JP2007118579A - Lithographic printing forme original plate and lithographic printing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて、レーザー光を走査することにより直接製版することができる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版、および、該平版印刷版原版を用いる平版印刷方法に関する。 The present invention relates to a so-called direct plate-making lithographic printing plate precursor that can be directly made by scanning laser light based on a digital signal from a computer or the like, and a lithographic printing method using the lithographic printing plate precursor. .
従来、ネガ型平版印刷版原版(ネガ型PS版)は広く知られており種々の感光層(画像記録層)がある。ジアゾ樹脂含有型、光重合型、光架橋型等がある。このような平版印刷版を作製するには、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム原稿(リスフィルム)をのせ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的であり、そのため作業に非常に手間暇がかかっていた。近年、画像形成技術の発展に伴い、リスフィルムを介することなく直接平版印刷版原版に、コンピュータ等のデジタルデータに基づいてレーザー露光して製版するコンピュータ・トゥ・プレート技術が開発され、それに用いる高感度レーザー記録方式の平版印刷版原版が開発されてきた。 Conventionally, negative lithographic printing plate precursors (negative PS plates) are widely known and have various photosensitive layers (image recording layers). There are diazo resin-containing type, photopolymerization type, photocrosslinking type and the like. In order to produce such a lithographic printing plate, it is common to place a transparent negative film manuscript (lith film) on these lithographic printing plates and to expose the image using ultraviolet rays. It took time and effort. In recent years, with the development of image forming technology, computer-to-plate technology has been developed, in which plate exposure is performed directly on a lithographic printing plate precursor without using a lithographic film by laser exposure based on digital data such as a computer. Sensitive laser recording lithographic printing plate precursors have been developed.
これらのレーザー記録方式の平版印刷版原版に用いる感光層としては、光重合系が高感度という点で最も適している。しかしながら、重合系感光層(光重合層)は支持体との接着力が必ずしも強力ではないため、高速で大部数の印刷に使用すると、ベタ画像が抜けたり、細線やハイライト部が細ったり、飛んだりする不具合を生じる。そのため高感度光重合系においては支持体と感光層の光接着性は重要なファクターであり、数多く研究、開発されている。 As the photosensitive layer used in these laser recording type lithographic printing plate precursors, a photopolymerization system is most suitable in terms of high sensitivity. However, since the polymerization-based photosensitive layer (photopolymerization layer) does not necessarily have a strong adhesive force with the support, when used for printing a large number of copies at a high speed, solid images may be lost, fine lines and highlight portions may be thinned, It causes a problem of flying. Therefore, in high-sensitivity photopolymerization systems, photoadhesiveness between the support and the photosensitive layer is an important factor, and many researches and developments have been made.
例えば、重合系感光層と支持体の間に、エチレン性不飽和結合を有する重合性基とリン酸基を有するポリマーを設けることが知られている(特許文献1参照)。また、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基を支持体表面上に共有結合により設け、光重合系感光層との接着力を持たせようとする技術も知られている(例えば、特許文献2〜4参照)。 また、エチレン性二重結合を有するシランカップリング剤を加水分解および脱水縮合させた化合物と、一分子中にアルキレンオキサイド鎖およびアクリロイル基もしくはメタクリロイル基を有する化合物を含有する層を感光層と支持体の間に設けることも知られている(特許文献5参照)。 For example, it is known that a polymer having a polymerizable group having an ethylenically unsaturated bond and a phosphate group is provided between a polymerization type photosensitive layer and a support (see Patent Document 1). In addition, a technique is also known in which a functional group capable of causing an addition reaction due to a radical is provided on the support surface by a covalent bond so as to have an adhesive force with the photopolymerization type photosensitive layer (for example, Patent Documents 2 to 2). 4). A photosensitive layer and a support comprising a compound obtained by hydrolyzing and dehydrating and condensing a silane coupling agent having an ethylenic double bond, and a compound containing an alkylene oxide chain and an acryloyl group or methacryloyl group in one molecule. It is also known to provide between (see Patent Document 5).
また、(メタ)アクリロイル基をもつリン酸エステル化合物を感光層に含有させて支持体との接着を向上させる技術も知られている(特許文献6参照)。
しかしながら、これら従来技術は、実用的な観点から見ると、細線再現性、耐刷性、汚れにくさおよび機上現像性のいずれかが未だ不十分であり、さらなる改良が望まれた。
本発明の目的は、これに応えるものであり、レーザーによる画像露光後、機上現像可能であり、細線再現性、耐刷性および汚れにくさが良好な平版印刷版原版および平版印刷方法を提供することである。
However, from the practical viewpoint, these conventional technologies are still insufficient in any of fine line reproducibility, printing durability, stain resistance, and on-press developability, and further improvements have been desired.
The object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method which can be developed on-machine after image exposure with a laser and have good fine line reproducibility, printing durability and stain resistance. It is to be.
1.親水性支持体上に、下塗り層およびレーザー光感受性の光重合層を有する平版印刷版原版であって、該下塗り層中に、少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有する共重合体を含有し、(a1)の繰り返し単位が下記一般式(A1)で表されることを特徴とする平版印刷版原版。 1. A lithographic printing plate precursor having an undercoat layer and a laser-sensitive photopolymerization layer on a hydrophilic support, the undercoat layer comprising at least (a1) a repeating unit having at least one ethylenically unsaturated bond; (A2) a copolymer having a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface, wherein the repeating unit of (a1) is represented by the following general formula (A1): A lithographic printing plate precursor.
(一般式(A1)中、R1〜R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。R4〜R6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、アシル基、またはアシルオキシ基を表す。R4とR5またはR5とR6で環を形成してもよい。Aは酸素原子またはNR7を表し、R7は水素原子または炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。L1は直鎖状の連結基を表す。) (In General Formula (A1), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon. Represents an alkyl group, a halogen atom, an acyl group, or an acyloxy group of formulas 1 to 6. R 4 and R 5 or R 5 and R 6 may form a ring, A represents an oxygen atom or NR 7 , R 7 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and L 1 represents a linear linking group.)
2.前記共重合体が、さらに(a3)親水基を少なくとも1つ有する繰り返し単位を有することを特徴とする前記1記載の平版印刷版原版。 2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the copolymer further comprises (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group.
3.親水性支持体上に、下塗り層およびレーザー光感受性の光重合層を有する平版印刷版原版であって、該下塗り層中に、少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a3)親水基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有する共重合体を含有し、(a3)の繰り返し単位が下記一般式(A3)で表される繰り返し単位であることを特徴とする平版印刷版原版。 3. A lithographic printing plate precursor having an undercoat layer and a laser-sensitive photopolymerization layer on a hydrophilic support, the undercoat layer comprising at least (a1) a repeating unit having at least one ethylenically unsaturated bond; (A2) contains a copolymer having a repeating unit having at least one functional group that interacts with the support surface and (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group, and the repeating unit of (a3) is: A lithographic printing plate precursor comprising a repeating unit represented by the general formula (A3).
(一般式(A3)中、R1〜R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Aは酸素原子またはNR7−を表し、R7は水素原子または炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。L1は直鎖状の連結基を表す。Wは親水基を表す。) (In General Formula (A3), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. A represents an oxygen atom or NR 7 —, and R 7 represents hydrogen. Represents an atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, L 1 represents a linear linking group, and W represents a hydrophilic group.)
4.前記共重合体の質量平均分子量が少なくとも2万であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
5.前記光重合層が赤外線吸収剤を含有することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
6.前記光重合層がマイクロカプセルまたはミクロゲルを含有することを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
7.前記1〜6のいずれか1項に記載の平版印刷版原版を、印刷機に装着し、画像様にレーザー露光した後、または、レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該平版印刷版原版に、印刷インキと湿し水を供給して、光重合層のレーザー未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 3 above, wherein the copolymer has a mass average molecular weight of at least 20,000.
5. 5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the photopolymerization layer contains an infrared absorber.
6). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5 above, wherein the photopolymerizable layer contains microcapsules or microgels.
7). The lithographic printing plate precursor according to any one of 1 to 6 above is mounted on a printing press and imagewise laser exposed, or after imagewise exposure with a laser and then mounted on a printing press, A lithographic printing method in which printing ink and fountain solution are supplied to a lithographic printing plate precursor to remove the laser unexposed portion of the photopolymerization layer and print.
本発明においては、上記の共重合体をレーザー光感受性の光重合層と支持体との間の下塗り層中に含有されることによって前記課題を解決できた。その作用機構は、必ずしも明確ではないが、次のように推測される。
下塗り層中の共重合体がエチレン性不飽和基を有すことにより、光重合層中で露光によるラジカル付加反応が進行するとともに、下塗り層中および光重合層と下塗り層の界面でも同時に付加反応が進行するため両層の接着力が強化される。
また、上記共重合体が支持体表面と相互作用する官能基を有す場合は、機上現像後、下塗り層が露出された非画像部を形成する。共重合体が親水基を有すると、親水基が表面に配向し、非画像部にインキが着きにくくなり、汚れ防止性が向上する。
本発明の共重合体では、エチレン性不飽和基または親水基の少なくともいずれかが、連結基によってポリマー主鎖から離れていて動きやすい構造になっている。そのようなエチレン性不飽和基は、反応性が向上し、少ない露光量でも下塗り層と光重合層との接着力が強化され、画像強度が向上し、その結果、一層の高感度・高耐刷性が達成される。一方、動きやすい親水基は、より素早く湿し水に応答し、表面に配向しやすく、汚れ防止効果を一層高める。
In the present invention, the above-mentioned problem can be solved by including the above-mentioned copolymer in an undercoat layer between a laser-sensitive photopolymerization layer and a support. The mechanism of action is not necessarily clear, but is presumed as follows.
When the copolymer in the undercoat layer has an ethylenically unsaturated group, the radical addition reaction by exposure proceeds in the photopolymerization layer, and at the same time, the addition reaction occurs in the undercoat layer and at the interface between the photopolymerization layer and the undercoat layer. As the process proceeds, the adhesion between both layers is strengthened.
Further, when the copolymer has a functional group that interacts with the surface of the support, a non-image portion in which the undercoat layer is exposed is formed after on-press development. When the copolymer has a hydrophilic group, the hydrophilic group is oriented on the surface, it becomes difficult for ink to adhere to the non-image area, and stain resistance is improved.
In the copolymer of the present invention, at least one of an ethylenically unsaturated group or a hydrophilic group is separated from the polymer main chain by a linking group and has a structure that can move easily. Such ethylenically unsaturated groups have improved reactivity, and the adhesive strength between the undercoat layer and the photopolymerization layer is enhanced even with a small exposure amount, and the image strength is improved. As a result, higher sensitivity and higher resistance are obtained. Printability is achieved. On the other hand, mobile hydrophilic groups respond more quickly to dampening water and are more easily oriented on the surface, further enhancing the antifouling effect.
本発明によれば、レーザーによる画像露光後、機上現像が可能であり、細線再現性、耐刷性および汚れにくさが良好な平版印刷版原版および平版印刷方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method which can be developed on-machine after image exposure with a laser and have good fine line reproducibility, printing durability and resistance to stains.
〔下塗り層〕
本発明における下塗り層の態様の一つ(本発明の態様1)は、少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位とを有し、(a1)の繰り返し単位が下記一般式(A1)で表される共重合体を含有することを特徴とする。また、本発明における下塗り層の別の態様(本発明の態様2)は、少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ有する繰り返し単位と(a3)親水基を少なくとも一つ有する繰り返し単位を有し、(a3)の繰り返し単位が下記一般式(A3)で表される共重合体を含有することを特徴とする。本発明の態様1においては、共重合体が、さらに、(a3)親水基を少なくとも一つ有する繰り返し単位を有することが好ましい。
本発明の上記共重合体を以下では特定共重合体と称す。
(Undercoat layer)
One of the embodiments of the undercoat layer in the present invention (embodiment 1 of the present invention) includes at least (a1) a repeating unit having at least one ethylenically unsaturated bond and (a2) a functional group that interacts with the support surface. The repeating unit of (a1) contains a copolymer represented by the following general formula (A1). In another embodiment of the undercoat layer of the present invention (embodiment 2 of the present invention), at least (a1) a repeating unit having at least one ethylenically unsaturated bond and (a2) a functional group that interacts with the support surface are provided. It has at least one repeating unit and (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group, and the repeating unit of (a3) contains a copolymer represented by the following general formula (A3) To do. In Embodiment 1 of the present invention, it is preferable that the copolymer further has (a3) a repeating unit having at least one hydrophilic group.
Hereinafter, the copolymer of the present invention is referred to as a specific copolymer.
(一般式(A1)中、R1〜R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。R4〜R6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、アシル基、またはアシルオキシ基を表す。R4とR5またはR5とR6で環を形成してもよい。Aは酸素原子またはNR7を表し、R7は水素原子または炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。L1は直鎖状の連結基を表す。) (In General Formula (A1), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon. Represents an alkyl group, a halogen atom, an acyl group, or an acyloxy group of formulas 1 to 6. R 4 and R 5 or R 5 and R 6 may form a ring, A represents an oxygen atom or NR 7 , R 7 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and L 1 represents a linear linking group.)
(一般式(A3)中、R1〜R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Aは酸素原子またはNR7−を表し、R7は水素原子または炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。L1は直鎖状の連結基を表す。Wは親水基を表す。) (In General Formula (A3), R 1 to R 3 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. A represents an oxygen atom or NR 7 —, and R 7 represents hydrogen. Represents an atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, L 1 represents a linear linking group, and W represents a hydrophilic group.)
