JP2008140953A - Levitation device - Google Patents
Levitation device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008140953A JP2008140953A JP2006325152A JP2006325152A JP2008140953A JP 2008140953 A JP2008140953 A JP 2008140953A JP 2006325152 A JP2006325152 A JP 2006325152A JP 2006325152 A JP2006325152 A JP 2006325152A JP 2008140953 A JP2008140953 A JP 2008140953A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous carbon
- air permeability
- carbon plate
- air
- sec
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
この発明は、浮上装置に関する。 The present invention relates to a levitation device.
液晶製造で用いられる薄板状のガラス基板や半導体ウエーハの搬送等に用いる装置としてロボットアームによる接触搬送装置やゴムパットや吸着パッド等を用いた吸着固定搬送装置などが従来から知られているが、近年製品の高性能化、大型化に伴い、対象物を空気圧で浮上させる浮上装置を用いて搬送などを行う方法がある。尚、この浮上装置は、搬送だけではなく、露光による回路形成工程、検査工程、修復工程、等に広く用いられており、対象物を浮上させながら種々の処理が行われる。
浮上装置は、通常は金属ケースの上にポーラス板を装着した構造になっており、該金属ケース背面に設けたエアー通気孔からエアー圧をかけ、前記ポーラス板からエアーを吹き上げることにより対象物を浮上させる構成になっている。このポーラス板としては、従来は焼結セラミックスやカーボンなどが用いられている。
As a device used for transporting thin glass substrates and semiconductor wafers used in liquid crystal manufacturing, a contact transport device using a robot arm, a suction fixed transport device using a rubber pad, a suction pad, etc. have been known in the past. As products become more sophisticated and larger in size, there is a method in which an object is conveyed using a levitation device that levitates an object with air pressure. The levitation device is widely used not only for conveyance but also for a circuit formation process by inspection, an inspection process, a repair process, and the like, and various processes are performed while the object is levitated.
The levitation device usually has a structure in which a porous plate is mounted on a metal case. Air pressure is applied from an air vent hole provided on the back surface of the metal case, and air is blown from the porous plate so that an object is blown. It is configured to float. Conventionally, sintered ceramics or carbon is used as the porous plate.
しかし、エアーを吹き上げることにより対象物を浮上させる場合、対象物の姿勢を平行に保つことができず、対象物が傾きを生ずる問題がある。
例えば、浮上装置を露光装置に使用した場合、対象物が傾くと露光のときの焦点にずれが発生し、精度の高い回路を形成することができない。また、回路修復工程でも同様の不具合が発生する。また浮上装置を検査装置に使用した場合には検査誤差が大きくなり、精度の良い検査ができない。また、搬送装置として使用した場合には、浮上装置のポーラス板と対象物とが接触したり、搬送の経路から外れてしまう危険なども考えられる。
本発明は上記従来技術の問題点を解決することを目的とする。
However, when the object is levitated by blowing air, there is a problem that the posture of the object cannot be kept parallel and the object is inclined.
For example, when the levitation device is used in an exposure device, if the object is tilted, the focus at the time of exposure is shifted, and a highly accurate circuit cannot be formed. Also, the same problem occurs in the circuit repair process. Further, when the levitation device is used as an inspection device, the inspection error becomes large, and an accurate inspection cannot be performed. In addition, when used as a transport device, there may be a risk that the porous plate of the levitation device and the object come into contact with each other or the transport plate may be removed from the transport path.
The object of the present invention is to solve the problems of the prior art.
