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JP2008064994A - 光源装置および光学装置 - Google Patents

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JP2008064994A JP2006241985A JP2006241985A JP2008064994A JP 2008064994 A JP2008064994 A JP 2008064994A JP 2006241985 A JP2006241985 A JP 2006241985A JP 2006241985 A JP2006241985 A JP 2006241985A JP 2008064994 A JP2008064994 A JP 2008064994A
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Akira Takahashi
高橋  彰
Shigeru Umeki
茂 梅木
Takayuki Ishigame
貴幸 石亀
Masaharu Odajima
雅春 小田嶋
Katsuya Kusaka
勝弥 日下
Kenichi Ishizuka
健一 石塚
Mitsuhiro Kudo
光洋 工藤
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Ricoh Optical Industries Co Ltd
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Ricoh Optical Industries Co Ltd
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Abstract

【課題】複数の光源ユニットと光束配列圧縮光学系と集光光学系と光ファイバとを有する光源装置において、光ファイバから射出される光の、光強度のプロファイルの中抜け状態を有効に軽減する。
【解決手段】複数の光源ユニットを複数の平面上に配置して、各光源ユニットから放射される平行光束が、互いに重複しないように光束配列圧縮光学系30に入射するようにすることにより、光束間の間隔を小さくして、集光レンズ40に入射する光を光軸中心に集めて、光ファイバ50から射出される光のプロファイルにおける中抜け状態を改善する。
【選択図】 図1

Description

この発明は、複数の光源からの光を効率良く光ファイバに入射し射出させる小型の光源装置と、この光源装置を使用した光学装置に関する。
複数の光源からの光を集めて、光ファイバに入射させる光源装置として、図2に示す如きものが提案されている(特許文献1)。
図2(a)は、光源装置を短手方向(Y方向)から、(b)は長手方向(X方向)から見た図であり、(c)は光源ユニットを配置した平面をZ方向から見た図である。
光源部は、複数の半導体レーザと、これら半導体レーザの個々と1:1に対応するコリメートレンズにより構成される光源ユニットを2次元的に配列して構成されている。
光源ユニットを説明すると、図2(a)に示すように、光源ユニットは、半導体レーザ10と、この半導体レーザ10から放射される発散光束をコリメートして平行光束とするコリメートレンズ20を1単位(ユニット)として構成される。図2(a)において、光源ユニットLU1〜LU5は、何れも同じ構成のものである。
図2に説明図として示す例では、光源部として10個の光源ユニットLU1〜LU10が2列に配列されている。即ち、光源ユニットLU1〜LU5は、図2(a)に示すように等間隔1列に配列され、光源ユニットLU6〜LU10は、光源ユニットLU1〜LU10の配列と同一配列で、Y方向に離れて配置されている。図2(a)では、光源ユニットLU6〜LU10は、光源ユニットLU1〜LU5の配列に図面に直交する方向に重なり合い、従って、光源ユニットLU6〜LU10は、図2(a)には図示されていない。
