 0.01 mm to 5 mm, and in particular, a thickness of about 0.07 mm to 1 mm is considered.

半導体層2は従来から知られた方法で形成できる。例えば、半導体粒子とバインダーとを含むペーストを、例えば、ドクターブレードやバーコータ等を用いて電極1に塗布することで形成できる。また、上記ペーストを、例えば、スプレー法、デイップコーティング法、スクリーン印刷法、スピンコート法,電着法等で電極1の表面に付着させてもよい。電極1上のペーストは、第1基板5がガラス基板である場合、500℃前後で焼成されて半導体層2となる。第1基板5が樹脂フィルムである場合、電極1上のペーストは、第1基板5とともにプレス機にて厚み方向に加圧され、またはマイクロ波の照射により加熱されて半導体層2となる。プレス方法については、特に制限はなく、平板プレス、ロールプレス等のいずれであってもよいが、ロールプレスする場合は、半導体層2を樹脂フィルム上に連続形成できるので好ましい。   The semiconductor layer 2 can be formed by a conventionally known method. For example, it can be formed by applying a paste containing semiconductor particles and a binder to the electrode 1 using, for example, a doctor blade or a bar coater. Further, the paste may be attached to the surface of the electrode 1 by, for example, a spray method, a dip coating method, a screen printing method, a spin coating method, an electrodeposition method or the like. When the first substrate 5 is a glass substrate, the paste on the electrode 1 is baked at around 500 ° C. to become the semiconductor layer 2. When the first substrate 5 is a resin film, the paste on the electrode 1 is pressed together with the first substrate 5 in the thickness direction by a press, or heated by microwave irradiation to become the semiconductor layer 2. The pressing method is not particularly limited and may be any of flat plate press, roll press, and the like. However, in the case of roll pressing, the semiconductor layer 2 can be continuously formed on the resin film, which is preferable.

半導体層2の形成に用いられる半導体粒子の材料としては、Cd、Zn、In、Pb、Mo、W、Sb、Bi、Cu、Hg、Ti、Ag、Mn、Fe、V、Sn、Zr、Sr、Ga、Si、Cr等の金属の酸化物、SrTiO、CaTiO等のペロブスカイト型酸化物、CdS、ZnS、In、PbS、MoS、WS、Sb、Bi、ZnCdS、CuS等の硫化物、CdSe、InSe、WSe、HgS、PbSe、CdTe等の金属カルコゲナイド、GaAs、Si、Se、Cd、Zn、InP、AgBr、PbI、HgI、およびBiIからなる群から選ばれる1種又は2種以上を含む複合体が挙げられる。なかでも、電解液41中へ光溶解し辛く、光電変換特性が優れたTiOが好ましい。複合体としては、例えば、CdS/TiO、CdS/AgI、AgS/AgI、CdS/ZnO、CdS/HgS、CdS/PbS、ZnO/ZnS、ZnO/ZnSe、CdS/HgS、CdS/CdSe1−x、CdS/Tel−x、CdSe/Te1−x、ZnS/CdSe、ZnSe/CdSe、CdS/ZnS、TiO/Cd、CdS/CdSeCdZn1−yS、CdS/HgS/CdS等が挙げられる、
半導体粒子の粒径は、一般的に、5nm〜1000nmであることが好ましく、特には10nm〜100nmが好ましい。粒径が5nm〜1000nmであれば、充分な量の増感色素を吸着可能な表面積を有する半導体層2を形成でき、光の利用効率を高めることができる。また、適度な大きさの空孔を有する半導体層2を形成できるので、電荷輸送層4における電解液41が半導体層2の中に十分に浸透し、優れた光電変換特性を得ることができる。
The material of the semiconductor particles used for forming the semiconductor layer 2 includes Cd, Zn, In, Pb, Mo, W, Sb, Bi, Cu, Hg, Ti, Ag, Mn, Fe, V, Sn, Zr, Sr. , Ga, Si, Cr and other metal oxides, SrTiO 3 , CaTiO 3 and other perovskite oxides, CdS, ZnS, In 2 S 3 , PbS, Mo 2 S, WS 2 , Sb 2 S 3 , Bi 2 Sulfides such as S 3 , ZnCdS 2 , Cu 2 S, metal chalcogenides such as CdSe, In 2 Se 3 , WSe 2 , HgS, PbSe, CdTe, GaAs, Si, Se, Cd 2 P 3 , Zn 2 P 3 , Examples thereof include a complex containing one or more selected from the group consisting of InP, AgBr, PbI 2 , HgI 2 , and BiI 3 . Among these, TiO 2 that is difficult to be photodissolved in the electrolytic solution 41 and excellent in photoelectric conversion characteristics is preferable. Examples of the composite include CdS / TiO 2 , CdS / AgI, Ag 2 S / AgI, CdS / ZnO, CdS / HgS, CdS / PbS, ZnO / ZnS, ZnO / ZnSe, CdS / HgS, CdS x / CdSe. 1-x , CdS x / Te 1-x , CdSe x / Te 1-x , ZnS / CdSe, ZnSe / CdSe, CdS / ZnS, TiO 2 / Cd 3 P 2 , CdS / CdSeCd y Zn 1-y S, CdS / HgS / CdS etc. are mentioned,
In general, the particle diameter of the semiconductor particles is preferably 5 nm to 1000 nm, and particularly preferably 10 nm to 100 nm. If the particle size is 5 nm to 1000 nm, the semiconductor layer 2 having a surface area capable of adsorbing a sufficient amount of sensitizing dye can be formed, and the light utilization efficiency can be increased. In addition, since the semiconductor layer 2 having moderately sized pores can be formed, the electrolytic solution 41 in the charge transport layer 4 can sufficiently penetrate into the semiconductor layer 2 to obtain excellent photoelectric conversion characteristics.