<特定共重合体>
特定共重合体としては、下記式(I)で表される共重合体が好ましい。
<Specific copolymer>
As the specific copolymer, a copolymer represented by the following formula (I) is preferable.
式(I)中、A1はエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位であり、A2は支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位であり、A3は親水基を少なくとも1つ有する繰り返し単位である。x、y、zは共重合比を表す。 In formula (I), A 1 is a repeating unit containing at least one ethylenically unsaturated bond, A 2 is a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface, and A 3 Is a repeating unit having at least one hydrophilic group. x, y, z represents a copolymerization ratio.
本発明の態様1の場合は、式(I)においてA1で表される繰り返し単位は、上記式(A1)で表される。
上記式(A1)においてL1は直鎖状の連結基を表し、具体的には水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成される連結基を表す。L1で表される連結基の主骨格を構成する原子数は1〜70であることが好ましく、1〜60であることがより好ましく、1〜50であることがさらに好ましい。
なお本発明における連結基の主骨格とは、一般式(A1)におけるAと末端エチレン性不飽和結合とを連結するためのみに使用される原子または原子団を指す。下記に、本発明の一般式(A1)で表される化合物の構造を例示し、その構造中においてL1で表される連結基の主骨格を構成する原子数とその算出方法について示す。
If aspect 1 of the present invention, the repeating unit represented by A 1 in formula (I) is represented by the above formula (A1).
In the above formula (A1), L 1 represents a linear linking group, and specifically includes two or more atoms selected from the group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom. Represents a linking group that is constructed. The number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by L 1 is preferably 1 to 70, more preferably 1 to 60, and still more preferably 1 to 50.
The main skeleton of the linking group in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A in the general formula (A1) and the terminal ethylenically unsaturated bond. Below to exemplify the structure of the compound represented by the general formula (A1) of the present invention, showing the number of atoms and their calculation method constituting the main skeleton of the linking group represented by L 1 in its structure.
式(I)においてA2で表される繰り返し単位は、具体的には下記式(A2)で表される繰り返し単位が好ましい。 In the formula (I), the repeating unit represented by A 2 is preferably a repeating unit represented by the following formula (A2).
式中、R1〜R3は前記式(A1)で表されるものと同義である。Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組合せからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Qは支持体表面と相互作用する官能基(以下、「特定官能基」と略記する場合がある。)を表す。 In formula, R < 1 > -R < 3 > is synonymous with what is represented by the said formula (A1). L represents a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Q represents a functional group that interacts with the support surface (hereinafter sometimes abbreviated as “specific functional group”).
組合せからなるLの具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側が特定官能基Qに結合する。
L1:−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L2:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L3:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L4:−二価の脂肪族基−O−CO−
L5:−CO−NH−二価の芳香族基−O−CO−
L6:−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L7:−二価の芳香族基−O−CO−
L8:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L9:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L10:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L11:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L12:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L13:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L14:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L15:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L16:−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L17:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L18:−CO−NH−
L19:−CO−O−
Specific examples of L composed of combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain, and the right side is bonded to the specific functional group Q.
L1: -CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L2: —CO—divalent aliphatic group —O—CO—
L3: -CO-O-divalent aliphatic group -O-CO-
L4: -Divalent aliphatic group -O-CO-
L5: -CO-NH-divalent aromatic group -O-CO-
L6: -CO-divalent aromatic group -O-CO-
L7: -Divalent aromatic group -O-CO-
L8: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aliphatic group-O-CO-
L9: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aliphatic group-O-CO-
L10: -CO-Divalent aromatic group -CO-O-Divalent aliphatic group -O-CO-
L11: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aliphatic group -O-CO-
L12: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L13: -CO-Divalent aliphatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-
L14: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L15: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-
L16: -CO-O-divalent aromatic group -O-CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L17: -CO-O-divalent aliphatic group -O-CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L18: —CO—NH—
L19: -CO-O-
二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。
二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることがさらに好ましく、1乃至10であることがさらにまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。
The divalent aliphatic group means an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group or a polyalkyleneoxy group. Of these, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group are preferable, and an alkylene group and a substituted alkylene group are more preferable.
The divalent aliphatic group is preferably a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably a linear structure than a branched chain structure. The number of carbon atoms in the divalent aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 12, and further preferably 1 to 10. It is preferably 1 to 8, and most preferably.
二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。 Examples of the substituent of the divalent aliphatic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group. , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, monoalkylamino group, dialkylamino group, arylamino group and diarylamino group.
二価の芳香族基とは、アリレン基または置換アリレン基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレンおよび置換ナフチレン基である。
二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
The divalent aromatic group means an arylene group or a substituted arylene group. Preferable are phenylene, substituted phenylene group, naphthylene and substituted naphthylene group.
Examples of the substituent for the divalent aromatic group include an alkyl group in addition to the examples of the substituent for the divalent aliphatic group.
前記L1〜L19の中では、L1、L3、L5、L7、およびL17が好ましい。 Among L1 to L19, L1, L3, L5, L7, and L17 are preferable.
特定官能基Qとしては、例えば、陽極酸化処理または親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物、水酸基などと共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールス相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。
特定官能基の具体例を以下に挙げる。
Examples of the specific functional group Q include a covalent bond, an ionic bond, a hydrogen bond, a polar interaction, a van der Waals with a metal, a metal oxide, a hydroxyl group and the like present on a support subjected to an anodizing treatment or a hydrophilic treatment. Examples include groups capable of interaction such as interaction.
Specific examples of the specific functional group are listed below.
(上記式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、またはアルケニル基を表し、M1およびM2はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、X-はカウンターアニオンを表す。)
これらのなかでも特定官能基としては、アンモニウム基、ピリジニウム基等のオニウム塩基、リン酸エステル基、ホスホン酸基、ホウ酸基、アセチルアセトン基などのβ−ジケトン基などが好適である。
(In the above formula, R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group, or an alkenyl group, and M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom, or Represents an ammonium group, and X − represents a counter anion.)
Among these, the specific functional group is preferably an onium base such as an ammonium group or a pyridinium group, or a β-diketone group such as a phosphate group, a phosphonic acid group, a boric acid group, or an acetylacetone group.
本発明の態様1では、式(I)においてA3で表される繰り返し単位は、好ましくは下記式(A3’)で表される。 In aspect 1 of the present invention, the repeating unit represented by A 3 in formula (I) is preferably represented by the following formula (A3 ′).
式中、R1〜R3は前記式(A1)で表されるものと同義である。Lは前記式(A2)で表されるものと同義である。Wは親水基を表す。親水基としては下記基から選ばれる基が好ましい。 In formula, R < 1 > -R < 3 > is synonymous with what is represented by the said formula (A1). L is synonymous with that represented by the formula (A2). W represents a hydrophilic group. The hydrophilic group is preferably a group selected from the following groups.
ただし、M1は水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、R7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子、あるいは炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基を表す。R9は炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキレン基を表し、エチレン基が好ましい。R10は水素原子または炭素数1〜12のアルキル基を表す。nは1〜100の整数を表し、1〜30が好ましい。 However, M < 1 > represents a hydrogen atom, a metal atom, or an ammonium group, R < 7 > and R < 8 > represents a hydrogen atom or a C1-C6 linear or branched alkyl group each independently. R 9 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably an ethylene group. R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 100, and preferably 1 to 30.
前記Wとしては、カルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基を含むものがより好ましく、特にスルホン酸(塩)基を含むものが汚れ防止性の観点から好ましい。 As said W, what contains a carboxylic acid (salt) group and a sulfonic acid (salt) group is more preferable, and especially what contains a sulfonic acid (salt) group is preferable from a viewpoint of stain | pollution | contamination prevention property.
本発明の態様2では、式(I)においてA1で表される繰り返し単位は、好ましくは下記式(A1’)で表される。 In the aspect 2 of the present invention, the repeating unit represented by A 1 in the formula (I) is preferably represented by the following formula (A1 ′).
式(A1’)中、R1〜R6は前記式(A1)で表されるものと同義である。Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組合せからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。組合せからなるLの具体例としては、前記式(A2)のLの具体例のL1〜L19が挙げられる。L1〜L19の中では、L1、L3、L5、L7、およびL17が好ましい。 In formula (A1 ′), R 1 to R 6 have the same meanings as those represented by formula (A1). L represents a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. Specific examples of L composed of combinations include L1 to L19 of the specific examples of L in the formula (A2). Among L1 to L19, L1, L3, L5, L7, and L17 are preferable.
本発明の態様2において、式(I)のA1で表される繰り返し単位は、前述の式(A1)で表される繰り返し単位であってもよい。 In Embodiment 2 of the present invention, the repeating unit represented by A 1 of formula (I) may be a repeating unit represented by formula (A1) above.
本発明の態様2の場合は、式(I)においてA3で表される繰り返し単位は、前記の式(A3)で表される。
式(A3)中、L1は直鎖状の連結基を表し、具体的には水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成される連結基を表す。L1で表される連結基の主骨格を構成する原子数は4以上であることが好ましく、5〜20であることがより好ましく、5〜15であることがさらに好ましい。
なお本発明における連結基の主骨格とは、一般式(A3)におけるAとWとを連結するためのみに使用される原子または原子団を指す。下記に、本発明の一般式(A3)で表される化合物の構造を例示し、その構造中においてL1で表される連結基の主骨格を構成する原子数とその算出方法について示す。
In the case of the embodiment 2 of the present invention, the repeating unit represented by A 3 in the formula (I) is represented by the formula (A3).
In formula (A3), L1 represents a linear linking group, and specifically includes two or more atoms selected from the group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Represents a linking group. The number of atoms constituting the main skeleton of the linking group represented by L1 is preferably 4 or more, more preferably 5 to 20, and still more preferably 5 to 15.
The main skeleton of the linking group in the present invention refers to an atom or an atomic group used only for linking A and W in the general formula (A3). Below, the structure of the compound represented by general formula (A3) of this invention is illustrated, and it shows about the number of atoms which comprise the main skeleton of the coupling group represented by L1 in the structure, and its calculation method.
式(A3)中、親水基Wは下記基から選ばれる基であることが好ましい。 In the formula (A3), the hydrophilic group W is preferably a group selected from the following groups.
上式中、M1は水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、R7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。 In the above formula, M 1 represents a hydrogen atom, a metal atom, or an ammonium group, and R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
前記Wとしては、カルボン酸(塩)基、スルホン酸(塩)基を含むものが好ましく、特にスルホン酸(塩)基を含むものが汚れ防止性の観点から好ましい。 As W, those containing a carboxylic acid (salt) group and a sulfonic acid (salt) group are preferred, and those containing a sulfonic acid (salt) group are particularly preferred from the viewpoint of stain resistance.
本発明の特定共重合体は、上記A1、A2、A3で表される繰り返し単位以外に本発明の効果を損なわない限りにおいて、以下に説明するその他のモノマー(1)〜(11)から選ばれた1種以上との共重合体であってもよい。 The specific copolymer of the present invention includes other monomers (1) to (11) described below as long as the effects of the present invention are not impaired other than the repeating units represented by A 1 , A 2 and A 3. It may be a copolymer with one or more selected from the group consisting of
(その他のモノマー)
(1)2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
(2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
(3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
(Other monomers)
(1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, amyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, polyethylene glycol monoacrylate, polypropylene glycol monoalkylate Acrylates and the like.
(3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate, polypropylene Methacrylates such as glycol monomethacrylate.
(4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドまたはメタクリルアミド。
(5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
(8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
(10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
前記特定共重合体の分子量は、質量平均分子量で2万以上であることが、汚れ防止性および耐刷性の観点で好ましい。また、(A1)は全共重合モノマーに対して1〜80モル%が好ましく、2〜50モル%がより好ましい。(A2)は全共重合モノマーに対して1〜80モル%が好ましく、2〜40モル%がより好ましい。(A3)は全共重合モノマーに対して10〜95モル%が好ましく、20〜90モル%がより好ましい。 The molecular weight of the specific copolymer is preferably 20,000 or more in terms of mass average molecular weight from the viewpoint of stain resistance and printing durability. Further, (A 1 ) is preferably from 1 to 80 mol%, more preferably from 2 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers. (A 2) is 1 to 80 mol% are preferred with respect to the total copolymerizable monomer, more preferably 2 to 40 mol%. (A 3 ) is preferably from 10 to 95 mol%, more preferably from 20 to 90 mol%, based on all copolymerized monomers.
本発明において用いられる前記特定共重合体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the specific copolymer used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
<下塗り層の形成>
特定共重合体を用いる下塗り層の形成は、通常、特定共重合体を溶剤に溶かして塗布液を調製し、支持体に塗布して行う。溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、1−メトキシ−2−プロパノール、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられ、特にアルコール類が好ましい。これらの有機溶媒は混合して用いることもできる。
<Formation of undercoat layer>
Formation of the undercoat layer using the specific copolymer is usually carried out by dissolving the specific copolymer in a solvent to prepare a coating solution and coating the support. Examples of the solvent include water and organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, hexylene glycol, tetrahydrofuran, dimethylformamide, 1-methoxy-2-propanol, dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. Are preferred. These organic solvents can also be mixed and used.
下塗り層塗布液の濃度としては、0.001〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.01〜5質量%であり、さらに好ましくは0.05〜1質量%である。下塗り層には、必要に応じて界面活性剤(光重合層の項に後述)を添加してもよい。下塗り層塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。 As a density | concentration of undercoat layer coating liquid, 0.001-10 mass% is preferable, More preferably, it is 0.01-5 mass%, More preferably, it is 0.05-1 mass%. If necessary, a surfactant (described later in the section of the photopolymerization layer) may be added to the undercoat layer. Various known methods can be used as a method of applying the undercoat layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
下塗り層の塗布量(固形分)は0.1〜200mg/m2であるのが好ましく、1〜50mg/m2であるのがより好ましい。 The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1 to 200 mg / m 2, and more preferably 1 to 50 mg / m 2.