図2(b)は、図2(a)の状態をX方向から見ているので、光源ユニットの2列の配列における光源ユニットLU5とLU10とが示されている。図2(b)においては、光源ユニットLU1〜LU4は光源ユニットLU5に重なり合い、光源ユニットLU6〜LU9は光源ユニットLU10に重なり合って隠れている。
図2(c)は上述の光源ユニットLU1〜LU10の配列をZ方向から見た状態を示しており、符号100は、これら光源ユニットLU1〜LU10が配置される平面である。即ち、光源ユニットLU1〜LU10(丸印で示す)は同一平面100上に配列される。
図2(a)(b)に示すように、10個の光源ユニットLU1〜LU10からは平行光束が放射されるが、これら10本の平行光束はZ方向に平行で「相互に平行」である。
これら10本の平行光束は光束配列圧縮光学系30の入射面に入射する。光束配列圧縮光学系30は、Y方向を厚み方向とする三角プリズムであり、上記10本の平行光束の入射する面はXY面に平行な面であり、射出面はX方向とZ方向に対して傾く斜面である。
射出面から射出する10本の平行光束は、射出面での屈折により、入射状態におけるX方向に対応する方向の光束配列間隔を圧縮される。
このように配列間隔を圧縮された10本の光束は集光レンズ40に、レンズ光軸に平行に入射する。集光レンズ40に入射する10本の平行光束はそれぞれが平行光束であり、かつ、互いに平行であるので、全光束が集光レンズ40の焦点位置に集光する。集光レンズ40の焦点位置には、光ファイバ50の入射側端面が、端面中心の法線(光ファイバの光軸という。)を集光レンズ40のレンズ光軸に合致させて配置されており、従って、10本の光束は光ファイバ50の入射側端面から光ファイバ50内に入射し、光ファイバ50内を伝播して光ファイバ50の射出側端面から射出する。
図4(c)は、集光レンズ40により集光されて光ファイバ50内に入射し、光ファイバ50内を伝搬する光を説明図的に示している。光ファイバ50に入射した光は、ファイバ内部で反射しつつ光ファイバ50内を伝搬して射出側端面から射出する。このとき、射出側端面から射出する光の射出角は、入射側端面に入射するときの入射角に等しくなる。光ファイバ50の入射側端面に入射する各光束は、集光レンズ40により集光されているので、光ファイバ50対する入射角は、全部の光束に対して等しくはならず、射出側端面から射出する光の射出角も区々となる。
光ファイバ50の射出側端部から射出する光は「加工や照明」に用いることができるが、光ファイバ50から射出する光の「光強度のプロファイル」に「中抜け状態」が発生する場合があることが発明者らの研究を通じて明らかになった。
図4(b)は、中抜け状態の発生したときの光強度を、光ファイバ50の射出側端面部位の光強度分布として説明図的に示している。図では、光強度を濃淡で表しており、濃淡における濃度の濃い方が「光強度が大き」い。従って、図4(b)の状態では、中心部の「濃度の淡い部分」で光強度が小さくなっている。図3は「光強度のプロファイル」を示している。図のように、光強度が光軸Axの部分(中心部)で最大にならず、光軸Axに対称的に2つの山形の分布を持ち、分布の最大値と光軸Ax上での光強度の差が「上記最大値の20%以上」となるような状態を「光強度のプロファイルの中抜け状態」と言う。
光強度のプロファイルに中抜け状態のある光は、加工装置の加工用光としてはエネルギの集光効率が悪く、加工の高速化を困難にし、照明光として使う場合には「中心が暗く周辺が明るいリング状の照明」となって均一な照明を実現できない。光を散乱もしくは分散させるディフューザを使用して均一化を図ることができるが照明光強度は小さくなる。
特開2005−114977
この発明は、上述の事情を鑑みてなされたものであり、光強度のプロファイルの中抜け状態を有効に軽減できる光源装置の実現と、この光源装置を用いる光学装置の実現を課題とする。
この発明の光源装置は「1個の半導体光源とこの半導体光源から放射される光束をコリメートするコリメートレンズとを1ユニットとする光源ユニットを複数ユニット、各光源ユニットからの平行光束が互いに平行になるように配置した光源部と、この光源部からの複数の平行光束の間隔を、少なくとも1方向において圧縮する光束配列圧縮光学系と、この光束配列圧縮光学系からの平行光束群を集光する集光光学系と、この集光光学系により集光された光束を入射側端面から入射され、射出側端面から射出させる光ファイバとを有する光源装置」であって、光源部、光束配列圧縮光学系、集光光学系の少なくとも1つが、光ファイバから射出する光の光強度のプロファイルにおける中抜け状態を軽減するように構成されていることを特徴とする(請求項1)。
