JP2007503975A - 浄化殺菌装置 - Google Patents
浄化殺菌装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007503975A JP2007503975A JP2006524584A JP2006524584A JP2007503975A JP 2007503975 A JP2007503975 A JP 2007503975A JP 2006524584 A JP2006524584 A JP 2006524584A JP 2006524584 A JP2006524584 A JP 2006524584A JP 2007503975 A JP2007503975 A JP 2007503975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- main body
- tube
- disposed
- discharge port
- sterilizing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000746 purification Methods 0.000 title claims description 22
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 claims abstract description 53
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 11
- 239000008213 purified water Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 30
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 17
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 3
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 8
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 2
- CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(chloromethyl)oxetane Chemical compound ClCC1(CCl)COC1 CXURGFRDGROIKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000588724 Escherichia coli Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000000531 effect on virus Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/4606—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods for producing oligodynamic substances to disinfect the water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/78—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3222—Units using UV-light emitting diodes [LED]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3226—Units using UV-light emitting lasers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
本発明は殺菌浄化装置に関するものである。本装置は、複数の支持杆(63)によって間隙を介する一対の固定ユニット(61、62)と、処理水を導入するための流入口(11)が形成される導入管本体(10)、及び浄化水を排出するための排出口(21)が形成される排出口本体(20)であって、該導入管本体(10)及び該排出口本体(20)が、該固定ユニット(61、62)に各々配置されることを特徴とする導入管本体(10)及び排出口本体(20)と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投与弁(31、32、33)及び(34)と、該導入管本体(10)と、該排出口本体(20)との間に配置される紫外線生成手段(40)と、該導入管本体(10)及び該排出口本体(20)と連通するチューブ(50)であって、該チューブが紫外線生成手段(40)を巻回すために配置されることを特徴とするチューブ(50)と。
Description
本発明は、下水、汚水などを効果的に殺菌及び浄化する殺菌浄化装置に関するものである。
概して、現存する下水処理場における塩素消毒には、河川に流れ込む残余塩素により、水中生物生態系が大きく影響されるという問題がある。
特に、このような方法は消毒方法であって、殺菌方法ではないので、ウイルス除去には何らの効果もない。
これらの問題点に鑑みて、該消毒方法は、オゾンまたは紫外線を用いる殺菌方法によって徐々に置換されているのが現状である。
特に、紫外線を用いる殺菌方法には、残余化学物質がないため、将来広範に使用されることが予想されている。紫外線を用いる殺菌方法の基本原則は、いくつかの紫外線ランプが汚水を収容する汚水収容装置内に配置されることである。
しかしながら、前記紫外線殺菌方法では、紫外線透過率が濁度に応じて急速に下がるため、その殺菌力が低下する。 さらに、汚水内の異質物質が紫外線ランプの表面に付着すると、紫外線が汚水内に伝送されないので、殺菌効果はさらに低下する。
また、数多くの紫外線ランプが汚水収容装置内に設置される必要もあるので、保守費用の増加を招く。
従って、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、濁度が高く、多くの有機/無機物質を含有する下水、汚水などが効果的に殺菌及び浄化される殺菌浄化装置を提供することが本発明の目的である。