半導体層2の厚みは、0.1μm〜100μmであることが好ましい。半導体層2の厚みが0.1μm〜100μmであれば、十分な光電変換効果が得られ、また、可視光および近赤外光に対する透過性も十分に確保できる。半導体層2の厚さは、より好ましくは1μm〜50μmであり、さらに好ましくは3μm〜20μmであり、最も好ましくは5μm〜10μmである。本実施形態では、半導体層2の厚さは、太陽光の下で使用されることを前提とした従来の光電変換素子の半導体層2の最適な厚さ(例えば、10μm)よりも薄くてもよい。   The thickness of the semiconductor layer 2 is preferably 0.1 μm to 100 μm. If the thickness of the semiconductor layer 2 is 0.1 μm to 100 μm, a sufficient photoelectric conversion effect can be obtained, and transparency to visible light and near infrared light can be sufficiently secured. The thickness of the semiconductor layer 2 is more preferably 1 μm to 50 μm, further preferably 3 μm to 20 μm, and most preferably 5 μm to 10 μm. In the present embodiment, the thickness of the semiconductor layer 2 may be smaller than the optimum thickness (for example, 10 μm) of the semiconductor layer 2 of the conventional photoelectric conversion element that is assumed to be used under sunlight. Good.

電極1は、光電変換素子の負極として機能する。電極1の材料としては、導電性および透光性が高いものが好ましく、例えば、酸化亜鉛、インジウム−錫複合酸化物、インジウム−錫複合酸化物層と銀層とからなる積層体、アンチモンがドープされた酸化錫、フッ素がドープされた酸化錫等を用いることができる。なかでも、フッ素がドープされた酸化錫は、導電性および透光性が特に高く好ましい。電極1の光透過率は高いほどよく、好ましくは50%以上、より好ましくは80%以上である。   The electrode 1 functions as a negative electrode of the photoelectric conversion element. The material of the electrode 1 is preferably a material having high conductivity and high translucency, such as zinc oxide, indium-tin composite oxide, a laminate composed of an indium-tin composite oxide layer and a silver layer, and doped with antimony. Tin oxide, tin oxide doped with fluorine, or the like can be used. Among these, tin oxide doped with fluorine is particularly preferable because of its high conductivity and translucency. The higher the light transmittance of the electrode 1, the better, preferably 50% or more, more preferably 80% or more.

電極1の厚みは、十分な透光性を有し、光を十分に半導体層2へ入射させることができれば特に制限されるものではないが、例えば0.1μm〜10μmの範囲が考慮される。また、電極1の厚みがその範囲内であれば、厚みが均一な電極1を作製することができるので好ましい。   The thickness of the electrode 1 is not particularly limited as long as it has sufficient translucency so that light can be sufficiently incident on the semiconductor layer 2. For example, a range of 0.1 μm to 10 μm is considered. Moreover, if the thickness of the electrode 1 is within the range, it is preferable because the electrode 1 having a uniform thickness can be produced.