光源ユニットは「半導体レーザなどの半導体光源」と、この半導体光源から放射される光束をコリメートするコリメートレンズとを1ユニットとして構成される。
光束配列圧縮光学系は、プリズム、プリズムアレイ、シリンドリカルレンズ、シリンドリカルミラー、回折光学素子などとして構成され、光源部からの複数の平行光束の間隔を、少なくとも1方向において圧縮する。
集光光学系としては、屈折率分布レンズ、フレネルレンズ、回折光学素子、ホログラム素子、ガラスレンズ、樹脂成型レンズなどで集光作用を有するものを適宜用いることができる。
上記の如く、光ファイバの射出側端面から射出する光の射出角(光ファイバの光軸に対する射出光の角)は、光ファイバの入射側端面に入射する光の入射角に等しい。光強度のプロファイルの中抜け状態の発生する原因は、射出側端面から射出する光のうちで、射出角の大きな光の成分が、光ファイバの光軸に平行に射出する光の成分に対して相対的に大きいことに起因する。即ち、光ファイバから射出する光のうちで「射出角の大きいものの割合」が大きいと、光強度のプロファイルの光軸から離れた部分の光強度が高くなって、光強度のプロファイルの中抜け状態を招来しやすい。
従って、光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減させるには、光ファイバの入射側端面に入射する光の入射角を小さくすればよい。これは、光源部、光束配列圧縮光学系、集光レンズを工夫することにより可能である。
光源部から放出される互いに平行な平行光束の相互の間隔を小さくして平行光束群の配列密度を高めると、平行光束群の配列密度が光束配列圧縮光学系で更に圧縮され、集光光学系の光軸に近い平行光束群として集光光学系に入射するので、光ファイバの入射側端面における入射光の入射角を光束全体として小さくすることができ、光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減できる。
また、光束配列圧縮光学系における圧縮率を強くすることによっても、集光光学系の光軸に近い光束群を実現でき、光ファイバへ入射する光束群全体として入射角を小さくでき、光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減できる。
さらに、集光光学系の焦点距離を長くすることによっても、光ファイバへ入射する光束群全体として入射角を小さくでき、光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減できる。
このような工夫を単独で、あるいは互いに組合せることにより光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減もしくは防止するのである。
光ファイバから射出する光の光強度のプロファイルが中抜け状態でなく、光強度が均等であるか光軸で強い状態となるような光を光ファイバから射出させることができる光源装置は「効率の良い」光源装置であるが、この発明では、光源部、光束配列圧縮光学系、集光光学系の少なくとも1つの構成により、中抜け状態を軽減した効率のよい光源装置を実現できる。
請求項2に記載の光源装置は、請求項1記載の光源装置において、複数の光源ユニットが複数の平面上に配置され、各光源ユニットから放射される平行光束が、互いに重複しないように光束配列圧縮光学系に入射することを特徴とする。
個々の光源ユニットは、現実には光源保持部材により保持された状態で配列されるので、光源ユニットを配置する平面が1つであると、光源保持部材の大きさにより光源ユニット間の配列間隔が制限され、ある大きさより小さい配列間隔は実現できない。
この点を図2(c)、(d)を参照して説明する。