上記目的を達成するため、本発明の一態様によれば、殺菌浄化装置が提供されるものであって、該殺菌浄化装置には:
複数の支持杆63によって間隙を介する固定ユニット61、62と、
処理水を導入するための流入口11が形成される導入管本体10、及び浄化水を排出するための排出口21が形成される排出口本体20であって、該導入管本体10及び該排出口本体20が、該固定ユニット61、62にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体10及び排出口本体20と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投入弁31、32、33及び34であって、該投入弁が該導入管本体10に配置されることを特徴とする投入弁31、32、33及び34と、該導入管本体10と該排出口本体20との間に配置される紫外線生成手段40と、該導入管本体10及び該排出口本体20と連通するチューブ50であって、該チューブが紫外線生成手段40を巻回すために配置されることを特徴とするチューブ50と、導入管本体10及び該排出口本体20にそれぞれ配置されて、該チューブ50内の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄水を供給する洗浄弁35とが具備される。
複数の支持杆63によって間隙を介する固定ユニット61、62と、
処理水を導入するための流入口11が形成される導入管本体10、及び浄化水を排出するための排出口21が形成される排出口本体20であって、該導入管本体10及び該排出口本体20が、該固定ユニット61、62にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体10及び排出口本体20と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投入弁31、32、33及び34であって、該投入弁が該導入管本体10に配置されることを特徴とする投入弁31、32、33及び34と、該導入管本体10と該排出口本体20との間に配置される紫外線生成手段40と、該導入管本体10及び該排出口本体20と連通するチューブ50であって、該チューブが紫外線生成手段40を巻回すために配置されることを特徴とするチューブ50と、導入管本体10及び該排出口本体20にそれぞれ配置されて、該チューブ50内の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄水を供給する洗浄弁35とが具備される。
本発明では、該処理水が導入される方向にレーザーを照射するためのレーザーダイオードモジュール70は、該導入管本体10内に配置される。
本発明における該チューブ50は、紫外線を効果的に伝送できるように、扁平形状になっている。
本発明における該チューブ50には:
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第1チューブ51であって、該第1チューブ51が所定の直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第1チューブ51と、
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第2チューブ53であって、該第2チューブが第2直径を該第1チューブ51の外周上に持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第2チューブ53と、
該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第1チューブ51に照射するための複数の第1紫外線ランプ43からなることを特徴とする第1紫外線ランプ群、及び該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第2チューブ53に照射するための複数の第2紫外線ランプ44からなることを特徴とする第2紫外線ランプ群を具備する紫外線生成手段40とが含まれている。
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第1チューブ51であって、該第1チューブ51が所定の直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第1チューブ51と、
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第2チューブ53であって、該第2チューブが第2直径を該第1チューブ51の外周上に持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第2チューブ53と、
該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第1チューブ51に照射するための複数の第1紫外線ランプ43からなることを特徴とする第1紫外線ランプ群、及び該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第2チューブ53に照射するための複数の第2紫外線ランプ44からなることを特徴とする第2紫外線ランプ群を具備する紫外線生成手段40とが含まれている。
本発明の別の態様によれば:
複数の支持杆163によって間隙を介する一対の固定ユニット161、162と、処理水を導入するための流入口111が形成される導入管本体110、及び浄化水を排出するための排出口121が形成される排出口本体120であって、該導入管本体110及び該排出口本体120が、該固定ユニット161、162にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体110及び排出口本体120と、種々の処理薬品が投入される複数の処理薬品投入弁131、132、133及び134であって、該投入弁が該導入管本体110に配置されることを特徴とする投入弁131、132、133及び134と、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される紫外線生成手段140とを具備する殺菌浄化装置が提供されるものであって、
ここで、該殺菌浄化装置においては、
