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JP2007165928A - Semiconductor module - Google Patents

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JP2007165928A JP2007037456A JP2007037456A JP2007165928A JP 2007165928 A JP2007165928 A JP 2007165928A JP 2007037456 A JP2007037456 A JP 2007037456A JP 2007037456 A JP2007037456 A JP 2007037456A JP 2007165928 A JP2007165928 A JP 2007165928A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To contribute to improvement in yield and reliability by reducing the number of assembling steps by mounting several types of semiconductor integrated circuit chips on a module substrate. <P>SOLUTION: Mounting pads are grouped and arranged on a module substrate (10) so as to be able to mount semiconductor integrated circuit chips having substantially the same heights, for example, the semiconductor integrated circuit chips are arranged in a line for each group of the same types of semiconductor integrated circuit chips. Then, anisotropic conductive films (66A, 66B) are adhered for each grouped mounting pad, and a mounting pattern and a bump electrode of a semiconductor integrated circuit chip are conductively connected via the adhered anisotropic conductive film. Thereby, a plurality of the semiconductor integrated circuit chips can be collectively pressure bonded with heat to the anisotropic conductive film for each group. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数個の半導体集積回路チップを搭載した半導体モジュールに関し、例えば多層配線基板にデータプロセッサチップとメモリチップとを搭載したマルチチップモジュールに適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a semiconductor module in which a plurality of semiconductor integrated circuit chips are mounted, for example, to a technique effective when applied to a multichip module in which a data processor chip and a memory chip are mounted on a multilayer wiring board.

画像処理などを行う電子回路はマイクロプロセッサ若しくはマイクロコンピュータなどと称されるデータプロセッサと共に、それらによってアクセスされるシンクロナスDRAM(以下SDRAM)等に代表される高速動作メモリから構成される場合が多い。昨今のSDRAMは“PC100”、“PC133”等の規格に代表される100MHz動作や、133MHz動作など、ますます高速動作をすることが要求される。電子回路がその種の高速動作メモリを含むことなどによって、高速動作をせざるを得なくなってくると、それに応じて高周波ノイズ対策も重要となってくる。SDRAMやデータプロセッサを搭載するプリント基板(Printed Circuit Board、以下PCB)は、応々にして無視し得ない高周波ノイズ源となることがある。そこで、プリント基板に対して、例えば、電源ラインの高周波インピーダンスを低下させたり、シールドフレームで取り囲んだり、電源ラインに工夫をして等価静電容量を大きくしたり、更には多層配線構造を採用したりすることが検討される。   An electronic circuit that performs image processing and the like is often composed of a data processor called a microprocessor or a microcomputer and a high-speed operation memory represented by a synchronous DRAM (hereinafter referred to as SDRAM) accessed by them. Recent SDRAMs are required to operate at higher speeds such as 100 MHz operation represented by standards such as “PC100” and “PC133” and 133 MHz operation. When an electronic circuit includes such a high-speed operation memory, for example, it becomes necessary to perform high-speed operation, countermeasures for high-frequency noise become important accordingly. A printed circuit board (PCB) on which an SDRAM or a data processor is mounted may be a high-frequency noise source that cannot be ignored. So, for example, to reduce the high-frequency impedance of the power supply line, surround it with a shield frame, increase the equivalent capacitance by devising the power supply line, and adopt a multilayer wiring structure. To be considered.

しかしながら、所望する性能のプリント基板を形成することには困難が伴い、また、プリント基板全体を多層配線構造にするとプリント基板の製造コストが極端に大きくなってしまう。   However, it is difficult to form a printed circuit board having a desired performance, and if the entire printed circuit board has a multilayer wiring structure, the manufacturing cost of the printed circuit board becomes extremely high.

加えて、本発明者等は、高速動作する回路部分の高周波ノイズ対策、そして多層配線基板にマイクロプロセッサなどの複数種類のLSIを実装する技術については、更に検討の余地のあることを明らかにした。   In addition, the present inventors have clarified that there is room for further study on high-frequency noise countermeasures for circuit portions that operate at high speed and technology for mounting multiple types of LSIs such as microprocessors on a multilayer wiring board. .

第1に、メモリの高速動作中の高周波ノイズによってメモリデータが破壊されてしまうことを充分に防止することである。1つの考慮された技術は、マイクロプロセッサ、I/Oポート、ランダムアクセスメモリ等の高速動作回路を多層配線基板に設け、その多層配線基板をマザーボードのようなプリント基板に実装する技術である。この技術では多層配線基板によって高速動作回路のある程度の良好な動作が期待可能となる。しかしながら、その構成によっても、メモリやマイクロプロセッサが接続するバスを介して高周波によるノイズが流入すると、アクセス動作中のメモリのリードデータ又はライトデータがバス上で不所望に変化してしまう。   First, it is possible to sufficiently prevent memory data from being destroyed by high-frequency noise during high-speed operation of the memory. One considered technique is a technique in which a high-speed operation circuit such as a microprocessor, an I / O port, and a random access memory is provided on a multilayer wiring board, and the multilayer wiring board is mounted on a printed board such as a motherboard. With this technique, it is possible to expect a certain level of good operation of the high-speed operation circuit by the multilayer wiring board. However, even with this configuration, when high-frequency noise flows through the bus connected to the memory or the microprocessor, the read data or write data of the memory during the access operation changes undesirably on the bus.

第2に、デバイスの搭載レイアウト、外部接続電極の機能割り当てに対する考慮にある。すなわち、メモリやマイクロプロセッサが接続するモジュール内バス等を介して流入する外来ノイズによると、アクセス動作中のメモリのリードデータ又はライトデータに対する影響は小さいことが望まれる。そのためには、数種類のデバイスに対するモジュール基板への搭載レイアウトが考慮され、また、モジュール基板の外部接続電極の機能割り当てが考慮されることが望ましい。   Secondly, consideration is given to device mounting layout and function assignment of external connection electrodes. That is, it is desirable that the external noise flowing in via the module internal bus connected to the memory or the microprocessor has a small influence on the read data or write data of the memory during the access operation. For this purpose, it is desirable to consider the mounting layout of several types of devices on the module board and to consider the function assignment of the external connection electrodes of the module board.

第3に、前記数種類のデバイスに対するモジュール基板への搭載レイアウトを決定するとき、半導体モジュールの歩留まりや信頼性が低下しないように、多層配線基板にデバイスを搭載して組み立てる工程数を少なくすることが必要である。   Thirdly, when determining the mounting layout on the module substrate for the several types of devices, the number of steps for mounting and assembling the devices on the multilayer wiring board may be reduced so that the yield and reliability of the semiconductor module are not lowered. is necessary.

本発明者等は本発明を完成した後に、以下のような公知例のあることを知った。   After completing the present invention, the present inventors have learned that there are the following known examples.

1つは、特開平1−220498号公報であり、同公報には、マイクロプロセッサとアイオー(I/O)ポートとの間を接続するバスラインからは高周波ノイズが放射され易く、少なくともこの部分を多層基板上に配置することによって大きなコスト上昇を防止しつつ、十分なノイズ低減効果を得られるようにした発明が開示されている。そして、ランダムアクセスメモリも共にその多層基板に搭載すれば最も高周波ノイズを発生し易い部分が大部分多層基板上に搭載されることになる、と述べられている。   One is Japanese Patent Laid-Open No. 1-220498. In this publication, high-frequency noise is easily radiated from a bus line connecting between a microprocessor and an I / O port. An invention is disclosed in which a sufficient noise reduction effect can be obtained while disposing on a multilayer substrate while preventing a significant increase in cost. Then, it is stated that, if both random access memories are mounted on the multilayer substrate, the portion most likely to generate high frequency noise is mounted on the multilayer substrate.

他の1つは、特開平5−335364号公報であり、同公報には、マイクロプロセッサLSIをベア実装する領域の周囲にメモリLSIを搭載する領域を設けた多層配線基板に関する発明が記載されている。   Another is JP-A-5-335364, which describes an invention relating to a multilayer wiring board in which a region for mounting a memory LSI is provided around a region for bare mounting a microprocessor LSI. Yes.

しかしながらそれらの公知例には、前述したような更に検討の余地のある点について何も言及されていない。   However, these known examples do not mention anything as mentioned above that has room for further study.

特開平1−220498号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-220498 特開平5−335364号公報JP-A-5-335364

本発明の目的は、メモリアクセス動作中の高周波ノイズによってメモリデータが破壊されてしまうことを防止することができる半導体モジュール、そして当該半導体モジュールをマザーボードに実装した電子回路を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a semiconductor module that can prevent memory data from being destroyed by high-frequency noise during a memory access operation, and an electronic circuit in which the semiconductor module is mounted on a motherboard.

本発明の別の目的は、データプロセッサチップ及びメモリチップ等の高速動作回路を多層配線基板に設け、その多層配線基板をマザーボードのようなプリント基板に実装しても、データプロセッサチップがメモリチップをアクセスするとき、それらが接続するモジュール内バスを介して外来ノイズがメモリに流入し難い半導体モジュール、更には電子回路を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a high-speed operation circuit such as a data processor chip and a memory chip on a multilayer wiring board, and even if the multilayer wiring board is mounted on a printed board such as a motherboard, the data processor chip does not It is an object of the present invention to provide a semiconductor module and an electronic circuit in which external noise hardly flows into a memory via an in-module bus to which they are connected.

本発明の更に別の目的は、アクセス動作中のメモリのリードデータ又はライトデータがモジュール内バス上で不所望に変化し難い半導体モジュールを提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a semiconductor module in which read data or write data of a memory during an access operation hardly changes undesirably on an in-module bus.

本発明の他の目的は、数種類の半導体集積回路チップに対するモジュール基板への搭載レイアウトの点で外来ノイズによる影響を緩和できる半導体モジュールを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a semiconductor module that can alleviate the effects of external noise in terms of the mounting layout of several types of semiconductor integrated circuit chips on a module substrate.

本発明の他の目的は、数種類の半導体集積回路チップが搭載されるモジュール基板の外部接続電極の機能割り当ての点で外来ノイズによる影響を緩和できる半導体モジュールを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a semiconductor module that can alleviate the influence of external noise in terms of function assignment of external connection electrodes of a module substrate on which several types of semiconductor integrated circuit chips are mounted.

本発明のその他の目的は、数種類の半導体集積回路チップをモジュール基板に搭載して組み立てる工程数を少なくすることによって歩留まりや信頼性の向上に寄与することができる半導体モジュールを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a semiconductor module that can contribute to an improvement in yield and reliability by reducing the number of processes for assembling several types of semiconductor integrated circuit chips mounted on a module substrate.

本発明の更に他の目的は、高周波ノイズを抑えて高速動作が可能であって、高い耐外来雑音性能を有し、高い信頼性を備え、それらを比較的低いコストで実現可能なマルチチップモジュールのような半導体モジュールを提供することにある。   Still another object of the present invention is a multi-chip module that can operate at high speed while suppressing high-frequency noise, has high resistance to external noise, has high reliability, and can realize them at a relatively low cost. Is to provide a semiconductor module such as

本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。   The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

《耐ノイズ性能強化用バッファ》
本発明の第1の観点による半導体モジュールは、複数個の外部接続電極と前記複数個の外部接続電極に接続可能な複数層の配線層とを有するモジュール基板に、データプロセッサチップと、メモリチップと、スイッチ回路とみなすことができるバッファ回路とが設けられる。前記データプロセッサチップとメモリチップは前記配線層によって形成されるモジュール内バスに共通接続される。前記バッファ回路は、前記モジュール内バスに挿入され、前記データプロセッサチップによるメモリチップのアクセスに際して前記モジュール内バスに接続する外部接続電極からの入力を遮断する。
《Noise resistant performance enhancement buffer》
A semiconductor module according to a first aspect of the present invention includes a data processor chip, a memory chip, a module substrate having a plurality of external connection electrodes and a plurality of wiring layers connectable to the plurality of external connection electrodes. A buffer circuit that can be regarded as a switch circuit is provided. The data processor chip and the memory chip are commonly connected to an intra-module bus formed by the wiring layer. The buffer circuit is inserted into the intra-module bus, and blocks input from an external connection electrode connected to the intra-module bus when the memory chip is accessed by the data processor chip.

上記によれば、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊を防止することができる。   Based on the above, it is possible to prevent memory data from being destroyed due to high frequency noise during the memory access operation.

前記バッファ回路は、例えば、前記外部接続電極に向けてアドレス信号を出力するアドレス出力バッファ、前記外部接続電極に向けてアクセス制御信号を出力する制御信号出力バッファ、及び前記メモリチップの動作選択に呼応して高インピーダンス状態にされるデータ入出力バッファである。アドレス出力バッファ及び制御信号出力バッファは常時信号入力を抑止しているから、それを介するノイズの流入はない。データ入出力バッファにおける常識的なデータの方向制御はデータプロセッサのリード動作で入力、ライト動作で出力であるが、本発明では前記メモリチップの動作選択に応答して高インピーダンス状態に制御するから、データプロセッサチップがメモリチップをアクセスするとき、それらが接続するモジュール内バスを介して外来ノイズがメモリに流入し難く、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊を抑止可能になる。   The buffer circuit, for example, responds to an operation selection of an address output buffer that outputs an address signal toward the external connection electrode, a control signal output buffer that outputs an access control signal toward the external connection electrode, and the memory chip. Thus, the data input / output buffer is brought into a high impedance state. Since the address output buffer and the control signal output buffer always suppress signal input, there is no noise inflow through the address output buffer and control signal output buffer. Common-sense data direction control in the data input / output buffer is input by the read operation of the data processor and output by the write operation, but in the present invention, it is controlled to a high impedance state in response to the operation selection of the memory chip. When the data processor chip accesses the memory chip, it is difficult for the external noise to flow into the memory via the in-module bus to which the data processor chip is connected, and the memory data can be prevented from being destroyed by the high frequency noise during the memory access operation.

また、前記バッファ回路は、アドレス入出力バッファ、制御信号入出力バッファ、及びデータ入出力バッファであってもよく、その場合には、それら入出力バッファは前記メモリチップの動作選択に呼応して高インピーダンス状態にされる。メモリチップの動作選択に応答して高インピーダンス状態に制御するから、データプロセッサチップがメモリチップをアクセスするとき、それらが接続するモジュール内バスを介して外来ノイズがメモリに流入し難く、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊を抑止可能になる。   The buffer circuit may be an address input / output buffer, a control signal input / output buffer, and a data input / output buffer. In this case, these input / output buffers are high in response to the operation selection of the memory chip. The impedance state is set. The memory access operation is controlled in the high impedance state in response to the memory chip operation selection, so that when the data processor chip accesses the memory chip, it is difficult for external noise to flow into the memory via the internal bus connected to the data processor chip. It is possible to suppress the destruction of memory data due to high frequency noise inside.

