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JP2007281285A - Substrate transport apparatus - Google Patents

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JP2007281285A
JP2007281285A JP2006107465A JP2006107465A JP2007281285A JP 2007281285 A JP2007281285 A JP 2007281285A JP 2006107465 A JP2006107465 A JP 2006107465A JP 2006107465 A JP2006107465 A JP 2006107465A JP 2007281285 A JP2007281285 A JP 2007281285A
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JP
Japan
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substrate
transport
suction
unit
transport direction
Prior art date
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Pending
Application number
JP2006107465A
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Japanese (ja)
Inventor
Osamu Nagami
理 永見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
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Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate transport apparatus which facilitates the positioning of a substrate while enabling stable substrate transport. <P>SOLUTION: The substrate transport apparatus is equipped with a substrate floating support portion 5 that floats and transports the substrate 2, a slit shape gap portion 5e consisting a move passage formed along the transport direction of the substrate 2 in the transport way of the substrate floating support portion 5, at least one suction portion 9 which is arranged on a straight line of the transport direction passing along the approximate center of gravity of the substrate 2 and carries out vacuum holding of the lower surface of the substrate 2 floated by the substrate floating support portion 5, and a transport portion 7 movably provided along the slit shape gap portion 5e supporting the suction portion 9 and composing the move passage. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば液晶ガラス基板等の基板搬送装置に関する。   The present invention relates to a substrate transfer device such as a liquid crystal glass substrate.

従来、フラットパネルディスプレイ(FPD)用のガラス基板(以下、基板という)の基板搬送装置には、基板の搬送方向に延設され、上方に配された基板をスライド自在に載置するコロ搬送部又は基板をエアー浮上させるエアー浮上ステージと、基板の一辺(端部)を保持しつつ移動する搬送部とを備えたものがある(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a substrate transfer device for a glass substrate (hereinafter referred to as a substrate) for a flat panel display (FPD), a roller transfer unit that extends in the substrate transfer direction and slidably mounts a substrate disposed above. Alternatively, there is an apparatus that includes an air levitation stage that levitates the substrate and a transport unit that moves while holding one side (end) of the substrate (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).

この種の基板搬送装置では、例えばエアー浮上ステージに複数のエアー吐出孔が形成され、このエアー吐出孔から基板の下面に向けて圧力空気が吐出されることにより基板を押し上げ浮上させ、圧力空気の継続的な吐出によって浮上した基板を支持している。浮上した基板は、エアー浮上ステージと非接触状態とされているため、ほぼ抵抗がない状態で支持されている。一方、搬送部には、基板の搬送方向に沿う端部を把持する把持機構や、浮上している基板の前端部を、両端をL字状に折り曲げた挟み込み部により挟持する保持機構が備えられている。この保持機構により浮上した基板を保持させ、搬送部が搬送方向に延設された軌道上を移動することにより、エアー浮上ステージ上の基板が搬送可能とされている。このとき、基板がエアー浮上ステージに対して非接触状態とされ、ほぼ抵抗がない状態で支持されているため、端部側が片軸状態で保持された基板を搬送部の移動に従動させることができる。   In this type of substrate transfer device, for example, a plurality of air discharge holes are formed in an air levitation stage, and pressure air is discharged from the air discharge holes toward the lower surface of the substrate to lift and lift the substrate. The substrate that has been levitated by continuous ejection is supported. Since the floating substrate is in a non-contact state with the air floating stage, it is supported with almost no resistance. On the other hand, the transport unit is equipped with a gripping mechanism that grips an end portion along the transport direction of the substrate, and a holding mechanism that sandwiches the front end portion of the floating substrate with a sandwiching portion in which both ends are bent in an L shape. ing. The substrate lifted by the holding mechanism is held, and the transfer unit moves on the track extending in the transfer direction, so that the substrate on the air levitation stage can be transferred. At this time, since the substrate is in a non-contact state with respect to the air levitation stage and is supported in a state where there is almost no resistance, the substrate held in a uniaxial state on the end side can be driven by the movement of the transport unit. it can.

また、特許文献1では、基板搬送装置のコロ搬送部上に搬入された基板は、例えば水平移動可能とされた位置決めピンなどを備える位置決め機構によって、所定の位置に整列(位置決め)される。この基板の位置決めでは、搬入した基板の端部に位置決めピンを当接させ、位置決めピンを基板に当接し水平移動することによって基板を所定の位置に導き、基板の向きや、搬送方向および搬送方向の直交方向の設置位置を調整する。
特開2000−9661号公報 特開2000−72251号公報
Further, in Patent Document 1, a substrate carried on a roller transport unit of a substrate transport device is aligned (positioned) at a predetermined position by a positioning mechanism including a positioning pin that can be moved horizontally, for example. In this substrate positioning, a positioning pin is brought into contact with the end of the loaded substrate, the positioning pin is brought into contact with the substrate and moved horizontally, and the substrate is guided to a predetermined position. Adjust the installation position in the orthogonal direction.
JP 2000-9661 A JP 2000-72251 A

しかしながら、上記の基板搬送装置では、基板が浮上することにより基板とエアー浮上ステージとの抵抗がほぼない状態とされる一方で、基板の重心から遠く離れた基板の端部側を保持し片軸状態で基板を搬送するため、搬送時に基板の重量と搬送速度に起因する回転モーメントが保持機構に作用し、搬送時又は停止時に基板がずれるという問題があった。   However, in the substrate transport apparatus described above, the substrate is lifted so that there is almost no resistance between the substrate and the air levitation stage, while the end side of the substrate far from the center of gravity of the substrate is Since the substrate is transported in a state, there has been a problem that the rotational moment resulting from the weight and transport speed of the substrate acts on the holding mechanism during transportation, and the substrate is displaced during transportation or when stopped.

また、エアー浮上ステージに搬入した段階で位置決めされた基板が搬送時又は停止時にずれた場合には、搬入位置まで戻して再度位置決めを行わなければならず、タクトタイムの増加を招くという問題があった。さらに、従来の位置決め機構では、基板の各端部に当接させる複数の位置決めピンを用い、各位置決めピンに駆動機構を要するため、基板搬送装置の構成が複雑化するという問題があった。また、位置決めピンは、矩形状の基板の各端部に対して当接可能な位置に予め設けられるため、種々の基板の大きさに柔軟に対応することが困難な場合があるという問題があった。   In addition, if the substrate positioned at the stage when it is carried into the air levitation stage is displaced during transportation or stoppage, it must be returned to the carrying-in position and repositioned, resulting in an increase in tact time. It was. Furthermore, the conventional positioning mechanism has a problem that the configuration of the substrate transport apparatus is complicated because a plurality of positioning pins that contact each end of the substrate are used and a driving mechanism is required for each positioning pin. Further, since the positioning pins are provided in advance at positions where they can come into contact with the respective end portions of the rectangular substrate, there is a problem that it may be difficult to flexibly cope with various substrate sizes. It was.

一方、近年、例えば液晶ディスプレイ装置の大型化に伴いこれに使用されるガラス基板も大型化されてきている。この大型化した基板は、従来の基板よりもその重量が大きいため、搬送時には、より大きな回転モーメントが保持機構に作用する。このため、搬送時に基板のずれが生じやすくなる。この対策の1つに、基板の搬送速度を遅くして、保持機構に作用する回転モーメントを小さくすることが考えられるが、この場合には、基板の搬送に時間が掛かり、生産性が低下するという問題が生ずる。また、基板の保持力を大きくすることも考えられるが、この場合には、上面にレジストやパターンなどが施された基板に損傷を与える恐れがある。また、ガラス基板の端部を保持して強制搬送させる基板搬送装置では、エアー浮上ステージの外側に沿って搬送部が設けられるため、基板搬送装置の幅が大きくなる。特に、フラットディスプレイパネル(FPD)を製造するマザーガラス基板は、大型化の傾向にあり、最近では2000mmを超えるガラス基板が出現している。このガラス基板のサイズに比例して基板搬送装置も大型化し、搬送装置を輸送する際に特殊なトラックが必要になり、運送時間や輸送経路等の制約を受けるという問題が生ずる。   On the other hand, in recent years, for example, with the increase in size of liquid crystal display devices, the size of glass substrates used therefor has also increased. Since this enlarged substrate is heavier than a conventional substrate, a larger rotational moment acts on the holding mechanism during transportation. For this reason, the substrate is likely to be displaced during conveyance. One possible countermeasure is to slow down the substrate transport speed and reduce the rotational moment acting on the holding mechanism. In this case, however, it takes time to transport the substrate, which reduces productivity. The problem arises. Although it is conceivable to increase the holding force of the substrate, in this case, there is a risk of damaging the substrate having a resist or pattern on the upper surface. Moreover, in the substrate transport apparatus that holds the edge of the glass substrate and forcibly transports the transport section is provided along the outside of the air levitation stage, the width of the substrate transport apparatus is increased. In particular, a mother glass substrate for producing a flat display panel (FPD) tends to be enlarged, and recently, a glass substrate exceeding 2000 mm has appeared. In proportion to the size of the glass substrate, the size of the substrate transfer device is also increased, and a special truck is required when the transfer device is transported, resulting in a problem that the transport time and transport route are restricted.

