JP2007235033A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】可動バット７０Ａがノズルバット４５の処理空間ＰＳ側上端部に軸支されて可動バット７０Ａのノズルバット４５側端部を回動中心として回動自在となっている。薬液ノズル４が隙間領域ＧＲの直上を移動する際には、ドラム６が上位置Ｐ６２とされ隙間領域ＧＲに移動され、可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１をとって移動中の薬液ノズル４から落下した薬液を受け止めノズルバット４５に案内する。その一方で、ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３とされ隙間領域ＧＲを越えて上方に移動される際には、ノズルの移動が禁止されるとともに可動バット７０Ａが退避姿勢Ｐ７２をとる。
【選択図】図１

Description

この発明は、基板に処理液を供給することによって基板に所定の処理を施す基板処理装置に関する。なお、基板には半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示器用ガラス基板、プラズマ表示器用ガラス基板、光ディスク用基板などの各種基板が含まれる。

半導体装置や液晶表示装置などの製造工程では、基板に処理液を供給することによって基板上に不所望に形成される薄膜（不要物）をエッチング除去したり、基板上に所定の厚みを有する被膜を形成することが行われることがある。このような処理を基板に施す装置として、例えば基板上に一定膜厚の被膜を形成するために、特許文献１に記載された基板処理装置が提案されている。

この基板処理装置では、スピンチャックによって基板がほぼ水平な状態で保持される。スピンチャックには、鉛直方向に伸びる回転軸が取り付けられており、この回転軸をモータで回転駆動することで、スピンチャックが基板を保持したまま回転して基板を回転させている。また、ノズルがスピンチャックの上方の空間（処理空間）で基板に塗布液などの処理液を供給する供給位置（処理位置）と、該空間の側方の待機位置との間を移動可能に構成されており、ノズルを供給位置に移動させるとともに該ノズルに処理液を圧送することで、基板中心（基板の上面の回転中心）付近に処理液を供給する。このとき、基板上面の中心付近に供給された処理液は、基板の回転に伴う遠心力の作用により拡散して基板上面に一定膜厚の被膜を形成する。ここで、基板から飛散した処理液はスピンチャックの周囲に配設されたカップによって回収される。具体的には、上カップの内周面に形成された傾斜面によって処理液が下カップの底面に形成された排液ゾーンに案内され、排液ゾーンからドレインタンクに回収される。

特開平１０−２７０３１８号公報（図１）

ところで、ノズルが処理空間の側方の待機位置に待機している間はノズルへの処理液の圧送は停止されるが、ノズルから吐出されずにノズル内に残った処理液が液だれを起こしてノズルから落下する場合がある。そこで、このような処理液を回収するために待機位置の下方に処理液を回収するために容器がカップの外側に配設されることがある。

しかしながら、このような容器を設けることによって待機位置で待機しているノズルから処理液が落下したとしても該処理液を回収することが可能となるものの、移動中のノズルから落下する処理液については回収不能である。すなわち、ノズルが供給位置と待機位置との間を移動する際に処理液がノズルから落下した場合には、カップと容器との隙間を通って装置内部に入り込むことがあった。その結果、処理液の種類によっては装置を腐食させたり、落下した処理液がパーティクル等の発塵源となることがあった。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。

この発明にかかる基板処理装置は、処理空間で基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置であって、上記目的を達成するため、基板に処理液を供給可能なノズルと、処理空間で基板の上方から基板に処理液を供給する処理位置と、処理空間から側方に離間した待機位置とを結ぶノズル移動経路に沿ってノズルを移動させる移動機構と、待機位置の下方で、しかも処理空間から側方に離間した位置に固定配置され、待機位置に待機しているノズルから落下する処理液を回収する容器と、処理空間と容器との隙間領域を通じて上下方向に昇降自在に設けられた昇降部材と、処理空間と容器とを橋渡可能な形状を有し、ノズル移動経路の下方位置で処理空間と容器とを橋渡しして隙間領域を覆う橋渡姿勢と、昇降部材の昇降経路から退避した退避姿勢とに切換自在に設けられた可動部材とを備え、ノズルが隙間領域の直上を移動している際には、昇降部材が隙間領域または該隙間領域よりも下方に移動されるとともに可動部材は橋渡姿勢をとって移動中のノズルから落下した処理液を受け止め容器に案内する一方、昇降部材が隙間領域を越えて上方に移動される際には、隙間領域の直上でのノズルの移動は禁止されるとともに可動部材は退避姿勢をとることを特徴としている。

このように構成された発明では、ノズルが処理位置と待機位置とを結ぶノズル移動経路に沿って移動する際にノズルから処理液が落下する場合であっても、ノズル移動経路の下方位置で処理空間と容器とを橋渡しする可動部材によって、ノズルから落下する処理液が受け止められ該処理液が容器に案内される。これにより、ノズルから落下した処理液が処理空間と容器との隙間領域を通って装置内部に入り込むのが防止される。したがって、ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下した処理液によって装置が腐食したり、パーティクル等を発塵させるなどの不具合が発生するのを防止することができる。

さらに、可動部材は２つの姿勢の間で切換え自在に構成されているので、次のような優れた作用効果が得られる。すなわち、単にノズル移動経路に沿って移動中のノズルから落下する処理液を回収することを考えると、ノズル移動経路の下方位置で処理空間と容器とを橋渡しする橋渡し部材を固設してノズルから落下する処理液を受け止めるようにすればよい。しかしながら、このような構成を採用した場合には、隙間領域を通じて上下方向に昇降する昇降部材が存在する場合に、昇降部材が隙間領域を越えて上方に移動される際に橋渡し部材が障害となったり、橋渡し部材を破損させてしまうこととなる。例えば従来装置では、処理液の飛散を防止するカップが上カップと下カップとを備え、上カップが下カップに嵌め込まれている。ここで、処理空間と待機位置の下方に設けた容器との隙間領域に橋渡し部材を固設した場合には、昇降部材として上カップを隙間領域の上方位置に移動させる、あるいは上カップを持ち上げて取り外す際に、橋渡し部材と上カップとが干渉して上カップを上昇させることができなかったり、橋渡し部材を破損させてしまう。

また、橋渡し部材を隙間領域に脱着可能に取り付けることも考えられるが、このような構成を採用した場合には、昇降部材が隙間領域を通じて昇降される際に、昇降のたびに橋渡し部材を脱着する必要があり、処理が煩雑になるばかりか装置のメンテナンス性を劣化させてしまう。また、橋渡し部材を取り外した場合に、橋渡し部材の装置への取り付けを忘れたまま誤って装置を稼動するなど人為的ミスを誘発するおそれもある。