〔光重合層〕
本発明の平版印刷版原版は、親水性支持体上にレーザー光感受性の光重合層を有することを前提とする。以下、光重合層の構成成分について説明する。
(Photopolymerization layer)
The lithographic printing plate precursor according to the invention is premised on having a photopolymerization layer sensitive to laser light on a hydrophilic support. Hereinafter, the components of the photopolymerization layer will be described.
<(A)赤外線吸収剤>
本発明の平版印刷版原版を、760〜1200nmの赤外線を発するレーザーを光源により画像形成する場合には、通常、赤外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)に電子移動/エネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。
<(A) Infrared absorber>
When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the present invention with a laser that emits infrared rays of 760 to 1200 nm using a light source, it is usually essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared ray into heat and a function of being excited by the infrared ray and transferring electrons / energy to a polymerization initiator (radical generator) described later. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.
染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等の各公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の各公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, and the like, JP-A-58-173696, Methine dyes described in JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., and squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.
また、米国特許第5,156,938号公報記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号の各公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363 No. 59, No. 59-84248, No. 59-84249, No. 59-146063, No. 59-146061, and Pyrium compounds described in JP-A-59-216146, This is disclosed in the pentamethine thiopyrylium salt described in US Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。 Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).
一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa -は後述するZa -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. X a - is Z a which will be described below - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.
一般式(i)におけるR1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 in the general formula (i) each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa -は必要ない。好ましいZa -は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a − is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ion and aryl sulfonate ion.
本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of cyanine dyes represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。 Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。 Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。 These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の光重合層塗布液中での良好な安定性と光重合層の良好な均一性が得られる。 The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the photopolymerization layer coating solution and good uniformity of the photopolymerization layer can be obtained.
顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。 As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used for ink production, toner production or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、光重合層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、光重合層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。
光重合層の吸光度は、光重合層に添加する赤外線吸収剤の量と光重合層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの光重合層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer, but photopolymerization is performed when a negative lithographic printing plate precursor is prepared. The layer is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the photopolymerization layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.
The light absorbency of a photopolymerization layer can be adjusted with the quantity of the infrared absorber added to a photopolymerization layer, and the thickness of a photopolymerization layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, a photopolymerization layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is determined as the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.
赤外線吸収剤の添加量は光重合層の全固形分に対して0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。 The addition amount of the infrared absorber is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.
<(B)重合開始剤>
本発明の光重合層に用いられる重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合開始剤、または2種以上の光重合開始剤の併用系(光重合開始系)を適宜選択して使用することができる。
<(B) Polymerization initiator>
As a polymerization initiator used in the photopolymerization layer of the present invention, various photopolymerization initiators known in patents, literatures, etc., or a combination system of two or more photopolymerization initiators depending on the wavelength of the light source used ( Photopolymerization initiation system) can be appropriately selected and used.
青色半導体レーザー、Arレーザー、赤外半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合には、種々の光重合開始剤(系)が提案されており、例えば米国特許第2,850,445号明細書に記載のある種の光還元性染料、例えばローズべンガル、エオシン、エリスロシンなど、あるいは染料と開始剤との組合せによる系、例えば染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号公報、特開昭54−155292号公報)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号公報)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号公報)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号公報、特開昭58−15503号公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号公報)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号公報、特開昭59−140203号公報、特開昭59−189340号公報、特開昭62−174203号公報、特公昭62−1641号公報、米国特許第4766055号明細書)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−1718105号公報、特開昭63−258903号公報、特開平3−264771号公報など)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号公報、特開昭62−150242号公報、特開昭64−13140号公報、特開昭64−13141号公報、特開昭64−13142号公報、特開昭64−13143号公報、特開昭64−13144号公報、特開昭64−17048号公報、特開平1−229003号公報、特開平1−298348号公報、特開平1−138204号公報など)、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号公報、特開平2−244050号公報)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号公報)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号公報、特開平4−219756号公報)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号公報)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号公報)等を挙げることができる。 In the case of using a blue semiconductor laser, Ar laser, second harmonic of an infrared semiconductor laser, or SHG-YAG laser as a light source, various photopolymerization initiators (systems) have been proposed. 850,445, certain photoreducible dyes such as rose bengal, eosin, erythrosine, etc., or combinations of dyes and initiators, such as complex initiator systems of dyes and amines. -20099), a combination system of hexaarylbiimidazole, a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528). JP, 54-155292, cyclic cis-α-dicarbonyl compound and dye system (JP 48-8) 183), a system of cyclic triazine and merocyanine dye (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), a system of 3-ketocoumarin and an activator (Japanese Patent Laid-Open No. 52-112682, Japanese Patent Laid-Open No. 58-15503) , Biimidazole, styrene derivative, thiol system (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504 A, JP 59-140203 JP, JP JP-A 59-189340, JP-A 62-174203, JP-B 62-1641, US Pat. No. 4,766,055), a system of dye and active halogen compound (JP-A 63-1718105, JP-A-63-258903, JP-A-3-264771, etc.), a system of a dye and a borate compound (JP-A-62-143044, Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 62-150242, 64-13140, 64-13141, 64-13142, 64-13143, 64-13144 JP-A-64-17048, JP-A-1-229003, JP-A-1-298348, JP-A-1-138204, etc.), a system comprising a dye having a rhodanine ring and a radical generator ( JP-A-2-17943, JP-A-2-244050), titanocene and 3-ketocoumarin dye system (JP-A 63-221110), titanocene and xanthene dye, addition polymerization containing amino group or urethane group A combination of possible ethylenically unsaturated compounds (JP-A-4-221958, JP-A-4-219756), Tanosen and system specific merocyanine dye (JP-A-6-295061), a dye system with titanocene and benzopyran ring (JP-A-8-334897 JP), and the like.
本発明の平版印刷版原版の光重合層において、特に好ましい光重合開始剤(系)は、少なくとも1種のチタノセンを含有する。本発明において光重合性開始剤(系)として用いられるチタノセン化合物は、後述する増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノセン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41483号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−291号公報、特開平3−27393号公報、特開平3−12403号公報、特開平6−41170号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。 In the photopolymerization layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a particularly preferred photopolymerization initiator (system) contains at least one titanocene. The titanocene compound used as a photopolymerizable initiator (system) in the present invention may be any titanocene compound that can generate an active radical when irradiated with light in the presence of a sensitizing dye described later. For example, JP 59-152396 A, JP 61-151197 A, JP 63-41483 A, JP 63-41484 A, JP 2-249 A, and JP 2 -291, JP-A-3-27393, JP-A-3-12403, and JP-A-6-41170 can be appropriately selected and used.
さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル(以下「T−1」ともいう。)、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)フェニル)チタニウム(以下「T−2」ともいう。)等を挙げることができる。 More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl (hereinafter also referred to as “T-1”), di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-cyclo Pentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl Di-methylcyclopentadi Nyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophen-1-yl, bis (cyclo And pentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) phenyl) titanium (hereinafter also referred to as “T-2”).
これらのチタノセン化合物は、さらに、光重合層の特性を改良するための様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。 These titanocene compounds can be further subjected to various chemical modifications for improving the properties of the photopolymerization layer. For example, bonding with sensitizing dyes, addition polymerizable unsaturated compounds and other radical generating parts, introduction of hydrophilic sites, compatibility improvement, introduction of substituents to suppress crystal precipitation, introduction of substituents to improve adhesion A method such as polymerization can be used.
これらのチタノセン化合物の使用法に関しても、先述の付加重合性化合物同様、平版印刷版原版の性能設計により適宜、任意に設定できる。例えば、2種以上併用することで、光重合層への相溶性を高めることができる。上記チタノセン化合物等の光重合開始剤の使用量は通常多い方が感光性の点で有利であり、光重合層の不揮発性成分100質量部に対し、0. 5〜80質量部、好ましくは1〜50質量部の範囲で用いることで充分な感光性が得られる。一方、黄色等、白色灯下での使用に際しては、500nm付近の光によるカブリ性の点からチタノセンの使用量は少ないことが好ましいが、増感色素との組合せによりチタノセンの使用量は、光重合層の不揮発性成分100質量部に対し、6質量部以下、さらに1.9質量部以下、さらには1.4質量部以下にまで下げても充分な感光性を得ることができる。 The use method of these titanocene compounds can be arbitrarily set as appropriate according to the performance design of the lithographic printing plate precursor as in the above-described addition polymerizable compound. For example, the compatibility with a photopolymerization layer can be improved by using 2 or more types together. A larger amount of the photopolymerization initiator such as the titanocene compound is usually advantageous in terms of photosensitivity, and is 0.5 to 80 parts by mass, preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the nonvolatile component of the photopolymerization layer. Sufficient photosensitivity is obtained by using in the range of -50 mass parts. On the other hand, when used under a white light such as yellow, it is preferable that the amount of titanocene used is small from the viewpoint of fogging by light near 500 nm, but the amount of titanocene used in combination with a sensitizing dye is photopolymerization. Sufficient photosensitivity can be obtained even when the amount is reduced to 6 parts by mass or less, further 1.9 parts by mass or less, and further 1.4 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the nonvolatile component of the layer.
本発明に用いられる、前記付加重合性化合物の硬化反応を開始、進行させるための重合開始剤としては、熱により分解してラジカルを発生する熱分解型のラジカル発生剤が有用である。このようなラジカル発生剤は前述する赤外線吸収剤と併用することで、赤外線レーザーを照射した際に赤外線吸収剤が発熱し、その熱によりラジカルを発生するものであり、これらの組合せにより記録が可能となる。
ラジカル発生剤としては、オニウム塩、トリハロメチル基を有するトリアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、キノンジアジド、オキシムエステル化合物、トリアリールモノアルキルボレート化合物などが挙げられるが、オニウム塩またはオキシムエステル化合物が高感度であり、好ましい。以下に、本発明において重合開始剤として好適に用い得るオニウム塩について説明する。好ましいオニウム塩としては、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジカル重合の開始剤として機能する。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(A・BR>J〜(C)で表されるオニウム塩である。
As the polymerization initiator used in the present invention for initiating and advancing the curing reaction of the addition polymerizable compound, a thermal decomposition type radical generator that decomposes by heat to generate radicals is useful. Such a radical generator is used in combination with the above-described infrared absorber, and when the infrared laser is irradiated, the infrared absorber generates heat and generates radicals by the heat. Recording is possible by combining these. It becomes.
Examples of the radical generator include onium salts, triazine compounds having a trihalomethyl group, peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, quinonediazides, oxime ester compounds, triaryl monoalkylborate compounds, etc. Or an oxime ester compound has high sensitivity and is preferable. Below, the onium salt which can be used suitably as a polymerization initiator in this invention is demonstrated. Preferred onium salts include iodonium salts, diazonium salts, and sulfonium salts. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as radical polymerization initiators. The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formula (A · BR> J to (C).
一般式(A)中、Ar11とAr12は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、スルホン酸イオン、および−SO2NHCO−または−SO2NHSO2−を含む化合物からのアニオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 In general formula (A), Ar 11 and Ar 12 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents when this aryl group has a substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or a group having 12 or less carbon atoms. An aryloxy group is mentioned. Z 11- is from anions from halogen ions, perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and compounds containing —SO 2 NHCO— or —SO 2 NHSO 2 —. Represents a counter ion selected from the group consisting of perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, carboxylate ion, and aryl sulfonate ion.
一般式(B)中、Ar21は、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数12個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (B), Ar 21 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and 12 or less carbon atoms. Examples thereof include an alkylamino group, a dialkylamino group having 12 or less carbon atoms, an arylamino group having 12 or less carbon atoms, or a diarylamino group having 12 or less carbon atoms. Z 21- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
一般式(C)中、R31、R32およびR33は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオンを表す。 In the general formula (C), R 31 , R 32 and R 33 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include a halogen atom, a nitro group, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, or an aryloxy group having 12 or less carbon atoms. Z 31- represents a counter ion having the same meaning as Z 11- .
本発明において、重合開始剤(ラジカル発生剤)として好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、特開2001−133969号、特開2001−343742号、特開2002−006482号、特開2002−148790号の各公報に記載されたもの等を挙げることができる。以下に、本発明において、好適に用いることのできる一般式(A)で示されるオニウム塩([OI−1]〜[OI−10])、一般式(B)で示されるオニウム塩([ON−1]〜[ON−5])、および一般式(C)で示されるオニウム塩([OS−1]〜[OS−11])の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of onium salts that can be suitably used as a polymerization initiator (radical generator) in the present invention include JP-A Nos. 2001-133969, 2001-343742, 2002-006482, and JP-A-2002-006482. The thing etc. which were described in each gazette of 2002-148790 can be mentioned. In the present invention, onium salts represented by general formula (A) ([OI-1] to [OI-10]) and onium salts represented by general formula (B) ([ON] which can be suitably used in the present invention are shown below. -1] to [ON-5]), and specific examples of the onium salts ([OS-1] to [OS-11]) represented by the general formula (C), are not limited thereto. .
