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JP2007200729A - Image display device - Google Patents

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JP2007200729A
JP2007200729A JP2006018394A JP2006018394A JP2007200729A JP 2007200729 A JP2007200729 A JP 2007200729A JP 2006018394 A JP2006018394 A JP 2006018394A JP 2006018394 A JP2006018394 A JP 2006018394A JP 2007200729 A JP2007200729 A JP 2007200729A
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JP
Japan
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scanning signal
image display
film
signal wiring
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006018394A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuhiko Hosoya
信彦 細谷
Yoshiaki Mikami
佳朗 三上
Masakazu Sagawa
雅一 佐川
Shigemi Hirasawa
重實 平澤
Yoshie Kodera
喜衛 小寺
Nobutake Konishi
信武 小西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Displays Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Displays Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2006018394A priority Critical patent/JP2007200729A/en
Publication of JP2007200729A publication Critical patent/JP2007200729A/en
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide high-image-quality image display by suppressing displacement of an electron beam generated in the vicinity of a spacer. <P>SOLUTION: A conductive film 15 is formed on a surface of an adhesive member 14 for joining a back substrate 1 to a lower end part of the spacer 13, and the conductive film is connected to a scanning signal wire. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、前面基板と背面基板の間に形成される真空中への電子放出を利用した平面型の画像表示装置に係り、特に前記両基板間の前記真空中に複数の間隔保持部材を備えた画像表示装置に関するものである。   The present invention relates to a flat-type image display device using electron emission into a vacuum formed between a front substrate and a back substrate, and in particular, includes a plurality of spacing members in the vacuum between the two substrates. The present invention relates to an image display apparatus.

高輝度、高精細に優れたディスプレイデバイスとして、従来からカラー陰極線管が広く用いられている。しかし、近年の情報処理装置やテレビ放送の高画質化に伴い、高輝度、高精細の特性を有すると共に軽量、省スペースの平面型画像表示装置(フラット・パネル・ディスプレイ、FPD)の要求が高まっている。   Conventionally, a color cathode ray tube has been widely used as a display device excellent in high luminance and high definition. However, with the recent improvement in image quality of information processing devices and television broadcasts, there is an increasing demand for flat image display devices (flat panel displays, FPDs) that have high brightness and high definition characteristics and are lightweight and space-saving. ing.

その典型例として液晶表示装置、プラズマ表示装置などが実用化されている。また、特に、高輝度化が可能なものとして、電子源から真空への電子放出を利用した自発光型表示装置(例えば、電子放出型画像表示装置や電界放出型画像表示装置等と呼ばれるもの)や低消費電力を特徴とする有機ELディスプレイ等、種々の平面型画像表示装置の実用化も図られている。   As typical examples, liquid crystal display devices, plasma display devices and the like have been put into practical use. In particular, a self-luminous display device using electron emission from an electron source to a vacuum (for example, an electron emission image display device, a field emission image display device, or the like) that can increase the brightness. In addition, various flat image display devices such as organic EL displays characterized by low power consumption have been put into practical use.

平面型画像表示装置の中、自発光型のフラット・パネル・ディスプレイでは、電子源をマトリクス状に配置した構成が知られている。   Among flat image display devices, a self-luminous flat panel display is known in which electron sources are arranged in a matrix.

自発光型のフラット・パネル・ディスプレイでは、その冷陰極にスピント型、表面伝導型、カーボンナノチューブ型、金属―絶縁体―金属を積層したMIM(Metal-Insulator-Metal)型、金属―絶縁体―半導体を積層したMIS(Metal-Insulator-Semiconductor)型または金属―絶縁体―半導体−金属型等の電子源などが用いられる。   In a self-luminous flat panel display, the cold cathode has a Spindt type, surface conduction type, carbon nanotube type, metal-insulator-metal laminated MIM (Metal-Insulator-Metal) type, metal-insulator- An MIS (Metal-Insulator-Semiconductor) type or a metal-insulator-semiconductor-metal type electron source in which semiconductors are stacked is used.

平面型画像表示装置は、上記電子源を備えた背面基板と、蛍光体層とこの蛍光体層に電子源から放出される電子を射突させるための加速電圧が印加される陽極を備えた前面基板とを対向させ、両基板の対向する内部空間を所定の真空状態に封止する封止枠となる支持体とで構成される表示パネルが知られている。この表示パネルに駆動回路を組み合わせて画像表示装置を動作させる。   A flat-type image display device includes a rear substrate including the electron source, a front surface including a phosphor layer and an anode to which an acceleration voltage for projecting electrons emitted from the electron source to the phosphor layer is applied. 2. Description of the Related Art There is known a display panel including a substrate and a support that serves as a sealing frame that seals the opposing internal space of both substrates in a predetermined vacuum state. An image display device is operated by combining a drive circuit with this display panel.

MIM型電子源を有する画像表示装置では、第1の方向に延在して第1の方向と交差する第2の方向に並設された多数の第1電極(例えば、カソード電極、画像信号電極)と、この第1電極を覆って形成された絶縁膜と、この絶縁膜上で前記第2の方向に延在して第1の方向に並設された多数の第2電極(例えば、ゲート電極、走査信号電極)と、第1電極と第2電極との交差部付近に設けられた電子源とを有する背面基板を備え、この背面基板は絶縁材からなり、この基板上に前記電極が形成されている。   In an image display device having an MIM type electron source, a large number of first electrodes (for example, cathode electrodes, image signal electrodes) arranged in parallel in a second direction extending in the first direction and intersecting the first direction. ), An insulating film formed to cover the first electrode, and a number of second electrodes (for example, gates) extending in the second direction on the insulating film and arranged in parallel in the first direction. Electrode, scanning signal electrode) and a back substrate having an electron source provided near the intersection of the first electrode and the second electrode, the back substrate is made of an insulating material, and the electrode is placed on the substrate. Is formed.

この構成で前記走査信号電極には第1の方向に走査信号が順次印加される。また、この基板上には走査信号電極と画像信号電極の各交差部付近に上記の電子源が設けられ、これら両電極と電子源とは給電電極で接続され、電子源に電流が供給される。この背面基板と対向する内面に複数色の蛍光体層と第3電極(アノード電極、陽極)とを備えた前面基板を有している。前面基板は、ガラスを好適とする光透過性の材料で形成される。そして、両基板は各々の貼り合せ内周縁に封止枠となる支持体を介挿して封止され、背面基板と前面基板及び支持体で形成される内部を真空にして画像表示装置が構成される。   With this configuration, scanning signals are sequentially applied to the scanning signal electrodes in the first direction. On the substrate, the above-described electron source is provided in the vicinity of each intersection of the scanning signal electrode and the image signal electrode. These two electrodes and the electron source are connected by a feeding electrode, and current is supplied to the electron source. . A front substrate having a plurality of color phosphor layers and a third electrode (anode electrode, anode) is provided on the inner surface facing the rear substrate. The front substrate is formed of a light transmissive material suitable for glass. Then, both substrates are sealed by inserting a supporting body serving as a sealing frame at the inner peripheral edge of each bonding, and the inside formed by the rear substrate, the front substrate and the supporting member is evacuated to constitute an image display device. The

電子源は、上述のように第1電極と第2電極の交差部付近に有し、第1電極と第2電極との間の電位差で電子源からの電子の放出量(放出のオン・オフを含む)を制御する。放出された電子は、前面基板に有する陽極に印加される高電圧で加速され、同じく前面基板に有する蛍光体層に射突して励起することで蛍光体層の発光特性に応じた色光で発色する。   As described above, the electron source is provided near the intersection of the first electrode and the second electrode, and the amount of electrons emitted from the electron source (on / off of emission) due to the potential difference between the first electrode and the second electrode. Control). The emitted electrons are accelerated by a high voltage applied to the anode of the front substrate, and are also colored by the color light according to the emission characteristics of the phosphor layer by exciting and exciting the phosphor layer of the front substrate. To do.

個々の電子源は対応する蛍光体層と対になって単位画素を構成する。通常は、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色の単位画素で一つの画素(カラー画素、ピクセル)が構成される。なお、カラー画素の場合、単位画素は副画素(サブピクセル)とも呼ばれる。   Each electron source is paired with a corresponding phosphor layer to constitute a unit pixel. Usually, one pixel (color pixel, pixel) is composed of unit pixels of three colors of red (R), green (G), and blue (B). In the case of a color pixel, the unit pixel is also called a sub-pixel (sub-pixel).

上述したような平面型画像表示装置では、一般的に背面基板と前面基板との間の支持体で囲繞された表示領域内に複数の間隔保持部材(以下スペーサと言う)が配置固定され、両基板間の間隔を支持体と協働して所定間隔に保持している。このスペーサは、一般にはガラスやセラミックスなどの絶縁材で形成した板状体からなり、通常、複数の画素ごとに画素の動作を妨げない位置に設置される。   In the flat image display apparatus as described above, a plurality of spacing members (hereinafter referred to as spacers) are generally arranged and fixed in a display area surrounded by a support between the back substrate and the front substrate. The distance between the substrates is maintained at a predetermined distance in cooperation with the support. This spacer is generally formed of a plate-like body formed of an insulating material such as glass or ceramics, and is usually installed at a position where the operation of the pixel is not hindered for each of the plurality of pixels.