また、回転モーメントを作用させないように、基板を両軸の搬送部で保持した場合には、保持機構や搬送部の駆動機構をエアー浮上ステージの両側方にそれぞれ設けなければならず、基板搬送装置が一軸搬送に比べて更に大型化するという問題が生ずる。さらに、駆動機構を2つ設けた場合には、各駆動機構の高精度の同期を図る必要が生じ、同期がずれた場合には、搬送される基板のローリングが発生し基板を搬送できなくなるという問題があった。   In addition, when the substrate is held by both-axis transfer units so that no rotational moment is applied, a holding mechanism and a drive mechanism for the transfer unit must be provided on both sides of the air levitation stage. However, there arises a problem that the size is further increased as compared with uniaxial conveyance. Further, when two drive mechanisms are provided, it is necessary to synchronize each drive mechanism with high accuracy. When the synchronization is shifted, rolling of the substrate to be transported occurs and the substrate cannot be transported. There was a problem.

本発明は、上記事情を鑑み、安定した基板搬送を可能にするとともに、基板の位置決めを容易に行うことができる基板搬送装置を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus that enables stable substrate transfer and can easily position a substrate.

上記の目的を達するために、この発明は以下の手段を提供している。   In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.

本発明の基板搬送装置は、基板を浮上させて支持する基板浮上支持部と、前記基板浮上支持部の搬送路に前記基板の搬送方向に沿って形成された移動通路を構成するスリット状の間隙部と、前記基板の略重心を通る前記搬送方向の直線上に配置され前記基板浮上支持部で浮上された前記基板の下面を吸着保持する少なくとも1つの吸着部と前記吸着部を支持し、前記移動通路を構成するスリット状の間隙部に沿って移動可能に設けられた搬送部とを具備することを特徴とする。また、前記搬送部は、前記搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルと、前記Xテーブル上に前記基板の下面に直交する軸線回りに回転する回転テーブルとを有し、前記回転テーブルに前記吸着部が配置されることを特徴とする。   The substrate transfer apparatus according to the present invention includes a substrate floating support portion that floats and supports a substrate, and a slit-shaped gap that forms a movement path formed along the transfer direction of the substrate in the transfer path of the substrate floating support portion. Supporting the at least one suction portion and the suction portion, which are disposed on a straight line in the transport direction passing through the substantially center of gravity of the substrate and sucking and holding the lower surface of the substrate lifted by the substrate floating support portion, And a transport unit provided so as to be movable along a slit-like gap that forms the movement path. In addition, the transport unit includes an X table that moves in a direction orthogonal to the transport direction, and a rotary table that rotates on the X table about an axis perpendicular to the lower surface of the substrate. The adsorbing portion is disposed in the space.

この発明に係る基板搬送装置においては、基板の略重心を通る搬送方向の直線上で基板を吸着部により吸着保持して搬送することができる。また、吸着部を回転テーブルに設けるとともに、この回転テーブルをXテーブルに設けることにより、基板浮上支持部上で基板を搬送方向および搬送方向に直交する方向に移動させることができ、且つ回転させることが可能になる。   In the substrate transport apparatus according to the present invention, the substrate can be sucked and held by the suction portion on the straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate. Further, by providing the suction unit on the rotary table and providing the rotary table on the X table, the substrate can be moved in the transport direction and the direction orthogonal to the transport direction on the substrate floating support unit, and rotated. Is possible.

本発明の基板搬送装置によれば、基板の略重心を通る搬送方向の直線上で基板を吸着保持して搬送することにより、回転モーメントを作用させずに基板を搬送することができる。よって、搬送部からずれることなく基板を安定して搬送することができる。また、搬送部に搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルを設けるとともに、このXテーブル上に回転テーブルを設けることによって、吸着部により吸着保持された基板を搬送方向および搬送方向に直交する方向に移動させることができ、且つ回転させることができる。これにより、吸着部を備える搬送部によって、基板浮上支持部上に搬入した基板の位置決めを行うことができる。このため、基板搬送装置に位置決めピンなどの位置決め機構を別途設ける必要がなく、構成の簡素化を図ることができ、基板搬送装置の低コスト化を図ることができる。   According to the substrate transport apparatus of the present invention, the substrate can be transported without applying a rotational moment by sucking and holding the substrate on a straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate. Therefore, the substrate can be stably conveyed without being displaced from the conveyance unit. In addition, an X table that moves in a direction orthogonal to the transport direction is provided in the transport unit, and a rotary table is provided on the X table, so that the substrate held by suction by the suction unit is orthogonal to the transport direction and the transport direction. Can be moved in the direction of rotation and can be rotated. Thereby, the board | substrate carried in on the board | substrate floating support part can be positioned by the conveyance part provided with an adsorption | suction part. For this reason, it is not necessary to separately provide a positioning mechanism such as a positioning pin in the substrate transport apparatus, the configuration can be simplified, and the cost of the substrate transport apparatus can be reduced.

以下、図1から図3を参照し、本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。   Hereinafter, the substrate transfer apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第1実施形態は、図1に示すように、FPDに用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Aに関するものである。この基板検査装置Aは、基板2を搬送する基板搬送装置1と、基板搬送装置1で搬送した基板2の詳細観察を行う検査部3とから構成されている。   As shown in FIG. 1, the first embodiment of the present invention relates to a substrate inspection apparatus A for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in an FPD. The substrate inspection apparatus A includes a substrate transfer device 1 that transfers a substrate 2 and an inspection unit 3 that performs detailed observation of the substrate 2 transferred by the substrate transfer device 1.

基板搬送装置1は、図1から図2に示すように、矩形枠状に形成された基台4と、基台4の上面に設けられたエアー浮上ステージ(基板浮上支持部)5と、エアー浮上ステージ5の基板搬入領域に基板2の2辺に沿うように設けられた3個の位置決めセンサ6と、搬送方向Yに沿って移動可能に設けられた搬送部7とから構成されている。   As shown in FIGS. 1 to 2, the substrate transfer apparatus 1 includes a base 4 formed in a rectangular frame shape, an air levitation stage (substrate levitation support portion) 5 provided on the upper surface of the base 4, and an air It is composed of three positioning sensors 6 provided along the two sides of the substrate 2 in the substrate carry-in area of the levitation stage 5 and a transport unit 7 provided so as to be movable along the transport direction Y.

