[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2008119740A - 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置 - Google Patents

樹脂被覆装置及びレーザー加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008119740A
JP2008119740A JP2006308943A JP2006308943A JP2008119740A JP 2008119740 A JP2008119740 A JP 2008119740A JP 2006308943 A JP2006308943 A JP 2006308943A JP 2006308943 A JP2006308943 A JP 2006308943A JP 2008119740 A JP2008119740 A JP 2008119740A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
frame
spinner table
resin coating
coating apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006308943A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4871096B2 (ja
Inventor
Tomoaki Endo
智章 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2006308943A priority Critical patent/JP4871096B2/ja
Publication of JP2008119740A publication Critical patent/JP2008119740A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4871096B2 publication Critical patent/JP4871096B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

【課題】テープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定しても、爪部がフレームに接着されないようにすることにより、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにする。
【解決手段】スピンナーテーブル40の外周部に、スピンナーテーブル400の回転時の遠心力によって錘部500が外周側に振られることによりアーム部501を介して錘部500と連結された爪部502がフレームFを押さえる構成のフレーム押さえ手段41を配設した樹脂被覆装置において、アーム部501と爪部502とを弾性体からなる連結部503によって連結する。スピンナーテーブル400の回転停止時、連結部503が爪部502を移動させ、接着状態が解除されるため、スピンナーテーブル40からフレームFと共にウェーハを取り外すことができる。
【選択図】図6