また、封止枠となる支持体は、背面基板と前面基板との内周縁部にフリットガラスなどの封着部材で固着され、この固着部が気密封着されて封止領域となっている。両基板と支持体とで形成される表示領域内部の真空度は、例えば10-3〜10-5Pa程度である。また、平面型画像表示装置において、スペーサの上下両端部が導電性接着部材で両基板と接着固定される構成が下記特許文献1に開示されている。 Further, the support serving as the sealing frame is fixed to the inner peripheral edge of the back substrate and the front substrate with a sealing member such as frit glass, and this fixing portion is hermetically sealed to form a sealing region. The degree of vacuum inside the display region formed by both the substrates and the support is, for example, about 10 −3 to 10 −5 Pa. Further, in a flat type image display device, a configuration in which the upper and lower end portions of a spacer are bonded and fixed to both substrates with a conductive adhesive member is disclosed in Patent Document 1 below.

特許第3305166号公報Japanese Patent No. 3305166

背景技術において、FPDは両基板間の間隔保持を担う枠状の支持体と、この支持体に囲まれた表示領域内に配置された複数枚のスペーサとを有する構成が開示されており、このスペーサは表示領域内で例えば走査信号配線上に平行に配置されている。この様なスペーサの配置において、電子源から放射された電子は、陽極印加電圧に因って加速されて蛍光体層に衝突して当該蛍光体層を発光させる。しかし、電子の一部はスペーサを帯電させ、この帯電により、電子源から放射された電子の軌道が歪曲され、蛍光層に十分な電子を射突させることができず、励起不十分となる問題がある。この結果、輝度不足や色再現性が劣化する。また、スペーサの帯電は、両基板間の耐電圧特性の劣化を引き起こし、長寿命化の阻害要因となる問題があった。   In the background art, an FPD has a structure having a frame-like support body that holds a distance between both substrates and a plurality of spacers arranged in a display region surrounded by the support body. The spacers are arranged in parallel on the scanning signal lines in the display area, for example. In such a spacer arrangement, electrons emitted from the electron source are accelerated by the anode applied voltage and collide with the phosphor layer to cause the phosphor layer to emit light. However, a part of the electrons charges the spacer, and this charging distorts the trajectory of the electrons emitted from the electron source, so that sufficient electrons cannot be projected into the fluorescent layer, resulting in insufficient excitation. There is. As a result, insufficient luminance and color reproducibility deteriorate. In addition, the charging of the spacer causes a deterioration in the withstand voltage characteristics between the two substrates, and there is a problem that becomes an impediment to extending the life.

この種の画像表示装置では、スペーサの帯電による問題の解決の1つとして上記特許文献1では、スペーサを前面基板の内面の蛍光体層の無い部位のメタルバック上でフリットガラス及び導電性フリットガラスを介して接着固定し、背面基板の走査信号電極上に導電性フリットガラスを介して接着固定することにより、スペーサの帯電を防止し、スペーサ近傍の電界分布をスペーサの無い部位と同じにできるので、電子ビームが変位せず、良好な表示が得られる構成が開示されている。   In this type of image display device, as one of the solutions to the problem due to the charging of the spacers, in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-228707, the spacers are frit glass and conductive frit glass on the metal back of the inner surface of the front substrate where there is no phosphor layer. By adhering and fixing via a conductive adhesive frit glass on the scanning signal electrode on the back substrate, the spacer can be prevented from being charged and the electric field distribution near the spacer can be made the same as the part without the spacer. A configuration is disclosed in which the electron beam is not displaced and a good display can be obtained.

しかしながら、このように構成される画像表示装置は、スペーサ近傍では、微小な電子ビーム変位が生じ、画質不良を確実に抑制することができないという課題があった。また、スペーサ近傍では、電子ビーム変位量が画素によって不規則に変化する画質不良が発生するという課題もあった。これらの原因は、スペーサが存在する走査信号電極近傍の画素では、電子ビームの進路が変位して蛍光体層から外れて照射されるために部分的に発光輝度が低下するためである。   However, the image display device configured as described above has a problem in that minute electron beam displacement occurs in the vicinity of the spacer, and image quality defects cannot be reliably suppressed. Further, in the vicinity of the spacer, there is a problem that an image quality defect in which the amount of electron beam displacement changes irregularly depending on pixels occurs. The reason for this is that, in the pixels in the vicinity of the scanning signal electrode where the spacer is present, the path of the electron beam is displaced and is emitted from the phosphor layer, so that the emission luminance is partially reduced.

したがって、本発明は、上述した従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、スペーサ近傍に生じる電子ビームの変位を抑制して画素不良が生じ難い高画質の画像表示が得られる画像表示装置を提供することにある。   Therefore, the present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to obtain a high-quality image display that suppresses the displacement of the electron beam generated in the vicinity of the spacer and hardly causes pixel defects. An image display device is provided.

このような目的を達成するために本発明による画像表示装置は、蛍光体層及び陽極電極を内面に有する前面基板と、一方向に延在し該一方向と交差する他方向に並設されて他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線と、他方向に延在し走査信号配線に交差する如く一方向に並設された複数の画像信号配線と、走査信号配線と画像信号配線の各交差部近傍に設けられた電子源を内面に有して前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、前面基板と背面基板との間で表示領域を周回して介挿され、所定の間隔を保持する支持体と、前面基板と背面基板との間の表示領域内に配置された複数の間隔保持部材と、この間隔保持部材の端部と前面基板及び背面基板とをそれぞれ接合する接着部材とを備え、支持体の端部と前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、間隔保持部材は、走査信号配線と重畳して当該走査信号配線と同一方向に延在配置され、背面基板と間隔保持部材の端部とを接合する接着部材の表面に導電膜が形成され、当該導電膜が走査信号配線に接続されていることを特徴としている。   In order to achieve such an object, an image display device according to the present invention is arranged in parallel with a front substrate having a phosphor layer and an anode electrode on its inner surface, and extending in one direction and intersecting the one direction. A plurality of scanning signal wirings to which scanning signals are sequentially applied in the other direction, a plurality of image signal wirings extending in the other direction and arranged in parallel in one direction so as to intersect the scanning signal wirings, the scanning signal wirings and the image signals An electron source provided in the vicinity of each crossing portion of the wiring is provided on the inner surface, the rear substrate facing the front substrate with a predetermined interval, and inserted around the display area between the front substrate and the rear substrate, A support body that holds a predetermined interval, a plurality of interval holding members arranged in a display area between the front substrate and the rear substrate, and an end portion of the interval holding member and the front substrate and the rear substrate are bonded to each other. A support substrate and a front substrate. And the rear substrate are hermetically sealed through sealing members, respectively, and the interval holding member is arranged to extend in the same direction as the scanning signal wiring, overlapping the scanning signal wiring, A conductive film is formed on the surface of the adhesive member that joins the rear substrate and the end of the spacing member, and the conductive film is connected to the scanning signal wiring.

本発明による他の画像表示装置は、複数の開口部を備えたブラックマトリクス膜と、開口部を塞いでブラックマトリクス膜上迄延在して配置された複数色の蛍光体層と、この蛍光体層及びブラックマトリクス膜を覆う金属薄膜からなる陽極電極を内面に有する前面基板と、一方向に延在し前記一方向と交差する他方向に並設されて他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線と、他方向に延在し走査信号配線に交差する如く一方向に並設された複数の画像信号配線と、走査信号配線と画像信号配線の各交差部近傍に設けられた電子源とを内面に有して前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、前面基板と背面基板との間で表示領域を周回して介挿され、所定の間隔を保持する支持体と、前面基板と背面基板間の表示領域内で走査信号配線と重畳してこの走査信号配線と同一方向に延在して配置された複数の間隔保持部材と、この間隔保持部材の端部と前面基板及び背面基板とをそれぞれ接合する接着部材とを有し、支持体の端部と前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、走査信号配線と間隔保持部材の端部とを接合する接着部材の表面に導電膜が形成され、当該導電膜が走査信号配線に接続されていることを特徴としている。   Another image display device according to the present invention includes a black matrix film having a plurality of openings, a plurality of color phosphor layers arranged so as to close the openings and extend over the black matrix film, and the phosphor A front substrate having an anode electrode made of a metal thin film covering the layer and the black matrix film on the inner surface, and a parallel arrangement extending in one direction and crossing the one direction in the other direction, and sequentially applying scanning signals in the other direction A plurality of scanning signal wirings, a plurality of image signal wirings arranged in one direction so as to extend in the other direction and intersect the scanning signal wirings, and provided near the intersections of the scanning signal wirings and the image signal wirings A rear substrate having an electron source on the inner surface and facing the front substrate with a predetermined interval; and a support member that is inserted around the display area between the front substrate and the rear substrate and maintains the predetermined interval; Display area between the front and back substrates And a plurality of spacing members arranged to extend in the same direction as the scanning signal wiring, and adhesive members for joining the end portions of the spacing holding member to the front substrate and the back substrate, respectively. An image display device in which the end portion of the support and the front substrate and the rear substrate are hermetically sealed via sealing members, respectively, and the scanning signal wiring and the end portion of the spacing member are A conductive film is formed on the surface of the bonding member to be bonded, and the conductive film is connected to the scanning signal wiring.

