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JP2007264783A - Support program and support device - Google Patents

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JP2007264783A JP2006085944A JP2006085944A JP2007264783A JP 2007264783 A JP2007264783 A JP 2007264783A JP 2006085944 A JP2006085944 A JP 2006085944A JP 2006085944 A JP2006085944 A JP 2006085944A JP 2007264783 A JP2007264783 A JP 2007264783A
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unit
recipe
substrate
processing
units
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JP2006085944A
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Kenichi Ito
健一 伊藤
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Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an operator to easily find out the error place of recipe. <P>SOLUTION: In checking a flow recipe and a unit recipe for determining the operation of a substrate processor, the display part of a support device is made to display a job line figure 100 in which a region(job line 101) showing time passage and operation situations is installed for each of a plurality of units arranged in the substrate processor. In each unit, a period when processing to the substrate is performed is shown with a horizontal thick line (for example, thick line 103) in the job line 101 of the pertinent unit, and a pre-processing operation or post-processing operation in each unit is shown with a horizonal line (for example, lines 107 and 109) in the job line 101 of the pertinent unit. Also, the conveyance of the substrate between the units is shown with a vertical line (for example, line 104). Furthermore, the job line 101 is also arranged in the unit to which any substrate is not conveyed. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、処理装置の動作を設定するためのフローレシピおよびユニットレシピをチェックする場合において、オペレータの作業負担を軽減する技術に関する。   The present invention relates to a technique for reducing an operator's work load when checking a flow recipe and a unit recipe for setting an operation of a processing apparatus.

複数のユニットを備えた基板処理装置において、基板の処理をフローレシピとユニットレシピとに基づいて規定する技術が知られている。フローレシピとは、あるロットの基板に洗浄、乾燥等の所定の処理を施す場合において、複数のユニットのうち、当該所定の処理に関与する処理ユニットを規定するとともに、それらの処理ユニットに基板を搬送する順序(すなわちそれらの処理ユニットの使用順序)を規定する。また、ユニットレシピとは、フローレシピに規定されている処理ユニットごとに作成されるレシピであって、個々の処理ユニットにおける動作を規定するレシピである。これらのフローレシピおよびユニットレシピは、オペレータによって作成され、基板処理装置において使用される。   In a substrate processing apparatus provided with a plurality of units, a technique for defining substrate processing based on a flow recipe and a unit recipe is known. In a flow recipe, when a predetermined processing such as cleaning and drying is performed on a substrate of a lot, a processing unit involved in the predetermined processing is specified from among a plurality of units. The order of conveyance (that is, the order of use of these processing units) is defined. The unit recipe is a recipe created for each processing unit specified in the flow recipe, and is a recipe that specifies an operation in each processing unit. These flow recipes and unit recipes are created by an operator and used in the substrate processing apparatus.

従来より、オペレータによって作成されたレシピの誤りを検出することにより、オペレータの作業を支援する技術が提案されている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for supporting an operator's work by detecting an error in a recipe created by the operator has been proposed.

図3は、フローレシピを描画する従来例である。また、図4は、ユニットレシピを描画する従来例である。オペレータは、レシピの誤りが検出された場合には、図3および図4に示すような表示内容を確認しつつ、レシピの誤り箇所を見つけて修正する作業を行う。   FIG. 3 is a conventional example of drawing a flow recipe. FIG. 4 is a conventional example of drawing a unit recipe. When an error in the recipe is detected, the operator performs an operation of finding and correcting the error portion of the recipe while checking the display contents as shown in FIGS.

特開2005−101028公報JP 2005-101028 A

ところが、所定の処理を実行するためには、基板を搬送する搬送ユニットが影響を及ぼす場合がある。すなわち、搬送ユニットは、フローレシピに表示されないユニットであるため、フローレシピの内容を見ただけでは誤り箇所を発見するのが難しいという問題があった。   However, in order to execute a predetermined process, a transport unit that transports a substrate may affect the process. That is, since the transport unit is a unit that is not displayed in the flow recipe, there is a problem that it is difficult to find an error location only by looking at the contents of the flow recipe.

また、気体や液体を供給するユニットのように、基板が直接搬送されないユニット(別置ユニット)が、処理ユニットにおける処理に影響を及ぼす場合もある。この場合には、ユニットレシピを見ただけでは誤り箇所を発見するのが難しいという問題があった。   In addition, a unit (separate unit) in which a substrate is not directly transferred, such as a unit that supplies gas or liquid, may affect the processing in the processing unit. In this case, there is a problem that it is difficult to find an error part only by looking at the unit recipe.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、オペレータがレシピの誤り箇所を容易に発見できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to enable an operator to easily find an erroneous part of a recipe.

上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、コンピュータ読み取り可能な支援プログラムであって、前記コンピュータによる前記支援プログラムの実行は、前記コンピュータに、少なくとも1つの処理ユニットを含む複数のユニットによって所定の処理を実行する処理装置に関する装置情報、前記所定の処理を実行するために必要な少なくとも1つの処理ユニットの前記所定の処理における使用順序を指定するフローレシピ、および前記フローレシピにおいて指定された少なくとも1つの処理ユニットごとの動作を指定するユニットレシピを取得する情報取得工程と、前記情報取得工程において取得された前記装置情報、前記フローレシピおよび前記ユニットレシピに基づいて、前記複数のユニットのうち前記所定の処理に使用されるユニットごとに、時間経過と稼働状況とを表現したジョブライン図を描画する描画工程と、前記描画工程において描画された前記ジョブライン図を表示する表示工程とを実行させることを特徴とする。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention of claim 1 is a computer-readable support program, and the execution of the support program by the computer is performed by a plurality of units including at least one processing unit in the computer. Device information related to a processing apparatus that executes a predetermined process, a flow recipe that specifies the order of use of the at least one processing unit necessary for executing the predetermined process in the predetermined process, and a flow recipe that is specified in the flow recipe An information acquisition step for acquiring a unit recipe that specifies an operation for each at least one processing unit, and the device information acquired in the information acquisition step, the flow recipe, and the unit recipe, based on the unit recipe, The user used for the predetermined process Each Tsu bets, characterized in that to execute a drawing process of drawing a job line diagram representing the operating status and the time elapsed, and a display step of displaying the job line diagram drawn in the drawing step.

また、請求項2の発明は、請求項1の発明に係る支援プログラムであって、前記所定の処理は、基板に対して実行される処理であり、前記処理装置は、基板処理装置であることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the support program according to the invention of claim 1, wherein the predetermined process is a process executed on a substrate, and the processing apparatus is a substrate processing apparatus. It is characterized by.

また、請求項3の発明は、請求項2の発明に係る支援プログラムであって、前記所定の処理に使用されるユニットは、基板の搬送を司るユニットおよび前記処理ユニットの状態を整えるためのユニットを含むことを特徴とする。   The invention of claim 3 is the support program according to the invention of claim 2, wherein the unit used for the predetermined processing is a unit for controlling the transport of a substrate and a unit for adjusting the state of the processing unit. It is characterized by including.

また、請求項4の発明は、請求項2または3の発明に係る支援プログラムであって、前記描画工程は、前記装置情報に基づいて、基板を滞留させても、当該基板に対する影響が少ないユニットを前記複数のユニットから識別し、前記ユニットについての描画方法を他のユニットについての描画方法と区別して描画することを特徴とする。   The invention according to claim 4 is the support program according to the invention of claim 2 or 3, wherein the drawing step has little influence on the substrate even if the substrate is retained based on the device information. Is drawn from the plurality of units, and the drawing method for the unit is drawn separately from the drawing method for the other units.

また、請求項5の発明は、オペレータの作業を支援する支援装置であって、少なくとも1つの処理ユニットを含む複数のユニットによって所定の処理を実行する処理装置に関する装置情報、前記所定の処理を実行するために必要な少なくとも1つの処理ユニットの前記所定の処理における使用順序を指定するフローレシピ、および前記フローレシピにおいて指定された少なくとも1つの処理ユニットごとの動作を指定するユニットレシピを取得する情報取得手段と、前記情報取得手段により取得された前記装置情報、前記フローレシピおよび前記ユニットレシピに基づいて、前記複数のユニットのうち前記所定の処理に使用されるユニットごとに、時間経過と稼働状況とを表現したジョブライン図を描画する描画手段と、前記描画手段により描画された前記ジョブライン図を表示する表示手段とを備えることを特徴とする。   Further, the invention of claim 5 is a support device for supporting an operator's work, and apparatus information relating to a processing device that executes a predetermined process by a plurality of units including at least one processing unit, and executes the predetermined process. Information acquisition for acquiring a flow recipe that specifies the order of use of at least one processing unit necessary for the predetermined processing in the predetermined processing, and a unit recipe that specifies an operation for each at least one processing unit specified in the flow recipe And time progress and operation status for each unit used for the predetermined process among the plurality of units based on the device information acquired by the information acquisition unit, the flow recipe, and the unit recipe. A drawing means for drawing a job line diagram expressing Characterized in that it comprises a display means for displaying the job line diagram which demarcated.

請求項1ないし5に記載の発明は、前記複数のユニットのうち前記所定の処理に使用されるユニットごとに、時間経過と稼働状況とを表現したジョブライン図を表示することにより、テキスト形式(文字情報)ではなく、図形式で稼働状況が表示されるので、オペレータは稼働状況を容易に理解できる。また、処理ユニット以外のユニットについても稼働状況が表示されるので、オペレータはさらに容易に処理装置の稼働状態を理解することができる。   According to the first to fifth aspects of the present invention, a job line diagram representing the passage of time and the operating status is displayed for each unit used for the predetermined processing among the plurality of units, thereby displaying a text format ( Since the operating status is displayed in the form of a diagram instead of text information), the operator can easily understand the operating status. In addition, since the operating status is displayed for units other than the processing unit, the operator can more easily understand the operating status of the processing apparatus.

