JP2007232648A - Stage device - Google Patents
Stage device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007232648A JP2007232648A JP2006056724A JP2006056724A JP2007232648A JP 2007232648 A JP2007232648 A JP 2007232648A JP 2006056724 A JP2006056724 A JP 2006056724A JP 2006056724 A JP2006056724 A JP 2006056724A JP 2007232648 A JP2007232648 A JP 2007232648A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- pivot shaft
- linear motor
- stage apparatus
- moves
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明はステージ装置に係り、特にθテーブルの回動動作をより安定的且つ精密に行なえるように構成されたステージ装置に関する。 The present invention relates to a stage apparatus, and more particularly, to a stage apparatus configured to be able to rotate a θ table more stably and precisely.
例えば、ステージ装置では、Y方向に移動するYステージと、X方向に移動するXステージとを有し、Yステージが定盤上に固定された一対のY方向ガイドレールに沿って移動方向をガイドされ、XステージがYステージに搭載されたX方向ガイドレールに沿って移動方向をガイドされる(例えば、特許文献1参照)。 For example, a stage apparatus has a Y stage that moves in the Y direction and an X stage that moves in the X direction, and the Y stage guides the movement direction along a pair of Y direction guide rails fixed on a surface plate. Then, the X stage is guided in the moving direction along the X direction guide rail mounted on the Y stage (see, for example, Patent Document 1).
また、半導体ウエハの移動に用いられるステージ装置では、Yステージの両端に設けられたスライダがリニアモータによりY方向に並進駆動され、且つXステージ上にはウエハが載置されるθテーブルがθz方向に回動可能に支持されている。 In a stage apparatus used for moving a semiconductor wafer, sliders provided at both ends of the Y stage are translated in the Y direction by a linear motor, and a θ table on which the wafer is placed on the X stage is in the θz direction. Is rotatably supported.
この種のステージ装置では、対象物としてのウエハが搬送されてθテーブルに保持されると、ウエハの位置を高精度に位置決めするため、θテーブルをZ軸回りのθz方向に回動動作させてウエハの位置を調整する位置決め制御を行なうように構成されている。また、このステージ装置では、θテーブルの下側にθリニアモータが配置されているため、Xステージにθリニアモータの固定子が固定されている。
上記従来のステージ装置では、θテーブルの下側に設けられたθリニアモータの固定子がステージ上に支持されているため、θテーブルをθz方向に回動させる際の反力がステージに作用すると、ステージをガイドするガイドレールとガイドレールに対して空気圧により非接触で移動するためのエアパッド(エアベアリングまたは静圧パッドとも呼ばれている)とのクリアランス分だけステージがθz方向(θテーブルと逆方向)に回動させられてしまい、ステージ上に支持されたθテーブルの回動位置を安定的且つ精密に制御することが難しいという問題があった。 In the conventional stage device, the stator of the θ linear motor provided on the lower side of the θ table is supported on the stage, so that a reaction force when rotating the θ table in the θz direction acts on the stage. The stage moves in the θz direction (opposite to the θ table) by the clearance between the guide rail that guides the stage and the air pad (also called an air bearing or static pressure pad) that moves in a non-contact manner by air pressure with respect to the guide rail. There is a problem that it is difficult to stably and precisely control the rotation position of the θ table supported on the stage.
そこで、本発明は上記事情に鑑み、上記課題を解決したステージ装置を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a stage apparatus that solves the above problems.
上記課題を解決するため、本発明は以下のような手段を有する。 In order to solve the above problems, the present invention has the following means.
本発明は、定盤上を移動するステージと、該ステージ上に回動可能に支持されたθテーブルとを有し、前記ステージを前記θテーブルと共に移動させるステージ装置において、前記θテーブルの側面に結合された可動子と、前記可動子に対向配置された固定子とを有し、前記θテーブルを前記Z軸回りに駆動する一対のθリニアモータと、前記定盤の側方に離間した位置に固定され、前記θリニアモータの固定子を支持する支持部と、を備えたことを特徴とする。 The present invention includes a stage that moves on a surface plate, and a θ table that is rotatably supported on the stage, and a stage device that moves the stage together with the θ table on a side surface of the θ table. A pair of θ linear motors having a coupled mover and a stator disposed opposite to the mover and driving the θ table around the Z axis, and positions spaced laterally of the surface plate And a support portion that supports the stator of the θ linear motor.
前記一対のθリニアモータは、各可動子を同一方向に並進駆動することで前記θテーブルと共に前記ステージを駆動することを特徴とする。 The pair of θ linear motors drive the stage together with the θ table by driving the movers in translation in the same direction.
また、本発明は、前記ステージ上面の中央と前記θテーブルの下面中心との間で垂直方向に起立するピボット軸と、前記θテーブルが前記ピボット軸の軸回りに回転するように前記ピボット軸を軸承する軸受と、を備えたことを特徴とする。 The present invention also provides a pivot shaft that stands vertically between the center of the upper surface of the stage and the center of the lower surface of the θ table, and the pivot shaft so that the θ table rotates about the axis of the pivot shaft. And a bearing for bearing.
また、本発明は、前記θテーブルの下面より垂下方向に延在形成された複数の支柱と、該支柱の下端に前記ステージ上を空気圧により浮上して移動するエアパッドと、を有することを特徴とする。 Further, the present invention is characterized by comprising a plurality of pillars extending from the lower surface of the θ table in the hanging direction, and an air pad that floats and moves on the stage by air pressure at the lower ends of the pillars. To do.
また、本発明は、前記θテーブルの下面より垂下方向に延在形成された複数の支柱と、該支柱の下端に前記定盤上を空気圧により浮上して移動するエアパッドと、を有することを特徴とする。 In addition, the present invention includes a plurality of support columns extending in a hanging direction from the lower surface of the θ table, and air pads that float and move on the surface plate by air pressure at the lower ends of the support columns. And
前記軸受は、前記ピボット軸の上端または下端の外周を軸承するクロスローラベアリングであることを特徴とする。 The bearing is a cross roller bearing that supports an outer periphery of an upper end or a lower end of the pivot shaft.