上記目的を達成するために、本発明は、ケースの上にポーラス板を固着し、該ケースに設けた通気孔から流体圧をかけ、前記ポーラス板から流体を吹き上げることにより対象物を浮上させる浮上装置において、前記ポーラス板が、通気率のバラツキが3.0cm2/秒以下、且つ通気率0.2〜6.0cm2/秒以内の多孔体である、ことを特徴とする。
通気率のバラツキが3.0cm2/秒を超えると浮上させる対象物の傾き量が急速に大きくなるため、これを上限とする。また、通気率が0.2cm2/秒未満であると、対象物が浮上しにくくなり、対象物と浮上装置とが接触する恐れがある。一方通気率が6.0cm2/秒を超えると、気体の通気量が大きくなりすぎ、浮上量の制御が難しくなる。
気孔率を5〜25vol%に設定することにより、前記通気率0.2〜6.0cm2/秒にすることが出来る。
前記ポーラス板は、ポーラスカーボンで構成することが望ましく、ポーラスカーボンが導電性であることから気体が気孔を通過する時に発生する静電気をアースすることができ、浮上対象物を静電気による破損から防止することが出来る。
In order to achieve the above object, the present invention provides a levitating method in which a porous plate is fixed on a case, fluid pressure is applied from a vent hole provided in the case, and a fluid is blown up from the porous plate to float an object. in the apparatus, the porous plate, the variation of air permeability is 3.0 cm 2 / sec or less, and a porous body within the ventilation rate 0.2~6.0cm 2 / sec, it is characterized.
If the variation in the air permeability exceeds 3.0 cm 2 / sec, the amount of inclination of the object to be levitated rapidly increases, so this is the upper limit. Further, if the air permeability is less than 0.2 cm 2 / sec, the object is difficult to float, and the object and the floating device may come into contact with each other. On the other hand, if the air permeability exceeds 6.0 cm 2 / sec, the gas flow rate becomes too large, and it becomes difficult to control the flying height.
By setting the porosity to 5 to 25 vol%, the air permeability can be set to 0.2 to 6.0 cm 2 / sec.
The porous plate is preferably composed of porous carbon, and since the porous carbon is conductive, it can ground static electricity generated when the gas passes through the pores, and prevents the floating object from being damaged by static electricity. I can do it.
本発明の浮上装置によれば、対象物の傾きの少ない浮上を実現することが可能になる。 According to the levitation device of the present invention, it is possible to realize levitation with a small inclination of the object.
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1により、浮上装置Aの全体の構成を説明する。
金属などから形成されるケース2の上にポーラスカーボン板1が装着されている。ポーラスカーボン板1の表面は平面に精密に研磨加工されており、通気面10になっている。ポーラスカーボン板1の裏面はケース2と接合され、ケース2とポーラスカーボン板1の間には空隙3が設けられ、空隙3に対応するポーラスカーボン板1の上面部分が通気面10となっている。
空隙3には通気口4が形成され、通気口4に例えばエアコンプレッサ等の加圧手段(図示せず)を接続し、エアーで通気することにより通気面10からエアーを吹き出してガラス基板90等の対象物を浮上させる構成になっている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
With reference to FIG. 1, the overall configuration of the levitating apparatus A will be described.
A
A
図2の浮上装置A’は、ポーラスカーボン板1の裏面側に空隙3を形成した構成を示すものである。空隙3はポーラスカーボン板1側或いはケース2側に形成可能であり、またポーラスカーボン板1とケース2の両方に形成しても良い。
The levitation device A ′ shown in FIG. 2 shows a configuration in which a
以上のような構成の本発明の浮上装置において、ポーラスカーボン板1として、通気率のバラツキが3.0cm2/秒以下、且つ通気率0.2〜6.0cm2/秒以内のポーラスカーボン板1を用いる。通気率のバラツキが3.0cm2/秒を超えると対象物の傾き量が急速に大きくなるためである。また、通気率が0.2cm2/秒未満であると、対象物が浮上しにくくなり、対象物と浮上装置とが接触する恐れがある。一方通気率が6.0cm2/秒を超えると、気体の通気量が大きくなりすぎ、浮上量の制御が難しくなる。気孔率を5〜25vol%に設定することにより、前記通気率0.2〜6.0cm2/秒とすることが出来る。
In floating device of the present invention constructed as described above, as a
ポーラスカーボン板1の通気により浮上したガラス基板90は、該通気のバラツキによって、図3に示す様に浮上時に傾斜し、変位が発生する。
本発明者らは、種々の実験と研究を重ねた結果、この変位量とポーラスカーボン板1の通気率のバラツキとに相関があることを見出し、通気率のバラツキとガラス基板の変位量との相関関係を明確に位置付け、通気率のバラツキ3.0cm2/秒付近に変曲点を見出した。
図4に変位量と通気率のバラツキとの関係のグラフを示す。
The
As a result of repeating various experiments and researches, the present inventors have found that there is a correlation between the amount of displacement and the variation in the air permeability of the
FIG. 4 shows a graph of the relationship between the displacement and the variation in air permeability.
図4のグラフに示すように、通気率のバラツキが3.0cm2/秒付近から変位量が急激に大きくなることが分る。グラフに示すように、通常使用されているガラス基板の厚みが約1mmのものを浮上させる場合、ポーラスカーボン板1の通気率のバラツキが3cm2/秒より大きいと変位量が20μmを超える。
ガラス基板の露光装置においては、変位量が30μm以上あると露光時の焦点にずれが発生し、上手く透明電極の回路を構成することができないとされている。また、回路修復工程でも同様の不具合が発生する。更に検査装置に浮上装置Aを使用した場合には検査誤差が大きくなり、精度の良い検査ができない。また、搬送するガラス基板と浮上装置との浮上距離が不均一になり、ガラス基板が浮上面のポーラスカーボン板1に接触し、基板をキズつけたり、破損したりする。また、ガラス基板の浮上量のバラツキから搬送方法にもよるが搬送の経路から外れてしまう可能性もあり、変位量は30μm以下好ましくは20μm以下が良く、通気率のバラツキを3.0cm2/秒以下と限定する。
As shown in the graph of FIG. 4, it can be seen that the amount of displacement increases rapidly from around 3.0 cm 2 / sec. As shown in the graph, when a commonly used glass substrate having a thickness of about 1 mm is levitated, if the variation in the air permeability of the
In a glass substrate exposure apparatus, if the amount of displacement is 30 μm or more, the focal point at the time of exposure is shifted, and a transparent electrode circuit cannot be successfully constructed. Also, the same problem occurs in the circuit repair process. Further, when the levitation device A is used as an inspection device, the inspection error becomes large and an accurate inspection cannot be performed. Further, the flying distance between the glass substrate to be transported and the floating device becomes non-uniform, and the glass substrate comes into contact with the
ポーラスカーボン板1は更に、圧力0.1MPaのエアーを通気した時の通気率を0.2〜6.0cm2/秒に調整してある。この通気率0.2〜6.0cm2/秒とするために、気孔率を5〜25vol%となる様に構成している。ポーラスカーボン板1の通気率6.0cm2/秒つまり気孔率25vol%より大きいと気体の通気量が大きくなりすぎ、これ以上では浮上量の制御がしにくい。また、エアーコンプレッサ容量が大きくなりコストアップになる。一方、通気率が0.2cm2/秒つまり気孔率5vol%より小さいと気体の通気量が小さくなり、これ以下では、対象物が浮上しにくく、対象物と浮上装置とが接触する恐れがある。
なお、上記観点から通気率は1〜3cm2/秒に調整するのが好ましく、そのために気孔率を15vol%〜20vol%に構成することが好ましい。
Further, the
From the above viewpoint, the air permeability is preferably adjusted to 1 to 3 cm 2 / second, and therefore, the porosity is preferably configured to 15 vol% to 20 vol%.
次に、上記した通気率と変位量について説明する。
変位量とは、図3に示すようにガラス基板90の浮上の高さの最大値と最小値との差である。
また、通気率のバラツキは次のように定義する。
図5に示すように通気面10を8分割し、それぞれの分割面の通気量を測定し、それぞれの通気率K1,K2,K3,K4,K5,K6,K7,K8の最大と最小の通気率の差を通気率のバラツキとする。通気量は図6に示すように部分通気測定装置50を用いて測定した。
なお通気率は次の式で示される。
通気率 K=Q・L/P・A 式1
Q:通気量(MPa・cm3/秒)
L:ポーラスカーボン板1の厚さ(cm)
P:空隙3の圧力(MPa)
A:部分通気測定装置50の測定面積(cm2)
Next, the above-described air permeability and displacement will be described.
