JP2007171406A - 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 - Google Patents
平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007171406A JP2007171406A JP2005366885A JP2005366885A JP2007171406A JP 2007171406 A JP2007171406 A JP 2007171406A JP 2005366885 A JP2005366885 A JP 2005366885A JP 2005366885 A JP2005366885 A JP 2005366885A JP 2007171406 A JP2007171406 A JP 2007171406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituent
- lithographic printing
- printing plate
- photosensitive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations
- G03F7/305—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations characterised by the brushing or rubbing means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
【解決手段】(A)350〜450nmに吸収極大を有する特定の増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法およびこの方法に用いる平版印刷版原版。
【選択図】なし
Description
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部となる感光層を残存させ、それ以外の不要な感光層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
この問題を克服する手段として、高感度化すること、すなわち硬化効率の高い反応系で未露光部と露光部の耐水性のディスクリミネーションを向上させることが考えられるが、高感度とする一方で、セーフライト下での取り扱いでカブリを生じないことも望まれる。
本発明はこのような要求に応えるものであり、本発明の課題は、pH2.0〜10.0の水性現像液を用いて現像し、良好な印刷版を提供できる製版方法、および、この方法に用いる高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版を提供することである。
<1>
親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする<1>に記載の平版印刷版の作製方法。
感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする<2>に記載の平版印刷版の作製方法。
(E)連鎖移動剤が、下記一般式(T)で表されるチオール化合物である<3>に記載の平版印刷版の作製方法。
(T)
(D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
感光層成分の一部または全てが、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする<1>〜<5>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
擦り部材が少なくとも2本の回転ブラシロールであることを特徴とする<1>〜<6>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
現像液のpHが3〜8であることを特徴とする<1>〜<7>のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去可能な平版印刷版原版。
(B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする<9>に記載の平版印刷版原版。
感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする<10>に記載の平版印刷版原版。
(E)連鎖移動剤が、下記一般式(T)で表されるチオール化合物である請求項11に記載の平版印刷版原版。
(T)
を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
まず、本発明に用いる平版印刷版原版について説明する。
本発明の感光層は、(A)一般式(I)または(II)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する。
感光層は、必要に応じて、さらにその他の成分を含有することができる。以下、感光層の構成成分について詳細に説明する。
本発明の感光層が含有する350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素は、以下の一般式(I)で表される化合物である。
R1、R2およびR3の少なくとも一つが置換基を有してもよいアルキル基である場合の置換基としては、CN、NO2、NR’2、COOR’およびOR’が挙げられる。R’は水素原子またはアルキル基を表す。
なかでも、一般式(I)の、R1、R2およびR3の少なくとも一つが−NR4R5基であり、R4およびR5が、好ましくは水素原子およびC1〜C6のアルキル基から各々独立に選ばれるものであり、最も好ましいのは、R4=R5=C1〜C6のアルキル基であるオキサゾール化合物が、特に好ましい。
本発明で用いられるオキサゾール化合物は、公知の方法で合成できる。例えば、独国特許出願公開第1120875号明細書、欧州特許出願公開第129059号明細書に記載の方法で、出発物質を変更して合成できる。
例えば、増感色素を2種以上併用することで、感光層を構成する組成物中での相溶性を高めることができる。増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光係数の大きな色素を使用する事により、色素の添加量は比較的少なくできるので、経済的であり、かつ平版印刷版原版に用いた場合、その感光層の膜物性の点からも有利である。該感光層の感光性、解像度や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜選択する。
本発明に使用される重合開始剤としては、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物が挙げられる。なかでも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、オニウム塩、トリハロメチル化合物およびメタロセン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、特にヘキサアリールビイミダゾール系化合物が好ましい。上記の重合開始剤は、2種以上を適宜併用することもできる。
(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Z-はハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフル
オロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびスルホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、カルボキシレートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス[2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル]チタニウム等を挙げることができる。
本発明における感光層中の重合開始剤の使用量は感光層全固形分の質量に対し、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜15質量%である。さらに好ましくは1.0質量%〜10質量%である。
本発明における感光層に用いる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、感光層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述の保護層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
本発明の感光層に使用可能な疎水性バインダーポリマーとしては、非水溶性ポリマーが好ましく用いられる。さらに、本発明に使用可能な疎水性バインダーポリマーは、カルボキシル基、スルホン基、リン酸基などの酸基を実質的に含有しないものが好ましく、バインダーポリマーの酸価(ポリマー1gあたりの酸含率を化学当量数で表したもの)は、0
.3meq/g以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1meq/g以下である。この範囲内で、感光層の膜強度、耐水性および着肉性が向上して、耐刷性の向上が得られる。
すなわち、本発明に使用可能な疎水性バインダーポリマーは、水およびpH10以上の水溶液に対し不溶であることが好ましく、疎水性バインダーポリマーの水およびpH10以上の水溶液に対する溶解度(飽和溶解時のポリマー濃度)が、0.5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは、0.1質量%以下である。なお、上記溶解度の測定温度は、製版現像時の温度であり、ここでは25℃である。
このような疎水性バインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル樹脂から選ばれる高分子が好ましい。なかでも、アクリル樹脂が好ましく、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が好ましい。より具体的には、(メタ)アクリル酸アルキルまたはアラルキルエステルと(メタ)アクリル酸エステルのエステル残基(−COOR)のRに−CH2CH2O−単位または−CH2CH2NH−単位を含む(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体が特に好ましい。上記(メタ)アクリル酸アルキルエステルの好ましいアルキル基は、炭素数1〜5のアルキル基であり、メチル基がより好ましい。好ましい(メタ)アクリル酸アラルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸ベンジルが挙げられる。
バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。
、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
ノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高いことから好ましい。
上記の中でも、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル酸共重合体およびポリウレタンがより好ましい。
疎水性バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
疎水性バインダーポリマーの含有量は、良好な画像部の強度と画像形成性の点で、感光層の全固形分に対して、一般的には5〜90質量%であり、10〜70質量%であるのが好ましく、10〜60質量%であるのがより好ましい。
