JP2008020391A - バイオセンサチップおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 中空反応部に空気導通路14を設けるとともに、空気導通路14壁面15には界面活性剤を塗布しているので、試料を先端の試料採取口から容易に中空反応部に導入することができる。少なくとも、空気導通路14の入り口近傍には界面活性剤を塗布していないので試料は空気導通路14に入りにくく、試料の採取量が多くなるのを防止できる。あるいは、空気導通路14の、少なくとも空気孔開口部付近には界面活性剤を塗布していないので、使用者が誤って空気孔に血液を入れることを防ぐことができる。あるいは、中空反応部11と空気導通路14の入り口に段差を設けて空気導通路に試料の侵入を防ぐことで、試料の採取量が多くなるのを防止し、使用者の負担を軽減することができる。
【選択図】 図1
Description
図11に示すように、特許文献1に記載のバイオセンサチップ100は、第1の絶縁基板101と第2の絶縁基板102を積層しており、両絶縁基板101、102の間に一対の導電性軌道103、104が設けられている。第2の絶縁基板102の一端には切欠き102aが設けられており、両導電性軌道103、104はバイオセンサチップ100の一端において露出している。また、両絶縁基板101、102の他端側の側縁部には各々凹部105、106が設けられており、さらに第2の絶縁基板102の凹部106には開口部107が設けられている。この開口部107には試薬108が設けられており、開口部107の上には親水性のコーティング109を介して、凹部106と同様の凹部111を有する蓋部材112が取り付けられている。
従って、凹部105、106、111を穿刺された指等に押し付けることにより、試料を開口部107内の試薬108に導いて測定を行う。
図1(A)は本発明の第1実施形態に係るバイオセンサチップを示す平面図、図1(B)は図1(A)においてB方向から見た側面図、図1(C)は図1においてC方向から見た端面図、図2(A)は中空反応部および空気導通路の斜視図、図2(B)は図2(A)中B−B位置の断面図、図2(C)は図2(A)中C−C位置の断面図である。
図3は第1実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における検知用電極を設ける工程を示す平面基板を示す平面図、図4は第1実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における絶縁層を設ける工程を示す平面基板を示す平面図、図5は第1実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における粘着層を設ける工程を示す平面基板を示す平面図である。
図6(A)は本発明の第2実施形態に係るバイオセンサチップを示す平面図、図6(B)は図6(A)においてB方向から見た側面図、図6(C)は図1においてC方向から見た端面図、図7(A)は中空反応部および空気導通路の斜視図、図7(B)は図7(A)中B−B位置の断面図、図7(C)は図7(A)中C−C位置の断面図である。なお、第1実施形態において前述した部位と共通する部位には同じ符号を付して、重複する説明を省略することとする。
図8は第2実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における検知用電極を設ける工程を示す平面基板を示す平面図、図9は第2実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における絶縁層を設ける工程を示す平面基板を示す平面図、図10は第2実施形態に係るバイオセンサチップの製造方法における粘着層を設ける工程を示す平面基板を示す平面図である。なお、バイオセンサチップ10Bの製造方法は、大部分が第1実施形態に係るバイオセンサチップ10Aの製造方法と同様なので、共通な工程に付いては概略を説明することとする。
これにより、センサチップ10Bの厚さは、全体で2枚の基板21、22、2層の絶縁層23および2層の粘着層25といったスペーサ層の厚さを合計したものとなる。そして、中空反応部11では、絶縁層23および粘着層25といったスペーサ層が設けられていないので、2層の絶縁層23と2層の粘着層25といったスペーサ層の厚さを合計した高さの空間が形成されることになる。さらに、空気導通路14においては、粘着層25のみ設けられていないので、2層の粘着層25の厚さに等しい高さの空間が形成されることになる。これに伴い、中空反応部11と、空気導通路14との境界には、絶縁層23の厚さに対応した段差17が形成されることになる。
例えば、前述した第1実施形態において界面活性剤16を塗布した範囲や、第2実施形態において段差17を設けた位置等に付いては前述したものに限らず、ともに採取した試料が空気導通路14に侵入するのを防止することができれば良い。また、中空反応部の内壁の前記空気導通路入り口近傍以外の壁面に塗る試薬としては、界面活性剤以外の物も適宜用いられる。
また、第2実施形態においては、バイオセンサチップの先端からではなく、側面から試料を採取する構造とすることも可能である。
11 中空反応部
11a 試料採取口
12a、12b 検知用電極
13 試薬
14 空気導通路
14a 入り口
15 内壁
16 界面活性剤
17 段差
18 空気孔開口部
20 平面基板
20a 一方の表面
23 絶縁層
24 折曲線
25 粘着層
26 スペーサ層
Claims (7)
- 試料に含まれる物質を測定するバイオセンサチップであって、
試料を測定する中空反応部は、試料採取口に連通し、
前記中空反応部と、チップ側面にある空気孔開口部とを連通する空気導通路を有し、
前記中空反応部と前記試料採取口の内壁に界面活性剤が塗布されており、かつ空気導通路の、少なくとも入り口付近には界面活性剤が塗布されていないことを特徴とするバイオセンサチップ。 - 試料に含まれる物質を測定するバイオセンサチップであって、
試料を測定する中空反応部は、試料採取口に連通し、
前記中空反応部と、チップ側面にある空気孔開口部とを連通する空気導通路を有し、
前記中空反応部と前記試料採取口の内壁に界面活性剤が塗布されており、かつ空気導通路の、少なくとも空気孔開口部付近には界面活性剤が塗られていないことを特徴とするバイオセンサチップ。 - 試料に含まれる物質を測定するバイオセンサチップであって、
試料を測定する中空反応部は、試料採取口に連通し、
前記中空反応部と、チップ側面にある空気孔開口部とを連通する空気導通路を有し、
前記中空反応部と前記空気導通路の間に段差を有することを特徴とするバイオセンサチップ。 - 前記中空反応部と前記空気導通路の間に段差を有することを特徴とする請求項1または2に記載のバイオセンサチップ。
- 一枚の平面基板の一方の表面に検知用電極を所定の形状で形成するとともにスペーサ層を所定の形状で形成し、前記平面基板の折曲線において折り曲げて上下基板を形成し、中空反応部および外部と連通する空気導通路を有するバイオセンサチップの製造方法であって、
前記空気導通路の、少なくとも入り口付近には界面活性剤を塗布しないことを特徴とするバイオセンサチップの製造方法。 - 一枚の平面基板の一方の表面に検知用電極を所定の形状で形成するとともにスペーサ層を所定の形状で形成し、前記平面基板の折曲線において折り曲げて上下基板を形成し、中空反応部および外部と連通する空気導通路を有するバイオセンサチップの製造方法であって、
前記空気導通路の、少なくとも空気孔開口部付近には界面活性剤を塗布しないことを特徴とするバイオセンサチップの製造方法。 - 一枚の平面基板の一方の表面に検知用電極を所定の形状で形成するとともにスペーサ層を所定の形状で形成し、前記平面基板の折曲線において折り曲げて上下基板を形成し、中空反応部および外部と連通する空気導通路を有するバイオセンサチップの製造方法であって、
前記中空反応部と前記空気導通路の間に段差を設けることを特徴とするバイオセンサチップの製造方法。
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