JP2008155146A - 反応装置及び反応システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 反応装置1は、一方が反応前の流体を導入するために用いられ、他方が反応後の流体を送り出すために用いられる2つの第1管6,7が表面に設けられた反応器2と、反応器2を収容するパッケージ3と、パッケージ3に設けられ、対応する第1管6,7にそれぞれ接続される2つの第2管8,9とを備え、第1管6,7と第2管8,9の接続部の少なくとも一方において、第1管6,7及び第2管8,9の一方の先端部が他方の先端部に挿入され、第1管6,7及び第2管8,9の一方の外面は、他方の内面の内側に位置する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施の形態1による反応装置の構成例を示す断面図である。図1に示されるように、本実施の形態による反応装置1は、反応器2と反応器2を収容するパッケージ3とを備える。パッケージ3は、凹部を有する基体4とその凹部を覆うように取り付けられる蓋体5とを備える。反応器2には、その表面に、反応前の流体が導入される第1供給管6及び反応後の流体が送り出される第1排出管7がそれぞれ設けられている。また、基体4には、第1供給管6に接続される第2供給管8、及び第1排出管7に接続される第2排出管9がそれぞれ設けられている。さらに、基体3には、貫通孔が設けられ、その貫通孔に、リード端子10が、断熱性を有する絶縁封止材11により封止固定されている。リード端子10は、ボンディングワイヤ12を介して、反応器2の表面上に設けられた電極13に接続されている。
次に、本発明の実施の形態2による反応装置について説明する。図5は、実施の形態2による反応装置の構成例を示す断面図である。図5において、図1に示した反応装置1の構成と同一の構成には同じ符号を付し、説明を省略する。本実施の形態による反応装置21が、実施の形態1による反応装置1と異なる点は、第2供給管8及び第2排出管9の各先端部が、対応する第1供給管6及び第1排出管7の各先端部を収容する凹部をそれぞれ有している点である。
2 反応器
3 パッケージ
4 基体
5 蓋体
6 第1供給管
7 第1排出管
8 第2供給管
9 第2排出管
10 リード端子
11 絶縁封止材
12 ワイヤボンディング
13 電極
14 接合材
15 治具
Claims (8)
- 一方が反応前の流体を導入するために用いられ、他方が反応後の流体を送り出すために用いられる2つの第1管が表面に設けられた反応器と、
前記反応器を収容するパッケージと、
前記パッケージに設けられ、前記2つの第1管にそれぞれ接続される2つの第2管と
を備え、
前記第1管と前記第2管の接続部の少なくとも一方において、前記第1管及び前記第2管の一方の先端部が他方の先端部に挿入され、前記一方の先端部の外面は、前記他方の先端部の内面の内側に位置することを特徴とする反応装置。 - 前記第1管と前記第2管の接続部の少なくとも一方において、前記第1管及び前記第2管の前記一方の先端部の外径が、前記他方の先端部の内径よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の反応装置。
- 前記第1管及び前記第2管の前記一方は、その先端部の内径が、他の部分の内径よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の反応装置。
- 前記第1管及び前記第2管の前記他方の先端部は、前記一方の先端部を収容する凹部を有していることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反応装置。
- 前記第1管及び前記第2管の前記一方の先端部の外面と、前記他方の先端部の内面との間に接合材が充填されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反応装置。
- 前記パッケージの内部において、前記第1管の外面は、複数の溝がそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の反応装置。
- 前記反応器は、セラミックから成ることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の反応装置。
- 請求項1から7のいずれかに記載の反応装置と、
前記反応前の流体を貯蔵する貯蔵部と、
前記貯蔵部から前記反応装置に流体を流体供給手段と
を備えることを特徴とする反応システム。
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JP2006347757A JP2008155146A (ja) | 2006-12-25 | 2006-12-25 | 反応装置及び反応システム |
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JP2000266249A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-26 | Fujitsu General Ltd | 配管の接続装置 |
JP2001194373A (ja) * | 2000-01-06 | 2001-07-19 | Olympus Optical Co Ltd | 超小型化学操作装置 |
JP2004061320A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kawamura Inst Of Chem Res | マイクロ流体デバイスの送液方法 |
JP2006289249A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Kao Corp | マイクロデバイス及びその制御方法 |
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2006
- 2006-12-25 JP JP2006347757A patent/JP2008155146A/ja active Pending
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