本発明の感光層には、連鎖移動剤を含有させることが好ましい。連鎖移動剤は感度および保存安定性向上に寄与する。連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成しうる。
なかでも、下記一般式(T)で表されるチオール化合物が特に好適に使用される。連鎖移動剤としてこのチオール化合物を用いることによって、臭気の問題、および感光層から蒸発や他の層への拡散による感度減少を回避し、保存安定性に優れ、さらには高感度で高耐刷の平版印刷版原版が得られる。
本発明においては、共増感剤を用いることができる。共増感剤とは、感光層に添加したときに、感光層の感度をさらに向上させることができる添加剤である。その作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。すなわち、先述の光重合開始系の光吸収により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、過酸化物、酸化剤、還元剤等)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。共増感剤は、大きくは、(a)還元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化されて活性ラジカルを生成しうるもの、(c)活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化合物もS−S解裂による増感が知られる。
α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類、およびN−OHをエステル化したオキシムエステル類をあげることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しうる。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙げることができる。
ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物としては、例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。
これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化された後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しうる。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。
以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定されるものはない。
本発明においては、上記の感光層構成成分および後述のその他の構成成分を感光層に含有させる方法として、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく該構成成分の一部、あるいは全部をマイクロカプセルに内包させて感光層に添加することができる。その場合、各構成成分はマイクロカプセル内および外に、任意の比率で含有させることが可能である。
アルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
本発明の感光層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
本発明において、感光層には、現像性の促進および塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
界面活性剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。
本発明においては、現像性の向上、マイクロカプセルの分散安定性向上などのため、親水性ポリマーを含有させることができる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。
親水性ポリマーの感光層への含有量は、感光層全固形分の20質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましい。
本発明では、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
本発明の感光層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
本発明の感光層には、感光層の製造中または保存中において、ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
本発明の感光層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミ
ドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、感光層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
本発明の感光層は可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。可塑剤の含有量は、感光層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
本発明の感光層は、画像部の硬化皮膜強度向上のために、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、感光層中に安定に分散して、感光層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、感光層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
本発明の感光層は、現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有することができる。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩や、テトラエチルアミン塩酸塩等の有機4級アンモニウム塩等が挙げられる。
本発明の感光層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート
、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の感光層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
本発明の平版印刷版原版には、露光時の重合反応を妨害する酸素の拡散侵入を遮断するため、感光層上に保護層(酸素遮断層)を設けることが好ましい。本発明に用いられる保護層は25℃、1気圧下における酸素透過性Aが1.0≦A≦20(mL/m2・day)であることが好ましい。酸素透過性Aが1.0(mL/m2・day)未満で極端に低い場合は、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。逆に、酸素透過性Aが20(mL/m2・day)を超えて高すぎる場合は感度の低下を招く。酸素透過性Aは、より好ましくは1.5≦A≦12(mL/m2・day)、更に好ましくは2.0≦A≦10.0(mL/m2・day)の範囲である。また、保護層に望まれる特性としては、上記酸素透過性以外に、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望ましい。この様な保護層に関する工夫が従来なされており、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。
ここで無機質の層状化合物とは、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5 D4 O10(OH,F,O)2
〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状な親水性支持体であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。
機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。
電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。
陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温度5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲内で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。
なかでも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。
また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲内で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。
本発明の平版印刷方法に用いられる本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、感光層と支持体との間に下塗り層を設けることができる。下塗り層が断熱層として機能することにより、赤外レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。また、未露光部においては、感光層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
下塗り層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。
最も好ましい下塗り層としては、吸着性基を有するモノマー/親水性基を有するモノマー/架橋性基を有するモノマーを共重合した高分子樹脂が挙げられる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量
が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した
支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−SO3H、−OSO3H、−PO3H2、−OPO3H2、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−および−COCH2COCH3を含む。リン酸基(−OPO3H2、―PO3H2)が特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。
カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。
式(VII)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。式(VII)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCH2CH2)n−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(VII)において、Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。また、Yは、炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではない。吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(VII)または(VIII)で表される代表的なモノマーの例を示す。
