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JP2008081514A - Epoxy resin-based composition and epoxy resin-based thin film - Google Patents

Epoxy resin-based composition and epoxy resin-based thin film Download PDF

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JP2008081514A
JP2008081514A JP2006259540A JP2006259540A JP2008081514A JP 2008081514 A JP2008081514 A JP 2008081514A JP 2006259540 A JP2006259540 A JP 2006259540A JP 2006259540 A JP2006259540 A JP 2006259540A JP 2008081514 A JP2008081514 A JP 2008081514A
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epoxy resin
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acid
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正彦 山中
Kenji Ohashi
賢治 大橋
Keiji Saito
恵司 齋藤
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Hokko Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin-based thin film having a high glass transition temperature (Tg) and excellent heat yellowing resistance and to provide an epoxy resin-based composition capable of forming the thin film. <P>SOLUTION: The epoxy resin-based composition comprises an epoxy resin, an acid anhydride-based curing agent and a compound represented by general formula (1) [wherein, R<SP>1</SP>to R<SP>4</SP>are each same or different and represent each a phenyl group, a 1-16C linear or branched chain alkyl group or a 5-12C cycloalkyl group; and X represents an anion residue of a 10-16C aliphatic monocarboxylic acid]. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体パッケージや発光素子の薄膜封止材、液晶表示装置のような表示装置の表面コーティング等を形成するのに用いられるエポキシ樹脂系組成物、この組成物を硬化させてなるエポキシ樹脂系薄膜、この薄膜で封止された発光素子、エポキシ樹脂系薄膜の形成方法、及びエポキシ樹脂系薄膜の黄変防止方法に関する。   The present invention relates to a thin film encapsulant for semiconductor packages and light emitting elements, an epoxy resin composition used for forming a surface coating of a display device such as a liquid crystal display device, and an epoxy resin obtained by curing the composition. The present invention relates to a light-emitting element sealed with a thin film, a method for forming an epoxy resin thin film, and a method for preventing yellowing of an epoxy resin thin film.

近年、携帯電話、デジタルカメラ、ノート型パソコン等の携帯型電子機器の発展等に代表されるように、半導体素子(トランジスタ・電界効果トランジスタ(FET)、サイリスタ(SCR)、ダイオード(整流器)・光半導体(フォトカプラ・発光ダイオード(LED)・フォトインタラプタ等)等の電子部品は、高密度化、高集積化に伴って、小型化、薄型化の傾向にある。半導体素子を組み合わせた半導体パッケージに関しては、実装面積をとらずに高集積できる手法として、BGA(ボール・グリッド・アレー)、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)、COG(チップ・オン・グラス)、COB(チップ・オン・ボード)、MCM(マルチ・チップ・モジュール)、LGA(ランド・グリッド・アレイ)等の手法が開発されている。また、LED光半導体に関しても面実装が可能なチップタイプが開発されている。   In recent years, semiconductor devices (transistors, field effect transistors (FETs), thyristors (SCRs), diodes (rectifiers), light, etc., as represented by the development of portable electronic devices such as mobile phones, digital cameras, and notebook computers. Electronic components such as semiconductors (photocouplers, light emitting diodes (LEDs), photointerrupters, etc.) tend to be smaller and thinner with higher density and higher integration. As a technique that can be highly integrated without taking up a mounting area, BGA (ball grid array), CSP (chip size package), COG (chip on glass), COB (chip on board), Methods such as MCM (multi-chip module) and LGA (land grid array) have been developed. . The chip type capable of surface mounting with regard LED light semiconductor has been developed.

これらの半導体素子は、それ自身の発熱が大きいため、樹脂封止材としては、作業性、硬化物の電気的特性、機械的特性、接着性、耐水性、耐溶剤性だけでなく、耐熱性にも優れている必要があり、通常、液状エポキシ樹脂が使用される。   Since these semiconductor elements generate a large amount of heat, the resin encapsulant has not only workability, electrical properties of cured products, mechanical properties, adhesiveness, water resistance, solvent resistance, but also heat resistance. In general, a liquid epoxy resin is used.

このような液状エポキシ樹脂の硬化剤としては、粘度が低いために作業性に優れ、多量の充填材が配合できるとともに、電気的特性、機械的特性、耐熱性に優れることから、液状の酸無水物が多用されている。用途に応じてその種類が適宜選択される。例えば、半導体パッケージのエポキシ樹脂封止材用の酸無水物硬化剤としては、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、トリアルキル無水テトラヒドロ無水フタル酸等が使用される。また、チップタイプのLED、光半導体の封止材は透明性が要求されることから、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸のような二重結合を持たない酸無水物が使用される。   As a curing agent for such a liquid epoxy resin, it is excellent in workability because of its low viscosity, and can be blended with a large amount of fillers, and also has excellent electrical characteristics, mechanical characteristics, and heat resistance. A lot of things are used. The type is appropriately selected according to the application. For example, as an acid anhydride curing agent for an epoxy resin encapsulant of a semiconductor package, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, Trialkyltetrahydrophthalic anhydride and the like are used. In addition, since chip-type LEDs and optical semiconductor encapsulants are required to be transparent, acid anhydrides having no double bonds such as methylhexahydrophthalic anhydride and hexahydrophthalic anhydride are used. .

封止材は、通常、素子が基板上にベア・チップ実装されたのち、ディスペンサー方式や、常圧スクリーン印刷又は真空スクリーン印刷方式で薄膜状(例えば2mm以下)に塗布されたり、ポッティングされたり、半導体素子と基板の隙間に含浸されたりする。さらに、通常は所定期間貯蔵された後に、硬化炉にて硬化が行われる。   The sealing material is usually applied in a thin film (for example, 2 mm or less) or potted by a dispenser method, an atmospheric pressure screen printing method or a vacuum screen printing method after an element is mounted on a substrate on a bare chip. The gap between the semiconductor element and the substrate is impregnated. Further, usually, after being stored for a predetermined period, curing is performed in a curing furnace.

しかし、従来の酸無水物硬化剤を用いた液状エポキシ樹脂系組成物を硬化させて薄膜とする場合、硬化物のガラス転移温度(Tg)の低下や、クラック発生等の難点がある。また、無色透明性が求められる場合は、高温及び高エネルギーの光照射条件下での黄変(以下「黄変」又は「熱黄変」という)が問題となる。そのため、酸無水物硬化剤を用いたエポキシ樹脂系薄膜を使用できる用途は黄変ないし熱黄変が影響を与えない用途(赤色LED等)に限られており、黄変ないし熱黄変が品質に影響を及ぼす用途(青色や白色LED等)への使用は困難であった。   However, when a liquid epoxy resin composition using a conventional acid anhydride curing agent is cured to form a thin film, there are problems such as a decrease in the glass transition temperature (Tg) of the cured product and occurrence of cracks. In addition, when colorless transparency is required, yellowing under high temperature and high energy light irradiation conditions (hereinafter referred to as “yellowing” or “thermal yellowing”) becomes a problem. Therefore, the applications that can use epoxy resin thin films with acid anhydride curing agents are limited to applications that do not affect yellowing or thermal yellowing (red LEDs, etc.), and yellowing or thermal yellowing is quality. It was difficult to use for applications that affect the color (such as blue and white LEDs).

これらの問題を解決するために、不純物の量を特定量以下にしたメチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、又はメチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物とノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物の混合物を硬化剤とするエポキシ樹脂系組成物が提案されている(特許文献1)。しかし、このエポキシ樹脂系組成物は硬化促進剤がイミダゾール系であるためか、初期透明性(即ち、硬化直後のイエローインデックスの値が低く、無色透明であること)や耐熱黄変性(即ち、上記黄変ないし熱黄変を抑制する性質)の点で更に改善が求められている。   In order to solve these problems, methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, or methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride and norbornane-2,3-dicarboxylic acid in which the amount of impurities is a specific amount or less is used. An epoxy resin-based composition using a mixture of acid anhydrides as a curing agent has been proposed (Patent Document 1). However, because this epoxy resin composition is an imidazole curing accelerator, initial transparency (that is, the yellow index value after curing is low and colorless and transparent) and heat yellowing (that is, the above-mentioned) Further improvement is required in terms of the property of suppressing yellowing or thermal yellowing.

一方、DBU(1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7)類硬化促進剤やアンモニウム塩系硬化促進剤は硬化性が良い事からLED用途等に広く使用されている。しかし、これらの硬化促進剤を用いたエポキシ樹脂硬化物は、初期無色透明性には比較的に優れるが、耐熱黄変性が悪いと言う難点がある(後述の比較例9及び10参照)。   On the other hand, DBU (1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7) type curing accelerators and ammonium salt-based curing accelerators are widely used for LED applications and the like because of their good curability. However, cured epoxy resins using these curing accelerators are relatively excellent in initial colorless transparency, but have a drawback of poor heat-resistant yellowing (see Comparative Examples 9 and 10 described later).

