JP2007227483A - Laminated ceramic element manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、セラミック層の原料を含むセラミック前駆体層と内部電極層の原料を含む内部電極前駆体層とを交互に積層した積層体を脱脂した後、一部に開放部分が設けられた匣鉢内に収容した状態で焼成する積層セラミック素子の製造方法に関する。 In the present invention, after degreasing a laminate obtained by alternately laminating a ceramic precursor layer containing a raw material for a ceramic layer and an internal electrode precursor layer containing a raw material for an internal electrode layer, an open portion is provided in part. The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer ceramic element that is fired in a state of being accommodated in a pot.
例えば圧電素子等に代表される積層セラミック素子は、セラミック材料にバインダーや溶剤等を加えてグリーンシートを形成し、このグリーンシート表面に導体ペーストを印刷し、当該グリーンシートを積層して積層体とした後、加熱炉等において脱脂及び焼成を行うことにより製造される。前記焼成は、通常、匣鉢と呼ばれるセラミック製の容器内に脱脂後の積層体を収容した状態で行われる。 For example, a laminated ceramic element typified by a piezoelectric element or the like forms a green sheet by adding a binder or a solvent to a ceramic material, prints a conductive paste on the surface of the green sheet, and laminates the green sheet to form a laminated body. Then, it is manufactured by degreasing and baking in a heating furnace or the like. The firing is usually performed in a state where the degreased laminate is housed in a ceramic container called a mortar.
ところで、セラミック材料として融点の低い金属(例えば鉛等)を含んでいる場合、焼成中に鉛が蒸発することにより組成ずれを起こすため、この観点に立つと匣鉢を密閉状態としなければならない。しかしながら、焼成に際して匣鉢を密閉状態とすると、脱脂工程で除去しきらずに積層体に残留したバインダー等が蒸発した後、匣鉢内にとどまることにより、セラミックの焼結の遅れやクラック発生等の不具合を引き起こすことがある。 By the way, when a metal having a low melting point (for example, lead) is included as a ceramic material, the composition shifts due to the evaporation of lead during firing. Therefore, from this viewpoint, the mortar must be sealed. However, if the mortar is hermetically sealed during firing, the binder remaining in the laminate without being removed in the degreasing step evaporates and then remains in the mortar, resulting in delays in ceramic sintering and cracking, etc. May cause malfunctions.
また、銅やニッケル等の卑金属を内部電極に使用する場合、前記卑金属の酸化を避けるために所定の酸素分圧を有する還元雰囲気を炉内に導入して焼成を行うが、焼成に際して匣鉢を密閉状態としておくと、導入した前記還元雰囲気ガスが匣鉢内に行き渡らなくなる。そして、脱脂後の積層体に残留した炭素成分が揮発することにより匣鉢内の雰囲気をさらに還元する結果、セラミック材料に酸化鉛を含み且つ内部電極に銅を含む場合には、セラミック材料中の酸化鉛が金属化したり、生成した金属鉛が銅と共晶反応することにより溶融する等の不具合を発生させることがある。 In addition, when using a base metal such as copper or nickel for the internal electrode, in order to avoid oxidation of the base metal, a reducing atmosphere having a predetermined oxygen partial pressure is introduced into the furnace and firing is performed. If kept in a sealed state, the introduced reducing atmosphere gas does not spread into the sagger. As a result of further reducing the atmosphere in the mortar by volatilizing the carbon component remaining in the laminate after degreasing, when the ceramic material contains lead oxide and the internal electrode contains copper, In some cases, lead oxide is metallized, or the generated metal lead is melted by eutectic reaction with copper.
そこで、このような不具合を解消するための試みがなされている。例えば特許文献1には、鉛化合物を主成分とするセラミック組成物を原料に用いる電子部品の製造方法において、その焼成工程を、一部が開放した匣鉢を用い、還元性ガスを該匣鉢内に供給しつつ行い、焼成中に発生するバインダの分解ガスおよび鉛蒸気の余剰分を匣鉢から排出するようにした鉛系セラミック電子部品の製造方法が記載されている。前記従来技術によれば、PbOの蒸気圧が過度に高くなることがなく、しかも残留バインダのバーンアウトの際に生ずる還元性雰囲気を匣鉢外へ効果的な排出が可能となる。
しかしながら、本発明者らの検討の結果、前記従来技術に記載されるような匣鉢を用いたとしても、前記不具合を完全に解消するには至らないことがわかってきた。また、前記従来技術に記載される方法では、圧電定数d33等のような特性の低下が認められ、前記特性低下は特に大型の積層体を焼成する場合に顕著であった。 However, as a result of investigations by the present inventors, it has been found that even if a mortar as described in the above-mentioned prior art is used, the above-mentioned problems cannot be completely solved. Moreover, in the method described in the prior art, a decrease in characteristics such as the piezoelectric constant d 33 was observed, and the characteristic decrease was remarkable particularly when a large-sized laminate was fired.
そこで本発明はこのような従来の実情に鑑みて提案されたものであり、クラックの発生や内部電極の溶出を確実に抑え、特性の良好な積層セラミック素子を得ることが可能な積層セラミック素子の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and it is possible to reliably prevent the occurrence of cracks and elution of internal electrodes and to obtain a multilayer ceramic element having good characteristics. An object is to provide a manufacturing method.
前述の目的を達成するために、本発明に係る積層セラミック素子の製造方法は、セラミック層の原料を含むセラミック前駆体層と内部電極層の原料を含む内部電極前駆体層とを交互に積層した積層体を脱脂した後、一部に開放部分が設けられた匣鉢内に収容した状態で焼成する積層セラミック素子の製造方法であって、前記積層体はセッター上に載置された状態で前記匣鉢内に収容され、前記セッターには前記積層体が載置される載置面に凹凸が形成されており、当該凹凸により形成される積層体下の空間の体積Aと、前記積層体の体積Bとの比率A/Bが15%以上であることを特徴とする。 In order to achieve the above-mentioned object, a method for manufacturing a multilayer ceramic element according to the present invention includes alternately laminating a ceramic precursor layer containing a ceramic layer material and an internal electrode precursor layer containing an internal electrode layer material. After degreasing the laminated body, a method for producing a laminated ceramic element that is fired in a state where the laminated body is housed in a mortar provided with an open part, wherein the laminated body is placed on a setter. Concavities and convexities are formed on the mounting surface on which the laminate is placed on the setter. The volume A of the space below the laminate formed by the irregularities and the laminate The ratio A / B with the volume B is 15% or more.