前記ステージは、Y方向に移動するYステージと、Y方向と直交するX方向に移動するXステージとを有し、前記Xステージ上に前記θテーブルが前記Z軸回りに回転可能に支持されたことを特徴とする。 The stage has a Y stage that moves in the Y direction and an X stage that moves in the X direction perpendicular to the Y direction, and the θ table is supported on the X stage so as to be rotatable about the Z axis. It is characterized by that.
前記ピボット軸は、前記θテーブルの下面に対向するように配置された支持プレートに支持され、前記支持プレートは、高さ位置を調整する高さ調整機構を介して支持されたことを特徴とする。 The pivot shaft is supported by a support plate arranged to face the lower surface of the θ table, and the support plate is supported via a height adjustment mechanism that adjusts a height position. .
前記高さ調整機構は、前記支柱に設けられ、前記支柱を介して前記支持プレートの高さ位置を調整することを特徴とする。 The height adjustment mechanism is provided on the support column and adjusts the height position of the support plate via the support column.
本発明によれば、θリニアモータの固定子を支持する支持部を定盤の側方に離間した位置に固定することにより、θテーブルを回動させるときに発生するθリニアモータの反力がステージに作用することを防止でき、θテーブルを駆動する際の反力による誤差を無くしてθテーブルの回動位置を安定的且つ精密に制御することが可能になる。 According to the present invention, the reaction force of the θ linear motor generated when the θ table is rotated is fixed by fixing the support portion supporting the stator of the θ linear motor at a position spaced apart to the side of the surface plate. It is possible to prevent the stage from acting on the stage, and it is possible to stably and precisely control the rotation position of the θ table by eliminating an error due to a reaction force when driving the θ table.
また、本発明によれば、一対のθリニアモータが各可動子を同一方向に並進駆動することでθテーブルと共にステージを駆動することができるので、θリニアモータがステージ駆動用リニアモータを兼ねることができるので、その分リニアモータを削減して構成の簡略化及び製造コストを安価に抑えることができる。 In addition, according to the present invention, the pair of θ linear motors can drive the stage together with the θ table by driving each mover in the same direction, so the θ linear motor also serves as a stage driving linear motor. Therefore, it is possible to reduce the number of linear motors, thereby simplifying the configuration and reducing the manufacturing cost.
また、ピボット軸を軸受が軸承することによりθテーブルを低負荷で回動させることができ、且つθリニアモータが非接触でθテーブルを側方から駆動させることができるので、ステージの誤差がθテーブルに影響することを最小限に抑えることができる。 In addition, since the bearing is supported by the pivot shaft, the θ table can be rotated at a low load, and the θ linear motor can be driven from the side without contact with the θ linear motor. It is possible to minimize the influence on the table.
また、本発明によれば、θテーブルの下面より垂下方向に延在形成された複数の支柱と、支柱の下端にステージ上または定盤上を空気圧により浮上して移動するエアパッドと、を有するため、θテーブルを回動させる際にθテーブルがピボット軸を支点として揺動することを防止でき、θテーブルの平面を水平に保つことが可能になる。 Further, according to the present invention, there are a plurality of support pillars formed extending in the hanging direction from the lower surface of the θ table, and an air pad that floats and moves on the stage or the surface plate by air pressure at the lower end of the support pillar. When the θ table is rotated, the θ table can be prevented from swinging with the pivot shaft as a fulcrum, and the plane of the θ table can be kept horizontal.
また、本発明によれば、θテーブルの下面に対向するように配置された支持プレートにピボット軸が支持され、支持プレートの高さ位置を調整する高さ調整機構を有するため、θテーブルの回動位置を安定的且つ高精度に調整できると共に、θテーブルの高さ位置も調整することが可能になる。 In addition, according to the present invention, the pivot shaft is supported by the support plate disposed so as to face the lower surface of the θ table, and the height adjustment mechanism for adjusting the height position of the support plate is provided. The moving position can be adjusted stably and with high accuracy, and the height position of the θ table can be adjusted.
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は本発明によるステージ装置の実施例1を示す斜視図である。図2は実施例1のステージ装置を示す正面図である。図3は実施例1のステージ装置を示す平面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing Embodiment 1 of the stage apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a front view showing the stage apparatus of the first embodiment. FIG. 3 is a plan view showing the stage apparatus of the first embodiment.