該導入管本体110が該固定ユニット161、162対の中心を貫通し、その外周に形成される複数の第1連結管112a、112b、112c…を有し、該排出口本体120が該固定ユニット161、162対の外周を貫通し、その外周に形成される複数の第2連結管122a、122b、122c…を有し、該チューブ150が、該第1連結管112a、112b、112c…に接続される複数の補助チューブ150a、150b、150c…を具備して、それらを数回巻回し、次いで、該第2連結管に接続され、そして紫外線生成手段140が、該固定ユニット161、162対の間に配置される紫外線ランプ群を具備して、紫外線を補助チューブ150a、150b、150cに照射する働きをすることを特徴とする。
複数の支持杆163によって間隙を介する一対の固定ユニット161、162と、処理水を導入するための流入口111が形成される導入管本体110、及び浄化水を排出するための排出口121が形成される排出口本体120であって、該導入管本体110及び該排出口本体120が、該固定ユニット161、162にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体110及び排出口本体120と、種々の処理薬品が投入される複数の処理薬品投入弁131、132、133及び134であって、該投入弁が該導入管本体110に配置されることを特徴とする投入弁131、132、133及び134と、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される紫外線生成手段140とを具備する殺菌浄化装置が提供されるものであって、
ここで、該殺菌浄化装置においては、
該導入管本体110が該固定ユニット161、162対の中心を貫通し、その外周に形成される複数の第1連結管112a、112b、112c…を有し、該排出口本体120が該固定ユニット161、162対の外周を貫通し、その外周に形成される複数の第2連結管122a、122b、122c…を有し、該チューブ150が、該第1連結管112a、112b、112c…に接続される複数の補助チューブ150a、150b、150c…を具備して、それらを数回巻回し、次いで、該第2連結管に接続され、そして紫外線生成手段140が、該固定ユニット161、162対の間に配置される紫外線ランプ群を具備して、紫外線を補助チューブ150a、150b、150cに照射する働きをすることを特徴とする。
本発明における該殺菌浄化装置は、金属イオンを生成するために、金属電気分解手段170に接続される該導入管本体110をさらに具備する。
本発明における該金属電気分解手段170は、円筒形状のハウジング171、等距離で該ハウジング171内に配置される第1及び第2電極板172、173、及び該第1電極板172と該第2電極板173との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板172、173間に配置されるセンサー174を具備する。
また、本発明における該殺菌浄化装置は、該チューブ150を洗浄するために、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置され、該流入口111に配置される第1バルブ181と、該流入口111内に配置される第2バルブ182とを具備することを特徴とする不純物除去手段180をさらに具備するものであって、ここで、該殺菌浄化装置においては、高圧の洗浄溶液を供給するために、該第2バルブ182が、該第1バルブ181と、該第2バルブ182に接続される圧縮ポンプ183と逆方向に移動することを特徴とする。
本発明のさらなる態様によれば:
汚水を導入する流入口211が形成される導入管本体210と、浄化水を排出するための排出口221が形成される排出口本体220と、該導入管本体210から半径方向に突出する複数の第1連結管212と、
該排出口本体220から放射状に突出する複数の第2連結管222と、螺旋形状に該第1連結管212と該第2連結管222との間に巻装されるチューブ250と、該チューブ250内にそれぞれ配置される紫外線ランプからなる紫外線生成手段240とを具備する殺菌浄化装置が提供される。
汚水を導入する流入口211が形成される導入管本体210と、浄化水を排出するための排出口221が形成される排出口本体220と、該導入管本体210から半径方向に突出する複数の第1連結管212と、
該排出口本体220から放射状に突出する複数の第2連結管222と、螺旋形状に該第1連結管212と該第2連結管222との間に巻装されるチューブ250と、該チューブ250内にそれぞれ配置される紫外線ランプからなる紫外線生成手段240とを具備する殺菌浄化装置が提供される。
本発明における該殺菌浄化装置は、金属イオンを生成するために、金属電気分解手段270に接続される該導入管本体210をさらに具備する。
本発明における該金属電気分解手段270は、円筒形状のハウジング271、等距離で該ハウジング271内に配置される第1及び第2電極板272、273、及び該第1電極板272と該第2電極板273との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板272、273間に配置されるセンサー274を具備するものである。
本発明のさらなる目的及び利点は、添付図面と併せて以下に記載した詳細な説明によってさらに完全に理解されるであろう。
ここで、本発明を添付図面を参照して好適な実施形態に関して詳細に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る殺菌浄化装置の構造を示すものであり、図2は、図1に示した支持杆の抽出図である。図3は、図1のIII‐III´線に沿った本装置を示す断面図である。図4は、図1の導入管本体に適用されるレーザーダイオードモジュールを示す斜視図である。
図1〜4に関して、本発明の第1実施形態に係る殺菌浄化装置には:
処理水(たとえば汚水)を導入するための流入口11が形成される導入管本体10と、浄化水を排出するための排出口21が形成される排出口本体20と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投入弁31、32、33及び34であって、該投入弁が該導入管本体10に配置されることを特徴とする投入弁31、32、33及び34と、該導入管本体10と該排出口本体20との間に配置される紫外線生成手段40と、
該導入管本体10及び該排出口本体20と連通するチューブ50であり、該チューブが紫外線生成手段40を巻回すために配置されるチューブ50と、導入管本体10及び該排出口本体20にそれぞれ配置されて、該チューブ50内の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄水を供給する洗浄弁35とが含まれる。