以下、本発明の好適な実施の形態について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<1. 第1の実施の形態>
<1−1. 装置構成>
図1は、本発明に係る支援装置である基板処理装置1を示す図である。基板処理装置1は、ローダ10、キャリア載置部(バッファ)11、水平移載ロボット12、姿勢変換機構13、プッシャ14、搬送ロボット15、および基板処理部2を備える。
<1. First Embodiment>
<1-1. Device configuration>
FIG. 1 is a diagram showing a substrate processing apparatus 1 which is a support apparatus according to the present invention. The substrate processing apparatus 1 includes a loader 10, a carrier placement unit (buffer) 11, a horizontal transfer robot 12, a posture conversion mechanism 13, a pusher 14, a transfer robot 15, and the substrate processing unit 2.

ローダ10には、複数の基板90を収納するキャリアカセット91が載置され、基板処理装置1の外部との間で、キャリアカセット91に収納された基板90の搬入および搬出を行う。なお、このときこれら複数の基板90はキャリアカセット91内において、水平姿勢において保持されている。   A carrier cassette 91 that stores a plurality of substrates 90 is placed on the loader 10, and the substrates 90 stored in the carrier cassette 91 are carried into and out of the substrate processing apparatus 1. At this time, the plurality of substrates 90 are held in a horizontal posture in the carrier cassette 91.

ローダ10に搬入されたキャリアカセット91は、キャリア載置部11に載置される。   The carrier cassette 91 carried into the loader 10 is placed on the carrier placement unit 11.

水平移載ロボット12は多関節型の搬送ロボットであり、基板支持ハンドで基板90を保持しつつ所定範囲の3次元空間内で移動自在となっており、キャリア載置部11に載置されたキャリアカセット91と姿勢変換機構13との間で基板90を搬送する。   The horizontal transfer robot 12 is an articulated transfer robot, and is movable within a predetermined range of three-dimensional space while holding the substrate 90 with a substrate support hand, and is placed on the carrier placement unit 11. The substrate 90 is transported between the carrier cassette 91 and the posture changing mechanism 13.

姿勢変換機構13は、保持した複数の基板90の姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との間で変換する。   The attitude conversion mechanism 13 converts the attitude of the plurality of held substrates 90 between a horizontal attitude and a vertical attitude.

プッシャ14は、その上下移動によって、姿勢変換機構13と搬送ロボット15との間で、垂直姿勢を有する複数の基板90の受け渡しを行う。   The pusher 14 transfers a plurality of substrates 90 having a vertical posture between the posture changing mechanism 13 and the transfer robot 15 by moving up and down.

搬送ロボット15は、水平移動及び昇降移動が可能である。また、搬送ロボット15は、垂直姿勢を有する複数の基板90を挟持するための一対の挟持機構150を備えている。このような構成を有する搬送ロボット15は、プッシャ14との間で基板90の授受を行う。またリフタ16ないし18のそれぞれとの間での基板90の授受を行うこともできる。搬送ロボット15は、洗浄処理前、洗浄処理中及び洗浄処理後の基板90を一箇所から別の箇所に搬送したり移載したりする。   The transfer robot 15 can move horizontally and move up and down. Further, the transfer robot 15 includes a pair of holding mechanisms 150 for holding a plurality of substrates 90 having a vertical posture. The transfer robot 15 having such a configuration exchanges the substrate 90 with the pusher 14. In addition, the substrate 90 can be exchanged with each of the lifters 16 to 18. The transport robot 15 transports or transfers the substrate 90 from one place to another before, during and after the cleaning process.

搬送ロボット水洗処理部19は、搬送ロボット15の一対の挟持機構150を洗浄するための洗浄槽を有する。   The transfer robot washing unit 19 has a cleaning tank for cleaning the pair of clamping mechanisms 150 of the transfer robot 15.

基板処理部2は、複数のユニットとして、薬液や洗浄液を収容する処理槽を備えた液処理部20ないし25と、基板90を乾燥させる乾燥処理部26とを備える。なお、基板処理部2が備える液処理部20ないし25および乾燥処理部26は、それぞれ基板90に対して何らかの処理を施すユニットであるので、以下の説明において、便宜上「処理ユニット」と総称する場合がある。   The substrate processing unit 2 includes, as a plurality of units, a liquid processing unit 20 to 25 including a processing tank that stores a chemical solution and a cleaning solution, and a drying processing unit 26 that dries the substrate 90. Note that the liquid processing units 20 to 25 and the drying processing unit 26 included in the substrate processing unit 2 are units for performing some processing on the substrate 90, respectively. There is.

これら複数の処理ユニットはX軸方向に沿って直線的に配列されており、この直線的配列の側方には前述の搬送ロボット15が設けられている。したがって、搬送ロボット15は、基板90を保持した状態で、直線的配列方向に移動することにより、基板90の搬送を行う。   The plurality of processing units are linearly arranged along the X-axis direction, and the transfer robot 15 described above is provided on the side of the linear array. Accordingly, the transfer robot 15 transfers the substrate 90 by moving in the linear arrangement direction while holding the substrate 90.

また、基板処理装置1は、リフタ16ないし18を備えている。リフタ16ないし18は、ほぼ同様の構造を備えており、上下動(Z軸方向)および横行(X軸方向)が可能である。また、リフタ16ないし18は、搬送ロボット15との間で基板90の受け渡しを行う。   Further, the substrate processing apparatus 1 includes lifters 16 to 18. The lifters 16 to 18 have substantially the same structure, and can move up and down (Z-axis direction) and traverse (X-axis direction). The lifters 16 to 18 transfer the substrate 90 to and from the transfer robot 15.

リフタ16は、液処理部20,21の後方側に配置されている。リフタ16は、上昇した状態で横行し、液処理部20あるいは液処理部21の上方に移動してから下降することによって、液処理部20,21の処理槽に搬送ロボット15から受け取った基板90を搬入する。   The lifter 16 is disposed on the rear side of the liquid processing units 20 and 21. The lifter 16 traverses in the raised state, moves to above the liquid processing unit 20 or the liquid processing unit 21 and then descends, whereby the substrate 90 received from the transfer robot 15 into the processing tank of the liquid processing units 20 and 21. Carry in.

すなわち、液処理部20と液処理部21との間の基板90の搬送は、リフタ16によって行われる。同様に、リフタ17は液処理部22と液処理部23との間の基板90の搬送を行い、リフタ18は液処理部24と液処理部25との間の基板90の搬送を行う。   That is, the transfer of the substrate 90 between the liquid processing unit 20 and the liquid processing unit 21 is performed by the lifter 16. Similarly, the lifter 17 transports the substrate 90 between the liquid processing unit 22 and the liquid processing unit 23, and the lifter 18 transports the substrate 90 between the liquid processing unit 24 and the liquid processing unit 25.

また、リフタ16ないし18が、基板90を保持した状態で下降することにより、液処理部21ないし25の処理槽に貯留された処理液に基板90が浸漬され、処理液による処理が行われる。   Further, when the lifters 16 to 18 are lowered while holding the substrate 90, the substrate 90 is immersed in the processing liquid stored in the processing tanks of the liquid processing units 21 to 25, and processing with the processing liquid is performed.

なお、基板90の搬送や姿勢制御等を行う構成、例えば、水平移載ロボット12、搬送ロボット15やリフタ16ないし18等を、以下便宜上、「搬送ユニット」と総称する場合がある。   The configuration for carrying the substrate 90, controlling the posture, and the like, for example, the horizontal transfer robot 12, the carrying robot 15, the lifters 16 to 18, and the like may be collectively referred to as “carrying unit” hereinafter for convenience.

基板処理装置1は、気体供給機構3および液体供給機構4を備える。気体供給機構3および液体供給機構4は、主に処理ユニットに対して、それぞれ気体または液体を供給するユニット群で構成されている。   The substrate processing apparatus 1 includes a gas supply mechanism 3 and a liquid supply mechanism 4. The gas supply mechanism 3 and the liquid supply mechanism 4 are mainly composed of a unit group for supplying a gas or a liquid to the processing unit.

気体供給機構3は、例えば高温・高圧の水蒸気を供給する蒸気供給ユニット30、オゾンを供給するオゾン供給ユニット31および窒素ガス等の不活性ガスを供給する不活性ガス供給ユニット32を備える。   The gas supply mechanism 3 includes, for example, a steam supply unit 30 that supplies high-temperature and high-pressure steam, an ozone supply unit 31 that supplies ozone, and an inert gas supply unit 32 that supplies an inert gas such as nitrogen gas.

液体供給機構4は、基板90をエッチングする薬液を供給する薬液供給ユニット40、硫酸水やリン酸水のような基板90を洗浄するための液体を供給する洗浄液供給ユニット41、および純水を供給する純水供給ユニット42を備える。   The liquid supply mechanism 4 supplies a chemical liquid supply unit 40 for supplying a chemical liquid for etching the substrate 90, a cleaning liquid supply unit 41 for supplying a liquid for cleaning the substrate 90 such as sulfuric acid water or phosphoric acid water, and pure water. A pure water supply unit 42 is provided.

このように、基板処理装置1が備える複数のユニットのうち、基板処理に必要な気体あるいは液体を供給するユニット等、直接基板90が搬送されることのないユニットを、以下説明の便宜上、「別置ユニット」と総称する。なお、別置ユニットの数や種類は、ここに示したものに限られるものではない。   As described above, among the plurality of units included in the substrate processing apparatus 1, a unit in which the substrate 90 is not directly transferred, such as a unit that supplies a gas or a liquid necessary for substrate processing, is referred to as “ Collectively referred to as a “mounting unit” Note that the number and types of separately placed units are not limited to those shown here.

さらに、基板処理装置1は、各構成を制御するためのコントローラ5を備えている。図2は、コントローラ5の構成を示すバス配線図である。   Furthermore, the substrate processing apparatus 1 includes a controller 5 for controlling each component. FIG. 2 is a bus wiring diagram showing the configuration of the controller 5.