本発明によれば、間隔保持部材の下端面と背面基板とを接合する接着部材の表面に導電膜を設けることにより、電子線を照射しても帯電し難く、周辺の電界も乱れ難いために電子線の進路変化が小さく直進し、所定の蛍光体層に到達するので、画質不良を確実に防止でき、高画質の画像表示が得られるという極めて優れた効果を有する。   According to the present invention, by providing a conductive film on the surface of the adhesive member that joins the lower end surface of the spacing member and the rear substrate, it is difficult to charge even when irradiated with an electron beam, and the surrounding electric field is also less likely to be disturbed. Since the path change of the electron beam is small and goes straight and reaches a predetermined phosphor layer, it is possible to reliably prevent image quality defects and to obtain a high-quality image display.

また、本発明によれば、間隔保持部材の端面全体に亘り略均一に走査信号配線との間の導通が得られ、電位分布が略均一となり、電子線の変位の小さい良好な画像が得られるので、高画質の画像表示が得られるという極めて優れた効果を有する。   In addition, according to the present invention, conduction with the scanning signal wiring can be obtained substantially uniformly over the entire end face of the spacing member, the potential distribution becomes substantially uniform, and a good image with small displacement of the electron beam can be obtained. Therefore, it has an extremely excellent effect that a high-quality image display can be obtained.

以下、本発明の最良の形態を実施例の図面を参照して詳細に説明する。   The best mode of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings of the embodiments.

図1及び図2は、本発明による画像表示装置の実施例1を説明するための図であり、図1(a)は前面基板側から見た平面図、図1(b)は図1(a)の側面図、図2は図1(a)のA−A線に沿って切断した模式断面図である。   1 and 2 are diagrams for explaining an image display device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 1A is a plan view seen from the front substrate side, and FIG. FIG. 2 is a side view of a), and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view cut along the line AA in FIG.

図1及び図2において、参照符号1は背面基板、2は前面基板であり、これらの背面基板1及び前面基板2は、厚さ数mm、例えば3mm程度のガラス板から構成されている。3は枠状の支持体であり、この支持体3は厚さ数mm、例えば3mm程度のガラス板またはフリットガラスの燒結体から構成されている。4は排気管であり、この排気管4は背面基板1に固着されている。支持体3は、背面基板1と前面基板2との間の周縁部に周回して介挿され、背面基板1及び前面基板2と例えばフリットガラスのような封着部材(図示せず)を介して気密封着されている。   1 and 2, reference numeral 1 is a back substrate, 2 is a front substrate, and these back substrate 1 and front substrate 2 are made of a glass plate having a thickness of several millimeters, for example, about 3 mm. Reference numeral 3 denotes a frame-like support, and this support 3 is composed of a glass plate or a frit glass sintered body having a thickness of several mm, for example, about 3 mm. Reference numeral 4 denotes an exhaust pipe, and the exhaust pipe 4 is fixed to the back substrate 1. The support 3 is inserted around a peripheral portion between the back substrate 1 and the front substrate 2 and is interposed between the back substrate 1 and the front substrate 2 and a sealing member (not shown) such as frit glass. It is airtight.

この支持体3と背面基板1及び前面基板2と封着部材とで囲まれた空間は、排気管4を介して排気され、例えば10-3〜10-5Paの真空を保持して表示領域5を構成している。また、排気管4は、背面基板1の背面側に取り付けられてこの背面基板1を貫通して穿設された貫通孔6に連通しており、排気完了後に排気管4は封止される。7は画像信号配線であり、この画像信号配線7は背面基板1の内面に一方向(Y方向)に延在し、他方向(X方向)に並設されて画像信号駆動回路8に接続されている。9は走査信号配線であり、この走査信号配線9は画像信号配線7上でこれと交差する他方向(X方向)に延在し、一方向(Y方向)に並設されて走査信号駆動回路10に接続されている。 The space surrounded by the support 3, the back substrate 1, the front substrate 2, and the sealing member is exhausted through the exhaust pipe 4, and maintains a vacuum of, for example, 10 −3 to 10 −5 Pa. 5 is constituted. Further, the exhaust pipe 4 is attached to the back side of the back substrate 1 and communicates with a through hole 6 formed through the back substrate 1 so that the exhaust pipe 4 is sealed after the exhaust is completed. Reference numeral 7 denotes an image signal wiring. The image signal wiring 7 extends in one direction (Y direction) on the inner surface of the rear substrate 1 and is arranged in parallel in the other direction (X direction) and connected to the image signal driving circuit 8. ing. Reference numeral 9 denotes a scanning signal wiring. The scanning signal wiring 9 extends on the image signal wiring 7 in the other direction (X direction) intersecting therewith, and is arranged in parallel in one direction (Y direction). 10 is connected.

また、11は電子源であり、この電子源11は、走査信号配線9と画像信号配線7との各交差部近傍に設けられ、走査信号配線9と電子源11とは接続電極により接続されている。また、画像信号配線7と、電子源11及び走査信号配線9との間には層間絶縁膜12が配置されている。なお、画像信号配線7は、例えばAl/Nd積層膜等が用いられ、走査信号配線9は、例えばIr/Pt/Au積層膜等が用いられる。   Reference numeral 11 denotes an electron source. The electron source 11 is provided near each intersection of the scanning signal wiring 9 and the image signal wiring 7, and the scanning signal wiring 9 and the electron source 11 are connected by a connection electrode. Yes. An interlayer insulating film 12 is disposed between the image signal wiring 7 and the electron source 11 and the scanning signal wiring 9. The image signal wiring 7 is made of, for example, an Al / Nd laminated film, and the scanning signal wiring 9 is made of, for example, an Ir / Pt / Au laminated film.

また、参照符号13は間隔保持部材としてのスペーサ(隔壁とも称する)であり、このスペーサ13は例えばセラミックス材からなり、その表面に二次電子放出効率の低い例えば酸化クロム膜を被膜した半導電性セラミックスから構成されており、長方形の薄板形状に成形され、この実施例では走査信号配線9上に1本おきに直立配置され、導電性接着部材14により背面基板1と前面基板2とを固定している。このスペーサ13は通常、複数の画素毎に画素の動作を妨げない位置に設置される。   Reference numeral 13 denotes a spacer (also referred to as a partition wall) as a spacing member. The spacer 13 is made of, for example, a ceramic material, and has a semiconductive property in which, for example, a chromium oxide film having a low secondary electron emission efficiency is coated. It is made of ceramics and is formed into a rectangular thin plate shape. In this embodiment, every other line is placed upright on the scanning signal wiring 9, and the back substrate 1 and the front substrate 2 are fixed by the conductive adhesive member 14. ing. The spacer 13 is usually installed at a position that does not hinder the operation of each pixel.

セラミックススペーサは、製造プロセスとしてプレスを用いた高温加圧焼成工程が必須であり、プロセスコストが高く、長尺のスペーサを作り難い。また、材料費も高い。そこで、スペーサ材としてガラスを用いることにより、安価な材料で作ることができ、また、長尺製造も有利である。また、表面の平坦性が良く、表面処理が容易である。   Ceramic spacers require a high-temperature pressure firing process using a press as a manufacturing process, and the process cost is high and it is difficult to make a long spacer. In addition, material costs are high. Therefore, by using glass as the spacer material, it can be made of an inexpensive material, and long production is also advantageous. Moreover, the surface flatness is good and the surface treatment is easy.

このスペーサ13は106〜1010Ω・cm程度の抵抗値を有して形成されている。また、このスペーサ13の寸法は、基板寸法、支持体3の高さ、基板素材、スペーサの配置間隔、スペーサ素材等により設定されるが、一般的には高さは支持体3と略同一寸法、厚さは数十μm〜数mm以下、長さは20mm乃至200mm程度、好ましくは80mm乃至120mm程度が実用的な値となる。 The spacer 13 has a resistance value of about 10 6 to 10 10 Ω · cm. The dimension of the spacer 13 is determined by the substrate dimension, the height of the support 3, the substrate material, the spacer spacing, the spacer material, etc. In general, the height is approximately the same as that of the support 3. The thickness is several tens of μm to several mm or less, and the length is about 20 mm to 200 mm, preferably about 80 mm to 120 mm.

更に、この接着部材14は、例えば接着用フリットガラスまたはガラス化成分と、例えば数nm(ナノメータ)乃至数十nm程度の寸法の金粒子または銀粒子のような導電部材とを含有した構成からなり、この接着部材14でスペーサ13を背面基板1及び前面基板2に接着固定している。この接着部材14の厚さSb、すなわちスペーサ13が接着部材14に埋設されている寸法は、接着部材14の組成にもよるが接着固定の確保の点からは数μm以上、望ましくは5〜40μm程度の寸法に設定され、特に10〜20μm程度が望ましい。この厚さSbが薄い場合はスペーサ13の傾き発生の恐れがあり、逆に厚すぎると、その表面に後述する導電膜が成膜し易くなる。一方、前面基板2側では、高電圧が不規則に入り込み電子ビームの軌道に悪影響を及ぼす恐れがあって前述の範囲内に設定することが望ましい。   Further, the adhesive member 14 is configured to include, for example, an adhesive frit glass or a vitrifying component and a conductive member such as gold particles or silver particles having a size of, for example, about several nanometers to several tens of nanometers. The spacer 13 is bonded and fixed to the back substrate 1 and the front substrate 2 by the adhesive member 14. The thickness Sb of the adhesive member 14, that is, the dimension in which the spacer 13 is embedded in the adhesive member 14, depends on the composition of the adhesive member 14, but is several μm or more, preferably 5 to 40 μm from the viewpoint of securing adhesive fixation. The size is set to about 10 to 20 μm. If the thickness Sb is small, the inclination of the spacer 13 may occur. Conversely, if the thickness Sb is too large, a conductive film described later can be easily formed on the surface. On the other hand, on the front substrate 2 side, a high voltage may enter irregularly and adversely affect the trajectory of the electron beam.

