JP2007304520A - カラー液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】異なる複数色の光源からなる照光手段を有し、光源からの光を検出する光センサ
を液晶パネルに組み込み、光源の光量を調整することができるカラー液晶表示装置を提供
すること。
【解決手段】TFT基板2とCF基板25とをシール枠6を介して貼り合わせて間に空間
を形成し、この空間に液晶を封入したカラー液晶パネルと、TFT基板の背面に配設して
カラー液晶パネルを照明するバックライトBLとを備えたカラー液晶表示装置1において
、バックライトを発光色の異なる複数の光源BLR〜BLBで構成し、各色の光源からの
光をそれぞれ検出する光センサを有する光検出部LS1をTFT基板に設け、光検出部と
対向するCF基板の表面には、各色の光源からの光を反射させる反射層25aを介して各
色の光源に対応した各色のカラーフィルタ層を設けた。
【選択図】図9
を液晶パネルに組み込み、光源の光量を調整することができるカラー液晶表示装置を提供
すること。
【解決手段】TFT基板2とCF基板25とをシール枠6を介して貼り合わせて間に空間
を形成し、この空間に液晶を封入したカラー液晶パネルと、TFT基板の背面に配設して
カラー液晶パネルを照明するバックライトBLとを備えたカラー液晶表示装置1において
、バックライトを発光色の異なる複数の光源BLR〜BLBで構成し、各色の光源からの
光をそれぞれ検出する光センサを有する光検出部LS1をTFT基板に設け、光検出部と
対向するCF基板の表面には、各色の光源からの光を反射させる反射層25aを介して各
色の光源に対応した各色のカラーフィルタ層を設けた。
【選択図】図9
Description
本発明はカラー液晶表示装置に係り、特に照光手段として発光色の異なる複数の光源を
備えたカラー液晶表示装置において、これらの光源からの光量を調整することができるカ
ラー液晶表示装置に関するものである。
備えたカラー液晶表示装置において、これらの光源からの光量を調整することができるカ
ラー液晶表示装置に関するものである。
液晶表示装置は、通常、液晶パネルの前面から入射された光を反射板で反射させて画像
を表示する反射型、バックライト或いはフロントライト等の専用の光源を用いこの光源か
らの光を液晶パネルに透過させて画像を表示する透過型、および透過型と反射型とを併せ
持った半透過型と大別されており、これらのタイプのものが各種の電子機器、例えば、携
帯電話機、電子辞書、テレビジョン、パーソナルコンピュータ端末等のディスプレーとし
て広く使用されている。
を表示する反射型、バックライト或いはフロントライト等の専用の光源を用いこの光源か
らの光を液晶パネルに透過させて画像を表示する透過型、および透過型と反射型とを併せ
持った半透過型と大別されており、これらのタイプのものが各種の電子機器、例えば、携
帯電話機、電子辞書、テレビジョン、パーソナルコンピュータ端末等のディスプレーとし
て広く使用されている。
光源には、同一色からなる白色の冷陰極管や発光ダイオード(以下、LEDという)、
或いは発光色の異なる複数の光源(冷陰極管、LED)、すなわち多元色光源を組み合わ
せたものが使用されている。これらの光源を使用すると、色調整、すなわち表示画像のホ
ワイトバランスの調整が必要になるが、同一色光源を使用するときは、液晶パネルに与え
る3原色信号のそれぞれの比率を調整することによって行われている。また、多原色光源
を組み合わせるときは、各色光源を時分割により切換えて白色とする方式(例えば、下記
特許文献1参照)、或いは各色光源を同時に発光させて白色とする方式(例えば、下記特
許文献2参照)とがあり、いずれの方式も、各色光源を光センサによりモニタし、光量変
化を検出して所定の基準値と対比し、この対比値を各光源にフィードバックして、ホワイ
トバランスを調整している。
或いは発光色の異なる複数の光源(冷陰極管、LED)、すなわち多元色光源を組み合わ
せたものが使用されている。これらの光源を使用すると、色調整、すなわち表示画像のホ
ワイトバランスの調整が必要になるが、同一色光源を使用するときは、液晶パネルに与え
る3原色信号のそれぞれの比率を調整することによって行われている。また、多原色光源
を組み合わせるときは、各色光源を時分割により切換えて白色とする方式(例えば、下記
特許文献1参照)、或いは各色光源を同時に発光させて白色とする方式(例えば、下記特
許文献2参照)とがあり、いずれの方式も、各色光源を光センサによりモニタし、光量変
化を検出して所定の基準値と対比し、この対比値を各光源にフィードバックして、ホワイ
トバランスを調整している。
図11は下記特許文献1に記載されたカラー表示装置の輝度バランス調整手段のブロッ
ク図である。
この輝度バランス調整手段40は、赤、緑および青色3色のLED40a〜40cおよ
びこれらLEDの光を検出する光センサ41a〜41cが収容されたLEDボックス42
と、各LEDからの輝度レベルを検出して対応する電圧値に変換する変換素子と、この変
換素子で変換された電圧値と基準電圧値とを比較してこの比較値により各LEDへ供給さ
れる電流を制御する光量制御回路44とを備え、この光量制御回路44の出力は、LED
駆動回路45に入力されて、各光センサ41a〜41cでの検出値が基準電圧より低いと
きは、各LED40a〜40cに流れる電流を増やすことによって光量を増やして輝度レ
ベルを上げ、反対に高い場合は、そのオーバー分だけ各LED40a〜40cに流れる電
流を減少させることによって光量を減らして輝度レベルを低下させる。なお、光量制御回
路44およびLED駆動回路45は、制御装置43によって制御されるようになっている
。この調整手段によれば、各LED光源に発熱や経時変化等があっても各光源が一定の光
量を保つようになり、各光源間の輝度バランスの崩れを防止することができる。
ク図である。
この輝度バランス調整手段40は、赤、緑および青色3色のLED40a〜40cおよ
びこれらLEDの光を検出する光センサ41a〜41cが収容されたLEDボックス42
と、各LEDからの輝度レベルを検出して対応する電圧値に変換する変換素子と、この変
換素子で変換された電圧値と基準電圧値とを比較してこの比較値により各LEDへ供給さ
れる電流を制御する光量制御回路44とを備え、この光量制御回路44の出力は、LED
駆動回路45に入力されて、各光センサ41a〜41cでの検出値が基準電圧より低いと
きは、各LED40a〜40cに流れる電流を増やすことによって光量を増やして輝度レ
ベルを上げ、反対に高い場合は、そのオーバー分だけ各LED40a〜40cに流れる電
流を減少させることによって光量を減らして輝度レベルを低下させる。なお、光量制御回
路44およびLED駆動回路45は、制御装置43によって制御されるようになっている