トリハロメチル基を有するトリアジン化合物としては、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリフルオロメチルフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(4−ヒドロキシベンゾイルアミノ)フェニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔4−(N,N−ジフェニルアミノ)フェニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジンなどが挙げられる。 Specific examples of triazine compounds having a trihalomethyl group include 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2 , 4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-trifluoromethylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- [4- (4-hydroxybenzoylamino) phenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [4- (N, N-diphenylamino) phenyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyl-propylene) Cistyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2, 4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, Examples include 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine.
トリアリールモノアルキルボレート化合物としては、テトラ−n−ブチルアンモニウム−トリフェニル−n−ブチルボレートが挙げられる。 Examples of the triaryl monoalkyl borate compound include tetra-n-butylammonium-triphenyl-n-butyl borate.
また、以下に、本発明において重合開始剤として好適に用い得るオキシムエステル化合物について説明する。好ましいオキシムエステル化合物としては、下記一般式(D)で表される化合物が挙げられる。 Moreover, the oxime ester compound which can be used suitably as a polymerization initiator in this invention is demonstrated below. Preferred oxime ester compounds include compounds represented by the following general formula (D).
一般式(D)中、Xはカルボニル基、スルホン基、スルホキシド基を表し、Yは炭素数1〜12の環状または鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、複素環基であり、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物であり、複素環とは窒素原子、硫黄原子、酸素原子を環構造に少なくとも1つ有する芳香族化合物であり、例えば、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェノン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等の化合物が挙げられる。これらYで表される置換基は、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基、またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。 In general formula (D), X represents a carbonyl group, a sulfone group, or a sulfoxide group, and Y represents a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. An aryl group is an aromatic hydrocarbon compound such as a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, and a heterocyclic ring is a nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom For example, a pyrrole group, a furan group, a thiophene group, a selenophenone group, a pyrazole group, an imidazole group, a triazole group, a tetrazole group, an oxazole group, a thiazole group, an indole group, Benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group Pyrimidine group, a pyrazine group, a triazine group, a quinoline group, a carbazole group, an acridine group, a phenoxazine, and a compound such as phenothiazine. These substituents represented by Y are halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, aldehyde group, alkyl group, thiol group, aryl group or alkenyl group, alkynyl group, ether group, ester group, urea Group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane It can be substituted by a compound containing a group, an alkyl group, a thiol group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group, or a carbonyl ether group.
一般式(D)におけるZは、Yと同義またはニトリル基、ハロゲン原子、水素原子、またはアミノ基であり、これらのZの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。 Z in the general formula (D) is synonymous with Y or is a nitrile group, a halogen atom, a hydrogen atom, or an amino group, and these Z compounds are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups. , Alkyl group, thiol group, aryl group or alkenyl group, alkynyl group, ether group, ester group, urea group, amino group, amide group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl Substitutable with compounds containing groups, imino groups, halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, carbonyl groups, urethane groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups, phosphoroso groups, phospho groups, carbonyl ether groups It is.
一般式(D)におけるWは、2価の有機基を表し、メチレン基、カルボニル基、スルホキシド基、スルホン基、イミノ基を表し、メチレン基およびイミノ基はアルキル基、アリール基、エステル基、ニトリル基、カルボニルエーテル基、スルホ基、スルホエーテル基、エーテル基等を含有する化合物により置換可能である。nは0または1の整数を表す。 W in the general formula (D) represents a divalent organic group, and represents a methylene group, a carbonyl group, a sulfoxide group, a sulfone group, or an imino group. The methylene group and the imino group are an alkyl group, an aryl group, an ester group, and a nitrile. It can be substituted by a compound containing a group, a carbonyl ether group, a sulfo group, a sulfo ether group, an ether group or the like. n represents an integer of 0 or 1.
一般式(D)におけるVは、炭素数1〜12の環状または鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数6〜18のアリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基であり、アリール基とはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン基、ピレン基、トリフェニレン基等の芳香族炭化水素化合物、ピロール基、フラン基、チオフェン基、セレノフェン基、ピラゾール基、イミダゾール基、トリアゾール基、テトラゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、インドール基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、フェノキサジン、フェノチアジン等のヘテロ原子含有芳香族化合物が挙げられる。これらVの化合物はハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルデヒド基、アルキル基、チオール基、アリール基またはアルケニル基、アルキニル基、エーテル基、エステル基、ウレア基、アミノ基、アミド基、スルフィド基、ジスルフィド基、スルホキシド基、スルホ基、スルホン基、ヒドラジン基、カルボニル基、イミノ基、ハロゲン原子、水酸基、ニトリル基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボニル基、ウレタン基、アルキル基、チオール基、アリール基、ホスホロソ基、ホスホ基、カルボニルエーテル基を含有する化合物により置換可能である。
また、VとZは互いに結合して環を形成してもよい。
V in the general formula (D) is a cyclic or chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an alkoxy group, or an aryloxy group. Aromatic hydrocarbon compounds such as benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene group, pyrene group, triphenylene group, pyrrole group, furan group, thiophene group, selenophene group, pyrazole group, imidazole group, triazole group, tetrazole group, oxazole Group, thiazole group, indole group, benzofuran group, benzimidazole group, benzoxazole group, benzothiazole group, pyridine group, pyrimidine group, pyrazine group, triazine group, quinoline group, carbazole group, acridine group, phenoxazine, phenothiazine, etc. Including heteroatoms Aromatics. These V compounds are halogen atoms, hydroxyl groups, nitrile groups, nitro groups, carboxyl groups, aldehyde groups, alkyl groups, thiol groups, aryl groups or alkenyl groups, alkynyl groups, ether groups, ester groups, urea groups, amino groups, amides. Group, sulfide group, disulfide group, sulfoxide group, sulfo group, sulfone group, hydrazine group, carbonyl group, imino group, halogen atom, hydroxyl group, nitrile group, nitro group, carboxyl group, carbonyl group, urethane group, alkyl group, thiol It can be substituted by a compound containing a group, an aryl group, a phosphoroso group, a phospho group or a carbonyl ether group.
V and Z may be bonded to each other to form a ring.
上記一般式(D)で表されるオキシムエステル化合物としては、感度の面から、Xはカルボニル、Yはアリール基またはベンゾイル基、Z基はアルキル基またはアリール基、Wはカルボニル基であり、Vはアリール基であることが好ましい。さらに好ましくは、Vのアリール基がチオエーテル置換基を有することが好ましい。
なお、上記一般式(D)におけるN−O結合の構造はE体であってもZ体であっても構わない。
As the oxime ester compound represented by the general formula (D), from the viewpoint of sensitivity, X is carbonyl, Y is an aryl group or benzoyl group, Z group is an alkyl group or aryl group, W is a carbonyl group, V Is preferably an aryl group. More preferably, the aryl group of V has a thioether substituent.
Note that the structure of the N—O bond in the general formula (D) may be E-form or Z-form.
その他、本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物は、Progress in Organic Coatings、13(1985)123−150;J.C.S Perkin II(1979)1653−1660;Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)205−232;J.C.S Perkin II(1979)156−162;特開2000−66385号公報;特開2000−80068号公報に記載の化合物である。 Other oxime ester compounds that can be suitably used in the present invention include Progress in Organic Coatings, 13 (1985) 123-150; C. S Perkin II (1979) 1653-1660; Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 205-232; C. S Perkin II (1979) 156-162; JP-A 2000-66385; JP-A 2000-80068.
本発明に好適に用いることのできるオキシムエステル化合物の具体例を以下に示すが、これに限定されるものではない。 Although the specific example of the oxime ester compound which can be used suitably for this invention is shown below, it is not limited to this.
本発明において用いられる重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、さらに360nm以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 The polymerization initiator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less, and more preferably 360 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.
これらの重合開始剤は、感度や、印刷時に発生する非画像部の汚れの観点から、光重合層を構成する全固形分に対し好ましくは0.1〜50質量%、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。 These polymerization initiators are preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5%, based on the total solid content constituting the photopolymerization layer, from the viewpoint of sensitivity and non-image area stains that occur during printing. It can be added at a ratio of ˜30 mass%, particularly preferably 1 to 20 mass%. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
<増感色素>
本発明の平版印刷版原版において、光重合層は増感色素を含有することができる。該増感色素としては、350〜850nmに吸収ピークを有するものが好ましい。このような増感色素としては、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始剤と相互作用する以下に示す染料あるいは顔料が挙げられる。
好ましい分光増感色素または染料としては、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)等が挙げられる。
<Sensitizing dye>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, the photopolymerization layer may contain a sensitizing dye. The sensitizing dye preferably has an absorption peak at 350 to 850 nm. Examples of such sensitizing dyes include spectral sensitizing dyes and the following dyes or pigments that absorb light from a light source and interact with a photopolymerization initiator.
Preferred spectral sensitizing dyes or dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thianes). Carbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), phthalocyanines ( For example, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (for example, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (for example, chlorophyll, chlorophyllin, central gold) Substituted chlorophyll), metal complexes, anthraquinones (e.g., anthraquinone), squaryliums (e.g., squarylium), and the like.
より好ましい分光増感色素または染料の例としては、特公昭37−13034号公報記載のスチリル系色素、特開昭62−143044号公報記載の陽イオン染料、特公昭59−24147号公報記載のキノキサリニウム塩、特開昭64−33104号公報記載の新メチレンブルー化合物、特開昭64−56767号公報記載のアントラキノン類、特開平2−1714号公報記載のベンゾキサンテン染料、特開平2−226148号および特開平2−226149号各公報記載のアクリジン類、特公昭40−28499号公報記載のピリリウム塩類、特公昭46−42363号公報記載のシアニン類、特開平2−63053号公報記載のベンゾフラン色素、特開平2−85858号、特開平2−216154号各公報記載の共役ケトン色素、特開昭57−10605号公報記載の色素。特公平2−30321号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体、特開平1−287105号公報記載のシアニン系色素、特開昭62−31844号、特開昭62−31848号、特開昭62−143043号各公報記載のキサンテン系色素、特公昭59−28325号公報記載のアミノスチリルケトン、特公昭61−962l号公報記載のメロシアニン色素、特開平2−179643号公報記載の色素。特開平2−244050号公報記載のメロシアニン色素、特公昭59−28326号、特開平8−129257号記載のメロシアニン色素、特開平8−334897号記載のベンゾピラン系色素、特開2001−100412号、特開2003−221517号公報に記載のスチリル化合物、等を挙げることができる。 Examples of more preferable spectral sensitizing dyes or dyes include styryl dyes described in JP-B-37-13034, cationic dyes described in JP-A-62-143044, and quinoxalinium described in JP-B-59-24147. Salts, new methylene blue compounds described in JP-A No. 64-33104, anthraquinones described in JP-A No. 64-56767, benzoxanthene dyes described in JP-A No. 2-1714, JP-A No. 2-226148 and special Acridines described in the respective publications of Kaihei 2-226149, pyrylium salts described in JP-B-40-28499, cyanines described in JP-B-46-42363, benzofuran dyes described in JP-A-2-63053, Conjugated ketone dyes described in JP-A-2-85858 and JP-A-2-216154 HirakiAkira 57-10605 described in JP-dye. Azocinnamylidene derivatives described in JP-B-2-30321, cyanine dyes described in JP-A-1-287105, JP-A-62-31844, JP-A-62-31848, JP-A-62-143043 Xanthene dyes described in Japanese Patent Publication Nos. JP-A Nos. 59-28325, merocyanine dyes described in JP-B No. 61-9621, and dyes described in JP-A No. 2-179433. The merocyanine dye described in JP-A-2-244050, the merocyanine dye described in JP-B-59-28326, the merocyanine dye described in JP-A-8-129257, the benzopyran dye described in JP-A-8-334897, and JP-A-2001-1000041 And styryl compounds described in JP-A-2003-221517.
増感色素の添加量範囲は、光重合層を構成する全固形分に対し、0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。 The addition amount range of the sensitizing dye is preferably from 0.1 to 50 mass%, more preferably from 0.5 to 30 mass%, particularly preferably from 1 to 20 mass%, based on the total solid content constituting the photopolymerization layer. It is.
<(C)重合性化合物>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
<(C) Polymerizable compound>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. To be elected. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等がある。 Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。 Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。 Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。 Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。 Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (II) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (II)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (II)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。 Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.
その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。 Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.
これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、光重合層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
付加重合性化合物は、光重合層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components in the photopolymerization layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.
The addition polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, and more preferably 25 to 75% by mass with respect to the nonvolatile component in the photopolymerization layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.
<(D)バインダーポリマー>
本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
<(D) Binder polymer>
As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.
エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 )n CR1 =CR2 R3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 R3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 R3 、−(CH2 )n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 R3 、−(CH2 )n −O−CO−CR1 =CR2 R3 および−(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 H5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 H5 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 および−CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。 In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。 The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.
また、光重合層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/また湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。
Further, from the viewpoint of improving the on-press developability of the unexposed portion of the photopolymerization layer, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.
親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。 Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.
具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。 Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.
本発明では、分子内に−[CH2−(CHR)m−O]n−で表されるエーテル基を含有するバインダーポリマーを用いることもできる。ここで、Rは水素原子またはメチル基を表し、mは1、3または5であり、nは1〜20の整数を表す。nは1〜8の整数が好ましく、1〜7の整数がより好ましく、1〜4の整数が最も好ましい。
具体的には、上記エーテル基を側鎖に有するアクリレートもしくはメタクリレートの単独重合体または共重合体が挙げられる。共重合するモノマーとしては、上記架橋性基を有するモノマーおよび特定共重合体の説明中のその他のモノマーが挙げられる。
このエーテル基の親水性は、良好な機上現像性を得るのに有効である。
In the present invention, a binder polymer containing an ether group represented by — [CH 2 — (CHR) m —O] n — in the molecule can also be used. Here, R represents a hydrogen atom or a methyl group, m is 1, 3 or 5, and n represents an integer of 1 to 20. n is preferably an integer of 1 to 8, more preferably an integer of 1 to 7, and most preferably an integer of 1 to 4.
