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JP2008140579A - Organic el element and its manufacturing method, and letterpress - Google Patents

Organic el element and its manufacturing method, and letterpress Download PDF

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JP2008140579A
JP2008140579A JP2006323208A JP2006323208A JP2008140579A JP 2008140579 A JP2008140579 A JP 2008140579A JP 2006323208 A JP2006323208 A JP 2006323208A JP 2006323208 A JP2006323208 A JP 2006323208A JP 2008140579 A JP2008140579 A JP 2008140579A
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Japan
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organic
layer
light emitting
hole transport
relief
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JP2006323208A
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Masahiro Yokoo
正浩 横尾
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element and an organic EL display in which a thick membrane of a hole transport layer is made possible, in which there is less light emission uneavenness, and which are superior in display quality in the organic EL display which is composed of at least a pixel electrode, a counter electrode, and an organic light-emitting medium layer including the hole transport layer and the organic light-emitting layer, and which makes the organic light emitting layer emit light by making a current flow into the organic light-emitting layer from both the electrodes. <P>SOLUTION: An insulating layer 3 is formed between the pixel electrodes 2 to which patterning is applied on a substrate, and in the case a hole transport ink in which a hole transport material is stably dissolved or dispersed in a medium is printed by letterpress on the pixel electrodes 2 between the insulating layers 3 from convex parts 32 of a letterpress printing 30, the convex parts 32 of the letterpress printing 30 are made to have a concave shape on their middle part. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機発光層が高分子材料からなる有機ELディスプレイパネル等に用いられる有機EL素子とその製造方法に関し、特に有機発光層を印刷法によって形成する有機EL素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic EL element used in an organic EL display panel or the like in which an organic light emitting layer is made of a polymer material, and a manufacturing method thereof, and more particularly to an organic EL element in which an organic light emitting layer is formed by a printing method and a manufacturing method thereof.

有機EL素子は、二つの対向する電極の間に有機発光材料からなる有機発光層が形成され、有機発光層に電流を流すことで発光させるものであるが、効率よく発光させるには有機発光層の膜厚が重要であり、100nm程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイパネル化するには高精細にパターニングする必要がある。   An organic EL element is one in which an organic light emitting layer made of an organic light emitting material is formed between two opposing electrodes, and light is emitted by passing a current through the organic light emitting layer. The film thickness is important, and it is necessary to form a thin film of about 100 nm. Furthermore, in order to make this a display panel, it is necessary to pattern it with high definition.

有機発光層を形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料が有り、一般に低分子材料は真空蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出にくいという問題がある。また、真空中で成膜するためにスループットが悪いという問題がある。   The organic light emitting material for forming the organic light emitting layer includes a low molecular material and a high molecular material. Generally, a low molecular material is formed into a thin film by a vacuum deposition method or the like, and is patterned using a fine pattern mask at this time. This method has a problem that the larger the substrate is, the less patterning accuracy is obtained. In addition, since the film is formed in a vacuum, there is a problem that the throughput is poor.

そこで、最近では高分子材料を溶剤に溶かして塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。高分子材料の塗液を用いてウェットコーティング法で有機発光層を含む有機発光媒体層を形成する場合の層構成は、陽極側から正孔輸送層、有機発光層と積層する二層構成が一般的である。このとき、有機発光層はカラーパネル化するために赤(R)、緑(G)、青(B)のそれぞれの発光色をもつ有機発光材料を溶剤中に溶解または安定して分散してなる有機発光インキを用いて塗り分ける必要がある。塗り分けの方法としては、オフセット印刷法が提案されている。(例えば特許文献1参照)。
また、微細パターンを形成する他の方法としては、凸版印刷法が提案されており、例えば特許文献2において、基板上に半導体回路パターンを形成する技術が開示されている。
特開2001−93668公報 特開2002−217248公報
Therefore, recently, a method in which a polymer material is dissolved in a solvent to form a coating solution and a thin film is formed by a wet coating method has been tried. In the case of forming an organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer by a wet coating method using a coating material of a polymer material, the layer structure is generally a two-layer structure in which a hole transport layer and an organic light emitting layer are laminated from the anode side. Is. At this time, the organic light emitting layer is formed by dissolving or stably dispersing organic light emitting materials having respective emission colors of red (R), green (G), and blue (B) in a solvent in order to form a color panel. It is necessary to paint with organic luminescent ink. An offset printing method has been proposed as a coloring method. (For example, refer to Patent Document 1).
As another method for forming a fine pattern, a relief printing method has been proposed. For example, Patent Document 2 discloses a technique for forming a semiconductor circuit pattern on a substrate.
JP 2001-93668 A JP 2002-217248 A

上記の如き構成の有機EL素子を有する有機ELディスプレイにおいて、画像形成に関わる部分全体に正孔輸送層を全面塗布、いわゆるベタ塗りする方法が一般的であり、スピンコート法やダイコート法といったコーティング法を用いて形成されてきた。これは、正孔輸送層の膜厚は一般に100nm以下の薄膜であり、層の横方向へ流れる電流よりも厚み方向へ流れる電流のほうが圧倒的に流れやすく、よって電極がパターニングされていれば、電流の画素の外へのリークは非常に少ないといわれていたためである。  In the organic EL display having the organic EL element having the above-described configuration, a method of generally applying a hole transport layer to the entire portion related to image formation, that is, a so-called solid coating method is generally used, and a coating method such as a spin coating method or a die coating method is used. Has been formed. This is because the film thickness of the hole transport layer is generally a thin film of 100 nm or less, and the current flowing in the thickness direction is overwhelmingly easier to flow than the current flowing in the lateral direction of the layer, so if the electrode is patterned, This is because it was said that there is very little leakage of current outside the pixel.

本願発明者等は、ガラス基板上に陽極である画素電極をパターン形成し、画素電極間に絶縁層をパターン形成し、正孔輸送層を有機EL素子の有効面内に全面塗布し、有機発光層をパターン形成し、陰極層をパターン形成したパッシブマトリックスタイプの有機EL素子において、パターン化された電極間に流れる電流がリークし、発光効率が低下していることを確認した。
したがって、このリーク電流を防止して発光効率を良くするためには、正孔輸送層を画素電極上にのみにパターン形成し、絶縁層上には正孔輸送層を設けないようにする必要がある。
The inventors of the present invention pattern a pixel electrode as an anode on a glass substrate, pattern an insulating layer between the pixel electrodes, apply a hole transport layer over the entire surface of the organic EL element, and perform organic light emission. In the passive matrix type organic EL device in which the layer was patterned and the cathode layer was patterned, it was confirmed that the current flowing between the patterned electrodes leaked and the luminous efficiency was lowered.
Therefore, in order to prevent this leakage current and improve luminous efficiency, it is necessary to pattern the hole transport layer only on the pixel electrode and not to provide the hole transport layer on the insulating layer. is there.

しかしながら、正孔輸送層を形成する正孔輸送材料は(3、4―ポリエチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)といった高分子材料からなるため、この正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定して分散させ正孔輸送インキとするには、高分子材料の溶解性及び分散性の問題と、薄膜を作る必要性の両方の問題から、濃度を2%前後と低くする必要がある。
そして、濃度が2%前後の低粘度の正孔輸送インキをパターン印刷する際には、インキの広がりを防止するため隔壁が必要となる。これは、画素電極間にある絶縁層の高さを大きくし、隔壁として使用することで解決される。また、絶縁層で仕切られた画素電極内に正孔輸送インキを転写させる方法としては、インクジェット法や凸版印刷法による印刷法式がある。
However, since the hole transport material forming the hole transport layer is made of a polymer material such as (3,4-polyethylenedioxythiophene) (PEDOT), the hole transport material is dissolved or stably dispersed in a solvent. In order to obtain a hole transport ink, it is necessary to reduce the concentration to about 2% because of both the problem of solubility and dispersibility of the polymer material and the necessity of forming a thin film.
When pattern printing is performed with a low-viscosity hole transport ink having a concentration of about 2%, a partition wall is necessary to prevent the ink from spreading. This can be solved by increasing the height of the insulating layer between the pixel electrodes and using it as a partition wall. Moreover, as a method of transferring the hole transport ink into the pixel electrode partitioned by the insulating layer, there are printing methods such as an ink jet method and a relief printing method.

