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JP2007229786A - Laser machining system and focussing control method - Google Patents

Laser machining system and focussing control method Download PDF

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JP2007229786A
JP2007229786A JP2006056721A JP2006056721A JP2007229786A JP 2007229786 A JP2007229786 A JP 2007229786A JP 2006056721 A JP2006056721 A JP 2006056721A JP 2006056721 A JP2006056721 A JP 2006056721A JP 2007229786 A JP2007229786 A JP 2007229786A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
image data
focusing
slit
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006056721A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenta Tanaka
研太 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP2006056721A priority Critical patent/JP2007229786A/en
Publication of JP2007229786A publication Critical patent/JP2007229786A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser machining system and a focussing control method, capable of achieving focussing with high precision. <P>SOLUTION: The laser machining system where the focus of laser light emitted to a machining object through an image forming lens is controlled to perform laser machining, is provided with: a mask 58 having a slit for focussing; an image pick-up means 54 where a machining mark machined by the laser light emitted to the machining object 19 through the slit and the image forming lens 14 is photographed; an image selection control means 55 where, based on image data on a plurality of the machining marks photographed by the image pick-up means and the image data on a machining mark as a preset standard, specified image data are selected; and a control means 57 where, based on the image data on the machining mark selected by the image selection control means, the distance between the machining object and the image forming lens is regulated so as to perform focussing. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、レーザ加工装置及び焦点合わせ制御方法に係り、特に高精度な焦点合わせを実現するためのレーザ加工装置及び焦点合わせ制御方法に関する。   The present invention relates to a laser processing apparatus and a focusing control method, and more particularly to a laser processing apparatus and a focusing control method for realizing highly accurate focusing.

従来より、CO(炭酸ガス)レーザやYAGレーザ、エキシマレーザ等を用いて、半導体等の加工対象物への加工が行われている。また、レーザ光は、主に加工対象物の加工面への照射に対し、高いエネルギー密度を利用した溶接、切断、穴開け等の加工に用いられている。 Conventionally, a processing target such as a semiconductor is processed using a CO 2 (carbon dioxide) laser, a YAG laser, an excimer laser, or the like. Further, laser light is mainly used for processing such as welding, cutting, and drilling using a high energy density with respect to irradiation of a processing surface of a workpiece.

また、別の方法として、マスクによりビームスポット径をある程度大きめ(1〜数十mm)に設定して、加工面の限られた領域のみを溶融しながら材料の表面機能を向上させるアニール(表面改質)処理としても利用されている。例えば、結晶等を連続成長させるアニール基板等の加工対象物においては、マスク及び高解像度の結像レンズを通過したレーザ光が加工対象物に結像されることでレーザ加工を行う。   Another method is to set the beam spot diameter to a certain extent (1 to several tens of millimeters) using a mask, and anneal (surface modification) to improve the surface function of the material while melting only a limited area of the processed surface. Quality) is also used for processing. For example, in a processing object such as an annealed substrate on which crystals or the like are continuously grown, laser processing is performed by forming an image of the laser light that has passed through a mask and a high-resolution imaging lens on the processing object.

ここで、解像度とは、マスクに形成されたスリット及び結像レンズを通過することで加工対象物の表面に形成されるレーザ光の強度分布における端部のスロープ(傾き)を示す。また、このスロープ部分の距離が短いほど、高解像度となる。なお、アニール処理における加工対象物への照射焦点深度は浅いものとなる。   Here, the resolution indicates the slope (inclination) of the edge in the intensity distribution of the laser beam formed on the surface of the object to be processed by passing through the slit formed in the mask and the imaging lens. Moreover, the shorter the distance of the slope portion, the higher the resolution. Note that the depth of focus of irradiation on the object to be processed in the annealing process is shallow.

ここで、レーザ加工を高精度に行うためには、焦点合わせが重要となる。ここで、従来の焦点合わせに関する技術としては、焦点合わせのために予め加工対象物にレーザ加工を行い、その加工対象物をオペレータが取り出して顕微鏡等により確認することで適切な位置に焦点合わせを行う手法がある。しかしながら、上述の手法は、オペレータに多大な負担と時間がかかってしまい、またオペレータ毎に差が生じるため焦点合わせの精度に欠けていた。   Here, in order to perform laser processing with high accuracy, focusing is important. Here, as a conventional technique related to focusing, laser processing is performed on an object to be processed in advance for focusing, and an operator takes out the object to be processed and confirms it with a microscope or the like, thereby focusing on an appropriate position. There is a technique to do. However, the above-described method takes a great burden and time on the operator, and a difference occurs for each operator, so that focusing accuracy is lacking.

そこで、他の手法として例えば非接触センサ(非接触変位計)を使用して基板照射面を規定の高さに合わせる手法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。また、その他の手法としては、加工対象物を載置する加工テーブルにレーザプロファイラ等に代表される強度分布測定装置を設置し、レーザプロファイラを用いて焦点位置を決定する手法がある。   Therefore, as another method, for example, a method of using a non-contact sensor (non-contact displacement meter) to adjust the substrate irradiation surface to a specified height is disclosed (for example, see Patent Document 1). As another method, there is a method in which an intensity distribution measuring device represented by a laser profiler or the like is installed on a processing table on which a processing target is placed, and a focal position is determined using the laser profiler.

ここで、上述の内容における従来のレーザ加工装置について図を用いて説明する。図8は、従来のレーザ加工装置の一構成例を示す図である。図8に示すレーザ加工装置10は、レーザ発振器11と、反射ミラー12と、マスク13と、イメージングレンズ14と、加工ステージ15と、加工ステージ駆動手段16と、プロファイラ17と、制御手段18とを有するよう構成されている。   Here, the conventional laser processing apparatus in the above-mentioned content is demonstrated using figures. FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration example of a conventional laser processing apparatus. A laser processing apparatus 10 shown in FIG. 8 includes a laser oscillator 11, a reflection mirror 12, a mask 13, an imaging lens 14, a processing stage 15, a processing stage driving unit 16, a profiler 17, and a control unit 18. It is comprised so that it may have.

レーザ発振器11は、制御手段18からの制御信号によりレーザ光を反射ミラー12に対して出射する。ここで、レーザ光としては、例えば1パルスエネルギが1Jで発振周波数が300Hz、波長が308nmのXeClエキシマレーザ等を用いることができる。なお、レーザ光の種類については特に限定されることはなく、例えば波長が248nmのKrFエキシマレーザや、波長が222nmのKrClエキシマレーザ、あるいはYAGレーザやCOレーザ等を用いることもできる。 The laser oscillator 11 emits laser light to the reflection mirror 12 according to a control signal from the control means 18. Here, as the laser light, for example, an XeCl excimer laser having 1 pulse energy of 1 J, an oscillation frequency of 300 Hz, and a wavelength of 308 nm can be used. The type of laser light is not particularly limited. For example, a KrF excimer laser having a wavelength of 248 nm, a KrCl excimer laser having a wavelength of 222 nm, a YAG laser, a CO 2 laser, or the like can be used.

また、反射ミラー12は、レーザ発振器11から出射されたレーザ光を、マスク13側へ反射させる。マスク13は、レーザ光を所定の形状にするための開口部(スリット)が形成されている。ここで、マスクの種類については特に限定されることはなく、例えば安価で短納期製作が可能なクロムマスクを使用することができる。   The reflection mirror 12 reflects the laser beam emitted from the laser oscillator 11 toward the mask 13. The mask 13 has an opening (slit) for making the laser beam a predetermined shape. Here, the type of the mask is not particularly limited, and for example, a chrome mask that is inexpensive and can be manufactured with a short delivery time can be used.

マスク13のスリットを通過したレーザ光は、イメージジングレンズ14に照射される。イメージングレンズ14は、加工対象物19に照射される光の強度が所定の強度で加工面に結像されるようにレーザ光を集束するための結像レンズである。また、イメージングレンズ14は、集束したレーザ光を加工対象物19に照射する。   The laser beam that has passed through the slit of the mask 13 is applied to the imaging lens 14. The imaging lens 14 is an imaging lens for focusing the laser beam so that the intensity of the light applied to the workpiece 19 is imaged on the processing surface with a predetermined intensity. Further, the imaging lens 14 irradiates the object 19 with the focused laser beam.