Specific examples include homopolymers or copolymers of acrylates or methacrylates having the ether group in the side chain. Examples of the monomer to be copolymerized include the monomer having the crosslinkable group and other monomers in the description of the specific copolymer.
The hydrophilicity of this ether group is effective for obtaining good on-press developability.
本発明におけるバインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。 The binder polymer in the present invention preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferably. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
(D)バインダーポリマーの含有量は、光重合層の全固形分に対して、好ましくは5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのがより好ましく、10〜70質量%であるのがさらに好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、(C)重合性化合物と(D)バインダーポリマーは、質量比((C)/(D))で0.5/1〜4/1となる量で用いるのが好ましい。
(D) The content of the binder polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer. Is more preferable. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
The polymerizable compound (C) and the binder polymer (D) are preferably used in an amount of 0.5 / 1 to 4/1 in terms of mass ratio ((C) / (D)).
<マイクロカプセルおよびミクロゲル>
本発明においては、上記の光重合層構成成分(A)〜(D)および後述のその他構成成分を光重合層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型光重合層である。もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて光重合層に含有させるマイクロカプセル型光重合層である。さらに、マイクロカプセル型光重合層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型光重合層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。さらに他の態様として、光重合層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中および/または表面に該構成成分の一部を含有することが出来る。特に重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
より良好な機上現像性を得るためには、光重合層は、マイクロカプセル型もしくはミクロゲル型光重合層であることが好ましい。
<Microcapsules and microgels>
In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-mentioned photopolymerization layer constituent components (A) to (D) and other constituent components described later into the photopolymerization layer. One is a molecular dispersion type photopolymerization layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, as described in, for example, JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the photopolymerization layer. It is a capsule type photopolymerization layer. Further, in the microcapsule type photopolymerization layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule type photopolymerization layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. Still another embodiment includes an embodiment in which the photopolymerization layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel. The microgel may contain a part of the constituent component in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a polymerizable compound on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability.
In order to obtain better on-press developability, the photopolymerization layer is preferably a microcapsule type or microgel type photopolymerization layer.
上記の光重合層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化・BR>キる方法としては、公知の方法が適用できる。 As a method for encapsulating the above photopolymerization layer constituents into microcapsules or microgelling, it is possible to apply known methods.
例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号明細書、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号明細書、特公昭38−19574号公報、同42−446号公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号明細書、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号明細書、同第4087376号明細書、同第4089802号明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号公報、同51−9079号公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号明細書、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号明細書、同第967074号明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。 For example, as a method for producing microcapsules, US Pat. No. 2,800,547, US Pat. No. 2,800,498, a method using coacervation, US Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574, The method by the interfacial polymerization method found in US Pat. No. 42-446, the method by the precipitation of polymer found in US Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, the isocyanate found in US Pat. No. 3,796,669 Method using polyol wall material, method using isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, urea found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802 -Formaldehyde or urea formaldehyde -A method using a resorcinol-based wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc. found in US Pat. No. 4,025,445, Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In-situ method by monomer polymerization, British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407 Spray drying method, British Patent No. 952807, US Pat. No. 9,670,741 Although there is a cooling method, it is not limited to these.
本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。 A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, a compound having a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond capable of introducing a binder polymer may be introduced into the microcapsule wall.
一方、ミクロゲルを調製する方法としては、特公昭38−19574号公報、同42−446号公報に記載されている界面重合による造粒、特開平5−61214号公報に記載されているような非水系分散重合による造粒を利用することが可能である。但し、これらの方法に限定されるものではない。
上記界面重合を利用する方法としては、上述した公知のマイクロカプセル製造方法を応用することができる。
On the other hand, as a method for preparing the microgel, granulation by interfacial polymerization described in JP-B-38-19574 and JP-A-42-446, non-patent document as described in JP-A-5-61214, and the like. Granulation by aqueous dispersion polymerization can be used. However, it is not limited to these methods.
As the method using the interfacial polymerization, the known microcapsule production method described above can be applied.
本発明に用いられる好ましいミクロゲルは、界面重合により造粒され3次元架橋を有するものである。このような観点から、使用する素材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。 Preferred microgels used in the present invention are those granulated by interfacial polymerization and having three-dimensional crosslinking. From such a viewpoint, the material to be used is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable.
上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。 The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
<界面活性剤>
本発明において、光重合層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the photopolymerization layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。 The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.
本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。 The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.
本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。 The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。 The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.
なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。 Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.
さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。 More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.
界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜10質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.
<着色剤>
本発明では、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。
<Colorant>
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass relative to the total solid content of the image recording material.
<焼き出し剤>
本発明の光重合層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the photopolymerization layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.
具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。 Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).
上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。 In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.
酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、光重合層固形分に対して0.01〜15質量%の割合である。 A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or a radical is 0.01 to 15% by mass relative to the solid content of the photopolymerization layer.
<重合禁止剤>
本発明の光重合層には、光重合層の製造中または保存中において(C)ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
In order to prevent unnecessary thermal polymerization of the (C) radical polymerizable compound during the production or storage of the photopolymerizable layer, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the photopolymerized layer of the present invention.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), and N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.
<高級脂肪酸誘導体等>
本発明の光重合層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で光重合層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、光重合層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to the photopolymerization layer of the present invention, and the surface of the photopolymerization layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the photopolymerization layer.
<可塑剤>
本発明の光重合層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、光重合層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
<Plasticizer>
The photopolymerizable layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the photopolymerization layer.
<無機微粒子>
本発明の光重合層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、光重合層中に安定に分散して、光重合層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、光重合層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
<Inorganic fine particles>
The photopolymerization layer of the present invention may contain inorganic fine particles in order to improve the strength of the cured film in the image area and to improve the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the photopolymerization layer, sufficiently retains the film strength of the photopolymerization layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the photopolymerization layer.
<低分子親水性化合物>
本発明の光重合層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。
<Low molecular hydrophilic compound>
The photopolymerizable layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular compound for improving on-press developability. Examples of hydrophilic low molecular weight compounds include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.
<光重合層の形成>
本発明の光重合層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の光重合層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of photopolymerization layer>
The photopolymerizable layer of the present invention is applied by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The photopolymerization layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の光重合層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と光重合層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Moreover, although the photopolymerization layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, it is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film properties of the photopolymerization layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
〔バックコート層〕
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。なかでも、Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4 、Si(OC3H7)4 、Si(OC4H9)4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
[Back coat layer]
After the surface treatment is performed on the support or after the undercoat layer is formed, a back coat can be provided on the back surface of the support, if necessary.
Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4, etc. It is preferable in that it is easily available.
〔保護層〕
本発明の平版印刷版原版には、酸素遮断性付与、光重合層での傷等の発生防止、高照度レーザー露光時に生じるアブレーション防止等のために、必要に応じて光重合層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることができる。
通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる光重合層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が光重合層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、光重合層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に記載されている。
[Protective layer]
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is protected on the photopolymerization layer as necessary to impart oxygen barrier properties, prevent scratches in the photopolymerization layer, prevent ablation that occurs during high-illuminance laser exposure, and the like. A layer (overcoat layer) can be provided.
Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image formation reaction in the photopolymerization layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the photopolymerization layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the property desired for the protective layer is to reduce the permeability of low molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the photopolymerization layer is excellent. And it can be easily removed in an on-press development process after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.
保護層に用いられる材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。 As a material used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified product of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch Examples thereof include water-soluble polymers such as derivatives and gum arabic, and polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required.
上記材料中で比較的有用な素材としては、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、かつ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾールが好ましい。そのなかでも、ポリビニルアルコール(PVA)は、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。 A relatively useful material among the above materials includes water-soluble polymer compounds having excellent crystallinity. Specifically, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are suitable. Among these, water can be applied as a solvent, and at the time of printing Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl imidazole are preferable from the viewpoint that they are easily removed by the fountain solution. Among them, polyvinyl alcohol (PVA) gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability.
保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、さらにはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等も好ましく用いられる。 The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer may be partially substituted with esters, ethers, and acetals as long as they contain a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, etc. at the polymer chain end is also preferably used.
これら変性ポリビニルアルコールは71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲の化合物が好適に挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105,PVA−110,PVA−117,PVA−117H,PVA−120,PVA−124,PVA124H,PVA−CS,PVA−CST,PVA−HC,PVA−203,PVA−204,PVA−205,PVA−210,PVA−217,PVA−220,PVA−224,PVA−217EE,PVA−217E,PVA−220E,PVA−224E,PVA−405,PVA−420,PVA−613,L−8等が挙げられる。また変性ポリビニルアルコールとしては、アニオン変性部位を有すKL−318、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、カチオン変性部位を有すC−318、C−118、CM−318、末端チオール変性部位を有すM−205、M−115、末端スルフィド変性部位を有すMP−103、MP−203、MP−102、MP−202、高級脂肪酸とのエステル変性部位を末端に有すHL−12E、HL−1203、その他反応性シラン変性部位を有すR−1130、R−2105、R−2130等が挙げられる。 Suitable examples of the modified polyvinyl alcohol include compounds having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA- 203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, L-8 etc. are mentioned. Examples of the modified polyvinyl alcohol include KL-318, KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102 having an anion-modified site, C-318, C-118 and CM-318 having a cation-modified site. M-205 and M-115 having terminal thiol modification sites, MP-103, MP-203, MP-102 and MP-202 having terminal sulfide modification sites, and ester modification sites with higher fatty acids HL-12E, HL-1203, and other reactive silane-modified R-1130, R-2105, R-2130, and the like.
また保護層には層状化合物を含有することが好ましい。層状化合物とは薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5 D4 O10(OH,F,O)2
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2 Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
The protective layer preferably contains a layered compound. Is a particle having a thin tabular shape and layered compound, for example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any one of K, Na, and Ca, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.
上記天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3 (AlSi3 O10)F2 、カリ四ケイ素雲母KMg2.5 Si4O10)F2 等の非膨潤性雲母、およびNaテトラシリリックマイカNaMg2.5 (Si4O10)F2 、NaまたはLiテニオライト(Na,Li)Mg2 Li(Si4 O10)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトライト(Na,Li)1/8 Mg2 /5Li1/8 (Si4O10)F2 等の膨潤性雲母等が挙げられる。さらに合成スメクタイトも有用である。 Examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. Synthetic mica includes non-swellable mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 ( Si 4 O 10) F 2, Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10) F 2, montmorillonite based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 /5 Li Examples thereof include swelling mica such as 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . Synthetic smectites are also useful.
上記の層状化合物のなかでも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi+ 、Na+ 、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩およびスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Of the above layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic layered compound, is particularly useful. That is, swellable clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, and metal atom substitution in the lattice is other than Significantly greater than viscous minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and in order to compensate for this, the layers such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts are used. Adsorbs organic cation cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have this tendency.
層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。
層状化合物の粒子径は、その平均径が1〜20μm、好ましくは1〜10μm、特に好ましくは2〜5μmである。粒子径が1μmよりも小さいと酸素や水分の透過の抑制が不十分であり、効果を十分に発揮できない。また20μmよりも大きいと塗布液中での分散安定性が不十分であり、安定的な塗布を行うことができない問題が生じる。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。
このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。
As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the plane size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Therefore, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.
The average particle diameter of the layered compound is 1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm, particularly preferably 2 to 5 μm. When the particle diameter is smaller than 1 μm, the suppression of permeation of oxygen and moisture is insufficient and the effect cannot be exhibited sufficiently. On the other hand, if it is larger than 20 μm, the dispersion stability in the coating solution is insufficient, resulting in a problem that stable coating cannot be performed. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.
When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.
保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質の層状化合物の合計の量が上記の質量比であることが好ましい。 It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.
保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を添加することができる。これら活性剤の添加量は(共)重合体に対して0.1〜100質量%添加することができる。 As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers can be added. The addition amount of these activators can be added in an amount of 0.1 to 100% by mass with respect to the (co) polymer.
また、画像部との密着性を良化させるため、例えば、特開昭49−70702号公報には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、光重合層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。 In order to improve the adhesion to the image area, for example, JP-A-49-70702 discloses an acrylic emulsion, water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a copolymer or the like and laminating on a photopolymerization layer. Any of these known techniques can be used in the present invention.
さらに、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。 Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.
次に、保護層に用いる層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。 Next, an example of a general dispersion method of the layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable laminar compound mentioned above as a preferred laminar compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.
この保護層塗布液には、塗布性を向上させためのアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤や皮膜の物性改良のため水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、光重合層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。 This protective layer coating solution includes known anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, fluorosurfactants and water-soluble plasticizers for improving the physical properties of the coating. Additives can be added. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, you may add to this coating liquid the well-known additive for improving the adhesiveness with a photopolymerization layer and the temporal stability of a coating liquid.
このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた光重合層の上に塗布し、乾燥することで保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。 The protective layer coating solution thus prepared is applied on the photopolymerization layer provided on the support and dried to form the protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.
保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2 の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2 の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .
〔支持体〕
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。なかでも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
[Support]
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.
アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。 The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.
支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましい。 The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm.
アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および光重合層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。 Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it becomes easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the photopolymerization layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.
アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、アルミニウムの圧延段階において凹凸を設けたロールで凹凸形状を転写する転写法も用いてもかまわない。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).
