JP2007281285A - Substrate transport apparatus - Google Patents
Substrate transport apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007281285A JP2007281285A JP2006107465A JP2006107465A JP2007281285A JP 2007281285 A JP2007281285 A JP 2007281285A JP 2006107465 A JP2006107465 A JP 2006107465A JP 2006107465 A JP2006107465 A JP 2006107465A JP 2007281285 A JP2007281285 A JP 2007281285A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transport
- suction
- unit
- transport direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、例えば液晶ガラス基板等の基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer device such as a liquid crystal glass substrate.
従来、フラットパネルディスプレイ(FPD)用のガラス基板(以下、基板という)の基板搬送装置には、基板の搬送方向に延設され、上方に配された基板をスライド自在に載置するコロ搬送部又は基板をエアー浮上させるエアー浮上ステージと、基板の一辺(端部)を保持しつつ移動する搬送部とを備えたものがある(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a substrate transfer device for a glass substrate (hereinafter referred to as a substrate) for a flat panel display (FPD), a roller transfer unit that extends in the substrate transfer direction and slidably mounts a substrate disposed above. Alternatively, there is an apparatus that includes an air levitation stage that levitates the substrate and a transport unit that moves while holding one side (end) of the substrate (see, for example,
この種の基板搬送装置では、例えばエアー浮上ステージに複数のエアー吐出孔が形成され、このエアー吐出孔から基板の下面に向けて圧力空気が吐出されることにより基板を押し上げ浮上させ、圧力空気の継続的な吐出によって浮上した基板を支持している。浮上した基板は、エアー浮上ステージと非接触状態とされているため、ほぼ抵抗がない状態で支持されている。一方、搬送部には、基板の搬送方向に沿う端部を把持する把持機構や、浮上している基板の前端部を、両端をL字状に折り曲げた挟み込み部により挟持する保持機構が備えられている。この保持機構により浮上した基板を保持させ、搬送部が搬送方向に延設された軌道上を移動することにより、エアー浮上ステージ上の基板が搬送可能とされている。このとき、基板がエアー浮上ステージに対して非接触状態とされ、ほぼ抵抗がない状態で支持されているため、端部側が片軸状態で保持された基板を搬送部の移動に従動させることができる。 In this type of substrate transfer device, for example, a plurality of air discharge holes are formed in an air levitation stage, and pressure air is discharged from the air discharge holes toward the lower surface of the substrate to lift and lift the substrate. The substrate that has been levitated by continuous ejection is supported. Since the floating substrate is in a non-contact state with the air floating stage, it is supported with almost no resistance. On the other hand, the transport unit is equipped with a gripping mechanism that grips an end portion along the transport direction of the substrate, and a holding mechanism that sandwiches the front end portion of the floating substrate with a sandwiching portion in which both ends are bent in an L shape. ing. The substrate lifted by the holding mechanism is held, and the transfer unit moves on the track extending in the transfer direction, so that the substrate on the air levitation stage can be transferred. At this time, since the substrate is in a non-contact state with respect to the air levitation stage and is supported in a state where there is almost no resistance, the substrate held in a uniaxial state on the end side can be driven by the movement of the transport unit. it can.
また、特許文献1では、基板搬送装置のコロ搬送部上に搬入された基板は、例えば水平移動可能とされた位置決めピンなどを備える位置決め機構によって、所定の位置に整列(位置決め)される。この基板の位置決めでは、搬入した基板の端部に位置決めピンを当接させ、位置決めピンを基板に当接し水平移動することによって基板を所定の位置に導き、基板の向きや、搬送方向および搬送方向の直交方向の設置位置を調整する。
しかしながら、上記の基板搬送装置では、基板が浮上することにより基板とエアー浮上ステージとの抵抗がほぼない状態とされる一方で、基板の重心から遠く離れた基板の端部側を保持し片軸状態で基板を搬送するため、搬送時に基板の重量と搬送速度に起因する回転モーメントが保持機構に作用し、搬送時又は停止時に基板がずれるという問題があった。 However, in the substrate transport apparatus described above, the substrate is lifted so that there is almost no resistance between the substrate and the air levitation stage, while the end side of the substrate far from the center of gravity of the substrate is Since the substrate is transported in a state, there has been a problem that the rotational moment resulting from the weight and transport speed of the substrate acts on the holding mechanism during transportation, and the substrate is displaced during transportation or when stopped.
また、エアー浮上ステージに搬入した段階で位置決めされた基板が搬送時又は停止時にずれた場合には、搬入位置まで戻して再度位置決めを行わなければならず、タクトタイムの増加を招くという問題があった。さらに、従来の位置決め機構では、基板の各端部に当接させる複数の位置決めピンを用い、各位置決めピンに駆動機構を要するため、基板搬送装置の構成が複雑化するという問題があった。また、位置決めピンは、矩形状の基板の各端部に対して当接可能な位置に予め設けられるため、種々の基板の大きさに柔軟に対応することが困難な場合があるという問題があった。 In addition, if the substrate positioned at the stage when it is carried into the air levitation stage is displaced during transportation or stoppage, it must be returned to the carrying-in position and repositioned, resulting in an increase in tact time. It was. Furthermore, the conventional positioning mechanism has a problem that the configuration of the substrate transport apparatus is complicated because a plurality of positioning pins that contact each end of the substrate are used and a driving mechanism is required for each positioning pin. Further, since the positioning pins are provided in advance at positions where they can come into contact with the respective end portions of the rectangular substrate, there is a problem that it may be difficult to flexibly cope with various substrate sizes. It was.
