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JP2008171998A - Reticle chuck, reticle, absorption structure of reticle and exposure device - Google Patents

Reticle chuck, reticle, absorption structure of reticle and exposure device Download PDF

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JP2008171998A
JP2008171998A JP2007003465A JP2007003465A JP2008171998A JP 2008171998 A JP2008171998 A JP 2008171998A JP 2007003465 A JP2007003465 A JP 2007003465A JP 2007003465 A JP2007003465 A JP 2007003465A JP 2008171998 A JP2008171998 A JP 2008171998A
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JP
Japan
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reticle
chuck
electromagnet
permanent magnet
reticle chuck
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2007003465A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukiharu Okubo
至晴 大久保
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To speedily attach and detach a reticle on a reticle chuck used for holding the reticle in an exposure device, and on the reticle, an attraction structure of the reticle and the exposure device. <P>SOLUTION: The reticle chuck attracting the reticle to an attracting face is provided with an electromagnet attracting a permanent magnet buried in the reticle. The reticle attracted to the attracting face of the reticle chuck is provided with the permanent magnet attracted by the electromagnet buried in the reticle chuck. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、露光装置内においてレチクルの保持に使用されるレチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置に関する。   The present invention relates to a reticle chuck used to hold a reticle in an exposure apparatus, a reticle, a reticle suction structure, and an exposure apparatus.

真空雰囲気中において露光を行うＥＵＶ露光装置、電子線露光装置等の露光装置では、真空吸着チャックを使用できないため、通常、静電チャックにレチクルを保持している。
特開平９−１３９４１９号公報 In an exposure apparatus such as an EUV exposure apparatus or an electron beam exposure apparatus that performs exposure in a vacuum atmosphere, a vacuum suction chuck cannot be used. Therefore, a reticle is usually held on an electrostatic chuck.
JP-A-9-139419

しかしながら、静電チャックは、静電気力を用いているため、着脱の応答が遅いという問題があった。特に、レチクルを静電チャックから離脱する際には、残留吸着力により長い時間が必要になり、スループットの低下をもたらす。
本発明は、かかる従来の問題を解決するためになされたもので、レチクルの着脱を迅速に行うことができるレチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置を提供することを目的とする。 However, since the electrostatic chuck uses electrostatic force, there is a problem that the response of attachment / detachment is slow. In particular, when the reticle is detached from the electrostatic chuck, a longer time is required due to the residual attracting force, resulting in a decrease in throughput.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a reticle chuck, a reticle, a reticle suction structure, and an exposure apparatus that can quickly attach and detach a reticle.

第１の発明のレチクルチャックは、吸着面にレチクルを吸着するレチクルチャックにおいて、前記レチクルに埋設される永久磁石を吸着する電磁石を有することを特徴とする。
第２の発明のレチクルチャックは、第１の発明のレチクルチャックにおいて、前記吸着面に凹部を形成し、前記凹部の内側に前記電磁石を埋設してなることを特徴とする。
第３の発明のレチクルチャックは、第１または第２の発明のレチクルチャックにおいて、前記電磁石は、偏平形状をしていることを特徴とする。 A reticle chuck according to a first aspect of the present invention is a reticle chuck that attracts a reticle to an attracting surface, and has an electromagnet that attracts a permanent magnet embedded in the reticle.
A reticle chuck according to a second invention is the reticle chuck according to the first invention, wherein a concave portion is formed in the attraction surface, and the electromagnet is embedded inside the concave portion.
A reticle chuck according to a third aspect of the present invention is the reticle chuck according to the first or second aspect, wherein the electromagnet has a flat shape.

第４の発明のレチクルチャックは、第１ないし第３のいずれか１の発明のレチクルチャックにおいて、前記レチクルを前記吸着面に吸着する静電チャック機能を有することを特徴とする。
第５の発明のレチクルチャックは、第１ないし第４のいずれか１の発明のレチクルチャックにおいて、前記吸着面を下にして用いられることを特徴とする。 A reticle chuck according to a fourth aspect of the invention is the reticle chuck according to any one of the first to third aspects, wherein the reticle chuck has an electrostatic chuck function for attracting the reticle to the attracting surface.
A reticle chuck according to a fifth aspect of the invention is the reticle chuck according to any one of the first to fourth aspects of the invention, wherein the reticle chuck is used with the suction surface facing down.

第６の発明のレチクルは、レチクルチャックの吸着面に吸着されるレチクルにおいて、前記レチクルチャックに埋設される電磁石に吸着される永久磁石を有することを特徴とする。
第７の発明のレチクルは、第６の発明のレチクルにおいて、前記レチクルの前記吸着面側に凹部を形成し、前記凹部の内側に前記永久磁石を埋設してなることを特徴とする。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a reticle that is attracted to the attracting surface of the reticle chuck. The reticle includes a permanent magnet that is attracted to an electromagnet embedded in the reticle chuck.
A reticle according to a seventh aspect is the reticle according to the sixth aspect, wherein a concave portion is formed on the side of the attracting surface of the reticle, and the permanent magnet is embedded inside the concave portion.

第８の発明のレチクルは、第６または第７の発明のレチクルにおいて、前記永久磁石は、偏平形状をしていることを特徴とする。
第９の発明のレチクルの吸着構造は、レチクルチャックの吸着面にレチクルを吸着するレチクルの吸着構造において、前記レチクルチャックに電磁石を埋設するとともに、前記レチクルに永久磁石を埋設してなることを特徴とする。 The reticle of the eighth invention is the reticle of the sixth or seventh invention, characterized in that the permanent magnet has a flat shape.
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a reticle adsorption structure in which a reticle is adsorbed on an adsorption surface of a reticle chuck, wherein an electric magnet is embedded in the reticle chuck and a permanent magnet is embedded in the reticle. And

第１０の発明のレチクルの吸着構造は、第９の発明のレチクルの吸着構造において、前記電磁石は、鉄心の外側にコイルを巻回してなることを特徴とする。
第１１の発明のレチクルの吸着構造は、第９または第１０の発明のレチクルの吸着構造において、前記レチクルチャックは、静電チャックであることを特徴とする。
第１２の発明の露光装置は、第１ないし第５のいずれか１の発明のレチクルチャックを有することを特徴とする。 A reticle adsorption structure according to a tenth aspect of the invention is the reticle adsorption structure according to the ninth aspect of the invention, wherein the electromagnet is formed by winding a coil around an iron core.
The reticle suction structure according to an eleventh aspect of the invention is the reticle suction structure according to the ninth or tenth aspect of the invention, wherein the reticle chuck is an electrostatic chuck.
An exposure apparatus according to a twelfth aspect includes the reticle chuck according to any one of the first to fifth aspects.