コントローラ5は、演算処理を行うCPU50、プログラム510やレシピ等のデータを記憶する記憶装置51、オペレータが指示を入力するために操作する操作部52、ジョブライン図等のデータを画面に表示する表示部53、および読取装置54を備えている。   The controller 5 includes a CPU 50 that performs arithmetic processing, a storage device 51 that stores data such as a program 510 and recipes, an operation unit 52 that an operator operates to input instructions, and a display that displays data such as a job line diagram on the screen. A unit 53 and a reading device 54 are provided.

なお、詳細は図示しないが、記憶装置51は、主にプログラム510を記憶するROM、CPU50のワーキングエリアとして使用されるRAM、およびハードディスク装置等から構成される。操作部52は、ボタン類やキーボード、マウス等から構成される。また、表示部53は、液晶パネルディスプレイである。また、読取装置54は、可搬性のディスク92に記憶されているデータを読み取る装置である。ディスク92としては、例えば、フロッピー(登録商標)ディスク、コンパクトディスク、DVD等が該当する。   Although not shown in detail, the storage device 51 mainly includes a ROM that stores the program 510, a RAM that is used as a working area of the CPU 50, a hard disk device, and the like. The operation unit 52 includes buttons, a keyboard, a mouse, and the like. The display unit 53 is a liquid crystal panel display. The reading device 54 is a device that reads data stored in the portable disk 92. Examples of the disk 92 include a floppy (registered trademark) disk, a compact disk, and a DVD.

このような構成により、コントローラ5は、一般的なコンピュータとしての機能を備えている。   With such a configuration, the controller 5 has a function as a general computer.

コントローラ5は、予め設定されている装置情報や、実行しようとする処理に応じてオペレータによって作成されるフローレシピおよびユニットレシピに基づいて、複数のユニット(搬送ユニット、処理ユニットおよび別置ユニット)を制御する。これにより、基板処理装置1は、オペレータが所望する処理を基板90に対して実行できる。   The controller 5 selects a plurality of units (conveyance unit, processing unit, and separate unit) based on preset apparatus information and a flow recipe and unit recipe created by an operator according to the process to be executed. Control. Thereby, the substrate processing apparatus 1 can execute the processing desired by the operator on the substrate 90.

なお、詳細は図示しないが、装置情報とは、基板処理装置1の備える構成(それぞれのユニットを含む)の性能等に関する情報である。装置情報に含まれる情報としては、例えば、姿勢変換機構13の変換速度や、搬送ロボット15の搬送速度、あるいは別置ユニットの準備時間等であって、主に処理に応じて変更できないパラメータである。   Although not shown in detail, the apparatus information is information relating to the performance and the like of the configuration (including each unit) included in the substrate processing apparatus 1. The information included in the apparatus information is, for example, a conversion speed of the posture conversion mechanism 13, a transfer speed of the transfer robot 15, or a preparation time of a separate unit, which is a parameter that cannot be changed mainly depending on processing. .

また、フローレシピとは、基板処理装置1に搬入された基板90が基板処理装置1から搬出されるまでの一連の処理に関与する少なくとも1つの処理ユニットを、基板処理装置1が備える複数のユニットから選択してその使用順序を規定するレシピである。   In addition, the flow recipe is a plurality of units provided in the substrate processing apparatus 1 including at least one processing unit involved in a series of processes until the substrate 90 carried into the substrate processing apparatus 1 is unloaded from the substrate processing apparatus 1. It is a recipe which selects from and prescribes the order of use.

さらに、ユニットレシピとは、フローレシピに規定された少なくとも1つの処理ユニットごとの動作を規定するレシピである。   Furthermore, the unit recipe is a recipe that defines an operation for at least one processing unit defined in the flow recipe.

また、コントローラ5は、先述のように、一般的なコンピュータとしての機能を備えているので、主にCPU50がプログラム510を実行することによって、後述するようにオペレータの作業を支援する支援装置として機能する。このように、本実施の形態における基板処理装置1は、基板処理装置1としてのハードウェアのみで支援装置を実現できるため、コストを抑制できる。   Further, as described above, the controller 5 has a function as a general computer, so that the CPU 50 mainly executes the program 510 to function as a support device that supports the operator's work as described later. To do. Thus, since the substrate processing apparatus 1 in this Embodiment can implement | achieve a support apparatus only with the hardware as the substrate processing apparatus 1, it can suppress cost.

<1−2. フローレシピおよびユニットレシピの構造>
図3は、フローレシピのデータ構造を例示する図である。図3に例示するフローレシピ7は、当該フローレシピ7を識別するための情報が格納される名称格納欄70を備えたテーブル構造のデータである。
<1-2. Flow recipe and unit recipe structure>
FIG. 3 is a diagram illustrating a data structure of the flow recipe. The flow recipe 7 illustrated in FIG. 3 is data having a table structure including a name storage column 70 in which information for identifying the flow recipe 7 is stored.

図3に示す例では、名称格納欄70には「FRecipe1」という文字列がフローレシピ7の名称として格納されている。なお、フローレシピ7を示すデータのファイル名を格納する部分を「名称格納欄70」として使用してもよい。   In the example illustrated in FIG. 3, the name storage field 70 stores a character string “FRecipe1” as the name of the flow recipe 7. A portion for storing the file name of the data indicating the flow recipe 7 may be used as the “name storage column 70”.

さらに、フローレシピ7は、複数のレコード71で構成される。1つのレコード71は、図3において太枠で示す構造であり、それぞれが3つの項目から構成されている。フローレシピ7は、レコード71が備える項目の名称を格納する項目名称格納欄72を備える。本実施の形態では、レコード71は、「レコード番号」、「処理/処理ユニット名」、「ユニットレシピ名」という3つの項目から構成される。なお、1つのレコード71に設けられる項目は3つに限られるものではない。   Furthermore, the flow recipe 7 is composed of a plurality of records 71. One record 71 has a structure indicated by a thick frame in FIG. 3, and each record 71 includes three items. The flow recipe 7 includes an item name storage field 72 that stores the names of items included in the record 71. In the present embodiment, the record 71 includes three items of “record number”, “processing / processing unit name”, and “unit recipe name”. Note that the number of items provided in one record 71 is not limited to three.

「レコード番号」は、フローレシピ7によって実行される処理の各ステップ番号に対応している。したがって、レコード番号の若い順に、そのレコード71に指定されている処理ユニットによる処理が実行される。図3に示す例では、フローレシピ7の「n番目」から「n+3番目」までのレコード71を示しており、この部分によって、基板処理装置1によって実行される処理の「n番目」から「n+3番目」までのステップが指定される。   The “record number” corresponds to each step number of the process executed by the flow recipe 7. Therefore, the processing by the processing unit designated in the record 71 is executed in ascending order of the record number. In the example shown in FIG. 3, records 71 from “nth” to “n + 3th” of the flow recipe 7 are shown, and by this part, “nth” to “n + 3” of processing executed by the substrate processing apparatus 1 are shown. Steps up to "th" are specified.

フローレシピ7では、太枠で示す「n+1番目」のレコード71の「処理/処理ユニット名」項目には、「RINSE/T21」と格納されている。本実施の形態では、「T21」とは、「液処理部21」を示す文字列として定義されているものとする(このような定義付けは装置情報において行うことができる)。すなわち、フローレシピ7は、n+1番目のステップを液処理部21によってリンス処理を行うように指定している。   In the flow recipe 7, “RINSE / T21” is stored in the “processing / processing unit name” item of the “n + 1” th record 71 indicated by a thick frame. In the present embodiment, it is assumed that “T21” is defined as a character string indicating “liquid processing unit 21” (such definition can be performed in the apparatus information). That is, the flow recipe 7 specifies that the liquid processing unit 21 performs the rinsing process for the (n + 1) th step.

このようなデータ構造により、フローレシピは、基板処理装置1が備える複数の処理ユニットのうち、当該一連の処理に使用する処理ユニットを、使用する順序で指定したデータとなる。   With such a data structure, the flow recipe becomes data in which the processing units used for the series of processing among the plurality of processing units provided in the substrate processing apparatus 1 are specified in the order of use.

図3に例示するフローレシピ7では、「n+1番目」のレコード71の「ユニットレシピ名」項目には、「URecipe2」と格納されている。すなわち、図3に示すフローレシピ7は、n+1番目のステップにおける処理ユニット(液処理部21)の動作は「URecipe2」に指定されていることを示している。   In the flow recipe 7 illustrated in FIG. 3, “U Recipe 2” is stored in the “unit recipe name” item of the “n + 1” th record 71. That is, the flow recipe 7 shown in FIG. 3 indicates that the operation of the processing unit (liquid processing unit 21) in the (n + 1) th step is designated as “URecipe 2”.

このようにフローレシピ7では、各レコード71にユニットレシピ名(識別子)を格納する項目が設けられていることによって、フローレシピ7と複数のユニットレシピとの関連付けがされている。   As described above, in the flow recipe 7, an item for storing the unit recipe name (identifier) is provided in each record 71, whereby the flow recipe 7 is associated with a plurality of unit recipes.

ただし、画一的な処理しか実行しないユニットについては、そのユニットがフローレシピにおいて指定されただけで、その動作は一義的に決定される。そのため、そのようなユニットを使用するステップ(レコード71)においては、ユニットレシピが関連付けられていなくてもよい。また、その場合、ユニットレシピに相当する情報は装置情報として準備され、当該ユニットに対して関連付けられていてもよい。   However, for a unit that executes only uniform processing, the operation is uniquely determined only by specifying the unit in the flow recipe. Therefore, in the step (record 71) using such a unit, the unit recipe may not be associated. In this case, information corresponding to the unit recipe may be prepared as device information and associated with the unit.