エアー浮上ステージ5は、図1に示すように、基台4の搬送方向Yに直交する一端辺部4dから他端辺部4eまでの長さ寸法を有する複数の浮上ブロック(浮上支持板)5aにより形成されている。この複数の浮上ブロック5aは、矩形板状に形成され、長手方向を搬送方向Yとし、搬送方向Yの直交方向Xに一定間隔で並列配置され、隣り合う浮上ブロック5aの間隙が間隙部5eとされている。これらの間隙部5eのうち搬送路の略中央に位置する間隙部5eは、搬送部7の移動通路を構成するスリット状の間隙部として使用される。このとき、各浮上ブロック5aは、上面5bが同一水平面を形成するように配置されている。また、各浮上ブロック5aの表面には、エアーを吐出するためのエアー吐出孔5cが複数分散配置されている。この各浮上ブロック5aのエアー室には、例えばコンプレッサーなどの図示せぬ圧力空気吐出手段が図示せぬ配管などを介して接続されており、エアー吐出孔5cから一定圧力の圧力空気をエアー浮上ステージ5の上面5b側に向けて吐出可能とされている。これにより、エアー浮上ステージ5上に搬入した基板2は、基板2の下面2a側から圧力空気が吐出され、基板2と浮上ブロック5aとの間のエアー層によりエアー浮上ステージ5上に浮上した状態で支持される。   As shown in FIG. 1, the air levitation stage 5 includes a plurality of levitation blocks (levitation support plates) 5a having lengths from one end side 4d to the other end side 4e perpendicular to the transport direction Y of the base 4. It is formed by. The plurality of floating blocks 5a are formed in a rectangular plate shape, the longitudinal direction thereof is the conveyance direction Y, and they are arranged in parallel at a constant interval in the orthogonal direction X of the conveyance direction Y. The gap between the adjacent floating blocks 5a is separated from the gap portion 5e. Has been. Among these gaps 5 e, the gap 5 e located at the approximate center of the conveyance path is used as a slit-like gap that constitutes the movement path of the conveyance unit 7. At this time, each floating block 5a is arrange | positioned so that the upper surface 5b may form the same horizontal surface. Further, a plurality of air discharge holes 5c for discharging air are dispersedly arranged on the surface of each floating block 5a. The air chamber of each levitation block 5a is connected to a pressure air discharge means (not shown) such as a compressor via a pipe (not shown), for example, and air with a constant pressure is supplied from the air discharge hole 5c to the air levitation stage. 5 can be discharged toward the upper surface 5b side. Thus, the substrate 2 carried onto the air levitation stage 5 is in a state where the pressure air is discharged from the lower surface 2a side of the substrate 2 and is levitated on the air levitation stage 5 by the air layer between the substrate 2 and the levitation block 5a. Supported by

位置決めセンサ6は、エアー浮上ステージ5の基板搬入領域に搬入された基板2の2辺のエッジ位置情報を検出するもので、基板2が図1中の破線で示す基準位置に設定された状態で、基板2の隣接する長辺側に2個配置され、短辺側に1個配置されている。位置決めセンサ6としては、例えばラインセンサが用いられ、ラインセンサの中心が基準位置に設定された基板2のエッジ部に一致するように位置調整されている。すなわち、これら3個の位置決めセンサ6の中心を基準位置として、3個の位置決めサンサ6の出力から基板2のエッジ位置情報を求め、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求めることができる。   The positioning sensor 6 detects edge position information of the two sides of the substrate 2 carried into the substrate carry-in area of the air levitation stage 5, and the substrate 2 is set at the reference position indicated by the broken line in FIG. Two are arranged on the adjacent long side of the substrate 2 and one is arranged on the short side. As the positioning sensor 6, for example, a line sensor is used, and the position is adjusted so that the center of the line sensor coincides with the edge portion of the substrate 2 set as the reference position. That is, using the centers of these three positioning sensors 6 as a reference position, the edge position information of the substrate 2 is obtained from the outputs of the three positioning sensors 6, and the displacement amount and rotational displacement amount of the substrate 2 in the XY directions are obtained. it can.

搬送部7は、図2から図3に示すように、基台4の一端辺部4dと他端辺部4eとの間に搬送方向Yに沿って架設されたフレーム部4f上に移動可能に設けられている。フレーム部4fは、エアー浮上ステージ5の中心に位置する移動通路となる間隙部5eと重なる位置に配置される。この搬送部7は、例えば、フレーム部4f上に搬送方向Yに沿って敷設された2条の第1軌道部7aと、第1軌道部7a上を滑動する図示せぬスライダ部に支持された矩形板状の搬送テーブル7bと、第1軌道部7aの間のフレーム部4f上に第1軌道部7aに平行して設けられ、搬送テーブル7bを搬送方向Yに駆動させるリニアモータ7cと、搬送テーブル7bの長手方向の中央上面に搬送方向Yの直交方向Xに延設された2条の第2軌道部7dと、第2軌道部7d上を滑動する1つの吸着ユニット8とから構成されている。   As shown in FIGS. 2 to 3, the transport unit 7 is movable on a frame unit 4 f that is constructed along the transport direction Y between the one end side 4 d and the other end side 4 e of the base 4. Is provided. The frame portion 4f is disposed at a position overlapping the gap portion 5e serving as a movement path located at the center of the air levitation stage 5. The transport unit 7 is supported by, for example, two first track portions 7a laid on the frame portion 4f along the transport direction Y, and a slider unit (not shown) that slides on the first track portion 7a. A rectangular plate-shaped transfer table 7b, a linear motor 7c provided in parallel with the first track portion 7a on the frame portion 4f between the first track portions 7a, and driving the transfer table 7b in the transfer direction Y; The table 7b is composed of two second track portions 7d extending in the direction X orthogonal to the transport direction Y on the central upper surface in the longitudinal direction, and one suction unit 8 that slides on the second track portion 7d. Yes.

吸着ユニット8は、図3に示すように、Xテーブル8aと、Xテーブル8aの突出部8bの先端に固定されXテーブル8aを第2軌道部7d上で滑動可能とする滑動ブロック8cと、Xテーブル8aの上面8dに垂直に固定された例えば垂直アクチュエータなどの2つの待避シリンダ8eと、平板状のモータステージ8fと、モータステージ8fの上面8gの4つの端部から垂直に突設される矩形棒状の柱部8hと、4本の柱部8hの先端に連結されつつ支持された矩形板状の上板部8iと、上板部8iの上面8j側に設けられた円板状の回転テーブル8kと、回転テーブル8kの上面8lに設けられた吸着部(第一の吸着部)9とから構成されている。   As shown in FIG. 3, the suction unit 8 includes an X table 8a, a sliding block 8c that is fixed to the tip of the protruding portion 8b of the X table 8a and allows the X table 8a to slide on the second track portion 7d, For example, two retracting cylinders 8e such as a vertical actuator fixed perpendicularly to the upper surface 8d of the table 8a, a flat motor stage 8f, and a rectangular shape protruding vertically from four ends of the upper surface 8g of the motor stage 8f A rod-shaped column portion 8h, a rectangular plate-shaped upper plate portion 8i supported while being connected to the tips of the four column portions 8h, and a disk-shaped rotary table provided on the upper surface 8j side of the upper plate portion 8i. 8k and a suction part (first suction part) 9 provided on the upper surface 8l of the rotary table 8k.

Xテーブル8aとモータステージ8fと上板部8iと回転テーブル8kには、それぞれの中央位置に開口部8mが設けられている。この開口部8mには、Xテーブル8aの下面側に配された回転モータ8nから垂直に延設されるシャフト8pが挿通され、カップリング8qを介して第一の吸着部9に接続されている。これにより、回転モータ8nの駆動で第一の吸着部9がシャフト8pの軸線O1回りに回転可能とされている。また、上板部8iは、下面が待避シリンダ8eに支持されており、これにより回転モータ8nとモータステージ8fと柱部8hと上板部8iと回転テーブル8kと第一の吸着部9とが上下動可能とされている。さらに、第一の吸着部9は、有底円筒部9bと、この有底円筒部9bの上端の開口部に首振り可能に取り付けられた吸着パッド9cとを主な構成要素とし、コンプレッサーなどの吸引手段の吸引動作により吸着パッド9cが基板2の裏面に吸着する。吸着パッド9cは、基板2の裏面に吸着を開始すると、このときの負圧により吸着パッド9cが有底円筒部9b内に引き込まれ基板2の浮上基準位置に設定される。ここで、図1に示すように、吸着ユニット8は、エアー浮上ステージ5で浮上された基板2の略重心Zを通る搬送方向Yの直線S上に配され、吸着パッド9cがエアー浮上ステージ5の中心に位置する移動通路を構成する間隙部5eと重なる位置に配されている。さらに、吸着パッド9cの上面がエアー浮上ステージ5の上面5bに対して基板2の浮上高さとほぼ同位置とされている。また、吸着ユニット8には、第2軌道部7d上で移動可能とするため、例えばリニアモータなどの駆動手段が設けられている。ここで、第一の吸着部9の搬送方向Yと直交方向Xとの移動量は、±10mm程度とされており、好ましくは±5〜3mm程度、より好ましくは±3〜1mm程度とされる。また、搬送テーブル7bが第1軌道部7a上を搬送方向Yに移動可能とされていることにより、第一の吸着部9は、基板2を吸着保持して搬送方向Yに移動される。   The X table 8a, the motor stage 8f, the upper plate portion 8i, and the rotary table 8k are each provided with an opening 8m at the center position. A shaft 8p extending vertically from a rotary motor 8n disposed on the lower surface side of the X table 8a is inserted into the opening 8m, and is connected to the first suction portion 9 via a coupling 8q. . Accordingly, the first suction portion 9 can be rotated around the axis O1 of the shaft 8p by driving the rotary motor 8n. Further, the lower surface of the upper plate portion 8i is supported by the retracting cylinder 8e, whereby the rotary motor 8n, the motor stage 8f, the column portion 8h, the upper plate portion 8i, the rotary table 8k, and the first suction portion 9 are arranged. It can be moved up and down. Furthermore, the first suction part 9 is mainly composed of a bottomed cylindrical part 9b and a suction pad 9c attached to the opening at the upper end of the bottomed cylindrical part 9b so as to be able to swing, such as a compressor. The suction pad 9c is attracted to the back surface of the substrate 2 by the suction operation of the suction means. When the suction pad 9c starts to be sucked on the back surface of the substrate 2, the suction pad 9c is drawn into the bottomed cylindrical portion 9b by the negative pressure at this time, and is set to the floating reference position of the substrate 2. Here, as shown in FIG. 1, the suction unit 8 is arranged on a straight line S in the transport direction Y passing through the approximate center of gravity Z of the substrate 2 levitated by the air levitation stage 5, and the adsorption pad 9 c is arranged in the air levitation stage 5. Is disposed at a position overlapping the gap portion 5e constituting the moving passage located at the center of the. Further, the upper surface of the suction pad 9 c is substantially at the same position as the flying height of the substrate 2 with respect to the upper surface 5 b of the air levitation stage 5. Further, the suction unit 8 is provided with driving means such as a linear motor so as to be movable on the second track portion 7d. Here, the movement amount of the first suction unit 9 in the transport direction Y and the orthogonal direction X is about ± 10 mm, preferably about ± 5 to 3 mm, more preferably about ± 3 to 1 mm. . Further, since the transfer table 7b is movable on the first track portion 7a in the transfer direction Y, the first suction unit 9 is moved in the transfer direction Y while holding the substrate 2 by suction.

