JP2007207413A - Semiconductor device, display device provided with semiconductor device, and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置に関する。特に、トランジスタを用いて構成されるシフトレジスタに関する。また、半導体装置を具備する表示装置、及び当該表示装置を具備する電子機器に関する。 The present invention relates to a semiconductor device. In particular, the present invention relates to a shift register including transistors. In addition, the present invention relates to a display device including a semiconductor device and an electronic device including the display device.
近年、液晶表示装置や発光装置などの表示装置は、液晶テレビなどの大型表示装置の増加から、活発に開発が進められている。特に絶縁体上に非結晶半導体により形成されたトランジスタを用いて、画素回路、及びシフトレジスタ回路等を含む駆動回路(以下、内部回路という)を一体形成する技術は、低消費電力化、低コスト化に大きく貢献するため、活発に開発が進められている。絶縁体上に形成された内部回路は、FPC等を介して絶縁体の外に配置されたコントローラIC等に(以下、外部回路という)接続され、その動作が制御されている。 In recent years, display devices such as liquid crystal display devices and light-emitting devices have been actively developed due to an increase in large display devices such as liquid crystal televisions. In particular, a technology in which a driver circuit including a pixel circuit and a shift register circuit (hereinafter referred to as an internal circuit) is integrally formed using a transistor formed of an amorphous semiconductor over an insulator has low power consumption and low cost. In order to make a significant contribution to the development, development is actively underway. An internal circuit formed on the insulator is connected to a controller IC or the like (hereinafter referred to as an external circuit) disposed outside the insulator via an FPC or the like, and its operation is controlled.
また、絶縁体上に一体形成された内部回路として、非結晶半導体のトランジスタを用いて構成されるシフトレジスタ回路が考案されている(特許文献1参照)。 As an internal circuit integrally formed on an insulator, a shift register circuit using an amorphous semiconductor transistor has been devised (see Patent Document 1).
しかしながら、上記シフトレジスタ回路は、出力端子がフローティング状態になる期間があるため、ノイズが出力端子に発生しやすくなっていた。この出力端子に発生したノイズによって、シフトレジスタ回路が誤動作していた。 However, since the shift register circuit has a period during which the output terminal is in a floating state, noise is likely to occur at the output terminal. The shift register circuit malfunctioned due to noise generated at the output terminal.
上記問題点を解決するために、出力端子がフローティング状態にならないシフトレジスタ回路が考案されている。いわゆるスタティック駆動によって、このシフトレジスタ回路は動作する(特許文献2参照)。 In order to solve the above problem, a shift register circuit has been devised in which an output terminal does not enter a floating state. This shift register circuit operates by so-called static driving (see Patent Document 2).
特許文献2に示すシフトレジスタ回路は、スタティック駆動を可能にしている。そのため、このシフトレジスタ回路は、出力端子がフローティング状態にならないため、出力端子に発生するノイズを減らすことができる。
上記、特許文献2に示すシフトレジスタ回路では、その動作期間が1選択信号を出力する選択期間と、非選択信号を出力する非選択期間とに分かれており、この動作期間のうちほとんどの期間が非選択期間になる。非選択期間においては、出力端子にトランジスタを介して低電位を供給している。つまり、この出力端子に低電位を供給するためのトランジスタは、シフトレジスタ回路の動作期間のうちほとんどの期間においてオンしている。
In the above-described shift register circuit shown in
非結晶半導体を用いて作製されるトランジスタの特性は、オンする時間、及び印加する電位に従って、劣化することが知られている。中でも、トランジスタのしきい値電位が上昇するしきい値電位シフトは、トランジスタ特性が劣化するときに顕著に表れる。このしきい値電位シフトがシフトレジスタ回路の誤動作の大きな原因の1つであった。 It is known that the characteristics of a transistor manufactured using an amorphous semiconductor are deteriorated in accordance with a turn-on time and an applied potential. In particular, a threshold potential shift in which the threshold potential of a transistor rises is prominent when transistor characteristics deteriorate. This threshold potential shift is one of the major causes of malfunction of the shift register circuit.
このような問題点に鑑み、本発明では、非選択期間においてもノイズが少なく、且つトランジスタの劣化を抑制できるシフトレジスタ回路、当該シフトレジスタ回路を具備する半導体装置又は表示装置、若しくは当該表示装置を具備する電子機器を提供することを目的とする。 In view of such problems, in the present invention, a shift register circuit that can reduce noise and suppress deterioration of a transistor even in a non-selection period, a semiconductor device or a display device including the shift register circuit, or the display device is provided. An object is to provide an electronic device provided.
本発明は、半導体装置が有するトランジスタが常時オンしていることをなくして、当該トランジスタの特性劣化を抑制することを特徴としている。 The present invention is characterized in that a transistor included in a semiconductor device is not always turned on and deterioration of characteristics of the transistor is suppressed.
本発明の半導体装置の一は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、インバータと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線とを有し、前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記インバータの第1端子に電気的に接続され、前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記インバータの第2端子に電気的に接続され、前記第1のトランジスタのゲート端子は、当該ゲート端子を浮遊状態にするためのトランジスタに電気的に接続されていることを特徴とする。 One of the semiconductor devices of the present invention includes a first transistor, a second transistor, a third transistor, an inverter, a first wiring, a second wiring, and a third wiring. The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the inverter. The second transistor is electrically connected to the first terminal, the first terminal is electrically connected to the second wiring, and the gate terminal is electrically connected to the second terminal of the third transistor. The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, a gate terminal electrically connected to the second terminal of the inverter, and a gate terminal of the first transistor being , Make the gate terminal floating Characterized in that it is electrically connected in order of the transistor.
本発明の半導体装置の一は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線とを有し、前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、前記第1のトランジスタのゲート端子は、当該ゲート端子を浮遊状態にするためのトランジスタに電気的に接続されていることを特徴とする。 One embodiment of a semiconductor device of the present invention includes a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a first wiring, and a second wiring. , A third wiring, and a fourth wiring. The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring and a second terminal connected to the second transistor. The second terminal is electrically connected to the second wiring, the gate terminal is electrically connected to the gate terminal of the fourth transistor, the first transistor is electrically connected to the second wiring, The gate terminal is electrically connected to the second terminal of the third transistor, the third transistor is electrically connected to the third wiring, and the gate terminal is electrically connected to the fourth transistor. The second terminal and the fifth transformer The fourth transistor is electrically connected to the second wiring, and the fifth transistor has the first terminal connected to the fourth terminal. Electrically connected to a wiring, a gate terminal is electrically connected to the fourth wiring, and a gate terminal of the first transistor is electrically connected to a transistor for bringing the gate terminal into a floating state. It is characterized by.
本発明の半導体装置の一は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、第6のトランジスタと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第5の配線とを有し、前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、及び前記第6のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続されていることを特徴とする。 One embodiment of a semiconductor device of the present invention includes a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a sixth transistor, and a first wiring. , Having a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, and a fifth wiring, wherein the first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring. The second terminal is electrically connected to the second terminal of the second transistor, the gate terminal is electrically connected to the gate terminal of the fourth transistor, and the second terminal of the sixth transistor; The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, a gate terminal electrically connected to a second terminal of the third transistor, and the third transistor having a first terminal One terminal is electrically connected to the third wiring And the gate terminal is electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor, and the fourth transistor is electrically connected to the second wiring. And the fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring, and the sixth transistor including: The first terminal is electrically connected to the fourth transistor, and the gate terminal is electrically connected to the fifth wiring.
本発明の半導体装置の一は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、第6のトランジスタと、第7のトランジスタと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第5の配線とを有し、前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、前記第6のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続され、前記第7のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続されていることを特徴とする。 One embodiment of a semiconductor device of the present invention includes a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a sixth transistor, and a seventh transistor. , First wiring, second wiring, third wiring, fourth wiring, and fifth wiring, wherein the first transistor has a first terminal connected to the first wiring. The second terminal is electrically connected to the second terminal of the second transistor, the gate terminal is the gate terminal of the fourth transistor, the second terminal of the sixth transistor, and The seventh transistor is electrically connected to the second terminal of the seventh transistor, and the second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring and a gate terminal connected to the second terminal of the third transistor. Terminal and the seventh transistor The third transistor is electrically connected to the third wiring, the gate terminal is electrically connected to the second terminal of the fourth transistor, and the fifth transistor is electrically connected to the gate terminal of the fourth transistor. The fourth transistor is electrically connected to the second wiring, and the fifth transistor has the first terminal connected to the second terminal of the fourth transistor. The gate terminal is electrically connected to the fourth wiring, the sixth transistor has the first terminal electrically connected to the fourth transistor, and the gate terminal The seventh transistor is electrically connected to the fifth wiring, and the seventh transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring.
本発明の半導体装置の一は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、第6のトランジスタと、第7のトランジスタと、第8のトランジスタと、第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第5の配線と第6の配線とを有し、前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、前記第6のトランジスタの第2端子、前記第7のトランジスタの第2端子、及び前記第8のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続され、前記第7のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、前記第8のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第6の配線に電気的に接続されていることを特徴とする。 One embodiment of a semiconductor device of the present invention includes a first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a sixth transistor, and a seventh transistor. , Having an eighth transistor, a first wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a fifth wiring, and a sixth wiring, the first transistor The first terminal is electrically connected to the first wiring, the second terminal is electrically connected to the second terminal of the second transistor, the gate terminal is the gate terminal of the fourth transistor, The second transistor is electrically connected to the second terminal of the sixth transistor, the second terminal of the seventh transistor, and the second terminal of the eighth transistor, and the second terminal of the second transistor is the first terminal of the sixth transistor. 2 is electrically connected to A first terminal is electrically connected to a second terminal of the third transistor and a gate terminal of the seventh transistor, and the third terminal of the third transistor is electrically connected to the third wiring. And the gate terminal is electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor, and the fourth transistor is electrically connected to the second wiring. And the fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring, and the sixth transistor including: The first terminal is electrically connected to the fourth transistor, the gate terminal is electrically connected to the fifth wiring, and the seventh transistor has the first terminal electrically connected to the second wiring. Connected to the Njisuta has a first terminal electrically connected to the second wiring, the gate terminal is characterized in that it is electrically connected to the sixth wiring.
また、本発明において、前記第4のトランジスタのチャネル長Lとチャネル幅Wの比W/Lは、前記第5のトランジスタのチャネル長Lとチャネル幅Wの比W/Lの10倍以上であってもよい。 In the present invention, the ratio W / L of the channel length L to the channel width W of the fourth transistor is not less than 10 times the ratio W / L of the channel length L to the channel width W of the fifth transistor. May be.
また、本発明において、前記第1のトランジスタ、及び前記第3のトランジスタは、同じ導電型でもよい。 In the present invention, the first transistor and the third transistor may have the same conductivity type.
また、本発明において、前記第1のトランジスタ、及び前記第4のトランジスタは、Nチャネル型でもよいし、Pチャネル型でもよい。 In the present invention, the first transistor and the fourth transistor may be N-channel type or P-channel type.
また、本発明において、前記第1のトランジスタの第2端子と、ゲート端子との間に電気的に接続された容量素子が設けられていてもよい。 In the present invention, a capacitive element electrically connected between the second terminal and the gate terminal of the first transistor may be provided.
また、本発明において、前記容量素子の代わりに、MOSトランジスタを用いて、容量が形成されていてもよい。 In the present invention, a capacitor may be formed using a MOS transistor instead of the capacitor.
また、本発明において、前記容量素子は、第1の電極と、第2の電極と、第1の電極と第2の電極とに挟持された絶縁体とを有し、前記第1の電極が半導体層であり、前記第2の電極がゲート配線層であり、前記絶縁体がゲート絶縁膜でもよい。 In the present invention, the capacitor element includes a first electrode, a second electrode, and an insulator sandwiched between the first electrode and the second electrode, and the first electrode It may be a semiconductor layer, the second electrode may be a gate wiring layer, and the insulator may be a gate insulating film.
また、本発明において、前記第1の配線には、クロック信号が供給され、前記第3の配線には、前記クロック信号と位相が180度異なる反転クロック信号が供給されていてもよい。 In the present invention, a clock signal may be supplied to the first wiring, and an inverted clock signal having a phase that is 180 degrees different from the clock signal may be supplied to the third wiring.
本発明の表示装置の一は、複数の画素と、駆動回路とを有する表示装置であって、前記画素は、駆動回路によって制御され、前記駆動回路は、複数のトランジスタと、前記トランジスタを常時オンしないようにする回路とを有することを特徴とする。 One embodiment of the display device of the present invention is a display device including a plurality of pixels and a driver circuit, wherein the pixels are controlled by the driver circuit, and the driver circuit constantly turns on the plurality of transistors and the transistors. And a circuit for preventing the above.
また、本発明において、駆動回路は上記説明した半導体装置を有していてもよい。 In the present invention, the driver circuit may include the semiconductor device described above.
また、本発明において、前記画素は、少なくとも1つのトランジスタを有し、前記画素が有するトランジスタと、前記駆動回路が有するトランジスタとは、同じ導電型であってもよい。 In the present invention, the pixel includes at least one transistor, and the transistor included in the pixel and the transistor included in the driver circuit may have the same conductivity type.
また、本発明において、前記画素は、前記駆動回路と同一基板上に形成されてもよい。 In the present invention, the pixel may be formed on the same substrate as the driving circuit.
また、本発明の表示装置は電子機器に適用されたものであってもよい。 The display device of the present invention may be applied to an electronic device.
以上、本発明は、前記第2のトランジスタ、及び前記第7のトランジスタを常時オンしないようにするために、前記第3の配線に供給されている信号によって、前記第2のトランジスタ、及び前記第7のトランジスタのオンあるいはオフを制御するものである。 As described above, according to the present invention, in order to prevent the second transistor and the seventh transistor from being always turned on, the second transistor and the second transistor are controlled by a signal supplied to the third wiring. 7 is used to control ON or OFF of the transistor 7.
また、前記第1のトランジスタがオンするときに、前記第2のトランジスタがオンしないように、前記第1のトランジスタのゲート端子をインバータを介して前記第2のトランジスタのゲート端子に接続することで、前記第3のトランジスタをオフしている。この前記第3のトランジスタがオフする前に、前記第2のトランジスタがオフしていれば、前記第2のトランジスタは引き続きオフする。したがって、前記第1の配線と第2の配線とが前記第1のトランジスタ、及び前記第2のトランジスタを介して導通することはない。 Further, by connecting the gate terminal of the first transistor to the gate terminal of the second transistor via an inverter so that the second transistor is not turned on when the first transistor is turned on. The third transistor is turned off. If the second transistor is turned off before the third transistor is turned off, the second transistor is continuously turned off. Therefore, the first wiring and the second wiring are not conducted through the first transistor and the second transistor.
なお、前記第1のトランジスタがオンして、前記第2のトランジスタがオフしているときに、前記第1の配線の電位が変化すれば、前記第1のトランジスタの第2端子の電位も変化する。このとき、前記第1のトランジスタのゲート端子が浮遊状態であれば、前記第1のトランジスタのゲート端子の電位は、前記容量素子の容量結合によって同時に変化する。ここで、前記第1のトランジスタのゲート端子の電位は、前記第1の配線の電位と前記第1のトランジスタのしきい値電位との和以上、又は以下の値まで変化すれば、前記第1のトランジスタは引き続きオンする。このように、前記第1の配線の電位が変化しても、前記第1のトランジスタがオンし、前記第1のトランジスタの第1端子と第2端子とを同電位にする機能も有する。 Note that if the potential of the first wiring changes when the first transistor is on and the second transistor is off, the potential of the second terminal of the first transistor also changes. To do. At this time, if the gate terminal of the first transistor is in a floating state, the potential of the gate terminal of the first transistor changes simultaneously due to capacitive coupling of the capacitive element. Here, if the potential of the gate terminal of the first transistor changes to a value greater than or less than the sum of the potential of the first wiring and the threshold potential of the first transistor, the first transistor The transistor of this continues to turn on. As described above, even when the potential of the first wiring changes, the first transistor is turned on, and the first terminal and the second terminal of the first transistor have a function of the same potential.
なお、明細書に示すスイッチは、例えば電気的スイッチ、機械的なスイッチを用いることができる。つまり電流の流れを制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。トランジスタでもよいし、ダイオード(PNダイオード、PINダイオード、ショットキーダイオード、ダイオード接続のトランジスタなど)でもよいし、それらを組み合わせた論理回路でもよい。よって、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、そのトランジスタは、単なるスイッチとして動作するため、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。ただし、オフ電流が少ない方が望ましい場合、オフ電流が少ない方の極性のトランジスタを用いることが望ましい。オフ電流が少ないトランジスタとしては、LDD領域を設けているものやマルチゲート構造にしているもの等がある。また、スイッチとして動作させるトランジスタのソース端子の電位が、低電位側電源(Vss、GND、0Vなど)に近い状態の場合はNチャネル型を、反対に、ソース端子の電位が、高電位側電源(Vddなど)に近い状態の場合はPチャネル型を用いることが望ましい。なぜなら、ゲートとソースの間の電圧の絶対値を大きくできるため、スイッチとして機能させる際に動作させやすいからである。なお、Nチャネル型とPチャネル型の両方を用いて、CMOS型のスイッチにしてもよい。 Note that an electrical switch or a mechanical switch can be used as the switch described in the specification, for example. That is, it is only necessary to be able to control the current flow, and is not limited to a specific one. It may be a transistor, a diode (PN diode, PIN diode, Schottky diode, diode-connected transistor, or the like), or a logic circuit that is a combination thereof. Therefore, when a transistor is used as a switch, the transistor operates as a mere switch, and thus the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited. However, when it is desirable that the off-state current is small, it is desirable to use a transistor having a polarity with a small off-state current. As a transistor with low off-state current, there are a transistor provided with an LDD region and a transistor having a multi-gate structure. In addition, when the potential of the source terminal of the transistor that operates as a switch is close to the low potential side power supply (Vss, GND, 0 V, etc.), the N channel type is used. In the case of a state close to (such as Vdd), it is desirable to use a P-channel type. This is because the absolute value of the voltage between the gate and the source can be increased, so that it is easy to operate when functioning as a switch. Note that both N-channel and P-channel switches may be used as CMOS switches.
なお、本発明において接続されているとは、電気的に接続されていることと同義である。したがって、間に別の素子やスイッチなどが配置されていてもよい。 In the present invention, being connected is synonymous with being electrically connected. Therefore, another element, a switch, or the like may be disposed between them.
なお、表示素子、表示素子を有する装置である表示装置、発光素子、発光素子を有する装置である発光装置は、様々な形態を用いたり、様々な素子を有することが出来る。例えば、EL素子(有機EL素子、無機EL素子又は有機物及び無機物を含むEL素子)、電子放出素子、液晶素子、電子インクなど、電気磁気的作用によりコントラストが変化する表示媒体を適用することができる。なお、EL素子を用いた表示装置としてはELディスプレイ、電子放出素子を用いた表示装置としてはフィールドエミッションディスプレイ(FED)やSED方式平面型ディスプレイ(SED:Surface−conduction Electron−emitter Display)など、液晶素子を用いた表示装置としては液晶ディスプレイ、電子インクを用いた表示装置としては電子ペーパーがある。 Note that a display element, a display device that is a device including a display element, a light-emitting element, and a light-emitting device that is a device including a light-emitting element can have various modes or have various elements. For example, a display medium whose contrast is changed by an electromagnetic action, such as an EL element (an organic EL element, an inorganic EL element, or an EL element including an organic substance and an inorganic substance), an electron-emitting element, a liquid crystal element, and electronic ink can be used. . Note that an EL display is used as a display device using an EL element, and a liquid crystal display such as a field emission display (FED) or an SED type flat display (SED: Surface-Conduction Electron-Emitter Display) is used as a display device using an electron-emitting device. There is a liquid crystal display as a display device using an element, and an electronic paper as a display device using electronic ink.
なお、本発明において、適用可能なトランジスタの種類に限定はなく、非結晶シリコンや多結晶シリコンに代表される非単結晶半導体膜を用いた薄膜トランジスタ(TFT)、半導体基板やSOI基板を用いて形成されるトランジスタ、MOS型トランジスタ、接合型トランジスタ、バイポーラトランジスタ、ZnO、a−InGaZnOなどの化合物半導体を用いたトランジスタ、有機半導体やカーボンナノチューブを用いたトランジスタ、その他のトランジスタを適用することができる。また、トランジスタが配置されている基板の種類に限定はなく、単結晶基板、SOI基板、ガラス基板、プラスチック基板などに配置することが出来る。 Note that there is no limitation on the types of transistors that can be used in the present invention, and the transistor is formed using a thin film transistor (TFT) using a non-single-crystal semiconductor film typified by amorphous silicon or polycrystalline silicon, a semiconductor substrate, or an SOI substrate. Transistors, MOS transistors, junction transistors, bipolar transistors, transistors using compound semiconductors such as ZnO and a-InGaZnO, transistors using organic semiconductors and carbon nanotubes, and other transistors can be applied. There is no limitation on the kind of the substrate over which the transistor is provided, and the transistor can be provided on a single crystal substrate, an SOI substrate, a glass substrate, a plastic substrate, or the like.
なお、すでに述べたように、本発明におけるトランジスタは、どのようなタイプのトランジスタでもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。したがって、回路の全てガラス基板上に形成されていてもよいし、プラスチック基板に形成されていてもよいし、単結晶基板に形成されていてもよいし、SOI基板上に形成されていてもよいし、どのような基板上に形成されていてもよい。あるいは、回路の一部が、ある基板に形成されており、回路の別の一部が、別の基板に形成されていてもよい。つまり、回路の全てが同じ基板上に形成されていなくてもよい。例えば、回路の一部は、ガラス基板上にトランジスタを用いて形成し、回路の別の一部は、単結晶基板上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)で接続してガラス基板上に配置してもよい。あるいは、そのICチップをTAB(Tape Automated Bonding)やプリント基板を用いてガラス基板と接続してもよい。 Note that as described above, the transistor in the present invention may be any type of transistor, and may be formed on any substrate. Therefore, the entire circuit may be formed on a glass substrate, may be formed on a plastic substrate, may be formed on a single crystal substrate, or may be formed on an SOI substrate. However, it may be formed on any substrate. Alternatively, a part of the circuit may be formed on a certain substrate, and another part of the circuit may be formed on another substrate. That is, all of the circuits may not be formed on the same substrate. For example, part of a circuit is formed using a transistor over a glass substrate, another part of the circuit is formed over a single crystal substrate, and the IC chip is connected with COG (Chip On Glass) to form a glass. You may arrange | position on a board | substrate. Alternatively, the IC chip may be connected to the glass substrate using TAB (Tape Automated Bonding) or a printed board.
なお、トランジスタの構成は、特に限定されない。例えば、ゲート本数が2本以上になっているマルチゲート構造になっていてもよいし、チャネルの上下にゲート電極が配置されている構造でもよいし、チャネルの上にゲート電極が配置されている構造でもよいし、チャネルの下にゲート電極が配置されている構造でもよいし、正スタガ構造であってもよいし、逆スタガ構造でもよいし、チャネル領域が複数の領域に分かれていてもよいし、並列に接続されていてもよいし、直列に接続されていてもよいし、チャネル(もしくはその一部)にソース電極やドレイン電極が重なっていてもよいし、LDD領域があってもよい。 Note that there is no particular limitation on the structure of the transistor. For example, a multi-gate structure in which the number of gates is two or more may be employed, a gate electrode may be disposed above and below the channel, or a gate electrode may be disposed on the channel. It may be a structure, a structure in which a gate electrode is disposed under a channel, a normal staggered structure, an inverted staggered structure, or a channel region may be divided into a plurality of regions. In addition, they may be connected in parallel, may be connected in series, a channel (or part thereof) may overlap with a source electrode or a drain electrode, or may have an LDD region. .
なお、本明細書においては、一画素とは画像の最小単位を示すものとする。よって、R(赤)G(緑)B(青)の色要素からなるフルカラー表示装置の場合には、一画素とはRの色要素のドットとGの色要素のドットとBの色要素のドットとから構成されるものとする。 In this specification, one pixel represents the minimum unit of an image. Therefore, in the case of a full-color display device composed of R (red), G (green), and B (blue) color elements, one pixel is a dot of the R color element, a dot of the G color element, and a B color element. It shall be composed of dots.
なお、本明細書において、画素がマトリクスに配置されているとは、縦縞と横縞を組み合わせたいわゆる格子状に配置されている場合はもちろんのこと、三色の色要素(例えばRGB)でフルカラー表示を行う場合に、三つの色要素のドットがいわゆるデルタ配置されている場合も含むものとする。また、色要素のドット毎にその発光領域の大きさが異なっていてもよい。 Note that in this specification, the pixels are arranged in a matrix, not only in the case of a so-called grid pattern in which vertical stripes and horizontal stripes are combined, but also in full-color display with three color elements (for example, RGB). When performing the above, the case where the dots of the three color elements are arranged in a so-called delta arrangement is also included. In addition, the size of the light emitting area may be different for each dot of the color element.
トランジスタとは、それぞれ、ゲート電極と、ドレイン領域と、ソース領域とを含む少なくとも三つの端子を有する素子であり、ドレイン領域とソース領域の間にチャネル形成領域を有する。ここで、ソース領域とドレイン領域とは、トランジスタの構造や動作条件等によって変わるため、いずれがソース領域またはドレイン領域であるかを限定することが困難である。そこで、本明細書においては、ソース領域及びドレイン領域として機能する領域を、それぞれ第1端子、第2端子と表記する。 A transistor is an element having at least three terminals including a gate electrode, a drain region, and a source region, and has a channel formation region between the drain region and the source region. Here, since the source region and the drain region vary depending on the structure and operating conditions of the transistor, it is difficult to limit which is the source region or the drain region. Therefore, in this specification, regions functioning as a source region and a drain region are referred to as a first terminal and a second terminal, respectively.
なお、本明細書において、半導体装置とは半導体素子(トランジスタやダイオードなど)を含む回路を有する装置をいう。また、半導体特性を利用することで機能しうる装置全般でもよい。また、表示装置とは、基板上に液晶素子やEL素子などの表示素子を含む複数の画素やそれらの画素を駆動させる周辺駆動回路が形成された表示パネル本体だけでなく、それにフレキシブルプリントサーキット(FPC)やプリント配線基板(PWB)が取り付けられたものも含む。また、発光装置とは、EL素子やFEDで用いる素子などの自発光型の表示素子を用いている表示装置をいう。 Note that in this specification, a semiconductor device refers to a device having a circuit including a semiconductor element (such as a transistor or a diode). In addition, any device that can function by utilizing semiconductor characteristics may be used. The display device is not only a display panel body in which a plurality of pixels including a display element such as a liquid crystal element or an EL element on a substrate and a peripheral drive circuit for driving these pixels are formed, but also a flexible printed circuit ( FPC) and a printed wiring board (PWB) attached are also included. A light-emitting device refers to a display device using a self-luminous display element such as an EL element or an element used in an FED.
本発明の半導体装置は、第3の配線に供給されている信号によってオン、オフが制御されるトランジスタを一定時間毎にオンさせることができる。こうすることで、本発明の半導体装置を用いたシフトレジスタ回路の該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトを抑制することができる。また、本発明の半導体装置を用いたシフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、本発明の半導体装置を用いたシフトレジスタ回路は、出力端子に発生するノイズを抑制することができる。 In the semiconductor device of the present invention, a transistor whose on / off state is controlled by a signal supplied to the third wiring can be turned on at regular intervals. Thus, since the transistor of the shift register circuit using the semiconductor device of the present invention is not always turned on in the non-selection period, shift of the threshold potential of the transistor can be suppressed. In addition, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit using the semiconductor device of the present invention at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit using the semiconductor device of the present invention can suppress noise generated at the output terminal.
以下、本発明の実施の形態及び実施例において図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態及び実施例の記載内容に限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, embodiments and examples of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of the embodiments and examples.
(実施の形態1)
図1に、本発明のシフトレジスタ回路が有するフリップフロップ回路10の一形態を示す。本発明のシフトレジスタ回路はフリップフロップ回路10を複数段有している。図1に示すフリップフロップ回路10は、トランジスタ11、トランジスタ12、トランジスタ13、トランジスタ14、トランジスタ15、トランジスタ16、トランジスタ17、トランジスタ18、及び2つの電極を持つ容量素子19を有している。ただし、容量素子19は、トランジスタ12のゲート容量で代用できる場合には、必ずしも必要ではない。
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows one mode of a flip-
フリップフロップ回路10に示すように、トランジスタ11のゲート端子が入力端子IN1に接続され、第1端子が第1の電源に接続され、第2端子がトランジスタ12のゲート端子、トランジスタ14の第2端子、トランジスタ15のゲート端子、トランジスタ17の第2端子、及び容量素子19の第2電極に接続されている。トランジスタ15の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ16の第2端子、及びトランジスタ18のゲート端子に接続されている。トランジスタ16のゲート端子、及び第1端子が第1の電源に接続されている。トランジスタ18の第1端子が入力端子IN3に接続され、第2端子がトランジスタ13のゲート端子、及びトランジスタ14のゲート端子に接続されている。トランジスタ13の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子が容量素子19の第1電極、トランジスタ12の第2端子、及び出力端子OUTに接続されている。トランジスタ12の第1端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ14の第1端子が第2の電源に接続されている。トランジスタ17のゲート端子が入力端子IN4に接続され、第1端子が第2の電源に接続されている。
As shown in the flip-
なお、フリップフロップ回路10では、トランジスタ11の第2端子、トランジスタ12のゲート端子、トランジスタ14の第2端子、トランジスタ15のゲート端子、トランジスタ17の第2端子、及び容量素子19の第2電極の節点をN1とする。トランジスタ15の第2端子、及びトランジスタ16の第2端子の節点をN2とする。トランジスタ13のゲート端子、トランジスタ14のゲート端子、及びトランジスタ18の第2端子の節点をN3とする。
Note that in the flip-
また、第1の電源には、電源電位VDDが供給され、第2の電源には電源電位VSSが供給されている。第1の電源の電源電位VDDと第2の電源の電源電位VSSとの電位差(VDD−VSS)が、フリップフロップ回路10の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
In addition, the power supply potential VDD is supplied to the first power supply, and the power supply potential VSS is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VDD of the first power supply and the power supply potential VSS of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the flip-
また、入力端子IN1〜入力端子IN4には、それぞれ制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。入力端子IN1には、制御信号として前の段のフリップフロップ回路10の出力信号が供給されている。入力端子IN4には、制御信号として次の段のフリップフロップ回路10の出力信号が供給されている。
Control signals are supplied to the input terminals IN1 to IN4, respectively. The output terminal OUT outputs an output signal. The output signal of the previous flip-
また、トランジスタ11〜トランジスタ18は、それぞれNチャネル型である。ただし、トランジスタ11〜トランジスタ18は、それぞれPチャネル型でもよい。
The
次に、図2に示すタイミングチャートを用いて、図1に示すフリップフロップ回路10の動作について説明する。図2は、図1に示した入力端子IN1〜入力端子IN4にそれぞれ供給される制御信号と、出力端子OUTから出力される出力信号と、節点N1〜節点N3の電位のタイミングチャートを示している。また、図2に示すタイミングチャートは、便宜上、期間T1〜期間T4に分割している。
Next, the operation of the flip-
なお、期間T4以降の期間では、期間T3と期間T4とを順に繰り返している。また、図2では、期間T1を選択準備期間と定義し、期間T2を選択期間と定義し、期間T3、及び期間T4を非選択期間と定義する。つまり、1つの選択準備期間と、1つの選択期間と、複数の非選択期間とを順に繰り返している。 Note that the period T3 and the period T4 are sequentially repeated in the period after the period T4. In FIG. 2, the period T1 is defined as a selection preparation period, the period T2 is defined as a selection period, and the periods T3 and T4 are defined as non-selection periods. That is, one selection preparation period, one selection period, and a plurality of non-selection periods are repeated in order.
また、図2に示すタイミングチャートでは、制御信号、及び出力信号は2値の値をもっている。つまり、これらの信号はデジタル信号であり、これらのデジタル信号の電位はH信号のときは第1の電源の電源電位と同電位であるVDD(以下、電位VDD、又はHレベルともいう)であり、L信号のときは第2の電源の電源電位と同電位であるVSS(以下、電位VSS、又はLレベルともいう)である。 In the timing chart shown in FIG. 2, the control signal and the output signal have binary values. That is, these signals are digital signals, and the potential of these digital signals is VDD (hereinafter also referred to as potential VDD or H level) which is the same potential as the power supply potential of the first power supply when it is an H signal. , The L signal is VSS which is the same potential as the power supply potential of the second power supply (hereinafter also referred to as potential VSS or L level).
また、図3〜図6は、それぞれ期間T1〜期間T4の動作に対応したフリップフロップ回路10を示している。
3 to 6 show the flip-
また、図3〜図6では、実線で示したトランジスタがオンしていることを示している。破線で示したトランジスタがオフしていることを示している。実線で示した配線は電源、又は入力端子に接続されていることを示している。破線で示した配線が電源、又は入力端子に接続されていないことを示している。 3 to 6 show that the transistor indicated by the solid line is on. It shows that the transistor indicated by the broken line is off. Wiring indicated by a solid line indicates that it is connected to a power supply or an input terminal. This indicates that the wiring indicated by the broken line is not connected to the power source or the input terminal.
次に、図3〜図6を用いて、各期間ごとの動作について説明する。 Next, the operation | movement for every period is demonstrated using FIGS.