電極1の表面抵抗は低いほどよいが、好ましくは、200Ω/□以下であり、さらには、50Ω/□以下であることが好ましい。電極1の表面抵抗の下限値については特に制限はないが、通常、0.1Ω/□である。   The surface resistance of the electrode 1 is preferably as low as possible, but is preferably 200Ω / □ or less, and more preferably 50Ω / □ or less. Although there is no restriction | limiting in particular about the lower limit of the surface resistance of the electrode 1, Usually, it is 0.1 ohm / square.

太陽光の下で使用される光電変換素子は、電極1の表面抵抗が10Ω/口程度であることが多い。しかし、太陽光よりも照度の低い蛍光灯等下で使用される光電変換素子では、光電子量(光電流値)が小さいため、電極1に含まれる抵抗成分による悪影響をうけにくい。したがって、低照度環境下で使用される光電変換素子は、電極1の表面抵抗は、電極1に含まれる導電性材料の削減による低コスト化の観点から30Ω/□〜200Ω/□であることが好ましい。   The photoelectric conversion element used under sunlight often has a surface resistance of the electrode 1 of about 10Ω / mouth. However, in a photoelectric conversion element used under a fluorescent lamp or the like having a lower illuminance than sunlight, the amount of photoelectrons (photocurrent value) is small, so that it is difficult to be adversely affected by the resistance component included in the electrode 1. Therefore, in the photoelectric conversion element used in a low illumination environment, the surface resistance of the electrode 1 is 30Ω / □ to 200Ω / □ from the viewpoint of cost reduction by reducing the conductive material included in the electrode 1. preferable.

対電極3は、光電変換素子の正極として機能する。対電極3の材料としては、電極1と同様のものを用いることができるが、還元体に電子を与える触媒作用を有する材料を含んでいることが好ましい。上記触媒作用を有する材料としては、例えば、白金、金、銀、銅、アルミニウム、ロジウム、インジウム等の金属、グラファイト、白金を担持したカーボン、インジウム−錫複合酸化物、アンチモンがドープされた酸化錫、またはフッ素がドープされた酸化錫等の金属酸化物等が挙げられる。なかでも、コスト、性能等を考慮すると白金、グラファイト等が特に好ましい。   The counter electrode 3 functions as a positive electrode of the photoelectric conversion element. As the material of the counter electrode 3, the same material as that of the electrode 1 can be used, but it is preferable to include a material having a catalytic action to give electrons to the reductant. Examples of the material having the catalytic action include metals such as platinum, gold, silver, copper, aluminum, rhodium, and indium, graphite, carbon carrying platinum, indium-tin composite oxide, and tin oxide doped with antimony. Or a metal oxide such as tin oxide doped with fluorine. Of these, platinum, graphite and the like are particularly preferable in consideration of cost, performance, and the like.