また、参照符号15は導電膜であり、この導電膜15は、例えばAu/Pt/Ir材のスパッタリング法等により約5〜20nm程度の厚さで成膜されている。この導電膜15は電子源の上面にも形成され、電子源の電極材料も兼ねており、導電性があり、且つ電子が透過して空間に放出されることが必要である。電子源の上部の電極材料と、スペーサの接着部材表面の導電性の付与とを兼ねており、デバイス構造が簡略になり、且つプロセスも簡略にできる利点がある。   Reference numeral 15 denotes a conductive film, and the conductive film 15 is formed with a thickness of about 5 to 20 nm by, for example, sputtering of Au / Pt / Ir material. The conductive film 15 is also formed on the upper surface of the electron source, and also serves as an electrode material for the electron source. The conductive film 15 needs to be conductive and transmit electrons into the space. It combines the electrode material on the upper part of the electron source and imparts conductivity to the surface of the spacer adhesive member, and has the advantage that the device structure is simplified and the process can be simplified.

また、この導電膜15は、背面基板1上に成膜されるものではなく、走査信号配線9にスペーサ13を接着固定する接着部材14を塗布した後にこの接着部材14を含む走査信号配線9,層間絶縁膜12,電子源11上に形成されている。したがって、スペーサ13は、その下端部が導電膜15に接触して接着部材14内に埋設されて接着固定される構造となる。   The conductive film 15 is not formed on the back substrate 1, and the scanning signal wiring 9 including the adhesive member 14 after the adhesive member 14 that adheres and fixes the spacer 13 to the scanning signal wiring 9 is applied. It is formed on the interlayer insulating film 12 and the electron source 11. Therefore, the spacer 13 has a structure in which the lower end portion thereof is in contact with the conductive film 15 and is buried in the adhesive member 14 to be bonded and fixed.

一方、このスペーサ13の上端部は、蛍光体層16及び導電性のBM(ブラックマトリクス)膜17が形成された前面基板2のBM膜17に接着部材14を介在させて固定配置されている。したがって、このスペーサ13は、走査信号配線9とBM膜17との間に接着部材14を介して電気的に接続されるとともに、機械的に固定配置されることになる。   On the other hand, the upper end portion of the spacer 13 is fixedly arranged with an adhesive member 14 interposed between the phosphor layer 16 and the BM film 17 of the front substrate 2 on which the conductive BM (black matrix) film 17 is formed. Therefore, the spacer 13 is electrically connected between the scanning signal wiring 9 and the BM film 17 via the adhesive member 14 and is mechanically fixedly disposed.

なお、参照符号19はBM膜17に5kV〜20kVの陽極電圧を供給するアノード電源、参照符号20は電子源11から放出する電子線、参照符号21は導電膜15の形成領域を示している。   Reference numeral 19 denotes an anode power source for supplying an anode voltage of 5 kV to 20 kV to the BM film 17, reference numeral 20 denotes an electron beam emitted from the electron source 11, and reference numeral 21 denotes a region where the conductive film 15 is formed.

次に、導電膜15を形成した表示パネルの製作方法について図3に示す斜視図を用いて説明する。
まず、図3(a)に示すように背面基板1上に形成した層間絶縁膜12に電子源11からの電子線20を出射する開口部Hを開口した後、図3(b)に示すようにスペーサ13を配置する走査信号配線9上に接着部材14となる導電性ガラスフリットを印刷法またはディスペンサ法等を用いて塗布する。次に背面基板1をフリットガラスの融点程度の約300℃〜500℃に加熱し、フリットガラス及び導電性ペーストのバインダを分解させ、フリットからのガスを放出させて接着部材14を形成する。
Next, a method for manufacturing a display panel on which the conductive film 15 is formed will be described with reference to a perspective view shown in FIG.
First, as shown in FIG. 3A, an opening H that emits the electron beam 20 from the electron source 11 is opened in the interlayer insulating film 12 formed on the back substrate 1 as shown in FIG. A conductive glass frit serving as the adhesive member 14 is applied onto the scanning signal wiring 9 on which the spacer 13 is disposed by using a printing method or a dispenser method. Next, the back substrate 1 is heated to about 300 ° C. to 500 ° C. which is about the melting point of the frit glass, the frit glass and the binder of the conductive paste are decomposed, and the gas from the frit is released to form the adhesive member 14.

次に、図3(c)に示すように接着部材14を形成した後に表面の全面に例えばAu/Pt/Ir材をスパッタリング法により導電膜15を成膜する。次に、図3(d)に示すように導電膜15上にスペーサ13及び図示しない支持体を配置し、内面に接着部材14を塗布した前面基板2を位置合わせし、再度約300℃〜500℃に加熱してフリットガラスを溶融し、背面基板1及び前面基板2と、スペーサ13と、図示しない支持体とを互いに接着固定して表示パネルが完成する。   Next, as shown in FIG. 3C, after the adhesive member 14 is formed, a conductive film 15 is formed on the entire surface by, for example, Au / Pt / Ir material by sputtering. Next, as shown in FIG. 3 (d), the spacer 13 and a support (not shown) are arranged on the conductive film 15, the front substrate 2 with the adhesive member 14 applied on the inner surface is aligned, and again about 300 ° C. to 500 ° C. The frit glass is melted by heating to ° C., and the rear substrate 1, the front substrate 2, the spacer 13, and a support (not shown) are bonded and fixed to each other to complete the display panel.

図4は、スペーサ13と走査信号配線9との位置関係を示す上方から見た拡大平面図である。図4に示すように走査信号配線9の電極幅内にスペーサ13が配置され、全面が導電膜15で覆われた導電性接着部材14がスペーサ13の幅よりも外側に食み出している。導電膜15は、スペーサ13の下端部の全面に形成されている。   FIG. 4 is an enlarged plan view showing the positional relationship between the spacer 13 and the scanning signal wiring 9 as seen from above. As shown in FIG. 4, the spacer 13 is disposed within the electrode width of the scanning signal wiring 9, and the conductive adhesive member 14 whose entire surface is covered with the conductive film 15 protrudes outside the width of the spacer 13. The conductive film 15 is formed on the entire lower end portion of the spacer 13.

このような構成において、走査信号配線9上に導電性接着部材14を形成した後に導電膜15を形成することにより、導電性接着部材14の表面にも導電膜15が形成され、導電性接着部材14の表面の帯電を確実に防止することができる。また、スペーサ13と接触する下端部が導電膜15により被覆されており、導電性接着部材14を介して走査信号配線9と良好な導通が得られる。また、導電膜15の表面がスペーサ13の下端部から導電性接着部材14の表面を経由して走査信号配線9に接続されており、良好な接続が得られる。特にスペーサ13の下端部で長手方向にも連続した導電膜15がスペーサ13と接触しており、スペーサ13の下端部の全面が走査信号配線9と接続することができる。   In such a configuration, the conductive film 15 is also formed on the surface of the conductive adhesive member 14 by forming the conductive film 15 after forming the conductive adhesive member 14 on the scanning signal wiring 9, and the conductive adhesive member 14 can be reliably prevented from being charged. Further, the lower end portion that contacts the spacer 13 is covered with the conductive film 15, and good electrical continuity with the scanning signal wiring 9 is obtained through the conductive adhesive member 14. Further, the surface of the conductive film 15 is connected to the scanning signal wiring 9 from the lower end portion of the spacer 13 via the surface of the conductive adhesive member 14, and a good connection is obtained. In particular, the conductive film 15 continuous in the longitudinal direction at the lower end portion of the spacer 13 is in contact with the spacer 13, and the entire lower end portion of the spacer 13 can be connected to the scanning signal wiring 9.

最後に図1(b)に示した排気管4から排気して表示パネルの内部を真空にし、封止した後、画像信号駆動回路8及び走査信号駆動回路10等を接続して画像表示装置が完成する。   Finally, after the exhaust pipe 4 shown in FIG. 1B is evacuated and the inside of the display panel is evacuated and sealed, the image signal driving circuit 8 and the scanning signal driving circuit 10 are connected to connect the image display device. Complete.

このようにして製作された表示パネルでは、図5に要部拡大断面図で示すように動作時に走査信号配線9と図示しない画像信号配線との差電圧で電子源11から放出された電子線20は、図2に示すアノード電源19により正の高電圧が印加された前面基板2上の導電性を有するBM膜17に向けて進む。電子線20が散乱等してスペーサ13及び背面基板1側の導電性接着部材14の表面に電子線20が照射されても、導電性接着部材14の表面は帯電し難いので、電子線20は直進して電子源11の直上にある蛍光体層16を照射して発光を生じる。スペーサ13の近傍の蛍光体層16でも、離れた蛍光体層でも同じように電子線20が精度良く直進するので、表示不良は起こり難い。   In the display panel manufactured in this way, as shown in an enlarged cross-sectional view of the main part in FIG. 5, the electron beam 20 emitted from the electron source 11 by the differential voltage between the scanning signal wiring 9 and the image signal wiring (not shown) during operation. Advances toward the conductive BM film 17 on the front substrate 2 to which a positive high voltage is applied by the anode power source 19 shown in FIG. Even if the electron beam 20 is scattered and the surface of the conductive adhesive member 14 on the side of the spacer 13 and the back substrate 1 is irradiated with the electron beam 20, the surface of the conductive adhesive member 14 is difficult to be charged. It goes straight and emits light by irradiating the phosphor layer 16 directly above the electron source 11. Since the electron beam 20 advances straight with high accuracy in the same manner in the phosphor layer 16 in the vicinity of the spacer 13 and in the distant phosphor layer, display defects are unlikely to occur.