エステル残基の具体例としては、−CH2CH=CH2(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C6H5、−CH2CH2OCOCH=CH−C6H5、−CH2CH2NHCOO−CH2CH=CH2、および−CH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2O−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2OCO−CH=CH2が挙げられる。
下塗り用高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドが好適である。
下塗り用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
ミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
支持体に表面処理を施した後または下塗り層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 )4 、Si(OC2 H5 )4 、Si(OC3 H7 )4 、Si(OC4 H9 )4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。
本発明における平版印刷版原版を、350nm〜450nmの光源で画像露光した後、自動現像機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を一括除去し、アルミニウム板支持体表面に画像を形成することができる。
すなわち、保護層および非露光部の感光層を一括除去した後、直ちに印刷機にセットして印刷することができる。
また、このような自動現像機での処理は、機上現像の場合に生ずる保護層/感光層の由来の現像カスへの対応から開放されるという優位性がある。
これらノニオン性界面活系剤は、単独でも、2種以上を混合して用いても良い。本発明においては、ソルビトールおよび/またはソルビタン脂肪酸エステルのエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物、ジメチルシロキサン−エチレンオキサイドブロックコポリマー、ジメチルシロキサン−(プロピレンオキサイド−エチレンオキサイド)ブロックコポリマー、多価アルコールの脂肪酸エステルがより好ましい。
Balance)値が、6以上であることが好ましく、8以上であることがより好ましい。さらに、現像液中に含有するノニオン性界面活性剤の比率は、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
またアセチレングリコール系とアセチレンアルコール系のオキシエチレン付加物、フッ素系、シリコーン系等の界面活性剤も同様に使用することができる。
本発明の現像液に使用する界面活性剤としては、抑泡性の観点から、ノニオン性界面活性剤が特に好適である。
%である。
活性剤のHLBが5以下等の化合物を使用することができる。シリコーン消泡剤が好ましい。
その中で乳化分散型および可溶化等がいずれも使用できる。
また、ブラシ素材としては、プラスチック繊維(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系、ナイロン6.6、ナイロン6.10等のポリアミド系、ポリアクリロニトリル、ポリ(メタ)アクリル酸アルキル等のポリアクリル系、および、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系の合成繊維)を使用することができ、例えば、繊維の毛の直径は、20〜400μm、毛の長さは、5〜30mmのものが好適に使用できる。
さらに、回転ブラシロールの外径は、30〜200mmが好ましく、版面を擦るブラシの先端の周速は、0.1〜5m/secが好ましい。
また、回転ブラシロールは、2本以上の複数本用いることが好ましい。
に、2本以上の回転ブラシロールを使用する場合は、少なくとも1本の回転ブラシロールが、同一方向に回転し、少なくとも1本の回転ブラシロールが、逆方向に回転することが好ましい。これにより、非画像部の感熱層の除去が、さらに確実となる。さらに、回転ブラシロールを、ブラシロールの回転軸方向に揺動させることも効果的である。
望ましい光源の波長は350nmから450nmであり、具体的にはInGaN系半導体レーザーが好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
350nm〜450nmの入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザとして、Arイオンレーザ(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレーザ(356nm、351nm、10mW〜1W)、He−Cdレーザー(441nm、325nm、1mW〜100mW)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)とSHG結晶×2回の組み合わせ(355nm、5mW〜1W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(430nm、10mW)、半導体レーザー系として、KNbO3リング共振器(430nm、30mW)、導波型波長変換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わせ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW)、その他、パルスレーザとしてN2レーザ(337nm、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パルス10〜250mJ)。特にこの中でAlGaInN半導体レーザー(市販InGaN系半導体レーザー400〜410nm、5〜30mW)が波長特性、コストの面で好適である。
・内面ドラム方式で総出力20mW以上の半導体レーザーとなる様に、ガスレーザあるいは固体レーザー光源を1個以上使用するシングルビーム〜トリプルビームの露光装置
・フラットベッド方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜10本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザー、ガスレーザあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(1〜9本)の露光装置
・外面ドラム方式で総出力20mW以上となる様に、半導体レーザーあるいは固体レーザーを1個以上使用したマルチビーム(10本以上)の露光装置
レーザー回転数f(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)の間には一般的に式(eq 2)が成立する。
ドラム回転数F(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 3)が成立する。
ポリゴンミラーの回転数H(ラジアン/s)、感材の副走査長Lx(cm)、解像度Z(ドット/cm)、全露光時間t(s)、ビーム数(n)の間には一般的に式(eq 4)が成立する。
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した
後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
このようにして得た支持体の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μm(JIS B0601によるRa表示)であった。
・下塗り化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
上記の下塗り層を付与した支持体上に、下記組成の感光層塗布液(1)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.1g/m2の画像記録層を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布量が0.75g/m2となるようにバーを用いて塗布した後、125℃、70秒で間乾燥して平版印刷版原版(1)を得た。
・下記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 0.54g
・重合性化合物 0.48g
(ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、日本化薬(株)製、SR399E)
・下記増感色素(1)(吸収極大波長;359nm) 0.06g
・下記重合開始剤(1) 0.18g
・下記共増感剤(1) 0.02g
・ε―フタロシアニン顔料の分散物 0.40g
(顔料:15質量部、分散剤 バインダーポリマー(1):10質量部、溶剤 シクロヘキサノン/メトキシプロピルアセテート/1−メトキシ−2−プロパノール=15質量部/20質量部/40質量部)
・熱重合禁止剤 0.01g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・下記水溶性フッ素系界面活性剤(1) 0.001g
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物 0.04g
(旭電化工業(株)製、プルロニックL44)
・テトラエチルアミン塩酸塩 0.01g
・1−メトキシ−2−プロパノール 3.5g
・メチルエチルケトン 8.0g
ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 40g
ポリビニルピロリドン(分子量5万) 5g
ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.5g
界面活性剤 0.5g
(ポリオキシエチレンラウリルエーテル、エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)
水 950g
上記感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(5)(酸価1.9meq/gに変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(2)を得た。
上記感光層塗布液(1)を下記組成の感光層塗布液(2)に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(3)を得た。
・上記重合開始剤(1) 0.2g
・上記増感色素(1)(吸収極大波長;359nm) 0.1g
・上記バインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 3.0g
・重合性化合物 6.2g
イソシアヌール酸EO変性ジアクリレート
(東亜合成(株)製アロニックスM−215)
・ロイコクリスタルバイオレット 0.2g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・下記のマイクロカプセル(1)分散液 25.0g
・メチルエチルケトン 35.0g
・1−メトキシー2−プロパノール 35.0g
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(日本化薬(株)製、SR399E)4.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液(1)の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.25μmであった。
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(2)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(4)を得た。