本発明では、レチクルの着脱を迅速に行うことができる。   In the present invention, the reticle can be quickly attached and detached.

以下、本発明の実施形態を図面を用いて詳細に説明する。
(第１の実施形態)
図１は、本発明のレチクルの吸着構造の第１の実施形態を示している。この実施形態では、本発明のレチクルの吸着構造がＥＵＶ露光装置のレチクルステージに適用される。
この実施形態のレチクルの吸着構造では、レチクルチャック１１にレチクル１３が吸着保持される。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 shows a first embodiment of the reticle adsorption structure of the present invention. In this embodiment, the reticle adsorption structure of the present invention is applied to a reticle stage of an EUV exposure apparatus.
In the reticle suction structure of this embodiment, the reticle 13 is held by suction on the reticle chuck 11.

レチクルチャック１１は、露光装置のレチクルステージ１５の下面に固定されている。レチクルチャック１１は、セラミック、低熱膨張金属等からなる。レチクルチャック１１の下面には、レチクル１３を吸着する吸着面１１ａが形成されている。
レチクルチャック１１の両側には、電磁石１７が埋設されている。電磁石１７は、レチクル１３に埋設される永久磁石１９を吸着する。電磁石１７は、鉄心２１の外側にコイル２３を巻回してなる。電磁石１７は、レチクルチャック１１の両側に形成される貫通穴１１ｂ内に収容され固定されている。 The reticle chuck 11 is fixed to the lower surface of the reticle stage 15 of the exposure apparatus. The reticle chuck 11 is made of ceramic, low thermal expansion metal, or the like. An adsorption surface 11 a that adsorbs the reticle 13 is formed on the lower surface of the reticle chuck 11.
Electromagnets 17 are embedded on both sides of the reticle chuck 11. The electromagnet 17 attracts the permanent magnet 19 embedded in the reticle 13. The electromagnet 17 is formed by winding a coil 23 around the iron core 21. The electromagnet 17 is accommodated and fixed in a through hole 11 b formed on both sides of the reticle chuck 11.

レチクルチャック１１は、図２に示すように矩形形状をしている。レチクルチャック１１の両側には、それぞれ一対の貫通穴１１ｂが形成されている。貫通穴１１ｂは、レーシングトラック状をした偏平状をしており、長手方向をレチクルチャック１１の両側の辺部１１ｃに沿って延在されている。一対の貫通穴１１ｂは、辺部１１ｃの方向に所定間隔を置いて形成されている。また、辺部１１ｃにできるだけ近い位置に形成されている。   The reticle chuck 11 has a rectangular shape as shown in FIG. A pair of through holes 11b are formed on both sides of the reticle chuck 11, respectively. The through hole 11b has a flat shape like a racing track, and extends in the longitudinal direction along the side portions 11c on both sides of the reticle chuck 11. The pair of through holes 11b are formed at a predetermined interval in the direction of the side portion 11c. Further, it is formed as close as possible to the side portion 11c.

貫通穴１１ｂ内には、貫通穴１１ｂの形状に対応する形状の電磁石１７が嵌挿され固定されている。貫通穴１１ｂの上下には、凹部１１ｄが座ぐり状に形成されている。凹部１１ｄは、貫通穴１１ｂの開口部に沿ってレーシングトラック状に形成されている。このように凹部１１ｄを形成することにより、電磁石１７の通電時に、凹部１１ｄ内にゴミが吸引される。従って、レチクルチャック１１のレチクルステージ１５側の取付面１１ｅおよび吸着面１１ａにゴミが付着することを防止することができる。   In the through hole 11b, an electromagnet 17 having a shape corresponding to the shape of the through hole 11b is fitted and fixed. On the top and bottom of the through hole 11b, a recess 11d is formed in a spot shape. The recess 11d is formed in a racing track shape along the opening of the through hole 11b. By forming the recess 11d in this way, dust is attracted into the recess 11d when the electromagnet 17 is energized. Accordingly, it is possible to prevent dust from adhering to the mounting surface 11e and the suction surface 11a of the reticle chuck 11 on the reticle stage 15 side.

レチクル１３は、レチクルチャック１１の吸着面１１ａに吸着保持される。レチクル１３は低熱膨張ガラス等からなる。レチクル１３の下面にはパターン面１３ａが形成されている。パターン面１３ａには露光パターンが形成されている。パターン面１３ａで反射したＥＵＶ光Ｅにより露光が行われる。
レチクル１３の両側には、レチクルチャック１１の電磁石１７に対応する位置に永久磁石１９が埋設されている。永久磁石１９は、レチクルチャック１１に埋設される電磁石１７に吸着される。永久磁石１９は、レチクル１３の両側に形成される貫通穴１３ｂ内に収容され固定されている。 The reticle 13 is held by suction on the suction surface 11 a of the reticle chuck 11. The reticle 13 is made of low thermal expansion glass or the like. A pattern surface 13 a is formed on the lower surface of the reticle 13. An exposure pattern is formed on the pattern surface 13a. Exposure is performed by EUV light E reflected by the pattern surface 13a.
On both sides of the reticle 13, permanent magnets 19 are embedded at positions corresponding to the electromagnets 17 of the reticle chuck 11. The permanent magnet 19 is attracted to the electromagnet 17 embedded in the reticle chuck 11. The permanent magnet 19 is accommodated and fixed in a through hole 13 b formed on both sides of the reticle 13.