こうように構成された画像表示装置は、図6に要部拡大断面図で示すように走査信号配線9とスペーサ13の下端部との間に接着固定された導電性接着材14で相互導通路が形成されるので、導電性接着材14内における導電性金属粒子の分散の偏り及びフリットガラスの偏析による非接続部Gが生じても、スペーサ13の端部の全面に亘って略均一に低抵抗でスペーサ13と走査信号配線9とが導通される。   The image display apparatus configured as described above has a mutual conduction path by a conductive adhesive 14 bonded and fixed between the scanning signal wiring 9 and the lower end of the spacer 13 as shown in an enlarged sectional view of the main part in FIG. Therefore, even when the non-connection portion G occurs due to uneven dispersion of the conductive metal particles in the conductive adhesive material 14 and segregation of the frit glass, it is substantially uniformly reduced over the entire end portion of the spacer 13. The spacer 13 is electrically connected to the scanning signal wiring 9 by resistance.

また、図7に要部拡大断面図で示すように導電性接着部材14の走査信号配線9上にスペーサ重なり部14aに対して外側にはみ出した接着部材14bの表面も導電膜15で被覆されており、電子線が照射されても帯電し難く、周辺部に電界も乱れ難いので、電子線の進路の変化が小さく直進し易く、所定の蛍光体層に到達するので、画質不良を防ぐことができる。なお、図中、141が導電性金属粒子、142がガラス偏析部である。   7, the surface of the adhesive member 14b that protrudes outward from the spacer overlapping portion 14a on the scanning signal wiring 9 of the conductive adhesive member 14 is also covered with the conductive film 15, as shown in an enlarged cross-sectional view of the main part. In addition, it is difficult to be charged even when irradiated with an electron beam, and the electric field is not easily disturbed in the peripheral part, so that the change in the path of the electron beam is easy to go straight and reaches a predetermined phosphor layer, thereby preventing poor image quality. it can. In the figure, 141 is a conductive metal particle, and 142 is a glass segregation part.

図8は、本発明による画像表示装置の実施例2を説明するためのスペーサ接着部の構成を示す要部拡大断面図であり、前述した図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。図8において、実施例1と異なる点は、スペーサ13の下端部及びその周縁部を含む脚部13aには、例えば、Au/Pt/Ir材からなるスペーサ導電層21がスパッタリング等の真空蒸着法により被着形成されている。   FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the main part showing the configuration of the spacer bonding portion for explaining the second embodiment of the image display device according to the present invention. Is omitted. In FIG. 8, the difference from the first embodiment is that a spacer conductive layer 21 made of, for example, Au / Pt / Ir material is formed on the lower end portion of the spacer 13 and the leg portion 13a including the peripheral portion thereof by a vacuum deposition method such as sputtering. Is formed by deposition.

また、走査信号配線9上には、導電性部材を含まない接着用フリットガラスのみで形成された非導電性接着部材22を塗布し、この接着部材22の内部にスペーサ脚部13aを埋設させて加熱焼成により接着固定させ、その後、この接着部材22,スペーサ脚部13a及び走査信号配線9の表面に導電膜15が成膜されている。これによってスペーサ脚部13aに形成された導電層21と導電膜15と走査信号配線9とが接続される構造となっている。   Further, a non-conductive adhesive member 22 made of only an adhesive frit glass not including a conductive member is applied on the scanning signal wiring 9, and spacer legs 13 a are embedded in the adhesive member 22. Then, the conductive film 15 is formed on the surfaces of the adhesive member 22, the spacer leg 13 a and the scanning signal wiring 9. Thus, the conductive layer 21 formed on the spacer leg 13a, the conductive film 15, and the scanning signal wiring 9 are connected.

このような構成においても、前述した実施例1と同様の作用効果が得られる。また、このような構成においては、接着部材22としてAu,Ag等の高価な導電性部材を用いないので、安価に電気的接続構造を製作することができる。また、スペーサ13の脚部13aの非導電性接着部材22と接触する部分に導電層21としてAl,Cr,Ni,Auまたはこれらの合金等の金属薄膜を形成しても良い。また、この導電層21の形成手段としてスパッタリング等の真空蒸着法,無電界鍍金法または金属ペーストの印刷焼成法により形成しても良い。   Even in such a configuration, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, in such a configuration, since an expensive conductive member such as Au or Ag is not used as the adhesive member 22, an electrical connection structure can be manufactured at a low cost. Alternatively, a metal thin film such as Al, Cr, Ni, Au, or an alloy thereof may be formed as the conductive layer 21 on the portion of the leg 13a of the spacer 13 that contacts the nonconductive adhesive member 22. Alternatively, the conductive layer 21 may be formed by a vacuum deposition method such as sputtering, an electroless plating method, or a metal paste printing and firing method.

また、このような構成において、導電膜15は膜厚が極めて薄い薄膜で形成されているので、本実施例によりスペーサ13の組み立て等の際の非導電性接着部材22の形状の変形により、導電膜15が一部途切れていても、スペーサ導電層21を組み合わせることにより、より確実な接触を得ることができる。   Further, in such a configuration, since the conductive film 15 is formed of a very thin film, the conductive film 15 is electrically conductive due to the deformation of the shape of the nonconductive adhesive member 22 when the spacer 13 is assembled according to the present embodiment. Even if the film 15 is partially broken, more reliable contact can be obtained by combining the spacer conductive layer 21.

図9は、本発明による画像表示装置の実施例3を説明するための表示パネルの構成を示す要部拡大断面図であり、前述した図と同一部分には同一符号を付し、その説明は省略する。図9において、前述した各実施例と異なる点は、前面基板2の内面に形成された蛍光体層16及びBM層17上には、その全面にアルミニウム材の蒸着膜からなるメタルバック膜23が被着形成され、このメタルバック膜23上にスペーサ13の上端部が導電性接着部材14により接着固定されている。   FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing the main part of the structure of the display panel for explaining the third embodiment of the image display device according to the present invention. Omitted. In FIG. 9, the difference from each of the embodiments described above is that a metal back film 23 made of a vapor deposition film of an aluminum material is formed on the entire surface of the phosphor layer 16 and the BM layer 17 formed on the inner surface of the front substrate 2. The upper end portion of the spacer 13 is bonded and fixed on the metal back film 23 by the conductive adhesive member 14.

前面基板2の内面に配置された前記蛍光体層16は、赤色、緑色、青色用の複数の蛍光体層を備えたもので、これらは遮光用のBM(ブラックマトリクス)膜17で区画して配置されており、更にこれらを覆うように金属薄膜からなるメタルバック膜(陽極電極)23が例えば蒸着方法で設けられて蛍光面を形成している。このBM膜17は数百μm程度、メタルバック膜23は数十乃至数百nm程度の厚さに設定されている。   The phosphor layer 16 disposed on the inner surface of the front substrate 2 includes a plurality of phosphor layers for red, green, and blue, and these are partitioned by a light-shielding BM (black matrix) film 17. Further, a metal back film (anode electrode) 23 made of a metal thin film is provided by, for example, a vapor deposition method so as to cover these to form a phosphor screen. The BM film 17 is set to a thickness of about several hundred μm, and the metal back film 23 is set to a thickness of about several tens to several hundreds of nm.

ここで、前記蛍光体層16としては、例えば赤色としてY22S:Eu(P22−R)を、緑色としてZnS:Cu,Al(P22−G)を、青色としてZnS:Ag,Cl(P22−B)を用いることができる。この蛍光面構成で、電子源11から放射される電子を加速し、対応する画素を構成する蛍光体層16に射突させる。これにより、蛍光体層16が所定の色光で発光し、他の画素の蛍光体の発光色と混合されて所定の色のカラー画素を構成する。また、BM膜17は面電極として示してあるが、走査信号配線9と交差して画素列ごとに分割されたストライプ状電極とすることもできる。 Here, as the phosphor layer 16, for example, Y 2 O 2 S: Eu (P22-R) as red, ZnS: Cu, Al (P22-G) as green, and ZnS: Ag, Cl (blue as blue) P22-B) can be used. With this phosphor screen configuration, electrons radiated from the electron source 11 are accelerated and projected onto the phosphor layer 16 constituting the corresponding pixel. As a result, the phosphor layer 16 emits light of a predetermined color and is mixed with the emission color of the phosphors of other pixels to form a color pixel of a predetermined color. In addition, although the BM film 17 is shown as a surface electrode, it may be a stripe electrode that intersects the scanning signal wiring 9 and is divided for each pixel column.

このような構成においては、スペーサ13の上端部の全面とメタルバック膜23とが直接的に接触するので、良好な導通が得られ、特にスペーサ13の長手方向の接続がほぼ均一となるので、微少放電が発生し難くなり、信頼性が向上する。また、メタルバック膜23をスペーサ13との導電膜と兼用できるので、工程数を増やすことなく、信頼性を向上することができる。   In such a configuration, since the entire upper end portion of the spacer 13 and the metal back film 23 are in direct contact with each other, good conduction is obtained, and in particular, the connection in the longitudinal direction of the spacer 13 becomes substantially uniform. It is difficult for minute discharges to occur, and reliability is improved. Further, since the metal back film 23 can also be used as the conductive film with the spacer 13, the reliability can be improved without increasing the number of steps.