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(3)に変
える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(5)を得た。
感光層塗布液(1)のバインダーポリマー(1)を下記バインダーポリマー(4)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(6)を得た。
感光層塗布液(1)の共増感剤(1)を下記の共増感剤(2)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(7)を得た。
感光層塗布液(1)の共増感剤(1)を下記の共増感剤(3)に変える以外は、平版印刷版原版(1)と同様にして、平版印刷版原版(8)を得た。
上記保護層塗布液(1)を下記組成の保護層塗布液(2)に変更し、乾燥塗布量が0.2g/m2となるようにバーを用いて塗布した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(9)を得た。
・下記雲母分散液(1) 13.0g
・ポリビニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度500) 1.3g
・2−エチルヘキシルスルホコハク酸ソーダ 0.2g
・ポリ(ビニルピロリドン/酢酸ビニル(1/1))分子量7万 0.05g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン(株)製)0.05g
・水 133g
水368gに合成雲母(「ソマシフME−100」:コープケミカル社製、アスペクト比:1000以上)の32gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)0.5μmになる迄分散し、雲母分散液(1)を得た。
支持体を下記支持体2に変更した以外は、平版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(10)を得た。
厚さ0.30mm、幅1030mmのJIS A1050アルミニウム板を用いて、以下に示す表面処理を行った。
表面処理は、以下の(a)〜(f)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
このようにして得られたアルミニウム支持体の表面粗さRaは0.27(測定機器;東京精密(株)製サーフコム、蝕針先端径2ミクロンメーター)であった。
下記の組成の下塗り液(2)を、バーコーターを用いて乾燥塗布量2mg/m2となるよう、支持体に塗布し、80℃で20秒間乾燥した。
下記下塗り液(2)をバー塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量が5mg/m2になるよう塗布し、下塗り層を有する支持体を作製した。
下塗り化合物(2) 0.3g
純水 60.0g
メタノール 939.7g
上記感光層塗布液(1)の増感色素(1)を下記増感色素(2)に変更した以外は、平
版印刷版原版(1)の作製と同様にして、平版印刷版原版(11)を得た。
(1)露光、現像および印刷
上記平版印刷版原版(1)〜(10)各々について、出力100mWの405nm半導体レーザーを用いて、エネルギー密度を変えて画像様露光を行った。
その後、下記組成の現像液(1)を用い、図1に示す構造の自動現像処理機にて、現像処理を実施した。現像液のpHは、約5であった。自動現像処理機は、回転ブラシロールを2本有する自動処理機であり、回転ブラシロールとしては、1本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と同一方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させ、2本目のブラシロールには、ポリブチレンテレフタレート製の繊維(毛の直径200μm、毛の長さ17mm)を植え込んだ外径50mmのブラシロールを用い、搬送方向と反対方向に毎分200回転(ブラシの先端の周速0.52m/sec)させた。平版印刷版原版の搬送は、搬送速度100cm/minで行った。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして、版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。
・水 100g
・ベンジルアルコール 1g
・ポリオキシエチレンナフチルエーテル
(オキシエチレン平均数n=13) 1g
・ジオクチルスルホコハク酸エステルのナトリウム塩 0.5g
・アラビアガム 1g
・エチレングリコール 0.5g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
先に作製した平版印刷版原版を用いて、感度、セーフライト適性を下記のように評価した。
上記の通り、100枚印刷を行って、非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物において、画像部のインキ濃度にムラがない露光量を感度として計測した。
得られた平版印刷版原版を上記の通り露光、現像を行った。現像処理後に、平版印刷版の非画像部を目視確認し、感光層の残存の有無を評価した。
得られた平版印刷版原版を画像露光前に10分、20分、30分間黄灯下(500nm以下の波長をカット蛍光灯、照度250lux)にさらした後、上記の通り露光、現像を行った。現像処理後に、平版印刷版の非画像部を目視確認し、カブリ発生(感光層の残存)の有無を評価した。
前記自動現像処理機の2本目のブラシロールを取り外して現像を行った以外は実施例6と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、表1に示すように、セーフライト適性が若干悪くなった。
現像液(1)のポリオキシエチレンナフチルエーテルを下記構造式のアニオン界面活性剤に変え、消泡剤FSアンチホームDR110N(ダウコーニング社製、シリコーン系エマルジョン)を0.1g添加する以外は、実施例6と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例6と同じ評価結果を得た。現像液のpHは、約5であった。
現像液(1)を下記現像液(2)に変える以外は、実施例6と同様にして、画像露光、現像処理および印刷を実施したところ、実施例6と同じ評価結果を得た。現像液のpHは、約4.5であった。
・水 100g
・アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム 5g
(花王(株)製ペレックスNB−L)
・アラビアガム 1g
・第1リン酸アンモニウム 0.05g
・クエン酸 0.05g
・エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩 0.05g
2:受けロール
3:搬送ロール
4:搬送ガイド板
5:スプレーパイプ
6:管路
7:フィルター
8:給版台
9:排版台
10:現像液タンク
11:循環ポンプ
12:版
Claims (12)
- 親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
ここで、R1、R2およびR3は、各々独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、−NR4R5基または−OR6基を表し、R4、R5およびR6は、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよいアラルキル基を表し、k、mおよびnは、0または1〜5の整数を表す。 - (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の作製方法。
- 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする請求項2に記載の平版印刷版の作製方法。
- (E)連鎖移動剤が、下記一般式(T)で表されるチオール化合物である請求項3に記載の平版印刷版の作製方法。
(T)
ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。 - (D)疎水性バインダーポリマーが、側鎖に架橋性基を有する(メタ)アクリル共重合体および側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
- 感光層成分の一部または全てが、マイクロカプセルに内包されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
- 擦り部材が少なくとも2本の回転ブラシロールであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
- 現像液のpHが3〜8であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版の作製方法。
- 親水性支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される350〜450nmに吸収極大を有する増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(D)酸価0.3meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版であって、350〜450nmのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、pHが2〜10の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去可能な平版印刷版原版。
ここで、R1、R2およびR3は、各々独立に、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、−NR4R5基または−OR6基を表し、R4、R5およびR6は、各々独立に、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基または置換基を有してもよいアラルキル基を表し、k、mおよびnは、0または1〜5の整数を表す。 - (B)重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項9に記載の平版印刷版原版。
- 感光層中に、さらに、(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする請求項10に記載の平版印刷版原版。
- (E)連鎖移動剤が、下記一般式(T)で表されるチオール化合物である請求項11に記載の平版印刷版原版。
(T)
ここで、Rは置換基を有してもよいアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基を表し、AはN=C−N部分と共に炭素原子を有する5員環又は6員環のヘテロ環を形成する原子団を表し、Aはさらに置換基を有してもよい。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005366885A JP4820640B2 (ja) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 平版印刷版の作製方法 |
US11/641,053 US20070184387A1 (en) | 2005-12-20 | 2006-12-19 | Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005366885A JP4820640B2 (ja) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 平版印刷版の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007171406A true JP2007171406A (ja) | 2007-07-05 |