なお、フローレシピの各レコードにおいては、主に処理ユニットが指定されるが、もちろん他のユニット(例えば搬送ユニット)が指定されてもよい。   In each record of the flow recipe, a processing unit is mainly designated, but other units (for example, a transport unit) may of course be designated.

図4は、ユニットレシピのデータ構造を例示する図である。ユニットレシピ8は、図3に示す「URecipe2」という名称(文字列)で識別されるユニットレシピを示す例である。図4に例示するユニットレシピ8は、当該ユニットレシピ8を識別するための情報が格納される名称格納欄80を備えたテーブル構造のデータである。   FIG. 4 is a diagram illustrating a data structure of a unit recipe. The unit recipe 8 is an example showing a unit recipe identified by the name (character string) “URecipe2” shown in FIG. The unit recipe 8 illustrated in FIG. 4 is data having a table structure including a name storage field 80 in which information for identifying the unit recipe 8 is stored.

図4に示す例では、名称格納欄80には「URecipe2」という文字列がユニットレシピ8の名称として格納されている。なお、ユニットレシピ8を示すデータのファイル名を格納する部分を「名称格納欄80」として使用してもよい。   In the example shown in FIG. 4, a character string “URecipe2” is stored in the name storage field 80 as the name of the unit recipe 8. A portion for storing the file name of data indicating the unit recipe 8 may be used as the “name storage field 80”.

さらに、ユニットレシピ8は、複数のレコード81で構成される。1つのレコード81は、図4において太枠で示す構造であり、それぞれが複数の項目から構成されている。   Further, the unit recipe 8 is composed of a plurality of records 81. One record 81 has a structure indicated by a thick frame in FIG. 4, and each record 81 includes a plurality of items.

また、ユニットレシピ8は、レコード81が備える項目の名称を格納する項目名称格納欄82を備える。図4では、レコード81が備える「レコード番号」、「処理時間」、「DIW」、「温度」、「O3」という項目を示している。なお、レコード81に設けられる項目は、処理ユニットの状態および処理ユニットに対して気体や液体を供給する別置ユニット等に応じて設けられ、これらに関する設定条件を格納する。   The unit recipe 8 includes an item name storage field 82 for storing the names of items included in the record 81. FIG. 4 shows items of “record number”, “processing time”, “DIW”, “temperature”, and “O3” included in the record 81. The items provided in the record 81 are provided according to the state of the processing unit and a separate unit that supplies gas or liquid to the processing unit, and stores setting conditions related to these.

本実施の形態では、ユニットレシピにおけるレコード番号は、当該ユニットレシピによって指定される処理ユニットの各ステップ番号に対応している。したがって、コントローラ5は、レコード番号の若い順に、そのレコードに指定されている処理を実行するように処理ユニットを制御する。   In the present embodiment, the record number in the unit recipe corresponds to each step number of the processing unit specified by the unit recipe. Therefore, the controller 5 controls the processing units so as to execute the processes specified in the records in ascending order of record numbers.

図4では、ユニットレシピ8の「m番目」から「m+3番目」までのレコード81を示しており、この部分によって、液処理部21によって実行されるリンス処理の「m番目」から「m+3番目」までのステップが指定される。なお、図4では図示を省略しているが、ユニットレシピ8には、液処理部21によって実行されるリンス処理の1番目から最終番目までのステップ(レコード81)が格納される。   FIG. 4 shows the records 81 from “m” to “m + 3” in the unit recipe 8, and by this portion, “m” to “m + 3” of the rinsing process executed by the liquid processing unit 21. The steps up to are specified. Although not shown in FIG. 4, the unit recipe 8 stores the first to final steps (record 81) of the rinsing process executed by the liquid processing unit 21.

本実施の形態では、レコード81の「処理時間」項目には当該レコード81に要する時間を格納する。図4に示すユニットレシピ8では、太枠で示す「m番目」のレコード81の「処理時間」項目には、「600」と格納されている。このようにして、ユニットレシピ8は、液処理部21によるリンス処理の「m番目」の処理を「600秒間」行うように指定している。   In the present embodiment, the time required for the record 81 is stored in the “processing time” item of the record 81. In the unit recipe 8 shown in FIG. 4, “600” is stored in the “processing time” item of the “m-th” record 81 indicated by a thick frame. In this way, the unit recipe 8 specifies that the “m-th” process of the rinsing process by the liquid processing unit 21 is performed for “600 seconds”.

次に、本実施の形態では、レコード81の「DIW」項目は、別置ユニットである純水供給ユニット42による純水の供給方法を格納する。図4に示すユニットレシピ8では、太枠で示す「m番目」のレコード81の「DIW」項目には、「Upflow」と格納されている。すなわち、ユニットレシピ8は、液処理部21によるリンス処理の「m番目」の処理では、純水供給ユニット42に純水を「Upflow」供給するように指定している。   Next, in the present embodiment, the “DIW” item of the record 81 stores the pure water supply method by the pure water supply unit 42 which is a separate unit. In the unit recipe 8 shown in FIG. 4, “Upflow” is stored in the “DIW” item of the “m-th” record 81 indicated by a thick frame. That is, the unit recipe 8 designates that the pure water is supplied to the pure water supply unit 42 in the “m-th” process of the rinsing process by the liquid processing unit 21.

次に、本実施の形態では、レコード81の「温度」項目は、液処理部21の温度を格納する。図4に示すユニットレシピ8では、太枠で示す「m番目」のレコード81の「温度」項目には、「25」と格納されている。すなわち、ユニットレシピ8は、液処理部21によるリンス処理の「m番目」の処理は、25℃で行うように指定している。   Next, in the present embodiment, the “temperature” item of the record 81 stores the temperature of the liquid processing unit 21. In the unit recipe 8 shown in FIG. 4, “25” is stored in the “temperature” item of the “m-th” record 81 indicated by a thick frame. That is, the unit recipe 8 specifies that the “mth” process of the rinsing process by the liquid processing unit 21 is performed at 25 ° C.

さらに、本実施の形態では、レコード81の「O3」項目は、別置ユニットであるオゾン供給ユニット31を使用するか否かを指定する。図4に示すユニットレシピ8では、太枠で示す「m番目」のレコード81の「O3」項目には、「要」と格納されている。すなわち、ユニットレシピ8は、液処理部21によるリンス処理の「m番目」の処理において、オゾン供給ユニット31を使用するように指定している。   Further, in the present embodiment, the “O3” item of the record 81 specifies whether or not to use the ozone supply unit 31 that is a separate unit. In the unit recipe 8 shown in FIG. 4, “Necessary” is stored in the “O3” item of the “m-th” record 81 indicated by a thick frame. That is, the unit recipe 8 specifies that the ozone supply unit 31 should be used in the “mth” process of the rinsing process by the liquid processing unit 21.

なお、ここでは、1つのユニットレシピ8のみ示したが、通常、1つのフローレシピには複数の処理ユニットが指定されるので、1つのフローレシピが作成されると、それに対応して、複数のユニットレシピが作成される。   Although only one unit recipe 8 is shown here, a plurality of processing units are normally specified for one flow recipe, so when one flow recipe is created, a plurality of corresponding unit recipes are created. A unit recipe is created.

以上のような構造のフローレシピおよびユニットレシピがオペレータによって作成され、基板処理装置1に入力されることにより、コントローラ5は、基板処理装置1が備える複数のユニットを適切に制御することが可能となる。   The flow recipe and unit recipe having the above-described structure are created by an operator and input to the substrate processing apparatus 1, whereby the controller 5 can appropriately control a plurality of units included in the substrate processing apparatus 1. Become.

<1−3. 従来の問題>
フローレシピおよびユニットレシピは、基板90に対する処理毎に、オペレータによって作成されるので、オペレータによるレシピ作成作業を軽減するためには、入力項目が少ない方がよい。すなわち、処理毎に設定する必要のないデータ(例えば、一義的に決まる設定条件等)については、フローレシピおよびユニットレシピにおいて指定しない方が好ましい。フローレシピおよびユニットレシピは、基板90に対する処理を規定するために、最低限必要なデータで構成されることが好ましい。
<1-3. Conventional problems>
Since the flow recipe and the unit recipe are created by the operator every time the substrate 90 is processed, in order to reduce the recipe creation work by the operator, it is better that there are fewer input items. That is, it is preferable not to specify data (for example, uniquely determined setting conditions) that need not be set for each process in the flow recipe and unit recipe. It is preferable that the flow recipe and the unit recipe are configured with minimum necessary data in order to define a process for the substrate 90.

一方、オペレータによって作成されたフローレシピおよびユニットレシピについて、それらの内容が妥当であるか否かをチェックする支援装置は、必要に応じて作成されたフローレシピおよびユニットレシピを表示する。少なくとも、フローレシピおよびユニットレシピについて誤りを検出した場合、最終的な確認と修正はオペレータが行わなければならないため、支援装置はオペレータに対してフローレシピおよびユニットレシピの内容を表示しなければならない。   On the other hand, the support device that checks whether or not the contents of the flow recipe and unit recipe created by the operator are appropriate displays the flow recipe and unit recipe created as necessary. At least, when an error is detected for the flow recipe and the unit recipe, the final confirmation and correction must be performed by the operator, so the support apparatus must display the contents of the flow recipe and the unit recipe to the operator.

このとき従来の支援装置は、確認対象のフローレシピおよびユニットレシピに基づいて、その内容を表示するので、表示される情報は主にオペレータによって入力された情報となる。しかし、オペレータによって入力される情報は先述のように限定された情報であるため、フローレシピおよびユニットレシピを効率よくチェックするには、これらの情報だけでは不足である。   At this time, since the conventional support apparatus displays the contents based on the flow recipe and unit recipe to be confirmed, the displayed information is mainly input by the operator. However, since the information input by the operator is limited information as described above, it is not enough to check the flow recipe and the unit recipe efficiently.