As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Also, a transfer method in which the uneven shape is transferred with a roll provided with unevenness in the aluminum rolling step may be used.
Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.
粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、さらに、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。 The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
The conditions of anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.
本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでもよいが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、や封孔処理および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理はこれらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。
たとえば封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔でも可能である。
As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, immersion in an aqueous solution containing a micropore enlargement treatment, sealing treatment and a hydrophilic compound described in JP-A-2001-253181 or JP-A-2001-322365 The surface hydrophilization treatment to be performed can be appropriately selected and performed. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known method can be performed.
For example, as the sealing treatment, in addition to the vapor sealing, a single treatment with fluorinated zirconic acid, a treatment with sodium fluoride, or a vapor sealing with addition of lithium chloride is possible.
<封孔処理>
本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。
<Sealing treatment>
The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and hot water. Sealing treatment is preferred. Each will be described below.
<無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理>
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。なかでも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
<Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound>
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Of these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.
水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。 The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.
無機フッ素化合物を含有する水溶液は、さらに、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。 It is preferable that the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.
リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。なかでも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組合せは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。
Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Of these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.
The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.
水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。 The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。
また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なかでも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.
The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.
The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.
<水蒸気による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。
水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。
水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。
また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<Sealing treatment with water vapor>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.
The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.
The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).
Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.
<熱水による封孔処理>
水蒸気による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。
熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。
熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。
また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
<Sealing treatment with hot water>
Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.
The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.
The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.
Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.
<親水化処理>
親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.
本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。なかでも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。 When using a support with insufficient surface hydrophilicity such as a polyester film as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.
また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。 Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、光重合層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。 The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the photopolymerization layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.
〔露光〕
本発明の平版印刷版原版を露光する光源としては、公知のものを制限なく用いることができる。望ましい光源の波長は300nmから1200nmであり、具体的には各種レーザーを光源として用いることが好適であり、なかでも、波長760nm〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザーが好適に用いられる。
露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
また、本発明の平版印刷版原版に対するその他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用できる。
〔exposure〕
As a light source for exposing the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known light source can be used without limitation. The desirable wavelength of the light source is 300 nm to 1200 nm. Specifically, it is preferable to use various lasers as the light source, and among them, a semiconductor laser that emits infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm is preferably used.
The exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
In addition, as other exposure beams for the lithographic printing plate precursor of the present invention, ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps Fluorescent lamps, tungsten lamps, sunlight, etc. can also be used.
〔印刷〕
本発明の平版印刷版原版を用いた平版印刷方法は、特に制限はないが、たとえば本発明の平版印刷版原版を赤外線レーザーなどのレーザーで画像様に露光した後、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する方法が挙げられる。
具体的には、平版印刷版原版をレーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上においてレーザーで露光し、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
〔printing〕
The lithographic printing method using the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited. For example, the lithographic printing plate precursor according to the present invention is imagewise exposed with a laser such as an infrared laser and then undergoes any development processing step. A method of printing by supplying oil-based ink and water-based component without any problem.
Specifically, after a lithographic printing plate precursor is exposed with a laser, it is mounted on a printing machine without passing through a development process, and after printing the lithographic printing plate precursor on a printing machine, a laser is used on the printing machine. And a method of printing without passing through a development processing step.
平版印刷版原版をレーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、光重合層の露光部においては、露光により硬化した光重合層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分および/または油性インキによって、未硬化の光重合層が溶解しまたは分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の光重合層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の光重合層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分および油性インキとしては、通常の平版印刷用の、湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
After the lithographic printing plate precursor is imagewise exposed with a laser, printing is performed by supplying an aqueous component and an oil-based ink without passing through a development processing step such as a wet development processing step. The photopolymerized layer cured by forming an oil-based ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed area, the uncured photopolymerization layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in the area. As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the photopolymerized layer in the exposed area, and printing is started. Here, the aqueous component or oil-based ink may be supplied to the printing plate first, but the oil-based ink is first used in order to prevent the aqueous component from being contaminated by the unexposed photopolymerized layer. It is preferable to supply. As the aqueous component and oil-based ink, dampening water and printing ink for ordinary lithographic printing are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
また、本発明の平版印刷版原版をレーザーで画像様に露光した後、pHが10以下の非アルカリ水溶液を現像液として用いて現像処理を行ってもよい。ここで用いることができる非アルカリ水溶液としては、例えば、水単独または水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、一般的に公知な湿し水と同様組成の水溶液や界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系等)を含有する水溶液が好ましい該現像液のpHは、2〜10が好ましく、より好ましくは3〜9、さらに好ましくは5〜9である。 Further, after the lithographic printing plate precursor of the present invention is imagewise exposed with a laser, a development treatment may be performed using a non-alkaline aqueous solution having a pH of 10 or less as a developer. As the non-alkaline aqueous solution that can be used here, for example, water alone or an aqueous solution containing water as a main component (containing 60% by mass or more of water) is preferable. The aqueous solution containing an aqueous solution or a surfactant (anionic, nonionic, cationic, etc.) is preferred. The pH of the developer is preferably from 2 to 10, more preferably from 3 to 9, and even more preferably from 5 to 9. .
現像液として用いることができる非アルカリ水溶液には、有機酸、無機酸、無機塩などを含有してもよい。
有機酸としては、クエン酸、酢酸、蓚酸、マロン酸、サリチル酸、カプリル酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、レブリン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、フィチン酸、有機ホスホン酸などが挙げられる。有機酸は、そのアルカリ金属塩またはアンモニウム塩の形で用いることもできる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。
The non-alkali aqueous solution that can be used as the developer may contain an organic acid, an inorganic acid, an inorganic salt, or the like.
Examples of organic acids include citric acid, acetic acid, succinic acid, malonic acid, salicylic acid, caprylic acid, tartaric acid, malic acid, lactic acid, levulinic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, phytic acid, and organic phosphonic acid. . The organic acid can also be used in the form of its alkali metal salt or ammonium salt. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.
無機酸および無機塩としては、リン酸、メタリン酸、第一リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、第一リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第一リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム、硝酸マグネシウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸アンモニウム
、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸ニッケルなどが挙げられる。現像液中の含有量は、好ましくは0.01〜5質量%である。
Examples of inorganic acids and inorganic salts include phosphoric acid, metaphosphoric acid, primary ammonium phosphate, secondary ammonium phosphate, primary sodium phosphate, secondary sodium phosphate, primary potassium phosphate, secondary potassium phosphate, Examples include sodium tripolyphosphate, potassium pyrophosphate, sodium hexametaphosphate, magnesium nitrate, sodium nitrate, potassium nitrate, ammonium nitrate, sodium sulfate, potassium sulfate, ammonium sulfate, sodium sulfite, ammonium sulfite, sodium hydrogen sulfate, nickel sulfate and the like. The content in the developer is preferably 0.01 to 5% by mass.
本発明で使用する現像液に用いることができるアニオン系界面活性剤としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホコハク酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム類、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ヒマシ油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分ケン化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらのなかでもジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類およびアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。 Examples of the anionic surfactant that can be used in the developer used in the present invention include fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, Branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamides Sodium salts, petroleum sulfonates, sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfates Ester salt, fatty acid monoglyceride sulfate ester, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate Examples thereof include ester salts, partially saponified products of styrene-maleic anhydride copolymer, partially saponified products of olefin-maleic anhydride copolymer, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Of these, dialkylsulfosuccinates, alkylsulfate esters and alkylnaphthalenesulfonates are particularly preferably used.
本発明で使用する現像液に用いることができるカチオン系界面活性剤としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。 The cationic surfactant that can be used in the developer used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
本発明で使用する現像液に用いることができるノニオン系界面活性剤としては、ポリエチレングリコール型の高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー等や、多価アルコール型のグリセロールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等が挙げられる。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いてもよい。本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
Nonionic surfactants that can be used in the developer used in the present invention include polyethylene glycol type higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide Adducts, higher alkylamine ethylene oxide adducts, fatty acid amide ethylene oxide adducts, fat and oil ethylene oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymers, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) Block copolymer, fatty acid ester of polyhydric alcohol glycerol, fatty acid ester of pentaerythritol, Bitoru and fatty acid esters of sorbitan, fatty acid esters of sucrose, alkyl ethers of polyhydric alcohols, fatty acid amides of alkanolamines.
These nonionic surfactants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, ethylene oxide adduct of sorbitol and / or sorbitan fatty acid ester, polypropylene glycol ethylene oxide adduct, dimethylsiloxane-ethylene oxide block copolymer, dimethylsiloxane- (propylene oxide-ethylene oxide) block copolymer, polyhydric alcohol Fatty acid esters are more preferred.
また、水に対する安定な溶解性あるいは混濁性の観点から、本発明の現像液に使用するノニオン系界面活性剤としては、HLB(Hydorophile−Lipophile Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。
さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
Further, from the viewpoint of stable solubility or turbidity in water, the nonionic surfactant used in the developer of the present invention preferably has an HLB (Hydrophile-Lipophile Balance) value of 6 or more. More preferably.
Furthermore, the ratio of the nonionic surfactant contained in the developer is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.
Also, acetylene glycol-based and acetylene alcohol-based oxyethylene adducts, fluorine-based and silicon-based surfactants can be used in the same manner.
As the surfactant used in the developer of the present invention, a nonionic surfactant is particularly suitable from the viewpoint of foam suppression.
また、本発明で使用する現像液には、有機溶剤を含有してもよい。ここで含有可能な有機溶剤としては、例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、"アイソパーE、H、G"(エッソ化学(株)製)あるいはガソリン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、あるいはハロゲン化炭化水素(メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、トリクレン、モノクロルベンゼン等)や、下記の極性溶剤が挙げられる。
極性溶剤としては、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、メチルフェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチルアミルアルコール等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、エチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸ブチル、エチレングリコールモノブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート、レブリン酸ブチル等)、その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルホスフェート、N−フェニルエタノールアミン、N−フェニルジエタノールアミン等)、が挙げられる。
The developer used in the present invention may contain an organic solvent. Examples of the organic solvent that can be contained here include aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isopar E, H, G” (produced by Esso Chemical Co., Ltd.) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons, and the like. (Toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (methylene dichloride, ethylene dichloride, trichlene, monochlorobenzene, etc.) and the following polar solvents.
Examples of polar solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono Ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, methylphenyl carbinol, n-amyl alcohol, methyl amyl Alcoa Etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, ethyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), esters (ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, benzyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, ethylene glycol monobutyl) Acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, butyl levulinate, etc.) and others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, N-phenylethanolamine, N-phenyldiethanolamine, etc.).
また、上記有機溶剤が水に不溶な場合は、界面活性剤等を用いて水に可溶化して使用することも可能である。現像液に、有機溶剤を含有する場合は、安全性、引火性の観点から、溶剤の濃度は40質量%未満が望ましい。 When the organic solvent is insoluble in water, it can be used after being solubilized in water using a surfactant or the like. When the developer contains an organic solvent, the concentration of the solvent is preferably less than 40% by mass from the viewpoint of safety and flammability.
また、本発明に用いられる現像液には、水溶性高分子化合物として、大豆多糖類、変性澱粉、アラビアガム、デキストリン、繊維素誘導体(例えばカルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース等)およびその変性体、プルラン、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミドおよびアクリルアミド共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体などを含有することができる。 In the developer used in the present invention, as a water-soluble polymer compound, soybean polysaccharide, modified starch, gum arabic, dextrin, fiber derivative (for example, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, etc.) and modified products thereof, Pullulan, polyvinyl alcohol and its derivatives, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide and acrylamide copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, etc. Can be contained.
上記大豆多糖類は、公知のものが使用でき、例えば市販品として商品名ソヤファイブ(不二製油(株)製)があり、各種グレードのものを使用することができる。好ましく使用できるものは、10質量%水溶液の粘度が10〜100mPa/secの範囲にあるものである。 A well-known thing can be used for the said soybean polysaccharide, for example, there exists a brand name Soya Five (made by Fuji Oil Co., Ltd.) as a commercial item, and the thing of various grades can be used. What can be preferably used is one in which the viscosity of a 10% by mass aqueous solution is in the range of 10 to 100 mPa / sec.
上記変性澱粉も、公知のものが使用でき、トウモロコシ、じゃがいも、タピオカ、米、小麦等の澱粉を酸または酵素等で1分子当たりグルコース残基数5〜30の範囲で分解し、さらにアルカリ中でオキシプロピレンを付加する方法等で作ることができる。
水溶性高分子化合物は2種以上を併用することもできる。水溶性高分子化合物の現像液中における含有量は、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%である。
As the modified starch, known ones can be used, and starch such as corn, potato, tapioca, rice and wheat is decomposed with acid or enzyme in the range of 5 to 30 glucose residues per molecule, and further in an alkali. It can be made by a method of adding oxypropylene or the like.
Two or more water-soluble polymer compounds can be used in combination. The content of the water-soluble polymer compound in the developer is preferably from 0.1 to 20% by mass, and more preferably from 0.5 to 10% by mass.
本発明に用いられる現像液には上記の他に、防腐剤、キレート化合物、消泡剤などを含有することができる。 In addition to the above, the developer used in the present invention may contain a preservative, a chelate compound, an antifoaming agent and the like.
防腐剤としては、フェノールまたはその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンズトリアゾール誘導体、アミジングアニジン誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン、グアニジン等の誘導体、ダイアジン、トリアゾール誘導体、オキサゾール、オキサジン誘導体、ニトロブロモアルコール系の2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3ジオール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−プロパノール等が好ましく使用できる。 Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benzisothiazolin-3-one, benztriazole derivatives, amiding anidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, Derivatives such as quinoline and guanidine, diazine, triazole derivatives, oxazole, oxazine derivatives, nitrobromoalcohol-based 2-bromo-2-nitropropane-1,3diol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-propanol and the like can be preferably used.