Description

本発明は、ウェーハに樹脂を被覆する樹脂被覆装置及び樹脂被覆の機能を有するレーザー加工装置に関するものである。
IC、LSI等のデバイスが加工予定ラインによって区画されて形成されたウェーハは、加工予定ラインを切断することにより個々のデバイスに分割される。加工予定ラインを切断する方法としては、欠け等が生じにくい等の理由により、レーザー光の照射による方法も採用されている。
ところが、ウェーハの表面の加工予定ラインにレーザー光を照射して加工を行うと、デブリが飛散してデバイスの表面に付着し、品質の低下を招くという問題がある。そこで、レーザー光による加工の前に、ウェーハの表面に予め樹脂からなる保護膜を被覆する技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。
ウェーハの表面に樹脂を被覆する際には、樹脂被覆装置または樹脂被覆機能を有するレーザー加工装置を用い、例えばスピンコートにより表面に樹脂からなる保護膜を被覆する。その際、図10に示すように、ウェーハWは、テープTを介してフレームFと一体となった状態でフレームFに支持される。ウェーハWの表面には、加工予定ラインSによって区画されてデバイスDが形成されている。
図11に示すように、樹脂被覆装置またはレーザー加工装置には、ウェーハWを保持して回転可能なスピンナーテーブル100を備えており、スピンナーテーブル100には、フレームFに支持されたウェーハWが載置されて吸着される。このとき、ウェーハWは、表面が露出した状態となる。
スピンナーテーブル100の外周部には、軸支部101において揺動可能に軸支され錘部102と爪部103とが連結されて構成される振り子部104を備えており、スピンナーテーブル100の回転時の遠心力により錘部102が軸支部101を中心として外周側に(図11における時計回りに)回転し、これによって爪部103がフレームFをスピンナーテーブル100の表面に押さえつけることによりフレームFを固定してウェーハWを固定することとしている(例えば特許文献2参照)。
特開2004−322168号公報 特開2006−128359号公報
しかし、テープTを介してフレームFに支持されたウェーハWを保持するスピンナーテーブル100を回転させ、回転するウェーハWに対してPVA(ポリビニルアルコール)等の液状樹脂を滴下して保護膜を被覆すると、液状樹脂がウェーハの外周側に飛散してフレームFにも付着して固化し、爪部103が樹脂によってフレームFと接着されてしまい、スピンナーテーブル100からフレームFと共にウェーハWを取り外すことができないという問題がある。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、テープを介してフレームに支持されたウェーハの表面に保護膜を被覆する場合において、スピンナーテーブルを回転させその遠心力により爪部によってフレームを固定しても、ウェーハをスピンナーテーブルから取り外せるようにすることである。
第一の発明は、フレームに支持されたウェーハを保持して回転するスピンナーテーブルと、スピンナーテーブルの外周部に配設されスピンナーテーブルの回転時の遠心力によってフレームを押さえるフレーム押さえ手段と、スピンナーテーブルに保持されたウェーハに液状樹脂を滴下する液状樹脂供給ノズルとを少なくとも備えた液状樹脂被覆装置に関するもので、フレーム押さえ手段は、錘部と錘部に連結されたアーム部とアーム部に連結されフレームを押さえる爪部とから構成される振り子部と、錘部が下側に位置し爪部が上側に位置するようにアーム部を揺動可能に軸支する軸支部とから構成され、爪部とアーム部とが弾性体によって連結されていることを特徴とする。
弾性体は、板バネであることが望ましい。また、この樹脂被覆装置には、洗浄水供給ノズルを備えることが望ましい。
第二の発明は、フレームに支持されたウェーハを保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持されたウェーハにレーザー光を照射して加工を施すレーザー光照射手段とを備え、チャックテーブルとレーザー光照射手段とが相対的に加工送り及び割り出し送りされる構成のレーザー加工装置であって、上記の樹脂被覆装置を備えたことを特徴とするものである。
本発明に係る樹脂被覆装置では、振り子部を構成する爪部とアーム部とを弾性部材によって連結したため、錘部がスピンナーテーブルの回転時の遠心力によって外周側に振られることにより爪部がフレームを押さえた状態で、飛散した液状樹脂がフレームと爪部との間に入り込んで固化したとしても、スピンナーテーブルの回転を停止させると、その直後に弾性体からなる連結部が爪部を移動させ、接着状態が解除される。したがって、その後に爪部が開放状態に復帰し、スピンナーテーブルからフレームと共にウェーハを取り外すことができる。
また、本発明に係る樹脂被覆装置を備えたレーザー加工装置では、ウェーハ表面に樹脂を被覆し、スピンナーテーブルからウェーハを取り外してからレーザー加工を行うことができるため、樹脂被覆からレーザー加工までを円滑に行うことができる。
図1に示すレーザー加工装置1は、ウェーハにレーザー光を照射して加工を施す装置であり、ウェーハを保持するチャックテーブル2と、チャックテーブル2に保持されたウェーハにレーザー光を照射して加工を施すレーザー光照射手段3と、ウェーハの表面に保護膜を被覆する樹脂被覆装置4とを備えている。
加工対象のウェーハWは、テープTを介してフレームFと一体となって支持された状態でウェーハカセット5aに収容される。なお、以降では、テープTを介してフレームFに支持されたウェーハWのことを、単にウェーハWと記すこととする。