半導体層2に固定される増感色素は、従来の光電変換素子において用いられている増感色素と同様でよく、無機色素、有機色素のいずれであってもよい。無機色素としては、例えば、組成式RuL(H0)で表されるルテニウム−シス−ジアクア−ビピリジル錯体(ここで、Lは、4,4’−ジカルボキシル−2,2’−ビピリジン)、または、ルテニウム−トリス(RuL)、ルテニウム−ビス(RuL)、オスニウム−トリス(OsL)、組成式オスニウム−ビス(OsL)で表される遷移金属錯体、または亜鉛−テトラ(4−カルボキシフェニル)ポルフィリン、鉄−へキサシアニド錯体、フタロシアニン等が挙げられる。有機色素としては、9−フェニルキサンテン系色素、クマリン系色素、アクリジン系色素、トリフェニルメタン系色素、テトラフェニルメタン系色素、キノン系色素、アゾ系色素、インジゴ系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、キサンテン系色素等が挙げられる。なかでも、可視光域に広い吸収スペクトルを有する、ルテニウム−ビス(RuL)誘導体が、特に好ましい。半導体層2に増感色素を固定する(担持させる)方法には、例えば、増感色素を溶媒に溶かした溶液に、半導体層2を浸漬して増感色素を吸着させる方法等がある。上記溶媒としては、例えば、水、アルコール、トルエン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。半導体層2を上記溶液に浸漬している間、上記溶液を加熱還流し、または上記溶液に超音波を印加する等して、増感色素の半導体層2への吸着を促進してもよい。増感色素を半導体層2へ吸着させた後、吸着されずに半導体層2に残った増感色素は、アルコール洗浄または加熱還流等にて半導体層2から取り除くとよい。増感色素の吸着量としては、1×10−8〜1×10−6mol/cmであることが好ましい。この範囲であると、経済的かつ十分な光電変換効率を実現できる。 The sensitizing dye fixed to the semiconductor layer 2 may be the same as the sensitizing dye used in the conventional photoelectric conversion element, and may be either an inorganic dye or an organic dye. Examples of the inorganic dye include a ruthenium-cis-diaqua-bipyridyl complex represented by the composition formula RuL 2 (H 2 0) 2 (where L is 4,4′-dicarboxyl-2,2′-bipyridine). ), Or a transition metal complex represented by ruthenium-tris (RuL 3 ), ruthenium-bis (RuL 2 ), osnium-tris (OsL 3 ), a composition formula osnium-bis (OsL 2 ), or zinc-tetra ( 4-carboxyphenyl) porphyrin, iron-hexocyanide complex, phthalocyanine and the like. As organic dyes, 9-phenylxanthene dyes, coumarin dyes, acridine dyes, triphenylmethane dyes, tetraphenylmethane dyes, quinone dyes, azo dyes, indigo dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes Examples thereof include dyes and xanthene dyes. Of these, a ruthenium-bis (RuL 2 ) derivative having a broad absorption spectrum in the visible light region is particularly preferable. Examples of the method for fixing (supporting) the sensitizing dye on the semiconductor layer 2 include a method in which the sensitizing dye is adsorbed by immersing the semiconductor layer 2 in a solution in which the sensitizing dye is dissolved in a solvent. Examples of the solvent include water, alcohol, toluene, dimethylformamide and the like. While the semiconductor layer 2 is immersed in the solution, the adsorption of the sensitizing dye to the semiconductor layer 2 may be promoted by heating and refluxing the solution or applying an ultrasonic wave to the solution. After the sensitizing dye is adsorbed to the semiconductor layer 2, the sensitizing dye that is not adsorbed and remains in the semiconductor layer 2 may be removed from the semiconductor layer 2 by washing with alcohol or heating and refluxing. The adsorption amount of the sensitizing dye is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −6 mol / cm 2 . Within this range, economical and sufficient photoelectric conversion efficiency can be realized.

封止材7は、電極1と対電極3との間において、電荷輸送層4を内包するようにその周囲に形成され、電解液41が外部に漏れないように密封している。封止材7の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂とすることができる。熱可塑性樹脂としては、アイオノマー、ポリオレフィン、フッ素樹脂等を例示することができ、熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂やケイ素樹脂等を例示することができる。   The sealing material 7 is formed between the electrode 1 and the counter electrode 3 so as to enclose the charge transport layer 4 and is sealed so that the electrolytic solution 41 does not leak to the outside. As a material of the sealing material 7, for example, a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used. Examples of the thermoplastic resin include ionomers, polyolefins, and fluorine resins, and examples of the thermosetting resin include epoxy resins and silicon resins.

また、本発明の光電変換素子は、第2基板6と対電極3との間に、例えば、透明導電膜がさらに設けられていてもよい。透明導電膜は、例えば、電極1と同じ材料にて形成できる。このとき対電極3も透明であることが好ましい。対電極3が透明であれば、第2基板6側から、または第1基板5側から、あるいはその両者から受光できる。   In the photoelectric conversion element of the present invention, for example, a transparent conductive film may be further provided between the second substrate 6 and the counter electrode 3. The transparent conductive film can be formed of the same material as the electrode 1, for example. At this time, the counter electrode 3 is also preferably transparent. If the counter electrode 3 is transparent, light can be received from the second substrate 6 side, the first substrate 5 side, or both.