本発明では、焼成に際して一部に開放部分が設けられた匣鉢を用いることで、炉内雰囲気と匣鉢内雰囲気との交換が実現され、焼成を円滑に行うことができる。また、積層体から蒸発した残バインダー等は開放部分から速やかに匣鉢外へ排出され、クラックや内部電極溶出等を発生させることなく焼成を行うことができる。 In the present invention, by using a mortar having an open part in part at the time of firing, exchange between the atmosphere in the furnace and the atmosphere in the mortar is realized, and the firing can be performed smoothly. Further, the residual binder or the like evaporated from the laminated body is quickly discharged from the open portion to the outside of the mortar, and can be fired without causing cracks or internal electrode elution.
ところで、匣鉢の底面に積層体を直接載置した場合のように、積層体の裏面(匣鉢の底面に対向する側)が匣鉢底面に接触していると、炉内の焼成雰囲気が積層体裏面に供給されないため、積層セラミック素子の圧電定数低下等の特性低下を引き起こす。なお、前記不具合は、匣鉢底面に平板状セッターを敷いた場合も同様に発生する。また、脱脂工程で除去されなかった残留炭素の蒸発が積層体の裏面側において妨げられるため、クラック発生や内部電極溶出等の不具合を引き起こすこともある。 By the way, when the laminated body is directly placed on the bottom surface of the mortar, when the back surface of the laminated body (the side facing the bottom surface of the mortar) is in contact with the bottom surface of the mortar, the firing atmosphere in the furnace is Since it is not supplied to the back surface of the multilayer body, it causes a decrease in characteristics such as a decrease in piezoelectric constant of the multilayer ceramic element. In addition, the said malfunction similarly generate | occur | produces, when a flat setter is spread on the bottom of a mortar. Moreover, since evaporation of residual carbon that has not been removed in the degreasing process is hindered on the back side of the laminate, problems such as generation of cracks and elution of internal electrodes may occur.
そこで本発明では、焼成に際して積層体下に充分な空間が確保されるようなセッターを用いることで、前記空間を介して匣鉢内の雰囲気を積層体の裏面に接触し易くする。したがって、匣鉢内雰囲気、すなわち炉内雰囲気が積層体の全体にわたってほぼ等しく接触した状態での焼成が実現されるため、積層セラミック素子において良好な圧電特性が実現される。また、前述のようなクラック発生や内部電極の溶出の発生も抑えられる。 Therefore, in the present invention, by using a setter that ensures a sufficient space under the laminate during firing, the atmosphere in the sagger is easily brought into contact with the back surface of the laminate through the space. Therefore, since firing in a state where the atmosphere in the sagger, that is, the atmosphere in the furnace is in almost equal contact with the entire laminate, is realized, good piezoelectric characteristics are realized in the multilayer ceramic element. Further, the occurrence of cracks and elution of internal electrodes as described above can be suppressed.
本発明によれば、積層体下の空間の体積Aと積層体の体積Bとの比率A/Bが前記範囲となるようなセッターと、開放部分が設けられた匣鉢を組み合わせて焼成を行うので、高性能な積層セラミック素子をクラック発生や内部電極の溶出を確実に抑えつつ製造することができる。 According to the present invention, firing is performed by combining a setter in which the ratio A / B between the volume A of the space under the laminate and the volume B of the laminate is in the above range, and a mortar provided with an open portion. Therefore, a high-performance multilayer ceramic element can be manufactured while reliably suppressing the occurrence of cracks and elution of internal electrodes.
以下、本発明を適用した積層セラミック素子の製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing a multilayer ceramic element to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings.
図1は、本発明の製造方法の対象である積層セラミック素子(ここでは積層圧電素子)の一例を示すものである。積層圧電素子1は、図1に示すように、複数のセラミック層(圧電体層2)の間に内部電極層3が挿入された積層体4を備えており、この積層体4が活性部分として変位に寄与する。圧電体層2の1層あたりの厚さは任意に設定することができるが、例えば1μm〜100μm程度に設定するのが通常である。積層体4の両側には、不活性領域として内部電極層3が形成されていない不活性圧電層領域5を有するが、この不活性圧電層領域5の圧電層の厚さは、内部電極層3の間の圧電体層2の厚さよりも厚く設定される場合もある。
FIG. 1 shows an example of a multilayer ceramic element (here, a multilayer piezoelectric element) that is a target of the manufacturing method of the present invention. As shown in FIG. 1, the multilayer piezoelectric element 1 includes a
前記内部電極層3は、図2に示すように交互に逆方向に延長されており、各延長方向の端部には、それぞれ内部電極層3と電気的に接続された端子電極(図示は省略する。)が設けられている。前記端子電極は、例えばAu等の金属をスパッタリングすることにより形成されていてもよいし、電極用ペーストを焼き付けることにより形成されていてもよい。前記端子電極の厚さは、用途や積層圧電素子1のサイズ等によって適宜設定されるが、通常は、10μm〜50μm程度である。
As shown in FIG. 2, the
前記積層圧電素子において、前記内部電極層3は、各圧電体層2に電圧を印加する電極としての機能を有するものであり、導電材料により構成される。この場合、導電材料として、Ag、Au、Pt、Pd等の貴金属を用いることもできるが、本発明では、Cu、Ni等の卑金属を用いることが好ましい。導電材料としてCuを用いる場合、Cuペーストを塗布し焼成することにより前記内部電極層3を形成する。前記Cu等の卑金属を電極材料として用いることで、積層圧電素子1の製造コストの削減に繋がる。
In the laminated piezoelectric element, the
一方、前記圧電体層2には、圧電磁器組成物を用いるが、使用する圧電磁器組成物は、例えばPb、Ti、及びZrを構成元素とする複合酸化物を主成分とするものである。ここで、前記複合酸化物は、例えばチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)の他、チタン酸鉛(PbTiO3)とジルコン酸鉛(PbZrO3)、及び亜鉛・ニオブ酸鉛〔Pb(Zn1/3Nb2/3)O3〕により構成される3元系の複合酸化物や、前記3元系の複合酸化物においてPbの一部をSr、Ba、Ca等で置換した複合酸化物等を挙げることができる。
On the other hand, a piezoelectric ceramic composition is used for the
係る3元系の複合酸化物の具体的な組成としては、下記(A)式、あるいは(B)式で表される組成を挙げることができる。なお、これら(A)式、あるいは(B)式において、酸素の組成は化学量論的に求めたものであり、実際の組成においては、化学量論組成からのずれは許容されるものとする。 As a specific composition of the ternary composite oxide, a composition represented by the following formula (A) or (B) can be given. In these formulas (A) and (B), the composition of oxygen is obtained stoichiometrically, and deviation from the stoichiometric composition is allowed in the actual composition. .