例えば図3に示すように、フローレシピ7を表示した状態では、処理ユニット間の基板90の搬送がどのようにされるのか表示されない。すなわち、そのときに使用される搬送ユニットに関する搬送動作や準備動作に関する情報が表示されない。また、別置ユニットについては、図4に示すように、使用の要否のみ表示されるので、オペレータは別置ユニットにおける準備動作、使用動作、終了動作について理解できない。   For example, as shown in FIG. 3, in the state where the flow recipe 7 is displayed, it is not displayed how the substrate 90 is transferred between the processing units. That is, information regarding the transport operation and the preparation operation regarding the transport unit used at that time is not displayed. Further, as shown in FIG. 4, only the necessity of use is displayed for the separately placed unit, so the operator cannot understand the preparation operation, use operation, and end operation in the separately placed unit.

また、従来の装置は、フローレシピおよびユニットレシピのテーブル構造に対応した表を描画して、当該表の各項目欄に、文字情報としてフローレシピおよびユニットレシピの内容を表示していた(すなわち、図3および図4と同等の表示)。したがって、表示形式はテキスト形式(文字情報)であり、オペレータは基板90に対する処理の全体的な流れを容易に把握できなかった。   Further, the conventional apparatus draws a table corresponding to the table structure of the flow recipe and the unit recipe, and displays the contents of the flow recipe and the unit recipe as character information in each item column of the table (that is, (Display equivalent to FIG. 3 and FIG. 4). Therefore, the display format is a text format (character information), and the operator cannot easily grasp the overall flow of processing for the substrate 90.

このように、従来の表示形式および表示内容では、支援装置からレシピの誤りを指摘されたとしても、オペレータがその原因を見つけることは困難であり、確認・修正作業を行うオペレータは表示されないユニットの動作等について熟知している必要があった。   In this way, with the conventional display format and display contents, even if a mistake in the recipe is pointed out by the support device, it is difficult for the operator to find the cause, and the operator who performs the confirmation / correction work is not displayed on the unit. It was necessary to be familiar with the operation.

<1−4. 動作説明>
図5は、本実施の形態における基板処理装置1のレシピ検査処理を示す流れ図である。レシピ検査処理とは、オペレータが作成したフローレシピおよびユニットレシピについて、誤りや矛盾がないか検査する処理である。
<1-4. Operation explanation>
FIG. 5 is a flowchart showing recipe inspection processing of the substrate processing apparatus 1 in the present embodiment. The recipe inspection process is a process for inspecting the flow recipe and unit recipe created by the operator for any errors or contradictions.

レシピ検査処理が開始されると、コントローラ5は、基板処理装置1の装置情報を取得する(ステップS1)。なお、本実施の形態では、装置情報を記憶したディスク92から読取装置54が読み取り、読み取った装置情報を記憶装置51に保存することによって装置情報を取得する。ただし、装置情報は、オペレータが操作部52を操作して入力してもよい。あるいはネットワーク等からダウンロードしてもよい。   When the recipe inspection process is started, the controller 5 acquires apparatus information of the substrate processing apparatus 1 (step S1). In the present embodiment, the reading device 54 reads from the disk 92 storing the device information, and the device information is acquired by storing the read device information in the storage device 51. However, the apparatus information may be input by operating the operation unit 52 by the operator. Or you may download from a network etc.

装置情報を取得すると、フローレシピおよびユニットレシピ取得処理を実行する(ステップS2)。   When the apparatus information is acquired, a flow recipe and unit recipe acquisition process is executed (step S2).

図6は、フローレシピおよびユニットレシピ取得処理を示す流れ図である。まず、コントローラ5は、読取装置54を制御してディスク92からフローレシピを取得する(ステップS10)。   FIG. 6 is a flowchart showing a flow recipe and unit recipe acquisition process. First, the controller 5 acquires the flow recipe from the disk 92 by controlling the reading device 54 (step S10).

次に、フローレシピにおけるレコードを1つ読み込み、当該レコードの「処理/処理ユニット名」項目に格納されている情報と、装置情報とに基づいて、当該レコードに相当するステップの処理位置を取得する(ステップS11)。   Next, one record in the flow recipe is read, and the processing position of the step corresponding to the record is acquired based on the information stored in the “processing / processing unit name” item of the record and the device information. (Step S11).

このとき読み込んだレコードが、図3の太枠で示すレコード71であった場合を例に、ステップS11の処理を具体的に説明する。コントローラ5は、このレコード71に指定されている「RINSE/T21」という内容から、この処理は、液処理部21で行われることがわかる。そして、コントローラ5は、装置情報に設定されている液処理部21の位置から、当該処理の処理位置を取得する。   The process in step S11 will be specifically described by taking as an example a case where the record read at this time is the record 71 indicated by a thick frame in FIG. From the content of “RINSE / T21” specified in the record 71, the controller 5 knows that this process is performed in the liquid processing unit 21. And the controller 5 acquires the process position of the said process from the position of the liquid process part 21 set to apparatus information.

次に、コントローラ5は、ステップS11で読み込んだレコードの「ユニットレシピ名」項目に格納されている情報に基づいて、読取装置54を制御してディスク92から該当するユニットレシピを取得する(ステップS12)。   Next, the controller 5 controls the reading device 54 based on the information stored in the “unit recipe name” item of the record read in step S11 to acquire the corresponding unit recipe from the disk 92 (step S12). ).

ユニットレシピを取得すると、コントローラ5は、取得したユニットレシピの項目名称格納欄82から、当該ユニットレシピに指定される処理および別置ユニットを取得する(ステップS13)。   When the unit recipe is acquired, the controller 5 acquires the process designated by the unit recipe and the separately placed unit from the item name storage field 82 of the acquired unit recipe (step S13).

次に、コントローラ5は、ステップS12で取得したユニットレシピのレコードを1つ読み込み、処理時間および処理内容(温度や、別置ユニットの要否等)を取得する(ステップS14)。   Next, the controller 5 reads one unit recipe record acquired in step S12, and acquires processing time and processing contents (temperature, necessity of separate unit, etc.) (step S14).

さらに、ステップS14で読み込んだレコードが、当該ユニットレシピの最終ステップ(レコード)であるか否かを判定し(ステップS15)、最終ステップでない場合は、ステップS14を繰り返す。これにより、ユニットレシピのレコードは、最初のレコードから最後のレコードまで、順次読み込まれる。   Further, it is determined whether or not the record read in step S14 is the final step (record) of the unit recipe (step S15). If it is not the final step, step S14 is repeated. As a result, the unit recipe records are sequentially read from the first record to the last record.

ステップS12で取得したユニットレシピのレコードをすべて読み込むと(ステップS15においてYes)、コントローラ5は、当該ユニットレシピにおける処理ユニットについて、当該ユニットレシピに指定されている処理の計画を作成する。   When all the records of the unit recipe acquired in step S12 are read (Yes in step S15), the controller 5 creates a processing plan specified in the unit recipe for the processing unit in the unit recipe.

さらに、コントローラ5は、ステップS11において読み込んだレコードが、フローレシピの最終ステップ(レコード)であるか否かを判定し(ステップS16)、最終ステップでない場合は、ステップS11からの処理を繰り返す。これにより、フローレシピのすべてのレコードが読み込まれるとともに、すべてのユニットレシピが読み込まれる。   Furthermore, the controller 5 determines whether or not the record read in step S11 is the final step (record) of the flow recipe (step S16). If the record is not the final step, the processing from step S11 is repeated. As a result, all the records of the flow recipe are read and all the unit recipes are read.

フローレシピのレコードをすべて読み込むと(ステップS16においてYes)、コントローラ5は、フローレシピおよびユニットレシピ取得処理を終了して、図5の処理に戻る。   When all the flow recipe records are read (Yes in step S16), the controller 5 ends the flow recipe and unit recipe acquisition process and returns to the process of FIG.

フローレシピおよびユニットレシピ取得処理を終了すると、コントローラ5は搬送時間の計算と計画(ステップS3)、別置ユニットの準備ON/OFFの計算と計画(ステップS4)および搬送ユニットの洗浄動作の計算と計画(ステップS5)を順次実行する。   When the flow recipe and unit recipe acquisition processing is completed, the controller 5 calculates and plans the transfer time (step S3), calculates and plans the preparation ON / OFF of the separately placed unit (step S4), and calculates the cleaning operation of the transfer unit. The plan (step S5) is sequentially executed.

ステップS3は、フローレシピから取得した処理位置(ステップS11)および装置情報に基づいて、当該処理位置に基板90を搬送する搬送ユニットと、それに要する時間等を計算して、搬送ユニットに対する計画を作成する処理である。   In step S3, based on the processing position acquired from the flow recipe (step S11) and the apparatus information, a transport unit that transports the substrate 90 to the processing position and the time required for the transport unit are calculated, and a plan for the transport unit is created. It is processing to do.

なお、詳細は省略するが、ステップS3ないしS5の処理を簡単に説明する。   Although details are omitted, the processing of steps S3 to S5 will be briefly described.

ステップS4は、ユニットレシピの各レコードから取得した処理時間および処理内容(ステップS14)と装置情報とに基づいて、別置ユニットのON時間およびOFF時間を計算し、別値ユニットに対する計画を作成する処理である。   Step S4 calculates the ON time and OFF time of the separately placed unit based on the processing time and processing content (step S14) acquired from each record of the unit recipe and the device information, and creates a plan for the different value unit. It is processing.

例えば、ユニットレシピのステップ(レコード81)に、オゾン供給ユニット31について使用することが指定されていた場合、当該ステップが開始されるまでに、オゾン供給ユニット31の準備を完了している必要がある。したがって、コントローラ5は、装置情報から、オゾン供給ユニット31の準備に要する時間を取得して、当該ステップが開始されるまでに、オゾン供給ユニット31の準備が完了するように、オゾン供給ユニット31の準備を開始する時間(ON時間)を計算する。   For example, if it is specified in the unit recipe step (record 81) that the ozone supply unit 31 is to be used, preparation of the ozone supply unit 31 needs to be completed before the step is started. . Therefore, the controller 5 acquires the time required for preparation of the ozone supply unit 31 from the apparatus information, and the preparation of the ozone supply unit 31 is completed before the step is started. The time to start preparation (ON time) is calculated.