図2は、本発明の光電変換素子の第2の実施形態を示す。本実施形態において第1の実施形態と共通する部分には同一の符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 2 shows a second embodiment of the photoelectric conversion element of the present invention. In the present embodiment, parts common to the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

第2の実施形態では、対電極3が形成されている第2基板6の他方の表面に加熱素子8が設けられる。加熱素子8は、熱電冷却素子(ペルチェ・モジュール)等を使用することができるがこれに限るものではない。このような加熱素子8を設けると、加熱素子8により含水多孔質体42を加熱することが可能になるため、含水多孔質体42から水分を強制的に放出することが可能となり、水分を含有することの効果を長期間維持することが可能になって、より経時劣化の少ない光電変換素子となる。   In the second embodiment, the heating element 8 is provided on the other surface of the second substrate 6 on which the counter electrode 3 is formed. The heating element 8 can be a thermoelectric cooling element (Peltier module) or the like, but is not limited thereto. When such a heating element 8 is provided, the water-containing porous body 42 can be heated by the heating element 8, so that moisture can be forcibly released from the water-containing porous body 42, and water is contained. It becomes possible to maintain the effect of doing for a long time, and it becomes a photoelectric conversion element with less deterioration with time.

<実施例>
平均一次粒子径が20nmのTiOナノ粒子をアルコール中に分散させ、スクリーン印刷用のペーストを作製した。このペーストを、厚さ1mmの導電性ガラス基板(旭硝子製、一方の表面がフッ素ドープされた酸化錫(SnO)にてコーティングされたガラス基板、表面抵抗10Ω/□)上に塗布して乾燥した。つづいて、その乾燥物をTiCl水溶液中に80℃で1hr浸漬後、純水で洗浄し風乾した。これを、電気炉を用いて、500℃で30分間、空気中にて焼成して、導電性ガラス基板上に厚さ10μmの半導体層を形成した。次に、エタノールに、増感色素[Ru(4、4’ニジカルボキシル−2、2’−ビピリジン)(NCS)]ビス−テトラブチルアンモニウム(3×10−4mol/dm)を加えて得た溶液に、半導体層を浸漬した後、半導体層を上記溶液から取り出し、室温で24時間暗所下静置して、増感色素を半導体層に吸着させた。一方で、上記導電性ガラス基板の他方の表面に、スパッタ法にて、白金層を形成した。
<Example>
TiO 2 nanoparticles with an average primary particle size of 20 nm were dispersed in alcohol to prepare a screen printing paste. This paste is applied onto a 1 mm thick conductive glass substrate (manufactured by Asahi Glass, one surface coated with fluorine-doped tin oxide (SnO 2 ), surface resistance 10 Ω / □) and dried. did. Subsequently, the dried product was immersed in an aqueous TiCl 4 solution at 80 ° C. for 1 hr, washed with pure water and air-dried. This was baked in the air at 500 ° C. for 30 minutes using an electric furnace to form a semiconductor layer having a thickness of 10 μm on the conductive glass substrate. Next, a sensitizing dye [Ru (4,4′nidicarboxyl-2,2′-bipyridine) 2 (NCS) 2 ] bis-tetrabutylammonium (3 × 10 −4 mol / dm 3 ) is added to ethanol. After immersing the semiconductor layer in the obtained solution, the semiconductor layer was taken out from the solution and allowed to stand in the dark at room temperature for 24 hours to adsorb the sensitizing dye to the semiconductor layer. On the other hand, a platinum layer was formed on the other surface of the conductive glass substrate by sputtering.

つづいて導電性ガラス基板と白金層とを貫通するようにダイヤモンドドリルにて孔をあけた。なお、ガラス基板にコーティングされた、フッ素ドープSnO層と白金層とが対電極である。 Subsequently, a hole was made with a diamond drill so as to penetrate the conductive glass substrate and the platinum layer. Note that the fluorine-doped SnO 2 layer and the platinum layer coated on the glass substrate are counter electrodes.