そこで、本発明では、可動部材（橋渡し部材）を２つの姿勢の間で切換えることで、上記した課題を解消している。すなわち、隙間領域を通じて上下方向に昇降される昇降部材が存在する場合であっても、ノズルが隙間領域の直上を移動している際には、昇降部材が隙間領域または該隙間領域よりも下方に移動されるとともに可動部材を橋渡姿勢として移動中のノズルから落下する処理液を受け止めて容器に案内する一方、昇降部材が隙間領域を越えて移動される際には、隙間領域の直上でのノズルの移動が禁止されるとともに可動部材を昇降部材の昇降経路から退避した退避姿勢とすることで昇降部材の移動を妨げないようにしている。このため、昇降部材を隙間領域において昇降させる際の課題を回避しながら、ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる。

昇降部材としては、例えば処理空間を取り囲むように形成された中空の部材を用いることができ、このような昇降部材を隙間領域よりも下方に移動させることで処理空間内の雰囲気を外部雰囲気から遮断することが可能となる。これにより、外部雰囲気からミスト状の処理液などが処理空間に侵入するのを防止することができる。

また、可動部材は橋渡姿勢においてノズル移動経路を下方から臨む案内面を有し、橋渡姿勢では、案内面が水平面に対し容器側に向けて傾斜するように構成すると、案内面上の処理液を該処理液の自重によって容器に案内することができ、ノズルから落下する処理液を容器に自動的に回収することができる。

ここで、可動部材に対して独立した駆動機構を設けて、該駆動機構を作動させることで昇降部材の昇降に合わせて可動部材を可動させるようにしてもよいし、昇降部材が昇降する駆動力を利用して可動部材を可動させるようにしてもよい。前者の場合には、可動部材を昇降部材と非接触に可動させることができる。後者の場合には、例えば昇降部材の上端部に可動部材と当接可能な当接部位を備えるとともに、可動部材の容器側端部を容器の処理空間側上端部に軸支させて可動部材の容器側端部を回動中心として容器に対して回動自在に構成すればよい。この構成により昇降部材が隙間領域を越えて上昇して当接部位が可動部材と当接しながら上方に押圧することで可動部材が回動して橋渡姿勢から退避姿勢に切換えられる。これにより、可動部材に独立した駆動機構を設けることなく、簡易に可動部材を橋渡姿勢から退避姿勢に切換えることができる。特に、装置のメンテナンスを実施する場合にのみ昇降部材が隙間領域を越えて移動される場合には、昇降部材と可動部材との摺動による影響も軽微なことからこのような簡易な構成を採用することで装置の部品点数を削減しながらプロセス性能を十分に発揮することができる。

さらに、このように昇降部材と可動部材とが互いに接触する構成を採用した場合でも、次のように構成することで、昇降部材と可動部材との摺動による影響を低減することができる。すなわち、可動部材が橋渡姿勢で隙間領域を塞ぐ閉塞面に対して回転自在に取り付けられたローラを備えるようにして、昇降部材が隙間領域を越えて上昇したときにローラを回転させながら可動部材を上方に押圧することが好ましい。この構成によれば、昇降部材と可動部材との摺動による発塵を抑制してスムーズに可動部材を昇降部材に対して移動させることができる。さらに、このようなローラを可動部材に複数個設けるとともに、該複数のローラを容器側端部から処理空間側端部に配列させることにより、各ローラ径を小さくして各ローラをコンパクトに構成しながらも、昇降部材と可動部材との摺動による発塵を抑えつつ、可動部材を橋渡姿勢と退避姿勢とに切換えることができる。

その一方で、昇降部材においても、当接部位として昇降部材の容器側上端部位を可動部材に向けて凸面形状となるように仕上げることが好ましい。これにより、可動部材との摩擦を抑え、昇降部材の昇降とともに可動部材をスムーズに移動させることができる。

また、可動部材がその自重により退避姿勢から橋渡姿勢に付勢される基板処理装置におては、可動部材を橋渡姿勢に係止するストッパをさらに設けることが好ましい。この構成によれば、昇降部材が隙間領域または該隙間領域の下方に移動する場合であっても、ストッパで規定される所望の姿勢で可動部材を係止させることができる。つまり、昇降部材の位置にかかわりなく、橋渡姿勢として処理液を容器に案内するために適切な姿勢で可動部材の姿勢（水平面からの傾斜角）を調整することができる。

この発明によれば、可動部材が処理空間と容器とを橋渡しして処理空間と容器との隙間領域を覆う橋渡姿勢と、昇降部材の昇降経路から退避した退避姿勢とに切換自在に設けられている。そして、ノズルが隙間領域の直上に移動している際には、昇降部材が隙間領域または該隙間領域よりも下方に移動されるとともに可動部材が橋渡姿勢をとることで、ノズルから落下する処理液が受け止められ容器に案内される。これにより、ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下した処理液が隙間領域を通って装置内部に入り込むのを防止して、装置が腐食したり、パーティクル等を発塵させるなどの不具合が発生するのを防止することができる。その一方で、昇降部材が隙間領域を越えて上方に移動される際には、隙間領域の直上でのノズルの移動が禁止されるとともに可動部材が退避姿勢をとることで、可動部材が障害となったり、可動部材を破損させるようなことがない。したがって、昇降部材を隙間領域において昇降させる際の課題を回避しながら、ノズルが処理位置と待機位置との間を移動する際にノズルから落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる。

図１は、この発明にかかる基板処理装置の一実施形態を示す図である。図２は、図１の基板処理装置を上方から見た平面図である。図３は、図１の基板処理装置の制御構成を示すブロック図である。この基板処理装置は、長方形の角型基板である液晶表示器（ＬＣＤ）用ガラス基板Ｓ（以下、単に「基板Ｓ」という）に処理液として希フッ酸等の薬液を供給して該基板Ｓの上面に不所望に形成された酸化膜等の薄膜（不要物）をエッチング除去した後にオゾン水を供給して均一な酸化膜を形成した後、基板Ｓに純水を供給して洗浄処理する装置である。

この装置は、図１に示すように、基板Ｓを略水平姿勢で保持して回転させるスピンチャック（基板保持部）１を有している。スピンチャック１は、回転支柱１１がモータを含むチャック回転機構１２の回転軸に連結されており、チャック回転機構１２の駆動により鉛直方向に伸びる回転軸Ｊ回りに回転可能となっている。この回転支柱１１の上端部には、基板支持板１３が一体的にネジなどの締結部品によって連結されている。したがって、装置全体を制御する制御ユニット１００からの動作指令に応じてチャック回転機構１２を駆動させることにより基板支持板１３が回転軸Ｊ回りに回転する。