The displacement amount is the difference between the maximum value and the minimum value of the flying height of the
Also, the variation in air permeability is defined as follows.
As shown in FIG. 5, the
The air permeability is expressed by the following formula.
Air permeability K = Q ・ L / P ・ A Formula 1
Q: Aeration rate (MPa · cm 3 / sec)
L: Thickness (cm) of the
P: Pressure of gap 3 (MPa)
A: Measurement area (cm 2 ) of the partial
ポーラスカーボン板1の材料である浮上装置用ポーラスカーボンの製法について説明する。
ピッチ等のバインダーとの混練物を、粉砕機を用いて所定の粒子径に粉砕し、成形粉とする。こうして得られた成形粉は成形装置を用いて成形体とし、非酸化性雰囲気中で800〜2000℃の温度で熱処理することにより浮上装置用カーボンを作る。
所定の粒度範囲で調整された成形粉で出来た成形体は、1000℃焼成時の収縮率を約10%以下に制御することより、通気率のバラツキが3cm2/秒以下のポーラスカーボンに製造することが出来る。目的の通気率または気孔率にするためには、粒子径、成形圧力、焼成温度で適宜調整できる。この時、成形粉中に焼成時に揮発する樹脂ビーズを加えて気孔径を調整する方法で気孔率、通気率を調整しても良い。
A method for manufacturing the porous carbon for a levitation device, which is a material of the
A kneaded product with a binder such as pitch is pulverized to a predetermined particle size using a pulverizer to form a molding powder. The molding powder thus obtained is formed into a molded body using a molding apparatus, and is subjected to heat treatment at a temperature of 800 to 2000 ° C. in a non-oxidizing atmosphere to produce carbon for a floating apparatus.
A molded body made of a molding powder adjusted in a predetermined particle size range is manufactured to porous carbon with a variation in air permeability of 3 cm 2 / sec or less by controlling the shrinkage rate when firing at 1000 ° C. to about 10% or less. I can do it. In order to achieve the desired air permeability or porosity, the particle diameter, molding pressure, and firing temperature can be adjusted as appropriate. At this time, the porosity and the air permeability may be adjusted by adding resin beads that volatilize during firing to the molded powder to adjust the pore diameter.
次に実施例を説明する。
<実施例1>
微粉化したコークス粒を100重量部とピッチ30重量部とをニーダーで充分に加熱混練し、270×110×10mmが成形できるゴム型に詰め、CIP装置を用い成形圧1.0t/cm2で成形し、非酸化雰囲気下1000℃処理してポーラスカーボン板1を得た。ポーラスカーボン板の線収縮率は4.5%、気孔率は15vol%あった。そのように試作したポーラスカーボン板1を240×100×5mmの大きさに加工して、図1に示すように図7と図8に示すアルミ製メタルケース2’に接着面20において接着固定し、研磨加工でポーラスカーボン面を平面度10μm以下に仕上げ加工を施した。ここで平面度とは、研磨加工したポーラスカーボン面が幾何学的に正しい平面からの狂いの大きさを示し、研磨したポーラスカーボン面を幾何学的に正しい平行2平面で挟んだ時、平行2平面の間隔が最小となる間隔の寸法を表し、それを真円度測定機で測定した。この浮上装置Aを実施例1とする。
Next, examples will be described.
<Example 1>
100 parts by weight of finely ground coke grains and 30 parts by weight of pitch are sufficiently heated and kneaded with a kneader, and packed in a rubber mold that can be molded to 270 × 110 × 10 mm, using a CIP device at a molding pressure of 1.0 t / cm 2 . The
<実施例2>
微粉化したコークス粒100重量部とピッチ30重量部とをニーダーで充分に加熱混練し、270×110×10mmが成形できる金型に詰め、油圧式プレス機で成形圧1.0t/cm2 で成形し、非酸化雰囲気下1000℃焼成処理して得た。得られて焼成体の線収縮率は5%、気孔率は15vol%あった。その板を実施例1同様に処理し、浮上装置Aとした。これを実施例2とする。
<Example 2>
100 parts by weight of finely ground coke grains and 30 parts by weight of pitch are sufficiently heated and kneaded with a kneader and packed in a mold capable of forming 270 × 110 × 10 mm, and at a forming pressure of 1.0 t / cm 2 with a hydraulic press. Molded and obtained by baking at 1000 ° C. in a non-oxidizing atmosphere. The obtained sintered body had a linear shrinkage ratio of 5% and a porosity of 15 vol%. The plate was processed in the same manner as in Example 1 to obtain a floating device A. This is Example 2.