前記モジュール基板は、高周波ノイズの抑制という観点からすれば、電源配線パターンやグランド配線パターンを全面一様に導体層としたベタパターンとする構造等によって信号パターンと電源パターン若しくはグランドパターンとの間の等価静電容量を大きく且つ回路全体に亘って均一に採ることができる多層配線構造にすることが得策である。このとき、その多層配線構造として、複数の配線層を有するベース層と、前記ベース層の表裏に夫々同じ層数の配線層が積み重ねられたビルドアップ層とによる構造を採用すれば、モジュール基板の反りを良好に防止できる。   From the viewpoint of suppressing high-frequency noise, the module substrate has a solid pattern in which the power supply wiring pattern and the ground wiring pattern are uniformly formed on the entire surface. It is a good idea to have a multilayer wiring structure that has a large equivalent capacitance and that can be taken uniformly over the entire circuit. At this time, if the multilayer wiring structure adopts a structure including a base layer having a plurality of wiring layers and a build-up layer in which the same number of wiring layers are stacked on the front and back of the base layer, the module substrate Warpage can be prevented well.

前記多層配線基板により耐高周波ノイズ特性が強化されていても、データプロセッサチップがメモリチップをアクセスするとき、それらが接続するモジュール内バスを介して外来ノイズがメモリに流入しようとするが、バッファ回路はそのような外来ノイズの流入を抑制し、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊を防止する。   Even if the high-frequency noise resistance is enhanced by the multilayer wiring board, when the data processor chip accesses the memory chip, the external noise tends to flow into the memory via the internal module bus to which the data processor chip is connected. Suppresses the inflow of such external noise and prevents memory data destruction due to high frequency noise during memory access operation.

《耐ノイズ性能強化レイアウト》
本発明の第2の観点によるマルチチップモジュールは、複数層の配線層を有するモジュール基板の一方の面には前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続されていて複数個の半導体集積回路チップを実装する実装パッドが配置されている。前記実装パッドは、相対的に高速動作可能な複数個の半導体集積回路チップの実装パッドの領域と、相対的に動作速度の遅い複数個の半導体集積回路チップの実装パッドの領域とが分離されている。
《Noise-proof performance enhanced layout》
In the multichip module according to the second aspect of the present invention, a large number of external connection electrodes connected to the wiring layer are arranged on one surface of the module substrate having a plurality of wiring layers, and the other surface of the module substrate. Mounting pads for mounting a plurality of semiconductor integrated circuit chips connected to the wiring layer are disposed. In the mounting pad, a mounting pad area of a plurality of semiconductor integrated circuit chips capable of relatively high speed operation is separated from a mounting pad area of a plurality of semiconductor integrated circuit chips having a relatively low operating speed. Yes.

モジュール基板上で高速動作領域と低速動作慮域とを分離すれば、モジュール基板の裏面に配置される外部接続電極の機能を、高速動作領域の回路特性と低速動作領域の回路特性との相違に応じて決定することが可能になる。   If the high-speed operation area and the low-speed operation area are separated on the module board, the function of the external connection electrode arranged on the back side of the module board is different from the circuit characteristics of the high-speed operation area and the low-speed operation area. It becomes possible to decide accordingly.

例えば、アドレスやデータに割当てられる外部接続電極を、前記相対的に動作速度の遅い複数個の半導体集積回路チップが搭載される領域の裏面に配置する。マルチチップモジュールの動作上アドレスやデータの入出力動作は高速に且つ頻繁に行われるから、そのような信号変化の頻繁な部分で発生するノイズの影響を高速動作領域の回路が受けることを緩和することができる。   For example, external connection electrodes assigned to addresses and data are arranged on the back surface of a region where a plurality of semiconductor integrated circuit chips having relatively low operation speeds are mounted. The address and data input / output operations are performed at high speed and frequently in the operation of the multichip module, so that the influence of the noise generated in the frequent part of such signal change is mitigated by the circuit in the high speed operation region. be able to.

また、前記相対的に動作速度の速い複数個の半導体集積回路チップが搭載される領域の裏面には電源電圧及びグランド電圧の供給に割当てられる外部接続電極を相対的に多く配置することができる。電源供給用の外部接続端子が相対的に多ければ、信号入出力用に割当てられる外部接続電極が相対的に少なくなるから、外来ノイズの影響を高速動作領域の回路が受けることを緩和することができる。   Further, a relatively large number of external connection electrodes assigned to supply of the power supply voltage and the ground voltage can be arranged on the back surface of the region where the plurality of semiconductor integrated circuit chips having relatively high operation speeds are mounted. If the number of external connection terminals for power supply is relatively large, the number of external connection electrodes assigned for signal input / output is relatively small, so that the influence of external noise on the circuit in the high-speed operation region can be mitigated. it can.

外来ノイズ流入緩和レイアウトの別の観点によるマルチチップモジュールは、複数層の配線層を有するモジュール基板の一方の面に前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続されたデータプロセッサチップ、メモリチップ、及びバッファ回路が設けられている。前記モジュール基板のほぼ中央にデータプロセッサチップが配置され、前記データプロセッサチップを挟んで、一方に複数個のメモリチップが、他方に複数個のバッファ回路が並列配置されている。これによれば、データプロセッサチップ及びメモリチップは比較的高速に若しくは頻繁に動作され、これに比べて前記バッファ回路は比較的低速で動作され若しくは動作頻度が比較的低い。このレイアウトによれば、上記同様、高速動作領域と低速動作領域とが分離される。   In the multichip module according to another aspect of the external noise inflow mitigation layout, a large number of external connection electrodes connected to the wiring layer are arranged on one surface of the module substrate having a plurality of wiring layers, and the other side of the module substrate is arranged. A data processor chip, a memory chip, and a buffer circuit connected to the wiring layer are provided on the surface. A data processor chip is disposed substantially at the center of the module substrate. A plurality of memory chips are arranged on one side and a plurality of buffer circuits are arranged on the other side with the data processor chip interposed therebetween. According to this, the data processor chip and the memory chip are operated at a relatively high speed or frequently, and the buffer circuit is operated at a relatively low speed or the operation frequency is relatively low. According to this layout, as described above, the high-speed operation region and the low-speed operation region are separated.

外来ノイズ流入緩和レイアウトの更に別の観点によるマルチチップモジュールは、複数層の配線層を有するモジュール基板の一方の面には前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続された実装パッドを介してデータプロセッサチップ、メモリチップ、及びバッファ回路が設けられている。アドレスやデータの入出力に対応される外部接続電極は前記バッファ回路が搭載される領域の裏面に配置されている。これにより、アドレスやデータの入出力のような信号変化の頻繁な外部接続電極部分を、データプロセッサチップ及びメモリチップのような高速動作部分から遠ざけることができる。   In a multichip module according to still another aspect of the external noise inflow mitigation layout, a large number of external connection electrodes connected to the wiring layer are arranged on one surface of the module substrate having a plurality of wiring layers, On the other surface, a data processor chip, a memory chip, and a buffer circuit are provided via a mounting pad connected to the wiring layer. External connection electrodes corresponding to input / output of addresses and data are arranged on the back surface of the area where the buffer circuit is mounted. As a result, the external connection electrode portions where the signal changes frequently such as address and data input / output can be kept away from the high-speed operation portions such as the data processor chip and the memory chip.

外来ノイズ流入緩和レイアウトの更に別の観点によるマルチチップモジュールは、複数層の配線層を有するモジュール基板の一方の面には前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続された実装パッドを介してデータプロセッサチップ、メモリチップ、及びバッファ回路が設けられている。前記メモリチップが搭載される領域の裏面には電源電圧及びグランド電圧の供給に割当てられる外部接続電極が相対的に多く配置されている。これにより、上記同様に、アドレス出力及びデータ入出力のような信号変化の頻繁な外部接続電極部分を、データプロセッサチップ及びメモリチップのような高速動作部分から遠ざけることができる。   In a multichip module according to still another aspect of the external noise inflow mitigation layout, a large number of external connection electrodes connected to the wiring layer are arranged on one surface of the module substrate having a plurality of wiring layers, On the other surface, a data processor chip, a memory chip, and a buffer circuit are provided via a mounting pad connected to the wiring layer. A relatively large number of external connection electrodes assigned to supply of a power supply voltage and a ground voltage are disposed on the back surface of the area where the memory chip is mounted. As a result, as described above, the external connection electrode portions with frequent signal changes such as address output and data input / output can be kept away from the high-speed operation portions such as the data processor chip and the memory chip.

外来ノイズ流入緩和レイアウトの更に別の観点によるマルチチップモジュールは、複数層の配線層を有するモジュール基板の一方の面には前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続された実装パッドを介して複数種類の半導体集積回路チップが設けられている。前記電源電圧及びグランド電圧の供給に割当てられる動作電源用の外部接続電極の配置にはモジュール基板上で粗密があり、電力消費の大きな半導体集積回路チップの裏面ほど前記動作電源用に割当てられた外部接続電極が密に配置されている。半導体集積回路チップにおける内部回路の充放電動作は、一般的には高速且つ頻繁に行われる程、電力消費も多くなるという相関がある。したがて、この観点に着目すれば、電力消費の大きな半導体集積回路チップの裏面ほど前記動作電源用に割当てられた外部接続電極を密に配置すれば、アドレス出力及びデータ入出力のような信号変化の頻繁な外部接続電極部分は相対的に低速動作部分よりも高速動作部分から遠ざけられることになる。   In a multichip module according to still another aspect of the external noise inflow mitigation layout, a large number of external connection electrodes connected to the wiring layer are arranged on one surface of the module substrate having a plurality of wiring layers, A plurality of types of semiconductor integrated circuit chips are provided on the other surface via mounting pads connected to the wiring layer. The arrangement of the external connection electrodes for the operation power supply allocated to supply of the power supply voltage and the ground voltage is rough on the module substrate, and the rear surface of the semiconductor integrated circuit chip with higher power consumption is assigned to the external power supply allocated to the operation power supply. The connection electrodes are densely arranged. In general, there is a correlation that the charge / discharge operation of the internal circuit in the semiconductor integrated circuit chip increases in power consumption as it is performed at high speed and frequently. Therefore, if attention is paid to this point of view, signals such as address output and data input / output can be obtained by arranging the external connection electrodes allocated for the operation power source closer to the back surface of the semiconductor integrated circuit chip that consumes more power. The external connection electrode portion that frequently changes is moved away from the high-speed operation portion rather than the low-speed operation portion.

《組み立て工程数低減》
組み立て工数低減の観点による半導体モジュールは、一方の面に複数個の外部接続電極が配列されたモジュール基板の他方の面に実装パターンが形成され、前記実装パターンは、高さ寸法がほぼ等しい半導体集積回路チップのグループ毎にそれら半導体集積回路チップを一列に並べて実装可能なグループ化されたパターンを有する。前記グループ化されたパターン毎に貼り付けられた異方導電性フィルムを介して実装パターンと半導体集積回路チップのバンプ電極とが導電接続されている。高さ寸法がほぼ等しい半導体集積回路チップのグループ毎に異方導電性フィルムを貼り付け可能な実装パターンを採用するから、そのグループ毎に1枚の異方導電性フィルムを貼り付けて、また、そのグループ毎に複数個の半導体集積回路チップを一括して異方導電性フィルムに圧着加熱することができ、この点において、数種類の半導体集積回路チップをモジュール基板に搭載して組み立てる工程数を少なくすることができる。これにより、半導体モジュールの歩留まりや信頼性の向上に寄与することができる。また、マルチチップモジュールのコストも低減する。
<Reducing the number of assembly steps>
The semiconductor module according to the viewpoint of reducing the assembly man-hour has a mounting pattern formed on the other surface of the module substrate in which a plurality of external connection electrodes are arranged on one surface, and the mounting pattern is a semiconductor integrated having substantially the same height dimension. Each group of circuit chips has a grouped pattern in which the semiconductor integrated circuit chips can be mounted in a line. The mounting pattern and the bump electrode of the semiconductor integrated circuit chip are conductively connected through an anisotropic conductive film attached to each of the grouped patterns. Since a mounting pattern in which an anisotropic conductive film can be attached to each group of semiconductor integrated circuit chips having almost the same height dimension is adopted, one anisotropic conductive film is attached to each group, A plurality of semiconductor integrated circuit chips can be collectively heated to the anisotropic conductive film for each group, and in this respect, the number of processes for mounting several types of semiconductor integrated circuit chips on a module substrate and assembling can be reduced. can do. Thereby, it can contribute to the improvement of the yield and reliability of a semiconductor module. In addition, the cost of the multichip module is reduced.

《アドレス遅延低減配線》
メモリチップへのアドレス入力タイミングを揃える観点に着目した半導体モジュールは、配線層を有するモジュール基板の一方の面には前記配線層に接続された多数の外部接続電極が配列され、モジュール基板の他方の面には前記配線層に接続されたデータプロセッサチップと複数個のメモリチップが実装されている。前記メモリチップは夫々一列に配置された電極パッドを有し、電極パッドの配列方向と交差する方向に複数個のメモリチップが配列され、夫々のメモリチップにアドレスを供給する配線層はメモリチップの配列方向に延在して順次アドレス入力用の電極パッドに結合されている。
<Address delay reduction wiring>
A semiconductor module focused on aligning the address input timing to the memory chip has a number of external connection electrodes connected to the wiring layer on one side of the module substrate having the wiring layer, and the other side of the module substrate. A data processor chip and a plurality of memory chips connected to the wiring layer are mounted on the surface. Each of the memory chips has electrode pads arranged in a line, and a plurality of memory chips are arranged in a direction intersecting with the arrangement direction of the electrode pads, and a wiring layer for supplying an address to each memory chip is a memory chip. It extends in the arrangement direction and is sequentially coupled to an electrode pad for address input.