。この調整手段によれば、各LED光源に発熱や経時変化等があっても各光源が一定の光
量を保つようになり、各光源間の輝度バランスの崩れを防止することができる。
また、液晶表示装置は、外光の強さにより表示画面の見えやすさが左右されるので、外
光の強さに応じて光源の発光量を調節できるようにした液晶表示装置も知られている(例
えば、下記特許文献3参照)。
光の強さに応じて光源の発光量を調節できるようにした液晶表示装置も知られている(例
えば、下記特許文献3参照)。
図12は下記特許文献3に記載された液晶表示装置の一部の縦断面図である。
液晶表示装置50は、大判のガラス基板53の上にこの基板より小型サイズのガラス基
板52をシール枠を介して貼り合わせ、この貼り合せで形成された空洞に液晶を封入し、
ガラス基板53の一端部に外光照度検出センサ55およびバックライト照度検出センサ5
4が設けられ、ガラス基板53の下方にバックライト51が設けられた構成を有している
。これらのセンサのうち、外光照度検出センサ55は、一対のガラス基板を重ねてできた
張り出し部に設けられ、また、バックライト照度検出センサ54は、不図示のシール枠の
外側に設けられている。また、このバックライト照度検出センサ54と対向するガラス基
板52の対向面には、クロム等の金属からなるブラックマスク(反射層)52aが設けら
れ、このブラックマスク52aによって外光を遮光するとともにバックライト光をバック
ライト照度検出センサ54に入射するようになっている。
液晶表示装置50は、大判のガラス基板53の上にこの基板より小型サイズのガラス基
板52をシール枠を介して貼り合わせ、この貼り合せで形成された空洞に液晶を封入し、
ガラス基板53の一端部に外光照度検出センサ55およびバックライト照度検出センサ5
4が設けられ、ガラス基板53の下方にバックライト51が設けられた構成を有している
。これらのセンサのうち、外光照度検出センサ55は、一対のガラス基板を重ねてできた
張り出し部に設けられ、また、バックライト照度検出センサ54は、不図示のシール枠の
外側に設けられている。また、このバックライト照度検出センサ54と対向するガラス基
板52の対向面には、クロム等の金属からなるブラックマスク(反射層)52aが設けら
れ、このブラックマスク52aによって外光を遮光するとともにバックライト光をバック
ライト照度検出センサ54に入射するようになっている。
この構成によると、バックライト51からの光は、ガラス基板53を通過して、反射層
52aで反射されてバックライト照度検出センサ54に入射されるので、この入射光を検
出することにより、バックライトの光源の経時変化による光量の変化を検出することがで
きる。また、外光は、外光照度検出センサ55で検出することができる。
特開平10−49074号公報(図1、段落〔0009〕〜〔0011〕)
特開平11−295689号公報(図1、段落〔0019〕〜〔0022〕)
特開2000−122575号公報(図4、段落〔0014〕〜〔0016〕)
52aで反射されてバックライト照度検出センサ54に入射されるので、この入射光を検
出することにより、バックライトの光源の経時変化による光量の変化を検出することがで
きる。また、外光は、外光照度検出センサ55で検出することができる。
ところで、光源に発光色の異なる冷陰極管或いはLEDを使用すると、これらの光源は
、発熱や経時変化によって輝度特性が大きく変化するという課題があることから、この課
題の解決策として、例えば上記特許文献1の表示装置は、各LED光源の光を検出する光
センサを各光源に隣接させてバックライトユニット(LEDボックス)に収納し、この光
センサで検出した出力を光量制御回路に入力して、この光量制御回路で基準値と比較して
、その比較値によって調整している。しかしながら、この表示装置のように、光センサを
バックライトに収納すると、バックライトユニット(LEDボックス)が必要となりコス
ト高になるとともに小型化できない。しかも、製造も面倒になる。この点、上記特許文献
3のように、液晶パネルに組み込むと、上記バックライトユニットは不要になるが、この
パネルでは、カラーバックライトを用いた液晶表示装置の輝度バランスの調整は考慮され
ていない。
、発熱や経時変化によって輝度特性が大きく変化するという課題があることから、この課
題の解決策として、例えば上記特許文献1の表示装置は、各LED光源の光を検出する光
センサを各光源に隣接させてバックライトユニット(LEDボックス)に収納し、この光
センサで検出した出力を光量制御回路に入力して、この光量制御回路で基準値と比較して
、その比較値によって調整している。しかしながら、この表示装置のように、光センサを
バックライトに収納すると、バックライトユニット(LEDボックス)が必要となりコス
ト高になるとともに小型化できない。しかも、製造も面倒になる。この点、上記特許文献
3のように、液晶パネルに組み込むと、上記バックライトユニットは不要になるが、この
パネルでは、カラーバックライトを用いた液晶表示装置の輝度バランスの調整は考慮され
ていない。
本発明は、上記のような従来技術に鑑みてなされたもので、本発明の目的は、発光色の
異なる複数色の光源からなる照光手段を有するカラー液晶表示装置において、各色の光源
からの光をそれぞれ検出する光センサを液晶パネルに組み込み、それぞれの光源の明るさ
により光源からの光量を調整することができるカラー液晶表示装置を提供することにある
。
異なる複数色の光源からなる照光手段を有するカラー液晶表示装置において、各色の光源
からの光をそれぞれ検出する光センサを液晶パネルに組み込み、それぞれの光源の明るさ
により光源からの光量を調整することができるカラー液晶表示装置を提供することにある
。
本発明の他の目的は、上記目的に加え、さらに外光を検出する光センサを液晶パネルに
組み込み、外光の明るさに応じて照光手段の明るさを変えることができるカラー液晶表示
装置を提供することにある。
組み込み、外光の明るさに応じて照光手段の明るさを変えることができるカラー液晶表示
装置を提供することにある。
上記目的は、以下の手段によって達成できる。すなわち、請求項1に記載のカラー液晶
表示装置の発明は、光透過性を有するアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板と
をシール枠を介在して貼り合わせて間に空間を形成し、この空間に液晶を封入したカラー
液晶パネルと、前記アクティブマトリクス基板の背面に配設して前記カラー液晶パネルを
照明する照光手段とを備えたカラー液晶表示装置において、
前記照光手段を発光色の異なる複数の光源で構成し、前記各色の光源からの光をそれぞ
れ検出する光センサを有する光検出部を前記アクティブマトリクス基板に設け、前記光検