スピンチャック１は、基板支持板１３の上面に固着されて基板Ｓの周縁部を支持する周縁支持ピン１４と、基板支持板１３の上面に固着されて基板Ｓの下面中央部を支持する中央支持ピン１５とを備えている。また、スピンチャック１は、エッチング処理を実行することを考慮して耐薬品性樹脂で構成されている。

スピンチャック１は、円筒形状のカップ２内に収容されている。カップ２は、スピンチャック１の周囲を取り囲んでいて、基板Ｓに対して供給される希フッ酸等の薬液や、オゾン水または純水等の洗浄液（以下「処理液」という）が飛散することを防止する。カップ２の底部中央領域は回転支柱１１を取り囲むようにカップ２の底部から円錐台状に上方に向けて盛り上がっており、カップ２の底部に立設された筒状の仕切部材２１と対向する内周壁を形成している。そして、この仕切部材２１とカップ２の内周壁とによって平面視でリング状の第１の排液槽２２が形成されている。また、仕切部材２１とカップ２の外周壁とによって平面視でリング状の第２の排液槽２３が形成されている。

第１の排液槽２２の底部には排液管２４に接続された第１の排液口２２ａが設けられている。同様にして、第２の排液槽２３の底部には排液管２５に接続された第２の排液口２３ａが設けられている。そして、排液管２４，２５から排液された処理液は貯留部２６に導かれる。貯留部２６としては、例えば気液分離容器等を設ければ良く、気液分離容器内に排液された処理液を気体成分と液体成分とに分離し、別々の経路を通して廃棄する。あるいは、各成分を回収（および必要により精製）して再利用してもよい。なお、気液分離容器により分離された気体成分と液体成分は、別々の経路を通して系外へ排出してもよい。

第１および第２の排液槽２２、２３の上方には、スピンチャック１に保持された基板Ｓの周囲を包囲するように回転軸Ｊに対して略回転対称な形状を有するセパレータ３がカップ２内に昇降自在に設けられている。セパレータ３は、セパレータ昇降機構３１と接続され、制御ユニット１００からの動作指令に応じてセパレータ昇降機構３１の昇降駆動用アクチェータ（例えばエアシリンダーなど）を作動させることで、セパレータ３をスピンチャック１に対して鉛直方向に昇降させることが可能となっている。セパレータ３は、スピンチャック１に保持された基板Ｓを円環状に包囲するように筒状に配設され、基板支持板１３と同心円状に内方から外方に向かって配された２つのガード部材３２、３３からなる２段構造を備えている。これら２つのガード部材３２、３３は、内方のガード部材３２が外方のガード部材３３に対して高さが低くなるように配設されている。

径方向内側に位置するガード部材３２は、回転軸Ｊに対して回転対称な形状を有し、径方向外側に向かって斜め下方に傾斜した傾斜部３２ａが形成されるとともに傾斜部３２ａの下端部には基板支持板１３と同心円状に円筒形状に形成され鉛直方向に伸びる垂直部３２ｂ、３２ｃが連なっている。各垂直部３２ｂ、３２ｃは、その上端で傾斜部３２ａの下端部を介して連結されており、この連結部分には円周方向に垂直部３２ｂと垂直部３２ｃとの間に円環状の溝３２ｄが形成されている。この溝３２ｄが仕切部材２１に嵌入されるとともに、垂直部３２ｂが第１の排液槽２２内に、垂直部３２ｃが第２の排液槽２３内に嵌入されるように、ガード部材３２が配置されている。

一方で、径方向外側に位置するガード部材３３は、ガード部材３２の上方にガード部材３２から所定の間隔を隔てて、回転軸Ｊに対して回転対称な形状を有し、径方向外側に向かって斜め下方に傾斜した傾斜部３３ａが形成されるとともに傾斜部３３ａの下端部には基板支持板１３と同心円状に円筒形状に形成され鉛直方向に伸びる垂直部３３ｂが連なっている。

このような構成により、スピンチャック１に保持された基板Ｓの高さ位置に、ガード部材３２が位置しているとき、すなわち、セパレータ３がセパレータ昇降機構３１により上昇されたとき、回転される基板Ｓから振り切られる処理液が傾斜部３２ａで受け止められ、垂直部３２ｂに沿って第１の排液槽２２に導かれる。その一方で、スピンチャック１に保持された基板Ｓの高さ位置に、ガード部材３３が位置しているとき、すなわち、セパレータ３がセパレータ昇降機構３１により下降されたとき、回転される基板Ｓから振り切られる処理液がガード部材３２とガード部材３３との間の空間を通って傾斜部３３ａで受け止められ、垂直部３３ｂに沿って第２の排液槽２３に導かれる。

この実施形態では、基板Ｓに対して希フッ酸等の薬液を供給する際にはセパレータ３を上昇させ、基板Ｓから振り切られる薬液を第１の排液槽２２に導く一方で、基板Ｓに対してオゾン水または純水等の洗浄液を供給する際にはセパレータ３を下降させ、基板Ｓから振り切られる洗浄液を第２の排液槽２３に導くようにしている。そして、第１の排液槽２２に導かれ回収された薬液は、第１の排液槽２２から排液管２４を介して貯留部２６に排液され、再利用に供される一方、第２の排液槽２３に導かれ回収された洗浄液は、第２の排液槽２３から排液管２５を介して貯留部２６に排液され、廃水処理される。

また、カップ２の上部中央領域には開口２ｃが形成されており、開口２ｃを介してスピンチャック１に保持された基板Ｓに対して処理液として薬液および洗浄液を供給すべく、薬液ノズル４および洗浄液ノズル５がそれぞれスピンチャック１の上方の処理空間ＰＳに配置可能とされている。これら薬液ノズル４および洗浄液ノズル５は、それぞれ薬液ノズル移動機構４１および洗浄液ノズル移動機構５１により移動可能とされている（図２）。

