JP2008184380A - Ultrasonic cleaning apparatus utilizing resonance - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は超音波を利用してフラットパネルディスプレイのガラス表面に付着した異物を除去するための超音波洗浄装置に係り、より詳しくは、超音波を発生する超音波発生装置を両側に一定角度で傾かせて設置し、前記両側に設置された超音波発生装置から超音波を発生して一点に集中させることで、前記超音波の波長を極大化することができ、前記超音波を前記洗浄装置の下端の底面一点に集中させるとともに前記洗浄装置の底面全体に広げて、前記洗浄装置の底面全体が超音波を発生して前記フラットパネルディスプレイ用ガラスに超音波を発生することにより、洗浄効果を極大化することができる共振を利用した超音波洗浄装置に関するものである。 The present invention relates to an ultrasonic cleaning device for removing foreign substances adhering to the glass surface of a flat panel display using ultrasonic waves, and more specifically, an ultrasonic generator for generating ultrasonic waves at both sides at a constant angle. The ultrasonic wave can be maximized by generating an ultrasonic wave from the ultrasonic wave generators installed on both sides and concentrating the ultrasonic wave at a single point. The bottom surface of the cleaning device is concentrated at one point and spread over the entire bottom surface of the cleaning device, and the entire bottom surface of the cleaning device generates ultrasonic waves to generate ultrasonic waves on the flat panel display glass. The present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus using resonance that can be maximized.
一般に、フラットパネルディスプレイ(Flat Panel Display;FPD)の製造工程は、FAB内に浮遊するパーティクルのみならず、有機物、金属イオン、酸化物などの汚染物質と、装備からの汚染、工程進行中の反応物、または生成物による汚染など、多様な汚染物質がフラットパネルディスプレイ用ガラス表面に付着するが、このような汚染物質が除去されない場合には、製品の不良を引き起こし得るので、多くの工程段階を経る段階でガラス表面をきれいに維持するようにするものである。しかし、回路が微細化して素子が超高集積化するに従い、従来はあまり重要に思わなかった0.1μm程度の非常に小さな汚染源なども製品の性能に大きな影響を及ぼすことになるため、汚染源の除去のための洗浄技術の重要性も日増しに増大している。 In general, the manufacturing process of a flat panel display (FPD) is not only particles floating in the FAB, but also contaminants such as organic matter, metal ions and oxides, contamination from equipment, and reactions during the process. Many contaminants, such as contamination by products or products, adhere to the glass surface for flat panel displays, but if these contaminants are not removed, many process steps can be taken because they can cause product failure. The glass surface is kept clean as it passes. However, as the circuit becomes finer and the elements become extremely highly integrated, the very small contamination source of about 0.1 μm, which has not been considered very important in the past, will greatly affect the performance of the product. The importance of cleaning techniques for removal is also increasing day by day.
前記のような洗浄技術としては、噴射されるエアに超音波を付与することでガラス表面に付着された汚染物質を除去する超音波洗浄装置が利用されてきた。このような超音波洗浄装置は、その使用する音波の周波数によって、超音波(ultrasonic)洗浄装置とメガソニック(megasonic)洗浄装置とに分類することができる。 As the cleaning technique as described above, an ultrasonic cleaning apparatus that removes contaminants attached to the glass surface by applying ultrasonic waves to the jetted air has been used. Such an ultrasonic cleaning device can be classified into an ultrasonic cleaning device and a megasonic cleaning device according to the frequency of the sound wave used.
しかし、従来の超音波を利用した超音波洗浄装置は、超音波発生装置を前記洗浄装置内に垂直に設置して形成し、前記超音波発生装置の直進性により前記超音波発生装置が形成された部分にだけ超音波発生による振動が印加されるため、前記ガラス表面に付着された汚染物質が除去されない死角領域が発生することがある。そして、これにより、前記ガラス表面に付着した汚染物質が十分に除去されず、その結果、製品の不良を引き起こす問題点が発生した。 However, the conventional ultrasonic cleaning apparatus using ultrasonic waves is formed by installing the ultrasonic generator vertically in the cleaning apparatus, and the ultrasonic generator is formed by the straightness of the ultrasonic generator. Since the vibration due to the generation of ultrasonic waves is applied only to the portion, a blind spot region in which the contaminant attached to the glass surface is not removed may occur. As a result, the contaminants adhering to the glass surface are not sufficiently removed, and as a result, there is a problem that causes a product defect.