ウェーハカセット5aは、カセット載置領域5に載置されている。ウェーハカセット5aの近傍には、ウェーハカセット5aからのウェーハWの搬出及び加工済みのウェーハWのウェーハカセット5aへの搬入を行う搬出入手段6が配設されている。搬出入手段6は、挟持部6aによってフレームFを挟持してY軸方向(搬出入方向)に移動可能となっている。
搬出入手段6とウェーハカセット5aとの間には、搬出入されるウェーハWを仮置きする領域である仮置き領域7が設けられている。
レーザー加工装置1の前部側には、ウェーハWを保持してX軸方向に移動可能であると共に回転可能であるチャックテーブル2が配設されている。そして、仮置き領域7とチャックテーブル2との間には、ウェーハWを仮置き領域7とチャックテーブル2との間で搬送する第一の搬送手段8が配設されている。
チャックテーブル2のX軸方向の移動経路の上方には、ウェーハに形成された加工予定ラインを検出するアライメント手段9が配設されている。アライメント手段9には、ウェーハWを撮像する撮像部9aを有しており、撮像部9aが取得した画像と、予め記憶させておいた画像とのパターンマッチングによって、加工予定ラインを検出する。
チャックテーブル2のX軸方向の移動経路の上方には、ウェーハを加工するためのレーザー光を照射するレーザー光照射手段3が配設されている。レーザー光照射手段3は、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能で下方に向けてレーザー光を照射する機能を有する加工ヘッド30と、レーザー光の出力を調整する出力調整手段31と、レーザー光を発振させてパルスレーザー光とする発振手段32と、パルスレーザー光の周波数を設定する周波数設定手段33とを備えている。
チャックテーブル2の近傍には、ウェーハWの表面に樹脂の保護膜を被覆する樹脂被覆装置4が配設されている。この樹脂被覆装置4は、加工後のウェーハを洗浄する洗浄装置としても機能しうるものである。樹脂被覆装置4の上方には、ウェーハWをチャックテーブル2と樹脂被覆装置4との間で搬送する第二の搬送手段11が配設されている。
図2に示すように、樹脂被覆装置4は、ウェーハWを保持して回転するスピンナーテーブル40と、スピンナーテーブル40の外周部に配設されスピンナーテーブル40の回転時の遠心力によってフレームFを押さえるフレーム押さえ手段41と、スピンナーテーブル40に保持されたウェーハWに液状樹脂を滴下する液状樹脂供給ノズル42とを備えている。なお、図2の例における樹脂被覆装置4は、ウェーハWのレーザー加工後の洗浄を行う洗浄装置としても機能するものであるため、洗浄水を噴出する洗浄水供給ノズル43及び高圧エアーを噴出するエアーノズル44も備えている。
スピンナーテーブル40は、軸部45を介して駆動部46に連結されており、駆動部46の内部のモータに駆動されて回転するように構成されている。また、駆動部46はエアピストン47によって昇降可能となっており、駆動部46の昇降に伴いスピンナーテーブル40も昇降する構成となっている。
スピンナーテーブル40は、フレームFを支持するフレーム支持部40aと、ウェーハ領域、すなわちテープTのうちウェーハWが貼着された部分を支持するウェーハ領域支持部40bとから構成される。ウェーハ領域支持部40bは、ポーラス部材により形成され、図示しない吸引源と連通してウェーハ領域を吸引保持することができる。一方、フレーム支持部40aは、リング状に形成された板状部材により構成される。スピンナーテーブル40の外周側下方には、垂れ落ちた液状樹脂を受け止める受け部48と、受け部48に滞留した液状樹脂を排出する排出部49とが配設されている。
図3に示すように、フレーム押さえ手段41は、軸支部51によって振り子部50のアーム部501が軸支されて構成される。振り子部50は、下側に位置する錘部500と、錘部500に連結されたアーム部501と、錘部500より上側に位置しフレームFを押さえる爪部502と、爪部502とアーム部501とを連結する連結部503とから構成されている。連結部503は、例えば板バネのような弾性体によって形成されている。
アーム部501は、軸支部51によって軸支され、揺動可能となっている。錘部500は、爪部502及びアーム部501より重量が重く、スピンナーテーブル40が回転せずに静止した状態では、図3に示すように、錘部500が下側に位置すると共に爪部502が上側に位置し、爪部502がフレーム支持部40aの上方から外周側に外れた位置にあって、フレームFと共にウェーハWの着脱を行うことができる状態(開放状態)となっている。
図1に示したウェーハカセット5aに収容されたウェーハWは、搬出入手段6によって仮置き領域7に搬出され、第一の搬送手段8によって樹脂被覆装置4に搬送され、図4に示すように、スピンナーテーブル40に載置される。このとき、スピンナーテーブル40は上昇した位置にあり、フレーム押さえ手段41は、図3に示したように爪部502が開放状態となっている。
スピンナーテーブル40にウェーハWが載置されると、フレームFがフレーム支持部40aに支持され、ウェーハWが貼着されている部分のテープTがウェーハ領域支持部40bによって吸引保持される。
そして、図5に示すように、スピンナーテーブル40を下降させ、スピンナーテーブル40を回転させると、図6に示すように、回転時の遠心力によって錘部500が外周側に振られて回転し、それによって爪部502が回転し、爪部502の先端がフレームFを押さえる。このとき、図6に示すように、連結部503が撓み、爪部502が上方に若干開いた状態でフレームFを固定する。
