JP2007210197A - 樹脂基体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加水分解可能なシラン化合物SiX4(Xは加水分解可能な官能基)層が、加水分解した(活性化した)樹脂分子と強固に化学結合することで、シラン化合物SiX4層を介して樹脂分子同士を固定化し樹脂表面を安定化させる。また、この層は分子レベルの超薄膜のため、熱膨張の差による破壊も起こらない。このため表面が極めて安定化した加水分解可能なシラン化合物SiX4層となる。さらに、この上にシラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数 Rはアルキル基、もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)層を設けることも可能で、これらにより、耐久性の優れた親水、撥水、撥油性樹脂基体を提供できる。
【選択図】図1
Description
子レベルの超薄膜のため、熱膨張の差による破壊も起こらない。このため表面が極めて安定化した加水分解可能なシラン化合物SiX4層を有する基体となり、耐久性にすぐれた親水性樹脂基体を提供できる。
表面を撥水、撥油、非粘着性を向上できる。
を始めとするハロゲン化シリル基、アルコキシシリル基、イソシアネートシリル基が有効であるが、クロロシリル基は加水分解可能な樹脂層表面にある水酸基等との反応性の高く、特に本発明の場合、高温で熱処理が困難な樹脂基板であることを考慮すると特に有効である。 また、シロキサン結合を介することにより、従来の共有結合を介したもの(例えば、スルフィド結合−S−)よりも、より強固に基板に結合するので、耐熱性、耐水性、耐電気特性等が優れる。また、撥水性を付与するRとしては、アルキル基が良く、さらに撥油性を付与し、防汚性を高める場合には、フルオロアルキル基が優れている。さらにこれらの官能基は固定化される化合物の割合(被覆率)を高めるためにも、直鎖状のものや、n=1の構造のものがよい。この結果、シラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数 Rはアルキル基、もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)は単分子膜になり、CH3やCF3基が表面に露出し、さらに撥水、撥油、防汚性が高まる。
(2) Si(OC2H5)4
(3) Si(NCO)4
なお、一般式、X3SiO−(SiX2O)m−X(ただし、nは1以上の自然数、m、lは自然数、kは0もしくは1でXはハロゲン基、アルコキシ基、イソシアネート基)に対応する以下の化合物も適用可能である。
(5) SiCl3−O−SiCl2−O−SiCl3
(6) Si(OCH3)3−O−Si(OCH3)3
(7) Si(OC2H5)3−O−Si(OCH3)3
(8) Si(OC2H5)3−O−Si(OC2H5)3
(9) Si(NCO)3−O−Si(NCO)3
撥水、撥油、防汚を付与するシラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数 Rはアルキル基、もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)場合は、以下のものが例示できる。
(11) CH3(CH2)u−Si(CH3)2(CH2)v−SiZqCl3−q
(12) CF3COO(CH2)wSiZqCl3−q
ただし、pは1〜3の整数、qは0〜2の整数、rは1〜25の整数、sは0〜12の整数、tは1〜20の整数、uは0〜12の整数、vは1〜20の整数、wは1〜25の整数を示す。また、Yは、水素、アルキル基、アルコキシル基、含フッ素アルキル基または含フッ素アルコキシ基である。
(14) CH3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3
(15) CH3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9SiCl3
(16) CH3COO(CH2)15SiCl3
(17) CF3(CF2)7−(CH2)2−SiCl3
(18) CF3(CF2)5−(CH2)2−SiCl3
(19) CF3(CF2)7−C6H4−SiCl3
(20) (CF3)2−SiCl2
(21) (CF3)3−SiCl
また、上記クロロシラン系化合物の代わりに、全てのクロロシリル基をイソシアネート基に置き扱えたイソシアネート系化合物、例えば下記に示す(22)−(26)を用いてもよい。
(23) CH3(CH2)sO(CH2)tSiZq(NCO)q−P
(24) CH3(CH2)u−Si(CH3)2(CH2)v−SiZq(NCO)3−q
(25) CF3COO(CH2)vSiZq(NCO)3−q
但し、p、q、r、s、t、u、v、wおよびXは、前記と同様である。
(27) CH3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15Si(NCO)3
(28) CH3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9Si(NCO)3
(29) CH3COO(CH2)15Si(NCO)3
(30) CF3(CF2)7−(CH2)2−Si(NCO)3
(31) CF3(CF2)5−(CH2)2−Si(NCO)3
(32) CF3(CF2)7−C6H4−Si(NCO)3
(33) (CF3)2−Si(NCO)2
(34) (CF3)3−SiNCO
また、シラン系化合物として、一般に、SiZk(OA)4−k(Zは、前記と同様、Aはアルキル基、kは0、1、2または3)で表される物質を用いることが可能である。中でも、CF3−(CF2)n−(R)l−SiYq(OA)3−q(nは1以上の整数、好ましくは1〜22の整数、Rはアルキル基、ビニル基、エチニル基、アリール基、シリコンもしくは酸素原子を含む置換基、lは0または1、Z、Aおよびqは前記と同様)で表される物質を用いると、よりすぐれた防汚性の被膜を形成できるが、これに限定されるものではなく、これ以外にも、 CH3−(CH2)r−SiZq(OA)3−qおよびCH3−(CH2)s−0−(CH2)t−SiZq(OA)3−q、CH3−(CH2)u−Si(CH3)2−(CH2)v−SiZq(OA)3−q、CF3COO−(CH2)v−SiZq(OA)3−q(但し、q、r、s、t、u、v、w、YおよびAは、前記と同様)などが使用可能である。
(36) CF3CH2O(CH2)15Si(OCH3)3
(37) CH3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15Si(OCH3)3
(38) CH3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9Si(OCH3)3
(39) CH3COO(CH2)15Si(OCH3)3
(40) CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3
(41) CF3(CF2)7−C6H4−Si(OCH3)3
(42) CH3CH2O(CH2)15Si(OC2H5)3
(43) CH3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15Si(OC2H5)3
(44) CH3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9Si(OC2H5)3
(45) CF3(CH2)6Si(CH3)2(CH2)9Si(OC2H5)3
(46) CH3COO(CH2)15Si(OC2H5)3
(47) CF3COO(CH2)15Si(OC2H5)3
(48) CF3COO(CH2)15Si(OCH3)3
(49) CF3(CF2)9(CH2)2Si(OC2H5)3
(50) CF3(CF2)7(CH2)2Si(OC2H5)3
(51) CF3(CF2)5(CH2)2Si(OC2H5)3
(52) CF3(CF2)7C6H4Si(OC2H5)3
(53) CF3(CF2)9(CH2)2Si(OCH3)3
(54) CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3
(55) CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3(OC2H5)2
(56) CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3(OCH3)2
(57) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2OC2H5
(58) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2OCH3
なお、(2)−(3)、(6)−(9)、(22)−(58)の化合物を用いた場合には、塩酸が発生しないため、装置保全および作業上のメリットもある。
まわないが、樹脂の吸水による変形等を考えると、DRYプロセスがよい。樹脂表面が平板の場合は、UV処理やコロナ放電処理などが優れる。このUV処理では波長としては400nm以下のUV光が有効であるが、特に200nm以下の真空紫外域では、強力なオゾンが発生すること、樹脂内部までUVが到達しないので樹脂を光劣化させることがない。また樹脂が形状品の場合、オゾン処理や酸素プラズマ処理が有効である。
アクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチル、表面鉛筆硬度3H)基板表面に、湿度50%雰囲気下で172nmの波長を有するエキシマUV光を照射することで雰囲気中の水蒸気により表面が加水分解され、水酸基が形成された樹脂基板が製造される。窒素雰囲気(無水)下でこの樹脂基板にテトラクロロシランを含むフロリナート(3M社製)溶液に浸漬し、通常雰囲気で乾燥することで、樹脂表面の水酸基とクロロシリル基が脱塩酸反応をおこして、シロキサン結合を介して樹脂とテトラクロロシランが化学結合し、さらにこのテトラクロロシランを介して、樹脂同士が固定化する。その結果、樹脂表面に強固に固定化したテトラクロロシランの加水分解層が形成され、本発明の耐久性に優れた親水樹脂基板が製造される。