本発明は前記のような問題点を解決するためになされたもので、超音波を発生する一対ないし多数対の超音波発生装置を両側に傾けて設置し、前記両側に形成された超音波発生装置から超音波を発生させて洗浄装置の下端の一点に集中させ、前記洗浄装置の下端底面全体に超音波を広げて広い空間に超音波を発生することで、下端に位置するガラスに超音波を伝達し、前記洗浄装置から超音波を受けたエアがガラス表面に噴射されるとともに噴射されるガラスの広い面に超音波を印加して前記洗浄装置の効率を極大化することができる共振を利用した超音波洗浄装置を提供することにその目的がある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a pair or many pairs of ultrasonic generators for generating ultrasonic waves are tilted on both sides, and the ultrasonic waves formed on both sides are generated. Ultrasonic waves are generated from the apparatus and concentrated at one point on the lower end of the cleaning apparatus, and the ultrasonic waves are spread over the entire bottom bottom surface of the cleaning apparatus to generate ultrasonic waves in a wide space. The air that has received ultrasonic waves from the cleaning device is jetted onto the glass surface, and the ultrasonic wave is applied to a wide surface of the glass to be sprayed to maximize the efficiency of the cleaning device. The purpose is to provide an ultrasonic cleaning apparatus that utilizes the method.
前記目的を達成するために、本発明は、超音波を利用して、フラットパネルディスプレイのガラス表面に付着する異物を除去するための共振を利用した超音波洗浄装置において、前記ガラス表面に付着された異物を除去するために、ブロワーからエアを受け、スロット状のエア噴射口を通じて前記ガラス表面にエアを噴射するエア供給部;前記エア供給部から噴射されるエアに超音波を発生させることで、前記噴射されるエアに振動を印加する超音波発生装置;前記振動を受けたエアが噴射されて前記ガラスに付着された異物を除去する際に、前記ガラスと異物間の静電気発生を防止するイオナイザ;及び前記エア供給部から噴射されたエアと前記エアにより除去された異物とを排出装置により吸いこみ、エア吸入口を通じて排出するエア吸入部;を含んでなることを特徴とする、共振を利用した超音波洗浄装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention relates to an ultrasonic cleaning apparatus using resonance for removing foreign substances adhering to a glass surface of a flat panel display using ultrasonic waves, and is attached to the glass surface. An air supply unit that receives air from a blower and ejects air onto the glass surface through a slot-like air injection port in order to remove the extraneous foreign matter; by generating ultrasonic waves in the air injected from the air supply unit , An ultrasonic generator that applies vibration to the jetted air; and prevents static generation between the glass and the foreign matter when the air subjected to the vibration is jetted to remove the foreign matter attached to the glass An air sucker that sucks in air discharged from the air supply unit and foreign matter removed by the air by a discharge device and discharges the air through an air suction port; Part; characterized in that it contains, to provide an ultrasonic cleaning device using resonance.
前記超音波発生装置は、一定角度でもって傾いて両側に一対ないし多数対で設置され、前記超音波発生装置から超音波が発生するとき、前記両側で発生した超音波が下端の一点に集中し、前記超音波洗浄装置全体に超音波による振動を印加することができる。 The ultrasonic generator is tilted at a certain angle and installed in pairs or multiple pairs on both sides. When ultrasonic waves are generated from the ultrasonic generator, the ultrasonic waves generated on both sides are concentrated on one point at the lower end. The ultrasonic vibration can be applied to the entire ultrasonic cleaning apparatus.
本発明は、超音波を発生する一対ないし多数対の超音波発生装置を両側に傾けて設置し、前記両側に形成された超音波発生装置から超音波を発生させて洗浄装置の下端一点に集中させ、前記洗浄装置の下端底面全体に超音波を広げることで、前記洗浄装置全体で超音波を発生させることができ、これにより前記洗浄装置から噴射されるエアはもちろんガラスに超音波を印加して、前記ガラス表面に付着した異物の除去効率を極大化することができる効果がある。 In the present invention, a pair or many pairs of ultrasonic generators that generate ultrasonic waves are installed to be tilted on both sides, and ultrasonic waves are generated from the ultrasonic generators formed on the both sides to be concentrated at one lower end of the cleaning device. By spreading the ultrasonic wave over the entire bottom surface of the cleaning device, it is possible to generate an ultrasonic wave throughout the cleaning device, thereby applying an ultrasonic wave to the glass as well as the air jetted from the cleaning device. Thus, there is an effect that it is possible to maximize the removal efficiency of the foreign matter adhering to the glass surface.
以下、本発明を具体的に説明するために添付図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明による共振を利用した超音波洗浄装置の斜視図、図2は本発明による共振を利用した超音波洗浄装置の断面図、図3は本発明による共振を利用した超音波洗浄装置の底面図である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings in order to specifically describe the present invention.
1 is a perspective view of an ultrasonic cleaning apparatus using resonance according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of an ultrasonic cleaning apparatus using resonance according to the present invention, and FIG. 3 is an ultrasonic cleaning apparatus using resonance according to the present invention. FIG.