《マザーボードとドータボード》
マザーボードとその上に装着されるドータボードとの関係に着目する本発明の電子回路は、第1の半導体装置と前記第1の半導体装置よりも高速動作可能な第2の半導体装置とが配線基板のバスに共通接続状態で実装されて構成される。前記配線基板に対する前記第2の半導体装置の関係がマザーボードに対するドータボードの関係に対応される。 前記第2の半導体装置は、外部接続電極を介して前記バスに共通接続されるデータプロセッサチップ及びメモリチップを多層配線基板に有し、前記データプロセッサチップ及びメモリチップから前記外部接続電極に至る配線経路にバッファ回路を有する。前記バッファ回路は、前記データプロセッサチップによるメモリチップのアクセスに際して前記バスからの入力を遮断する。
《Motherboard and daughter board》
Focusing on the relationship between the mother board and the daughter board mounted thereon, the electronic circuit of the present invention includes a first semiconductor device and a second semiconductor device capable of operating at a higher speed than the first semiconductor device. It is configured to be mounted on the bus in a common connection state. The relationship of the second semiconductor device to the wiring board corresponds to the relationship of the daughter board to the mother board. The second semiconductor device has a data processor chip and a memory chip that are commonly connected to the bus via an external connection electrode on a multilayer wiring board, and a wiring from the data processor chip and the memory chip to the external connection electrode A buffer circuit is provided in the path. The buffer circuit cuts off the input from the bus when accessing the memory chip by the data processor chip.

前記バッファ回路として、前記配線経路に夫々挿入されたアドレス出力バッファ、制御信号出力バッファ、及びデータ入出力バッファを採用してよい。前記データ入出力バッファに対しては前記データプロセッサチップによるメモリチップのアクセス指示に応答して高インピーダンス状態に制御してよい。前記バッファ回路は、前記メモリチップの動作選択に呼応して夫々高インピーダンス状態にされるアドレス入出力バッファ、制御信号入出力バッファ、及びデータ入出力バッファであってもよい。   As the buffer circuit, an address output buffer, a control signal output buffer, and a data input / output buffer respectively inserted in the wiring path may be employed. The data input / output buffer may be controlled to a high impedance state in response to a memory chip access instruction from the data processor chip. The buffer circuit may be an address input / output buffer, a control signal input / output buffer, and a data input / output buffer that are respectively brought into a high impedance state in response to an operation selection of the memory chip.

アドレス出力及びデータ入出力に対応される外部接続電極は前記バッファ回路が搭載される領域の裏面に配置してよい。   The external connection electrodes corresponding to address output and data input / output may be arranged on the back surface of the area where the buffer circuit is mounted.

前記メモリチップが搭載される領域の裏面には電源電圧及びグランド電圧の供給に割当てられる外部接続電極を相対的に多く配置してよい。   A relatively large number of external connection electrodes assigned to supply of the power supply voltage and the ground voltage may be arranged on the back surface of the area where the memory chip is mounted.

上記によれば、マルチチップモジュールのような第2の半導体装置は高周波ノイズを緩和して高速動作が可能であって、高い耐外来ノイズ性能を有し、電子回路全体として高い信頼性を備え、それらを比較的低いコストで実現することができる。   According to the above, the second semiconductor device such as a multi-chip module is capable of high-speed operation by reducing high-frequency noise, has high external noise resistance, and has high reliability as an entire electronic circuit, They can be realized at a relatively low cost.

本願において開示される発明のうち代表的なものについて簡単に説明すれば下記のとおりである。   A representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

すなわち、数種類の半導体集積回路チップをモジュール基板に搭載して組み立てる工程数を少なくすることによって歩留まりや信頼性の向上に寄与することができる半導体モジュールを提供することができる。   That is, it is possible to provide a semiconductor module that can contribute to an improvement in yield and reliability by reducing the number of steps for assembling several types of semiconductor integrated circuit chips on a module substrate.

《マザーボードとマルチチップモジュール》
図1にはマルチチップモジュールを用いた本発明に係る電子回路の一例が示される。同図に示される電子回路1は、特に制限されないが、デジタルコピー装置やカーナビゲーション装置等のように、画像処理のような高速なデータ処理を必要とする回路部分と、通信機能やシステムの監視機能を実現するためのさほど高速動作を要しない回路部分とが混在して実装されている回路である。
《Motherboard and multichip module》
FIG. 1 shows an example of an electronic circuit according to the present invention using a multichip module. The electronic circuit 1 shown in the figure is not particularly limited, but a circuit portion that requires high-speed data processing such as image processing, such as a digital copy device or a car navigation device, and monitoring of communication functions and systems. This is a circuit in which a circuit portion that does not require a high-speed operation so as to realize a function is mixedly mounted.

図1に示される電子回路1は、配線基板2の図示を省略する配線パターンに、半導体モジュールとしてのマルチチップモジュール3、ASIC(Application Specified IC:特定用途向けIC)4,5、及び水晶発振子(OSC)6が実装されている。入出力コネクタ7は前記配線基板2の図示を省略する所定の配線パターンに接続され、電子回路1をその他の装置に結合可能にする。尚、コネクタ7は、図示の形態に限定されるものではなく、種々変更可能である。前記配線基板2は、例えばガラスエポキシ樹脂の表裏に2層程度の配線パターンが印刷されたローコストのプリント基板である。   An electronic circuit 1 shown in FIG. 1 has a wiring pattern (not shown) of a wiring board 2, a multichip module 3 as a semiconductor module, ASICs (Application Specific ICs) 4 and 5, and a crystal oscillator. (OSC) 6 is mounted. The input / output connector 7 is connected to a predetermined wiring pattern (not shown) of the wiring board 2 so that the electronic circuit 1 can be coupled to other devices. The connector 7 is not limited to the illustrated form, and can be variously changed. The wiring board 2 is a low-cost printed board in which, for example, about two layers of wiring patterns are printed on the front and back of a glass epoxy resin.

図22にはプリント基板としての前記配線基板2の一部が縦断面で例示される。ガラスエポキシ樹脂基板80の表面に銅配線81A,81B,81Cが形成され、裏面に銅配線82A,82Bが形成され、マルチチップモジュール3やASIC4,5などを実装するための接続部に利用される部分を除いて銅配線はソルダーレジスト層84で覆われて保護されている。図の例では、銅配線81Aがスルーホール83Aを介して銅配線82Aに接続され、銅配線81Cがスルーホール83Bを介して銅配線82Cに接続されて、表裏2層の配線層を用いた配線の様子が概略的に示されているが、これは配線構造の概略を示す一例であり、実際には所望の配線に応じて種々の配線パターンが形成されることになる。   FIG. 22 illustrates a part of the wiring board 2 as a printed board in a longitudinal section. Copper wirings 81A, 81B, and 81C are formed on the front surface of the glass epoxy resin substrate 80, and copper wirings 82A and 82B are formed on the back surface, which are used as connecting portions for mounting the multichip module 3, the ASICs 4, 5, and the like. Except for the portion, the copper wiring is covered and protected by a solder resist layer 84. In the illustrated example, the copper wiring 81A is connected to the copper wiring 82A through the through hole 83A, the copper wiring 81C is connected to the copper wiring 82C through the through hole 83B, and wiring using two wiring layers on the front and back sides. This is merely an example showing the outline of the wiring structure, and various wiring patterns are actually formed according to the desired wiring.

特に図示はしないが、電子回路1には一般的な高周波ノイズ対策として、バイパスコンデンサで電源ラインの高周波インピーダンスを高めたり、シールドフレームで取り囲んだりしてよいことは言うまでもない。   Although not specifically illustrated, it is needless to say that the electronic circuit 1 may increase the high frequency impedance of the power supply line with a bypass capacitor or be surrounded by a shield frame as a general countermeasure against high frequency noise.

前記マルチチップモジュール3は、底面に多数の外部接続電極が配列された多層配線基板10に夫々ベア(裸)チップとしてのデータプロセッサチップ11、メモリチップ12a〜12d、バッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14が実装され、比較的高速に動作される第2の半導体装置の一例とされる。第1実装基板とされるマザーボードとその上に装着される第2実装基板としてのドータボードとの関係に着目すると、第1の半導体装置と前記第1の半導体装置よりも高速動作可能な第2の半導体装置とが配線基板2のバスに共通接続状態で実装されて構成される。前記配線基板2に対する前記マルチチップモジュール3の関係がマザーボードに対するドータボードの関係に対応される。   The multi-chip module 3 includes a data processor chip 11 as a bare chip, memory chips 12a to 12d, buffer chips 13a to 13e, and logic gates on a multilayer wiring board 10 having a large number of external connection electrodes arranged on the bottom surface. This is an example of a second semiconductor device on which the chip 14 is mounted and operated at a relatively high speed. Focusing on the relationship between the mother board as the first mounting board and the daughter board as the second mounting board mounted thereon, the first semiconductor device and the second semiconductor device capable of operating at a higher speed than the first semiconductor device. The semiconductor device is mounted on the bus of the wiring board 2 in a common connection state. The relationship of the multichip module 3 to the wiring board 2 corresponds to the relationship of the daughter board to the mother board.

前記多層配線基板10は、図13、図20及び図21を用いて後述される様に、複数層の配線パターンを有し、例えば電源配線パターンやグランド配線パターンを全面一様に導体層としたベタパターンとする構造等によって信号パターンと電源パターン若しくはグランドパターンとの間の等価静電容量を大きく且つ回路全体に亘って均一に採ることができる。この多層配線構造は、それ自体で高周波ノイズの発生及び拡散をある程度抑制する機能を発揮することができる。この多層配線基板10が有する配線層は、同基板10の一方の面で外部接続電極に接続され、他方の面で前記ベアチップの実装パッドに接続される。尚、多層配線基板10の詳細については後述する。   As will be described later with reference to FIGS. 13, 20, and 21, the multilayer wiring board 10 has a plurality of wiring patterns. For example, the power wiring pattern and the ground wiring pattern are uniformly formed as a conductor layer. The equivalent capacitance between the signal pattern and the power supply pattern or the ground pattern can be increased and uniform across the entire circuit due to the solid pattern structure or the like. The multilayer wiring structure itself can exhibit a function of suppressing the generation and diffusion of high frequency noise to some extent. The wiring layer of the multilayer wiring board 10 is connected to the external connection electrode on one surface of the substrate 10 and connected to the mounting pad of the bare chip on the other surface. The details of the multilayer wiring board 10 will be described later.

前記ASIC4,5はデータプロセッサチップ11の周辺回路として位置付けられ、通信や監視などの周辺機能を受け持つ回路とされ、前記第2の半導体装置よりも動作速度の遅い第1の半導体装置の一例とされる。ASIC4,5は例えばフラットパッケージに収納された半導体チップである。   The ASICs 4 and 5 are positioned as peripheral circuits of the data processor chip 11 and are circuits having peripheral functions such as communication and monitoring. The ASICs 4 and 5 are examples of a first semiconductor device having an operation speed slower than that of the second semiconductor device. The The ASICs 4 and 5 are, for example, semiconductor chips housed in a flat package.

前記水晶発振子6はマルチチップモジュール3及びASIC4,5に対して動作基準となるクロック信号を供給する。図1に従えば、発振子6から出力される基準クロックは、基板2の配線6Iを介して、基板10に入力される。基板10に入力された基準クロックは、基板10内の配線を介してプロセッサチップ11へ供給されてデータプロセッサチップ11内のクロックパルス発生回路で所望の周波数、例えば200MHzとされデータプロセッサチップ11の動作クロックとされる。一方、データプロセッサチップ11は、メモリチップ12a〜12dの動作クロック及びASIC4,5の動作クロックを出力する。ASIC4,5用の動作クロックは、基板10から基板2内の配線6Oを介してASIC4,5へ供給される。マルチチップモジュール3及びASIC4,5は、入出力コネクタ7を経由して入力される命令やデータを受けて処理を開始する。処理の途中で、マルチチップモジュール1とASIC4,5とは、図示を省略する共通バスを介してデータの入出力を行う。マルチチップモジュール1やASIC4,5による最終的な処理結果は入出力コネクタ7から外部に出力される。   The crystal oscillator 6 supplies a clock signal as an operation reference to the multichip module 3 and the ASICs 4 and 5. According to FIG. 1, the reference clock output from the oscillator 6 is input to the substrate 10 via the wiring 6 </ b> I of the substrate 2. The reference clock input to the substrate 10 is supplied to the processor chip 11 via the wiring in the substrate 10 and is set to a desired frequency, for example, 200 MHz, by the clock pulse generation circuit in the data processor chip 11. It is a clock. On the other hand, the data processor chip 11 outputs the operation clocks of the memory chips 12a to 12d and the operation clocks of the ASICs 4 and 5. The operation clock for the ASICs 4 and 5 is supplied from the substrate 10 to the ASICs 4 and 5 via the wiring 6O in the substrate 2. The multichip module 3 and the ASICs 4 and 5 start processing upon receiving a command or data input via the input / output connector 7. In the middle of the processing, the multichip module 1 and the ASICs 4 and 5 input / output data via a common bus (not shown). The final processing results by the multichip module 1 and the ASICs 4 and 5 are output from the input / output connector 7 to the outside.

図2にはマルチチップモジュール3を採用していない比較例に係る電子回路の外観が示される。マルチチップモジュール3の機能は図2の破線で囲まれた領域3Aに含まれる複数の半導体集積回路チップによって代替されている。即ち、図2の電子回路1Aは図1のマルチチップモジュール3の代わりに、夫々個別にパッケージされた半導体数積回路としてデータプロセッサ11A及びメモリ12Aa〜12Adが、配線基板2Aに実装されている。相対的に高速動作される前記データプロセッサ11A及びメモリ12Aa〜12Adと、比較的低速で動作すれば済むようなASIC4,5とは、共に配線基板2A上の同じバスに共通接続されている。図1のバッファチップ13a〜13eに相当するような回路は設けられていない。   FIG. 2 shows the appearance of an electronic circuit according to a comparative example that does not employ the multichip module 3. The function of the multichip module 3 is replaced by a plurality of semiconductor integrated circuit chips included in a region 3A surrounded by a broken line in FIG. That is, in the electronic circuit 1A of FIG. 2, instead of the multichip module 3 of FIG. 1, a data processor 11A and memories 12Aa to 12Ad are mounted on the wiring board 2A as individually packaged semiconductor product circuits. The data processor 11A and the memories 12Aa to 12Ad that operate at a relatively high speed and the ASICs 4 and 5 that only need to operate at a relatively low speed are commonly connected to the same bus on the wiring board 2A. Circuits corresponding to the buffer chips 13a to 13e in FIG. 1 are not provided.