ステップS5は、搬送ユニットの洗浄等に要する時間を計算し、これに対する計画を作成する処理である。例えば、搬送ロボット15の一対の挟持機構150が、処理液に濡れた状態の基板90を保持した場合には、搬送ロボット水洗処理部19がこれを洗浄する必要がある。なお、どのような場合(どの処理槽の基板90を保持した場合)に洗浄が必要か、あるいは搬送ロボット15が搬送ロボット水洗処理部19に移動する時間や、洗浄に要する時間等は装置情報に予め格納されている。   Step S5 is a process of calculating the time required for cleaning the transport unit and creating a plan for this. For example, when the pair of holding mechanisms 150 of the transfer robot 15 holds the substrate 90 in a state wet with the processing liquid, the transfer robot water washing processing unit 19 needs to clean it. It should be noted that in what case (when the substrate 90 of which processing tank is held) the cleaning is necessary, the time for the transfer robot 15 to move to the transfer robot washing unit 19, the time required for the cleaning, etc. Stored in advance.

次に、コントローラ5は、装置情報、フローレシピおよびユニットレシピに基づいて、ジョブライン図を描画し(ステップS6)、描画したジョブライン図を表示部53に表示させる(ステップS7)。   Next, the controller 5 draws a job line diagram based on the device information, the flow recipe, and the unit recipe (step S6), and causes the display unit 53 to display the drawn job line diagram (step S7).

図7は、ジョブライン図100の表示例を示す図である。ジョブライン図100では、基板処理装置1が備える複数のユニットのそれぞれごとに、横長の表示領域であるジョブライン101が設けられる。   FIG. 7 is a diagram illustrating a display example of the job line diagram 100. In the job line diagram 100, a job line 101 that is a horizontally long display area is provided for each of a plurality of units provided in the substrate processing apparatus 1.

各ジョブライン101の先頭領域(図7において右端領域)には、ユニット名(略称)を表示するためのユニット表示領域102が設けられている。これにより、オペレータは、個々のジョブライン101がどのユニットの稼働状況を示しているか、容易に理解できる。   A unit display area 102 for displaying a unit name (abbreviated name) is provided in the head area (right end area in FIG. 7) of each job line 101. As a result, the operator can easily understand which unit the individual job line 101 indicates the operating status.

なお、「LD/ULD」は、搬送ロボット15とキャリアカセット91との間で基板90を搬送するユニット群、すなわちローダ10、キャリア載置部(バッファ)11、水平移載ロボット12、姿勢変換機構13およびプッシャ14を示す。また、「CHCL」は搬送ロボット水洗処理部19を、「LPD」は乾燥処理部26を示す。また、「ONB1ないし3」は液処理部20,22,24を示し、「CHB1ないし3」は液処理部21,23,25を示す。さらに、「CSB1ないし6」は、気体供給機構3および液体供給機構4が備えるユニット(別置ユニット)を示す。   Note that “LD / ULD” is a unit group for transporting the substrate 90 between the transport robot 15 and the carrier cassette 91, that is, a loader 10, a carrier mounting portion (buffer) 11, a horizontal transfer robot 12, and a posture changing mechanism. 13 and pusher 14 are shown. Further, “CHCL” indicates the transport robot water washing processing unit 19, and “LPD” indicates the drying processing unit 26. Further, “ONB1 to 3” indicate the liquid processing units 20, 22, and 24, and “CHB1 to 3” indicate the liquid processing units 21, 23, and 25. Further, “CSB 1 to 6” indicate units (separate units) included in the gas supply mechanism 3 and the liquid supply mechanism 4.

例えば、図7において、最上段のジョブライン101のユニット表示領域102には、「LD/ULD」と表示されていることから、このジョブライン101が基板90の搬入・搬出に関するユニットの稼働状況を示していることがわかる。   For example, since “LD / ULD” is displayed in the unit display area 102 of the uppermost job line 101 in FIG. 7, this job line 101 indicates the operation status of the unit related to loading / unloading of the substrate 90. You can see that

ジョブライン図100では、基板90に対する処理は、各ジョブライン101における横方向の太線で示される。すなわち、当該太線が描画されている期間において、当該処理が実行されることを示す。一方、搬送ユニットによる基板90の搬送動作は、主に2つのジョブライン101を結ぶ縦方向の線で示される。また、ジョブライン101のユニット表示領域102を除く領域は、横軸が時間軸に対応して設けられており、ジョブライン101の右側領域ほど、処理が開始されてからの時間が経過したときの状態を示すこととなる。   In the job line diagram 100, the processing for the substrate 90 is indicated by a horizontal thick line in each job line 101. That is, it indicates that the process is executed during the period in which the bold line is drawn. On the other hand, the transfer operation of the substrate 90 by the transfer unit is mainly indicated by a vertical line connecting the two job lines 101. In the area excluding the unit display area 102 of the job line 101, the horizontal axis corresponds to the time axis, and the right side area of the job line 101 is the time when processing has started. The state will be shown.

以下に図7に示す例を用いて具体的に説明する。   This will be specifically described below using an example shown in FIG.

まず、太線103が「LD/ULD」のジョブライン101に表示されている。これにより、基板処理装置1での処理の開始とともに、「LD/ULD」において処理が実行されることがわかる。   First, a thick line 103 is displayed on the job line 101 of “LD / ULD”. Thereby, it is understood that the processing is executed in “LD / ULD” with the start of the processing in the substrate processing apparatus 1.

線103の後端は、線104によって「CHB1」のジョブライン101と結ばれている。したがって、「LD/ULD」における処理が終了すると、基板90が搬送ロボット15によって液処理部21に搬送され、リフタ16によって液処理部21の処理槽に浸漬されることがわかる。   The rear end of the line 103 is connected to the job line 101 of “CHB1” by a line 104. Therefore, it is understood that when the processing in “LD / ULD” is completed, the substrate 90 is transferred to the liquid processing unit 21 by the transfer robot 15 and immersed in the processing tank of the liquid processing unit 21 by the lifter 16.

また、線105によって、「CHB1」のジョブライン101と「LPD」のジョブライン101とが結ばれていることにより、液処理部21に基板90を搬送した搬送ロボット15は、待機のために、乾燥処理部26に移動することがわかる。   In addition, since the “CHB1” job line 101 and the “LPD” job line 101 are connected by the line 105, the transfer robot 15 that has transferred the substrate 90 to the liquid processing unit 21 waits. It turns out that it moves to the drying process part 26. FIG.

「CHB1」と液処理部21での処理が終了した基板90は、リフタ16によって液処理部20に搬送される。このリフタ16の動作は線106によって示されている。   The substrate 90 that has been processed by “CHB1” and the liquid processing unit 21 is transferred to the liquid processing unit 20 by the lifter 16. The operation of this lifter 16 is indicated by line 106.

なお、液処理部20では、基板90に対する処理を開始する前に、処理槽に液を供給するなどの準備動作が必要である。液処理部20の準備動作は線107によって示されている。また、これらの準備動作に関与する別置ユニットの動作についても、「CSB1,3,6」のそれぞれのジョブライン101に表示されている。逆に、他の別置ユニットである「CSB2,4,5」のジョブライン101には、横方向の太線が表示されていないので、これらのユニットは何ら動作を行わないことも理解できる。   Note that the liquid processing unit 20 requires a preparatory operation such as supplying a liquid to the processing tank before starting the processing on the substrate 90. The preparation operation of the liquid processing unit 20 is indicated by a line 107. The operations of the separate units involved in these preparation operations are also displayed on the respective job lines 101 of “CSB1, 3, 6”. Conversely, since the horizontal line is not displayed in the job line 101 of “CSB 2, 4, 5” which is another separately placed unit, it can be understood that these units do not perform any operation.

次に、液処理部20での処理が終了すると、基板90を乾燥処理部26に搬送するために、乾燥処理部26で待機していた搬送ロボット15は液処理部20に移動する必要がある。この搬送ロボット15の動作は線108によって示されている。   Next, when the processing in the liquid processing unit 20 is completed, the transfer robot 15 that has been waiting in the drying processing unit 26 needs to move to the liquid processing unit 20 in order to transfer the substrate 90 to the drying processing unit 26. . The operation of the transfer robot 15 is indicated by a line 108.

また、液処理部20のジョブライン101には、基板90に対する処理を示す横方向の太線の後端に線109が描画されている。これは、基板90に対する処理が終了した後に液処理部20が実行する、排気・排液等のための後処理を示す。このように、ジョブライン図100では、基板90に対して行われる処理だけでなく、後処理の期間も表示できる。   Further, a line 109 is drawn on the job line 101 of the liquid processing unit 20 at the rear end of the horizontal thick line indicating the processing for the substrate 90. This indicates post-processing for exhaust / drainage, etc., which is performed by the liquid processing unit 20 after the processing on the substrate 90 is completed. As described above, in the job line diagram 100, not only the processing performed on the substrate 90 but also the post-processing period can be displayed.

なお、必要に応じて搬送ロボット15は、搬送ロボット水洗処理部19によって洗浄されるが、この処理が実行されるときには、「CHCL」のジョブライン101に線110のように表示される。したがって、線110が描画されている期間においては、搬送ロボット15による基板90の搬送は不可能であることが容易に理解できる。   The transfer robot 15 is cleaned by the transfer robot washing unit 19 as necessary. When this process is executed, the transfer robot 15 is displayed as a line 110 on the job line 101 of “CHCL”. Therefore, it can be easily understood that the substrate 90 cannot be transferred by the transfer robot 15 during the period in which the line 110 is drawn.