しかし、インクジェット法はインクジェットノズルから有機発光インキを被印刷部位に複数回滴下する方式であり、ノズルと被印刷基板に距離があり、インキは自身の重力でのみ隔壁内の被印刷部位に広がるものである。したがって、このインクジェット法では絶縁層に囲まれた被印刷部位全てにインキを転写することが難しく、特に画素電極の縁部においては印刷抜けが発生しやすいという問題がある。
また、インクジェット法において印刷抜けが発生しないようにする方法も考案されているが、そのためには十分にインクを開口部に盛る必要があるが、隔壁よりインクがあふれ出すことを防ぐために隔壁に撥水処理をする必要があり、その分、工程が増えてしまうという問題点がある。さらに、撥水性のある隔壁に滴下されたインクは山盛り状態になるが、このことは画素内の膜厚均一性が悪くなりやすいため、ディスプレイパネルの均一性や安定性の面で問題がある。
However, the inkjet method is a method in which organic light-emitting ink is dropped from the inkjet nozzle to the printing site multiple times, and there is a distance between the nozzle and the printing substrate, and the ink spreads to the printing site in the partition only by its own gravity. It is. Therefore, it is difficult for this ink jet method to transfer the ink to all the printing parts surrounded by the insulating layer, and there is a problem that printing omission is likely to occur especially at the edge of the pixel electrode.
In addition, a method for preventing printing omission in the ink jet method has been devised, but in order to do so, it is necessary to sufficiently fill the opening with ink, but in order to prevent ink from overflowing from the partition, There is a problem that it is necessary to perform water treatment, and the number of processes increases accordingly. Further, the ink dropped on the water-repellent partition walls is piled up, but this has a problem in the uniformity and stability of the display panel because the film thickness uniformity in the pixels tends to deteriorate.

一方、凸版印刷法においては、凸版の凸部を被印刷部位に押し付けるため、版による押し付けと隔壁により形成された空間を凸版が埋めることにより、インキは隔壁で囲まれた画素内を横方向に強く押し広げられる。したがって、一般的には画素電極の縁部における印刷抜けが発生しにくい。また、凸版印刷は簡便であり、インクジェット方式等と比較してスループットがよいという長所を有する。したがって、正孔輸送インキから正孔輸送層を形成するに当り、凸版印刷法は好適である。   On the other hand, in letterpress printing, in order to press the convex part of the letterpress against the printing site, the letterpress fills the space formed by the plate and the partition, so that the ink is laterally moved in the pixels surrounded by the partition. Strongly spread. Therefore, in general, printing omission at the edge of the pixel electrode hardly occurs. Moreover, letterpress printing is simple and has the advantage that the throughput is better than that of the ink jet method or the like. Therefore, the relief printing method is suitable for forming the hole transport layer from the hole transport ink.

前述の通り、正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定して分散させ正孔輸送インキとするには、高分子材料の溶解性の問題から濃度を2%前後と低くする必要がある。低濃度のインキを用いて、所望の膜厚を成膜するためには、アニロックスの線数を落とす必要があり、微細パターンを形成することができなかった。
また、画素面内における発光効率が面内において均一であることが必要であり、画素面内における正孔輸送層の厚さを均一にする必要がある。しかしながら、隔壁に囲まれた微細領域に、均一な厚さの正孔輸送層を確実に形成することは困難であった。
As described above, in order to dissolve or stably disperse the hole transport material in a solvent to obtain a hole transport ink, it is necessary to reduce the concentration to about 2% due to the solubility problem of the polymer material. In order to form a desired film thickness using a low-concentration ink, it is necessary to reduce the number of anilox lines, and a fine pattern cannot be formed.
In addition, the luminous efficiency in the pixel plane needs to be uniform in the plane, and the thickness of the hole transport layer in the pixel plane needs to be uniform. However, it has been difficult to reliably form a hole transport layer having a uniform thickness in a fine region surrounded by the partition walls.

さらにまた、これまでの凸版の場合、アニロックスから凸版の凸部にインキングした後に、凸部の端部に傷があると、レリーフにインキが流れ落ちることがあった。   Furthermore, in the case of conventional relief printing, ink may flow down to the relief if there is a scratch on the end of the relief after inking the anilox into the relief of the relief.

そこで本発明は、有機EL素子においてパターニングされた画素電極上にのみに正孔輸送層を形成する方法を提供し、リーク電流による発光効率の低下がなく、均一性の良い表示を行うことが可能な有機EL素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a method of forming a hole transport layer only on a pixel electrode patterned in an organic EL element, and can display images with good uniformity without a decrease in light emission efficiency due to leakage current. An object of the present invention is to provide an organic EL device and a method for manufacturing the same.

上述の目的を達成するため、本発明は、画素電極と、前記画素電極上に発光領域を画定する絶縁層と、前記発光領域に積層されかつ少なくとも正孔輸送層及び有機発光層の2層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光体層を介して前記画素電極に対向する対向電極とからなる有機EL素子の製造方法であって、前記発光領域内に凸版を用いて前記有機発光媒体層を構成する少なくとも一層を形成する工程を含む有機発光媒体層形成工程を備え、前記凸版の凸部の頂部は、前記凸部の側面の延長上に位置し前記頂部の側面を構成する頂部用側面と、前記凸部の突出方向と反対の方向に窪む曲面からなり前記頂部用側面につながって前記凸部の先端面を形成する頂部用先端面とを含んで構成され、前記凸部の頂部に前記頂部用先端面により凹部が形成され、前記有機発光媒体層形成工程では、形成すべき前記層を構成するためのインキが前記頂部の前記凹部から前記発光領域に印刷されることを特徴とする。
また、本発明による有機EL素子の製造方法は、少なくとも画素電極と、対向電極と、正孔輸送層と有機発光層を含む有機発光媒体層からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機EL素子の製造方法であって、基板上のパターニングされた画素電極の間に絶縁層を形成する工程と、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散させた正孔輸送インキを凸版の凸部から前記絶縁層の間にある画素電極に印刷して正孔輸送層を形成する工程とを有し、前記凸版の凸部の頂部に凹部を有し、凹部の深さが0.5〜5.0μmであることを特徴とする。
In order to achieve the above-described object, the present invention includes a pixel electrode, an insulating layer defining a light emitting region on the pixel electrode, and at least two layers stacked on the light emitting region and including a hole transport layer and an organic light emitting layer. A method of manufacturing an organic EL element comprising an organic light emitting medium layer including a counter electrode facing the pixel electrode through the organic light emitting layer, wherein the organic light emitting medium layer is formed using a relief plate in the light emitting region. An organic light-emitting medium layer forming step including a step of forming at least one layer constituting the convex portion, and the top portion of the convex portion of the relief plate is located on the extension of the side surface of the convex portion and constitutes the side surface of the top portion And a tip end surface for the top portion that is connected to the side surface for the top portion and forms a tip end surface of the convex portion, and is formed of a curved surface that is recessed in a direction opposite to the projecting direction of the convex portion. The concave portion is formed by the top end surface. Made is, in the organic light emitting medium layer forming step, the ink for forming the layer to be formed, characterized in that it is printed on the light emitting region from said recess of said top.
The organic EL device manufacturing method according to the present invention includes at least a pixel electrode, a counter electrode, an organic light emitting medium layer including a hole transport layer and an organic light emitting layer, and a current is passed from both electrodes to the organic light emitting layer. A method of manufacturing an organic EL element that emits light from an organic light emitting layer by forming an insulating layer between patterned pixel electrodes on a substrate, and dissolving or dispersing a hole transport material in a solvent by letterpress printing And a step of forming a hole transport layer by printing the positive hole transport ink from the convex portion of the relief printing onto the pixel electrode between the insulating layers, and having a concave portion at the top of the convex portion of the relief printing plate. The depth of the recess is 0.5 to 5.0 μm.