図1乃至図3に示されるように、ステージ装置10Aは、例えば、半導体ウエハの製造工程に用いられる露光装置に組み込まれており、定盤20と、定盤20の平面上を移動するステージ30と、ステージ30上に搭載され、ワーク(図示せず)が載置されるθテーブル40と、ステージ30をY方向に移動させる一対のYリニアモータ50とを有する。
As shown in FIGS. 1 to 3, the stage apparatus 10 </ b> A is incorporated in, for example, an exposure apparatus used in a semiconductor wafer manufacturing process, and a
ステージ30は、石定盤20の平面上に突出し、移動方向(Y方向)に延在する一対のガイド28に沿って平行移動する一対のスライダ32と、石定盤20の平面上を空気圧により浮上して移動するエアパッド34とを有する。
The
ステージ30は、石定盤20の延在方向と平行なY方向に移動するYステージ36と、Y方向と直交するX方向に移動するXステージ38とを有する。Yステージ36は、Xステージ38の内部に挿通されてX方向に延在しており、その両端にはスライダ32が結合されたH字状に形成されている。また、Xステージ38は、下面の四隅にエアパッド34が設けられており、石定盤20の平面上をYステージ36と共にY方向に移動し、且つYステージ36に沿ってX方向に移動可能に設けられている。
The
θテーブル40は、上方からみると四角形状に形成されており、その上面42がワーク載置面(半導体用の露光装置の場合には、ウエハ載置面)となる。本実施例では、θテーブル40が下方のXステージ38よりもX方向及びY方向の寸法が大きく形成されているので、上面42の寸法に応じた大きさのワークを載置することができる。すなわち、Xステージ38よりも大きい寸法のワーク(ウエハ)をθテーブル40に載置することが可能になる。
The θ table 40 is formed in a quadrangular shape when viewed from above, and its
また、上面42には、θテーブル40のY方向位置を検出するレーザ干渉計(図示せず)からのレーザ光を反射するミラー44が設けられている。
The
一対のYリニアモータ50は、定盤20の左右外側に並設されており、Y方向に延在形成されたマグネットヨーク(固定子)52と、スライダ32の外側面より下方に延在するコイルユニット(可動子)54とから構成されている。マグネットヨーク52は、正面からみると上部に開口を有するU字状に形成されており、内壁の側面に複数の永久磁石が並設されている。また、マグネットヨーク52は、支持部材56によりスライダ32の外側下方に位置するように支持されている。
The pair of Y
そして、コイルユニット54は、複数のコイルがY方向に連結されており、マグネットヨーク52の磁石間に上方から挿入されている。そのため、コイルユニット54は、コイルに通電されると、永久磁石に対する磁束を形成して、永久磁石に対するY方向の推力を得ることができる。また、コイルユニット54は、スライダ32の外側下面に結合されている。そのため、コイルユニット54が得たY方向推力は、スライダ32に付与され、Yステージ36を駆動する。
The
さらに、ステージ装置10Aでは、θテーブル40の下面より垂下方向に延在する4本の支柱60と、各支柱60の下端に設けられ、Xステージ38上を空気圧により浮上して移動する複数のエアパッド70とを備えた構成になっている。そのため、支柱60及びエアパッド70は、θテーブル40を直接支持しながらXステージ38上を移動することができる。
Further, in the
よって、θテーブル40は、4本の支柱60及び4個のエアパッド70によりXステージ38上を浮上して移動することができると共に、上面42の平面精度(水平精度)を維持したままステージ30と共に移動することができる。また、ステージ装置10Aでは、支柱60の全長(高さ方向の長さ)を短くできるので、Xステージ38を移動させる際のθテーブル40の安定性を高めることが可能になる。
Therefore, the θ table 40 can be lifted and moved on the
また、θテーブル40は、4本の支柱60及び4個のエアパッド70により支持されているので、回動する際にピボット軸80を支点として揺動することを防止でき、上面42の水平精度を維持することが可能になる。
Further, since the θ table 40 is supported by the four
さらに、θテーブル40の左右両側には、側方からθテーブル40をθz方向に回動させる一対のθリニアモータ74が設けられている。このθリニアモータ74は、支持部79に支持されたマグネットヨーク(固定子)76と、θテーブル40の側面に固定されコイルユニット(可動子)78とから構成されている。上記支持部79は、定盤20から離間した位置となるコンクリート製の床面に固定されており、Y方向に延在形成されたマグネットヨーク76を所定高さ位置に支持するための支持台である。そして、本実施例の支持部79は、マグネットヨーク76をθテーブル40の側面と同一高さとなる寸法形状に形成されている。
Further, on both the left and right sides of the θ table 40, a pair of θ
マグネットヨーク76は断面形状がコ字状に形成されており、その開口側がθテーブル40の側面に対向している。また、マグネットヨーク76の内面には、永久磁石が取り付けられている。そして、コイルユニット78は、マグネットヨーク76の永久磁石間に非接触となるように側方から挿入されている。
The
そのため、θリニアモータ74は、θテーブル40をθz方向に回動させる際にマグネットヨーク76とコイルユニット78とがθz方向に相対的に回動できるように設けられている。
Therefore, the θ
また、一対のθリニアモータ74は、上方からみるとピボット軸80を中心に対称となる位置に平行に設けられている。そのため、一対のθリニアモータ74は、コイルユニット78に通電することによりピボット軸80を中心とする偶力を発生させてθテーブル40を側面からθz方向に回動させる。
Further, the pair of θ
さらに、θリニアモータ74は、マグネットヨーク76がθテーブル40の側面と同一高さとなるように支持部79により支持されており、且つ支持部79が定盤20より側方に離間した床面上に起立されているため、θテーブル40をθz方向に回動させる際の反力が支持部79を介して床面に伝播される。
Further, the θ
従って、ステージ装置10Aでは、θリニアモータ74の反力がYステージ36及びXステージ38に伝わらないように構成されており、θリニアモータ74の反力によってYステージ36及びXステージ38がガイドとのクリアランス分動作することが無く、その分θテーブル40の位置制御の誤差が生じることが防止され、θテーブル40の回動位置を安定的且つ精密に制御することが可能になる。
Accordingly, the
また、支持部79がスライダ32の側方に離間した床面上に起立するように設けられているため、θリニアモータ74はスライダ32を移動させる際の振動の影響を受けないように構成されている。
Further, since the
図4はステージ30及びθテーブル40を側方からみた側断面図である。図4に示されるように、Xステージ38とθテーブル40との間には、θテーブル40をθz方向に回動可能に支持するピボット軸80と、ピボット軸80を回転可能に軸承する軸受82とが設けられている。本実施例では、ピボット軸80がXステージ38の上面に起立するように一体に設けられ、軸受82の外輪がθテーブル40の下面中央に設けられた凹部40aに嵌合するように設けられ、内輪がピボット軸80の上端外周に嵌合している。
FIG. 4 is a side sectional view of the
また、軸受82は、例えば、90°のV溝の転動面に円筒ころがりスペーサがリテーナを介して交互に直交配列されたクロスローラベアリングよりなるため、ラジアル荷重(半径方向荷重)、アキシアル荷重(軸方向荷重)、モーメント荷重(ピッチング・ローリング・ヨーイングによる荷重)などのあらゆる方向の荷重を受けても円滑な回転を可能にする構成となっている。
Further, the
従って、θテーブル40は、ピボット軸80と軸受82とから構成されたピボット軸受構造により安定した状態に支持されている。また、軸受82は、θテーブル40の下面中心に設けられており、ピボット軸80の軸心がθテーブル40の回転中心と一致する。そして、ステージ30を駆動するYリニアモータ50及び後述するXリニアモータの推力は、ピボット軸80及び軸受82を介してθテーブル40にも伝達される。
Therefore, the θ table 40 is supported in a stable state by a pivot bearing structure including the
尚、本実施例のピボット軸受構造では、ピボット軸80の上端が軸受82により軸承される構成を用いて説明したが、これに限らず、ピボット軸80をθテーブル40の下面中心に設け、軸受82をXステージ38の上面に設けることで、ピボット軸80の下端が軸受82により軸承される構成としても良い。
In the pivot bearing structure of the present embodiment, the upper end of the
さらに、θテーブル40は、X方向の左右側方に配置された一対のθリニアモータ74からの推力によりピボット軸80の軸回り(θz方向)に回動するため、同一水平面における偶力によって低摩擦、低振動で回動することができる。また、θリニアモータ74は、非接触構造の駆動手段であるので、θテーブル40を回動させる際に伝達経路による駆動力の損失や変動による影響を受けずにθテーブル40を回動させることが可能になり、θテーブル40の回動動作を安定的且つ精密に制御することができる。
Further, since the θ table 40 rotates around the axis of the pivot shaft 80 (θz direction) by the thrust from the pair of θ
また、ステージ装置10Aでは、θリニアモータ74が定盤20の側方に配置されているため、θテーブル40の下側にθリニアモータ74を設ける構成のものよりもZ軸方向の高さ寸法を小さくすることが可能になり、薄型化にも対応することができる。
Further, in the
さらに、θテーブル40は、前述した支柱60の下端に設けられたエアパッド70によりXステージ38上を浮上して移動するように支持されているため、一対のθリニアモータ74からの推力が回転力(偶力)として印加されると、軸受82の回転抵抗のみが負荷となる低摩擦状態でθz方向に回動することができる。尚、θリニアモータ74は、θテーブル40の回動角度に応じてマグネットヨーク76とコイルユニット78とのθz方向の相対位置が変化するため、最大回動角度に応じた隙間がマグネットヨーク76とコイルユニット78との間の水平方向に形成されており、マグネットヨーク76とコイルユニット78とが干渉しないように構成されている。
Further, since the θ table 40 is supported so as to float and move on the
Xステージ38の内部には、Yステージ36が挿通される空間120が形成されており、この空間120には、Xステージ38をX方向に駆動するXリニアモータ124が設けられている。Yステージ36は、両端にスライダ32が設けられ、ガイド28に沿ってガイドされて移動するため、Xステージ38の内壁と非接触で移動する。
A
また、Yステージ36は、Xステージ38の内壁に対向するエアパッド122を支持する垂直部36aと、Xリニアモータ124が取り付けられた平面部36bとを有する。エアパッド122は、空間120のY方向の内壁に空気圧を介して対向するため、Xステージ38をX方向に移動させる際には、空間120の内壁がエアパッド122に非接触で移動することができる。また、Yステージ36をY方向に移動させるときは、エアパッド122からの空気圧を介して空間120のY方向内壁を移動方向に押圧されてXステージ38をY方向に移動させるように構成されている。
The
Xリニアモータ124は、X方向に延在形成されたマグネットヨーク(固定子)126と、コイルユニット(可動子)128とから構成されている。マグネットヨーク126は、側面からみるとコ字状に形成されており、内壁の上下面に複数の永久磁石が並設されている。また、マグネットヨーク126は、Yステージ36の平面部36bに固定されており、コイルユニット128は、Xステージ38の内壁に固定されたブラケット130に支持されている。
The X
そして、コイルユニット128は、複数のコイルがX方向に配設されており、マグネットヨーク126の磁石間に前方から挿入されている。そのため、コイルユニット128は、コイルに通電されると、磁束を形成して、永久磁石に対するX方向の推力を得ることができる。また、コイルユニット128は、ブラケット130を介してXステージ38に結合されているため、コイルユニット128が得たX方向推力は、Xステージ38に付与される。
The
従って、Xステージ38は、Xリニアモータ124からの推力によりX方向に駆動される。そして、Xステージ38上に搭載されたθテーブル40は、Xリニアモータ124のX方向推力がピボット軸80及び軸受82を介して伝達されるため、Xステージ38と共にX方向に移動する。
Accordingly, the
また、Xステージ38がYステージ36と共にY方向に移動する際は、Xステージ38上にピボット軸80及び軸受82を介して支持されたθテーブル40もY方向に移動し、且つ支柱60の下端に設けられたエアパッド70が空気圧により定盤20上を非接触で移動してθテーブル40の水平精度を維持する。
When the
従って、ステージ装置10Aでは、左右側面から入力された一対のθリニアモータ74からの推力によりθテーブル40をピボット軸80の軸心を中心にθz方向に回動させるため、Xステージ38のX方向及びY方向の移動位置に誤差が生じた場合でも、θテーブル40の回動位置によって誤差が増大することが防止される。そのため、ステージ30をY方向に移動した後にθテーブル40をθz方向に回動させる場合でも、θテーブル40の上面42に設けられたミラー44がレーザ干渉計からのレーザ光の照射位置からずれことが無く、レーザ干渉計により位置検出精度が低下することが防止される。また、ステージ装置10Aでは、例えば、露光装置に用いた場合に光学系に対するワーク(ウエハなど)位置がθテーブル40の回動位置によってずれることが防止される。
Accordingly, in the
図5は実施例2のステージ装置を示す正面図である。尚、図5において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 5 is a front view showing the stage apparatus of the second embodiment. In FIG. 5, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図5に示されるように、ステージ装置10Bでは、前述した実施例1と同様に、定盤20の左右側方に一対のYリニアモータ50が設けられている。Yリニアモータ50は、スライダ32の下方に配置されており、マグネットヨーク52が上部に開口側が位置するようにU字状となる向きで取り付けられている。そして、スライダ32から垂下方向に延在するように取り付けられたコイルユニット54が、上方からマグネットヨーク52の磁石間に挿入されている。
As shown in FIG. 5, in the stage apparatus 10 </ b> B, a pair of Y
そのため、Yリニアモータ50は、マグネットヨーク52とコイルユニット54とがY方向に相対移動可能に組み合わせると共に、上方(Z方向)にも相対移動可能に設けられている。
Therefore, the Y
さらに、ステージ装置10Bでは、前述した実施例1と同様に、各支柱60の下端に設けられた複数のエアパッド70がXステージ38の外側で定盤20上を浮上して移動する構成になっている。そのため、支柱60及びエアパッド70は、θテーブル40を直接支持しながら定盤20上を移動することで、θテーブル40の平面精度(水平精度)を維持したままステージ30と共に移動する。
Further, in the
また、一対のθリニアモータ74は、前述した実施例1と同様に、θテーブル40の左右側面から側方に離間した位置に設けられている。そして、マグネットヨーク76は、θテーブル40の側面と同一高さとなるように支持部79を介して支持されている。尚、支持部79は、スライダ32の側方に離間した床面上に起立するように設けられており、θリニアモータ74がスライダ32を移動させる際の振動の影響を受けないように構成されている。
Further, the pair of θ