実施例1の、テトラクロロシランを含むフロリナート(3M社製)溶液の代わりに、市販のシリカゾル溶液を用い、実施例1と同様に樹脂基体RAを作製した。
実施例1の、テトラクロロシランを含むフロリナート(3M社製)溶液に浸漬しないこと以外は、実施例1と同様に樹脂基体RBを作製した。
樹脂基体A、RA、RBの水の接触角はそれぞれ、107°、103°、93°であった。RBの水の接触角が低いのは、樹脂表面の少ない水酸基にへプタデカフルオロデシルトリクロロシランが固定化されているためである。
実施例1のへプタデカフルオロデシルトリクロロシランに代わり、デシルトリクロロシランを用いたことを除いて、実施例1と同様に樹脂基体Bを作製した。
樹脂基体A,Bの接触角は107°105°でほとんど変わらないにもかかわらず、油性マジックで文字を書き、ワイパーでこすったところ、Aは消え、Bはまったく消えなかった。これはA表面は撥水撥油性が付与されたのに対し、Bは、撥水親油性が付与されたためである。
実施例1のへプタデカフルオロデシルトリクロロシランに代わり、ジ(へプタデカフルオロデシル)ジクロロシランを用いたことを除いて、実施例1と同様に樹脂基体Cを作製した。
樹脂基体A,Cの接触角は107°90°であった。油性マジックで文字を書いたところ、Aははじいて書けないのに対し、Cははじかず書けた。一方ワイパーでこすったところ、Aは消えやすいのに対し、Cは消えにくかった。これはジ(へプタデカフルオロデシル)ジクロロシランが、かさ高な分子のため表面を被覆しないためと考えられ、実施例3の手段により撥水撥油性をコントロールできるとともに、より撥水撥油性を付与したい場合は、本発明の実施例1の手段が優れることがわかる。
実施例1のへプタデカフルオロデシルトリクロロシランを含むフロリナート(3M社製)溶液に浸漬後に、基板をフロリナートで洗浄し、過剰なへプタデカフルオロデシルトリクロロシランを取り除いたこと以外は、実施例1と同様に樹脂基体Dを作製した。
樹脂基体A,Dの接触角は107°112°であった。油性マジックで文字を書いたところ、Aははじいて書けないのに対し、Dはまったくかけなかった。これはDのへプタデカフルオロデシルトリクロロシランが単分子膜になっており、表面にCF3基が露出しているためと考えられる。
実施例1の表面鉛筆硬度3Hアクリル樹脂に代わり、表面鉛筆硬度Hのアクリル樹脂を用いたこと以外は実施例1と同様に樹脂基体Eを作製した。
実施例1の表面鉛筆硬度3Hアクリル樹脂に代わり、表面鉛筆硬度Bのアクリル樹脂を用いたこと以外は実施例1と同様に樹脂基体RCを作製した。
樹脂基体A、E、RCの水の接触角は107°、105°、105°であった。この後、10g/cm2の荷重をかけ、水をしみこませたふきんで1000往復こすると、樹脂基体A,E、RCの水の接触角は105°103°、52°であった。表面を観察したところ、RCには表面に削り傷がみられた。このことより、樹脂表面の硬度が硬いほど、表面が削られにくいので、その上の膜の耐久性が優れることがわかり、鉛筆硬度でH以上では実用的であるといえる。
実施例1のアクリル樹脂に変わりPET(ポリエチレンテレフタレート)樹脂を用いたこと以外は実施例1と同様に樹脂基体Fを作製した。
実施例1のアクリル樹脂に変わりポリプロピレン樹脂を用いたこと以外は実施例1と同様に樹脂基体RDを作製した。
樹脂基体A、F、RDの水の接触角は107°、111、90°であった。この状態で油性マジックを用いて文字を書き、ワイパーでこすったところ、A、Fは消えたものの、RDは消えなかった。また、樹脂基体を50℃雰囲気下で100時間放置後、A、F,RDの水の接触角を測定したところ、102°、111°、75°であった。これはアクリル、PET樹脂に比べ、ポリプロピレン樹脂は、加水分解しないために水酸基の生成がほとんどなく、そのためテトラクロロシランによる架橋(化学結合)せず、表面安定化しない。また、へプタデカフルオロデシルトリクロロシランも化学結合しないためと考えられる。また、AがFに比べて耐熱性が優れるのは、Fが熱硬化性樹脂であるためと考えら得る。
実施例1のテトラクロロシランに代わり、テトラエトキシシランを用いたことをのぞいて、実施例1と同様に樹脂基板Gを作製した。
実施例1のへプタデカフルオロデシルトリクロロシランに代わり、へプタデカフルオロデシルトリエトキシシランを用いたことを除いて、実施例1と同様に樹脂基板Hを作製した。
樹脂基体A、F、Gの水の接触角は107°、102°、95°であった。この後、10g/cm2の荷重をかけ、水をしみこませたふきんで1000往復こすると、樹脂基体A,E、RCの水の接触角は105°93°、82°であった。このことより、クロロシランのほうが、アルコキシシランよりも強固に表面に化学結合を形成し、本発明の樹脂基板の耐久性を向上させえることがわかる。
実施例1の172nmの波長を有するエキシマUV光を照射しなかったことを除いて、実施例1と同様に樹脂基板REを作製した。
樹脂基体A、REの接触角はそれぞれ、107°、62°であり、また、油性マジックで文字を書き、ワイパーでこすったところ、Aは消え、Bはまったく消えず、Aはヘプタ
デカフルオロデシル基を含むシロキサン結合を有する膜が形成されたのに対し、R3はこの膜が形成されなかったことがわかる。これは、RE樹脂表面に水酸基が形成されなかったことに起因するヘプタデカフルオロデシル基を含むシロキサン結合を有する膜が形成されなかったためである。