出部と対向するカラーフィルタ基板の表面には、前記各色の光源の光を反射させる反射層
を介して前記各色の光源に対応した各色のカラーフィルタ層を設けたことを特徴とする。
表示装置の発明は、光透過性を有するアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板と
をシール枠を介在して貼り合わせて間に空間を形成し、この空間に液晶を封入したカラー
液晶パネルと、前記アクティブマトリクス基板の背面に配設して前記カラー液晶パネルを
照明する照光手段とを備えたカラー液晶表示装置において、
前記照光手段を発光色の異なる複数の光源で構成し、前記各色の光源からの光をそれぞ
れ検出する光センサを有する光検出部を前記アクティブマトリクス基板に設け、前記光検
出部と対向するカラーフィルタ基板の表面には、前記各色の光源の光を反射させる反射層
を介して前記各色の光源に対応した各色のカラーフィルタ層を設けたことを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1に記載のカラー液晶表示装置において、前記光検出部は、
各色の光源の光量を調整する光量調整手段に接続されていることを特徴とする。
各色の光源の光量を調整する光量調整手段に接続されていることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1に記載のカラー液晶表示装置において、前記アクティブマ
トリクス基板は、その表面に外光を検出する光センサを有する外光検出部が設けられ、前
記カラーフィルタ基板は、前記外光検出部と対向する基板表面の前記反射層および前記カ
ラーフィルタ層が除去されていることを特徴とする。
トリクス基板は、その表面に外光を検出する光センサを有する外光検出部が設けられ、前
記カラーフィルタ基板は、前記外光検出部と対向する基板表面の前記反射層および前記カ
ラーフィルタ層が除去されていることを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1又は3に記載のカラー液晶表示装置において、前記光検出
部および前記外光検出部は、前記カラー液晶パネルの前記シール枠の外側又は内側に設け
られていることを特徴とする。
部および前記外光検出部は、前記カラー液晶パネルの前記シール枠の外側又は内側に設け
られていることを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1又は3に記載のカラー液晶表示装置において、前記光検出
部の光センサは、薄膜電界効果トランジスタからなり、該薄膜電界効果トランジスタは前
記アクティブマトリクス基板の製造工程において前記カラー液晶パネルのスイッチング素
子としての薄膜電界効果トランジスタと同時に形成されていることを特徴とする。
部の光センサは、薄膜電界効果トランジスタからなり、該薄膜電界効果トランジスタは前
記アクティブマトリクス基板の製造工程において前記カラー液晶パネルのスイッチング素
子としての薄膜電界効果トランジスタと同時に形成されていることを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項1〜5のいずれかに記載のカラー液晶表示装置において、前
記カラー液晶パネルは、透過型又は半透過型液晶表示パネルであることを特徴とする。
記カラー液晶パネルは、透過型又は半透過型液晶表示パネルであることを特徴とする。
本発明は上記構成を備えることにより以下に示すような優れた効果を奏する。すなわち
、請求項1、2の発明によれば、アクティブマトリクス基板を透過した照光手段からの光
をカラーフィルタ基板の反射層に反射させ、この反射光をカラーフィルタに透過させて光
検出部へ入射させることにより、照光手段を構成する複数色の光源からの光を各色カラー
フィルタ層に通して検出できる。この検出によると、各色の光源からなる照光手段の光量
変化、例えば光源の発熱および経年変化等に起因した光量変化を検出できるので、各色の
光源の色バランス、特にホワイトバランスの調整が可能になる。
、請求項1、2の発明によれば、アクティブマトリクス基板を透過した照光手段からの光
をカラーフィルタ基板の反射層に反射させ、この反射光をカラーフィルタに透過させて光
検出部へ入射させることにより、照光手段を構成する複数色の光源からの光を各色カラー
フィルタ層に通して検出できる。この検出によると、各色の光源からなる照光手段の光量
変化、例えば光源の発熱および経年変化等に起因した光量変化を検出できるので、各色の
光源の色バランス、特にホワイトバランスの調整が可能になる。
請求項3の発明によれば、請求項1の効果に加え、さらに外光を検出できるので照光手
段の光量を制御することも可能になる。
段の光量を制御することも可能になる。
請求項4の発明によれば、光検出部および外光検出部を液晶パネルのシール枠の外側又
は内側に設けることにより、特に、各光検出部をシール枠外に設けると、液晶への影響を
なくすることができ、また、シール枠内に設けると小型化できる。
は内側に設けることにより、特に、各光検出部をシール枠外に設けると、液晶への影響を
なくすることができ、また、シール枠内に設けると小型化できる。
請求項5の発明によれば、光センサとしての薄膜電界効果トランジスタは、アクティブ
マトリクス基板のスイッチング素子としての薄膜電界効果トランジスタ製造時に同時に製
造することができるので、光センサを設けるために特に製造工数を増加させる必要がなく
なる。
マトリクス基板のスイッチング素子としての薄膜電界効果トランジスタ製造時に同時に製
造することができるので、光センサを設けるために特に製造工数を増加させる必要がなく
なる。
請求項6の発明によれば、液晶表示装置が透過型液晶表示装置ないしは半透過型液晶表
示装置の場合に好適に請求項1〜5に係る発明の効果を奏することができる。
示装置の場合に好適に請求項1〜5に係る発明の効果を奏することができる。
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態
は、本発明の技術思想を具体化するためのカラー液晶表示装置として半透過型カラー液晶
表示装置を例示するものであって、本発明をこの液晶表示装置に特定することを意図する
ものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るも
のである。なお、図1は本発明の実施形態に係る半透過型液晶表示装置において、カラー
フィルタ基板を透視して表したアクティブマトリクス基板を模式的に示した平面図であり
、図2は図1のX−X線で切断した断面図である。
は、本発明の技術思想を具体化するためのカラー液晶表示装置として半透過型カラー液晶
表示装置を例示するものであって、本発明をこの液晶表示装置に特定することを意図する
ものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るも
のである。なお、図1は本発明の実施形態に係る半透過型液晶表示装置において、カラー
フィルタ基板を透視して表したアクティブマトリクス基板を模式的に示した平面図であり
、図2は図1のX−X線で切断した断面図である。
液晶表示装置1は、半透過型液晶表示装置からなり、図1、図2に示すように、表面に
薄膜電界効果トランジスタ(TFT)等を搭載した透明な絶縁性を有する材料、例えばガ
ラス基板からなるアクティブマトリクス基板(以下、TFT基板という)2と、表面にカ
ラーフィルタ等が形成されたガラス基板からなるカラーフィルタ基板(以下、CF基板と
いう)25とをシール枠を介在して貼り合せて間に空間を形成し、この空間に液晶14が
封入された構成を有している。また、TFT基板2の裏面には照光手段としてのバックラ
イトBLが設けられており、このバックライトからの光および外光を検出する光検出部L
Sは、ほぼ同一の構成を備え、表示領域DA内(シール枠内)の外周縁部に設けられてい
る。このうちTFT基板2は、表示領域DAにゲート線4およびソース線5がマトリクス
状に形成されており、ゲート線4とソース線5で囲まれる部分に画素電極12(図3参照
)が形成され、ゲート線4とソース線5の交差部にスイッチング素子としてのTFTが形
成され接続されている。
薄膜電界効果トランジスタ(TFT)等を搭載した透明な絶縁性を有する材料、例えばガ
ラス基板からなるアクティブマトリクス基板(以下、TFT基板という)2と、表面にカ
ラーフィルタ等が形成されたガラス基板からなるカラーフィルタ基板(以下、CF基板と
いう)25とをシール枠を介在して貼り合せて間に空間を形成し、この空間に液晶14が
封入された構成を有している。また、TFT基板2の裏面には照光手段としてのバックラ
イトBLが設けられており、このバックライトからの光および外光を検出する光検出部L
Sは、ほぼ同一の構成を備え、表示領域DA内(シール枠内)の外周縁部に設けられてい
る。このうちTFT基板2は、表示領域DAにゲート線4およびソース線5がマトリクス
状に形成されており、ゲート線4とソース線5で囲まれる部分に画素電極12(図3参照
)が形成され、ゲート線4とソース線5の交差部にスイッチング素子としてのTFTが形
成され接続されている。
TFT基板2は、図1に示すように、その一辺に液晶表示装置1を駆動するための画像
供給装置(図示せず)と接続するためのフレキシブル配線基板FPCが設けられ、このフ
レキシブル配線基板FPCは画像供給装置からのデータ線および制御線をドライバICに
接続している。液晶を駆動するVCOM信号、ソース信号、ゲート信号等はドライバIC
内で生成され、それぞれTFT基板2上のコモン線11、ソース線5、ゲート線4に接続
される。また、TFT基板2の四隅には、複数のトランスファ電極101〜104が設け
られている。これらのトランスファ電極101〜104はコモン線11を介して互いに直
接接続ないしはドライバIC内で互いに接続されて同電位となっている。各トランスファ
電極101〜104は後述する対向電極26と電気的に接続され、ドライバICから出力
される対向電極電圧が対向電極26に印加される。
供給装置(図示せず)と接続するためのフレキシブル配線基板FPCが設けられ、このフ
レキシブル配線基板FPCは画像供給装置からのデータ線および制御線をドライバICに
接続している。液晶を駆動するVCOM信号、ソース信号、ゲート信号等はドライバIC
内で生成され、それぞれTFT基板2上のコモン線11、ソース線5、ゲート線4に接続
される。また、TFT基板2の四隅には、複数のトランスファ電極101〜104が設け
られている。これらのトランスファ電極101〜104はコモン線11を介して互いに直
接接続ないしはドライバIC内で互いに接続されて同電位となっている。各トランスファ
電極101〜104は後述する対向電極26と電気的に接続され、ドライバICから出力
される対向電極電圧が対向電極26に印加される。
CF基板25は、ガラス基板の表面にR(赤)、G(緑)、B(青)の3色からなるカ
ラーフィルタと、ブラックマトリクスが形成されている。このCF基板25はTFT基板
2に対向配置されるとともに、ブラックマトリクスが少なくともTFT基板2のゲート線
やソース線に対応する位置に配置され、このブラックマトリクスによって区画された領域
にカラーフィルタが設けられている。これらカラーフィルタ等の具体的な構成は図示しな
いが、図2ではこれらを模式的に第2構造物27として示してある。また、CF基板25
には、更に酸化インジウム、酸化スズ等で構成された透明電極からなる対向電極26が設
けられている。
ラーフィルタと、ブラックマトリクスが形成されている。このCF基板25はTFT基板
2に対向配置されるとともに、ブラックマトリクスが少なくともTFT基板2のゲート線
やソース線に対応する位置に配置され、このブラックマトリクスによって区画された領域
にカラーフィルタが設けられている。これらカラーフィルタ等の具体的な構成は図示しな
いが、図2ではこれらを模式的に第2構造物27として示してある。また、CF基板25
には、更に酸化インジウム、酸化スズ等で構成された透明電極からなる対向電極26が設
けられている。
TFT基板2とCF基板25とは、貼り合わされて両者の間に液晶14を入れるための
スペースが形成されるが、その際にシール材6を用いて液晶14が両基板間から抜け出な
いようにする。シール材6は、TFT基板2の表示領域DAの周囲に注入口(図示せず)
を除いて塗布されている。このシール材6は、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂に絶
縁性粒体のフィラを混入したものである。また、両基板を接続するコンタクト材10aは
例えば表面に金属メッキが施された導電性粒子と熱硬化性樹脂とから構成される。この装
置の組み立て時には、液晶パネルの下方(後方)、すなわちTFT基板2の下方(後方)
に、R(赤)、G(緑)、B(青)色を発光するバックライトBLが配設される。このバ
ックライトBLには、R、G、B色を発光する冷陰極管或いはLEDが使用される。
スペースが形成されるが、その際にシール材6を用いて液晶14が両基板間から抜け出な
いようにする。シール材6は、TFT基板2の表示領域DAの周囲に注入口(図示せず)
を除いて塗布されている。このシール材6は、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂に絶
縁性粒体のフィラを混入したものである。また、両基板を接続するコンタクト材10aは
例えば表面に金属メッキが施された導電性粒子と熱硬化性樹脂とから構成される。この装