まず、期間T1におけるフリップフロップ回路10の動作について、図3を用いて説明する。図3は、期間T1におけるフリップフロップ回路10の接続状態を示す図である。
First, operation of the flip-
期間T1では、入力端子IN1はHレベルになり、トランジスタ11がオンする。入力端子IN4はLレベルになり、トランジスタ17がオフする。節点N3は後に説明する期間T3で得たVSSを維持しているため、トランジスタ14がオフする。節点N1はトランジスタ11を介して第1の電源と導通し、節点N1の電位が上昇してVn11になる。節点N1がVn11になると、トランジスタ11がオフする。ここで、Vn11は、電源電位VDDからトランジスタ11のしきい値電位Vth11を引いた値(VDD−Vth11)である。なお、Vn11は、トランジスタ12、及びトランジスタ15をオンできる電位である。
In the period T1, the input terminal IN1 is at an H level, and the
節点N1の電位はVn11になり、トランジスタ11がオフし、トランジスタ12、及びトランジスタ15がオンする。節点N2はトランジスタ15を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ16を介して第1の電源と導通し、節点N2の電位がVn21になる。ここで、Vn21は、トランジスタ16とトランジスタ15との動作点によって決定される。なお、トランジスタ15とトランジスタ16は、その2つのトランジスタを用いてインバータを構成している。よって、トランジスタ15のゲート端子(節点N1)にHレベルの信号が入力されたときには、節点N2にはLレベルの信号が入力される。ここで、Vn21は、トランジスタ18をオフできる電位である。したがって、入力端子IN3がHレベルであっても、トランジスタ18がオフしているので、節点N3はVSSを維持することができる。入力端子IN2はLレベルになっており、出力端子OUTはトランジスタ12を介して入力端子IN2と導通し、出力端子OUTの電位がVSSになる。
The potential of the node N1 becomes Vn11, the
節点N2の電位はVn21になり、トランジスタ18がオフしているので、節点N3はVSSを維持し、トランジスタ13、及びトランジスタ14がオフする。
Since the potential of the node N2 becomes Vn21 and the
以上の動作により、期間T1では、トランジスタ12をオンしており、出力端子OUTをLレベルにしている。また、トランジスタ11がオフなので、節点N1をフローティング状態にしている。
With the above operation, in the period T1, the
次に、期間T2におけるフリップフロップ回路10の動作について、図4を用いて説明する。図4は、期間T2におけるフリップフロップ回路10の接続状態を示す図である。
Next, operation of the flip-
期間T2では、入力端子IN1はLレベルになり、トランジスタ11がオフしている。入力端子IN4はLレベルのままであり、トランジスタ17がオフしている。そのため、節点N1は期間T1に引き続きフローティング状態になり、期間T1の電位Vn11を維持する。
In the period T2, the input terminal IN1 is at the L level, and the
節点N1の電位はVn11を維持しているため、トランジスタ12がオンしている。そして、入力端子IN2がHレベルになる。すると、出力端子OUTはトランジスタ12を介して入力端子IN2と導通しているため、出力端子OUTの電位がVSSから上昇する。節点N1の電位は容量素子19の容量結合によってVn12に変化し、トランジスタ12がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。その結果、出力端子OUTは入力端子IN2の電位であるVDDと等しい電位まで上昇する。なお、Vn12は、電位VDDとトランジスタ12のしきい値電位Vth12との和以上の値である。
Since the potential of the node N1 is maintained at Vn11, the
節点N1の電位がVn12になっても、トランジスタ15は引き続きオンのままである。そのため、節点N2の電位、及び節点N3の電位は、期間T1のときの電位と同じ電位になる。
Even when the potential of the node N1 becomes Vn12, the
以上の動作により、期間T2では、ブートストラップ動作により、フローティング状態の節点N1の電位を上昇させることで、トランジスタ12がオンし続けている。よって、出力端子OUTの電位をVDDにし、出力端子OUTをHレベルにしている。
Through the above operation, in the period T2, the
次に、期間T3におけるフリップフロップ回路10の動作について、図5を用いて説明する。図5は、期間T3におけるフリップフロップ回路10の接続状態を示す図である。
Next, operation of the flip-
期間T3では、入力端子IN1はLレベルのままであり、トランジスタ11がオフしている。入力端子IN4はHレベルになり、トランジスタ17がオンする。すると、節点N1はトランジスタ17を介して第2の電源と導通し、節点N1の電位がVSSになる。
In the period T3, the input terminal IN1 remains at the L level, and the
節点N1の電位はVSSになり、トランジスタ12、及びトランジスタ15がオフする。節点N2はトランジスタ16を介して第1の電源と導通しているので、節点N2の電位が上昇してVn22になる。ここで、Vn22は、電源電位VDDからトランジスタ16のしきい値電位Vth16を引いた値(VDD−Vth16)である。なお、Vn22は、トランジスタ18をオンできる電位である。
The potential of the node N1 becomes VSS, and the
節点N2の電位はVn22になり、トランジスタ18がオンする。そして、入力端子IN3はHレベルになっているので、節点N3はトランジスタ18を介して入力端子IN3と導通し、節点N3の電位がVn31になる。ここで、Vn31は、節点N2の電位Vn22からトランジスタ18のしきい値電位Vth18を引いた値(Vn22−Vth18)になる。なお、Vn31は、電源電位VDDからトランジスタ16のしきい値電位Vth16、及びトランジスタ18のしきい値電位Vth18を引いた値(VDD−Vth16−Vth18)に相当する。また、Vn31は、トランジスタ13、及びトランジスタ14をオンできる電位である。
The potential of the node N2 becomes Vn22, and the
節点N3の電位はVn31になり、トランジスタ13がオンする。そして、出力端子OUTはトランジスタ13を介して第2の電源と導通しているので、出力端子OUTの電位がVSSになる。
The potential of the node N3 becomes Vn31, and the
以上の動作により、期間T3では、節点N1にVSSを供給し、トランジスタ12、及びトランジスタ15をオフしている。また、節点N3をHレベルにし、トランジスタ13、及びトランジスタ14をオンしている。よって、出力端子OUTの電位をVSSにし、出力端子OUTをLレベルにしている。
Through the above operation, in the period T3, VSS is supplied to the node N1, and the
次に、期間T4におけるフリップフロップ回路10の動作について、図6を用いて説明する。図6は、期間T4におけるフリップフロップ回路10の接続状態を示す図である。
Next, operation of the flip-
期間T4では、入力端子IN3はLレベルになり、節点N3の電位がVSSになる。よって、トランジスタ13がオフする。また、トランジスタ14もオフする。入力端子IN4はLレベルになり、トランジスタ17がオフする。すると、節点N1はフローティング状態になり、節点N1の電位はVSSを維持する。
In the period T4, the input terminal IN3 is at the L level, and the potential of the node N3 is VSS. Therefore, the
節点N1の電位はVSSのままなので、トランジスタ12がオフのままであり、トランジスタ15もオフのままである。よって、節点N2はVn22のままであり、トランジスタ18がオフのままである。
Since the potential of the node N1 remains at VSS, the
トランジスタ12、及びトランジスタ13はオフするため、出力端子OUTはフローティング状態になる。よって、出力端子OUTの電位は、VSSを維持する。
Since the
以上の動作により、期間T4では、出力端子OUTの電位をVSSに維持し、トランジスタ13、及びトランジスタ14をオフできる。このようにトランジスタ13、及びトランジスタ14は常時、オンにならないので、トランジスタ13、及びトランジスタ14の特性劣化を抑制することができる。
Through the above operation, in the period T4, the potential of the output terminal OUT is maintained at VSS, so that the
期間T1〜期間T4の関係について説明する。期間T1の次の期間は期間T2であり、期間T2の次の期間は期間T3であり、期間T3の次の期間は期間T4である。ここで、期間T4の次の期間は期間T1、又は期間T3である。つまり、期間T4の次の期間は、入力端子IN1がHレベルになれば期間T1になり、入力端子IN1がLレベルのままであれば期間T3になる。また、期間T3が期間T4の次の期間だった場合は、入力端子IN4はLレベルのままであり、トランジスタ17がオフのままである。
A relationship between the periods T1 to T4 will be described. The next period after the period T1 is the period T2, the next period after the period T2 is the period T3, and the next period after the period T3 is the period T4. Here, the period subsequent to the period T4 is the period T1 or the period T3. That is, the period following the period T4 is the period T1 when the input terminal IN1 is at the H level, and is the period T3 when the input terminal IN1 is at the L level. When the period T3 is a period subsequent to the period T4, the input terminal IN4 remains at the L level, and the
ここで、トランジスタ11〜トランジスタ18、及び容量素子19が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ11は、入力端子IN1に供給される制御信号に応じて、第1の電源と節点N1とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T1において、トランジスタ11は節点N1に電源電位VDDを供給し、節点N1の電位がVn11になるとオフする機能を有する。
The
また、トランジスタ11は、入力端子IN1に供給される制御信号に応じて、節点N1をフローティング状態(浮遊状態)にする機能を有する。期間T1、及び期間T2において、節点N1の電位がVn11以上になるとオフする機能を有する。
The
トランジスタ12は、節点N1の電位に応じて、入力端子IN2と出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。期間T1において、トランジスタ12は、出力端子OUTにVSSを供給する機能を有する。期間T2において、トランジスタ12は、出力端子OUTにVDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ13は、節点N3の電位に応じて、第2の電源と出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T3において、トランジスタ13は出力端子OUTに電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ14は、節点N3の電位に応じて、第2の電源と節点N1とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T3において、トランジスタ13は、節点N1に電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ15は、節点N1の電位に応じて、第2の電源と節点N2とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T1、及び期間T2において、トランジスタ15は、節点N2に電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ16は、入力端子を第1の電源、出力端子を節点N2とするダイオードとしての機能を有する。
The
トランジスタ17は、入力端子IN4に供給される制御信号に応じて、第2の電源と節点N1とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T2の後の期間T3において、トランジスタ17は、電源電位VSSを節点N1に供給するための機能を有する。
The
トランジスタ18は、節点N2の電位に応じて、入力端子IN3と節点N3とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。期間T3において、トランジスタ18は、節点N3にVDDを供給するための機能を有する。また、期間T4において、トランジスタ18は、節点N3にVSSを供給する機能を有する。
The
容量素子19は、出力端子OUTの電位に応じて、節点N1の電位を変化させるための機能を有する。期間T2において、容量素子19は、出力端子OUTの電位の上昇によって、節点N1の電位を上昇させる機能を有する。
The
このように、図1に示すフリップフロップ回路10では、トランジスタ13、及びトランジスタ14が期間T3においてオンし、期間T4においてオフすることで、トランジスタ13、及びトランジスタ14が常時オンすることを避けられる。従って、トランジスタ13、及びトランジスタ14の特性劣化が抑制される。そのため、図1に示すフリップフロップ回路10は、トランジスタ13、及びトランジスタ14の特性劣化による誤動作も抑制することができる。
As described above, in the flip-
また、トランジスタ13、及びトランジスタ14がオンすると、電源電位VSSが出力端子OUT、及び節点N1に供給される。そのため、図1に示すフリップフロップ回路10は、一定期間毎に出力端子OUT、及び節点N1に電源電位VSSを供給でき、出力端子OUT、及び節点N1の電位の変動を減らすことができる。
When the
また、図1に示したフリップフロップ回路10は、全てNチャネル型のトランジスタで構成されているので、半導体層にアモルファスシリコンを用いることができ、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。さらに、大型の表示パネルを作成することも可能となる。また、本発明のフリップフロップ回路を用いることにより、特性が劣化しやすいアモルファスシリコンのトランジスタを用いても、半導体装置の寿命を長くすることができる。
In addition, since the flip-
なお、期間T1〜期間T4において、フリップフロップ回路10がそれぞれ図3〜図6の状態を満たすようにトランジスタ、又はスイッチなどの素子を入れてればよい。
Note that in the period T1 to the period T4, an element such as a transistor or a switch may be inserted so that the flip-
なお、容量素子19は、ゲート配線層と半導体層とによって形成されることが望ましい。ゲート配線層と半導体層とは、ゲート絶縁膜を介して堆積されている。ゲート絶縁膜の膜圧は層間膜などの他の絶縁層に比べて非常に薄いため、容量素子は絶縁体としてゲート絶縁膜を用いると小面積、大容量になる。
Note that the
なお、トランジスタ15のサイズ(W/L)は、トランジスタ16のサイズよりも大きいことが望ましい。ここで、「W」はトランジスタのチャネル幅を示し、「L」はトランジスタのチャネル長を示す。トランジスタ15がオンする場合、節点N2の電位はトランジスタ15、トランジスタ16との動作点によって決定される。つまり、トランジスタ15のサイズがトランジスタ16のサイズよりも十分大きくないと、節点N2の電位が高くなり、トランジスタ18がオフできなくなる。したがって、トランジスタ18がオフするようにするために、トランジスタ15のサイズは、トランジスタ16のサイズよりも十分大きくしておく必要がある。
Note that the size (W / L) of the
また、トランジスタ15のサイズは、トランジスタ16のサイズの4倍以上であることが望ましい。より望ましくは、10倍以上である。電源電圧が小さいときは、トランジスタのサイズ比は4倍程度でいいが、電源電圧が大きくなると、トランジスタのサイズ比は10倍程度必要となる。
Further, the size of the
ここで、レベルシフト回路などがフリップフロップ回路10の出力端子OUTに接続されている場合は、トランジスタのサイズ比は4倍以上が望ましい。なぜなら、フリップフロップ回路10の出力信号の振幅電圧はレベルシフト回路などによって大きくなるため、フリップフロップ回路10が小さい電源電圧で動作することが多いからである。
Here, when a level shift circuit or the like is connected to the output terminal OUT of the flip-
また、レベルシフト回路などがフリップフロップ回路10の出力端子OUTに接続されていない場合は、トランジスタのサイズ比は10倍以上が望ましい。なぜなら、フリップフロップ回路10の出力信号はレベルシフトせずに、なんらかの動作に適用されるため、フリップフロップ回路10が大きい電源電圧で動作することが多いからである。
When a level shift circuit or the like is not connected to the output terminal OUT of the flip-
なお、各電源電位、及び制御信号の電位は、対象とするトランジスタのオン・オフを制御できれば、どんな電位でもよい。 Note that the power supply potential and the potential of the control signal may be any potential as long as on / off of a target transistor can be controlled.
例えば、電源電位VDDは、制御信号のHレベルの電位よりも高くてもよい。なぜなら、節点N3の電位はVn31(VDD−Vth16−Vth18)であるため、電源電位VDDが高くなれば、節点N3の電位Vn31も高くなるからである。したがって、節点N3の電位Vn31が高くなることで、トランジスタ13、及びトランジスタ14のしきい値電位が特性劣化によって高くなっても、トランジスタ13、及びトランジスタ14は確実にオンすることができる。
For example, the power supply potential VDD may be higher than the H level potential of the control signal. This is because the potential of the node N3 is Vn31 (VDD−Vth16−Vth18), and therefore the potential Vn31 of the node N3 increases as the power supply potential VDD increases. Therefore, the potential Vn31 of the node N3 is increased, so that the
また、電源電位VDDは、各トランジスタのオン・オフを制御できれば、制御信号のHレベルの電位よりも低くてもよい。 Further, the power supply potential VDD may be lower than the H level potential of the control signal as long as on / off of each transistor can be controlled.
なお、容量素子19は、トランジスタ12のゲート端子と第2端子との間のゲート容量(寄生容量)が十分大きければ、必ずしも必要ではない。
Note that the
例えば、図7のフリップフロップ回路70のように、容量素子19を接続しなくてもよい。したがって、フリップフロップ回路70の素子数がフリップフロップ回路10の素子数に比べて1つ少なくなるので、フリップフロップ回路70は各素子を高密度に配置することができる。
For example, as in the flip-
また、別の例として、図10のフリップフロップ回路100のように、トランジスタ101を用いて容量素子を形成してもよい。なぜなら、トランジスタ101がオンしていれば、トランジスタ101のゲート容量は容量素子として十分に機能するからである。
As another example, a
なお、期間T1、及び期間T2(ブートストラップ動作時)において、トランジスタ101はオンしているため、チャネル領域がトランジスタ101に形成され、トランジスタ101が容量素子として機能する。一方、期間T3、期間T4(ブートストラップ動作をしていないとき)において、トランジスタ101はオフしているため、チャネル領域がトランジスタ101に形成されず、トランジスタ101は容量素子として機能しないか、小さい容量素子として機能する。
Note that in the period T1 and the period T2 (during bootstrap operation), since the
ここで、先ほど述べた図7のフリップフロップ回路70のように、トランジスタ101を用いて容量素子を形成することで、トランジスタ101は必要なとき(期間T1、及び期間T2)だけ容量素子として機能し、不必要なとき(期間T3、及び期間T4)には容量素子として機能しないので、フリップフロップ回路100は節点N1や出力端子OUTの電位の変化によって誤動作しにくくなる。
Here, as in the flip-
なお、トランジスタ101は、トランジスタ12と同じ極性である。
Note that the
なお、トランジスタ11の第1端子は、期間T1、及び期間T2において、節点N1をフローティング状態にできれば、どこに接続されていてもよい。
Note that the first terminal of the
例えば、図8のフリップフロップ回路80のように、トランジスタ11の第1端子は、入力端子IN1に接続されていてもよい。なぜなら、トランジスタ11の第1端子が入力端子IN1に接続されていても、期間T1、及び期間T2において、節点N1をフローティング状態にできるからである。
For example, like the flip-
なお、図1のフリップフロップ回路10において、入力端子IN1の電位が変化すると、ノイズがトランジスタ11の第1端子とゲート端子との間の寄生容量によって第1の電源に発生する。また、電流がトランジスタ11のオン、オフによって第1の電源から節点N1に流れると、ノイズがその電流の電圧降下によって第1の電源に発生する。これらのノイズは入力端子IN1の電位の変化によって発生する。
In the flip-
ここで、先ほど述べた図8のフリップフロップ回路80のように接続することにより、先ほど述べたノイズを抑制することができる。また、第1の電源のノイズが抑制されることにより、第1の電源を用いている他の回路が安定して動作することができる。
Here, by connecting as in the flip-
なお、第1の電源を用いている他の回路とは、フリップフロップ回路80の出力端子OUTに接続されるインバータ回路、レベルシフト回路、ラッチ回路、又はPWC回路などである。
Note that the other circuit using the first power supply is an inverter circuit, a level shift circuit, a latch circuit, a PWC circuit, or the like connected to the output terminal OUT of the flip-
なお、トランジスタ16は、トランジスタ15とでインバータ回路を構成できれば、様々なものを用いることができる。トランジスタ16は必ずしも整流性を有している必要はなく、電流が流れると、電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。
Note that various transistors can be used as the
例えば、図9のフリップフロップ回路90のように、トランジスタ16の代わりに抵抗素子91を接続してもよい。なぜなら、トランジスタ16の代わりに抵抗素子91を接続しても、抵抗素子91とトランジスタ15とで、インバータ回路を構成できるからである。
For example, a resistive element 91 may be connected instead of the
なお、トランジスタ15がオフのときに、節点N2の電位は第1の電源の電位と同じVDDになる。また、このときの節点N3の電位は電源電位VDDからトランジスタ18のしきい値電位Vth18を引いた値(VDD−Vth18)になる。
Note that when the
ここで、先ほど述べた図9のフリップフロップ回路90のように、トランジスタ16の代わりに抵抗素子91を用いることで、各トランジスタのしきい値電位が特性劣化によって高くなっても、節点N2の電位はVDDになり、節点N3の電位はトランジスタ18のしきい値電位分だけVDDよりも小さくなるだけなので、トランジスタ13、及びトランジスタ14がオンしやすくできる。
Here, as in the flip-
なお、入力端子IN1、入力端子IN2、入力端子IN3、及び入力端子IN4は制御信号を供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。 Note that although the input terminal IN1, the input terminal IN2, the input terminal IN3, and the input terminal IN4 are supplied with control signals, the present invention is not necessarily limited thereto.
例えば、入力端子IN1、入力端子IN2、入力端子IN3、及び入力端子IN4は、電源電位VDDを供給されていてもよいし、電源電位VSSを供給されていてもよいし、他の電位を供給されていてもよい。 For example, the input terminal IN1, the input terminal IN2, the input terminal IN3, and the input terminal IN4 may be supplied with the power supply potential VDD, may be supplied with the power supply potential VSS, or may be supplied with other potentials. It may be.
なお、トランジスタ11の第1端子、及びトランジスタ16の第1端子は第1の電源に接続されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that although the first terminal of the
例えば、トランジスタ11の第1端子、及びトランジスタ16の第1端子はそれぞれ別の電源に接続されていてもよい。このとき、トランジスタ16の第1端子に接続する電源の電位は、トランジスタ11の第1端子に接続されている電源の電位よりも高いことが望ましい。
For example, the first terminal of the
別の例として、トランジスタ11の第1端子、及びトランジスタ16の第1端子はそれぞれ制御信号が供給されていてもよい。
As another example, a control signal may be supplied to each of the first terminal of the
なお、トランジスタ13の第1端子、トランジスタ14の第1端子、及びトランジスタ17の第1端子は第2の電源に接続されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that although the first terminal of the
例えば、トランジスタ13の第1端子、トランジスタ14の第1端子、及びトランジスタ17の第1端子はそれぞれ別の電源に接続されていてもよい。
For example, the first terminal of the
別の例として、トランジスタ13の第1端子、トランジスタ14の第1端子、及びトランジスタ17の第1端子はそれぞ制御信号が供給されていてもよい。
As another example, control signals may be supplied to the first terminal of the
図1で示したフリップフロップ回路10では、すべてNチャネル型のトランジスタで構成しているが、すべてPチャネル型のトランジスタで構成していてもよい。ここで、すべてPチャネル型のトランジスタで構成した場合のフリップフロップ回路を図11に示す。
In the flip-
図11に、本発明のシフトレジスタ回路が有するフリップフロップ回路110の一形態を示す。本発明のシフトレジスタ回路はフリップフロップ回路110を複数段有している。図11に示すフリップフロップ回路110は、トランジスタ111、トランジスタ112、トランジスタ113、トランジスタ114、トランジスタ115、トランジスタ116、トランジスタ117、トランジスタ118、及び2つの電極を持つ容量素子119を有している。ただし、容量素子119は、トランジスタ112のゲート容量で代用できる場合には、必ずしも必要ではない。
FIG. 11 illustrates one mode of the flip-
フリップフロップ回路110に示すように、トランジスタ111のゲート端子が入力端子IN1に接続され、第1端子が第1の電源に接続され、第2端子がトランジスタ112のゲート端子、トランジスタ114の第2端子、トランジスタ115のゲート端子、トランジスタ117の第2端子、及び容量素子119の第2電極に接続されている。トランジスタ115の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ116の第2端子、及びトランジスタ118のゲート端子に接続されている。トランジスタ116のゲート端子、及び第1端子が第1の電源に接続されている。トランジスタ118の第1端子が入力端子IN3に接続され、第2端子がトランジスタ113のゲート端子、及びトランジスタ114のゲート端子に接続されている。トランジスタ113の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子が容量素子119の第1電極、トランジスタ112の第2端子、及び出力端子OUTに接続されている。トランジスタ112の第1端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ114の第1端子が第2の電源に接続されている。トランジスタ117のゲート端子が入力端子IN4に接続され、第1端子が第2の電源に接続されている。
As shown in the flip-
なお、フリップフロップ回路110では、トランジスタ111の第2端子、トランジスタ112のゲート端子、トランジスタ114の第2端子、トランジスタ115のゲート端子、トランジスタ117の第2端子、及び容量素子119の第2電極の節点をN1とする。トランジスタ115の第2端子、及びトランジスタ116の第2端子の節点をN2とする。トランジスタ113のゲート端子、トランジスタ114のゲート端子、及びトランジスタ118の第2端子の節点をN3とする。
Note that in the flip-
また、第1の電源には、電源電位VSSが供給され、第2の電源には電源電位VDDが供給されている。第1の電源の電源電位VSSと第2の電源の電源電位VDDとの電位差(VDD−VSS)が、フリップフロップ回路110の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
In addition, the power supply potential VSS is supplied to the first power supply, and the power supply potential VDD is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VSS of the first power supply and the power supply potential VDD of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the flip-
また、入力端子IN1〜入力端子IN4には、それぞれ制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。入力端子IN1には、制御信号として前の段のフリップフロップ回路110の出力信号が供給されている。入力端子IN4には、制御信号として次の段のフリップフロップ回路110の出力信号が供給されている。
Control signals are supplied to the input terminals IN1 to IN4, respectively. The output terminal OUT outputs an output signal. The output signal of the previous flip-
また、トランジスタ111〜トランジスタ118は、それぞれPチャネル型である。ただし、トランジスタ111〜トランジスタ118は、それぞれNチャネル型でもよい。
In addition, the
次に、図12に示すタイミングチャートを用いて、図11に示すフリップフロップ回路110の動作について説明する。図12は、図11に示した入力端子IN1〜入力端子IN4にそれぞれ供給される制御信号と、出力端子OUTから出力される出力信号と、節点N1〜節点N3の電位のタイミングチャートを示している。なお、制御信号、及び出力信号のタイミングについては、すべてNチャネル型のトランジスタで構成される場合(図1)に対してHレベル、及びLレベルが反転している。また、図12に示すタイミングチャートは、便宜上、期間T1〜期間T4に分割している。
Next, operation of the flip-
なお、期間T4以降の期間では、期間T3と期間T4とを順に繰り返している。また、図12では、期間T1を選択準備期間と定義し、期間T2を選択期間と定義し、期間T3、及び期間T4を非選択期間と定義する。つまり、1つの選択準備期間と、1つの選択期間と、複数の非選択期間とを順に繰り返している。 Note that the period T3 and the period T4 are sequentially repeated in the period after the period T4. In FIG. 12, the period T1 is defined as a selection preparation period, the period T2 is defined as a selection period, and the periods T3 and T4 are defined as non-selection periods. That is, one selection preparation period, one selection period, and a plurality of non-selection periods are repeated in order.
また、図12に示すタイミングチャートでは、制御信号、及び出力信号を2値の値を持ったデジタル信号とする。このデジタル信号の持つ2値の電位は、H信号のときは第2の電源の電源電位と同電位であるVDD(以下、電位VDD、又はHレベルともいう)であり、L信号のときは第1の電源の電源電位と同電位であるVSS(以下、電位VSS、又はLレベルともいう)である。 In the timing chart shown in FIG. 12, the control signal and the output signal are digital signals having binary values. The binary potential of the digital signal is VDD (hereinafter also referred to as potential VDD or H level) that is the same as the power supply potential of the second power supply when the signal is an H signal, and the first potential when the signal is an L signal. VSS which is the same potential as the power source potential of the first power source (hereinafter also referred to as potential VSS or L level).
次に、フリップフロップ回路110の各期間ごとの動作について説明する。
Next, the operation of each period of the flip-
まず、期間T1におけるフリップフロップ回路110の動作について説明する。
First, operation of the flip-
期間T1では、入力端子IN1はLレベルになり、トランジスタ111がオンする。入力端子IN4はHレベルになり、トランジスタ117がオフする。節点N3は後に説明する期間T3で得たVDDを維持しているため、トランジスタ114がオフする。節点N1はトランジスタ111を介して第1の電源と導通し、節点N1の電位が下がってVn11になる。節点N1がVn11になると、トランジスタ111がオフする。ここで、Vn11は、電源電位VSSとトランジスタ111のしきい値電位Vth111の絶対値との和となる値(VSS+|Vth111|)である。なお、Vn11は、トランジスタ112、及びトランジスタ115をオンできる電位である。
In the period T1, the input terminal IN1 is at an L level and the
節点N1の電位はVn11になり、トランジスタ111がオフし、トランジスタ112、及びトランジスタ115がオンする。節点N2はトランジスタ115を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ116を介して第1の電源と導通し、節点N2の電位がVn21になる。ここで、Vn21は、トランジスタ116とトランジスタ115との動作点によって決定される。なお、トランジスタ115とトランジスタ116は、その2つのトランジスタを用いてインバータを構成している。よって、トランジスタ115のゲート端子(節点N1)にLレベルの信号が入力されたときには、節点N2にはHレベルの信号が入力される。ここで、Vn21は、トランジスタ118をオフできる電位である。したがって、入力端子IN3がLレベルであっても、トランジスタ118はオフしているので、節点N3はVDDを維持することができる。入力端子IN2はHレベルになり、出力端子OUTはトランジスタ112を介して入力端子IN2と導通しているので、出力端子OUTの電位がVDDになる。
The potential of the node N1 becomes Vn11, the
節点N2の電位はVn21になり、トランジスタ118がオフしているので、節点N3はVDDを維持し、トランジスタ113、及びトランジスタ114がオフする。
Since the potential of the node N2 is Vn21 and the
以上の動作により、期間T1では、トランジスタ112をオンしており、出力端子OUTをHレベルにしている。また、トランジスタ111がオフなので、節点N1をフローティング状態にしている。
Through the above operation, in the period T1, the
次に、期間T2におけるフリップフロップ回路110の動作について説明する。
Next, an operation of the flip-
期間T2では、入力端子IN1はHレベルになり、トランジスタ111がオフしている。入力端子IN4はHレベルのままであり、トランジスタ117がオフしている。そのため、節点N1は期間T1に引き続きフローティング状態になり、期間T1の電位Vn11を維持する。
In the period T2, the input terminal IN1 is at an H level and the
節点N1の電位はVn11を維持しているため、トランジスタ112がオンしている。そして、入力端子IN2がHレベルになる。すると、出力端子OUTはトランジスタ112を介して入力端子IN2と導通し、出力端子OUTの電位がVDDから減少する。節点N1の電位は容量素子119の容量結合によってVn12に変化し、トランジスタ112がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。その結果、出力端子OUTは入力端子IN2の電位であるVSSと等しい電位まで減少する。なお、Vn12は、電位VSSからトランジスタ112のしきい値電位Vth112の絶対値を引いた値(VSS−|Vth112|)以下である。入力端子IN2はLレベルになっており、出力端子OUTはトランジスタ112を介して入力端子IN2と導通しているので、出力端子OUTの電位がVSSになる。
Since the potential of the node N1 is maintained at Vn11, the
節点N1の電位がVn12になっても、トランジスタ115は引き続きオフのままである。そのため、節点N2の電位、及び節点N3の電位は、期間T1のときの電位と同じ電位になる。
Even when the potential of the node N1 becomes Vn12, the
以上の動作により、期間T2では、ブートストラップ動作により、フローティング状態の節点N1の電位を下げることで、出力端子OUTをVSSにしている。 Through the above operation, in the period T2, the output terminal OUT is set to VSS by lowering the potential of the node N1 in the floating state by the bootstrap operation.
次に、期間T3におけるフリップフロップ回路110の動作について説明する。
Next, an operation of the flip-
期間T3では、入力端子IN1はHレベルのままであり、トランジスタ111がオフしている。入力端子IN4はLレベルになり、トランジスタ117がオンする。すると、節点N1はトランジスタ117を介して第2の電源と導通し、節点N1の電位がVDDになる。
In the period T3, the input terminal IN1 remains at the H level, and the
節点N1の電位はVDDになり、トランジスタ112、及びトランジスタ115がオフする。節点N2はトランジスタ116を介して第1の電源と導通しているので、節点N2の電位が減少してVn22になる。ここで、Vn22は、電源電位VSSとトランジスタ116のしきい値電位Vth116の絶対値との和となる値(VSS+|Vth116|)である。なお、Vn22は、トランジスタ118をオンできる電位である。
The potential of the node N1 becomes VDD, and the
節点N2の電位はVn22になり、トランジスタ118がオンする。そして、入力端子IN3はLレベルになっているので、節点N3はトランジスタ118を介して入力端子IN3と導通し、節点N3の電位がVn31になる。ここで、Vn31は、節点N2の電位Vn22とトランジスタ118のしきい値電位Vth118の絶対値との和となる値(Vn22+|Vth118|)になる。なお、Vn31は、電源電位VSSとトランジスタ116のしきい値電位Vth116の絶対値、及びトランジスタ118のしきい値電位Vth118の絶対値との和となる値(VSS+|Vth116|+|Vth118|)に相当する。また、Vn31は、トランジスタ113、及びトランジスタ114をオンできる電圧である。
The potential of the node N2 becomes Vn22, and the
節点N3の電位はVn31になり、トランジスタ113がオンする。そして、出力端子OUTはトランジスタ113を介して第2の電源と導通しているので、出力端子OUTの電位がVDDになる。
The potential of the node N3 becomes Vn31, and the
以上の動作により、期間T3では、節点N1にVDDを供給し、トランジスタ112、及びトランジスタ115をオフしている。また、節点N3をLレベルにし、トランジスタ113、及びトランジスタ114をオンしている。よって、出力端子OUTの電位をVDDにし、出力端子OUTをHレベルにしている。
Through the above operation, in the period T3, VDD is supplied to the node N1, and the
次に、期間T4におけるフリップフロップ回路110の動作について説明する。
Next, operation of the flip-
期間T4では、入力端子IN3はHレベルになり、節点N3の電位がVDDになる。よって、トランジスタ113がオフする。また、トランジスタ114もオフする。入力端子IN4はHレベルになり、トランジスタ117がオフする。すると、節点N1はフローティング状態になり、節点N1の電位がVDDを維持する。
In the period T4, the input terminal IN3 is at an H level, and the potential of the node N3 is VDD. Accordingly, the
節点N1の電位はVDDのままなので、トランジスタ112がオフのままであり、トランジスタ115もオフのままである。よって、節点N2はVn22のままであり、トランジスタ118がオフのままである。
Since the potential of the node N1 remains at VDD, the
トランジスタ112、及びトランジスタ113はオフするため、出力端子OUTはフローティング状態になる。よって、出力端子OUTの電位がVDDを維持する。
Since the
以上の動作により、期間T4では、出力端子OUTの電位をVDDに維持し、トランジスタ113、及びトランジスタ114をオフできる。このようにトランジスタ113、及びトランジスタ114は常時、オンにならないので、トランジスタ113、及びトランジスタ114の特性劣化を抑制することができる。
Through the above operation, in the period T4, the potential of the output terminal OUT is maintained at VDD, so that the
期間T1〜期間T4の関係について説明する。期間T1の次の期間は期間T2であり、期間T2の次の期間は期間T3であり、期間T3の次の期間は期間T4である。ここで、期間T4の次の期間は期間T1、又は期間T3である。つまり、期間T4の次の期間は、入力端子IN1がLレベルになれば期間T1になり、入力端子IN1がHレベルのままであれば期間T3になる。また、期間T3が期間T4の次の期間だった場合は、入力端子IN4はHレベルのままであり、トランジスタ117がオフのままである。
A relationship between the periods T1 to T4 will be described. The next period after the period T1 is the period T2, the next period after the period T2 is the period T3, and the next period after the period T3 is the period T4. Here, the period subsequent to the period T4 is the period T1 or the period T3. That is, the period following the period T4 is the period T1 if the input terminal IN1 is at the L level, and is the period T3 if the input terminal IN1 remains at the H level. In the case where the period T3 is a period subsequent to the period T4, the input terminal IN4 remains at the H level and the
ここで、トランジスタ111〜トランジスタ118、及び容量素子119が有する機能は、それぞれ図1に示したトランジスタ11〜トランジスタ18、及び容量素子19と同じ機能を有する。
Here, the functions of the
このように、図11に示すフリップフロップ回路110では、トランジスタ113、及びトランジスタ114が期間T3においてオンし、期間T4においてオフすることで、トランジスタ113、及びトランジスタ114が常時オンしていることを避けられる。従って、トランジスタ113、及びトランジスタ114の特性劣化が抑制される。そのため、図11に示すフリップフロップ回路110は、トランジスタ113、及びトランジスタ114の特性劣化による誤動作も抑制することができる。
In this manner, in the flip-
また、トランジスタ113、及びトランジスタ114がオンすると、電源電位VDDが出力端子OUT、及び節点N1に供給される。そのため、図11に示すフリップフロップ回路110は、一定期間毎に出力端子OUT、及び節点N1に電源電位VDDを供給でき、出力端子OUT、及び節点N1の電位の変動を減らすことができる。
Further, when the
また、図11に示したフリップフロップ回路110は、半導体層にポリシリコンを用いることができ、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。さらに、ポリシリコンの特性は劣化しにくいため、半導体層にアモルファスシリコンを用いた場合よりも、半導体装置の長寿命を長くすることができる。また、本発明のフリップフロップ回路を用いることにより、半導体装置の寿命をさらに長くすることができる。さらに、ポリシリコンを用いたトランジスタの移動度は大きいため、フリップフロップ回路110は高速動作が可能となる。
In addition, the flip-
なお、容量素子119は、ゲート配線層と半導体層とによって形成されることが望ましい。ゲート配線層と半導体層とは、ゲート絶縁膜を介して堆積されている。ゲート絶縁膜の膜圧は層間膜などの他の絶縁層に比べて非常に薄いため、容量素子は絶縁体としてゲート絶縁膜を用いると小面積、大容量になる。
Note that the
なお、トランジスタ115のサイズ(W/L)は、トランジスタ116のサイズよりも大きいことが望ましい。ここで、「W」はトランジスタのチャネル幅を示し、「L」はトランジスタのチャネル長を示す。トランジスタ115がオンする場合、節点N2の電位はトランジスタ115、トランジスタ116との動作点によって決定される。つまり、トランジスタ115のサイズはトランジスタ116のサイズよりも十分大きくないと、節点N2の電位が高くなり、トランジスタ118がオフできなくなる。したがって、トランジスタ118がオフするようにするために、トランジスタ115のサイズは、トランジスタ116のサイズよりも十分大きくしておく必要がある。
Note that the size (W / L) of the
また、トランジスタ115のサイズは、トランジスタ116のサイズの4倍以上であることが望ましい。より望ましくは、10倍以上である。電源電圧が小さいときは、トランジスタのサイズ比は4倍程度でいいが、電源電圧が大きくなると、トランジスタのサイズ比は10倍程度必要となる。
In addition, the size of the
ここで、レベルシフト回路などがフリップフロップ回路110の出力端子OUTに接続されている場合は、トランジスタのサイズ比は4倍以上が望ましい。なぜなら、フリップフロップ回路110の出力信号の振幅電圧はレベルシフト回路などによって大きくなるため、フリップフロップ回路110が小さい電源電圧で動作することが多いからである。
Here, when a level shift circuit or the like is connected to the output terminal OUT of the flip-
また、レベルシフト回路などがフリップフロップ回路110の出力端子OUTに接続されていない場合は、トランジスタのサイズ比は10倍以上が望ましい。なぜなら、フリップフロップ回路110の出力信号はレベルシフトせずに、なんらかの動作に適用されるため、フリップフロップ回路110が大きい電源電圧で動作することが多いからである。
In the case where a level shift circuit or the like is not connected to the output terminal OUT of the flip-
なお、各電源電位、及び制御信号の電位は、対象とするトランジスタのオン・オフを制御できれば、どんな電位でもよい。 Note that the power supply potential and the potential of the control signal may be any potential as long as on / off of a target transistor can be controlled.
例えば、電源電位VSSは、制御信号のLレベルの電位よりも低くてもよい。なぜなら、節点N3の電位はVn31(VSS+|Vth16|+|Vth18|)であるため、電源電位VSSが低くなれば、節点N3の電位Vn31も低くなるからである。したがって、節点N3の電位Vn31が低くなることで、トランジスタ113、及びトランジスタ114のしきい値電位が特性劣化によって低くなっても、トランジスタ113、及びトランジスタ114は確実にオンすることができる。
For example, the power supply potential VSS may be lower than the L level potential of the control signal. This is because the potential of the node N3 is Vn31 (VSS + | Vth16 | + | Vth18 |), and therefore, the potential Vn31 of the node N3 decreases as the power supply potential VSS decreases. Therefore, the potential Vn31 at the node N3 is lowered, so that the
また、電源電位VSSは、各トランジスタのオン・オフを制御できれば、制御信号のLレベルの電位よりも高くてもよい。 Further, the power supply potential VSS may be higher than the L-level potential of the control signal as long as on / off of each transistor can be controlled.
なお、容量素子119は、トランジスタ112のゲート端子と第2端子との間のゲート容量(寄生容量)が十分大きければ、必ずしも必要ではない。
Note that the
例えば、図13のフリップフロップ回路130のように、容量素子119を接続しなくてもよい。したがって、フリップフロップ回路130の素子数がフリップフロップ回路110の素子数に比べて1つ少なくなるので、フリップフロップ回路130は各素子を高密度に配置することができる。
For example, the
また、別の例として、図16のフリップフロップ回路160のように、トランジスタ161を用いて容量素子を形成してもよい。なぜなら、トランジスタ161がオンしていれば、トランジスタ161のゲート容量は容量素子として十分に機能するからである。
As another example, a
なお、期間T1、及び期間T2(ブートストラップ動作時)において、トランジスタ161はオンしているため、チャネル領域がトランジスタ161に形成され、トランジスタ161が容量素子として機能する。一方、期間T3、期間T4(ブートストラップ動作をしていないとき)において、トランジスタ161はオフしているため、チャネル領域がトランジスタ101に形成されず、トランジスタ161は容量素子として機能しないか、小さい容量素子として機能する。
Note that in the period T1 and the period T2 (during bootstrap operation), since the
ここで、先ほど述べた図16のフリップフロップ回路160のように、トランジスタ161を用いて容量素子を形成することで、トランジスタ161は必要なとき(期間T1、及び期間T2)だけ容量素子として機能し、不必要なとき(期間T3、及び期間T4)には容量素子として機能しないので、フリップフロップ回路160は節点N1や出力端子OUTの電位の変化によって誤動作しにくくなる。
Here, as in the flip-
なお、トランジスタ161は、トランジスタ112と同じ極性である。
Note that the
なお、トランジスタ111の第1端子は、期間T1、及び期間T2において、節点N1をフローティング状態にできれば、どこに接続されていてもよい。
Note that the first terminal of the
例えば、図14のフリップフロップ回路140のように、トランジスタ111の第1端子は、入力端子IN1に接続されていてもよい。なぜなら、トランジスタ111の第1端子が入力端子IN1に接続されていても、期間T1、及び期間T2において、節点N1をフローティング状態にできるからである。
For example, as in the flip-
なお、図11のフリップフロップ回路110において、入力端子IN1の電位が変化すると、ノイズがトランジスタ111の第1端子とゲート端子との間の寄生容量によって第1の電源に発生する。また、電流がトランジスタ111のオン、オフによって第1の電源から節点N1に流れると、ノイズがその電流の電圧降下によって第1の電源に発生する。これらのノイズが入力端子IN1の電位の変化によって発生する。
Note that in the flip-
ここで、先ほど述べた図14のフリップフロップ回路140のように接続することにより、先ほど述べたノイズを抑制することができる。また、第1の電源のノイズが抑制されることにより、第1の電源を用いている他の回路が安定して動作することができる。
Here, by connecting as in the flip-
なお、第1の電源を用いている他の回路とは、フリップフロップ回路140の出力端子OUTに接続されるインバータ回路、レベルシフト回路、ラッチ回路、又はPWC回路などである。
Note that the other circuit using the first power supply is an inverter circuit, a level shift circuit, a latch circuit, a PWC circuit, or the like connected to the output terminal OUT of the flip-
なお、トランジスタ116は、トランジスタ115とでインバータ回路を構成できれば、様々なものを用いることができる。トランジスタ116は必ずしも整流性を有している必要はなく、電流が流れると、電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。
Note that various transistors can be used as the
例えば、図15のフリップフロップ回路150のように、トランジスタ116の代わりに抵抗素子151を接続してもよい。なぜなら、トランジスタ116の代わりに抵抗素子151を接続しても、抵抗素子151とトランジスタ115とで、インバータ回路を構成できるからである。
For example, a
なお、トランジスタ115がオフのときに、節点N2の電位は第1の電源の電位と同じVSSになる。また、このときの節点N3の電位は電源電位VSSとトランジスタ118のしきい値電位Vth118の絶対値との和となる値(VSS+|Vth118|)になる。
Note that when the
ここで、先ほど述べた図15のフリップフロップ回路150のように、トランジスタ116の代わりに抵抗素子151を用いることで、各トランジスタのしきい値電位が特性劣化によって高くなっても、節点N2の電位はVSSになり、節点N3の電位はトランジスタ118のしきい値電位分だけVSSよりも高くなるだけなので、トランジスタ113、及びトランジスタ114がオンしやすくできる。
Here, as in the flip-
なお、入力端子IN1、入力端子IN2、入力端子IN3、及び入力端子IN4は制御信号を供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。 Note that although the input terminal IN1, the input terminal IN2, the input terminal IN3, and the input terminal IN4 are supplied with control signals, the present invention is not necessarily limited thereto.
例えば、入力端子IN1、入力端子IN2、入力端子IN3、及び入力端子IN4は、電源電位VDDを供給されていてもよいし、電源電位VSSを供給されていてもよいし、他の電位を供給されていてもよい。 For example, the input terminal IN1, the input terminal IN2, the input terminal IN3, and the input terminal IN4 may be supplied with the power supply potential VDD, may be supplied with the power supply potential VSS, or may be supplied with other potentials. It may be.
なお、トランジスタ111の第1端子、及びトランジスタ116の第1端子は第1の電源に接続されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that although the first terminal of the
例えば、トランジスタ111の第1端子、及びトランジスタ116の第1端子はそれぞれ別の電源に接続されていてもよい。このとき、トランジスタ116の第1端子に接続する電源の電位は、トランジスタ111の第1端子に接続されている電源の電位よりも高いことが望ましい。
For example, the first terminal of the
別の例として、トランジスタ111の第1端子、及びトランジスタ116の第1端子はそれぞれ制御信号が供給されていてもよい。
As another example, a control signal may be supplied to each of the first terminal of the
なお、トランジスタ113の第1端子、トランジスタ114の第1端子、及びトランジスタ117の第1端子は第2の電源に接続されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that although the first terminal of the
例えば、トランジスタ113の第1端子、トランジスタ114の第1端子、及びトランジスタ117の第1端子はそれぞれ別の電源に接続されていてもよい。
For example, the first terminal of the
なお、本実施形態は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in other embodiment modes and embodiments in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明のシフトレジスタ回路の構成について説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a structure of a shift register circuit of the present invention will be described.
図17に、本発明のシフトレジスタ回路の一形態を示す。図17に示すシフトレジスタ回路は、複数のフリップフロップ回路171、制御信号線172、制御信号線173、及び制御信号線174を有している。
FIG. 17 shows one mode of a shift register circuit of the present invention. The shift register circuit illustrated in FIG. 17 includes a plurality of flip-
図17のシフトレジスタ回路に示すように、各フリップフロップ回路171は、入力端子IN1が前段のフリップフロップ回路171の出力端子OUTに接続されている。出力端子OUTが次の段のフリップフロップ回路171の入力端子IN1、前段のフリップフロップ回路171の入力端子IN4、及びシフトレジスタ回路の出力端子SRoutに接続されている。ただし、1段目のフリップフロップ回路171の入力端子IN1は、制御信号線172に接続されている。また、最終段のフリップフロップ回路171の入力端子IN4は、電源と接続されている。奇数段のフリップフロップ回路171では、入力端子IN2が制御信号線173に接続され、入力端子IN3が制御信号線174に接続されている。一方で、偶数段のフリップフロップ回路171では、入力端子IN2が制御信号線174に接続され、入力端子IN3が制御信号線173に接続されている。
As shown in the shift register circuit of FIG. 17, each flip-
なお、フリップフロップ回路171は、実施の形態1で示したフリップフロップ回路と同様なものを用いることができる。
Note that the flip-
また、フリップフロップ回路171の入力端子IN1〜入力端子IN4、及び出力端子OUTは、実施の形態1で説明したものと同様なものを用いることができる。
Further, the input terminal IN1 to the input terminal IN4 and the output terminal OUT of the flip-
また、本発明のシフトレジスタ回路の1段目の出力端子SRoutを出力端子SRout1とし、2段目の出力端子SRoutを出力端子SRout2とし、3段目の出力端子SRoutを出力端子SRout3とし、4段目の出力端子SRoutを出力端子SRout4とし、n段目の出力端子SRoutを出力端子SRoutnとする。 Further, in the shift register circuit of the present invention, the first stage output terminal SRout is the output terminal SRout1, the second stage output terminal SRout is the output terminal SRout2, the third stage output terminal SRout is the output terminal SRout3, and the fourth stage. The output terminal SRout of the eye is the output terminal SRout4, and the output terminal SRout of the nth stage is the output terminal SRoutn.
また、フリップフロップ回路171は、便宜上、電源、及び電源線を図示していない。電源、及び電源線は、実施の形態1で説明した第1の電源、及び第2の電源を用いることができる。よって、第1の電源の電源電位VDDと第2の電源の電源電位VSSとの電位差(VDD−VSS)が、フリップフロップ回路171の電源電圧に相当する。
Further, the flip-
また、制御信号線172〜制御信号線174には、それぞれ制御信号SSP、CK、CKBが供給されている。また、シフトレジスタ回路の出力端子SRout1〜出力端子SRout4、及び出力端子SRoutnには、それぞれ1段目〜4段目、及びn段目のフリップフロップ回路171の出力信号が供給されている。
Control signals SSP, CK, and CKB are supplied to the
次に、図18に示すタイミングチャートを用いて、図17に示すシフトレジスタ回路の動作について説明する。図18は、図17に示した制御信号線172〜制御信号線174にそれぞれ供給される制御信号SSP、制御信号CK、制御信号CKBと、出力端子SRout1〜出力端子SRout4、及び出力端子SRoutnの出力信号のタイミングチャートを示している。また、図18に示すタイミングチャートは、便宜上、期間T0〜期間T5、期間Tn、及び期間Tn+1に分割している。
Next, operation of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 will be described with reference to a timing chart illustrated in FIG. 18 shows the control signal SSP, the control signal CK and the control signal CKB supplied to the
なお、図18は、フリップフロップ回路171のトランジスタがそれぞれNチャネル型の場合のタイミングチャートである。つまり、図18は、フリップフロップ回路171として、図1、図7、図8、図9、及び図10に示したフリップフロップ回路を用いた場合のタイミングチャートである。
FIG. 18 is a timing chart in the case where the transistors of the flip-
なお、図18に示すタイミングチャートでは、制御信号、及び出力信号を実施の形態1と同様な2値の値を持ったデジタル信号とする。 In the timing chart shown in FIG. 18, the control signal and the output signal are digital signals having the same binary values as in the first embodiment.
図17に示すシフトレジスタ回路の動作について図18を参照して、説明する。 The operation of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 is described with reference to FIG.
まず、期間T0におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T0では、制御信号SSPがHレベルになり、制御信号CKがLレベルになり、制御信号CKBがHレベルになる。 First, operation of the shift register circuit in the period T0 is described. In the period T0, the control signal SSP becomes H level, the control signal CK becomes L level, and the control signal CKB becomes H level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルになる。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the first-stage flip-
1段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルになる。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the odd-numbered flip-
偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルになる。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、全てのシフトレジスタ回路の出力端子SRoutがLレベルになっている。 Thus, the output terminals SRout of all shift register circuits are at the L level.
次に、期間T1におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T1では、制御信号SSPがLレベルになり、制御信号CKがHレベルになり、制御信号CKBがLレベルになる。 Next, operation of the shift register circuit in the period T1 is described. In the period T1, the control signal SSP becomes L level, the control signal CK becomes H level, and the control signal CKB becomes L level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T2と同様である。
In the first-stage flip-
2段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the second-stage flip-
1段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルのままであり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the odd-stage flip-
2段目を除く偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルのままであり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、シフトレジスタ回路の出力端子SRout1がHレベルになり、他の出力端子SRoutがLレベルのままである。 Thus, the output terminal SRout1 of the shift register circuit becomes H level, and the other output terminals SRout remain at L level.
次に、期間T2におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T2では、制御信号SSPがLレベルになり、制御信号CKがLレベルになり、制御信号CKBがHレベルになる。 Next, operation of the shift register circuit in the period T2 is described. In the period T2, the control signal SSP becomes L level, the control signal CK becomes L level, and the control signal CKB becomes H level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルのままであり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルになる。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the first-stage flip-
2段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T2と同様である。
In the second-stage flip-
3段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the third-stage flip-
1段目、及び3段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルのままであり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTはLレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the odd-numbered flip-
2段目を除く偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルのままであり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルのままである。よって、出力端子OUTはLレベルのままである。この状態は、図2に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、シフトレジスタ回路の出力端子SRout1がLレベルになり、出力端子SRout2がHレベルになり、他の出力端子SRoutがLレベルのままである。 Thus, the output terminal SRout1 of the shift register circuit becomes L level, the output terminal SRout2 becomes H level, and the other output terminals SRout remain at L level.
後の期間でも同様に、期間T3ではシフトレジスタ回路の出力端子SRout3がHレベルになり、期間T4ではシフトレジスタ回路の出力端子SRout4がHレベルになり、期間T5ではシフトレジスタ回路の5段目の出力端子SRout5がHレベルになり、期間Tnではシフトレジスタ回路のn段目の出力端子SRoutnがHレベルになる。このように、シフトレジスタ回路の出力端子は1期間だけ順にHレベルになる。また、1期間分とは、制御信号CK、又は制御信号CKBの半周期である。 Similarly, in the subsequent period, the output terminal SRout3 of the shift register circuit becomes H level in the period T3, the output terminal SRout4 of the shift register circuit becomes H level in the period T4, and the fifth stage of the shift register circuit in period T5. The output terminal SRout5 is at the H level, and the n-th output terminal SRoutn of the shift register circuit is at the H level in the period Tn. As described above, the output terminal of the shift register circuit becomes H level in order for only one period. One period is a half cycle of the control signal CK or the control signal CKB.
以上の動作により、図17に示すシフトレジスタ回路の出力端子SRoutを一段ずつHレベルにすることができる。また、フリップフロップ回路171として、実施の形態1で示したフリップフロップ回路を用いることによって、図17に示すフリップフロップ回路はトランジスタの特性劣化による誤動作を起こしにくく、出力信号のノイズが少なくなる。
Through the above operation, the output terminal SRout of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 can be set to the H level step by step. In addition, when the flip-flop circuit described in
図18はフリップフロップ回路171のトランジスタがNチャネル型の場合のタイミングチャートを示したが、図19はフリップフロップ回路171のトランジスタがPチャネル型の場合のタイミングチャートを示している。つまり、図19は、フリップフロップ回路171として、図11、図13、図14、図15、及び図16に示したフリップフロップ回路を用いた場合のタイミングチャートである。
FIG. 18 shows a timing chart when the transistor of the flip-
次に、図19に示すタイミングチャートを用いて、図17に示すシフトレジスタ回路の動作について説明する。図19は、図17に示した制御信号線172〜制御信号線174にそれぞれ供給される制御信号SSP、制御信号CK、制御信号CKBと、出力端子SRout1〜出力端子SRout4、及び出力端子SRoutnの出力信号のタイミングチャートを示している。また、図19に示すタイミングチャートは、便宜上、期間T0〜期間T5、期間Tn、及び期間Tn+1に分割している。なお、制御信号、及び出力信号のタイミングについては、フリップフロップ回路171がすべてNチャネル型のトランジスタで構成される場合(図18)に対してHレベル、及びLレベルが反転している。
Next, operation of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 is described with reference to a timing chart illustrated in FIG. 19 shows the control signal SSP, the control signal CK, and the control signal CKB supplied to the
なお、図19に示すタイミングチャートでは、制御信号、及び出力信号を実施の形態1と同様な2値の値を持ったデジタル信号とする。 In the timing chart shown in FIG. 19, the control signal and the output signal are digital signals having the same binary values as in the first embodiment.
図17に示すシフトレジスタ回路の動作について図19を参照して、説明する。 The operation of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 is described with reference to FIG.
まず、期間T0におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T0では、制御信号SSPがLレベルになり、制御信号CKがHレベルになり、制御信号CKBがLレベルになる。 First, operation of the shift register circuit in the period T0 is described. In the period T0, the control signal SSP becomes L level, the control signal CK becomes H level, and the control signal CKB becomes L level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルになる。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the flip-
1段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルになる。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the odd-numbered flip-
偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルになる。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、全てのシフトレジスタ回路の出力端子SRoutがHレベルになっている。 Thus, the output terminals SRout of all shift register circuits are at the H level.
次に、期間T1におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T1では、制御信号SSPがHレベルになり、制御信号CKがLレベルになり、制御信号CKBがHレベルになる。 Next, operation of the shift register circuit in the period T1 is described. In the period T1, the control signal SSP becomes H level, the control signal CK becomes L level, and the control signal CKB becomes H level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T2と同様である。
In the first-stage flip-
2段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the second-stage flip-
1段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルのままであり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the odd-numbered flip-
2段目を除く偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルのままであり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、シフトレジスタ回路の出力端子SRout1がLレベルになり、他の出力端子SRoutがHレベルのままである。 Thus, the output terminal SRout1 of the shift register circuit becomes L level, and the other output terminals SRout remain at H level.
次に、期間T2におけるシフトレジスタ回路の動作について説明する。期間T2では、制御信号SSPがHレベルになり、制御信号CKがHレベルになり、制御信号CKBがLレベルになる。 Next, operation of the shift register circuit in the period T2 is described. In the period T2, the control signal SSP becomes H level, the control signal CK becomes H level, and the control signal CKB becomes L level.
1段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルのままであり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がLレベルになる。よって、出力端子OUTは、Hレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the first-stage flip-
2段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Lレベルになる。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T2と同様である。
In the second-stage flip-
3段目のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTは、Hレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T1と同様である。
In the third-stage flip-
1段目、及び3段目を除く奇数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルのままであり、入力端子IN2がHレベルになり、入力端子IN3がLレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTはHレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T3と同様である。
In the odd-stage flip-
2段目を除く偶数段のフリップフロップ回路171において、入力端子IN1がHレベルのままであり、入力端子IN2がLレベルになり、入力端子IN3がHレベルになり、入力端子IN4がHレベルのままである。よって、出力端子OUTはHレベルのままである。この状態は、図12に示すタイミングチャートの期間T4と同様である。
In the even-numbered flip-
こうして、シフトレジスタ回路の出力端子SRout1がHレベルになり、出力端子SRout2がLレベルになり、他の出力端子SRoutがHレベルのままである。 Thus, the output terminal SRout1 of the shift register circuit becomes H level, the output terminal SRout2 becomes L level, and the other output terminals SRout remain at H level.
後の期間でも同様に、期間T3ではシフトレジスタ回路の出力端子SRout3がLレベルになり、期間T4ではシフトレジスタ回路の出力端子SRout4がLレベルになり、期間T5ではシフトレジスタ回路の5段目の出力端子SRout5がLレベルになり、期間Tnではシフトレジスタ回路のn段目の出力端子SRoutnがLレベルになる。このように、シフトレジスタ回路の出力端子は1期間だけ順にLレベルになる。また、1期間分とは、制御信号CK、又は制御信号CKBの半周期である。 Similarly, in the subsequent period, the output terminal SRout3 of the shift register circuit becomes L level in the period T3, the output terminal SRout4 of the shift register circuit becomes L level in the period T4, and the fifth stage of the shift register circuit in period T5. The output terminal SRout5 is at the L level, and the n-th output terminal SRoutn of the shift register circuit is at the L level in the period Tn. As described above, the output terminal of the shift register circuit sequentially becomes L level for only one period. One period is a half cycle of the control signal CK or the control signal CKB.
以上の動作により、図17に示すシフトレジスタ回路の出力端子SRoutを一段ずつLレベルにすることができる。また、フリップフロップ回路171として、実施の形態1で示したフリップフロップ回路を用いることによって、図17に示すフリップフロップ回路はトランジスタの特性劣化による誤動作を起こしにくく、出力信号のノイズが少なくなる。
Through the above operation, the output terminal SRout of the shift register circuit illustrated in FIG. 17 can be set to the L level step by step. In addition, when the flip-flop circuit described in
なお、フリップフロップ回路171は1段目から順に選択信号をシフトレジスタ回路の出力端子SRoutに供給できれば、どんなフリップフロップ回路でもよい。
Note that the flip-
なお、フリップフロップ回路171の出力端子OUTは、いかなる素子、及び回路を介してシフトレジスタ回路の出力端子SRoutに接続されていてもよい。いかなる素子、及び回路とは、インバータ回路、バッファ回路、NAND回路、NOR回路、トライステートバッファ回路、PWC回路などの論理回路、スイッチ、抵抗素子、容量素子、他の素子などである。また、これらの素子、回路を組み合わせることによって、様々な回路を構成することができる。
Note that the output terminal OUT of the flip-
なお、制御信号線172〜制御信号線174にはそれぞれ制御信号が供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Although the control signal is supplied to each of the
例えば、制御信号線172〜制御信号線174は、電源電位VDDを供給されていてもよいし、電源電位VSSを供給されていてもよいし、他の電位を供給されていてもよい。
For example, the
なお、制御信号線173には制御信号CKが供給され、制御信号線174には制御信号CKBが供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that although the control signal CK is supplied to the
例えば、制御信号線173には制御信号CKを供給し、制御信号線174にはインバータ回路を介して制御信号CKの反転信号を供給してもよい。また、制御信号線173にはインバータ回路を介して制御信号CKBの反転信号を供給し、制御信号線174には制御信号CKBを供給してもよい。なお、このインバータ回路は、シフトレジスタ回路と同一基板上に形成することが望ましい。
For example, the
なお、最終段のフリップフロップ回路171の入力端子IN4は電源と接続されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。
Note that the input terminal IN4 of the flip-
例えば、最終段のフリップフロップ回路171の入力端子IN4は制御信号線172〜制御信号線174のいずれかに接続されていてもよいし、他の制御信号に接続されていてもよいし、他の段のフリップフロップ回路171の出力端子OUTに接続されていてもよい。
For example, the input terminal IN4 of the flip-
なお、本実施形態は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in other embodiment modes and embodiments in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
(実施の形態3)
本実施形態では、駆動回路の一部に、実施の形態1で説明したフリップフロップ回路、及び実施の形態2で説明したシフトレジスタ回路などを用いた場合の構成例について説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, an example of a structure in which the flip-flop circuit described in
駆動回路として、ゲートドライバに適応できる駆動回路の構成例を図20〜27を参照して説明する。しかし、図20〜図27の駆動回路は、ゲートドライバだけに適応できるものではなく、いかなる回路構成においても適応可能である。 A configuration example of a drive circuit that can be applied to a gate driver as the drive circuit will be described with reference to FIGS. However, the drive circuits of FIGS. 20 to 27 are not only applicable to gate drivers, but can be applied to any circuit configuration.
図20に、本発明のゲートドライバの一形態を示す。本発明のゲートドライバは、シフトレジスタ回路200、及びバッファ回路201を有している。
FIG. 20 shows one mode of the gate driver of the present invention. The gate driver of the present invention includes a
図20のゲートドライバに示すように、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがバッファ回路201を介してゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
As shown in the gate driver of FIG. 20, the output terminal SRout of the
なお、シフトレジスタ回路200は、実施の形態2で説明したものと同様なものとする。
Note that the
また、シフトレジスタ回路200の出力端子SRout1〜出力端子SRout4、出力端子SRoutnは、実施の形態2で説明したものと同様なものとする。
Further, the output terminal SRout1 to the output terminal SRout4 and the output terminal SRoutn of the
また、本発明のゲートドライバの1段目の出力端子GDoutを出力端子GDout1とし、2段目の出力端子GDoutを出力端子GDout2とし、3段目の出力端子GDoutを出力端子GDoutとし、n段目の出力端子GDoutを出力端子GDoutnとする。 In the gate driver of the present invention, the first stage output terminal GDout is the output terminal GDout1, the second stage output terminal GDout is the output terminal GDout2, the third stage output terminal GDout is the output terminal GDout, and the nth stage. The output terminal GDout is referred to as an output terminal GDoutn.
また、バッファ回路201は、インバータ回路、バッファ回路、NAND回路、NOR回路、トライステートバッファ回路、PWC回路などの論理回路、スイッチ、抵抗素子、容量素子、又は他の素子などを有している。また、これらの素子、及び回路を組み合わせることによって、様々な回路を構成することができる。
The
また、図20のゲートドライバには、電源線、及び制御信号線を便宜上、図示していない。 In the gate driver of FIG. 20, the power supply line and the control signal line are not shown for convenience.
また、シフトレジスタ回路200がNチャネル型のトランジスタで構成されている場合、バッファ回路201もNチャネル型のトランジスタで構成されていることが望ましい。シフトレジスタ回路200がPチャネル型のトランジスタで構成されている場合、バッファ回路201もPチャネル型のトランジスタで構成されていることが望ましい。
In the case where the
また、シフトレジスタ回路200がNチャネル型のトランジスタで構成されている場合、シフトレジスタ回路200の出力信号は図18のタイミングチャートと同様である。シフトレジスタ回路200がPチャネル型のトランジスタで構成されている場合、シフトレジスタ回路200の出力信号は図19のタイミングチャートと同様である。
In the case where the
ここで、バッファ回路201の具体的な構成例について説明する。図21〜図27は、バッファ回路を含むゲートドライバの構成例である。ただし、バッファ回路201は、図21〜図27の構成に限定されない。
Here, a specific configuration example of the
図21に、本発明のバッファ回路を含むゲートドライバの一形態を具体的に説明する。図21のゲートドライバは、シフトレジスタ回路200、及びバッファ回路210を有している。バッファ回路210は、1段目のインバータ回路211A、及び2段目のインバータ回路211Bを有している。
FIG. 21 specifically illustrates one mode of a gate driver including the buffer circuit of the present invention. The gate driver in FIG. 21 includes a
図21のゲートドライバに示すように、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutは、バッファ回路210を介してゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
As shown in the gate driver in FIG. 21, the output terminal SRout of the
バッファ回路210の接続関係について説明する。インバータ回路211Aの入力端子INがシフトレジスタ回路200の出力端子SRoutに接続され、出力端子OUTがインバータ回路211Bの入力端子INに接続されている。インバータ回路211Bの出力端子OUTがゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。つまり、バッファ回路210において、2つのインバータ回路211が各段のシフトレジスタ回路200の出力端子SRoutごとに、直列に接続されている。
A connection relationship of the
図21のゲートドライバの動作について、出力端子SRoutがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。 The operation of the gate driver in FIG. 21 will be described for each of the case where the output terminal SRout is at the H level and the case where the output terminal SRout is at the L level.
まず、出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。出力端子SRoutは2つのインバータ回路211を介して出力端子GDoutに接続されているので、出力端子GDoutがHレベルになる。
First, the case where the output terminal SRout is at the H level will be described. Since the output terminal SRout is connected to the output terminal GDout via the two
次に、出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。出力端子SRoutは2つのインバータ回路211を介して出力端子GDoutに接続されているので、出力端子GDoutがLレベルになる。
Next, the case where the output terminal SRout is at the L level will be described. Since the output terminal SRout is connected to the output terminal GDout via the two
以上の動作により、出力端子SRoutはHレベルになると、出力端子GDoutがHレベルになる。また、出力端子SRoutはLレベルになると、出力端子GDoutがLレベルになる。 With the above operation, when the output terminal SRout becomes H level, the output terminal GDout becomes H level. Further, when the output terminal SRout becomes L level, the output terminal GDout becomes L level.
また、インバータ回路211は整流作用をもつので、出力端子SRoutのノイズがゲートドライバの出力端子GDoutに影響することを抑制することができる。
Further, since the
なお、バッファ回路210において、2つのインバータ回路211が直列に接続されているが、複数のインバータ回路211が直列に接続されていてもよい。例えば、奇数個のインバータ回路211が直列に接続されている場合、出力端子GDoutは出力端子SRoutと逆のレベルになる。偶数個のインバータ回路211が直列に接続されている場合、出力端子GDoutは出力端子SRoutと同じレベルになる。
In the
また、バッファ回路210において、2つのインバータ回路211が直列に接続されているが、複数のインバータ回路211が並列に接続されていてもよい。こうすれば、インバータ回路211の電流密度は小さくなるため、インバータ回路211を構成する素子の特性劣化が抑制される。
In the
図22に、本発明のバッファ回路を含むゲートドライバの別の一形態を具体的に説明する。図22のゲートドライバは、シフトレジスタ回路200、バッファ回路220、及び制御信号線222を有している。バッファ回路210は、NAND回路221を有している。
FIG. 22 shows another embodiment of the gate driver including the buffer circuit of the present invention. The gate driver in FIG. 22 includes a
図22のゲートドライバに示すように、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutは、バッファ回路220を介してゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
As shown in the gate driver in FIG. 22, the output terminal SRout of the
バッファ回路220の接続関係について説明する。NAND回路221の入力端子IN1が制御信号線222に接続され、入力端子IN2がシフトレジスタ回路200の出力端子SRoutに接続され、出力端子OUTがゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
A connection relationship of the
また、制御信号線222には、イネーブル信号Enが供給されている。イネーブル信号Enは、デジタル信号である。
The
図22のゲートドライバの動作について、制御信号線222がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、出力端子SRoutがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the gate driver in FIG. 22 will be described for each of the case where the
まず、制御信号線222がHレベル、出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。NAND回路221の入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がHレベルになる。よって、NAND回路221の出力端子OUTはLレベルになるので、出力端子GDoutがLレベルになる。
First, the case where the
次に、制御信号線222がHレベル、出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。NAND回路221の入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになる。よって、NAND回221路の出力端子OUTはHレベルになるので、出力端子GDoutがHレベルになる。
Next, the case where the
次に、制御信号線222がLレベル、出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。NAND回路221の入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになる。よって、NAND回路221の出力端子OUTはHレベルになるので、出力端子GDoutがHレベルになる。
Next, a case where the
次に、制御信号線222がLレベル、出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。NAND回路221の入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がLレベルになる。よって、NAND回路221の出力端子OUTはHレベルになるので、出力端子GDoutがHレベルになる。
Next, the case where the
以上の動作により、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutがLレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutはHレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutはHレベルになる。
With the above operation, if the
このように、ゲートドライバの出力信号は、イネーブル信号Enによって任意に変更することができる。図22のゲートドライバは、いわゆるパルス幅制御(PWC)を行うことができる。 Thus, the output signal of the gate driver can be arbitrarily changed by the enable signal En. The gate driver in FIG. 22 can perform so-called pulse width control (PWC).
ここで、パルス幅制御は、イネーブル信号EnがLレベルのときに出力端子SRoutに関係なく、出力端子がHレベルになることを利用して、行われる。つまり、シフトレジスタ回路200の出力信号があるLレベルのパルス幅(周期)でも、イネーブル信号EnをLレベルにすることで、その出力信号を短くすることができる。
Here, the pulse width control is performed by utilizing the fact that the output terminal becomes H level regardless of the output terminal SRout when the enable signal En is at L level. In other words, even if the output signal of the
なお、NAND回路221は2つの入力端子を有しているが、シフトレジスタ回路200の出力信号がいずれかの入力端子に供給されていれば、NAND回路221の入力端子の数はいくつでもよい。NAND回路221の入力端子が複数あれば、バッファ回路220はより正確にゲートドライバの出力信号を制御できる。
Note that although the
なお、図24のバッファ回路240ように、出力端子SRoutは、インバータ回路211を介してNAND回路221の入力端子IN2に接続されてもよい。この場合、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutはHレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutはLレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutはHレベルになる。
24, the output terminal SRout may be connected to the input terminal IN2 of the
なお、図26のバッファ回路260ように、NAND回路221の出力端子OUTは、インバータ回路211を介して出力端子GDoutに接続されていてもよい。この場合、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutはHレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutはLレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutはLレベルになる。
26, the output terminal OUT of the
なお、制御信号線222には、イネーブル信号Enが供給されているが、本発明はこれに限定されない。
Note that although the enable signal En is supplied to the
例えば、制御信号線222には、別の制御信号が供給されていてもよい。
For example, another control signal may be supplied to the
別の例として、制御信号線222には、電源が供給されていてもよい。
As another example, power may be supplied to the
図23に、本発明のバッファ回路を含むゲートドライバの別の一形態を具体的に説明する。図23のゲートドライバは、シフトレジスタ回路200、バッファ回路230、及び制御信号線222を有している。バッファ回路230は、NOR回路231を有している。
FIG. 23 specifically illustrates another mode of a gate driver including the buffer circuit of the present invention. The gate driver in FIG. 23 includes a
図23のゲートドライバに示すように、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutは、バッファ回路230を介してゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
As shown in the gate driver in FIG. 23, the output terminal SRout of the
バッファ回路230の接続関係について説明する。NOR回路231の入力端子IN1が制御信号線222に接続され、入力端子IN2がシフトレジスタ回路200の出力端子SRoutに接続され、出力端子OUTがゲートドライバの出力端子GDoutに接続されている。
A connection relationship of the buffer circuit 230 will be described. The input terminal IN1 of the NOR
また、制御信号線222には、イネーブル信号Enが供給されている。
The
図23のゲートドライバの動作について、制御信号線222がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。。
The operation of the gate driver in FIG. 23 will be described for each of the case where the
まず、制御信号線222がHレベル、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。NOR回路231の入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がHレベルになる。よって、NOR回路の出力端子OUTはLレベルになるので、出力端子GDoutがLレベルになる。
First, the case where the
次に、制御信号線222がHレベル、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。NOR回路231の入力端子IN1がHレベルになり、入力端子IN2がLレベルになる。よって、NOR回路の出力端子OUTはLレベルになるので、出力端子GDoutがLレベルになる。
Next, the case where the
次に、制御信号線222がLレベル、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。NOR回路231の入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がHレベルになる。よって、NOR回路の出力端子OUTはLレベルになるので、出力端子GDoutがLレベルになる。
Next, the case where the
次に、制御信号線222がLレベル、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。NOR回路231の入力端子IN1がLレベルになり、入力端子IN2がLレベルになる。よって、NOR回路の出力端子OUTはHレベルになるので、出力端子GDoutがHレベルになる。
Next, a case where the
以上の動作により、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutがLレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutがLレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutがHレベルになる。
With the above operation, if the
このように、ゲートドライバの出力端子GDoutはイネーブル信号Enによって任意に変更することができる。図22のゲートドライバは、いわゆるパルス幅制御(PWC)を行うことができる。 Thus, the output terminal GDout of the gate driver can be arbitrarily changed by the enable signal En. The gate driver in FIG. 22 can perform so-called pulse width control (PWC).
ここで、パルス幅制御は、イネーブル信号EnがHレベルのときに出力端子SRoutに関係なく、出力端子がLレベルになることを利用して、行うことができる。つまり、シフトレジスタ回路200の出力信号があるHレベルのパルス幅(周期)でも、イネーブル信号EnをHレベルにすることで、その出力信号を短くすることができる。
Here, the pulse width control can be performed by utilizing the fact that the output terminal becomes L level regardless of the output terminal SRout when the enable signal En is at H level. In other words, even if the output signal of the
なお、NOR回路231は2つの入力端子を有しているが、シフトレジスタ回路200の出力信号がいずれかの入力端子に供給されていれば、NOR回路231の入力端子はいくでもよい。NOR回路231の入力端子が複数れば、バッファ回路230はより正確にゲートドライバの出力信号制御できる。
Although the NOR
なお、図25のバッファ回路250ように、シフトレジスタ回路200の出力端子SRoutは、インバータ回路211を介してNOR回路231の入力端子IN2に接続されていてもよい。この場合、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutはHレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutはHレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutはLレベルになる。
25, the output terminal SRout of the
なお、図27のバッファ回路270ように、NOR回路231の出力端子OUTは、インバータ回路211を介してゲートドライバの出力端子GDoutに接続されていてもよい。この場合、制御信号線222がHレベルであれば、出力端子SRoutに関係なく、出力端子GDoutはLレベルになる。制御信号線222がLレベルであれば、出力端子SRoutがHレベルのときに、出力端子GDoutはHレベルになり、出力端子SRoutがLレベルのときに、出力端子GDoutはLレベルの信号を出力する。
27, the output terminal OUT of the NOR
ここで、インバータ回路211に適応可能な構成例について説明する。
Here, a configuration example applicable to the
図28に、インバータ回路211の一形態を示す。図28のインバータ回路280はトランジスタ281、及びトランジスタ282を有している。
FIG. 28 illustrates one mode of the
図28のインバータ回路280に示すように、トランジスタ281の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ282の第2端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子INに接続されている。トランジスタ282の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源には、電源電位VDDが供給され、第2の電源には電源電位VSSが供給されている。第1の電源の電源電位VDDと第2の電源の電源電位VSSとの電位差(VDD−VSS)が、インバータ回路280の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
Note that the power supply potential VDD is supplied to the first power supply, and the power supply potential VSS is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VDD of the first power supply and the power supply potential VSS of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the
なお、入力端子INには、デジタルの制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 Note that a digital control signal is supplied to the input terminal IN. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ281、及びトランジスタ282は、それぞれNチャネル型である。
Further, the
図28のインバータ回路280の動作について、入力端子INがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子INがHレベルの場合について説明する。入力端子INはHレベルになると、トランジスタ281がオンする。出力端子OUTはトランジスタ281を介して第2の電源と導電、及びトランジスタ282を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ281とトランジスタ282との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
First, the case where the input terminal IN is at the H level will be described. When the input terminal IN becomes H level, the
次に、入力端子INがLレベルの場合について説明する。入力端子INはLレベルになると、トランジスタ281がオフする。出力端子OUTはトランジスタ282を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VDDからトランジスタ282のしきい値電位Vth282を引いた値(VDD−Vth282)になり、出力端子OUTがHレベルになる。
Next, the case where the input terminal IN is at the L level will be described. When the input terminal IN becomes L level, the
なお、トランジスタ282は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図32のインバータ回路320のように、トランジスタ282の代わりに抵抗素子321を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ281、及びトランジスタ282が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ281は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子INがHレベルのときに、トランジスタ281は出力端子OUTに電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ282は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図29に、インバータ回路211の別の一形態を示す。図29のインバータ回路290はトランジスタ291、トランジスタ292、トランジスタ293、及び2つの電極を持つ容量素子294を有している。なお、容量素子294は必ずしも必要ではない。
FIG. 29 shows another mode of the
図29のインバータ回路290に示すように、トランジスタ291の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ292の第2端子、容量素子294の第2電極、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子INに接続されている。トランジスタ292の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ293の第2端子、及び容量素子294の第1電極に接続されている。トランジスタ293の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN、及び出力端子OUTは図28と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ291〜トランジスタ293は、それぞれNチャネル型である。
In addition, each of the
図29のインバータ回路290の動作について、入力端子INがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子INがHレベルの場合について説明する。入力端子INはHレベルになると、トランジスタ291がオンする。トランジスタ292のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ293のしきい値電位Vth293を引いた値(VDD−Vth293)になっており、トランジスタ292がオンしている。また、トランジスタ292のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN is at the H level will be described. When the input terminal IN becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ291を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ292を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ291とトランジスタ292との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply via the
次に、入力端子INがLレベルの場合について説明する。入力端子INはLレベルになると、トランジスタ291がオフする。トランジスタ292のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ293のしきい値電位Vth293を引いた値(VDD−Vth293)になっており、トランジスタ292がオンしている。また、トランジスタ292のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN is at the L level will be described. When the input terminal IN becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ292を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。トランジスタ292のゲート端子の電位は容量素子294の容量結合によって、電源電位VDDとトランジスタ292のしきい値電位Vth292との和以上の値まで上昇し、トランジスタ292がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVDDになり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
このように、図29のインバータ回路290では、ブートストラップ動作によって、Hレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VDDまで上昇させることができる。
In this manner, in the
なお、図29のインバータ回路290は、入力端子INがLレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図29の回路構成に限定されない。入力端子INがHレベルのときは、トランジスタ292のゲート端子に電位を供給していてもよい。
Note that the
例えば、図33のインバータ回路330のように、トランジスタ331を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがLレベルのときに、出力端子OUTの電位をVSSにできるからである。つまり、入力端子INがHレベルのときに、トランジスタ331がオンするため、トランジスタ292のゲート端子がLレベルになる。そして、トランジスタ292はオフして、出力端子OUTはトランジスタ291を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ331は、Nチャネル型である。
Note that the
別の例として、図36のインバータ回路360のように、トランジスタ293の第1端子が入力端子INbに接続されていてもよい。なぜなら、出力端子OUTがLレベルのときに、出力端子OUTの電位をVSSにできるからである。つまり、入力端子INがHレベルのときに、入力端子INbがLレベルになるため、トランジスタ292のゲート端子がLレベルになる。そして、トランジスタ292はオフして、出力端子OUTはトランジスタ291を介して第2の電源のみと導通するからである。
As another example, the first terminal of the
なお、入力端子INbは入力端子INの信号の反転信号が供給されている。また、入力端子INbに供給される信号を生成する方法について説明する。 Note that an inverted signal of the signal of the input terminal IN is supplied to the input terminal INb. A method for generating a signal supplied to the input terminal INb will be described.
例えば、図124に示すように、入力端子INbには、入力端子INの信号をインバータ回路1241を介して供給していてもよい。また、インバータ回路1241は、図28〜図35で説明したインバータ回路を適用することができる。
For example, as shown in FIG. 124, the signal of the input terminal IN may be supplied to the input terminal INb via an
なお、入力端子INbは入力端子INの信号の反転信号が供給されているとは限らない。また、入力信号INbに供給される信号について説明する。 Note that the input terminal INb is not necessarily supplied with an inverted signal of the signal of the input terminal IN. A signal supplied to the input signal INb will be described.
例えば、入力端子INがn段目の出力端子SRoutnに接続されている場合、入力端子INbはn−1段目の出力端子SRoutn−1に接続されていてもよい。 For example, when the input terminal IN is connected to the nth output terminal SRoutn, the input terminal INb may be connected to the (n−1) th output terminal SRoutn−1.
別の例として、入力端子INがn段目の出力端子SRoutnに接続されている場合、入力端子INbはn+1段目の出力端子SRoutn+1に接続されていてもよい。
As another example, when the input terminal IN is connected to the n-th stage output terminal SRoutn, the input terminal INb may be connected to the (n + 1) -th stage output
別の例として、入力端子INがn段目の出力端子SRoutに接続されている場合、入力端子INbはn段目のフリップフロップ回路の節点N2に接続されていてもよい。なぜなら、非選択期間において、フリップフロップ回路の節点N2の電位は出力端子SRoutの電位と反転した関係にあるため、フリップフロップ回路の節点N2の電位は反転信号として利用できるからである。したがって、インバータ回路360の入力端子INbにフリップフロップ回路の節点N2の電位を供給することで、反転信号を生成するためのインバータ回路を不要にすることができる。
As another example, when the input terminal IN is connected to the n-th output terminal SRout, the input terminal INb may be connected to the node N2 of the n-th flip-flop circuit. This is because the potential of the node N2 of the flip-flop circuit is inverted with respect to the potential of the output terminal SRout in the non-selection period, and thus the potential of the node N2 of the flip-flop circuit can be used as an inverted signal. Therefore, by supplying the potential of the node N2 of the flip-flop circuit to the input terminal INb of the
別の例として、入力端子INbには制御信号(デジタル値)を供給すれば、図36のインバータ回路は、トライステートバッファ回路として動作することができる。なぜなら、入力端子INがLレベル、入力端子INbがLレベルになれば、トランジスタ291、及びトランジスタ292がオフするため、出力端子OUTはどの電源とも接続されないからである。したがって、インバータ回路360がトライステートバッファ回路、又はインバータ回路としての機能を有することができる。
As another example, if a control signal (digital value) is supplied to the input terminal INb, the inverter circuit in FIG. 36 can operate as a tristate buffer circuit. This is because when the input terminal IN is at the L level and the input terminal INb is at the L level, the
このように、インバータ回路360の入力端子INbには、様々な方法で、信号を供給することができる。
Thus, a signal can be supplied to the input terminal INb of the
以下に、再び、図29の応用例について説明する。 Hereinafter, the application example of FIG. 29 will be described again.
別の例として、図39のインバータ回路390のように、トランジスタ293の第1端子、及びゲート端子が入力端子INbに接続され、トランジスタ391を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがLレベルのときに、出力端子OUTの電位がVSSにできるからである。つまり、入力端子INbがLレベルのときに、トランジスタ292のゲート端子がLレベルになる。そして、トランジスタ292はオフして、出力端子OUTはトランジスタ291を介して第2の電源のみと導通するからである。
As another example, as in the
なお、容量素子294は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図30のインバータ回路300、図34のインバータ回路340、図37のインバータ回路370、及び図40のインバータ回路400のように、容量素子294の代わりにそれぞれトランジスタ301、トランジスタ341、トランジスタ371、トランジスタ401を接続してもよい。
Note that a variety of capacitors can be used as the
なお、容量素子294は、トランジスタ292の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図31のインバータ回路310、図35のインバータ回路350、図38のインバータ回路380、及び図41のインバータ回路410のように、容量素子294を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ291〜トランジスタ293、トランジスタ301、トランジスタ331、トランジスタ341、及び容量素子294が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ291は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。入力端子INがHレベルのときに、トランジスタ291は出力端子OUTに電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ292は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ293は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ293は、トランジスタ292のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ301は、出力端子OUTと、トランジスタ292のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、トランジスタ301はトランジスタ292のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
トランジスタ331は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ292のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ341は、出力端子OUTと、トランジスタ292のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、容量素子341は出力端子OUTの電位の上昇によって、トランジスタ292のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
容量素子294は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ292のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、容量素子294は出力端子OUTの電位の上昇によって、トランジスタ292のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
このように、図28〜図41のインバータ回路はHレベルの信号を出力するときに、電源電位VDDを変化することによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図28〜図41のインバータ回路は、インバータ回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 As described above, when the inverter circuits in FIGS. 28 to 41 output an H level signal, the potential of the output terminal OUT can be freely changed by changing the power supply potential VDD. That is, the inverter circuits of FIGS. 28 to 41 can operate not only as an inverter circuit but also as a level shift circuit.
図28〜図41のインバータ回路では、すべてNチャネル型のトランジスタで構成されている場合について説明したが、すべてPチャネル型のトランジスタで構成されていてもよい。ここで、すべてPチャネル型のトランジスタで構成された場合のインバータ回路を図58〜図71に示す。 In the inverter circuits of FIGS. 28 to 41, the case where all are configured by N-channel transistors has been described, but all may be configured by P-channel transistors. Here, FIG. 58 to FIG. 71 show inverter circuits in the case where they are all constituted by P-channel transistors.
図58に、インバータ回路211の一形態を示す。図58のインバータ回路580はトランジスタ581、及びトランジスタ582を有している。
FIG. 58 shows one mode of the
図58のインバータ回路580に示すように、トランジスタ581の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ582の第2端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子INに接続されている。トランジスタ582の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源には、電源電位VSSが供給され、第2の電源には電源電位VDDが供給されている。第1の電源の電源電位VSSと第2の電源の電源電位VDDとの電位差(VDD−VSS)が、インバータ回路580の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
Note that the power supply potential VSS is supplied to the first power supply, and the power supply potential VDD is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VSS of the first power supply and the power supply potential VDD of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the
なお、入力端子INには、デジタルの制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 Note that a digital control signal is supplied to the input terminal IN. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ581、及びトランジスタ582は、それぞれPチャネル型である。
Further, the
図58のインバータ回路580の動作について、入力端子INがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子INがHレベルの場合について説明する。入力端子INはHレベルになると、トランジスタ581がオフする。出力端子OUTはトランジスタ582を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VSSとトランジスタ582のしきい値電位Vth582の絶対値との和となる値(VSS+|Vth582|)になり、出力端子OUTがLレベルになる。
First, the case where the input terminal IN is at H level will be described. When the input terminal IN becomes H level, the
次に、入力端子INがLレベルの場合について説明する。入力端子INはLレベルになると、トランジスタ581がオンする。出力端子OUTはトランジスタ581を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ582を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ581とトランジスタ582との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Next, the case where the input terminal IN is at the L level will be described. When the input terminal IN becomes L level, the
なお、トランジスタ582は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図62のインバータ回路620のように、トランジスタ582の代わりに抵抗素子621を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ581、及びトランジスタ582が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ581は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、トランジスタ581は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ582は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図59に、インバータ回路211の別の一形態を示す。図59のインバータ回路590はトランジスタ591、トランジスタ592、トランジスタ593、及び2つの電極を持つ容量素子594を有している。なお、容量素子594は必ずしも必要ではない。
FIG. 59 shows another mode of the
図59のインバータ回路590に示すように、トランジスタ591の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ592の第2端子、容量素子594の第2電極、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子INに接続されている。トランジスタ592の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ593の第2端子、及び容量素子594の第1電極に接続されている。トランジスタ593の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN、及び出力端子OUTは図58と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ591〜トランジスタ593は、それぞれPチャネル型である。
In addition, the
図59のインバータ回路590の動作について、入力端子INがHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子INがHレベルの場合について説明する。入力端子INはHレベルになると、トランジスタ591がオフする。トランジスタ592のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ593のしきい値電位Vth593の絶対値との和となる値(VSS+|Vth593|)になっており、トランジスタ592がオンしている。また、トランジスタ592のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN is at H level will be described. When the input terminal IN becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ592を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。トランジスタ592のゲート端子の電位は容量素子594の容量結合によって、電源電位VSSからトランジスタ592のしきい値電位Vth592の絶対値|Vth592|を引いた値(VSS−|Vth592|)以下まで下がり、トランジスタ592がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVSSになり、出力端子OUTがLレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is brought into conduction with the first power supply through the
次に、入力端子INがLレベルの場合について説明する。入力端子INはLレベルになると、トランジスタ591がオンする。トランジスタ592のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ593のしきい値電位の絶対値|Vth593|との和となる値(VSS+|Vth593|)になっており、トランジスタ592がオンしている。また、トランジスタ592のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN is at L level will be described. When the input terminal IN becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ591を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ592を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ591とトランジスタ592との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply via the
このように、図59のインバータ回路590では、ブートストラップ動作によって、Lレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VSSまで下げることができる。
As described above, in the
なお、図59のインバータ回路590は、入力端子INがHレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図59の回路構成に限定されない。入力端子INがLレベルのときは、トランジスタ592のゲート端子に電位を供給していてもよい。
Note that the
例えば、図63のインバータ回路630のように、トランジスタ631を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがHレベルのときに、出力端子OUTの電位をVDDにできるからである。つまり、入力端子INがLレベルのときに、トランジスタ631がオンするため、トランジスタ592のゲート端子がHレベルになる。そして、トランジスタ592はオフして、出力端子OUTはトランジスタ591を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ631は、Pチャネル型である。
Note that the
別の例として、図66のインバータ回路660のように、トランジスタ593の第1端子が入力端子INbに接続されていてもよい。なぜなら、出力端子OUTがHレベルのときに、出力端子OUTの電位をVDDにできるからである。つまり、入力端子INがLレベルのときに、入力端子INbがHレベルになるため、トランジスタ592のゲート端子がHレベルになる。そして、トランジスタ592はオフして、出力端子OUTはトランジスタ591を介して第2の電源のみと導通するからである。
As another example, the first terminal of the
なお、入力端子INbは入力端子INの信号の反転信号が供給されている。また、図36の入力端子INbと同様なものを用いることができる。 Note that an inverted signal of the signal of the input terminal IN is supplied to the input terminal INb. Further, the same one as the input terminal INb in FIG. 36 can be used.
例えば、図125に示すように、入力端子INbには、入力端子INの信号をインバータ回路1251を介して供給していてもよい。また、インバータ回路1251は、図58〜図65で説明したインバータ回路を適用することができる。
For example, as shown in FIG. 125, the signal of the input terminal IN may be supplied to the input terminal INb via an
また、図36では、入力端子INbに制御信号を供給することで、インバータ回路360がトライステートバッファ回路としても機能することを示した。ここで、図66のインバータ回路660も同様に、入力端子INbに制御信号を供給することで、トライステートバッファ回路としても機能することができる。つまり、入力端子INがHレベル、入力端子INbがHレベルになれば、トランジスタ591、及びトランジスタ592がオフすため、出力端子OUTはどの電源とも接続されないため、インバータ回路660はトライステートバッファ回路として機能することができる。
FIG. 36 shows that the
以下に、再び、図59の応用例について説明する。 Hereinafter, the application example of FIG. 59 will be described again.
別の例として、図69のインバータ回路690のように、トランジスタ593の第1端子、及びゲート端子が入力端子INbに接続され、トランジスタ631を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがHレベルのときに、出力端子OUTの電位をVDDにできるからである。つまり、入力端子INbがHレベルのときに、トランジスタ592のゲート端子がHレベルになる。そして、トランジスタ592はオフして、出力端子OUTはトランジスタ591を介して第2の電源のみと導通するからである。
As another example, as in the
なお、容量素子594は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図60のインバータ回路600、図64のインバータ回路640、図67のインバータ回路670、及び図70のインバータ回路700のように、容量素子594の代わりにそれぞれトランジスタ601、トランジスタ641、トランジスタ671、トランジスタ701を接続してもよい。
Note that a variety of capacitors can be used as the
なお、容量素子594は、トランジスタ592の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図61のインバータ回路610、図65のインバータ回路650、図68のインバータ回路680、及び図71のインバータ回路710のように、容量素子594を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ591〜トランジスタ593、トランジスタ601、トランジスタ631、トランジスタ641、及び容量素子594が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ591は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、トランジスタ591は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ592は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ593は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ593は、トランジスタ592のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ601は、出力端子OUTと、トランジスタ592のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子INがHレベルのときに、トランジスタ601はトランジスタ592のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
トランジスタ631は、入力端子INの電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ592のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、トランジスタ631はトランジスタ592のゲート端子に電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ641は、出力端子OUTと、トランジスタ592のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子INがLレベルのときに、容量素子594は出力端子OUTの電位の上昇によって、トランジスタ592のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
容量素子594は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ592のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子INがHレベルのときに、容量素子594は出力端子OUTの電位の上昇によって、トランジスタ592のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
このように、図58〜図71のインバータ回路はLレベルの信号を出力するときに、電源電位VSSを変化することによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図58〜図71のインバータ回路は、インバータ回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 As described above, the inverter circuits in FIGS. 58 to 71 can freely change the potential of the output terminal OUT by changing the power supply potential VSS when outputting the L level signal. That is, the inverter circuits of FIGS. 58 to 71 can operate not only as an inverter circuit but also as a level shift circuit.
ここで、NAND回路221に適用可能な構成例についていくつか説明する。
Here, some configuration examples applicable to the
図42に、NAND回路221の一形態を示す。図42のNAND回路420はトランジスタ421、トランジスタ422、及びトランジスタ423を有している。
FIG. 42 illustrates one mode of the
図42のNAND回路420に示すように、トランジスタ421の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ422の第1端子に接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ422の第2端子がトランジスタ423の第1端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ423の第2端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源には、電源電位VDDが供給され、第2の電源には電源電位VSSが供給されている。第1の電源の電源電位VDDと第2の電源の電源電位VSSとの電位差(VDD−VSS)が、NAND回路420の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
Note that the power supply potential VDD is supplied to the first power supply, and the power supply potential VSS is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VDD of the first power supply and the power supply potential VSS of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the
なお、入力端子IN1、及び入力端子IN2には、それぞれデジタルの制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 A digital control signal is supplied to each of the input terminal IN1 and the input terminal IN2. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ421〜トランジスタ423は、それぞれNチャネル型である。
In addition, each of the
図42のNAND回路420の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ421がオンする。入力端子IN2がHレベルになるとトランジスタ422がオンする。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 is at H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ421とトランジスタ422を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ423を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ421とトランジスタ422とトランジスタ423との動作点によって決定され、出力端子OUTはLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ421がオンする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ422がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 is at H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ423を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VDDからトランジスタ423のしきい値電位Vth423を引いた値(VDD−Vth423)になり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ421がオフする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ422がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ423を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VDDからトランジスタ423のしきい値電位Vth423を引いた値(VDD−Vth423)になり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ421がオフする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ422がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ423を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VDDからトランジスタ423のしきい値電位Vth423を引いた値(VDD−Vth423)になり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
なお、トランジスタ423は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図46のNAND回路460のように、トランジスタ423の代わりに抵抗素子461を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ421〜トランジスタ423が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ421は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ422の第1端子とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ422は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ421の第2端子と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ423は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図43に、NAND回路221の一形態を示す。図43のNAND回路430はトランジスタ431、トランジスタ432、トランジスタ433、トランジスタ434、及び容量素子435を有している。
FIG. 43 illustrates one mode of the
図43のNAND回路430に示すように、トランジスタ431の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ432の第1端子に接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ432の第2端子がトランジスタ433の第2端子、容量素子435の第2電極、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ433の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ434の第2端子、容量素子435の第1電極に接続されている。トランジスタ434の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN1、入力端子IN2、及び出力端子OUTは図42と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN1, the input terminal IN2, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ431〜トランジスタ434は、それぞれNチャネル型である。
In addition, the
図43のNAND回路430の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子INがHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ431がオンする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ432がオンする。トランジスタ433のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ434のしきい値電位Vth434を引いた値(VDD−Vth434)になっており、トランジスタ433がオンしている。
First, the case where the input terminal IN is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ431とトランジスタ432を介して第2の電源と導通、トランジスタ433を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ431とトランジスタ432とトランジスタ433との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply via the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ431がオンする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ432がオフする。トランジスタ433のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ434のしきい値電位Vth434を引いた値(VDD−Vth434)になっており、トランジスタ433がオンしている。また、トランジスタ433のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ433を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。トランジスタ433のゲート端子の電位は容量素子435の容量結合によって、電源電位VDDとトランジスタ433のしきい値電位Vth433との和以上の値まで上昇し、トランジスタ433がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVDDになり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ431がオフする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ432がオンする。トランジスタ433のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ434のしきい値電位Vth434を引いた値(VDD−Vth434)になっており、トランジスタ433がオンしている。また、トランジスタ433のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ433を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。トランジスタ433のゲート端子の電位は容量素子435の容量結合によって、電源位VDDとトランジスタ433のしきい値電位Vth433との和以上の値まで上昇し、トランジスタ433がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVDDになり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ431がオフする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ432がオフする。トランジスタ433のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ434のしきい値電位Vth434を引いた値(VDD−Vth434)になっており、トランジスタ433がオンしている。また、トランジスタ433のゲート端子はフローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ433を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。トランジスタ433のゲート端子の電位は容量素子435の容量結合によって、電源位VDDとトランジスタ433のしきい値電位Vth433との和以上の値まで上昇し、トランジスタ433がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVDDになり、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
このように、図43のNAND回路430では、ブートストラップ動作によって、Hレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VDDまで上昇することができる。
As described above, in the
なお、図43のNAND回路430は、入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図43の回路構成に限定されない。入力端子IN1、及び入力端子IN2がHレベルのときは、トランジスタ433のゲート端子に電位を供給してもよい。
Note that the
例えば、図47のNAND回路470のように、トランジスタ471、及びトランジスタ472を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがLレベルのときに、出力端子OUTの電位をVSSにできるからである。つまり、入力端子IN1、及び入力端子IN2がHレベルのときに、トランジスタ471、及びトランジスタ472がオンするため、トランジスタ433のゲート端子がLレベルになる。そして、トランジスタ433はオフして、出力端子OUTはトランジスタ431、及びトランジスタ432を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ471、及びトランジスタ472は、それぞれNチャネル型である。
Note that each of the
なお、容量素子435は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図44のNAND回路440、及び図48のNAND回路480のように、容量素子435の代わりにそれぞれトランジスタ441、トランジスタ481を接続してもよい。
Note that a variety of capacitors can be used as the
なお、容量素子435は、トランジスタ433の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図45のNAND回路450、及び図49のNAND回路490のように、容量素子435を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ431〜トランジスタ434、トランジスタ441、トランジスタ471、トランジスタ472、トランジスタ481、容量素子435が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ431は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ432の第1端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ432は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ432の第2端子と、出力端子OUTとを接続するかしないを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ433は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ434は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ434は、トランジスタ433のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ441は、出力端子OUTと、トランジスタ433のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ441はトランジスタ433のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
トランジスタ471は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ472の第1端子と接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ472は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ471の第1端子と、トランジスタ433のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ481は、出力端子OUTと、トランジスタ433のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ441はトランジスタ433のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
容量素子435は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ433のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときに、容量素子435はトランジスタ433のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
このように、図42〜図49のNAND回路はHレベルの信号を出力するときに、電源電位VDDを変化することによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図42〜図49のNAND回路は、NAND回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 As described above, the NAND circuits in FIGS. 42 to 49 can freely change the potential of the output terminal OUT by changing the power supply potential VDD when outputting an H level signal. That is, the NAND circuits in FIGS. 42 to 49 can operate not only as NAND circuits but also as level shift circuits.
図42〜図49のNAND回路では、すべてNチャネル型のトランジスタで構成されている場合について説明したが、すべてPチャネル型のトランジスタで構成されていてもよい。ここで、すべてPチャネル型のトランジスタで構成された場合のNAND回路を図80〜図87に示す。 In the NAND circuits of FIGS. 42 to 49, the case where all of the NAND circuits are configured by N-channel type transistors has been described. However, all of the NAND circuits may be configured by P-channel type transistors. Here, FIGS. 80 to 87 show NAND circuits in the case where they are all formed of P-channel transistors.
図80に、NAND回路221の別の一形態を示す。図80のNAND回路800はトランジスタ801、トランジスタ802、及びトランジスタ803を有している。
FIG. 80 shows another mode of the
図80のNAND回路800に示すように、トランジスタ801の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ802の第2端子、トランジスタ803の第2端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ802の第1端子が第2の電源に接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ803の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源には、電源電位VSSが供給され、第2の電源には電源電位VDDが供給されている。第1の電源の電源電位VSSと第2の電源の電源電位VDDとの電位差(VDD−VSS)が、NAND回路800の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
Note that the power supply potential VSS is supplied to the first power supply, and the power supply potential VDD is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VSS of the first power supply and the power supply potential VDD of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the
なお、入力端子IN1、及び入力端子IN2には、それぞれデジタルの制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 A digital control signal is supplied to each of the input terminal IN1 and the input terminal IN2. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ801〜トランジスタ803は、それぞれPチャネル型である。
The
図80のNAND回路800の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ801がオフする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ802がオフする。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 is at an H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ803を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VSSとトランジスタ803のしきい値電位Vth803の絶対値との和となる値(VSS+|Vth803|)になり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ801がオフする。入力端子IN2がLレベルになるとトランジスタ802がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 is at an H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ802を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ803を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ802とトランジスタ803との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ801がオンする。入力端子IN2がHレベルになるとトランジスタ802がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ801を介して第2の電源と導通、及びトランジスタ803を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ801とトランジスタ803との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ801がオンする。入力端子IN2がLレベルになるとトランジスタ802がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ801を介して第2の電源と導通、トランジスタ802を介して第2の電源、及びトランジスタ803を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ801とトランジスタ802とトランジスタ803との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
なお、トランジスタ803は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図84のNAND回路840のように、トランジスタ803の代わりに抵抗素子841を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ801〜トランジスタ803が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ801は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN1がLレベルのときに、トランジスタ801は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ802は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ802は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ803は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図81に、NAND回路221の別の一形態を示す。図81のNAND回路810はトランジスタ811、トランジスタ812、トランジスタ813、トランジスタ814、及び容量素子815を有している。
FIG. 81 shows another mode of the
図81のNAND回路810に示すように、トランジスタ811の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ812の第2端子、トランジスタ813の第2端子、容量素子815の第1電極に接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ812の第1端子が第2の電源に接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ813の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ814の第2端子、及び容量素子815の第2電極に接続されている。トランジスタ814の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN1、入力端子IN2、及び出力端子OUTは図80と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN1, the input terminal IN2, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ811〜トランジスタ814は、それぞれPチャネル型である。
The
図81のNAND回路810の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ811がオフする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ812がオフする。トランジスタ813のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ814のしきい値電位Vth814の絶対値との和となる値(VSS+|Vth814|)になっており、トランジスタ813がオンしている。また、トランジスタ813のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ813を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。トランジスタ813のゲート端子の電位は容量素子815の容量結合によって、電源位VSSからトランジスタ813のしきい値電位Vth813の絶対値を引いた値(VSS−|Vth813|)以下まで下がり、トランジスタ813がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVSSになり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子INがHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ811がオフする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ812がオンする。トランジスタ813のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ814のしきい値電位Vth814の絶対値との和となる値(Vss+|Vth814|)になっており、トランジスタ813がオンしている。また、トランジスタ813のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ812を介して第2の電源と導通、トランジスタ813を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ812とトランジスタ813との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子INがLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ811がオンする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ812がオフする。トランジスタ813のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ814のしきい値電位Vth814の絶対値との和となる値(Vss+|Vth814|)になっており、トランジスタ813がオンしている。また、トランジスタ813のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ811を介して第2の電源と導通、トランジスタ813を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ811とトランジスタ813との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply via the
次に、入力端子INがLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ811がオンする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ812がオンする。トランジスタ813のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ814のしきい値電位Vth814の絶対値との和となる値(Vss+|Vth814|)になっており、トランジスタ813がオンしている。また、トランジスタ813のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ811を介して第2の電源と導通、トランジスタ812を介して第2の電源と導通、トランジスタ813を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ811とトランジスタ812とトランジスタ813との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply via the
このように、図81のNAND回路810では、ブートストラップ動作によって、Lレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VSSまで下げることができる。
In this manner, in the
なお、図81のNAND回路810は、入力端子IN1、及び入力端子IN2がHレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図81の回路構成に限定されない。入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときは、トランジスタ813のゲート端子に電位を供給してもよい。
Note that the
例えば、図85のNAND回路850のように、トランジスタ851、及びトランジスタ852を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがHレベルのときに、出力端子OUTの電位をVDDにできるからである。つまり、入力端子IN1、又は入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ851、又はトランジスタ852がオンするため、トランジスタ813のゲート端子がHレベルになる。そして、トランジスタ813はオフして、出力端子OUTはトランジスタ811、又はトランジスタ812を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ851、及びトランジスタ852は、それぞれPチャネル型である。
Note that each of the
なお、容量素子815は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図82のNAND回路820、及び図86のNAND回路860のように、容量素子815の代わりにそれぞれトランジスタ821、トランジスタ861を接続してもよい。
Note that a variety of elements can be used for the
なお、容量素子815は、トランジスタ813の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図83のNAND回路830、及び図87のNAND回路870のように、容量素子815を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ811〜トランジスタ814、トランジスタ821、トランジスタ851、トランジスタ452、トランジスタ861、容量素子815が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ811は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。入力端子IN1がLレベルのときに、トランジスタ811は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ812は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチそしての機能を有する。入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ812は出力端子OUTに電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ813は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ814は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ814は、トランジスタ813のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ821は、出力端子OUTと、トランジスタ813のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、及び入力端子IN2がHレベルのときに、トランジスタ821はトランジスタ813のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
トランジスタ851は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ813のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN1がLレベルのときに、トランジスタ851はトランジスタ813のゲート端子に電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ852は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ813のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ852はトランジスタ813のゲート端子に電源電位VDDを供給する機能を有する。
The
トランジスタ861は、出力端子OUTと、トランジスタ813のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、及び入力端子IN2がHレベルのときに、トランジスタ861はトランジスタ813のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
容量素子815は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ813のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2がHレベルのときに、容量素子815はトランジスタ813のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
このように、図81〜図87のNAND回路はLレベルの信号を出力するときに、電源電位VSSを変化することによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図81〜図87のNAND回路は、NAND回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 As described above, the NAND circuits in FIGS. 81 to 87 can freely change the potential of the output terminal OUT by changing the power supply potential VSS when outputting the L level signal. That is, the NAND circuits in FIGS. 81 to 87 can operate not only as a NAND circuit but also as a level shift circuit.
ここで、NOR回路231に適応可能な構成例についていくつか説明する。
Here, some configuration examples applicable to the NOR
図50に、NOR回路231の一形態を示す。図50のNOR回路500は、トランジスタ501、トランジスタ502、及びトランジスタ503を有している。
FIG. 50 shows one form of the NOR
図50のNOR回路500に示すように、トランジスタ501の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ502の第2端子、トランジスタ503の第2端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ502の第1端子が第2の電源に接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ503の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the NOR circuit 500 of FIG. 50, the first terminal of the
なお、第1の電源には、電源電位VDDが供給され、第2の電源には電源電位VSSが供給されている。第1の電源の電源電位VDDと第2の電源の電源電位VSSとの電位差(VDD−VSS)が、NOR回路500の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。 Note that the power supply potential VDD is supplied to the first power supply, and the power supply potential VSS is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VDD of the first power supply and the power supply potential VSS of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the NOR circuit 500. The power supply potential VDD is higher than the power supply potential VSS.
なお、入力端子IN1、及び入力端子IN2には、それぞれデジタルの制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 A digital control signal is supplied to each of the input terminal IN1 and the input terminal IN2. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ501〜トランジスタ503は、それぞれNチャネル型である。
In addition, each of the
図50のNOR回路500の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。 The operation of the NOR circuit 500 in FIG. 50 will be described for each of the case where the input terminal IN1 is at the H level, the case where the input terminal IN2 is at the H level, and the case where the input terminal IN2 is at the H level.
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ501がオンする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ502がオンする。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ501を介して第2の電源、トランジスタ502を介して第2の電源、及びトランジスタ503を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ501とトランジスタ502とトランジスタ503との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ501がオンする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ502がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ501を介して第2の電源、及びトランジスタ503を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ501とトランジスタ503との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ501がオフする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ502がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ502を介して第2の電源、及びトランジスタ503を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ502とトランジスタ503との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ501がオフする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ502がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ503を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VDDからトランジスタ503のしきい値電位Vth503を引いた値(VDD−Vth503)になり、出力端子OUTがHレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
なお、トランジスタ503は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図54のNOR回路540のように、トランジスタ503の代わりに抵抗素子541を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ501〜トランジスタ503が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ501は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ502は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ503は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図51に、NOR回路231の別の一形態を示す。図51のNOR回路510は、トランジスタ511、トランジスタ512、トランジスタ513、トランジスタ514、及び2つの電極を持つ容量素子515を有している。
FIG. 51 shows another form of the NOR
図51のNOR回路510に示すように、トランジスタ511の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ512の第2端子、トランジスタ513の第2端子、容量素子515の第2電極、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ512の第1端子が第2の電源に接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ513の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ514の第2端子、及び容量素子515の第1電極に接続されている。トランジスタ514の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the NOR
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN1、入力端子IN2、及び出力端子OUTは図50と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN1, the input terminal IN2, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ511〜トランジスタ514は、それぞれNチャネル型である。
In addition, the
図51のNOR回路510の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合とについて、それぞれ説明する。
The operation of the NOR
まず、入力端子INがHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ511がオンする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ512がオンする。トランジスタ513のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ514のしきい値電位Vth514を引いた値(VDD−Vth514)になっており、トランジスタ513がオンしている。また、トランジスタ513のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ511を介して第2の電源、トランジスタ512を介して第2の電源、及びトランジスタ513を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ511とトランジスタ512とトランジスタ513との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ511がオンする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ512がオフする。トランジスタ513のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ514のしきい値電位Vth514を引いた値(VDD−Vth514)になっており、トランジスタ513がオンしている。また、トランジスタ513のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ511を介して第2の電源、及びトランジスタ513を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ511とトランジスタ512とトランジスタ513との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
まず、入力端子INがLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ511がオフする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ512がオンする。トランジスタ513のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ514のしきい値電位Vth514を引いた値(VDD−Vth514)になっており、トランジスタ513がオンしている。また、トランジスタ513のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ512を介して第2の電源、及びトランジスタ513を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ511とトランジスタ512とトランジスタ513との動作点によって決定され、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
まず、入力端子INがLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ511がオフする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ512がオフする。トランジスタ513のゲート端子の電位は電源電位VDDからトランジスタ514のしきい値電位Vth514を引いた値(VDD−Vth514)になっており、トランジスタ513がオンしている。また、トランジスタ513のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ513を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。トランジスタ513のゲート端子の電位は容量素子515の容量結合によって、電源電位VDDとトランジスタ513のしきい値電位Vth513との和以上の値まで上昇し、トランジスタ513がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVDDになり、出力端子OUTがHレベルになる。
Accordingly, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
このように、図51のNOR回路510では、ブートストラップ動作によって、Hレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VDDまで上昇することができる。
Thus, in the NOR
なお、図51のNOR回路510は、入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図51の回路構成に限定されない。入力端子IN1、又は入力端子IN2がHレベルのときは、トランジスタ513のゲート端子に電位を供給してもよい。
Note that the NOR
例えば、図55のNOR回路550のように、トランジスタ551、及びトランジスタ552を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがLレベルのときに、出力端子OUTの電位をVSSにできるからである。つまり、入力端子IN1、又は入力端子IN2の一方または両方がHレベルのときに、トランジスタ551、トランジスタ552がオンするため、トランジスタ513のゲート端子がLレベルになる。そして、トランジスタ513はオフして、出力端子OUTはトランジスタ511、又はトランジスタ512を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ551、及びトランジスタ552は、それぞれNチャネル型である。
Note that each of the
なお、容量素子515は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図52のNOR回路520、及び図56のNOR回路560のように、容量素子515の代わりにそれぞれ、トランジスタ521、トランジスタ561を接続してもよい。
Note that a variety of capacitors can be used as the
なお、容量素子515は、トランジスタ513の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図53のNOR回路530、及び図57のNOR回路570のように、容量素子515を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ511〜トランジスタ514、トランジスタ521、トランジスタ551、トランジスタ552、トランジスタ561、容量素子515が有する機能をそれぞれ以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ511は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN1がHレベルのときに出力端子OUTに電源電位VSSを供給する。
The
トランジスタ512は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。入力端子IN2がHレベルのときの出力端子OUTに電源電位VSSを供給する。
The
トランジスタ513は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ514は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ514は、トランジスタ513のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ521は、出力端子OUTと、トランジスタ513のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ521はトランジスタ513のゲート端子の電位を上昇させる能を有する。
The
トランジスタ551は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ513のゲート端子とを接続すかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN1がHレベルのときに、トランジスタ551はトランジスタ513のゲート端子に電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ552は、入力端子IN2の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ513のゲート端子とを接続すかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。入力端子IN2がHレベルのときに、トランジスタ552はトランジスタ513のゲート端子に電源電位VSSを供給する機能を有する。
The
トランジスタ561は、出力端子OUTと、トランジスタ513のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ561はトランジスタ513のゲート端子の電位を上昇させる能を有する。
The
容量素子515は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ513のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときに、容量素子515はトランジスタ513のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
このように、図50〜図57のNOR回路はHレベルの信号を出力するときに、電源電位VDDを変化させることによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図50〜図57NOR回路は、インバータ回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 50 to 57 can freely change the potential of the output terminal OUT by changing the power supply potential VDD when outputting an H level signal. That is, the NOR circuits in FIGS. 50 to 57 can operate not only as inverter circuits but also as level shift circuits.
図50〜図57のNOR回路では、すべてNチャネル型のトランジスタで構成されている場合について説明したが、すべてPチャネル型のトランジスタで構成されていてもよい。ここで、すべてPチャネル型のトランジスタで構成された場合のインバータ回路を図72〜図79に示す。 In the NOR circuits of FIGS. 50 to 57, all the N-channel transistors have been described. However, the NOR circuits may be all P-channel transistors. Here, FIG. 72 to FIG. 79 show inverter circuits in the case where they are all constituted by P-channel transistors.
図72に、NOR回路231の別の一形態を示す。図72のNOR回路720は、トランジスタ721、トランジスタ722、及びトランジスタ723を有している。
FIG. 72 shows another form of the NOR
図72のNOR回路720に示すように、トランジスタ721の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ722の第1端子に接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ722の第2端子がトランジスタ723の第2端子、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ723の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the NOR
なお、第1の電源には、電源電位VSSが供給され、第2の電源には電源電位VDDが供給されている。第1の電源の電源電位VSSと第2の電源の電源電位VDDとの電位差(VDD−VSS)が、NOR回路720の電源電圧に相当する。また、電源電位VDDは、電源電位VSSよりも高い電位である。
Note that the power supply potential VSS is supplied to the first power supply, and the power supply potential VDD is supplied to the second power supply. A potential difference (VDD−VSS) between the power supply potential VSS of the first power supply and the power supply potential VDD of the second power supply corresponds to the power supply voltage of the NOR
なお、入力端子IN1、及び入力端子IN2には、それぞれ制御信号が供給されている。また、出力端子OUTは、出力信号を出力している。 A control signal is supplied to each of the input terminal IN1 and the input terminal IN2. The output terminal OUT outputs an output signal.
また、トランジスタ721〜トランジスタ723は、それぞれPチャネル型である。
In addition, each of the
図72のNOR回路720の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the NOR
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ721がオフする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ722がオフする。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 is at an H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ723を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VSSとトランジスタ723のしきい値電位Vth723の絶対値との和となる値(VSS+|Vth723|)になり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がHレベルになると、トランジスタ721がオフする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ722がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 is at an H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ723を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VSSとトランジスタ723のしきい値電位Vth723の絶対値との和となる値(VSS+|Vth723|)になり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ721がオンする。入力端子IN2がHレベルになると、トランジスタ722がオフする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ723を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。このときの出力端子OUTの電位は電源電位VSSとトランジスタ723のしきい値電位Vth723の絶対値との和となる値(VSS+|Vth723|)になり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1がLレベルになると、トランジスタ721がオンする。入力端子IN2がLレベルになると、トランジスタ722がオンする。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ721、及びトランジスタ722を介して第2の電源、及びトランジスタ723を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ721とトランジスタ722とトランジスタ723との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Thus, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
なお、トランジスタ723は整流性を有している必要はなく、電流が流れると電圧が発生する素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図76のNOR回路760のように、トランジスタ723の代わりに抵抗素子761を接続してもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ721〜トランジスタ723が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ721は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ722の第2端子とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ722は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ721の第2端子と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ723は、ダイオードとしての機能を有する。
The
図73に、NOR回路231の別の一例を示す。図73のNOR回路730はトランジスタ731、トランジスタ732、トランジスタ733、トランジスタ734、及び2つの電極を持つ容量素子735を有している。
FIG. 73 shows another example of the NOR
図73のNOR回路730に示すように、トランジスタ731の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ732の第1端子に接続され、ゲート端子が入力端子IN1に接続されている。トランジスタ732の第2端子がトランジスタ733の第2端子、容量素子735の第2電極、及び出力端子OUTに接続され、ゲート端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ733の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子がトランジスタ734の第2端子に接続され、容量素子735の第1電極に接続されている。トランジスタ734の第1端子が第1の電源に接続され、ゲート端子が第1の電源に接続されている。
As shown in the NOR
なお、第1の電源、第2の電源、入力端子IN1、入力端子IN2、及び出力端子OUTは図72と同様なものを用いることができる。 Note that the first power source, the second power source, the input terminal IN1, the input terminal IN2, and the output terminal OUT can be the same as those in FIG.
また、トランジスタ731〜トランジスタ734は、それぞれPチャネル型である。
The
図73のNOR回路730の動作について、入力端子IN1がHレベルの場合と、Lレベルの場合と、入力端子IN2がHレベルの場合と、Lレベルの場合とについて、それぞれ説明する。
The operation of the NOR
まず、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ731がオフする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ732がオフする。トランジスタ733のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ734のしきい値電位Vth734の絶対値との和た値(VSS+|Vth734|)になっており、トランジスタ733がオンしている。また、トランジスタ733のゲート端子は、フローティング状態になっている。
First, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ733を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。トランジスタ733のゲート端子の電位は容量素子735の容量結合によって、電源電位VSSからトランジスタ733のしきい値電位Vth733の絶対値を引いた値(VSS−|Vth733|)以下まで下がり、トランジスタ733がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVSSになり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がHレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はHレベルになると、トランジスタ731がオフする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ732がオンする。トランジスタ733のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ734のしきい値電位Vth734の絶対値との和となる値(VSS+|Vth734|)になっており、トランジスタ733がオンしている。また、トランジスタ733のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the H level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes H level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ733を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。トランジスタ733のゲート端子の電位は容量素子735の容量結合によって、電源電位VSSからトランジスタ733のしきい値電位Vth733の絶対値を引いた値(VSS−|Vth733|)以下まで下がり、トランジスタ733がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVSSになり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がHレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ731がオンする。入力端子IN2はHレベルになると、トランジスタ732がオフする。トランジスタ733のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ734のしきい値電位Vth734の絶対値との和となる値(VSS+|Vth734|)になっており、トランジスタ733がオンしている。また、トランジスタ733のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the H level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ733を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が下がる。トランジスタ733のゲート端子の電位は容量素子735の容量結合によって、電源電位VSSからトランジスタ733のしきい値電位Vth733の絶対値を引いた値(VSS−|Vth733|)以下まで下がり、トランジスタ733がオンし続ける。いわゆるブートストラップ動作が行われる。このときの出力端子OUTの電位はVSSになり、出力端子OUTがLレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the first power supply through the
次に、入力端子IN1がLレベル、入力端子IN2がLレベルの場合について説明する。入力端子IN1はLレベルになると、トランジスタ731がオンする。入力端子IN2はLレベルになると、トランジスタ732がオンする。トランジスタ733のゲート端子の電位は電源電位VSSとトランジスタ734のしきい値電位Vth734の絶対値との和となる値(VSS+|Vth734|)になっており、トランジスタ733がオンしている。また、トランジスタ733のゲート端子は、フローティング状態になっている。
Next, the case where the input terminal IN1 is at the L level and the input terminal IN2 is at the L level will be described. When the input terminal IN1 becomes L level, the
よって、出力端子OUTはトランジスタ731、及びトランジスタ732を介して第2の電源、並びにトランジスタ733を介して第1の電源と導通し、出力端子OUTの電位が上昇する。このときの出力端子OUTの電位はトランジスタ731とトランジスタ732とトランジスタ733との動作点によって決定され、出力端子OUTがHレベルになる。
Therefore, the output terminal OUT is electrically connected to the second power supply through the
このように、図73のNOR回路730では、ブートストラップ動作によって、Lレベルの出力端子OUTの電位を第1の電源の電源電位VSSまで下げることができる。
In this manner, in the NOR
なお、図73のNOR回路730は、入力端子IN1、又は入力端子IN2がHレベルのときに、ブートストラップ動作を行うことができれば、図73の回路構成に限定されない。入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときは、トランジスタ733のゲート端子に電位を供給してもよい。
Note that the NOR
例えば、図77のNOR回路770のように、トランジスタ771、及びトランジスタ772を追加してもよい。なぜなら、出力端子OUTがHレベルのときに、出力端子OUTの電位をVDDにできるからである。つまり、入力端子IN1、及び入力端子IN2がLレベルのときに、トランジスタ771、又はトランジスタ772がオンするため、トランジスタ733のゲート端子がHレベルになる。そして、トランジスタ733はオフして、出力端子OUTはトランジスタ731、及びトランジスタ732を介して第2の電源のみと導通するからである。
For example, a
なお、トランジスタ771、及びトランジスタ772は、それぞれPチャネル型である。
Note that each of the
なお、容量素子735は、容量性を持つ素子であれば様々なものを用いることができる。例えば、図74のNOR回路740、及び図78のNAND回路780のように、容量素子735の代わりにそれぞれトランジスタ741、トランジスタ781を接続してもよい。
Note that a variety of capacitors can be used as the
なお、容量素子735は、トランジスタ733の第2端子とゲート端子との間の容量値が十分大きければ、必ずしも必要ではない。例えば、図75のNOR回路750、及び図79のNOR回路790のように、容量素子735を接続しなくてもよい。
Note that the
ここで、トランジスタ731〜トランジスタ734、トランジスタ741、トランジスタ771、トランジスタ772、トランジスタ781、容量素子735が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ731は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ732の第1端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ732は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ731の第2端子と、出力端子OUTとを選択するスイッチそしての機能を有する。
The
トランジスタ733は、第1の電源と、出力端子OUTとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。
The
トランジスタ734は、ダイオードとしての機能を有する。また、トランジスタ734は、トランジスタ733のゲート端子をフローティング状態にする機能を有する。
The
トランジスタ741は、出力端子OUTと、トランジスタ733のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2の一方または両方がHレベルのときに、トランジスタ741はトランジスタ733のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
トランジスタ771は、入力端子IN1の電位に応じて、第2の電源と、トランジスタ772の第1端子と接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ772は、入力端子IN2の電位に応じて、トランジスタ771の第1端子と、トランジスタ733のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
トランジスタ781は、出力端子OUTと、トランジスタ733のゲート端子との間に接続された容量素子としての機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2の一方または両方がHレベルのときに、トランジスタ781はトランジスタ733のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
容量素子735は、出力端子OUTの電位に応じて、トランジスタ733のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。入力端子IN1、又は入力端子IN2の一方または両方がHレベルのときに、容量素子735はトランジスタ733のゲート端子の電位を下げる機能を有する。
The
このように、図73〜図78のNOR回路はLレベルの信号を出力するときに、電源電位VSSを変化することによって、出力端子OUTの電位を自由に変えることができる。つまり、図73〜図78のNOR回路は、NAND回路として動作するだけでなく、レベルシフト回路としても動作することができる。 As described above, when the NOR circuits in FIGS. 73 to 78 output an L level signal, the potential of the output terminal OUT can be freely changed by changing the power supply potential VSS. That is, the NOR circuits in FIGS. 73 to 78 can operate not only as a NAND circuit but also as a level shift circuit.