図2のように高速動作すべきデバイスと低速動作で済むデバイスが共通バスに接続されているとき、その共通バスを有する配線基板2Aの設計では、少なくとも、データプロセッサ11Aとメモリ12Aa〜12Adとの間を結ぶ配線が高速動作を要するため、電気的な特性や耐外来ノイズ性能を満足させたりするのに困難を伴うことになる。配線基板2Aを全て多層配線構造にすれば、その要求を満足できても著しくコストが上昇してしまう。このとき、図1に示されるように、高速動作を要する回路部分をマルチチップモジュール3で構成すれば、ASIC4,5等の残りの回路は高速動作を要しないため、配線基板2における高周波ノイズ対策のための設計負担を大幅に軽減することができる。   As shown in FIG. 2, when a device that should operate at high speed and a device that can operate at low speed are connected to a common bus, the design of the wiring board 2A having the common bus requires at least the data processor 11A and the memories 12Aa to 12Ad. Since the wiring connecting them requires high-speed operation, it is difficult to satisfy the electrical characteristics and the external noise resistance performance. If all the wiring boards 2A have a multi-layer wiring structure, the cost will increase remarkably even if the requirement can be satisfied. At this time, as shown in FIG. 1, if the circuit portion that requires high-speed operation is configured by the multichip module 3, the remaining circuits such as the ASICs 4 and 5 do not require high-speed operation. The design burden for can be greatly reduced.

図1の多層配線基板10に搭載されるチップ部品は、前述の如く、ここではICパッケージに封止されていないベアチップとされる。したがって、ここにパッケージされた部品に比較すると、占有面積が小さくなり、それに伴い回路内の配線に寄生する抵抗成分や容量成分などの遅延成分が小さくなり、高速動作に好適である。また大量の配線がマルチチップモジュール3内で完結するようになるため、配線基板2に残る配線本数も減り、結果として配線基板2の配線層数を減らすことが可能となる。これは配線基板2の製造コスト引き下げに寄与する。さらに前述したように複数個のベアチップを一つの多層配線基板10に実装して封止したマルチチップモジュール3を使用することにより、配線基板2自体の面積も小さくすることができる。マルチチップモジュール3はパッケージされたデータプロセッサ11Aの外形にほぼ等しい大きさであるから、配線基板2それ自体も小さくでき、携帯端末等の小型機器への組み込み用途に好適である。例えば、モジュール3のサイズは、27mm×27mmと小さくできる。   The chip components mounted on the multilayer wiring board 10 in FIG. 1 are bare chips that are not sealed in the IC package as described above. Therefore, compared with the components packaged here, the occupied area is reduced, and accordingly, delay components such as a resistance component and a capacitance component parasitic on the wiring in the circuit are reduced, which is suitable for high-speed operation. Further, since a large amount of wiring is completed in the multichip module 3, the number of wirings remaining on the wiring board 2 is reduced, and as a result, the number of wiring layers of the wiring board 2 can be reduced. This contributes to a reduction in manufacturing cost of the wiring board 2. Furthermore, as described above, by using the multichip module 3 in which a plurality of bare chips are mounted on one multilayer wiring board 10 and sealed, the area of the wiring board 2 itself can be reduced. Since the multichip module 3 has a size approximately equal to the outer shape of the packaged data processor 11A, the wiring board 2 itself can be made small, and is suitable for use in a small device such as a portable terminal. For example, the size of the module 3 can be reduced to 27 mm × 27 mm.

また、製品の改良や品種展開に伴う変更も、搭載するマルチチップモジュールのみを修正するように当初から計画しておくことにより、電子回路の配線基板2の共通利用が可能となり、電子回路1全体の製造コストも低減する。即ち、電子回路1又は1Aの構成を変化させようとすると、図2の場合には配線基板2Aを全て設計し直すことになるが、図1の場合には、変更点をマルチチップモジュール3内に留めることにより、配線基板2の再設計を不要にできる。   In addition, changes due to product improvements and product development are planned from the beginning so that only the mounted multi-chip module is modified, so that the common use of the wiring board 2 of the electronic circuit becomes possible. The manufacturing cost is also reduced. That is, if the configuration of the electronic circuit 1 or 1A is changed, the wiring board 2A is completely redesigned in the case of FIG. 2, but in the case of FIG. Therefore, the redesign of the wiring board 2 can be made unnecessary.

《耐ノイズ性能強化レイアウト》
図3にはマルチチップモジュールのチップレイアウトの一例が示される。図3において、比較的高速動作されるデータプロセッサチップ11及びメモリチップ12a〜12dと、比較的低速動作されるバッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14とは多層配線基板10に分離されて配置されている。特に、前記多層配線基板10のほぼ中央にデータプロセッサチップ11が配置され、前記データプロセッサチップ11を挟んで、一方に複数個のメモリチップ12a〜12dが、他方に複数個のバッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14が並列配置されている。尚、図示は省略されているが、モジュール基板上にバイパスコンデンサや発振防止用抵抗などの受動部品が必要に応じて搭しても支障のないことは言うまでもない。
《Noise-proof performance enhanced layout》
FIG. 3 shows an example of a chip layout of a multichip module. In FIG. 3, the data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d that are operated at a relatively high speed, and the buffer chips 13a to 13e and the logic gate chip 14 that are operated at a relatively low speed are arranged separately on the multilayer wiring board 10. ing. In particular, a data processor chip 11 is arranged at substantially the center of the multilayer wiring board 10, with a plurality of memory chips 12a to 12d on one side and a plurality of buffer chips 13a to 13e on the other side across the data processor chip 11. And the logic gate chip 14 is arranged in parallel. Although illustration is omitted, it goes without saying that there is no problem even if passive components such as a bypass capacitor and an oscillation prevention resistor are mounted on the module substrate as necessary.

図4には図3に示されるマルチチップモジュールの底面が示される。多層配線基板10の底面には多数の外部接続電極が4列で周回するように配列されている。特に制限されないが、外部接続電極15は半田ボールで構成される。特に制限されないが、各外部接続電極15の直径は0.76ミリメーター(mm)とされ、各外部接続電極15の中心間の距離は1.27ミリメーターとされる。ここで採用した多層配線基板10は、特に制限されないが、ボールグリッドアレー(Ball Grid Array:以下BGA)と呼ばれる形式のICパッケージに類似した外形を採用している。例えば、256ピンのBGAパッケージに合わせてある。尚、マルチチップモジュール3がその他のパッケージ形式を使用してよいことは言うまでもない。   FIG. 4 shows the bottom surface of the multichip module shown in FIG. A large number of external connection electrodes are arranged on the bottom surface of the multilayer wiring board 10 so as to circulate in four rows. Although not particularly limited, the external connection electrode 15 is composed of a solder ball. Although not particularly limited, the diameter of each external connection electrode 15 is 0.76 millimeters (mm), and the distance between the centers of each external connection electrode 15 is 1.27 millimeters. The multilayer wiring board 10 employed here is not particularly limited, but adopts an external shape similar to an IC package called a ball grid array (hereinafter referred to as BGA). For example, it is suitable for a 256-pin BGA package. Needless to say, the multichip module 3 may use other package formats.

図5にはマルチチップモジュールの外部接続電極に対する機能割り当ての状態が例示されている。図5の向きは図3に一致されている。   FIG. 5 illustrates a function assignment state for the external connection electrodes of the multichip module. The orientation of FIG. 5 is consistent with FIG.

図5において領域E5の裏面には大凡メモリチップ12a〜12dが配列されている。領域E1〜E4の裏面には大凡バッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14が配列されている。   In FIG. 5, memory chips 12a to 12d are generally arranged on the back surface of the region E5. Buffer chips 13a to 13e and a logic gate chip 14 are arranged on the back surface of the regions E1 to E4.

図5において黒丸印の外部接続電極15vsは回路のグランド電圧Vss供給端子(グランド端子)である。斜線丸印、平行線丸印の外部接続電極15da,15dbは1.8V、3.3Vの電源電圧vddの供給端子、白丸印の外部接続電極15sgは信号端子である。1.8Vの電源はデータプロセッサチップのCPUの動作電源とされる。その他の回路は原則的に3.3Vを動作電源とする。   In FIG. 5, the external connection electrode 15 vs indicated by a black circle is a circuit ground voltage Vss supply terminal (ground terminal). The external connection electrodes 15da and 15db shown by hatched circles and parallel lines are 1.8 V and 3.3 V supply voltage vdd supply terminals, and the white circle external connection electrodes 15 sg are signal terminals. The power supply of 1.8V is used as the operation power supply for the CPU of the data processor chip. In principle, the other circuits use 3.3V as the operating power supply.

前記領域E1、E2の外部接続電極15sgは、信号変化が頻繁若しくは動きの多い信号であるデータ入出力、アドレス出力に割当てられている。これに対して、領域E3の外部接続電極15sgは、信号変化が穏やか若しくは動きの少ない信号である割り込み信号やデータ転送要求信号などのデータプロセッサチップのハンドシェーク信号などの入力及び出力に割当てられると共に、この領域E3は特に電源電圧Vddやグランド電圧Vssの供給に割当てられる電極15da,15db,15vsが相対的に多くされている。領域E4の外部接続電極15sgはチップセレクト信号等の出力、領域E5の外部接続電極15sgはライト信号やリード信号等の出力に割当てられている。また、信号用の外部接続電極15sgのうち、幾つかは電源用の外部接続端子15da,15db,15vsで大凡囲まれているものがある。これも信号のノイズ対策を企図したものである。尚、CKIOは、ASIC 4,5へのクロック出力端子であり、XTAL、EXTALは、発振子6への接続端子である。   The external connection electrodes 15sg in the areas E1 and E2 are assigned to data input / output and address output, which are signals that change frequently or move frequently. On the other hand, the external connection electrode 15sg in the region E3 is assigned to an input and an output of a handshake signal of a data processor chip such as an interrupt signal or a data transfer request signal which is a signal whose signal change is gentle or has little movement, In this region E3, the electrodes 15da, 15db, and 15vs assigned to supply of the power supply voltage Vdd and the ground voltage Vss are particularly increased. The external connection electrode 15sg in the region E4 is assigned to output such as a chip select signal, and the external connection electrode 15sg in the region E5 is assigned to output such as a write signal and a read signal. Some of the signal external connection electrodes 15sg are roughly surrounded by power supply external connection terminals 15da, 15db, and 15vs. This is also intended to prevent signal noise. Note that CKIO is a clock output terminal to the ASICs 4 and 5, and XTAL and EXTAL are connection terminals to the oscillator 6.

なお、図5において最内周で周回する1列の外部接続電極のほとんどは電源電圧とグランド電圧の供給に割当てられ、これは、多層配線基板10の中央部に実装されるデータプロセッサチップ11への電源供給を強化するためである。   In FIG. 5, most of the external connection electrodes in one row that circulate in the innermost circumference are assigned to supply of the power supply voltage and the ground voltage, and this is applied to the data processor chip 11 mounted in the central portion of the multilayer wiring board 10. This is to strengthen the power supply.

前記データプロセッサチップ11及びメモリチップ12a〜12dは比較的高速に若しくは頻繁に動作され、これに比べて前記バッファチップ13a〜13eや論理ゲートチップ14は比較的低速で動作され若しくは動作頻度が比較的少ない。図3のようにデータプロセッサチップ11を挟んでその両側にメモリチップ12a〜12dと、バッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14とをレイアウトすれば、高速動作領域と低速動作領域とが分離される。モジュール基板10上で高速動作領域と低速動作慮域とを分離すれば、多層配線10の裏面に配置される外部接続電極の機能を、高速動作領域の回路特性と低速動作領域の回路特性との相違に応じて決定することが可能になる。   The data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d are operated at a relatively high speed or frequently, and the buffer chips 13a to 13e and the logic gate chip 14 are operated at a relatively low speed or the operation frequency is relatively low. Few. If the memory chips 12a to 12d, the buffer chips 13a to 13e, and the logic gate chip 14 are laid out on both sides of the data processor chip 11 as shown in FIG. 3, the high speed operation area and the low speed operation area are separated. . If the high-speed operation area and the low-speed operation area are separated on the module substrate 10, the function of the external connection electrode arranged on the back surface of the multilayer wiring 10 can be changed between the circuit characteristics of the high-speed operation area and the circuit characteristics of the low-speed operation area. It becomes possible to decide according to the difference.

例えば、アドレス出力及びデータ入出力に対応される外部接続電極を、相対的に動作速度の遅いバッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14が搭載される領域の裏面E1,E2に配置する。マルチチップモジュールの動作上アドレス出力及びデータ入出力動作は高速に且つ頻繁に行われるから、そのような信号変化の頻繁な部分で発生するノイズの影響を高速動作領域の回路であるデータプロセッサチップ11及びメモリチップ12a〜12dが受けることを緩和することができる。これによって耐ノイズ性能が強化される。   For example, external connection electrodes corresponding to address output and data input / output are arranged on the rear surfaces E1 and E2 of the region where the buffer chips 13a to 13e and the logic gate chip 14 having relatively low operation speed are mounted. The address output and data input / output operations are performed at high speed and frequently in the operation of the multichip module. Therefore, the data processor chip 11 which is a circuit in the high speed operation region is affected by the noise generated in such a frequent part of signal change. In addition, the memory chips 12a to 12d can be relaxed. This enhances noise resistance.

また、前記相対的に動作速度の速いデータプロセッサチップ11やメモリチップ12a〜12dが搭載される領域の裏面領域E3には電源電圧Vdd及びグランド電圧Vssの供給に割当てられる外部接続電極15da,15db,15vsを相対的に多く配置し、これに応じてその領域E3には信号入出力用に割当てられる外部接続電極15sgの数が相対的に少なくなる。これは、アドレス出力及びデータ入出力のような信号変化の頻繁な外部接続電極部分が、データプロセッサチップ及びメモリチップのような高速動作部分から遠ざけられていることを意味する。したがって、高速動作するデータプロセッサチップ11やメモリチップ12a〜12dが外来ノイズの影響を受けることを緩和することができる。この点においても、耐ノイズ性能が強化される。   Further, external connection electrodes 15da, 15db assigned to supply of the power supply voltage Vdd and the ground voltage Vss are provided on the back surface area E3 of the area where the data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d having relatively high operation speed are mounted. A relatively large amount of 15vs is arranged, and accordingly, the number of external connection electrodes 15sg allocated for signal input / output in the region E3 is relatively small. This means that external connection electrode portions with frequent signal changes such as address output and data input / output are separated from high-speed operation portions such as data processor chips and memory chips. Therefore, it is possible to reduce the influence of external noise on the data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d that operate at high speed. Also in this point, the noise resistance performance is enhanced.