処理水(たとえば汚水)を導入するための流入口11が形成される導入管本体10と、浄化水を排出するための排出口21が形成される排出口本体20と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投入弁31、32、33及び34であって、該投入弁が該導入管本体10に配置されることを特徴とする投入弁31、32、33及び34と、該導入管本体10と該排出口本体20との間に配置される紫外線生成手段40と、
該導入管本体10及び該排出口本体20と連通するチューブ50であり、該チューブが紫外線生成手段40を巻回すために配置されるチューブ50と、導入管本体10及び該排出口本体20にそれぞれ配置されて、該チューブ50内の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄水を供給する洗浄弁35とが含まれる。
上記装置は、複数の支持杆63によって間隙を介する一対の固定ユニット61、62に固定される。 つまり、図2に示すように、固定ユニット61、62対の固定ユニット61の中心は、該導入管本体10に固定され、その固定ユニット62の中心は、該排出口本体20に固定される。 後に説明するチューブは、螺旋方向に該固定ユニット61、62に連結される複数の支持杆63、64及び65に巻装される。 家庭下水、プラント排水及び難分解性の染色廃水などの処理水は該導入管本体10の該流入口11に導入される。
殺菌/悪臭と該流入口11に導入される処理水の重金属を分解するためには、該処理薬品投入弁31、32、33及び34に種々の処理薬品が投入される。 該処理薬品の流入は、該処理薬品投入弁31、32、33及び34によって制御される。この時点では、該バルブ31に導入される処理薬品が過酸化水素であり、該バルブ32に導入される処理薬品がペントンであり、該バルブ33に導入される処理薬品が光触媒(たとえば、二酸化チタン)及び該バルブ34に導入される処理薬品が液体酸素/オゾンであることが好ましい。
また、該洗浄弁35は、該導入管本体10、該排出口本体20に配置され、該テフロン(登録商標)製コイルチューブ50に付着する種々の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄剤を供給する。
紫外線生成手段40及び該チューブ50が紫外線殺菌処理装置を構成する。
該チューブ50は、テフロン(登録商標)を用いて形成してもよいし、紫外線を効果的に伝送できるように、扁平形状であってもよい。テフロン(登録商標)は、非接着性、低摩擦係数、非油性、耐薬品性及び耐熱性(最高温度290℃〜華氏550度)を持つ。したがって、該チューブ50は、テフロン(登録商標)材を用いて形成され、コイル形状を持つ。かくして、巻き数を増減することによって、該チューブ50を通過する処理水の在留時間を長くすることが可能である。
このチューブ50には:
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第1チューブ53であって、該第1チューブ53が所定の直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第1チューブ53と、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第2チューブ54であって、該第2チューブ54が該第1チューブ53の外周上に第2直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第2チューブ54と、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第3チューブ55であって、該第3チューブ55が該第2チューブ54の外周上に第3直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第3チューブ55が含まれる。
片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第1チューブ53であって、該第1チューブ53が所定の直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第1チューブ53と、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第2チューブ54であって、該第2チューブ54が該第1チューブ53の外周上に第2直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第2チューブ54と、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第3チューブ55であって、該第3チューブ55が該第2チューブ54の外周上に第3直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第3チューブ55が含まれる。
上記では、該第1チューブ53が、該固定ユニット61内に配置される該第1支持杆63に巻装されており、該第2チューブ54が、該第1支持杆63の外周に配置される該第2支持杆64に巻装されており、そして該第3チューブ55が該第2支持杆64の外周に配置される該第3支持杆65に巻装される。
紫外線生成手段40には、紫外線を第1チューブ51に照射するための複数の第1紫外線ランプ43からなる第1紫外線ランプ群、紫外線を該第2チューブ53に照射するための複数の第2紫外線ランプ44からなる第2紫外線ランプ群、及び紫外線を該第3チューブ55に照射するための複数の第3紫外線ランプ45からなる第3紫外線ランプ群が含まれる。
この実施形態では、該第1紫外線ランプ群は該第1支持杆63内に固定され、該第2紫外線ランプ群は該第2支持杆64内に固定され、及び該第3紫外線ランプ群は該第3支持杆65内に固定される。この時点で、第1、第2及び第3紫外線ランプ43、44及び45は、好ましくは石英管内に組み込まれる。 また、第1〜第3紫外線ランプ43〜45の波長は、それぞれ253.7nm及び184.9nmであってもよい。