JP4820640B2 JP4820640B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=38298078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005366885A Expired - Fee Related JP4820640B2 (ja) | 2005-12-20 | 2005-12-20 | 平版印刷版の作製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070184387A1 (ja) |
JP (1) | JP4820640B2 (ja) |
Cited By (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009086359A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作成方法 |
EP2105796A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate |
WO2009119827A1 (ja) | 2008-03-27 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
JP2009244420A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
EP2112555A2 (en) | 2008-03-27 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2157478A2 (en) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Method of producing lithographic printing plate |
EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2163949A1 (en) | 2008-09-12 | 2010-03-17 | FUJIFILM Corporation | Developer for lithographic printing plate precursor and process for producing lithographic printing plate |
EP2166410A2 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
EP2166411A2 (en) | 2008-09-18 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, process for producing lithographic printing plate, and lithographic printing plate |
EP2168766A1 (en) | 2008-09-26 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate |
EP2168765A2 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and process for producing lithographic printing plate |
WO2010035697A1 (ja) | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2184642A2 (en) | 2008-09-30 | 2010-05-12 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
WO2010061869A1 (ja) | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法、平版印刷版原版用現像液、及び、平版印刷版原版現像用補充液 |
EP2204698A1 (en) | 2009-01-06 | 2010-07-07 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate |
EP2219074A1 (en) | 2009-02-16 | 2010-08-18 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for developing lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2261033A1 (en) | 2009-06-09 | 2010-12-15 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2275257A2 (en) | 2009-03-31 | 2011-01-19 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2275258A2 (en) | 2009-05-29 | 2011-01-19 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2302461A1 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2302463A1 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing a lithographic printing plate |
EP2302462A2 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing a lithographic printing plate |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
WO2011040114A1 (ja) | 2009-09-29 | 2011-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の製造方法 |
EP2339401A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2339405A1 (en) | 2009-12-25 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2339402A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2354851A2 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-10 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2354852A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-10 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
WO2011105384A1 (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液 |
EP2367056A2 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
WO2011118456A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
WO2011118457A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
WO2011125913A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法 |
EP2378361A1 (en) | 2010-03-26 | 2011-10-19 | Fujifilm Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
EP2383612A1 (en) | 2010-04-30 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
WO2012029582A1 (ja) | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
WO2012029583A1 (ja) | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2441783A1 (en) | 2010-09-24 | 2012-04-18 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor including the same, and lithographic printing method |
EP2471655A2 (en) | 2010-12-28 | 2012-07-04 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2484522A2 (en) | 2011-02-04 | 2012-08-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2492748A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2492752A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
WO2012115124A1 (ja) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2012117882A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
WO2012133382A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2013015121A1 (ja) | 2011-07-27 | 2013-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
WO2013027590A1 (ja) | 2011-08-22 | 2013-02-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
EP2565714A1 (en) | 2011-08-31 | 2013-03-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate using the same |
EP2568339A2 (en) | 2011-08-24 | 2013-03-13 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate |
EP2570853A2 (en) | 2011-09-15 | 2013-03-20 | Fujifilm Corporation | Coating composition and image-forming material, lithographic printing plate precursor and oxygen-blocking film including the coating composition |