特許文献2は、硬化剤として酸無水物を含み、硬化促進剤としてテトラブチルホスホニウムオクテートを含む液状エポキシ樹脂系組成物は、封止材として用いたときに透明性に優れることを開示している。しかし、この組成物を用いて得られる硬化物(特に薄膜)は、Tgの低下が少ないが、耐熱黄変性の点で必ずしも満足できるものではない(後述の比較例1参照)。   Patent Document 2 discloses that a liquid epoxy resin composition containing an acid anhydride as a curing agent and tetrabutylphosphonium octate as a curing accelerator is excellent in transparency when used as a sealing material. Yes. However, a cured product (particularly a thin film) obtained using this composition has a small decrease in Tg, but is not necessarily satisfactory in terms of heat-resistant yellowing (see Comparative Example 1 described later).

また、特許文献3は、硬化剤として酸無水物、硬化促進剤としてテトラアルキルホスホニウムカルボン酸塩を含む光半導体封止用エポキシ樹脂系組成物は無色透明性に優れることを開示しており、特に、好ましいカルボン酸塩として酢酸塩が例示されている。しかし、この酢酸塩をエポキシ樹脂の硬化促進剤として用いて得られる硬化物(特に薄膜)は、Tgの低下が少ないが、耐熱黄変性の改善が必ずしも満足できるものではない(後述の比較例2参照)。   Patent Document 3 discloses that an epoxy resin composition for encapsulating an optical semiconductor containing an acid anhydride as a curing agent and a tetraalkylphosphonium carboxylate as a curing accelerator is excellent in colorless transparency. Acetate is exemplified as a preferred carboxylate. However, a cured product (especially a thin film) obtained using this acetate salt as an epoxy resin curing accelerator has a small decrease in Tg, but is not necessarily satisfactory in improving heat-resistant yellowing (Comparative Example 2 described later). reference).

また、特許文献4は、硬化剤として酸無水物、硬化促進剤として4級ホスホニウム塩を含む積層板用エポキシ樹脂系組成物は硬化速度が速く成形性に優れることを開示している。該4級ホスホニウム塩のうち、脂肪族モノカルボン酸塩としては、酢酸塩、プロピオン酸塩、ステアリン酸塩が例示されている。しかし、これら酢酸塩、プロピオン酸塩をエポキシ樹脂の硬化促進剤として用いて得られる硬化物、特に薄膜はTgの低下は少ないが、耐熱黄変性が必ずしも満足できるものではなく(後述の比較例2参照)、一方、ステアリン酸塩をエポキシ樹脂の硬化促進剤として用いて得られる硬化物、特に薄膜は、耐熱黄変性は良好であるが、Tgの低下が大きく(後述の比較例6参照)、共に更なる改善が求められる。   Patent Document 4 discloses that an epoxy resin composition for a laminated board containing an acid anhydride as a curing agent and a quaternary phosphonium salt as a curing accelerator has a high curing rate and excellent moldability. Among the quaternary phosphonium salts, examples of the aliphatic monocarboxylate include acetate, propionate and stearate. However, cured products obtained by using these acetates and propionates as curing accelerators for epoxy resins, particularly thin films, have little decrease in Tg, but heat yellowing is not always satisfactory (Comparative Example 2 described later). On the other hand, a cured product obtained using stearate as an epoxy resin curing accelerator, particularly a thin film, has good heat yellowing resistance, but has a large decrease in Tg (see Comparative Example 6 described later), Both require further improvement.

また、特許文献5には、炭素数8〜18のカルボン酸を含む4級ホスホニウムカルボン酸塩は、エポキシ樹脂の硬化剤および硬化促進剤、難燃剤等として有用であることが開示されている。しかし、同文献は、これらのカルボン酸塩自体及びその製造法を開示するに止まり、エポキシ樹脂との配合物は記載されていない。
特開2003−2951号公報(請求項1等参照) 特開平7−196774号公報(請求項1等参照) 特開2005−325178号公報(段落0021等参照) 特開平11−158251号公報(段落0015等参照) 特開昭62−87595号公報(請求項1、表1参照)
Patent Document 5 discloses that a quaternary phosphonium carboxylate containing a carboxylic acid having 8 to 18 carbon atoms is useful as an epoxy resin curing agent, curing accelerator, flame retardant and the like. However, this document only discloses these carboxylates themselves and the production method thereof, and does not describe a blend with an epoxy resin.
JP 2003-2951 A (refer to claim 1 etc.) JP-A-7-196774 (refer to claim 1 etc.) Japanese Patent Laying-Open No. 2005-325178 (see paragraph 0021) Japanese Patent Laid-Open No. 11-158251 (see paragraph 0015, etc.) Japanese Patent Laid-Open No. 62-87595 (see claim 1, table 1)

本発明は、高いガラス転移温度(Tg)を有し、かつ耐熱黄変性に優れるエポキシ樹脂系薄膜、このような薄膜を形成できるエポキシ樹脂系組成物を提供することを主な課題とする。   The main object of the present invention is to provide an epoxy resin thin film having a high glass transition temperature (Tg) and excellent heat-resistant yellowing, and an epoxy resin composition capable of forming such a thin film.

本発明者らは、上記の課題を解決するために検討を重ね、次の知見を得た。   The present inventors have repeatedly studied to solve the above-mentioned problems, and have obtained the following knowledge.

(i)エポキシ樹脂系組成物による薄膜形成は通常高温で行われるところ、高温では硬化剤の酸無水物が揮発するため、硬化不良を生じて硬化物のガラス転移温度(Tg)が低くなる。実用上十分な耐劣化性及び耐湿性を備えるためには、薄膜のTgが高いことが必要である。高Tgを得るために硬化促進剤の使用量を増やすと、使用時の熱で薄膜が黄変し易くなる。例えば、ディスプレイ表面のコーティング膜とする場合や、白色発光素子の薄膜封止材にする場合には、使用中に黄変しないことが重要である。しかし、高Tgかつ耐熱黄変性に優れるエポキシ樹脂系薄膜は得られていないのが現状である。   (i) Thin film formation with an epoxy resin composition is usually carried out at a high temperature. However, since the acid anhydride of the curing agent volatilizes at a high temperature, poor curing occurs and the glass transition temperature (Tg) of the cured product is lowered. In order to provide practically sufficient deterioration resistance and moisture resistance, the thin film needs to have a high Tg. When the amount of the curing accelerator used is increased in order to obtain a high Tg, the thin film is easily yellowed by heat during use. For example, when it is used as a coating film on the display surface or when it is used as a thin film encapsulant for a white light emitting element, it is important that it does not turn yellow during use. However, at present, an epoxy resin thin film having a high Tg and excellent heat-resistant yellowing has not been obtained.

(ii) エポキシ樹脂と、酸無水物系硬化剤と、下記一般式(1)   (ii) an epoxy resin, an acid anhydride curing agent, and the following general formula (1)

Figure 2008081514
Figure 2008081514

[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、Xは炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物とを含むエポキシ樹脂系組成物は、厚さ1mm以下、特に0.4mm以下の薄膜を形成する場合にも、高いTgを有し、かつ耐熱黄変性に優れたものとなる。
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms. ]
The epoxy resin-based composition containing the compound represented by the formula (1) has a high Tg and is excellent in heat-resistant yellowing even when a thin film having a thickness of 1 mm or less, particularly 0.4 mm or less is formed. .

本発明は上記知見に基づき完成されたものであり、下記のエポキシ樹脂系組成物などを提供するものである。   The present invention has been completed based on the above findings, and provides the following epoxy resin-based compositions and the like.

項1 (a)エポキシ樹脂、
(b)酸無水物系硬化剤、及び
(c)下記一般式(1)
Item 1 (a) epoxy resin,
(b) an acid anhydride curing agent, and
(c) The following general formula (1)

Figure 2008081514
Figure 2008081514

[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、Xは炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物
を含むエポキシ樹脂系組成物。
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms. ]
An epoxy resin composition comprising a compound represented by:

項2 一般式(1)で表される化合物の含有量が、エポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜5重量部である上記項1に記載の組成物。   Item 2 The composition according to Item 1, wherein the content of the compound represented by General Formula (1) is 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

項3 一般式(1)において、R〜Rが炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す上記項1又は2に記載の組成物。 Item 3 The composition according to Item 1 or 2, wherein, in General Formula (1), R 1 to R 4 represent a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

項4 一般式(1)において、Xがデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸及びパルミチン酸からなる群より選ばれる少なくとも一種の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基である上記項1〜3のいずれかに記載の組成物。   Item 4 Any one of Items 1 to 3, wherein in General Formula (1), X is an anion residue of at least one aliphatic monocarboxylic acid selected from the group consisting of decanoic acid, lauric acid, myristic acid and palmitic acid. A composition according to 1.

項5 一般式(1)において、R〜Rの全てがブチル基である上記項1〜4のいずれかに記載の組成物。 Item 5 The composition according to any one of Items 1 to 4, wherein in the general formula (1), all of R 1 to R 4 are butyl groups.

項6 エポキシ樹脂が、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、及び水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種である上記項1〜5のいずれかに記載の組成物。   Item 6 The epoxy resin is bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, naphthalenediol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, and hydrogenated bisphenol A diglycidyl. Item 6. The composition according to any one of Items 1 to 5, which is at least one selected from the group consisting of ethers.

項7 酸無水物系硬化剤が、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物及び4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種である上記項1〜6のいずれかに記載の組成物。   Item 7 The acid anhydride-based curing agent is at least one selected from the group consisting of 3-methylhexahydrophthalic anhydride and 4-methylhexahydrophthalic anhydride. Composition.

項8 酸無水物系硬化剤の含有量が、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する酸無水物系硬化剤中の酸無水物基の当量比が0.9〜1.2となる量である上記項1〜7のいずれかに記載の組成物。   Item 8: The above item, wherein the content of the acid anhydride curing agent is such that the equivalent ratio of the acid anhydride group in the acid anhydride curing agent to the epoxy group in the epoxy resin is 0.9 to 1.2. The composition in any one of 1-7.

項9 (a)エポキシ樹脂と、(b)3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物及び4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物系硬化剤と、(c)テトラブチルホスホニウムデカン酸塩、テトラブチルホスホニウムラウリン酸塩、テトラブチルホスホニウムミリスチン酸塩及びテトラブチルホスホニウムパルミチン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物とを含み、酸無水物系硬化剤の含有量が、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する酸無水物系硬化剤中の酸無水物基の当量比が1〜1.1となる量であるエポキシ樹脂系組成物。   Item 9 (a) an epoxy resin, and (b) at least one acid anhydride curing agent selected from the group consisting of 3-methylhexahydrophthalic anhydride and 4-methylhexahydrophthalic anhydride, c) at least one compound selected from the group consisting of tetrabutylphosphonium decanoate, tetrabutylphosphonium laurate, tetrabutylphosphonium myristate and tetrabutylphosphonium palmitate, an acid anhydride curing agent An epoxy resin composition in which the content ratio of the acid anhydride group in the acid anhydride curing agent with respect to the epoxy group in the epoxy resin is 1 to 1.1.

項10 エポキシ樹脂系薄膜の黄変を防止する方法であって、エポキシ樹脂の硬化促進剤として下記一般式(1)   Item 10 A method for preventing yellowing of an epoxy resin-based thin film, wherein the epoxy resin-based thin film is represented by the following general formula (1)

Figure 2008081514
Figure 2008081514

[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、Xは炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物を用いる方法。
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms. ]
The method using the compound represented by these.

項11 上記項1〜9のいずれかに記載の組成物を基体上に塗布し、塗膜を硬化させて、厚さ1mm以下の薄膜を形成することを特徴とする、エポキシ樹脂系薄膜の形成方法。   Item 11: Forming an epoxy resin thin film, wherein the composition according to any one of Items 1 to 9 is applied on a substrate, and the coating film is cured to form a thin film having a thickness of 1 mm or less. Method.

項12 上記項1〜9のいずれかに記載の組成物を硬化してなる厚さ1mm以下の薄膜。   Item 12 A thin film having a thickness of 1 mm or less obtained by curing the composition according to any one of Items 1 to 9.

項13 薄膜が発光素子の封止材である上記項12に記載の薄膜。   Item 13 The thin film according to Item 12, wherein the thin film is a sealing material for a light emitting device.

項14 薄膜がディスプレイ用コーティング材である上記項12に記載の薄膜。   Item 14. The thin film according to Item 12, wherein the thin film is a display coating material.

項15 上記項12に記載の薄膜で封止された発光素子。   Item 15 A light emitting device encapsulated with the thin film according to Item 12.

本発明の組成物は、エポキシ樹脂と酸無水物硬化剤と硬化促進剤とを含む組成物であって、硬化促進剤に上記一般式(1)で表される化合物を含む。これにより、この組成物を硬化させて得られる薄膜は、初期透明性に優れ、熱により黄変し難く、かつ高いTgを有するものとなる。   The composition of the present invention is a composition containing an epoxy resin, an acid anhydride curing agent, and a curing accelerator, and the curing accelerator contains a compound represented by the above general formula (1). Thereby, the thin film obtained by curing this composition is excellent in initial transparency, hardly yellowed by heat, and has a high Tg.

発光素子の封止膜や表示装置の硬質コーティング膜には、発光素子、液晶バックライト、プラズマ発光などからもたらされる熱によって黄変し難いことが求められる。本発明のエポキシ樹脂系組成物を硬化させてなる薄膜は、このような用途に好適に使用できる。例えば、白色発光ダイオードはクリアな白色光を持続させるために封止材が黄変しないことが必要であることから、黄変し易い従来のエポキシ樹脂系組成物を用いて薄膜封止することはできなかった。本発明により、エポキシ樹脂系組成物で薄膜封止した白色発光ダイオードが実現した。   A sealing film of a light emitting element and a hard coating film of a display device are required to be hardly yellowed by heat generated from a light emitting element, a liquid crystal backlight, plasma emission, or the like. The thin film formed by curing the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used for such applications. For example, white light-emitting diodes require that the encapsulant be non-yellowing in order to maintain clear white light, so thin-film sealing using a conventional epoxy resin-based composition that tends to yellow could not. According to the present invention, a white light emitting diode sealed with a thin film of an epoxy resin composition was realized.

また、本発明のエポキシ樹脂系組成物は、従来の硬化促進剤を用いたエポキシ樹脂系組成物に比べて臭気が少ないため、使用し易いものである。また、上記一般式(1)で表される化合物は、低温下でも酸無水物硬化剤に溶解し易いため、エポキシ樹脂系組成物を容易に調製できるとともに、低温下で保存できる。   The epoxy resin composition of the present invention is easy to use because it has less odor than conventional epoxy resin compositions using curing accelerators. Moreover, since the compound represented by the general formula (1) is easily dissolved in an acid anhydride curing agent even at a low temperature, the epoxy resin composition can be easily prepared and stored at a low temperature.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のエポキシ樹脂系組成物は、基本的には、エポキシ樹脂、酸無水物系硬化剤及び上記一般式(1)で表される化合物を含む組成物である。   The epoxy resin composition of the present invention is basically a composition containing an epoxy resin, an acid anhydride curing agent, and a compound represented by the above general formula (1).

エポキシ樹脂
エポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂を制限なく使用することができる。特に、エポキシ基を分子中に2個以上含有する液状のエポキシ樹脂が好ましく、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールAエチレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル、ビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物のジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールADジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールFのジグリシジルエーテルのようなグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステルのようなグリシジルエステル型エポキシ樹脂;3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジエポキサイドのような脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
As the epoxy resin epoxy resin, a known epoxy resin can be used without limitation. In particular, a liquid epoxy resin containing two or more epoxy groups in the molecule is preferable. For example, bisphenol A diglycidyl ether, diglycidyl ether of bisphenol A ethylene oxide adduct, diglycidyl ether of bisphenol A propylene oxide adduct, Glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl ether, naphthalenediol diglycidyl ether, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol A, diglycidyl ether of hydrogenated bisphenol F Glycidyl ester type epoxy resin such as hexahydrophthalic acid diglycidyl ester; 3,4-epoxycyclohexylmethyl- ', 4'-epoxycyclohexane carboxylate, and alicyclic epoxy resins such as vinylcyclohexene diepoxide is.

これらの中でも、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、及び水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテルが好ましく、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、及び水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテルがより好ましい。これらのエポキシ樹脂を用いることにより、低粘度のエポキシ樹脂系組成物が得られ、良好な作業性が得られる。   Among these, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, naphthalene diol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, and hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether Bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, and hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether are more preferred. By using these epoxy resins, a low-viscosity epoxy resin composition can be obtained, and good workability can be obtained.

エポキシ樹脂は単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。   An epoxy resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

酸無水物系硬化剤
酸無水物系硬化剤としては、公知の酸無水物系硬化剤を制限なく使用することができる。例えば、ヘキサヒドロフタル酸無水物、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、1−メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、5−メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、1−メチルナジック酸無水物、5−メチルナジック酸無水物、ナジック酸無水物、フタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、3−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、4−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、及びドデセニルコハク酸無水物等が挙げられる。
As the acid anhydride-based curing agent , a known acid anhydride-based curing agent can be used without limitation. For example, hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 1-methylnorbornane-2,3-dicarboxylic anhydride, 5-methylnorbornane-2, 3-dicarboxylic acid anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, 1-methylnadic acid anhydride, 5-methylnadic acid anhydride, nadic acid anhydride, phthalic acid anhydride, tetrahydrophthalic acid anhydride, Examples include 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, and the like.

中でも、化合物中に二重結合を持たず、揮発し難い酸無水物である、ヘキサヒドロフタル酸無水物、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、1−メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、5−メチルノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物が好ましく、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物がより好ましい。二重結合を有さず、揮発し難い化合物を用いることにより、高Tgを有し、かつ初期透明性、耐熱黄変性に一層優れたエポキシ樹脂系組成物が得られる。   Among them, hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, which are acid anhydrides that do not have a double bond in the compound and hardly volatilize, 1- Methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, 5-methylnorbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride, norbornane-2,3-dicarboxylic acid anhydride are preferable, and 3-methylhexahydrophthalic acid anhydride, 4 -More preferred is methylhexahydrophthalic anhydride. By using a compound which does not have a double bond and hardly volatilizes, an epoxy resin composition having a high Tg and further excellent in initial transparency and heat-resistant yellowing can be obtained.

酸無水物系硬化剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   An acid anhydride type hardening | curing agent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

酸無水物系硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する酸無水物系硬化剤中の酸無水物基の当量比が0.9〜1.2程度となる量が好ましく、1〜1.1程度となる量がより好ましい。上記範囲であれば硬化反応が十分に進行する。また、上記範囲であれば、透明性、耐熱黄変性に優れる硬化物が得られる。   The content of the acid anhydride curing agent is preferably such that the equivalent ratio of the acid anhydride group in the acid anhydride curing agent to the epoxy group in the epoxy resin is about 0.9 to 1.2, An amount of about 1.1 is more preferable. If it is the said range, hardening reaction will fully advance. Moreover, if it is the said range, the hardened | cured material which is excellent in transparency and heat-resistant yellowing will be obtained.

硬化促進剤
本発明のエポキシ樹脂系組成物には、下記一般式(1)
Curing accelerator The epoxy resin composition of the present invention has the following general formula (1):

Figure 2008081514
Figure 2008081514

[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、X-は炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸、特に飽和脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物が硬化促進剤として含まれる。
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms, particularly a saturated aliphatic monocarboxylic acid. ]
Is included as a curing accelerator.

一般式(1)で表される化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The compound represented by General formula (1) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明のエポキシ樹脂系組成物は、硬化促進剤が上記一般式(1)で表される化合物であるため、高温で硬化させて薄膜を形成する場合でも、硬化剤が揮発し難く、硬化が十分に行われて高Tgを有する硬化物が得られる。また、この組成物の硬化物は初期透明性に優れ、かつ耐熱黄変性に優れる。   In the epoxy resin composition of the present invention, since the curing accelerator is a compound represented by the above general formula (1), the curing agent is hardly volatilized and cured even when it is cured at a high temperature to form a thin film. A cured product having a high Tg is obtained sufficiently. Further, the cured product of this composition is excellent in initial transparency and excellent in heat-resistant yellowing.

さらに、上記一般式(1)で表される化合物は、一般式(1)においてXがより炭素数の小さい脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基である化合物に比べて、エポキシ樹脂系組成物とした時の臭気が少なく、また、Xがより炭素数の大きい脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基である化合物に比べて常温での溶解性が良く、使用し易いものである。   Further, the compound represented by the general formula (1) is more preferable than the compound in which X is an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having a smaller carbon number in the general formula (1). In addition, the odor is low and the solubility at room temperature is better than that of a compound in which X is an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having a larger carbon number, and it is easy to use.

一般式(1)において、R〜Rは、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることが好ましく、ブチル基であることがより好ましい。 In the general formula (1), R 1 to R 4 are preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a butyl group.

一般式(1)の化合物は、Xが炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸アニオンであることにより、耐熱黄変性に優れ、臭気がないとともに、酸無水物への溶解性に非常に優れている。Xで表される有機酸アニオンは、特に、直鎖状のデカン酸アニオン(炭素数10)、直鎖状のラウリン酸アニオン(炭素数12)、直鎖状のミリスチン酸アニオン(炭素数14)、直鎖状のパルミチン酸アニオン(炭素数16)であることが好ましく、直鎖状のデカン酸アニオン(炭素数10)、直鎖状のラウリン酸アニオン(炭素数12)であることがより好ましい。   The compound of the general formula (1) is excellent in heat yellowing resistance, has no odor, and has excellent solubility in an acid anhydride because X is an aliphatic monocarboxylic acid anion having 10 to 16 carbon atoms. ing. The organic acid anion represented by X is, in particular, a linear decanoate anion (carbon number 10), a linear laurate anion (carbon number 12), a linear myristic acid anion (carbon number 14). It is preferably a linear palmitate anion (16 carbon atoms), more preferably a linear decanoate anion (10 carbon atoms) or a linear laurate anion (12 carbon atoms). .

一般式(1)で表される化合物の含有量は、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.1〜5重量部程度が好ましく、0.5〜2重量部程度がより好ましい。上記範囲であれば、十分な硬化速度が得られ、初期透明性、耐熱黄変性に優れる硬化物が得られる。   About 0.1-5 weight part is preferable with respect to 100 weight part of epoxy resins, and, as for content of the compound represented by General formula (1), about 0.5-2 weight part is more preferable. If it is the said range, sufficient hardening speed will be obtained and the hardened | cured material which is excellent in initial transparency and heat-resistant yellowing will be obtained.

その他の成分
本発明のエポキシ樹脂系組成物には、エポキシ樹脂系組成物に添加される公知の添加剤が含まれていてもよい。このような公知の添加剤として、フェノール系酸化防止剤やアミン系酸化防止剤のような酸化防止剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤のような紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤のような光安定剤、炭化水素系滑剤、高級脂肪酸系滑剤のような離型剤などが挙げられる。また、エポキシ樹脂以外の樹脂を含むこともできる。
Other Components The epoxy resin composition of the present invention may contain known additives that are added to the epoxy resin composition. Examples of such known additives include antioxidants such as phenolic antioxidants and amine antioxidants, ultraviolet absorbers such as benzophenone ultraviolet absorbers, and light stabilizers such as hindered amine light stabilizers. And release agents such as hydrocarbon lubricants and higher fatty acid lubricants. Moreover, resin other than an epoxy resin can also be included.

上記の添加剤、樹脂などの付加的成分を使用する場合、それらの含有量は、本発明の効果を損なわない範囲とすればよく、例えば、エポキシ樹脂と硬化剤と硬化促進剤との合計100重量部に対して10重量部以下の範囲であれば含まれていてもよい。   When using additional components, such as said additive and resin, those content should just be taken as the range which does not impair the effect of this invention, for example, the sum total of an epoxy resin, a hardening | curing agent, and a hardening accelerator is 100. If it is the range of 10 weight part or less with respect to a weight part, it may be contained.

エポキシ樹脂系組成物
本発明のエポキシ樹脂系組成物は、前記各成分を混合することにより調製できる。好ましい調製方法として、硬化剤と硬化促進剤とを温度20〜80℃程度で撹拌混合し、得られた均質な混合物に対してエポキシ樹脂を加えて温度20℃〜80℃程度で均一に攪拌、混合する方法を挙げることができる。
Epoxy resin composition The epoxy resin composition of the present invention can be prepared by mixing the components described above. As a preferred preparation method, a curing agent and a curing accelerator are stirred and mixed at a temperature of about 20 to 80 ° C., an epoxy resin is added to the obtained homogeneous mixture, and the mixture is uniformly stirred at a temperature of about 20 to 80 ° C., The method of mixing can be mentioned.

エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤の各成分は1度に添加してもよく、又は複数回に分けて少しずつ添加しても良い。酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、離型剤などのその他の成分、及びエポキシ樹脂以外の樹脂は、硬化剤と硬化促進剤との混合時、エポキシ樹脂の添加前、エポキシ樹脂の添加時、又はその後など任意の時期に添加して混合することができる。   Each component of the epoxy resin, the curing agent, and the curing accelerator may be added at once, or may be added little by little in several times. Other components such as antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, mold release agents, and resins other than epoxy resins are added before curing of epoxy resin before addition of epoxy resin when mixing curing agent and curing accelerator. It can be added and mixed at any time, such as at or after.

上記説明した本発明のエポキシ樹脂系組成物は、比較的高温で硬化させる場合にも、Tgが高く、かつ初期透明性、耐熱黄変性に優れる硬化物が得られる。従って、比較的高温で硬化させる必要がある薄膜形成に特に適したものとなる。   The above-described epoxy resin-based composition of the present invention has a high Tg and a cured product excellent in initial transparency and heat-resistant yellowing even when cured at a relatively high temperature. Therefore, it is particularly suitable for forming a thin film that needs to be cured at a relatively high temperature.

エポキシ樹脂系薄膜
上記説明した本発明のエポキシ樹脂系組成物を、例えば、基体上に塗布し、塗膜を硬化させることにより、薄膜、特に、厚さ1mm以下の薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、好ましくは0.4mm以下程度である。また薄膜の厚さの下限値は通常0.01mm程度である。
Epoxy resin-based thin film A thin film, particularly a thin film having a thickness of 1 mm or less, can be formed by applying the above-described epoxy resin-based composition of the present invention on a substrate and curing the coating film, for example. The thickness of the thin film is preferably about 0.4 mm or less. The lower limit of the thickness of the thin film is usually about 0.01 mm.

基体としては、特に限定されないが、例えばガラス、セラミック、アルミニウム、CCL(銅張積層板)、耐熱性高分子フィルム等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a base | substrate, For example, glass, a ceramic, aluminum, CCL (copper clad laminated board), a heat resistant polymer film, etc. are mentioned.

本発明のエポキシ樹脂系組成物を基体上に塗布する方法としては、従来公知の方法が特に制限されることなく採用でき、例えば、スクリーン印刷やダイコーター、コンマコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーターカーテンコーター、スプレーコーターエアーナイフコーター、リバースコーター、ディップスクイズコーター等公知の方法が例示できる。   As a method for applying the epoxy resin-based composition of the present invention onto a substrate, a conventionally known method can be employed without any particular limitation. For example, screen printing, die coater, comma coater, roll coater, bar coater, gravure, etc. Known methods such as a coater curtain coater, a spray coater, an air knife coater, a reverse coater, and a dip squeeze coater can be exemplified.

塗膜の硬化方法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。硬化には、密閉式硬化炉、連続硬化が可能なトンネル炉などの従来公知の硬化装置を使用することができる。加熱は、熱風循環、赤外線加熱、高周波加熱などの従来公知の方法で行うことができる。   The method for curing the coating film is not particularly limited, and a known method can be employed. For the curing, a conventionally known curing apparatus such as a closed curing furnace or a tunnel furnace capable of continuous curing can be used. Heating can be performed by a conventionally known method such as hot air circulation, infrared heating, and high frequency heating.

硬化温度及び硬化時間は、80〜250℃程度で30秒〜15時間程度とすることができる。硬化物の内部応力を低減したい場合は、80℃〜130℃程度で0.5時間〜5時間程度の条件で前硬化した後、130〜180℃程度で0.1時間〜15時間程度の条件で後硬化することが好ましい。短時間硬化を目的とする場合は150〜250℃程度で30秒〜30分間程度の条件で硬化することが好ましい。   The curing temperature and curing time can be about 80 to 250 ° C. and about 30 seconds to 15 hours. To reduce the internal stress of the cured product, after pre-curing at about 80 ° C. to 130 ° C. for about 0.5 hours to about 5 hours, then at about 130 to 180 ° C. for about 0.1 hours to about 15 hours It is preferable to perform post-curing. When aiming at short-time curing, curing is preferably performed at about 150 to 250 ° C. for about 30 seconds to 30 minutes.

特に、0.01〜1mm程度、特に0.01〜0.4mm程度の薄膜を形成する場合の硬化温度及び硬化時間は、100℃〜130℃程度で0.5〜2時間程度の条件で前硬化した後、130℃〜180℃程度で0.5〜5時間程度の条件で後硬化することが好ましい。   In particular, when forming a thin film of about 0.01 to 1 mm, particularly about 0.01 to 0.4 mm, the curing temperature and the curing time are about 100 ° C. to 130 ° C. and about 0.5 to 2 hours. After curing, post-curing is preferably performed at about 130 ° C. to 180 ° C. for about 0.5 to 5 hours.

なお、本発明のエポキシ樹脂系組成物は、薄膜硬化物の他、厚膜硬化物を形成するための材料として用いることもできる。例えば、本発明の組成物を封止材として使用する場合は、注型法、ポッティング法、ディッピング法、アンダフィル法、印刷法などの公知の方法で封止することができる。例えば砲弾型LED封止材のような厚膜硬化物は、上記エポキシ樹脂系組成物を砲弾型型枠に流し込み、上記方法にて硬化させることにより得ることができる。   In addition, the epoxy resin-type composition of this invention can also be used as a material for forming thick film hardened | cured material other than thin film hardened | cured material. For example, when the composition of the present invention is used as a sealing material, it can be sealed by a known method such as a casting method, a potting method, a dipping method, an underfill method, or a printing method. For example, a thick film cured product such as a bullet-type LED encapsulant can be obtained by pouring the epoxy resin composition into a bullet mold and curing it by the above method.

また、例えば面実装型LED封止材のような薄膜は、スクリーン印刷やディスペンサー方式などの方法により塗布し、上記方法にて硬化させることにより得ることができる。   Further, for example, a thin film such as a surface mount type LED sealing material can be obtained by applying by a method such as screen printing or a dispenser method and curing by the above method.

また、例えば表面コーティング材を形成する場合は、上記本発明のエポキシ樹脂系組成物を基体に上記方法で塗布した後、上記方法で硬化させることにより得ることができる。こうして得られる表面コーティング材の厚さも、通常、0.01〜1mm程度、特に0.01〜0.4mm程度とすることが望ましい。   For example, when forming a surface coating material, it can be obtained by applying the epoxy resin composition of the present invention to a substrate by the above method and then curing it by the above method. The thickness of the surface coating material thus obtained is also preferably about 0.01 to 1 mm, particularly about 0.01 to 0.4 mm.

本発明のエポキシ樹脂系組成物を硬化させて得られる上記薄膜硬化物は、Tgが高く、初期透明性に優れ、耐熱黄変性に優れる。この薄膜硬化物は、例えば150℃の高温で5日間熱履歴を与えた後でも黄変度が極めて軽微である(後述の実施例参照)。   The thin film cured product obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention has a high Tg, excellent initial transparency, and excellent heat yellowing. This thin film cured product has a very slight degree of yellowing even after giving a heat history at a high temperature of, for example, 150 ° C. for 5 days (see Examples described later).

このため、特に面実装タイプの絶縁封止材料として最適であり、BGA(ボール・グリッド・アレー)、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)、COG(チップ・オン・グラス)、COB(チップ・オン・ボード)、MCM(マルチ・チップ・モジュール)又はLGA(ランド・グリッド・アレイ)等の面実装タイプの半導体装置の封止材料、チップタイプのLEDのような発光素子又は光半導体等の封止材料等の絶縁材料を始めとして、工業的に広い分野において使用することができる。   For this reason, it is particularly suitable as an insulating sealing material of the surface mounting type, and BGA (ball grid array), CSP (chip size package), COG (chip on glass), COB (chip on glass). Board), MCM (multi-chip module) or LGA (land grid array) or other surface mounting type semiconductor device sealing material, chip type LED or other light emitting element or optical semiconductor sealing material It can be used in a wide range of industrial fields including insulating materials such as the above.

特に、発光素子の封止材は、発光素子自身からの発熱により黄変し難いことが重要であるため、本発明の組成物は発光素子の薄膜封止材として好適に使用できる。   In particular, since it is important that the sealing material of the light emitting element is not easily yellowed by heat generated from the light emitting element itself, the composition of the present invention can be suitably used as a thin film sealing material of the light emitting element.

本発明のエポキシ樹脂系組成物を硬化させてなる上記エポキシ樹脂系薄膜で封止された発光素子は、長期使用しても初期の色調が維持される。特に、本発明の薄膜で封止された白色発光素子は、長期使用によっても透明な白色光が維持される有用なものである。   The light emitting element sealed with the epoxy resin thin film obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention maintains the initial color tone even after long-term use. In particular, the white light emitting device encapsulated with the thin film of the present invention is useful in that transparent white light is maintained even after long-term use.

また、この薄膜は、透明性、耐熱黄変性に優れることから、各種ガラス基板、自動車部品、液晶表示装置やプラズマディスプレイのような表示装置等の透明ハードコーティング材料としても好適に使用できる。特に、液晶表示装置はバックライトの高熱によって黄変し難いことが重要であるため、本発明の組成物は液晶表示装置のコーティング材として好適に使用できる。このように、本発明の薄膜は、ディスプレイ用のコーティング材としても有用である。   Moreover, since this thin film is excellent in transparency and heat-resistant yellowing, it can be suitably used as a transparent hard coating material for various glass substrates, automobile parts, display devices such as liquid crystal display devices and plasma displays. In particular, since it is important that the liquid crystal display device is not easily yellowed by the high heat of the backlight, the composition of the present invention can be suitably used as a coating material for the liquid crystal display device. Thus, the thin film of the present invention is also useful as a coating material for displays.

本発明では、上述のように、エポキシ樹脂系薄膜の黄変を抑制乃至防止することができる。従って、本発明は、エポキシ樹脂系薄膜を製造する際に、エポキシ樹脂の硬化促進剤として上記一般式(1)で表される化合物を用いることを特徴とするエポキシ樹脂系薄膜の黄変を防止する方法を提供するものでもある。   In the present invention, as described above, yellowing of the epoxy resin thin film can be suppressed or prevented. Accordingly, the present invention prevents yellowing of an epoxy resin thin film characterized by using a compound represented by the above general formula (1) as an epoxy resin curing accelerator when producing an epoxy resin thin film. It also provides a way to do that.

以下、実施例及び試験例を参照して本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Test Examples, but the present invention is not limited thereto.

物性評価方法
<イエローインデックス(YI)>
本実施例では、各硬化膜を熱処理する前のイエローインデックス(以下、「YI」という)、及び150℃で5日間熱処理した後のYIを測定し、両者の差をΔYIとした。YIは硬化膜の黄色度を示し、この値が小さいほど無色透明性に優れ、値が大きくなるにつれ黄色度が増す。ΔYIは、熱履歴を受けた場合の黄変の程度、即ち耐熱黄変性を示し、この値が小さいほど硬化膜の耐熱黄変性が良好である。本発明においてYIは、ASTM D1925に準拠し、分光測色計を用いて反射率を測定し算出した値である。
Physical property evaluation method
<Yellow Index (YI)>
In this example, the yellow index before heat treatment of each cured film (hereinafter referred to as “YI”) and the YI after heat treatment at 150 ° C. for 5 days were measured, and the difference between them was taken as ΔYI. YI indicates the yellowness of the cured film. The smaller this value, the better the colorless transparency, and the yellowness increases as the value increases. ΔYI indicates the degree of yellowing when subjected to heat history, that is, heat yellowing, and the smaller this value, the better the heat yellowing of the cured film. In the present invention, YI is a value calculated by measuring reflectance using a spectrocolorimeter in accordance with ASTM D1925.

具体的には、被験試料である液状エポキシ樹脂系組成物を、アルミ箔を敷いた直径68mmの金属製の皿に硬化後の厚みがそれぞれ5mm、1mm及び0.4mmとなるように流し込み、120℃で1時間、更に150℃で3時間硬化した。この円板状硬化物について、片面に上記アルミ箔を接着した状態で、分光測色計(ミノルタ社製、CM−3500d)を用いて反射率を測定した。反射率からのYIの算出はASTM D1925の規定に準じて行った。   Specifically, a liquid epoxy resin composition as a test sample is poured into a metal dish with a diameter of 68 mm on which an aluminum foil is laid so that the thickness after curing is 5 mm, 1 mm, and 0.4 mm, and 120 The composition was cured at 1 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 3 hours. With respect to this disk-like cured product, the reflectance was measured using a spectrocolorimeter (manufactured by Minolta, CM-3500d) with the aluminum foil adhered to one side. YI was calculated from the reflectance according to ASTM D1925.

<ガラス転移温度(Tg)>
上記イエローインデックス(YI)の測定の項に記載の方法にて作成した厚み5mm及び0.4mmの円盤状硬化物のガラス転移温度を、DSC法を用いて、昇温速度20℃/分で測定した。
<Glass transition temperature (Tg)>
The glass transition temperature of a disk-shaped cured product having a thickness of 5 mm and 0.4 mm prepared by the method described in the section of yellow index (YI) is measured using a DSC method at a heating rate of 20 ° C./min. did.

Tgの値が大きいほど、劣化、特に熱による劣化が抑制され、耐湿性に優れた膜となる。   As the value of Tg is larger, deterioration, particularly deterioration due to heat is suppressed, and a film having excellent moisture resistance is obtained.

<膜厚>
硬化後の膜厚は、クーラントプルーフマイクロメータ(ミツトヨ社製)を用いて測定した。
<Film thickness>
The film thickness after curing was measured using a coolant proof micrometer (manufactured by Mitutoyo Corporation).

<臭気試験>
10人のパネラーにより、硬化前のエポキシ樹脂系組成物の臭気を硬化促進剤を配合していない場合と比較評価した。評価基準は次の通りである:
○:全員が臭気を感じないと判定
×:5人以上が臭気を感じると判定
実施例1
硬化剤のリカシッドMH-T(新日本理化(株)製;主成分は4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物)(酸無水物当量168)99.9重量部(エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して硬化剤中の酸無水物基の当量比が1.1となる量)に、硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩1重量部を加え、60℃で30分加熱後更に攪拌し溶解した後、室温まで冷却し常温で透明液状の硬化剤液を得た。これにエポキシ樹脂のビスフェノールAグリシジルエーテル(東都化成(株)製、エポトートYD−128、エポキシ当量185)100重量部を加え、さらに充分混合して真空脱泡後、常温で液状のエポキシ樹脂系組成物を得た。
<Odor test>
Ten panelists compared and evaluated the odor of the epoxy resin composition before curing with the case where no curing accelerator was blended. The evaluation criteria are as follows:
○: It is determined that everyone does not feel odor ×: It is determined that 5 or more people feel odor
Example 1
Curing agent Rikacid MH-T (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd .; the main component is 4-methylhexahydrophthalic anhydride) (acid anhydride equivalent 168) 99.9 parts by weight (based on the epoxy group in the epoxy resin) Then, 1 part by weight of tetrabutylphosphonium decanoate as a curing accelerator is added to the amount in which the equivalent ratio of acid anhydride groups in the curing agent becomes 1.1), heated at 60 ° C. for 30 minutes, and further stirred and dissolved. Then, it cooled to room temperature and obtained the transparent liquid hardening | curing agent liquid at normal temperature. To this was added 100 parts by weight of epoxy resin bisphenol A glycidyl ether (Etototo YD-128, Epoxy Equivalent 185, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.). I got a thing.

実施例2
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムラウリン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Example 2
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium laurate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

実施例3
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムミリスチン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Example 3
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium myristate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

実施例4
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムパルミチン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Example 4
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium palmitate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例1
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムオクタン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 1
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium octanoate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例2
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウム酢酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 2
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium acetate was used instead of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例3
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムヘプタン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 3
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium heptanoate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例4
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウム2−エチルヘキサン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 4
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium 2-ethylhexanoate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例5
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウム3,5,5−トリメチルヘキサン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 5
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium 3,5,5-trimethylhexanoate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例6
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルホスホニウムステアリン酸塩を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 6
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium stearate was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

比較例7
リカシッドMH−Tの使用量を90.8重量部(エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して硬化剤中の酸無水物基の当量比が1.0となる量)に変更し、硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えてテトラブチルホスホニウムブロマイドを使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 7
The amount of Rikacid MH-T used was changed to 90.8 parts by weight (an amount in which the equivalent ratio of the acid anhydride group in the curing agent to the epoxy group in the epoxy resin was 1.0). An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylphosphonium bromide was used instead of tetrabutylphosphonium decanoate.

本比較例7において、リカシッドMH−Tの使用量を90.8重量部(エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して硬化剤中の酸無水物基の当量比が1.0となる量)に変更した理由は、この使用量の場合に、最も高いTgとなり、かつ透明性が良好であることが予備実験で確認されたためである。リカシッドMH−Tの使用量を実施例1と同じ量(当量比が1.1となる量)にした場合は、本比較例7に比べて、Tg及び透明性が劣る。   In Comparative Example 7, the amount of Ricacid MH-T used was changed to 90.8 parts by weight (an amount in which the equivalent ratio of the acid anhydride group in the curing agent to the epoxy group in the epoxy resin was 1.0). The reason for this is that preliminary experiments confirmed that the amount of Tg was the highest and the transparency was good for this amount. When the amount of Rikacid MH-T used is the same amount as in Example 1 (the amount at which the equivalent ratio is 1.1), Tg and transparency are inferior compared to Comparative Example 7.

なお、表1〜3において、テトラブチルホスホニウムブロマイドを「TBPブロマイド」と略記する。   In Tables 1 to 3, tetrabutylphosphonium bromide is abbreviated as “TBP bromide”.

比較例8
リカシッドMH−T81.7重量部(エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して硬化剤中の酸無水物基の当量比が0.9となる量)に変更し、硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えてテトラフェニルホスホニウムブロマイドを使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 8
Changed to Ricacid MH-T 81.7 parts by weight (amount in which the equivalent ratio of acid anhydride groups in the curing agent to the epoxy groups in the epoxy resin is 0.9), tetrabutylphosphonium decanoic acid as a curing accelerator An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetraphenylphosphonium bromide was used instead of the salt.