また、インバータ回路211、NAND回路221、及びNOR回路231として、図28〜図87の回路構成を用いることによって、シフトレジスタ回路200を動作させるためのマージンが大きくなる。なぜなら、上記のインバータ回路211、NAND回路221、及びNOR回路231では、1つのトランジスタのゲート端子が出力端子SRoutに接続されていることを特徴としているからである。よって、出力端子SRoutの負荷容量は小さくなるため、シフトレジスタ回路200を動作させるためのマージンを大きくできる。
Further, by using the circuit configurations of FIGS. 28 to 87 as the
また、図28〜図87に示したインバータ回路、NAND回路、及びNOR回路では、それぞれ同一の極性のトランジスタで構成されている。よって、これらのトランジスタの極性が同一基板上の他のトランジスタの極性と同じであれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。 In addition, the inverter circuit, NAND circuit, and NOR circuit shown in FIGS. 28 to 87 are configured by transistors having the same polarity. Therefore, if the polarity of these transistors is the same as that of other transistors on the same substrate, the manufacturing process can be simplified. Therefore, the manufacturing cost can be reduced and the yield can be improved.
なお、図28〜図87に示した第1の電源、及び第2の電源には、電源電位VDD、又は電源電位VSSが供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。 Note that the power supply potential VDD or the power supply potential VSS is supplied to the first power supply and the second power supply illustrated in FIGS. 28 to 87; however, the present invention is not necessarily limited thereto.
例えば、図28〜図87の第1の電源、及び第2の電源には、それぞれ別の電位が供給されていてもよい。 For example, different potentials may be supplied to the first power source and the second power source in FIGS.
別の例として、図28〜図87の第1の電源、及び第2の電源には、制御信号が供給されていてもよい。 As another example, a control signal may be supplied to the first power supply and the second power supply in FIGS.
なお、図28〜図87の入力端子には、それぞれ制御信号が供給されているが、本発明は必ずしもこれに限定しない。 Although the control signals are supplied to the input terminals in FIGS. 28 to 87, the present invention is not necessarily limited to this.
例えば、図28〜図87の入力端子には、電源電圧が供給されていてもよい。 For example, a power supply voltage may be supplied to the input terminals in FIGS.
なお、本実施形態は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。
(実施の形態4)
Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in other embodiment modes and embodiments in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
(Embodiment 4)
本実施形態では、実施の形態3で述べた駆動回路とは別の構成について説明する。
In this embodiment, a structure different from that of the driver circuit described in
駆動回路として、ソースドライバに適応できる構成例を図88〜図91を参照して説明する。図88〜図91の駆動回路は、ソースドライバだけに適応できるものではなく、いかなる回路構成においても適応可能である。 A configuration example that can be applied to a source driver as a drive circuit will be described with reference to FIGS. The drive circuits shown in FIGS. 88 to 91 are not only applicable to source drivers, but can be applied to any circuit configuration.
図88に、本発明のソースドライバの一形態を示す。本発明のソースドライバは、シフトレジスタ回路880、複数のスイッチSW、及びビデオ信号線881を有している。
FIG. 88 shows one mode of the source driver of the present invention. The source driver of the present invention includes a
図88のソースドライバに示すように、ビデオ信号線881がスイッチSWの第1端子に接続され、スイッチSWの第2端子が出力端子SDoutに接続されている。スイッチSWの制御端子は、シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutに接続されている。
As shown in the source driver of FIG. 88, the
なお、シフトレジスタ回路880は、実施の形態2で説明したものと同様なものとする。また、シフトレジスタ回路880には、実施の形態3で説明したゲートドライバを適応してもよい。
Note that the
また、シフトレジスタ回路880の出力端子SRout1〜SRout4、出力端子SRoutnは、実施の形態2で説明したものと同様なものを用いることができる。
The output terminals SRout1 to SRout4 and the output terminal SRoutn of the
また、本発明のゲートドライバの1段目の出力端子SDoutを出力端子SDout1とし、2段目の出力端子SDoutを出力端子SDout2とし、3段目の出力端子SDoutを出力端子SDout3とし、n段目の出力端子SDoutを出力端子SDoutnとする。 In the gate driver of the present invention, the first stage output terminal SDout is the output terminal SDout1, the second stage output terminal SDout is the output terminal SDout2, the third stage output terminal SDout is the output terminal SDout3, and the nth stage. The output terminal SDout is referred to as an output terminal SDoutn.
また、図88のソースドライバには、電源線、及び制御信号線を便宜上、図示していない。 In the source driver of FIG. 88, the power supply line and the control signal line are not shown for convenience.
また、シフトレジスタ回路880がNチャネル型のトランジスタで構成されている場合、シフトレジスタ回路880の出力信号は図18のタイミングチャートと同様である。シフトレジスタ回路880がPチャネル型のトランジスタで構成されている場合、シフトレジスタ回路880の出力信号は図19のタイミングチャートと同様である。
In the case where the
また、ビデオ信号線881には、ビデオ信号が供給されている。また、ビデオ信号は電流でも電圧でもよいし、アナログでもデジタルでもよい。望ましくは、ビデオ信号はアナログ電圧であることが望ましい。なぜなら、多くの外部回路は、液晶表示装置用のものが多いからである。つまり、ビデオ信号がアナログ電圧であれば、外部回路として既存の安価なものを用いることができるからである。
A video signal is supplied to the
図88のソースドライバの動作について、シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutがHレベル、Lレベルの場合について、それぞれ説明する。
The operation of the source driver in FIG. 88 is described in the case where the output terminal SRout of the
なお、図88のスイッチSWは、便宜上、制御端子がHレベルのときにオンし、制御端子がLレベルのときにオフするものとする。もちろん、スイッチSWは、制御端子がHレベルのときにオフし、制御端子がLレベルのときにオンしてもよい。 For convenience, the switch SW in FIG. 88 is turned on when the control terminal is at the H level and turned off when the control terminal is at the L level. Of course, the switch SW may be turned off when the control terminal is at the H level and turned on when the control terminal is at the L level.
まず、出力端子SRoutがHレベルの場合について説明する。シフトレジスタ回路の出力端子SRoutはHレベルになると、スイッチSWがオンする。スイッチSWはオンすると、ビデオ信号線881がスイッチSWを介してソースドライバの出力端子SRoutに接続される。
First, the case where the output terminal SRout is at the H level will be described. When the output terminal SRout of the shift register circuit becomes H level, the switch SW is turned on. When the switch SW is turned on, the
よって、ソースドライバの出力端子SDoutはビデオ信号線881と同じ電位、又は同じ電流になるため、ソースドライバがビデオ信号を出力する。
Therefore, since the output terminal SDout of the source driver has the same potential or the same current as the
次に、出力端子SRoutがLレベルの場合について説明する。シフトレジスタ回路の出力端子SRoutはLレベルになると、スイッチSWがオフする。スイッチSWはオフすると、ビデオ信号線881がソースドライバの出力端子SRoutに接続されなくなる。
Next, the case where the output terminal SRout is at the L level will be described. When the output terminal SRout of the shift register circuit becomes L level, the switch SW is turned off. When the switch SW is turned off, the
よって、ソースドライバの出力端子SDoutはビデオ信号線881の電位に影響されなくなるため、ソースドライバがビデオ信号を出力しなくなる。
Accordingly, since the output terminal SDout of the source driver is not affected by the potential of the
実施の形態2で説明したように、シフトレジスタ回路880はNチャネル型のトランジスタで構成されている場合、シフトレジスタ回路880が出力端子SRout1から順に、Hレベルになる。つまり、図88に示すスイッチSWは、スイッチSW1(1列目)から順にオンし、ソースドライバの出力端子SDoutが出力端子SDout1(1列目)から順にビデオ信号と同じ電位、又は同じ電流になる。
As described in
なお、ビデオ信号はシフトレジスタ回路880がHレベルの信号を出力するごとに変えることによって、図88に示すソースドライバが出力端子SDout1から順に異なったビデオ信号を出力できる。
Note that the video signal is changed every time the
なお、シフトレジスタ回路880の1つの出力端子SRoutは、それぞれ、1つのスイッチを制御しているが、本発明は必ずしもこれに限定されない。シフトレジスタ回路880の1つの出力端子SRoutは、それぞれ、複数のスイッチSWを制御してもよい。その場合、ビデオ信号線も複数にして、それぞれスイッチSWの第1端子に接続すればよい。
Note that one output terminal SRout of the
例えば、図89のソースドライバのように、シフトレジスタ回路880の1つの出力端子SRoutが3つのスイッチSWを制御していてもよい。なぜなら、3つのスイッチの第1端子にはそれぞれビデオ信号線891、ビデオ信号線892、及びビデオ信号線893が接続されているため、3つのソースドライバの出力端子SDoutが同時にビデオ信号を出力できるからである。よって、シフトレジスタ回路880の動作周波数が遅くできるため、シフトレジスタ回路880の消費電力が抑制される。
For example, as in the source driver of FIG. 89, one output terminal SRout of the
なお、スイッチSWは、例えば電気的スイッチ、機械的なスイッチを用いることができる。つまり電流の流れを制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。トランジスタでもよいし、ダイオードでもよいし、それらを組み合わせた論理回路でもよい。よって、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、そのトランジスタは、単なるスイッチとして動作するため、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。ただし、オフ電流が少ない方が望ましい場合、オフ電流が少ない方の極性のトランジスタを用いることが望ましい。オフ電流が少ないトランジスタとしては、LDD領域を設けているものやマルチゲート構造にしているもの等がある。また、スイッチとして動作させるトランジスタのソース端子の電位が、低電位側電源(Vss、GND、0Vなど)に近い状態の場合はNチャネル型を、反対に、ソース端子の電位が、高電位側電源(Vddなど)に近い状態の場合はPチャネル型を用いることが望ましい。なぜなら、ゲートとソースの間の電圧の絶対値を大きくできるため、スイッチとして機能させる際に動作させやすいからである。なお、Nチャネル型とPチャネル型の両方を用いて、CMOS型のスイッチにしてもよい。 For example, an electrical switch or a mechanical switch can be used as the switch SW. That is, it is only necessary to be able to control the current flow, and is not limited to a specific one. It may be a transistor, a diode, or a logic circuit combining them. Therefore, when a transistor is used as a switch, the transistor operates as a mere switch, and thus the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited. However, when it is desirable that the off-state current is small, it is desirable to use a transistor having a polarity with a small off-state current. As a transistor with low off-state current, there are a transistor provided with an LDD region and a transistor having a multi-gate structure. In addition, when the potential of the source terminal of the transistor that operates as a switch is close to the low potential side power supply (Vss, GND, 0 V, etc.), the N channel type is used. In the case of a state close to (such as Vdd), it is desirable to use a P-channel type. This is because the absolute value of the voltage between the gate and the source can be increased, so that it is easy to operate when functioning as a switch. Note that both N-channel and P-channel switches may be used as CMOS switches.
例えば、図90のソースドライバのように、スイッチSWとしてトランジスタ901を接続してもよい。トランジスタ901は、シフトレジスタ回路880によってオン・オフが制御されている。トランジスタ901がオンしたときに、ソースドライバの出力端子SDoutがビデオ信号を出力する。
For example, as in the source driver in FIG. 90, the
なお、トランジスタ901は、Nチャネル型である。
Note that the
なお、トランジスタ901は、シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutの電位に応じて、ビデオ信号線881と、ソースドライバの出力端子SDoutとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutがHレベルのときに、トランジスタ901はソースドライバの出力端子SDoutにビデオ信号を供給する。
Note that the
なお、このときのシフトレジスタ回路880は、Nチャネル型のトランジスタで構成されていることが望ましい。シフトレジスタ回路880がNチャネル型のトランジスタで構成されていれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Note that the
別の例として、図91のソースドライバのように、スイッチSWとしてトランジスタ911を接続してもよい。トランジスタ911は、シフトレジスタ回路880によってオン・オフが制御されている。トランジスタ911がオンしたときに、ソースドライバ回路の出力端子SDoutがビデオ信号を出力する。
As another example, a
なお、トランジスタ911は、Pチャネル型である。
Note that the
なお、トランジスタ911は、シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutの電位に応じて、ビデオ信号線881と、ソースドライバの出力端子SDoutとを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。シフトレジスタ回路880の出力端子SRoutがLレベルのときに、トランジスタ911はソースドライバの出力端子SDoutにビデオ信号を供給する。
Note that the
なお、このときのシフトレジスタ回路880は、Pチャネル型のトランジスタで構成されていることが望ましい。シフトレジスタ回路880がPチャネル型のトランジスタで構成されていれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Note that the
なお、本実施形態は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in other embodiment modes and embodiments in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
(実施の形態5)
本実施形態では、実施の形態1に示したフリップフロップ回路のレイアウト図を説明する。
(Embodiment 5)
In this embodiment, a layout diagram of the flip-flop circuit described in
図1に示したフリップフロップ回路10のレイアウト図を図122に示す。
FIG. 122 shows a layout diagram of the flip-
なお、図122に示すフリップフロップ回路のレイアウト図は、アモルファスシリコンのトランジスタによって構成されている場合である。 Note that the layout diagram of the flip-flop circuit illustrated in FIG. 122 is formed using amorphous silicon transistors.
図122のフリップフロップ回路は、電源線12201、制御線12202、制御線12203、制御線12204、制御線12205、電源線12206、出力端子12207、トランジスタ11、トランジスタ12、トランジスタ13、トランジスタ14、トランジスタ15、トランジスタ16、トランジスタ17、及びトランジスタ18を有している。
122 includes a
なお、12208は半導体層であり、12209はゲート電極、及びゲート配線層であり、12210は第2の配線層であり、12211はコンタクト層である。
Note that
図122に示すフリップフロップ回路の接続関係について説明する。フリップフロップ回路10に示すように、トランジスタ11のゲート端子が入力端子IN1に接続され、第1端子が第1の電源に接続され、第2端子がトランジスタ12のゲート端子、トランジスタ14の第2端子、トランジスタ15のゲート端子、トランジスタ17の第2端子、及び容量素子19の第2電極に接続されている。トランジスタ15の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ16の第2端子、及びトランジスタ18のゲート端子に接続されている。トランジスタ16のゲート端子、及び第1端子が第1の電源に接続されている。トランジスタ18の第1端子が入力端子IN3に接続され、第2端子がトランジスタ13のゲート端子、及びトランジスタ14のゲート端子に接続されている。トランジスタ13の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子が容量素子19の第1電極、トランジスタ12の第2端子、及び出力端子OUTに接続されている。トランジスタ12の第1端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ14の第1端子が第2の電源に接続されている。トランジスタ17のゲート端子が入力端子IN4に接続され、第1端子が第2の電源に接続されている。
Connection relations of the flip-flop circuit illustrated in FIG. 122 are described. As shown in the flip-
なお、図122のトランジスタ11〜トランジスタ18は、図1のトランジスタ11〜トランジスタ18にそれぞれ対応する。図122の制御線12204、制御線12202、制御線12203、及び制御線12205は、図1の入力端子IN1〜入力端子IN4にそれぞれ対応する。出力端子12207は、図1の出力端子OUTに対応する。
Note that the
なお、図122のフリップフロップ回路のレイアウト図において、トランジスタ15のチャネル領域の形状がU字型をしていることを特徴とする。なお、前にも述べたように、トランジスタ15のサイズは大きい必要がある。したがって、図122のトランジスタ15のように、チャネル領域をU字型にすることで、トランジスタ15を小面積、且つトランジスタ15のサイズ(W/L比でもよい)を大きくすることができる。
Note that in the layout diagram of the flip-flop circuit in FIG. 122, the shape of the channel region of the
なお、制御線12202、及び制御線12203の配線幅は、少なくとも電源線12201よりも大きいことを特徴とする。なお、図122のフリップフロップ回路では、制御線12202、及び制御線12203によって、フリップフリップフロップ回路に電源線12201よりも多くの電流、又は電圧を供給している。したがって、制御線12202、及び制御線12203の配線幅が大きければ、制御線12202、及び制御線12203の電圧降下の影響を小さくすることができる。
Note that the wiring widths of the
なお、図122のフリップフロップ回路は、アモルファスシリコンのトランジスタを用いて構成されているが、本発明はこれに限定しされない。 Note that although the flip-flop circuit in FIG. 122 is configured using an amorphous silicon transistor, the present invention is not limited to this.
例えば、図123のフリップフロップ回路のように、フリップフロップ回路はポリシリコンのトランジスタによって構成されていてもよい。 For example, like the flip-flop circuit in FIG. 123, the flip-flop circuit may be formed of a polysilicon transistor.
ここで、フリップフロップ回路がポリシリコンのトランジスタで構成されている場合について説明する。 Here, a case where the flip-flop circuit is formed of a polysilicon transistor will be described.
図122のフリップフロップ回路は、電源線12201、制御線12202、制御線12203、制御線12204、制御線12205、電源線12206、出力端子12207、トランジスタ11、トランジスタ12、トランジスタ13、トランジスタ14、トランジスタ15、トランジスタ16、トランジスタ17、及びトランジスタ18を有している。
122 includes a
なお、12208は半導体層であり、12209はゲート電極、及びゲート配線層であり、12210は第2の配線層であり、12211はコンタクト層である。
Note that
図122に示すフリップフロップ回路の接続関係について説明する。フリップフロップ回路10に示すように、トランジスタ11のゲート端子が入力端子IN1に接続され、第1端子が第1の電源に接続され、第2端子がトランジスタ12のゲート端子、トランジスタ14の第2端子、トランジスタ15のゲート端子、トランジスタ17の第2端子、及び容量素子19の第2電極に接続されている。トランジスタ15の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子がトランジスタ16の第2端子、及びトランジスタ18のゲート端子に接続されている。トランジスタ16のゲート端子、及び第1端子が第1の電源に接続されている。トランジスタ18の第1端子が入力端子IN3に接続され、第2端子がトランジスタ13のゲート端子、及びトランジスタ14のゲート端子に接続されている。トランジスタ13の第1端子が第2の電源に接続され、第2端子が容量素子19の第1電極、トランジスタ12の第2端子、及び出力端子OUTに接続されている。トランジスタ12の第1端子が入力端子IN2に接続されている。トランジスタ14の第1端子が第2の電源に接続されている。トランジスタ17のゲート端子が入力端子IN4に接続され、第1端子が第2の電源に接続されている。
Connection relations of the flip-flop circuit illustrated in FIG. 122 are described. As shown in the flip-
なお、電源線12201、制御線12202、制御線12203、制御線12204、制御線12205、電源線12206、出力端子12207、トランジスタ11、トランジスタ12、トランジスタ13、トランジスタ14、トランジスタ15、トランジスタ16、トランジスタ17、及びトランジスタ18は、図122と同様なものを用いることができる。
Note that the
なお、半導体層12208、ゲート配線層12209(ゲート電極層)、第2の配線層12210、及びコンタクト層12211は図122と同様なものを用いることができる。
Note that the
なお、図123のフリップフロップ回路のレイアウト図において、トランジスタ13のゲート端子とトランジスタ14のゲート端子とが第2の配線層12210を介して接続されていることを特徴とする。このように、トランジスタ13のゲート端子とトランジスタ14のゲート端子とを第2の配線層12210を介して接続することで、ゲート配線層12209を短くすることができる。なお、ゲート配線層12209が長いと、半導体装置の製造工程において、ゲート配線層12209を介して静電破壊が起こりやすくなることが知られている。したがって、トランジスタ13のゲート端子とトランジスタ14のゲート端子とを第2の配線層12210を介して接続することで、ゲート配線層12209を介した静電破壊を抑制することができる。また、静電破壊を抑制することで、歩留まりの向上、生産性の向上、半導体装置の長寿命化などのメリットがある。
Note that the layout diagram of the flip-flop circuit in FIG. 123 is characterized in that the gate terminal of the
なお、トランジスタ15はチャネル領域が複数に分割されていることを特徴とする。このように、チャネル領域を複数に分割することで、トランジスタ15の発熱を小さくすることができ、トランジスタ15の特性劣化を抑制することができる。
Note that the
なお、本実施形態は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment mode can be freely combined with any description in other embodiment modes and embodiments in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
本実施例では、表示装置、ゲートドライバ、及びソースドライバなどの構成について、説明する。なお、本発明の半導体装置は、ゲートドライバの一部に適用することができる。また、ソースドライバの一部に適用することができる。 In this embodiment, configurations of a display device, a gate driver, a source driver, and the like will be described. Note that the semiconductor device of the present invention can be applied to part of a gate driver. Further, it can be applied to a part of the source driver.
図92に、本発明を適用した表示装置の一形態を示す。本発明を適用した表示装置920は、画素領域921、ゲートドライバ922、制御信号線923、及びFPC926を有している。画素領域921は画素を有しており、画素は表示素子、及び表示素子を制御する回路を有している。
FIG. 92 shows one mode of a display device to which the present invention is applied. A
図92において、FPC926が制御信号線923、及びソース信号線924に接続されている。ゲートドライバが制御信号線923、及びゲート信号線925と接続されている。
In FIG. 92, the
なお、ゲートドライバ922は、第3の実施の形態で説明したものと同様なものを用いることができる。
Note that the
また、ゲートドライバ922は、複数配置されていてもよい。
A plurality of
また、既に述べているように、表示素子を有する装置である表示装置、又は発光素子を有する装置である発光装置は、様々な形態を用いたり、様々な素子を有することが出来る。例えば、EL素子(有機EL素子、無機EL素子又は有機物及び無機物を含むEL素子)、電子放出素子、液晶素子、電子インクなど、電気又は磁気的作用によりコントラストが変化する表示媒体を適用することができる。なお、EL素子を用いた表示装置としてはELディスプレイ、電子放出素子を用いた表示装置としてはフィールドエミッションディスプレイ(FED)やSED方式平面型ディスプレイ(SED:Surface−conduction Electron−emitter Display)など、液晶素子を用いた表示装置としては液晶ディスプレイ、電子インクを用いた表示装置としては電子ペーパーがある。 Further, as already described, a display device which is a device including a display element or a light-emitting device which is a device including a light-emitting element can have various modes or have various elements. For example, a display medium whose contrast is changed by an electric or magnetic action, such as an EL element (an organic EL element, an inorganic EL element, or an EL element including an organic substance and an inorganic substance), an electron-emitting element, a liquid crystal element, and electronic ink, can be applied. it can. Note that an EL display is used as a display device using an EL element, and a liquid crystal display such as a field emission display (FED) or an SED type flat display (SED: Surface-Conduction Electron-Emitter Display) is used as a display device using an electron-emitting device. There is a liquid crystal display as a display device using an element, and an electronic paper as a display device using electronic ink.
表示装置920の動作について簡単に説明する。
The operation of the
ゲートドライバ922は、ゲート信号線925を介して、画素領域921に選択信号を順次出力する。外部回路がFPC926、及びソース信号線924を介して、画素領域921にビデオ信号を順次出力する。また、外部回路は図示していない。画素領域921では、ビデオ信号に従って、光の状態を制御することにより、画像を表示する。
The
なお、制御信号線923に外部回路から制御信号が供給され、ゲートドライバ922の制御はその制御信号によって行われている。例えば、制御信号として、スタートパルス、クロック信号、反転クロック信号などがある。
Note that a control signal is supplied to the
なお、ビデオ信号は電圧値の入力でもよいし、電流値の入力でもよい。例えば、表示素子として液晶素子を用いる場合、ビデオ信号は電圧値の入力であることが望ましい。なぜなら、液晶素子は電界によって液晶素子の配勾が制御されるため、電圧値のビデオ信号のほうが液晶素子を容易に制御できるからである。 Note that the video signal may be a voltage value input or a current value input. For example, when a liquid crystal element is used as the display element, the video signal is preferably a voltage value input. This is because the liquid crystal element controls the slope of the liquid crystal element by an electric field, so that a video signal having a voltage value can be controlled more easily.
なお、ビデオ信号はデジタル値でもアナログ値でもよい。例えば、表示素子として液晶素子を用いる場合、ビデオ信号はアナログ値であることが望ましい。なぜなら、液晶素子の応答速度が遅いため、液晶素子は1フレーム期間に一度だけアナログ値のビデオ信号を供給することによって制御できるからである。 The video signal may be a digital value or an analog value. For example, when a liquid crystal element is used as the display element, the video signal is preferably an analog value. This is because the response speed of the liquid crystal element is slow, so that the liquid crystal element can be controlled by supplying an analog video signal only once in one frame period.
なお、FPC926は、1つのFPC926によって構成されているが、本発明は必ずしもこれに限定されない。FPC926は、複数に分割されていてもよい。
Note that although the
例えば、図93の表示装置920のように、FPC926が3つに分割されていてもよい。なぜなら、表示装置が大きい場合、又はFPC926と表示装置920との接続数が多い場合でも、既存のFPC、及び既存のFPC圧着装置を利用できるからである。つまり、既存のFPC、及び既存のFPC圧着装置を利用することによって、製造コストを抑えることができる。また、FPC926と表示装置920との接続が失敗した場合、その失敗したFPC926だけ変えればよいので、製造コストを抑えることができる。
For example, the
なお、ビデオ信号はどんな回路、及びどんな素子を介して画素領域921に出力されていてもよい。
Note that the video signal may be output to the
例えば、図94のように、ビデオ信号は信号線制御回路941を介して画素領域921に出力されていてもよい。なぜなら、信号線制御回路941が様々な機能を持っていれば、外部回路の構成が簡単になるため、表示装置全体としてのコストが安くなるからである。また、FPC926と表示装置920との接続数が大幅に少なくなるからである。
For example, as shown in FIG. 94, the video signal may be output to the
なお、信号線制御回路941は、制御信号線942によって、ビデオ信号や制御信号が供給されている。
Note that the video signal and the control signal are supplied to the signal line control circuit 941 through the
このように、本発明の表示装置には、様々な構成を適用することができる。 As described above, various structures can be applied to the display device of the present invention.
なお、本実施例では、様々な表示装置の構成を示したが、本発明の表示装置の構成は、これらの表示装置に限定されない。 In the present embodiment, various configurations of display devices are shown, but the configuration of the display device of the present invention is not limited to these display devices.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路を具備するゲートドライバ、ソースドライバは、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be freely combined with any description in the other embodiments and examples in this specification. In other words, the gate driver and the source driver including the shift register circuit of the present invention supply the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
次に、実施例1において説明した信号線制御回路941の具体的な構成を説明する。 Next, a specific configuration of the signal line control circuit 941 described in the first embodiment will be described.
また、信号線制御回路941として、実施の形態4で説明したソースドライバを適用することができる。
As the signal line control circuit 941, the source driver described in
図95に、実施の形態4で説明したソースドライバとは別の信号線制御回路941の一形態を示す。図95の信号線制御回路950は、複数のスイッチSWを有している。
FIG. 95 shows one mode of a signal line control circuit 941 different from the source driver described in
図95に示すように、ビデオ信号線954がスイッチSW1の第1端子、スイッチSW2の第1端子、及びスイッチSW3の第1端子に接続されている。スイッチSW1の第2端子がソース信号線955に接続され、スイッチSW2の第2端子がソース信号線956に接続され、スイッチSW3の第2端子がソース信号線957に接続されている。スイッチSW1の制御端子は制御信号線951に接続され、スイッチSW2の制御端子は制御信号線952に接続され、スイッチSW3の制御端子は制御信号線953に接続されている。また、ビデオ信号線954、制御信号線951、制御信号線952及び制御信号線953はFPCを介して外部回路に接続されている。
As shown in FIG. 95, the
なお、制御信号線951には制御信号Aが供給され、制御信号線952には制御信号Bが供給され、制御信号線953には制御信号Cが供給されている。ビデオ信号線954にはビデオ信号が供給されている。
Note that a control signal A is supplied to the
また、スイッチSW1〜スイッチSW3は、既に述べているように、例えば電気的スイッチ、機械的なスイッチを用いることができる。つまり電流の流れを制御できるものであればよく、特定のものに限定されない。トランジスタでもよいし、ダイオードでもよいし、それらを組み合わせた論理回路でもよい。よって、スイッチとしてトランジスタを用いる場合、そのトランジスタは、単なるスイッチとして動作するため、トランジスタの極性(導電型)は特に限定されない。ただし、オフ電流が少ない方が望ましい場合、オフ電流が少ない方の極性のトランジスタを用いることが望ましい。オフ電流が少ないトランジスタとしては、LDD領域を設けているものやマルチゲート構造にしているもの等がある。また、スイッチとして動作させるトランジスタのソース端子の電位が、低電位側電源(Vss、GND、0Vなど)に近い状態の場合はNチャネル型を、反対に、ソース端子の電位が、高電位側電源(Vddなど)に近い状態の場合はPチャネル型を用いることが望ましい。なぜなら、ゲートとソースの間の電圧の絶対値を大きくできるため、スイッチとして機能させる際に動作させやすいからである。なお、Nチャネル型とPチャネル型の両方を用いて、CMOS型のスイッチにしてもよい。 Further, as described above, for example, an electrical switch or a mechanical switch can be used for the switches SW1 to SW3. That is, it is only necessary to be able to control the current flow, and is not limited to a specific one. It may be a transistor, a diode, or a logic circuit combining them. Therefore, when a transistor is used as a switch, the transistor operates as a mere switch, and thus the polarity (conductivity type) of the transistor is not particularly limited. However, when it is desirable that the off-state current is small, it is desirable to use a transistor having a polarity with a small off-state current. As a transistor with low off-state current, there are a transistor provided with an LDD region and a transistor having a multi-gate structure. In addition, when the potential of the source terminal of the transistor that operates as a switch is close to the low potential side power supply (Vss, GND, 0 V, etc.), the N channel type is used. In the case of a state close to (such as Vdd), it is desirable to use a P-channel type. This is because the absolute value of the voltage between the gate and the source can be increased, so that it is easy to operate when functioning as a switch. Note that both N-channel and P-channel switches may be used as CMOS switches.
図95の信号線制御回路950の動作について説明する。
The operation of the signal
制御信号A、制御信号B、及び制御信号Cは、スイッチSW1、スイッチSW2、及びスイッチSW3が順にオンするような信号である。ビデオ信号は、スイッチSW1、スイッチSW2、及びスイッチSW3のオン・オフに応じて、値を変化させる。 The control signal A, the control signal B, and the control signal C are signals that turn on the switch SW1, the switch SW2, and the switch SW3 in order. The value of the video signal changes depending on whether the switch SW1, the switch SW2, and the switch SW3 are on or off.
まず、スイッチSW1が制御信号Aによってオンする。そのとき、スイッチSW2が制御信号Bによってオフし、スイッチSW3が制御信号Cによってオフしている。よって、ビデオ信号は、ビデオ信号線954、及びスイッチSW1を介してソース信号線955に供給される。このとき、スイッチSW2、及びスイッチSW3はオフしているため、ビデオ信号がソース信号線956、及びソース信号線957に供給されない。
First, the switch SW1 is turned on by the control signal A. At that time, the switch SW2 is turned off by the control signal B, and the switch SW3 is turned off by the control signal C. Therefore, the video signal is supplied to the
次に、スイッチSW2が制御信号Bによってオンする。そのとき、スイッチSW1が制御信号Aによってオフし、スイッチSW3が制御信号Cによってオフしている。よって、ビデオ信号は、ビデオ信号線954、及びスイッチSW2を介してソース信号線956に供給される。このとき、スイッチSW1、及びスイッチSW3はオフしているため、ビデオ信号がソース信号線955、及びソース信号線957に供給されない。
Next, the switch SW2 is turned on by the control signal B. At that time, the switch SW1 is turned off by the control signal A, and the switch SW3 is turned off by the control signal C. Therefore, the video signal is supplied to the
次に、スイッチSW3が制御信号Cによってオンする。そのとき、スイッチSW1が制御信号Aによってオフし、スイッチSW3が制御信号Bによってオフしている。よって、ビデオ信号は、ビデオ信号線954、及びスイッチSW3を介してソース信号線957に供給される。このとき、スイッチSW1、及びスイッチSW2はオフしているため、ビデオ信号がソース信号線955、及びソース信号線956に供給されない。
Next, the switch SW3 is turned on by the control signal C. At that time, the switch SW1 is turned off by the control signal A, and the switch SW3 is turned off by the control signal B. Therefore, the video signal is supplied to the
以上のような動作によって、ビデオ信号は、1つのビデオ信号線954でソース信号線955、ソース信号線956、及びソース信号線957の3本に供給される。つまり、ビデオ信号線954の数はソース信号線の数に比べて1/3になるため、FPCと表示装置との接続数が大幅に低減される。よって、FPCと表示装置との接続の失敗の確率が大幅に小さくなる。
Through the above operation, a video signal is supplied to the three
なお、図95の信号線制御回路950は、3つのスイッチSWを有しているが、本発明はこれに限定されない。スイッチSWは、いくつでもよい。そのとき、制御信号の数は、スイッチSWの数に対応して変える必要がある。例えば、スイッチSWが4つの場合、制御信号は4つにする。
Note that the signal
なお、図95の信号線制御回路950は、スイッチSW1〜スイッチSW3がいずれもオンしない期間を設けてもよい。なぜなら、クロストークなどの画像不良が抑制されるからである。つまり、新たなビデオ信号がソース信号線に供給されても、ソース信号線の電位はすぐには変化しない。よって、ソース信号線の前の電位の影響がソース信号線に残っていることがあるため、クロストークなどの画像不良が発生するからである。この期間は、次の行の書き込みのための準備期間である。
Note that the signal
なお、制御信号A、制御信号B、及び制御信号Cは、実施の形態2のシフトレジスタ回路によって供給されていてもよい。このとき、シフトレジスタ回路は、3つ以上のフリップフロップ回路を有している。望ましくは、シフトレジスタ回路は、3つ以上のフリップフロップ回路、5つ以下のフリップフロップ回路を有していることが望ましい。 Note that the control signal A, the control signal B, and the control signal C may be supplied by the shift register circuit of the second embodiment. At this time, the shift register circuit has three or more flip-flop circuits. Preferably, the shift register circuit includes three or more flip-flop circuits and five or less flip-flop circuits.
なお、表示装置920において信号線制御回路950を同じ基板上に形成することによって、FPCと表示装置920との接続数をより少なくすることができる。
Note that when the signal
このように、本発明の表示装置には、様々な信号制御回路を用いることができる。 As described above, various signal control circuits can be used in the display device of the present invention.
なお、本実施例では、様々な信号制御回路を示したが、本発明の表示装置に用いることができる信号制御回路は、これらの信号制御回路に限定されない。 Note that although various signal control circuits are shown in this embodiment, a signal control circuit that can be used in the display device of the present invention is not limited to these signal control circuits.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本発明のシフトレジスタ回路を具備する信号制御回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be freely combined with any description in the other embodiments and examples in this specification. That is, the signal control circuit including the shift register circuit of the present invention supplies the power supply potential to the output terminal when the transistor is turned on every predetermined time in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
次に、実施例1において説明した画素の具体的な構成を説明する。 Next, a specific configuration of the pixel described in the first embodiment will be described.
図96に、画素の一形態を示す。図96の画素960は、トランジスタ961、2つの電極を持つ液晶素子962、2つの電極を持つ容量素子963を有している。
FIG. 96 shows one mode of a pixel. A
図96の画素960に示すように、トランジスタ961の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子が液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。液晶素子962の第2電極が対向電極964である。容量素子963の第2電極がコモン線965に接続されている。
As shown in the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
Note that a video signal is supplied to the
なお、コモン線965には、コモン電位が供給されている。また、対向電極964には基板電位が供給されている。コモン電位、及び基板電位は、一定の電位である。
Note that a common potential is supplied to the
また、トランジスタ961は、Nチャネル型である。
The
図96の画素960の動作について、ゲート信号線925に、選択信号が供給されている場合(Hレベル)と、選択信号が供給されていない場合(Lレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ961がオンする。ソース信号線924は液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極と導通し、液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極の電位がソース信号線924の電位と同電位になる。
First, the first period will be described. The
ここで、ソース信号線924の電位は、ビデオ信号に対応した電位である。
Here, the potential of the
液晶素子962はビデオ信号に対応した電位によって光の透過率が決定する。容量素子963はビデオ信号に対応した電位を保持する。
The light transmittance of the
次に、第2の期間について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ961がオフする。ソース信号線924は液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極と導通しなくなる。よって、液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極の電位は、前に入力されたビデオ信号に対応した電位を維持するため、液晶素子962の光の透過率も維持される。
Next, the second period will be described. The
ここで、トランジスタ961、及び容量素子963が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ961は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ961は、画素960にビデオ信号を供給する機能を有する。
The
容量素子963は、ビデオ信号を保持する機能を有する。第1の期間において、ビデオ信号が容量素子963に供給され、容量素子963は、ビデオ信号を保持する機能を有する。第2の期間において、容量素子963は次の第1の期間までビデオ信号を保持する機能を有する。
The
このように、画素960はアクティブ駆動ができる。また、画素960と同一基板上の他のトランジスタがNチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Thus, the
なお、容量素子963の第2電極は、画素960の動作期間中に一定の電位になっていれば、どこに接続されていてもよい。例えば、容量素子963の第2電極は、前行のゲート信号線925に接続されていてもよい。なぜなら、コモン線965が必要なくなるため、画素960の開口率が上がるからである。
Note that the second electrode of the
なお、対向電極964は、一定の電位が供給されているが、本発明はこれに限定されない。例えば、画素960が反転駆動する場合、対向電極964の電位は、反転駆動に対応して変化してもよい。そのとき、ビデオ信号が正の電位だった場合、対向電極964の電位が負の電位になる。また、ビデオ信号が負の電位だった場合、対向電極964の電位が正の電位になる。
Note that the
図96の画素では、Nチャネル型のトランジスタで構成されている場合について説明したが、Pチャネル型のトランジスタで構成されていてもよい。ここで、Pチャネル型のトランジスタで構成された場合の画素を図120に示す。 The pixel in FIG. 96 has been described with respect to the case where the pixel is configured with an N-channel transistor, but may be configured with a P-channel transistor. Here, FIG. 120 shows a pixel in the case of being formed of a P-channel transistor.
図120に、画素の一形態を示す。図120の画素1200は、トランジスタ1201、2つの電極を持つ液晶素子962、2つの電極を持つ容量素子963を有している。
FIG. 120 shows one mode of a pixel. A
図120の画素1200に示すように、トランジスタ1201の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子が液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。液晶素子962の第2電極が対向電極964である。容量素子963の第2電極がコモン線965に接続されている。
As shown in the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
Note that a video signal is supplied to the
なお、コモン線965には、コモン電位が供給されている。また、対向電極964には基板電位が供給されている。コモン電位、基板電位は、一定の電位である。
Note that a common potential is supplied to the
なお、液晶素子962、容量素子963、対向電極964、及びコモン線965は図96と同様なものを用いることができる。
Note that the
また、トランジスタ1201は、Pチャネル型である。 The transistor 1201 is a P-channel type.