加工ステージ15は、加工対象物19を所定の位置に移動させるためのステージであり、例えば真空吸着等によって加工対象物19が加工ステージ15上に固定されている。   The processing stage 15 is a stage for moving the processing object 19 to a predetermined position. For example, the processing object 19 is fixed on the processing stage 15 by vacuum suction or the like.

また、加工ステージ駆動手段16は、制御手段18からの制御信号により、加工ステージ15を図8に示すレーザ光の光軸に対して垂直方向(X,Y軸方向)や光軸方向(Z軸方向)、及び光軸に対して所定の傾斜角θ方向等へ移動させることで、加工対象物19を所定の位置に移動する。また、例えばレーザ照射中に所定の方向へ所定の速度で移動させることにより、加工対象物の加工面にアニール処理等を行うことができる。   Further, the processing stage driving means 16 makes the processing stage 15 perpendicular to the optical axis of the laser beam shown in FIG. 8 (X and Y axis directions) or optical axis direction (Z axis) according to a control signal from the control means 18. Direction) and a predetermined inclination angle θ direction with respect to the optical axis, etc., thereby moving the workpiece 19 to a predetermined position. Further, for example, by performing movement at a predetermined speed in a predetermined direction during laser irradiation, an annealing process or the like can be performed on the processing surface of the processing object.

プロファイラ17は、加工ステージ15の側壁に設置され、加工対象物19に照射されるレーザ光の強度を測定する強度分布測定装置である。プロファイラ17を有することにより、光の強度の端部の傾き(解像度)を測定することができる。制御手段18は、プロファイラ17から得られる計測結果に基づいて加工ステージ駆動手段16の光軸(Z軸)方向の調整を行い、加工対象物19への焦点合わせを行う。また、制御手段18は、レーザ発振器11のおけるレーザ光の出射タイミングや加工時における加工ステージ15を駆動させるための加工ステージ駆動手段16の駆動タイミングの制御を行う。   The profiler 17 is an intensity distribution measuring device that is installed on the side wall of the processing stage 15 and measures the intensity of the laser light applied to the processing object 19. By having the profiler 17, it is possible to measure the inclination (resolution) of the end of the light intensity. The control unit 18 adjusts the optical axis (Z-axis) direction of the processing stage driving unit 16 based on the measurement result obtained from the profiler 17 and performs focusing on the processing object 19. Further, the control means 18 controls the emission timing of the laser beam in the laser oscillator 11 and the drive timing of the processing stage driving means 16 for driving the processing stage 15 at the time of processing.

<解像度について>
ここで、上述した解像度について、図を用いて説明する。図9は、解像度を説明するための一例の図である。図9に示すように、マスク13には、加工対象物19に対して所定の形状のレーザ光を照射するため、開口部としてのスリット21が設けられている。スリット21は所定のスリット幅が設けているため、加工対象物19に照射されるレーザ光は、理想的には光の強度分布22及び加工痕23に示すように矩形となる。
<About resolution>
Here, the above-described resolution will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a diagram illustrating an example of the resolution. As shown in FIG. 9, the mask 13 is provided with a slit 21 as an opening for irradiating the workpiece 19 with a laser beam having a predetermined shape. Since the slit 21 has a predetermined slit width, the laser light applied to the workpiece 19 is ideally rectangular as shown by the light intensity distribution 22 and the processing mark 23.

しかしながら、実際にレーザ加工を行うには、上述したようにイメージングレンズ14によってレーザ光を集束し加工対象物の表面に結像させる必要があり、その結果、図9に示す光の強度分布24及び加工痕25のようになる。このとき、光の強度分布24に示すように端部に傾き(傾き)が生じ、このスロープが解像度を表す。また、レーザ光の強度分布がスロープを有することにより、実際の加工痕25は図9に示すように理想的な加工痕23よりも幅広になる。   However, in order to actually perform the laser processing, it is necessary to focus the laser light by the imaging lens 14 and form an image on the surface of the processing target as described above. As a result, the light intensity distribution 24 and the light shown in FIG. It looks like a machining mark 25. At this time, as shown in the light intensity distribution 24, an inclination (inclination) occurs at the end, and this slope represents the resolution. Further, since the intensity distribution of the laser beam has a slope, the actual processing mark 25 becomes wider than the ideal processing mark 23 as shown in FIG.

また、スロープ(解像度)は、結像レンズに対応して決定されるものである。また、一般には良好な加工に必要なスロープは、一端のスロープ全体の区間に対して20%の位置から90%の位置までの区間が非常に小さい。上述したように従来では、プロファイラで計測されるスロープ(解像度)により焦点合わせを行っている。
特開2001−44136号公報
The slope (resolution) is determined corresponding to the imaging lens. In general, the slope required for good machining is very small in a section from a position of 20% to a position of 90% with respect to a section of the entire slope at one end. As described above, conventionally, focusing is performed by the slope (resolution) measured by the profiler.
JP 2001-44136 A

しかしながら、プロファイラを用いる場合、加工対象物の厚さ等により焦点合わせに誤差が生じる可能性がある。具体的に説明すると、図10の従来のプロファイラの設置例に示すように、通常図8に示すようなレーザ加工装置10において、プロファイラ17は加工ステージ15の高さに合わせて設置されている。また、加工ステージ15とプロファイラ17との間に固定部材31を介している場合がある。   However, when a profiler is used, there is a possibility that an error occurs in focusing due to the thickness of the workpiece. More specifically, as shown in the conventional profiler installation example in FIG. 10, the profiler 17 is usually installed at the height of the processing stage 15 in the laser processing apparatus 10 as shown in FIG. 8. In some cases, a fixing member 31 is interposed between the processing stage 15 and the profiler 17.

つまり、加工対象物19の厚さは加工対象物の種類により異なるため、プロファイラ17の位置を常時により加工対象物19の表面の位置に位置合わせを行うことは困難となる。更に、例えばプロファイラ17を固定している固定部材31にレーザ光の照射による熱変形が生じた場合には、加工対象物19と、プロファイラ17との相対位置に誤差が生じてしまう。したがって、以上のような状態からではプロファイラ17から正確な計測結果を得ることはできず、そのため高精度な焦点合わせができなかった。   That is, since the thickness of the workpiece 19 varies depending on the type of the workpiece, it is difficult to always align the position of the profiler 17 with the position of the surface of the workpiece 19. Furthermore, for example, when thermal deformation due to laser light irradiation occurs in the fixing member 31 that fixes the profiler 17, an error occurs in the relative position between the workpiece 19 and the profiler 17. Therefore, an accurate measurement result cannot be obtained from the profiler 17 from the above state, and thus high-precision focusing cannot be performed.

また、特許文献1に記載された非接触センサを用いた手法の場合、加工対象物に直接加工せずに焦点合わせを行うことができるが、より高精度な焦点合わせを行うためには実際に加工対象物に加工を行って確認するほうが好ましい。   Further, in the case of the technique using the non-contact sensor described in Patent Document 1, focusing can be performed without directly processing the processing target, but in order to perform focusing with higher accuracy, it is actually necessary. It is preferable to confirm by processing the object to be processed.

本発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであり、高精度な焦点合わせを実現するためのレーザ加工装置及び焦点合わせ制御方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a laser processing apparatus and a focusing control method for realizing highly accurate focusing.