置の組み立て時には、液晶パネルの下方(後方)、すなわちTFT基板2の下方(後方)
に、R(赤)、G(緑)、B(青)色を発光するバックライトBLが配設される。このバ
ックライトBLには、R、G、B色を発光する冷陰極管或いはLEDが使用される。
次に、この液晶表示装置の画素構成を図3〜図4を参照して説明する。なお、図3は液
晶表示装置のCF基板を透視して表した1画素分の平面図、図4はCF基板を含む図3の
A−A断面図である。
晶表示装置のCF基板を透視して表した1画素分の平面図、図4はCF基板を含む図3の
A−A断面図である。
TFT基板2の表示領域DA上には、アルミニウムやモリブデン等の金属からなる複数
のゲート線4が等間隔で平行に形成されており、また、隣り合うゲート線4間の略中央に
はゲート線4と同時に補助容量線16が平行に形成され、ゲート線4からはTFTのゲー
ト電極Gが延設されている。更に、TFT基板2上には、ゲート線4、補助容量線16、
ゲート電極Gを覆うようにして窒化シリコンや酸化シリコンなどからなるゲート絶縁膜1
7が積層されている。ゲート電極Gの上にはゲート絶縁膜17を介して非晶質シリコンや
多結晶シリコンなどからなる半導体層19が形成され、またゲート絶縁膜17上にはアル
ミニウムやモリブデン等の金属からなる複数のソース線5がゲート線4と直交するように
して形成されており、このソース線5からはTFTのソース電極Sが延設され、このソー
ス電極Sは半導体層19と接触している。更にまた、ソース線5およびソース電極Sと同
一の材料でかつ同時に形成されたドレイン電極Dがゲート絶縁膜17上に設けられており
、このドレイン電極Dも半導体層19と接触している。
のゲート線4が等間隔で平行に形成されており、また、隣り合うゲート線4間の略中央に
はゲート線4と同時に補助容量線16が平行に形成され、ゲート線4からはTFTのゲー
ト電極Gが延設されている。更に、TFT基板2上には、ゲート線4、補助容量線16、
ゲート電極Gを覆うようにして窒化シリコンや酸化シリコンなどからなるゲート絶縁膜1
7が積層されている。ゲート電極Gの上にはゲート絶縁膜17を介して非晶質シリコンや
多結晶シリコンなどからなる半導体層19が形成され、またゲート絶縁膜17上にはアル
ミニウムやモリブデン等の金属からなる複数のソース線5がゲート線4と直交するように
して形成されており、このソース線5からはTFTのソース電極Sが延設され、このソー
ス電極Sは半導体層19と接触している。更にまた、ソース線5およびソース電極Sと同
一の材料でかつ同時に形成されたドレイン電極Dがゲート絶縁膜17上に設けられており
、このドレイン電極Dも半導体層19と接触している。
ここで、ゲート線4とソース線5とで囲まれた領域が1画素に相当する。そしてゲート
電極G、ゲート絶縁膜17、半導体層19、ソース電極S、ドレイン電極Dによってスイ
ッチング素子となるTFTが構成され、それぞれの画素にこのTFTが形成される。この
場合、ドレイン電極Dと補助容量線16によって各画素の補助容量を形成することになる
。
電極G、ゲート絶縁膜17、半導体層19、ソース電極S、ドレイン電極Dによってスイ
ッチング素子となるTFTが構成され、それぞれの画素にこのTFTが形成される。この
場合、ドレイン電極Dと補助容量線16によって各画素の補助容量を形成することになる
。
これらのソース線5、TFT、ゲート絶縁膜17を覆うようにして例えば無機絶縁材料
からなる保護絶縁膜18が積層され、この保護絶縁膜18上に、有機絶縁膜からなる層間
膜20が積層されている。この層間膜20の表面を、微細な凹凸部が形成される反射部R
と、平坦な透過部Tから構成することにより、反射部RにおいてはCF基板25を通して
入ってくる外光を反射し、透過部TにおいてはバックライトBLからの光を透過できるよ
うにする。なお、図4においては反射部Rにおける層間膜20の凹凸部は省略してある。
そして保護絶縁膜18と層間膜20には、TFTのドレイン電極Dに対応する位置にコン
タクトホール13が形成されている。また、それぞれの画素において、コンタクトホール
13上および層間膜20の表面の一部分には、反射部Rに例えばアルミニウム金属からな
る反射電極R0が設けられ、この反射電極R0の表面および透過部Tにおける層間膜20
の表面には例えばITOからなる画素電極12が形成されている。
からなる保護絶縁膜18が積層され、この保護絶縁膜18上に、有機絶縁膜からなる層間
膜20が積層されている。この層間膜20の表面を、微細な凹凸部が形成される反射部R
と、平坦な透過部Tから構成することにより、反射部RにおいてはCF基板25を通して
入ってくる外光を反射し、透過部TにおいてはバックライトBLからの光を透過できるよ
うにする。なお、図4においては反射部Rにおける層間膜20の凹凸部は省略してある。
そして保護絶縁膜18と層間膜20には、TFTのドレイン電極Dに対応する位置にコン
タクトホール13が形成されている。また、それぞれの画素において、コンタクトホール
13上および層間膜20の表面の一部分には、反射部Rに例えばアルミニウム金属からな
る反射電極R0が設けられ、この反射電極R0の表面および透過部Tにおける層間膜20
の表面には例えばITOからなる画素電極12が形成されている。
次に、図5〜図9を参照して、バックライト光を検出する光検出部および外光を検出す
る外光検出部を説明する。なお、図5はTFT基板を含む光検出部の断面図であり、図6
はTFT光センサの電圧−電流曲線図であり、図7はTFT光センサを使用した光検出部
の回路図であり、また、図8は明るさが異なる場合の図7に示した回路図におけるコンデ
ンサの両端の電圧−時間曲線を示す図であり、図9は光検出部および外光検出部の断面図
である。
る外光検出部を説明する。なお、図5はTFT基板を含む光検出部の断面図であり、図6
はTFT光センサの電圧−電流曲線図であり、図7はTFT光センサを使用した光検出部
の回路図であり、また、図8は明るさが異なる場合の図7に示した回路図におけるコンデ
ンサの両端の電圧−時間曲線を示す図であり、図9は光検出部および外光検出部の断面図
である。
バックライトBLからの光および外光を検出する光検出部LSは、図9に示すように、
R(赤)、G(緑)、B(青)3色のバックライトからの光を検出するR(赤)、G(緑
)、B(青)3色の光検出部LS1および外光検出部LS2で構成されている。これらの
光検出部LS1、LS2の形成位置は、表示領域DA内(シール枠内)に設けられている
。なお、これらの光検出部LS1、LS2をシール枠の外側に設けてもよい。各光検出部
LS1、LS2をシール枠外に設けると、液晶14への影響をなくすることができ、また
、シール枠内に設けると、小型化できる。
R(赤)、G(緑)、B(青)3色のバックライトからの光を検出するR(赤)、G(緑