図120の画素1200の動作について、ゲート信号線925に、選択信号が供給されている場合(Lレベル)と、選択信号が供給されていない場合(Hレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ1201がオンする。ソース信号線924は液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極と導通し、液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極の電位がソース信号線924の電位と同電位になる。
First, the first period will be described. The
ここで、ソース信号線924の電位は、ビデオ信号に対応した電位である。
Here, the potential of the
液晶素子962はビデオ信号に対応した電位によって光の透過率が決定する。容量素子963はビデオ信号に対応した電位を保持する。
The light transmittance of the
次に、第2の期間について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ1201がオフする。ソース信号線924は液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極と導通しなくなる。よって、液晶素子962の第1電極、及び容量素子963の第1電極の電位は、前に入力されたビデオ信号に対応した電位を維持するため、液晶素子962の光の透過率も維持される。
Next, the second period will be described. The
ここで、トランジスタ1201、及び容量素子963が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the transistor 1201 and the
トランジスタ1201は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、液晶素子962の第1端子、及び容量素子963の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ1201は、画素1200にビデオ信号を供給する機能を有する。
The transistor 1201 functions as a switch for selecting whether to connect the
このように、画素1200はアクティブ駆動ができる。また、画素1200と同一基板上の他のトランジスタがPチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Thus, the
なお、容量素子963の第2電極は、画素1200の動作期間中に一定の電位になっていれば、どこに接続されていてもよい。例えば、容量素子963の第2電極は、前列のゲート信号線925に接続されていてもよい。なぜなら、コモン線965が必要なくなるため、画素1200の開口率が上がるからである。
Note that the second electrode of the
なお、対向電極964は、一定の電位が供給されているが、本発明はこれに限定されない。例えば、画素1200が反転駆動する場合、対向電極964の電位は、反転駆動に対応して変化してもよい。そのとき、ビデオ信号が正の電位だった場合、対向電極964の電位が負の電位になる。また、ビデオ信号が負の電位だった場合、対向電極964の電位が正の電位になる。
Note that the
図97に、画素の別の一形態を示す。図97の画素970は、トランジスタ971、トランジスタ972、2つの電極を持つ表示素子973、及び2つの電極を持つ容量素子974を有している。
FIG. 97 shows another embodiment of a pixel. A
図97の画素970に示すように、トランジスタ971の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子がトランジスタ972のゲート端子、及び容量素子974の第1電極に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。容量素子974の第2電極が電源線976に接続されている。トランジスタ972の第1端子が電源線976に接続され、第2端子が表示素子973の第1電極に接続されている。表示素子973の第2電極が共通電極975である。
As shown in the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
できる。
Note that a video signal is supplied to the
it can.
なお、電源線976には、アノード電位が供給されている。また、共通電極975には、カソード電位が供給されている。また、アノード電位は、カソード電位よりも高い電位である。
Note that an anode potential is supplied to the
また、トランジスタ971、及びトランジスタ972は、それぞれNチャネル型である。
In addition, the
図97の画素970の動作について、ゲート信号線925に選択信号が供給されている場合(Hレベル)と、供給されていない場合(Lレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ971がオンする。ソース信号線924はトランジスタ972のゲート端子、及び容量素子974の第1電極と導通し、トランジスタ972のゲート端子、及び容量素子974の第1電極の電位がソース信号線924の電位はソース信号線924の電位と同電位になる。
First, the first period will be described. The
ここで、ソース信号線924の電位は、ビデオ信号に対応した電位である。
Here, the potential of the
トランジスタ972の電流値はビデオ信号に対応した電位とトランジスタ972の第2端子との間の電位差(Vgs)によって決定し、トランジスタ972と同じ電流が表示素子973に流れる。また、その場合、トランジスタ972と表示素子973の動作点が飽和領域で動作する必要がある。こうして、ビデオ信号によって、表示素子973の電流値が自由に決定することができる。
The current value of the
なお、トランジスタ972と表示素子973の動作点が線形領域で動作する場合、表示素子973の第1電極はトランジスタ972を介して電源線976と導通し、電源線976の電位とおおむね等しい電圧が表示素子973の第1電極に印加される。また、トランジスタ972と表示素子973の動作点が線形領域で動作すると、トランジスタ972の電流値はトランジスタ972の特性のばらつき、劣化の影響を受けないため有利である。
Note that in the case where the operating point of the
次に、ゲート信号線925に選択信号が供給されていない場合について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ971がオフする。ソース信号線924は、トランジスタ972の第2端子と導通しなくなる。よって、トランジスタ972の第2端子の電位は、前に入力されたビデオ信号に対応した電位を維持するため、トランジスタ972のVgsはそのまま維持される。そのため、表示素子973の電流値も、そのまま維持される。
Next, a case where a selection signal is not supplied to the
ここで、トランジスタ971、トランジスタ972、及び容量素子974が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ971は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、トランジスタ972のゲート端子、及び容量素子974の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ971は、画素970にビデオ信号を供給する機能を有する。
The
トランジスタ972は、トランジスタ972のゲート端子、及び容量素子974の第1電極の電位に応じて、表示素子973に電流、又は電圧を供給する駆動トランジスタとしての機能を有する。また、トランジスタ972と表示素子973との動作点が飽和領域で動作する場合、トランジスタ972は表示素子973に電流を供給する電流源としての機能を有する。また、トランジスタ972と表示素子973との動作点が線形領域で動作する場合、トランジスタ972は電源線976と、表示素子973の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
容量素子974は、ビデオ信号を保持する機能を有する。第1の期間において、ビデオ信号が容量素子974に供給され、容量素子974はビデオ信号を保持する機能を有する。第2の期間において、容量素子974は次の第1の期間までビデオ信号を保持する機能を有する。
The
このように、画素970はアクティブ駆動ができる。また、画素970と同一基板上の他のトランジスタがNチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Thus, the
なお、容量素子974の第2電極は、画素970の動作期間中に一定の電位になっていれば、どこに接続されていてもよい。例えば、容量素子974の第2電極は、前列のゲート信号線925に接続されていてもよい。
Note that the second electrode of the
別の例として、図98の画素980のように、トランジスタ972の第2端子に接続されていてもよい。なぜなら、トランジスタ972のゲート端子の電位はトランジスタ972の第2端子の電位の変化に応じて変化するため、より正確な電流が表示素子に供給されるからである。つまり、トランジスタ972の第2端子の電位が変動すると、トランジスタのゲート端子の電位は容量素子974の容量結合によって同時に変動する。いわゆるブートストラップ動作を行っている。
As another example, the
図97の画素では、全てNチャネル型のトランジスタで構成されている場合について説明したが、すべてPチャネル型のトランジスタで構成されていてもよい。ここで、すべてPチャネル型のトランジスタで構成された場合の画素を図121に示す。 In the pixel in FIG. 97, the case where all of the pixels are configured by N-channel transistors has been described. However, all of the pixels may be configured by P-channel transistors. Here, FIG. 121 shows a pixel in the case where all of the transistors are P-channel transistors.
図121に、画素の別の一形態を示す。図121の画素1210は、トランジスタ1211、トランジスタ1212、2つの電極を持つ表示素子973、及び2つの電極を持つ容量素子974を有している。
FIG. 121 illustrates another embodiment of a pixel. A
図121の画素1210に示すように、トランジスタ1211の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子がトランジスタ1212のゲート端子、及び容量素子974の第1電極に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。容量素子974の第2電極が電源線976に接続されている。トランジスタ1212の第1端子が電源線976に接続され、第2端子が表示素子973の第1電極に接続されている。表示素子973の第2電極が共通電極975である。
As shown in the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
できる。
Note that a video signal is supplied to the
it can.
なお、電源線976には、アノード電位が供給されている。また、共通電極975には、カソード電位が供給されている。また、アノード電位は、カソード電位よりも高い電位である。
Note that an anode potential is supplied to the
なお、表示素子973、容量素子974、共通電極975、電源線976は図97と同様なものを用いることができる。
Note that the
また、トランジスタ1211、及びトランジスタ1212は、それぞれPチャネル型である。
In addition, the
図121の画素1210の動作について、ゲート信号線925に選択信号が供給されている場合(Lレベル)と、供給されていない場合(Hレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ1211がオンする。ソース信号線924はトランジスタ1212のゲート端子、及び容量素子974の第1電極と導通し、トランジスタ1212のゲート端子、及び容量素子974の第1電極の電位がソース信号線924の電位はソース信号線924の電位と同電位になる。
First, the first period will be described. The
ここで、ソース信号線924の電位は、ビデオ信号に対応した電位である。
Here, the potential of the
トランジスタ1212の電流値はビデオ信号に対応した電位と電源線976の電位との間の電位差(Vgs)によって決定し、同じ電流が表示素子973に流れる。また、その場合、トランジスタ1212と表示素子973の動作点が飽和領域で動作する必要がある。こうして、ビデオ信号によって、表示素子973の電流値が自由に決定することができる。
The current value of the
なお、トランジスタ1212と表示素子973の動作点が線形領域で動作する場合、表示素子973の第1電極はトランジスタ1212を介して電源線976と導通し、表示素子973の第1電極の電位が印加される。また、トランジスタ1212と表示素子973の動作点が線形領域で動作すると、トランジスタ1212の電流値はトランジスタ1212の特性のばらつき、劣化の影響を受けないため有利である。
Note that when the operating point of the
次に、ゲート信号線925に選択信号が供給されていない場合について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ1211がオフする。ソース信号線924は、トランジスタ1212の第2端子と導通しなくなる。よって、トランジスタ1212の第2端子の電位は、前に入力されたビデオ信号に対応した電位を維持するため、トランジスタ1212のVgsはそのまま維持される。そのため、表示素子973の電流値も、そのまま維持される。
Next, a case where a selection signal is not supplied to the
ここで、トランジスタ1211、及びトランジスタ1212が有する機能を以下に説明する。
Here, the functions of the
トランジスタ1211は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、トランジスタ1212のゲート端子、及び容量素子974の第1端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ1211は、画素1210にビデオ信号を供給する機能を有する。
The
トランジスタ1212は、トランジスタ1212のゲート端子、及び容量素子974の第2電極の電位に応じて、表示素子973に電流、又は電圧を供給する駆動トランジスタとしての機能を有する。また、トランジスタ1212と表示素子973との動作点が飽和領域で動作する場合、トランジスタ1212は表示素子973に電流を供給する電流源としての機能を有する。また、トランジスタ1212と表示素子973との動作点が線形領域で動作する場合、トランジスタ1212は電源線976と、表示素子973の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。
The
このように、画素970はアクティブ駆動ができる。また、画素970と同一基板上の他のトランジスタがNチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Thus, the
なお、容量素子974の第2電極は、画素1210の動作期間中に一定の電位になっていれば、どこに接続されていてもよい。例えば、容量素子974の第2電極は、前列のゲート信号線925に接続されていてもよい。
Note that the second electrode of the
図99に、画素の別の一形態を示す。図99の画素990は、トランジスタ991、トランジスタ992、トランジスタ993、2つの電極を持つ表示素子973、2つの電極を持つ容量素子994を有している。
FIG. 99 shows another embodiment of a pixel. A
図99の画素990に示すように、トランジスタ991の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子がトランジスタ992の第2端子、容量素子994の第1電極、及び表示素子973の第1電極に接続されている。トランジスタ992の第1端子が電源線995に接続され、ゲート端子がトランジスタ993の第2端子、及び容量素子994の第2電極に接続されている。トランジスタ993の第1端子がゲート信号線925に接続され、ゲート端子が電源線995に接続されている。表示素子973の第2電極が共通電極975である。
As shown in the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
Note that a video signal is supplied to the
なお、ビデオ信号は、アナログの電流である。 The video signal is an analog current.
なお、電源線995には、制御電位が供給されている。また、共通電極には、カソード電位が供給されている。また、制御電位は、画素990の動作によって変化する。
Note that a control potential is supplied to the
なお、表示素子973、及び共通電極975は、図97と同様なものを用いることができる。
Note that the
また、トランジスタ991〜トランジスタ993は、それぞれNチャネル型である。
In addition, the
図99の画素990の動作について、ゲート信号線925に選択信号が供給されている場合(Hレベル)と、供給されていない場合(Lレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ991、及びトランジスタ993がオンする。トランジスタ992の第1端子とゲート端子とがトランジスタ993を介して導通し、トランジスタ992がダイオード接続される。また、ソース信号線924とトランジスタ992の第2端子、容量素子994の第1電極、及び表示素子973の第1電極とが導通する。
First, the first period will be described. The
このとき、電源線995は、表示素子973の第1電極の電位が共通電極975の電位よりも低い電位になるような電位に設定される。
At this time, the
ビデオ信号は、電流が電源線995からソース信号線924に、トランジスタ992、及びトランジスタ991を介して流れるようなアナログの電流を画素990に供給する。そして、トランジスタ992には、ビデオ信号と同じ電流が流れる。トランジスタ992はダイオード接続になっているので、容量素子994には、そのときのトランジスタ992の第1端子とゲート端子との間の電圧(Vgs)が保持される。
The video signal supplies an analog current to the
なお、表示素子973の第1電極は共通電極の電位よりも低いため、表示素子973が発光することはない。
Note that since the first electrode of the
次に、第2の期間について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ991、及びトランジスタ993がオフする。トランジスタ992の第1端子とゲート端子とがトランジスタ993を介して導通しなくなり、トランジスタ992はダイオード接続されなくなる。また、ソース信号線924とトランジスタ992の第2端子、容量素子994の第1電極、及び表示素子973の第1電極とが導通しなくなる。
Next, the second period will be described. The
このとき、電源線995は、表示素子973の第1電極の電位が共通電極975の電位よりも高い電位になるような電位に設定される。
At this time, the
容量素子994には、トランジスタ992がビデオ信号と同様の電流を流すような電圧が保持されている。電源線995の電位が上昇すると、容量素子994の第1電極の電位も上昇する。ここで、トランジスタ992のゲート端子の電位は容量素子994の容量結合によって上昇し、トランジスタ992のVgsはそのまま維持される。よって、表示素子973には、ビデオ信号と同じ電流が流れる。
The
ここで、トランジスタ991〜トランジスタ993、及び容量素子994が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ991は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、トランジスタ992の第2端子、容量素子994の第1電極、及び表示素子973の第1電極とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ991は、画素990にビデオ信号を供給する機能を有する。
Whether or not the
トランジスタ992は、トランジスタ992のゲート端子、トランジスタ993の第2端子、及び容量素子994の第2電極の電位に応じて、表示素子973に電流を供給する電流源としての機能を有する。
The
トランジスタ993は、トランジスタ992の第1端子と、トランジスタ992のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ993は、トランジスタ992をダイオード接続にする機能を有する。
The
容量素子994は、表示素子973の第1電極に応じて、トランジスタ992のゲート端子の電位を変化させるための機能を有する。第2の期間において、容量素子994は、表示素子973の第1電極の電位の上昇によって、トランジスタ992のゲート端子の電位を上昇させる機能を有する。
The
このように、画素990はアクティブ駆動ができる。また、画素990と同一基板上の他のトランジスタがNチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
Thus, the
図118に、画素の別の一形態を示す。図118の画素1180は、トランジスタ1181、トランジスタ1182、トランジスタ1183、トランジスタ1184、2つの電極を持つ表示素子973、2つの電極を持つ容量素子974を有している。
FIG. 118 illustrates another embodiment of a pixel. A
図118の画素1180に示すように、トランジスタ1181の第1端子がソース信号線924に接続され、第2端子がトランジスタ1182の第2端子、トランジスタ1183のゲート端子、トランジスタ1184のゲート端子、及び容量素子974の第2電極に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。トランジスタ1182の第1端子がトランジスタ1183の第1端子に接続され、ゲート端子がゲート信号線925に接続されている。トランジスタ1183の第2端子がトランジスタ1184の第2端子、及び表示素子973の第1電極に接続されている。トランジスタ1184の第1端子が電源線976に接続されている。容量素子974の第2電極が電源線976に接続されている。表示素子973の第2電極が共通電極975である。
118, the first terminal of the
なお、ソース信号線924には、ビデオ信号が供給されている。ゲート信号線925には、選択信号が供給されている。また、ソース信号線924、及びゲート信号線925は、実施例1と同様なものを用いることができる。
Note that a video signal is supplied to the
なお、ビデオ信号は、アナログの電流である。 The video signal is an analog current.
なお、電源線976には、アノード電位が供給されている。また、共通電極975には、カソード電位が供給されている。また、アノード電位は、カソード電位よりも高い電位である。
Note that an anode potential is supplied to the
なお、表示素子973、共通電極975、及び電源線976は、図97と同様なものを用いることができる。
Note that the
また、トランジスタ1181〜トランジスタ1184は、それぞれNチャネル型である。
In addition, each of the
図118の画素1180の動作について、ゲート信号線925に選択信号が供給されている場合(Hレベル)と、供給されていない場合(Lレベル)について、それぞれ説明する。また、ゲート信号線925に選択信号が供給されている期間を第1の期間、選択信号が供給されていない期間を第2の期間とする。
The operation of the
まず、第1の期間について説明する。ゲート信号線925がHレベルになり、トランジスタ1181、及びトランジスタ1182がオンする。トランジスタ1183の第1端子とゲート端子とがトランジスタ1182を介して導通し、トランジスタ1183がダイオード接続される。また、ソース信号線924とトランジスタ1182の第1端子、トランジスタ1183のゲート端子、トランジスタ1184のゲート端子、及び容量素子974の第2電極とが導通する。
First, the first period will be described. The
ビデオ信号は、電流がソース信号線924から共通電極975に、トランジスタ1181、トランジスタ1182、トランジスタ1183、及び表示素子973を介して流れるようなアナログの電流を画素1180に供給する。そして、トランジスタ1183には、ビデオ信号と同じ電流が流れる。トランジスタ1183のゲート端子とトランジスタ1184のゲート端子と容量素子974の第2電極とが接続されているので、容量素子974の第2電極には、そのときのトランジスタ1183のゲート端子の電位が保持される。
The video signal supplies an analog current to the
次に、第2の期間について説明する。ゲート信号線925がLレベルになり、トランジスタ1181、及びトランジスタ1182がオフする。トランジスタ1183の第1端子とゲート端子とがトランジスタ1182を介して導通しなくなる。また、ソース信号線924とトランジスタ1182の第1端子、トランジスタ1183のゲート端子、トランジスタ1184のゲート端子、及び容量素子974の第2電極とが導通しなくなる。
Next, the second period will be described. The
容量素子974には、ビデオ信号に対応した電位が保持されている。つまり、トランジスタ1183のゲート端子の電位は、第1の期間で取得した電位と同様である。よって、トランジスタ1184のゲート端子の電位も容量素子974の第2電極の電位と同様であるため、トランジスタ1184は表示素子973にビデオ信号に対応した電流を供給することができる。
The
ここで、トランジスタ1181〜トランジスタ1184が有する機能を以下に説明する。
Here, functions of the
トランジスタ1181は、ゲート信号線925の電位に応じて、ソース信号線924と、トランジスタ1182の第1端子、トランジスタ1183のゲート端子、トランジスタ1184のゲート端子、及び容量素子974の第2電極とを接続するかしないかを選択するスイッチしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ1181は、画素1180にビデオ信号を供給する機能を有する。
The
トランジスタ1182は、ゲート信号線925の電位に応じて、トランジスタ1183の第1端子と、トランジスタ1183のゲート端子とを接続するかしないかを選択するスイッチとしての機能を有する。第1の期間において、トランジスタ1182は、トランジスタ1183をダイオード接続する機能を有する。
The
トランジスタ1183は、ビデオ信号に応じて、表示素子973の第1電極の電位とトランジスタ1184のゲート端子の電位とを決定する機能を有する。
The
トランジスタ1184は、容量素子974の第2電極の電位に応じて、表示素子973に電流を供給する電流源としての機能を有する。
The
このように、画素1180はアクティブ駆動ができる。また、画素1180と同一基板上の他のトランジスタがNチャネル型であれば、製造工程の簡略化を図ることができる。したがって、製造コストの削減や歩留まりの向上を図ることができる。
In this manner, the
なお、容量素子974の第1電極は、画素1180の動作期間中に一定の電位になっていれば、どこに接続されていてもよい。例えば、容量素子974の第1電極は、前列のゲート信号線925に接続されていてもよい。
Note that the first electrode of the
別の例として、容量素子974の第1電極は、図119の画素1190のように、トランジスタ1184の第2端子に接続されていてもよい。なぜなら、トランジスタ1184のゲート端子の電位はトランジスタ1184の第2端子の電位の変化に応じて変化するため、より正確な電流が表示素子に供給されるからである。つまり、トランジスタ1183とトランジスタ1184とのトランジスタのサイズが違えば、表示素子973の電流も違ってくるため、表示素子973の第1電極の電位が第1の期間と第2の期間とで異なる。よって、トランジスタ1184のゲート端子の電位は容量素子974の容量結合によって同時に変動する。いわゆるブートストラップ動作を行っている。
As another example, the first electrode of the
このように、本発明の表示装置には、様々な画素を用いることができる。 As described above, various pixels can be used in the display device of the present invention.
なお、本実施例では、様々な画素を示したが、本発明の表示装置に用いることができる画素は、これらの画素に限定されない。 Although various pixels are shown in this embodiment, the pixels that can be used in the display device of the present invention are not limited to these pixels.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することができる。すなわち、本実施例において示した画素に接続される本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be freely combined with any description in the other embodiments and examples in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention connected to the pixel shown in this embodiment supplies a power supply potential to the output terminal when the transistor is turned on every predetermined time in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
本実施の形態では、上記実施例で示した画素構成を有する表示パネルの構成について図100(a)、(b)を用いて説明する。 In this embodiment mode, a structure of a display panel having the pixel structure shown in the above embodiment is described with reference to FIGS.
なお、図100(a)は、表示パネルを示す上面図、図100(b)は図100(a)をA−A’で切断した断面図である。点線で示された信号線制御回路6701、画素部6702、第1のゲートドライバ6703、第2のゲートドライバ6706を有する。また、封止基板6704、シール材6705を有し、シール材6705で囲まれた内側は、空間6707になっている。
100A is a top view showing the display panel, and FIG. 100B is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 100A. A signal
なお、配線6708は第1のゲートドライバ6703、第2のゲートドライバ6706及び信号線制御回路6701に入力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC6709(フレキシブルプリントサーキット)からビデオ信号、クロック信号、スタート信号等を受け取る。FPC6709と表示パネルとの接続部上にはICチップ6719(メモリ回路や、バッファ回路などが形成された半導体チップ)がCOG(Chip On Glass)等で実装されている。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基盤(PWB)が取り付けられていてもよい。本明細書における表示装置とは、表示パネル本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。また、ICチップなどが実装されたものを含むものとする。
Note that a
次に、断面構造について図100(b)を用いて説明する。基板6710上には画素部6702とその周辺駆動回路(第1のゲートドライバ6703、第2のゲートドライバ6706及び信号線制御回路6701)が形成されているが、ここでは、信号線制御回路6701と、画素部6702が示されている。
Next, a cross-sectional structure will be described with reference to FIG. A
なお、信号線制御回路6701はNチャネル型トランジスタ6720やNチャネル型トランジスタ6721のように単極性のトランジスタで構成されている。なお、画素構成には図96〜図99、図118、及び図119の画素構成を適用することにより単極性のトランジスタで画素を構成することができる。よって、周辺駆動回路をNチャネル型トランジスタで構成すれば単極性表示パネルを作製することができる。もちろん、単極性のトランジスタだけでなくPチャネル型トランジスタも用いてCMOS回路を形成してもよい。
Note that the signal
なお、Nチャネル型トランジスタ6720、及びNチャネル型トランジスタ6721がPチャネル型だった場合、画素構成には図120や図121の画素構成を適用することにより単極性のトランジスタで画素を構成することができる。よって、周辺駆動回路をPチャネル型トランジスタで構成すれば単極性表示パネルを作成することができる。もちろん、単極性のトランジスタだけでなくNチャネル型トランジスタも用いてCMOS回路を形成してもよい。
Note that in the case where the N-
また、本実施例では、基板上に周辺駆動回路を一体形成した表示パネルを示すが、必ずしもその必要はなく、周辺駆動回路の全部若しくは一部をICチップなどに形成し、COGなどで実装してもよい。その場合には駆動回路は単極性にする必要がなくNチャネル型トランジスタとPチャネル型トランジスタとを組み合わせて用いることができる。 In this embodiment, a display panel in which a peripheral drive circuit is integrally formed on a substrate is shown. However, this is not always necessary, and all or a part of the peripheral drive circuit is formed on an IC chip and mounted by COG or the like. May be. In that case, the driver circuit does not have to be unipolar, and an N-channel transistor and a P-channel transistor can be used in combination.
また、画素部6702はトランジスタ6711と、トランジスタ6712とを有している。なお、トランジスタ6712のソース電極は第1の電極(画素電極6713)と接続されている。また、画素電極6713の端部を覆って絶縁物6714が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。
The
また、カバレッジを良好なものとするため、絶縁物6714の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物6714の材料としてポジ型の感光性アクリルを用いた場合、絶縁物6714の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物6714として、光によってエッチャントに不溶解性となるネガ型、或いは光によってエッチャントに溶解性となるポジ型のいずれも使用することができる。 In order to improve the coverage, a curved surface having a curvature is formed at the upper end portion or the lower end portion of the insulator 6714. For example, in the case where positive photosensitive acrylic is used as a material for the insulator 6714, it is preferable that only the upper end portion of the insulator 6714 has a curved surface with a curvature radius (0.2 μm to 3 μm). As the insulator 6714, either a negative type that becomes insoluble in an etchant by light or a positive type that becomes soluble in an etchant by light can be used.
画素電極6713上には、有機化合物を含む層6716、および第2の電極(対向電極6717)がそれぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する画素電極6713に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)膜、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。
Over the
また、有機化合物を含む層6716は、蒸着マスクを用いた蒸着法、またはインクジェット法によって形成される。有機化合物を含む層6716には、元素周期表第4族金属錯体をその一部に用いることとし、その他、組み合わせて用いることのできる材料としては、低分子系材料であっても高分子系材料であってもよい。また、有機化合物を含む層に用いる材料としては、通常、有機化合物を単層もしくは積層で用いる場合が多いが、本実施例においては、有機化合物からなる膜の一部に無機化合物を用いる構成も含めることとする。さらに、公知の三重項材料を用いることも可能である。
The
さらに、有機化合物を含む層6716上に形成される対向電極6717に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、フッ化カルシウム、または窒化カルシウム)を用いればよい。なお、有機化合物を含む層6716で生じた光が対向電極6717を透過させる場合には、対向電極6717(陰極)として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(ITO(酸化インジウム酸化スズ合金)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In2O3―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのがよい。
Further, as a material used for the
さらにシール材6705で封止基板6704を基板6710と貼り合わせることにより、基板6710、封止基板6704、およびシール材6705で囲まれた空間6707に発光素子6718が備えられた構造になっている。なお、空間6707には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材6705で充填される構成も含むものとする。
Further, a sealing
なお、シール材6705にはエポキシ系樹脂を用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板6704に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−ReinforcedPlastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、マイラー、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
Note that an epoxy-based resin is preferably used for the
以上のようにして、本発明の画素構成を有する表示パネルを得ることができる。なお、上述した構成は一例であって本発明の表示パネルの構成はこれに限定されない。 As described above, a display panel having the pixel configuration of the present invention can be obtained. Note that the above-described configuration is an example, and the configuration of the display panel of the present invention is not limited to this.
図100に示すように、信号線制御回路6701、画素部6702、第1のゲートドライバ6703及び第2のゲートドライバ6706を一体形成することで、表示装置の低コスト化が図れる。また、この場合において、信号線制御回路6701、画素部6702、第1のゲートドライバ6703及び第2のゲートドライバ6706に用いられるトランジスタを単極性とすることで作製工程の簡略化が図れるためさらなる低コスト化が図れる。
As shown in FIG. 100, the signal
なお、表示パネルの構成としては、図100(a)に示したように信号線制御回路6701、画素部6702、第1のゲートドライバ6703及び第2のゲートドライバ6706を一体形成した構成に限られず、信号線制御回路6701に相当する図101に示す信号線制御回路6801をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成としてもよい。なお、図101(a)の基板6800、画素部6802、第1のゲートドライバ6803、第2のゲートドライバ6804、FPC6805、ICチップ6806、ICチップ6807、封止基板6808、シール材6809は図100(a)の基板6710、画素部6702、第1のゲートドライバ6703、第2のゲートドライバ6706、FPC6709、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。
Note that the structure of the display panel is not limited to the structure in which the signal
つまり、高速動作が要求される信号制御回路のみを、CMOS等を用いてICチップに形成し、低消費電力化を図る。また、ICチップはシリコンウエハ等の半導体チップとすることで、より高速動作且つ低消費電力化を図れる。 That is, only a signal control circuit that requires high-speed operation is formed on an IC chip using a CMOS or the like to reduce power consumption. Further, by using a semiconductor chip such as a silicon wafer as the IC chip, higher speed operation and lower power consumption can be achieved.
そして、第1のゲートドライバ6803や第2のゲートドライバ6804を画素部6802と一体形成することで、低コスト化が図れる。そして、この第1のゲートドライバ6803、第2のゲートドライバ6804及び画素部6802は単極性のトランジスタで構成することでさらなる低コスト化が図れる。画素部6802の有する画素の構成としては第3の実施例で示した画素を適用することができる。
By forming the
こうして、高精細な表示装置の低コスト化が図れる。また、FPC6805と基板6800との接続部において機能回路(メモリやバッファ)が形成されたICチップを実装することで基板面積を有効利用することができる。
Thus, the cost of a high-definition display device can be reduced. Further, by mounting an IC chip on which a functional circuit (memory or buffer) is formed at a connection portion between the
また、図100(a)の信号線制御回路6701、第1のゲートドライバ6703及び第2のゲートドライバ6706に相当する図101(b)の信号線制御回路6811、第1のゲートドライバ6814及び第2のゲートドライバ6813をICチップ上に形成して、COG等で表示パネルに実装した構成としてもよい。この場合には高精細な表示装置をより低消費電力にすることが可能である。よって、より消費電力が少ない表示装置とするためには、画素部に用いられるトランジスタの半導体層にはアモルファスシリコンを用いることが望ましい。なお、図101(b)の基板6810、画素部6812、FPC6815、ICチップ6816、ICチップ6817、封止基板6818、シール材6819は図100(a)の基板6710、画素部6702、FPC6709、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。
In addition, the signal
また、画素部6812のトランジスタの半導体層にアモルファスシリコンを用いることにより低コスト化を図ることができる。さらに、大型の表示パネルを作製することも可能となる。
In addition, cost can be reduced by using amorphous silicon for the semiconductor layer of the transistor in the
また、画素の行方向及び列方向に第2のゲートドライバ、第1のゲートドライバ及び信号制御回路を設けなくてもよい。例えば、図102(a)に示すようにICチップ上に形成された周辺駆動回路6901が、図101(b)に示す、第1のゲートドライバ6814、第2のゲートドライバ6813及び信号線制御回路6811の機能を有するようにしてもよい。なお、図102(a)の基板6900、画素部6902、FPC6904、ICチップ6905、ICチップ6906、封止基板6907、シール材6908は図100(a)の基板6710、画素部6702、FPC6709、ICチップ6719、封止基板6704、シール材6705に相当する。
Further, the second gate driver, the first gate driver, and the signal control circuit may not be provided in the row direction and the column direction of the pixel. For example, a
なお、図102(a)の表示装置の配線の接続を説明する模式図を図102(b)に示す。基板6910、周辺駆動回路6911、画素部6912、FPC6913、FPC6914を有する。FPC6913より周辺駆動回路6911に外部からの信号及び電源電位が入力される。そして、周辺駆動回路6911からの出力は、画素部6912の有する画素に接続された行方向及び列方向の配線に入力される。
Note that FIG. 102B is a schematic diagram for explaining wiring connection of the display device in FIG. A
さらに、発光素子6718に適用可能な発光素子の例を図103(a)、(b)に示す。つまり、上記実施例で示した画素に適用可能な発光素子の構成について図103(a)、(b)を用いて説明する。
Further, examples of light-emitting elements applicable to the light-emitting
図103(a)の発光素子は、基板7001の上に陽極7002、正孔注入材料からなる正孔注入層7003、その上に正孔輸送材料からなる正孔輸送層7004、発光層7005、電子輸送材料からなる電子輸送層7006、電子注入材料からなる電子注入層7007、そして陰極7008を積層させた素子構造である。ここで、発光層7005は、一種類の発光材料のみから形成されることもあるが、2種類以上の材料から形成されてもよい。また本発明の素子の構造は、この構造に限定されない。
A light emitting element in FIG. 103A includes an
また、図103(a)で示した各機能層を積層した積層構造の他、高分子化合物を用いた素子、発光層に三重項励起状態から発光する三重項発光材料を利用した高効率素子など、バリエーションは多岐にわたる。ホールブロック層によってキャリアの再結合領域を制御し、発光領域を二つの領域にわけることによって得られる白色発光素子などにも応用可能である。 In addition to the stacked structure in which the functional layers shown in FIG. 103A are stacked, an element using a polymer compound, a high-efficiency element using a triplet light emitting material that emits light from a triplet excited state in a light emitting layer, and the like. The variation is wide. The present invention can also be applied to a white light emitting element obtained by controlling the carrier recombination region by the hole blocking layer and dividing the light emitting region into two regions.
図103(a)に示す本発明の素子作製方法は、まず、陽極7002(ITO)を有する基板7001に正孔注入材料、正孔輸送材料、発光材料を順に蒸着する。次に電子輸送材料、電子注入材料を蒸着し、最後に陰極7008を蒸着で形成する。
In the element manufacturing method of the present invention shown in FIG. 103A, first, a hole injection material, a hole transport material, and a light emitting material are sequentially deposited on a
次に、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、発光材料の材料に好適な材料を以下に列挙する。 Next, materials suitable for the hole injection material, the hole transport material, the electron transport material, the electron injection material, and the light emitting material are listed below.
正孔注入材料としては、有機化合物であればポルフィリン系の化合物や、フタロシアニン(以下「H2Pc」と記す)、銅フタロシアニン(以下「CuPc」と記す)などが有効である。また、使用する正孔輸送材料よりもイオン化ポテンシャルの値が小さく、かつ、正孔輸送機能をもつ材料であれば、これも正孔注入材料として使用できる。導電性高分子化合物に化学ドーピングを施した材料もあり、ポリスチレンスルホン酸(以下「PSS」と記す)をドープしたポリエチレンジオキシチオフェン(以下「PEDOT」と記す)や、ポリアニリンなどが挙げられる。また、絶縁体の高分子化合物も陽極の平坦化の点で有効であり、ポリイミド(以下「PI」と記す)がよく用いられる。さらに、無機化合物も用いられ、金や白金などの金属薄膜の他、酸化アルミニウム(以下「アルミナ」と記す)の超薄膜などがある。 As the hole injection material, porphyrin compounds, phthalocyanine (hereinafter referred to as “H 2 Pc”), copper phthalocyanine (hereinafter referred to as “CuPc”), and the like are effective as long as they are organic compounds. In addition, any material that has a smaller ionization potential than the hole transport material used and has a hole transport function can also be used as the hole injection material. There is also a material obtained by chemically doping a conductive polymer compound, and examples thereof include polyethylenedioxythiophene (hereinafter referred to as “PEDOT”) doped with polystyrene sulfonic acid (hereinafter referred to as “PSS”), polyaniline, and the like. An insulating polymer compound is also effective in terms of planarization of the anode, and polyimide (hereinafter referred to as “PI”) is often used. In addition, inorganic compounds are also used. In addition to metal thin films such as gold and platinum, there are ultra thin films of aluminum oxide (hereinafter referred to as “alumina”).
正孔輸送材料として最も広く用いられているのは、芳香族アミン系(すなわち、ベンゼン環−窒素の結合を有するもの)の化合物である。広く用いられている材料として、4,4’−ビス(ジフェニルアミノ)−ビフェニル(以下、「TAD」と記す)や、その誘導体である4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「TPD」と記す)、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(以下、「α−NPD」と記す)がある。4,4’,4”−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(以下、「TDATA」と記す)、4,4’,4”−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(以下、「MTDATA」と記す)などのスターバースト型芳香族アミン化合物が挙げられる。
The most widely used hole transport material is an aromatic amine-based compound (that is, a compound having a benzene ring-nitrogen bond). As widely used materials, 4,4′-bis (diphenylamino) -biphenyl (hereinafter referred to as “TAD”) and its
電子輸送材料としては、金属錯体がよく用いられ、Alq、BAlq、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(以下、「Almq」と記す)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(以下、「Bebq」と記す)などのキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体などがある。また、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BOX)2」と記す)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(以下、「Zn(BTZ)2」と記す)などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体もある。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(以下、「PBD」と記す)、OXD−7などのオキサジアゾール誘導体、TAZ、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−23、4−トリアゾール(以下、「p−EtTAZ」と記す)などのトリアゾール誘導体、バソフェナントロリン(以下、「BPhen」と記す)、BCPなどのフェナントロリン誘導体が電子輸送性を有する。 As an electron transport material, a metal complex is often used. Alq, BAlq, tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as “Almq”), bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) And metal complexes having a quinoline skeleton or a benzoquinoline skeleton such as beryllium (hereinafter referred to as “Bebq”). Further, bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (hereinafter referred to as “Zn (BOX) 2 ”), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (hereinafter referred to as “Zn (BOX) 2 ”) There is also a metal complex having an oxazole-based or thiazole-based ligand such as “Zn (BTZ) 2 ”). In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (hereinafter referred to as “PBD”), OXD-7, and the like Oxadiazole derivatives of TAZ, 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -23, 4-triazole (hereinafter referred to as “p-EtTAZ”) And phenanthroline derivatives such as bathophenanthroline (hereinafter referred to as “BPhen”) and BCP have electron transport properties.
電子注入材料としては、上で述べた電子輸送材料を用いることができる。その他に、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウムなどの金属ハロゲン化物や、酸化リチウムなどのアルカリ金属酸化物のような絶縁体の、超薄膜がよく用いられる。また、リチウムアセチルアセトネート(以下、「Li(acac)」と記す)や8−キノリノラト−リチウム(以下、「Liq」と記す)などのアルカリ金属錯体も有効である。 The electron transport material described above can be used as the electron injection material. In addition, an ultra-thin film of an insulator such as a metal halide such as calcium fluoride, lithium fluoride, or cesium fluoride, or an alkali metal oxide such as lithium oxide is often used. In addition, alkali metal complexes such as lithium acetylacetonate (hereinafter referred to as “Li (acac)”) and 8-quinolinolato-lithium (hereinafter referred to as “Liq”) are also effective.
発光材料としては、先に述べたAlq、Almq、BeBq、BAlq、Zn(BOX)2、Zn(BTZ)2などの金属錯体の他、各種蛍光色素が有効である。蛍光色素としては、青色の4,4’−ビス(2,2−ジフェニル−ビニル)−ビフェニルや、赤橙色の4−(ジシアノメチレン)−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピランなどがある。また、三重項発光材料も可能であり、白金ないしはイリジウムを中心金属とする錯体が主体である。三重項発光材料として、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、ビス(2−(4’−トリル)ピリジナト−N,C2’)アセチルアセトナトイリジウム(以下「acacIr(tpy)2」と記す)、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23Hポルフィリン−白金などが知られている。 As the luminescent material, various fluorescent dyes are effective in addition to the metal complexes such as Alq, Almq, BeBq, BAlq, Zn (BOX) 2 and Zn (BTZ) 2 described above. As the fluorescent dye, blue 4,4′-bis (2,2-diphenyl-vinyl) -biphenyl and red-orange 4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl)- 4H-pyran and the like. A triplet light emitting material is also possible, and is mainly a complex having platinum or iridium as a central metal. As a triplet light emitting material, tris (2-phenylpyridine) iridium, bis (2- (4′-tolyl) pyridinato-N, C 2 ′ ) acetylacetonatoiridium (hereinafter referred to as “acacIr (tpy) 2 ”), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H, 23H porphyrin-platinum and the like are known.