前記耐ノイズ性強化の観点は、前記電源電圧及びグランド電圧の供給に割当てられる動作電源用の外部接続電極の配置に対する疎密として把握することが可能である。電力消費の大きな半導体集積回路チップの裏面ほど前記動作電源用に割当てられた外部接続電極が密に配置されている。半導体集積回路チップ11,12a〜12d、13a〜13e,14における内部回路の充放電動作は、一般的には高速且つ頻繁に行われる程、電力消費も多くなるという相関がある。したがて、この観点に着目すれば、電力消費の大きな半導体集積回路チップの裏面ほど前記動作電源用に割当てられた外部接続電極を密に配置すれば、アドレス出力及びデータ入出力のような信号変化の頻繁な外部接続電極部分は相対的に低速動作部分よりも高速動作部分から遠ざけられることになる。   The viewpoint of enhancing the noise resistance can be grasped as a density with respect to the arrangement of the external connection electrodes for the operation power supply allocated to the supply of the power supply voltage and the ground voltage. The external connection electrodes allocated for the operation power supply are arranged closer to the back surface of the semiconductor integrated circuit chip that consumes more power. The charge / discharge operations of the internal circuits in the semiconductor integrated circuit chips 11, 12 a to 12 d, 13 a to 13 e, 14 generally have a correlation that the power consumption increases as the operation is performed at high speed and frequently. Therefore, if attention is paid to this point of view, signals such as address output and data input / output can be obtained by arranging the external connection electrodes allocated for the operation power source closer to the back surface of the semiconductor integrated circuit chip that consumes more power. The external connection electrode portion that frequently changes is moved away from the high-speed operation portion rather than the low-speed operation portion.

《耐ノイズ性能強化用バッファ》
図6には前記マルチチップモジュールの機能ブロック図を例示する。
《Noise resistant performance enhancement buffer》
FIG. 6 illustrates a functional block diagram of the multichip module.

図7にはデータプロセッサチップとメモリチップとの接続態様の一例が端子対応で示される。   FIG. 7 shows an example of a connection mode between the data processor chip and the memory chip in correspondence with terminals.

前記メモリチップ12a〜12dは例えばSDRAMによって構成され、例えばデータプロセッサチップ11のメインメモリとして機能される。   The memory chips 12a to 12d are constituted by SDRAM, for example, and function as a main memory of the data processor chip 11, for example.

SDRAMは、特に図示はしないが、ダイナミック型メモリセルのマトリクスをメモリセルアレイに有し、クロック信号に同期して供給されるコマンド信号によってロウアクティブ、カラムアクティブリード、カラムアクティブライト、リフレッシュ等の動作が指示され、コマンドと一緒に供給されるアドレス信号或いは内部アドレスカウンタで生成したアドレス信号を用い、クロック同期でリード・ライト動作を行うようになっている。バースト動作が指示されれば、所定のバースト数のデータを連続リード又は連続ライトすることができる。SDRAM12a〜12dは、図7に例示されるように、アドレス入力端子A13〜A0及びデータ入出力端子I/O15〜I/O0の他に、アクセス制御信号の入力端子として、/CS(チップ選択)、/RAS(ロウアドレスストローブ)、/CAS(カラムアドレスストローブ)、/WE(ライトイネーブル)、CLKE(クロックイネーブル)、CLK(クロック)、DQML、DQMH(データマスク)を有する。DQML、DQMH(データマスク)はバーストライト動作において入力データをバイト単位でマスクする制御端子である。   Although not specifically shown, the SDRAM has a matrix of dynamic memory cells in a memory cell array, and performs operations such as row active, column active read, column active write, and refresh by a command signal supplied in synchronization with a clock signal. The address signal supplied with the command or the address signal generated by the internal address counter is used, and the read / write operation is performed in synchronization with the clock. If a burst operation is instructed, a predetermined burst number of data can be continuously read or written. As illustrated in FIG. 7, the SDRAMs 12a to 12d have / CS (chip selection) as an access control signal input terminal in addition to the address input terminals A13 to A0 and the data input / output terminals I / O15 to I / O0. , / RAS (row address strobe), / CAS (column address strobe), / WE (write enable), CLKE (clock enable), CLK (clock), DQML, and DQMH (data mask). DQML and DQMH (data mask) are control terminals for masking input data byte by byte in a burst write operation.

図6において、マルチチップモジュール3はモジュール内バス28としてデータバス28D、アドレスバス28A、及びコントロールバス28C1,28C2を有する。   In FIG. 6, the multi-chip module 3 includes a data bus 28D, an address bus 28A, and control buses 28C1 and 28C2 as an intra-module bus 28.

メモリチップ12a〜12dにはアドレスバス28Aに含まれる14ビットのアドレス信号線A[16:3]が共通接続される。メモリチップ12a〜12dとデータバス28Dの信号線とは16ビット単位で個別的に接続されている。16ビットの信号線D[15:0]はメモリチップ12aに、16ビットの信号線D[31:16]はメモリチップ12bに、16ビットの信号線D[47:32]はメモリチップ12cに、16ビットの信号線D[63:48]はメモリチップ12dに接続される。コントロールバス28C1はメモリチップ12a〜12dに接続する信号線群を総称する。例えば端子DQML、DQMH(データマスク)にはメモリチップ毎の個別信号が供給され、その他の端子/CS(チップ選択)、/RAS(ロウアドレスストローブ)、/CAS(カラムアドレスストローブ)、/WE(ライトイネーブル)等には各メモリチップに共通の信号が供給される。コントロールバス28C2はメモリチップに接続されない制御信号、例えば割込み信号、DMAリクエスト信号、DMAアクノリッジ信号などである。   A 14-bit address signal line A [16: 3] included in the address bus 28A is commonly connected to the memory chips 12a to 12d. The memory chips 12a to 12d and the signal line of the data bus 28D are individually connected in units of 16 bits. The 16-bit signal line D [15: 0] is connected to the memory chip 12a, the 16-bit signal line D [31:16] is connected to the memory chip 12b, and the 16-bit signal line D [47:32] is connected to the memory chip 12c. , 16-bit signal lines D [63:48] are connected to the memory chip 12d. The control bus 28C1 is a generic term for a group of signal lines connected to the memory chips 12a to 12d. For example, individual signals for each memory chip are supplied to terminals DQML and DQMH (data mask), and other terminals / CS (chip selection), / RAS (row address strobe), / CAS (column address strobe), / WE ( A common signal is supplied to each memory chip. The control bus 28C2 is a control signal not connected to the memory chip, for example, an interrupt signal, a DMA request signal, a DMA acknowledge signal, or the like.

図7には、メモリチップ12a〜12dの前記端子と接続されるデータプロセッサチップ11の対応端子として、アドレス出力端子A16〜A3、データ入出力端子I/O63〜I/O0、そしてアクセス制御端子CKIO、CKE、/CSm、/RASm、/CASm、RD/WR、DQM7〜DQM0が示されている。   FIG. 7 shows address output terminals A16 to A3, data input / output terminals I / O63 to I / O0, and access control terminal CKIO as corresponding terminals of the data processor chip 11 connected to the terminals of the memory chips 12a to 12d. , CKE, / CSm, / RASm, / CASm, RD / WR, DQM7 to DQM0 are shown.

前記データプロセッサチップ11は、日立製作所から発売されているSH7750が利用可能とされ、図8に例示されるように、システムバス20に中央処理装置(CPU)21及び浮動小数点演算ユニット(FPU)22を有し、システムバス20は、アドレス変換・キャッシュユニット23を介してキャッシュバス24にインタフェース可能にされる。CPU21はフェッチした命令を解読して制御信号を生成する命令制御部21A、及び命令制御部21Aの制御で整数演算を行う演算部21Bを有する。CPU21はフェッチした命令がFPU命令であるなら、必要なバスアクセス制御を行ってFPU22がオペランドをフェッチし、或いは演算結果をストアできるように制御したりする。FPU22はFPU命令を解読して、浮動小数点演算を行う。アドレス変換・キャッシュユニット23は論理アドレスを物理アドレスに変換するアドレス変換機構を有し、また、データキャッシュメモリ及び命令キャッシュメモリを有する。アドレス変換・キャッシュユニット23はキャッシュヒットであれば、ヒットに係る情報をシステムバス20に出力し、システムバス20の情報をキャッシュメモリにライトする。キャッシュミスヒットのとき、アドレス変換・キャッシュユニット23はバスステートコントローラ25に外部バスアクセスを指示し、これによってミスヒットに係る情報のリード又はライトを可能にする。   As the data processor chip 11, SH7750 sold by Hitachi, Ltd. can be used. As illustrated in FIG. 8, a central processing unit (CPU) 21 and a floating point arithmetic unit (FPU) 22 are connected to the system bus 20. The system bus 20 can be interfaced to the cache bus 24 via the address translation / cache unit 23. The CPU 21 includes an instruction control unit 21A that decodes the fetched instruction and generates a control signal, and an arithmetic unit 21B that performs integer arithmetic under the control of the instruction control unit 21A. If the fetched instruction is an FPU instruction, the CPU 21 performs necessary bus access control to control the FPU 22 to fetch an operand or store an operation result. The FPU 22 decodes the FPU instruction and performs a floating point operation. The address translation / cache unit 23 has an address translation mechanism that translates a logical address into a physical address, and also has a data cache memory and an instruction cache memory. If the address translation / cache unit 23 is a cache hit, the information related to the hit is output to the system bus 20 and the information of the system bus 20 is written to the cache memory. When a cache miss occurs, the address translation / cache unit 23 instructs the bus state controller 25 to access the external bus, thereby enabling reading or writing of information related to the miss.

前記キャッシュバス24はバスステートコントローラ25に接続される。バスステートコントローラ25は、キャッシュバス24からの指示に従って、内部バス26、外部バスインタフェース回路27、及びモジュール内バス28を介する外部アクセスを行い、或いは周辺バス29を介してSCI(シリアルコミュニケーションインタフェース)30、タイマ31、A/D32などの周辺回路をアクセスする。周辺バス29には割り込みコントローラ33、クロック発生回路34、DMAC(ダイレクトメモリアクセスコントローラ)35が接続されている。DMAC35は、CPU21による初期設定にしたがってバスステートコントローラ25を介して外部アクセスが可能にされる。データプロセッサチップ11はクロック信号CLKを動作基準クロック信号として、そのクロック信号に同期動作する。   The cache bus 24 is connected to a bus state controller 25. The bus state controller 25 performs external access via the internal bus 26, the external bus interface circuit 27, and the intra-module bus 28 according to an instruction from the cache bus 24, or an SCI (serial communication interface) 30 via the peripheral bus 29. The peripheral circuit such as the timer 31 and the A / D 32 is accessed. An interrupt controller 33, a clock generation circuit 34, and a DMAC (direct memory access controller) 35 are connected to the peripheral bus 29. The DMAC 35 can be accessed externally via the bus state controller 25 according to the initial setting by the CPU 21. The data processor chip 11 uses the clock signal CLK as an operation reference clock signal and operates synchronously with the clock signal.

図6において、モジュール内バス28の前記データバス28D、アドレスバス28A、及びコントロールバス28C1には、バッファ回路として、例えば、データ入出力バッファ40、アドレス出力バッファ41、制御信号出力バッファ42、及び前記論理ゲートチップ14が挿入されている。データ入出力バッファ40は前記バッファチップ13a、13bで構成され、アドレス出力バッファ41は前記バッファチップ13c,13dで構成され、制御信号出力バッファ42は前記バッファチップ13eで構成される。前記データ入出力バッファ40は、データプロセッサチップ11によるメモリチップ12a〜12dのアクセスに際して入力を遮断する。   In FIG. 6, the data bus 28D, the address bus 28A, and the control bus 28C1 of the intra-module bus 28 include, for example, a data input / output buffer 40, an address output buffer 41, a control signal output buffer 42, and the buffer circuit as buffer circuits. A logic gate chip 14 is inserted. The data input / output buffer 40 is composed of the buffer chips 13a and 13b, the address output buffer 41 is composed of the buffer chips 13c and 13d, and the control signal output buffer 42 is composed of the buffer chip 13e. The data input / output buffer 40 blocks input when the data processor chip 11 accesses the memory chips 12a to 12d.

図9にはアドレス出力バッファ41、制御信号出力バッファ42の1ビット分の構成が例示される。これは、トライステートバッファTB1,TB2が逆並列接続され、一方のトライステートバッファTB1はアンドゲートG1の出力で活性化制御され、他方のトライステートバッファTB2はアンドゲートG2の出力で活性化制御される。すなわち、バッファ41及び42はトライステート型バススイッチと見なすことができる。アンドゲートG1の2入力はハイレベルに固定され、トライステートバッファTB1は動作電源が投入されれば常時出力動作可能にされる。他方のアンドゲートG2は出力がローレベルに固定されているので、トライステートバッファTB2は高出力インピーダンス状態に固定される。これによって、動作電源投入後、常時出力動作可能な出力バッファが実現される。   FIG. 9 illustrates the configuration of one bit of the address output buffer 41 and the control signal output buffer 42. This is because the tristate buffers TB1 and TB2 are connected in reverse parallel, one tristate buffer TB1 is activated and controlled by the output of the AND gate G1, and the other tristate buffer TB2 is activated and controlled by the output of the AND gate G2. The That is, the buffers 41 and 42 can be regarded as tristate bus switches. The two inputs of the AND gate G1 are fixed at a high level, and the tri-state buffer TB1 can always be output when the operation power is turned on. Since the output of the other AND gate G2 is fixed to the low level, the tristate buffer TB2 is fixed to the high output impedance state. As a result, an output buffer capable of always performing an output operation after the operation power is turned on is realized.