EP2574460A2 (en) | 2011-09-27 | 2013-04-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate |
WO2013047089A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
WO2013047229A1 (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2013047228A1 (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
EP2610673A2 (en) | 2011-12-26 | 2013-07-03 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing lithographic printing plates |
WO2013125323A1 (ja) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物 |
WO2013125315A1 (ja) | 2012-02-20 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液の濃縮方法およびリサイクル方法 |
WO2013129126A1 (ja) | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
WO2013129127A1 (ja) | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 |
EP2644380A2 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
KR101920649B1 (ko) * | 2011-03-24 | 2018-11-21 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리머 함유 현상액 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101952247B (zh) | 2007-12-20 | 2015-08-19 | 爱克发印艺公司 | 用于制备中位取代的花菁染料、份菁染料和氧杂菁染料的中间体化合物 |
EP2095948B1 (en) | 2008-02-28 | 2010-09-15 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate |
ES2378413T3 (es) | 2008-03-26 | 2012-04-12 | Agfa Graphics N.V. | Método de fabricación de planchas de impresión litográficas |
WO2010079020A1 (en) | 2008-12-18 | 2010-07-15 | Agfa Graphics Nv | A lithographic printing plate precursor |
EP2290447A1 (en) | 2009-08-25 | 2011-03-02 | Agfa Graphics N.V. | A set for developing a lithographic printing plate |
DE102010029018B4 (de) * | 2010-05-17 | 2014-10-23 | Flint Group Germany Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen von Flexodrucksleeves |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5262427A (en) * | 1975-11-17 | 1977-05-23 | Du Pont | Photopolymer element and method of duplicating image |
JPS5818625A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS58173740A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS58174939A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-10-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
JPS62180355A (ja) * | 1986-02-05 | 1987-08-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
JPH0468357A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH0468356A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH0695383A (ja) * | 1991-09-20 | 1994-04-08 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH08190192A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-23 | Konica Corp | 感光性組成物及び該組成物の層を有する感光性平版印刷版 |
JPH09134011A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-05-20 | Konica Corp | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びそれを用いた画像形成方法 |
JPH1026824A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及びその製造方法 |
JPH11240269A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及びその現像方法 |
JP2003114520A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
WO2005054952A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-16 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Radiation-sensitive compositions and imageable elements based thereon |
JP2008505365A (ja) * | 2004-07-01 | 2008-02-21 | イーストマン コダック カンパニー | 紫色感光性印刷版のイメージング |
WO2008084599A1 (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-17 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性平版印刷版材料 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4421841A (en) * | 1981-07-28 | 1983-12-20 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Photosensitive lithographic plate with sulfonate containing photosensitive polyester |
US4542088A (en) * | 1982-03-18 | 1985-09-17 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions |
US5773194A (en) * | 1995-09-08 | 1998-06-30 | Konica Corporation | Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate |
ATE252981T1 (de) * | 2000-12-13 | 2003-11-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Flachdruckplattenvorläufer |
US6723493B2 (en) * | 2001-06-04 | 2004-04-20 | Gary Ganghui Teng | Negative lithographic printing plate comprising a specific compound in the photosensitive layer |
JP2003098674A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性平版印刷版 |
DE10307453B4 (de) * | 2003-02-21 | 2005-07-21 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Oxazol-Derivate enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
US7229744B2 (en) * | 2003-03-21 | 2007-06-12 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
ATE389900T1 (de) * | 2004-08-24 | 2008-04-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
JP5089866B2 (ja) * | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
US7153632B1 (en) * | 2005-08-03 | 2006-12-26 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
-
2005
- 2005-12-20 JP JP2005366885A patent/JP4820640B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-19 US US11/641,053 patent/US20070184387A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5262427A (en) * | 1975-11-17 | 1977-05-23 | Du Pont | Photopolymer element and method of duplicating image |
JPS5818625A (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-03 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS58174939A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-10-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
JPS58173740A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