以上で述べたような各機能を有する材料を、各々組み合わせ、高信頼性の発光素子を作製することができる。 A highly reliable light-emitting element can be manufactured by combining the materials having the functions described above.
また、第3の実施例で示した表示素子973には図103(b)に示すように図103(a)とは逆の順番に層を形成した発光素子を用いることができる。つまり、基板7011の上に陰極7018、電子注入材料からなる電子注入層7017、その上に電子輸送材料からなる電子輸送層7016、発光層7015、正孔輸送材料からなる正孔輸送層7014、正孔注入材料からなる正孔注入層7013、そして陽極7012を積層させた素子構造である。
Further, as the
また、発光素子は発光を取り出すために少なくとも陽極又は陰極の一方が透明であればよい。そして、基板上にトランジスタ及び発光素子を形成し、基板とは逆側の面から発光を取り出す上面射出や、基板側の面から発光を取り出す下面射出や、基板側及び基板とは反対側の面から発光を取り出す両面射出構造の発光素子があり、本発明の画素構成はどの射出構造の発光素子にも適用することができる。 In addition, in order to extract light emitted from the light emitting element, at least one of the anode and the cathode may be transparent. Then, a transistor and a light emitting element are formed over the substrate, and a top emission that extracts light from a surface opposite to the substrate, a bottom emission that extracts light from a surface on the substrate side, and a surface opposite to the substrate side and the substrate. The pixel structure of the present invention can be applied to a light emitting element having any emission structure.
上面射出構造の発光素子について図104(a)を用いて説明する。 A light-emitting element having a top emission structure will be described with reference to FIG.
基板7100上に駆動用TFT7101が形成され、駆動用TFT7101のソース電極に接して第1の電極7102が形成され、その上に有機化合物を含む層7103と第2の電極7104が形成されている。
A driving
また、第1の電極7102は発光素子の陽極である。そして第2の電極7104は発光素子の陰極である。つまり、第1の電極7102と第2の電極7104とで有機化合物を含む層7103が挟まれているところが発光素子となる。
The
また、ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、窒化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させることができる。光を反射する金属膜を用いることで光を透過させない陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the
また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、フッ化カルシウム、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウムスズ酸化物)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのがよい。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
As a material used for the
こうして、図104(a)の矢印に示すように発光素子からの光を上面に取り出すことが可能になる。つまり、図100の表示パネルに適用した場合には、封止基板6704側に光が射出することになる。従って上面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には封止基板6704は光透過性を有する基板を用いる。
In this manner, light from the light emitting element can be extracted to the upper surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel in FIG. 100, light is emitted to the sealing
また、光学フィルムを設ける場合には、封止基板6704に光学フィルムを設ければよい。
In the case where an optical film is provided, an optical film may be provided over the sealing
なお、第1の電極7102には陰極として機能するMgAg、MgIn、AlLi等の仕事関数の小さい材料からなる金属膜を用いることができる。そして、第2の電極7104にはITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)などの透明導電膜を用いることができる。よって、この構成によれば、上面射出の透過率を高くすることができる。
Note that the
また、下面射出構造の発光素子について図104(b)を用いて説明する。射出構造以外は図104(a)と同じ構造の発光素子であるため同じ符号を用いて説明する。 A light-emitting element having a bottom emission structure will be described with reference to FIG. Since the light-emitting element has the same structure as that in FIG. 104A except for the emission structure, the description will be made using the same reference numerals.
ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the
また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、フッ化カルシウム、またはCa3N2)からなる金属膜を用いることができる。こうして、光を反射する金属膜を用いることで光が透過しない陰極を形成することができる。
As a material used for the
こうして、図104(b)の矢印に示すように発光素子からの光を下面に取り出すことが可能になる。つまり、図100の表示パネルに適用した場合には、基板6710側に光が射出することになる。従って下面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には基板6710は光透過性を有する基板を用いる。
In this manner, light from the light emitting element can be extracted to the lower surface as indicated by an arrow in FIG. That is, when applied to the display panel of FIG. 100, light is emitted to the
また、光学フィルムを設ける場合には、基板6710に光学フィルムを設ければよい。
In the case of providing an optical film, the
両面射出構造の発光素子について図104(c)を用いて説明する。射出構造以外は図104(a)と同じ構造の発光素子であるため同じ符号を用いて説明する。 A light-emitting element having a dual emission structure will be described with reference to FIG. Since the light-emitting element has the same structure as that in FIG. 104A except for the emission structure, the description will be made using the same reference numerals.
ここで、陽極として機能する第1の電極7102に用いる材料としては、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)膜、インジウム亜鉛酸化物(IZO)膜などの透明導電膜を用いることができる。透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陽極を形成することができる。
Here, as a material used for the
また、陰極として機能する第2の電極7104に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Ag、Li、Ca、またはこれらの合金MgAg、MgIn、AlLi、フッ化カルシウム、または窒化カルシウム)からなる金属薄膜と、透明導電膜(ITO(インジウムスズ酸化物)、酸化インジウム酸化亜鉛合金(In2O3―ZnO)、酸化亜鉛(ZnO)等)との積層を用いるのがよい。こうして薄い金属薄膜と、透明性を有する透明導電膜を用いることで光を透過させることが可能な陰極を形成することができる。
As a material used for the
こうして、図104(c)の矢印に示すように発光素子からの光を両面に取り出すことが可能になる。つまり、図100の表示パネルに適用した場合には、基板6710側と封止基板6704側に光が射出することになる。従って両面射出構造の発光素子を表示装置に用いる場合には、基板6710および封止基板6704は、ともに光透過性を有する基板を用いる。
In this manner, light from the light emitting element can be extracted on both sides as indicated by arrows in FIG. That is, when applied to the display panel in FIG. 100, light is emitted to the
また、光学フィルムを設ける場合には、基板6710および封止基板6704の両方に光学フィルムを設ければよい。
In the case where an optical film is provided, the optical film may be provided on both the
また、白色の発光素子とカラーフィルターを用いてフルカラー表示を実現する表示装置にも本発明を適用することが可能である。 In addition, the present invention can be applied to a display device that realizes full color display using a white light emitting element and a color filter.
図105に示すように、基板7200上に下地膜7202が形成され、その上に駆動用TFT7201が形成され、駆動用TFT7201のソース電極に接して第1の電極7203が形成され、その上に有機化合物を含む層7204と第2の電極7205が形成されている。
As shown in FIG. 105, a
また、第1の電極7203は発光素子の陽極である。そして第2の電極7205は発光素子の陰極である。つまり、第1の電極7203と第2の電極7205とで有機化合物を含む層7204が挟まれているところが発光素子となる。図105の構成では白色光を発光する。そして、発光素子の上部に赤色のカラーフィルター7206R、緑色のカラーフィルター7206G、青色のカラーフィルター7206Bを設けられており、フルカラー表示を行うことができる。また、これらのカラーフィルターを隔離するブラックマトリクス(BM7207)が設けられている。
The
上述した発光素子の構成は組み合わせて用いることができ、本発明の画素構成を有する表示装置に適宜用いることができる。また、上述した表示パネルの構成や、発光素子は例示であり、もちろん本発明の画素構成は他の構成の表示装置に適用することもできる。 The above-described structures of the light-emitting elements can be used in combination and can be used as appropriate for a display device having the pixel structure of the present invention. In addition, the structure of the display panel and the light emitting element described above are examples, and the pixel structure of the present invention can of course be applied to display devices having other structures.
次に、表示パネルの画素部の部分断面図を示す。 Next, a partial cross-sectional view of a pixel portion of the display panel is shown.
まず、トランジスタの半導体層に結晶性半導体膜(ポリシリコン(p−Si:H)膜)を用いた場合について図106及び図107を用いて説明する。 First, the case where a crystalline semiconductor film (polysilicon (p-Si: H) film) is used for a semiconductor layer of a transistor is described with reference to FIGS.
ここで、半導体層は、例えば基板上にアモルファスシリコン(a−Si)膜を公知の成膜法で形成する。なお、アモルファスシリコン膜に限定する必要はなく、非結晶構造を含む半導体膜(微結晶半導体膜を含む)であればよい。さらに非結晶シリコンゲルマニウム膜などの非結晶構造を含む化合物半導体膜でもよい。 Here, as the semiconductor layer, for example, an amorphous silicon (a-Si) film is formed on a substrate by a known film formation method. Note that the semiconductor film is not limited to an amorphous silicon film and may be a semiconductor film including an amorphous structure (including a microcrystalline semiconductor film). Further, a compound semiconductor film including an amorphous structure such as an amorphous silicon germanium film may be used.
そして、アモルファスシリコン膜をレーザ結晶化法や、RTAやファーネスアニール炉を用いた熱結晶化法や、結晶化を助長する金属元素を用いた熱結晶化法などにより結晶化させる。もちろん、これらを組み合わせて行ってもよい。 Then, the amorphous silicon film is crystallized by a laser crystallization method, a thermal crystallization method using an RTA or a furnace annealing furnace, or a thermal crystallization method using a metal element that promotes crystallization. Of course, these may be combined.
上述した結晶化によって、非結晶半導体膜に部分的に結晶化された領域が形成される。 By the above-described crystallization, a partially crystallized region is formed in the amorphous semiconductor film.
さらに、部分的に結晶性が高められた結晶性半導体膜を所望の形状にパターニングして、結晶化された領域から島状の半導体膜を形成する。この半導体膜をトランジスタの半導体層に用いる。 Further, the crystalline semiconductor film partially improved in crystallinity is patterned into a desired shape, and an island-shaped semiconductor film is formed from the crystallized region. This semiconductor film is used for a semiconductor layer of a transistor.
図106(a)に示すように、基板26101上に下地膜26102が形成され、その上に半導体層が形成されている。半導体層は駆動トランジスタ26118のチャネル形成領域26103及びソース領域又はドレイン領域となる不純物領域26105、並びに容量素子26119の下部電極となるチャネル形成領域26106、LDD領域26107及び不純物領域26108を有する。なお、チャネル形成領域26103及びチャネル形成領域26106にはチャネルドープが行われていてもよい。
As shown in FIG. 106A, a
基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜26102としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO2)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層を用いることができる。
As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. As the
半導体層上にはゲート絶縁膜26109を介してゲート電極26110及び容量素子の上部電極26111が形成されている。
Over the semiconductor layer, a
駆動トランジスタ26118及び容量素子26119を覆って層間絶縁物26112が形成され、層間絶縁物26112上にコンタクトホールを介して配線26113が不純物領域26105と接している。配線26113に接して画素電極26114が形成され、画素電極26114の端部及び配線26113を覆って第2の層間絶縁物26115が形成されている。ここでは、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。そして、画素電極26114上に有機化合物を含む層26116及び対向電極26117が形成され、画素電極26114と対向電極26117とで有機化合物を含む層26116が挟まれた領域では発光素子26120が形成されている。
An
また、図106(b)に示すように、容量素子26119の下部電極の一部を構成するLDD領域が、上部電極26111と重なるような領域26202を設けてもよい。なお、図106(a)と共通するところは共通の符号を用い、説明は省略する。
In addition, as illustrated in FIG. 106B, a
また、図107(a)に示すように、駆動トランジスタ26118の不純物領域26105と接する配線26113と同じ層に形成された第2の上部電極26301を有していてもよい。なお、図106(a)と共通するところは共通の符号を用い、説明は省略する。第2の上部電極26301と上部電極26111とで層間絶縁物26112を挟みこみ、第2の容量素子を構成している。また、第2の上部電極26301は不純物領域26108と接しているため、上部電極26111とチャネル形成領域26106とでゲート絶縁膜26109を挟みこんで構成される第1の容量素子と、上部電極26111と第2の上部電極26301とで層間絶縁物26112を挟みこんで構成される第2の容量素子と、が並列に接続され、第1の容量素子と第2の容量素子からなる容量素子26302を構成している。この容量素子26302の容量は第1の容量素子と第2の容量素子の容量を加算した合成容量であるため、小さい面積で大きな容量の容量素子を形成することができる。つまり、本発明の画素構成の容量素子として用いるとより開口率の向上が図れる。
Further, as shown in FIG. 107A, a second upper electrode 26301 formed in the same layer as the
また、図107(b)に示すような容量素子の構成としてもよい。基板27101上に下地膜27102が形成され、その上に半導体層が形成されている。半導体層は駆動トランジスタ27118のチャネル形成領域27103及びソース領域又はドレイン領域となる不純物領域27105を有する。なお、チャネル形成領域27103はチャネルドープが行われていてもよい。
Alternatively, a structure of a capacitor as shown in FIG. A
基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜27102としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO2)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層を用いることができる。
As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. As the
半導体層上にはゲート絶縁膜27106を介してゲート電極27107及び第1の電極27108が形成されている。
A
駆動トランジスタ27118及び第1の電極27108を覆って第1の層間絶縁物27109が形成され、第1の層間絶縁物27109上にコンタクトホールを介して配線27110が不純物領域27105と接している。また、配線27110と同じ材料からなる同層の第2の電極27111が形成される。
A
さらに、配線27110及び第2の電極27111を覆うように第3の層間絶縁物27112が形成され、第2の層間絶縁物27112上にコンタクトホールを介して、配線27110と接して画素電極27113が形成されている。また、画素電極27113と同じ材料からなる同層の第3の電極27114が形成されている。ここで、第1の電極27108、第2の電極27111及び第3の電極27114からなる容量素子27119が形成される。
Further, a
画素電極27113と第3の電極27114の端部を覆って層間絶縁物27115が形成され、第3の層間絶縁物27115及び第3の電極27114上に有機化合物を含む層27116及び対向電極27117が形成され、画素電極27113と対向電極27117とで有機化合物を含む層27116が挟まれた領域では発光素子27120が形成されている。
An
上述したように、結晶性半導体膜を半導体層に用いたトランジスタの構成は図106及び図107に示したような構成が挙げられる。なお、図106及び図107に示したトランジスタの構造はトップゲートの構造のトランジスタの一例である。つまり、トランジスタはP型でもN型でもよい。N型の場合には、LDD領域はゲート電極と重なっていてもよいし、ゲート電極と重ならなくてもよいし、又はLDD領域の一部の領域が重なっていてもよい。さらに、ゲート電極はテーパー形状でもよく、ゲート電極のテーパー部の下部にLDD領域が自己整合的に設けられていてもよい。また、ゲート電極は二つに限られず三以上のマルチゲート構造でもよいし、一つのゲート電極でもよい。 As described above, a transistor including a crystalline semiconductor film as a semiconductor layer can have a structure illustrated in FIGS. Note that the structure of the transistor illustrated in FIGS. 106 and 107 is an example of a top-gate transistor. That is, the transistor may be P-type or N-type. In the case of N-type, the LDD region may overlap with the gate electrode, may not overlap with the gate electrode, or may overlap with a part of the LDD region. Further, the gate electrode may have a tapered shape, and an LDD region may be provided in a self-aligned manner below the tapered portion of the gate electrode. Further, the number of gate electrodes is not limited to two, but may be three or more multi-gate structures, or one gate electrode.
本発明の画素を構成するトランジスタの半導体層(チャネル形成領域やソース領域やドレイン領域など)に結晶性半導体膜を用いることで、例えば、図100における第1のゲートドライバ6703、第2のゲートドライバ6706及び信号線制御回路6701を画素部6702と一体形成することが容易になる。
By using a crystalline semiconductor film for a semiconductor layer (a channel formation region, a source region, a drain region, or the like) of a transistor included in the pixel of the present invention, for example, the
また、半導体層にポリシリコン(p−Si:H)を用いたトランジスタの構成として、基板と半導体層の間にゲート電極が挟まれた構造、つまり、半導体層の下にゲート電極が位置するボトムゲートのトランジスタを適用した表示パネルの部分断面を図108に示す。 In addition, as a transistor structure using polysilicon (p-Si: H) as a semiconductor layer, a structure in which a gate electrode is sandwiched between a substrate and a semiconductor layer, that is, a bottom where the gate electrode is located under the semiconductor layer. A partial cross section of a display panel to which a gate transistor is applied is shown in FIG.
基板7501上に下地膜7502が形成されている。さらに下地膜7502上にゲート電極7503が形成されている。また、ゲート電極と同層に同じ材料からなる第1の電極7504が形成されている。ゲート電極7503の材料にはリンが添加された多結晶シリコンを用いることができる。多結晶シリコンの他に、金属とシリコンの化合物であるシリサイドでもよい。
A
また、ゲート電極7503及び第1の電極7504を覆うようにゲート絶縁膜7505が形成されている。ゲート絶縁膜7505としては酸化珪素膜や窒化珪素膜などが用いられる。
A
また、ゲート絶縁膜7505上に、半導体層が形成されている。半導体層は駆動トランジスタ7522のチャネル形成領域7506、LDD領域7507及びソース領域又はドレイン領域となる不純物領域7508、並びに容量素子7523の第2の電極となるチャネル形成領域7509、LDD領域7510及び不純物領域7511を有する。なお、チャネル形成領域7506及びチャネル形成領域7509はチャネルドープが行われていてもよい。
In addition, a semiconductor layer is formed over the
基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜7502としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO2)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層を用いることができる。
As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. As the
半導体層を覆って第1の層間絶縁物7512が形成され、第1の層間絶縁物7512上にコンタクトホールを介して配線7513が不純物領域7508と接している。また、配線7513と同層に同じ材料で第3の電極7514が形成されている。第1の電極7504、第2の電極、第3の電極7514によって容量素子7523が構成されている。
A
また、第1の層間絶縁物7512には開口部7515が形成されている。駆動トランジスタ7522、容量素子7523及び開口部7515を覆うように第2の層間絶縁物7516が形成され、第2の層間絶縁物7516上にコンタクトホールを介して、画素電極7517が形成されている。また、画素電極7517の端部を覆って絶縁物7518が形成されている。例えば、ポジ型の感光性アクリル樹脂膜を用いることができる。そして、画素電極7517上に有機化合物を含む層7519及び対向電極7520が形成され、画素電極7517と対向電極7520とで有機化合物を含む層7519が挟まれた領域では発光素子7521が形成されている。そして、発光素子7521の下部に開口部7515が位置している。つまり、発光素子7521からの発光を基板側から取り出すときには、開口部7515を有するため透過率を高めることができる。
In addition, an
また、図108(a)において画素電極7517と同層に同じ材料を用いて第4の電極7524を形成して、図108(b)のような構成としてもよい。すると、第1の電極7504、第2の電極、第3の電極7514及び第4の電極7524によって構成される容量素子7523を形成することができる。
In FIG. 108A, the
次に、トランジスタの半導体層にアモルファスシリコン(a−Si:H)膜を用いた場合について説明する。図109にはトップゲートのトランジスタ、図110及び図111にはボトムゲートのトランジスタの場合について示す。 Next, the case where an amorphous silicon (a-Si: H) film is used for the semiconductor layer of the transistor will be described. FIG. 109 shows the case of a top gate transistor, and FIGS. 110 and 111 show the case of a bottom gate transistor.
アモルファスシリコンを半導体層に用いた順スタガ構造のトランジスタの断面を図109(a)に示す。に示すように、基板7601上に下地膜7602が形成されている。さらに下地膜7602上に画素電極7603が形成されている。また、画素電極7603と同層に同じ材料からなる第1の電極7604が形成されている。
FIG. 109A shows a cross section of a forward staggered transistor using amorphous silicon as a semiconductor layer. As shown, a
基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜7602としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO2)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層を用いることができる。
As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. The
また、下地膜7602上に配線7605及び配線7606が形成され、画素電極7603の端部が配線7605で覆われている。配線7605及び配線7606の上部にN型の導電型を有するN型半導体層7607及びN型半導体層7608が形成されている。また、配線7605と配線7606の間であって、下地膜7602上に半導体層7609が形成されている。そして、半導体層7609の一部はN型半導体層7607及びN型半導体層7608上にまで延長されている。なお、この半導体層はアモルファスシリコン(a−Si:H)、微結晶半導体(μ−Si:H)等の非結晶性を有する半導体膜で形成されている。また、半導体層7609上にゲート絶縁膜7610が形成されている。また、ゲート絶縁膜7610と同層の同じ材料からなる絶縁膜7611が第1の電極7604上にも形成されている。なお、ゲート絶縁膜7610としては酸化珪素膜や窒化珪素膜などが用いられる。
Further, a
また、ゲート絶縁膜7610上に、ゲート電極7612が形成されている。また、ゲート電極と同層に同じ材料でなる第2の電極7613が第1の電極7604上に絶縁膜7611を介して形成されている。第1の電極7604及び第2の電極7613で絶縁膜7611を挟まれた容量素子7619が形成されている。また、画素電極7603の端部、駆動トランジスタ7618及び容量素子7619を覆い、層間絶縁物7614が形成されている。
A
層間絶縁物7614及びその開口部に位置する画素電極7603上に有機化合物を含む層7615及び対向電極7616が形成され、画素電極7603と対向電極7616とで有機化合物を含む層7615が挟まれた領域では発光素子7617が形成されている。
A
また、図109(a)に示す第1の電極7604を図109(b)に示すように第1の電極7620で形成してもよい。第1の電極7620は配線7605及び7606と同層の同一材料で形成されている。
In addition, the
また、アモルファスシリコンを半導体層に用いたボトムゲート構造のトランジスタを用いた表示パネルの部分断面を図110に示す。 FIG. 110 shows a partial cross section of a display panel using a bottom-gate transistor in which amorphous silicon is used for a semiconductor layer.
基板7701上に下地膜7702が形成されている。さらに下地膜7702上にゲート電極7703が形成されている。また、ゲート電極と同層に同じ材料からなる第1の電極7704が形成されている。ゲート電極7703の材料にはリンが添加された多結晶シリコンを用いることができる。多結晶シリコンの他に、金属とシリコンの化合物であるシリサイドでもよい。
A
また、ゲート電極7703及び第1の電極7704を覆うようにゲート絶縁膜7705が形成されている。ゲート絶縁膜7705としては酸化珪素膜や窒化珪素膜などが用いられる。
A
また、ゲート絶縁膜7705上に、半導体層7706が形成されている。また、半導体層7706と同層に同じ材料からなる半導体層7707が形成されている。
In addition, a
基板はガラス基板、石英基板、セラミック基板、プラスチック基板などを用いることができる。また、下地膜7602としては、窒化アルミ(AlN)や酸化珪素(SiO2)、酸化窒化珪素(SiOxNy)などの単層やこれらの積層を用いることができる。
As the substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a ceramic substrate, a plastic substrate, or the like can be used. The
半導体層7706上にはN型の導電性を有するN型半導体層7708、7709が形成され、半導体層7707上にはN型半導体層7710が形成されている。
N-
N型半導体層7708、7709上にはそれぞれ配線7711、7712が形成され、N型半導体層7710上には配線7711及び7712と同層の同一材料からなる導電層7713が形成されている。
半導体層7707、N型半導体層7710及び導電層7713からなる第2の電極が構成される。なお、この第2の電極と第1の電極7704でゲート絶縁膜7705を挟み込んだ構造の容量素子7720が形成されている。
A second electrode including the
また、配線7711の一方の端部は延在し、その延在した配線7711上部に接して画素電極7714が形成されている。
In addition, one end portion of the
また、画素電極7714の端部、駆動トランジスタ7719及び容量素子7720を覆うように絶縁物7715が形成されている。
An
画素電極7714及び絶縁物7715上には有機化合物を含む層7716及び対向電極7717が形成され、画素電極7714と対向電極7717とで有機化合物を含む層7716が挟まれた領域では発光素子7718が形成されている。
A
容量素子の第2の電極の一部となる半導体層7707及びN型半導体層7710は設けなくてもよい。つまり第2の電極は導電層7713とし、第1の電極7704と導電層7713でゲート絶縁膜が挟まれた構造の容量素子としてもよい。
The
なお、図110(a)において、配線7711を形成する前に画素電極7714を形成することで、図110(b)に示すような、画素電極7714からなる第2の電極7721と第1の電極7704でゲート絶縁膜7705が挟まれた構造の容量素子7720を形成することができる。
Note that in FIG. 110A, the
なお、図110では、逆スタガ型のチャネルエッチ構造のトランジスタについて示したが、もちろんチャネル保護構造のトランジスタでもよい。チャネル保護構造のトランジスタの場合について、図111(a)、(b)を用いて説明する。 Note that although an inverted staggered channel-etched transistor is shown in FIG. 110, a channel protective transistor may be used as a matter of course. A case of a transistor having a channel protective structure will be described with reference to FIGS.
図111(a)に示すチャネル保護型構造のトランジスタは図110(a)に示したチャネルエッチ構造の駆動トランジスタ7719の半導体層7706のチャネルが形成される領域上にエッチングのマスクとなる絶縁物7801が設けられている点が異なり、他の共通しているところは共通の符号を用いている。
A transistor with a channel protective structure shown in FIG. 111A is an
また、同様に、図111(b)に示すチャネル保護型構造のトランジスタは図110(b)に示したチャネルエッチ構造の駆動トランジスタ7719の半導体層7706のチャネルが形成される領域上にエッチングのマスクとなる絶縁物7802が設けられている点が異なり、他の共通しているところは共通の符号を用いている。
Similarly, the transistor having the channel protection structure illustrated in FIG. 111B has an etching mask over the region where the channel of the
本発明の画素を構成するトランジスタの半導体層(チャネル形成領域やソース領域やドレイン領域など)に非結晶半導体膜を用いることで、製造コストを削減することができる。例えば、第3の実施例に示す画素構成を用いることで非結晶半導体膜を適用することが可能である。 By using an amorphous semiconductor film for a semiconductor layer (a channel formation region, a source region, a drain region, or the like) of a transistor included in the pixel of the present invention, manufacturing cost can be reduced. For example, an amorphous semiconductor film can be applied by using the pixel configuration shown in the third embodiment.
なお、本発明の画素構成の適用することができるトランジスタの構造や、容量素子の構造は上述した構成に限られず、さまざまな構成のトランジスタの構造や、容量素子の構造のものを用いることができる。 Note that the structure of the transistor to which the pixel structure of the present invention can be applied and the structure of the capacitor are not limited to those described above, and transistors having various structures and structures of capacitors can be used. .
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施の形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。すなわち、本実施例において示した表示パネルに接続される本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be implemented freely combining with any description in the other embodiments and examples in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention connected to the display panel shown in this embodiment supplies a power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
本発明の表示装置は様々な電子機器に適用することができる。具体的には電子機器の表示部に適用することができる。そのような電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機又は電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。 The display device of the present invention can be applied to various electronic devices. Specifically, it can be applied to a display portion of an electronic device. Such electronic devices include video cameras, digital cameras, goggles-type displays, navigation systems, sound playback devices (car audio, audio components, etc.), computers, game devices, portable information terminals (mobile computers, mobile phones, portable games) Or an image reproducing apparatus (specifically, an apparatus having a display capable of reproducing a recording medium such as a digital versatile disc (DVD) and displaying the image). .
図117(A)はディスプレイであり、筐体84101、支持台84102、表示部84103等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84103に用いることができる。なお、ディスプレイは、パーソナルコンピュータ用、テレビジョン放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用表示装置が含まれる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84103に用いたディスプレイは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117A illustrates a display which includes a
近年、ディスプレイの大型化のニーズが強くなっている。そして、ディスプレイの大型化に伴い価格の上昇が問題となっている。よって、いかに製造コストの削減を図り、高品質な製品を少しでも低価格に抑えるかが課題となる。 In recent years, there is an increasing need for larger displays. And the increase in price has become a problem as the display becomes larger. Therefore, the issue is how to reduce manufacturing costs and keep high-quality products at a low price.
例えば、第3の実施例に示す画素構成を表示パネルの画素部に用いることで、単極性のトランジスタからなる表示パネルを提供することができる。よって、工程数を減らし製造コストを削減することができる。 For example, by using the pixel configuration shown in the third embodiment for the pixel portion of the display panel, a display panel including a unipolar transistor can be provided. Therefore, the number of steps can be reduced and the manufacturing cost can be reduced.
また、図100(a)に示すように画素部と周辺の駆動回路を一体形成することにより、単極性のトランジスタからなる回路で構成された表示パネルを形成することができる。 In addition, as shown in FIG. 100A, a pixel panel and a peripheral driver circuit are integrally formed, whereby a display panel including a circuit formed of a unipolar transistor can be formed.
また、画素部を構成する回路のトランジスタの半導体層に非結晶半導体(例えばアモルファスシリコン(a−Si:H))を用いることで、工程を簡略化し、さらなるコストダウンが図れる。この場合には図101(b)や図102(a)に示したように、画素部の周辺の駆動回路をICチップ上に形成し、COG等で表示パネルに実装するよい。このように、非結晶半導体を用いることでディスプレイの大型化が容易になる。 Further, by using an amorphous semiconductor (for example, amorphous silicon (a-Si: H)) for a semiconductor layer of a transistor included in a circuit included in the pixel portion, the process can be simplified and further cost reduction can be achieved. In this case, as shown in FIGS. 101B and 102A, a driver circuit around the pixel portion may be formed over the IC chip and mounted on the display panel by COG or the like. In this way, the use of an amorphous semiconductor makes it easy to increase the size of the display.
図117(B)はカメラであり、本体84201、表示部84202、受像部84203、操作キー84204、外部接続ポート84205、シャッター84206等を含む。
FIG. 117B shows a camera, which includes a
近年、デジタルカメラなどの高性能化に伴い、生産競争は激化している。そして、いかに高性能なものを低価格に抑えるかが重要となる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84202に用いたデジタルカメラは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
In recent years, production competition has intensified along with the improvement in performance of digital cameras and the like. And how to keep high-performance products at low prices is important. A digital camera using the display device having the pixel structure of the invention for the
例えば、第3の実施例に示す画素構成を画素部に用いることで、単極性のトランジスタからなる画素部を形成することができる。また、図101(a)に示すように、動作速度の高い信号制御回路はICチップ上に形成し、比較的動作速度の低いゲートドライバを画素部と共に単極性のトランジスタで構成される回路で一体形成することで、高性能化を実現し、低コスト化を図ることができる。また、画素部と、画素部と共に一体形成するゲートドライバに用いられるトランジスタの半導体層に非結晶半導体、例えばアモルファスシリコンを適用することでさらなる低コスト化が図れる。 For example, by using the pixel configuration shown in the third embodiment for the pixel portion, a pixel portion formed of a unipolar transistor can be formed. In addition, as shown in FIG. 101A, a signal control circuit with a high operating speed is formed on an IC chip, and a gate driver with a relatively low operating speed is integrated with a circuit composed of a unipolar transistor together with a pixel portion. By forming, high performance can be realized and cost can be reduced. Further, by using an amorphous semiconductor, for example, amorphous silicon, in the pixel portion and a semiconductor layer of a transistor used for a gate driver integrally formed with the pixel portion, cost can be further reduced.
図117(C)はコンピュータであり、本体84301、筐体84302、表示部84303、キーボード84304、外部接続ポート84305、ポインティングデバイス84306等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84303に用いたコンピュータは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117C illustrates a computer, which includes a
図117(D)はモバイルコンピュータであり、本体84401、表示部84402、スイッチ84403、操作キー84404、赤外線ポート84405等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84402に用いたモバイルコンピュータは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117D illustrates a mobile computer, which includes a
図117(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体84501、筐体84502、表示部A84503、表示部B84504、記録媒体読み込み部84505、操作キー84506、スピーカー部84507等を含む。表示部A84503は主として画像情報を表示し、表示部B84504は主として文字情報を表示することができる。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部A84503や表示部B84504に用いた画像再生装置は、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117E illustrates a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) including a recording medium, which includes a
図117(F)はゴーグル型ディスプレイであり、本体84601、表示部84602、イヤホン84603、支持部84604を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84602に用いたゴーグル型ディスプレイは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117F illustrates a goggle type display which includes a
図117(G)は携帯型遊技機であり、筐体84701、表示部84702、スピーカー部84703、操作キー84704、記憶媒体挿入部84705等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84702に用いた携帯型遊技機は、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117G illustrates a portable game machine, which includes a housing 84701, a
図117(H)はテレビ受像機能付きデジタルカメラであり、本体84801、表示部84802、操作キー84803、スピーカー84804、シャッター84805、受像部84806、アンテナ84807等を含む。本発明の画素構成を有する表示装置を表示部84802に用いたテレビ受像機能付きデジタルカメラは、消費電力を抑えつつ、表示不良を防止することができる。また、画素の開口率が高く高精細な表示が可能となる。また、低コスト化を図ることも可能である。
FIG. 117H illustrates a digital camera with a television receiving function, which includes a
例えば、図96〜図99、図118、及び図119の画素構成を画素部に用いることで、画素の開口率を向上させることができる。具体的には、発光素子を駆動する駆動トランジスタにNチャネル型のトランジスタを用いることで開口率が向上する。よって、高精細な表示部を有するテレビ受像機能付きデジタルカメラを提供することができる。 For example, by using the pixel configuration in FIGS. 96 to 99, 118, and 119 for the pixel portion, the aperture ratio of the pixel can be improved. Specifically, the aperture ratio is improved by using an N-channel transistor as a driving transistor for driving the light-emitting element. Therefore, a digital camera with a television receiving function having a high-definition display portion can be provided.
このように多機能化し、テレビ受像機能付きデジタルカメラはテレビの視聴等に使用頻度が高まる一方で、一回の充電により長時間使用できることが要求される。 As described above, a digital camera with a multi-function television receiving function is required to be usable for a long time by one charge while being frequently used for viewing a television.
例えば、図101(b)や図102(a)に示すように周辺駆動回路をICチップ上に形成し、CMOS等を用いることにより低消費電力化を図ることが可能である。 For example, as shown in FIGS. 101B and 102A, it is possible to reduce power consumption by forming a peripheral driver circuit on an IC chip and using a CMOS or the like.
このように本発明は、あらゆる電子機器に適用することが可能である。 Thus, the present invention can be applied to all electronic devices.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施の形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。すなわち、本実施例において示した電子機器に接続される本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be implemented freely combining with any description in the other embodiments and examples in this specification. That is, the shift register circuit of the present invention connected to the electronic device shown in this embodiment supplies a power supply potential to the output terminal when the transistor is turned on every predetermined time in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
本実施例において、本発明の画素構成を用いた表示装置を表示部に有する携帯電話の構成例について図116を用いて説明する。 In this embodiment, a structure example of a cellular phone including a display device using the pixel structure of the present invention in a display portion will be described with reference to FIG.
表示パネル8301はハウジング8330に脱着自在に組み込まれる。ハウジング8330は表示パネル8301のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。表示パネル8301を固定したハウジング8330はプリント基板8331に嵌入されモジュールとして組み立てられる。 The display panel 8301 is incorporated in a housing 8330 so as to be detachable. The shape and size of the housing 8330 can be changed as appropriate in accordance with the size of the display panel 8301. A housing 8330 to which the display panel 8301 is fixed is fitted into a printed board 8331 and assembled as a module.
表示パネル8301はFPC8313を介してプリント基板8331に接続される。プリント基板8331には、スピーカー8332、マイクロフォン8333、送受信回路8334、CPU及びコントローラなどを含む信号処理回路8335が形成されている。このようなモジュールと、入力手段8336、バッテリー8337を組み合わせ、筐体8339に収納する。表示パネル8301の画素部は筐体8339に形成された開口窓から視認できように配置する。
The display panel 8301 is connected to the printed board 8331 through the
表示パネル8301は、画素部と一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の低い駆動回路)を基板上にトランジスタを用いて一体形成し、一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の高い駆動回路)をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)で表示パネル8301に実装してもよい。あるいは、そのICチップをTAB(Tape Automated Bonding)やプリント基板を用いてガラス基板と接続してもよい。このような構成とすることで、表示装置の低消費電力化を図り、携帯電話機の一回の充電による使用時間を長くすることができる。また、携帯電話機の低コスト化を図ることができる。 In the display panel 8301, a pixel portion and some peripheral driver circuits (a driver circuit having a low operating frequency among a plurality of driver circuits) are formed over a substrate using transistors, and some peripheral driver circuits (a plurality of driver circuits) are formed. A driving circuit having a high operating frequency among the circuits) may be formed over the IC chip, and the IC chip may be mounted on the display panel 8301 by COG (Chip On Glass). Alternatively, the IC chip may be connected to the glass substrate using TAB (Tape Automated Bonding) or a printed board. With such a structure, the power consumption of the display device can be reduced, and the usage time by one charge of the mobile phone can be extended. In addition, the cost of the mobile phone can be reduced.
また、画素部には上記実施例で示した画素構成を適宜適用することができる。 The pixel structure described in the above embodiment can be applied as appropriate to the pixel portion.
例えば、第3の実施例に示す画素構成等を適用することで、低コスト化を実現するため画素部及び画素部と一体形成する周辺駆動回路を単極性のトランジスタで構成して製造工程の削減を図ることができる。 For example, by applying the pixel configuration shown in the third embodiment and the like, the pixel portion and the peripheral drive circuit formed integrally with the pixel portion are configured with a unipolar transistor in order to realize cost reduction, thereby reducing the manufacturing process. Can be achieved.
また、さらに消費電力の低減を図るため、図101(b)や図102(a)に示すように、基板上にトランジスタを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(ChipOnGlass)などで表示パネルに実装してもよい。 In order to further reduce power consumption, as shown in FIGS. 101 (b) and 102 (a), a pixel portion is formed using a transistor on a substrate, and all peripheral drive circuits are formed on an IC chip. Then, the IC chip may be mounted on the display panel by COG (Chip On Glass) or the like.
また、本実施例に示した構成は携帯電話の一例であって、本発明の画素構成はこのような構成の携帯電話に限られず様々な構成の携帯電話に適用することができる。 Further, the configuration shown in this embodiment is an example of a mobile phone, and the pixel configuration of the present invention is not limited to the mobile phone having such a configuration, and can be applied to mobile phones having various configurations.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施の形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。すなわち、本実施例において示した携帯電話が具備する本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be implemented freely combining with any description in the other embodiments and examples in this specification. In other words, the shift register circuit of the present invention included in the mobile phone shown in this embodiment supplies the power supply potential to the output terminal by turning on the transistor at regular intervals in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
本実施例においては、本発明の画素構成を用いた表示装置を表示部に有する電子機器、特にELモジュールを具備するテレビ受像器の構成例について説明する。 In this embodiment, an example of a structure of an electronic device having a display device using the pixel structure of the present invention in a display portion, particularly a television receiver including an EL module will be described.
図112は表示パネル7901と、回路基板7911を組み合わせたELモジュールを示している。表示パネル7901は画素部7902、走査線駆動回路7903及び信号線駆動回路7904を有している。回路基板7911には、例えば、コントロール回路7912や信号分割回路7913などが形成されている。表示パネル7901と回路基板7911は接続配線7914によって接続されている。接続配線にはFPC等を用いることができる。
FIG. 112 shows an EL module in which a
表示パネル7901は、画素部7902と一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の低い駆動回路)を基板上にトランジスタを用いて一体形成し、一部の周辺駆動回路(複数の駆動回路のうち動作周波数の高い駆動回路)をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)などで表示パネル7901に実装するとよい。あるいは、そのICチップをTAB(Tape Automated Bonding)やプリント基板を用いて表示パネル7901に実装してもよい。
In the
また、画素部には上記実施例で示した画素構成を適宜適用することができる。 The pixel structure described in the above embodiment can be applied as appropriate to the pixel portion.