図10にはデータ入出力バッファ40の1ビット分の構成が例示される。これは、トライステートバッファTB1,TB2が逆並列接続され、一方のトライステートバッファTB1はアンドゲートG1の出力で活性化制御され、他方のトライステートバッファTB2はアンドゲートG2の出力で活性化制御される。すなわち、バッファ40は、入力及び出力が交差接続された一対のバススイッチと見なすことができる。前記論理ゲートチップ14は電源電圧Vddとチップ選択信号/CSを2入力とするナンドゲートG3を有する。前記アンドゲートG1,G2の一方の入力には前記ナンドゲートG3の出力反転信号が入力される。前記アンドゲートG1,G2の他方の入力には前記リード信号/RDの反転信号、非反転信号が入力される。   FIG. 10 illustrates the configuration of one bit of the data input / output buffer 40. This is because the tristate buffers TB1 and TB2 are connected in reverse parallel, one tristate buffer TB1 is activated and controlled by the output of the AND gate G1, and the other tristate buffer TB2 is activated and controlled by the output of the AND gate G2. The That is, the buffer 40 can be regarded as a pair of bus switches whose inputs and outputs are cross-connected. The logic gate chip 14 has a NAND gate G3 having two inputs of a power supply voltage Vdd and a chip selection signal / CS. The inverted output signal of the NAND gate G3 is input to one input of the AND gates G1 and G2. An inverted signal and a non-inverted signal of the read signal / RD are input to the other inputs of the AND gates G1 and G2.

データプロセッサチップ11によるメモリチップ12a〜12dのチップ選択動作は/CSのローレベルによって指示される。この状態で前記ナンドゲートG3の出力はハイレベルにされ、これに応答して双方のアンドゲートG1,G2の出力はローレベルにされるから、データ入出力バッファ40は高インピーダンス状態にされる。メモリチップ12a〜12dのチップ非選択状態(/CS=ハイレベル)では、/RDによるリード動作の指示に応答してアンドゲートG1の出力がハイレベルにされ、トライステートバッファTB1は外部からデータバス28Dへデータを入力可能にする。メモリチップ12a〜12dのチップ非選択状態(/CS=ハイレベル)において、/RDによるリード動作が指示されていないときはアンドゲートG2の出力がハイレベルにされ、トライステートバッファTB2がデータバス28Dから外部へデータを出力可能にされる。尚、図9及び図10に示されるバッファ回路は汎用バッファ回路HD74LVHC16245を利用して構成するため、ほぼ同一の回路構成とされている。汎用バッファ回路を用いないのであれば、同一な回路構成とされなくとも良い。   The chip selection operation of the memory chips 12a to 12d by the data processor chip 11 is instructed by the low level of / CS. In this state, the output of the NAND gate G3 is set to a high level, and in response to this, the outputs of both AND gates G1 and G2 are set to a low level, so that the data input / output buffer 40 is set to a high impedance state. In the chip non-selected state (/ CS = high level) of the memory chips 12a to 12d, the output of the AND gate G1 is set to the high level in response to the read operation instruction by / RD, and the tristate buffer TB1 is externally connected to the data bus. Data can be input to 28D. In the chip non-selected state (/ CS = high level) of the memory chips 12a to 12d, when the read operation by / RD is not instructed, the output of the AND gate G2 is set to the high level, and the tristate buffer TB2 is set to the data bus 28D. Data can be output to the outside. The buffer circuits shown in FIGS. 9 and 10 are configured using the general-purpose buffer circuit HD74LVHC16245, and therefore have almost the same circuit configuration. If a general-purpose buffer circuit is not used, the same circuit configuration may not be used.

前記データプロセッサチップ11とメモリチップ12a〜12dとが例えば100MHz以上の高速で動作されると、それによってモジュール内バス28にはノイズが入り込もうとする。最近の高速動作可能な半導体集積回路は、電源電圧を低くする傾向がある。これは消費電力を低く抑えるとともに、信号振幅を小さくすることによって、信号の変化にかかる時間を小さくし、高速動作を可能にするためである。しかし、信号の振幅が小さくなると、外来ノイズの影響を受けやすくなるという問題がある。このような高周波ノイズに対して、前述の通り、第1に、データプロセッサチップ11やメモリチップ12a〜12dなどの高速動作デバイスを選んで耐ノイズ特性の優れた多層配線構造のマルチチップモジュール化した。第2にマルチチップモジュールに対して耐ノイズ性能を強化したチップ及び外部接続端子15のレイアウトを採用した。その上で、モジュール内バス28D、28A、28C1に上述のバッファ回路40,41,42、14を挿入した。バッファ回路40,41,42、14は、マルチチップモジュール3それ自体に対する前記第1及び第2の耐ノイズ特性強化策に対し、配線基板2からモジュール内バスにノイズが注入されるのを抑制して、更に万全のノイズ対策を施そうとするものである。   When the data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d are operated at a high speed of, for example, 100 MHz or more, noise tends to enter the intra-module bus 28. Recent semiconductor integrated circuits capable of high-speed operation tend to lower the power supply voltage. This is to reduce power consumption and reduce the signal amplitude, thereby reducing the time required for signal change and enabling high-speed operation. However, there is a problem that when the amplitude of the signal becomes small, it is easily affected by external noise. For such high-frequency noise, as described above, first, high-speed operation devices such as the data processor chip 11 and the memory chips 12a to 12d are selected, and a multi-chip module having a multilayer wiring structure having excellent noise resistance characteristics is obtained. . Second, the layout of the chip and the external connection terminal 15 with enhanced noise resistance performance is adopted for the multichip module. After that, the above-described buffer circuits 40, 41, 42, and 14 were inserted into the intra-module buses 28D, 28A, and 28C1. The buffer circuits 40, 41, 42, and 14 suppress the injection of noise from the wiring board 2 to the intra-module bus, in contrast to the first and second noise resistance enhancement measures for the multichip module 3 itself. Therefore, we are going to take more thorough noise countermeasures.

上記観点によるバッファ回路40,41,42、14の作用を説明する。上記より明らかなように、前記外部接続電極15に向けてアドレス信号を出力するアドレス出力バッファ41及び前記外部接続電極15に向けてアクセス制御信号を出力する制御信号出力バッファ42は、常時信号入力を抑止しているから、外部接続電極15からそれを介して高周波ノイズの流入はない。更に、前記メモリチップの動作選択に呼応して高インピーダンス状態にされるデータ入出力バッファ40も外部接続電極15からモジュール内バスを介して外来ノイズがメモリチップに流入し難くする。したがって、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊に対する抑止機能を強化することができる。さらに、前記メモリチップの動作選択に応答して高インピーダンス状態に制御すればよいから、簡単な制御で済む。   The operation of the buffer circuits 40, 41, 42 and 14 from the above viewpoint will be described. As apparent from the above, the address output buffer 41 that outputs an address signal toward the external connection electrode 15 and the control signal output buffer 42 that outputs an access control signal toward the external connection electrode 15 always receive a signal input. Since it is suppressed, there is no inflow of high frequency noise from the external connection electrode 15 through it. Further, the data input / output buffer 40 which is brought into a high impedance state in response to the operation selection of the memory chip also makes it difficult for external noise to flow into the memory chip from the external connection electrode 15 via the intra-module bus. Therefore, it is possible to enhance a function of suppressing memory data destruction due to high frequency noise during memory access operation. Further, since it is sufficient to control the high impedance state in response to the operation selection of the memory chip, simple control is sufficient.

以上により、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊防止を強化することができる。   As described above, it is possible to enhance the prevention of memory data destruction due to high frequency noise during the memory access operation.

図17にはマルチチップモジュールの別の機能ブロック図を例示する。同図に示されるマルチチップモジュール3extは、図6のマルチチップモジュール3に対して、マルチチップモジュール3extの外部に配置されたバスマスタとしての外部デバイス(例えば、カーナビゲーションシステムなどで地図データをCD−ROMから読出すデバイス、文字放送のデータを抜き出すデバイス)43extによってマルチチップモジュール3extの内部をアクセス可能にしたものである。例えば、マルチチップモジュール3extは、グラフィックアクセラレータ11extを含み、更に、モジュール内バス28の前記データバス28D、アドレスバス28A、及びコントロールバス28C1には、バッファ回路として、データ入出力バッファ40ext、アドレス入出力バッファ41ext、制御信号入出力バッファ42ext、及び前記論理ゲートチップ14extが挿入されている。バス調停回路はデータプロセッサチップ11が有し、外部デバイス43extは、バスリクエスト信号BREQをデータプロセッサチップ11に供給してバス権を要求し、外部デバイス43extに対するバス権の承認はバスアクノリッジ信号BACKによって外部デバイス43extに返される。尚、前記バスリクエスト信号BREQ及びバスアクノリッジ信号BACKは制御バス28C1経由で入出力されるように図示されているが実際はバス28C2を介して入出力されるものであると理解されたい。   FIG. 17 illustrates another functional block diagram of the multichip module. The multichip module 3ext shown in the figure is different from the multichip module 3 of FIG. 6 in that an external device (for example, a car navigation system or the like is used to store map data on a CD-ROM) arranged outside the multichip module 3ext. (Device for reading from ROM, device for extracting teletext data) 43ext enables the inside of the multichip module 3ext to be accessed. For example, the multichip module 3ext includes a graphic accelerator 11ext. Further, the data bus 28D, the address bus 28A, and the control bus 28C1 of the intra-module bus 28 have a data input / output buffer 40ext and an address input / output as buffer circuits. A buffer 41ext, a control signal input / output buffer 42ext, and the logic gate chip 14ext are inserted. The data processor chip 11 has a bus arbitration circuit, and the external device 43ext supplies the bus request signal BREQ to the data processor chip 11 to request the bus right, and the bus right for the external device 43ext is acknowledged by the bus acknowledge signal BACK. Returned to the external device 43ext. Although the bus request signal BREQ and the bus acknowledge signal BACK are illustrated as being input / output via the control bus 28C1, it should be understood that they are actually input / output via the bus 28C2.

図18には入出力バッファ40extとそれを制御する論理ゲートチップ14extの一部が例示され、図19には入出力バッファ41ext,42extとそれを制御する論理ゲートチップ14extの一部が例示されている。図9及び図10と同一機能を有する回路要素には同一符号を付してその詳細な説明を省略する。   18 illustrates an input / output buffer 40ext and a part of the logic gate chip 14ext that controls the input / output buffer 40ext, and FIG. 19 illustrates an input / output buffer 41ext, 42ext and a part of the logic gate chip 14ext that controls the input / output buffer 41ext. Yes. Circuit elements having the same functions as those in FIGS. 9 and 10 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

前記入出力バッファ40ext,41ext,42extは、ナンドゲートG3に前記チップ選択信号/CSが供給され、図10と同様に、データプロセッサチップ11によるメモリチップ12a〜12dのアクセスに際して入力が遮断される。   The input / output buffers 40ext, 41ext, and 42ext are supplied with the chip selection signal / CS to the NAND gate G3, and the input is blocked when the data processor chip 11 accesses the memory chips 12a to 12d as in FIG.

図19に示されるように前記入出力バッファ41ext,42extは、データプロセッサチップ11がバス権を獲得しているときトライステートバッファTB2が非活性にされることにより、出力バッファとして機能される。   As shown in FIG. 19, the input / output buffers 41ext and 42ext function as output buffers by deactivating the tristate buffer TB2 when the data processor chip 11 has acquired the bus right.

データ入出力バッファ40extはデータプロセッサチップ11がバス権を獲得するか、外部デバイス43extがバス権を獲得するかによってリード・ライトによるデータ方向が逆になる。これをサポートするために、図18に例示されるように、バスアクノリッジ信号/BACKがネゲート状態(データプロセッサチップ11がバス権保有)のとき、データプロセッサチップ11が出力するリード信号/RDを選択し、バスアクノリッジ信号/BACKがアサート状態(外部デバイス43extがバス権保有)のとき、外部デバイス43extが出力するライト信号/WRを選択するマルチプレクサMPXが設けられている。   In the data input / output buffer 40ext, the data direction by the read / write is reversed depending on whether the data processor chip 11 acquires the bus right or the external device 43ext acquires the bus right. In order to support this, as illustrated in FIG. 18, when the bus acknowledge signal / BACK is negated (the data processor chip 11 has the bus right), the read signal / RD output by the data processor chip 11 is selected. A multiplexer MPX is provided for selecting a write signal / WR output from the external device 43ext when the bus acknowledge signal / BACK is asserted (the external device 43ext has the bus right).

図18及び図19の例では外部デバイス43extはグラフィックアクセラレータ11extをアクセスすることが可能になる。但し、外部デバイス43extは前記チップ選択信号/CSをアサートしてSDRAM12a〜12dをアクセスすることはできない。チップ選択信号/CSのアサートによって入出力バッファ40ext,41ext,42extが高インピーダンス状態にされるからである。特に図示はしないが、バス権を取得した外部デバイス43extが前記チップ選択信号/CSをアサートしてSDRAM12a〜12dをアクセスできるようにするには、図18及び図19におけるナンドゲートG3を2入力ノアゲートに代え、一方の入力にはチップ選択信号/CSを、他方の入力にはバスアクノリッジ信号/BACKの反転信号を入力するように構成すればよい。   In the example of FIGS. 18 and 19, the external device 43ext can access the graphic accelerator 11ext. However, the external device 43ext cannot access the SDRAMs 12a to 12d by asserting the chip selection signal / CS. This is because the input / output buffers 40ext, 41ext, and 42ext are brought into a high impedance state by the assertion of the chip selection signal / CS. Although not shown in particular, in order to allow the external device 43ext having acquired the bus right to access the SDRAMs 12a to 12d by asserting the chip selection signal / CS, the NAND gate G3 in FIGS. 18 and 19 is changed to a two-input NOR gate. Instead, the chip selection signal / CS may be input to one input, and the inverted signal of the bus acknowledge signal / BACK may be input to the other input.