薬液ノズル４の胴部には支持アーム４２が取り付けられ、薬液ノズル４は支持アーム４２ごと薬液ノズル移動機構４１によって揺動および昇降される。すなわち、制御ユニット１００の動作指令に応じて薬液ノズル移動機構４１が駆動されることで、処理空間ＰＳで基板Ｓの上方から基板Ｓに薬液を供給する処理位置Ｐ４１（図１の実線で示す位置）と、処理空間ＰＳから側方に離間した待機位置Ｐ４２（図１の破線で示す位置）とを結ぶノズル移動経路ＭＲ１に沿って薬液ノズル４が移動可能とされている。具体的には、支持アーム４２の昇降によって基板Ｓに対して薬液ノズル４が接離されるとともに、図２に示すように、旋回によって処理空間ＰＳで回動軸Ｐａ回りに揺動可能となっている。また、薬液ノズル４は、薬液供給ユニット４３と接続されており、制御ユニット１００からの動作指令に応じて薬液供給ユニット４３から薬液が圧送されると、薬液ノズル４の吐出口から薬液が吐出され、基板Ｓの上面に薬液が供給される。

一方、洗浄液ノズル５を駆動する洗浄液ノズル移動機構５１も薬液ノズル移動機構４１とほぼ同様な構成を有している。すなわち、洗浄液ノズル５の胴部には支持アーム５２が取り付けられ、制御ユニット１００の動作指令に応じて洗浄液ノズル移動機構５１が駆動されることで、支持アーム５２が回動軸Ｐｂ回りに揺動および昇降される。これにより、洗浄液ノズル５が処理空間ＰＳで基板Ｓの上方から基板Ｓに洗浄液を供給する処理位置Ｐ５１と、処理空間ＰＳから側方に離間した待機位置Ｐ５２とを結ぶノズル移動経路ＭＲ２に沿って移動可能とされている。また、洗浄液ノズル５は、洗浄液供給ユニット５３と接続されており、制御ユニット１００からの動作指令に応じて洗浄液供給ユニット５３から洗浄液が圧送されると、洗浄液ノズル５の吐出口から洗浄液が吐出され、基板Ｓの上面に洗浄液が供給される。このように、この実施形態によれば、薬液ノズル４および洗浄液ノズル５が本発明の「ノズル」として、薬液ノズル移動機構４１および洗浄液ノズル移動機構５１が本発明の「移動機構」として機能している。

待機位置Ｐ４２、Ｐ５２に待機されている薬液ノズル４および洗浄液ノズル５の下方には、これらノズルから落下する薬液および洗浄液を回収するためにノズルバット４５、５５がそれぞれ設けられている。これらノズルバット４５、５５は処理空間ＰＳから側方に離間したカップ２の外側（カップ２に対して上方）に固定配置されている。これにより、待機位置Ｐ４２、Ｐ５２に待機されている薬液ノズル４および洗浄液ノズル５からそれぞれ、処理液（薬液および洗浄液）が落下する場合であっても、カップ２などに処理液を付着させることなく回収可能となっている。また、ノズルバット４５、５５は薬液ノズル４および洗浄液ノズル５からプリ吐出される処理液を回収するためにも用いられる。このように、この実施形態によれば、ノズルバット４５、５５が本発明の「容器」として機能している。

ノズルバット４５、５５は、上面が開口された箱型の容器によって構成されており、その内部に待機位置Ｐ４２、Ｐ５２に待機されている薬液ノズル４および洗浄液ノズル５の胴部周囲を収容可能な空間を有する。ノズルバット４５、５５の下部側方にはそれぞれ、回収した薬液および洗浄液を外部に排出してドレインラインに導くための排出管４６、５６が設けられている（図２）。

カップ２の上部中央領域に形成された開口２ｃは、回転軸Ｊを中心に基板支持板１３の径よりも大きな略円形に開口されており、開口２ｃの周囲にはカップ２の上面より上方に立ち上がった円環部２ｄが設けられている。この円環部２ｄの内部空間を介してドラム６が上下方向に昇降自在に配設されている。ドラム６はドラム昇降機構６５と接続され、ドラム昇降機構６５の昇降駆動用アクチェータを作動させることで、ドラム６をスピンチャック１に近接させたり、逆にスピンチャック１の上方に離間させることが可能となっている。具体的には、制御ユニット１００はドラム昇降機構６５を作動させることで、下位置Ｐ６１、上位置Ｐ６２およびメンテナンス位置Ｐ６３の３段階にドラム６の高さ位置を変更可能となっている。

ドラム６は、処理空間ＰＳを取り囲むように中空の円筒状部材で構成されている。ドラム６の内径は基板Ｓの最大回転径よりも若干大きく形成されており、ドラム６が下位置Ｐ６１（図１の一点破線で示す位置）、つまりドラム６の下端部が基板Ｓの側方近傍に位置するまで下降されることで、基板Ｓの上方の処理空間ＰＳ内の雰囲気を外部雰囲気（カップ２内の外縁空間）から遮断することが可能となっている。また、ドラム６が下位置Ｐ６１より上方の上位置Ｐ６２（図１の実線で示す位置）、つまりドラム６の下端部とカップ２の上部とが略同じ高さとなる位置に移動されることで、ドラム６がスピンチャック１の上方に退避する。これにより、基板Ｓから振り切られる処理液をセパレータ３を介して第１または第２の排液槽２２、２３に回収可能となっている。ここで、ドラム６が下位置Ｐ６１および上位置Ｐ６２に移動される際には、ドラム６は処理空間ＰＳとノズルバット４５、５５との隙間領域ＧＲまたは隙間領域ＧＲよりも下方に位置する。

さらに、ドラム６が上位置Ｐ６２より上方のメンテナンス位置Ｐ６３（図１の二点破線で示す位置）、つまりドラム６の下端部がカップ２の円環部２ｄの上端より上方に位置するように移動されることで、ドラム６がカップ２に対して上方に離間する。これにより、装置のメンテナンスを実行することが可能となる。ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３に移動されると、ドラム６は隙間領域ＧＲを越えて上方に位置することとなる。このように、この実施形態によれば、ドラム６が本発明の「昇降部材」として機能している。

薬液ノズル４が処理位置Ｐ４１と待機位置Ｐ４２とを結ぶノズル移動経路ＭＲ１に沿って移動されるとき、薬液ノズル４への薬液の圧送は停止されるが、ノズル内に残った薬液が液だれを起こして移動中に落下することがある。そこで、ノズル移動経路ＭＲ１の下方に処理空間ＰＳとノズルバット４５とを橋渡しする可動バット７０Ａが設けられている。同様にして、洗浄液ノズル５が処理位置Ｐ５１と待機位置Ｐ５２とを結ぶノズル移動経路ＭＲ２に沿って移動されるとき、洗浄液ノズル５への洗浄液の圧送は停止されるが、ノズル内に残った洗浄液が移動中に落下することがあるため、ノズル移動経路ＭＲ２の下方に処理空間ＰＳとノズルバット５５とを橋渡しする可動バット７０Ｂが設けられている。なお、この実施形態では可動バット７０Ａ、７０Ｂは基本的に同一構成を有しているため、薬液ノズル４に対して設けられた可動バット７０Ａについてのみ説明する。

図４は、図１の基板処理装置の要部を示す図である。具体的には、図４（ａ）はノズルバット周辺の平面図であり、図４（ｂ）はその側面図である。可動バット７０Ａは、処理空間ＰＳとノズルバット４５とを橋渡可能な板状に形成され、ノズルバット４５の処理空間ＰＳ側の上端部４５ａに回動自在に軸支されている。すなわち、可動バット７０Ａは、ノズルバット側端部７ａを回動中心として回動軸Ｐｃ回りにノズルバット４５に対して回動自在とされている。これにより、可動バット７０Ａは、ノズル移動経路ＭＲ１の下方位置で処理空間ＰＳとノズルバット４５とを橋渡しして隙間領域ＧＲを覆う橋渡姿勢Ｐ７１と、ドラム６の昇降経路ＥＲから退避した退避姿勢Ｐ７２とに切換自在となっている。可動バット７０Ａは、その自重により退避姿勢Ｐ７２から橋渡姿勢Ｐ７１に向けて付勢されており、退避姿勢Ｐ７２から橋渡姿勢Ｐ７１には外部からの駆動力を要することなく自動的に切換えられる。このように、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂが本発明の「可動部材」として機能している。

可動バット７０Ａのノズルバット側端部７ａの近辺には可動バット７０Ａを橋渡姿勢Ｐ７１に係止するストッパ８が設けられている。ストッパ８はノズルバット４５の処理空間ＰＳ側の上端部４５ａに配設され、ノズルバット４５が隙間領域ＧＲを塞ぐ閉塞面Ｓｌ（図４（ｂ）において、下方側に向けられた面）に当接することで可動バット７０Ａを橋渡姿勢Ｐ７１に係止可能となっている。

図５は、ストッパの構成を示す側面図である。ストッパ８は、可動バット７０Ａのノズルバット側端部７ａと当接可能なボルト８１と、ボルト８１のねじ溝と螺合可能なねじ孔８２ａが上下方向に形成された固定部８２とを備えている。ボルト８１はその先端部が可動バット７０Ａの閉塞面Ｓｌに当接することによって可動バット７０Ａを支持可能となっている。固定部８２はノズルバット４５と一体的に形成してもよいし、ノズルバット４５と別体でノズルバット４５に固着するようにしてもよい。このような構成によりボルト８１を正逆方向に回転させてボルト８１の高さを変更することで、ノズルバット４５を回動軸Ｐｃ回りに回動させて橋渡姿勢Ｐ７１とされた可動バット７０Ａの姿勢（水平面に対する傾斜角）を調整可能となっている。ここでは、橋渡姿勢Ｐ７１においてノズル移動経路ＭＲ１を下方から臨む案内面Ｓｕ（図４（ｂ）において、上方側に向けられた面）が、橋渡姿勢Ｐ７１で水平面に対してノズルバット４５に向けて傾斜するように可動バット７０Ａの姿勢が調整されている。このような傾斜角は薬液の自重によって薬液がノズルバット４５に流下する程度の角度に設定される。

図４に戻って、説明を続ける。可動バット７０Ａの案内面Ｓｕには、平面視でノズル移動経路ＭＲ１に対して両側にガイド７１が設けられている。ガイド７１は、移動中の薬液ノズル４から案内面Ｓｕに落下した薬液がドラム６上あるいは隙間領域ＧＲに落下することのないように、薬液をノズルバット４５に導く。これにより、案内面Ｓｕ上の薬液はその自重により全てノズルバット４５に案内される。

可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１をとると、隙間領域ＧＲが閉塞面Ｓｌによって覆われるが、ドラム６が隙間領域ＧＲを越えてメンテナンス位置Ｐ６３に移動されるときには、可動バット７０Ａがドラム６と当接しながら押し上げられる。すなわち、ドラム６が上昇してドラム６が可動バット７０Ａと当接しながら上方に押圧することで、ドラム６と可動バット７０Ａとが摺接しながら可動バット７０Ａが回動して橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えられる。そこで、可動バット７０Ａとドラム６との摺動による影響を低減するために以下の工夫がなされている。

可動バット７０Ａの一方の側面には、閉塞面Ｓｌに対して回転自在なローラ７２が複数個（この実施形態では４個）取り付けられている。これら複数のローラ７２は、可動バット７０Ａのノズルバット側端部７ａから処理空間側端部７ｂにかけて配列されている。

図６は、ローラの構成を示す図である。図６（ａ）はローラの構成を示す平面図であり、図６（ｂ）はその側面図である。各ローラ７２は可動バット７０Ａに固設された回転支軸７３に正逆方向の両方向に回転自在に支持されている。回転支軸７３は、可動バット７０Ａの回動軸と略平行に伸びるように構成されている。ローラ７２は、耐摩耗性に優れた材料、例えばＵＰＥ（ｕｌｔｒａ ｈｉｇｈ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｗｅｉｇｈｔ ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ，ＵＨＭＷ−ＰＥ）等により形成するのが好ましい。

また、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、ドラム６には、そのノズルバット側上端部位に可動バット７０Ａに取り付けられたローラ７２と当接可能な当接部位６１が形成されている。ドラム６の上端部位は側面視でコ字状に屈曲しており、ドラム６が下位置Ｐ６１に移動される際に屈曲部と円筒状に形成された垂直部との間にカップ２の円環部２ｄが嵌入されるように構成されている。当接部位６１は、この屈曲部の外面を覆うようにローラ７２との当接部分全体に形成されている。この当接部位６１は、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）にて形成されるとともに、可動バット７０Ａに向けて凸面形状となるように曲面に仕上げられている。

次に、上記のように構成された基板処理装置の動作について図７および図８を参照しつつ説明する。ここでは、スピンチャック１に保持された基板Ｓに対して処理液として希フッ酸を供給して基板Ｓの上面に不所望に形成された酸化膜等の薄膜をエッチング除去した後にオゾン水を供給して均一な酸化膜を形成した後、基板Ｓに純水を供給して洗浄処理する場合について説明する。