レチクル１３は、図３に示すように矩形形状をしている。レチクル１３の両側には、それぞれ一対の貫通穴１３ｂが形成されている。貫通穴１３ｂは、レーシングトラック状をした偏平状をしており、長手方向をレチクル１３の両側の辺部１３ｃに沿って延在されている。一対の貫通穴１３ｂは、辺部１３ｃの方向に所定間隔を置いて形成されている。また、辺部１３ｃにできるだけ近い位置に形成されている。このように貫通穴１３ｂを形成することにより、レチクル１３のパターン面１３ａのパターンを外れた位置に貫通穴１３ｂを比較的容易に形成することができる。   The reticle 13 has a rectangular shape as shown in FIG. A pair of through holes 13b are formed on both sides of the reticle 13, respectively. The through hole 13 b has a flat shape like a racing track, and extends in the longitudinal direction along the side portions 13 c on both sides of the reticle 13. The pair of through holes 13b are formed at a predetermined interval in the direction of the side portion 13c. Further, it is formed as close as possible to the side portion 13c. By forming the through hole 13b in this manner, the through hole 13b can be formed relatively easily at a position off the pattern of the pattern surface 13a of the reticle 13.

貫通穴１３ｂ内には、貫通穴１３ｂの形状に対応する形状の永久磁石１９が嵌挿され固定されている。貫通穴１３ｂの上下には、凹部１３ｄが座ぐり状に形成されている。凹部１３ｄは、貫通穴１３ｂの開口部に沿ってレーシングトラック状に形成されている。このように凹部１３ｄを形成することにより、永久磁石１９に吸引されたゴミが凹部１３ｄ内に吸引される。従って、レチクル１３の吸着面１１ａ側およびパターン面１３ａ側にゴミが付着することを防止することができる。この実施形態では、レチクル１３の貫通穴１３ｂは、レチクルチャック１１の貫通穴１１ｂに対応する位置に同一形状および同一の大きさで形成されている。また、レチクル１３の凹部１３ｄは、レチクルチャック１１の凹部１１ｄより深さが浅いことを除いて同一形状および同一の大きさで形成されている。   A permanent magnet 19 having a shape corresponding to the shape of the through hole 13b is fitted and fixed in the through hole 13b. On the top and bottom of the through hole 13b, a recess 13d is formed in a spot shape. The recess 13d is formed in a racing track shape along the opening of the through hole 13b. By forming the recess 13d in this way, dust attracted to the permanent magnet 19 is attracted into the recess 13d. Therefore, it is possible to prevent dust from adhering to the suction surface 11a side and the pattern surface 13a side of the reticle 13. In this embodiment, the through hole 13 b of the reticle 13 is formed in the same shape and the same size at a position corresponding to the through hole 11 b of the reticle chuck 11. Further, the recess 13 d of the reticle 13 is formed in the same shape and the same size except that the depth is smaller than the recess 11 d of the reticle chuck 11.

図１において符号２５は電源制御部を示している。電源制御部２５は電磁石１７のオン，オフを行う。また、電磁石１７への電圧の印加方向を制御する。
上述したレチクルの吸着構造では、レチクルチャック１１へのレチクル１３の着脱が以下述べるようにして行われる。
レチクルチャック１１へのレチクル１３の装着時には、電源制御部２５によりレチクルチャック１１の電磁石１７をオフにした状態で、搬送アーム(不図示)によりレチクル１３がレチクルチャック１１の下方近傍の所定位置に搬送される。この状態では、永久磁石１９は、電磁石１７の鉄心２１に直接吸着しない距離だけ離間されている。そして、この状態から、電源制御部２５によりレチクルチャック１１の電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と反対になるようにオンすることによりレチクル１３の永久磁石１９がレチクルチャック１１の電磁石１７に吸着され、レチクル１３がレチクルチャック１１に保持される。そして、電源制御部２５により電磁石１７がオフにされる。この状態では、永久磁石１９は電磁石１７の鉄心２１に直接吸着する距離だけ接近しており、レチクル１３のレチクルチャック１１への保持が維持される。なお、電源制御部２５により電磁石１７をオフにすることなく保持を行うようにしても良い。 In FIG. 1, reference numeral 25 denotes a power supply control unit. The power controller 25 turns the electromagnet 17 on and off. In addition, the direction of voltage application to the electromagnet 17 is controlled.
In the reticle suction structure described above, the reticle 13 is attached to and detached from the reticle chuck 11 as described below.
When the reticle 13 is mounted on the reticle chuck 11, the reticle 13 is transported to a predetermined position near the lower side of the reticle chuck 11 by a transport arm (not shown) while the electromagnet 17 of the reticle chuck 11 is turned off by the power controller 25. Is done. In this state, the permanent magnets 19 are separated by a distance that is not directly attracted to the iron core 21 of the electromagnet 17. Then, from this state, the power supply control unit 25 turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11 so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 is opposite to the polarity of the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19. 19 is attracted to the electromagnet 17 of the reticle chuck 11, and the reticle 13 is held by the reticle chuck 11. Then, the electromagnet 17 is turned off by the power control unit 25. In this state, the permanent magnet 19 is close to the distance directly attracted to the iron core 21 of the electromagnet 17, and the holding of the reticle 13 on the reticle chuck 11 is maintained. The power supply control unit 25 may hold the electromagnet 17 without turning it off.

レチクルチャック１１からのレチクル１３の離脱時には、電源制御部２５によりレチクルチャック１１の電磁石１７をオフにした状態で、搬送アーム(不図示)が、レチクル１３の下方近傍の所定位置に位置される。そして、この状態から、電源制御部２５によりレチクルチャック１１の電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と同一になるようにオンすることによりレチクル１３の永久磁石１９がレチクルチャック１１の電磁石１７に対して反発し、レチクル１３がレチクルチャック１１から離脱し搬送アーム(不図示)に保持される。   When the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11, the transfer arm (not shown) is positioned at a predetermined position near the lower side of the reticle 13 with the power supply control unit 25 turning off the electromagnet 17 of the reticle chuck 11. In this state, the power controller 25 turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11 so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 has the same polarity as the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19. 19 repels the electromagnet 17 of the reticle chuck 11, and the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11 and held by a transfer arm (not shown).