JPS62180355A (ja) * | 1986-02-05 | 1987-08-07 | Daicel Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
JPH0468357A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH0468356A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH0695383A (ja) * | 1991-09-20 | 1994-04-08 | Konica Corp | 感光性組成物 |
JPH08190192A (ja) * | 1995-01-11 | 1996-07-23 | Konica Corp | 感光性組成物及び該組成物の層を有する感光性平版印刷版 |
JPH09134011A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-05-20 | Konica Corp | 感光性組成物、感光性平版印刷版及びそれを用いた画像形成方法 |
JPH1026824A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及びその製造方法 |
JPH11240269A (ja) * | 1998-02-25 | 1999-09-07 | Konica Corp | 感光性平版印刷版及びその現像方法 |
JP2003114520A (ja) * | 2001-10-05 | 2003-04-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物及びそれを用いた記録材料 |
WO2005054952A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-16 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Radiation-sensitive compositions and imageable elements based thereon |
JP2008505365A (ja) * | 2004-07-01 | 2008-02-21 | イーストマン コダック カンパニー | 紫色感光性印刷版のイメージング |
WO2008084599A1 (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-17 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 感光性平版印刷版材料 |
Cited By (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009086359A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作成方法 |
WO2009119827A1 (ja) | 2008-03-27 | 2009-10-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作製方法 |
EP2112555A2 (en) | 2008-03-27 | 2009-10-28 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
EP2105796A1 (en) | 2008-03-28 | 2009-09-30 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate |
JP2009244420A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
EP2157478A2 (en) | 2008-08-22 | 2010-02-24 | Fujifilm Corporation | Method of producing lithographic printing plate |
EP2159640A1 (en) | 2008-08-29 | 2010-03-03 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2163949A1 (en) | 2008-09-12 | 2010-03-17 | FUJIFILM Corporation | Developer for lithographic printing plate precursor and process for producing lithographic printing plate |
EP2166411A2 (en) | 2008-09-18 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor, process for producing lithographic printing plate, and lithographic printing plate |
EP2166410A2 (en) | 2008-09-22 | 2010-03-24 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor |
WO2010035697A1 (ja) | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2168765A2 (en) | 2008-09-25 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and process for producing lithographic printing plate |
EP2168766A1 (en) | 2008-09-26 | 2010-03-31 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate |
EP2184642A2 (en) | 2008-09-30 | 2010-05-12 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
WO2010061869A1 (ja) | 2008-11-26 | 2010-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法、平版印刷版原版用現像液、及び、平版印刷版原版現像用補充液 |
EP2204698A1 (en) | 2009-01-06 | 2010-07-07 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate |
EP2219074A1 (en) | 2009-02-16 | 2010-08-18 | FUJIFILM Corporation | Processing solution for developing lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2275257A2 (en) | 2009-03-31 | 2011-01-19 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2275258A2 (en) | 2009-05-29 | 2011-01-19 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2261033A1 (en) | 2009-06-09 | 2010-12-15 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP3045974A1 (en) | 2009-09-24 | 2016-07-20 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2302461A1 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2302463A1 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing a lithographic printing plate |
EP2302462A2 (en) | 2009-09-24 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Method of preparing a lithographic printing plate |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
WO2011040114A1 (ja) | 2009-09-29 | 2011-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の製造方法 |
EP2339405A1 (en) | 2009-12-25 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2339401A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
EP2339402A1 (en) | 2009-12-28 | 2011-06-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2354851A2 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-10 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
EP2354852A1 (en) | 2010-01-29 | 2011-08-10 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate |
WO2011105384A1 (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液 |
EP2367056A2 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
WO2011118456A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
EP2378361A1 (en) | 2010-03-26 | 2011-10-19 | Fujifilm Corporation | Method for preparing lithographic printing plate |
WO2011118457A1 (ja) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法 |
WO2011125913A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法 |
EP2383612A1 (en) | 2010-04-30 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
WO2012029582A1 (ja) | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
WO2012029583A1 (ja) | 2010-08-31 | 2012-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
EP2441783A1 (en) | 2010-09-24 | 2012-04-18 | FUJIFILM Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor including the same, and lithographic printing method |