実施例1の樹脂基板を窒素雰囲気(無水)下でテトラクロロシランおよびヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランを含むフロリナート(3M社製)溶液に浸漬するかわりに、湿度20、35、40%で行い、実施例1と同様に樹脂基板R4(20)、R4(35)、R4(40)を作製した。
樹脂基体A、RF(20)、RF(35)、RF(40)の接触角は107°、106°105°、92°であった。また、油性マジックで文字を書き、ワイパーでこすったところ、A、R4(20)、R4(35)は消え、R(40)はまったく消えなかったことから、A、R4(20)、R4(35)はヘプタデカフルオロデシル基を含むシロキサン結合を有する膜が形成されたのに対し、R4(40)はこの膜が形成されなかったことがわかる。これは、R4(40)は雰囲気の水蒸気とへプタデカフルオロデシルトリクロロシランが反応し、ヘプタデカフルオロデシル基を含むシロキサン結合を有する膜が形成されなかったためである。
4 テトラクロロシラン
5 親水性樹脂基体
6 ヘプタデカフロオロデシルトリクロロシラン
7 撥水、撥油樹脂基体
Claims (15)
- 加水分解可能な樹脂基板表面と化学結合した加水分解可能なシラン化合物SiX4(Xは加水分解可能な官能基)層を設けた樹脂基体。
- 加水分解可能な樹脂基板表面と化学結合した加水分解可能なシラン化合物SiX4(Xは加水分解基)層と、加水分解可能なシラン化合物SiX4層と化学結合した加水分解可能なシラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数、Rはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)層を設けた樹脂基体。
- 加水分解可能なシラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数、Rはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)層が加水分解可能なシラン化合物RSiY3であることを特徴とする請求項2記載の樹脂基体。
- 加水分解可能なシラン化合物RSiY3(Rはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)層が単分子膜であることを特徴とする請求項3記載の樹脂基体。
- 加水分解可能な樹脂が熱硬化性樹脂であることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項に記載の樹脂基体。
- 加水分解可能な樹脂の表面の鉛筆硬度がH以上であることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項に記載の樹脂基体。
- 加水分解可能な樹脂がアクリル、シリコーン、およびこれらの共重合体、もしくはポリイミド、ポリアミド、およびこれらの共重合体であることを特徴とする請求項1〜4いずれか1項に記載の樹脂基体。
- 樹脂基板表面を加水分解する工程と、加水分解した樹脂基板表面に少なくともシラン化合物SiX4(Xは加水分解可能な官能基)を接触させる工程と、形成されたシラン化合物SiX4層を加水分解する工程を有する樹脂基体の製造方法。
- 樹脂基板表面を加水分解する工程と、加水分解した樹脂基板表面に少なくともシラン化合物SiX4(Xは加水分解可能な官能基)を接触させる工程と、形成されたシラン化合物SiX4層を加水分解する工程と、加水分解したシラン化合物SiX4層にシラン化合物RnSiY4−n(nは1〜3の整数、Rはアルキル基、もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)を接触する工程と、形成されたシラン化合物RnSiY4−n層を加水分解する工程を有する樹脂基体の製造方法。
- 加水分解可能な樹脂基板表面の加水分解を行う工程が少なくともUV照射もしくはコロナ放電照射であることを特徴とする請求項8もしくは9記載の樹脂基体の製造方法
- 加水分解可能な樹脂基板表面の加水分解を行う工程が少なくともオゾンもしくは酸素プラズマの接触であることを特徴とする請求項8もしくは9記載の樹脂基体の製造方法。
- 加水分解可能な樹脂基板表面の加水分解を行う雰囲気が湿度10%以上であることを特徴とする請求項10もしくは11記載の樹脂基体の製造方法。
- 加水分解可能な官能基XもしくはYがハロゲン基、アルコキシ基、イソシアネート基であることを特徴とする請求項8もしくは9に記載の樹脂基体の製造方法。
- ハロゲン基がクロロ基であることを特徴とする請求項12記載の樹脂基体の製造方法。
- 少なくともSiX4(Xは加水分解可能な官能基)もしくは少なくともRnSiY4−n(nは1〜3の整数、Rはアルキル基もしくはフルオロアルキル基、Yは加水分解可能な官能基)を接触させる工程が湿度35%以下の無水雰囲気であることを特徴とする請求項10〜13いずれか1項に記載の樹脂基体の製造方法。
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