上述したレチクルの吸着構造では、レチクルチャック１１の電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を吸着してレチクル１３をレチクルチャック１１に吸着し、また、レチクルチャック１１の電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を反発してレチクル１３をレチクルチャック１１から離脱するようにしたので、レチクル１３の着脱を迅速に行うことができる。
(第２の実施形態)
図４は、本発明のレチクルの吸着構造の第２の実施形態を示している。 In the reticle attracting structure described above, the permanent magnet 19 of the reticle 13 is attracted by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11 to attract the reticle 13 to the reticle chuck 11, and the permanent magnet 19 of the reticle 13 is attracted by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11. Thus, the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11 so that the reticle 13 can be attached and detached quickly.
(Second Embodiment)
FIG. 4 shows a second embodiment of the reticle adsorption structure of the present invention.

なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、本発明が静電チャックに適用される。
レチクルチャック１１Ａは、ジョンソン・ラーベック力型の静電チャックであり、チャック本体２７内には、一対の内部電極２９Ａ，２９Ｂが配置されている。内部電極２９Ａに電源制御部２５Ａにより、例えば正の電圧を印加し、内部電極２９Ｂに負の電圧を印加することにより静電気力が発生しレチクル１３が吸着される。そして、電源制御部２５Ａによる電圧の印加を解除すると、内部電極２９Ａ，２９Ｂが接地される。 In addition, in this embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the element same as 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
In this embodiment, the present invention is applied to an electrostatic chuck.
The reticle chuck 11 </ b> A is a Johnson-Rahbek force type electrostatic chuck, and a pair of internal electrodes 29 </ b> A and 29 </ b> B are disposed in the chuck body 27. For example, a positive voltage is applied to the internal electrode 29A by the power supply control unit 25A, and a negative voltage is applied to the internal electrode 29B, whereby electrostatic force is generated and the reticle 13 is adsorbed. When the voltage application by the power control unit 25A is released, the internal electrodes 29A and 29B are grounded.

チャック本体２７の両側には、第１の実施形態と同様にして電磁石１７が配置されている。また、レチクル１３の両側には、第１の実施形態と同様にして永久磁石１９が配置されている。
この実施形態では、レチクルチャック１１Ａへのレチクル１３の着脱が以下述べるようにして行われる。 Electromagnets 17 are arranged on both sides of the chuck body 27 in the same manner as in the first embodiment. Further, permanent magnets 19 are arranged on both sides of the reticle 13 in the same manner as in the first embodiment.
In this embodiment, the reticle 13 is attached to and detached from the reticle chuck 11A as described below.

レチクルチャック１１Ａへのレチクル１３の装着時には、電源制御部２５Ａによりレチクルチャック１１Ａの電磁石１７および内部電極２９Ａ，２９Ｂをオフにした状態で、搬送アーム(不図示)によりレチクル１３がレチクルチャック１１Ａの下方近傍の所定位置に搬送される。そして、この状態から、電源制御部２５Ａによりレチクルチャック１１Ａの電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と反対になるようにオンする。また、同時に電源制御部２５Ａにより内部電極２９Ａ，２９Ｂをオンにする。これによりレチクル１３の永久磁石１９がレチクルチャック１１Ａの電磁石１７に吸着され、同時に、レチクル１３が静電気力によりチャック本体２７に吸着され、レチクル１３がレチクルチャック１１Ａに迅速に保持される。そして、電源制御部２５Ａにより電磁石１７のみがオフにされ、内部電極２９Ａ，２９Ｂはオンの状態を維持される。この状態では、静電気力によりレチクル１３がチャック本体２７に吸着されレチクル１３のレチクルチャック１１Ａへの保持が維持される。   When the reticle 13 is mounted on the reticle chuck 11A, the reticle 13 is moved below the reticle chuck 11A by the transfer arm (not shown) while the electromagnet 17 and the internal electrodes 29A and 29B of the reticle chuck 11A are turned off by the power controller 25A. It is conveyed to a predetermined position in the vicinity. From this state, the power controller 25A turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 is opposite to the polarity of the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19. At the same time, the internal electrodes 29A and 29B are turned on by the power controller 25A. As a result, the permanent magnet 19 of the reticle 13 is attracted to the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A, and at the same time, the reticle 13 is attracted to the chuck body 27 by electrostatic force, and the reticle 13 is quickly held on the reticle chuck 11A. Then, only the electromagnet 17 is turned off by the power controller 25A, and the internal electrodes 29A and 29B are kept on. In this state, the reticle 13 is attracted to the chuck body 27 by the electrostatic force, and the holding of the reticle 13 on the reticle chuck 11A is maintained.

レチクルチャック１１Ａからのレチクル１３の離脱時には、電源制御部２５Ａによりレチクルチャック１１Ａの電磁石１７をオフにし内部電極２９Ａ，２９Ｂをオンにした状態で、搬送アーム(不図示)が、レチクル１３の下方近傍の所定位置に位置される。そして、この状態から、電源制御部２５Ａによりレチクルチャック１１Ａの電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と同一になるようにオンする。また、同時に電源制御部２５Ａにより内部電極２９Ａ，２９Ｂをオフにする。これによりレチクル１３の永久磁石１９がレチクルチャック１１Ａの電磁石１７に対して反発し、レチクル１３がレチクルチャック１１Ａから迅速に離脱し搬送アーム(不図示)に保持される。   When the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11A, the transfer arm (not shown) is near the lower side of the reticle 13 with the power supply control unit 25A turning off the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A and turning on the internal electrodes 29A and 29B. Is located at a predetermined position. From this state, the power controller 25A turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 has the same polarity as the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19. At the same time, the internal electrodes 29A and 29B are turned off by the power control unit 25A. As a result, the permanent magnet 19 of the reticle 13 repels against the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A, and the reticle 13 is quickly detached from the reticle chuck 11A and is held by a transport arm (not shown).