Pba[(Zn1/3Nb2/3)xTiyZrz]O3 ・・・(A)
(ただし、0.96≦a≦1.03、0.05≦x≦0.15、0.25≦y≦0.5、0.35≦z≦0.6、x+y+z=1である。)
Pb a [(Zn 1/3 Nb 2/3 ) x Ti y Zr z ] O 3 (A)
(However, 0.96 ≦ a ≦ 1.03, 0.05 ≦ x ≦ 0.15, 0.25 ≦ y ≦ 0.5, 0.35 ≦ z ≦ 0.6, and x + y + z = 1.)
(Pba−bMeb)[(Zn1/3Nb2/3)xTiyZrz]O3 ・・・(B)
(ただし、0.96≦a≦1.03、0<b≦0.1、0.05≦x≦0.15、0.25≦y≦0.5、0.35≦z≦0.6、x+y+z=1である。また、式中のMeは、Sr、Ca、Baから選ばれる少なくとも1種を表す。)
(Pb a-b Me b ) [(Zn 1/3 Nb 2/3 ) x Ti y Zr z ] O 3 (B)
(However, 0.96 ≦ a ≦ 1.03, 0 <b ≦ 0.1, 0.05 ≦ x ≦ 0.15, 0.25 ≦ y ≦ 0.5, 0.35 ≦ z ≦ 0.6 X + y + z = 1, and Me in the formula represents at least one selected from Sr, Ca, and Ba.)
前述の積層圧電素子1は、焼成後にセラミック層(圧電体層2)や内部電極層3となるセラミック前駆体層と内部電極前駆体層を交互に積層して積層体とする積層工程、積層体を脱脂処理する脱脂工程、及び脱脂した積層体を焼成する焼成工程とにより作製される。以下、積層圧電素子1の製造方法について説明する。
The laminated piezoelectric element 1 includes a lamination process in which a ceramic precursor layer (piezoelectric layer 2) and
積層圧電素子1を作製するには、先ず、積層工程を行うが、この積層工程では、圧電体層2の原料を用意し、目的とする組成に応じて秤量した後、混合し、仮焼きしてから粉砕してセラミック前駆体粉体を得る。圧電体層2の原料には、圧電体層2を構成する元素の酸化物、炭酸塩、シュウ酸塩、水酸化物等が用いられるが、例えば圧電体層2が前記チタン酸ジルコン酸鉛である場合、酸化鉛(PbO)、酸化チタン(TiO2)、酸化ジルコニウム(ZrO2)が原料として用いられる。次いで、得られたセラミック前駆体粉体にバインダー等を加えてセラミック原料混合物とし、このセラミック原料混合物をシート状に成形し、セラミック前駆体層を形成する。
In order to produce the laminated piezoelectric element 1, first, a lamination process is performed. In this lamination process, the raw material of the
同様に、内部電極層3の原料である卑金属、例えば金属銅を用意し、バインダー等を加えて内部電極原料混合物とする。内部電極層3の原料としては、前記金属銅を単独で用いてもよいし、他の材料と混合して用いてもよい。この場合、他の材料としては、例えば焼成後に金属銅となる銅酸化物又は有機銅化合物、さらには、金属銅以外の金属や金属酸化物、有機金属化合物等を挙げることができる。また、内部電極原料混合物には、必要に応じて分散剤、可塑剤、誘電体材料、絶縁体材料等の添加物を添加してもよい。
Similarly, a base metal that is a raw material of the
前記内部電極原料混合物を前記セラミック前駆体層上に例えばスクリーン印刷することにより、内部電極前駆体層を形成する。以上により、内部電極前駆体層を形成したセラミック前駆体層を複数積層し、セラミック前駆体層と内部電極前駆体層とを交互に積層した積層体を得る。 The internal electrode precursor layer is formed by, for example, screen printing the internal electrode raw material mixture on the ceramic precursor layer. As described above, a plurality of ceramic precursor layers on which the internal electrode precursor layers are formed are stacked to obtain a stacked body in which the ceramic precursor layers and the internal electrode precursor layers are alternately stacked.
前述の積層工程の後、脱脂工程において、得られた積層体に対して脱脂処理を行う。脱脂工程は、積層体を構成する各セラミック前駆体層、内部電極前駆体層に含まれるバインダー等を加熱により分解除去する工程である。 After the above-mentioned lamination process, a degreasing process is performed with respect to the obtained laminated body in a degreasing process. The degreasing step is a step of decomposing and removing the ceramic precursor layer and the binder contained in the internal electrode precursor layer constituting the laminate by heating.