次に、半導体層が形成された導電性ガラス基板と対電極との間に、半導体層を囲うように熱溶融性封止材を配置し、これらを加熱しながら厚み方向に加圧して、上記封止材を介して上記導電性ガラス基板と対電極とを接合した。つづいて、25℃85%Rhの恒温恒湿槽に24時間静置した粒子径1μm以下のモレキュラーシーブを10wt%添加した電解液を、導電性ガラス基板と対電極との間に注入して電荷輸送層を形成し、上記孔を塞いで、受光面積1cmの光電変換素子としての色素増感太陽電池を得た。
<比較例>
上記実施例において、電解液に含水させたモレキュラーシーブを添加しないこと以外は実施例と同様にして、受光面積1cmの色素増感太陽電池を作製した。
Next, between the conductive glass substrate on which the semiconductor layer is formed and the counter electrode, a hot-melt sealing material is disposed so as to surround the semiconductor layer, and these are pressed in the thickness direction while heating, The said conductive glass substrate and the counter electrode were joined through the sealing material. Subsequently, an electrolytic solution containing 10 wt% of a molecular sieve having a particle size of 1 μm or less, which was allowed to stand in a constant temperature and humidity chamber at 25 ° C. and 85% Rh for 24 hours, was injected between the conductive glass substrate and the counter electrode. A transport layer was formed, and the hole was closed to obtain a dye-sensitized solar cell as a photoelectric conversion element having a light receiving area of 1 cm 2 .
<Comparative example>
In the above example, a dye-sensitized solar cell having a light receiving area of 1 cm 2 was produced in the same manner as in the example except that the molecular sieve impregnated with water was not added.

実施例および比較例の色素増感太陽電池について、100、200、300時間の高温(80℃)環境に保存した後、電池出力を測定してその結果を初期電池出力に対する相対値として表1に示した。測定には作製した色素増感太陽電池を電流計(KEYTHLEY236モデル)に接続し、100mW/cmの強度のソーラーシミュレーター(山下電装製)を用いた。 About the dye-sensitized solar cell of an Example and a comparative example, after preserve | saving in the high temperature (80 degreeC) environment of 100, 200, 300 hours, a battery output was measured and the result was shown in Table 1 as a relative value with respect to an initial stage battery output. Indicated. For the measurement, the prepared dye-sensitized solar cell was connected to an ammeter (KEYTHLEY 236 model), and a solar simulator (manufactured by Yamashita Denso) having an intensity of 100 mW / cm 2 was used.

表1に示すように、含水多孔質体を含有する電解液を用いた場合(実施例)、80℃300時間後の初期電池出力に対するPmax相対値は、含水多孔質体を含有していない電解質を用いた場合(比較例)に比べて、高く保持され、変化率も少ないことが確認された。   As shown in Table 1, when an electrolytic solution containing a hydrous porous body was used (Example), the Pmax relative value with respect to the initial battery output after 80 hours at 80 ° C. was an electrolyte containing no hydrous porous body. Compared with the case of using (Comparative Example), it was confirmed that it was kept high and the rate of change was small.

本発明の光電変換素子の第1の実施形態を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed 1st Embodiment of the photoelectric conversion element of this invention. 本発明の光電変換素子の第2の実施形態を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed 2nd Embodiment of the photoelectric conversion element of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 電極
2 半導体層
3 対電極
4 電荷輸送層
41 電解液
42 含水多孔質体
1 Electrode 2 Semiconductor layer 3 Counter electrode 4 Charge transport layer 41 Electrolytic solution 42 Hydrous porous material

Claims (3)

電極と、前記電極の一方の面に接して配置された増感色素が固定された半導体層と、この半導体層側において前記電極に対向するように配置された対電極と、前記電極と前記対電極との間に配置された電荷輸送層と、を備えた光電変換素子であって、電荷輸送層は含水多孔質体を含有する電解液からなることを特徴とする光電変換素子。   An electrode, a semiconductor layer to which a sensitizing dye disposed in contact with one surface of the electrode is fixed, a counter electrode disposed to face the electrode on the semiconductor layer side, the electrode and the pair A photoelectric conversion device comprising a charge transport layer disposed between electrodes, wherein the charge transport layer comprises an electrolytic solution containing a hydrous porous material. 含水多孔質体は、0.1〜30wt%の割合で電解液中に含有されることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。   2. The photoelectric conversion element according to claim 1, wherein the hydrous porous body is contained in the electrolytic solution at a ratio of 0.1 to 30 wt%. 基板の一方の表面に対電極が形成され、他方の表面に加熱素子を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の光電変換素子。   The photoelectric conversion element according to claim 1, wherein a counter electrode is formed on one surface of the substrate and a heating element is provided on the other surface.
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