図2(c)は、10個の光源ユニットLU1〜LU10(丸印で示す)が、同一平面100上に2×5の配列形態で配列されている状態を表している。個々の光源ユニットは、図2(d)に示すように、半導体レーザ10とこれに対応するコリメートレンズ20とを光源保持部材12により保持した構成となっており、光源保持部材12の大きさが1個の光源ユニットの寸法を規定する。
従って、図2(c)の場合のように、光源ユニットLU1〜LU10を同一面100上に配列する場合には、隣接する光源ユニット間の間隔は、光源保持部材12のサイズにより規定され、光源保持部材同士が触れ合う状態が「光源ユニット配列の最大配列数」を規定してしまう。
請求項2記載のように、光源ユニットを配置する平面を複数にし「一方の平面上の光源ユニットからの平行光束の光路と、他の平面上の光源ユニットからの平行光束の光路とが互いに重複しない」ように、光源ユニットの配置を各平面上で調整することにより「隣接する平行光束の間隔」を小さくでき、光束配列圧縮光学系に入射する光束群の密度を高めることができ、集光光学系に入射する「集光光学系光軸に近い平行光束群」を実現できるので、光ファイバへの入射角を光束群全体として小さくすることができ、光ファイバから射出される光の「光強度のプロァイルの中抜け状態」を軽減できる。また、光源保持部材の大きさを変えずに「光源部を構成する光源ユニット数」を増すことができる。
請求項3に記載の光源装置は、請求項2記載の光源装置において「光源部を構成する複数の光源ユニット」のうち1つの光源ユニットからの平行光束が、光束配列圧縮光学系と集光光学系を介して、光ファイバの光軸に実質的に一致するように入射することを特徴とする。
光ファイバの光軸に実質的に一致するように、1つの光源ユニットを配置することで、該光源ユニットからの光は光ファイバに入射角:0で入射し、光ファイバの光軸に合致して射出するため、光のプロファイルにおける「光軸部分の光強度」を有効に高めることができ、プロファイルの中抜け状態を効果的に軽減できる。
光ファイバの光軸と実質的に一致する光束を、他の光源ユニットからの光束の配列の配列中心に配置すると、光のプロファイルの光軸対称性が良い「効率のよい光源」となる。
請求項2記載の光源装置において「1つの平面上に配置された光源ユニットからの平光光束の間に、他の平面に配置された光源ユニットからの平行光束が位置する」ように光源ユニット相互の位置関係を設定することにより、光束配列圧縮光学系に入射する複数平行光束の間隔を狭めることができる(請求項4)。
ひとつの平面上における光源ユニット間を、他の平面上の光源ユニットからの光束が進行するように各光源ユニットを各平面上に配置することにより、光束配列圧縮光学系に入射する平行光束の間隔を小さくする。
光源ユニット同士の間に「他の光源ユニットからの光の光路を位置させる」には、光束配列圧縮光学系から「より遠い平面」上の光源ユニットが射出した光を、光束配列圧縮光学系に近い平面上の光源ユニット間に通すようにすればよい。
請求項2または3または4記載の光源装置において、光源ユニットが配置される複数の平面は、光束配列圧縮光学系の光軸に対して直交する平面としてもよい(請求項5)し、光束配列圧縮光学系の光軸に平行な平面を「各平面からの平行光束群が、互いに直交する平反射面を持つ反射部材により合成されて光束配列圧縮光学系に入射する」ように構成してもよい(請求項6)。
光源ユニットが配置される平面が「光束配列圧縮光学系の光軸に平行な平面」である場合、光源ユニットから射出された光束は、反射部材により反射されて光束配列圧縮光学系に入射する。反射部材は、ミラーなど平反射面を持つ部材である。
光源を配置する平面を「反射部材を中心として対向する」ように光束配列圧縮光学系の光軸に平行にすると、それぞれの平面の光源ユニットからの光束が、他の平面における光源保持部材に遮断されないため、複数の光源ユニットが重複しないように平面上に配設することが容易になる。反射部材を中心に対向する平面をそれぞれの側で複数にし、光源ユニットからの光束が重複しないように各光源ユニットを配置すると、さらに光源ユニット数を増やすことができ光束間隔を圧縮できる。