脱脂工程は、内部電極層3の原料として含まれる金属の酸化を抑えるため、還元雰囲気中で行うことが好ましい。具体的には、セラミック前駆体層がセラミック層(圧電体層2)の原料として含む酸化物と、内部電極前駆体層が内部電極層3の原料として含む金属とが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガス中で脱脂を行うことが好ましい。
The degreasing step is preferably performed in a reducing atmosphere in order to suppress oxidation of the metal contained as the raw material of the
前記還元雰囲気とは、具体的には、セラミック前駆体層がセラミック層(圧電体層2)の原料として含む酸化物と、内部電極前駆体層が内部電極層3の原料として含む金属とが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガスのことである。例えば圧電体層2が酸化物として酸化鉛(PbO)を含み、内部電極層3が金属として銅(Cu)を含む場合、CuとPbOとが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガス中で脱脂工程を行うことが好ましい。金属と酸化物とが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガスとは、図3に示すように、金属(例えばCu)が酸化せず、且つ酸化物(例えばPbO)が還元しない酸素分圧を有する雰囲気ガスのことをいう。
Specifically, the reducing atmosphere means that an oxide included in the ceramic precursor layer as a raw material for the ceramic layer (piezoelectric layer 2) and a metal included in the internal electrode precursor layer as a raw material for the
また、窒素(N2)又はアルゴン(Ar)等の不活性ガスと水蒸気、必要に応じて水素を含む雰囲気ガスを炉内に導入し、式(1)に示した酸素分圧雰囲気中で前記脱脂工程を行うことも、好ましい形態である。前記酸素分圧は式(2)に示した範囲内であることがより好ましい。
p(O2)≦(25331×Kp)2/3 ・・・(1)
Kp2×106≦p(O2)≦(25331×Kp)2/3 ・・・(2)
〔ただし、式中Kpは水の解離平衡定数を表す。また、酸素分圧p(O2)の単位はPaである。〕
Further, an inert gas such as nitrogen (N 2 ) or argon (Ar), water vapor, and, if necessary, an atmosphere gas containing hydrogen is introduced into the furnace, and the oxygen partial pressure atmosphere represented by the formula (1) is used. Performing the degreasing step is also a preferred form. The oxygen partial pressure is more preferably within the range shown in Formula (2).
p (O 2 ) ≦ (25331 × Kp) 2/3 (1)
Kp 2 × 10 6 ≦ p (O2) ≦ (25331 × Kp) 2/3 (2)
[Wherein, Kp represents the dissociation equilibrium constant of water. The unit of oxygen partial pressure p (O 2 ) is Pa. ]
前記脱脂工程において、脱脂処理時の温度は、600℃以下とすることが好ましい。脱脂処理温度が600℃を超えると、鉛系のセラミック材料が焼結し始めるので、緻密化して通気孔が閉塞し、バインダーの分解揮発が妨げられるおそれがあるからである。 In the degreasing step, the temperature during the degreasing treatment is preferably 600 ° C. or lower. This is because if the degreasing temperature exceeds 600 ° C., the lead-based ceramic material starts to sinter, so that the densification may occur and the ventilation holes may be blocked, and decomposition and volatilization of the binder may be hindered.
前記脱脂工程の後、焼成工程において積層体を焼成し、積層セラミック素子1を得る。焼成に際しては、例えば図4に示すような匣鉢11内に図5に示すようなセッター12を配置し、前記セッター12上に積層体13を載置した状態とする。
After the degreasing step, the multilayer body is fired in the firing step to obtain the multilayer ceramic element 1. At the time of firing, for example, a
焼成工程においては、炉内に導入した焼成雰囲気を積層体13の全面にわたって極力偏り無く接触させる必要があるが、積層体13の下に充分な空間を存在させることにより、積層体13の裏面側にも焼成雰囲気を容易に接触させることができる。したがって、セッター12としては、脱脂後の積層体13を載置したとき、積層体13下に充分な空間を与え得る凹凸が載置面に形成されているものを用いることとし、具体的には、図6に示すように、セッター12の前記凹凸により形成される積層体13下の空間の体積Aと積層体13の体積Bとの比率A/Bが15%以上であるものを用いる。ここで、凹凸により形成される積層体13下の空間とは、セッター12上に積層体13が載置された状態を平面視したときに、積層体13のセッター12に対向する面とセッター12の載置面とによって挟まれる空間のことをいう。比率A/Bが15%未満である場合、積層体13の裏面側において焼成雰囲気との接触が妨げられる結果、圧電特性の低下を招く。また、積層体13の裏面側において残留炭素の除去が妨げられる結果、焼結の遅れ、クラック発生、内部電極層3の溶融等の不具合が発生することもある。なお、比率A/Bを大きくするほど、クラック発生防止等、本発明の効果を得る観点では好ましい。ただし、比率A/Bが100%を超えると積層体の支持が難しくなるため、この点を考慮して比率A/Bを適宜設定すればよい。
In the firing step, it is necessary to bring the firing atmosphere introduced into the furnace into contact with the entire surface of the laminate 13 as much as possible, but by providing a sufficient space under the laminate 13, In addition, the firing atmosphere can be easily brought into contact. Therefore, as the
セッター12の積層体載置面の凹凸は、図5及び図6に示すように、例えば互いに平行な複数の溝14により形成される。凹凸として複数の溝14を互いに平衡に配置することで、溝14内の空間を介して、匣鉢11内の雰囲気を積層体13の下に効率的に供給することができる。また、積層体13の裏面からガス化した残留炭素成分を積層体13下を通る溝14内を介して横方向へ速やかに移動させることができる。したがって、残留炭素の除去をより効率的に行うことができる。
The unevenness of the stacked body mounting surface of the