この実施形態では、レチクルチャック１１Ａの電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を吸着してレチクル１３をレチクルチャック１１Ａに吸着し、また、レチクルチャック１１Ａの電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を反発してレチクル１３をレチクルチャック１１Ａから離脱するようにしたので、レチクル１３の着脱を迅速に行うことができる。   In this embodiment, the permanent magnet 19 of the reticle 13 is attracted by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A to attract the reticle 13 to the reticle chuck 11A, and the permanent magnet 19 of the reticle 13 is repelled by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A. Since the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11A, the reticle 13 can be attached and detached quickly.

すなわち、一般に静電チャックは、静電気力を用いているため、着脱の応答が比較的遅くなる。特に、レチクル１３を静電チャックから離脱する際には、残留吸着力により長い時間が必要になり、スループットの低下をもたらす。しかしながら、この実施形態では、レチクルチャック１１Ａの電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を吸着してレチクル１３をレチクルチャック１１Ａに吸着するようにしたので、レチクル１３のレチクルチャック１１Ａへの装着を迅速に行うことが可能になる。また、レチクルチャック１１Ａの電磁石１７によりレチクル１３の永久磁石１９を反発してレチクル１３をレチクルチャック１１Ａから離脱するようにしたので、レチクル１３のレチクルチャック１１Ａからの離脱を迅速に行うことが可能になる。従って、スループットを向上することができる。
(第３の実施形態)
図５は、本発明のレチクルの吸着構造の第３の実施形態を示している。 That is, generally, since the electrostatic chuck uses electrostatic force, the attachment / detachment response becomes relatively slow. In particular, when the reticle 13 is detached from the electrostatic chuck, a longer time is required due to the residual attracting force, resulting in a decrease in throughput. However, in this embodiment, the permanent magnet 19 of the reticle 13 is attracted by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A and the reticle 13 is attracted to the reticle chuck 11A, so that the reticle 13 can be quickly mounted on the reticle chuck 11A. It becomes possible to do. Further, since the permanent magnet 19 of the reticle 13 is repelled by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11A and the reticle 13 is detached from the reticle chuck 11A, the reticle 13 can be quickly detached from the reticle chuck 11A. Become. Accordingly, throughput can be improved.
(Third embodiment)
FIG. 5 shows a third embodiment of the reticle adsorption structure of the present invention.

なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
この実施形態では、本発明が光透過形のレチクルの吸着構造に適用される。
この実施形態では、レチクルステージ１５Ａの上面にレチクルチャック１１Ｂが配置されている。また、レチクルチャック１１Ｂの上面に光透過形のレチクル１３Ａが配置されている。レチクルチャック１１Ｂおよびレチクルステージ１５Ａには、レチクル１３Ａを透過した光Ｌを通過させるための光通過穴１１ｆ，１５ａが形成されている。 In addition, in this embodiment, the same code | symbol is attached | subjected to the element same as 1st Embodiment, and detailed description is abbreviate | omitted.
In this embodiment, the present invention is applied to a light-transmitting reticle adsorption structure.
In this embodiment, a reticle chuck 11B is disposed on the upper surface of the reticle stage 15A. Further, a light transmission type reticle 13A is disposed on the upper surface of the reticle chuck 11B. The reticle chuck 11B and the reticle stage 15A are formed with light passage holes 11f and 15a for allowing the light L transmitted through the reticle 13A to pass therethrough.

そして、レチクルチャック１１Ｂの両側には、第１の実施形態と同様にして電磁石１７が配置されている。また、レチクル１３Ａの両側には、第１の実施形態と同様にして永久磁石１９が配置されている。
この実施形態では、レチクルチャック１１Ｂへのレチクル１３Ａの着脱が以下述べるようにして行われる。 The electromagnets 17 are arranged on both sides of the reticle chuck 11B in the same manner as in the first embodiment. In addition, permanent magnets 19 are arranged on both sides of the reticle 13A in the same manner as in the first embodiment.
In this embodiment, the attachment / detachment of the reticle 13A to / from the reticle chuck 11B is performed as described below.

レチクルチャック１１Ｂへのレチクル１３Ａの装着時には、電源制御部２５によりレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７をオフにした状態で、搬送アーム(不図示)によりレチクル１３Ａがレチクルチャック１１Ｂの上方近傍の所定位置に搬送される。その後、レチクル１３Ａは搬送アーム(不図示)により鉛直下方に搬送され、レチクルチャック１１Ｂ上に置かれる。そして、この状態から、電源制御部２５によりレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と反対になるようにオンすることによりレチクル１３Ａの永久磁石１９がレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７に吸着され、レチクル１３Ａがレチクルチャック１１Ｂに保持される。そして、電源制御部２５により電磁石１７がオフにされる。この状態では、永久磁石１９は電磁石１７の鉄心２１に直接吸着する距離だけ接近しており、レチクル１３Ａのレチクルチャック１１Ｂへの保持が維持される。なお、電源制御部２５により電磁石１７をオフにすることなく保持を行うようにしても良い。   When the reticle 13A is mounted on the reticle chuck 11B, the reticle 13A is transported to a predetermined position near the upper side of the reticle chuck 11B by a transport arm (not shown) while the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B is turned off by the power control unit 25. Is done. Thereafter, the reticle 13A is transported vertically downward by a transport arm (not shown) and placed on the reticle chuck 11B. Then, from this state, the power supply control unit 25 turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 is opposite to the polarity of the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19, thereby making the permanent magnet of the reticle 13A. 19 is attracted to the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B, and the reticle 13A is held by the reticle chuck 11B. Then, the electromagnet 17 is turned off by the power control unit 25. In this state, the permanent magnet 19 is close to the distance directly attracted to the iron core 21 of the electromagnet 17, and the holding of the reticle 13A to the reticle chuck 11B is maintained. The power supply control unit 25 may hold the electromagnet 17 without turning it off.