請求項7に記載の光源装置は、請求項1〜6の任意の1に記載の光源装置において、光束配列圧縮光学系に入射する平行光束群における平行光束の配列が、1方向に長い配列であることを特徴とする。
1方向に長い配列で他方向に短い配列であると、光源ユニットの配列方向に直交する方向における寸法を薄型にした光源装置を実現できる。長手方向の光束の間隔を圧縮することにより、光束を集光光学系の光軸に近づけ、光強度のプロファイルの中抜け状態を改善できる。
請求項1〜7の任意の1に記載の光源装置において、光束配列圧縮光学系はプリズムであることができる(請求項8)。
請求項9に記載の光源装置は、請求項1〜8の任意の1に記載の光源装置において、光束配列圧縮光学系が、互いに直交する方向において圧縮率の異なるアナモフィック光学系であることを特徴とする。このように、光源部からの平行光束群の配列を「互いに直交する2方向」において圧縮することにより、集光光学系に入射する光束群を互いに直交する2方向で光軸に近づけることができ、光のプロファイルの中抜け状態を2次元的に有効に軽減できる。
請求項1〜9の任意の1に記載の光源装置において、複数の光源ユニットを1以上の平面に配置し、各平面に配置される光源ユニットの配列をハニカム状の最稠密配置とすることができ(請求項10)、このようにすることにより、光源ユニット相互の間隔を小さくでき、光源ユニットからの光束の間隔も小さくなり、光ファイバから射出される光の光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減できる。
また、光源ユニットにおけるコリメートレンズを俵形レンズとして、光学ユニットの配列間隔を俵形レンズの短手方向に近接させることができ(請求項11)、このようにすることによっても、光源ユニット同士の間隔を小さくして、光源からの間隔を狭め、光ファイバから射出される光の光強度のプロファイルの中抜け状態を軽減できる。
この発明の光学装置は、請求項1〜11の任意の1に記載の光源装置を用いる光学装置(請求項12)である。この光学装置では、光ファイバから射出される光の光強度のプロファイルの中抜け状態が軽減され、光を効率よく使用できる。
この発明により、中抜け状態を有効に軽減できる光源装置を実現でき、この光源装置を使用した光利用効率の良い光学装置を実現できる。
以下、実施の形態を説明する。
図1は、この発明の実施の1形態を説明するための図である。繁雑を避けるため、混同の虞が無いと思われるものについては、図2におけると同一の符号を付する。
この実施の形態では、複数の光源ユニット(図示の場合で12個)が互いに異なる平面に配列されている例である。
光源ユニットは、図1(a)に示すように、半導体レーザ10と、この半導体レーザ10からの発散性の光束を平行光束にコリメートするコリメートレンズ20とを1ユニットとして構成される。
一方の平面には6個の光源ユニットLUA1〜LUA6(図1(a)において、光源ユニットLUA4〜LUA6は、光源ユニットLUA1〜LUA3に重なり合い、従って図示されていない。)が2列に配列されている。
他方の平面には6個の光源ユニットLUB1〜LUB6(図1(a)において、光源ユニットLUB4〜LUB6は、光源ユニットLUB1〜LUB3に重なり合い、従って図示されていない。)が2列に配列されている。
図1(c)は、一方の面に配列された6個の光源ユニットLUA1〜LUA6(白丸で示す)と、他方の面に配列された光源ユニットLUB1〜LUB6(黒丸で示す)の配列状態をZ方向から見た状態を示している。符号100Bは光源ユニットLUB1〜LUB6を配列した平面である。
図1(c)に示すように、一方の面に配列された光源ユニットLUA1〜LU6と、他方の面に配列された光源ユニットLUB1〜LUB6は、光源ユニットLUA1〜LU6からの光束が、光源ユニットLUB1〜LUB6からの光束と互いに重複しないように配置を定められている。
即ち、光束配列圧縮光学系30から遠い平面上の光源ユニットLUA1〜LUA6からの平行光束は、光束配列圧縮光学系30から近い平面上の光源ユニットLUB1〜LUB6の間を通り、全体として互いに平行な12本の平行光束となって光束配列圧縮光学系30に入射し、光束配列圧縮光学系30によりX方向の配列を圧縮されて集光レンズ40に入射し、集光されて光ファイバ50に入射し射出する。