キレート化合物としては、例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。記キレート剤のナトリウム塩、カリウム塩の代りに有機アミンの塩も有効である。 Examples of the chelate compound include ethylenediaminetetraacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; diethylenetriaminepentaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof; triethylenetetraminehexaacetic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. An organic amine salt is also effective in place of the sodium salt and potassium salt of the chelating agent.
消泡剤としては一般的なシリコン系の自己乳化タイプ、乳化タイプ、ノニオン系界面活性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。シリコン消泡剤が好ましい。その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。 As the antifoaming agent, a general silicon-based self-emulsifying type, emulsifying type, or nonionic surfactant having a HLB of 5 or less can be used. Silicon antifoaming agents are preferred. Among them, emulsification dispersion type and solubilization can be used.
本発明における非アルカリ水溶液による現像処理は、現像液の供給手段および擦り部材を備えた自動処理機により好適に実施することができる。自動処理機としては、例えば、画像記録後の平版印刷版原版を搬送しながら擦り処理を行う、特開平2−220061号、特開昭60−59351号各公報に記載の自動処理機や、米国特許第5148746号、米国特許第5568768号、英国特許第2297719号の各明細書に記載のシリンダー上にセットされた画像記録後の平版印刷版原版を、シリンダーを回転させながら擦り処理を行う自動処理機等が挙げられる。なかでも、擦り部材として、回転ブラシロールを用いる自動処理機が特に好ましい。なお、本発明において、擦り処理後の平版印刷版を、引き続いて、水洗、乾燥処理、不感脂化処理することも任意に可能である。
上記現像液の温度は、任意の温度で使用できるが、好ましくは10℃〜50℃である。
The development processing with a non-alkaline aqueous solution in the present invention can be preferably carried out by an automatic processor equipped with a developer supply means and a rubbing member. As the automatic processor, for example, an automatic processor described in JP-A-2-220061 and JP-A-60-59351, which performs rubbing while conveying a lithographic printing plate precursor after image recording, Automatic processing for rubbing the lithographic printing plate precursor after image recording set on the cylinder described in the specifications of Patent No. 5148746, US Pat. No. 5,568,768 and British Patent No. 2297719, while rotating the cylinder Machine. Among these, an automatic processor using a rotating brush roll as the rubbing member is particularly preferable. In the present invention, the lithographic printing plate after the rubbing treatment can be optionally washed with water, dried and desensitized.
Although the temperature of the developer can be used at any temperature, it is preferably 10 ° C to 50 ° C.
以下、実施例および比較例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention in detail, the present invention is not limited to these.
〔支持体の作製〕
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
(Production of support)
In order to remove rolling oil on the surface of an aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm, a degreasing treatment was performed at 50 ° C. for 30 seconds using a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution, and then the hair diameter was 0.3 mm. The aluminum surface was grained using three bundle-planted nylon brushes and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) having a median diameter of 25 μm and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.
次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し支持体Aとした。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 Next, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. The plate was provided with a direct current anodic oxide coating of 2.5 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolytic solution, then washed with water, dried and supported. Body A. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
〔実施例1〕
下塗り層の形成
上記で作製した支持体上に下記下塗り液(1)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
[Example 1]
Formation of Undercoat Layer The following undercoat liquid (1) was bar-coated on the support prepared above, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 .
下塗り液(1)
・特定共重合体(1)(質量平均分子量4万)(表1記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (1)
Specific copolymer (1) (mass average molecular weight 40,000) (described in Table 1) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記下塗り層が形成された支持体上に、下記組成の光重合層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の光重合層を形成して平版印刷版原版を得た。引き続き、下記組成の保護層塗布液(1)を前記光重合層上にバー塗布し、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成することで平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer After coating the photopolymerization layer coating solution (1) having the following composition on the support on which the undercoat layer was formed, it was oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a 1.0 g / m 2 photopolymerization layer. Subsequently, a protective layer coating solution (1) having the following composition is bar-coated on the photopolymerized layer and oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2. A lithographic printing plate precursor was obtained.
光重合層塗布液(1)は下記感光液(1)およびマイクロカプセル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。 The photopolymerization layer coating solution (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microcapsule solution (1) immediately before coating.
感光液(1)
・バインダーポリマー(1) 0.162g
・重合開始剤(1) 0.100g
・赤外線吸収剤(1) 0.020g
・重合性化合物、アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 0.385g
・フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
マイクロカプセル液(1)
・下記の通り合成したマイクロカプセル(1) 2.640g
・水 2.425g
Photosensitive solution (1)
-Binder polymer (1) 0.162g
・ Polymerization initiator (1) 0.100 g
・ Infrared absorber (1) 0.020 g
Polymerizable compound, Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) 0.385 g
・ Fluorosurfactant (1) 0.044g
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g
Microcapsule liquid (1)
・ Microcapsule synthesized as follows (1) 2.640 g
・ Water 2.425g
保護層塗布液(1)
・下記無機粒子分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコールPVA105 0.06g
((株)クラレ製、ケン化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドンK30 0.01g
(東京化成工業(株)製、分子量Mw=4万)
・ビニルピロリドンと酢酸ビニルの共重合体 0.01g
LUVITEC VA64W
(ISP社製、共重合比=6/4)
・ノニオン系界面活性剤エマレックス710 0.01g
(日本エマルジョン(株)製)
・イオン交換水 6.0g
Protective layer coating solution (1)
-1.5g of the following inorganic particle dispersion (1)
・ Polyvinyl alcohol PVA105 0.06g
(Kuraray Co., Ltd., degree of saponification 98.5 mol%, degree of polymerization 500)
・ Polyvinylpyrrolidone K30 0.01g
(Made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight Mw = 40,000)
・ Copolymer of vinylpyrrolidone and vinyl acetate 0.01g
LUVITEC VA64W
(Manufactured by ISP, copolymerization ratio = 6/4)
・ Nonionic surfactant Emarex 710 0.01g
(Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Ion-exchanged water 6.0g
マイクロカプセル(1)の合成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75質量%酢酸エチル溶液)10g、アロニックスM−215(東亞合成(株)製)6.00g、パイオニンA−41C(竹本油脂(株)製) 0.12gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で2時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
Synthesis of microcapsule (1) As an oil phase component, 10 g of trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75 mass% ethyl acetate solution), Aronix M-215 ( Toagosei Co., Ltd.) 6.00 g and Pionein A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.12 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 2 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.
無機粒子分散液(1)の調製
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散無機粒子のアスペクト比は100以上であった。
Preparation of inorganic particle dispersion (1) 6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and the average particle size (laser scattering method) was determined using a homogenizer. Disperse until 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed inorganic particles was 100 or more.
〔実施例2〜5〕
下塗り液(1)の特定共重合体を表1記載の特定共重合体に代えた以外は実施例1と同様の方法で下塗り層を形成し、さらにその上に実施例1と同様の光重合層および保護層を形成することで平版印刷版原版を得た。
〔実施例6〕
実施例1における下塗り液(1)の特定共重合体を表1記載の特定共重合体に代え、さらにマイクロカプセル液(1)の代わりに下記ミクロゲル液(1)を用いた他は、実施例1と同様にして平版印刷版原版を作製した。
[Examples 2 to 5]
An undercoat layer is formed in the same manner as in Example 1 except that the specific copolymer in the undercoat liquid (1) is replaced with the specific copolymer described in Table 1, and further the photopolymerization as in Example 1 is performed thereon. A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a layer and a protective layer.
Example 6
The specific copolymer of the undercoat liquid (1) in Example 1 was replaced with the specific copolymer shown in Table 1, and the following microgel liquid (1) was used instead of the microcapsule liquid (1). A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in 1.
ミクロゲル液(1)
・下記の通り合成したミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
Microgel solution (1)
-Microgel (1) synthesized as follows: 2.640 g
・ Distilled water 2.425g
<ミクロゲル(1)の合成>
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15gおよびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
<Synthesis of Microgel (1)>
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g and 0.1 g of Piionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microgel solution thus obtained was diluted with distilled water so as to be 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.
〔実施例7〜10〕
実施例6における下塗り液(1)の特定共重合体を表1記載の特定共重合体に代えた以外は実施例6と同様にして平版印刷版原版を作製した。表1で、Noは例示化合物に付した番号を示し、構造式欄における繰り返し単位に付した数字は共重合比を示す。
[Examples 7 to 10]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 6 except that the specific copolymer of the undercoat liquid (1) in Example 6 was replaced with the specific copolymer shown in Table 1. In Table 1, No shows the number attached | subjected to the exemplary compound, and the number attached | subjected to the repeating unit in a structural formula column shows a copolymerization ratio.
〔比較例1〕
特定共重合体(1)の代わりに下記共重合体(質量平均分子量4万)を用いたこと以外は実施例1と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例1とした。
[Comparative Example 1]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the following copolymer (mass average molecular weight 40,000) was used instead of the specific copolymer (1), and Comparative Example 1 was obtained.
〔露光および印刷〕
上記実施例および比較例で得られた各平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像には細線チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。光重合層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測したところ、いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、100枚以内で非画像部の汚れのない印刷物が得られた。
[Exposure and printing]
Each lithographic printing plate precursor obtained in the above Examples and Comparative Examples was exposed with a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The exposure image includes a thin line chart. The obtained exposed original plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Dampening water (EU-3 (Effect manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) After supplying dampening water and ink, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour. When the on-press development of the unexposed portion of the photopolymerization layer was completed on the printing press and the number of printing paper required until the ink was not transferred to the printing paper was measured as on-press developability, Even when the planographic printing plate precursor was used, a printed matter having no stain on the non-image area was obtained within 100 sheets.
〔平版印刷版原版の評価〕
上記で得られた平版印刷版の汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性および耐刷性を以下の方法で評価した。結果は表2に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate obtained above was evaluated for stain resistance, neglected stain resistance, fine line reproducibility and printing durability by the following methods. The results are shown in Table 2.
(1)汚れ防止性
1万枚印刷した後における非画像部のブランケットの汚れを目視で評価した。汚れ防止性をブランケットの汚れの程度が少ない方から、◎、○、△、×の4段階で評価した。
(1) Anti-stain property The non-image part of the blanket was visually inspected after 10,000 sheets were printed. The anti-smudge property was evaluated in four grades: ◎, ○, Δ, and × from the side with a low level of dirt on the blanket.
(2)放置汚れ防止性
上記汚れ防止性の評価において1万枚印刷したのち印刷を停止し、版を印刷機上に1時間放置し、その後、再度印刷を開始したあとの非画像部のブランケットの汚れを目視で評価した。放置汚れ防止性をブランケットの汚れの程度が少ない方から、◎、○、△、×の4段階で評価した。結果を表1に示す
(2) Leaving stain prevention The blanket of the non-image area after printing 10,000 sheets in the above anti-staining property evaluation, stopping printing, leaving the plate on the printing machine for 1 hour, and then starting printing again The soil was visually evaluated. The ability to prevent neglected stains was evaluated in four grades, ◎, ○, Δ, and ×, starting from the one with less dirt on the blanket. The results are shown in Table 1.
(3)細線再現性
露光および印刷の項に記載したように、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100および200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。
(3) Fine line reproducibility As described in the section of exposure and printing, after 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed material having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. . A thin line chart (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100 and 200 μm fine line exposed charts) of a total of 600 printed sheets with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated based on the fine line width that was observed and reproduced with ink without interruption.
(4)耐刷性
上述したように、細線再現性の評価において印刷を行った後、さらに印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に光重合層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。
(4) Printing durability As described above, after printing was performed in the evaluation of fine line reproducibility, printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the photopolymerization layer was gradually worn out and the ink receptivity was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing.
上記の結果は、本発明による赤外線レーザー感光性平版印刷版原版は、汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性および耐刷性のいずれの項目においても良好な結果を示しているのに対して、比較例で示される従来の平版印刷版原版は、細線再現性および耐刷性が不十分な結果であり、本発明が有効であることを明らかに示している。 The above results show that the infrared laser-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention shows good results in any of the items of anti-stain properties, anti-stain properties, thin line reproducibility and printing durability. The conventional lithographic printing plate precursor shown in the comparative example is a result of insufficient thin line reproducibility and printing durability, clearly showing that the present invention is effective.
〔実施例11〜15〕
下塗り層の形成
上記のように作製した支持体上に下記下塗り液(2)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
[Examples 11 to 15]
Formation of undercoat layer The following undercoat liquid (2) was bar-coated on the support prepared as described above, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 . .
下塗り液(2)
・特定共重合体(表3記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (2)
Specific copolymer (described in Table 3) 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記の下塗り層上に、下記組成の光重合層塗布液(2)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の光重合層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(2)を乾燥塗布量が0.5g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer After the bar coating of the photopolymerization layer coating solution (2) having the following composition was applied on the above undercoat layer, it was oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount was 1.0 g / m. 2 is formed, and a protective layer coating solution (2) having the following composition is applied thereon so that the dry coating amount is 0.5 g / m 2, and is dried at 120 ° C. for 1 minute to be a lithographic plate A printing plate master was obtained.