また本発明の有機EL素子は、少なくとも画素電極と対向電極と正孔輸送層と有機発光層を含む有機発光媒体層からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機EL素子であって、基板上のパターニングされた画素電極の間に形成された絶縁層と、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または分散させた正孔輸送インキを凸版の凸部から前記絶縁層の間にある画素電極に印刷して形成された正孔輸送層とを有し、前記凸版の凸部の形状が頂部に凹部を有する形状であり、凹部の深さが0.5〜5.0μmであることを特徴とする。
また、以上の構成において、前記凸版の凸部の表面と谷部との深さが50μm以上であることを特徴とする。また、前記凸版の構成材料が樹脂材料からなり、その硬度が18〜75(ショアD)、45〜90(ショアA)であることを特徴とする。さらに、前記正孔輸送層インキの粘度が5〜80mPa・sであることを特徴とする。
The organic EL device of the present invention comprises an organic light emitting medium layer including at least a pixel electrode, a counter electrode, a hole transport layer, and an organic light emitting layer. The organic light emitting layer emits light by passing a current from both electrodes to the organic light emitting layer. An organic EL element to be used is formed by using an insulating layer formed between patterned pixel electrodes on a substrate and a hole transport ink in which a hole transport material is dissolved or dispersed in a solvent by a relief printing method. And a hole transport layer formed by printing on the pixel electrode between the insulating layer and the shape of the convex portion of the relief plate has a concave portion at the top, and the depth of the concave portion is 0 .5 to 5.0 μm.
Moreover, in the above structure, the depth of the surface and trough part of the convex part of the said relief plate is 50 micrometers or more, It is characterized by the above-mentioned. The constituent material of the relief printing plate is made of a resin material, and its hardness is 18 to 75 (Shore D), 45 to 90 (Shore A). Furthermore, the viscosity of the hole transport layer ink is 5 to 80 mPa · s.

なお、一般に凸版印刷法とは、広義には画線部が凸形状をしている版すなわち凸版を用いる全ての印刷法を言うが、本発明で述べる凸版印刷法とは、ゴム版または樹脂版からなる凸版を用いる印刷方式を示すこととする。また、印刷業の当業者間ではゴム凸版を用いるものをフレキソ印刷といい、樹脂凸版を用いるものを樹脂凸版印刷と区別して呼んでいるが、本発明では両者を特に区別せず、凸版印刷法と呼ぶこととする。凸版印刷方式で用いられるゴム版や樹脂版は、現在は感光性のゴム版や樹脂版が主に用いられているが、凸版の材質も多様化し、感光性ゴム版と感光性樹脂版の区別も不明確になってきており、本発明ではこの区別も特に設けず、両者とも感光性樹脂凸版と呼ぶことにする。
また、絶縁層が格子状になっている場合、発光領域は窓状となっている。また、絶縁層がライン状である場合、発光領域はライン間の部分である。また、絶縁層は、一部が画素電極に重なっていても良く、重なっていなくても良い。
In general, the letterpress printing method refers to all printing methods using a plate whose image line portion has a convex shape, that is, a letterpress, in a broad sense. The letterpress printing method described in the present invention is a rubber plate or a resin plate. A printing method using a relief printing plate made of Also, among those skilled in the printing industry, those using rubber letterpress are called flexographic printing, and those using resin letterpress are called to distinguish from resin letterpress printing, but in the present invention, both are not particularly distinguished, letterpress printing method I will call it. Currently, photosensitive rubber plates and resin plates are mainly used for the relief printing system, but the material of the relief plate is also diversified, and the distinction between photosensitive rubber plates and photosensitive resin plates. In the present invention, this distinction is not particularly provided, and both are called photosensitive resin relief plates.
Further, when the insulating layer has a lattice shape, the light emitting region has a window shape. In addition, when the insulating layer has a line shape, the light emitting region is a portion between the lines. In addition, the insulating layer may partially overlap the pixel electrode or may not overlap.

本発明の有機EL素子及びその製造方法によれば、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版の凸部から絶縁層の間にある画素電極に均一で所望の厚さのインキ膜を転写することができる。また、レリーフにインキの流れ込みを抑制することができるため、欠陥のない均一性に優れた有機EL素子を得ることができる効果がある。   According to the organic EL element and the method for producing the same of the present invention, a pixel electrode in which a hole transport ink in which a hole transport material is dissolved or stably dispersed in a solvent by a letterpress printing method is located between the convex part of the letterpress and the insulating layer And an ink film having a desired thickness can be transferred. Further, since the ink can be prevented from flowing into the relief, there is an effect that it is possible to obtain an organic EL element excellent in uniformity without defects.

以下、本発明の実施の形態を、パッシブマトリックスタイプの有機ELディスプレイパネルに適用した例について説明する。有機EL素子の駆動方法としては、パッシブマトリックスタイプとアクティブマトリックスタイプがあるが、本発明の有機EL素子はパッシブマトリックス方式の有機EL素子、アクティブマトリックス方式の有機EL素子のどちらにも適用可能である。
パッシブマトリックス方式とはストライプ状の電極を直交させるように対向させ、その交点を発光させる方式であるのに対し、アクティブマトリックス方式は画素毎にトランジスタを形成した、いわゆる薄膜トランジスタ(TFT)基板を用いることにより、画素毎に独立して発光する方式である。
図1は本発明の実施の形態による有機ELディスプレイパネルの構造を示す断面図である。
この有機ELディスプレイパネルにおける有機EL素子は基板1上に形成される。この有機ELディスプレイパネルが基板側から光を取り出すポトムエミッション方式の有機EL素子とする場合には、基板1として透明なものを使用する必要があるが、基板1と反対側から光を取り出すトップエミッション方式の場合は、基板1は透光性を有する必要はない。
基板1としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。プラスチック製のフィルムを用いれば、巻取りにより高分子EL素子の製造が可能となり、安価にディスプレイパネルを提供できる。また、その場合のプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート等を用いることができる。また、これらのフィルムは水蒸気バリア性、酸素バリア性を示す酸化ケイ素といった金属酸化物、窒化ケイ素といった酸化窒化物やポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレンー酢酸ビニル共重合体鹸化物からなるバリア層が必要に応じて設けられる。
Hereinafter, an example in which the embodiment of the present invention is applied to a passive matrix type organic EL display panel will be described. There are a passive matrix type and an active matrix type as a driving method of the organic EL element, but the organic EL element of the present invention can be applied to both a passive matrix type organic EL element and an active matrix type organic EL element. .
The passive matrix method is a method in which stripe-shaped electrodes are opposed to each other so as to be orthogonal to each other, and light is emitted at the intersection, whereas the active matrix method uses a so-called thin film transistor (TFT) substrate in which a transistor is formed for each pixel. Thus, the light is emitted independently for each pixel.
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of an organic EL display panel according to an embodiment of the present invention.
The organic EL element in this organic EL display panel is formed on the substrate 1. When this organic EL display panel is a Potom emission type organic EL element that extracts light from the substrate side, it is necessary to use a transparent one as the substrate 1, but the top that extracts light from the opposite side of the substrate 1 is used. In the case of the emission method, the substrate 1 does not need to have translucency.
As the substrate 1, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a plastic film is used, a polymer EL element can be produced by winding, and a display panel can be provided at a low cost. In addition, as the plastic in that case, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyethersulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or the like can be used. In addition, these films have a barrier layer made of a metal oxide such as silicon oxide that exhibits water vapor barrier property and oxygen barrier property, oxynitride such as silicon nitride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer. Provided as needed.