なお、該処理水が導入される方向にレーザーを照射するためのレーザーダイオードモジュール70は、該導入管本体10内に配置される。 この時点で、該レーザーダイオードモジュール70は、図4に示すように、複数の紫外線レーザーダイオード72および/または基質71に配置される複数の赤外線レーザーダイオードを有する。 この時点で、紫外線レーザーダイオード72は、253.7nmの波長を有する紫外線を生成する。
該レーザーダイオードモジュールによって生成されるレーザー光は、高出力密度及び真直度を持つ したがって、本レーザー光には、生成エネルギーを処理水に伝送する過程におけるエネルギースペクトル変化がなく、優れた殺菌能力がある。
この時点では、レーザー光をより広い範囲に拡散させるために、凹レンズを使用することができる。
ここで、本発明の第1実施形態に係る殺菌浄化装置を説明する。
図5は、本発明の第2実施形態に係る殺菌浄化装置の構造を示すものである。図6は、図5の該殺菌浄化装置を示す側面図である。図7は、図5のVII‐VII´線に沿った本装置を示す断面図である。
図5〜7に関して、本発明の第2実施形態に係る殺菌浄化装置には:
処理水を導入するための流入口111が形成される導入管本体100と、浄化水を排出するための排出口121が形成される排出口本体120と、種々の処理薬品が投入される複数の処理薬品投入弁131、132、133であって、該弁が該導入管本体110に配置されることを特徴とする投入弁131、132、133及び134と、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される紫外線生成手段140と、該導入管本体110及び該排出口本体120と連通し、紫外線生成手段140を巻回すために配置されるチューブ150と、が含まれる。
処理水を導入するための流入口111が形成される導入管本体100と、浄化水を排出するための排出口121が形成される排出口本体120と、種々の処理薬品が投入される複数の処理薬品投入弁131、132、133であって、該弁が該導入管本体110に配置されることを特徴とする投入弁131、132、133及び134と、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される紫外線生成手段140と、該導入管本体110及び該排出口本体120と連通し、紫外線生成手段140を巻回すために配置されるチューブ150と、が含まれる。
前記装置を、複数の支持杆によって間隙を介する一対の固定ユニット161、162に固定する。また、金属イオンを生成するための金属電気分解手段170は、該導入管本体110内に配置する。
上記では、該導入管本体110は、該固定ユニット161、162対の中心を貫通し、それに対して固定される。
該導入管本体110は、その外周に形成される複数の第1連結管112a、112b、112c…を有する。
該排出口本体120は該固定ユニット161、162対の外周を貫通し、それに対して固定される。 該排出口本体120は、その外周に形成される複数の第2連結管122a、122b、122c…を有する。
該チューブ150には、該第1連結管112a、112b、112c…に連結され、それらを数回巻回し、次いで、該第2連結管122a、122b、122c…に接続される複数の補助チューブ150a、150b、150c…が含まれる。この時点で、該チューブ150も、第1実施形態のようにテフロン(登録商標)材から構成される。 該チューブ150は、紫外線をより効果的に伝送できるように、扁平形状であることが好ましい。
紫外線生成手段140は、該固定ユニット161、162対の間に配置され、紫外線を補助チューブ150a、150b及び150cに照射する働きをする紫外線ランプ群からなる。
図7に示すように、上記装置の中心及び縁部は、該導入管本体110及び該排出口本体120に固定されている。
該チューブ150は、該導入管本体110に数回巻装され、次いで、該排出口本体120に接続される。このチューブ150は、螺旋方向に、該固定ユニット161、162間に配置される複数の該支持杆163の外周に巻装され、紫外線ランプは、該支持杆163に沿って配置される。
該金属電気分解手段170には、円筒形状のハウジング171、等距離で該ハウジング171内に配置される第1及び第2電極板172、173、及び該第1電極板172と該第2電極板173との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板172、173間に配置されるセンサー174が含まれる。
該第1電極板172及び該第2電極板173は、銅(CU+)及び銀(Ag+)の合金を用いて形成される。DC電源が該第1及び第2電極板172、173間に供給される場合、電気分解により金属イオンが生成される。
該金属イオンの生成による剥離は、該第1電極板172と該第2電極板173との間の距離の拡大を引き起こす。 該センサー174は、該第1電極板172と該第2電極板173との間の距離を測定し、該第1電極板172及び該第2電極板173が破損しているかどうかを判断する。 該センサー174から生成される信号は、コントローラに伝送される(図示せず)。 該コントローラは、電極版のすり減りによって生じる距離を補正するため、電流を増加することによって、生成されるイオン量を一定に制御する。 該センサー174には、赤外線センサー、超音波センサーなどを利用し得る。
なお、この実施形態では、該第1及び第2電極板172、173の剥離の程度を判断するために、距離測定センサーを使用したが、これは例示目的にすぎず、該第1及び第2電極板の剥離は、生成される金属イオン量を測定することによって定量できることに留意すべきである。この場合、距離検出センサーの代わりに金属イオン量測定センサーを使用することができる。
該チューブ150を洗浄するための不純物除去手段180は、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される。該不純物除去手段180には、該流入口111に配置される第1バルブ181、該流入口111内に配置される第2バルブ182が含まれるが、ここで、該不純物除去手段180では、該第2バルブ182が、該第1バルブ181と、高圧の洗浄溶液を供給するために該第2バルブ182に接続される圧縮ポンプ183とは逆方向に移動することを特徴とする。
さらに、この実施形態においても、第1実施形態に記載したレーザーダイオードモジュールを該導入管本体110内に配置することができる。
ここで、本発明の第3実施形態に係る殺菌浄化装置を説明する。