)、B(青)3色の光検出部LS1および外光検出部LS2で構成されている。これらの
光検出部LS1、LS2の形成位置は、表示領域DA内(シール枠内)に設けられている
。なお、これらの光検出部LS1、LS2をシール枠の外側に設けてもよい。各光検出部
LS1、LS2をシール枠外に設けると、液晶14への影響をなくすることができ、また
、シール枠内に設けると、小型化できる。
これらの光検出部LS1、LS2は、図7に示すように、いずれもTFT光センサと並
列に接続されたコンデンサCおよびTFTからなるスイッチング素子SWを備えた構成を
有している。これらのTFTは、実質的にアクティブマトリクス型液晶パネルのスイッチ
ング素子として用いられているTFTと同一の構成を備えている。
列に接続されたコンデンサCおよびTFTからなるスイッチング素子SWを備えた構成を
有している。これらのTFTは、実質的にアクティブマトリクス型液晶パネルのスイッチ
ング素子として用いられているTFTと同一の構成を備えている。
これらの光検出部LS1、LS2の構造は、図5に示すように、TFT基板2の表面に
、先ず、各光検出部LS1、LS2が形成される箇所にバックライト光の通過を阻止する
遮光層2aが形成される。この遮光層2aは、ブラックマトリクスとして使用される金属
クロム、或いはこの金属クロムに代えてカーボンやチタンをフォトレジストに分散した樹
脂ブラック、或いはニッケルなどの金属材料で形成される。この遮光層2aの上には、T
FT光センサのゲート電極GL、コンデンサCの一方の端子C1および一方のスイッチ素
子SW1を構成するTFTのゲート電極GSが形成され、更にこれらの表面を覆うように
して窒化シリコンや酸化シリコンなどからなるゲート絶縁膜17が積層されている。TF
T光センサのゲート電極GLの上およびスイッチ素子SWを構成するTFTのゲート電極
GSの上部には、それぞれゲート絶縁膜17を介して非晶質シリコンや多結晶シリコンな
どからなる半導体層19Lおよび19Sが形成され、またゲート絶縁膜17上にアルミニ
ウムやモリブデン等の金属からなるTFT光センサのソース電極SLおよびドレイン電極
DL、一方のスイッチ素子SWを構成するTFTのソース電極SSおよびドレイン電極D
Sがそれぞれの半導体層19Lおよび19Sと接触するように設けられている。このうち
、TFT光センサのソース電極SLおよびスイッチ素子SWを構成するTFTのドレイン
電極DSは、互いに延長されて接続されてコンデンサCの他方の端子C2を形成している
。更に、TFT光センサ、コンデンサCおよびスイッチ素子SWの表面を覆うようにして
例えば無機絶縁材料からなる保護絶縁膜18が積層されており、また、スイッチ素子SW
の表面には、外部光の影響を受けないようにするために、ブラックマスク21が被覆され
ている。これらのTFTは、TFT基板のTFTの製造時に同時に形成される。これによ
り、各光検出部LS1、LS2及びスイッチ素子SWを設けるために特に製造工数を増加
させる必要がなくなる。
、先ず、各光検出部LS1、LS2が形成される箇所にバックライト光の通過を阻止する
遮光層2aが形成される。この遮光層2aは、ブラックマトリクスとして使用される金属
クロム、或いはこの金属クロムに代えてカーボンやチタンをフォトレジストに分散した樹
脂ブラック、或いはニッケルなどの金属材料で形成される。この遮光層2aの上には、T
FT光センサのゲート電極GL、コンデンサCの一方の端子C1および一方のスイッチ素
子SW1を構成するTFTのゲート電極GSが形成され、更にこれらの表面を覆うように
して窒化シリコンや酸化シリコンなどからなるゲート絶縁膜17が積層されている。TF
T光センサのゲート電極GLの上およびスイッチ素子SWを構成するTFTのゲート電極
GSの上部には、それぞれゲート絶縁膜17を介して非晶質シリコンや多結晶シリコンな
どからなる半導体層19Lおよび19Sが形成され、またゲート絶縁膜17上にアルミニ
ウムやモリブデン等の金属からなるTFT光センサのソース電極SLおよびドレイン電極
DL、一方のスイッチ素子SWを構成するTFTのソース電極SSおよびドレイン電極D
Sがそれぞれの半導体層19Lおよび19Sと接触するように設けられている。このうち
、TFT光センサのソース電極SLおよびスイッチ素子SWを構成するTFTのドレイン
電極DSは、互いに延長されて接続されてコンデンサCの他方の端子C2を形成している
。更に、TFT光センサ、コンデンサCおよびスイッチ素子SWの表面を覆うようにして
例えば無機絶縁材料からなる保護絶縁膜18が積層されており、また、スイッチ素子SW
の表面には、外部光の影響を受けないようにするために、ブラックマスク21が被覆され
ている。これらのTFTは、TFT基板のTFTの製造時に同時に形成される。これによ
り、各光検出部LS1、LS2及びスイッチ素子SWを設けるために特に製造工数を増加
させる必要がなくなる。
このように構成した光検出部は、TFT光センサが遮光されているとき、図6に示すよ
うに、ゲートオフ領域で非常に僅かな暗電流が流れるが、チャネル部に光が当たるとその
光の強さ(明るさ)に応じて漏れ電流が大きくなるという特性を有している。
うに、ゲートオフ領域で非常に僅かな暗電流が流れるが、チャネル部に光が当たるとその
光の強さ(明るさ)に応じて漏れ電流が大きくなるという特性を有している。
そこで、図7の光検出部の回路図に示したように、TFT光センサのゲート電極GLに
ゲートオフ領域となる一定の逆バイアス電圧(例えば−10V)を印加し、ドレイン電極
DLとソース電極SLとの間にコンデンサCを並列に接続し、一定の基準電圧Vs(例え
ば+2V)をスイッチ素子SWをオンにしてコンデンサCの両端に印加した後、スイッチ
素子SWをオフにすると、コンデンサCの両端の電圧はTFT光センサの周囲の明るさに
応じて図8に示したように時間とともに低下する。したがって、スイッチ素子SWをオフ
にしてから所定時間t0後にコンデンサCの両端の電圧を測定すれば、その電圧とTFT
光センサの周囲の明るさとの間に反比例関係が成立するので、TFT光センサの周囲の明
るさを求めることができる。
ゲートオフ領域となる一定の逆バイアス電圧(例えば−10V)を印加し、ドレイン電極
DLとソース電極SLとの間にコンデンサCを並列に接続し、一定の基準電圧Vs(例え
ば+2V)をスイッチ素子SWをオンにしてコンデンサCの両端に印加した後、スイッチ
素子SWをオフにすると、コンデンサCの両端の電圧はTFT光センサの周囲の明るさに
応じて図8に示したように時間とともに低下する。したがって、スイッチ素子SWをオフ
にしてから所定時間t0後にコンデンサCの両端の電圧を測定すれば、その電圧とTFT
光センサの周囲の明るさとの間に反比例関係が成立するので、TFT光センサの周囲の明
るさを求めることができる。
各光検出部LS1、LS2は、図9に示すように、TFT基板2上に設けられる。これ