また、基板1の上には陽極としてパターニングされた画素電極2が設けられる。画素電極2の材料としては、ITO(インジウム錫複合酸化物)、IZO(インジウム亜鉛複合酸化物)、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等の透明電極材料が使用できる。なお、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性があることなどからITOが好ましい。ITOはスパッタ法により基板上に形成されフォトリソ法によりパターニングされライン状の画素電極2となる。
そして、このライン状の画素電極2を形成後、隣接する画素電極2の間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィ法により絶縁層3が形成される。
A pixel electrode 2 patterned as an anode is provided on the substrate 1. As the material of the pixel electrode 2, transparent electrode materials such as ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and aluminum oxide composite oxide can be used. ITO is preferred because of its low resistance, solvent resistance, transparency, and the like. ITO is formed on the substrate by a sputtering method and patterned by a photolithography method to form a line-shaped pixel electrode 2.
Then, after the line-shaped pixel electrode 2 is formed, the insulating layer 3 is formed by photolithography using a photosensitive material between the adjacent pixel electrodes 2.

本実施の形態における絶縁層3は、厚みが0.5umから5.0umの範囲にあることが望ましい。また、絶縁層3を隣接する画素電極2間に設けることによって、各画素電極2上に印刷された正孔輸送インキの広がりを抑え、ディスプレイ化した際に正孔輸送層4が絶縁層3上にあることによるリーク電流の発生を防ぐことができる。なお、絶縁層3が低すぎるとインキの広がりを防止できずに絶縁層3上に正孔輸送層4が形成されることとなる。   The insulating layer 3 in the present embodiment desirably has a thickness in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. Further, by providing the insulating layer 3 between the adjacent pixel electrodes 2, the spread of the hole transport ink printed on each pixel electrode 2 is suppressed, and the hole transport layer 4 is formed on the insulating layer 3 when a display is formed. It is possible to prevent the occurrence of leakage current due to being in the area. If the insulating layer 3 is too low, ink spreading cannot be prevented and the hole transport layer 4 is formed on the insulating layer 3.

また、例えばパッシブマトリックスタイプの有機ELディスプレイパネルにおいて、画素電極の間に絶縁層3を設けた場合、絶縁層3を直交して陰極層6を形成することになる。このように絶縁層3をまたぐ形で陰極層6を形成する場合、絶縁層3が高すぎると陰極層6の断線が起こってしまい表示不良となる。絶縁層3の高さが5.0μmを超えると陰極の断線が起きやすくなってしまう。   For example, in a passive matrix type organic EL display panel, when the insulating layer 3 is provided between the pixel electrodes, the cathode layer 6 is formed with the insulating layer 3 orthogonally crossed. When the cathode layer 6 is formed so as to straddle the insulating layer 3 in this way, if the insulating layer 3 is too high, the cathode layer 6 is disconnected, resulting in a display defect. When the height of the insulating layer 3 exceeds 5.0 μm, disconnection of the cathode tends to occur.

また、絶縁層3を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。なお、隔壁が十分な絶縁性を有さない場合には隔壁を通じて隣り合う画素電極2に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といったものが挙げられるが、これに限定するものではない。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。   Further, the photosensitive material for forming the insulating layer 3 may be either a positive resist or a negative resist, and may be a commercially available one, but it must have insulating properties. In addition, when the partition does not have sufficient insulation, a current flows to the adjacent pixel electrode 2 through the partition and a display defect occurs. Specific examples thereof include polyimide, acrylic resin, novolac resin, and fluorene, but are not limited thereto. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material may be included in the photosensitive material.

また、絶縁層3を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等の塗布方法を用いて塗布され、フォトリソ法によりパターニングされる。また、感光性樹脂を用いずにグラビアオフセット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法等を用いて絶縁層3を形成してもよい。   The photosensitive resin forming the insulating layer 3 is applied using a coating method such as a spin coater, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a gravure coater, and is patterned by a photolithography method. Alternatively, the insulating layer 3 may be formed using a gravure offset printing method, a reverse printing method, a flexographic printing method, or the like without using a photosensitive resin.

以上のようにして絶縁層3を形成した後、次に正孔輸送層4を形成する。正孔輸送層4を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4―エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)等が挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させ、正孔輸送材料インキとなり、本実施の形態による凸版印刷方法を用いて形成される。なお、形成される正孔輸送層4の体積低効率は発光効率の点から1x106 Ω・cm以下のものが好ましい。   After forming the insulating layer 3 as described above, the hole transport layer 4 is then formed. Examples of the hole transport material forming the hole transport layer 4 include polyaniline derivatives, polythiophene derivatives, polyvinylcarbazole (PVK) derivatives, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), and the like. These materials are dissolved or dispersed in a solvent to form a hole transport material ink, which is formed using the relief printing method according to the present embodiment. The volume low efficiency of the formed hole transport layer 4 is preferably 1 × 10 6 Ω · cm or less from the viewpoint of light emission efficiency.

また、正孔輸送材料を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、水等の単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。また、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されていても良い。   Examples of the solvent for dissolving or dispersing the hole transport material include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin, ethyl acetate, and butyl acetate. , Isopropyl acetate, water and the like alone or a mixed solvent thereof. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added as needed.

図2は正孔輸送材料からなる正孔輸送インキを、画素電極2、絶縁層3が形成された被印刷基板上にパターン印刷する際の凸版印刷装置の概略を示している。
図示のように、本製造装置は、インクタンク10と、インキチャンバー12と、アニロックスロール14と、凸版30が設けられた版16がマウントされた版胴18を有している。インクタンク10には溶媒で希釈された正孔輸送インキが収容されており、インキチャンバー12にはインクタンク10より正孔輸送インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール14はインキチャンバー12のインキ供給部に対して回転可能に支持されている。
FIG. 2 shows an outline of a relief printing apparatus when pattern printing is performed on a substrate to be printed on which a pixel electrode 2 and an insulating layer 3 are formed using a hole transport ink made of a hole transport material.
As shown in the figure, the present manufacturing apparatus has a plate cylinder 18 on which a plate 16 provided with an ink tank 10, an ink chamber 12, an anilox roll 14, and a relief plate 30 is mounted. The ink tank 10 contains hole transport ink diluted with a solvent, and the hole transport ink is fed into the ink chamber 12 from the ink tank 10. The anilox roll 14 is rotatably supported with respect to the ink supply part of the ink chamber 12.