<比較例1>
微粉化した結合成分を持った炭素粉を300×125×15mmが成形できる金型に詰め、油圧プレスを用い成形圧0.4t/cm2で成形し、非酸化雰囲気下1000℃焼成を施しポーラスカーボン板を得た。このポーラスカーボン板の線収縮率は14%、気孔率は17vol%であった。このポーラスカーボン板を実施例1同様に処理して浮上装置を作り、比較例1とした。
<Comparative Example 1>
Carbon powder with finely bound components is packed in a mold that can be molded to 300 x 125 x 15 mm, molded using a hydraulic press at a molding pressure of 0.4 t / cm 2 , fired at 1000 ° C in a non-oxidizing atmosphere, and porous A carbon plate was obtained. The porous carbon plate had a linear shrinkage ratio of 14% and a porosity of 17 vol%. The porous carbon plate was treated in the same manner as in Example 1 to make a levitation device.
<通気率のバラツキと変位量の比較>
図6に示す通り、浮上装置の通気口4とエアーコンプレッサとをフィルタとバルブと圧力調整弁と圧力計とを介して接続し、このポーラスカーボン板1の浮上面を測定孔がφ20の通気量測定器50で、図5のようにポーラスカーボン浮上面をゾーン1から8の8等分に均一に分け、それぞれの通気量を図6のように測定して式1に従ってゾーン1からゾーン8の通気率を算出した。それぞれのゾーンの通気率K1、K2、K3、K4、K5、K6、K7、K8の中の最小値と最大値の差をバラツキとして算出した。
次に図3の様に250mm×100mm×厚さ0.5mmの20.0gのガラス基板90を上記浮上装置のポーラスカーボン面に配置し、圧力0.3MPaのエアーを導入し、ガラス板を浮上させ、ガラスの浮上状態としてダイヤルゲージ(最小目盛り1μm)をK1とK8との位置に2個使い、浮上量と変位量の合計を求め、ダイヤルゲージ1とダイヤルゲージ2との差から変位量を測定した。
<Comparison of variation in air permeability and displacement>
As shown in FIG. 6, the
Next, as shown in FIG. 3, a 20.0
表1
表1から通気率のバラツキが、4.0cm2/秒であり、本発明範囲を超える比較例1においては変位量が32μmとなり、適正な範囲を超えていることが明らかである。 From Table 1, it is clear that the variation in the air permeability is 4.0 cm 2 / sec. In Comparative Example 1 exceeding the range of the present invention, the displacement amount is 32 μm, which exceeds the appropriate range.
<実施例3>
微粉化したコークス粒100重量部とピッチ30重量部とをニーダーで充分に加熱混練し、270×110×10mmが成形できるゴム型に詰め、CIP装置(静水圧加圧成形装置)を用い成形圧0.6/cm2で成形し、非酸化雰囲気下1000℃焼成してポーラスカーボン板を得た。このポーラスカーボン板の気孔率は25vol%、通気率6cm2/秒であった。そのカーボン板を使い実施例1と同様に浮上装置Aを試作して、実施例3とした。
<Example 3>
100 parts by weight of finely ground coke grains and 30 parts by weight of pitch are sufficiently heated and kneaded with a kneader, packed in a rubber mold that can be molded to 270 × 110 × 10 mm, and molded pressure using a CIP device (hydrostatic pressure molding device). The porous carbon plate was obtained by molding at 0.6 / cm 2 and firing at 1000 ° C. in a non-oxidizing atmosphere. This porous carbon plate had a porosity of 25 vol% and an air permeability of 6 cm 2 / sec. Using this carbon plate, a levitation device A was made in the same manner as in Example 1 to obtain Example 3.