図8は、本発明の第3実施形態に係る殺菌浄化装置の構造を示す側面図である。図9は、図8のIX‐IX´線に沿った本装置を示す断面図である。
図8及び9に関して、第3実施形態の殺菌浄化装置には:
汚水を導入するための流入口211が形成される導入管本体210と、浄化水を排出するための排出口221が形成される排出口本体220と、該導入管本体210から半径方向に突出する複数の第1連結管212と、該排出口本体220から放射状に突出する複数の第2連結管222と、螺旋形状に該第1連結管212と該第2連結管222との間に巻装されるチューブ250と、該チューブ250内にそれぞれ配置される紫外線ランプからなる紫外線生成手段240とが含まれる。
汚水を導入するための流入口211が形成される導入管本体210と、浄化水を排出するための排出口221が形成される排出口本体220と、該導入管本体210から半径方向に突出する複数の第1連結管212と、該排出口本体220から放射状に突出する複数の第2連結管222と、螺旋形状に該第1連結管212と該第2連結管222との間に巻装されるチューブ250と、該チューブ250内にそれぞれ配置される紫外線ランプからなる紫外線生成手段240とが含まれる。
さらに、種々の処理薬品が排出される処理薬品投入弁230が該導入管本体210に配置される。また、金属イオンを生成するための金属電気分解手段270は、該導入管本体110に配置される。
この時点で、該チューブ250も、第1実施形態のようにテフロン(登録商標)材から構成される。 該チューブ250は、紫外線をより効果的に伝送できるように、扁平形状であることが好ましい。
該金属電気分解手段270には、円筒形状のハウジング271、等距離で該ハウジング271内に配置される第1及び第2電極板272、273、及び該第1電極板272と該第2電極板273との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板272、273間に配置されるセンサー274が含まれる。
また、第3実施形態においても、第1実施形態に記載したレーザーダイオードモジュールを該導入管本体210内に配置することができる。
第2実施形態と同様に、該チューブ250を洗浄するための不純物除去手段は、該導入管本体210と該排出口本体220との間に配置される。
図9に示すように、複数の該殺菌浄化装置が等距離で、該導入管本体210及び該排出口本体220の周囲に周方向に設置される。 該殺菌浄化装置には、紫外線生成手段240、紫外線生成手段240を保護するための石英管242、及び螺旋形状に該石英管242を包囲し、支持杆241によって支持される該テフロン(登録商標)製チューブ250が含まれる。
上記のように、本発明によれば、抗腐食性があって、汚染物質が付着しないテフロン(登録商標)材を用いて形成されるチューブが使用され、そして紫外線を該チューブに照射するための紫外線生成手段が採用される。
したがって、汚水と接触する従来の殺菌浄化装置と比較して、紫外線透過率の低下がなく、保守費用も低い。
さらに、従来の塩素殺菌方法を介して除去することは不可能であった大腸菌や原生生物、ならびにウイルスを完全に除去することが可能である。
しかも、紫外線生成手段を、該チューブに沿って配置することもできる。したがって、紫外線生成手段を形成する紫外線ランプ数が従来の技術と比較して減少する。
また、施設面積が小さく、管理が好都合であるという効果もある。
本発明を特定の例示的な実施形態を参照して説明したが、本発明は実施形態によって限定されるものではなく、添付請求項のみによって制限されるものとする。当業者であれば本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく実施形態変更または修正を行えることは当然のことである。
Claims (11)
- 下記を具備する殺菌浄化装置。
複数の支持杆63によって間隙を介する一対の固定ユニット61、62と、処理水を導入するための流入口11が形成される導入管本体10、及び浄化水を排出するための排出口21が形成される排出口本体20であって、該導入管本体10及び該排出口本体20が、該固定ユニット61、62にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体10及び排出口本体20と、種々の処理薬品が投入される、複数の処理薬品投入弁31、32、33及び34であって、該投入弁が該導入管本体10に配置されることを特徴とする投入弁31、32、33及び34と、該導入管本体10と該排出口本体20との間に配置される紫外線生成手段40と、該導入管本体10及び該排出口本体20と連通するチューブ50であって、該チューブが紫外線生成手段40を巻回すために配置されることを特徴とするチューブ50と、導入管本体10及び該排出口本体20にそれぞれ配置されて、該チューブ50内の浮遊物質及びカスを除去するための洗浄水を供給する洗浄弁35。 - 該処理水が導入される方向にレーザーを照射するためのレーザーダイオードモジュール70が、該導入管本体10内に配置されることを特徴とする、請求項1に記載の該殺菌浄化装置。
- 該チューブ50が、紫外線を効果的に伝送できるように、扁平形状になっていることを特徴とする請求項1に記載の該殺菌浄化装置。
- 該チューブ50が、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第1チューブ53であって、該第1チューブ53が所定の直径を持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第1チューブ51と、片側が該導入管本体10の所与の部分に接続され、他側が該排出口本体20の所与の部分に接続されている第2チューブ54であって、該第2チューブが第2直径を該第1チューブ53の外周上に持ち、螺旋方向に巻装されることを特徴とする第2チューブ54と、該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第1チューブ53に照射するための複数の第1紫外線ランプ43からなることを特徴とする第1紫外線ランプ群、及び該固定ユニット61、62対の間に配置されており、紫外線を該第2チューブ54に照射するための複数の第2紫外線ランプ44からなることを特徴とする第2紫外線ランプ群を具備する紫外線生成手段40とを含むことを特徴とする請求項1に記載の該殺菌浄化装置。
- 下記を具備する殺菌浄化装置。