らの光検出部のうち、バックライト光を検出する光検出部LS1は、TFT基板2の表面
に、R(赤)、G(緑)、B(青)3色の光源BLR〜BLBからの光を検出する光検出
部LS1R〜LS1Bを有し、これらの光検出部LS1R〜LS1B間には光源BLR〜
BLBからの光が通過できる隙間をあけて配設されている。また、TFT基板2と対向す
るCF基板25の面には、各光検出部LS1R〜LS1Bと対向する位置に外光からの光
の透過を阻止しバックライト光を反射させる反射層25a、25a、25aが形成されて
いる。この反射層は、ブラックマトリクスとして使用される金属クロム、或いはこの金属
クロムに代えてカーボンやチタンをフォトレジストに分散した樹脂ブラック、或いはまた
ニッケルなどの金属材料で形成される。これらの反射層25a、25a、25aの上には
、それぞれR(赤)、G(緑)、B(青)3色のカラーフィルタ層27R〜27Bが設け
られている。各反射層25a、25a、25aおよび各色フィルタ層27R〜27Bは、
各光検出部LS1R〜LS1Bよりその面積が大きくされ、各光源BLR〜BLBからの
光が反射層に反射して、対応する光検出部LS1R〜LS1Bの光センサへ入射されるよ
うになっている。
らの光検出部のうち、バックライト光を検出する光検出部LS1は、TFT基板2の表面
に、R(赤)、G(緑)、B(青)3色の光源BLR〜BLBからの光を検出する光検出
部LS1R〜LS1Bを有し、これらの光検出部LS1R〜LS1B間には光源BLR〜
BLBからの光が通過できる隙間をあけて配設されている。また、TFT基板2と対向す
るCF基板25の面には、各光検出部LS1R〜LS1Bと対向する位置に外光からの光
の透過を阻止しバックライト光を反射させる反射層25a、25a、25aが形成されて
いる。この反射層は、ブラックマトリクスとして使用される金属クロム、或いはこの金属
クロムに代えてカーボンやチタンをフォトレジストに分散した樹脂ブラック、或いはまた
ニッケルなどの金属材料で形成される。これらの反射層25a、25a、25aの上には
、それぞれR(赤)、G(緑)、B(青)3色のカラーフィルタ層27R〜27Bが設け
られている。各反射層25a、25a、25aおよび各色フィルタ層27R〜27Bは、
各光検出部LS1R〜LS1Bよりその面積が大きくされ、各光源BLR〜BLBからの
光が反射層に反射して、対応する光検出部LS1R〜LS1Bの光センサへ入射されるよ
うになっている。
各光源BLR〜BLBからの光は、TFT基板2を通過して、CF基板25の各反射層
25a、25a、25aで反射され、この反射光はそれぞれR、G、Bカラーフィルタ層
27R〜27Bを通過して、各光検出部LS1R〜LS1Bで検出され、図10に示すホ
ワイトバランス調整手段30によって、光量制御回路32a〜32cで各基準値回路31
a〜31cと比較され、この比較結果に基づいて、各バックライト駆動回路34a〜34
cにより、各光源BLR〜BLBの光量が制御される。なお、光量制御回路32a〜32
cおよびバックライト駆動回路34a〜34cは、制御装置35によって制御される。
25a、25a、25aで反射され、この反射光はそれぞれR、G、Bカラーフィルタ層
27R〜27Bを通過して、各光検出部LS1R〜LS1Bで検出され、図10に示すホ
ワイトバランス調整手段30によって、光量制御回路32a〜32cで各基準値回路31
a〜31cと比較され、この比較結果に基づいて、各バックライト駆動回路34a〜34
cにより、各光源BLR〜BLBの光量が制御される。なお、光量制御回路32a〜32
cおよびバックライト駆動回路34a〜34cは、制御装置35によって制御される。
この回路構成において、各光検出部LS1R〜LS1Bでの検出値が基準電圧より低い
ときは、各光源BLR〜BLBに流れる電流を増やすことによって光量を増やして輝度レ
ベルを上げ、反対に高い場合は、そのオーバー分だけ各光源BLR〜BLBに流れる電流
を減少させることによって光量を減らして輝度レベルを低下させる。これにより、各光源
BLR〜BLBに発熱や経時変化等があっても各光源BLR〜BLBが一定の光量を保つ
ようにして、カラー光源BLR〜BLB間の輝度バランス、すなわちホワイトバランスの
崩れを防止することができる。
ときは、各光源BLR〜BLBに流れる電流を増やすことによって光量を増やして輝度レ
ベルを上げ、反対に高い場合は、そのオーバー分だけ各光源BLR〜BLBに流れる電流
を減少させることによって光量を減らして輝度レベルを低下させる。これにより、各光源
BLR〜BLBに発熱や経時変化等があっても各光源BLR〜BLBが一定の光量を保つ
ようにして、カラー光源BLR〜BLB間の輝度バランス、すなわちホワイトバランスの
崩れを防止することができる。
外光検出部LS2は、TFT基板2の表面に光検出部LS1に隣接し設けられる。この
外光検出部LS2と対向するCF基板25の表面は、遮光層およびカラーフィルタ層が除
去されて、外光がCF基板25を透過して外光検出部LS2の光センサLS2Eに入射で
きるようになっている。そして、外光検出部LS2での検出値を図10に示すバックライ
ト制御装置36に入力し、バックライト制御装置36は、入力された外光検出部LS2の
検出値に基づいてバックライトの制御を行う。詳しくはこのバックライト制御装置36は
前記検出値に基づいて各色光源のそれぞれの基準値回路31a〜31cに設定された基準
値を変更することによって、各色光源のホワイトバランスを維持した状態で全体の輝度を
制御するものである。
外光検出部LS2と対向するCF基板25の表面は、遮光層およびカラーフィルタ層が除
去されて、外光がCF基板25を透過して外光検出部LS2の光センサLS2Eに入射で
きるようになっている。そして、外光検出部LS2での検出値を図10に示すバックライ
ト制御装置36に入力し、バックライト制御装置36は、入力された外光検出部LS2の
検出値に基づいてバックライトの制御を行う。詳しくはこのバックライト制御装置36は
前記検出値に基づいて各色光源のそれぞれの基準値回路31a〜31cに設定された基準
値を変更することによって、各色光源のホワイトバランスを維持した状態で全体の輝度を
制御するものである。
なお、本実施例ではTFT基板2の表面に遮光層2aを設けたが、この遮光層2aの代
わりに、TFT光センサの半導体層19L等の下部に設けられた遮光性部材からなるゲー
ト電極GL或いはゲート線Gを太くして遮光手段としても良い。
わりに、TFT光センサの半導体層19L等の下部に設けられた遮光性部材からなるゲー
ト電極GL或いはゲート線Gを太くして遮光手段としても良い。
1 カラー液晶表示装置
2 アクティブマトリクス基板
6 シール材
14 液晶層
25 カラーフィルタ基板
25a 反射層