本比較例8において、リカシッドMH−Tの使用量を81.7重量部(エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して硬化剤中の酸無水物基の当量比が0.9となる量)に変更した理由は、この使用量の場合に、最も高いTgとなり、かつ透明性が良好であることが予備実験で確認されたためである。リカシッドMH−Tの使用量を実施例1と同じ量(当量比が1.1となる量)にした場合は、本比較例8に比べて、Tg及び透明性が劣る。   In Comparative Example 8, the amount of Ricacid MH-T used was changed to 81.7 parts by weight (the amount by which the equivalent ratio of acid anhydride groups in the curing agent to the epoxy groups in the epoxy resin was 0.9). The reason for this is that preliminary experiments confirmed that the amount of Tg was the highest and the transparency was good for this amount. When the amount of Rikacid MH-T used is the same amount as in Example 1 (the amount at which the equivalent ratio is 1.1), Tg and transparency are inferior compared to Comparative Example 8.

なお、表1〜3において、テトラフェニルホスホニウムブロマイドを「TPP−PB」と略記する。   In Tables 1 to 3, tetraphenylphosphonium bromide is abbreviated as “TPP-PB”.

比較例9
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7・オクチル酸塩(U−CAT SA102,サンアプロ社製)を使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。なお、表1〜3において、1,8−ジアザビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7・オクチル酸塩を「DBUオクチル酸塩」と略記する。
Comparative Example 9
Implemented except that 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecen-7.octylate (U-CAT SA102, manufactured by San Apro) was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate. In the same manner as in Example 1, an epoxy resin composition was obtained. In Tables 1 to 3, 1,8-diazabicyclo (5.4.0) undecene-7.octylate is abbreviated as “DBU octylate”.

比較例10
硬化促進剤のテトラブチルホスホニウムデカン酸塩に代えて、テトラブチルアンモニウムブロマイドを使用した以外は、実施例1と同様にしてエポキシ樹脂系組成物を得た。
Comparative Example 10
An epoxy resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that tetrabutylammonium bromide was used in place of the curing accelerator tetrabutylphosphonium decanoate.

実施例1〜4、比較例1〜10のエポキシ樹脂系組成物について、硬化物のTg(5mm厚、0.4mm厚)、硬化直後のイエローインデックス(5mm厚、1mm厚、0.4mm厚)、150℃で5日間熱処理(エージング)後のイエローインデックス(5mm厚、1mm厚、0.4mm厚)、エポキシ樹脂系組成物の臭気を評価した。   For the epoxy resin compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 10, the Tg of the cured product (5 mm thickness, 0.4 mm thickness), the yellow index immediately after curing (5 mm thickness, 1 mm thickness, 0.4 mm thickness) The yellow index (5 mm thickness, 1 mm thickness, 0.4 mm thickness) after heat treatment (aging) at 150 ° C. for 5 days and the odor of the epoxy resin composition were evaluated.

結果を表1〜3に示す。なお、表1〜3において、「TBP」は、「テトラブチルホスホニウム」を指す。   The results are shown in Tables 1-3. In Tables 1 to 3, “TBP” refers to “tetrabutylphosphonium”.

Figure 2008081514
Figure 2008081514

Figure 2008081514
Figure 2008081514

Figure 2008081514
Figure 2008081514

上記表1〜3の結果から、次のことが分かる。   From the results shown in Tables 1 to 3, the following can be understood.

(a)0.4mm厚さの薄膜において、熱処理後のYIが5以下であり、かつ熱処理前後のΔYIが5以下であれば発光素子や液晶バックライトの発熱によっても黄変せず、これらの用途にも十分使用できるものとなる。   (a) In a thin film having a thickness of 0.4 mm, if YI after heat treatment is 5 or less and ΔYI before and after heat treatment is 5 or less, yellowing does not occur due to heat generation of the light emitting element or the liquid crystal backlight. It can also be used for applications.

この点、比較例1〜7、9〜10は、熱処理後のYIが5より大きく、また比較例1〜5、7、9〜10は熱処理前後のΔYIが5より大きく、熱黄変の点から上記用途への使用は難しい。これに対して、硬化促進剤がテトラブチルホスホニウムの炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸塩である実施例1〜4のエポキシ樹脂系組成物は、熱処理後のYI及びΔYIが上記範囲であり実用可能な薄膜を形成できることが分かる。   In this regard, Comparative Examples 1-7, 9-10 have a YI after heat treatment greater than 5, and Comparative Examples 1-5, 7, 9-10 have a ΔYI before and after the heat treatment greater than 5, which is the point of thermal yellowing. It is difficult to use for the above purposes. On the other hand, the epoxy resin composition of Examples 1 to 4 in which the curing accelerator is an aliphatic monocarboxylate of tetrabutylphosphonium having 10 to 16 carbon atoms has a YI and ΔYI after heat treatment in the above range. It can be seen that a practical thin film can be formed.

(b)また、Tgが高いほど劣化、特に熱による劣化が抑制され、耐湿性に優れた膜となる。薄膜封止材や表示装置のコーティング材として使用する場合は熱劣化し難いことや耐湿性が重要であり、0.4mm厚の膜のTgが140℃以上であり、かつ5mm厚膜のTgと0.4mm厚膜のTgの差(Tg差)が10℃より小さければ、これらの用途にも実用できるものとなる。   (b) Further, the higher the Tg, the more the deterioration, particularly the deterioration due to heat, is suppressed, and the film has excellent moisture resistance. When used as a thin film encapsulant or a coating material for a display device, it is difficult to be thermally deteriorated and moisture resistance is important. The Tg of a 0.4 mm-thick film is 140 ° C. or higher, and If the Tg difference (Tg difference) of the 0.4 mm thick film is smaller than 10 ° C., it can be used for these applications.

この点、比較例6及び8はTgが140℃より低く、かつTg差が10℃以上あり、耐熱性の点から上記用途への使用は難しい。これに対して、硬化促進剤がテトラブチルホスホニウムの炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸塩である実施例1〜4のエポキシ樹脂系組成物は、0.4mm厚の硬化膜のTg及びTg差が上記範囲であり、実用可能な薄膜を形成できることが分かる。   In this respect, Comparative Examples 6 and 8 have a Tg lower than 140 ° C. and a Tg difference of 10 ° C. or more, and are difficult to use in the above applications from the viewpoint of heat resistance. On the other hand, the epoxy resin composition of Examples 1 to 4 in which the curing accelerator is an aliphatic monocarboxylate having 10 to 16 carbon atoms of tetrabutylphosphonium has a Tg of 0.4 mm thick cured film and It can be seen that the Tg difference is in the above range and a practical thin film can be formed.

(c)また、比較例1〜5及び9で得たエポキシ樹脂系組成物は臭気があるが、実施例1〜4のエポキシ樹脂系組成物は臭気が無く、調製し易いものである。   (c) Although the epoxy resin compositions obtained in Comparative Examples 1 to 5 and 9 have odor, the epoxy resin compositions of Examples 1 to 4 have no odor and are easy to prepare.

本発明のエポキシ樹脂系組成物を硬化させてなる薄膜は、Tgが高く、初期透明性に優れ、高温で熱履歴を与えた後でも黄変の程度が軽微である。このような優れた性能を併せ持つため、工業上の広い分野で使用することができる。特に面実装タイプの絶縁封止材料として最適であり、BGA(ボール・グリッド・アレー)、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)、COG(チップ・オン・グラス)、COB(チップ・オン・ボード)、MCM(マルチ・チップ・モジュール)又はLGA(ランド・グリッド・アレイ)等の面実装タイプの半導体装置の封止材料、チップタイプのLED又は光半導体等の封止材料等の絶縁材料として好適に使用できる。   The thin film obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention has a high Tg, excellent initial transparency, and a slight degree of yellowing even after giving a thermal history at a high temperature. Since it has such excellent performance, it can be used in a wide range of industrial fields. It is particularly suitable as a surface mount type insulation sealing material, and is BGA (ball grid array), CSP (chip size package), COG (chip on glass), COB (chip on board), Suitable for use as an insulating material such as a sealing material for surface mount type semiconductor devices such as MCM (multi-chip module) or LGA (land grid array), or a sealing material for chip type LEDs or optical semiconductors. it can.

また、その硬化薄膜は、各種ガラス基板、自動車部品、表示装置等の透明ハードコーティング材料としても好適に使用できる。   The cured thin film can also be suitably used as a transparent hard coating material for various glass substrates, automobile parts, display devices and the like.