なお、メタルバック膜23をアルミニウム材の蒸着膜に代えてITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜または導電性ペースト等の表面導電性を有する膜を用いても良い。また、透明導電膜を用いると、耐熱性が高く、高温度プロセスで使用しても、表面抵抗値の増大が少ない。また、Au等の金属薄膜では導電性が良好で且つ電子線透過率が高いので、電子線20の利用効率が高くなる。   The metal back film 23 may be a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), or a film having surface conductivity such as a conductive paste, instead of a vapor deposition film made of an aluminum material. In addition, when a transparent conductive film is used, the heat resistance is high, and even if the transparent conductive film is used in a high temperature process, the increase in surface resistance value is small. In addition, since the metal thin film such as Au has good conductivity and high electron beam transmittance, the utilization efficiency of the electron beam 20 is increased.

図10は、本発明の画像表示装置の画素を構成する電子源の一例を説明する図であり、図10(a)は平面図、図10(b)は図10(a)のA−A’線に沿う断面図、図10(c)は図10(a)のB−B’線に沿う断面図である。この電子源はMIM型電子源である。   10A and 10B are diagrams for explaining an example of an electron source that constitutes a pixel of the image display device of the present invention. FIG. 10A is a plan view, and FIG. 10B is an AA view of FIG. FIG. 10C is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 10A. This electron source is a MIM type electron source.

この電子源の構造を、その製造工程で説明する。先ず、背面基板SUB1上に下部電極DED(上記の各実施例における画像信号電極7)、保護絶縁層INS1、絶縁層INS2を形成する。次に、層間膜INS3と、上部電極AEDへの給電線となる上部バス電極(上記の各実施例における走査信号電極9)とスペーサ13を配置するためのスペーサ電極となる金属膜を、例えばスパッタリング法等で成膜する。下部電極や上部電極にはアルミニウムを用いることができるが、後述する他の金属も用いることができる。   The structure of this electron source will be described in the manufacturing process. First, the lower electrode DED (the image signal electrode 7 in each of the above embodiments), the protective insulating layer INS1, and the insulating layer INS2 are formed on the back substrate SUB1. Next, the interlayer film INS3, the upper bus electrode (scanning signal electrode 9 in each of the above embodiments) serving as a power supply line to the upper electrode AED, and the metal film serving as the spacer electrode for disposing the spacer 13 are sputtered, for example. The film is formed by a method or the like. Aluminum can be used for the lower electrode and the upper electrode, but other metals described later can also be used.

層間膜INS3としては、例えばシリコン酸化物やシリコン窒化物、シリコンなどを用いることができる。ここでは、シリコン窒化物を用い膜厚は約100nmとした。この層間膜INS3は、陽極酸化で形成する保護絶縁層INS1にピンホールがあった場合、その欠陥を埋め、下部電極DEDと走査信号電極となる上部バス電極(金属膜下層MDLと金属膜上層MALの間に金属膜中間層MMLとして銅(Cu)を挟んだ3層の積層膜)間の絶縁を保つ役割を果たす。   As the interlayer film INS3, for example, silicon oxide, silicon nitride, silicon, or the like can be used. Here, silicon nitride is used and the film thickness is about 100 nm. When the protective insulating layer INS1 formed by anodic oxidation has a pinhole, the interlayer film INS3 fills the defect, and the upper bus electrode (metal film lower layer MDL and metal film upper layer MAL that becomes the lower electrode DED and the scanning signal electrode) The metal film intermediate layer MML plays a role of maintaining insulation between the three layers of the laminated film with copper (Cu) interposed therebetween.

なお、上部バス電極は、上記の3層積層膜とは限らず、それ以上の層数とすることもできる。例えば、金属膜下層MDL、金属膜上層MALとしてアルミニウム(Al)やクロム(Cr)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)などの耐酸化性の高い金属材料、またはそれらを含む合金やそれらの積層膜を用いることができる。なお、ここでは金属膜下層MDL、金属膜上層MALとしてアルミニウムとネオジウム(Al−Nd)の合金を用いた。この他に金属膜下層MDLとしてAl合金とCr、W、Moなどの積層膜を用い、金属膜上層MALとしてCr、W、MoなどとAl合金の積層膜を用いて、金属膜中間層MMLのCuに接する膜を高融点金属とした5層膜を用いることで、画像表示装置の製造プロセスにおける加熱工程の際に高融点金属がバリア膜となってAlとCuの合金化を抑制できるので、配線の低抵抗化に特に有効である。   Note that the upper bus electrode is not limited to the above three-layer laminated film, and may have a larger number of layers. For example, as the metal film lower layer MDL and the metal film upper layer MAL, a metal material having high oxidation resistance such as aluminum (Al), chromium (Cr), tungsten (W), molybdenum (Mo), or an alloy containing them or a laminate thereof A membrane can be used. Here, an alloy of aluminum and neodymium (Al—Nd) was used as the metal film lower layer MDL and the metal film upper layer MAL. In addition, a laminated film of Al alloy and Cr, W, Mo or the like is used as the metal film lower layer MDL, and a laminated film of Cr, W, Mo or the like and Al alloy is used as the metal film upper layer MAL. By using a five-layer film in which the film in contact with Cu is a refractory metal, the refractory metal becomes a barrier film during the heating step in the manufacturing process of the image display device, so that alloying of Al and Cu can be suppressed. This is particularly effective for reducing the resistance of the wiring.

上記金属膜下層MDL及び金属膜上層MALとして、Al−Nd合金のみ用いる場合の当該Al−Nd合金の膜厚は、金属膜下層MDLより金属膜上層MALを厚くし、金属膜中間層MMLのCuは配線抵抗を低減するため、できるだけ厚くしておく。ここでは金属膜下層MDLを約300nm、金属膜中間層MMLを約4μm、金属膜上層MALを約450nmの膜厚とした。なお、金属膜中間層MMLのCuはスパッタ以外に電気めっきなどにより形成することも可能である。   When only the Al-Nd alloy is used as the metal film lower layer MDL and the metal film upper layer MAL, the film thickness of the Al-Nd alloy is such that the metal film upper layer MAL is thicker than the metal film lower layer MDL and the Cu of the metal film intermediate layer MML is made. Is as thick as possible to reduce the wiring resistance. Here, the metal film lower layer MDL is about 300 nm, the metal film intermediate layer MML is about 4 μm, and the metal film upper layer MAL is about 450 nm. Note that Cu in the metal film intermediate layer MML can be formed by electroplating or the like in addition to sputtering.

高融点金属を用いる上記5層膜の場合は、Cuと同様に、特に燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液でのウェットエッチングが可能なMoでCuを挟んだ積層膜を金属膜中間層MMLとして用いるのが特に有効である。この場合、Cuを挟むMoの膜厚は約50nmとし、この金属膜中間層を挟む金属膜下層MDLのAl合金は約300nm、金属膜上層MALのAl合金は約450nmの膜厚とする。   In the case of the above five-layer film using a refractory metal, a multilayer film in which Cu is sandwiched between Mo that can be wet-etched with a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid and nitric acid is used as the metal film intermediate layer MML, similarly to Cu. Is particularly effective. In this case, the film thickness of Mo sandwiching Cu is about 50 nm, the Al alloy of the metal film lower layer MDL sandwiching the metal film intermediate layer is about 300 nm, and the Al alloy of the metal film upper layer MAL is about 450 nm.

続いて、スクリーン印刷によるレジストのパターニングとエッチング加工により金属膜上層MALを、下部電極DEDと交差するストライプ形状に加工する。このエッチング加工では、例えば燐酸、酢酸の混合水溶液でのウェットエッチングを用いる。エッチング液に硝酸を加えないことにより、CuをエッチングせずにAl−Nd合金のみを選択的にエッチングすることが可能となる。   Subsequently, the metal film upper layer MAL is processed into a stripe shape intersecting with the lower electrode DED by patterning a resist by screen printing and etching. In this etching process, for example, wet etching using a mixed aqueous solution of phosphoric acid and acetic acid is used. By not adding nitric acid to the etching solution, it is possible to selectively etch only the Al—Nd alloy without etching Cu.

Moを用いた5層膜の場合も、エッチング液に硝酸を加えないことにより、MoとCuをエッチングせずにAl−Nd合金のみ選択的にエッチング加工することが可能である。ここでは、金属膜上層MALを1画素あたり1本形成したが、2本形成することも可能である。   Also in the case of a five-layer film using Mo, it is possible to selectively etch only an Al—Nd alloy without etching Mo and Cu by not adding nitric acid to the etching solution. Although one metal film upper layer MAL is formed per pixel here, two metal film upper layers MAL may be formed.