一方、検査部3は、図1から図2に示すように、基台4の搬送方向Yに沿う両端辺部4b、4cの上面4gから垂直に突設された2本の支柱3aと両支柱3aの先端をつなぎ搬送方向Yの直交方向Xに連設された矩形柱状の水平部材3bとからなる門型支柱部3cと、水平部材3bに支持され水平部材3bに沿って移動可能とされた顕微鏡部3dとから構成されている。顕微鏡部3dは、水平部材3bの上面3eに支持され基台4側に垂下された支持部材3fと、垂下された支持部材3fの先端に取り付けられた顕微鏡ヘッド3gとから構成されている。ここで、支持部材3fが水平部材3bに沿って移動可能とされていることにより、顕微鏡ヘッド3gが搬送方向Yの直交方向Xに移動可能とされている。また、顕微鏡ヘッド3gは、対物レンズの光軸O2が垂直方向に配されるように支持部材3fに取り付けられ、顕微鏡ヘッド3gには、下方に位置される基板2に向けて光を照射する図示せぬ落射照明部とCCDカメラ3hとが取り付けられている。CCDカメラ3hは、顕微鏡ヘッド3gの対物レンズにより取得された画像を撮像するためのものである。   On the other hand, as shown in FIGS. 1 to 2, the inspection unit 3 includes two columns 3 a and both columns vertically projecting from the upper surfaces 4 g of both side portions 4 b and 4 c along the transport direction Y of the base 4. 3a is connected to the horizontal member 3b, and is connected to the horizontal member 3b and is movable along the horizontal member 3b. And a microscope unit 3d. The microscope unit 3d includes a support member 3f supported on the upper surface 3e of the horizontal member 3b and suspended from the base 4 side, and a microscope head 3g attached to the tip of the suspended support member 3f. Here, since the support member 3f is movable along the horizontal member 3b, the microscope head 3g is movable in the orthogonal direction X of the transport direction Y. The microscope head 3g is attached to the support member 3f so that the optical axis O2 of the objective lens is arranged in the vertical direction, and the microscope head 3g is irradiated with light toward the substrate 2 positioned below. An epi-illumination unit (not shown) and a CCD camera 3h are attached. The CCD camera 3h is for capturing an image acquired by the objective lens of the microscope head 3g.

ついで、上記の構成からなる基板検査装置1において基板2を搬送する方法および基板搬送装置1により搬送した基板2を基板検査装置Aで検査する方法について説明する。   Next, a method for transporting the substrate 2 in the substrate inspection apparatus 1 having the above configuration and a method for inspecting the substrate 2 transported by the substrate transport apparatus 1 by the substrate inspection apparatus A will be described.

図1に示すように、はじめに、例えば搬送ロボットを用いて、エアー浮上ステージ5に基板2を搬入し、エアー吐出孔5cから圧力空気を吐出して基板2を浮上させた状態とする。ここで、基板2は、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが第一の吸着部9の上方に位置するように搬入される。この段階では、基板2の方向性が定められていないとともに、基板2は、原点座標取得を行う基準位置から搬送方向Yの直交方向Xに1〜2mm程度ずれた状態とされている。ついで、図3に示す吸着ユニット8の待避シリンダ8eを駆動させ、浮上した基板2の下面2aに第一の吸着部9の吸着パッド9cを当接させる。このとき吸着パッド9cは、基板2の下面2aに当接して基板2と平行になるように首を振り、この状態で図示せぬ吸引手段により吸引動作することで基板2に対する吸着が開始される。この吸着により吸着パッド9cは、有底円筒部9b内に引き込まれ基板浮上高さに水平に位置決めされ、基板2の略重心Z直下の下面2a(以下、重心位置Zという)を吸着保持する。   As shown in FIG. 1, first, the substrate 2 is carried into the air levitation stage 5 using, for example, a transfer robot, and the substrate 2 is floated by discharging pressurized air from the air discharge holes 5c. Here, the substrate 2 is loaded by the transfer robot so that the approximate center of gravity Z of the substrate 2 is located above the first suction unit 9. At this stage, the directionality of the substrate 2 is not determined, and the substrate 2 is shifted from the reference position for obtaining the origin coordinates by about 1 to 2 mm in the orthogonal direction X of the transport direction Y. Next, the retracting cylinder 8e of the suction unit 8 shown in FIG. 3 is driven to bring the suction pad 9c of the first suction portion 9 into contact with the lower surface 2a of the substrate 2 that has floated. At this time, the suction pad 9c abuts on the lower surface 2a of the substrate 2 and swings its neck so as to be parallel to the substrate 2. In this state, suction operation is performed by a suction means (not shown) to start suction to the substrate 2. . By this suction, the suction pad 9c is drawn into the bottomed cylindrical portion 9b and positioned horizontally at the substrate flying height, and sucks and holds the lower surface 2a (hereinafter referred to as the center of gravity position Z) immediately below the substantial center of gravity Z of the substrate 2.

ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部9を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに移動させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って移動させてY方向の位置合わせを行う。このように、各位置決めセンサ6で検出された基板2の位置ずれ情報に基づいて搬送部7及びXテーブル8aを搬送方向及び搬送方向に直交する方向に移動させるとともに、回転テーブル8kを回転させることにより、エアー浮上ステージ5上に搬入された基板2のエッジが各位置決めセンサ6の中心に合わされ、基板2が基準位置に位置決めされる。   Next, each positioning sensor 6 obtains a displacement amount and a rotational displacement amount of the substrate 2 in the X and Y directions, and based on this positional displacement information, the rotation motor 8n of the adsorption unit 8 is driven to rotate the first adsorption unit 9, The position of the substrate 2 in the rotational direction θ is aligned so that the side end portion 2b of the substrate 2 is along the transport direction Y, and the position in the X direction is moved on the second track portion 7d in the orthogonal direction X of the transport direction Y. Alignment is performed, and the transport table 7b is moved along the transport direction Y on the first track portion 7a to perform alignment in the Y direction. In this way, the transport unit 7 and the X table 8a are moved in the transport direction and the direction orthogonal to the transport direction based on the positional deviation information of the substrate 2 detected by each positioning sensor 6, and the rotary table 8k is rotated. Thus, the edge of the substrate 2 carried onto the air levitation stage 5 is aligned with the center of each positioning sensor 6, and the substrate 2 is positioned at the reference position.