基板処理装置1におけるすべての処理が終了すると、基板90は「LD/ULD」に搬送されて、基板処理装置1から搬出される。すなわち、ジョブライン図100では、図7に示すように、処理の最後は必ず「LD/ULD」に基板90が搬送される。   When all the processes in the substrate processing apparatus 1 are completed, the substrate 90 is transferred to “LD / ULD” and unloaded from the substrate processing apparatus 1. That is, in the job line diagram 100, as shown in FIG. 7, the substrate 90 is always transported to “LD / ULD” at the end of the process.

以上のように、基板処理装置1は、複数のユニットごとに、時間経過および稼働状況を示すジョブライン図を表示するので、オペレータは、従来のように、主に文字情報のみによって稼働状況が表示される場合に比べて、基板処理装置1の動作状況を容易に把握できる。   As described above, since the substrate processing apparatus 1 displays the job line diagram indicating the passage of time and the operating status for each of a plurality of units, the operator can display the operating status mainly by only character information as in the past. Compared with the case where it is done, the operating condition of the substrate processing apparatus 1 can be easily grasped.

また、液処理部20ないし液処理部25等の処理ユニットに限らず、搬送ユニットや別置ユニットについてもジョブライン101を表示する。したがって、基板処理装置1における処理の全体が容易に把握できる。   Further, the job line 101 is displayed not only for the processing units such as the liquid processing unit 20 to the liquid processing unit 25 but also for the transport unit and the separate unit. Therefore, the entire processing in the substrate processing apparatus 1 can be easily grasped.

また、各処理ユニット間の基板90の搬送は、それぞれの処理ユニットのジョブライン101を結ぶ線(図7に示す、線104,106等)で表現される。また、基板90を搬送しない場合の動作も表示される(図7に示す、線105,108)。さらに、搬送ユニットに対する処理(搬送ロボット水洗処理部19による処理)も表示される(図7に示す線110)。したがって、オペレータは、従来の表示形式に比べて、搬送ユニット(搬送ロボット15)の稼働状況をさらに容易に把握できる。   Further, the conveyance of the substrate 90 between the processing units is represented by a line (such as the lines 104 and 106 shown in FIG. 7) connecting the job lines 101 of the respective processing units. Further, an operation when the substrate 90 is not transported is also displayed (lines 105 and 108 shown in FIG. 7). Further, a process for the transport unit (process by the transport robot washing unit 19) is also displayed (line 110 shown in FIG. 7). Therefore, the operator can more easily grasp the operation status of the transfer unit (transfer robot 15) as compared with the conventional display format.

なお、図7では詳細を図示していないが、本実施の形態における基板処理装置1では、基板90を搬送する搬送ユニットごとに、線の色を変えて表示する。図7に示す例では、搬送ロボット15で基板90を搬送することを示す線104と、リフタ16によって搬送することを示す線106とを異なる色で描画し表示する。これにより、オペレータは搬送ユニットの稼働状況をさらに容易に把握できる。   Although details are not shown in FIG. 7, in the substrate processing apparatus 1 in the present embodiment, the line color is changed and displayed for each transport unit that transports the substrate 90. In the example shown in FIG. 7, a line 104 indicating that the substrate 90 is transferred by the transfer robot 15 and a line 106 indicating that the substrate 90 is transferred by the lifter 16 are drawn and displayed in different colors. Thereby, the operator can grasp | ascertain the operating condition of a conveyance unit still more easily.

また、従来の表示形式では、ユニットが動作するときにだけその内容が表示されるが、ジョブライン図100では、ジョブライン101において、該当するユニットが動作していない状況も確実に表示される。したがって、稼働状況をさらに容易に把握できる。   Further, in the conventional display format, the contents are displayed only when the unit operates, but in the job line diagram 100, the job line 101 also reliably displays the status where the corresponding unit is not operating. Therefore, the operating status can be more easily grasped.

また、ジョブライン図100では、各ユニットにおける時間経過が並列的に表示されるため、ユニット間の稼働状況の比較が容易にできる。   Further, in the job line diagram 100, the elapsed time in each unit is displayed in parallel, so that the operation status between the units can be easily compared.

また、コントローラ5は、装置情報に基づいて、基板90が滞留したとしても、ダメージの少ないユニットを識別し、当該ユニットのジョブライン101については、他のユニットのジョブライン101と色違いで表示する(図7では、砂点ハッチングの有無によって区別することを示す)。これにより、オペレータは基板90の滞留が生じても、あまり問題とならないユニットを容易に識別できる。したがって、フローレシピまたはユニットレシピにおいて、例えば処理時間の関係でバッティングが生じた場合等において、オペレータはどのユニットに基板を滞留させて時間調整すればよいかを容易に判断できる。   Further, the controller 5 identifies a unit with little damage even if the substrate 90 stays on the basis of the device information, and displays the job line 101 of the unit in a different color from the job line 101 of other units. (In FIG. 7, it shows distinguishing by the presence or absence of sand spot hatching). As a result, the operator can easily identify a unit that does not cause a problem even if the substrate 90 stays. Therefore, in the flow recipe or unit recipe, for example, when batting occurs due to processing time, the operator can easily determine in which unit the substrate should be retained and the time adjusted.

図5に戻って、ジョブライン図100を表示させると、コントローラ5は、誤りを検出したか否かを判定し(ステップS8)、主にステップS3ないしS5において、フローレシピおよびユニットレシピの矛盾や、誤り等を検出した場合には、警告メッセージを表示部53に表示させる(ステップS9)。   Returning to FIG. 5, when the job line diagram 100 is displayed, the controller 5 determines whether or not an error has been detected (step S8). Mainly in steps S3 to S5, the flow recipe and the unit recipe are inconsistent. If an error or the like is detected, a warning message is displayed on the display unit 53 (step S9).

図8および図9は、コントローラ5が誤りを発見した場合のジョブライン図100の表示例を示す図である。図8に示す例は、搬送ロボット水洗処理部19による搬送ロボット15の洗浄計画が立てられなかった場合である。また、図9は、基板処理部2における処理時間に矛盾が生じた場合である。   8 and 9 are diagrams showing display examples of the job line diagram 100 when the controller 5 finds an error. The example shown in FIG. 8 is a case where a cleaning plan for the transfer robot 15 by the transfer robot washing unit 19 has not been established. FIG. 9 shows a case where a contradiction occurs in the processing time in the substrate processing unit 2.

図8に示す処理では、搬送ロボット15が液処理部23にアクセスしたため、搬送ロボット15の一対の挟持機構150を搬送ロボット水洗処理部19が洗浄しなければならず、これが「CHCL」のジョブライン101に線111として表示されている。しかし、一方で、液処理部20における処理の終了時間が早く、搬送ロボット15が液処理部20と乾燥処理部26との間の搬送を行うことを示す線112が、時間的に線111と重なってしまっている。   In the process shown in FIG. 8, since the transfer robot 15 has accessed the liquid processing unit 23, the transfer robot water washing processing unit 19 must clean the pair of clamping mechanisms 150 of the transfer robot 15, which is the job line of “CHCL”. 101 is displayed as a line 111. However, on the other hand, the end time of the processing in the liquid processing unit 20 is early, and a line 112 indicating that the transfer robot 15 transfers between the liquid processing unit 20 and the drying processing unit 26 is temporally a line 111. It has overlapped.

このように、従来では表示されなかった搬送ロボット水洗処理部19の処理や、搬送ロボット15の搬送処理がジョブライン図100では表示されるので、オペレータは容易に誤りを発見するできる。   As described above, since the process of the transfer robot washing unit 19 and the transfer process of the transfer robot 15 that were not conventionally displayed are displayed in the job line diagram 100, the operator can easily find an error.

また、図9に示す処理では、液処理部20で処理された基板90は、一旦、液処理部23に搬送されてから、再び液処理部20で処理される。しかし、液処理部20に戻ってくるまでの時間が早く、液処理部20における後処理を示す線113と、液処理部20における前処理を示す線114とが、時間的に干渉することがわかる。   In the process shown in FIG. 9, the substrate 90 processed by the liquid processing unit 20 is once transported to the liquid processing unit 23 and then processed again by the liquid processing unit 20. However, it takes a long time to return to the liquid processing unit 20, and the line 113 indicating the post-processing in the liquid processing unit 20 and the line 114 indicating the pre-processing in the liquid processing unit 20 may interfere with each other in time. Recognize.

このように、ジョブライン図100では、従来表示されなかった処理ユニットにおける前処理動作や後処理動作が表示されるので、オペレータは容易に誤りを発見できる。   As described above, in the job line diagram 100, the pre-processing operation and the post-processing operation in the processing unit not conventionally displayed are displayed, so that the operator can easily find an error.

なお、図8の場合、コントローラ5は、ステップS9において、「プロセススタートは、CHCL計画が立てられないためスタート実行できませんでした。」というメッセージを表示部53に表示させる。一方、図9の場合、コントローラ5は、「プロセススタートは、処理時間が処理不可能な設定であるため、実行できませんでした。」というメッセージを表示部53に表示させる。   In the case of FIG. 8, the controller 5 causes the display unit 53 to display a message “Process start could not be executed because a CHCL plan could not be established” in step S9. On the other hand, in the case of FIG. 9, the controller 5 causes the display unit 53 to display a message “Process start cannot be executed because the processing time cannot be processed”.

<2. 第2の実施の形態>
第1の実施の形態では、基板処理装置1において、オペレータが基板処理装置1を支援装置として使用しつつ、作成したレシピをチェックする例について説明したが、基板処理装置1以外の装置を支援装置としてもよい。
<2. Second Embodiment>
In the first embodiment, in the substrate processing apparatus 1, the example in which the operator checks the created recipe while using the substrate processing apparatus 1 as the support apparatus has been described, but an apparatus other than the substrate processing apparatus 1 is used as the support apparatus. It is good.