一方、近年、例えば液晶ディスプレイ装置の大型化に伴いこれに使用されるガラス基板も大型化されてきている。この大型化した基板は、従来の基板よりもその重量が大きいため、搬送時には、より大きな回転モーメントが保持機構に作用する。このため、搬送時に基板のずれが生じやすくなる。この対策の1つに、基板の搬送速度を遅くして、保持機構に作用する回転モーメントを小さくすることが考えられるが、この場合には、基板の搬送に時間が掛かり、生産性が低下するという問題が生ずる。また、基板の保持力を大きくすることも考えられるが、この場合には、上面にレジストやパターンなどが施された基板に損傷を与える恐れがある。また、ガラス基板の端部を保持して強制搬送させる基板搬送装置では、エアー浮上ステージの外側に沿って搬送部が設けられるため、基板搬送装置の幅が大きくなる。特に、フラットディスプレイパネル(FPD)を製造するマザーガラス基板は、大型化の傾向にあり、最近では2000mmを超えるガラス基板が出現している。このガラス基板のサイズに比例して基板搬送装置も大型化し、搬送装置を輸送する際に特殊なトラックが必要になり、運送時間や輸送経路等の制約を受けるという問題が生ずる。 On the other hand, in recent years, for example, with the increase in size of liquid crystal display devices, the size of glass substrates used therefor has also increased. Since this enlarged substrate is heavier than a conventional substrate, a larger rotational moment acts on the holding mechanism during transportation. For this reason, the substrate is likely to be displaced during conveyance. One possible countermeasure is to slow down the substrate transport speed and reduce the rotational moment acting on the holding mechanism. In this case, however, it takes time to transport the substrate, which reduces productivity. The problem arises. Although it is conceivable to increase the holding force of the substrate, in this case, there is a risk of damaging the substrate having a resist or pattern on the upper surface. Moreover, in the substrate transport apparatus that holds the edge of the glass substrate and forcibly transports the transport section is provided along the outside of the air levitation stage, the width of the substrate transport apparatus is increased. In particular, a mother glass substrate for producing a flat display panel (FPD) tends to be enlarged, and recently, a glass substrate exceeding 2000 mm has appeared. In proportion to the size of the glass substrate, the size of the substrate transfer device is also increased, and a special truck is required when the transfer device is transported, resulting in a problem that the transport time and transport route are restricted.
また、回転モーメントを作用させないように、基板を両軸の搬送部で保持した場合には、保持機構や搬送部の駆動機構をエアー浮上ステージの両側方にそれぞれ設けなければならず、基板搬送装置が一軸搬送に比べて更に大型化するという問題が生ずる。さらに、駆動機構を2つ設けた場合には、各駆動機構の高精度の同期を図る必要が生じ、同期がずれた場合には、搬送される基板のローリングが発生し基板を搬送できなくなるという問題があった。 In addition, when the substrate is held by both-axis transfer units so that no rotational moment is applied, a holding mechanism and a drive mechanism for the transfer unit must be provided on both sides of the air levitation stage. However, there arises a problem that the size is further increased as compared with uniaxial conveyance. Further, when two drive mechanisms are provided, it is necessary to synchronize each drive mechanism with high accuracy. When the synchronization is shifted, rolling of the substrate to be transported occurs and the substrate cannot be transported. There was a problem.
本発明は、上記事情を鑑み、安定した基板搬送を可能にするとともに、基板の位置決めを容易に行うことができる基板搬送装置を提供することを目的とする。 In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a substrate transfer apparatus that enables stable substrate transfer and can easily position a substrate.
上記の目的を達するために、この発明は以下の手段を提供している。 In order to achieve the above object, the present invention provides the following means.
本発明の基板搬送装置は、基板を浮上させて支持する基板浮上支持部と、前記基板浮上支持部の搬送路に前記基板の搬送方向に沿って形成された移動通路を構成するスリット状の間隙部と、前記基板の略重心を通る前記搬送方向の直線上に配置され前記基板浮上支持部で浮上された前記基板の下面を吸着保持する少なくとも1つの吸着部と前記吸着部を支持し、前記移動通路を構成するスリット状の間隙部に沿って移動可能に設けられた搬送部とを具備することを特徴とする。また、前記搬送部は、前記搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルと、前記Xテーブル上に前記基板の下面に直交する軸線回りに回転する回転テーブルとを有し、前記回転テーブルに前記吸着部が配置されることを特徴とする。 The substrate transfer apparatus according to the present invention includes a substrate floating support portion that floats and supports a substrate, and a slit-shaped gap that forms a movement path formed along the transfer direction of the substrate in the transfer path of the substrate floating support portion. Supporting the at least one suction portion and the suction portion, which are disposed on a straight line in the transport direction passing through the substantially center of gravity of the substrate and sucking and holding the lower surface of the substrate lifted by the substrate floating support portion, And a transport unit provided so as to be movable along a slit-like gap that forms the movement path. In addition, the transport unit includes an X table that moves in a direction orthogonal to the transport direction, and a rotary table that rotates on the X table about an axis perpendicular to the lower surface of the substrate. The adsorbing portion is disposed in the space.
この発明に係る基板搬送装置においては、基板の略重心を通る搬送方向の直線上で基板を吸着部により吸着保持して搬送することができる。また、吸着部を回転テーブルに設けるとともに、この回転テーブルをXテーブルに設けることにより、基板浮上支持部上で基板を搬送方向および搬送方向に直交する方向に移動させることができ、且つ回転させることが可能になる。 In the substrate transport apparatus according to the present invention, the substrate can be sucked and held by the suction portion on the straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate. Further, by providing the suction unit on the rotary table and providing the rotary table on the X table, the substrate can be moved in the transport direction and the direction orthogonal to the transport direction on the substrate floating support unit, and rotated. Is possible.