上述の目的を達成するために、本発明は、結像レンズを通過して加工対象物に照射されるレーザ光の焦点を制御してレーザ加工を行うレーザ加工装置において、焦点合わせ用のスリットを有するマスクと、前記スリット及び前記結像レンズを通過して前記加工対象物に照射されたレーザ光により加工された加工痕を撮影する撮像手段と、前記撮像手段により撮影された複数の加工痕の画像データと、予め設定された基準となる加工痕の画像データとに基づいて、特定の画像データを選択する画像選択制御手段と、前記画像選択制御手段により選択された加工痕の画像データに基づいて、前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を調整して焦点合わせを行うよう制御する制御手段とを有することを特徴とする。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   In order to achieve the above-described object, the present invention provides a focusing slit in a laser processing apparatus that performs laser processing by controlling the focus of laser light that passes through an imaging lens and is irradiated on a processing object. A mask having imaging means for photographing a processing mark processed by a laser beam that has passed through the slit and the imaging lens and applied to the processing object, and a plurality of processing marks photographed by the imaging means. Based on the image data and the image data of the processing mark as a reference set in advance, based on the image selection control means for selecting specific image data, and the image data of the processing mark selected by the image selection control means And control means for controlling to adjust the distance between the object to be processed and the imaging lens to perform focusing. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

更に、前記制御手段は、前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を変えて、前記スリット及び前記結像レンズを通過したレーザ光により前記加工対象物に複数の加工痕を生成させることが好ましい。これにより、実際に複数の加工痕を生成して、その中から最適な加工痕を選択することができる。したがって、高精度な焦点合わせを実現することができる。   Further, the control means may change the distance between the object to be processed and the imaging lens, and generate a plurality of processing marks on the object to be processed by the laser light that has passed through the slit and the image forming lens. preferable. As a result, a plurality of machining traces can be actually generated, and an optimum machining trace can be selected from them. Therefore, highly accurate focusing can be realized.

更に、前記複数の加工痕のそれぞれの画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとの相関係数を算出する相関係数算出手段を有し、前記画像選択制御手段は、前記相関係数算出手段により得られる算出結果に基づいて、前記基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することが好ましい。これにより、より正確に基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することができる。したがって、高精度な焦点合わせを実現することができる。   Further, the image selection control means includes correlation coefficient calculation means for calculating a correlation coefficient between each image data of the plurality of processing marks and the image data of the reference processing marks, and the image selection control means includes the correlation Based on the calculation result obtained by the number calculating means, it is preferable to select the image data of the processing trace closest to the reference processing trace image data. Thereby, it is possible to select the image data of the processing mark closest to the reference processing image data as a reference more accurately. Therefore, highly accurate focusing can be realized.

更に、前記複数の加工痕の画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとを表示する表示手段と、前記複数の加工痕の画像データから特定の画像データの選択情報を受け付ける入力手段とを有し、前記画像選択制御手段は、前記入力手段により得られる選択情報から加工痕の画像データを選択することが好ましい。これにより、オペレータは加工対象物の加工痕を直接目視するよりも、迅速かつ容易に加工痕を参照して、最適な加工痕の選択を行うことができる。   Furthermore, display means for displaying the image data of the plurality of processing marks and the image data of the processing marks serving as the reference, and input means for receiving selection information of specific image data from the image data of the plurality of processing marks Preferably, the image selection control means selects image data of a processing mark from selection information obtained by the input means. Thus, the operator can select an optimum machining trace quickly and easily by referring to the machining trace rather than directly viewing the machining trace of the workpiece.

更に、前記スリットは、前記結像レンズを通過させて前記加工対象物に照射されるレーザ光の強度分布が、前記結像レンズにより決定されるスロープ部分のみになるようにスリット幅を形成することが好ましい。これにより、解像度付近のスリット幅を用いることで、焦点位置の変化に対する加工痕の変化を顕著に見ることができる。したがって、この加工痕に基づいて焦点合わせを行うことにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。   Furthermore, the slit forms a slit width so that the intensity distribution of the laser beam irradiated to the object to be processed through the imaging lens is only a slope portion determined by the imaging lens. Is preferred. Thereby, by using the slit width in the vicinity of the resolution, it is possible to notice the change in the processing mark with respect to the change in the focal position. Therefore, highly accurate focusing can be realized by performing focusing based on the processing marks.

更に、前記スリットを、実際の加工用のスリットが形成されたマスクに形成することが好ましい。これにより、焦点合わせ用のスリットを有するマスクと加工用のスリットを有するマスクとを別々にすることにより生じるスリットの厚みや素材等が原因の焦点合わせの誤差を防止することができる。   Furthermore, it is preferable to form the slit in a mask in which a slit for actual processing is formed. Thereby, it is possible to prevent focusing errors caused by the thickness of the slit, the material, and the like, which are caused by separating the mask having the slit for focusing and the mask having the slit for processing.

更に、前記マスクを移動させて、前記加工用のスリットと、前記焦点合わせ用のスリットとを入れ替えるためのマスクステージ駆動手段を有することが好ましい。これにより、同一のマスクを用いることで、厚みや素材等により生じる誤差を防止することができる。   Furthermore, it is preferable to have a mask stage driving means for moving the mask and replacing the slit for processing and the slit for focusing. Thereby, the error which arises by thickness, a raw material, etc. can be prevented by using the same mask.

また、本発明は、結像レンズを通過して加工対象物に照射されるレーザ光の焦点を制御してレーザ加工を行うレーザ加工装置における焦点合わせ制御方法において、前記結像レンズと前記加工対象物の距離を変えて複数の焦点合わせ用の加工を行う焦点合わせ加工ステップと、前記焦点合わせ加工ステップにより加工されたそれぞれの加工痕を撮影する撮影ステップと、前記撮影ステップにより撮影された前記加工痕の画像データと、予め設定された基準となる加工痕の画像データとに基づいて特定の画像データの選択を行う画像選択ステップと、前記画像選択ステップにより得られた加工痕の画像データに基づいて、前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を調整して焦点合わせを行うよう制御する焦点合わせ制御ステップとを有することを特徴とする。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   The present invention also relates to a focusing control method in a laser processing apparatus that performs laser processing by controlling a focus of laser light that passes through an imaging lens and is irradiated on a processing target, and the imaging lens and the processing target A focusing processing step for performing processing for a plurality of focusing by changing the distance of the object, a photographing step for photographing each processing mark processed by the focusing processing step, and the processing photographed by the photographing step An image selection step for selecting specific image data based on the image data of the trace and the image data of the processing trace serving as a reference set in advance, and based on the image data of the processing trace obtained by the image selection step And a focusing control step for controlling to adjust the distance between the object to be processed and the imaging lens. The features. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

更に、前記複数の加工痕のそれぞれの画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとの相関係数を算出する相関係数算出ステップを有し、前記画像選択ステップは、前記相関係数算出ステップにより得られる算出結果に基づいて、前記基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することが好ましい。これにより、より正確に基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することができる。したがって、高精度な焦点合わせを実現することができる。   And a correlation coefficient calculating step of calculating a correlation coefficient between each image data of the plurality of processing marks and the reference processing mark image data, and the image selection step includes the correlation coefficient It is preferable to select the image data of the processing trace closest to the reference processing trace image data based on the calculation result obtained in the calculation step. Thereby, it is possible to select the image data of the processing mark closest to the reference processing image data as a reference more accurately. Therefore, highly accurate focusing can be realized.

更に、前記複数の加工痕の画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとを表示させる表示ステップと、オペレータから画像データの選択情報を受け付ける選択情報入力ステップとを有し、前記画像選択ステップは、前記選択情報入力ステップにより得られた前記選択情報により、複数の加工痕の画像データから特定の加工痕の画像データを選択することが好ましい。これにより、オペレータは加工対象物の加工痕を直接目視するよりも、迅速かつ容易に加工痕を参照して、最適な加工痕の選択を行うことができる。   And a display step for displaying the image data of the plurality of processing marks and the image data of the processing marks as a reference, and a selection information input step for receiving selection information of image data from an operator. Preferably, the step selects image data of a specific processing mark from a plurality of processing mark image data based on the selection information obtained in the selection information input step. Thus, the operator can select an optimum machining trace quickly and easily by referring to the machining trace rather than directly viewing the machining trace of the workpiece.

更に、前記焦点合わせ加工ステップは、前記加工対象物を加工するための加工用のスリットと、焦点合わせ用のスリットとが形成されたマスクを用いて、前記焦点合わせ用のスリットを前記レーザ光の入光位置に位置付けて前記焦点合わせ用の加工を行うことが好ましい。これにより、同一のマスクを用いることで、厚みや素材等により生じる誤差を防止することができる。   Further, the focusing processing step uses the mask on which the processing slit for processing the processing object and the slit for focusing are formed, and the slit for focusing is formed on the laser beam. It is preferable that the focusing process is performed at the light incident position. Thereby, the error which arises by thickness, a raw material, etc. can be prevented by using the same mask.