アニロックスロール14の回転に伴い、アニロックスロール表面に供給された正孔輸送インキのインキ層14aは均一な膜厚に形成される。このインキ層14aはアニロックスロールに近接して回転駆動される版胴18にマウントされた版16の凸部32に転移する。
平台20には、透明電極および絶縁層3が形成された被印刷基板24が版16の凸部32による印刷位置にまで図示しない搬送手段によって搬送されるようになっている。そして、版16の凸部32にあるインキは被印刷基板24に対して印刷され、必要に応じて乾燥工程を経て被印刷基板上に正孔輸送層4が形成される。
As the anilox roll 14 rotates, the ink layer 14a of the hole transport ink supplied to the anilox roll surface is formed with a uniform film thickness. The ink layer 14a is transferred to the convex portion 32 of the plate 16 mounted on the plate cylinder 18 that is driven to rotate in the vicinity of the anilox roll.
On the flat table 20, the substrate to be printed 24 on which the transparent electrode and the insulating layer 3 are formed is conveyed to a printing position by the convex portion 32 of the plate 16 by a conveying means (not shown). And the ink in the convex part 32 of the plate 16 is printed on the printing substrate 24, and the hole transport layer 4 is formed on the printing substrate through a drying process as necessary.

なお、本例では凸版30に使用した感光性樹脂凸版は水現像タイプのものを使用した。感光性樹脂版には、露光した樹脂版を現像する際に用いる現像液が有機溶剤である溶剤現像タイプのものと現像液が水である水現像タイプのものがある。一般に溶剤現像タイプのものは水系のインキに耐性を示し、水現像タイプのものは有機溶剤系のインキに耐性を示す傾向があるが、この限りではなく、正孔輸送インキに耐性を持ったものであれば、いずれの樹脂凸版30も用いることができる。   In this example, the photosensitive resin relief plate used for the relief plate 30 was of the water development type. The photosensitive resin plate includes a solvent development type in which the developer used when developing the exposed resin plate is an organic solvent and a water development type in which the developer is water. In general, solvent-developed types are resistant to water-based inks, and water-developed types tend to be resistant to organic solvent-based inks. Any resin relief plate 30 can be used.

ここで樹脂凸版30により画素電極2上に正孔輸送層4を所望の膜厚に形成することができるように、図3に示すように、樹脂凸版30の凸部32の形状が中凹形状、すなわち凸部32の頂部32Aに凹部36が形成された状態の形状となっている。
詳細に説明すると、凸版30の凸部32の頂部32Aは、凸部30の側面の延長上に位置し頂部32Aの側面を構成する頂部用側面34と、凸部30の突出方向と反対の方向に窪む曲面からなり頂部用側面34につながって凸部30の先端面を形成する頂部用先端面35とを含んで構成されている。そして凸部32の頂部32Aに、両側の頂部用側面34とそれらの先端につながる頂部用先端面35により、凸部32の突出方向と反対の方向に窪む凹部36が形成されている。
凹部36は、該凹部36の高低差Aに対する凹部36の開口部の幅Bの比(A/B)が、1/200〜1/2であることが好ましい。
なお、本明細書において、凹部36の開口部の幅Bとは、両側の頂部用側面34の先端間に位置する凹部36の寸法をいう。
また、本明細書において、凹部36の高低差Aとは、頂部用側面34の先端と凹部36の底部との高さの差をいう。換言すれば、高低差Aは、凹部36の深さAとほぼ同等である。
凹部36の開口部の幅Bは、絶縁層3に囲まれた若しくは挟まれた領域に応じて設定されるものの、10〜100μmとなっている。凹部36の高低差に対する開口部の幅を1/200〜1/2とすることによって、絶縁層3に囲まれた若しくは挟まれた領域に、均一な厚さの正孔輸送層4を形成することができる。
ここで、凹部36の高低差Aが0.5〜5.0μmであることが望ましい。高低差Aが0.5μm以下だと、厚膜化の効果が薄れたり、レリーフにインキが流れやすい原因となる。また逆に高低差Aが5.0μm以上の場合には、アニロックスロール14からの転移量が安定せず、ムラの原因となる。また、高低差Aを0.5〜5.0μmに設定することによって、絶縁層3に囲まれた若しくは挟まれた領域に、均一な厚さの正孔輸送層4を確実に形成することができる。
頂部用先端面35は、凸部32の突出方向と反対の方向に窪む曲面で形成されている。ここで曲面とは、平面ではない連続的に曲がった面をいう。したがって、凹部36(頂部用先端面35)はメニスカス形状であっても良い。ここで、メニスカス形状とは、凹部36内に角部がない形状をいう。メニスカス形状とすることによって、凹部36内にインキが残らずに、確実にインキ膜を転写することができる。
Here, as shown in FIG. 3, the shape of the convex portion 32 of the resin relief plate 30 is a middle-concave shape so that the hole transport layer 4 can be formed on the pixel electrode 2 with the resin relief plate 30 to a desired film thickness. In other words, the shape is such that the concave portion 36 is formed on the top portion 32 </ b> A of the convex portion 32.
More specifically, the top portion 32A of the convex portion 32 of the relief plate 30 is positioned on the extension of the side surface of the convex portion 30 and the side surface 34 for the top portion constituting the side surface of the top portion 32A, and the direction opposite to the protruding direction of the convex portion 30 And a top end surface 35 that is connected to the top side surface 34 and forms the front end surface of the convex portion 30. A concave portion 36 that is recessed in the direction opposite to the protruding direction of the convex portion 32 is formed in the top portion 32A of the convex portion 32 by the top side surface 34 on both sides and the top front end surface 35 connected to the front ends thereof.
In the recess 36, the ratio (A / B) of the width B of the opening of the recess 36 to the height difference A of the recess 36 is preferably 1/200 to 1/2.
In the present specification, the width B of the opening of the recess 36 refers to the dimension of the recess 36 positioned between the tips of the top side surfaces 34 on both sides.
In the present specification, the height difference A of the recess 36 means a difference in height between the tip of the top side surface 34 and the bottom of the recess 36. In other words, the height difference A is substantially equal to the depth A of the recess 36.
The width B of the opening of the recess 36 is set according to the region surrounded or sandwiched by the insulating layer 3, but is 10 to 100 μm. By setting the width of the opening with respect to the height difference of the recess 36 to 1/200 to 1/2, the hole transport layer 4 having a uniform thickness is formed in a region surrounded or sandwiched by the insulating layer 3. be able to.
Here, it is desirable that the height difference A of the recess 36 is 0.5 to 5.0 μm. When the height difference A is 0.5 μm or less, the effect of increasing the film thickness is reduced, or the ink tends to flow into the relief. On the other hand, when the height difference A is 5.0 μm or more, the amount of transition from the anilox roll 14 is not stable, which causes unevenness. Further, by setting the height difference A to 0.5 to 5.0 μm, the hole transport layer 4 having a uniform thickness can be reliably formed in a region surrounded or sandwiched by the insulating layer 3. it can.
The top end surface 35 is formed as a curved surface that is recessed in the direction opposite to the protruding direction of the convex portion 32. Here, the curved surface refers to a continuously curved surface that is not a flat surface. Therefore, the concave portion 36 (the top end surface 35) may have a meniscus shape. Here, the meniscus shape refers to a shape having no corners in the recess 36. By adopting a meniscus shape, the ink film can be reliably transferred without ink remaining in the recess 36.

また凸版30の凸部32と凸部32が設けられていない箇所との差、つまりインキが転移されない部分の深さの差は50μm以上であることが好ましい。この差が小さいと、印刷条件によっては凸部32だけでなく、凸部32が設けられていない箇所までも基板に接触してしまい、余計な部分にインキが転写してしまいリーク等の不具合が発生するためである。   Moreover, it is preferable that the difference of the convex part 32 of the relief plate 30 and the location in which the convex part 32 is not provided, ie, the difference of the depth of the part to which ink is not transferred, is 50 micrometers or more. If this difference is small, depending on the printing conditions, not only the convex portion 32 but also the portion where the convex portion 32 is not provided will come into contact with the substrate, and ink will be transferred to the extra portion, causing problems such as leakage. This is because it occurs.

次に、樹脂凸版30の硬度は45〜90度(ショアA)、18〜75度(ショアD)であることが好ましい。硬度が45度未満(ショアA)であると、印圧に対するマージンが狭く画線がよれたりつぶれたりしてしまい、均一なパターン形成をすることが非常に難しくなってしまうためである。また、75度(ショアD)より大きい場合では、パターン形成に適切な印圧が高くなりすぎ、基板1や絶縁層3に負荷がかかりすぎ、ワレやひずみ、キズを生じてしまう危険があるからである。   Next, the hardness of the resin relief plate 30 is preferably 45 to 90 degrees (Shore A) and 18 to 75 degrees (Shore D). This is because if the hardness is less than 45 degrees (Shore A), the margin for the printing pressure is narrow and the image line is twisted or crushed, making it very difficult to form a uniform pattern. If the angle is greater than 75 degrees (Shore D), the printing pressure appropriate for pattern formation becomes too high, and the substrate 1 or the insulating layer 3 is overloaded, and there is a risk of cracking, distortion, or scratches. It is.

また、正孔輸送層4インキの粘度としては5〜80mPa・sであることが好ましい。これは、本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスロール14から凸版30上へのインキの転写が最初に行われるが、80mPa・s以上の粘度ではアニロックスロール14から凸版30上へインキが転写した後、凸版30上で十分インキがレベリングせず、従って印刷パターンにアニロックスロール14起因のモアレが発生することがあるためである。   The viscosity of the hole transport layer 4 ink is preferably 5 to 80 mPa · s. In the relief printing method used in the present embodiment, the ink is first transferred from the anilox roll 14 onto the relief 30. However, at a viscosity of 80 mPa · s or more, the ink is transferred from the anilox roll 14 onto the relief 30. This is because the ink does not sufficiently level on the relief plate 30 and moire due to the anilox roll 14 may occur in the printing pattern.

次に、以上のような正孔輸送層4の形成後、有機発光層5を形成する。有機発光層5は電流を通すことにより発光する層であり、有機発光層5を形成する有機発光材料は、例えば、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’―ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’―ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系の高分子材料が挙げられる。   Next, after the formation of the hole transport layer 4 as described above, the organic light emitting layer 5 is formed. The organic light emitting layer 5 is a layer that emits light by passing an electric current, and the organic light emitting material forming the organic light emitting layer 5 is, for example, a coumarin type, a perylene type, a pyran type, an anthrone type, a porphyrene type, a quinacridone type, N, N'-dialkyl-substituted quinacridone-based, naphthalimide-based, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based, iridium complex-based luminescent dyes dispersed in polymers such as polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, etc. And polyarylene-based, polyarylene vinylene-based, and polyfluorene-based polymer materials.

これらの有機発光材料は溶媒に溶解または安定に分散させ有機発光インキとなる。有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶剤が有機発光材料の溶解性の面から好適である。また、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されても良い。   These organic light emitting materials are dissolved or stably dispersed in a solvent to form an organic light emitting ink. Examples of the solvent for dissolving or dispersing the organic light-emitting material include toluene, xylene, acetone, anisole, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, or a mixed solvent thereof. Among these, aromatic organic solvents such as toluene, xylene, and anisole are preferable from the viewpoint of solubility of the organic light emitting material. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added to organic luminescent ink as needed.

有機発光層5の形成方法としては、本実施の形態による凸版印刷法の他にインクジェット法や凹版オフセット印刷法、凸版反転オフセット印刷法等によりパターン形成することが可能である。なお、本実施の形態による凸版印刷法を用いる場合は、有機発光インキに適した樹脂凸版30を使用することができ、中でも水現像タイプの感光性樹脂凸版30が好適である。   As a method for forming the organic light-emitting layer 5, in addition to the relief printing method according to the present embodiment, a pattern can be formed by an inkjet method, an intaglio offset printing method, a relief reverse printing method, or the like. In addition, when using the relief printing method by this Embodiment, the resin relief plate 30 suitable for organic luminescent ink can be used, and the water-development type photosensitive resin relief plate 30 is especially suitable.

次に、以上のような有機発光層5の形成後、陰極層6を画素電極2のラインパターンと直交するラインパターンで形成する。この陰極層6の材料としては、有機発光層5の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウムなどの金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。陰極層6の形成方法としてはマスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。   Next, after forming the organic light emitting layer 5 as described above, the cathode layer 6 is formed in a line pattern orthogonal to the line pattern of the pixel electrode 2. As the material of the cathode layer 6, those according to the light emission characteristics of the organic light emitting layer 5 can be used. For example, simple metals such as lithium, magnesium, calcium, ytterbium and aluminum and stable metals such as gold and silver can be used. And alloys thereof. Alternatively, a conductive oxide such as indium, zinc, or tin can be used. Examples of the method for forming the cathode layer 6 include a formation method by a vacuum vapor deposition method using a mask.

なお、本実施の形態の有機EL素子は、陽極である画素電極2と陰極層6の間に陽極層側から正孔輸送層4と有機発光層5を積層した構成であるが、陽極層と陰極層6の間において正孔輸送層4、有機発光層5以外に正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層といった層を必要に応じ選択した積層構造をとることができる。また、これらの層を形成する際にも本発明の形成方法を使用できる。さらには、画素電極2を陰極とし、対向電極を陽極とすることもできる。   The organic EL element of the present embodiment has a configuration in which the hole transport layer 4 and the organic light emitting layer 5 are laminated from the anode layer side between the pixel electrode 2 that is an anode and the cathode layer 6. In addition to the hole transport layer 4 and the organic light emitting layer 5, a layered structure in which a layer such as a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer is selected as necessary can be adopted between the cathode layers 6. The formation method of the present invention can also be used when forming these layers. Furthermore, the pixel electrode 2 can be a cathode and the counter electrode can be an anode.

最後に、これらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップ7と接着剤8を用いて密閉封止し、有機ELディスプレイパネルを得ることができる。また、基板が可撓性を有する場合には、封止剤と可撓性フィルムを用いて封止を行っても良い。
(実施例1)
Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, the organic EL display panel can be obtained by hermetically sealing with a glass cap 7 and an adhesive 8. In the case where the substrate has flexibility, sealing may be performed using a sealing agent and a flexible film.
(Example 1)

次に、本発明の実施例について説明する。
ここでは、以下のような実施例1〜3と比較例1〜4について試作と測定を行った。
まず、300mm角のガラス基板の上に、スパッタ法を用いてITO(インジウム-錫酸化物)薄膜を形成し、フォトリソ法と酸溶液によるエッチングでITO膜をパターニングして、対角5インチサイズのディスプレイが2面取れるように画素電極2を形成した。ディスプレイ1面当たりの画素電極2のラインパターンは、線幅40μm、スペース20μmでラインが1950ライン形成されるパターンとした。
Next, examples of the present invention will be described.
Here, trial manufacture and measurement were performed for the following Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4.
First, an ITO (indium-tin oxide) thin film is formed on a 300 mm square glass substrate by sputtering, and the ITO film is patterned by photolithography and etching with an acid solution. The pixel electrode 2 was formed so that two displays could be taken. The line pattern of the pixel electrode 2 per surface of the display was a pattern in which 1950 lines were formed with a line width of 40 μm and a space of 20 μm.