このように、複数の光源ユニットを別の平面上に配列することにより、各光源ユニットからの平行光束が互いに重複しないようにして、光束配列圧縮光学系30に入射する光束の間隔を小さくでき、集光レンズ40に「レンズ光軸の近い平行光束群」として入射させることができ、光ファイバ50への入射角を光束群全体として小さくできることにより、光強度のプロファイルの中抜け状態を有効に軽減できる。
以下の説明においても、混同の虞がないと思われるものについては、図2と同一の符号を付する。
図5は、図2に示す光源装置における「光強度のプロファイルの中抜け状態」をY方向にも改善した例であり、光束配列圧縮光学系30Aの光軸に対して直交する同一平面上に光源ユニットLU1〜LU10による光源部を配置している。この光源部は図2に即して説明したものと同じである。
この実施の形態における光束配列圧縮光学系30Aはプリズムであるが、図1、図2のものとは異なる。即ち、図1、図2に示すプリズム30では、斜面部は「Y方向には傾斜を有して」いないが、図5に示すプリズム30Aでは、図5(b)に示すように、斜面部は「Y方向にも傾斜を有し」ている。
従って、光束配列圧縮素子30Aにより光源部の光源ユニットLU1〜LU10からの平行光束は、光束配列圧縮光学系30AによりX方向・Y方向ともに配列を圧縮される。このため、集光レンズ40へ入射する際の光束の「レンズ光軸に対するY方向の入射角」がX方向の入射角と共に小さくなり、光ファイバ50から射出する光の射出角もX、Y方向ともに小さくなる。従って、光ファイバ50から射出される光の光軸からのずれが小さくなり、光強度のプロファイルの中抜け状態をX、Y方向とも改善できる。
図6は、図2に示す形態例において、光ファイバ50の光軸に実質的に一致するように入射する光束を射出する光源ユニットLU0を、光束配列圧縮光学系30の光軸に対して直交する平面に配置した形態である。
光源ユニットLU1〜LU8は2×4の配列で同一の平面上に配列され、光源ユニットLU0は他の平面上に配置されている。光源ユニットLU1〜LU8のうちのLU5〜LU8は、図5(a)において光源ユニットLU1〜LU4に重なり合うため、図示されていない。
光源ユニットLU1〜LU8の配列を図6(c)に白丸の配列で示す。一方、1個の光源ユニットLU0は、図6(c)に黒丸で示す。光源ユニットLU0はZ方向から見て、他の平面上に配列された8個の光源ユニットLU1〜LU8の配列と重複しないように配置されている。
光源ユニットLU0から放射される平行光束は、光源ユニットLU1〜LU8が放射した平行光束の間を通り、光束配列圧縮光学系30を介して集光レンズ40の光軸に合致して入射し、光ファイバ50の光軸に合致して入射し、射出角:0で射出する。光ファイバ50の光軸に合致する射出光があるので、光強度のプロファイルの光強度は光軸中心で強くなり、プロファイルの中抜け状態が有効に改善される。
図4(a)に示す従来例では、集光レンズ40に入射する光束Lのうち、光軸Cに合致するものがなく、このため、図4(b)に示すような「光強度のプロファイルの中抜け状態」が発生するのであるが、図6の実施の形態では「集光レンズ40の光軸に合致して入射する光束(光源ユニットLU0からの光束)が存在することにより、上記中抜け状態が有効に改善されるのである。
図7は、図6に示した実施の形態の光源部と、図5に示した光束配列圧縮光学系30Aとを組合せた実施の形態であり、光源ユニットLU1〜LU8からの平行光束の配列をX・Y方向とも圧縮するとともに、光源ユニットLU0からの平行光束を集光レンズ40の光軸に合致させることにより、光強度のプロファイルの中抜け状態を改善する例である。
図8は、光束配列圧縮光学系30AによりY方向にも光束間隔を圧縮するときの計算モデルである。
Dinは光束配列圧縮光学系30Aに入射する光束Lの幅を示し、Doutは射出する光束の幅を示す。光束配列圧縮光学系30の入射側に対する角:αにより射出する光束の角:σが定まり、入射光束と射出光束の圧縮率が定まる。