本発明の基板搬送装置によれば、基板の略重心を通る搬送方向の直線上で基板を吸着保持して搬送することにより、回転モーメントを作用させずに基板を搬送することができる。よって、搬送部からずれることなく基板を安定して搬送することができる。また、搬送部に搬送方向に対して直交する方向に移動するXテーブルを設けるとともに、このXテーブル上に回転テーブルを設けることによって、吸着部により吸着保持された基板を搬送方向および搬送方向に直交する方向に移動させることができ、且つ回転させることができる。これにより、吸着部を備える搬送部によって、基板浮上支持部上に搬入した基板の位置決めを行うことができる。このため、基板搬送装置に位置決めピンなどの位置決め機構を別途設ける必要がなく、構成の簡素化を図ることができ、基板搬送装置の低コスト化を図ることができる。 According to the substrate transport apparatus of the present invention, the substrate can be transported without applying a rotational moment by sucking and holding the substrate on a straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate. Therefore, the substrate can be stably conveyed without being displaced from the conveyance unit. In addition, an X table that moves in a direction orthogonal to the transport direction is provided in the transport unit, and a rotary table is provided on the X table, so that the substrate held by suction by the suction unit is orthogonal to the transport direction and the transport direction. Can be moved in the direction of rotation and can be rotated. Thereby, the board | substrate carried in on the board | substrate floating support part can be positioned by the conveyance part provided with an adsorption | suction part. For this reason, it is not necessary to separately provide a positioning mechanism such as a positioning pin in the substrate transport apparatus, the configuration can be simplified, and the cost of the substrate transport apparatus can be reduced.
以下、図1から図3を参照し、本発明の第1実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。
Hereinafter, the
本発明の第1実施形態は、図1に示すように、FPDに用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Aに関するものである。この基板検査装置Aは、基板2を搬送する基板搬送装置1と、基板搬送装置1で搬送した基板2の詳細観察を行う検査部3とから構成されている。
As shown in FIG. 1, the first embodiment of the present invention relates to a substrate inspection apparatus A for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in an FPD. The substrate inspection apparatus A includes a
基板搬送装置1は、図1から図2に示すように、矩形枠状に形成された基台4と、基台4の上面に設けられたエアー浮上ステージ(基板浮上支持部)5と、エアー浮上ステージ5の基板搬入領域に基板2の2辺に沿うように設けられた3個の位置決めセンサ6と、搬送方向Yに沿って移動可能に設けられた搬送部7とから構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 2, the
エアー浮上ステージ5は、図1に示すように、基台4の搬送方向Yに直交する一端辺部4dから他端辺部4eまでの長さ寸法を有する複数の浮上ブロック(浮上支持板)5aにより形成されている。この複数の浮上ブロック5aは、矩形板状に形成され、長手方向を搬送方向Yとし、搬送方向Yの直交方向Xに一定間隔で並列配置され、隣り合う浮上ブロック5aの間隙が間隙部5eとされている。これらの間隙部5eのうち搬送路の略中央に位置する間隙部5eは、搬送部7の移動通路を構成するスリット状の間隙部として使用される。このとき、各浮上ブロック5aは、上面5bが同一水平面を形成するように配置されている。また、各浮上ブロック5aの表面には、エアーを吐出するためのエアー吐出孔5cが複数分散配置されている。この各浮上ブロック5aのエアー室には、例えばコンプレッサーなどの図示せぬ圧力空気吐出手段が図示せぬ配管などを介して接続されており、エアー吐出孔5cから一定圧力の圧力空気をエアー浮上ステージ5の上面5b側に向けて吐出可能とされている。これにより、エアー浮上ステージ5上に搬入した基板2は、基板2の下面2a側から圧力空気が吐出され、基板2と浮上ブロック5aとの間のエアー層によりエアー浮上ステージ5上に浮上した状態で支持される。
As shown in FIG. 1, the
位置決めセンサ6は、エアー浮上ステージ5の基板搬入領域に搬入された基板2の2辺のエッジ位置情報を検出するもので、基板2が図1中の破線で示す基準位置に設定された状態で、基板2の隣接する長辺側に2個配置され、短辺側に1個配置されている。位置決めセンサ6としては、例えばラインセンサが用いられ、ラインセンサの中心が基準位置に設定された基板2のエッジ部に一致するように位置調整されている。すなわち、これら3個の位置決めセンサ6の中心を基準位置として、3個の位置決めサンサ6の出力から基板2のエッジ位置情報を求め、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求めることができる。
The positioning sensor 6 detects edge position information of the two sides of the