続いて、同じレジスト膜をそのまま用いるか、金属膜上層MALのAl−Nd合金をマスクとして金属膜中間層MMLのCuを例えば燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液でウェットエッチングする。燐酸、酢酸、硝酸の混合水溶液のエッチング液中でのCuのエッチング速度はAl−Nd合金に比べて十分に速いため、金属膜中間層MMLのCuのみを選択的にエッチングすることが可能である。Moを用いた5層膜の場合も、MoとCuのエッチング速度はAl−Nd合金に比べて十分に速く、MoとCuの3層の積層膜のみを選択的にエッチングすることが可能である。Cuのエッチングにはその他過硫酸アンモニウム水溶液や過硫酸ナトリウム水溶液も有効である。   Subsequently, the same resist film is used as it is, or Cu of the metal film intermediate layer MML is wet-etched with a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid and nitric acid, for example, using the Al—Nd alloy of the metal film upper layer MAL as a mask. Since the etching rate of Cu in an etching solution of a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid, and nitric acid is sufficiently higher than that of an Al—Nd alloy, only Cu in the metal film intermediate layer MML can be selectively etched. . Also in the case of a five-layer film using Mo, the etching rate of Mo and Cu is sufficiently higher than that of an Al—Nd alloy, and it is possible to selectively etch only the three-layer film of Mo and Cu. . Other ammonium persulfate aqueous solutions and sodium persulfate aqueous solutions are also effective for etching Cu.

続いて、スクリーン印刷によるレジストのパターニングとエッチング加工により金属膜下層MDLを、下部電極DEDと交差するストライプ形状に加工する。このエッチング加工は燐酸、酢酸の混合水溶液でのウェットエッチングで行う。その際、印刷するレジスト膜を金属膜上層MALのストライプ電極の位置からずらすことにより、金属膜下層MDLの一方の片側端部EG1を金属膜上層MALより張り出させて、後の工程で上部電極AEDとの接続を確保するコンタクト部とする。また、金属膜下層MDLの上記一方の片側端部EG1とは反対側の他方の片側端部EG2では、金属膜上層MALと金属膜中間層MMLをマスクとしてオーバーエッチング加工がなされ、金属膜中間層MMLに庇を形成する如く後退した部分が形成される。   Subsequently, the metal film lower layer MDL is processed into a stripe shape intersecting with the lower electrode DED by resist patterning and etching by screen printing. This etching process is performed by wet etching with a mixed aqueous solution of phosphoric acid and acetic acid. At that time, by shifting the resist film to be printed from the position of the stripe electrode of the metal film upper layer MAL, one end EG1 of the metal film lower layer MDL is projected from the metal film upper layer MAL, and the upper electrode is formed in a later step. A contact portion that secures connection with the AED. In addition, the other one end EG2 of the metal film lower layer MDL opposite to the one one end EG1 is over-etched using the metal film upper layer MAL and the metal film intermediate layer MML as a mask, and the metal film intermediate layer A recessed portion is formed so as to form a ridge in the MML.

この金属膜中間層MMLの庇により、後の工程で成膜される上部電極AEDが分離される。この際、金属膜上層MALは金属膜下層MDLの膜厚より厚くしてあるので、金属膜下層MDLのエッチングが終了しても、金属膜上層MALを金属膜中間層MMLのCu上に残すことができる。これによりCuの表面を保護することが可能となるので、Cuを用いても耐酸化性があり、かつ上部電極AEDを自己整合的に分離し、かつ給電を行う走査信号配線となる上部バス電極を形成することができる。また、CuをMoで挟んだ5層膜の金属膜中間層MMLとした場合には、金属膜上層MALのAl合金が薄くても、MoがCuの酸化を抑制してくれるので、金属膜上層MALを金属膜下層MDLの膜厚より厚くする必要は必ずしもない。   The upper electrode AED formed in a later step is separated by the metal film intermediate layer MML. At this time, since the metal film upper layer MAL is thicker than the film thickness of the metal film lower layer MDL, the metal film upper layer MAL is left on the Cu of the metal film intermediate layer MML even after the etching of the metal film lower layer MDL is finished. Can do. As a result, the surface of Cu can be protected, so that the upper bus electrode which is oxidation resistant even if Cu is used, and which separates the upper electrode AED in a self-aligned manner and serves as a scanning signal wiring for supplying power Can be formed. Further, in the case of a five-layer metal film intermediate layer MML in which Cu is sandwiched between Mo, even if the Al alloy of the metal film upper layer MAL is thin, Mo suppresses oxidation of Cu, so the metal film upper layer It is not always necessary to make MAL thicker than the film thickness of the metal film lower layer MDL.

続いて、層間膜INS3を加工して電子放出部を開口する。電子放出部は画素内の1本の下部電極DEDと、下部電極DEDと交差する2本の上部バス電極(金属膜下層MDL、金属膜中間層MML、金属膜上層MALの積層膜と図示しない隣接画素の金属膜下層MDL、金属膜中間層MML、金属膜上層MALの積層膜)に挟まれた空間の交差部の一部に形成する。このエッチング加工は、例えばCF4やSF6を主成分とするエッチングガスを用いたドライエッチングによって行うことができる。 Subsequently, the interlayer film INS3 is processed to open an electron emission portion. The electron emission portion includes one lower electrode DED in the pixel and two upper bus electrodes intersecting the lower electrode DED (a laminated film of a metal film lower layer MDL, a metal film intermediate layer MML, and a metal film upper layer MAL and an adjacent not shown) It is formed at a part of the intersection of the space sandwiched between the metal film lower layer MDL, the metal film intermediate layer MML, and the metal film upper layer MAL. This etching process can be performed, for example, by dry etching using an etching gas containing CF 4 or SF 6 as a main component.

最後に、上部電極AEDの成膜を行う。この成膜にはスパッタ法を用いる。上部電極AEDとしては、アルミニウムでも良く、あるいはイリジウム(Ir)、白金(Pt)、金(Au)の積層膜を用い、その膜厚は例えば約6nmとすることもできる。この時、上部電極AEDは、上部バス電極(金属膜下層MDL、金属膜中間層MML、金属膜上層MALの積層膜)の一方の端部(図10(c)の右側)では、金属膜中間層MMLと金属膜上層MALの庇構造による金属膜下層MDLの後退部(EG2)により切断される。そして、上部バス電極の他方の端部(図10(c)の左側)では、上部電極AEDは、上部バス電極(金属膜下層MDL、金属膜中間層MML、金属膜上層MALの積層膜)とは金属膜下層MDLのコンタクト部(EG1)により断線を起こさずに成膜接続されて電子放出部へ給電される構造となる。   Finally, the upper electrode AED is formed. A sputtering method is used for this film formation. As the upper electrode AED, aluminum may be used, or a laminated film of iridium (Ir), platinum (Pt), and gold (Au) may be used, and the film thickness may be about 6 nm, for example. At this time, the upper electrode AED has a metal film intermediate at one end (the right side of FIG. 10C) of the upper bus electrode (laminated film of the metal film lower layer MDL, the metal film intermediate layer MML, and the metal film upper layer MAL). The layer MML and the metal film upper layer MAL are cut by the receding portion (EG2) of the metal film lower layer MDL due to the saddle structure. At the other end of the upper bus electrode (left side of FIG. 10C), the upper electrode AED is connected to the upper bus electrode (a laminated film of the metal film lower layer MDL, the metal film intermediate layer MML, and the metal film upper layer MAL). Has a structure in which the film is connected to the electron emission portion without being disconnected by the contact portion (EG1) of the metal film lower layer MDL and is fed to the electron emission portion.

次に、図11は本発明の構成を適用した画像表示装置の等価回路例の説明図である。図11中に破線で示した領域は表示領域6であり、この表示領域6にn本の画像信号電極8とm本の走査信号配線9が互いに交差して配置されて、n×mのマトリクスに配列された画素が形成されている。マトリクスの各交差部は副画素を構成し、図中の3つの単位画素(あるいは、副画素)"R","G","B"の1グループでカラー1画素を構成する。なお、電子源の構成は図示を省いた。画像信号配線(カソード電極)7は、画像信号電極引出端子で画像信号駆動回路DDRに接続され、走査信号配線(ゲート電極)9は走査信号電極引出端子で走査信号駆動回路SDRに接続されている。画像信号駆動回路DDRには外部信号源から画像信号NSが入力され、走査信号駆動回路SDRには同様に走査信号SSが入力される。   Next, FIG. 11 is an explanatory diagram of an equivalent circuit example of an image display device to which the configuration of the present invention is applied. A region indicated by a broken line in FIG. 11 is a display region 6. In this display region 6, n image signal electrodes 8 and m scanning signal wirings 9 are arranged so as to cross each other, and an n × m matrix. Pixels arranged in the same manner are formed. Each intersection of the matrix constitutes a sub-pixel, and one group of three unit pixels (or sub-pixels) “R”, “G”, and “B” in the figure constitutes one color pixel. The configuration of the electron source is not shown. The image signal wiring (cathode electrode) 7 is connected to the image signal driving circuit DDR at the image signal electrode lead-out terminal, and the scanning signal wiring (gate electrode) 9 is connected to the scanning signal driving circuit SDR at the scanning signal electrode lead-out terminal. . The image signal NS is input from the external signal source to the image signal driving circuit DDR, and the scanning signal SS is similarly input to the scanning signal driving circuit SDR.

これにより、順次選択される走査信号配線9に交差する画像信号配線7に映像信号を供給することで、二次元のフルカラー画像を表示することができる。本構成例の表示パネルを用いることにより、比較的低電圧で高効率の画像表示装置が実現される。   Accordingly, a two-dimensional full-color image can be displayed by supplying a video signal to the image signal wiring 7 that intersects the scanning signal wiring 9 that is sequentially selected. By using the display panel of this configuration example, an image display apparatus with a relatively low voltage and high efficiency is realized.