複数の支持杆163によって間隙を介する一対の固定ユニット161、162と、処理水を導入するための流入口111が形成される導入管本体110、及び浄化水を排出するための排出口121が形成される排出口本体120であって、該導入管本体110及び該排出口本体120が、該固定ユニット161、162にそれぞれ配置されることを特徴とする導入管本体110及び排出口本体120と、種々の処理薬品が投入される複数の処理薬品投入弁131、132、133及び134であって、該投入弁が該導入管本体110に配置されることを特徴とする投入弁131、132、133及び134と、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置される紫外線生成手段140。
ここで、該殺菌浄化装置においては、
該導入管本体110が該固定ユニット161、162対の中心を貫通し、その外周に形成される複数の第1連結管112a、112b、112c…を有し、該排出口本体120が該固定ユニット161、162対の外周を貫通し、その外周に形成される複数の第2連結管122a、122b、122c…を有し、該チューブ150が、該第1連結管112a、112b、112c…に接続される複数の補助チューブ150a、150b、150c…を具備して、それらを数回巻回し、次いで、該第2連結管に接続され、そして、紫外線生成手段140は、該固定ユニット161、162対の間に配置され、紫外線を補助チューブ150a、150b及び150cに照射する働きをする紫外線ランプ群を具備することを特徴とする。 - 金属イオンを生成するために、金属電気分解手段170に接続される該導入管本体110をさらに具備する、請求項5に記載の該殺菌浄化装置。
- 該金属電気分解手段170が、円筒形状のハウジング171、等距離で該ハウジング171内に配置される第1及び第2電極板172、173、及び該第1電極板172と該第2電極板173との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板172、173間に配置されるセンサー174を具備することを特徴とする請求項6に記載の該殺菌浄化装置。
- 該殺菌浄化装置が、該チューブ150を洗浄するために、該導入管本体110と該排出口本体120との間に配置され、該流入口111に配置される第1バルブ181と、該流入口111内に配置される第2バルブ182とを具備することを特徴とする不純物除去手段180をさらに具備するものであって、ここで、該殺菌浄化装置においては、高圧の洗浄溶液を供給するために、該第2バルブ182が、該第1バルブ181と、該第2バルブ182に接続される圧縮ポンプ183と逆方向に移動することを特徴とする請求項5に記載の該殺菌浄化装置。
- 下記を具備する殺菌浄化装置。
汚水を導入するための流入口211が形成される導入管本体210と、 浄化水を排出するための排出口221が形成される排出口本体220と、 該導入管本体210から半径方向に突出する複数の第1連結管212と、 該排出口本体220から放射状に突出する複数の第2連結管222と、 螺旋形状に該第1連結管212と該第2連結管222との間に巻装されるチューブ250と、 該チューブ250内にそれぞれ配置される紫外線ランプからなる紫外線生成手段240とが含まれる。 - 金属イオンを生成するために、金属電気分解手段270に接続される該導入管本体210をさらに具備する、請求項9に記載の該殺菌浄化装置。
- 該金属電気分解手段270が、円筒形状のハウジング271、等距離で該ハウジング271内に配置される第1及び第2電極板272、273、及び該第1電極板272と該第2電極板273との間の距離を測定するための、該第1及び第2電極板272、273間に配置されるセンサー274を具備することを特徴とする請求項10に記載の該殺菌浄化装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2003-0059940A KR100520982B1 (ko) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | 테프론튜브를 이용한 살균정화장치 |
KR1020040015232A KR100636292B1 (ko) | 2004-03-05 | 2004-03-05 | 테프론튜브를 이용한 살균정화장치 |
PCT/KR2004/002167 WO2005021441A1 (en) | 2003-08-28 | 2004-08-28 | An apparatus for purifying and sterilizing |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007503975A true JP2007503975A (ja) | 2007-03-01 |
Family
ID=36284100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006524584A Pending JP2007503975A (ja) | 2003-08-28 | 2004-08-28 | 浄化殺菌装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1667936A1 (ja) |
JP (1) | JP2007503975A (ja) |
WO (1) | WO2005021441A1 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0391983U (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-19 | ||
JP2001104945A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-17 | Shimadzu Corp | 酸化分解反応器 |
JP2002166270A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Watanabe Shoko:Kk | 光化学反応装置 |
JP2003145180A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 汚染水の浄化方法及び浄化装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4816145A (en) * | 1984-01-16 | 1989-03-28 | Autotrol Corporation | Laser disinfection of fluids |