27R〜27B カラーフィルタ層
30 ホワイトバランス調整手段(光量調整手段)
BL バックライト
BLR〜BLB 光源
LS 光検出部
LS1 (バックライト)光検出部
LS2 外光検出部
2 アクティブマトリクス基板
6 シール材
14 液晶層
25 カラーフィルタ基板
25a 反射層
27R〜27B カラーフィルタ層
30 ホワイトバランス調整手段(光量調整手段)
BL バックライト
BLR〜BLB 光源
LS 光検出部
LS1 (バックライト)光検出部
LS2 外光検出部
Claims (6)
- 光透過性を有するアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とをシール枠を介在
して貼り合わせて間に空間を形成し、この空間に液晶を封入したカラー液晶パネルと、前
記アクティブマトリクス基板の背面に配設して前記カラー液晶パネルを照明する照光手段
とを備えたカラー液晶表示装置において、
前記照光手段を発光色の異なる複数の光源で構成し、前記各色の光源からの光をそれぞ
れ検出する光センサを有する光検出部を前記アクティブマトリクス基板に設け、前記光検
出部と対向するカラーフィルタ基板の表面には、前記各色の光源の光を反射させる反射層
を介して前記各色の光源に対応した各色のカラーフィルタ層を設けたことを特徴とするカ
ラー液晶表示装置。 - 前記光検出部は、各色の光源の光量を調整する光量調整手段に接続されていることを特
徴とする請求項1に記載のカラー液晶表示装置。 - 前記アクティブマトリクス基板は、その表面に外光を検出する光センサを有する外光検
出部が設けられ、前記カラーフィルタ基板は、前記外光検出部と対向する基板表面の前記
反射層が除去されていることを特徴とする請求項1に記載のカラー液晶表示装置。 - 前記光検出部および前記外光検出部は、前記カラー液晶パネルの前記シール枠の外側又
は内側に設けられていることを特徴とする請求項1又は3に記載のカラー液晶表示装置。 - 前記光検出部の光センサは、薄膜電界効果トランジスタからなり、該薄膜電界効果トラ
ンジスタは前記アクティブマトリクス基板の製造工程において前記カラー液晶パネルのス
イッチング素子としての薄膜電界効果トランジスタと同時に形成されていることを特徴と
する請求項1又は3に記載のカラー液晶表示装置。 - 前記カラー液晶パネルは、透過型又は半透過型液晶表示パネルであることを特徴とする
請求項1〜5のいずれかに記載のカラー液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006135655A JP2007304520A (ja) | 2006-05-15 | 2006-05-15 | カラー液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006135655A JP2007304520A (ja) | 2006-05-15 | 2006-05-15 | カラー液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007304520A true JP2007304520A (ja) | 2007-11-22 |
Family
ID=38838471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006135655A Withdrawn JP2007304520A (ja) | 2006-05-15 | 2006-05-15 | カラー液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007304520A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009072428A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Sony Corporation | 表示装置 |
JP2009157349A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-07-16 | Sony Corp | 表示装置 |
CN101814276A (zh) * | 2009-02-23 | 2010-08-25 | 统宝光电股份有限公司 | 显示装置以及具有该显示装置的电子设备 |
US9477105B2 (en) | 2014-04-01 | 2016-10-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
CN107025848A (zh) * | 2017-06-05 | 2017-08-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板、显示装置及制作方法 |
WO2019000973A1 (zh) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板、显示装置 |
-
2006
- 2006-05-15 JP JP2006135655A patent/JP2007304520A/ja not_active Withdrawn
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009072428A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Sony Corporation | 表示装置 |
JP2009157349A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-07-16 | Sony Corp | 表示装置 |
CN101814276A (zh) * | 2009-02-23 | 2010-08-25 | 统宝光电股份有限公司 | 显示装置以及具有该显示装置的电子设备 |
JP2010197418A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Toppoly Optoelectronics Corp | ディスプレイ装置及びこれを備える電子機器 |
US8629862B2 (en) | 2009-02-23 | 2014-01-14 | Innolux Corporation | Display with pseudo photo sensor |
US9477105B2 (en) | 2014-04-01 | 2016-10-25 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
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