<実施例4>
微粉化したコークス粒とピッチとをニーダーで充分に加熱混練し、270×110×10mmが成形できるゴム型に詰め、CIP装置(静水圧加圧成形装置)を用い成形圧1.6/cm2で成形し、非酸化雰囲気下1000℃焼成処理してポーラスカーボン板を得た。このポーラスカーボン板の気孔率は5vol%、通気率0.2cm2/秒であった。そのカーボン板を使い実施例1と同様に浮上装置Aを試作して、実施例4とした。
<Example 4>
The finely pulverized coke grains and pitch are sufficiently heated and kneaded with a kneader, and packed in a rubber mold capable of forming 270 × 110 × 10 mm, and the molding pressure is 1.6 / cm 2 using a CIP device (hydrostatic pressure molding device). And a porous carbon plate was obtained by baking at 1000 ° C. in a non-oxidizing atmosphere. This porous carbon plate had a porosity of 5 vol% and an air permeability of 0.2 cm 2 / sec. Using this carbon plate, a levitation device A was made in the same manner as in Example 1 to obtain Example 4.
<通気率と気孔率及び浮上量の関係>
次に図3と同様に、実施例1と実施例3及び4の浮上装置の通気口4とコンプレッサとをフィルタとバルブと圧力計とを介して接続し、浮上装置の通気面の上に250×100×0.5mm 20.0gのガラス基板を乗せ、ガラス基板の所定の1カ所に1つのダイヤルゲージを当て、ガラス基板の浮上量が測定出来るように設定してテスト装置とした。エアーコンプレッサからの圧縮空気を圧力調整弁で0.1MPaに調整しバルブを開け、フィルタを介して、浮上装置にクリーンな圧縮空気を供給した。
各実施例の、通気率と浮上量及び気孔率の関係を下掲表2に示す。
本発明の通気率(又は気孔率)の範囲内であれば、適正の浮上量が得られることがわかる。
<Relationship between air permeability, porosity, and flying height>
Next, similarly to FIG. 3, the
The relationship between the air permeability, the flying height, and the porosity of each example is shown in Table 2 below.
It can be seen that an appropriate flying height can be obtained within the range of the air permeability (or porosity) of the present invention.
表2
なお、上記実施例では、いずれもポーラスカーボン板1を用いており、焼結セラミックスを用いていない。これは、焼結セラミック自体に導電性がないため、気体が通過する際に発生する静電気が原因で対象物である製品の回路等を破損する恐れがある。また、静電気により基板同士が接触してしまう恐れがあるためである。
一方ポーラスカーボンは導電性であることから気体が気孔を通過する時に発生する静電気をアースすることができ、製品を静電気による破損から防止することが出来る。
In all of the above examples, the
On the other hand, since porous carbon is electrically conductive, static electricity generated when gas passes through the pores can be grounded, and the product can be prevented from being damaged by static electricity.
1:ポーラスカーボン板、2:ケース、3:空隙、4:通気口、10:通気面、20:接着面、50:部分通気測定装置、90:ガラス基板。 1: porous carbon plate, 2: case, 3: gap, 4: vent, 10: vent surface, 20: adhesive surface, 50: partial ventilation measuring device, 90: glass substrate.
Claims (3)
前記ポーラス板が、通気率のバラツキが3.0cm2/秒以下、且つ通気率0.2〜6.0cm2/秒以内の多孔体である、
ことを特徴とする浮上装置。 In a levitation device that fixes a porous plate on a case, applies fluid pressure from a vent hole provided in the case, and levitates an object by blowing up the fluid from the porous plate.
It said porous plate, variation in air permeability is 3.0 cm 2 / sec or less, and the ventilation rate 0.2~6.0cm 2 / porous body within seconds,
A levitation device characterized by that.
請求項1の浮上装置。 The porosity of the porous plate is 5 to 25 vol%,
The levitation device of claim 1.