搬送部7は、図2から図3に示すように、基台4の一端辺部4dと他端辺部4eとの間に搬送方向Yに沿って架設されたフレーム部4f上に移動可能に設けられている。フレーム部4fは、エアー浮上ステージ5の中心に位置する移動通路となる間隙部5eと重なる位置に配置される。この搬送部7は、例えば、フレーム部4f上に搬送方向Yに沿って敷設された2条の第1軌道部7aと、第1軌道部7a上を滑動する図示せぬスライダ部に支持された矩形板状の搬送テーブル7bと、第1軌道部7aの間のフレーム部4f上に第1軌道部7aに平行して設けられ、搬送テーブル7bを搬送方向Yに駆動させるリニアモータ7cと、搬送テーブル7bの長手方向の中央上面に搬送方向Yの直交方向Xに延設された2条の第2軌道部7dと、第2軌道部7d上を滑動する1つの吸着ユニット8とから構成されている。
As shown in FIGS. 2 to 3, the
吸着ユニット8は、図3に示すように、Xテーブル8aと、Xテーブル8aの突出部8bの先端に固定されXテーブル8aを第2軌道部7d上で滑動可能とする滑動ブロック8cと、Xテーブル8aの上面8dに垂直に固定された例えば垂直アクチュエータなどの2つの待避シリンダ8eと、平板状のモータステージ8fと、モータステージ8fの上面8gの4つの端部から垂直に突設される矩形棒状の柱部8hと、4本の柱部8hの先端に連結されつつ支持された矩形板状の上板部8iと、上板部8iの上面8j側に設けられた円板状の回転テーブル8kと、回転テーブル8kの上面8lに設けられた吸着部(第一の吸着部)9とから構成されている。
As shown in FIG. 3, the
Xテーブル8aとモータステージ8fと上板部8iと回転テーブル8kには、それぞれの中央位置に開口部8mが設けられている。この開口部8mには、Xテーブル8aの下面側に配された回転モータ8nから垂直に延設されるシャフト8pが挿通され、カップリング8qを介して第一の吸着部9に接続されている。これにより、回転モータ8nの駆動で第一の吸着部9がシャフト8pの軸線O1回りに回転可能とされている。また、上板部8iは、下面が待避シリンダ8eに支持されており、これにより回転モータ8nとモータステージ8fと柱部8hと上板部8iと回転テーブル8kと第一の吸着部9とが上下動可能とされている。さらに、第一の吸着部9は、有底円筒部9bと、この有底円筒部9bの上端の開口部に首振り可能に取り付けられた吸着パッド9cとを主な構成要素とし、コンプレッサーなどの吸引手段の吸引動作により吸着パッド9cが基板2の裏面に吸着する。吸着パッド9cは、基板2の裏面に吸着を開始すると、このときの負圧により吸着パッド9cが有底円筒部9b内に引き込まれ基板2の浮上基準位置に設定される。ここで、図1に示すように、吸着ユニット8は、エアー浮上ステージ5で浮上された基板2の略重心Zを通る搬送方向Yの直線S上に配され、吸着パッド9cがエアー浮上ステージ5の中心に位置する移動通路を構成する間隙部5eと重なる位置に配されている。さらに、吸着パッド9cの上面がエアー浮上ステージ5の上面5bに対して基板2の浮上高さとほぼ同位置とされている。また、吸着ユニット8には、第2軌道部7d上で移動可能とするため、例えばリニアモータなどの駆動手段が設けられている。ここで、第一の吸着部9の搬送方向Yと直交方向Xとの移動量は、±10mm程度とされており、好ましくは±5〜3mm程度、より好ましくは±3〜1mm程度とされる。また、搬送テーブル7bが第1軌道部7a上を搬送方向Yに移動可能とされていることにより、第一の吸着部9は、基板2を吸着保持して搬送方向Yに移動される。
The X table 8a, the
一方、検査部3は、図1から図2に示すように、基台4の搬送方向Yに沿う両端辺部4b、4cの上面4gから垂直に突設された2本の支柱3aと両支柱3aの先端をつなぎ搬送方向Yの直交方向Xに連設された矩形柱状の水平部材3bとからなる門型支柱部3cと、水平部材3bに支持され水平部材3bに沿って移動可能とされた顕微鏡部3dとから構成されている。顕微鏡部3dは、水平部材3bの上面3eに支持され基台4側に垂下された支持部材3fと、垂下された支持部材3fの先端に取り付けられた顕微鏡ヘッド3gとから構成されている。ここで、支持部材3fが水平部材3bに沿って移動可能とされていることにより、顕微鏡ヘッド3gが搬送方向Yの直交方向Xに移動可能とされている。また、顕微鏡ヘッド3gは、対物レンズの光軸O2が垂直方向に配されるように支持部材3fに取り付けられ、顕微鏡ヘッド3gには、下方に位置される基板2に向けて光を照射する図示せぬ落射照明部とCCDカメラ3hとが取り付けられている。CCDカメラ3hは、顕微鏡ヘッド3gの対物レンズにより取得された画像を撮像するためのものである。
On the other hand, as shown in FIGS. 1 to 2, the
ついで、上記の構成からなる基板検査装置1において基板2を搬送する方法および基板搬送装置1により搬送した基板2を基板検査装置Aで検査する方法について説明する。
Next, a method for transporting the
図1に示すように、はじめに、例えば搬送ロボットを用いて、エアー浮上ステージ5に基板2を搬入し、エアー吐出孔5cから圧力空気を吐出して基板2を浮上させた状態とする。ここで、基板2は、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが第一の吸着部9の上方に位置するように搬入される。この段階では、基板2の方向性が定められていないとともに、基板2は、原点座標取得を行う基準位置から搬送方向Yの直交方向Xに1〜2mm程度ずれた状態とされている。ついで、図3に示す吸着ユニット8の待避シリンダ8eを駆動させ、浮上した基板2の下面2aに第一の吸着部9の吸着パッド9cを当接させる。このとき吸着パッド9cは、基板2の下面2aに当接して基板2と平行になるように首を振り、この状態で図示せぬ吸引手段により吸引動作することで基板2に対する吸着が開始される。この吸着により吸着パッド9cは、有底円筒部9b内に引き込まれ基板浮上高さに水平に位置決めされ、基板2の略重心Z直下の下面2a(以下、重心位置Zという)を吸着保持する。
As shown in FIG. 1, first, the
ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部9を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに移動させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って移動させてY方向の位置合わせを行う。このように、各位置決めセンサ6で検出された基板2の位置ずれ情報に基づいて搬送部7及びXテーブル8aを搬送方向及び搬送方向に直交する方向に移動させるとともに、回転テーブル8kを回転させることにより、エアー浮上ステージ5上に搬入された基板2のエッジが各位置決めセンサ6の中心に合わされ、基板2が基準位置に位置決めされる。
Next, each positioning sensor 6 obtains a displacement amount and a rotational displacement amount of the