図10は、このような原理に基づいて構成した第2の実施の形態における支援装置6を示す図である。また、図11は、支援装置6のバス配線図である。なお、支援装置6の構成のうち、第1の実施の形態における基板処理装置1と同等の機能を有する構成には同符号を付し、適宜、説明を省略する。   FIG. 10 is a diagram showing the support device 6 according to the second embodiment configured based on such a principle. FIG. 11 is a bus wiring diagram of the support device 6. Note that, among the configurations of the support device 6, configurations having functions equivalent to those of the substrate processing apparatus 1 in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted as appropriate.

支援装置6は、筐体60と、操作部52としてのキーボード55およびマウス56と、表示部53とを備えている。また、筐体60の内部には、CPU50と、記憶装置51と、読取装置54とを備えている。   The support device 6 includes a housing 60, a keyboard 55 and a mouse 56 as the operation unit 52, and a display unit 53. In addition, the housing 60 includes a CPU 50, a storage device 51, and a reading device 54.

支援装置6は、ディスク92に記憶されたプログラム510、装置情報、フローレシピおよびユニットレシピを読取装置54によって読み取り、記憶装置51に転送して、利用することができる。すなわち、第2の実施の形態では読取装置54が、主に本発明における情報取得手段に相当する。なお、情報取得手段を実現する形態としては、支援装置6をネットワークに接続し、これらのデータを、ネットワークを介して外部の装置から取得するようにしてもよい。   The support device 6 can read the program 510, device information, flow recipe, and unit recipe stored in the disk 92 by the reading device 54, transfer it to the storage device 51, and use it. That is, in the second embodiment, the reading device 54 mainly corresponds to the information acquisition unit in the present invention. As a form for realizing the information acquisition means, the support device 6 may be connected to a network, and these data may be acquired from an external device via the network.

このような構成の支援装置6は、記憶装置51に記憶されたプログラム510をCPU50が実行することにより、第1の実施の形態と同等の処理を実行できる。したがって、支援装置6は、基板処理装置1と同等の効果を得ることができる。   The support device 6 having such a configuration can execute processing equivalent to that of the first embodiment by causing the CPU 50 to execute the program 510 stored in the storage device 51. Therefore, the support device 6 can obtain the same effect as the substrate processing apparatus 1.

また、本実施の形態に示すように、支援装置6と基板処理装置1とを別装置とすることによって、基板処理装置1における基板処理を停止させることなく、レシピのチェックを行うことができる。   Further, as shown in the present embodiment, by using the support apparatus 6 and the substrate processing apparatus 1 as separate apparatuses, the recipe can be checked without stopping the substrate processing in the substrate processing apparatus 1.

<3. 変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<3. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.

例えば、ジョブライン図を表示させるための動作は、図5および図6に示される工程に限定されるわけではなく、同様の効果が得られるならば、各工程の順序や処理は変更されてもよい。   For example, the operation for displaying the job line diagram is not limited to the steps shown in FIGS. 5 and 6, and the order and processing of each step may be changed if the same effect can be obtained. Good.

本発明に係る支援装置である基板処理装置を示す図である。It is a figure which shows the substrate processing apparatus which is the assistance apparatus which concerns on this invention. コントローラの構成を示すバス配線図である。It is a bus wiring diagram which shows the structure of a controller. フローレシピのデータ構造を例示する図である。It is a figure which illustrates the data structure of a flow recipe. ユニットレシピのデータ構造を例示する図である。It is a figure which illustrates the data structure of a unit recipe. 本実施の形態における基板処理装置のレシピ検査処理を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the recipe inspection process of the substrate processing apparatus in this Embodiment. フローレシピおよびユニットレシピ取得処理を示す流れ図である。It is a flowchart which shows a flow recipe and a unit recipe acquisition process. ジョブライン図の表示例を示す図である。It is a figure which shows the example of a display of a job line figure. コントローラが誤りを発見した場合のジョブライン図の表示例を示す図である。It is a figure which shows the example of a display of the job line figure when a controller discovers an error. コントローラが誤りを発見した場合のジョブライン図の表示例を示す図である。It is a figure which shows the example of a display of the job line figure when a controller discovers an error. 第2の実施の形態における支援装置を示す図である。It is a figure which shows the assistance apparatus in 2nd Embodiment. 支援装置のバス配線図である。It is a bus wiring diagram of a support device.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板処理装置
100 ジョブライン図
15 搬送ロボット
16,17,18 リフタ
19 搬送ロボット水洗処理部
2 基板処理部
20,21,22,23,24,25 液処理部
26 乾燥処理部
3 気体供給機構
30 蒸気供給ユニット
31 オゾン供給ユニット
32 不活性ガス供給ユニット
4 液体供給機構
40 薬液供給ユニット
41 洗浄液供給ユニット
42 純水供給ユニット
5 コントローラ
50 CPU
51 記憶装置
510 プログラム
52 操作部
53 表示部
54 読取装置
6 支援装置
7 フローレシピ
8 ユニットレシピ
90 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing apparatus 100 Job line figure 15 Transfer robot 16, 17, 18 Lifter 19 Transfer robot water washing processing part 2 Substrate processing part 20, 21, 22, 23, 24, 25 Liquid processing part 26 Drying processing part 3 Gas supply mechanism 30 Steam supply unit 31 Ozone supply unit 32 Inert gas supply unit 4 Liquid supply mechanism 40 Chemical solution supply unit 41 Cleaning solution supply unit 42 Pure water supply unit 5 Controller 50 CPU
51 Storage Device 510 Program 52 Operation Unit 53 Display Unit 54 Reading Device 6 Support Device 7 Flow Recipe 8 Unit Recipe 90 Substrate

Claims (5)

コンピュータ読み取り可能な支援プログラムであって、前記コンピュータによる前記支援プログラムの実行は、前記コンピュータに、
少なくとも1つの処理ユニットを含む複数のユニットによって所定の処理を実行する処理装置に関する装置情報、前記所定の処理を実行するために必要な少なくとも1つの処理ユニットの前記所定の処理における使用順序を指定するフローレシピ、および前記フローレシピにおいて指定された少なくとも1つの処理ユニットごとの動作を指定するユニットレシピを取得する情報取得工程と、
前記情報取得工程において取得された前記装置情報、前記フローレシピおよび前記ユニットレシピに基づいて、前記複数のユニットのうち前記所定の処理に使用されるユニットごとに、時間経過と稼働状況とを表現したジョブライン図を描画する描画工程と、
前記描画工程において描画された前記ジョブライン図を表示する表示工程と、
を実行させることを特徴とする支援プログラム。
A computer-readable support program, the computer executing the support program,
Designates apparatus information relating to a processing apparatus that executes a predetermined process by a plurality of units including at least one processing unit, and an order of use of the at least one processing unit necessary for executing the predetermined process in the predetermined process An information acquisition step for acquiring a flow recipe and a unit recipe for specifying an operation for each at least one processing unit specified in the flow recipe;
Based on the device information acquired in the information acquisition step, the flow recipe, and the unit recipe, for each unit used for the predetermined process among the plurality of units, the elapsed time and the operating status are expressed. A drawing process for drawing a job line diagram;
A display step for displaying the job line drawing drawn in the drawing step;
A support program characterized by executing
請求項1に記載の支援プログラムであって、
前記所定の処理は、基板に対して実行される処理であり、
前記処理装置は、基板処理装置であることを特徴とする支援プログラム。
The support program according to claim 1,
The predetermined process is a process executed on a substrate,
The support program is a substrate processing apparatus.
請求項2に記載の支援プログラムであって、
前記所定の処理に使用されるユニットは、基板の搬送を司るユニットおよび前記処理ユニットの状態を整えるためのユニットを含むことを特徴とする支援プログラム。
The support program according to claim 2,
The support program characterized in that the units used for the predetermined processing include a unit for controlling the conveyance of the substrate and a unit for adjusting the state of the processing unit.
請求項2または3に記載の支援プログラムであって、
前記描画工程は、前記装置情報に基づいて、基板を滞留させても、当該基板に対する影響が少ないユニットを前記複数のユニットから識別し、前記ユニットについての描画方法を他のユニットについての描画方法と区別して描画することを特徴とする支援プログラム。
The support program according to claim 2 or 3,
The drawing step identifies, from the plurality of units, a unit that has little influence on the substrate even if the substrate is retained based on the device information, and the drawing method for the unit is different from the drawing method for other units. A support program characterized by drawing with distinction.
オペレータの作業を支援する支援装置であって、
少なくとも1つの処理ユニットを含む複数のユニットによって所定の処理を実行する処理装置に関する装置情報、前記所定の処理を実行するために必要な少なくとも1つの処理ユニットの前記所定の処理における使用順序を指定するフローレシピ、および前記フローレシピにおいて指定された少なくとも1つの処理ユニットごとの動作を指定するユニットレシピを取得する情報取得手段と、
前記情報取得手段により取得された前記装置情報、前記フローレシピおよび前記ユニットレシピに基づいて、前記複数のユニットのうち前記所定の処理に使用されるユニットごとに、時間経過と稼働状況とを表現したジョブライン図を描画する描画手段と、
前記描画手段により描画された前記ジョブライン図を表示する表示手段と、
を備えることを特徴とする支援装置。
A support device for supporting an operator's work,
Designates apparatus information relating to a processing apparatus that executes a predetermined process by a plurality of units including at least one processing unit, and an order of use of the at least one processing unit necessary for executing the predetermined process in the predetermined process Information acquisition means for acquiring a flow recipe, and a unit recipe that specifies an operation for each of at least one processing unit specified in the flow recipe;
Based on the device information acquired by the information acquisition means, the flow recipe, and the unit recipe, the passage of time and the operation status are expressed for each unit used for the predetermined process among the plurality of units. A drawing means for drawing a job line diagram;
Display means for displaying the job line diagram drawn by the drawing means;
A support apparatus comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013140583A (en) * 2011-12-28 2013-07-18 Yokogawa Electric Corp System and method for managing life cycle of batch in production control system in real time

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