本発明によれば、高精度な焦点合わせを実現することができる。   According to the present invention, highly accurate focusing can be realized.

<本発明の概要>
本発明は、結像レンズ(光学系全般を含む)により決定される解像度のみからなる光の強度分布が得られるようなスリット幅を有する焦点合わせ用スリットをマスクに形成し、その焦点合わせ用スリットを介してレンズと加工対象物との距離(光軸(Z軸)方向の位置)を変えて加工対象物に複数の加工を行い、その加工結果(加工痕)を確認する。
<Outline of the present invention>
The present invention forms a focusing slit having a slit width so as to obtain a light intensity distribution having only a resolution determined by an imaging lens (including the entire optical system) as a mask, and the focusing slit. A plurality of processings are performed on the processing target by changing the distance (position in the optical axis (Z-axis) direction) between the lens and the processing target via, and the processing result (processing trace) is confirmed.

ここで、上述の内容について図を用いて説明する。図1は、本発明の概要を説明するための一例の図である。本発明では、図1(a)に示すように、マスク41に実際の加工を行うときに用いられる加工用スリット42と焦点合わせ用スリット43とが形成されている。なお、焦点合わせ用スリット43は、このスリット及び結像レンズを通過して加工対象物の加工面に照射されるレーザ光の強度分布がスロープ(解像度)のみから形成されるようなスリット幅が形成される。   Here, the above-mentioned content is demonstrated using figures. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of the outline of the present invention. In the present invention, as shown in FIG. 1A, a processing slit 42 and a focusing slit 43 that are used when the mask 41 is actually processed are formed. The focusing slit 43 has such a slit width that the intensity distribution of the laser light that passes through the slit and the imaging lens and is irradiated onto the processing surface of the processing object is formed only from the slope (resolution). Is done.

また、焦点合わせ用スリット43を通過させたレーザ光を結像レンズと加工対象物との距離を変えながら、加工対象物にレーザ光を照射しレーザ加工を行う。距離を変えることで、図1(b)に示すように、強度分布44−1,44−2,44−3,・・・というようにそれぞれ異なるスロープ(傾斜)が得られる。これにより、図1(c)に示すように、加工痕45−1,45−2,・・・というようにそれぞれ異なる形状となる。   Further, laser processing is performed by irradiating the processing target with laser light while changing the distance between the imaging lens and the processing target with the laser light that has passed through the focusing slit 43. By changing the distance, different slopes (tilts) such as intensity distributions 44-1, 44-2, 44-3,... Are obtained as shown in FIG. Thereby, as shown in FIG.1 (c), it becomes a respectively different shape like the process trace 45-1, 45-2, ....

また、加工対象物の表面に加工痕を残すエネルギー密度には閾値がある。図1(b)に示す各強度分布44のエネルギー(三角形の面積)の総量は同じであり、スロープが寝ている場合には、急激にその閾値を下回ることになる。このように解像度に対応させたスリット幅を用いることで、焦点位置の変化に対する加工痕の変化を顕著に見ることができる。したがって、この加工痕に基づいて焦点合わせを行うことにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。   Moreover, there is a threshold value for the energy density that leaves a processing mark on the surface of the processing object. The total amount of energy (triangle area) of each intensity distribution 44 shown in FIG. 1B is the same, and when the slope is sleeping, it falls rapidly below the threshold. Thus, by using the slit width corresponding to the resolution, it is possible to notice the change of the processing mark with respect to the change of the focal position. Therefore, highly accurate focusing can be realized by performing focusing based on the processing marks.

また、どの加工痕が焦点の合っているものであるかを確認する際には、オペレータの目視による確認でもよいが、加工痕を画像データとして取得するCCD(Charge Coupled Devices)撮像素子からなるカメラ(撮像手段)を有し、そのカメラにより撮影された加工痕の画像データと、予め焦点が合っている状態で取得した予め設定された基準となる加工痕の画像データとを比較することにより、所望する加工痕を加工したZ軸位置に位置付けることができる。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   Further, when confirming which processing trace is in focus, the operator may check it visually, but a camera comprising a CCD (Charge Coupled Devices) image sensor that acquires the processing trace as image data. (Image pickup means) By comparing the image data of the processing trace photographed by the camera with the image data of the processing trace serving as a preset reference acquired in a state of being in focus in advance, A desired machining mark can be positioned at the machined Z-axis position. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

次に、本発明におけるレーザ加工装置及び焦点合わせ制御方法を好適に実施した形態について、図面を用いて説明する。なお、以下に示す第1の実施形態において、図1に示したレーザ加工装置10と同様の構成については同一符号を用いることとし、その説明は省略する。   Next, a preferred embodiment of the laser processing apparatus and the focusing control method according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the first embodiment described below, the same reference numerals are used for the same components as those of the laser processing apparatus 10 shown in FIG. 1, and the description thereof is omitted.

<第1の実施形態>
図2は、第1の実施形態におけるレーザ加工装置の一構成例を示す図である。図2に示すレーザ加工装置50は、レーザ発振器11と、反射ミラー12と、イメージングレンズ14と、加工ステージ15と、加工ステージ駆動装置16と、マスクステージ51と、マスクステージ駆動手段52と、ハイトセンサ53と、カメラ54と、画像選択制御手段55と、相関係数算出手段56と、制御手段57とを有するよう構成されている。
<First Embodiment>
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of the laser processing apparatus according to the first embodiment. 2 includes a laser oscillator 11, a reflection mirror 12, an imaging lens 14, a processing stage 15, a processing stage driving device 16, a mask stage 51, a mask stage driving means 52, and a height. The sensor 53, the camera 54, the image selection control means 55, the correlation coefficient calculation means 56, and the control means 57 are comprised.

第1の実施形態におけるレーザ加工装置50は、マスクステージ51にマスク58を載置し、マスクステージ駆動手段52により、マスク58をXY軸方向(光軸に対して垂直方向)に移動させる。ここで、マスク58及びマスクステージ51について、図を用いて説明する図3は、本実施形態におけるマスク及びマスクステージの一例を説明するための図である。なお、図3では、マスク58とマスクステージ51とが離れた図を示しているが、使用中は真空吸着等によってマスク58がマスクステージ51上に固定されている。
図3に示すように、マスク58には、加工対象物19を加工するための加工用スリット61と、焦点合わせ用スリット62とを有している。
The laser processing apparatus 50 according to the first embodiment places the mask 58 on the mask stage 51 and moves the mask 58 in the XY axis direction (perpendicular to the optical axis) by the mask stage driving unit 52. Here, the mask 58 and the mask stage 51 will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a diagram for explaining an example of the mask and the mask stage in the present embodiment. In FIG. 3, the mask 58 and the mask stage 51 are separated from each other, but the mask 58 is fixed on the mask stage 51 by vacuum suction or the like during use.
As shown in FIG. 3, the mask 58 has a processing slit 61 for processing the processing object 19 and a focusing slit 62.

なお、焦点合わせ用スリット62は、上述したように使用するイメージングレンズ14により決定される解像度(スロープ)に基づいてスリット幅が形成されている。したがって、焦点合わせを行う場合には、マスクステージ駆動手段52が制御手段57からの制御信号によりマスクステージ51を光軸に対して垂直方向(XY方向)へ移動し、焦点合わせ用スリット62をレーザ光の入光位置に位置付けて、本発明における焦点合わせ加工を行う。また、焦点合わせが終了後、マスクステージ駆動手段52が制御手段57からの制御信号によりマスクステージ51をXY方向へ移動し、加工用スリット61をレーザ光の入射位置に位置付けて、実際に加工対象物19へ加工を行う。   The focusing slit 62 has a slit width based on the resolution (slope) determined by the imaging lens 14 used as described above. Therefore, when performing focusing, the mask stage driving means 52 moves the mask stage 51 in the direction perpendicular to the optical axis (XY direction) by the control signal from the control means 57, and the focusing slit 62 is moved to the laser. The focusing processing in the present invention is performed at the light incident position. Further, after the focusing is completed, the mask stage driving unit 52 moves the mask stage 51 in the X and Y directions by the control signal from the control unit 57, positions the processing slit 61 at the incident position of the laser beam, and actually processes it. Processing to the object 19 is performed.