ついで、第一の吸着部9に基板2を保持させつつ、搬送部7を搬送方向Yに移動し、基板2を検査部3へと搬送する。例えば、基板2に生じている欠陥の位置座標がマクロ検査などにより事前に確認されている場合には、その欠陥の位置座標データに基づき顕微鏡ヘッド3gの光軸O2に直交し、搬送方向Yに直交する直線上に指定した欠陥が位置されるよう、基板2を搬送する。これと同時に、顕微鏡ヘッド3gが門型支柱部3cの水平部材3bに沿って移動され、下方に位置する基板2の欠陥に対し観察可能な位置に合わされる。この段階で、基板2の表面2dに向けて落射照明部から光が照射され、顕微鏡ヘッド3gの焦点が表面2dに合わされて、顕微鏡ヘッド3gにより欠陥の画像が取得される。顕微鏡3ヘッド3gにより取得された画像はCCDカメラ3hにより撮像され、例えばモニターなどの図示せぬ表示部に画像が表示される。この画像を観察者が観察し、基板2の詳細観察が行われる。ここで、基板2を検査部3に向け搬送する際に、第一の吸着部9が基板2の重心位置Zを吸着保持しているため、第一の吸着部9に回転モーメントは作用せず、搬送前に基準位置に位置決めされた基板2の原点座標が狂うことなく搬送される。
Next, while the
したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部(第一の吸着部)9により基板2の重心位置Zを吸着保持することができ、吸着部9が搬送方向Yと、搬送方向Yの直交方向Xとで移動可能とされ、且つ基板2の下面2aに直交する方向の軸線O1回りに回転可能とされているため、エアー浮上ステージ5上の基板2の位置合わせを容易に行うことができ、基板2の大きさに柔軟に対応することができる。また、1つの吸着部9で基板2の搬送と基板2の位置決めを行うことができ、従来の例えば位置決めピンなどを備える位置決め機構を別途、基板搬送装置1に設ける必要がないため、基板搬送装置1のコストの低減を図ることができる。
Therefore, according to the
また、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部9により基板2の重心位置Zが吸着保持されるため、搬送時に搬送部7に回転モーメントが作用することがなく、安定した基板2の搬送を行うことができる。
Further, according to the
さらに、搬送部7をエアー浮上ステージ5の内部に設けることにより、従来のように搬送部をエアー浮上ステージ5の外側に設けたものと比べ、装置の搬送方向Yと直交する幅寸法を小さくでき、装置の小型化を図ることができるとともに、特殊なトラックを使用することなく容易に輸送することができる。
Furthermore, by providing the
なお、本発明は、上記の第1実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、基板搬送装置1が基板検査装置Aに備えられているものとしたが、これに限定されるものではなく、製造ライン内の基板搬送装置として使用されてもよいものである。また、基板2を浮上させるエアー浮上ステージ(基板浮上支持部)5の基板浮上手段として、圧力空気を吐出させる構成としたが、例えば超音波などにより基板2が浮上されてもよいものであり、本発明が適用される基板浮上支持部の基板浮上手段が特に限定されるものではない。さらに、搬送部7は、基台4のフレーム部4f上に設けられ第1軌道部7a上を移動されるものとしたが、搬送方向Yに沿って吸着部9が移動可能とされていればよいものであるため、特に搬送部7の構成や駆動機構が限定されるものではない。また、吸着ユニット8が搬送テーブル7b上に設けられ、且つ搬送テーブル7b上に形成された第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに移動可能とされているが、これに限定されるものではなく、吸着部9が搬送方向Yと、搬送方向Yの直交方向Xとで移動可能とされ、且つ垂直方向の軸線O1回りに回転可能とされていればよいものである。
In addition, this invention is not limited to said 1st Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, although the board |
また、上記の第1実施形態では、顕微鏡部3dの図示せぬ落射照明部から、搬送された基板2の表面2dに向けて光を照射し顕微鏡ヘッド3gにより基板2の詳細観察を行うものとしたが、これに限定されるものではない。つまり、例えば図4から図5に示すように、エアー浮上ステージ5に開口部5fを形成し、このエアー浮上ステージ5の開口部5fの下方に、例えばLEDを線状配列させたライン照明部10やコンデンサレンズを備えた透過照明部を設け、開口部5f上に搬送された基板2に対し裏面側から光を照射し、基板2を透過した透過照明によって詳細観察されてもよいものである。
Moreover, in said 1st Embodiment, light is irradiated toward the
ついで、図6から図8を参照し、本発明の第2実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。
Next, the
本発明の第2実施形態は、図1から図3に示した第1実施形態と同様、例えば液晶ディスプレイ装置等に用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Bに関するものであり、基板搬送装置1と、検査部3とから構成されている。本実施形態の説明では、第1実施形態と同様の構成について、同一符号を付し詳細な説明を省略する。
The second embodiment of the present invention is similar to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, for example, a substrate inspection for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in a liquid crystal display device or the like. The apparatus B relates to the apparatus B, and includes a
図6から図8に示すように、吸着ユニット8には、第1実施形態に示した回転テーブル8kに変わり、シャフト8pの軸線O1を中心に、搬送方向Yに沿って前方と後方に延設された矩形板状の回転テーブル8rが設けられている。この回転テーブル8rの上面8lには、シャフト8pと回転可能に連結された吸着部(第一の吸着部)11が設けられている。吸着部11(第一の吸着部)は、第1実施形態で示した吸着部(第一の吸着部)9と同じ構成とされている。また、回転テーブル8rの上面8lには、第一吸着部11を間にして基板2の略重心Zを通る搬送方向Yの直線S上の前方と後方とに、補助用の吸着部(第二の吸着部)12が設けられている。第二の吸着部12は、回転テーブル8rの上面に垂直に突設された矩形板状の保持部材12aと、保持部材12aの側面に固着された2つの吸着パッド12bとから構成されている。保持部材12aに固着された2つの吸着パッド12bは、並設されているとともに、保持部材12aの上端面よりも上方に吸着パッド12bの上端面が位置するように取り付けられている。また、各吸着パッド12bの上端面と、第一の吸着部11の吸着パッド11aの上端面とは、水平位置が同位置とされている。ここで、第二の吸着部12に設けられた吸着パッド12bは、例えば内部が中空とされ、この中空部に例えば真空吸引手段が接続されていることにより吸着パッド12bの上端面が真空吸引時に吸盤として作用するものである。