請求項1の浮上装置。 The porous plate is made of porous carbon;
The levitation device of claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006325152A JP2008140953A (en) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | Levitation device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006325152A JP2008140953A (en) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | Levitation device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008140953A true JP2008140953A (en) | 2008-06-19 |
Family
ID=39602123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006325152A Pending JP2008140953A (en) | 2006-12-01 | 2006-12-01 | Levitation device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008140953A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012066613A1 (en) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | エヌアイシ・オートテック株式会社 | Gas-permeable conveyance table |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01224135A (en) * | 1988-03-03 | 1989-09-07 | Osaka Gas Co Ltd | Carbon mold and its manufacture |
JPH0382322U (en) * | 1989-12-13 | 1991-08-22 | ||
JP2004182579A (en) * | 2002-10-07 | 2004-07-02 | Ibiden Co Ltd | Porous carbon material |
JP2004241465A (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Ckd Corp | Work position correcting apparatus and cassette transporting apparatus |
JP2004262608A (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Orbotech Ltd | Air flotation device |
JP2006161940A (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Ckd Corp | Non-contact supporting device |
JP2006264939A (en) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | Substrate conveying system and substrate conveying method |
-
2006
- 2006-12-01 JP JP2006325152A patent/JP2008140953A/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01224135A (en) * | 1988-03-03 | 1989-09-07 | Osaka Gas Co Ltd | Carbon mold and its manufacture |
JPH0382322U (en) * | 1989-12-13 | 1991-08-22 | ||
JP2004182579A (en) * | 2002-10-07 | 2004-07-02 | Ibiden Co Ltd | Porous carbon material |
JP2004241465A (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-26 | Ckd Corp | Work position correcting apparatus and cassette transporting apparatus |
JP2004262608A (en) * | 2003-03-03 | 2004-09-24 | Orbotech Ltd | Air flotation device |
JP2006161940A (en) * | 2004-12-07 | 2006-06-22 | Ckd Corp | Non-contact supporting device |
JP2006264939A (en) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Tokyo Electron Ltd | Substrate conveying system and substrate conveying method |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012066613A1 (en) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | エヌアイシ・オートテック株式会社 | Gas-permeable conveyance table |
JP5764575B2 (en) * | 2010-11-15 | 2015-08-19 | エヌアイシ・オートテック株式会社 | Breathable transfer table |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101142000B1 (en) | Electrostatic chuck | |
JP4942364B2 (en) | Electrostatic chuck, wafer holding member, and wafer processing method | |
JP3758979B2 (en) | Electrostatic chuck and processing apparatus | |
CN109923640A (en) | Engagement device, mating system, joint method and computer storage medium | |
JP6684292B2 (en) | Articles with diamond-only contact surfaces | |
KR20060049615A (en) | Substrate heating apparatus and manufacturing method for the same | |
JPWO2017154085A1 (en) | Transport pad, transport device using the same, and transport method | |
JP2008211098A (en) | Vacuum suction apparatus, manufacturing method thereof and method of sucking object to be sucked | |
JP5261057B2 (en) | Suction board and vacuum suction device | |
JP2008060307A (en) | Vacuum suction device, and its manufacturing method | |
JP2008140953A (en) | Levitation device | |
JP5270306B2 (en) | Ceramic bonded body and manufacturing method thereof | |
JP6196492B2 (en) | Manufacturing method of alumina ceramic joined body | |
JPH09150339A (en) | Vacuum suction device | |
TW200929424A (en) | Workpiece support apparatus | |
JP4724770B2 (en) | Adsorbent | |
JP2008034766A (en) | Suction member | |
CN111001539A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4519457B2 (en) | Substrate fixing device for processing and manufacturing method thereof | |
JP2014093467A (en) | Method for manufacturing electrode built-in type ceramic sintered body | |
JP4405857B2 (en) | Adsorbent | |
JP2007281206A (en) | Usage of sheet for suction-fixing | |
JP6148084B2 (en) | Adsorption member | |
US20240094627A1 (en) | Member for exposure device, manufacturing method for member for exposure device, and composite member for exposure device | |
KR20060069335A (en) | Supporting pin for substrate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081126 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Effective date: 20100219 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20100527 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Effective date: 20100526 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100601 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100716 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100722 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20100730 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100901 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101228 |