レチクルチャック１１Ｂからのレチクル１３Ａの離脱時には、電源制御部２５によりレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７をオフにした状態で、搬送アーム(不図示)によりレチクル１３Ａを把持する。そして、この状態から、電源制御部２５によりレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７を、電磁石１７の永久磁石１９側が永久磁石１９の電磁石１７側の極性と同一になるようにオンすることによりレチクル１３Ａの永久磁石１９がレチクルチャック１１Ｂの電磁石１７に対して反発し、レチクル１３Ａがレチクルチャック１１Ｂから離脱し搬送アーム(不図示)に保持される。   When the reticle 13A is detached from the reticle chuck 11B, the reticle 13A is gripped by the transfer arm (not shown) while the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B is turned off by the power control unit 25. In this state, the power controller 25 turns on the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B so that the permanent magnet 19 side of the electromagnet 17 is the same as the polarity of the electromagnet 17 side of the permanent magnet 19, thereby making the permanent magnet of the reticle 13A. 19 repels the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B, and the reticle 13A separates from the reticle chuck 11B and is held by a transfer arm (not shown).

この実施形態では、レチクルチャック１１Ｂの電磁石１７によりレチクル１３Ａの永久磁石１９を吸着してレチクル１３Ａをレチクルチャック１１Ｂに吸着し、また、レチクルチャック１１Ｂの電磁石１７によりレチクル１３Ａの永久磁石１９を反発してレチクル１３Ａをレチクルチャック１１Ｂから離脱するようにしたので、レチクル１３Ａの着脱を迅速に行うことができる。   In this embodiment, the permanent magnet 19 of the reticle 13A is attracted by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B to attract the reticle 13A to the reticle chuck 11B, and the permanent magnet 19 of the reticle 13A is repelled by the electromagnet 17 of the reticle chuck 11B. Since the reticle 13A is detached from the reticle chuck 11B, the reticle 13A can be quickly attached and detached.

そして、この実施形態では、第１の実施形態と同様に、レチクル１３Ａおよびレチクルチャック１１Ｂの貫通穴１３ｂ，１１ｂを偏平状にし、長手方向をレチクル１３Ａおよびレチクルチャック１１Ｂの両側の辺部１３ｃ，１１ｃに沿って延在したので、貫通穴１３ｂ，１１ｂにより光Ｌの通過が邪魔されることが比較的少なくなる。従って、レチクル１３Ａおよびレチクルチャック１１Ｂをコンパクトにすることができる。
(露光装置の実施形態)
図６は、図１のレチクルステージ１５を備えたＥＵＶ露光装置のＥＵＶ光リソグラフィシステムを模式化して示している。なお、この実施形態において第１の実施形態と同一の部材には、同一の符号を付している。 In this embodiment, similarly to the first embodiment, the through holes 13b and 11b of the reticle 13A and the reticle chuck 11B are made flat, and the longitudinal direction is the sides 13c and 11c on both sides of the reticle 13A and the reticle chuck 11B. Therefore, the passage of the light L is relatively less disturbed by the through holes 13b and 11b. Therefore, the reticle 13A and the reticle chuck 11B can be made compact.
(Embodiment of exposure apparatus)
FIG. 6 schematically shows an EUV light lithography system of an EUV exposure apparatus provided with the reticle stage 15 of FIG. In this embodiment, the same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

この実施形態では、露光の照明光としてＥＵＶ光が用いられる。ＥＵＶ光は０．１〜４００ｎｍの間の波長を持つもので、この実施形態では特に１〜５０ｎｍ程度の波長が好ましい。投影像は像光学系システム１０１を用いたもので、ウエハＷ上にレチクル１３によるパターンの縮小像を形成するものである。
ウエハＷ上に照射されるパターンは、レチクルステージ１５の下側にレチクルチャック１１を介して配置されている反射型のレチクル１３により決められる。また、ウエハＷはウエハステージ１０５の上に載せられている。典型的には、露光はステップ・スキャンによりなされる。 In this embodiment, EUV light is used as illumination light for exposure. The EUV light has a wavelength of 0.1 to 400 nm, and in this embodiment, a wavelength of about 1 to 50 nm is particularly preferable. The projected image uses the image optical system 101 and forms a reduced image of the pattern on the wafer W by the reticle 13.
The pattern irradiated onto the wafer W is determined by a reflective reticle 13 disposed below the reticle stage 15 via a reticle chuck 11. The wafer W is placed on the wafer stage 105. Typically, exposure is done by step scanning.

露光時の照明光として使用するＥＵＶ光は大気に対する透過性が低いので、ＥＵＶ光が通過する光経路は、適当な真空ポンプ７３を用いて真空に保たれた本体チャンバ２１に囲まれている。またＥＵＶ光はレーザプラズマＸ線源によって生成される。レーザプラズマＸ線源はレーザ源１０８（励起光源として作用）とキセノンガス供給装置１０９からなっている。レーザプラズマＸ線源は真空チャンバ１１０によって取り囲まれている。レーザプラズマＸ線源によって生成されたＥＵＶ光は真空チャンバ１１０の窓１１１を通過する。   Since EUV light used as illumination light at the time of exposure has low permeability to the atmosphere, the light path through which the EUV light passes is surrounded by the main body chamber 21 that is kept in a vacuum using an appropriate vacuum pump 73. EUV light is generated by a laser plasma X-ray source. The laser plasma X-ray source includes a laser source 108 (acting as an excitation light source) and a xenon gas supply device 109. The laser plasma X-ray source is surrounded by a vacuum chamber 110. EUV light generated by the laser plasma X-ray source passes through the window 111 of the vacuum chamber 110.