次に絶縁層3を以下のように形成した。まず、画素電極2を形成したガラス基板上にアクリル系のフォトレジスト材料を全面スピンコートした。スピンコートの条件を150rpmで5秒間回転させた後、500rpmで20秒間回転させ1回コーティングとし、絶縁層3の高さを1.5μmとした。全面に塗布したフォトレジスト材料に対し、フォトリソ法により画素電極2の間にラインパターンを有する絶縁層3を形成した。   Next, the insulating layer 3 was formed as follows. First, an acrylic photoresist material was spin coated on the glass substrate on which the pixel electrode 2 was formed. The spin coating condition was rotated at 150 rpm for 5 seconds, and then rotated at 500 rpm for 20 seconds to form a single coating, and the height of the insulating layer 3 was 1.5 μm. An insulating layer 3 having a line pattern was formed between the pixel electrodes 2 by photolithography using a photoresist material applied to the entire surface.

次に、正孔輸送インキとしてPEDOT溶液であるバイトロンAI―4083 80重量部、メチルセロソルブ 20重量部を混合、調液し粘度15mPa・sのインキを用意した。版材としては凸版30の凸部32の頂部32Aに凹部36を設けて中凹形状にし、その高低差Aを1.0μmとし、凸版30の凸部32と凸部32が設けられていない箇所との差は100μmとなるように製版を行った。版材の硬度は77(ショア A)のものを使用した。上記のインキ及び版を用いて凸版印刷法にて絶縁層3間に正孔輸送層4を形成した。印刷には180線/インチのアニロックスロールを使用し、印刷後、200°C、30分大気中で乾燥を行い正孔輸送層4を形成した。このときの膜厚は50nmとなった。そして、形成された正孔輸送層4に対し、パターニング状態の確認を行った。   Next, 80 parts by weight of Vitron AI-4083 as a PEDOT solution and 20 parts by weight of methyl cellosolve were mixed and prepared as a hole transport ink to prepare an ink having a viscosity of 15 mPa · s. As the plate material, a concave portion 36 is provided on the top 32A of the convex portion 32 of the relief plate 30 to form a middle concave shape, the height difference A is 1.0 μm, and the convex portion 32 and the convex portion 32 of the relief plate 30 are not provided. The plate making was performed so that the difference was 100 μm. The plate material had a hardness of 77 (Shore A). A hole transport layer 4 was formed between the insulating layers 3 by a relief printing method using the above ink and plate. An anilox roll of 180 lines / inch was used for printing, and after printing, the hole transport layer 4 was formed by drying in the atmosphere at 200 ° C. for 30 minutes. The film thickness at this time was 50 nm. Then, the patterning state of the formed hole transport layer 4 was confirmed.

次に、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度1%になるようにトルエンに溶解させた有機発光インキを用い、絶縁層3に挟まれた画素電極2の真上にそのラインパターンにあわせて有機発光層5を凸版印刷法で印刷を行った。このとき150線/インチのアニロックスロール及び水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。この結果、印刷、乾燥後の有機発光層5の膜厚は80nmとなった。   Next, an organic light-emitting ink in which a polyphenylene vinylene derivative, which is an organic light-emitting material, is dissolved in toluene so as to have a concentration of 1% is used, and the line pattern is aligned directly above the pixel electrode 2 sandwiched between the insulating layers 3. The organic light emitting layer 5 was printed by a relief printing method. At this time, an anilox roll of 150 lines / inch and a photosensitive resin plate of water development type were used. As a result, the film thickness of the organic light emitting layer 5 after printing and drying was 80 nm.

その上にCa、Alからなる陰極層6を画素電極2のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。最後にこれらの有機EL構成体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機ELディスプレイパネルを作製した。
これにより得られた有機ELディスプレイパネルの表示部の周辺部には各画素電極2に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極があり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ELディスプレイパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
(実施例2)
A cathode layer 6 made of Ca and Al was formed thereon by mask vapor deposition using a resistance heating vapor deposition method in a line pattern orthogonal to the line pattern of the pixel electrode 2. Finally, in order to protect these organic EL constituents from external oxygen and moisture, they were hermetically sealed using a glass cap and an adhesive to produce an organic EL display panel.
In the periphery of the display part of the organic EL display panel obtained in this way, there are an extraction electrode on the anode side connected to each pixel electrode 2 and an extraction electrode on the cathode side. By connecting these to a power source, The lighting display of the obtained organic EL display panel was confirmed, and the light emission state was checked.
(Example 2)

正孔輸送層4印刷用の凸版30の凸部32が中凹形状であって、その高低差Aを3.0μmとした以外は実施例1と同様とした。
(実施例3)
The same procedure as in Example 1 was performed except that the convex portion 32 of the relief printing plate 30 for printing the hole transport layer 4 had a concave shape and the height difference A was set to 3.0 μm.
(Example 3)

正孔輸送層4印刷用の凸版30の凸部32と凸部32が設けられていない箇所との高さの差を60μmとした以外は実施例1と同様とした。   The same as Example 1 except that the height difference between the convex part 32 of the relief printing plate 30 for printing the hole transport layer 4 and the part where the convex part 32 is not provided was 60 μm.

また、比較例として以下のような条件で作製した。
[比較例1]
正孔輸送層4印刷用の凸版30の凸部32が中凹形状であって、その高低差Aを8.0μmとした以外は実施例1と同様とした。
[比較例2]
正孔輸送層4印刷用の凸版30と凸部32が設けられていない箇所との高さの差が30μmである凸版30を用いた以外は実施例1と同様とした。
[比較例3]
正孔輸送層4形成のため、凸版印刷法の凸版30の硬度を25(ショアA)とした以外は実施例1と同様に作製した。
[比較例4]
正孔輸送インキとして実施例1で作製したインキに対しポリエチレングリコールを10重量部添加し、正孔輸送インキを作製した。このときインキの粘度は95mPa・sであった。このインキを用いて実施例1と同様にパネルの作製を行った。
Moreover, it produced on condition as follows as a comparative example.
[Comparative Example 1]
The same procedure as in Example 1 was performed except that the convex portion 32 of the relief printing plate 30 for printing the hole transport layer 4 had a concave shape and the height difference A was 8.0 μm.
[Comparative Example 2]
The same procedure as in Example 1 was performed except that the relief 30 having a height difference of 30 μm between the relief 30 for printing the hole transport layer 4 and the portion where the relief 32 was not provided was used.
[Comparative Example 3]
It was produced in the same manner as in Example 1 except that the hardness of the relief printing 30 of the relief printing method was changed to 25 (Shore A) in order to form the hole transport layer 4.
[Comparative Example 4]
As a hole transport ink, 10 parts by weight of polyethylene glycol was added to the ink prepared in Example 1 to prepare a hole transport ink. At this time, the viscosity of the ink was 95 mPa · s. A panel was produced using this ink in the same manner as in Example 1.

以上のような実施例1〜3及び比較例1〜4での正孔輸送層4のラインパターン形状の評価結果と、作製した有機ELディスプレイの表示状態の評価結果を図4に示している。
図示のように、比較例に比べて本発明の実施例で良好な結果が得られることが分かる。
FIG. 4 shows the evaluation results of the line pattern shape of the hole transport layer 4 in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 as described above and the evaluation result of the display state of the produced organic EL display.
As shown, it can be seen that better results are obtained with the example of the present invention than with the comparative example.

本発明の実施の形態による有機ELパネルにおける有機EL素子の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic EL element in the organic EL panel by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態における凸版印刷装置の概要を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline | summary of the relief printing apparatus in embodiment of this invention. 凸版の凸部の説明図である。It is explanatory drawing of the convex part of a letterpress. 本発明の実施例と比較例によって得られる有機ELディスプレイのパターン形状、リーク電流、発光状態の測定結果を比較例1〜4と共に対比して示した一覧表である。It is the table | surface which contrasted and showed the measurement result of the pattern shape of the organic electroluminescent display obtained by the Example and comparative example of this invention, a leakage current, and the light emission state with Comparative Examples 1-4.