図1、図2及び図3に示すように、本発明の共振を利用した超音波洗浄装置は、上端にエア供給部100を設け、ガラス表面に付着する異物を除去するために、ブロワーによりエアを受け、前記洗浄装置の下端に形成されたスロット状のエア噴射口110を通じて前記ガラス表面にエアを噴射することで異物を除去し、前記エア供給部100から噴射されるエアは、前記洗浄装置の両側に一定角度の傾きで傾いて設置された一対ないし多数対の超音波発生装置200から発生した超音波によって振動を受けてガラス表面に噴射される。
As shown in FIG. 1, FIG. 2 and FIG. 3, the ultrasonic cleaning apparatus using the resonance of the present invention is provided with an
また、前記超音波発生装置200の下端にはイオナイザ300を設けることにより、前記振動を受けたエアが噴射されて前記ガラスに付着された異物を除去する際に、電気的中和により前記ガラスと異物間の静電気発生を防止する。前記エア供給部100から噴射されるエアと前記エアによりガラス表面から除去される異物は、ガラスの上端に設けられたエア吸入部400を通じて排出される。前記エア吸入部400は、下端に形成されたエア吸入口410を通じて前記噴射されたエアと除去された異物を前記洗浄装置の内部に吸いこみ、エア排出口420、430を通じて外部に排出し、前記外部に連結された排出装置により、前記排出されたエアと異物を排出するように構成される。
Also, by providing an
前記超音波発生装置200は一対ないし多数対が両側に傾いて設置される、前記両側に設置された超音波発生装置200から超音波が発生されれば、前記超音波は洗浄装置の下端一点に集中し、前記集中された超音波は洗浄装置の下端底面の全体に広がって、前記洗浄装置全体に超音波を発生することになる。これにより、前記エア供給部100から噴射されるエアとガラス表面に超音波による振動を印加することで、ガラスの洗浄効果を極大化させることができる。
The
以上、本発明による好ましい実施例を説明したが、本発明は前記のような実施例に限定されず、特許請求範囲で請求する本発明の範疇を逸脱することなしに、本発明が属する分野で通常の知識を持った者であれば誰でも多様な変更実施が可能であろう。 The preferred embodiments according to the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and the invention belongs to the field to which the present invention belongs without departing from the scope of the present invention claimed in the claims. Anyone with ordinary knowledge will be able to make various changes.
本発明は、超音波を利用してフラットパネルディスプレイのガラス表面に付着された異物を除去するための超音波洗浄装置に適用可能である。 The present invention can be applied to an ultrasonic cleaning apparatus for removing foreign substances attached to the glass surface of a flat panel display using ultrasonic waves.
100 エア供給部
110 エア噴射口
200 超音波発生装置
300 イオナイザ
400 エア吸入部
410 エア吸入口
420、430 エア排出口
DESCRIPTION OF
Claims (2)
前記ガラス表面に付着された異物を除去するために、ブロワーからエアを受け、スロット状のエア噴射口を通じて前記ガラス表面にエアを噴射するエア供給部;
前記エア供給部から噴射されるエアに超音波を発生させることで、前記噴射されるエアに振動を印加する超音波発生装置;
前記振動を受けたエアが噴射されて前記ガラスに付着された異物を除去する際に、前記ガラスと異物間の静電気発生を防止するイオナイザ;及び
前記エア供給部から噴射されたエアと前記エアにより除去された異物とを排出装置により吸いこみ、エア吸入口を通じて排出するエア吸入部;を含んでなることを特徴とする、共振を利用した超音波洗浄装置。 In the ultrasonic cleaning device using the resonance for removing the foreign matter adhered to the glass surface of the flat panel display using the ultrasonic wave,
An air supply unit that receives air from a blower and injects air onto the glass surface through a slot-like air injection port in order to remove foreign matter adhered to the glass surface;
An ultrasonic generator that applies vibration to the ejected air by generating ultrasonic waves in the air ejected from the air supply unit;
An ionizer that prevents generation of static electricity between the glass and the foreign material when the air subjected to the vibration is ejected to remove the foreign material adhered to the glass; and the air and the air ejected from the air supply unit An ultrasonic cleaning device using resonance, comprising: an air suction portion that sucks the removed foreign matter with a discharge device and discharges the foreign matter through an air suction port.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106965107A (en) * | 2017-04-27 | 2017-07-21 | 成都亨通兆业精密机械有限公司 | Method for cleaning applied to arc glass lateral wall |
CN109226092A (en) * | 2018-09-10 | 2019-01-18 | 中国建材国际工程集团有限公司 | A kind of electrostatic dust collector |
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