ついで、第一の吸着部9に基板2を保持させつつ、搬送部7を搬送方向Yに移動し、基板2を検査部3へと搬送する。例えば、基板2に生じている欠陥の位置座標がマクロ検査などにより事前に確認されている場合には、その欠陥の位置座標データに基づき顕微鏡ヘッド3gの光軸O2に直交し、搬送方向Yに直交する直線上に指定した欠陥が位置されるよう、基板2を搬送する。これと同時に、顕微鏡ヘッド3gが門型支柱部3cの水平部材3bに沿って移動され、下方に位置する基板2の欠陥に対し観察可能な位置に合わされる。この段階で、基板2の表面2dに向けて落射照明部から光が照射され、顕微鏡ヘッド3gの焦点が表面2dに合わされて、顕微鏡ヘッド3gにより欠陥の画像が取得される。顕微鏡3ヘッド3gにより取得された画像はCCDカメラ3hにより撮像され、例えばモニターなどの図示せぬ表示部に画像が表示される。この画像を観察者が観察し、基板2の詳細観察が行われる。ここで、基板2を検査部3に向け搬送する際に、第一の吸着部9が基板2の重心位置Zを吸着保持しているため、第一の吸着部9に回転モーメントは作用せず、搬送前に基準位置に位置決めされた基板2の原点座標が狂うことなく搬送される。   Next, while the substrate 2 is held by the first suction unit 9, the transport unit 7 is moved in the transport direction Y, and the substrate 2 is transported to the inspection unit 3. For example, when the position coordinates of a defect occurring on the substrate 2 are confirmed in advance by macro inspection or the like, the position coordinate data of the defect is orthogonal to the optical axis O2 of the microscope head 3g, and in the transport direction Y. The substrate 2 is transported so that the designated defect is positioned on an orthogonal straight line. At the same time, the microscope head 3g is moved along the horizontal member 3b of the gate-type support column 3c, and is adjusted to a position where the defect of the substrate 2 located below can be observed. At this stage, light is irradiated from the epi-illumination unit toward the surface 2d of the substrate 2, the microscope head 3g is focused on the surface 2d, and an image of the defect is acquired by the microscope head 3g. An image acquired by the microscope 3 head 3g is picked up by the CCD camera 3h and displayed on a display unit (not shown) such as a monitor. An observer observes this image, and the detailed observation of the substrate 2 is performed. Here, when the substrate 2 is transported toward the inspection unit 3, the first suction unit 9 holds the gravity center position Z of the substrate 2 by suction, so that no rotation moment acts on the first suction unit 9. Then, the origin coordinates of the substrate 2 positioned at the reference position before the transport are transported without any deviation.

したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部(第一の吸着部)9により基板2の重心位置Zを吸着保持することができ、吸着部9が搬送方向Yと、搬送方向Yの直交方向Xとで移動可能とされ、且つ基板2の下面2aに直交する方向の軸線O1回りに回転可能とされているため、エアー浮上ステージ5上の基板2の位置合わせを容易に行うことができ、基板2の大きさに柔軟に対応することができる。また、1つの吸着部9で基板2の搬送と基板2の位置決めを行うことができ、従来の例えば位置決めピンなどを備える位置決め機構を別途、基板搬送装置1に設ける必要がないため、基板搬送装置1のコストの低減を図ることができる。   Therefore, according to the substrate transport apparatus 1 having the above configuration, the center of gravity Z of the substrate 2 can be sucked and held by the suction portion (first suction portion) 9, and the suction portion 9 can be transported in the transport direction Y and the transport direction. The substrate 2 can be moved in the direction X orthogonal to the direction Y and can be rotated around the axis O1 in the direction perpendicular to the lower surface 2a of the substrate 2, so that the substrate 2 on the air levitation stage 5 can be easily aligned. This can be done flexibly and can flexibly correspond to the size of the substrate 2. Further, since the substrate 2 can be transported and the substrate 2 can be positioned by one suction portion 9, there is no need to separately provide a conventional positioning mechanism including, for example, a positioning pin in the substrate transport apparatus 1. 1 can be reduced.

また、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部9により基板2の重心位置Zが吸着保持されるため、搬送時に搬送部7に回転モーメントが作用することがなく、安定した基板2の搬送を行うことができる。   Further, according to the substrate transport apparatus 1 having the above-described configuration, the center of gravity Z of the substrate 2 is sucked and held by the suction portion 9, so that a rotational moment does not act on the transport portion 7 during transport, and a stable substrate 2 conveyance can be performed.

さらに、搬送部7をエアー浮上ステージ5の内部に設けることにより、従来のように搬送部をエアー浮上ステージ5の外側に設けたものと比べ、装置の搬送方向Yと直交する幅寸法を小さくでき、装置の小型化を図ることができるとともに、特殊なトラックを使用することなく容易に輸送することができる。   Furthermore, by providing the transport unit 7 inside the air levitation stage 5, the width dimension orthogonal to the transport direction Y of the apparatus can be reduced as compared with the conventional case where the transport unit is provided outside the air levitation stage 5. The apparatus can be reduced in size and can be easily transported without using a special truck.

なお、本発明は、上記の第1実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、基板搬送装置1が基板検査装置Aに備えられているものとしたが、これに限定されるものではなく、製造ライン内の基板搬送装置として使用されてもよいものである。また、基板2を浮上させるエアー浮上ステージ(基板浮上支持部)5の基板浮上手段として、圧力空気を吐出させる構成としたが、例えば超音波などにより基板2が浮上されてもよいものであり、本発明が適用される基板浮上支持部の基板浮上手段が特に限定されるものではない。さらに、搬送部7は、基台4のフレーム部4f上に設けられ第1軌道部7a上を移動されるものとしたが、搬送方向Yに沿って吸着部9が移動可能とされていればよいものであるため、特に搬送部7の構成や駆動機構が限定されるものではない。また、吸着ユニット8が搬送テーブル7b上に設けられ、且つ搬送テーブル7b上に形成された第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに移動可能とされているが、これに限定されるものではなく、吸着部9が搬送方向Yと、搬送方向Yの直交方向Xとで移動可能とされ、且つ垂直方向の軸線O1回りに回転可能とされていればよいものである。   In addition, this invention is not limited to said 1st Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, although the board | substrate conveyance apparatus 1 shall be provided in the board | substrate inspection apparatus A, it is not limited to this, You may be used as a board | substrate conveyance apparatus in a manufacturing line. Moreover, although it was set as the structure which discharges pressure air as a substrate floating means of the air floating stage (substrate floating support part) 5 which floats the board | substrate 2, for example, the board | substrate 2 may be levitated by an ultrasonic wave etc., The substrate floating means of the substrate floating support portion to which the present invention is applied is not particularly limited. Furthermore, although the conveyance part 7 shall be provided on the frame part 4f of the base 4, and shall be moved on the 1st track | orbit part 7a, if the adsorption | suction part 9 is enabled to move along the conveyance direction Y, Since it is good, the configuration and drive mechanism of the transport unit 7 are not particularly limited. Further, the suction unit 8 is provided on the transport table 7b, and is movable in the direction X orthogonal to the transport direction Y on the second track portion 7d formed on the transport table 7b, but is not limited thereto. Instead, the suction unit 9 only needs to be movable in the transport direction Y and the direction X orthogonal to the transport direction Y, and to be rotatable around the vertical axis O1.

また、上記の第1実施形態では、顕微鏡部3dの図示せぬ落射照明部から、搬送された基板2の表面2dに向けて光を照射し顕微鏡ヘッド3gにより基板2の詳細観察を行うものとしたが、これに限定されるものではない。つまり、例えば図4から図5に示すように、エアー浮上ステージ5に開口部5fを形成し、このエアー浮上ステージ5の開口部5fの下方に、例えばLEDを線状配列させたライン照明部10やコンデンサレンズを備えた透過照明部を設け、開口部5f上に搬送された基板2に対し裏面側から光を照射し、基板2を透過した透過照明によって詳細観察されてもよいものである。   Moreover, in said 1st Embodiment, light is irradiated toward the surface 2d of the conveyed board | substrate 2 from the epi-illumination part not shown of the microscope part 3d, and the detailed observation of the board | substrate 2 is performed with the microscope head 3g. However, the present invention is not limited to this. That is, for example, as shown in FIGS. 4 to 5, a line illumination unit 10 in which an opening 5 f is formed in the air levitation stage 5 and, for example, LEDs are linearly arranged below the opening 5 f of the air levitation stage 5. Further, a transmission illumination unit including a condenser lens may be provided, and light may be irradiated from the back side to the substrate 2 conveyed on the opening 5f, and detailed observation may be performed by transmission illumination transmitted through the substrate 2.