放物面ミラー１１３は、キセノンガス放出部の近傍に配置されている。放物面ミラー１１３はプラズマによって生成されたＥＵＶ光を集光する。放物面ミラー１１３は集光光学系を構成し、ノズル１１２からのキセノンガスが放出される位置の近傍に焦点位置がくるように配置されている。ＥＵＶ光は放物面ミラー１１３の多層膜で反射し、真空チャンバ１１０の窓１１１を通じて集光ミラー１１４へと達する。集光ミラー１１４は反射型のレチクル１３へとＥＵＶ光を集光、反射させる。ＥＵＶ光は集光ミラー１１４で反射され、レチクル１３の所定の部分を照明する。すなわち、放物面ミラー１１３と集光ミラー１１４はこの装置の照明システムを構成する。   The parabolic mirror 113 is disposed in the vicinity of the xenon gas discharge portion. The parabolic mirror 113 collects EUV light generated by the plasma. The parabolic mirror 113 constitutes a condensing optical system, and is arranged so that the focal position comes near the position where the xenon gas from the nozzle 112 is emitted. The EUV light is reflected by the multilayer film of the parabolic mirror 113 and reaches the condensing mirror 114 through the window 111 of the vacuum chamber 110. The condensing mirror 114 condenses and reflects the EUV light to the reflective reticle 13. The EUV light is reflected by the condensing mirror 114 and illuminates a predetermined portion of the reticle 13. That is, the parabolic mirror 113 and the condensing mirror 114 constitute an illumination system of this apparatus.

レチクル１３は、ＥＵＶ光を反射する多層膜とパターンを形成するための吸収体パターン層を持っている。レチクル１３でＥＵＶ光が反射されることによりＥＵＶ光は「パターン化」される。パターン化されたＥＵＶ光は投影システム１０１を通じてウエハＷに達する。
この実施形態の像光学システム１０１は、凹面第１ミラー１１５ａ、凸面第２ミラー１１５ｂ、凸面第３ミラー１１５ｃ、凹面第４ミラー１１５ｄの４つの反射ミラーからなっている。各ミラー１１５ａ〜１１５ｄにはＥＵＶ光を反射する多層膜が備えられている。 The reticle 13 has a multilayer film that reflects EUV light and an absorber pattern layer for forming a pattern. The EUV light is “patterned” by being reflected by the reticle 13. The patterned EUV light reaches the wafer W through the projection system 101.
The image optical system 101 of this embodiment includes four reflecting mirrors: a concave first mirror 115a, a convex second mirror 115b, a convex third mirror 115c, and a concave fourth mirror 115d. Each of the mirrors 115a to 115d is provided with a multilayer film that reflects EUV light.

レチクル１３により反射されたＥＵＶ光は第１ミラー１１５ａから第４ミラー１１５ｄまで順次反射されて、レチクルパターンの縮小（例えば、１／４、１／５、１／６）された像を形成する。像光学系システム１０１は、像の側（ウエハＷの側）でテレセントリックになるようになっている。
レチクル１３は可動のレチクルステージ１５によって少なくともＸ−Ｙ平面内で支持されている。ウエハＷは、好ましくはＸ，Ｙ，Ｚ方向に可動なウエハステージ１０５によって支持されている。ウエハＷ上のダイを露光するときには、ＥＵＶ光が照明システムによりレチクル１３の所定の領域に照射され、レチクル１３とウエハＷは像光学系システム１０１に対して像光学システム１０１の縮小率に従った所定の速度で動く。このようにして、レチクルパターンはウエハＷ上の所定の露光範囲（ダイに対して）に露光される。 The EUV light reflected by the reticle 13 is sequentially reflected from the first mirror 115a to the fourth mirror 115d to form an image in which the reticle pattern is reduced (eg, 1/4, 1/5, 1/6). The image optical system 101 is telecentric on the image side (wafer W side).
The reticle 13 is supported at least in the XY plane by a movable reticle stage 15. The wafer W is preferably supported by a wafer stage 105 movable in the X, Y, and Z directions. When exposing the die on the wafer W, EUV light is irradiated to a predetermined area of the reticle 13 by the illumination system, and the reticle 13 and the wafer W follow the reduction ratio of the image optical system 101 with respect to the image optical system 101. It moves at a predetermined speed. In this way, the reticle pattern is exposed to a predetermined exposure range (with respect to the die) on the wafer W.

露光の際には、ウエハＷ上のレジストから生じるガスが像光学システム１０１のミラー１１５ａ〜１１５ｄに影響を与えないように、ウエハＷはパーティション１１６の後ろに配置されることが望ましい。パーティション１１６は開口１１６ａを持っており、それを通じてＥＵＶ光がミラー１１５ｄからウエハＷへと照射される。パーティション１１６内の空間は真空ポンプ１１７により真空排気されている。このように、レジストに照射することにより生じるガス状のゴミがミラー１１５ａ〜１１５ｄあるいはレチクル１３に付着するのを防ぐ。それゆえ、これらの光学性能の悪化を防いでいる。   During exposure, the wafer W is preferably disposed behind the partition 116 so that the gas generated from the resist on the wafer W does not affect the mirrors 115a to 115d of the image optical system 101. The partition 116 has an opening 116a through which EUV light is irradiated from the mirror 115d onto the wafer W. The space in the partition 116 is evacuated by a vacuum pump 117. In this manner, gaseous dust generated by irradiating the resist is prevented from adhering to the mirrors 115a to 115d or the reticle 13. Therefore, deterioration of these optical performances is prevented.

この実施形態の露光装置では、レチクルチャック１１へのレチクル１３の着脱を迅速に行うことができるため、スループットを向上することができる。
（実施形態の補足事項）
以上、本発明を上記の実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、以下のような形態でも良い。 In the exposure apparatus of this embodiment, since the reticle 13 can be quickly attached to and detached from the reticle chuck 11, the throughput can be improved.
(Supplementary items of the embodiment)
As mentioned above, although this invention has been demonstrated by said embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the said embodiment. For example, the following forms may be used.

(１)上述した実施形態では、貫通穴１１ｂ，１３ｂを、レーシングトラック状にした例について説明したが、例えば、長方形形状あるいは長楕円形状等の偏平状にしても良い。
(２)上述した実施形態では、レチクルチャック１１およびレチクル１３に貫通穴１１ｂ，１３ｂを形成した例について説明したが、貫通穴を形成することなく止まり穴を形成し、止まり穴に電磁石または永久磁石を収容しても良い。 (1) In the above-described embodiment, the example in which the through holes 11b and 13b are formed in a racing track shape has been described. However, the through holes 11b and 13b may have a flat shape such as a rectangular shape or an elliptical shape.
(2) In the above-described embodiment, the example in which the through holes 11b and 13b are formed in the reticle chuck 11 and the reticle 13 has been described. However, a blind hole is formed without forming a through hole, and an electromagnet or a permanent magnet is formed in the blind hole. May be accommodated.