図７は、図１の基板処理装置の動作を説明するための図である。基板搬送手段（図示せず）により未処理の基板Ｓが装置内に搬入され、スピンチャック１に保持されると、セパレータ３を上昇させてスピンチャック１に保持された基板Ｓの高さ位置に、ガード部材３２を位置させる。このとき、ドラム６は上位置Ｐ６２に移動されており、基板Ｓから振り切られる処理液は第１の排液槽２２に回収可能な状態とされる。また、ドラム６の上端部は隙間領域ＧＲに位置しており、可動バット７０Ａ、７０Ｂはそれぞれストッパ８により係止された橋渡姿勢Ｐ７１とされる。これにより、ノズル経路ＭＲ１に沿って移動する薬液ノズル４から落下する薬液を受け止めてノズルバット４５に案内可能となるとともに、ノズル経路ＭＲ２に沿って移動する洗浄液ノズル５から落下する洗浄液を受け止めてノズルバット５５に案内可能となっている。

次に、チャック回転機構１２を駆動させることで、スピンチャック１に保持された基板Ｓを回転軸Ｊ回りに回転させる。この状態で、薬液ノズル移動機構４１の駆動により薬液ノズル４を退避位置Ｐ４２から処理位置Ｐ４１に移動させる（図７（ａ））。すなわち、ノズル移動機構４１により薬液ノズル４を供給開始位置に移動し、さらに回転中心を通って供給終了位置に向かうように揺動させる。このノズル揺動に連動して薬液ノズル４から薬液（希フッ酸）を基板Ｓに供給する。これにより、基板Ｓの表面全体から薄膜がエッチング除去される。なお、回転する基板Ｓから遠心力によって振り切られた薬液はガード部材３２によって案内され、第１の排液槽２２に導かれる。

所定時間のエッチング処理が終了した後、薬液ノズル４への薬液の圧送が停止されるとともに薬液ノズル４が処理位置Ｐ４１から待機位置Ｐ４２に移動される。このように薬液ノズル４が隙間領域ＧＲの直上を移動される際には、可動バット７０Ａは橋渡姿勢Ｐ７１をとっている。そのため、図８に示すように、移動中の薬液ノズル４から吐出されずにノズル内に残留する薬液が液だれを起こして落下する場合であっても、薬液ノズル４から落下した薬液は可動バット７０Ａによって受け止められ、その自重によってノズルバット４５に案内される。したがって、薬液ノズル４から落下した薬液がドラム６上に付着したり、隙間領域ＧＲを通って装置内部に入り込むのを防止できる。

続いて、セパレータ３を下降させてスピンチャック１に保持された基板Ｓの高さ位置にガード部材３３を位置させる。これにより、基板Ｓから振り切られる処理液は第２の排液槽２３に回収可能な状態とされる。また、洗浄液ノズル移動機構５１を駆動させて洗浄液ノズル５を退避位置Ｐ５２から処理位置Ｐ５１に移動させる（図７（ｂ））。このとき、ドラム６は上位置Ｐ６２に位置したままであり、可動バット７０Ｂは橋渡姿勢Ｐ７１とされる。この状態で基板Ｓを回転させつつ洗浄液ノズル５を揺動させながら洗浄液ノズル５からオゾン水を基板Ｓに供給する。これにより、基板Ｓの表面全体に均一に酸化膜が形成される。なお、回転する基板Ｓから遠心力によって振り切られたオゾン水はガード部材３３によって案内され、第２の排液槽２３に導かれる。その後、洗浄液ノズル５にオゾン水に代えて純水を圧送して、基板Ｓに純水を供給する。これにより、基板Ｓに対して純水による洗浄処理（リンス処理）が施される。なお、この実施形態では、薬液によるエッチング処理後に、基板Ｓにオゾン水を供給して基板Ｓを均一に酸化させているが、エッチング処理前にも洗浄液としてオゾン水を基板Ｓに供給して前処理を施すようにしてもよい。

所定時間の洗浄処理が終了した後、洗浄液ノズル５への純水の圧送が停止され、洗浄液ノズル５が処理位置Ｐ５１から待機位置Ｐ５２に移動される。このように洗浄液ノズル５が隙間領域ＧＲの直上を移動される際には、可動バット７０Ｂは橋渡姿勢Ｐ７１をとっているので、移動中の洗浄液ノズル５から純水が落下する場合でも、落下した純水は可動バット７０Ｂによって受け止められ、その自重によってノズルバット５５に案内される。したがって、洗浄液ノズル５から落下した純水がドラム６上に付着したり、隙間領域ＧＲを通って装置内部に入り込むのを防止できる。

続いて、制御ユニット１００はドラム６を下位置Ｐ６１に下降させるとともに、チャック回転機構１２のモータの回転速度を高めて基板Ｓを高速回転させる（図７（ｃ））。これにより、基板Ｓに残留する液体成分が振り切りられる。なお、振り切られた液体成分は第２の排液槽２３に回収される。また、基板Ｓの上方の処理空間ＰＳ内の雰囲気が外部雰囲気から遮断され、処理空間ＰＳの気流が制御される。すなわち、第１および第２の排液槽２２、２３内およびその上方に浮遊するミスト状の処理液の巻き込みが防止され、ミスト状の処理液の基板Ｓへの付着が防止される。この基板Ｓの乾燥処理が終了すると、制御ユニット１００は基板Ｓの回転を停止させる。その後、基板搬送手段が処理済の基板Ｓを装置から搬出して一連の基板処理が終了する。

このように、基板処理が実行される間は、可動バット７０Ａ、７０Ｂが橋渡姿勢Ｐ７１とされ、移動中のノズルから落下する処理液が可動バット７０Ａ、７０Ｂにより受け止められ、ノズルバット４５、５５にそれぞれ案内される。その一方で、装置のメンテナンスを実行する際には、図７（ｄ）に示すように、ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３に移動され、ドラム６がカップ２に対して上方に離間する。このとき、ドラム６は隙間領域ＧＲを越えて上方に位置することとなるが、可動バット７０Ａ、７０Ｂがドラム６と当接しながら上方に押圧されることで回動する。これにより、可動バット７０Ａ、７０Ｂが橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えられる。なお、装置のメンテナンスを実行する際には、隙間領域ＧＲの直上での薬液ノズル４および洗浄液ノズル５の移動は禁止され、薬液ノズル４および洗浄液ノズル５はそれぞれ待機位置Ｐ４２、Ｐ５２に待機されている。