As shown in FIGS. 6 to 8, the
ついで、上記の構成からなる基板搬送装置1を用いて基板2の搬送を行う方法について説明する。
Next, a method for transporting the
第1実施形態と同様、図6から図8に示すように、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが吸着部11の上方に位置するよう基板2がエアー浮上ステージ5上に搬入される。エアー浮上ステージ5に搬入され浮上された基板2の下面2aに、第一の吸着部11の吸着パッド11aが当接されるように待避シリンダ8eを駆動させ、第1実施形態と同様にして吸着パッド11aにより基板2を吸着保持する。この段階で、第一の吸着部11の前方と後方とに位置する第二の吸着部12の吸着パッド12bは基板2に吸着されていない。ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部11を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに進退させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って進退させY方向の位置合わせを行う。このとき、第二の吸着部12は、第一の吸着部11のY方向とX方向への移動に従動されている。ついで、基板2が基準位置に対する位置決め完了後に、第二の吸着部12の保持部材12aに取り付けられた各吸着パッド12bを基板2の下面2aに吸着させ、確実に基板2を吸着保持させる。この基板2が確実に保持された状態で、搬送部7を第1軌道部7a上で駆動させ、基板2を検査部3に向けて搬送する。搬送された基板2は、顕微鏡部3dにより詳細観察が実施される。
Similar to the first embodiment, as shown in FIGS. 6 to 8, the
したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、吸着部(第一の吸着部)11によって基板2の重心位置Zを吸着保持することができ、基板浮上支持部(エアー浮上ステージ)5に搬入された基板2の位置決めを容易に行うことができる。また、吸着部(第二の吸着部)12によって位置決めされた基板2の搬送方向Yの前方と後方とを吸着保持することができ、吸着部11と吸着部12とが基板2の重心Zを通る搬送方向Yの直線S上に配置されることによって、回転モーメントを作用させずに、安定した基板2の搬送を行うことができる。
Therefore, according to the
なお、本発明は上記の第2実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、第二の吸着部12は、第一の吸着部11の搬送方向Yに沿って前方と後方とに設けられるものとしたが、どちらか一方に設けられてもよいものである。また、第二の吸着部12は、1つの保持部材12aに矩形状の吸着パッド12bを2つ備える構成としたが、保持部材12aおよび吸着パッド12bの数量や形状が限定されるものではない。さらに、第一の吸着部11と第二の吸着部12とが1つの回転テーブル8r上に形成されているものとしたが、第一の吸着部11の搬送方向Yの前方と後方とに位置する第二の吸着部12が第一の吸着部11と分離されて設けられてもよいものである。さらに、待避シリンダ8eの駆動によって第一の吸着部11と第二の吸着部12とがともに上下移動されるものとしたが、第一の吸着部11と第二の吸着部12とにそれぞれ待避シリンダを設けて、個別に上下移動されてもよいものである。
In addition, this invention is not limited to said 2nd Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, although the 2nd adsorption |
ついで、図9から図11を参照し、本発明の第3実施形態に係る基板搬送装置1について説明する。
Next, a
本発明の第3実施形態は、図1から図3に示した第1実施形態と同様、例えば液晶ディスプレイ装置等に用いられるガラス基板2(以下、基板という)の外観検査を行うための基板検査装置Cに関するものであり、基板搬送装置1と、検査部3とから構成されている。本実施形態の説明では、第1実施形態および第2実施形態と同様の構成について、同一符号を付し詳細な説明を省略する。
The third embodiment of the present invention is similar to the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, for example, a substrate inspection for performing an appearance inspection of a glass substrate 2 (hereinafter referred to as a substrate) used in a liquid crystal display device or the like. The apparatus C relates to the apparatus C, and includes a
図9から図11に示すように、搬送部7の搬送テーブル7b上には、吸着部(第一の吸着部)13と補助用の吸着部(第二の吸着部)14とが備えられている。吸着部(第一の吸着部)13は、第1実施形態に示した吸着部(第一の吸着部)9と同様の構成である。一方、第二の吸着部14は、搬送テーブル7bの略中央の設けられた吸着ユニット8を挟んで搬送方向の前方と後方に設けられている。第二の吸着部14は、搬送テーブル7b上に昇降機構、例えば吸着待避シリンダ15aを介して支持された矩形板状の板部材15bと、板部材15bの上面に突設された矩形板状の保持部材14aと、保持部材14aの側面に取り付けられた矩形状の複数の吸着パッド14bとから構成されている。ここで、吸着待避シリンダ15aは、搬送テーブル7bの搬送方向Y側の端部7cと第一の吸着部13の側近にそれぞれ設けられており、第二の吸着部14が上下動可能とされている。ここで、第二の吸着部14に設けられた吸着パッド14bは、例えば内部が中空とされ、この中空部に例えば真空吸引手段が接続されていることにより吸着パッド14bの上端面が真空吸引時に吸盤として作用するものである。
As shown in FIGS. 9 to 11, an adsorption unit (first adsorption unit) 13 and an auxiliary adsorption unit (second adsorption unit) 14 are provided on the conveyance table 7 b of the
ついで、上記の構成からなる基板搬送装置1を用いて基板2の搬送を行う方法について説明する。