US4769131A (en) * | 1986-05-09 | 1988-09-06 | Pure Water Technologies | Ultraviolet radiation purification system |
US5230792A (en) * | 1990-01-24 | 1993-07-27 | Christian Sauska | Ultraviolet water purification system with variable intensity control |
KR100470696B1 (ko) * | 2002-06-11 | 2005-02-23 | 동아정밀공업(주) | 폐수처리용 오존 및 음이온 가스 발생장치 |
KR20040015414A (ko) * | 2002-08-12 | 2004-02-19 | 주식회사 비.엠 텔레콤 | 정수기물 살균 유니트 |
-
2004
- 2004-08-28 JP JP2006524584A patent/JP2007503975A/ja active Pending
- 2004-08-28 EP EP04774428A patent/EP1667936A1/en not_active Withdrawn
- 2004-08-28 WO PCT/KR2004/002167 patent/WO2005021441A1/en active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0391983U (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-19 | ||
JP2001104945A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-17 | Shimadzu Corp | 酸化分解反応器 |
JP2002166270A (ja) * | 2000-12-01 | 2002-06-11 | Watanabe Shoko:Kk | 光化学反応装置 |
JP2003145180A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 汚染水の浄化方法及び浄化装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2005021441A1 (en) | 2005-03-10 |
EP1667936A1 (en) | 2006-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6403030B1 (en) | Ultraviolet wastewater disinfection system and method | |
US6447720B1 (en) | Ultraviolet fluid disinfection system and method | |
JP4355315B2 (ja) | 流体浄化装置 | |
US10287193B2 (en) | Systems and methods for the treatment of ballast water | |
US20080203004A1 (en) | Ultraviolet irradiation water treatment apparatus | |
JP5756634B2 (ja) | バラスト水を処理方法及び装置 | |
JP2009273967A (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
JP4690872B2 (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
KR100480347B1 (ko) | 광촉매 및 자외선램프 모듈을 이용한 살균 및 정화장치 | |
JP2018069158A (ja) | 水処理装置 | |
KR101318604B1 (ko) | 마이크로 버블 살균장치 | |
JP5049901B2 (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
US20140299554A1 (en) | Wastewater Treatment System and Method | |
CA2336524A1 (en) | Method and apparatus for fluid treatment by uv-radiation | |
JP2013075271A (ja) | 水処理方法及び水処理装置 | |
JP2008142593A (ja) | 紫外線光による不活化処理方法 | |
JP2009045517A (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
KR20050089703A (ko) | 테프론튜브를 이용한 살균정화장치 | |
JP2007503975A (ja) | 浄化殺菌装置 | |
CN100457642C (zh) | 一种用于提纯和杀菌的装置 | |
JP2009066478A (ja) | 紫外線照射水処理装置 | |
RU2666860C1 (ru) | Установка для обезвреживания судовых балластных вод | |
JP4094453B2 (ja) | 洗浄排水の消毒方法及び装置 | |
US20240308880A1 (en) | Methods and devices for ultraviolet fluid treatment of fluids | |
KR200282450Y1 (ko) | 광촉매 및 자외선램프 모듈을 이용한 살균 및 정화장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070828 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091215 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101026 |