図17の構成においても、図6と同様に、高周波ノイズに対して、多層配線構造によるマルチチップモジュール化し、マルチチップモジュールに対して耐ノイズ性能を強化したチップ及ぶ外部接続端子15のレイアウトを採用し、その上で、モジュール内バス28D、28A、28C1に上述のバッファ回路40ext,41ext,42ext、14extを挿入したものである。バッファ回路40ext,41ext,42ext、14は、マルチチップモジュール3extそれ自体に対する前記第1及び第2の耐ノイズ特性強化策に対し、配線基板2側からモジュール内バスにノイズが注入されるのを抑制して、更に万全のノイズ対策を施すものである。したがって、バッファ回路40ext,41ext,42extはメモリチップの動作選択に呼応して高インピーダンス状態にされるから、メモリアクセス動作中における高周波ノイズによるメモリデータの破壊に対する抑止機能を強化することができる。   In the configuration of FIG. 17 as well, similar to FIG. 6, a multi-chip module with a multi-layer wiring structure is adopted for high-frequency noise, and the layout of the external connection terminal 15 that covers the chip with enhanced noise resistance performance is adopted for the multi-chip module. In addition, the above-described buffer circuits 40ext, 41ext, 42ext, and 14ext are inserted into the intra-module buses 28D, 28A, and 28C1. The buffer circuits 40ext, 41ext, 42ext, 14 suppress the injection of noise from the wiring board 2 side to the in-module bus with respect to the first and second noise resistance enhancement measures for the multichip module 3ext itself. In addition, a thorough noise countermeasure is taken. Accordingly, since the buffer circuits 40ext, 41ext, and 42ext are set to a high impedance state in response to the operation selection of the memory chip, it is possible to strengthen a function of suppressing memory data destruction due to high frequency noise during the memory access operation.

《アドレス遅延対策》
図3に基いて説明したようにマルチチップモジュールのデバイス搭載領域を高速動作領域と低速動作領域を分ける場合に、メモリチップ12a〜12dへの並列アドレス入力タイミングを揃えることを考慮することができる。
<Address delay countermeasures>
As described with reference to FIG. 3, when the device mounting area of the multichip module is divided into the high-speed operation area and the low-speed operation area, it can be considered that the parallel address input timings to the memory chips 12a to 12d are aligned.

例えば図11に例示されるように、メモリチップ12a〜12dのボンディングパッド50がチップ51のほぼ中央部に長手方向に沿って一列に配置されている場合、アドレスバス28Aの信号線A[16:3]を、ボンディングパッド50の配列方向に対して交差する方向に延存在させて、順次アドレス系のボンディングパッド50に結合する。図11において52A〜52Dは複数個のメモリバンクを構成するメモリアレイ、53は電源系制御回路、54はデータ系制御回路、55はコマンド系制御回路、56はアドレス系制御回路である。尚、信号線A[16:3]はA16〜A3の計14本のアドレス線を示している。   For example, as illustrated in FIG. 11, when the bonding pads 50 of the memory chips 12 a to 12 d are arranged in a line along the longitudinal direction at a substantially central portion of the chip 51, the signal line A [16: 3] are extended in a direction crossing the arrangement direction of the bonding pads 50 and are sequentially coupled to the bonding pads 50 of the address system. 11, 52A to 52D are memory arrays constituting a plurality of memory banks, 53 is a power supply system control circuit, 54 is a data system control circuit, 55 is a command system control circuit, and 56 is an address system control circuit. The signal line A [16: 3] indicates a total of 14 address lines A16 to A3.

図12にはメモリチップ12a〜12dとアドレスバス28Aの信号線A[16:3]との接続状態がマルチチップモジュール3全体で示されている。同図ではコントロールバス28C1,28C2の図示を省略してある。   FIG. 12 shows the connection state between the memory chips 12a to 12d and the signal line A [16: 3] of the address bus 28A in the entire multichip module 3. In the figure, the control buses 28C1 and 28C2 are not shown.

上記センタパッド形式で一列に配置されたアドレス系ボンディングパッドに対するアドレス信号線のレイアウト構成によれば、アドレスバス28Aに並列して伝播されるアドレス信号は、メモリチップ毎12a〜12dに、並列の各ビットが同じタイミングでアドレス系ボンディングパッドに到達する。したがって、高速動作されるべきSDRAMのようなメモリチップ12a〜12dの配置に最適である。   According to the layout configuration of the address signal lines with respect to the address type bonding pads arranged in a line in the center pad format, the address signal propagated in parallel to the address bus 28A is transferred to each memory chip 12a-12d in parallel. The bit reaches the address bonding pad at the same timing. Therefore, it is most suitable for the arrangement of the memory chips 12a to 12d such as SDRAM to be operated at high speed.

図12に示される構成は、データプロセッサチップ11は、16本のデータ線D[15:0]を介してメモリチップ12aに、16本のデータ線D[31:16]を介してメモリチップ12bに、16本のデータ線D[47:32]を介してメモリチップ12cに、16本のデータ線D[63:48]を介してメモリチップ12dに結合される。データ線D[31:16]及び[15:0]はバッファ回路13a及び13bに結合される。一方26本のアドレス線A[25:0]はバッファ回路13c及び13dに結合する。   In the configuration shown in FIG. 12, the data processor chip 11 is connected to the memory chip 12a via 16 data lines D [15: 0] and to the memory chip 12b via 16 data lines D [31:16]. Further, it is coupled to the memory chip 12c via 16 data lines D [47:32] and to the memory chip 12d via 16 data lines D [63:48]. Data lines D [31:16] and [15: 0] are coupled to buffer circuits 13a and 13b. On the other hand, 26 address lines A [25: 0] are coupled to buffer circuits 13c and 13d.

《多層配線構造》
図13には前記多層配線基板における多層配線構造の一例が示される。
<Multilayer wiring structure>
FIG. 13 shows an example of a multilayer wiring structure in the multilayer wiring board.

多層配線基板10は、複数の配線層を有するコア層又はベース層60の表裏に、夫々同じ層数の配線層が積み重ねられたビルドアップ層61,62を生成した構造を有する。コア層60の表裏に層数の等しいビルドアップ層61,62を形成することによる表裏の対称性により、モジュール基板3の熱による反りを良好に防止できる。   The multilayer wiring board 10 has a structure in which build-up layers 61 and 62 in which the same number of wiring layers are stacked on the front and back of a core layer or base layer 60 having a plurality of wiring layers are generated. Due to the symmetry of the front and back by forming the build-up layers 61 and 62 having the same number of layers on the front and back of the core layer 60, it is possible to satisfactorily prevent the module substrate 3 from warping due to heat.

前記コア層60は、例えばガラスエポキシ樹脂を介して4層の銅からなる配線層60A〜60Dを積層して構成される。一方のビルドアップ層61は、コア層60の上面に更にエポキシ樹脂を介して3層の銅からなる配線層61A〜61Cを積層して構成される。他方のビルドアップ層62も同様に、コア層60の底面に更にエポキシ樹脂を介して3層の銅からなる配線層62A〜62Cを積層して構成される。上記配線層は相互に必要な接続を採るためにスルーホール等で適宜結合されている。   The core layer 60 is configured by laminating wiring layers 60A to 60D made of, for example, four layers of copper via a glass epoxy resin. One buildup layer 61 is formed by laminating wiring layers 61 </ b> A to 61 </ b> C made of three layers of copper on an upper surface of the core layer 60 via an epoxy resin. Similarly, the other buildup layer 62 is formed by laminating wiring layers 62A to 62C made of three layers of copper on the bottom surface of the core layer 60 via an epoxy resin. The wiring layers are appropriately coupled by through holes or the like in order to obtain necessary connections.

特に、所定の配線層60A〜60Dは選択的に設けられたスルーホール部を除き、全面一様に導体層としたベタパターンで形成された電源配線パターンやグランド配線パターンとされ、信号パターンと電源パターン若しくはグランドパターンとの間の等価静電容量を大きく且つ回路全体に亘って均一に採ることができるように考慮されている。詳細については、図20及び図21を用いて後に説明される。   In particular, the predetermined wiring layers 60A to 60D, except for the selectively provided through-hole portions, are power supply wiring patterns and ground wiring patterns that are uniformly formed as a conductive layer over the entire surface. Consideration is given so that the equivalent capacitance between the pattern and the ground pattern can be made large and uniform over the entire circuit. Details will be described later with reference to FIGS.

ビルドアップ層61の最上層は前記データプロセッサチップ11などの半導体集積回路チップ64を搭載のために利用する実装パッドの部分を除いてソルダーレジスト層などの絶縁層(若しくは保護層)63で覆われている。半導体集積回路チップ64の金(Au)からなるバンプ電極65は後述する異方導電性フイルム66を介して実装パッドに導電接続され、且つ異方導電性フイルム66を介してビルドアップ層61の表面に固定されている。   The uppermost layer of the build-up layer 61 is covered with an insulating layer (or protective layer) 63 such as a solder resist layer except for a mounting pad portion used for mounting the semiconductor integrated circuit chip 64 such as the data processor chip 11. ing. The bump electrode 65 made of gold (Au) of the semiconductor integrated circuit chip 64 is conductively connected to the mounting pad via an anisotropic conductive film 66 described later, and the surface of the buildup layer 61 via the anisotropic conductive film 66. It is fixed to.

ビルドアップ層62の表面は外部接続電極15を形成する部分を除いてレジスト層などの絶縁層67で覆われている。レジスト層67から露出された配線層62Cの部分には半田ボールで外部接続電極15が形成さている。   The surface of the buildup layer 62 is covered with an insulating layer 67 such as a resist layer except for a portion where the external connection electrode 15 is formed. The external connection electrodes 15 are formed by solder balls on the portion of the wiring layer 62 </ b> C exposed from the resist layer 67.

ビルドアップ層61及び62は、コア層60にエポキシ樹脂をつけて、所望の部分にスルホールを形成し、その上面に銅からなる配線パターンを形成する工程を繰り返すことによって形成される。更に詳しく説明すると、ビルドアップ層は、以下のようにして形成される。まず、コア層60を、エポキシ樹脂溶液に浸し、コア層60の表裏に1層目のエポキシ樹脂層を形成する。そして、配線接続部に対応する部分のエポキシ樹脂層にスルーホールを形成するため、適当なエッチングマスクを用いてエッチングを行う。その後、配線層61Cまたは62Cを構成する銅からなる金属膜を形成し、エッチングを行うことによって、配線層61Cまたは62Cを形成する。上記工程を順次行うことによって、配線層61A又は62Aまで形成する。その後、ソルダーレジスト膜の様な絶縁膜63及び67を選択的に形成する事によって、ビルドアップ層61及び62が形成される。   The build-up layers 61 and 62 are formed by repeating the process of attaching an epoxy resin to the core layer 60, forming a through hole in a desired portion, and forming a wiring pattern made of copper on the upper surface thereof. More specifically, the buildup layer is formed as follows. First, the core layer 60 is immersed in an epoxy resin solution, and a first epoxy resin layer is formed on the front and back of the core layer 60. Then, in order to form a through hole in a portion of the epoxy resin layer corresponding to the wiring connection portion, etching is performed using an appropriate etching mask. Thereafter, a metal film made of copper constituting the wiring layer 61C or 62C is formed and etched to form the wiring layer 61C or 62C. By sequentially performing the above steps, the wiring layers 61A or 62A are formed. Thereafter, the build-up layers 61 and 62 are formed by selectively forming insulating films 63 and 67 such as solder resist films.

仮に片面にビルドアップ層を生成した基板では、コア層とビルドアップ層の熱に対する特性が異なるため、マルチチップモジュールの実装時に発生する熱応力などの影響でマルチチップモジュールが反る虞がある。そうすると、基板内のいずれかの層に又はコア層とビルドアップ層との剥離が発生したり、内部の配線の断線が発生する場合もある。図13で説明したように、コア層60の両面にビルドアップ層61,62を生成した基板では、表裏両面の熱に対する特性が等しくなるため、熱応力の影響を低く抑えることが可能となる。したがって、層間剥離や配線の破壊の可能性を低減することが可能になり、信頼性の高いマルチチップモジュールを実現することが可能になる。   If a build-up layer is formed on one side of the substrate, the core layer and the build-up layer have different heat characteristics. Therefore, the multi-chip module may be warped by the influence of thermal stress generated when the multi-chip module is mounted. If it does so, peeling with a core layer and a buildup layer may generate | occur | produce in any layer in a board | substrate, and the disconnection of internal wiring may generate | occur | produce. As described with reference to FIG. 13, in the substrate in which the build-up layers 61 and 62 are generated on both surfaces of the core layer 60, the heat resistance characteristics on both the front and back surfaces are equal, so that the influence of thermal stress can be suppressed low. Therefore, it is possible to reduce the possibility of delamination and wiring destruction, and it is possible to realize a highly reliable multichip module.

コア層60の厚さと各ビルドアップ層61及び62の厚さとを合計した多層配線基板10の厚さは、特に制限されないが、1.22ミリメートルとされる。さらに、上記多層配線基板10の一方の表面に配置されるデータプロセッサチップ11、メモリチップ12a〜12d、バッファチップ13a〜13dないしは論理ゲートチップ14のうち最もチップ厚のあついものの裏面と上記多層配線基板10の他方の表面に形成される各外部接続電極15と間の距離、すなわち、マルチチップモジュール3の高さは2.3ミリメートルとされる。その結果、マルチチップモジュール3の実装高さは、2.7ミリメートル以下にされる。   The thickness of the multilayer wiring board 10 that is the sum of the thickness of the core layer 60 and the thicknesses of the build-up layers 61 and 62 is not particularly limited, but is 1.22 millimeters. Further, among the data processor chip 11, the memory chips 12a to 12d, the buffer chips 13a to 13d or the logic gate chip 14 arranged on one surface of the multilayer wiring board 10, the back surface of the thickest chip and the multilayer wiring board The distance between each of the external connection electrodes 15 formed on the other surface of 10, that is, the height of the multichip module 3 is 2.3 millimeters. As a result, the mounting height of the multichip module 3 is set to 2.7 millimeters or less.

それによって、携帯電話器やハンドヘルドコンピュータなどのように、小型・薄型・軽量のような各要素が要求される電子機器内に設けられる実装基板へのマルチチップモジュール3の実装が容易に行うことができる。   As a result, the multi-chip module 3 can be easily mounted on a mounting substrate provided in an electronic device that requires various elements such as a small-sized, thin, and light weight, such as a mobile phone or a handheld computer. it can.