Next, a method for transporting the
第1実施形態に示したように、搬送ロボットによって基板2の略重心Zが第一の吸着部13の上方に位置するように基板2がエアー浮上ステージ5上に搬入される。エアー浮上ステージ5に搬入され浮上された基板2の下面2aに、第一の吸着部13の吸着パッド13aが当接されるように待避シリンダ8eを駆動させ、第1実施形態と同様にして吸着パッド13aにより基板2を吸着保持する。この段階で、第一の吸着部13の前方と後方とに位置する第二の吸着部14の吸着パッド14bは基板2に吸着されていない。ついで、各位置決めセンサ6により、基板2のXY方向のずれ量と回転ずれ量を求め、この位置ずれ情報に基づいて吸着ユニット8の回転モータ8nを駆動し第一の吸着部13を回転させ、基板2の側端部2bが搬送方向Yに沿うように回転方向θの基板2の位置合わせを行うとともに、第2軌道部7d上で搬送方向Yの直交方向Xに進退させてX方向の位置合わせを行い、搬送テーブル7bを第1軌道部7a上で搬送方向Yに沿って進退させY方向の位置合わせを行う。この位置決め動作中、第二の吸着部14は吸着待避シリンダ15を駆動させ、保持部材14aを下方に移動させ待避させる。第一の吸着部13によって基板2の位置決めが完了した段階で、吸着待避シリンダ15aを駆動させ、保持部材14aを上方に移動させて、保持部材14aに取り付けられた各吸着パッド14bを基板2の下面2aに当接させ吸着させる。これにより、第二の吸着部14が基板2を吸着保持する。第一の吸着部13と第二の吸着部14とにより基板2が吸着保持された段階で、搬送部7を駆動させ基板2を検査部3に向けて搬送する。搬送された基板2は、顕微鏡部3dにより詳細観察が実施される。
As shown in the first embodiment, the
したがって、上記の構成からなる基板搬送装置1によれば、基板2の重心位置Zを吸着保持する吸着部(第一の吸着部)13を備えることによって、エアー浮上ステージ5に搬入された基板2の位置決めができるとともに、搬送時に回転モーメントを発生させずに搬送することができる。また、吸着部(第二の吸着部)14が吸着部13に対して搬送方向Yの前方と後方とに配されることにより、基板2を確実に保持することができ、搬送時に基板2がずれることを防止できる。
Therefore, according to the
なお、本発明は上記の第3実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、吸着部(第一の吸着部)13と吸着部(第二の吸着部)14とが1つの搬送テーブル7b上に形成されているものとしたが、吸着部13の搬送方向Yの前方と後方とに位置する吸着部14を吸着部13と異なる搬送テーブル上に設けてもよいものである。
In addition, this invention is not limited to said 3rd Embodiment, In the range which does not deviate from the meaning, it can change suitably. For example, the suction part (first suction part) 13 and the suction part (second suction part) 14 are formed on one transport table 7b, but the front of the
1 基板搬送装置
2 基板
2a 基板の下面
3 検査部
4 基台
5 エアー浮上ステージ(基板浮上支持部)
5a 浮上ブロック(支持板)
7 搬送部
7a 第1の軌道部
7b 搬送テーブル
7d 第2の軌道部
8 吸着ユニット
9 吸着部(第一の吸着部)
11 吸着部(第一の吸着部)
12 吸着部(第二の吸着部)
13 吸着部(第一の吸着部)
14 吸着部(第二の吸着部)
O1 軸線
O2 画像中心軸
A 基板検査装置
B 基板検査装置
C 基板検査装置
S 搬送方向の直線
X 搬送方向
Y 搬送方向の直交方向
Z 重心
θ 回転方向
DESCRIPTION OF
5a Levitation block (support plate)
7 Transport
11 Adsorption part (first adsorption part)
12 Adsorption part (second adsorption part)
13 Adsorption part (first adsorption part)
14 Adsorption part (second adsorption part)
O1 Axis O2 Image center axis A Substrate inspection device B Substrate inspection device C Substrate inspection device S Straight line X in conveyance direction Y direction in conveyance direction Z perpendicular to conveyance direction Z Center of gravity θ Rotation direction
Claims (8)
前記基板浮上支持部の搬送路に前記基板の搬送方向に沿って形成された移動通路を構成するスリット状の間隙部と、
前記基板の略重心を通る前記搬送方向の直線上に配置され前記基板浮上支持部で浮上された前記基板の下面を吸着保持する少なくとも1つの吸着部と、
前記吸着部を支持し、前記移動通路を構成するスリット状の間隙部に沿って移動可能に設けられた搬送部とを具備することを特徴とする基板搬送装置。 A substrate levitation support unit for levitating and supporting the substrate;
A slit-like gap that forms a movement path formed along the conveyance direction of the substrate in the conveyance path of the substrate floating support portion;
At least one adsorbing portion that is arranged on a straight line in the transport direction passing through the approximate center of gravity of the substrate and adsorbs and holds the lower surface of the substrate that is levitated by the substrate levitating support portion;
A substrate transfer apparatus, comprising: a transfer unit that supports the suction unit and is movable along a slit-like gap that forms the movement path.