ついで、図6から図8を参照し、本発明の第2実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。   Next, the substrate transfer apparatus 1 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第2実施形態は、図1から図3に示した第1実施形態と同様、例えば液晶ディスプレイ装置等に用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Bに関するものであり、基板搬送装置1と、検査部3とから構成されている。本実施形態の説明では、第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付し詳細な説明を省略する。   The second embodiment of the present invention is similar to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, for example, a substrate inspection for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in a liquid crystal display device or the like. The apparatus B relates to the apparatus B, and includes a substrate transfer apparatus 1 and an inspection unit 3. In the description of the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図6から図8に示すように、吸着ユニット8には、第1実施形態に示した回転テーブル8kに変わり、シャフト8pの軸線O1を中心に、搬送方向Yに沿って前方と後方に延設された矩形板状の回転テーブル8rが設けられている。この回転テーブル8rの上面8lには、シャフト8pと回転可能に連結された吸着部(第一の吸着部)11が設けられている。吸着部11(第一の吸着部)は、第1実施形態で示した吸着部(第一の吸着部)9と同じ構成とされている。また、回転テーブル8rの上面8lには、第一吸着部11を間にして基板2の略重心Zを通る搬送方向Yの直線S上の前方と後方とに、補助用の吸着部(第二の吸着部)12が設けられている。第二の吸着部12は、回転テーブル8rの上面に垂直に突設された矩形板状の保持部材12aと、保持部材12aの側面に固着された2つの吸着パッド12bとから構成されている。保持部材12aに固着された2つの吸着パッド12bは、並設されているとともに、保持部材12aの上端面よりも上方に吸着パッド12bの上端面が位置するように取り付けられている。また、各吸着パッド12bの上端面と、第一の吸着部11の吸着パッド11aの上端面とは、水平位置が同位置とされている。ここで、第二の吸着部12に設けられた吸着パッド12bは、例えば内部が中空とされ、この中空部に例えば真空吸引手段が接続されていることにより吸着パッド12bの上端面が真空吸引時に吸盤として作用するものである。   As shown in FIGS. 6 to 8, the suction unit 8 extends forward and backward along the transport direction Y around the axis O <b> 1 of the shaft 8 p instead of the rotary table 8 k shown in the first embodiment. A rectangular plate-shaped rotary table 8r is provided. The upper surface 8l of the turntable 8r is provided with a suction portion (first suction portion) 11 that is rotatably connected to the shaft 8p. The adsorption part 11 (first adsorption part) has the same configuration as the adsorption part (first adsorption part) 9 shown in the first embodiment. Further, on the upper surface 8l of the turntable 8r, auxiliary suction portions (secondary) are provided on the front and rear on the straight line S in the transport direction Y passing through the approximate center of gravity Z of the substrate 2 with the first suction portion 11 therebetween. ) 12 is provided. The second suction portion 12 includes a rectangular plate-shaped holding member 12a that is provided so as to project perpendicularly to the upper surface of the turntable 8r, and two suction pads 12b that are fixed to the side surface of the holding member 12a. The two suction pads 12b fixed to the holding member 12a are arranged side by side and attached so that the upper end surface of the suction pad 12b is positioned above the upper end surface of the holding member 12a. Further, the horizontal position of the upper end surface of each suction pad 12b and the upper end surface of the suction pad 11a of the first suction unit 11 are the same position. Here, the suction pad 12b provided in the second suction part 12 is, for example, hollow inside, and, for example, a vacuum suction means is connected to the hollow part, so that the upper end surface of the suction pad 12b is at the time of vacuum suction. It acts as a suction cup.

ついで、上記の構成からなる基板搬送装置1を用いて基板2の搬送を行う方法について説明する。   Next, a method for transporting the substrate 2 using the substrate transport apparatus 1 having the above configuration will be described.

第1実施形態と同様、図6から図8に示すように、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが吸着部11の上方に位置するよう基板2がエアー浮上ステージ5上に搬入される。エアー浮上ステージ5に搬入され浮上された基板2の下面2aに、第一の吸着部11の吸着パッド11aが当接されるように待避シリンダ8eを駆動させ、第1実施形態と同様にして吸着パッド11aにより基板2を吸着保持する。この段階で、第一の吸着部11の前方と後方とに位置する第二の吸着部12の吸着パッド12bは基板2に吸着されていない。ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部11を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに進退させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って進退させY方向の位置合わせを行う。このとき、第二の吸着部12は、第一の吸着部11のY方向とX方向への移動に従動されている。ついで、基板2が基準位置に対する位置決め完了後に、第二の吸着部12の保持部材12aに取り付けられた各吸着パッド12bを基板2の下面2aに吸着させ、確実に基板2を吸着保持させる。この基板2が確実に保持された状態で、搬送部7を第1軌道部7a上で駆動させ、基板2を検査部3に向けて搬送する。搬送された基板2は、顕微鏡部3dにより詳細観察が実施される。   Similar to the first embodiment, as shown in FIGS. 6 to 8, the substrate 2 is carried onto the air levitation stage 5 by the transfer robot so that the approximate center of gravity Z of the substrate 2 is positioned above the suction unit 11. The retracting cylinder 8e is driven so that the suction pad 11a of the first suction part 11 is brought into contact with the lower surface 2a of the substrate 2 carried into and floated on the air levitation stage 5, and suction is performed in the same manner as in the first embodiment. The substrate 2 is sucked and held by the pad 11a. At this stage, the suction pads 12 b of the second suction part 12 positioned in front of and behind the first suction part 11 are not sucked by the substrate 2. Next, each positioning sensor 6 obtains a displacement amount and a rotational displacement amount of the substrate 2 in the X and Y directions, and based on this positional displacement information, drives the rotation motor 8n of the adsorption unit 8 to rotate the first adsorption unit 11, The position of the substrate 2 in the rotational direction θ is aligned so that the side end portion 2b of the substrate 2 is along the transport direction Y, and the position in the X direction is moved forward and backward in the orthogonal direction X of the transport direction Y on the second track portion 7d. Alignment is performed, and the conveyance table 7b is moved back and forth along the conveyance direction Y on the first track portion 7a to perform alignment in the Y direction. At this time, the second suction unit 12 is driven by movement of the first suction unit 11 in the Y direction and the X direction. Next, after the positioning of the substrate 2 with respect to the reference position is completed, each suction pad 12b attached to the holding member 12a of the second suction unit 12 is sucked to the lower surface 2a of the substrate 2, and the substrate 2 is securely sucked and held. In a state where the substrate 2 is securely held, the transport unit 7 is driven on the first track portion 7 a to transport the substrate 2 toward the inspection unit 3. The transported substrate 2 is subjected to detailed observation by the microscope unit 3d.

したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部(第一の吸着部)11によって基板2の重心位置Zを吸着保持することができ、基板浮上支持部(エアー浮上ステージ)5に搬入された基板2の位置決めを容易に行うことができる。また、吸着部(第二の吸着部)12によって位置決めされた基板2の搬送方向Yの前方と後方とを吸着保持することができ、吸着部11と吸着部12とが基板2の重心Zを通る搬送方向Yの直線S上に配置されることによって、回転モーメントを作用させずに、安定した基板2の搬送を行うことができる。   Therefore, according to the substrate transport apparatus 1 having the above-described configuration, the gravity center position Z of the substrate 2 can be sucked and held by the suction portion (first suction portion) 11, and the substrate floating support portion (air floating stage) 5 can be held. The substrate 2 carried in can be easily positioned. Further, the front and rear in the transport direction Y of the substrate 2 positioned by the suction portion (second suction portion) 12 can be sucked and held, and the suction portion 11 and the suction portion 12 can set the center of gravity Z of the substrate 2. By arranging on the straight line S in the transport direction Y that passes through, the substrate 2 can be transported stably without applying a rotational moment.