また、一対のθリニアモータ74は、上方からみるとピボット軸80を中心に対称となる位置に平行に設けられているため、コイルユニット78に通電することによりピボット軸80を中心とする偶力を発生させてθテーブル40を側面からθz方向に回動させる。
Further, since the pair of θ
その際、θテーブル40をθz方向に回動させる際の反力が支持部79を介して床面に伝播される。
At that time, a reaction force when the θ table 40 is rotated in the θz direction is transmitted to the floor surface via the
そのため、ステージ装置10Bでは、θリニアモータ74の反力がYステージ36及びXステージ38に伝わらないように構成されており、その分θテーブル40の位置制御の誤差が生じることが防止され、θテーブル40の回動位置を安定的且つ精密に制御することが可能になる。
Therefore, the
図6は実施例3のステージ装置を示す正面図である。図7は実施例3の高さ調整機構を示す側断面図である。尚、図6及び図7において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 6 is a front view showing a stage apparatus according to the third embodiment. FIG. 7 is a side sectional view showing a height adjusting mechanism of the third embodiment. 6 and 7, the same reference numerals are given to the same portions as those in the above embodiment, and the description thereof is omitted.
図6に示されるように、ステージ装置10Cでは、前述した実施例1と同様に、各支柱60の下端に設けられた複数のエアパッド70がXステージ38上を浮上して移動する構成になっている。そのため、支柱60及びエアパッド70は、θテーブル40を直接支持しながらXステージ38上を移動することで、θテーブル40の平面精度(水平精度)を維持したままステージ30と共に移動する。
As shown in FIG. 6, the stage apparatus 10 </ b> C has a configuration in which a plurality of
さらに、ステージ装置10Cでは、上記実施例1と同様に、定盤20の左右側方に一対のYリニアモータ50が垂直状態で設けられている。また、スライダ32の側方には、支持部79に支持されたθリニアモータ74が垂直状態で配置されている。
Further, in the
そして、θテーブル40とXステージ38との間には、上記高さ調整機構200(図7参照)が設けられている。この高さ調整機構200は、ピボット軸80を有する支持プレート210と、支持プレート210の高さ位置を調整する一対のレベリングユニット220とを有する。
The height adjusting mechanism 200 (see FIG. 7) is provided between the θ table 40 and the
支持プレート210は、上面中央にピボット軸80が一体的に起立しており、さらに、上面四隅にはθテーブル40の下面に対向するエアパッド212が設けられている。そのため、θテーブル40は、一対のθリニアモータ74からの回転力(偶力)が印加されると、ピボット軸80の軸心を回転中心としてθz方向に安定的に回動することが可能になる。
In the
また、ステージ装置10Gでは、Yリニアモータ50がスライダ32の下方に配置されており、マグネットヨーク52が上部に開口側が位置するようにU字状となる向きで取り付けられている。そして、Yリニアモータ50は、マグネットヨーク52とコイルユニット54とがY方向及び上方(Z方向)に相対移動可能に設けられている。
Further, in the
そして、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74は、垂直に設けられているので、マグネットヨーク52,76に対してコイルユニット54,78がY方向及び上方(Z方向)に相対移動可能に設けられている。そのため、高さ調整機構200によりθテーブル40を昇降させる際は、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74のマグネットヨーク52,76とコイルユニット54,78とが干渉せず、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74がθテーブル40の昇降動作を妨げないように設けられている。
Since the Y
図7に示されるように、レベリングユニット220は、エアパッド70に支持された下部ブロック230と、支持プレート210の下面に吊下された上部ブロック240と、下部ブロック230と上部ブロック240との間に設けられたアクチュエータ250とから構成されている。下部ブロック230は、Y方向に延在する向きで設けられており、下面にXステージ38上を浮上して移動する複数のエアパッド70が配置されている。
As shown in FIG. 7, the leveling
さらに、下部ブロック230の上部には、一対の傾斜部232と、凹部234とが設けられている。一対の傾斜部232は、夫々水平面に対して同一方向、且つ同一角度の傾斜面を有しており、図7においては左側が低く、右側が高くなるような傾斜方向に形成され
また、上部ブロック240の上部には、支持プレート210の下面に対して低摩擦で摺動する摺動部材260が設けられている。さらに、上部ブロック240の下部には、一対の傾斜部242と、凹部244とが設けられている。一対の傾斜部242は、夫々水平面に対して同一方向、且つ同一角度の傾斜面を有しており、且つ上記傾斜部232と平行となる傾斜方向に傾斜している。
Further, a pair of
また、上部ブロック240の各傾斜部242の内部には、上下方向(Z方向)に貫通する貫通孔246が形成されており、この各貫通孔246の内部には傾斜部232より上方に起立した支柱270が夫々挿通されている。そして、支柱270は、横断面形状が長方形に形成され、且つその上端は、支持プレート210の下面に対向しているが離間している。また、各貫通孔246は、上方からみるとY方向に幅広の長方形状に形成されており、支柱270が遊嵌した状態に挿通されている。そのため、各貫通孔246は、支柱270に対してY方向に移動可能な構成になっている。
Further, through
凹部234と凹部244との間に配置されたアクチュエータ250は、例えば、ボールネジ機構をモータで駆動することによりY方向の駆動力を発生させるように構成された駆動手段などからなり、左端ステ−252が上部ブロック240に結合され、右端ステ−254が下部ブロック230に結合されている。
The
さらに、傾斜部232と傾斜部242との間には、摺動抵抗を軽減する低摩擦部材280が介在している。例えば、アクチュエータ250の駆動力が左端ステ−252と右端ステ−254とを互いに近接する方向に作用した場合には、上部ブロック240の傾斜部242が下部ブロック230の傾斜部232に対して右方に移動する。そのため、上部ブロック240は、下部ブロック230に対して傾斜部232,242の傾斜角度に応じて上昇し、支持プレート210及びθテーブル40を上昇させる。
Further, a
また、アクチュエータ250の駆動力が左端ステ−252と右端ステ−254とを互いに離間する方向に作用した場合には、上部ブロック240の傾斜部242が下部ブロック230の傾斜部232に対して左方に移動する。そのため、上部ブロック240は、下部ブロック230に対して傾斜部232,242の傾斜角度に応じて降下し、支持プレート210及びθテーブル40を降下させる。
In addition, when the driving force of the actuator 250 acts in the direction in which the left end step-252 and the right end step-254 are separated from each other, the
従って、ステージ装置10Eでは、一対のθリニアモータ74からの回転力(偶力)によりθテーブル40をθz方向に回動させると共に、高さ調整機構200のアクチュエータ250の駆動方向によってθテーブル40を上昇または降下させて光学系に対する高さ位置を調整することが可能になる。
Therefore, in the stage apparatus 10E, the θ table 40 is rotated in the θz direction by the rotational force (couple) from the pair of θ
図8は実施例4のステージ装置を示す正面図である。尚、図8において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 8 is a front view showing the stage apparatus of the fourth embodiment. In FIG. 8, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図8に示されるように、ステージ装置10Dでは、前述した実施例2と同様に、各支柱60の下端に設けられた複数のエアパッド70が定盤20上を浮上して移動する構成になっている。そのため、支柱60及びエアパッド70は、θテーブル40を直接支持しながら定盤20上を移動することで、θテーブル40の平面精度(水平精度)を維持したままステージ30と共に移動する。
As shown in FIG. 8, the stage apparatus 10 </ b> D has a configuration in which a plurality of
さらに、ステージ装置10Dでは、上記実施例3と同様に、定盤20の左右側方に一対のYリニアモータ50が垂直状態で設けられている。また、スライダ32の側方には、支持部79に支持されたθリニアモータ74が垂直状態で配置されている。
Further, in the stage apparatus 10D, as in the third embodiment, a pair of Y
そして、θテーブル40とXステージ38との間には、上記高さ調整機構200(図7参照)が設けられている。この高さ調整機構200は、ピボット軸80を有する支持プレート210と、支持プレート210の高さ位置を調整する一対のレベリングユニット220とを有する。
The height adjusting mechanism 200 (see FIG. 7) is provided between the θ table 40 and the
ステージ装置10Hでは、上記実施例3と同様に、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74が垂直に設けられているので、マグネットヨーク52,76に対してコイルユニット54,78がY方向及び上方(Z方向)に相対移動可能に設けられている。そのため、高さ調整機構200によりθテーブル40を昇降させる際は、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74のマグネットヨーク52,76とコイルユニット54,78とが干渉せず、Yリニアモータ50及びθリニアモータ74がθテーブル40の昇降動作を妨げないように設けられている。
In the
図9は実施例5のステージ装置を示す正面図である。尚、図9において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 9 is a front view showing the stage apparatus of the fifth embodiment. In FIG. 9, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図9に示されるように、ステージ装置10Eは、前述した実施例1の変形例であり、実施例1(図2参照)の構成要素のうちYステージ36を駆動するためのYリニアモータ50が設けられていない。本実施例のステージ装置10Eでは、一対のθリニアモータ74がそれぞれ反対方向への推力を発生させてθテーブル40をθz方向に回動させるθz制御と、一対のθリニアモータ74がそれぞれ同一方向への推力を発生させてθテーブル40をY方向に移動させるY制御とを有する。
As shown in FIG. 9, the stage apparatus 10E is a modification of the above-described first embodiment, and a Y
そのため、本実施例によれば、上記Y制御によりθテーブル40をY方向に移動させると、上記ピボット軸80及び軸受62を介してステージ30をY方向に移動させることができるので、Yリニアモータ50を不要にでき、その分構成を簡略化して製造コストを安価に抑えることが可能になる。
Therefore, according to the present embodiment, when the θ table 40 is moved in the Y direction by the Y control, the
図10は実施例6のステージ装置を示す正面図である。尚、図10において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 10 is a front view showing the stage apparatus of the sixth embodiment. In FIG. 10, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図10に示されるように、ステージ装置10Fは、前述した実施例2の変形例であり、実施例2(図5参照)の構成要素のうちYステージ36を駆動するためのYリニアモータ50が設けられていない。本実施例のステージ装置10Fでは、上記実施例5と同様に、一対のθリニアモータ74がそれぞれ反対方向への推力を発生させてθテーブル40をθz方向に回動させるθz制御と、一対のθリニアモータ74がそれぞれ同一方向への推力を発生させてθテーブル40をY方向に移動させるY制御とを有する。
As shown in FIG. 10, the
そのため、本実施例によれば、上記Y制御によりθテーブル40をY方向に移動させると、上記ピボット軸80及び軸受62を介してステージ30をY方向に移動させることができるので、Yリニアモータ50を不要にでき、その分構成を簡略化して製造コストを安価に抑えることが可能になる。
Therefore, according to the present embodiment, when the θ table 40 is moved in the Y direction by the Y control, the
図11は実施例7のステージ装置を示す正面図である。尚、図11において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 11 is a front view showing the stage apparatus of the seventh embodiment. In FIG. 11, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図11に示されるように、ステージ装置10Gは、前述した実施例3の変形例であり、実施例3(図6参照)の構成要素のうちYステージ36を駆動するためのYリニアモータ50が設けられていない。本実施例のステージ装置10Eでは、上記実施例5〜6と同様に、一対のθリニアモータ74がそれぞれ反対方向への推力を発生させてθテーブル40をθz方向に回動させるθz制御と、一対のθリニアモータ74がそれぞれ同一方向への推力を発生させてθテーブル40をY方向に移動させるY制御とを有する。
As shown in FIG. 11, the
そのため、本実施例によれば、上記Y制御によりθテーブル40をY方向に移動させると、上記ピボット軸80及び軸受62を介してステージ30をY方向に移動させることができるので、Yリニアモータ50を不要にでき、その分構成を簡略化して製造コストを安価に抑えることが可能になる。
Therefore, according to the present embodiment, when the θ table 40 is moved in the Y direction by the Y control, the
図12は実施例8のステージ装置を示す正面図である。尚、図12において、上記実施例と同一部分には同一符号を付してその説明を省略する。 FIG. 12 is a front view showing the stage apparatus of the eighth embodiment. In FIG. 12, the same parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