凹凸を形成する互いに平行な複数の溝14の形状は、図5及び図6に示すような断面三角形状に限らず、積層体13下に前記比率A/Bが15%以上となるような空間を与えるものであればよく、例えば断面円弧状、断面矩形状等、任意に設定することができる。また、凹凸を形成する溝14の深さ、ピッチ等も任意に設定することができる。
The shape of the plurality of
また、前記セッター12の載置面に形成される凹凸の形状は、積層体13下に前記比率A/Bが15%以上となるような空間を与えるものであれば、前述のような互いに平行な複数の溝14に限るものではなく、例えば突起状等、任意の形状とすることができる。
Further, the shape of the unevenness formed on the mounting surface of the
前記セッター12の材料としては、ジルコニア、マグネシア等を挙げることができる。前記セッター12の凹凸は、ジルコニア、マグネシア等の平板の表面を、例えば機械加工することにより形成することができる。
Examples of the material of the
前記焼成工程は、内部電極層3の原料として含まれる金属の酸化を抑えるため、還元雰囲気中で行うことが好ましい。還元雰囲気で焼成を行う場合、脱脂工程で除去しきれなかった残留炭素の分解除去が難しいため前記クラック発生や内部電極溶出等が大きな問題となるが、焼成に際して比率A/Bが本発明の範囲となるセッターを用いることで、前記問題を解消しつつ焼成を還元雰囲気中で行うことの利点を得ることができる。前記還元雰囲気とは、前記脱脂工程における説明と同様に、セラミック前駆体層がセラミック層(圧電体層2)の原料として含む酸化物と、内部電極前駆体層が内部電極層3の原料として含む金属とが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガスのことをいう。
The firing step is preferably performed in a reducing atmosphere in order to suppress oxidation of the metal contained as the raw material of the
また、前記焼成工程においては、炉内の温度が100℃を超えた時点で、下記式(3)に示される範囲内に酸素分圧を調整した所定の雰囲気ガスを導入することにより、焼成雰囲気を前記還元雰囲気に制御してもよい。前記所定の雰囲気ガスは、例えば不活性ガス(窒素やAr等)、水素、及び水蒸気を含有するものである。焼成工程において炉内の温度が100℃を超えた時点で前記雰囲気ガスを導入することにより、複雑な制御を行わなくとも内部電極層3の酸化や溶出を抑えることができる。
1010×Kp2≦P(O2)≦1014×Kp2 ・・・(3)
〔ただし、式中Kpは水の解離平衡定数を表す。また、酸素分圧P(O2)の単位はPaである。〕
Further, in the firing step, when the temperature in the furnace exceeds 100 ° C., a predetermined atmosphere gas with an oxygen partial pressure adjusted within the range represented by the following formula (3) is introduced, whereby a firing atmosphere is obtained. May be controlled to the reducing atmosphere. The predetermined atmospheric gas contains, for example, an inert gas (such as nitrogen or Ar), hydrogen, and water vapor. By introducing the atmospheric gas when the temperature in the furnace exceeds 100 ° C. in the firing step, oxidation and elution of the
10 10 × Kp 2 ≦ P (O 2 ) ≦ 10 14 × Kp 2 (3)
[Wherein, Kp represents the dissociation equilibrium constant of water. The unit of oxygen partial pressure P (O 2 ) is Pa. ]
焼成温度は、脱脂処理温度より高温に設定し、例えば900℃〜1000℃に設定すればよい。 The baking temperature may be set higher than the degreasing temperature, for example, 900 ° C. to 1000 ° C.
一方、焼成工程において用いる匣鉢11は、図4及び図5に示すように、上面が開口した容器21と上蓋22とにより構成される。前記匣鉢11は、セラミック材料の組成ズレ等を防ぐ目的で用いられるが、匣鉢11を密閉状態として焼成すると、積層体13から蒸発した炭素成分が匣鉢11外へ排出されないため、クラック発生や焼結遅れ、内部電極層の溶融等の問題が生じる。また、原料として鉛を含む積層体を焼成する場合、蒸発により生成したPbOは匣鉢内にPbO雰囲気を形成するが、PbOは分子量が大きいため通常匣鉢の底に滞留し、このため、匣鉢の底でPbO濃度が過剰に高くなり、積層セラミック素子の表面や粒界においてPbOが析出することがある。
On the other hand, as shown in FIG. 4 and FIG. The
そこで、匣鉢11の一部に内外を連通する開放部分23を設ける。開放部分23を設けることで、積層体から蒸発した炭素成分に起因するクラック発生や焼結遅れ、内部電極層の溶出等の問題を解消することができる。また、セラミック材料が鉛を含む場合、余剰のPbO蒸気を前記開放部分23を介して匣鉢11外へ排出することができる。
Therefore, an
前記開放部分23は、容器21に対し上蓋22をずらして配置すること等によっても形成可能であるが、容器21の開口端の上面と上蓋22との間にスペーサ24を配置することにより形成することが好ましい。この場合、開放部分23は、匣鉢11の側面に設けられる。スペーサ24は、容器21又は上蓋22と別体であっても一体であってもよい。本実施形態では、略立方体のスペーサ24を容器21の開口端の四隅に配置した例を示したが、スペーサの形状、配置箇所、配置数等はこれに限らず任意に設定することができる。
The
前記匣鉢11の開放率は0.5%〜30%とすることが好ましい。匣鉢の開放率とは、匣鉢を構成する全ての面、例えば匣鉢が直方体等の六面体である場合には、上面、下面及び4つの側面の全ての面に対する開放部分の面積比のことである。匣鉢11の開放率が0.5%未満であるとクラックが発生したり内部電極が溶出するおそれがある。逆に、開放率が30%を超えると、クラックや内部電極の溶出が発生したり、鉛等が過度に蒸発して積層セラミック素子の組成が所望値からずれるおそれがある。
The open rate of the
匣鉢11における被焼成物である積層体13の占有率は、20%〜80%であることが好ましい。匣鉢11における積層体13の占有率とは、匣鉢11の容積に対する収容された積層体13の総体積の比率のことをいう。占有率を前記範囲内とすることで、積層セラミック素子の組成のずれが確実に抑えられるともに、匣鉢11内全体に焼成雰囲気を円滑に供給できる。前記占有率が20%未満であると、積層体13の体積あたりの鉛の蒸発が多くなり、積層セラミック素子の特性が低下するおそれがある。逆に占有率が80%を上回ると、匣鉢11外から流入する還元性雰囲気ガスが個々の積層体13に接触し難くなり、やはり特性が低下するおそれがある。なお、占有率のより好ましい範囲は20%〜60%であり、前記範囲とすることによってより高い効果を得ることができる。
It is preferable that the occupation ratio of the
前記匣鉢は、その全体が同じ材料で形成されていても、各部品毎に異なる材料で形成されていてもよい。その材料としては、アルミナ、ジルコニア、マグネシア等が挙げられる。 The bowl may be formed entirely of the same material, or may be formed of a different material for each part. Examples of the material include alumina, zirconia, and magnesia.