The transport unit is based on positional deviation information of the substrate detected by at least three positioning sensors that detect edge positions of at least two adjacent sides of the substrate disposed on the transport path of the substrate floating support unit. 7. The substrate is positioned at a reference position by moving the transport unit and the X table in the transport direction and a direction orthogonal to the transport direction, and rotating the rotary table. The board | substrate conveyance apparatus in any one of.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006107465A JP2007281285A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Substrate transport apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006107465A JP2007281285A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Substrate transport apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007281285A true JP2007281285A (en) | 2007-10-25 |
Family
ID=38682415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006107465A Pending JP2007281285A (en) | 2006-04-10 | 2006-04-10 | Substrate transport apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007281285A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100913298B1 (en) | 2009-04-01 | 2009-08-26 | 이재성 | Conveying plate using vacuum |
WO2009122595A1 (en) * | 2008-04-02 | 2009-10-08 | 日本エレクトロセンサリデバイス株式会社 | Conveying equipment of planar body and inspection equipment of planar body employing it |
WO2009148070A1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | Stage with alignment function, treatment device equipped with stage with the alignment function, and substrate alignment method |
JP2010132460A (en) * | 2010-01-13 | 2010-06-17 | Toray Eng Co Ltd | Carrying device of plate-like member and carrying method of plate-like member |
KR101543875B1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-08-11 | 세메스 주식회사 | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same |
KR101544282B1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-08-12 | 세메스 주식회사 | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same |
CN115648132A (en) * | 2022-12-13 | 2023-01-31 | 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所) | High-bearing precision motion platform for flip chip bonding |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01278038A (en) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Wafer conveying device |
JPH09138256A (en) * | 1995-11-14 | 1997-05-27 | Nippon Maikuronikusu:Kk | Method for alignment of board to be inspected |
WO2003086917A1 (en) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Olympus Corporation | Substrate conveying device |
WO2004096679A1 (en) * | 2003-04-30 | 2004-11-11 | Olympus Corporation | Substrate-levitating device |
JP2005062819A (en) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Photon Dynamics Inc | High-precision gas bearing axially divided stage for conveyance and restraint of large-sized flat-plate flexible medium in processing |
-
2006
- 2006-04-10 JP JP2006107465A patent/JP2007281285A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01278038A (en) * | 1988-04-28 | 1989-11-08 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Wafer conveying device |
JPH09138256A (en) * | 1995-11-14 | 1997-05-27 | Nippon Maikuronikusu:Kk | Method for alignment of board to be inspected |
WO2003086917A1 (en) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Olympus Corporation | Substrate conveying device |
WO2004096679A1 (en) * | 2003-04-30 | 2004-11-11 | Olympus Corporation | Substrate-levitating device |
JP2005062819A (en) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Photon Dynamics Inc | High-precision gas bearing axially divided stage for conveyance and restraint of large-sized flat-plate flexible medium in processing |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009122595A1 (en) * | 2008-04-02 | 2009-10-08 | 日本エレクトロセンサリデバイス株式会社 | Conveying equipment of planar body and inspection equipment of planar body employing it |
WO2009148070A1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-10 | 株式会社アルバック | Stage with alignment function, treatment device equipped with stage with the alignment function, and substrate alignment method |
JP5102358B2 (en) * | 2008-06-03 | 2012-12-19 | 株式会社アルバック | Stage with alignment function and processing apparatus provided with stage with alignment function |
JP2013012754A (en) * | 2008-06-03 | 2013-01-17 | Ulvac Japan Ltd | Stage with alignment function, processing unit including the stage with alignment function, and substrate alignment method |
KR100913298B1 (en) | 2009-04-01 | 2009-08-26 | 이재성 | Conveying plate using vacuum |
JP2010132460A (en) * | 2010-01-13 | 2010-06-17 | Toray Eng Co Ltd | Carrying device of plate-like member and carrying method of plate-like member |
KR101543875B1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-08-11 | 세메스 주식회사 | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same |
KR101544282B1 (en) * | 2013-12-02 | 2015-08-12 | 세메스 주식회사 | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same |
CN115648132A (en) * | 2022-12-13 | 2023-01-31 | 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所) | High-bearing precision motion platform for flip chip bonding |
CN115648132B (en) * | 2022-12-13 | 2023-04-18 | 西北电子装备技术研究所(中国电子科技集团公司第二研究所) | High-bearing precision motion platform for flip chip bonding |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4307872B2 (en) | Board inspection equipment | |
JP4384504B2 (en) | Substrate transfer device | |
JP2007281285A (en) | Substrate transport apparatus | |
JP4373175B2 (en) | Substrate transfer device | |
JP2005132626A (en) | Conveying apparatus, application system and inspection system | |
JP5265099B2 (en) | Board inspection equipment | |
JP2008166348A (en) | Substrate transfer apparatus | |
JP2008147291A (en) | Substrate supporting apparatus, substrate supporting method, substrate working apparatus, substrate working method, and manufacturing method of display device component | |
JP2007112626A (en) | Substrate carrying device, substrate inspection device and substrate carrying method | |
JP2009085865A (en) | Substrate inspection device | |
JP2006266722A (en) | System and method for inspecting substrate | |
JP5005945B2 (en) | Board inspection equipment | |
KR101058185B1 (en) | Chamfering machine for flat panel display and processing method | |
JP5015107B2 (en) | Chamfering machine for flat display and its chamfering method | |
WO2013150787A1 (en) | Object transfer system, exposure apparatus, method for manufacturing flat panel display, device manufacturing method, object holding apparatus, object transfer apparatus, object transfer method, and object replacing method | |
KR101543875B1 (en) | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same | |
JP2010157640A (en) | Substrate delivery device and method thereof | |
KR101544282B1 (en) | Apparatus for transferring substrate and apparatus for inspecting substrate including the same | |
JP5325406B2 (en) | Board inspection equipment | |
JP5618209B2 (en) | Glass plate end face imaging device and imaging method thereof | |
KR100939682B1 (en) | Grinding apparatus for glass | |
JP5776940B2 (en) | Glass plate edge inspection equipment | |
JP2012137300A (en) | Substrate conveyance device, substrate conveyance method, substrate processing system and substrate processing method | |
JP2008171929A (en) | Substrate transfer apparatus | |
JP2009229081A (en) | Microinspection device and microinspection method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090409 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20101228 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110524 |