例えば、第3の実施例に示す画素構成等を適用することで、低コスト化を実現するため画素部及び画素部と一体形成する周辺駆動回路を単極性のトランジスタで構成して製造工程の削減を図ることができる。 For example, by applying the pixel configuration shown in the third embodiment and the like, the pixel portion and the peripheral drive circuit formed integrally with the pixel portion are configured with a unipolar transistor in order to realize cost reduction, thereby reducing the manufacturing process. Can be achieved.
また、さらに消費電力の低減を図るため、ガラス基板上にトランジスタを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(Chip On Glass)等で表示パネルに実装してもよい。 In order to further reduce power consumption, a pixel portion is formed using a transistor on a glass substrate, all peripheral drive circuits are formed on an IC chip, and the IC chip is formed by COG (Chip On Glass) or the like. You may mount in a display panel.
また、上記実施例の図96〜図99、図118、及び図119の画素構成を適用することで、Nチャネル型のトランジスタのみで画素を構成することができるため、非結晶半導体(例えば、アモルファスシリコン)をトランジスタの半導体層に適用することが可能となる。つまり、均一な結晶性半導体膜を作製することが困難な大型の表示装置の作製が可能となる。また、画素を構成するトランジスタの半導体層に非結晶半導体膜を用いることにより、製造工程を削減することができ、製造コストの削減も図ることができる。 In addition, by applying the pixel configurations in FIGS. 96 to 99, 118, and 119 of the above embodiment, a pixel can be formed using only an N-channel transistor, so that an amorphous semiconductor (for example, an amorphous semiconductor) Silicon) can be applied to the semiconductor layer of the transistor. That is, a large display device in which it is difficult to manufacture a uniform crystalline semiconductor film can be manufactured. Further, by using an amorphous semiconductor film for a semiconductor layer of a transistor included in a pixel, a manufacturing process can be reduced and a manufacturing cost can be reduced.
なお、非結晶半導体膜を、画素を構成するトランジスタの半導体層に適用する場合には、基板上にトランジスタを用いて画素部を形成し、全ての周辺駆動回路をICチップ上に形成し、そのICチップをCOG(ChipOnGlass)で表示パネルに実装するとよい。なお、基板上に画素部を形成し、その基板上に周辺駆動回路を形成したICチップをCOG等で実装した構成は図101(b)に一例を示してある。 Note that in the case where an amorphous semiconductor film is applied to a semiconductor layer of a transistor included in a pixel, a pixel portion is formed using a transistor on a substrate, and all peripheral driver circuits are formed over an IC chip. The IC chip may be mounted on the display panel by COG (Chip On Glass). FIG. 101B shows an example of a structure in which an IC chip in which a pixel portion is formed on a substrate and a peripheral driver circuit is formed on the substrate is mounted by COG or the like.
このELモジュールによりELテレビ受像機を完成させることができる。図113は、ELテレビ受像機の主要な構成を示すブロック図である。チューナ8001は映像信号と音声信号を受信する。映像信号は、映像信号増幅回路8002と、そこから出力される信号を赤、緑、青の各色に対応した色信号に変換する映像信号処理回路8003と、その映像信号を駆動回路の入力仕様に変換するためのコントロール回路8012により処理される。コントロール回路8012は、走査線側と信号線側にそれぞれ信号が出力する。デジタル駆動する場合には、信号線側に信号分割回路8013を設け、入力デジタル信号をm個に分割して供給する構成としてもよい。
With this EL module, an EL television receiver can be completed. FIG. 113 is a block diagram illustrating a main configuration of an EL television receiver. A
チューナ8001で受信した信号のうち、音声信号は音声信号増幅回路8004に送られ、その出力は音声信号処理回路8005を経てスピーカー8007に供給される。制御回路8008は受信局(受信周波数)や音量の制御情報を入力部8009から受け、チューナ8001や音声信号処理回路8005に信号を送出する。
Of the signals received by the
また、図113とは別の形態のELモジュールを組み込んだテレビ受像器について図114(A)に示す。図114(A)において、表示画面8102はELモジュールで形成される。また、スピーカー8103、操作スイッチ8104などが適宜備えられている。
FIG. 114A illustrates a television receiver in which an EL module of a different form from that in FIG. 113 is incorporated. In FIG. 114A, a
また図114(B)に、ワイヤレスでディスプレイのみを持ち運び可能なテレビ受像器を示す。筐体8112にはバッテリー及び信号受信器が内蔵されており、そのバッテリーで表示部8113やスピーカー部8117を駆動させる。バッテリーは充電器8110で繰り返し充電が可能となっている。また、充電器8110は映像信号を送受信することが可能で、その映像信号をディスプレイの信号受信器に送信することができる。筐体8112は操作キー8116によって制御する。また、図114(B)に示す装置は、操作キー8116を操作することによって、筐体8112から充電器8110に信号を送ることも可能であるため映像音声双方向通信装置とも言える。また、操作キー8116を操作することによって、筐体8112から充電器8110に信号を送り、さらに充電器8110が送信できる信号を他の電子機器に受信させることによって、他の電子機器の通信制御も可能であり、汎用遠隔制御装置とも言える。本発明は表示部8113に適用することができる。
FIG. 114B shows a television receiver that can carry only a display wirelessly. A housing and a signal receiver are incorporated in the
図115(A)は表示パネル8201とプリント配線基板8202を組み合わせたモジュールを示している。表示パネル8201は、複数の画素が設けられた画素部8203と、第1のゲートドライバ8204、第2のゲートドライバ8205と、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路8206を備えている。
FIG. 115A shows a module in which a display panel 8201 and a printed
プリント配線基板8202には、コントローラ8207、中央処理装置(CPU8208)、メモリ8209、電源回路8210、音声処理回路8211及び送受信回路8212などが備えられている。プリント配線基板8202と表示パネル8201は、フレキシブル配線基板8213(FPC)により接続されている。プリント配線基板8202には、容量素子、バッファ回路などを設け、電源電圧や信号にノイズがのったり、信号の立ち上がりが鈍ったりすることを防ぐ構成としてもよい。また、コントローラ8207、音声処理回路8211、メモリ8209、CPU8208、電源回路8210などは、COG(ChipOnGlass)方式を用いて表示パネル8201に実装することもできる。COG方式により、プリント配線基板8202の規模を縮小することができる。
The printed
プリント配線基板8202に備えられたインターフェース部(I/F部8214)を介して、各種制御信号の入出力が行われる。また、アンテナとの間の信号の送受信を行うためのアンテナ用ポート8215が、プリント配線基板8202に設けられている。
Various control signals are input and output through an interface unit (I / F unit 8214) provided in the printed
図115(B)は、図115(A)に示したモジュールのブロック図を示す。このモジュールは、メモリ8209としてVRAM8216、DRAM8217、フラッシュメモリ8218などが含まれている。VRAM8216にはパネルに表示する画像のデータが、DRAM8217には画像データまたは音声データが、フラッシュメモリ8218には各種プログラムが記憶されている。
FIG. 115B is a block diagram of the module shown in FIG. This module includes a
電源回路8210は、表示パネル8201、コントローラ8207、CPU8208、音声処理回路8211、メモリ8209、送受信回路8212を動作させる電力を供給する。またパネルの仕様によっては、電源回路8210に電流源が備えられている場合もある。
The
CPU8208は、制御信号生成回路8220、デコーダ8221、レジスタ8222、演算回路8223、RAM8224、CPU8208用のインターフェース8219などを有している。インターフェース8219を介してCPU8208に入力された各種信号は、一旦レジスタ8222に保持された後、演算回路8223、デコーダ8221などに入力される。演算回路8223では、入力された信号に基づき演算を行い、各種命令を送る場所を指定する。一方デコーダ8221に入力された信号はデコードされ、制御信号生成回路8220に入力される。制御信号生成回路8220は入力された信号に基づき、各種命令を含む信号を生成し、演算回路8223において指定された場所、具体的にはメモリ8209、送受信回路8212、音声処理回路8211、コントローラ8207などに送る。
The
メモリ8209、送受信回路8212、音声処理回路8211、コントローラ8207は、それぞれ受けた命令に従って動作する。以下その動作について簡単に説明する。
The
入力手段8225から入力された信号は、I/F部8214を介してプリント配線基板8202に実装されたCPU8208に送られる。制御信号生成回路8220は、ポインティングデバイスやキーボードなどの入力手段8225から送られてきた信号に従い、VRAM8216に格納してある画像データを所定のフォーマットに変換し、コントローラ8207に送付する。
A signal input from the
コントローラ8207は、パネルの仕様に合わせてCPU8208から送られてきた画像データを含む信号にデータ処理を施し、表示パネル8201に供給する。またコントローラ8207は、電源回路8210から入力された電源電圧やCPU8208から入力された各種信号をもとに、Hsync信号、Vsync信号、クロック信号CLK、交流電圧(ACCont)、切り替え信号L/Rを生成し、表示パネル8201に供給する。
The
送受信回路8212では、アンテナ8228において電波として送受信される信号が処理されており、具体的にはアイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路を含んでいる。送受信回路8212において送受信される信号のうち音声情報を含む信号が、CPU8208からの命令に従って、音声処理回路8211に送られる。
In the transmission /
CPU8208の命令に従って送られてきた音声情報を含む信号は、音声処理回路8211において音声信号に復調され、スピーカー8227に送られる。またマイク8226から送られてきた音声信号は、音声処理回路8211において変調され、CPU8208からの命令に従って、送受信回路8212に送られる。
A signal including audio information sent in accordance with a command from the
コントローラ8207、CPU8208、電源回路8210、音声処理回路8211、メモリ8209を、本実施例のパッケージとして実装することができる。
The
勿論、本発明はテレビ受像機に限定されず、パーソナルコンピュータのモニタをはじめ、鉄道の駅や空港などにおける情報表示盤や、街頭における広告表示盤など特に大面積の表示媒体として様々な用途に適用することができる。 Of course, the present invention is not limited to a television receiver, and is applied to various uses as a display medium of a particularly large area such as a monitor of a personal computer, an information display board in a railway station or airport, an advertisement display board in a street, etc. can do.
なお、本実施例は、本明細書中の他の実施の形態、実施例のいかなる記載とも自由に組み合わせて実施することが可能である。すなわち、本実施例において示した電子機器が具備する本発明のシフトレジスタ回路は、非選択期間において、トランジスタが一定時間毎にオンすることで、出力端子に電源電位を供給する。こうすることで、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して電源電位が供給される。該トランジスタは非選択期間において常時オンしていないので、該トランジスタのしきい値電位のシフトは、抑制される。また、シフトレジスタ回路の出力端子は、該トランジスタを介して一定期間毎に電源電位が供給される。そのため、シフトレジスタ回路は、ノイズが出力端子に発生することを抑制できる。 Note that this embodiment can be implemented freely combining with any description in the other embodiments and examples in this specification. In other words, the shift register circuit of the present invention included in the electronic device described in this embodiment supplies a power supply potential to the output terminal when the transistor is turned on every predetermined time in the non-selection period. Thus, a power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit through the transistor. Since the transistor is not always turned on during the non-selection period, the shift of the threshold potential of the transistor is suppressed. The power supply potential is supplied to the output terminal of the shift register circuit at regular intervals through the transistor. Therefore, the shift register circuit can suppress the occurrence of noise at the output terminal.
10 フリップフロップ回路
11 トランジスタ
12 トランジスタ
13 トランジスタ
14 トランジスタ
15 トランジスタ
16 トランジスタ
17 トランジスタ
18 トランジスタ
19 容量素子
70 フリップフロップ回路
80 フリップフロップ回路
90 フリップフロップ回路
91 抵抗素子
100 フリップフロップ回路
101 トランジスタ
110 フリップフロップ回路
111 トランジスタ
112 トランジスタ
113 トランジスタ
114 トランジスタ
115 トランジスタ
116 トランジスタ
117 トランジスタ
118 トランジスタ
119 容量素子
120 フリップフロップ回路
130 フリップフロップ回路
140 フリップフロップ回路
150 フリップフロップ回路
151 抵抗素子
160 フリップフロップ回路
161 トランジスタ
171 フリップフロップ回路
172 制御信号線
173 制御信号線
174 制御信号線
181 トランジスタ
183 トランジスタ
200 シフトレジスタ回路
201 バッファ回路
210 バッファ回路
211 インバータ回路
211A インバータ回路
211B インバータ回路
220 バッファ回路
221 NAND回路
222 制御信号線
230 バッファ回路
231 NOR回路
240 バッファ回路
250 バッファ回路
260 バッファ回路
270 バッファ回路
280 インバータ回路
281 トランジスタ
282 トランジスタ
290 インバータ回路
291 トランジスタ
292 トランジスタ
293 トランジスタ
294 容量素子
300 インバータ回路
301 トランジスタ
310 インバータ回路
320 インバータ回路
321 抵抗素子
330 インバータ回路
331 トランジスタ
340 インバータ回路
341 トランジスタ
350 インバータ回路
360 インバータ回路
370 インバータ回路
371 トランジスタ
380 インバータ回路
390 インバータ回路
391 トランジスタ
400 インバータ回路
401 トランジスタ
410 インバータ回路
420 NAND回路
421 トランジスタ
422 トランジスタ
423 トランジスタ
430 NAND回路
431 トランジスタ
432 トランジスタ
433 トランジスタ
434 トランジスタ
435 容量素子
440 NAND回路
441 トランジスタ
450 NAND回路
460 NAND回路
461 抵抗素子
470 NAND回路
471 トランジスタ
472 トランジスタ
480 NAND回路
481 トランジスタ
490 NAND回路
500 NOR回路
501 トランジスタ
502 トランジスタ
503 トランジスタ
510 NOR回路
511 トランジスタ
512 トランジスタ
513 トランジスタ
514 トランジスタ
515 容量素子
520 NOR回路
521 トランジスタ
530 NOR回路
540 NOR回路
541 抵抗素子
550 NOR回路
551 トランジスタ
552 トランジスタ
560 NOR回路
561 トランジスタ
570 NOR回路
580 インバータ回路
581 トランジスタ
582 トランジスタ
590 インバータ回路
591 トランジスタ
592 トランジスタ
593 トランジスタ
594 容量素子
600 インバータ回路
601 トランジスタ
610 インバータ回路
620 インバータ回路
621 抵抗素子
630 インバータ回路
631 トランジスタ
640 インバータ回路
641 トランジスタ
650 インバータ回路
660 インバータ回路
670 インバータ回路
671 トランジスタ
680 インバータ回路
690 インバータ回路
700 インバータ回路
701 トランジスタ
710 インバータ回路
720 NOR回路
721 トランジスタ
722 トランジスタ
723 トランジスタ
730 NOR回路
731 トランジスタ
732 トランジスタ
733 トランジスタ
734 トランジスタ
735 容量素子
740 NOR回路
741 トランジスタ
750 NOR回路
760 NOR回路
761 抵抗素子
770 NOR回路
771 トランジスタ
772 トランジスタ
780 NAND回路
781 トランジスタ
790 NOR回路
800 NAND回路
801 トランジスタ
802 トランジスタ
803 トランジスタ
810 NAND回路
811 トランジスタ
812 トランジスタ
813 トランジスタ
814 トランジスタ
815 容量素子
820 NAND回路
821 トランジスタ
830 NAND回路
840 NAND回路
841 抵抗素子
850 NAND回路
851 トランジスタ
852 トランジスタ
860 NAND回路
861 トランジスタ
870 NAND回路
880 シフトレジスタ回路
881 信号線
891 信号線
892 信号線
893 信号線
901 トランジスタ
911 トランジスタ
920 表示装置
921 画素領域
922 ゲートドライバ
923 制御信号線
924 ソース信号線
925 ゲート信号線
926 FPC
941 信号線制御回路
942 制御信号線
950 信号線制御回路
951 制御信号線
952 制御信号線
953 制御信号線
954 ビデオ信号線
955 ソース信号線
956 ソース信号線
957 ソース信号線
960 画素
961 トランジスタ
962 液晶素子
963 容量素子
964 対向電極
965 コモン線
970 画素
971 トランジスタ
972 トランジスタ
973 表示素子
974 容量素子
975 共通電極
976 電源線
980 画素
990 画素
991 トランジスタ
992 トランジスタ
993 トランジスタ
994 容量素子
995 電源線
1180 画素
1181 トランジスタ
1182 トランジスタ
1183 トランジスタ
1184 トランジスタ
1190 画素
1200 画素
1201 トランジスタ
1210 画素
1211 トランジスタ
1212 トランジスタ
1241 インバータ回路
1251 インバータ回路
6701 信号線制御回路
6702 画素部
6703 第1のゲートドライバ
6704 封止基板
6705 シール材
6706 第2のゲートドライバ
6707 空間
6708 配線
6709 FPC
6710 基板
6711 トランジスタ
6712 トランジスタ
6713 画素電極
6714 絶縁物
6716 有機化合物を含む層
6717 対向電極
6718 発光素子
6719 ICチップ
6720 Nチャネル型トランジスタ
6721 Nチャネル型トランジスタ
6800 基板
6801 信号線制御回路
6802 画素部
6803 第1のゲートドライバ
6804 第2のゲートドライバ
6805 FPC
6806 ICチップ
6807 ICチップ
6808 封止基板
6809 シール材
6810 基板
6811 信号線制御回路
6812 画素部
6813 第2のゲートドライバ
6814 第1のゲートドライバ
6815 FPC
6816 ICチップ
6817 ICチップ
6818 封止基板
6819 シール材
6900 基板
6901 周辺駆動回路
6902 画素部
6904 FPC
6905 ICチップ
6906 ICチップ
6907 封止基板
6908 シール材
6910 基板
6911 周辺駆動回路
6912 画素部
6913 FPC
6914 FPC
7001 基板
7002 陽極
7003 正孔注入層
7004 正孔輸送層
7005 発光層
7006 電子輸送層
7007 電子注入層
7008 陰極
7011 基板
7012 陽極
7013 正孔注入層
7014 正孔輸送層
7015 発光層
7016 電子輸送層
7017 電子注入層
7018 陰極
7100 基板
7101 駆動用TFT
7102 電極
7103 有機化合物を含む層
7104 電極
7200 基板
7201 駆動用TFT
7202 下地膜
7203 電極
7204 有機化合物を含む層
7205 電極
7206B カラーフィルター
7206G カラーフィルター
7206R カラーフィルター
7207 BM
7501 基板
7502 下地膜
7503 ゲート電極
7504 電極
7505 ゲート絶縁膜
7506 チャネル形成領域
7507 LDD領域
7508 不純物領域
7509 チャネル形成領域
7510 LDD領域
7511 不純物領域
7512 層間絶縁物
7513 配線
7514 電極
7515 開口部
7516 層間絶縁物
7517 画素電極
7518 絶縁物
7519 有機化合物を含む層
7520 対向電極
7521 発光素子
7522 駆動トランジスタ
7523 容量素子
7524 電極
7601 基板
7602 下地膜
7603 画素電極
7604 電極
7605 配線
7606 配線
7607 N型半導体層
7608 N型半導体層
7609 半導体層
7610 ゲート絶縁膜
7611 絶縁膜
7612 ゲート電極
7613 電極
7614 層間絶縁物
7615 有機化合物を含む層
7616 対向電極
7617 発光素子
7618 駆動トランジスタ
7619 容量素子
7620 電極
7701 基板
7702 下地膜
7703 ゲート電極
7704 電極
7705 ゲート絶縁膜
7706 半導体層
7707 半導体層
7708 N型半導体層
7709 N型半導体層
7710 N型半導体層
7711 配線
7712 配線
7713 導電層
7714 画素電極
7715 絶縁物
7716 有機化合物を含む層
7717 対向電極
7718 発光素子
7719 駆動トランジスタ
7720 容量素子
7721 電極
7801 絶縁物
7802 絶縁物
7901 表示パネル
7902 画素部
7903 走査線駆動回路
7904 信号線駆動回路
7911 回路基板
7912 コントロール回路
7913 信号分割回路
7914 接続配線
8001 チューナ
8002 映像信号増幅回路
8003 映像信号処理回路
8004 音声信号増幅回路
8005 音声信号処理回路
8007 スピーカー
8008 制御回路
8009 入力部
8012 コントロール回路
8013 信号分割回路
8101 筐体
8102 表示画面
8103 スピーカー
8104 操作スイッチ
8110 充電器
8112 筐体
8113 表示部
8116 操作キー
8117 スピーカー部
8201 表示パネル
8202 プリント配線基板
8203 画素部
8204 第1のゲートドライバ
8205 第2のゲートドライバ
8206 信号線駆動回路
8207 コントローラ
8208 CPU
8209 メモリ
8210 電源回路
8211 音声処理回路
8212 送受信回路
8213 フレキシブル配線基板
8214 I/F部
8215 アンテナ用ポート
8216 VRAM
8217 DRAM
8218 フラッシュメモリ
8219 インターフェース
8220 制御信号生成回路
8221 デコーダ
8222 レジスタ
8223 演算回路
8224 RAM
8225 入力手段
8226 マイク
8227 スピーカー
8228 アンテナ
8301 表示パネル
8313 FPC
8330 ハウジング
8331 プリント基板
8332 スピーカー
8333 マイクロフォン
8334 送受信回路
8335 信号処理回路
8336 入力手段
8337 バッテリー
8339 筐体
8340 アンテナ
12201 電源線
12202 制御線
12203 制御線
12204 制御線
12205 制御線
12206 電源線
12207 出力端子
12208 半導体層
12209 ゲート配線層
12210 配線層
12211 コンタクト層
26101 基板
26102 下地膜
26103 チャネル形成領域
26105 不純物領域
26106 チャネル形成領域
26107 LDD領域
26108 不純物領域
26109 ゲート絶縁膜
26110 ゲート電極
26111 上部電極
26112 層間絶縁物
26113 配線
26114 画素電極
26115 層間絶縁物
26116 有機化合物を含む層
26117 対向電極
26118 駆動トランジスタ
26119 容量素子
26120 発光素子
26202 領域
26301 上部電極
26302 容量素子
27101 基板
27102 下地膜
27103 チャネル形成領域
27105 不純物領域
27106 ゲート絶縁膜
27107 ゲート電極
27108 電極
27109 層間絶縁物
27110 配線
27111 電極
27112 層間絶縁物
27113 画素電極
27114 電極
27115 層間絶縁物
27116 有機化合物を含む層
27117 対向電極
27118 駆動トランジスタ
27119 容量素子
27120 発光素子
84101 筐体
84102 支持台
84103 表示部
84201 本体
84202 表示部
84203 受像部
84204 操作キー
84205 外部接続ポート
84206 シャッター
84301 本体
84302 筐体
84303 表示部
84304 キーボード
84305 外部接続ポート
84306 ポインティングデバイス
84401 本体
84402 表示部
84403 スイッチ
84404 操作キー
84405 赤外線ポート
84501 本体
84502 筐体
84503 表示部A
84504 表示部B
84505 記録媒体読み込み部
84506 操作キー
84507 スピーカー部
84601 本体
84602 表示部
84603 イヤホン
84604 支持部
84701 筐体
84702 表示部
84703 スピーカー部
84704 操作キー
84705 記憶媒体挿入部
84801 本体
84802 表示部
84803 操作キー
84804 スピーカー
84805 シャッター
84806 受像部
84807 アンテナ
SSP 制御信号
CK 制御信号
CKB 制御信号
SRout 出力端子
SRout1 出力端子
SRout2 出力端子
SRout3 出力端子
SRout4 出力端子
SRout5 出力端子
SRoutn 出力端子
GDout 出力端子
GDout1 出力端子
GDout2 出力端子
GDoutn 出力端子
SDout 出力端子
SDout1 出力端子
SDout2 出力端子
SDoutn 出力端子
SW スイッチ
SW1 スイッチ
SW2 スイッチ
SW3 スイッチ
SSP 制御信号
OUT 出力端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Flip flop circuit 11 Transistor 12 Transistor 13 Transistor 14 Transistor 15 Transistor 16 Transistor 17 Transistor 18 Transistor 19 Capacitance element 70 Flip flop circuit 80 Flip flop circuit 90 Flip flop circuit 91 Resistance element 100 Flip flop circuit 101 Transistor 110 Flip flop circuit 111 Transistor 112 Transistor 113 Transistor 114 Transistor 115 Transistor 116 Transistor 117 Transistor 118 Transistor 119 Capacitance element 120 Flip flop circuit 130 Flip flop circuit 140 Flip flop circuit 150 Flip flop circuit 151 Resistance element 160 Flip flop circuit 161 Transistor 171 Flip-flop circuit 172 Control signal line 173 Control signal line 174 Control signal line 181 Transistor 183 Transistor 200 Shift register circuit 201 Buffer circuit 210 Buffer circuit 211 Inverter circuit 211A Inverter circuit 211B Inverter circuit 220 Buffer circuit 221 NAND circuit 222 Control signal line 230 Buffer Circuit 231 NOR circuit 240 Buffer circuit 250 Buffer circuit 260 Buffer circuit 270 Buffer circuit 280 Inverter circuit 281 Transistor 282 Transistor 290 Inverter circuit 291 Transistor 292 Transistor 293 Transistor 294 Capacitance element 300 Inverter circuit 301 Transistor 310 Inverter circuit 320 Inverter circuit 321 Resistance element 330 Inverter circuit 3 31 Transistor 340 Inverter circuit 341 Transistor 350 Inverter circuit 360 Inverter circuit 370 Inverter circuit 371 Transistor 380 Inverter circuit 390 Inverter circuit 391 Transistor 400 Inverter circuit 401 Transistor 410 Inverter circuit 420 NAND circuit 421 Transistor 422 Transistor 423 Transistor 430 NAND circuit 431 Transistor 432 Transistor 433 Transistor 434 Transistor 435 Capacitance element 440 NAND circuit 441 Transistor 450 NAND circuit 460 NAND circuit 461 Resistance element 470 NAND circuit 471 Transistor 472 Transistor 480 NAND circuit 481 Transistor 490 NAND circuit 500 NOR circuit 501 G Transistor 502 transistor 503 transistor 510 NOR circuit 511 transistor 512 transistor 513 transistor 514 transistor 515 capacitor element 520 NOR circuit 521 transistor 530 NOR circuit 540 NOR circuit 541 resistor element 550 NOR circuit 551 transistor 552 transistor 560 NOR circuit 561 transistor 570 inverter 580 inverter Circuit 581 Transistor 582 Transistor 590 Inverter circuit 591 Transistor 592 Transistor 593 Transistor 594 Capacitor element 600 Inverter circuit 601 Transistor 610 Inverter circuit 620 Inverter circuit 621 Resistive element 630 Inverter circuit 631 Transistor 640 Inverter circuit 641 Transistor 50 inverter circuit 660 inverter circuit 670 inverter circuit 671 transistor 680 inverter circuit 690 inverter circuit 700 inverter circuit 701 transistor 710 inverter circuit 720 NOR circuit 721 transistor 722 transistor 723 transistor 730 NOR circuit 731 transistor 732 transistor 733 transistor 734 transistor 735 capacitor 740 NOR Circuit 741 transistor 750 NOR circuit 760 NOR circuit 761 resistance element 770 NOR circuit 771 transistor 772 transistor 780 NAND circuit 781 transistor 790 NOR circuit 800 NAND circuit 801 transistor 802 transistor 803 transistor 810 NAND circuit 811 transistor 81 2 Transistor 813 Transistor 814 Transistor 815 Capacitance element 820 NAND circuit 821 Transistor 830 NAND circuit 840 NAND circuit 841 Resistance element 850 NAND circuit 851 Transistor 852 Transistor 860 NAND circuit 861 Transistor 870 NAND circuit 880 Shift register circuit 881 Signal line 891 Signal line 892 Signal Line 893 Signal line 901 Transistor 911 Transistor 920 Display device 921 Pixel region 922 Gate driver 923 Control signal line 924 Source signal line 925 Gate signal line 926 FPC
941 Signal
6710
6806
6816
6905
6914 FPC
7001
7102
7202
7501 Substrate 7502 Base film 7503 Gate electrode 7504 Electrode 7505 Gate insulating film 7506 Channel formation region 7507 LDD region 7508 Impurity region 7509 Channel formation region 7510 LDD region 7511 Impurity region 7512 Interlayer insulator 7513 Wiring 7514 Electrode 7515 Opening 7516 Interlayer insulator 7517 Pixel electrode 7518 Insulator 7519 Organic compound layer 7520 Counter electrode 7521 Light-emitting element 7522 Driving transistor 7523 Capacitor element 7524 Electrode 7601 Substrate 7602 Base film 7603 Pixel electrode 7604 Electrode 7605 Wiring 7606 Wiring 7607 N-type semiconductor layer 7608 N-type semiconductor layer 7609 Semiconductor layer 7610 Gate insulating film 7611 Insulating film 7612 Gate electrode 7613 Electrode 7614 Interlayer insulator 7615 Organicization Layer 7616 including object counter electrode 7617 light-emitting element 7618 driver transistor 7619 capacitor element 7620 electrode 7701 substrate 7702 base film 7703 gate electrode 7704 electrode 7705 gate insulating film 7706 semiconductor layer 7707 semiconductor layer 7708 N-type semiconductor layer 7709 N-type semiconductor layer 7710 N Type semiconductor layer 7711 wiring 7712 wiring 7713 conductive layer 7714 pixel electrode 7715 insulator 7716 layer containing organic compound 7717 counter electrode 7718 light emitting element 7719 drive transistor 7720 capacitor element 7721 electrode 7801 insulator 7802 insulator 7901 display panel 7902 pixel portion 7903 scanning Line drive circuit 7904 Signal line drive circuit 7911 Circuit board 7912 Control circuit 7913 Signal division circuit 7914 Connection wiring 8001 Tuner 80 2 Video signal amplification circuit 8003 Video signal processing circuit 8004 Audio signal amplification circuit 8005 Audio signal processing circuit 8007 Speaker 8008 Control circuit 8009 Input unit 8012 Control circuit 8013 Signal division circuit 8101 Housing 8102 Display screen 8103 Speaker 8104 Operation switch 8110 Charger 8112 Housing 8113 Display portion 8116 Operation key 8117 Speaker portion 8201 Display panel 8202 Printed wiring board 8203 Pixel portion 8204 First gate driver 8205 Second gate driver 8206 Signal line driver circuit 8207 Controller 8208 CPU
8209
8217 DRAM
8218
8225 Input means 8226 Microphone 8227
8330 Housing 8331 Printed circuit board 8332 Speaker 8333 Microphone 8334 Transmission / reception circuit 8335 Signal processing circuit 8336 Input means 8337 Battery 8339 Housing 8340 Antenna 12201 Power line 12202 Control line 12203 Control line 12204 Control line 12205 Control line 12206 Power line 12207 Output terminal 12208 Semiconductor layer 12209 Gate wiring layer 12210 Wiring layer 12211 Contact layer 26101 Substrate 26102 Base film 26103 Channel formation region 26105 Impurity region 26106 Channel formation region 26107 LDD region 26108 Impurity region 26109 Gate insulating film 26110 Gate electrode 26111 Upper electrode 26112 Interlayer insulator 26113 Wiring 26114 Pixel Electrode 26115 Interlayer insulation 26116 Layer 26117 containing organic compound 26117 Counter electrode 26118 Driving transistor 26119 Capacitor element 26120 Light emitting element 26202 Region 26301 Upper electrode 26302 Capacitor element 27101 Substrate 27102 Base film 27103 Channel formation region 27105 Impurity region 27106 Gate insulating film 27107 Gate electrode 27108 Electrode 27109 Interlayer insulation Object 27110 Wiring 27111 Electrode 27112 Interlayer insulator 27113 Pixel electrode 27114 Electrode 27115 Interlayer insulator 27116 Organic compound layer 27117 Counter electrode 27118 Drive transistor 27119 Capacitor element 27120 Light emitting element 84101 Housing 84102 Support base 84103 Display unit 84201 Main body 84202 Display unit 84203 Image receiver 84204 Operation key 84205 External Continued Port 84206 shutter 84301 body 84302 housing 84303 a display portion 84304 keyboard 84,305 external connection port 84306 pointing device 84401 body 84402 display unit 84403 switches 84404 operating keys 84405 an infrared port 84501 body 84502 housing 84503 display unit A
84504 Display B
84505 Recording
Claims (15)
前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記インバータの第1端子に電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記インバータの第2端子に電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート端子は、当該ゲート端子を浮遊状態にするためのトランジスタに電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A first transistor, a second transistor, a third transistor, an inverter, a first wiring, a second wiring, and a third wiring;
The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the first of the inverter. Electrically connected to one terminal,
The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, a gate terminal electrically connected to the second terminal of the third transistor,
The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, a gate terminal electrically connected to the second terminal of the inverter,
The semiconductor device is characterized in that the gate terminal of the first transistor is electrically connected to a transistor for bringing the gate terminal into a floating state.
前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、
前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート端子は、当該ゲート端子を浮遊状態にするためのトランジスタに電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 The first transistor, the second transistor, the third transistor, the fourth transistor, the fifth transistor, the first wiring, the second wiring, the third wiring, and the fourth With wiring of
The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the fourth terminal. Electrically connected to the gate terminal of the transistor,
The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, a gate terminal electrically connected to the second terminal of the third transistor,
The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor. Connected,
The fourth transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring,
The fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring,
The semiconductor device is characterized in that the gate terminal of the first transistor is electrically connected to a transistor for bringing the gate terminal into a floating state.
前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、及び前記第6のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、
前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、
前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 The first transistor, the second transistor, the third transistor, the fourth transistor, the fifth transistor, the sixth transistor, the first wiring, the second wiring, and the third Wiring, fourth wiring, and fifth wiring,
The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the fourth terminal. Electrically connected to a gate terminal of the transistor and a second terminal of the sixth transistor;
The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, a gate terminal electrically connected to the second terminal of the third transistor,
The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor. Connected,
The fourth transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring,
The fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring,
The semiconductor device, wherein the sixth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth transistor and a gate terminal electrically connected to the fifth wiring.
前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、前記第6のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、
前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、
前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続され、
前記第7のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a sixth transistor, a seventh transistor, a first wiring, and a second wiring; Wiring, third wiring, fourth wiring, and fifth wiring,
The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the fourth terminal. Electrically connected to a gate terminal of a transistor, a second terminal of the sixth transistor, and a second terminal of the seventh transistor;
The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the third transistor and the gate terminal of the seventh transistor. And
The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor. Connected,
The fourth transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring,
The fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring,
The sixth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth transistor, a gate terminal electrically connected to the fifth wiring,
The seventh transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring.
前記第1のトランジスタは、第1端子が前記第1の配線に電気的に接続され、第2端子が前記第2のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタのゲート端子、前記第6のトランジスタの第2端子、前記第7のトランジスタの第2端子、及び前記第8のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第2のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第3のトランジスタの第2端子、及び前記第7のトランジスタのゲート端子に電気的に接続され、
前記第3のトランジスタは、第1端子が前記第3の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4のトランジスタの第2端子、及び前記第5のトランジスタの第2端子に電気的に接続され、
前記第4のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、
前記第5のトランジスタは、第1端子が前記第4の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第4の配線に電気的に接続され、
前記第6のトランジスタは、第1端子が前記第4のトランジスタに電気的に接続され、ゲート端子が前記第5の配線に電気的に接続され、
前記第7のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、
前記第8のトランジスタは、第1端子が前記第2の配線に電気的に接続され、ゲート端子が前記第6の配線に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。 A first transistor, a second transistor, a third transistor, a fourth transistor, a fifth transistor, a sixth transistor, a seventh transistor, an eighth transistor, and a first transistor; A wiring, a second wiring, a third wiring, a fourth wiring, a fifth wiring, and a sixth wiring,
The first transistor has a first terminal electrically connected to the first wiring, a second terminal electrically connected to a second terminal of the second transistor, and a gate terminal connected to the fourth terminal. Electrically connected to a gate terminal of a transistor, a second terminal of the sixth transistor, a second terminal of the seventh transistor, and a second terminal of the eighth transistor;
The second transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the third transistor and the gate terminal of the seventh transistor. And
The third transistor has a first terminal electrically connected to the third wiring, and a gate terminal electrically connected to the second terminal of the fourth transistor and the second terminal of the fifth transistor. Connected,
The fourth transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring,
The fifth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth wiring, a gate terminal electrically connected to the fourth wiring,
The sixth transistor has a first terminal electrically connected to the fourth transistor, a gate terminal electrically connected to the fifth wiring,
The seventh transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring,
The semiconductor device, wherein the eighth transistor has a first terminal electrically connected to the second wiring and a gate terminal electrically connected to the sixth wiring.
前記第4のトランジスタのチャネル長Lとチャネル幅Wの比W/Lは、前記第5のトランジスタのチャネル長Lとチャネル幅Wの比W/Lの10倍以上であることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claim 2 thru | or 5,
The ratio W / L of the channel length L to the channel width W of the fourth transistor is 10 times or more the ratio W / L of the channel length L to the channel width W of the fifth transistor. apparatus.
前記第1のトランジスタ及び前記第3のトランジスタは、同じ導電型であることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 1 thru | or 6,
The semiconductor device, wherein the first transistor and the third transistor have the same conductivity type.
前記第1のトランジスタ及び前記第4のトランジスタは、Nチャネル型であることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 1 to 7,
The semiconductor device, wherein the first transistor and the fourth transistor are n-channel transistors.
前記第1のトランジスタの第2端子と、前記第1のトランジスタのゲート端子との間に電気的に接続された容量素子が設けられていることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 1 to 8,
A semiconductor device, wherein a capacitor element electrically connected is provided between a second terminal of the first transistor and a gate terminal of the first transistor.
前記容量素子は、第1の電極と、第2の電極と、第1の電極と第2の電極とに挟持された絶縁体とを有し、
前記第1の電極が半導体層であり、前記第2の電極がゲート配線層であり、前記絶縁体がゲート絶縁膜であることを特徴とする半導体装置。 In claim 9,
The capacitor element includes a first electrode, a second electrode, and an insulator sandwiched between the first electrode and the second electrode,
The semiconductor device, wherein the first electrode is a semiconductor layer, the second electrode is a gate wiring layer, and the insulator is a gate insulating film.
前記第1の配線には、クロック信号が供給され、
前記第3の配線には、反転クロック信号が供給されていることを特徴とする半導体装置。 In any one of Claims 1 to 10,
A clock signal is supplied to the first wiring,
A semiconductor device, wherein an inverted clock signal is supplied to the third wiring.
前記画素は、前記駆動回路により制御されることを特徴とする表示装置。 A driving circuit including the semiconductor device according to claim 1, a plurality of pixels,
The display device, wherein the pixel is controlled by the driving circuit.
前記画素はトランジスタを有し、
前記画素が有するトランジスタと、前記駆動回路が有するトランジスタとは、同じ導電型であることを特徴とする表示装置。 In claim 12,
The pixel has a transistor;
The display device, wherein the transistor included in the pixel and the transistor included in the driver circuit have the same conductivity type.
前記画素は、前記駆動回路と同一基板上に形成されていることを特徴とする表示装置。 In claim 12 or claim 13,
The display device, wherein the pixel is formed over the same substrate as the driving circuit.
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