以上のような製造方法によれば、前記比率A/Bが15%以上であるセッターを、開放部分が設けられた匣鉢と組み合わせて焼成工程において用いることで、炉内雰囲気と匣鉢内雰囲気とを適度に交換しつつ焼成を行うことができ、且つ、積層体の裏面側にも炉内雰囲気を良好に接触させることができる。したがって、得られる積層セラミック素子において、圧電定数d33等の特性低下を防止することができる。また、匣鉢に設けられた開放部分から積層体から除去された炭素成分を匣鉢外へ排出できるため、クラックの発生や内部電極の溶出等を確実に抑えることができる。 According to the manufacturing method as described above, the setter having the ratio A / B of 15% or more is used in the firing step in combination with the mortar provided with the open portion, whereby the atmosphere in the furnace and the atmosphere in the mortar It is possible to perform firing while appropriately exchanging and to make the atmosphere in the furnace in good contact with the back side of the laminate. Therefore, in the laminated ceramic device obtained, it is possible to prevent degradation properties such as piezoelectric constant d 33. Moreover, since the carbon component removed from the laminated body from the open part provided in the mortar can be discharged out of the mortar, the occurrence of cracks, elution of internal electrodes, and the like can be reliably suppressed.
なお、本発明は、大型の積層体を焼成の対象とする場合に特に有効であり、具体的には積層体の体積Bが20mm3以上であるときに特に有効である。 The present invention is particularly effective when a large laminate is to be fired, and is particularly effective when the volume B of the laminate is 20 mm 3 or more.
ところで、前述の説明では、比率A/Bが15%以上であるセッターを焼成工程においてのみ用いる場合を例に挙げたが、前記セッターは、脱脂工程においても用いることが好ましい。脱脂に際して積層体下に充分な空間が確保されるようなセッターを用いることで、積層体のセッター側における有機成分の分解除去が円滑に進み、積層体中の残留炭素量を大幅に低減することができる。このため、セラミックの焼結の遅れやクラック発生、内部電極の溶出等の不具合を抑えることができる。 By the way, in the above description, a case where a setter having a ratio A / B of 15% or more is used only in the firing step is described as an example. However, the setter is preferably used also in the degreasing step. By using a setter that ensures a sufficient space under the laminate during degreasing, the decomposition and removal of organic components on the setter side of the laminate proceeds smoothly, and the amount of residual carbon in the laminate is greatly reduced. Can do. For this reason, it is possible to suppress problems such as delay in ceramic sintering, generation of cracks, elution of internal electrodes, and the like.
また、前記セッターを脱脂工程で用いた場合、脱脂工程後に積層体が載置された状態のセッターを匣鉢に収容し、焼成工程を開始すればよい。すなわち、脱脂工程後に本発明のセッターに積層体を載せ替える作業が不要となり、生産の効率化を図ることができる。 Moreover, when the setter is used in the degreasing step, the setter in a state where the laminate is placed after the degreasing step is accommodated in a mortar and the firing step may be started. That is, it is not necessary to replace the laminate on the setter of the present invention after the degreasing step, and the production efficiency can be improved.
ただし、前記脱脂を行うに際し、セッターと積層体とが面接触していると、積層体のセッターとの接触面に炭素成分が残留し易くなることから、セッターの積層体と接触する凸部の先端には実質的に平坦部が存在しないことが好ましい。積層体と接触する凸部の先端に実質的に平坦部が存在しないセッターを脱脂に際して用いることによって、クラック発生や内部電極の溶出等の不具合の発生を確実に防止することができる。 However, when the degreasing is performed, if the setter and the laminate are in surface contact, the carbon component tends to remain on the contact surface of the laminate with the setter. It is preferable that there is substantially no flat portion at the tip. By using a setter having no substantially flat portion at the tip of the convex portion in contact with the laminated body for degreasing, it is possible to reliably prevent occurrence of defects such as generation of cracks and elution of internal electrodes.
図7は、セッター12と積層体13との接触状態を示した図であるが、セッター12の積層体13と接触する凸部14の先端に実質的に平坦部が存在しないとは、セッター12の載置面における凹凸が互いに平行な複数の溝14として形成されている場合、溝14間の凸部15において平坦部の幅が0.5mm以下のときのことをいうものとする。
FIG. 7 is a view showing a contact state between the
なお、前述の説明では、積層セラミック素子として積層圧電素子を主な例に挙げたが、本発明はそれ以外の積層セラミック素子の製造方法全般に適用可能であることは言うまでもない。 In the above description, the multilayer piezoelectric element is given as a main example as the multilayer ceramic element, but it goes without saying that the present invention can be applied to all other methods for manufacturing multilayer ceramic elements.
以下、本発明を適用した実施例について説明する。
<比率A/Bの検討>
(サンプル1)
原料としてPbO、ZrO2、TiO2、SrCO3、ZnO、Nb2O5、Ta2O5を用い、これら原料粉をそれぞれ所定量秤量して材料粉末とした。この材料粉末をボールミルにより16時間湿式混合し、乾燥した後、大気雰囲気中700℃〜900℃で2時間仮焼した。その後、さらにボールミルにより16時間湿式粉砕し、乾燥してセラミック前駆体粉末を得た。このセラミック前駆体粉末をアクリル系バインダー、溶剤等と混合してスラリー化し、ドクターブレード法によりグリーンシート(セラミック前駆体層)を形成した。
Examples to which the present invention is applied will be described below.