なお、本発明は上記の第2実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、第二の吸着部12は、第一の吸着部11の搬送方向Yに沿って前方と後方とに設けられるものとしたが、どちらか一方に設けられてもよいものである。また、第二の吸着部12は、1つの保持部材12aに矩形状の吸着パッド12bを2つ備える構成としたが、保持部材12aおよび吸着パッド12bの数量や形状が限定されるものではない。さらに、第一の吸着部11と第二の吸着部12とが1つの回転テーブル8r上に形成されているものとしたが、第一の吸着部11の搬送方向Yの前方と後方とに位置する第二の吸着部12が第一の吸着部11と分離されて設けられてもよいものである。さらに、待避シリンダ8eの駆動によって第一の吸着部11と第二の吸着部12とがともに上下移動されるものとしたが、第一の吸着部11と第二の吸着部12とにそれぞれ待避シリンダを設けて、個別に上下移動されてもよいものである。   In addition, this invention is not limited to said 2nd Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, although the 2nd adsorption | suction part 12 shall be provided in the front and back along the conveyance direction Y of the 1st adsorption | suction part 11, it may be provided in either one. Moreover, although the 2nd adsorption | suction part 12 was set as the structure provided with the two rectangular suction pads 12b in the one holding member 12a, the quantity and shape of the holding member 12a and the suction pad 12b are not limited. Furthermore, although the 1st adsorption | suction part 11 and the 2nd adsorption | suction part 12 shall be formed on the one rotary table 8r, it is located in the front and back of the conveyance direction Y of the 1st adsorption | suction part 11. The second suction portion 12 that is to be separated from the first suction portion 11 may be provided. Further, the first suction unit 11 and the second suction unit 12 are both moved up and down by driving the retracting cylinder 8e, but the first suction unit 11 and the second suction unit 12 are retracted respectively. A cylinder may be provided and moved up and down individually.

ついで、図9から図11を参照し、本発明の第3実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。   Next, a substrate transfer apparatus 1 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本発明の第3実施形態は、図1から図3に示した第1実施形態と同様、例えば液晶ディスプレイ装置等に用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Cに関するものであり、基板搬送装置1と、検査部3とから構成されている。本実施形態の説明では、第1実施形態および第2実施形態と同様の構成について、同一符号を付し詳細な説明を省略する。   The third embodiment of the present invention is similar to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, for example, a substrate inspection for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in a liquid crystal display device or the like. The apparatus C relates to the apparatus C, and includes a substrate transfer apparatus 1 and an inspection unit 3. In the description of this embodiment, the same components as those in the first embodiment and the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図9から図11に示すように、搬送部7の搬送テーブル7b上には、吸着部(第一の吸着部)13と補助用の吸着部(第二の吸着部)14とが備えられている。吸着部(第一の吸着部)13は、第1実施形態に示した吸着部(第一の吸着部)9と同様の構成である。一方、第二の吸着部14は、搬送テーブル7bの略中央の設けられた吸着ユニット8を挟んで搬送方向の前方と後方に設けられている。第二の吸着部14は、搬送テーブル7b上に昇降機構、例えば吸着待避シリンダ15aを介して支持された矩形板状の板部材15bと、板部材15bの上面に突設された矩形板状の保持部材14aと、保持部材14aの側面に取り付けられた矩形状の複数の吸着パッド14bとから構成されている。ここで、吸着待避シリンダ15aは、搬送テーブル7bの搬送方向Y側の端部7cと第一の吸着部13の側近にそれぞれ設けられており、第二の吸着部14が上下動可能とされている。ここで、第二の吸着部14に設けられた吸着パッド14bは、例えば内部が中空とされ、この中空部に例えば真空吸引手段が接続されていることにより吸着パッド14bの上端面が真空吸引時に吸盤として作用するものである。   As shown in FIGS. 9 to 11, an adsorption unit (first adsorption unit) 13 and an auxiliary adsorption unit (second adsorption unit) 14 are provided on the conveyance table 7 b of the conveyance unit 7. Yes. The adsorption part (first adsorption part) 13 has the same configuration as the adsorption part (first adsorption part) 9 shown in the first embodiment. On the other hand, the second suction unit 14 is provided on the front and the rear in the transport direction with the suction unit 8 provided substantially at the center of the transport table 7b interposed therebetween. The second suction unit 14 includes a rectangular plate-like plate member 15b supported on a transport table 7b via an elevating mechanism, for example, a suction-retracting cylinder 15a, and a rectangular plate-like shape protruding from the upper surface of the plate member 15b. The holding member 14a and a plurality of rectangular suction pads 14b attached to the side surface of the holding member 14a. Here, the suction avoidance cylinder 15a is provided in the vicinity of the end 7c on the transport direction Y side of the transport table 7b and the side of the first suction unit 13, and the second suction unit 14 can be moved up and down. Yes. Here, the suction pad 14b provided in the second suction portion 14 is hollow, for example, and the vacuum suction means is connected to the hollow portion so that the upper end surface of the suction pad 14b is at the time of vacuum suction. It acts as a suction cup.

ついで、上記の構成からなる基板搬送装置1を用いて基板2の搬送を行う方法について説明する。   Next, a method for transporting the substrate 2 using the substrate transport apparatus 1 having the above configuration will be described.

第1実施形態に示したように、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが第一の吸着部13の上方に位置するように基板2がエアー浮上ステージ5上に搬入される。エアー浮上ステージ5に搬入され浮上された基板2の下面2aに、第一の吸着部13の吸着パッド13aが当接されるように待避シリンダ8eを駆動させ、第1実施形態と同様にして吸着パッド13aにより基板2を吸着保持する。この段階で、第一の吸着部13の前方と後方とに位置する第二の吸着部14の吸着パッド14bは基板2に吸着されていない。ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部13を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに進退させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って進退させY方向の位置合わせを行う。この位置決め動作中、第二の吸着部14は吸着待避シリンダ15を駆動させ、保持部材14aを下方に移動させ待避させる。第一の吸着部13によって基板2の位置決めが完了した段階で、吸着待避シリンダ15aを駆動させ、保持部材14aを上方に移動させて、保持部材14aに取り付けられた各吸着パッド14bを基板2の下面2aに当接させ吸着させる。これにより、第二の吸着部14が基板2を吸着保持する。第一の吸着部13と第二の吸着部14とにより基板2が吸着保持された段階で、搬送部7を駆動させ基板2を検査部3に向けて搬送する。搬送された基板2は、顕微鏡部3dにより詳細観察が実施される。   As shown in the first embodiment, the substrate 2 is carried onto the air levitation stage 5 by the transfer robot so that the approximate center of gravity Z of the substrate 2 is positioned above the first suction unit 13. The retracting cylinder 8e is driven so that the suction pad 13a of the first suction portion 13 is brought into contact with the lower surface 2a of the substrate 2 carried into and floated on the air levitation stage 5, and suction is performed in the same manner as in the first embodiment. The substrate 2 is sucked and held by the pad 13a. At this stage, the suction pads 14 b of the second suction part 14 positioned in front of and behind the first suction part 13 are not sucked by the substrate 2. Next, each positioning sensor 6 obtains a displacement amount and a rotational displacement amount of the substrate 2 in the X and Y directions, and based on this displacement information, drives the rotation motor 8n of the adsorption unit 8 to rotate the first adsorption unit 13, The position of the substrate 2 in the rotational direction θ is aligned so that the side end portion 2b of the substrate 2 is along the transport direction Y, and the position in the X direction is moved forward and backward in the orthogonal direction X of the transport direction Y on the second track portion 7d. Alignment is performed, and the conveyance table 7b is moved back and forth along the conveyance direction Y on the first track portion 7a to perform alignment in the Y direction. During this positioning operation, the second suction portion 14 drives the suction retracting cylinder 15 to move the holding member 14a downward to retract. When the positioning of the substrate 2 is completed by the first suction unit 13, the suction retracting cylinder 15a is driven, the holding member 14a is moved upward, and each suction pad 14b attached to the holding member 14a is attached to the substrate 2 It is brought into contact with and adsorbed to the lower surface 2a. Thereby, the second suction unit 14 holds the substrate 2 by suction. When the substrate 2 is sucked and held by the first suction unit 13 and the second suction unit 14, the transport unit 7 is driven to transport the substrate 2 toward the inspection unit 3. The transported substrate 2 is subjected to detailed observation by the microscope unit 3d.

したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、基板2の重心位置Zを吸着保持する吸着部(第一の吸着部)13を備えることによって、エアー浮上ステージ5に搬入された基板2の位置決めができるとともに、搬送時に回転モーメントを発生させずに搬送することができる。また、吸着部(第二の吸着部)14が吸着部13に対して搬送方向Yの前方と後方とに配されることにより、基板2を確実に保持することができ、搬送時に基板2がずれることを防止できる。   Therefore, according to the substrate transport apparatus 1 having the above-described configuration, the substrate 2 carried into the air levitation stage 5 by including the suction portion (first suction portion) 13 that sucks and holds the gravity center position Z of the substrate 2. Can be positioned and can be transported without generating a rotational moment during transport. Further, the suction part (second suction part) 14 is arranged on the front side and the rear side in the transport direction Y with respect to the suction part 13, so that the substrate 2 can be reliably held, and the substrate 2 is transported during transport. It can prevent shifting.