なお、本実施形態においては、焦点合わせ用スリットのみを用いたマスクと加工用スリットのみを設けたマスクとを用意し、焦点合わせ時と加工時とにおいてそれぞれのマスクを変更してもよい。しかしながら、スリットの厚みや素材等により加工時の焦点位置に誤差が生じる可能性があるため、図3に示すように焦点合わせ用スリットと加工用スリット同一のマスクに形成する方が好ましい。   In the present embodiment, a mask using only the focusing slit and a mask provided only with the processing slit may be prepared, and the respective masks may be changed during focusing and processing. However, since there is a possibility that an error occurs in the focal position during processing depending on the thickness of the slit, the material, and the like, it is preferable to form the same slit on the same mask as the focusing slit and the processing slit as shown in FIG.

また、マスクステージ51は、図3に示すように、スリットを通過し所定の形状になったレーザ光の減衰を防止するため、所定の大きさの開口部(マスクステージ開口部63)を設けている。なお、マスクステージ開口部63は、矩形に形成されているが、本実施形態においてはこれに限定されるものではなく、例えば円形や多角形であってもよい。   Further, as shown in FIG. 3, the mask stage 51 is provided with an opening (mask stage opening 63) having a predetermined size in order to prevent attenuation of the laser light that has passed through the slit and has a predetermined shape. Yes. The mask stage opening 63 is formed in a rectangular shape, but is not limited to this in the present embodiment, and may be, for example, a circle or a polygon.

また、図2に示すレーザ加工装置50には、高さ計測手段としてのハイトセンサ53を設けている。ハイトセンサ53は、加工対象物19の表面からの距離を計測し、計測した結果を制御手段57に出力する。これにより、イメージングレンズ14と、加工対象物19との距離を高精度に取得することができる。したがって、厚さの異なる種々の加工対象物に対して高精度なレーザ加工を行うことができる。   Further, the laser processing apparatus 50 shown in FIG. 2 is provided with a height sensor 53 as height measuring means. The height sensor 53 measures the distance from the surface of the workpiece 19 and outputs the measurement result to the control means 57. Thereby, the distance between the imaging lens 14 and the workpiece 19 can be obtained with high accuracy. Therefore, highly accurate laser processing can be performed on various processing objects having different thicknesses.

また、撮像手段としてのカメラ54は、CCD撮像素子を有し、焦点合わせ用スリット62及びイメージングレンズ14を通過したレーザ光が加工対象物19に照射されることで得られる加工痕を撮影し、撮影された画像データを画像選択制御手段55に出力する。なお、焦点合わせを行うための加工対象物19への加工は、実際の加工を行う加工対象物とは異なる加工対象物を用いてもよいが、加工対象物の厚みのバラツキ等があるため、実際の加工を行う加工対象物に焦点合わせ用の加工を行うことが好ましい。なお、この場合には、加工対象物に対して実際の加工を行う加工領域以外の領域に焦点合わせ用の加工を行う。   The camera 54 as an imaging unit has a CCD imaging device, and photographs a processing mark obtained by irradiating the processing object 19 with laser light that has passed through the focusing slit 62 and the imaging lens 14. The photographed image data is output to the image selection control means 55. In addition, although processing to the processing target 19 for performing the focusing may use a processing target different from the processing target to be actually processed, because there is a variation in the thickness of the processing target, It is preferable to perform processing for focusing on an object to be actually processed. In this case, focusing processing is performed in a region other than the processing region in which actual processing is performed on the processing target.

画像選択制御手段55は、制御手段57からの制御信号によりカメラ54から得られる実際に加工された複数の加工痕の画像データを取得し、予め設定された基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕を選択し、その結果を制御手段57に出力する。なお、基準となる加工痕の画像データは、画像選択制御手段55に蓄積されている。   The image selection control means 55 acquires image data of a plurality of actually processed machining traces obtained from the camera 54 in response to a control signal from the control means 57, and the image data of the machining traces that are set in advance as the reference data. A close processing mark is selected and the result is output to the control means 57. It should be noted that the image data of the reference processing mark is accumulated in the image selection control means 55.

ここで、図4は、予め設定された加工痕と、異なる高さ方向(Z軸方向)の位置を変えて加工した加工痕との比較の一例を示す図である。図4に示すように、予め焦点が合っている状態で加工された加工痕71に最も近い加工痕を、実際に加工しカメラ54により取得した加工痕72−1〜72−5から選択する。   Here, FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a comparison between a preset machining mark and a machining mark formed by changing a position in a different height direction (Z-axis direction). As shown in FIG. 4, the machining trace closest to the machining trace 71 machined in advance in focus is selected from the machining traces 72-1 to 72-5 actually processed and acquired by the camera 54.

また、相関係数算出手段56は、画像選択制御手段55からの指示により、実際の焦点合わせ加工により得られた加工痕の画像データと予め設定された基準となる加工痕の画像データとが、どの程度一致しているかの指標である相関係数(相関値)を算出する。具体的には、例えば、カメラ54で撮影された複数の画像データのそれぞれと、基準の画像データとをピクセル単位で比較し、どの程度一致しているかを比較することで相関係数を求める。なお、相関係数算出手段56における相関係数の具体的な算出例については後述する。   Further, the correlation coefficient calculating means 56, according to an instruction from the image selection control means 55, obtains the processing trace image data obtained by the actual focusing process and the preset processing trace image data as a reference. A correlation coefficient (correlation value) that is an index of how much they match is calculated. Specifically, for example, each of a plurality of image data captured by the camera 54 is compared with reference image data in units of pixels, and a correlation coefficient is obtained by comparing how much they match. A specific example of calculating the correlation coefficient in the correlation coefficient calculation means 56 will be described later.

また、相関係数算出手段56は、算出結果を画像選択制御手段55に出力する。画像選択制御手段55は、相関係数算出手段56から得られる算出結果に基づいて、最も近い加工痕の画像データをより正確に選択することができる。   The correlation coefficient calculation unit 56 outputs the calculation result to the image selection control unit 55. The image selection control unit 55 can more accurately select the image data of the closest processing trace based on the calculation result obtained from the correlation coefficient calculation unit 56.

制御手段57は、ハイトセンサ53から加工対象物19の表面からの距離情報を入力する。また、制御手段57は、レーザ発振器11におけるレーザ光の発振タイミング、マスクステージ駆動手段52における駆動タイミング、加工ステージ駆動手段16における駆動タイミング、画像選択制御手段55焦点合わせ制御を行うための画像選択タイミングを制御し、各構成部に制御信号を出力してレーザ加工装置50全体の制御を行う。   The control means 57 inputs distance information from the surface of the workpiece 19 from the height sensor 53. Further, the control means 57 is a laser light oscillation timing in the laser oscillator 11, a driving timing in the mask stage driving means 52, a driving timing in the processing stage driving means 16, an image selection control means 55 and an image selection timing for performing focusing control. And the control signal is output to each component to control the entire laser processing apparatus 50.

<焦点合わせ制御手順>
ここで、本発明のレーザ加工装置における焦点合わせ制御処理手順についてフローチャートを用いて説明する。図5は、本発明における焦点合わせ制御処理手順の一例を示すフローチャートである。
<Focusing control procedure>
Here, the focusing control processing procedure in the laser processing apparatus of the present invention will be described using a flowchart. FIG. 5 is a flowchart showing an example of a focusing control processing procedure in the present invention.

焦点合わせを行う際には、まず、焦点合わせ用スリットにレーザ光が入射されるようにマスクを移動する(S01)。次に、所定数になるまで加工ステージ15の高さ(光軸、Z軸)、つまり、イメージングレンズ14と加工対象物19との距離を変えて、加工ステージ15に載置されている加工対象物19に焦点合わせ用の加工を行う(S02)。   When performing the focusing, first, the mask is moved so that the laser beam is incident on the focusing slit (S01). Next, the processing target placed on the processing stage 15 is changed by changing the height (optical axis, Z-axis) of the processing stage 15, that is, the distance between the imaging lens 14 and the processing target 19 until a predetermined number is reached. Processing for focusing is performed on the object 19 (S02).

なお、S02における加工中は、加工対象物19の同じ位置にレーザ光が照射されないように加工する毎に加工ステージにより照射位置を移動させる。また、どの高さ位置(距離)で、どの加工を行ったか等の情報は、制御手段57により管理される。なお、上述する実施形態においては、加工ステージ15の高さをどの程度変えるかの制限はなく、例えば5μm毎に加工ステージの高さを変えて焦点合わせ用の加工を行うことができる。   During the processing in S02, the irradiation position is moved by the processing stage every time processing is performed so that the same position of the processing target 19 is not irradiated with laser light. Further, information such as which height position (distance) and what processing has been performed is managed by the control means 57. In the above-described embodiment, there is no restriction on how much the height of the processing stage 15 is changed. For example, the processing for focusing can be performed by changing the height of the processing stage every 5 μm.

次に、S02により加工対象物19に加工された加工痕をカメラ(撮像手段)により撮影し、それぞれの加工痕の画像データを取得する(S03)。なお、画像データを取得する際には、加工された順に加工痕の画像データを取得し、その加工痕を選択する際に加工痕が識別できるように予め加工痕を識別する識別情報を付加してもよい。また、S03により取得した加工痕の画像データと、予め焦点が合っている状態で加工された基準となる加工痕の画像データとの比較を行い、最も近い加工痕を選択する(S04)。   Next, the processing trace processed into the processing object 19 by S02 is image | photographed with a camera (imaging means), and the image data of each processing trace is acquired (S03). When acquiring the image data, the processing trace image data is acquired in the processed order, and identification information for identifying the processing trace is added in advance so that the processing trace can be identified when selecting the processing trace. May be. Further, the image data of the processing mark acquired in S03 is compared with the image data of the processing mark serving as a reference that has been processed in advance in focus, and the closest processing mark is selected (S04).

なお、最も近い加工痕を選択する場合には、S03により取得した加工痕の画像データと、基準となる加工痕の画像データとを用いて一致の度合いを示す情報である相関係数を算出し、その算出された結果から最も近い加工痕を選択してもよい。また、後述する第2の実施形態に示すように、上述の各画像データをモニタ等の表示手段に表示し、その表示された画像データをオペレータが参照し、選択した特定の画像データの選択情報を受け付ける入力手段から得られる選択情報により加工痕を選択してもよい。   When selecting the closest processing trace, the correlation coefficient, which is information indicating the degree of coincidence, is calculated using the processing trace image data acquired in S03 and the reference processing trace image data. The closest processing trace may be selected from the calculated result. Further, as shown in a second embodiment to be described later, each image data described above is displayed on display means such as a monitor, and the selected image data selection information selected by the operator referring to the displayed image data. The machining trace may be selected based on selection information obtained from an input unit that accepts.

次に、S04により選択された加工痕の情報(例えば、何番目の加工痕かを示す情報や加工痕の識別情報等)に基づいて、制御手段57により管理されている焦点合わせ加工時の加工条件を参照し、選択した加工痕を加工したときの高さ(距離)に加工ステージを設定する(S05)。また、マスク58に形成された実際の加工用スリット61にレーザ光を入射させるため、マスクの移動を行い(S06)、焦点合わせ制御処理を終了する。   Next, the processing at the time of focusing processing managed by the control means 57 based on the information of the processing mark selected in S04 (for example, information indicating the number of processing marks or identification information of the processing mark). With reference to the conditions, the processing stage is set to the height (distance) when the selected processing trace is processed (S05). Further, in order to make the laser beam enter the actual processing slit 61 formed in the mask 58, the mask is moved (S06), and the focusing control process is ended.

なお、上述した焦点合わせ制御処理は、レーザ加工装置50を起動するタイミング(例えば、毎朝、毎週等)やマスクを劣化により変更するタイミング等で行う。   The focus control process described above is performed at the timing of starting the laser processing apparatus 50 (for example, every morning, every week, etc.), the timing of changing the mask due to deterioration, or the like.

<相関係数(相関値)の算出手法>
ここで、上述した相関係数の算出手法の一例について、説明する。図6は、相関係数の算出手法の一例を説明するための図である。図6に示すように、予め設定された基準となる加工痕の画像P(M,N)と、焦点合わせ加工により得られた加工痕を撮影した画像B(X,Y)の部分画像(実際の加工痕の画像)Bij(M,N)との相互相関係数Cijを以下に示す(1)式の計算で求めて、その値が予め設定された指定値より大きくなる座標値を出力する。
<Method of calculating correlation coefficient (correlation value)>
Here, an example of the above-described correlation coefficient calculation method will be described. FIG. 6 is a diagram for explaining an example of a correlation coefficient calculation method. As shown in FIG. 6, an image P (M, N) of a processing mark serving as a reference that is set in advance and a partial image (actual image) of an image B (X, Y) obtained by photographing the processing mark obtained by focusing processing. The image of the machining trace of ( ii ) B ij (M, N) and the cross-correlation coefficient C ij is obtained by the calculation of the following equation (1), and a coordinate value whose value is larger than a preset specified value is obtained. Output.

Figure 2007229786
なお、上述した(1)式において、Cijは、常に−1≦Cij≦1の値となり、特にCij=1の場合は、基準となる加工痕の画像P(M,N)と、実際の加工痕の画像Bij(M,N)とが完全に一致していることを示す。
Figure 2007229786
In the above-described equation (1), C ij always has a value of −1 ≦ C ij ≦ 1, and particularly when C ij = 1, a reference image P (M, N) of the processing trace, It shows that the image B ij (M, N) of the actual processing mark completely matches.

したがって、複数撮影された実際の加工痕の画像データのそれぞれと基準となる加工痕の画像データとから得られる複数の相関係数のうち、1に最も近い相関係数となった加工痕の画像データを、基準となる加工痕の画像データ(焦点の合っている画像データ)に最も近い加工痕の画像データとして選択することができる。   Therefore, among the plurality of correlation coefficients obtained from each of the actual image data of the processed traces and the reference processed trace image data, the image of the processed trace that has the closest correlation coefficient to 1 The data can be selected as the image data of the processing trace closest to the reference processing image data (focused image data).

なお、上述した指定値としては、例えば、Cijを10000倍した値をパラメータとして指定することができる。 In addition, as the specified value described above, for example, a value obtained by multiplying C ij by 10,000 can be specified as a parameter.

上述したように、第1の実施形態により、高精度な焦点合わせを実現することができる。具体的には、マスクに焦点合わせ用のレンズ解像度に対応させたスリットを設け、そのスリット及び結像レンズを通過させたレーザ光を加工対象物に照射し、その加工痕を用いて直接的に焦点を求めることができる。また、画像処理により得られる相関係数を利用することで、より正確に基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することができる。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   As described above, high-precision focusing can be realized by the first embodiment. Specifically, a slit corresponding to the lens resolution for focusing is provided in the mask, the laser beam that has passed through the slit and the imaging lens is irradiated to the processing object, and the processing trace is used directly. Focus can be sought. Further, by using the correlation coefficient obtained by the image processing, it is possible to select the image data of the processing trace that is closest to the reference processing image data. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

なお、上述した第1の実施形態では、焦点合わせを行う際に、相関係数算出手段56による相関係数の算出結果により加工痕の選択を行ったが、例えば、焦点合わせ用に加工した加工痕の画像データと予め設定された加工痕の加工痕の画像データとを表示する表示手段と、オペレータが表示手段に表示された各加工痕の画像データから特定の画像データを選択するための入力手段とを設けてもよい。これにより、オペレータは加工対象物の加工痕を直接目視するよりも、迅速かつ容易に加工痕を参照して、最適な加工痕の選択を行うことができる。ここで、上述の内容を第2の実施形態として、図を用いて説明する。なお、以下に示す第2の実施形態において、図2に示したレーザ加工装置50と同様の構成については同一符号を用いることとし、その説明は省略する。   In the first embodiment described above, when performing the focusing, the processing trace is selected based on the calculation result of the correlation coefficient by the correlation coefficient calculating unit 56. For example, the processing processed for the focusing is performed. Display means for displaying the image data of the trace and the image data of the machining trace set in advance, and an input for the operator to select specific image data from the image data of each machining trace displayed on the display means Means may be provided. Thus, the operator can select an optimum machining trace quickly and easily by referring to the machining trace rather than directly viewing the machining trace of the workpiece. Here, the above-described content will be described as a second embodiment with reference to the drawings. In the second embodiment described below, the same reference numerals are used for the same components as those of the laser processing apparatus 50 shown in FIG. 2, and the description thereof is omitted.

<第2の実施形態>
図7は、第2の実施形態におけるレーザ加工装置の一構成例を示す図である。図7に示すレーザ加工装置80は、図2に示す第1の実施形態におけるレーザ加工装置50と比較して相関係数算出手段56の代わりにオペレータに加工痕を選択させるための表示手段81及び入力手段82を有している。
<Second Embodiment>
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of a laser processing apparatus according to the second embodiment. The laser processing apparatus 80 shown in FIG. 7 includes display means 81 for causing the operator to select a processing mark instead of the correlation coefficient calculation means 56 as compared with the laser processing apparatus 50 in the first embodiment shown in FIG. Input means 82 is provided.

また、画像選択制御手段83は、加工対象物19に加工された焦点合わせ用の複数の加工痕の画像データをカメラ54の撮影により取得し、その取得した画像データをモニタ等からなる表示手段81に出力する。このとき、画像選択制御手段83は、焦点合わせ用に高さを変えて加工された複数の加工痕の画像データと、予め設定された加工痕の画像データを表示手段81に表示させる。このとき、画像選択制御手段83は、表示手段81に各画像データを表示する際に、拡大表示、縮小表示、配列表示、重ね合わせ表示等の各種画像処理を行ってもよい。   The image selection control means 83 acquires image data of a plurality of processing marks for focusing processed on the processing object 19 by photographing with the camera 54, and the acquired image data is displayed on the display means 81 including a monitor or the like. Output to. At this time, the image selection control unit 83 causes the display unit 81 to display image data of a plurality of processing marks processed at different heights for focusing and image data of processing marks set in advance. At this time, the image selection control unit 83 may perform various image processing such as enlarged display, reduced display, array display, and overlay display when displaying each image data on the display unit 81.

更に、画像選択制御手段83は、オペレータが表示手段81に表示された画像データを参照し、複数の加工痕の画像データから特定の画像データが選択された選択情報を受け付けるキーボードやマウス等の入力手段82により得られた選択情報から、特定の加工痕に関する情報(識別情報等)を制御手段57に出力する。制御手段57は、この情報から加工ステージ駆動手段16に制御信号を出力し、所定の位置に加工ステージ15を移動させる。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。   Further, the image selection control means 83 refers to the image data displayed on the display means 81 by the operator, and inputs such as a keyboard and a mouse for receiving selection information for selecting specific image data from the image data of a plurality of processing marks. From the selection information obtained by the means 82, information (identification information etc.) relating to a specific machining mark is output to the control means 57. The control means 57 outputs a control signal to the processing stage driving means 16 from this information, and moves the processing stage 15 to a predetermined position. Thereby, highly accurate focusing can be realized.

上述したように、第2の実施形態によれば、オペレータは加工対象物の加工痕を直接目視するよりも、迅速かつ容易に加工痕を参照して、最適な加工痕の選択を行うことができる。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   As described above, according to the second embodiment, the operator can quickly and easily refer to the machining trace and select the optimum machining trace, rather than directly viewing the machining trace of the workpiece. it can. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

なお、本発明における実施形態は上述した実施形態に限定されず、例えば、上述した第1及び第2の実施形態を組み合わせたレーザ加工装置を構成してもよい。更に、上述した実施形態においては、焦点合わせを行う際に、加工ステージの移動を行ったが、本発明においてはこれに限定されず、例えばレンズ(イメージングレンズ)を駆動させるレンズ駆動手段を有し、制御手段が焦点合わせの際にレンズを駆動させるようにしてもよい。   In addition, embodiment in this invention is not limited to embodiment mentioned above, For example, you may comprise the laser processing apparatus which combined the 1st and 2nd embodiment mentioned above. Further, in the above-described embodiment, the processing stage is moved when performing the focusing. However, the present invention is not limited to this, and for example, the lens driving means for driving the lens (imaging lens) is provided. The control unit may drive the lens during focusing.

また、上述した画像選択制御手段、相関係数算出手段、表示手段、入力手段の各構成における処理を汎用のコンピュータに実行させることができる実行プログラムを生成し、例えば、そのプログラムをPC等の汎用のコンピュータにインストールすることにより、上述した焦点合わせ制御処理を実現することができる。また、コンピュータにインストールされる実行プログラムは、例えば、CD−ROM等の記録媒体等により提供されてもよく、通信ネットワークを介してサーバ等からダウンロードすることにより提供されてもよい。   In addition, an execution program that can cause a general-purpose computer to execute the processing in each of the image selection control unit, the correlation coefficient calculation unit, the display unit, and the input unit described above is generated. The above-described focusing control process can be realized by installing in the computer. Moreover, the execution program installed in the computer may be provided by a recording medium such as a CD-ROM, or may be provided by downloading from a server or the like via a communication network.

上述したように、本発明によれば、高精度な焦点合わせを実現することができる。具体的には、マスクに焦点合わせ用のレンズ解像度に対応させたスリットを設け、そのスリット及び結像レンズを通過させたレーザ光を加工対象物に照射し、その加工痕を用いて直接的に焦点を求めることができる。また、画像処理により得られる相関係数を利用することで、より正確に基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することができる。これにより、高精度な焦点合わせを実現することができる。したがって、高精度なレーザ加工を実現することができる。   As described above, according to the present invention, highly accurate focusing can be realized. Specifically, a slit corresponding to the lens resolution for focusing is provided in the mask, the laser beam that has passed through the slit and the imaging lens is irradiated to the processing object, and the processing trace is used directly. Focus can be sought. Further, by using the correlation coefficient obtained by the image processing, it is possible to select the image data of the processing trace that is closest to the reference processing image data. Thereby, highly accurate focusing can be realized. Therefore, highly accurate laser processing can be realized.

なお、本発明におけるレーザ加工は、例えば穴あけや溝加工、アニール処理、溶接等の加工にも適用することができる。   The laser processing in the present invention can also be applied to processing such as drilling, grooving, annealing, and welding.

以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. Can be changed.

本発明の概要を説明するための一例の図である。It is a figure of an example for demonstrating the outline | summary of this invention. 第1の本実施形態におけるレーザ加工装置の一構成例を示す図である。It is a figure which shows the example of 1 structure of the laser processing apparatus in 1st this embodiment. 本実施形態におけるマスク及びマスクステージの一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the mask and mask stage in this embodiment. 予め設定された加工痕と、異なる高さ方向(Z軸方向)の位置を変えて加工した加工痕との比較の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the comparison with the processing trace set beforehand and the processing trace processed by changing the position of a different height direction (Z-axis direction). 本発明における焦点合わせ制御処理手順の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the focus control processing procedure in this invention. 相関係数の算出手法の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the calculation method of a correlation coefficient. 第2の本実施形態におけるレーザ加工装置の一構成例を示す図である。It is a figure which shows one structural example of the laser processing apparatus in 2nd this embodiment. 従来のレーザ加工装置の一構成例を示す図である。It is a figure which shows the example of 1 structure of the conventional laser processing apparatus. 解像度を説明するための一例の図である。It is a figure of an example for demonstrating the resolution. 従来のプロファイラの設置例を示す図である。It is a figure which shows the example of installation of the conventional profiler.

符号の説明Explanation of symbols

10,50,80 レーザ加工装置
11 レーザ発振器
12 反射ミラー
13,41,58 マスク
14 イメージングレンズ
15 加工ステージ
16 加工ステージ駆動手段
17 プロファイラ
18,57 制御手段
21 スリット
22,24,44 強度分布
23,25,45,71,72 加工痕
31 固定部材
42,61 加工用スリット
43,62 焦点合わせ用スリット
51 マスクステージ
52 マスクステージ駆動手段
53 ハイトセンサ
54 カメラ
55,83 画像選択制御手段
56 相関係数算出手段
63 マスクステージ開口部
81 表示手段
82 出力手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,50,80 Laser processing apparatus 11 Laser oscillator 12 Reflection mirror 13,41,58 Mask 14 Imaging lens 15 Processing stage 16 Processing stage drive means 17 Profiler 18,57 Control means 21 Slit 22,24,44 Intensity distribution 23,25 45, 71, 72 Processing trace 31 Fixing member 42, 61 Processing slit 43, 62 Focusing slit 51 Mask stage 52 Mask stage driving means 53 Height sensor 54 Camera 55, 83 Image selection control means 56 Correlation coefficient calculation means 63 Mask stage opening 81 Display means 82 Output means

Claims (11)

結像レンズを通過して加工対象物に照射されるレーザ光の焦点を制御してレーザ加工を行うレーザ加工装置において、
焦点合わせ用のスリットを有するマスクと、
前記スリット及び前記結像レンズを通過して前記加工対象物に照射されたレーザ光により加工された加工痕を撮影する撮像手段と、
前記撮像手段により撮影された複数の加工痕の画像データと、予め設定された基準となる加工痕の画像データとに基づいて、特定の画像データを選択する画像選択制御手段と、
前記画像選択制御手段により選択された加工痕の画像データに基づいて、前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を調整して焦点合わせを行うよう制御する制御手段とを有することを特徴とするレーザ加工装置。
In a laser processing apparatus that performs laser processing by controlling the focal point of laser light that passes through an imaging lens and is irradiated onto a processing target,
A mask having a slit for focusing;
Imaging means for photographing a processing mark processed by a laser beam irradiated to the processing object through the slit and the imaging lens;
Image selection control means for selecting specific image data based on image data of a plurality of processing marks taken by the imaging means and image data of processing marks serving as a reference set in advance;
And control means for controlling to adjust the distance between the object to be processed and the imaging lens based on the image data of the processing mark selected by the image selection control means. Laser processing equipment.
前記制御手段は、
前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を変えて、前記スリット及び前記結像レンズを通過したレーザ光により前記加工対象物に複数の加工痕を生成させることを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
The control means includes
The processing object and the imaging lens are changed, and a plurality of processing marks are generated on the processing object by laser light that has passed through the slit and the imaging lens. The laser processing apparatus as described.
前記複数の加工痕のそれぞれの画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとの相関係数を算出する相関係数算出手段を有し、
前記画像選択制御手段は、前記相関係数算出手段により得られる算出結果に基づいて、前記基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
Correlation coefficient calculating means for calculating a correlation coefficient between each of the plurality of processing trace image data and the reference processing trace image data,
2. The image selection control means, based on a calculation result obtained by the correlation coefficient calculation means, selects image data of a processing trace that is closest to the reference processing trace image data. Or the laser processing apparatus of 2.
前記複数の加工痕の画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとを表示する表示手段と、
前記複数の加工痕の画像データから特定の画像データが選択された選択情報を受け付ける入力手段とを有し、
前記画像選択制御手段は、前記入力手段により得られる選択情報から加工痕の画像データを選択することを特徴とする請求項1又は2に記載のレーザ加工装置。
Display means for displaying the image data of the plurality of processing marks and the image data of the processing marks serving as the reference;
Input means for receiving selection information in which specific image data is selected from the image data of the plurality of processing marks,
The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the image selection control unit selects image data of a processing mark from selection information obtained by the input unit.
前記スリットは、前記結像レンズを通過させて前記加工対象物に照射されるレーザ光の強度分布が、前記結像レンズにより決定されるスロープ部分のみになるようにスリット幅を形成することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項の記載のレーザ加工装置。   The slit has a slit width so that an intensity distribution of a laser beam irradiated to the object to be processed through the imaging lens is only a slope portion determined by the imaging lens. The laser processing apparatus according to any one of claims 1 to 4. 前記スリットを、実際の加工用のスリットが形成されたマスクに形成することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the slit is formed in a mask in which an actual processing slit is formed. 前記マスクを移動させて、前記加工用のスリットと、前記焦点合わせ用のスリットとを入れ替えるためのマスクステージ駆動手段を有することを特徴とする請求項6に記載のレーザ加工装置。   The laser processing apparatus according to claim 6, further comprising a mask stage driving unit configured to move the mask and replace the slit for processing and the slit for focusing. 結像レンズを通過して加工対象物に照射されるレーザ光の焦点を制御してレーザ加工を行うレーザ加工装置における焦点合わせ制御方法において、
前記結像レンズと前記加工対象物の距離を変えて複数の焦点合わせ用の加工を行う焦点合わせ加工ステップと、
前記焦点合わせ加工ステップにより加工されたそれぞれの加工痕を撮影する撮影ステップと、
前記撮影ステップにより撮影された前記加工痕の画像データと、予め設定された基準となる加工痕の画像データとに基づいて特定の画像データの選択を行う画像選択ステップと、
前記画像選択ステップにより得られた加工痕の画像データに基づいて、前記加工対象物と前記結像レンズとの距離を調整して焦点合わせを行うよう制御する焦点合わせ制御ステップとを有することを特徴とする焦点合わせ制御方法。
In a focus control method in a laser processing apparatus that performs laser processing by controlling the focus of laser light that passes through an imaging lens and is irradiated onto a processing object,
A focusing process step of performing a plurality of focusing processes by changing a distance between the imaging lens and the processing object;
A photographing step of photographing each processing mark processed by the focusing processing step;
An image selection step for selecting specific image data based on the image data of the processing mark imaged in the imaging step and the image data of the processing mark serving as a reference set in advance;
A focusing control step for controlling to adjust the distance between the object to be processed and the imaging lens based on the image data of the processing mark obtained by the image selection step. Focusing control method.
前記複数の加工痕のそれぞれの画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとの相関係数を算出する相関係数算出ステップを有し、
前記画像選択ステップは、前記相関係数算出ステップにより得られる算出結果に基づいて、前記基準となる加工痕の画像データに最も近い加工痕の画像データを選択することを特徴とする請求項8に記載の焦点合わせ制御方法。
A correlation coefficient calculating step of calculating a correlation coefficient between each of the plurality of processing trace image data and the reference processing trace image data;
9. The image selection step selects image data of a processing trace that is closest to the reference processing trace image data based on a calculation result obtained by the correlation coefficient calculation step. The focusing control method described.
前記複数の加工痕の画像データと、前記基準となる加工痕の画像データとを表示させる表示ステップと、
オペレータから画像データの選択情報を受け付ける選択情報入力ステップとを有し、
前記画像選択ステップは、前記選択情報入力ステップにより得られた前記選択情報により、複数の加工痕の画像データから特定の加工痕の画像データを選択することを特徴とする請求項8に記載の焦点合わせ制御方法。
A display step of displaying the image data of the plurality of processing marks and the image data of the processing marks serving as the reference;
A selection information input step for receiving selection information of image data from an operator;
The focus according to claim 8, wherein the image selection step selects image data of a specific processing mark from a plurality of processing mark image data based on the selection information obtained in the selection information input step. Alignment control method.
前記焦点合わせ加工ステップは、
前記加工対象物を加工するための加工用のスリットと、焦点合わせ用のスリットとが形成されたマスクを用いて、前記焦点合わせ用のスリットを前記レーザ光の入光位置に位置付けて前記焦点合わせ用の加工を行うことを特徴とする請求項8乃至10の何れか1項に記載の焦点合わせ制御方法。
The focusing processing step includes
The focusing slit is positioned at the incident position of the laser beam by using a mask in which a slit for processing and a slit for focusing are formed to process the workpiece. The focusing control method according to any one of claims 8 to 10, characterized in that processing is performed.
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