<Examination of ratio A / B>
(Sample 1)
PbO, ZrO 2 , TiO 2 , SrCO 3 , ZnO, Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 were used as raw materials, and a predetermined amount of each of these raw material powders was weighed to obtain material powders. This material powder was wet-mixed by a ball mill for 16 hours, dried, and calcined at 700 ° C. to 900 ° C. for 2 hours in an air atmosphere. Thereafter, it was further wet-ground by a ball mill for 16 hours and dried to obtain a ceramic precursor powder. This ceramic precursor powder was mixed with an acrylic binder, a solvent and the like to form a slurry, and a green sheet (ceramic precursor layer) was formed by a doctor blade method.
一方、金属銅粉末にエチルセルロース系バインダー、溶剤等を混合してペースト化し、前記グリーンシート上に1〜2μm未満の厚みになるように印刷した。印刷後、300層のグリーンシートを積層して80℃、1ton/cm2の条件で熱圧着し、7×7×30mmに切断してグリーン積層体を得た。 On the other hand, an ethyl cellulose binder, a solvent and the like were mixed with metal copper powder to form a paste, and printed on the green sheet so as to have a thickness of less than 1 to 2 μm. After printing, 300 green sheets were laminated and thermocompression bonded under conditions of 80 ° C. and 1 ton / cm 2 , and cut into 7 × 7 × 30 mm to obtain a green laminate.
このグリーン積層体100個をジルコニア製のセッター上に設置して、インコネル製の管状炉に挿入し、550℃で32時間保持して脱脂処理を行った。脱脂処理に際しては、脱脂処理温度において金属銅と酸化鉛が共存可能な酸素分圧になるようN2とH2に水蒸気を含ませた混合ガスを雰囲気ガスとして炉内に投入した。前記セッターとしては、グリーン積層体の載置面に互いに平行な複数の溝が形成されており、前記溝により形成される積層体下の空間の体積Aと前記積層体の体積Bとの比率A/Bが15%であり、且つ、溝間の凸部の先端に幅0.5mmを超える平坦部が存在しないものを用いた。 100 green laminates were placed on a zirconia setter, inserted into an Inconel tubular furnace, and held at 550 ° C. for 32 hours for degreasing. In the degreasing process, a mixed gas in which water vapor was added to N 2 and H 2 was introduced into the furnace as an atmospheric gas so that the oxygen partial pressure at which the metal copper and lead oxide can coexist at the degreasing temperature. As the setter, a plurality of grooves parallel to each other are formed on the mounting surface of the green laminate, and the ratio A between the volume A of the space below the laminate formed by the grooves and the volume B of the laminate / B is 15%, and a flat portion having a width exceeding 0.5 mm does not exist at the tip of the convex portion between the grooves.
脱脂処理終了後、焼成を行った。焼成に際しては、先ず、グリーン積層体の載置面に互いに平行な複数の溝が形成されており、前記溝により形成される積層体下の空間の体積Aと前記積層体の体積Bとの比率A/Bが24%であり、且つ、溝間の凸部の先端に幅0.5mmを超える平坦部が存在しないセッターに、脱脂後の積層体を載せ替えるとともに、このセッターを匣鉢内に設置した。また、匣鉢の上蓋と枠の間に所定の厚みを有するスペーサを設置することにより、匣鉢の開放率を5%とした。前記匣鉢をインコネル製の管状炉に挿入し、950℃で2時間保持して焼成を行い、積層セラミック素子を得た。焼成に際しては、焼成温度において金属銅と酸化鉛が共存可能な酸素分圧になるようN2とH2に水蒸気を含ませた混合ガスを雰囲気ガスとして炉内に投入した。 After the degreasing treatment, firing was performed. In firing, first, a plurality of grooves parallel to each other are formed on the mounting surface of the green laminate, and the ratio between the volume A of the space below the laminate formed by the grooves and the volume B of the laminate The degreased laminate is placed on a setter in which A / B is 24% and there is no flat part having a width exceeding 0.5 mm at the tip of the convex part between the grooves, and this setter is placed in the bowl. installed. Moreover, the opening rate of the mortar was set to 5% by installing a spacer having a predetermined thickness between the upper lid of the mortar and the frame. The mortar was inserted into an Inconel tubular furnace and fired by holding at 950 ° C. for 2 hours to obtain a multilayer ceramic element. At the time of firing, a mixed gas in which water vapor was added to N 2 and H 2 was introduced into the furnace as an atmospheric gas so that an oxygen partial pressure at which the metallic copper and lead oxide could coexist at the firing temperature.
(サンプル2)
脱脂処理後の積層体を脱脂処理で用いたセッターごと前記匣鉢内に設置し、前記焼成を行った。その他は、サンプル1と同様にして積層セラミック素子を得た。
(Sample 2)
The laminated body after the degreasing treatment was placed in the mortar together with the setter used in the degreasing treatment, and the firing was performed. Otherwise, a multilayer ceramic element was obtained in the same manner as Sample 1.
(サンプル3)
脱脂処理後の積層体を、溝の深さ及び幅を変更することにより前記比率A/Bを7%としたセッターに載せ替えるとともに、このセッターを前記匣鉢内に設置した状態で前記焼成を行った。その他は、サンプル1と同様にして積層セラミック素子を得た。
(Sample 3)
The laminated body after the degreasing treatment is replaced with a setter having the ratio A / B of 7% by changing the depth and width of the groove, and the firing is performed in a state where the setter is installed in the mortar. went. Otherwise, a multilayer ceramic element was obtained in the same manner as Sample 1.
(サンプル4)
脱脂処理後の積層体を、溝の形成されていない平板状のセッターに載せ替えるとともに、このセッターを前記匣鉢内に設置した状態で前記焼成を行った。その他は、サンプル1と同様にして積層セラミック素子を得た。
(Sample 4)
The laminated body after the degreasing treatment was transferred to a flat plate-like setter in which no groove was formed, and the firing was performed in a state where the setter was installed in the mortar. Otherwise, a multilayer ceramic element was obtained in the same manner as Sample 1.