光束配列圧縮光学系30Aの材質を石英とし、波長:λ=408nmの光に対する屈折率:n=1.469275として、傾斜角:αを37.6度とすると、光束の間隔の圧縮率は0.56倍となる。
図9は、集光レンズ40に入射する光束Lのプロファイルである。(a)〜(c)はそれぞれ16個の光源ユニットからの光束Lを入射されている。(a)は、図2に示す光源装置と同様の場合における光束のプロファイルであり、(b)は図1に示す光源装置と同様の場合における光束のプロファイル、(c)は(b)の入射光束のうちの1つを集光レンズ40の光軸に合致させた場合である。
プロファイルの放射密度は(a)よりも(b)(c)のほうが大きく、光軸中心に光が集まっている。
図10に示す形態は、図1の光源部と図5の光束配列圧縮光学系30Aとを組合わせてX方向とY方向の両方向に光束間隔を圧縮する形態である。Y方向へも光束配列を圧縮するので、光強度のプロファイルの中抜け状態を図1の場合よりも良好に軽減させることができる。
図11は、図1の実施の形態における光源部に代えて、2つの光源部分LS1、LS2と反射部材MPとの組合せを用いた例である。
光源部分LS1、LS2はそれぞれ、複数の光源ユニットを同一面に配列してなるが、これら光源ユニットを配列する平面は「光束配列圧縮光学系30の光軸に平行な平面」であり、各光源部分LS1、LS2に配列された光源ユニットからの平行光束群が、互いに直交する平反射面を持つ反射部材MPによる反射により、互いに重複しない平行光束群として合成されて光束配列圧縮光学系30に入射する。
光源部分LS1、LS2における光源ユニットの配列を、X,Y方向に配列の半ピッチずらすことにより、合成された平行光束群における各平行光束が重複しあわないようにしている。合成された平行光束群は、光束配列圧縮光学形30により、光束の配列間隔を圧縮されて集光レンズ40に入射し、光ファイバ50に集光する。
図12は、図11の形態の変形例であって、反射部材MPの両側の光源部分を2個づつにした例である。光源部分LS11、LS12、LS21、LS22はそれぞれ、複数の光源ユニットを配列されているが、配列面は「光束配列圧縮光学系30の光軸に平行」である。
反射部材MPの片側に光源ユニットを配置する平面が2つあるため、図1の実施の形態と同様に、光源部分LS11とLS12における光源ユニットからの平行光束群における光束間隔を小さくでき、光源部分LS21とLS22における光源ユニットからの平行光束群における光束間隔を小さくできるため、集光レンズ40に入射する光をレンズ光軸に近づけることができる。
図11、図12に示した光源部に対して、図10に示した光束配列圧縮光学系30Aを組合わせうることは言うまでも無い。
図13は、複数の光源ユニットを平面に配置する場合のレイアウトを示す。
(a)は従来のレイアウトであり、コリメートレンズ20を保持する保持部材21の隙間にデッドスペース22が生じ、光源ユニットを高密度に配置できない。
(b)は、コリメート20と保持部材21を六角形としてハニカム形状に配置する例である。このようにすることによりデッドスペースがなくなり、効率よく光源ユニットを配置できる。
1列4個の半導体レーザを上下2列に配列する場合、コリメートレンズに外接する正方形と六角形の面積を比較する。コリメートレンズの外径または「半導体レーザのパッケージの外径」のうち大きいほうの半径をRとすると、面積の差は(4−3√3/2)R=1.4Rとなり、ハニカム形状では高さ方向の間隔が小さくなる。
(c)は、コリメート20と保持部材21のハニカム状の組合せを工夫し、止め部材22のスペースを拡張している。
図14は、光源ユニットにおけるコリメートレンズ(符号20で示す。)を「俵形レンズとし、光源ユニットの配列間隔を、俵形レンズの短手方向に近接させた例である。このようにすることによっても「光束配列圧縮光学系に入射する光束の間隔を縮める」ことができる。
なお、上に説明した実施の各形態において、光源ユニットの数や配列の形態は、上記各実施の形態のものに限定されるもので無いことは言うまでもない