符号の説明Explanation of symbols

1……基板、2……画素電極、3……絶縁層、4……正孔輸送層、5……有機発光層、6……陰極層、7……ガラスキャップ、8……接着剤、10……インクタンク、12……インキチャンバー、14……アニロックスロール、14a……インキ層、16……版、18……版胴、20……平台、24……被印刷基板、30……凸版、32……凸部、36……凹部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Pixel electrode, 3 ... Insulating layer, 4 ... Hole transport layer, 5 ... Organic light emitting layer, 6 ... Cathode layer, 7 ... Glass cap, 8 ... Adhesive, DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Ink tank, 12 ... Ink chamber, 14 ... Anilox roll, 14a ... Ink layer, 16 ... Plate, 18 ... Plate cylinder, 20 ... Flat bed, 24 ... Print substrate, 30 ... Letterpress, 32 ... convex, 36 ... concave.

Claims (15)

画素電極と、前記画素電極上に発光領域を画定する絶縁層と、前記発光領域に積層されかつ少なくとも正孔輸送層及び有機発光層の2層を含む有機発光媒体層と、前記有機発光体層を介して前記画素電極に対向する対向電極とからなる有機EL素子の製造方法であって、
前記発光領域内に凸版を用いて前記有機発光媒体層を構成する少なくとも一層を形成する工程を含む有機発光媒体層形成工程を備え、
前記凸版の凸部の頂部は、前記凸部の側面の延長上に位置し前記頂部の側面を構成する頂部用側面と、前記凸部の突出方向と反対の方向に窪む曲面からなり前記頂部用側面につながって前記凸部の先端面を形成する頂部用先端面とを含んで構成され、
前記凸部の頂部に前記頂部用先端面により凹部が形成され、
前記有機発光媒体層形成工程では、形成すべき前記層を構成するためのインキが前記頂部の前記凹部から前記発光領域に印刷される、
ことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A pixel electrode; an insulating layer that defines a light emitting region on the pixel electrode; an organic light emitting medium layer that is stacked on the light emitting region and includes at least two layers of a hole transport layer and an organic light emitting layer; and the organic light emitter layer A method of manufacturing an organic EL element comprising a counter electrode facing the pixel electrode via
An organic light emitting medium layer forming step including a step of forming at least one layer constituting the organic light emitting medium layer using a relief plate in the light emitting region;
The top part of the convex part of the relief plate is formed by a side surface for the top part which is located on the extension of the side surface of the convex part and forms a side surface of the top part, and a curved surface which is recessed in a direction opposite to the protruding direction of the convex part. A top end surface that is connected to the side surface and forms a front end surface of the convex portion,
A concave portion is formed on the top portion of the convex portion by the top end surface.
In the organic light emitting medium layer forming step, ink for constituting the layer to be formed is printed from the concave portion of the top portion to the light emitting region.
The manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.
前記有機発光媒体層を構成する少なくとも一層を形成する工程は正孔輸送インキを凸版の凸部から前記発光領域内に転写して前記正孔輸送層を形成する工程であることを特徴とする請求項1記載の有機EL素子の製造方法。   The step of forming at least one layer constituting the organic light emitting medium layer is a step of transferring the hole transport ink from a convex portion of a relief printing into the light emitting region to form the hole transport layer. Item 2. A method for producing an organic EL device according to Item 1. 前記凹部の深さAに対する凹部の開口部の幅Bの比(A/B)が、1/200〜1/2であることを特徴とする請求項1または2記載の有機EL素子の製造方法。   3. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the ratio (A / B) of the width B of the opening of the recess to the depth A of the recess is 1/200 to 1/2. . 前記凹部は深さAが0.5〜5.0μmであることを特徴とする請求項1乃至3に何れか1項記載の有機EL素子の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the recess has a depth A of 0.5 to 5.0 μm. 5. 前記凹部はメニスカス形状であることを特徴とする請求項1乃至4に何れか1項記載の有機EL素子の製造方法。   The method for manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the recess has a meniscus shape. 前記凸版の凸部と、凸部が設けられていない箇所との高さの差が50μm以上であることを特徴とする請求項1乃至5に何れか1項記載の有機EL素子の製造方法。   6. The method for manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein a difference in height between the convex portion of the relief plate and a portion where the convex portion is not provided is 50 μm or more. 前記凸版の構成材料が樹脂材料からなり、その硬度が18〜75(ショアD)、45〜90(ショアA)であることを特徴とする請求項1乃至6に何れか1項記載の有機EL素子の製造方法。   The organic EL according to any one of claims 1 to 6, wherein the constituent material of the relief printing plate is made of a resin material and has a hardness of 18 to 75 (Shore D) or 45 to 90 (Shore A). Device manufacturing method. 前記正孔輸送層インキの粘度が5〜80mPa・sであることを特徴とする請求項2記載の有機EL素子の製造方法。    The method for producing an organic EL element according to claim 2, wherein the hole transport layer ink has a viscosity of 5 to 80 mPa · s. 請求項1〜8のいずれか1項記載の製造方法で形成されたことを特徴とする有機EL素子。   An organic EL element formed by the manufacturing method according to claim 1. 凸版印刷法で用いられる凸版であって、
前記凸版の凸部の頂部は、前記凸部の側面の延長上に位置し前記頂部の側面を構成する頂部用側面と、前記凸部の突出方向と反対の方向に窪む曲面からなり前記頂部用側面につながって前記凸部の先端面を形成する頂部用先端面とを含んで構成され、
前記凸部の頂部に前記頂部用先端面により凹部が形成されている、
ことを特徴とする凸版。
A letterpress used in letterpress printing,
The top part of the convex part of the relief plate is formed by a side surface for the top part which is located on the extension of the side surface of the convex part and forms a side surface of the top part, and a curved surface which is recessed in a direction opposite to the protruding direction of the convex part. A top end surface that is connected to the side surface and forms a front end surface of the convex portion,
A concave portion is formed on the top portion of the convex portion by the top end surface.
Letterpress characterized by that.
前記凹部の深さAに対する凹部の開口部の幅Bの比(A/B)が、1/200〜1/2であることを特徴とする請求項10記載の凸版。   11. The relief printing plate according to claim 10, wherein the ratio (A / B) of the width B of the opening of the recess to the depth A of the recess is 1/200 to 1/2. 前記凹部の深さAが0.5〜5.0μmであることを特徴とする請求項10または11記載の凸版。   The relief plate according to claim 10 or 11, wherein a depth A of the recess is 0.5 to 5.0 µm. 前記凹部はメニスカス形状であることを特徴とする請求項10乃至12に何れか1項記載の凸版。   The relief plate according to any one of claims 10 to 12, wherein the concave portion has a meniscus shape. 前記凸版の凸部と、凸部が設けられていない箇所との高さの差が50μm以上であることを特徴とする請求項10乃至13に何れか1項記載の凸版。   The relief plate according to any one of claims 10 to 13, wherein a difference in height between the projection portion of the relief plate and a portion where no projection portion is provided is 50 µm or more. 前記凸版は樹脂材料から構成され、その硬度が18〜75(ショアD)、45〜90(ショアA)であることを特徴とする請求項10乃至14に何れか1項記載の凸版。   The relief printing plate according to any one of claims 10 to 14, wherein the relief printing plate is made of a resin material and has a hardness of 18 to 75 (Shore D) or 45 to 90 (Shore A).
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