光重合層塗布液(2)
・下記の重合開始剤(2) 0.2g
・下記の増感色素(1) 0.5g
・バインダーポリマー(1) 6.0g
・重合性化合物、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート 12.4g
(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩0.1g
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・フッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
Photopolymerization layer coating solution (2)
・ The following polymerization initiator (2) 0.2 g
・ The following sensitizing dye (1) 0.5 g
-Binder polymer (1) 6.0g
・ Polymerizable compound, isocyanuric acid EO-modified triacrylate 12.4 g
(M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
-Thermal polymerization inhibitor, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g
・ Tetraethylammonium chloride 0.1g
・ Fluorine-based surfactant (1) 0.1g
・ Methyl ethyl ketone 70.0g
保護層塗布液(2)
・ポリビニルアルコール(ケン化度95モル%、重合度800) 40g
・ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 5g
・水 950g
Protective layer coating solution (2)
Polyvinyl alcohol (saponification degree 95 mol%, polymerization degree 800) 40 g
・ Polyvinylpyrrolidone (molecular weight 50,000) 5g
・ Poly (vinyl pyrrolidone / vinyl acetate (1/1)) molecular weight of 75 g
・ 950g of water
〔比較例2〕
特定共重合体(3)の代わりに下記共重合体(質量平均分子量3万)を用いたこと以外は、実施例11と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例2とした。
[Comparative Example 2]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 11 except that the following copolymer (mass average molecular weight 30,000) was used instead of the specific copolymer (3), and Comparative Example 2 was obtained.
〔実施例16〜20〕
下塗り層の形成
上記のように作製した支持体上に下記下塗り液(3)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
[Examples 16 to 20]
Formation of undercoat layer The following undercoat liquid (3) was bar-coated on the support prepared as described above, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 . .
下塗り液(3)
・特定共重合体(表3記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (3)
Specific copolymer (described in Table 3) 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記光重合層塗布液(2)を下記組成の光重合層塗布液(3)に変更した以外は、平版印刷版原版11〜15の作製と同様にして、平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer A lithographic printing plate is produced in the same manner as the production of the lithographic printing plate precursors 11 to 15 except that the photopolymerization layer coating solution (2) is changed to a photopolymerization layer coating solution (3) having the following composition. A printing plate master was obtained.
光重合層塗布液(3)
・下記の重合開始剤(3) 0.2g
・バインダーポリマー(2) 3.0g
・重合性化合物、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート 6.2g
(東亜合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合開始剤、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩 0.1g
・フッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・マイクロカプセル(1)(固形分換算で) 10.0g
・メチルエチルケトン 35.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 35.0g
・水 10.0g
Photopolymerization layer coating solution (3)
・ The following polymerization initiator (3) 0.2 g
-Binder polymer (2) 3.0g
・ Polymerizable compound, isocyanuric acid EO-modified triacrylate 6.2 g
(M-315 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
-Thermal polymerization initiator, N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g
・ Fluorine-based surfactant (1) 0.1g
・ Microcapsule (1) (in terms of solid content) 10.0 g
・ Methyl ethyl ketone 35.0g
・ 35.0 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Water 10.0g
〔比較例3〕
下塗り層に比較例1で用いた共重合体を用いたこと以外は、実施例16と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例3とした。
[Comparative Example 3]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 16 except that the copolymer used in Comparative Example 1 was used for the undercoat layer, and Comparative Example 3 was obtained.
〔露光および印刷〕
平版印刷版原版を375nmまたは405nm半導体レーザーにて、出力2mW、周長900mmの外面ドラム、ドラム回転数800rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。1画素描画時間は表4に示したとおりである。
[Exposure and printing]
The planographic printing plate precursor was exposed with a 375 nm or 405 nm semiconductor laser under the conditions of an output of 2 mW, an outer drum with a peripheral length of 900 mm, a drum rotation speed of 800 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The one pixel drawing time is as shown in Table 4.
露光済み平版印刷版原版は現像処理することなく、各々、ハイデルベルグ社製SOR−Mのシリンダーに取り付け、湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、湿し水とインキを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。印刷機上で光重合層の未露光部の除去が完了し、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られた。 The exposed lithographic printing plate precursors are each mounted on a SOR-M cylinder manufactured by Heidelberg, without developing, and dampening water (EU-3 (Etchi solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), and after supplying dampening water and ink, printing speed of 6000 sheets per hour Printed 100 sheets. Removal of the unexposed portion of the photopolymerized layer on the printing machine was completed, and a printed matter free from ink stains in the non-image portion was obtained.
〔平版印刷版原版の評価〕
汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性および耐刷性について、実施例1〜10と同様の方法で評価を行った。感度および白灯安全性は、下記のようにして評価した。評価結果は表4に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
The anti-stain property, anti-stain property property, fine line reproducibility and printing durability were evaluated in the same manner as in Examples 1-10. Sensitivity and white light safety were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 4.
(5)感度
100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。
(5) Sensitivity After printing 100 sheets and confirming that a printed matter without ink stains was obtained in the non-image area, 500 sheets were continuously printed. In the total 600th printed matter, the exposure amount with no unevenness in the ink density in the image area was measured as sensitivity.
(6)白灯安全性
露光されていない平版印刷版原版を、白色蛍光灯下に置き、平版印刷版原版の表面で400luxの光量になる条件下に設置し、曝光を行った。これら白灯下に曝した平版印刷版原版を、上記同様、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付け、100枚の印刷を行った後、インキ汚れが生じない白色蛍光灯下での曝光時間を計測した。この時間が長いほど、白灯安全性が良好であるといえる。
(6) White light safety An unexposed lithographic printing plate precursor was placed under a white fluorescent lamp and placed under conditions where the amount of light was 400 lux on the surface of the lithographic printing plate precursor, and was exposed. The lithographic printing plate precursor exposed under the white light is mounted on the cylinder of the printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg as described above, and after printing 100 sheets, exposure under a white fluorescent light that does not cause ink smearing is performed. Time was measured. The longer this time, the better the white light safety.
上記の結果から、比較例で示される従来の平版印刷版原版が、汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性または耐刷性のいずれかの項目で不十分な結果であるのに対して、本発明による紫外線レーザー感光性平版印刷版原版は、それら全ての項目において優れており、また、感度および白灯安全性も良好に保持されていることが、明らかである。 From the above results, the conventional lithographic printing plate precursor shown in the comparative example is inadequate in any of the items of anti-stain properties, anti-stain properties, thin line reproducibility or printing durability. It is apparent that the ultraviolet laser-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention is excellent in all of these items, and also has good sensitivity and white light safety.
〔実施例21〕
下塗り層の形成
前記のように作製した支持体上に下記下塗り液(4)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
Example 21
Formation of undercoat layer The following undercoat liquid (4) was applied onto the support prepared as described above by bar and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 . .
下塗り液(4)
・特定共重合体(21)(質量平均分子量4万)(表5記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (4)
Specific copolymer (21) (mass average molecular weight 40,000) (described in Table 5) 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記下塗り層上に、実施例1と同様にして光重合層および保護層を形成することで平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a photopolymerization layer and a protective layer on the undercoat layer in the same manner as in Example 1.
〔実施例22〜25〕
下塗り液(4)の特定共重合体を表5記載の特定共重合体に代えた以外は実施例21と同様の方法で下塗り層を形成し、さらにその上に実施例21と同様にして光重合層および保護層を形成することで平版印刷版原版を得た。
[Examples 22 to 25]
An undercoat layer was formed in the same manner as in Example 21 except that the specific copolymer in the undercoat liquid (4) was replaced with the specific copolymers listed in Table 5, and light was applied in the same manner as in Example 21. A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a polymerization layer and a protective layer.
〔実施例26〕
実施例21における下塗り液(4)の特定共重合体を表5記載の特定共重合体に代えた以外は、実施例21と同様にして平版印刷版原版を作製した。
Example 26
A lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 21, except that the specific copolymer of the undercoat liquid (4) in Example 21 was replaced with the specific copolymer described in Table 5.
〔実施例27〜30〕
実施例26における下塗り液(4)の特定共重合体を表5記載の特定共重合体に代えた以外は実施例21と同様にして平版印刷版原版を作製した。
[Examples 27 to 30]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 21 except that the specific copolymer of the undercoat liquid (4) in Example 26 was replaced with the specific copolymer described in Table 5.
〔比較例4〕
特定共重合体(21)の代わりに下記共重合体(質量平均分子量4万)を用いたこと以外は、実施例21と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例4とした。
[Comparative Example 4]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 21 except that the following copolymer (mass average molecular weight 40,000) was used in place of the specific copolymer (21).
〔露光および印刷〕
上記のようにして得られた各平版印刷版原版を実施例1と同様にして、Creo社製Trendsetter3244VXにて、露光し、得られた露光済み原版を用い、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mにて印刷を100枚行った。実施例1と同様に機上現像性を計測したところ、いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、100枚以内で非画像部の汚れのない印刷物が得られた。
[Exposure and printing]
Each lithographic printing plate precursor obtained as described above was exposed in a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo in the same manner as in Example 1, and the obtained exposed original plate was used in a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg. 100 prints were made. When on-press developability was measured in the same manner as in Example 1, when any lithographic printing plate precursor was used, a printed matter having no non-image area stain was obtained within 100 sheets.
〔平版印刷版原版の評価〕
上記で得られた平版印刷版の汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性および耐刷性を実施例1と同様の方法で評価した。結果は表6に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate obtained above was evaluated for stain resistance, neglected stain resistance, fine line reproducibility and printing durability in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 6.
上記の結果から明らかなように、本発明による赤外線レーザー感光性平版印刷版原版においては、従来の下塗り層を有する比較例に比べて、耐刷性を良好に保持しつつ、汚れ防止性、放置汚れ防止性および細線再現性が改良されている。 As is clear from the above results, the infrared laser-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention has good anti-staining properties and neglectability while maintaining good printing durability as compared with a comparative example having a conventional undercoat layer. Antifouling and fine line reproducibility are improved.
〔実施例31〜35〕
下塗り層の形成
上記のように作製した支持体上に下記下塗り液(5)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
[Examples 31 to 35]
Formation of undercoat layer The following undercoat liquid (5) was bar-coated on the support prepared as described above, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 . .
下塗り液(5)
・特定共重合体(表7記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (5)
Specific copolymer (described in Table 7) 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記の下塗り層上に、実施例11と同様に光重合層および保護層を形成して平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a photopolymerization layer and a protective layer on the undercoat layer in the same manner as in Example 11.
〔比較例5〕
特定共重合体(23)の代わりに下記共重合体(質量平均分子量3万)を用いたこと以外は、実施例31と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例5とした。
[Comparative Example 5]
A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 31 except that the following copolymer (mass average molecular weight 30,000) was used instead of the specific copolymer (23), and Comparative Example 5 was obtained.
〔実施例36〜40〕
下塗り層の形成
上記のように作製した支持体上に下記下塗り液(6)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が10mg/m2の下塗り層を形成した。
[Examples 36 to 40]
Formation of undercoat layer The following undercoat liquid (6) was bar-coated on the support prepared as described above, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 10 mg / m 2 . .
下塗り液(6)
・特定共重合体(表7記載) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Undercoat liquid (6)
Specific copolymer (described in Table 7) 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g
光重合層および保護層の形成
上記の下塗り層上に、実施例16と同様に光重合層および保護層を形成して平版印刷版原版を得た。
Formation of Photopolymerization Layer and Protective Layer A lithographic printing plate precursor was obtained by forming a photopolymerization layer and a protective layer on the undercoat layer in the same manner as in Example 16.
〔比較例6〕
下塗り層に、特定共重合体(33)の代わりに比較例4の共重合体を用いたこと以外は、実施例36と同様の方法で平版印刷版原版を作製し、比較例6とした。
[Comparative Example 6]
A lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 36, except that the copolymer of Comparative Example 4 was used instead of the specific copolymer (33) for the undercoat layer, and Comparative Example 6 was obtained.
〔露光および印刷〕
得られた平版印刷版原版を、実施例16〜20の平版印刷版原版の露光および印刷と同様に375nmまたは405nm半導体レーザーにて露光し、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mにて100枚印刷した。印刷機上で光重合層の未露光部の除去が完了し、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られた。露光における1画素描画時間は表8に示したとおりである。
[Exposure and printing]
The obtained lithographic printing plate precursor was exposed with a 375 nm or 405 nm semiconductor laser in the same manner as in the exposure and printing of the lithographic printing plate precursors of Examples 16 to 20, and 100 sheets were printed by a Heidelberg printing machine SOR-M. . Removal of the unexposed portion of the photopolymerized layer on the printing machine was completed, and a printed matter free from ink stains in the non-image portion was obtained. The one pixel drawing time in exposure is as shown in Table 8.
〔平版印刷版原版の評価〕
汚れ防止性、放置汚れ防止性、細線再現性、耐刷性、感度および白灯安全性について、実施例11〜20の平版印刷版原版の場合と同様の方法で評価を行った。評価結果は表8に示す。
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
The anti-stain property, anti-stain property property, fine line reproducibility, printing durability, sensitivity and white light safety were evaluated in the same manner as in the case of the lithographic printing plate precursors of Examples 11-20. The evaluation results are shown in Table 8.
上記の結果から、本発明による紫外線レーザー感光性平版印刷版原版においては、従来の下塗り層を有する比較例に比べて、耐刷性、感度、白灯安全性を良好に保持しつつ、汚れ防止性、放置汚れ防止性および細線再現性が改良されていることが分かる。 From the above results, in the ultraviolet laser-sensitive lithographic printing plate precursor according to the present invention, it is possible to prevent stains while maintaining good printing durability, sensitivity and white light safety as compared with the comparative example having a conventional undercoat layer. It can be seen that the property, the left-stain prevention property and the fine line reproducibility are improved.
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