図6に示したように、スピンナーテーブル40の回転に伴い爪部502によってフレームFが押さえつけられて固定された状態で、図7に示すように、液状樹脂供給ノズル42の先端をウェーハWを回転中心の上方に位置付け、液状樹脂供給ノズル42から液状樹脂42aを滴下する。そうすると、滴下された液状樹脂は、スピンナーテーブル40の回転によりウェーハWの表面全面に行き渡り、表面全面が液状樹脂によって被覆される。また、液状樹脂は、ウェーハWの表面から更に外周側にも飛散し、図8における液状樹脂42bのようにフレームFの表面と爪部502との間にも入り込む。こうして入り込んだ液状樹脂42bは、時間の経過により固化し、爪部502とフレームFとが接着された状態となる。
図9に示すように、ウェーハWの表面に樹脂が被覆されると、スピンナーテーブル40の回転を停止させる。そうすると、停止直後は、爪部502が開放状態にもどろうとするが、その前に、図8に示すように、バネの復元力によって連結部503が撓んだ状態(図6の状態)から元の状態に戻り、それに伴い、爪部502が水平方向に横滑りする。したがって、爪部502のこの動きによって、爪部502とフレームFとが樹脂42bによって接着された状態が解除される。
こうして樹脂42bを介した爪部502とフレームFとの接着状態が解除されると、錘部500が下降するため、爪部502がフレームFから離れ、振り子部50が図3に示した開放状態に戻る。このようにして、表面に樹脂42cが被覆されたウェーハWをスピンナーテーブル40から取り外せる状態となる。
次に、液状樹脂供給ノズル42をウェーハWの上方から待避させてから、図1に示した第二の搬送手段11によって樹脂42cが被覆されたウェーハWを支持するフレームFを吸着してチャックテーブル2に搬送し、チャックテーブル2においてウェーハWを吸引保持する。
次に、チャックテーブル2が+X方向に移動してアライメント手段9の直下に位置付けられ、撮像部9aによってウェーハWの表面が撮像され、加工すべき加工予定ラインが検出され、加工ヘッド30とのY軸方向の位置合わせが行われる。そして更にチャックテーブル2を同方向に加工送りすると共に、検出された加工予定ラインに加工ヘッド30からレーザー光が照射され、その加工予定ラインがアブレーション加工される。
また、チャックテーブル2をX軸方向に加工送りするとともに、隣り合う加工予定ラインの間隔分だけレーザー光照射手段3をY軸方向に割り出し送りしながらレーザー光の照射を行うと、同方向の加工予定ラインがすべてアブレーション加工される。なお、チャックテーブル2とレーザー光照射手段3とは、相対的に加工送り及び割り出し送りされる関係であればよい。したがって、チャックテーブル2がY軸方向に移動し、レーザー光照射手段3がX軸方向に移動する構成としてもよい。
更に、チャックテーブル2を90度回転させてから、上記と同様にレーザー光を照射すると、すべての加工予定ラインが縦横にアブレーション加工され、個々のデバイスに分割される。
ウェーハWがデバイスに分割された後は、チャックテーブル2が元の位置に戻る。そして、第二の搬送手段11によってウェーハWが樹脂被覆装置4に搬送され、スピンナーテーブル40に載置される。
図2に示したスピンナーテーブル40のウェーハ領域支持部40bによってウェーハWの部分に貼着されたテープTが吸引保持されると、スピンナーテーブル40が回転し、図6に示したように、フレーム押さえ手段41の爪部502によってフレームFが固定される。そして、図2に示した洗浄水供給ノズル43がウェーハWの上方に移動してウェーハWに向けて高圧水が噴出され、樹脂が被覆されたウェーハWの表面側が洗浄される。また、洗浄後は、洗浄水供給ノズル43が退避すると共に、エアーノズル44がウェーハWの上方に移動して、回転するウェーハWに向けて高圧エアーが噴出され、洗浄水を除去する。
洗浄及び乾燥されたウェーハWは、図1に示した第一の搬送手段8によって仮置き領域7に搬送される。そして、搬出入手段6によってウェーハカセット5aに収容される。
樹脂被覆装置を搭載したレーザー加工装置の一例を示す斜視図である。 樹脂被覆装置の一例を示す斜視図である。 フレーム押さえ手段を示す正面図である。 ウェーハを保持する前の樹脂被覆装置の状態を略示的に示す断面図である。 ウェーハを保持した状態の樹脂被覆装置を略示的に示す断面図である。 爪部がフレームを押さえた状態を示す正面図である。 ウェーハの表面に液状樹脂を滴下する状態を示す斜視図である。 スピンナーテーブルの回転停止直後の状態を示す正面図である。 表面に樹脂が被覆されたウェーハを示す正面図である。 テープを介してフレームに支持されたウェーハを示す斜視図である。 従来のフレーム押さえ手段を示す断面図である。
符号の説明
1:レーザー加工装置
2:チャックテーブル
3:レーザー光照射手段
30:加工ヘッド 31:出力調整手段 32:発振手段 33:周波数設定手段
4:樹脂被覆装置
40:スピンナーテーブル 40a:フレーム支持部 40b:ウェーハ領域支持部
41:フレーム押さえ手段
42:液状樹脂供給ノズル 42a:液状樹脂 42b:樹脂 42c:樹脂
43:洗浄水供給ノズル 44:エアーノズル 45:軸部 46:駆動部
47:エアピストン 48:受け部 49:排出部
50:振り子部
500:錘部 501:アーム部 502:爪部 503:連結部
51:軸支部
5:カセット載置領域 5a:ウェーハカセット
6:搬出入手段 7:仮置き手段 8:第一の搬送手段
9:アライメント手段 9a:撮像部 11:第二の搬送手段