図12に示されるように、ステージ装置10Hは、前述した実施例4の変形例であり、実施例4(図8参照)の構成要素のうちYステージ36を駆動するためのYリニアモータ50が設けられていない。本実施例のステージ装置10Hでは、上記実施例5〜7と同様に、一対のθリニアモータ74がそれぞれ反対方向への推力を発生させてθテーブル40をθz方向に回動させるθz制御と、一対のθリニアモータ74がそれぞれ同一方向への推力を発生させてθテーブル40をY方向に移動させるY制御とを有する。
As shown in FIG. 12, the
そのため、本実施例によれば、上記Y制御によりθテーブル40をY方向に移動させると、上記ピボット軸80及び軸受62を介してステージ30をY方向に移動させることができるので、Yリニアモータ50を不要にでき、その分構成を簡略化して製造コストを安価に抑えることが可能になる。
Therefore, according to the present embodiment, when the θ table 40 is moved in the Y direction by the Y control, the
上記実施例では、θリニアモータ74の固定子76を支持する支持部79を定盤20の側方に離間した床面に固定する場合を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、支持部79が受けたθリニアモータ74の反力が定盤20に伝播しない位置に設けてあれば良いので、床面以外の固定面に固定する構成としても良い。
In the above embodiment, the case where the
また、上記実施例5〜8では、Yリニアモータ50を除去した構成例を図示したが、これに限らず、例えば、上記実施例1〜4においても、θリニアモータ74により上記θz制御とY制御を行うことも可能であるのは言うまでもない。このようなケースとしては、例えば、Yリニアモータ50が作動不良になったり、あるいはYリニアモータ50をメンテナンスのため外した状態である場合などが考えられる。
In the fifth to eighth embodiments, the configuration example in which the Y
また、上記実施例では、ピボット軸80の上端外周を軸受82で軸承することによりθテーブル40を回動可能に支持する構成を例に挙げて説明したが、これに限らず、例えば、ピボット軸80の上端の形状を円錐形状や半球形状に形成し、これらの先端形状に応じた軸受を設ける構成としても良いのは勿論である。
In the above-described embodiment, the configuration in which the θ table 40 is rotatably supported by bearing the outer periphery of the upper end of the
また、上記実施例では、高さ調整機構200が、ピボット軸80を有する支持プレート210と、支持プレート210の高さ位置を調整する一対のレベリングユニット220とから構成された場合について説明したが、これに限らず、他の構成の昇降機構を用いても良いのは勿論である。
In the above-described embodiment, the case where the
10A〜10H ステージ装置
20 定盤
28 Y方向ガイドレール
30 ステージ
32 スライダ
34,70 エアパッド
36 Yステージ
38 Xステージ
40 θテーブル
50 Yリニアモータ
52 マグネットヨーク
54 コイルユニット
60 支柱
74 θリニアモータ
76 マグネットヨーク
78 コイルユニット
79 支持部
80 ピボット軸
82 軸受
200 高さ調整機構
10A to
Claims (9)
前記θテーブルの側面に結合された可動子と、前記可動子に対向配置された固定子とを有し、前記θテーブルを前記Z軸回りに駆動する一対のθリニアモータと、
前記定盤の側方に離間した位置に固定され、前記θリニアモータの固定子を支持する支持部と、
を備えたことを特徴とするステージ装置。 In a stage apparatus that has a stage that moves on a surface plate, and a θ table that is rotatably supported on the stage, and moves the stage together with the θ table,
A pair of θ linear motors having a mover coupled to a side surface of the θ table, and a stator disposed opposite to the mover, and driving the θ table about the Z axis;
A support portion fixed to a position spaced apart to the side of the surface plate, and supporting a stator of the θ linear motor;
A stage apparatus comprising:
前記θテーブルが前記ピボット軸の軸回りに回転するように前記ピボット軸を軸承する軸受と、
を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載のステージ装置。 A pivot shaft that stands vertically between the center of the upper surface of the stage and the center of the lower surface of the θ table;
A bearing for bearing the pivot shaft such that the θ table rotates about the axis of the pivot shaft;
The stage apparatus according to claim 1, further comprising:
該支柱の下端に前記ステージ上を空気圧により浮上して移動するエアパッドと、
を有することを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のステージ装置。 A plurality of struts formed extending in the hanging direction from the lower surface of the θ table;
An air pad that floats and moves on the stage by air pressure at the lower end of the column;
The stage apparatus according to claim 1, comprising:
該支柱の下端に前記定盤上を空気圧により浮上して移動するエアパッドと、
を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のステージ装置。 A plurality of struts formed extending in the hanging direction from the lower surface of the θ table;
An air pad that floats and moves on the surface plate by air pressure at the lower end of the column;
The stage apparatus according to claim 1, comprising:
前記Xステージ上に前記θテーブルが前記Z軸回りに回転可能に支持されたことを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のステージ装置。 The stage has a Y stage that moves in the Y direction, and an X stage that moves in the X direction perpendicular to the Y direction,
7. The stage apparatus according to claim 1, wherein the θ table is supported on the X stage so as to be rotatable about the Z axis.