なお、本発明は上記の第3実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、吸着部(第一の吸着部)13と吸着部(第二の吸着部)14とが1つの搬送テーブル7b上に形成されているものとしたが、吸着部13の搬送方向Yの前方と後方とに位置する吸着部14を吸着部13と異なる搬送テーブル上に設けてもよいものである。   In addition, this invention is not limited to said 3rd Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, the suction part (first suction part) 13 and the suction part (second suction part) 14 are formed on one transport table 7b, but the front of the suction part 13 in the transport direction Y. The suction part 14 located behind and on the rear side may be provided on a transport table different from the suction part 13.

本発明の第1実施形態に係る基板検査装置を用いた外観検査装置の斜視図である。1 is a perspective view of an appearance inspection apparatus using a substrate inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. 図1に示した外観検査装置の搬送部および検査部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conveyance part and inspection part of the external appearance inspection apparatus shown in FIG. 本発明の第1実施形態に係る第一の吸着部を示す斜視図である。It is a perspective view showing the 1st adsorption part concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の基板検査装置を備える外観検査装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of an external appearance inspection apparatus provided with the board | substrate inspection apparatus of this invention. 図4に示した外観検査装置の透過照明部を示す図である。It is a figure which shows the transmitted illumination part of the external appearance inspection apparatus shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る基板検査装置1を用いた外観検査装置Bの斜視図である。It is a perspective view of the external appearance inspection apparatus B using the board | substrate inspection apparatus 1 which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図6に示した外観検査装置の搬送部および検査部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conveyance part and inspection part of the external appearance inspection apparatus shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る第一の吸着部および第二の吸着部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the 1st adsorption | suction part and 2nd adsorption | suction part which concern on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る基板検査装置1を用いた外観検査装置Cの斜視図である。It is a perspective view of the external appearance inspection apparatus C using the board | substrate inspection apparatus 1 which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 図9に示した外観検査装置の搬送部および検査部を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the conveyance part and test | inspection part of the external appearance inspection apparatus shown in FIG. 本発明の第3実施形態に係る第一の吸着部および第二の吸着部を示す斜視図である。It is a perspective view showing the 1st adsorption part and the 2nd adsorption part concerning a 3rd embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板搬送装置
2 基板
2a 基板の下面
3 検査部
4 基台
5 エアー浮上ステージ(基板浮上支持部)
5a 浮上ブロック(支持板)
7 搬送部
7a 第1の軌道部
7b 搬送テーブル
7d 第2の軌道部
8 吸着ユニット
9 吸着部(第一の吸着部)
11 吸着部(第一の吸着部)
12 吸着部(第二の吸着部)
13 吸着部(第一の吸着部)
14 吸着部(第二の吸着部)
O1 軸線
O2 画像中心軸
A 基板検査装置
B 基板検査装置
C 基板検査装置
S 搬送方向の直線
X 搬送方向
Y 搬送方向の直交方向
Z 重心
θ 回転方向

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate conveyance apparatus 2 Substrate 2a Lower surface 3 of substrate 3 Inspection part 4 Base 5 Air levitation stage (substrate levitation support part)
5a Levitation block (support plate)
7 Transport part 7a First track part 7b Transport table 7d Second track part 8 Suction unit 9 Suction part (first suction part)
11 Adsorption part (first adsorption part)
12 Adsorption part (second adsorption part)
13 Adsorption part (first adsorption part)
14 Adsorption part (second adsorption part)
O1 Axis O2 Image center axis A Substrate inspection device B Substrate inspection device C Substrate inspection device S Straight line X in conveyance direction Y direction in conveyance direction Z perpendicular to conveyance direction Z Center of gravity θ Rotation direction

Claims (8)

基板を浮上させて支持する基板浮上支持部と、
前記基板浮上支持部の搬送路に前記基板の搬送方向に沿って形成された移動通路を構成するスリット状の間隙部と、
前記基板の略重心を通る前記搬送方向の直線上に配置され前記基板浮上支持部で浮上された前記基板の下面を吸着保持する少なくとも1つの吸着部と、
前記吸着部を支持し、前記移動通路を構成するスリット状の間隙部に沿って移動可能に設けられた搬送部とを具備することを特徴とする基板搬送装置。
A substrate levitation support unit for levitating and supporting the substrate;
A slit-like gap that forms a movement path formed along the conveyance direction of the substrate in the conveyance path of the substrate floating support portion;
At least one adsorbing portion that is arranged on a straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate and adsorbs and holds the lower surface of the substrate that is levitated by the substrate levitating support portion;
A substrate transfer apparatus, comprising: a transfer unit that supports the suction unit and is movable along a slit-like gap that forms the movement path.
前記搬送部には、前記基板の略重心に前記吸着部が配置されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。   The substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the suction unit is disposed at a substantially center of gravity of the substrate in the transport unit. 前記搬送部には、前記基板の略重心を通る前記搬送方向の直線上に前記吸着部が複数配置されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。   The substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the transport unit includes a plurality of the suction units disposed on a straight line in the transport direction that passes through a substantially center of gravity of the substrate. 前記搬送部は、前記搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルと、前記Xテーブル上に前記基板の下面に直交する軸線回りに回転する回転テーブルとを有し、前記回転テーブルに前記吸着部が配置されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。   The transport unit includes an X table that moves in a direction orthogonal to the transport direction, and a rotary table that rotates about an axis perpendicular to the lower surface of the substrate on the X table. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein a suction portion is disposed. 前記回転テーブルは、前記搬送方向に沿って延設された矩形板状に形成され、この回転テーブル上に前記吸着部が複数配置されることを特徴とする請求項4記載の基板搬送装置。   5. The substrate transfer apparatus according to claim 4, wherein the turntable is formed in a rectangular plate shape extending along the transfer direction, and a plurality of the suction units are arranged on the turntable. 前記搬送部は、前記移動通路を構成するスリット状の間隙部に沿って敷設された軌道部上に移動可能に設けられた搬送テーブルと、この搬送テーブルの略中に設けられ前記搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルと、前記Xテーブル上に設けられ前記基板の下面に直交する軸線回りに回転する回転テーブルと、前記Xテーブルを挟んで前記搬送方向の前後方向の前記搬送テーブル上に上下移動可能に設けられた保持部材とを備え、前記回転テーブル上と前記各保持部材上に前記吸着部がそれぞれ配置されることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。   The transport unit includes a transport table movably provided on a track portion laid along a slit-shaped gap that constitutes the moving path, and a transport table provided substantially in the transport table with respect to the transport direction. An X table that moves in an orthogonal direction, a rotary table that is provided on the X table and rotates about an axis that is orthogonal to the lower surface of the substrate, and the transport table in the front-rear direction of the transport direction across the X table The substrate transport apparatus according to claim 1, further comprising a holding member provided on the rotary table and on each holding member. 前記保持部材は、前記回転テーブルの前記吸着部による前記基板の位置決め動作中は下方に移動して待避し、前記位置決め終了後に上方に移動して、前記保持部材上に設けられた前記吸着部により前記基板を吸着することを特徴とする請求項6記載の基板搬送装置。   The holding member moves downward during the positioning operation of the substrate by the suction portion of the rotary table and retracts, and moves upward after the positioning is finished, and is moved by the suction portion provided on the holding member. The substrate transfer apparatus according to claim 6, wherein the substrate is adsorbed. 前記搬送部は、前記基板浮上支持部の搬送路上に配置された前記基板の少なくとも隣接する2辺のエッジ位置を検出する少なくとも3個の位置決めセンサにより検出された前記基板の位置ずれ情報に基づいて、前記搬送部及び前記Xテーブルを前記搬送方向及び搬送方向に直交する方向に移動させるとともに、前記回転テーブルを回転させることにより前記基板を基準位置に位置決めすることを特徴とする請求項4又は6のいずれかに記載の基板搬送装置。

The transport unit is based on positional deviation information of the substrate detected by at least three positioning sensors that detect edge positions of at least two adjacent sides of the substrate disposed on the transport path of the substrate floating support unit. 7. The substrate is positioned at a reference position by moving the transport unit and the X table in the transport direction and a direction orthogonal to the transport direction, and rotating the rotary table. The board | substrate conveyance apparatus in any one of.

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