Claims (4)

  1. フレームに支持されたウェーハを保持して回転するスピンナーテーブルと、該スピンナーテーブルの外周部に配設され該スピンナーテーブルの回転時の遠心力によってフレームを押さえるフレーム押さえ手段と、該スピンナーテーブルに保持されたウェーハに液状樹脂を滴下する液状樹脂供給ノズルとを少なくとも備えた液状樹脂被覆装置であって、
    該フレーム押さえ手段は、
    錘部と、 該錘部に連結されたアーム部と、該アーム部に連結され該フレームを押さえる爪部とから構成される振り子部と、
    該錘部が下側に位置し該爪部が上側に位置するように該アーム部を揺動可能に軸支する軸支部と
    から構成され、
    該爪部と該アーム部とが弾性体によって連結されている樹脂被覆装置。
  2. 前記弾性体は、板バネである請求項1に記載の樹脂被覆装置。
  3. 洗浄水供給ノズルを備えた請求項1または2に記載の樹脂被覆装置。
  4. フレームに支持されたウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウェーハにレーザー光を照射して加工を施すレーザー光照射手段とを備え、該チャックテーブルと該レーザー光照射手段とが相対的に加工送り及び割り出し送りされる構成のレーザー加工装置であって、
    請求項1、2または3に記載の樹脂被覆装置を備えたレーザー加工装置。
JP2006308943A 2006-11-15 2006-11-15 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置 Active JP4871096B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006308943A JP4871096B2 (ja) 2006-11-15 2006-11-15 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006308943A JP4871096B2 (ja) 2006-11-15 2006-11-15 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008119740A true JP2008119740A (ja) 2008-05-29
JP4871096B2 JP4871096B2 (ja) 2012-02-08