(サンプル5)
脱脂処理後の積層体を脱脂処理で用いたセッターごと前記匣鉢内に設置し、前記焼成を行った。このとき、前記スペーサを用いることなく、匣鉢を密閉状態とした。その他は、サンプル1と同様にして積層セラミック素子を得た。
(Sample 5)
The laminated body after the degreasing treatment was placed in the mortar together with the setter used in the degreasing treatment, and the firing was performed. At this time, the mortar was sealed without using the spacer. Otherwise, a multilayer ceramic element was obtained in the same manner as Sample 1.
以上のサンプル1〜5の積層セラミック素子の外観を目視により観察し、クラックや内部電極溶出の有無を確認した。また、外観上問題の無かったサンプルについては、両側面をサンドブラストにより研磨した後、Cu及びAgを真空蒸着して電極を形成し、150℃のシリコーンオイル中で2.5kV/mm、5分間の分極処理を行った。このサンプルに2.0kV/mm、0.1Hzの電圧を引加して変位量の測定を行い、変位量、層数、電圧から圧電定数d33を求めた。 The appearance of the multilayer ceramic elements of the above samples 1 to 5 was visually observed to check for cracks and internal electrode elution. Moreover, about the sample which did not have a problem in appearance, after polishing both sides by sandblast, Cu and Ag were vacuum-deposited to form an electrode, and 2.5 kV / mm for 5 minutes in 150 ° C. silicone oil. Polarization treatment was performed. The sample 2.0 kV / mm, performs voltage measurement of the displacement amount by引加of 0.1 Hz, displacement, number of layers, measurement of the piezoelectric constant d 33 from the voltage.
表1から明らかなように、焼成処理に際して前記比率A/Bが15%以上となるようなセッターを用いたサンプル1及びサンプル2では700pC/Nを超える高い圧電特性d33を示した。また、得られた積層セラミック素子に外観上の問題も認められなかった。これに対し、平板状セッターを用いたサンプル4及び比率A/Bが15%未満となるようなセッターを用いたサンプル3では、圧電特性d33が特性の基準である700pC/Nを下回った。さらに、サンプル2とサンプル5との比較から、匣鉢を密閉状態として焼成を行うと、内部電極のCuと金属化したPbとが反応することにより内部電極が溶出し、焼結体に外観上の不具合が生じた。したがって、本実験より、焼成処理に際して、一部に開放部分が設けられた匣鉢と、前記比率A/Bが15%以上となるようなセッターとを組み合わせて用いることで、良好な特性を示す積層セラミック素子を製造できることが確認された。
As is evident from Table 1, it showed
<匣鉢開放率の検討>
(サンプル6〜9)
脱脂処理後の積層体を脱脂処理で用いたセッターごと前記匣鉢内に設置し、前記焼成を行った。このとき、前記スペーサの厚みを変えることにより、匣鉢の開放率を表2に示す値に設定した。その他は、サンプル1と同様にして積層セラミック素子を得た。
<Examination of mortar opening rate>
(Samples 6-9)
The laminated body after the degreasing treatment was placed in the mortar together with the setter used in the degreasing treatment, and the firing was performed. At this time, by changing the thickness of the spacer, the open rate of the mortar was set to the value shown in Table 2. Otherwise, a multilayer ceramic element was obtained in the same manner as Sample 1.
以上のサンプル6〜9について、焼成後の外観検査及び圧電特性を調べた。結果を表2に示す。また、サンプル5及びサンプル2の結果も併せて表2に示す。
About the above samples 6-9, the external appearance test | inspection after baking and the piezoelectric characteristic were investigated. The results are shown in Table 2. Table 2 also shows the results of
表2から明らかなように、匣鉢の開放率が30%を超えると、クラックが発生してしまった(サンプル9)。したがって、本実験より匣鉢開放率の好ましい範囲は0.5%〜30%であることが確認された。 As is apparent from Table 2, when the open rate of the mortar exceeded 30%, cracks occurred (Sample 9). Therefore, from this experiment, it was confirmed that the preferable range of the mortar opening rate is 0.5% to 30%.
1 積層圧電素子、2 セラミック層(圧電体層)、3 内部電極層、4 積層体、5 不活性圧電層領域、11 匣鉢、12 セッター、13 積層体、14 溝、15 凸部、21 容器、22 上蓋、23 開放部分、24 スペーサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated piezoelectric element, 2 Ceramic layer (piezoelectric layer), 3 Internal electrode layer, 4 Laminated body, 5 Inactive piezoelectric layer area | region, 11 Bowl, 12 Setter, 13 Laminated body, 14 Groove, 15 Convex part, 21 Container , 22 Top cover, 23 Open part, 24 Spacer
Claims (11)
前記積層体はセッター上に載置された状態で前記匣鉢内に収容され、
前記セッターには前記積層体が載置される載置面に凹凸が形成されており、当該凹凸により形成される積層体下の空間の体積Aと、前記積層体の体積Bとの比率A/Bが15%以上であることを特徴とする積層セラミック素子の製造方法。 After degreasing the laminate in which the ceramic precursor layer containing the raw material of the ceramic layer and the internal electrode precursor layer containing the raw material of the internal electrode layer are alternately laminated, it is housed in a pot with a part of the open portion provided A method for producing a multilayer ceramic element that is fired in a state where
The laminate is housed in the mortar in a state of being placed on a setter,
The setter has an unevenness on the mounting surface on which the laminate is placed, and the ratio A / of the volume A of the space under the laminate formed by the unevenness to the volume B of the laminate. B is 15% or more, The manufacturing method of the laminated ceramic element characterized by the above-mentioned.
前記還元雰囲気として、前記酸化物と前記金属とが共存可能な酸素分圧を有する雰囲気ガスを用いることを特徴とする請求項6記載の積層セラミック素子の製造方法。 The ceramic precursor layer includes an oxide as the raw material, and the internal electrode precursor layer includes a metal as the raw material,
The method for producing a multilayer ceramic element according to claim 6, wherein an atmosphere gas having an oxygen partial pressure in which the oxide and the metal can coexist is used as the reducing atmosphere.
The method for producing a multilayer ceramic element according to any one of claims 1 to 10, wherein the degreasing is performed using the setter.
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