発明の実施の1形態を説明する図である。 従来の光源装置を説明する図である。 光強度のプロファイルの中抜け状態を説明する図である。 光強度のプロファイルの中抜け状態を説明する図である。 発明の実施の別形態を説明する図である。 発明の実施の他の形態を説明する図である。 発明の実施のさらに他の形態を説明する図である。 光束配列圧縮光学系を説明する図である。 光のプロファイルを説明する図である。 発明の実施のさらに他の形態を説明する図である。 発明の実施のさらに他の形態を説明する図である。 発明の実施のさらに他の形態を説明する図である。 コリメートレンズの配置を説明する図である。 俵形状コリメートレンズを説明する図である。
符号の説明
10 半導体レーザ
20 コリメートレンズ
30 光束配列圧縮光学系
40 集光レンズ
50 光ファイバ

Claims (12)

  1. 1個の半導体光源とこの半導体光源から放射される光束をコリメートするコリメートレンズとを1ユニットとする光源ユニットを複数ユニット、各光源ユニットからの平行光束が互いに平行になるように配置した光源部と、
    この光源部からの複数の平行光束の間隔を、少なくとも1方向において圧縮する光束配列圧縮光学系と、
    この光束配列圧縮光学系からの平行光束群を集光する集光光学系と、
    この集光光学系により集光された光束を入射側端面から入射され、射出側端面から射出させる光ファイバとを有する光源装置であって、
    上記光源部、光束配列圧縮光学系、集光光学系の少なくとも1つが、上記光ファイバから射出する光の光強度のプロファイルにおける中抜け状態を軽減するように構成されていることを特徴とする光源装置。
  2. 請求項1記載の光源装置において、
    複数の光源ユニットが複数の平面上に配置され、各光源ユニットから放射される平行光束が互いに重複しないように光束配列圧縮光学系に入射することを特徴とする光源装置。
  3. 請求項2記載の光源装置において、
    1つの光源ユニットからの平行光束が、光束配列圧縮光学系と集光光学系を介して、光ファイバの光軸に実質的に一致するように入射することを特徴とする光源装置。
  4. 請求項2記載の光源装置において、
    1つの平面上に配置された光源ユニットからの平光光束の間に、他の平面に配置された光源ユニットからの平行光束が位置するように光源ユニット相互の位置関係が設定されることにより、光束配列圧縮光学系に入射する複数平行光束の間隔が狭められていることを特徴とする光源装置。
  5. 請求項2または3または4記載の光源装置において、
    光源ユニットを配置される複数の平面が、光束配列圧縮光学系の光軸に対して直交する平面であることを特徴とする光源装置。
  6. 請求項2または3または4記載の光源装置において、
    光源ニットを配置される複数の平面が、光束配列圧縮光学系の光軸に平行な平面であって、各平面からの平行光束群が、互いに直交する平反射面を持つ反射部材により合成されて光束配列圧縮光学系に入射することを特徴とする光源装置。
  7. 請求項1〜6の任意の1に記載の光源装置において、
    光束配列圧縮光学系に入射する平行光束群における平行光束の配列が、1方向に長い配列であることを特徴とする光源装置。
  8. 請求項1〜7の任意の1に記載の光源装置において、
    光束配列圧縮光学系がプリズムであることを特徴とする光源装置。
  9. 請求項1〜8の任意の1に記載の光源装置において、
    光束配列圧縮光学系が、互いに直交する方向において圧縮率の異なるアナモフィック光学系であることを特徴とする光源装置。
  10. 請求項1〜9の任意の1に記載の光源装置において、
    複数の光源ユニットが1以上の平面に配置され、各平面に配置される光源ユニットが、ハニカム状の最稠密配置であることを特徴とする光源装置。
  11. 請求項1〜9の任意の1に記載の光源配置において、
    光源ユニットにおけるコリメートレンズを俵形レンズとすることにより、光学ユニットの配列間隔を、俵形レンズの短手方向に近接させたことを特徴とする光源装置。
  12. 請求項1〜11の任意の1に記載の光源装置を用いる光学装置。
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