EP2471655A2 (en) | 2010-12-28 | 2012-07-04 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
EP2484522A2 (en) | 2011-02-04 | 2012-08-08 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP2990873A1 (en) | 2011-02-24 | 2016-03-02 | Fujifilm Corporation | Process for making lithographic printing plate |
WO2012115124A1 (ja) | 2011-02-24 | 2012-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
EP2492748A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
WO2012117882A1 (ja) | 2011-02-28 | 2012-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
EP2492752A1 (en) | 2011-02-28 | 2012-08-29 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
EP3001249A2 (en) | 2011-02-28 | 2016-03-30 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursors and processes for preparing lithographic printing plates |
KR101920649B1 (ko) * | 2011-03-24 | 2018-11-21 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 폴리머 함유 현상액 |
WO2012133382A1 (ja) | 2011-03-28 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2013015121A1 (ja) | 2011-07-27 | 2013-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
WO2013027590A1 (ja) | 2011-08-22 | 2013-02-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
EP2568339A2 (en) | 2011-08-24 | 2013-03-13 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate |
EP2565714A1 (en) | 2011-08-31 | 2013-03-06 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing lithographic printing plate using the same |
EP2570853A2 (en) | 2011-09-15 | 2013-03-20 | Fujifilm Corporation | Coating composition and image-forming material, lithographic printing plate precursor and oxygen-blocking film including the coating composition |
WO2013047229A1 (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
WO2013047228A1 (ja) | 2011-09-26 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
EP2574460A2 (en) | 2011-09-27 | 2013-04-03 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of manufacturing lithographic printing plate |
WO2013047089A1 (ja) | 2011-09-30 | 2013-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
EP2610673A2 (en) | 2011-12-26 | 2013-07-03 | Fujifilm Corporation | Method for manufacturing lithographic printing plates |
WO2013125315A1 (ja) | 2012-02-20 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液の濃縮方法およびリサイクル方法 |
WO2013125323A1 (ja) | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物 |
WO2013129126A1 (ja) | 2012-02-27 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
WO2013129127A1 (ja) | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 |
EP2644380A2 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-02 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4820640B2 (ja) | 2011-11-24 |
US20070184387A1 (en) | 2007-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4820640B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JP4911457B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP4887173B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JP4792326B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
EP1793275B1 (en) | Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate precursor | |
JP2007328243A (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP2007225701A (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JP2007206216A (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP2007233071A (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP4900913B2 (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
JP4991427B2 (ja) | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 | |
JP2008064786A (ja) | 感光性組成物、該組成物を用いた画像記録材料、及び平版印刷版の作製方法 | |
JP4914864B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JP4982416B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JP5364513B2 (ja) | 平版印刷版原版用現像液及び平版印刷版の製造方法 | |
JP4719653B2 (ja) | 画像形成方法および平版印刷版の作製方法 | |
JP2007212870A (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP5081536B2 (ja) | 平版印刷版原版およびその作製方法 | |
JP4900950B2 (ja) | 平版印刷版原版およびそれを用いた製版方法 | |
JP2007034215A (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 | |
JP4783679B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物、平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 | |
JP2008076967A (ja) | 平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作製方法 | |
JP5002295B2 (ja) | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 | |
JP4905781B2 (ja) | 画像形成方法および平版印刷版の作製方法 | |
JP4834487B2 (ja) | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071109 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20071126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080710 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100929 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101005 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101130 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110407 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20110412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20110707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110713 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110809 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110905 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140909 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4820640 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |