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JP2008175837A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device Download PDF

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JP2008175837A
JP2008175837A JP2007006496A JP2007006496A JP2008175837A JP 2008175837 A JP2008175837 A JP 2008175837A JP 2007006496 A JP2007006496 A JP 2007006496A JP 2007006496 A JP2007006496 A JP 2007006496A JP 2008175837 A JP2008175837 A JP 2008175837A
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JP
Japan
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liquid crystal
rubbing
microstructure
crystal display
display device
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Pending
Application number
JP2007006496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuo Uchida
龍男 内田
Takahiro Ishinabe
隆宏 石鍋
Tetsuya Miyashita
哲哉 宮下
Tsutomu Kuboki
剣 久保木
Masahiko Yamaguchi
雅彦 山口
Yohei Iida
陽平 飯田
Koji Kikuchi
孝二 菊地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku University NUC
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Tohoku University NUC
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tohoku University NUC, Alps Electric Co Ltd filed Critical Tohoku University NUC
Priority to JP2007006496A priority Critical patent/JP2008175837A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of efficiently inducing a splay-bend transition. <P>SOLUTION: A plurality of minute structural bodies 31 are formed on a TFT substrate 3. The minute structural body 31 includes a side (a) along a rubbing direction X in which rubbing treatment is performed first and a side (b) along a rubbing direction Y in which rubbing treatment is performed second and an angle θ1 formed by the rubbing directions X and Y is specified to be an angle (a vertex angle) θ2 formed between the sides (a) and (b). Two minute regions having twisted structures having twisted arrangements of liquid crystal molecules different from each other when voltage is applied can be formed by performing rubbing treatment using the minute structural bodies 31. The splay-bend transition can be induced by forming the two minute regions. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、広視角化及び高速応答性を実現するOCB(Optically Compensated Birefringence 又はOptically Compensated Bend )モードの液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an OCB (Optically Compensated Birefringence or Optically Compensated Bend) mode liquid crystal display device that realizes a wide viewing angle and high-speed response.

近年、液晶表示装置では、OCBモードと呼ばれる表示方式が注目されている(例えば、非特許文献1,2を参照)。このOCBモードは、一対の基板間に挟み込まれた液晶層をスプレイ配向状態とし、駆動電圧の印加時にベンド配向状態に転移させる液晶パネルと、この液晶パネルの光学補償を行う光学補償フィルムとを組み合わせることで、広視野角化と高速応答性を実現するものである。しかしながら、このOCBモードにおいては、通常の配向処理をした場合には、初期スプレイ配向状態にある液晶層をベンド配向状態に速やかに転移させることは容易ではなく、基板上のプレティルト角を10°程度に設定した場合であっても、10V以上、例えば20V程度の高い電圧が必要になる。このような高い電圧を印加することは駆動電圧の制御上から非常に困難である。また、このような液晶層の転移を全ての画素で発生させることも容易ではなく、液晶層が転移しないまま残った一部の画素は欠陥としてパネルの表示品位を大きく低下させることになる。   In recent years, in a liquid crystal display device, a display method called an OCB mode has attracted attention (see, for example, Non-Patent Documents 1 and 2). In this OCB mode, a liquid crystal panel in which a liquid crystal layer sandwiched between a pair of substrates is in a splay alignment state and transitions to a bend alignment state when a driving voltage is applied is combined with an optical compensation film that performs optical compensation of the liquid crystal panel. In this way, wide viewing angle and high speed response are realized. However, in this OCB mode, when a normal alignment treatment is performed, it is not easy to quickly transfer the liquid crystal layer in the initial splay alignment state to the bend alignment state, and the pretilt angle on the substrate is about 10 °. Even if it is set to, a high voltage of 10V or more, for example, about 20V is required. It is very difficult to apply such a high voltage in terms of controlling the driving voltage. In addition, it is not easy to cause such a transition of the liquid crystal layer in all the pixels, and some of the pixels that remain without the transition of the liquid crystal layer will greatly deteriorate the display quality of the panel.

このような問題を解決するために、例えば、非特許文献3には、配向制御層(配向膜)上にポストスペーサを設け、互いに異なる3方向の3回のラビング処理を施すことにより、左右にツイスト配向を形成して、スプレイ−ベンド転移を誘起させることが開示されている。
SID 93 Digest p277, Y. Yamaguchi et al.“Wide-Viewing-Angle Display Mode for the Active-Matrix LCD Using Bend-Alignment Liquid Crystal Cell” SID 94 Digest p927 , C-L. Kuo et al.“Improvement of Gray-Scale performance of Optically Compensated Birefringence(OCB)Display Mode for AMLCDs” 2005年日本液晶学会討論会、3A03 久保木、宮下、石鍋、内田 「スプレイ−ベンド転移のためのツイストディスクリネーションの形成とそのOCBセルへの応用」
In order to solve such a problem, for example, in Non-Patent Document 3, a post spacer is provided on the alignment control layer (alignment film), and the rubbing process is performed three times in three directions different from each other. It is disclosed to form a twist orientation to induce a splay-bend transition.
SID 93 Digest p277, Y. Yamaguchi et al. “Wide-Viewing-Angle Display Mode for the Active-Matrix LCD Using Bend-Alignment Liquid Crystal Cell” SID 94 Digest p927, CL. Kuo et al. “Improvement of Gray-Scale performance of Optically Compensated Birefringence (OCB) Display Mode for AMLCDs” 2005 Japan Liquid Crystal Society Annual Meeting, 3A03 Kuboki, Miyashita, Ishibe, Uchida “Formation of twist disclination for spray-bend transition and its application to OCB cell”

スプレイ−ベンド転移を誘起させるためには、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ2つの微小領域(左ねじれ配向領域及び右ねじれ配向領域)を形成する必要があり、この2つの微小領域をより効率良く形成する必要がある。   In order to induce the splay-bend transition, it is necessary to form two micro regions (a left twist alignment region and a right twist alignment region) having a twist structure in which the twist alignment of liquid crystal molecules is different from each other when a voltage is applied. It is necessary to form two minute regions more efficiently.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、スプレイ−ベンド転移を効率良く誘起させることができる液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a point, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device capable of efficiently inducing a spray-bend transition.

本発明の液晶表示装置は、電極と配向制御層とがそれぞれ配置された一対の基板間に正の誘電異方性を有する液晶層が挟持された液晶表示装置であって、一方の基板の配向制御層は、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ2つの微小領域を形成するような微小構造体を有し、前記微小構造体は、平面視において、前記一方の基板の配向制御層に施される第1のラビング処理の第1のラビング方向に沿う第1の辺と、前記一方の基板の配向制御層に施される第2のラビング処理の第2のラビング方向に沿う第2の辺と、を含み、前記第1ラビング方向と前記第2ラビング方向との間のなす角を前記第1の辺と前記第2の辺との間のなす角とすることを特徴とする。   The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer having positive dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates each having an electrode and an alignment control layer disposed thereon, and the alignment of one substrate The control layer has a microstructure that forms two microregions having a twisted structure in which the twisted arrangement of liquid crystal molecules is different from each other when a voltage is applied, and the microstructure has a structure of the one substrate in a plan view. A first side along the first rubbing direction of the first rubbing treatment applied to the orientation control layer, and a second rubbing direction of the second rubbing treatment applied to the orientation control layer of the one substrate. And an angle formed between the first rubbing direction and the second rubbing direction is an angle formed between the first side and the second side. And

この構成によれば、適切な形状を持つ微小構造体を設けているので、所定のラビング処理によりスプレイ−ベンド転移を誘起させる2つの微小領域を確実に形成することができる。これにより、全画面においてベンド配向に迅速に転移させることが可能となる。   According to this configuration, since the microstructure having an appropriate shape is provided, it is possible to reliably form two minute regions that induce the spray-bend transition by a predetermined rubbing process. As a result, it is possible to quickly shift to bend alignment over the entire screen.

本発明の液晶表示装置においては、前記第1のラビング処理の後に前記第2のラビング処理が行われ、前記第1のラビング処理の強度が前記第2のラビング処理の強度以下であることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the second rubbing process is performed after the first rubbing process, and the strength of the first rubbing process is equal to or less than the strength of the second rubbing process. .

本発明の液晶表示装置においては、前記微小構造体において、前記第1の辺の長さが前記第2の辺の長さ以上であることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that in the microstructure, the length of the first side is equal to or longer than the length of the second side.

本発明の液晶表示装置においては、前記微小構造体の幅が5μm以上であることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the width of the microstructure is preferably 5 μm or more.

本発明の液晶表示装置においては、前記微小構造体の高さが2μm以上パネルギャップ以下であることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the microstructure has a height of 2 μm or more and a panel gap or less.

本発明の液晶表示装置においては、前記微小構造体は、断面における底角が45°〜110°である形状を有することが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the microstructure has a shape with a base angle in a cross section of 45 ° to 110 °.

本発明の液晶表示装置においては、前記2つの微小領域は、ホモジニアス−ツイスト領域及びスプレイ−ツイスト領域であることが好ましい。   In the liquid crystal display device of the present invention, the two minute regions are preferably a homogeneous twist region and a spray twist region.

本発明によれば、電極と配向制御層とがそれぞれ配置された一対の基板間に正の誘電異方性を有する液晶層が挟持された液晶表示装置であって、一方の基板の配向制御層は、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ2つの微小領域を形成するような微小構造体を有し、前記微小構造体は、平面視において、前記一方の基板の配向制御層に施される第1のラビング処理の第1のラビング方向に沿う第1の辺と、前記一方の基板の配向制御層に施される第2のラビング処理の第2のラビング方向に沿う第2の辺と、を含み、前記第1ラビング方向と前記第2ラビング方向との間のなす角を前記第1の辺と前記第2の辺との間のなす角とするので、スプレイ−ベンド転移を効率良く誘起させることができる液晶表示装置を実現することができる。   According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer having positive dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates each having an electrode and an alignment control layer disposed thereon, the alignment control layer of one substrate Has a microstructure that forms two minute regions having twist structures in which the twist arrangement of liquid crystal molecules is different from each other when a voltage is applied, and the microstructure controls the orientation of the one substrate in a plan view. A first side along a first rubbing direction of the first rubbing treatment applied to the layer, and a second side of the second rubbing treatment applied to the orientation control layer of the one substrate along the second rubbing direction. And an angle formed between the first rubbing direction and the second rubbing direction is defined as an angle formed between the first side and the second side. Liquid crystal display device capable of efficiently inducing transition It can be realized.

以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面では、特徴を分かり易くするために、必要に応じて、特徴となる部分を拡大して示している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings used in the following description, in order to make the characteristics easy to understand, the characteristic portions are enlarged as necessary.

図1に示すように、本発明に係る液晶表示装置1は、OCBモードの液晶パネル2を備えている。この液晶パネル2は、例えばアクティブマトリクス駆動方式を採用した透過型のカラー液晶パネルであり、赤、緑、青の3原色に対応した3つのドット(サブピクセル)によって1つの単位画素(ピクセル)が構成されるとともに、ドット1つ1つにアクティブ駆動素子を設けて各画素の点灯状態を制御することによりカラー表示が行われる。なお、図1では、各赤、緑、青の各サブピクセルがストライプ状に並んだ例について説明しているが、サブピクセルが斜めに配列されたり、トライアングル状に配列されていても良い。   As shown in FIG. 1, a liquid crystal display device 1 according to the present invention includes an OCB mode liquid crystal panel 2. The liquid crystal panel 2 is a transmissive color liquid crystal panel adopting, for example, an active matrix driving method, and one unit pixel (pixel) is formed by three dots (sub-pixels) corresponding to the three primary colors of red, green, and blue. In addition, an active drive element is provided for each dot, and a color display is performed by controlling the lighting state of each pixel. Although FIG. 1 illustrates an example in which each red, green, and blue subpixel is arranged in a stripe shape, the subpixels may be arranged diagonally or in a triangle shape.

この液晶パネル2は、互いに対向配置された一対の基板3,4と、これら一対の基板3,4の間に挟まれた光変調層としての液晶層5と、背面側基板(目視側とは反対側の基板:TFT基板)3の下方に配置された光源6と、さらに前面側基板(目視側の基板:CF(カラーフィルタ)基板)4上に配置された偏光板7と、少なくとも1枚の位相差板8と、下側基板3の下方に配置された偏光板9と、少なくとも1枚の位相差板10などを備えている。また、一対の基板3,4は、ガラスやプラスチックなどの矩形状の透過基板であり、液晶層5内に分散又は所定の場所に固着された球形などのスペーサ(図示せず)によって、互いの対向間隔が均一に保持されるとともに、その周辺部がエポキシ系樹脂などによるシール剤(図示せず)により封止されて接合一体化されている。なお、図示されていないが、上記前面側基板4には、全面に透明電極が設けられており、基板3,4における液晶層5に面する表面には、それぞれ所定の液晶配向状態を制御する配向制御層23,24(図2参照)が設けられている。   The liquid crystal panel 2 includes a pair of substrates 3 and 4 arranged to face each other, a liquid crystal layer 5 as a light modulation layer sandwiched between the pair of substrates 3 and 4, and a rear side substrate (view side) At least one polarizing plate 7 disposed on the front side substrate (viewing side substrate: CF (color filter) substrate) 4 and a light source 6 disposed below the opposite substrate: TFT substrate) 3. The retardation plate 8, the polarizing plate 9 disposed below the lower substrate 3, at least one retardation plate 10, and the like. The pair of substrates 3 and 4 are rectangular transmissive substrates such as glass and plastic, and are mutually dispersed in the liquid crystal layer 5 by spherical spacers (not shown) that are dispersed or fixed in place. The facing distance is kept uniform, and the peripheral part is sealed and integrated with a sealing agent (not shown) made of epoxy resin or the like. Although not shown, the front substrate 4 is provided with a transparent electrode on the entire surface, and a predetermined liquid crystal alignment state is controlled on each surface of the substrates 3 and 4 facing the liquid crystal layer 5. Orientation control layers 23 and 24 (see FIG. 2) are provided.

一対の基板3,4のうち、一方(背面側)の基板3は、図2及び図3に示すように、いわゆるアクティブマトリクス基板であり、その液晶層5と対向する面には、スイッチング素子であるTFT(Thin Film Transistor)11がマトリックス状に複数配列して形成されている。このTFT11は、基板3側から順に、ゲート電極12及びゲート絶縁層13と、半導体層14と、半導体層(n+層)28を介してソース電極15及びドレイン電極16とが積層された逆スタガー型の構造を有している。すなわち、この構造においては、最下層のゲート電極12を覆うゲート絶縁層13上には、島状の半導体層14がゲート電極12を遮るように形成されるとともに、この半導体層14の一端側には、半導体層14,28を介してソース電極15が形成され、この半導体層14の他端側には、半導体層14,28を介してドレイン電極16が形成されている。なお、半導体層14上には島状絶縁層17が形成されており、この絶縁層がソース電極とドレイン電極間のチャネル形成の際、エッチストッパ層としての機能を有している。 Of the pair of substrates 3 and 4, one (back side) substrate 3 is a so-called active matrix substrate as shown in FIGS. 2 and 3, and a switching element is provided on the surface facing the liquid crystal layer 5. A plurality of thin film transistors (TFTs) 11 are formed in a matrix. The TFT 11 includes an inverted staggered structure in which a gate electrode 12, a gate insulating layer 13, a semiconductor layer 14, and a source electrode 15 and a drain electrode 16 are stacked via a semiconductor layer (n + layer) 28 in this order from the substrate 3 side. Has a mold structure. That is, in this structure, an island-shaped semiconductor layer 14 is formed on the gate insulating layer 13 covering the lowermost gate electrode 12 so as to block the gate electrode 12, and is formed on one end side of the semiconductor layer 14. The source electrode 15 is formed through the semiconductor layers 14 and 28, and the drain electrode 16 is formed at the other end of the semiconductor layer 14 through the semiconductor layers 14 and 28. Note that an island-shaped insulating layer 17 is formed on the semiconductor layer 14, and this insulating layer functions as an etch stopper layer when forming a channel between the source electrode and the drain electrode.

基板3の液晶層5と対向する面には、各TFT11のゲート電極12と電気的に接続された配線である走査線18が、図3中矢印X方向(行方向)に互いに平行に複数並んで形成されるとともに、各TFT11のソース電極15と電気的に接続された配線である信号線19が、図3中矢印Y方向(列方向)に複数並んで形成されており、これら走査線18と信号線19との交差位置の近傍に上記TFT11が形成されている。なお、これら走査線18と信号線19とによって升目状に区画された1つ1つの矩形状の領域が、各ドットに対応した基板3側のドット対応領域を形成しており、これらのドット対応領域がマトリクス状に複数配列されることで、全体として液晶パネル2の表示領域が形成されている。また、この表示領域の外側の部分には、図示を省略するが、各走査線18に選択パルスを印加する走査ドライバと、各信号線19に信号電圧を印加する信号ドライバとが設けられている。   On the surface of the substrate 3 facing the liquid crystal layer 5, a plurality of scanning lines 18, which are wirings electrically connected to the gate electrodes 12 of the respective TFTs 11, are arranged in parallel with each other in the arrow X direction (row direction) in FIG. 3. A plurality of signal lines 19 that are electrically connected to the source electrode 15 of each TFT 11 are formed side by side in the arrow Y direction (column direction) in FIG. The TFT 11 is formed in the vicinity of the intersection of the signal line 19 and the signal line 19. In addition, each rectangular area partitioned by the scanning lines 18 and the signal lines 19 forms a dot corresponding area on the substrate 3 side corresponding to each dot. By arranging a plurality of regions in a matrix, a display region of the liquid crystal panel 2 is formed as a whole. Although not shown, a scanning driver that applies a selection pulse to each scanning line 18 and a signal driver that applies a signal voltage to each signal line 19 are provided outside the display area. .

そして、この基板3の液晶層5と対向する面には、上述したTFT11、走査線18及び信号線19を被覆する絶縁膜20が形成されている。また、この絶縁膜20には、上記各TFT11のドレイン電極16に臨むコンタクトホール21が形成されている。そして、この絶縁膜20上には、コンタクトホール21を介して各TFT11のドレイン電極16と電気的に接続された画素電極22が、各ドットに対応してマトリクス状に複数配列して形成されている。この画素電極22は、ITO(Indium-Tin Oxide)などの透明な導電材料で構成され、上記各ドット対応領域のほぼ全域を覆うように矩形状に形成されている。そして、この画素電極22が形成された基板3上には、後述する処理がなされた配向制御層23が形成されている。   An insulating film 20 that covers the TFT 11, the scanning line 18, and the signal line 19 is formed on the surface of the substrate 3 that faces the liquid crystal layer 5. In addition, a contact hole 21 that faces the drain electrode 16 of each TFT 11 is formed in the insulating film 20. On the insulating film 20, a plurality of pixel electrodes 22 electrically connected to the drain electrodes 16 of the respective TFTs 11 through the contact holes 21 are formed in a matrix corresponding to the respective dots. Yes. The pixel electrode 22 is made of a transparent conductive material such as ITO (Indium-Tin Oxide), and is formed in a rectangular shape so as to cover almost the entire area corresponding to each dot. On the substrate 3 on which the pixel electrode 22 is formed, an orientation control layer 23 that has been processed as described later is formed.

これに対して、他方(前面側)の基板4の液晶層5と対向する面には、後述する処理がなされた配向制御層24と、ITO(Indium-Tin Oxide)などの透明な導電材料で構成された対向電極27と、各ドットに対応したドット対応領域を区画する遮光性のブラックマトリクス層25と、このブラックマトリクス層25によって区画された、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)のカラーフィルタ層26R,26G(26Bは図示せず)とが順に形成されている。具体的には、矩形のブラックマトリクス層25によって升目状に区画された1つ1つの矩形領域が、各ドットに対応した基板4側のドット対応領域を形成している。このブラックマトリクス層25は、各カラーフィルタ間における光の混色を防ぐための遮光壁であり、前記赤(R)、緑(G)、青(B)の各色のうちいずれか1つの色のドットが埋め込み形成された形となっている。カラーフィルタ層26R,26G(26Bは図示せず)は、これら異なる色の層がストライプ状、斜め状、トライアングル状などのモザイク状に周期的に配列された構造を有している。したがって、各画素の赤、緑、青に対応した3つのドット対応領域毎に、画素電極22と対向電極27との間に印加される駆動電圧を制御することにより、各画素の表示色が制御され、これにより所望の画像が表示可能となる。   On the other hand, the other surface (front side) of the substrate 4 facing the liquid crystal layer 5 is made of an alignment control layer 24 that has been processed later and a transparent conductive material such as ITO (Indium-Tin Oxide). For example, red (R), green (G), blue, which are defined by the counter electrode 27, the light-shielding black matrix layer 25 that partitions the dot corresponding area corresponding to each dot, and the black matrix layer 25. The color filter layers 26R and 26G (26B are not shown) of (B) are formed in order. Specifically, each rectangular area partitioned in a rectangular pattern by the rectangular black matrix layer 25 forms a dot corresponding area on the substrate 4 side corresponding to each dot. The black matrix layer 25 is a light shielding wall for preventing light color mixing between the color filters, and is a dot of any one of the red (R), green (G), and blue (B) colors. Is embedded. The color filter layers 26R and 26G (26B not shown) have a structure in which layers of different colors are periodically arranged in a mosaic shape such as a stripe shape, a diagonal shape, or a triangle shape. Therefore, the display color of each pixel is controlled by controlling the drive voltage applied between the pixel electrode 22 and the counter electrode 27 for each of the three dot corresponding regions corresponding to red, green, and blue of each pixel. Thus, a desired image can be displayed.

液晶層5は、一方の基板3の配向制御層23と、対向基板4の配向制御層24との間に封入された正の誘電異方性を有するネマティック液晶組成物を含む。さらに、液晶層5は、初期(電圧無印加状態又は配向状態の変化を起こさない低電圧状態)で、それぞれの基板3,4上において、互いに液晶分子のプレティルト角が逆となったスプレイ配列になるように配向制御されている。   The liquid crystal layer 5 includes a nematic liquid crystal composition having positive dielectric anisotropy enclosed between the alignment control layer 23 of one substrate 3 and the alignment control layer 24 of the counter substrate 4. Furthermore, the liquid crystal layer 5 is in a splay arrangement in which the pretilt angles of the liquid crystal molecules are opposite to each other on each of the substrates 3 and 4 in an initial state (no voltage application state or a low voltage state in which the alignment state does not change). The orientation is controlled so that

本発明の液晶表示装置においては、後述するような液晶分子配向を与えたパネルに対して、液晶駆動電圧に応じて適正な光学補償条件を満たすように、複数の位相差板および偏光板などの光学フィルムが配置される。   In the liquid crystal display device of the present invention, a plurality of retardation plates, polarizing plates, etc. are provided so as to satisfy an appropriate optical compensation condition according to the liquid crystal driving voltage for a panel provided with liquid crystal molecular orientation as described later. An optical film is placed.

例えば、透過型ノーマリブラックモードで表示を行う場合には、パネル(2枚の基板間に正の誘電異方性のネマティック液晶組成物を挟持してなる)に対して、パネル内の液晶層と合わせて複屈折位相差がトータルでゼロとなるように、また、その光学軸がラビング方向とそれぞれ直交する向きに設定された2軸性光学補償フィルム(n>n>n、ここでx,yはパネル面内の方向を表し、zはパネルの厚み方向を表す)をパネル上下に配置する。特に、ベンド配列状態を保持する最も低い電圧(OFF電圧)で黒表示になるように、ベンド配列から十分に液晶分子が立ち上がる電圧(ON電圧)で白表示になるように、上記の光学フィルム類の条件(相互の光学軸方向、位相差値など)を設定する。例えば、パネルの電圧無印加状態(スプレイ配向状態)における位相差が960nmであり、ON電圧を5.0Vとした場合、二軸性光学補償フィルムの位相差を50nm、Nz係数を7.5にすると、パネルの液晶層と二軸性光学補償フィルムの複屈折位相差がトータルでゼロとなる。ここで、Nz係数とは、位相差板の遅相軸方向の屈折率、進相軸方向の屈折率、厚さ方向の屈折率をそれぞれnx、ny、nzとしたとき、Nz=(nx−nz)/(nx−ny)で定義される値である。なお、いわゆるノーマリホワイトの場合に、上記の黒表示と白表示になる条件を逆にして設定することはいうまでもない。さらに、偏光板と1/4波長板(1/4λ板)とを、両者の光学軸が約45°となるように設定して円偏光板を形成した積層体を、上記の外側に上下共配置する。 For example, when a display is performed in a transmissive normally black mode, a liquid crystal layer in the panel is formed with respect to a panel (a nematic liquid crystal composition having positive dielectric anisotropy sandwiched between two substrates). And a biaxial optical compensation film ( nx > ny > nz , where the optical axes are set in directions orthogonal to the rubbing direction, respectively, so that the birefringence phase difference becomes zero in total X and y represent the directions in the panel surface, and z represents the thickness direction of the panel). In particular, the optical films described above are configured so that black display is performed at the lowest voltage (OFF voltage) that maintains the bend alignment state, and white display is performed at a voltage (ON voltage) at which the liquid crystal molecules sufficiently rise from the bend alignment. Conditions (mutual optical axis direction, phase difference value, etc.) are set. For example, when the panel has a phase difference of 960 nm when no voltage is applied (splay alignment state) and the ON voltage is 5.0 V, the phase difference of the biaxial optical compensation film is 50 nm and the Nz coefficient is 7.5. Then, the birefringence phase difference between the liquid crystal layer of the panel and the biaxial optical compensation film becomes zero in total. Here, the Nz coefficient is Nz = (nx−) where the refractive index in the slow axis direction, the refractive index in the fast axis direction, and the refractive index in the thickness direction are nx, ny, and nz, respectively. nz) / (nx-ny). Needless to say, in the case of so-called normally white, the above conditions for black display and white display are reversed. Further, a laminated body in which a polarizing plate and a quarter wavelength plate (1 / 4λ plate) are set so that the optical axes of both are set to about 45 ° and a circular polarizing plate is formed is placed on both sides of the above. Deploy.

一方、反射型(ノーマリブラック)表示の場合には、パネル(2枚の基板間に正の誘電異方性のネマティック液晶組成物を挟持してなる)の観察側と反対側の基板内面(液晶層と接する側の面)又は基板外面に反射層を形成するとともに、パネル内の液晶層とその複屈折位相差がトータルでゼロとなるような二軸性光学補償フィルム(n>n>n,ここでx、yはパネル面を表し、zはパネルの厚み方向を表す)を設ける。例えば、パネルの電圧無印加状態(スプレイ配向状態)における位相差が480nm、ON電圧を5.0Vとした場合、二軸性光学補償フィルムの位相差を50nm、Nz係数を7.5にすると、パネルの液晶層と二軸性光学補償フィルムの複屈折位相差がトータルでゼロとなる。そしてさらに、その上面(観察側に近い面)には、偏光板と1/4波長板(1/4λ板)とを、両者の光学軸が約45°となるように設定して円偏光板を形成した積層体を、配置する。なお、ノーマリホワイトの場合に、前述の黒表示と白表示の関係を逆にすることも上記と同様である。 On the other hand, in the case of reflection type (normally black) display, the inner surface of the substrate (on the opposite side to the observation side of the panel (a nematic liquid crystal composition having positive dielectric anisotropy sandwiched between two substrates) ( to form a reflective layer on the side of the surface) or the substrate outer surface in contact with the liquid crystal layer, the liquid crystal layer and the biaxial optical compensation film, such as its birefringence phase difference becomes zero in total in the panel (n x> n y > N z , where x and y represent the panel surface, and z represents the thickness direction of the panel. For example, when the phase difference in the voltage non-application state (splay alignment state) of the panel is 480 nm and the ON voltage is 5.0 V, the phase difference of the biaxial optical compensation film is 50 nm and the Nz coefficient is 7.5. The birefringence phase difference between the liquid crystal layer of the panel and the biaxial optical compensation film becomes zero in total. Further, on the upper surface (surface close to the observation side), a polarizing plate and a quarter wavelength plate (1 / 4λ plate) are set so that both optical axes are about 45 °. The laminated body formed with is disposed. In the case of normally white, the above-described relationship between the black display and the white display is reversed as described above.

図4は、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置における微小構造体を示す平面図である。なお、図4は、配向制御層を設けた面が紙面表にある、いわゆる膜上図である。この微小構造体31は、一方の基板、例えばTFT基板3上に複数形成される。この微小構造体31は、1回目のラビング処理のラビング方向Xに沿う辺aと、2回目のラビング処理のラビング方向Yに沿う辺bとを含んでおり、ラビング方向Xとラビング方向Yとの間のなす角θ1を辺aと辺bとの間のなす角(頂角)θ2とする。この微小構造体31を用いて上記ラビング処理を行うことにより、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ2つの微小領域を形成することができる。この2つの微小領域が形成されることにより、スプレイ−ベンド転移を誘起することができる。   FIG. 4 is a plan view showing a microstructure in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a so-called film top view in which the surface on which the orientation control layer is provided is on the paper surface. A plurality of the microstructures 31 are formed on one substrate, for example, the TFT substrate 3. The microstructure 31 includes a side a along the rubbing direction X of the first rubbing process, and a side b along the rubbing direction Y of the second rubbing process, and the rubbing direction X and the rubbing direction Y The angle θ1 formed between them is defined as an angle (vertical angle) θ2 formed between the side a and the side b. By performing the rubbing process using the microstructure 31, it is possible to form two minute regions having twist structures in which the twist arrangement of liquid crystal molecules is different from each other when a voltage is applied. By forming these two minute regions, the spray-bend transition can be induced.

図4において、辺aは基準方向(図4の上下方向)に対して角度αを有している。すなわち、1回目のラビング方向は基準方向に対して角度αを持つ方向である。また、辺bは基準方向(図4の上下方向)に対して角度βを有している。すなわち、2回目のラビング方向は基準方向に対して角度βを持つ方向である。したがって、なす角θ2は角度αと角度βの和に相当する。また、基準方向(図4の上下方向)に沿って3回目のラビング処理が行われる(ラビング方向Z)。このラビング方向Zは、対向基板であるCF基板4におけるラビング方向と同じ方向である。   In FIG. 4, the side a has an angle α with respect to the reference direction (the vertical direction in FIG. 4). That is, the first rubbing direction is a direction having an angle α with respect to the reference direction. The side b has an angle β with respect to the reference direction (the vertical direction in FIG. 4). That is, the second rubbing direction is a direction having an angle β with respect to the reference direction. Therefore, the angle θ2 formed corresponds to the sum of the angle α and the angle β. Further, a third rubbing process is performed along the reference direction (vertical direction in FIG. 4) (rubbing direction Z). The rubbing direction Z is the same direction as the rubbing direction in the CF substrate 4 which is the counter substrate.

図4において、多角形ABCDは微小構造体31の外形である。BCHの領域32は、2回目のラビング処理及び3回目のラビング処理に対して形成されるラビングの影部である。すなわち、2回目のラビング処理及び3回目のラビング処理においては、微小構造体31が障害となって、ラビング方向Y及びラビング方向Zのラビング処理が行われない領域である。したがって、BCHの領域は、1回目のラビング処理のみが行われており、ラビング方向Xの配向が形成されている。   In FIG. 4, a polygon ABCD is the outer shape of the microstructure 31. The BCH region 32 is a shadow portion of rubbing formed for the second rubbing process and the third rubbing process. That is, in the second rubbing process and the third rubbing process, the microstructure 31 becomes an obstacle, and the rubbing process in the rubbing direction Y and the rubbing direction Z is not performed. Therefore, only the first rubbing process is performed on the BCH region, and the alignment in the rubbing direction X is formed.

また、EDGFの領域33は、3回目のラビング処理に対して形成されるラビングの影部である。すなわち、3回目のラビング処理においては、微小構造体31が障害となって、ラビング方向Zのラビング処理が行われない領域である。したがって、EDGFの領域は、1回目のラビング処理及び2回目のラビング処理が行われている。   An EDGF region 33 is a rubbing shadow formed for the third rubbing process. That is, in the third rubbing process, the micro structure 31 becomes an obstacle, and the rubbing process in the rubbing direction Z is not performed. Therefore, the first rubbing process and the second rubbing process are performed on the EDGF region.

また、BCDGFEの領域(BCHF、DGの長さに対応する部分で囲まれた領域)は、3回目のラビング処理に対して形成されるラビングの影部である。すなわち、3回目のラビング処理においては、微小構造体31が障害となって、ラビング方向Zのラビング処理が行われない領域である。   Further, the BCDGFE region (region surrounded by a portion corresponding to the lengths of BCHF and DG) is a rubbing shadow formed for the third rubbing process. That is, in the third rubbing process, the micro structure 31 becomes an obstacle, and the rubbing process in the rubbing direction Z is not performed.

このような3回のラビング処理を行うことにより、BCHの領域32が左ねじれホモジニアス配向領域となり、EDGFの領域33が右ねじれスプレイ配向領域となる。そして、CH線34が左ねじれホモジニアス配向領域と右ねじれスプレイ配向領域との間の境界であり、このCH線が十分な長さだけ確保できる、及び/又はBCHの領域32を十分な広さだけ確保できることにより、効率良くスプレイ−ベンド転移を誘起することができる。   By performing the rubbing process three times, the BCH region 32 becomes a left-handed homogeneous alignment region, and the EDGF region 33 becomes a right-handed splay alignment region. The CH line 34 is a boundary between the left twisted homogeneous alignment region and the right twist splay alignment region, and the CH line can be secured with a sufficient length and / or the BCH region 32 with a sufficient width. By being able to ensure, the spray-bend transition can be induced efficiently.

スプレイ−ベンド転移の核となる2つの微小領域の境界線(CH線)34を十分な長さにすることや、BCHの領域32を十分な広さにすること、スプレイ−ベンド転移が安定して行われることなどを考慮すると、微小構造体31の頂角θ2を構成する角度α及び角度βは、50°〜80°の範囲内であることが好ましい。角度αについては、55°〜75°であることが特に好ましい。なお、角度αと角度βとは必ずしも等しくなくても良い。   Making the boundary line (CH line) 34 between the two microregions as the nucleus of the spray-bend transition sufficiently long, making the BCH region 32 sufficiently wide, and stabilizing the spray-bend transition. In consideration of what is performed, the angle α and the angle β constituting the apex angle θ2 of the microstructure 31 are preferably in the range of 50 ° to 80 °. The angle α is particularly preferably 55 ° to 75 °. Note that the angle α and the angle β are not necessarily equal.

このようなBCHの領域32やCH線34の形成については、上述した影部をどのようにして形成するかが重要である。この影部は、微小構造体31の高さ、ラビング布のパイル長さ、ラビングロールの基板への押し込み量などに依存して変わるが、典型的に、微小構造体31の高さが後述する範囲である場合には、微小構造体31の近傍約5μm〜20μmの幅で形成される。   For the formation of the BCH region 32 and the CH line 34, it is important how the shadow portion described above is formed. The shadow varies depending on the height of the microstructure 31, the pile length of the rubbing cloth, the amount of pushing of the rubbing roll onto the substrate, and the height of the microstructure 31 is typically described later. In the case of the range, it is formed with a width of about 5 μm to 20 μm in the vicinity of the microstructure 31.

微小構造体31の高さは、スプレイ−ベンド転移に有効な核を発生させるための影部の形成やパネルギャップの設定を考慮すると、2μm以上、好ましくは3μm以上でパネルギャップ以下であることが好ましい。すなわち図5における高さhが2μm以上、好ましくは3μm以上でパネルギャップ以下であることが好ましい。   The height of the microstructure 31 is 2 μm or more, preferably 3 μm or more and preferably less than the panel gap in consideration of the formation of shadows for generating effective nuclei for the spray-bend transition and the setting of the panel gap. preferable. That is, the height h in FIG. 5 is 2 μm or more, preferably 3 μm or more and preferably less than the panel gap.

微小構造体31は、影部の形成やラビングによるダメージの軽減を考慮して、断面における底角が45°〜110°である形状を有することが好ましい。すなわち図5における底角θ3が45°〜110°であることが好ましい。   The microstructure 31 preferably has a shape with a base angle in the cross section of 45 ° to 110 ° in consideration of formation of a shadow portion and reduction of damage due to rubbing. That is, the base angle θ3 in FIG. 5 is preferably 45 ° to 110 °.

微小構造体31の幅(ラビング方向Zに沿う方向の幅)は、影部の形成を考慮すると、5μm以上、好ましくは7μm以上であることが好ましい。すなわち図5における幅Wが5μm以上、好ましくは7μm以上であることが好ましい。なお、微小構造体31の幅(ラビング方向Zに沿う方向の幅)は、有効表示部の面積低下や、目視上微小構造体が顕著に見えないことなどを考慮すると、30μm以下であることが好ましい。   The width of the microstructure 31 (the width in the direction along the rubbing direction Z) is preferably 5 μm or more, preferably 7 μm or more in consideration of the formation of shadows. That is, the width W in FIG. 5 is 5 μm or more, preferably 7 μm or more. Note that the width of the microstructure 31 (the width in the direction along the rubbing direction Z) may be 30 μm or less in consideration of a reduction in the area of the effective display portion and the fact that the microstructure is not visually visible. preferable.

微小構造体31において、辺aの長さが辺bの長さ以上であることが好ましい。これにより、BCHの領域(左ねじれホモジニアス領域)32がEDGFの領域(右ねじれスプレイ領域)33より広く形成され、ベンド状態への転移がより進み易くなる。   In the microstructure 31, the length of the side a is preferably equal to or longer than the length of the side b. As a result, the BCH region (left-handed homogeneous region) 32 is formed wider than the EDGF region (right-handed splay region) 33, and the transition to the bend state becomes easier to proceed.

本発明においては、微小構造体31の角度α、角度β、辺a、辺b、高さh、幅Wなどについて、上述の範囲内で左ねじれホモジニアス配向領域ができるだけ広くなるように適宜選択して設定することが望ましい。   In the present invention, the angle α, the angle β, the side a, the side b, the height h, the width W, and the like of the microstructure 31 are appropriately selected so that the left-twisted homogeneous alignment region is as wide as possible within the above-described range. It is desirable to set them.

これらのラビング処理は、いずれもTFT基板3の配向制御層23である配向膜(例えば、ポリビニルアルコール系、ポリアミド系、あるいはポリイミド系などの高分子系配向膜)に対して行われる。まず、ラビング方向X、すなわちラビング方向Zを基準方向として、基準方向に対して角度αを持つ方向に1回目のラビング処理を行う。次いで、ラビング方向Y、すなわちラビング方向Zを基準方向として、基準方向に対して角度βを持つ方向に2回目のラビング処理を行う。その後ラビング方向Zに3回目のラビング処理を行う。   All of these rubbing processes are performed on an alignment film (for example, a polymer alignment film such as polyvinyl alcohol, polyamide, or polyimide) that is the alignment control layer 23 of the TFT substrate 3. First, with the rubbing direction X, that is, the rubbing direction Z as a reference direction, a first rubbing process is performed in a direction having an angle α with respect to the reference direction. Next, a second rubbing process is performed in a direction having an angle β with respect to the reference direction with the rubbing direction Y, that is, the rubbing direction Z as a reference direction. Thereafter, a third rubbing process is performed in the rubbing direction Z.

微小構造体31におけるABCDを構成する辺のうち、少なくとも1つの頂角をなす2つの辺BC、辺CDは、これら角度α、角度β方向と略等しい方向に沿い、かつその頂角BCD(θ2)はほぼα+βに等しく設定される。本発明においては、ラビング方向と微小構造体31の辺の方向とが略等しく設定される。この場合において、微小構造体31によるラビング方向のばらつきが顕著にならない範囲内であること、あるいは微小構造体31がラビングのせん断力によって破壊あるいは剥れが生じないことなどを満足すれば、ラビング方向と微小構造体31の辺の方向との間に所定の角度、例えば±10°以内、好ましくは±5°以内があっても本発明の目的が達成される。   Of the sides constituting ABCD in the microstructure 31, two sides BC and side CD forming at least one apex angle are along a direction substantially equal to the directions of these angles α and β, and the apex angle BCD (θ2 ) Is set approximately equal to α + β. In the present invention, the rubbing direction and the direction of the side of the microstructure 31 are set to be approximately equal. In this case, the rubbing direction is satisfied if the variation in the rubbing direction due to the micro structure 31 is in a range in which the micro structure 31 is not significant, or if the micro structure 31 is not broken or peeled off by the shearing force of the rubbing. The object of the present invention can be achieved even when there is a predetermined angle, for example, within ± 10 °, preferably within ± 5 °, between the edge of the micro structure 31 and the direction of the side of the microstructure 31.

TFT基板3と対向するCF基板4の配向制御層24には、ラビング方向Zで全面にラビング処理がなされている。この結果、図4において、微小構造体ABCD及び影部BEFGDCを除く全領域は、図6(c)に示すように、全面スプレイ配向領域となっている。また、図4において、BCHの領域32は、例えばCF基板4側から投影してみた場合、CF基板4からTFT基板3までの間で液晶分子41が角度約αの左ねじれホモジニアス配向領域となっている。図6(a)は、AF線に沿ったパネル断面をDの方向から見た図である。一方、HCDGFの領域は、CF基板4からTFT基板3までの間で液晶分子41が角度約β(実際には、ラビング方向Xのラビング処理の効果でβよりわずかに大きい値となる)の右ねじれスプレイ配向領域となっている。図6(b)は、AF線に沿ったパネル断面をDの方向から見た図である。   The alignment control layer 24 of the CF substrate 4 facing the TFT substrate 3 is rubbed on the entire surface in the rubbing direction Z. As a result, in FIG. 4, the entire region excluding the microstructure ABCD and the shaded portion BEFGDC is a full surface splay alignment region as shown in FIG. 6C. In FIG. 4, the BCH region 32 is a left-twisted homogeneous alignment region having an angle of about α between the CF substrate 4 and the TFT substrate 3 when projected from the CF substrate 4 side, for example. ing. FIG. 6A is a view of the panel cross section along the AF line as viewed from the direction D. FIG. On the other hand, in the region of HCDGF, the liquid crystal molecules 41 between the CF substrate 4 and the TFT substrate 3 have an angle of about β (actually a value slightly larger than β due to the effect of rubbing in the rubbing direction X). It is a twisted splay alignment region. FIG. 6B is a view of the panel cross section along the AF line as viewed from the direction D.

したがって、これらの2つの微小領域が接する境界線が、ディスクリネーションラインCHを形成する。この配向状態に対して、所定の値よりも高い電圧を印加すると、安定なホモジニアス領域が一気にスプレイ側に広がってゆくため、表示画面全体がベンド状態に速やかに転移する。その理由は、電圧印加時にはねじれたスプレイ配向よりもねじれたホモジニアス配向の方がエネルギー的に安定になること、及び90°以上のねじれ状態を経由することにより、スプレイからベンドへの転移に要するエネルギー障壁が小さくなることによる。   Therefore, the boundary line where these two minute regions are in contact forms the disclination line CH. When a voltage higher than a predetermined value is applied to this alignment state, a stable homogeneous region spreads to the splay side all at once, so that the entire display screen quickly transitions to the bend state. The reason is that the twisted homogeneous orientation is more energetically stable than the twisted splay orientation when a voltage is applied, and the energy required for the transition from spray to bend by passing through a twisted state of 90 ° or more. This is due to the smaller barrier.

なお、ディスクリネーションラインの末端部Hの位置は、ラビング方向Yのラビングにおけるロール押し込み量、ラビング布のパイル長さなどに依存して、わずかに変動する。これは、ラビング方向Yのラビングに関して、微小構造体31近傍に形成されるラビング影部の終端がラビングのかかり始める開始点に対応しているからである。   Note that the position of the end portion H of the disclination line slightly varies depending on the roll pressing amount in rubbing in the rubbing direction Y, the pile length of the rubbing cloth, and the like. This is because with respect to rubbing in the rubbing direction Y, the end of the rubbing shadow portion formed in the vicinity of the microstructure 31 corresponds to the starting point at which rubbing starts.

図7(a)〜(i)は、本発明の液晶表示装置における微小構造体を示す平面図である。これらの図においては、いずれも1回目、2回目及び3回目のラビング方向は図4に示す方向と同じである(図7では3回目のラビング方向Zのみ矢印で示す)。また、1回目のラビング処理のラビング方向Xにほぼ沿った辺の長さをaとし、2回目のラビング処理のラビング方向Yに沿った辺の長さをbで示す。   7A to 7I are plan views showing a microstructure in the liquid crystal display device of the present invention. In these figures, the first, second and third rubbing directions are the same as those shown in FIG. 4 (in FIG. 7, only the third rubbing direction Z is indicated by an arrow). In addition, the length of the side substantially along the rubbing direction X of the first rubbing process is denoted by a, and the length of the side along the rubbing direction Y of the second rubbing process is denoted by b.

図7(a),(b)に示す微小構造体31は、最も基本的な形状であり、辺aが辺bよりも長く設定された四角形であり、特に図7(b)に示す形状では、辺aの長さを辺bよりかなり長くしている。図7(c)に示す形状は、少なくともラビング方向Y及びラビング方向Zに関して円弧状の辺を持つもの(ラビング布のパイルが当接する部分が円弧状)であり、微小構造体31へのラビングによるダメージを軽減する観点で好ましい。   The microstructure 31 shown in FIGS. 7A and 7B is the most basic shape, and is a quadrangle in which the side a is set longer than the side b, and particularly in the shape shown in FIG. 7B. The length of side a is considerably longer than side b. The shape shown in FIG. 7C has an arc-shaped side at least in the rubbing direction Y and the rubbing direction Z (the portion where the pile of the rubbing cloth abuts is arc-shaped), and is formed by rubbing on the microstructure 31. This is preferable from the viewpoint of reducing damage.

図7(d)に示す形状は、外形がほぼ三角形であり、角度α、角度β、辺a、辺bなどに関して上述した関係を満たす。また、ラビングによる剥がれやダメージを防止するために、図7(e)に示に形状のようにZ方向に長さを有するようにしても良い。また、図7(f),(g)に示す形状のように、ラビングによるダメージの防止を考慮して、3回目のラビング処理を受ける側を凹形状にしても良い。   The shape shown in FIG. 7D has a substantially triangular outer shape and satisfies the relationship described above with respect to angle α, angle β, side a, side b, and the like. Further, in order to prevent peeling or damage due to rubbing, a length may be provided in the Z direction as shown in FIG. 7 (e). Further, like the shapes shown in FIGS. 7F and 7G, in consideration of prevention of damage due to rubbing, the side subjected to the third rubbing treatment may be formed into a concave shape.

さらに、図7(h),(i)に示す形状のように、複数の小構造体で微小構造体31を構成するようにしても良い。小構造体の配列で角度α、角度βの関係を満たし、また小構造体の集合体の長さが辺a、辺bの関係を実質的に満たすようにしている。小構造体間のスペースは、ラビング布のパイルがその間を通らないような間隔(例えば10μm)であれば、図7(a)〜(g)に示す構造体と同様な効果が得られる。   Furthermore, as shown in FIGS. 7H and 7I, the microstructure 31 may be configured by a plurality of small structures. The arrangement of the small structures satisfies the relationship between the angles α and β, and the length of the small structure aggregate substantially satisfies the relationship between the sides a and b. If the space between the small structures is an interval (for example, 10 μm) at which the pile of the rubbing cloth does not pass therethrough, the same effect as the structure shown in FIGS. 7A to 7G can be obtained.

ラビング強度に関しては、1回目のラビング処理のラビング強度よりも2回目のラビング処理のラビング強度が大きく、2回目のラビング処理のラビング強度よりも3回目のラビング処理のラビング強度が大きくなるように設定することが好ましい。すなわち、ラビング処理後の各領域の液晶分子に対する配向規制力(アンカリング)に関して、BCHの領域よりもHCDGFの領域の方が配向規制力を強く、さらにBCDGFEの領域以外の全領域の方が配向規制力を強く設定することにより、ラビング方向Zにラビング処理された領域が最も支配的に(広く)存在し、この中にラビング方向Xにラビング処理されたBCHの領域及びラビング方向Yにラビング処理されたEFGDの領域が島状に形成される。   The rubbing strength is set so that the rubbing strength of the second rubbing treatment is larger than the rubbing strength of the first rubbing treatment, and the rubbing strength of the third rubbing treatment is larger than the rubbing strength of the second rubbing treatment. It is preferable to do. That is, with respect to the alignment regulating force (anchoring) for the liquid crystal molecules in each region after the rubbing treatment, the HCDGF region has a stronger alignment regulating force than the BCH region, and the entire region other than the BCDGFE region is oriented. By setting the restricting force strongly, the region rubbed in the rubbing direction Z is most dominant (wide), and the BCH region rubbed in the rubbing direction X and the rubbing treatment in the rubbing direction Y The EFGD region thus formed is formed in an island shape.

配向規制力を変化させるには種々の方法が採用可能であり、例えば、ラビング処理の場合、配向規制力は、ラビング処理の程度を半定量的に表す「ラビング強度パラメータ」(Y. Sato, K. Sato and T. Uchida: Jpn. J. Appl. Phys., 31(1992) L579参照)を決める因子を変化させることで制御可能である。このラビング強度パラメータ(L)は、一般に下式で表される。なお、長さに関する単位は全てmmとする。
L=N×l×(l+2πrn/60v)
ここで、N(mm)はラビング回数を表し、l(mm)はラビング布への沈み込み深さ(押し込み量)を表し、r(mm)はラビングロールの半径を表し、 n(rpm)はロールの回転数を表し、vは基板ステージの移動速度を表す。その結果、ラビング強度パラメータは、基板上で一点を通過するラビング布の長さ(mm)に関係した量となる。上式から明らかなように、ラビング回数や押し込み量を増減させたり、あるいはラビングロールの径や回転速度を増減させたり、基板送り速度を変化させることにより、配向規制力の強弱を制御することが可能である。
Various methods can be used to change the orientation regulating force. For example, in the case of rubbing, the orientation regulating force is a “rubbing strength parameter” (Y. Sato, K) that semiquantitatively represents the degree of rubbing treatment. Sato and T. Uchida: Jpn. J. Appl. Phys., 31 (1992) L579). This rubbing strength parameter (L) is generally expressed by the following equation. Note that all the units related to the length are mm.
L = N × l × (l + 2πrn / 60v)
Here, N (mm) represents the number of times of rubbing, l (mm) represents the depth of depression (pushing amount) into the rubbing cloth, r (mm) represents the radius of the rubbing roll, and n (rpm) is The number of rotations of the roll is represented, and v represents the moving speed of the substrate stage. As a result, the rubbing strength parameter is an amount related to the length (mm) of the rubbing cloth passing through one point on the substrate. As is clear from the above equation, the strength of the orientation regulation force can be controlled by increasing or decreasing the number of rubbing and the amount of pushing, increasing or decreasing the rubbing roll diameter or rotation speed, or changing the substrate feed speed. Is possible.

本発明において、微小構造体を配置する場所は、特に制約されることはない。例えば、表示画素又はサブ画素と呼ばれるRGBなどの単位画素や、能動素子の電極配線であるソース電極配線(あるいはゲート電極配線)上に配置することができる。なお、画素電極上に配置する場合には、開口率やコントラストを考慮することが望ましい。   In the present invention, the place where the microstructure is arranged is not particularly limited. For example, it can be arranged on unit pixels such as RGB called display pixels or sub-pixels, or source electrode wiring (or gate electrode wiring) which is an electrode wiring of an active element. In the case of being arranged on the pixel electrode, it is desirable to consider the aperture ratio and contrast.

上記説明においては、それぞれの画素に対応して、少なくとも一つのスプレイ−ベンド転移の起点を形成する場合について説明しているが、これに限定されず、本発明は、液晶組成物の物性値(弾性定数、誘電異方性など)、パネルギャップ、液晶分子のプレティルト角、配向規制力などに応じて、配置密度を適宜変更することができる。例えば、転移の起点が3〜10画素当りに1個であっても良い。また、1画素当り2〜4個設けることにより、ベンド転移の起点が相対的に多く存在することになり、ベンド転移への時間を実質的に極めて短くすることができる。例えば、プレティルト角が大きい(4°又は5°〜15°)場合、スプレイ−ベンド転移が極めて起こり易くなるため、転移の起点の配置密度が10あるいはそれ以上の画素数当り1個でも有効となる。   In the above description, the case where at least one spray-bend transition start point is formed corresponding to each pixel is described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to the physical property values ( The arrangement density can be appropriately changed according to the elastic constant, dielectric anisotropy, etc.), the panel gap, the pretilt angle of the liquid crystal molecules, the alignment regulating force, and the like. For example, the number of transition start points may be one per 3 to 10 pixels. Also, by providing 2 to 4 pixels per pixel, there are relatively many starting points for bend transition, and the time to bend transition can be substantially shortened. For example, when the pretilt angle is large (4 ° or 5 ° to 15 °), the splay-bend transition is very likely to occur. Therefore, even when the arrangement density of the transition start points is 10 or more, it is effective. .

上記においては、能動素子が形成されたTFT基板上に微小構造体を設けた場合について説明しているが、本発明においては、対向基板であるCF基板に微小構造体を設けても良い。   In the above description, the case where the microstructure is provided on the TFT substrate on which the active element is formed is described. However, in the present invention, the microstructure may be provided on the CF substrate which is the counter substrate.

次に、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。
サブ画素に赤、緑、青のフィルタを形成した一般的なCF基板を作製し、寸法10μm×10μm(図4における辺aが10μmであり、辺bが10μmである)で高さ4μmの微小構造体(柱スペーサ)をサブ画素に1個づつ60μmピッチで形成した。この柱スペーサの頂角(図4におけるθ2)は120°とし、角度αが60°、角度βが60°とした。また、柱スペーサの幅(ラビング方向Zに沿う方向の幅)は6μmとした。
Next, examples performed for clarifying the effects of the present invention will be described.
A general CF substrate in which red, green, and blue filters are formed on sub-pixels is manufactured, and the dimensions are 10 μm × 10 μm (the side a in FIG. 4 is 10 μm and the side b is 10 μm), and the height is 4 μm. Structures (column spacers) were formed at a pitch of 60 μm for each subpixel. The apex angle (θ2 in FIG. 4) of this column spacer was 120 °, the angle α was 60 °, and the angle β was 60 °. The width of the column spacer (the width in the direction along the rubbing direction Z) was 6 μm.

この柱スペーサは、透明ネガレジストCL−016S(TOK製)を100mJ/cm2で露光し、N−A3K(商品名)の0.5%水溶液で60秒現像し、その後300mJ/cm2でポスト露光し、220℃で1時間のポストベークを行うことにより形成した。得られた柱スペーサの断面における底角(図5におけるθ3)が60°であった。 This column spacer is exposed to transparent negative resist CL-016S (manufactured by TOK) at 100 mJ / cm 2 , developed with a 0.5% aqueous solution of N-A3K (trade name) for 60 seconds, and then post-treated at 300 mJ / cm 2 . It formed by exposing and performing a post-baking at 220 degreeC for 1 hour. The base angle (θ3 in FIG. 5) in the cross section of the obtained column spacer was 60 °.

このCF基板に対して、図4に示すように、ラビング方向Xに1回目のラビング処理を行い、ラビング方向Yに2回目のラビング処理を行い、ラビング方向Zに3回目のラビング処理を行った。3回のラビング処理すべてについてラビング強度を100cm(押し込み量0.2mm)とした。   As shown in FIG. 4, the CF substrate was subjected to the first rubbing process in the rubbing direction X, the second rubbing process in the rubbing direction Y, and the third rubbing process in the rubbing direction Z. . The rubbing strength was 100 cm (pushing amount 0.2 mm) for all three rubbing treatments.

次いで、ソース電極、ゲート電極、画素電極、TFT素子などを形成したTFT基板を通常の手法により作製した。TFT基板に対して、ラビング強度300cm(押し込み量0.6mm)で図4に示すラビング方向Zでラビング処理を行った。   Next, a TFT substrate on which a source electrode, a gate electrode, a pixel electrode, a TFT element and the like were formed was produced by a normal method. The TFT substrate was rubbed in the rubbing direction Z shown in FIG. 4 with a rubbing strength of 300 cm (pushing amount 0.6 mm).

次いで、CF基板に形成した柱スペーサを基板間のギャップ材としてCF基板と、TFT基板とを重ね合わせた。次いで、重ね合わせた基板をパネル単位にカットした後、両基板間に液晶材料(チッソ(株)製)を真空注入法により注入してOCB液晶パネルを作製した。   Next, the CF substrate and the TFT substrate were overlapped using the column spacer formed on the CF substrate as a gap material between the substrates. Next, after the stacked substrates were cut into panel units, a liquid crystal material (manufactured by Chisso Corporation) was injected between both substrates by a vacuum injection method to produce an OCB liquid crystal panel.

また、角度αを50°、55°、70°、75°、80°に変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。また、角度βを50°、55°、70°、75°、80°に変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。   Each OCB liquid crystal panel was produced in the same manner as described above except that the angle α was changed to 50 °, 55 °, 70 °, 75 °, and 80 °. Each OCB liquid crystal panel was produced in the same manner as described above except that the angle β was changed to 50 °, 55 °, 70 °, 75 °, and 80 °.

このようにして得られたOCB液晶パネルについて、それぞれの画素電極、ソース電極ラインに5Vの電圧を印加してスプレイ−ベンド転移が誘起されるかどうかを光学顕微鏡により調べた。その結果、すべてのOCB液晶パネルにおいて、電圧印加直後に、CF基板のポストスペーサ形成領域と画素電極スペースが交差する箇所からスプレイ−ベンド転移が発生し、約0.5秒でパネル全画素がベンド配向へと転移した。   The OCB liquid crystal panel thus obtained was examined by an optical microscope to determine whether a spray-bend transition was induced by applying a voltage of 5 V to each pixel electrode and source electrode line. As a result, in all OCB liquid crystal panels, immediately after voltage application, a splay-bend transition occurs from the point where the post spacer formation region of the CF substrate intersects with the pixel electrode space, and all the panel pixels bend in about 0.5 seconds. Transitioned to orientation.

また、柱スペーサの辺aの長さを12μm、15μmに変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。また、柱スペーサの幅(ラビング方向Zに沿う方向の幅)を5μm、7μm、10μm、15μmに変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。また、柱スペーサの高さを3μm、3.5μm、4.5μm、5μm、5.5μmに変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。さらに、柱スペーサの断面における底角(図5におけるθ3)を45°、90°、100°、110°に変更すること以外は上記と同様にしてそれぞれのOCB液晶パネルを作製した。   Each OCB liquid crystal panel was fabricated in the same manner as described above except that the length of the side a of the column spacer was changed to 12 μm and 15 μm. Each OCB liquid crystal panel was prepared in the same manner as described above except that the width of the column spacer (the width in the direction along the rubbing direction Z) was changed to 5 μm, 7 μm, 10 μm, and 15 μm. Each OCB liquid crystal panel was fabricated in the same manner as described above except that the column spacer height was changed to 3 μm, 3.5 μm, 4.5 μm, 5 μm, and 5.5 μm. Further, each OCB liquid crystal panel was produced in the same manner as described above except that the base angle (θ3 in FIG. 5) in the cross section of the column spacer was changed to 45 °, 90 °, 100 °, and 110 °.

このようにして得られたOCB液晶パネルについて、それぞれの画素電極、ソース電極ラインに5Vの電圧を印加してスプレイ−ベンド転移が誘起されるかどうかを光学顕微鏡により調べた。その結果、すべてのOCB液晶パネルにおいて、電圧印加直後に、CF基板のポストスペーサ形成領域と画素電極スペースが交差する箇所からスプレイ−ベンド転移が発生し、約0.5秒でパネル全画素がベンド配向へと転移した。   The OCB liquid crystal panel thus obtained was examined by an optical microscope to determine whether a spray-bend transition was induced by applying a voltage of 5 V to each pixel electrode and source electrode line. As a result, in all OCB liquid crystal panels, immediately after voltage application, a splay-bend transition occurs from the point where the post spacer formation region of the CF substrate intersects with the pixel electrode space, and all the panel pixels bend in about 0.5 seconds. Transitioned to orientation.

上述したように、本発明の液晶表示装置においては、適切な形状を持つ微小構造体を設けているので、所定のラビング処理によりスプレイ−ベンド転移を誘起させる2つの微小領域、すなわち左ねじれホモジニアス領域及び右ねじれスプレイ領域を確実に形成することができる。これにより、全画面においてベンド配向に迅速に転移させることが可能となる。   As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, since a microstructure having an appropriate shape is provided, two minute regions that induce a spray-bend transition by a predetermined rubbing process, that is, a left twisted homogeneous region In addition, the right twisted spray region can be reliably formed. As a result, it is possible to quickly shift to bend alignment over the entire screen.

本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、上記実施の形態で説明した数値や材質、液晶表示装置の構成などについては特に制限はない。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更することが可能である。   The present invention is not limited to the embodiment described above, and can be implemented with various modifications. For example, the numerical values and materials described in the above embodiments, the configuration of the liquid crystal display device, and the like are not particularly limited. Other modifications may be made as appropriate without departing from the scope of the object of the present invention.

本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す分解斜視図である。1 is an exploded perspective view showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. 図1に示す液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device shown in FIG. 図1に示す液晶表示装置のアクティブマトリクス基板を示す拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view showing an active matrix substrate of the liquid crystal display device shown in FIG. 1. 本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の微小構造体を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the microstructure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の微小構造体を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the microstructure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention. (a)〜(c)は、液晶分子の配向状態を説明するための図である。(A)-(c) is a figure for demonstrating the orientation state of a liquid crystal molecule. (a)〜(i)は、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の微小構造体の他の例を説明するための図である。(A)-(i) is a figure for demonstrating the other example of the microstructure of the liquid crystal display device which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

3,4 基板
5 液晶層
11 TFT
12 ゲート電極
13 ゲート絶縁膜
14 半導体層
15 ソース電極
16 ドレイン電極
17 絶縁層
18 走査線
19 信号線
22 画素電極
23,24 配向制御層
25 ブラックマトリクス層
26R,26G カラーフィルタ層
27 対向電極
31 微小構造体
32 BCHの領域
33 EDGFの領域
34 CH線
41 液晶分子
3,4 substrate 5 liquid crystal layer 11 TFT
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Gate electrode 13 Gate insulating film 14 Semiconductor layer 15 Source electrode 16 Drain electrode 17 Insulating layer 18 Scan line 19 Signal line 22 Pixel electrode 23, 24 Orientation control layer 25 Black matrix layer 26R, 26G Color filter layer 27 Counter electrode 31 Microstructure Body 32 BCH region 33 EDGF region 34 CH line 41 Liquid crystal molecule

Claims (7)

電極と配向制御層とがそれぞれ配置された一対の基板間に正の誘電異方性を有する液晶層が挟持された液晶表示装置であって、一方の基板の配向制御層は、電圧印加時に液晶分子のねじれ配列が互いに異なるねじれ構造を持つ2つの微小領域を形成するような微小構造体を有し、前記微小構造体は、平面視において、前記一方の基板の配向制御層に施される第1のラビング処理の第1のラビング方向に沿う第1の辺と、前記一方の基板の配向制御層に施される第2のラビング処理の第2のラビング方向に沿う第2の辺と、を含み、前記第1ラビング方向と前記第2ラビング方向との間のなす角を前記第1の辺と前記第2の辺との間のなす角とすることを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device in which a liquid crystal layer having positive dielectric anisotropy is sandwiched between a pair of substrates on which an electrode and an alignment control layer are respectively disposed, and the alignment control layer of one substrate is a liquid crystal when a voltage is applied A microstructure that forms two microregions having a twisted structure with different molecular twisting arrangements, and the microstructure has a first structure applied to the orientation control layer of the one substrate in a plan view; A first side along a first rubbing direction of one rubbing process, and a second side along a second rubbing direction of a second rubbing process applied to the orientation control layer of the one substrate. In addition, an angle formed between the first rubbing direction and the second rubbing direction is an angle formed between the first side and the second side. 前記第1のラビング処理の後に前記第2のラビング処理が行われ、前記第1のラビング処理の強度が前記第2のラビング処理の強度以下であることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。   2. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the second rubbing process is performed after the first rubbing process, and the intensity of the first rubbing process is equal to or less than the intensity of the second rubbing process. apparatus. 前記微小構造体において、前記第1の辺の長さが前記第2の辺の長さ以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の液晶表示装置。   3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein in the microstructure, the length of the first side is equal to or longer than the length of the second side. 前記微小構造体の幅が5μm以上であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a width of the microstructure is 5 μm or more. 前記微小構造体の高さが2μm以上パネルギャップ以下であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a height of the microstructure is 2 μm or more and a panel gap or less. 前記微小構造体は、断面における底角が45°〜110°である形状を有することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the microstructure has a shape with a base angle in a cross section of 45 ° to 110 °. 前記2つの微小領域は、ホモジニアス−ツイスト領域及びスプレイ−ツイスト領域であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の液晶表示装置。   7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the two minute regions are a homogeneous-twist region and a spray-twist region.
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