Family

ID=39505062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006308943A Active JP4871096B2 (ja) 2006-11-15 2006-11-15 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4871096B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010045233A (ja) * 2008-08-14 2010-02-25 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂被覆装置
CN110176412A (zh) * 2018-02-20 2019-08-27 株式会社迪思科 保护膜形成装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04343224A (ja) * 1991-05-21 1992-11-30 Nec Kyushu Ltd スピンナクランパ
JPH08141479A (ja) * 1994-11-21 1996-06-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転式基板処理装置
JPH10209254A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Tokyo Electron Ltd 回転処理装置
JP2002273313A (ja) * 2001-03-21 2002-09-24 Toyota Motor Corp コーティング液塗布装置
JP2004322168A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2006128359A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Disco Abrasive Syst Ltd スピンナー洗浄装置及びダイシング装置
JP2006286763A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置
JP2006310395A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置のウェーハ洗浄方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04343224A (ja) * 1991-05-21 1992-11-30 Nec Kyushu Ltd スピンナクランパ
JPH08141479A (ja) * 1994-11-21 1996-06-04 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 回転式基板処理装置
JPH10209254A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Tokyo Electron Ltd 回転処理装置
JP2002273313A (ja) * 2001-03-21 2002-09-24 Toyota Motor Corp コーティング液塗布装置
JP2004322168A (ja) * 2003-04-25 2004-11-18 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
JP2006128359A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Disco Abrasive Syst Ltd スピンナー洗浄装置及びダイシング装置
JP2006286763A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置
JP2006310395A (ja) * 2005-04-26 2006-11-09 Tokyo Seimitsu Co Ltd ダイシング装置のウェーハ洗浄方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010045233A (ja) * 2008-08-14 2010-02-25 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂被覆装置
CN110176412A (zh) * 2018-02-20 2019-08-27 株式会社迪思科 保护膜形成装置
CN110176412B (zh) * 2018-02-20 2024-05-31 株式会社迪思科 保护膜形成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4871096B2 (ja) 2012-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102336955B1 (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP6385131B2 (ja) ウェーハの加工方法
TWI460024B (zh) Protective film coating method and protective film covering device
JP2013207170A (ja) デバイスウェーハの分割方法
JP2009158763A (ja) 保護膜被覆装置
JP4502260B2 (ja) スピンナー洗浄装置及びダイシング装置
TW201737326A (zh) 保護膜被覆方法
JP2010012508A (ja) 保護膜被覆装置及びレーザー加工装置
JP5713749B2 (ja) 保護膜塗布装置
JP4966709B2 (ja) 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置
JP2007073670A (ja) 水溶性樹脂被覆方法
JP6397270B2 (ja) 切削装置
JP2008006379A (ja) 保護被膜の被覆方法
JP2010267638A (ja) 保護膜の被覆方法及びウエーハのレーザ加工方法
JP2008126302A (ja) レーザー加工装置及び保護膜被覆装置
JP5637769B2 (ja) レーザー加工装置
KR101536379B1 (ko) 피처리체의 처리 방법
JP4871096B2 (ja) 樹脂被覆装置及びレーザー加工装置
JP2009135254A (ja) 粘着テープ貼着方法
JP4776431B2 (ja) 保護膜被覆装置
TWI384542B (zh) 處理裝置及表面處理治具
JP2012015348A (ja) スピンナ洗浄装置
JP4666583B2 (ja) 保護被膜の被覆方法
JP2021034647A (ja) 保護膜被覆装置、及び保護膜被覆装置を備えたレーザー加工装置
JP2007214266A (ja) 液状樹脂被覆装置およびレーザー加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091026

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110912

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111025

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4871096

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141125

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250