図９は、可動バットの姿勢の切換え動作を示す模式図である。図９（ａ）は、可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１をとった状態を示している。この橋渡姿勢Ｐ７１では、可動バット７０Ａは、ストッパ８により係止されることで可動バット７０Ａに落下する処理液をその自重によってノズルバット４５に案内可能な姿勢とされている。この状態で、ドラム６が隙間領域ＧＲを越えて上昇されると、ドラム６の当接部位６１と可動バット７０Ａに取り付けられたローラ７２とが当接する（図９（ｂ））。そして、そのままドラム６が上昇すると、ローラ７２が凸面形状の曲面に仕上げられた当接部位６１に沿って回転しながら可動バット７０Ａがドラム６に押圧されて回動する（図９（ｃ））。このとき、複数のローラ７２は、ノズルバット４５側のローラ７２から処理空間ＰＳ側のローラ７２にかけて順次、当接部位６１と当接していくことで、ドラム６の上昇とともに回転され、可動バット７０Ａが橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えられる（図９（ｄ））。なお、橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えられる間、可動バット７０Ａはその自重により、常に退避姿勢Ｐ７２から橋渡姿勢Ｐ７１に付勢されている。

その一方で、ドラム６がメンテナンス位置Ｐ６３から下降される際には、可動バット７０Ａはローラ７２を回転させながらドラム６の下降に追随して回動することによって、退避姿勢Ｐ７２から橋渡姿勢Ｐ７１に切換えられる。すなわち、ドラム６の上端部が隙間領域ＧＲに移動され、ドラム６の当接部位６１が可動バット７０Ａと離れると、可動バット７０Ａがストッパ８によって係止され、橋渡姿勢Ｐ７１とされる。

以上のように、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂが処理空間ＰＳとノズルバット４５、５５とを橋渡しして処理空間ＰＳとノズルバット４５、５５との隙間領域ＧＲを覆う橋渡姿勢Ｐ７１と、ドラム６の昇降経路ＥＲから退避した退避姿勢Ｐ７２とに切換自在に設けられている。そして、薬液ノズル４および洗浄液ノズル５が隙間領域ＧＲの直上に移動している際には、ドラム６が隙間領域ＧＲに移動されるとともに可動バット７０Ａ、７０Ｂが橋渡姿勢Ｐ７１をとることで、ノズル４、５から落下する処理液が受け止められノズルバット４５、５５に案内される。これにより、ノズル４、５が処理位置Ｐ４１、Ｐ５１と待機位置Ｐ４２、Ｐ５２との間を移動する際にノズル４、５から落下した処理液が隙間領域ＧＲを通って装置内部に入り込むのを防止して、装置が腐食したり、パーティクル等を発塵させるなどの不具合が発生するのを防止することができる。

その一方で、ドラム６が隙間領域ＧＲを越えて上方に移動される際には、隙間領域ＧＲの直上でのノズル４、５の移動が禁止されるとともに可動バット７０Ａ、７０Ｂが退避姿勢Ｐ７２をとることで、可動バット７０Ａ、７０Ｂが障害となったり、可動バット７０Ａ、７０Ｂを破損させるようなことがない。したがって、「課題を解決するための手段」の項で記載したようなドラム６を隙間領域ＧＲにおいて昇降させる際の課題を回避しながら、ノズル４、５が処理位置Ｐ４１、Ｐ５１と待機位置Ｐ４２、Ｐ５２との間を移動する際にノズル４、５から落下する処理液によって生じる不具合を良好に防止することができる。

また、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂは橋渡姿勢Ｐ７１において、案内面Ｓｕが水平面に対してノズルバット４５、５５側に傾斜させているので、案内面Ｓｕに落下した処理液をその自重によって自動的にノズルバット４５、５５に回収することができる。

また、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂのノズルバット側端部７ａをノズルバット４５、５５の処理空間ＰＳ側上端部に軸支させて可動バット７０Ａ、７０Ｂのノズルバット側端部７ａを回動中心としてノズルバット４５、５５に対して回動自在に構成している。このよな構成によりドラム６が隙間領域ＧＲを越えて上昇して当接部位６１が可動バット７０Ａ、７０Ｂと当接しながら上方に押圧することで可動バット７０Ａ、７０Ｂが回動して橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えられる。このため、可動バット７０Ａ、７０Ｂに独立した駆動機構を設けることなく、簡易に可動バット７０Ａ、７０Ｂを橋渡姿勢Ｐ７１から退避姿勢Ｐ７２に切換えることができる。特に、装置のメンテナンスを実施する場合にのみドラム６が隙間領域ＧＲを越えてメンテナンス位置Ｐ６３に移動することから、ドラム６と可動バット７０Ａ、７０Ｂとの摺動による影響も軽微であり、このような簡易な構成を採用することで装置の部品点数を削減しながらプロセス性能を十分に発揮することができる。

また、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂが橋渡姿勢Ｐ７１で隙間領域ＧＲを塞ぐ閉塞面Ｓｌに対して回転自在に取り付けられたローラ７２を備えるようにして、ドラム６が隙間領域ＧＲを越えて上昇したときにローラ７２を回転させながら可動バット７０Ａ、７０Ｂを上方に押圧している。このため、ドラム６と可動バット７０Ａ、７０Ｂとの摺動による発塵を抑制してスムーズに可動バット７０Ａ、７０Ｂをドラム６に対して回動させることができる。

さらに、この実施形態によれば、ローラ７２を可動バット７０Ａ、７０Ｂに複数個取り付けるとともに、該複数のローラ７２をノズルバット側端部７ａから処理空間側端部７ｂに配列させている。このため、各ローラ径を小さくして各ローラ７２をコンパクトに構成しながらも、ドラム６と可動バット７０Ａ、７０Ｂとの摺動による発塵を抑えつつ、可動バット７０Ａ、７０Ｂを橋渡姿勢Ｐ７１と退避姿勢Ｐ７２とに切換えることができる。

また、この実施形態によれば、ドラム６の当接部位６１を可動バット７０Ａ、７０Ｂに向けて凸面形状としているので、可動バット７０Ａ、７０Ｂとの摩擦を抑え、ドラム６の昇降とともに可動バット７０Ａ、７０Ｂをスムーズに移動させることができる。

また、この実施形態によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂがその自重により退避姿勢Ｐ７２から橋渡姿勢Ｐ７１に付勢されるようにして、ストッパ８により可動バット７０Ａ、７０Ｂを係止させている。このため、ドラム６が隙間領域ＧＲまたは該隙間領域ＧＲの下方に移動する場合であっても、ストッパ８で規定される所望の姿勢で可動バット７０Ａ、７０Ｂを係止させることができ、ドラム６の位置にかかわりなく、橋渡姿勢Ｐ７１として処理液をノズルバット４５、５５に案内するために適切な姿勢で可動バット７０Ａ、７０Ｂの姿勢（水平面からの傾斜角）を調整することができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、ドラム６を本発明の「昇降部材」として機能させているが、昇降部材としてはこれに限定されず、処理空間ＰＳとノズルバット４５、５５との隙間領域ＧＲを通じて上下方向に昇降自在に設けられた部材であれば、本発明を適用することができる。