本発明の画像表示装置の一実施例を説明するための図で、図1(a)は前面基板側から見た平面図、図1(b)は図1(a)の側面図である。1A and 1B are diagrams for explaining an embodiment of an image display device of the present invention, in which FIG. 1A is a plan view seen from the front substrate side, and FIG. 1B is a side view of FIG. 図1のA−A線に沿った模式断面図である。It is a schematic cross section along the AA line of FIG. 本発明に係わる表示パネルの製作方法を説明する要部斜視図である。It is a principal part perspective view explaining the manufacturing method of the display panel concerning this invention. スペーサと走査信号配線との位置関係を示す要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view which shows the positional relationship of a spacer and scanning signal wiring. 実施例1の構成による効果を説明する要部拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of a main part for explaining the effect of the configuration of Example 1. スペーサと走査信号配線との接着構造を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the adhesion structure of a spacer and scanning signal wiring. 導電性接着部材による接着構造を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the adhesion structure by a conductive adhesive member. 本発明による画像表示装置の実施例2の構成を示すスペーサ接着部の要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the spacer adhesion part which shows the structure of Example 2 of the image display apparatus by this invention. 本発明による画像表示装置の実施例3の構成を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the structure of Example 3 of the image display apparatus by this invention. 本発明の画像表示装置の画素を構成する電子源の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the electron source which comprises the pixel of the image display apparatus of this invention. 本発明の構成を適用した画像表示装置の等価回路例の説明図である。It is explanatory drawing of the equivalent circuit example of the image display apparatus to which the structure of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・背面基板、2・・・前面基板、3・・・支持体、4・・・排気管、5・・・表示領域、6・・・貫通孔、7・・・画像信号配線、8・・・画像信号駆動回路、9・・・走査信号配線、10・・・走査信号駆動回路、11・・・電子源、12・・・層間絶縁膜、13・・・スペーサ、13a・・・スペーサ脚部、14・・・導電性接着材、15・・・導電膜、16・・・蛍光体層、17・・・導電性BM膜、19・・・アノード電源、20・・・電子線、21・・・スペーサ導電層、22・・・非導電性接着部材、23・・・メタルバック膜、SUB1・・・背面基板、SUB2・・・前面基板、INS・・・絶縁膜(層間絶縁膜)。


DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Back substrate, 2 ... Front substrate, 3 ... Support body, 4 ... Exhaust pipe, 5 ... Display area, 6 ... Through-hole, 7 ... Image signal wiring, DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 ... Image signal drive circuit, 9 ... Scan signal wiring, 10 ... Scan signal drive circuit, 11 ... Electron source, 12 ... Interlayer insulation film, 13 ... Spacer, 13a ... Spacer legs, 14 ... conductive adhesive, 15 ... conductive film, 16 ... phosphor layer, 17 ... conductive BM film, 19 ... anode power supply, 20 ... electrons Wire, 21 ... Spacer conductive layer, 22 ... Non-conductive adhesive member, 23 ... Metal back film, SUB1 ... Back substrate, SUB2 ... Front substrate, INS ... Insulating film (interlayer) Insulating film).


Claims (11)

蛍光体層及び陽極電極を内面に有する前面基板と、
一方向に延在し該一方向と交差する他方向に並設されて前記他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線と、前記他方向に延在し前記走査信号配線に交差する如く前記一方向に並設された複数の画像信号配線と、前記走査信号配線と前記画像信号配線の各交差部近傍に設けられた電子源を内面に有して前記前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、
前記前面基板と背面基板との間で表示領域を周回して介挿され、前記所定の間隔を保持する支持体と、
前記前面基板と背面基板との間の前記表示領域内に配置された複数の間隔保持部材と、
前記間隔保持部材の端部と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ接合する接着部材と
を備え、前記支持体の端部と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、
前記間隔保持部材は、前記走査信号配線と重畳して当該走査信号配線と同一方向に延在配置され、前記背面基板と前記間隔保持部材の端部とを接合する接着部材の表面に導電膜が形成され、当該導電膜が前記走査信号配線に接続されていることを特徴とする画像表示装置。
A front substrate having a phosphor layer and an anode electrode on its inner surface;
A plurality of scanning signal wirings extending in one direction and arranged in parallel in the other direction intersecting the one direction and sequentially applying a scanning signal in the other direction, and extending in the other direction and intersecting the scanning signal wiring As described above, a plurality of image signal wirings arranged in parallel in the one direction, and an electron source provided in the vicinity of each intersection of the scanning signal wiring and the image signal wiring on the inner surface, and a predetermined distance from the front substrate. An opposing back substrate,
A support that is inserted around the display area between the front substrate and the rear substrate, and holds the predetermined distance;
A plurality of spacing members disposed in the display area between the front substrate and the back substrate;
An adhesive member for joining the end portion of the spacing member and the front substrate and the back substrate, respectively, and the end portion of the support and the front substrate and the back substrate are hermetically sealed via sealing members, respectively. An image display device comprising:
The spacing member is disposed so as to overlap with the scanning signal wiring and extend in the same direction as the scanning signal wiring, and a conductive film is formed on the surface of the adhesive member that joins the rear substrate and the end of the spacing holding member. An image display device formed, wherein the conductive film is connected to the scanning signal wiring.
前記導電膜は、前記間隔保持部材の下端部から延在して配置されていることを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the conductive film is disposed so as to extend from a lower end portion of the spacing member. 前記接着部材は、導電部材を含有して導電性を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the adhesive member includes a conductive member and has conductivity. 前記間隔保持部材は、108〜109Ω・cmの抵抗値を有することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れかに記載の画像表示装置。 The image display device according to claim 1, wherein the spacing member has a resistance value of 10 8 to 10 9 Ω · cm. 前記間隔保持部材は、セラミックス材からなり、かつ全長が200mm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the spacing member is made of a ceramic material and has a total length of 200 mm or less. 前記間隔保持部材は、ガラス材からなり、かつ全長が200mm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the spacing member is made of a glass material and has a total length of 200 mm or less. 前記背面基板は、前記電子源と前記走査信号配線とを接続する給電電極を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載の画像表示装置。   The image display device according to claim 1, wherein the rear substrate includes a power supply electrode that connects the electron source and the scanning signal wiring. 複数の開口部を備えたブラックマトリクス膜と、前記開口部を塞いで前記ブラックマトリクス膜上迄延在して配置された複数色の蛍光体層と、この蛍光体層及び前記ブラックマトリクス膜を覆う金属薄膜からなる陽極電極を内面に有する前面基板と、
一方向に延在し前記一方向と交差する他方向に並設されて前記他方向に走査信号が順次印加される複数の走査信号配線と、前記他方向に延在し前記走査信号配線に交差する如く前記一方向に並設された複数の画像信号配線と、前記走査信号配線と前記画像信号配線の各交差部近傍に設けられた電子源とを内面に有して前記前面基板と所定の間隔をもって対向する背面基板と、
前記前面基板と背面基板との間で表示領域を周回して介挿され、前記所定の間隔を保持する支持体と、
前記前面基板と背面基板間の前記表示領域内で前記走査信号配線と重畳してこの走査信号配線と同一方向に延在して配置された複数の間隔保持部材と、
前記間隔保持部材の端部と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ接合する接着部材と、を有し、前記支持体の端部と前記前面基板及び背面基板とをそれぞれ封着部材を介して気密封着してなる画像表示装置であって、
前記走査信号配線と前記間隔保持部材の端部とを接合する接着部材の表面に導電膜が形成され、当該導電膜が前記走査信号配線に接続されていることを特徴とする画像表示装置。
A black matrix film having a plurality of openings, a plurality of color phosphor layers arranged to cover the openings and extending to the black matrix film, and covering the phosphor layer and the black matrix film A front substrate having an anode electrode made of a metal thin film on its inner surface;
A plurality of scanning signal wirings extending in one direction and arranged in parallel in the other direction intersecting the one direction and sequentially applying a scanning signal in the other direction, and extending in the other direction and intersecting the scanning signal wiring As described above, a plurality of image signal wirings arranged in parallel in the one direction, an electron source provided near each intersection of the scanning signal wirings and the image signal wirings on the inner surface, A back substrate facing with a gap;
A support that is inserted around the display area between the front substrate and the rear substrate, and holds the predetermined distance;
A plurality of spacing members arranged to extend in the same direction as the scanning signal wiring so as to overlap the scanning signal wiring in the display region between the front substrate and the rear substrate;
An adhesive member for joining the end portion of the spacing member to the front substrate and the back substrate, respectively, and the end portion of the support body and the front substrate and the back substrate are respectively sealed via a sealing member. An image display device hermetically sealed,
An image display device, wherein a conductive film is formed on a surface of an adhesive member that joins the scanning signal wiring and an end of the spacing member, and the conductive film is connected to the scanning signal wiring.
前記導電膜は、金属薄膜を用いたことを特徴とする請求項8に記載の画像表示装置。   The image display apparatus according to claim 8, wherein the conductive film is a metal thin film. 前記金属薄膜は、電子源を構成する薄膜材料を用いたことを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置。   The image display apparatus according to claim 9, wherein the metal thin film uses a thin film material constituting an electron source. 前記金属薄膜は、電子源の表面を構成する電子透過性の有る薄膜材料を用いたことを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置。


The image display device according to claim 9, wherein the metal thin film is made of an electron-transmitting thin film material constituting a surface of an electron source.


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