(３)上述した実施形態では、電磁石１７を、鉄心２１の外側にコイル２３を巻回して構成した例について説明したが、鉄心２１を配置することなくコイル２３のみで構成しても良い。
(４)上述した実施形態では、ＥＵＶ光を用いた露光装置の例を説明したが、その他、荷電粒子線、ｉ線、ｇ線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ２等を用いた露光装置にも勿論適用することができる。 (3) In the above-described embodiment, the example in which the electromagnet 17 is configured by winding the coil 23 around the iron core 21 has been described. However, the electromagnet 17 may be configured by only the coil 23 without arranging the iron core 21.
(4) In the above-described embodiment, an example of an exposure apparatus using EUV light has been described. Of course, the present invention can also be applied to an exposure apparatus using charged particle beams, i-rays, g-rays, KrF, ArF, F2, etc. can do.

本発明のレチクルの吸着構造の第１の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows 1st Embodiment of the adsorption structure of the reticle of this invention. 図１のレチクルチャックを示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing the reticle chuck of FIG. 1. 図１のレチクルを示す上面図である。It is a top view which shows the reticle of FIG. 本発明のレチクルの吸着構造の第２の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows 2nd Embodiment of the adsorption structure of the reticle of this invention. 本発明のレチクルの吸着構造の第３の実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows 3rd Embodiment of the adsorption structure of the reticle of this invention. 本発明の露光装置の一実施形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one Embodiment of the exposure apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１１，１１Ａ，１１Ｂ…レチクルチャック、１１ａ…吸着面、１１ｄ…凹部、１３，１３Ａ…レチクル、１３ｄ…凹部、１７…電磁石、１９…永久磁石、２１…鉄心、２３…コイル、２５…電源制御部、２９Ａ，２９Ｂ…内部電極。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 11A, 11B ... Reticle chuck, 11a ... Adsorption surface, 11d ... Recess, 13, 13A ... Reticle, 13d ... Recess, 17 ... Electromagnet, 19 ... Permanent magnet, 21 ... Iron core, 23 ... Coil, 25 ... Power supply control part , 29A, 29B ... internal electrodes.

Claims (12)

吸着面にレチクルを吸着するレチクルチャックにおいて、
前記レチクルに埋設される永久磁石を吸着する電磁石を有することを特徴とするレチクルチャック。 In the reticle chuck that attracts the reticle to the adsorption surface,
A reticle chuck comprising an electromagnet for attracting a permanent magnet embedded in the reticle. 請求項１記載のレチクルチャックにおいて、
前記吸着面に凹部を形成し、前記凹部の内側に前記電磁石を埋設してなることを特徴とするレチクルチャック。 The reticle chuck according to claim 1,
A reticle chuck comprising: a concave portion formed in the attraction surface; and the electromagnet embedded in the concave portion. 請求項１または請求項２記載のレチクルチャックにおいて、
前記電磁石は、偏平形状をしていることを特徴とするレチクルチャック。 The reticle chuck according to claim 1 or 2,
The reticle chuck according to claim 1, wherein the electromagnet has a flat shape. 請求項１ないし請求項３のいずれか１項記載のレチクルチャックにおいて、
前記レチクルを前記吸着面に吸着する静電チャック機能を有することを特徴とするレチクルチャック。 The reticle chuck according to any one of claims 1 to 3,
A reticle chuck having an electrostatic chuck function for attracting the reticle to the attracting surface. 請求項１ないし請求項４のいずれか１項記載のレチクルチャックにおいて、
前記吸着面を下にして用いられることを特徴とするレチクルチャック。 The reticle chuck according to any one of claims 1 to 4,
A reticle chuck characterized by being used with the suction surface down. レチクルチャックの吸着面に吸着されるレチクルにおいて、
前記レチクルチャックに埋設される電磁石に吸着される永久磁石を有することを特徴とするレチクル。 In the reticle that is attracted to the attracting surface of the reticle chuck,
A reticle having a permanent magnet attracted to an electromagnet embedded in the reticle chuck. 請求項６記載のレチクルにおいて、
前記レチクルの前記吸着面側に凹部を形成し、前記凹部の内側に前記永久磁石を埋設してなることを特徴とするレチクル。 The reticle according to claim 6, wherein
A reticle, wherein a concave portion is formed on the side of the attracting surface of the reticle, and the permanent magnet is embedded inside the concave portion. 請求項６または請求項７記載のレチクルにおいて、
前記永久磁石は、偏平形状をしていることを特徴とするレチクル。 Reticle according to claim 6 or claim 7,
The reticle is characterized in that the permanent magnet has a flat shape. レチクルチャックの吸着面にレチクルを吸着するレチクルの吸着構造において、
前記レチクルチャックに電磁石を埋設するとともに、前記レチクルに永久磁石を埋設してなることを特徴とするレチクルの吸着構造。 In the reticle adsorption structure that adsorbs the reticle to the adsorption surface of the reticle chuck,
An reticle attracting structure, wherein an electromagnet is embedded in the reticle chuck, and a permanent magnet is embedded in the reticle. 請求項９記載のレチクルの吸着構造において、
前記電磁石は、鉄心の外側にコイルを巻回してなることを特徴とするレチクルの吸着構造。 Reticle adsorption structure according to claim 9,
2. The reticle attracting structure according to claim 1, wherein the electromagnet is formed by winding a coil around an iron core. 請求項９または請求項１０記載のレチクルの吸着構造において、
前記レチクルチャックは、静電チャックであることを特徴とするレチクルの吸着構造。 In the reticle adsorption structure according to claim 9 or 10,
The reticle chucking structure is characterized in that the reticle chuck is an electrostatic chuck. 請求項１ないし請求項５のいずれか１項記載のレチクルチャックを有することを特徴とする露光装置。
An exposure apparatus comprising the reticle chuck according to any one of claims 1 to 5.
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