また、上記実施形態では、可動バット７０Ａ、７０Ｂをドラム６等の昇降部材が昇降する駆動力を利用して可動させているが、可動バット７０Ａ、７０Ｂ（可動部材）に対して独立した駆動機構を設けて、該駆動機構を作動させることで昇降部材の昇降に合わせて可動バット７０Ａ、７０Ｂを可動させるようにしてもよい。この構成によれば、可動バット７０Ａ、７０Ｂと昇降部材と非接触として橋渡姿勢Ｐ７１と退避姿勢Ｐ７２とに切換えることができる。したがって、昇降部材と可動部材との摺動による発塵を確実に回避することができる。

また、上記実施形態では、希フッ酸等の薬液を基板Ｓに供給して基板Ｓに対してエッチング処理を施した後にオゾン水を基板Ｓに供給して均一な酸化膜を形成した後、基板Ｓに純水を供給して洗浄処理する場合について説明しているが、本発明にかかる基板処理装置は、エッチング処理、酸化膜等の被膜形成処理、洗浄処理に限らず、剥離処理、オゾン水等を用いた表面改質処理など処理液を用いた湿式処理全般に適用可能である。

この発明は、半導体ウエハ、液晶表示器用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマ・ディスプレイ・パネル）用基板、あるいは磁気ディスク用のガラス基板やセラミック基板などを含む各種基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置に適用することができる。

この発明にかかる基板処理装置の一実施形態を示す図である。 図１の基板処理装置を上方から見た平面図である。 図１の基板処理装置の制御構成を示すブロック図である。 図１の基板処理装置の要部を示す図である。 ストッパの構成を示す側面図である。 ローラの構成を示す図である。 図１の基板処理装置の動作を説明するための図である。 図１の基板処理装置の動作を説明するための図である。 可動バットの姿勢の切換え動作を示す模式図である。

符号の説明

４…薬液ノズル（ノズル）
５…洗浄液ノズル（ノズル）
６…ドラム（昇降部材）
７ａ…（可動部材の）容器側端部
７ｂ…（可動部材の）処理空間側端部
８…ストッパ
４１…薬液ノズル移動機構（移動機構）
４５、５５…ノズルバット（容器）
４５ａ…（容器の）処理空間側上端部
５１…洗浄液ノズル移動機構（移動機構）
６１…当接部位
７０Ａ、７０Ｂ…可動バット（可動部材）
７２…ローラ
ＧＲ…隙間領域
Ｐ４１、Ｐ５１…（ノズルの）処理位置
Ｐ４２、Ｐ５２…（ノズルの）待機位置
Ｐ７１…（可動部材の）橋渡姿勢
Ｐ７２…（可動部材の）退避姿勢
ＰＳ…処理空間
ＭＲ１、ＭＲ２…ノズル移動経路
Ｓｌ…閉塞面
Ｓｕ…案内面
Ｓ…基板

Claims (8)

1. 処理空間で基板に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、
   前記基板に処理液を供給可能なノズルと、
   前記処理空間で前記基板の上方から前記基板に処理液を供給する処理位置と、前記処理空間から側方に離間した待機位置とを結ぶノズル移動経路に沿って前記ノズルを移動させる移動機構と、
   前記待機位置の下方で、しかも前記処理空間から側方に離間した位置に固定配置され、前記待機位置に待機している前記ノズルから落下する処理液を回収する容器と、
   前記処理空間と前記容器との隙間領域を通じて上下方向に昇降自在に設けられた昇降部材と、
   前記処理空間と前記容器とを橋渡可能な形状を有し、前記ノズル移動経路の下方位置で前記処理空間と前記容器とを橋渡しして前記隙間領域を覆う橋渡姿勢と、前記昇降部材の昇降経路から退避した退避姿勢とに切換自在に設けられた可動部材とを備え、
   前記ノズルが前記隙間領域の直上を移動している際には、前記昇降部材が前記隙間領域または該隙間領域よりも下方に移動されるとともに前記可動部材は前記橋渡姿勢をとって移動中の前記ノズルから落下した処理液を受け止め前記容器に案内する一方、
   前記昇降部材が前記隙間領域を越えて上方に移動される際には、前記隙間領域の直上での前記ノズルの移動は禁止されるとともに前記可動部材は前記退避姿勢をとることを特徴とする基板処理装置。
2. 前記昇降部材は、前記処理空間を取り囲むように形成された中空の部材であって、前記隙間領域よりも下方に移動した際に前記処理空間内の雰囲気を外部雰囲気から遮断可能となっている請求項１記載の基板処理装置。
3. 前記可動部材は、前記橋渡姿勢において前記ノズル移動経路を下方から臨む案内面を有し、前記橋渡姿勢では、前記案内面が水平面に対し前記容器側に向けて傾斜する請求項１または２記載の基板処理装置。
4. 前記昇降部材はその上端部に前記可動部材と当接可能な当接部位を有するとともに、
   前記可動部材は、その容器側端部が前記容器の前記処理空間側上端部に軸支されて該容器側端部を回動中心として前記容器に対して回動自在になっており、前記昇降部材が前記隙間領域を越えて上昇して前記当接部位が前記可動部材と当接しながら上方に押圧することで前記可動部材が回動して前記橋渡姿勢から前記退避姿勢に切換わる請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置。
5. 前記可動部材は前記橋渡姿勢で前記隙間領域を塞ぐ閉塞面に対して回転自在に取り付けられたローラを有し、前記昇降部材が前記隙間領域を越えて上昇してきたときに前記ローラを回転させながら前記可動部材を上方に押圧する請求項４記載の基板処理装置。
6. 前記可動部材は前記ローラを複数個有し、該複数のローラが前記容器側端部から処理空間側端部に配列されている請求項５記載の基板処理装置。
7. 前記昇降部材の容器側上端部位は前記可動部材に向けて凸面形状となるように仕上げられ、前記当接部位となっている請求項４ないし６のいずれかに記載の基板処理装置。
8. 前記可動部材はその自重により前記退避姿勢から前記橋渡姿勢に付勢される請求項４ないし７のいずれかに記載の基板処理装置であって、
   前記可動部材を前記橋渡姿勢に係止するストッパをさらに備える基板処理装置。

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