前記支持プレートは、高さ位置を調整する高さ調整機構を介して支持されたことを特徴とする請求項3に記載のステージ装置。 The pivot shaft is supported by a support plate arranged to face the lower surface of the θ table,
The stage apparatus according to claim 3, wherein the support plate is supported via a height adjustment mechanism that adjusts a height position.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006056724A JP2007232648A (en) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | Stage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006056724A JP2007232648A (en) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | Stage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007232648A true JP2007232648A (en) | 2007-09-13 |
Family
ID=38553357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006056724A Pending JP2007232648A (en) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | Stage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007232648A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219390A (en) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Xy stage device, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor aligner |
JP2014500134A (en) * | 2010-10-07 | 2014-01-09 | ポステック アカデミー−インダストリー ファウンデーション | Electric field assisted robotic nozzle printer and method for manufacturing aligned organic wire pattern using the same |
JP2014055853A (en) * | 2012-09-12 | 2014-03-27 | Panasonic Corp | Shape measurement device |
CN103971755A (en) * | 2014-05-07 | 2014-08-06 | 佘峰 | Fine-adjustment shifting-block-type adjusting plate |
JP2015020220A (en) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 日立金属株式会社 | Stage device |
WO2022169164A1 (en) * | 2021-02-04 | 2022-08-11 | (주)하드램 | Micro-led selective air gap transfer printing device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11344585A (en) * | 1998-03-31 | 1999-12-14 | Nippon Seiko Kk | Biaxial moving device |
JP2004200218A (en) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Nikon Corp | Supporting device and stage device, and exposure system |
JP2005132649A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd | Y-theta TABLE DEVICE, AND AUTOMATIC GLASS SCRIBER PROVIDED WITH THE SAME |
-
2006
- 2006-03-02 JP JP2006056724A patent/JP2007232648A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11344585A (en) * | 1998-03-31 | 1999-12-14 | Nippon Seiko Kk | Biaxial moving device |
JP2004200218A (en) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Nikon Corp | Supporting device and stage device, and exposure system |
JP2005132649A (en) * | 2003-10-29 | 2005-05-26 | Kawaguchiko Seimitsu Co Ltd | Y-theta TABLE DEVICE, AND AUTOMATIC GLASS SCRIBER PROVIDED WITH THE SAME |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219390A (en) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Xy stage device, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor aligner |
US8517363B2 (en) | 2009-03-18 | 2013-08-27 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | XY stage device, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor exposure apparatus |
JP2014500134A (en) * | 2010-10-07 | 2014-01-09 | ポステック アカデミー−インダストリー ファウンデーション | Electric field assisted robotic nozzle printer and method for manufacturing aligned organic wire pattern using the same |
JP2014055853A (en) * | 2012-09-12 | 2014-03-27 | Panasonic Corp | Shape measurement device |
JP2015020220A (en) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 日立金属株式会社 | Stage device |
CN103971755A (en) * | 2014-05-07 | 2014-08-06 | 佘峰 | Fine-adjustment shifting-block-type adjusting plate |
WO2022169164A1 (en) * | 2021-02-04 | 2022-08-11 | (주)하드램 | Micro-led selective air gap transfer printing device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4782710B2 (en) | Stage equipment | |
KR101087529B1 (en) | Stage device | |
KR100909585B1 (en) | Stage device | |
CN100580545C (en) | High resolution, dynamic positioning mechanism for specimen inspection and processing | |
KR101176781B1 (en) | XY stage apparatus, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor exposure apparatus | |
JP4877925B2 (en) | Stage equipment | |
JPH0737771A (en) | Supporting device | |
JP2007232648A (en) | Stage device | |
JP2011119320A (en) | thetaZ DRIVE DEVICE AND STAGE DEVICE WITH THE SAME, AND INSPECTION DEVICE | |
CN102333615A (en) | Flexure guide bearing for short stroke stage | |
JP2011112625A (en) | Two-axis orthogonal guide device, three-axis orthogonal guide device, three-axis orthogonal/rotational guide device, and table device | |
JP4402078B2 (en) | Stage equipment | |
JP2007171015A (en) | Plane stage device | |
JP3940277B2 (en) | Stage equipment | |
JP3732763B2 (en) | Stage equipment | |
JP2006083964A (en) | Stage slider mechanism | |
JP2009103468A (en) | Stage device | |
JP2007184193A (en) | Charged particle beam device | |
JP4231436B2 (en) | Moving stage, XY stage, head carriage, magnetic head or magnetic disk tester | |
JP2013007566A (en) | Positioning device | |
KR102688248B1 (en) | Zt stage | |
JP4106477B2 (en) | Stage equipment | |
JP2023114174A (en) | Table device | |
JP5406507B2 (en) | Planar moving stage device | |
JP4897008B2 (en) | Stage apparatus, semiconductor inspection apparatus, and semiconductor exposure apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080416 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110303 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110322 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110726 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111206 |