Claims (15)

(a)エポキシ樹脂、
(b)酸無水物系硬化剤、及び
(c)下記一般式(1)
Figure 2008081514
[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、Xは炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物
を含むエポキシ樹脂系組成物。
(a) epoxy resin,
(b) an acid anhydride curing agent, and
(c) The following general formula (1)
Figure 2008081514
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms. ]
An epoxy resin composition comprising a compound represented by:
一般式(1)で表される化合物の含有量が、エポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜5重量部である請求項1に記載の組成物。   The composition according to claim 1, wherein the content of the compound represented by the general formula (1) is 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin. 一般式(1)において、R〜Rが炭素数1〜4の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す請求項1又は2に記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2, wherein in the general formula (1), R 1 to R 4 represent a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. 一般式(1)において、Xがデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸及びパルミチン酸からなる群より選ばれる少なくとも一種の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基である請求項1〜3のいずれかに記載の組成物。   The general formula (1), wherein X is an anion residue of at least one aliphatic monocarboxylic acid selected from the group consisting of decanoic acid, lauric acid, myristic acid and palmitic acid. Composition. 一般式(1)において、R〜Rの全てがブチル基である請求項1〜4のいずれかに記載の組成物。 In General formula (1), all of R < 1 > -R < 4 > is a butyl group, The composition in any one of Claims 1-4. エポキシ樹脂が、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ナフタレンジオールジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、及び水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1〜5のいずれかに記載の組成物。   Epoxy resin from bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, naphthalene diol diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, and hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether The composition according to any one of claims 1 to 5, which is at least one selected from the group consisting of: 酸無水物系硬化剤が、3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物及び4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1〜6のいずれかに記載の組成物。   The composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the acid anhydride curing agent is at least one selected from the group consisting of 3-methylhexahydrophthalic anhydride and 4-methylhexahydrophthalic anhydride. object. 酸無水物系硬化剤の含有量が、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する酸無水物系硬化剤中の酸無水物基の当量比が0.9〜1.2となる量である請求項1〜7のいずれかに記載の組成物。   The content of the acid anhydride curing agent is such that the equivalent ratio of the acid anhydride group in the acid anhydride curing agent to the epoxy group in the epoxy resin is 0.9 to 1.2. 8. The composition according to any one of 7. (a)エポキシ樹脂と、(b)3−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物及び4−メチルヘキサヒドロフタル酸無水物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物系硬化剤と、(c)テトラブチルホスホニウムデカン酸塩、テトラブチルホスホニウムラウリン酸塩、テトラブチルホスホニウムミリスチン酸塩及びテトラブチルホスホニウムパルミチン酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物とを含み、酸無水物系硬化剤の含有量が、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する酸無水物系硬化剤中の酸無水物基の当量比が1〜1.1となる量であるエポキシ樹脂系組成物。   (a) an epoxy resin, (b) at least one acid anhydride curing agent selected from the group consisting of 3-methylhexahydrophthalic anhydride and 4-methylhexahydrophthalic anhydride, and (c) Containing at least one compound selected from the group consisting of tetrabutylphosphonium decanoate, tetrabutylphosphonium laurate, tetrabutylphosphonium myristate and tetrabutylphosphonium palmitate, and containing an acid anhydride curing agent An epoxy resin composition in which the amount is such that the equivalent ratio of the acid anhydride group in the acid anhydride curing agent to the epoxy group in the epoxy resin is 1 to 1.1. エポキシ樹脂系薄膜の黄変を防止する方法であって、エポキシ樹脂の硬化促進剤として下記一般式(1)
Figure 2008081514
[式中、R〜Rは、同一又は異なって、それぞれフェニル基、炭素数1〜16の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数5〜12のシクロアルキル基を示し、Xは炭素数10〜16の脂肪族モノカルボン酸のアニオン残基を示す。]
で表される化合物を用いる方法。
A method for preventing yellowing of an epoxy resin-based thin film, and the following general formula (1) as an epoxy resin curing accelerator
Figure 2008081514
[Wherein R 1 to R 4 are the same or different and each represents a phenyl group, a linear or branched alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, X represents an anion residue of an aliphatic monocarboxylic acid having 10 to 16 carbon atoms. ]
The method using the compound represented by these.
請求項1〜9のいずれかに記載の組成物を基体上に塗布し、塗膜を硬化させて、厚さ1mm以下の薄膜を形成することを特徴とする、エポキシ樹脂系薄膜の形成方法。   A method for forming an epoxy resin thin film, comprising applying the composition according to any one of claims 1 to 9 on a substrate and curing the coating film to form a thin film having a thickness of 1 mm or less. 請求項1〜9のいずれかに記載の組成物を硬化してなる厚さ1mm以下の薄膜。   A thin film having a thickness of 1 mm or less obtained by curing the composition according to claim 1. 薄膜が発光素子の封止材である請求項12に記載の薄膜。   The thin film according to claim 12, wherein the thin film is a sealing material for a light emitting device. 薄膜がディスプレイ用コーティング材である請求項12に記載の薄膜。   The thin film according to claim 12, wherein the thin film is a display coating material. 請求項12に記載の薄膜で封止された発光素子。   A light emitting device sealed with the thin film according to claim 12.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101851395A (en) * 2010-06-10 2010-10-06 南通星辰合成材料有限公司 Epoxy resin and production method thereof
JP2011089059A (en) * 2009-10-23 2011-05-06 Mitsubishi Electric Corp Epoxy resin composition, method for producing electrically insulated wire ring and rotary electric machine by using the same
WO2014171529A1 (en) 2013-04-19 2014-10-23 新日本理化株式会社 Novel polycarboxylic acid anhydride and use thereof
JP2015505570A (en) * 2012-01-19 2015-02-23 アクゾ ノーベル コーティングス インターナショナル ビー ヴィ Curable coating composition
KR101768303B1 (en) 2015-03-31 2017-08-16 삼성에스디아이 주식회사 Phosphonium compound, epoxy resin composition comprising the same and semiconductor device prepared from using the same

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018021548A1 (en) 2016-07-29 2018-02-01 北興化学工業株式会社 Novel phosphonium compound

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6287595A (en) * 1985-10-11 1987-04-22 Masako Matsumoto Synthesis of phosphonium compound
JPH0570666A (en) * 1991-09-10 1993-03-23 Ube Ind Ltd Transparent epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JPH07196774A (en) * 1993-12-28 1995-08-01 Sumitomo Bakelite Co Ltd Liquid epoxy resin composition
JP2004315690A (en) * 2003-04-17 2004-11-11 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition
JP2005263843A (en) * 2004-03-16 2005-09-29 San Apro Kk Semiconductor sealing epoxy resin composition
JP2005325178A (en) * 2004-05-12 2005-11-24 Hokko Chem Ind Co Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JP2006063191A (en) * 2004-08-26 2006-03-09 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor and optical semiconductor device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6287595A (en) * 1985-10-11 1987-04-22 Masako Matsumoto Synthesis of phosphonium compound
JPH0570666A (en) * 1991-09-10 1993-03-23 Ube Ind Ltd Transparent epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JPH07196774A (en) * 1993-12-28 1995-08-01 Sumitomo Bakelite Co Ltd Liquid epoxy resin composition
JP2004315690A (en) * 2003-04-17 2004-11-11 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin composition
JP2005263843A (en) * 2004-03-16 2005-09-29 San Apro Kk Semiconductor sealing epoxy resin composition
JP2005325178A (en) * 2004-05-12 2005-11-24 Hokko Chem Ind Co Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor
JP2006063191A (en) * 2004-08-26 2006-03-09 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition for sealing optical semiconductor and optical semiconductor device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011089059A (en) * 2009-10-23 2011-05-06 Mitsubishi Electric Corp Epoxy resin composition, method for producing electrically insulated wire ring and rotary electric machine by using the same
CN101851395A (en) * 2010-06-10 2010-10-06 南通星辰合成材料有限公司 Epoxy resin and production method thereof
JP2015505570A (en) * 2012-01-19 2015-02-23 アクゾ ノーベル コーティングス インターナショナル ビー ヴィ Curable coating composition
WO2014171529A1 (en) 2013-04-19 2014-10-23 新日本理化株式会社 Novel polycarboxylic acid anhydride and use thereof
KR20160002934A (en) 2013-04-19 2016-01-08 신닛폰 리카 가부시키가이샤 Novel polycarboxylic acid anhydride and use thereof
US9873762B2 (en) 2013-04-19 2018-01-23 New Japan Chemical Co., Ltd. Polycarboxylic acid anhydride and use thereof
KR101768303B1 (en) 2015-03-31 2017-08-16 삼성에스디아이 주식회사 Phosphonium compound, epoxy resin composition comprising the same and semiconductor device prepared from using the same

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