尚、図13には示されないが、以下のような電源接続形態もある。たとえば、半導体チップ11に設けられた電源端子乃至接地端子が、図13のようにスルーホールを介して直線的に、接続端子15(グランド端子)乃至接続端子15(電源1端子)に接続できない場合もある。この場合、半導体チップ11に設けられた電源端子乃至接地端子から、一旦、コア層60内に形成された配線層60A(グランド層)又は60D(グランド層)、乃至配線層60B(電源1層層)又は配線層60C(電源2層)に接続される。その後、マルチチップモジュール基板10の対応する接続端子15(グランド端子)、接続端子15(電源1端子)乃至接続端子15(電源2端子)の接続可能な部分に対応する配線層60A(グランド層)、60D(グランド層)、配線層60B(電源1層層)及び配線層60C(電源2層)から直線的に接続端子15(グランド端子)、接続端子15(電源1端子)乃至接続端子15(電源2端子)へ接続される。   Although not shown in FIG. 13, there are the following power supply connection modes. For example, when the power supply terminal or the ground terminal provided on the semiconductor chip 11 cannot be connected to the connection terminal 15 (ground terminal) to the connection terminal 15 (power supply 1 terminal) linearly through a through hole as shown in FIG. There is also. In this case, the wiring layer 60A (ground layer) or 60D (ground layer) or the wiring layer 60B (power one layer layer) once formed in the core layer 60 from the power supply terminal or ground terminal provided in the semiconductor chip 11 is used. ) Or the wiring layer 60C (power supply layer 2). Thereafter, a wiring layer 60A (ground layer) corresponding to a connectable portion of the connection terminal 15 (ground terminal), connection terminal 15 (power supply 1 terminal) to connection terminal 15 (power supply 2 terminal) corresponding to the multichip module substrate 10. , 60D (ground layer), wiring layer 60B (power supply 1 layer) and wiring layer 60C (power supply 2 layer) linearly from the connection terminal 15 (ground terminal), connection terminal 15 (power supply 1 terminal) to connection terminal 15 ( Power supply 2 terminal).

図20は、図13をさらに詳しく説明するための図面であって、半導体集積回路チップ64に設けられたグランド端子(GND)乃至電源端子(VDD、3.3V、1.8V)などの金バンプ電極65と上記多層配線基板10に形成される各外部接続電極15との接続関係を示している。   FIG. 20 is a diagram for explaining FIG. 13 in more detail, and gold bumps such as a ground terminal (GND) to a power supply terminal (VDD, 3.3 V, 1.8 V) provided on the semiconductor integrated circuit chip 64. The connection relationship between the electrode 65 and each external connection electrode 15 formed on the multilayer wiring board 10 is shown.

同図に示されるように、半導体集積回路チップ64に設けられたグランド電位の供給されるべき端子65は、ビルドアップ層61に設けられた配線61A、61B、61C及びビルドアップ層62に設けられた配線62A、62B、62Cを介して、グランド電位(接地電位:0V)が供給されるべきグランド端子としての半田バンプ電極15に接続される。上記配線層61Cは、コア層60に形成されたスルーホールTHの部分において配線層60A及び60Cに電気的に結合され、その結果配線層60A及び60Cはグランド電位が供給されるグランド層とされる。   As shown in the figure, the terminal 65 to be supplied with the ground potential provided in the semiconductor integrated circuit chip 64 is provided in the wiring 61A, 61B, 61C and the buildup layer 62 provided in the buildup layer 61. The wirings 62A, 62B and 62C are connected to a solder bump electrode 15 as a ground terminal to which a ground potential (ground potential: 0V) is to be supplied. The wiring layer 61C is electrically coupled to the wiring layers 60A and 60C in the portion of the through hole TH formed in the core layer 60. As a result, the wiring layers 60A and 60C are ground layers to which a ground potential is supplied. .

一方、半導体集積回路チップ64に設けられた電源電位(1.8V)の供給されるべき端子65は、ビルドアップ層61に設けられた配線61A、61B、61C及びビルドアップ層62に設けられた配線62A、62B、62Cを介して、電源電位(1.8V)が供給されるべき電源2端子としての半田バンプ電極15に接続される。上記配線層61Cは、コア層60に形成されたスルーホールTHの部分において配線層60Dに電気的に結合され、その結果配線層60Dは電源電位(1.8V)が供給される電源2層とされる。   On the other hand, the terminal 65 provided with the power supply potential (1.8 V) provided in the semiconductor integrated circuit chip 64 is provided in the wirings 61A, 61B, 61C and the buildup layer 62 provided in the buildup layer 61. The wiring 62A, 62B, 62C is connected to a solder bump electrode 15 as a power source 2 terminal to which a power source potential (1.8V) is to be supplied. The wiring layer 61C is electrically coupled to the wiring layer 60D in the portion of the through hole TH formed in the core layer 60. As a result, the wiring layer 60D includes a power supply layer to which a power supply potential (1.8V) is supplied. Is done.

なお、同図には図示されないが、半導体集積回路チップ64に設けられた電源電位(3.3V)の供給されるべき端子65は、ビルドアップ層61に設けられた配線61A、61B、61C及びビルドアップ層62に設けられた配線62A、62B、62Cを介して、電源電位(3.3V)が供給されるべき電源1端子としての半田バンプ電極15に接続される。上記配線層61Cは、コア層60に形成されたスルーホールTHの部分において配線層60Bに電気的に結合され、その結果配線層60Bは電源電位(1.8V)が供給される電源1層とされる。   Although not shown in the drawing, a terminal 65 to which a power supply potential (3.3 V) provided in the semiconductor integrated circuit chip 64 is supplied is provided with wirings 61A, 61B, 61C provided in the buildup layer 61 and The wirings 62A, 62B, and 62C provided in the buildup layer 62 are connected to the solder bump electrode 15 as a power supply 1 terminal to which a power supply potential (3.3V) is to be supplied. The wiring layer 61C is electrically coupled to the wiring layer 60B at the portion of the through hole TH formed in the core layer 60. As a result, the wiring layer 60B is connected to the power supply 1 layer to which the power supply potential (1.8V) is supplied. Is done.

このように、コア層60A内に形成された配線層60A〜60Dは、電源電位(3.3V、1.8V)乃至グランド電位に結合され、先述のように、ノイズを低減する効果が発生する。   As described above, the wiring layers 60A to 60D formed in the core layer 60A are coupled to the power supply potential (3.3V, 1.8V) or the ground potential, and as described above, an effect of reducing noise occurs. .

図21は、図13をさらに詳しく説明するための図面であって、半導体集積回路チップ64に設けられた信号端子としての金バンプ電極65と上記多層配線基板10に形成される各外部接続電極15との接続関係を示している。   FIG. 21 is a view for explaining FIG. 13 in more detail. The gold bump electrode 65 as a signal terminal provided on the semiconductor integrated circuit chip 64 and each external connection electrode 15 formed on the multilayer wiring board 10 are shown. The connection relationship is shown.

同図に示されるように、半導体集積回路チップ64に設けられた信号2の供給されるべき端子65(信号2)または65(信号5)は、ビルドアップ層61に設けられた配線61A、61B、61C及びビルドアップ層62に設けられた配線62A、62B、62Cを介して、信号2が供給されるべき信号端子としての半田バンプ電極15(信号2)に接続される。上記配線層61C乃至62Aは、コア層60に形成されたスルーホールTHの部分において、配線層60A〜60Dには電気的に結合されず、上記配線層61C〜62AはスルーホールTHの部分において電気的に結合している。なお、各信号1,3,4及び6の供給されるバンプ65も、図示されない部分において、同様に、所望のバンプ電極15に電気的に結合される。   As shown in the figure, the terminal 65 (signal 2) or 65 (signal 5) to be supplied with the signal 2 provided in the semiconductor integrated circuit chip 64 is connected to wirings 61A and 61B provided in the buildup layer 61. 61C and wirings 62A, 62B, 62C provided in the build-up layer 62, are connected to the solder bump electrode 15 (signal 2) as a signal terminal to which the signal 2 is to be supplied. The wiring layers 61C to 62A are not electrically coupled to the wiring layers 60A to 60D in the portion of the through hole TH formed in the core layer 60, and the wiring layers 61C to 62A are electrically connected to the portion of the through hole TH. Are connected. Note that the bumps 65 to which the signals 1, 3, 4 and 6 are supplied are also electrically coupled to the desired bump electrodes 15 in a portion not shown.

《マルチチップモジュールの組み立て》
前記マルチチップモジュール3をフリップチップ方式で組み立てる法方について説明する。
<Assembly of multichip module>
A method of assembling the multichip module 3 by the flip chip method will be described.

図14にはフリップチップ方式でモジュール基板にベアチップを実装する過程における幾つかの要所を示してある。図15にはバンプ電極65と実装パッド71と接合部の断面構造が例示される。   FIG. 14 shows some important points in the process of mounting the bare chip on the module substrate by the flip chip method. FIG. 15 illustrates a cross-sectional structure of the bump electrode 65, the mounting pad 71, and the joint.

図14の(A)には代表的に1個のベアチップとしての半導体集積回路チップ64が例示されている。65で示されるものはバンプ電極である。バンプ電極65は半導体集積回路チップ64のボンディングパッド73(図15参照)に形成され、バンプ電極65の表面は例えば金メッキされている。   FIG. 14A typically illustrates a semiconductor integrated circuit chip 64 as one bare chip. What is indicated by 65 is a bump electrode. The bump electrode 65 is formed on the bonding pad 73 (see FIG. 15) of the semiconductor integrated circuit chip 64, and the surface of the bump electrode 65 is plated with gold, for example.

モジュール基板10の表面には図14の(B)のように前記バンプ電極65が載置されて導電接続される前記実装パッド71が露出されている。実装パッドの表面は例えば金メッキされている。   As shown in FIG. 14B, the mounting pads 71 are exposed on the surface of the module substrate 10, where the bump electrodes 65 are placed and conductively connected. The surface of the mounting pad is, for example, gold-plated.

前記実装パッド71の表面には図14の(C)のように異方導電性フィルム66が貼り付けられる。異方導電性フィルム66は熱硬化性樹脂にニッケル粒子等の導電性微粒子が分散されて混在された熱硬化性の樹脂のフィルムである。この異方導電性フィルム66に厚み方向に力を作用すると、図15に例示されるように弾性的に変形し、その部分に含まれている導電性微粒子が連鎖して接触することにより、当該部分だけに導電性が得られるようになっている。この状態は熱で硬化されることによって維持され、また、その熱硬化性によって接着作用も発揮する事になる。基板に貼り付けられる異方導電性フィルム43の大きさは接続されるICチップの大きさに合わせて決めればよい。   An anisotropic conductive film 66 is attached to the surface of the mounting pad 71 as shown in FIG. The anisotropic conductive film 66 is a thermosetting resin film in which conductive fine particles such as nickel particles are dispersed and mixed in a thermosetting resin. When a force is applied to the anisotropic conductive film 66 in the thickness direction, it is elastically deformed as illustrated in FIG. 15, and the conductive fine particles contained in the portion are chained and contacted, Conductivity can be obtained only in the portion. This state is maintained by being cured by heat, and the adhesive action is exhibited by the thermosetting property. What is necessary is just to determine the magnitude | size of the anisotropic conductive film 43 affixed on a board | substrate according to the magnitude | size of the IC chip connected.

最後に、図14の(D)に示されるように、ベアチップとしての半導体集積回路チップ64のバンプ電極65がモジュール基板10上の所定の実装パッド71に接合するように異方導電性フィルム66の上に圧着する。この後、熱を加え、異方導電性フィルム66を硬化させることにより、図15の断面構造で示されるように、半導体集積回路チップ64が張付けられ、バンプ電極65と実装パッド71との導電接続が完了する。   Finally, as shown in FIG. 14D, the anisotropic conductive film 66 is formed such that the bump electrodes 65 of the semiconductor integrated circuit chip 64 as a bare chip are bonded to predetermined mounting pads 71 on the module substrate 10. Crimp on top. Thereafter, heat is applied to cure the anisotropic conductive film 66, whereby the semiconductor integrated circuit chip 64 is attached as shown in the cross-sectional structure of FIG. 15, and the conductive connection between the bump electrode 65 and the mounting pad 71 is achieved. Is completed.

図3に例示されるマルチチップモジュール3を組み立てるとき、前記データプロセッサチップ11、メモリチップ12a〜12d、バッファチップ13a〜13e、及び論理ゲートチップ14の合計11個のベアチップを、図14で説明したように1個づつモジュール基板10に実装するならば、1個のベアチップ毎に1枚づつ別々の異方導電性フィルム66を張付けたり、その上にベアチップを圧着したり、熱硬化させたりする処理を、夫々11回繰り返さなければならず、作業効率は極めて低くなる。   When the multi-chip module 3 illustrated in FIG. 3 is assembled, a total of 11 bare chips of the data processor chip 11, the memory chips 12a to 12d, the buffer chips 13a to 13e, and the logic gate chip 14 have been described with reference to FIG. Thus, when mounting on the module substrate 10 one by one, a process of sticking a separate anisotropic conductive film 66 for each bare chip, pressing a bare chip on it, or thermosetting it Must be repeated 11 times each, and the working efficiency becomes extremely low.

そこで、組み立て工数低減の観点より、モジュール基板10には、高さ寸法がほぼ等しい半導体集積回路チップ、例えば同種の半導体集積回路チップのグループ毎にそれら半導体集積回路チップを一列に並べて実装可能なように実装パッドをグループ化して配列する。そして、前記グループ化された実装パッド毎に異方導電性フィルムを貼り付け、貼り付けられた異方導電性フィルムを介して実装パターンと半導体集積回路チップのバンプ電極とを導電接続する。例えば、ベアチップを図3のように配置したマルチチップモジュール3の場合、図16に例示されるように、メモリチップ12a〜12dのアレイを1グループとして1枚の異方導電性フィルム66Aを貼り付け、バッファチップ13a〜13e及び論理ゲートチップ14のアレイを1グループとして1枚の異方導電性フィルム66Bを貼り付け、データプロセッサ11のためには単独で1枚の異方導電性フィルム66Cを貼り付ける。そして各グループ毎に、対応するベアチップのバンプ電極65が対応する実装パッド71に接合するように異方導電性フィルムの上にベアチップを圧着し、まとめて熱を加え、異方導電性フィルムを硬化させる。したがって、異方導電性フィルム66A,66B,66Cの貼り付け回数や、異方導電性フィルム66A,66B,66Cに対するベアチップの圧着回数若しくは圧着加熱回数を夫々3回程度に減らすことができる。したがって、マルチチップモジュール3の組み立てる工程数を少なくすることができる。組み立て工程の簡素化は、マルチチップモジュールの歩留まりや信頼性の向上に寄与する。更にマルチチップモジュールの製造コストを低減することが可能になる。   Therefore, from the viewpoint of reducing the number of assembly steps, it is possible to mount the semiconductor integrated circuit chips on the module substrate 10 in a line for each group of semiconductor integrated circuit chips having substantially the same height, for example, the same type of semiconductor integrated circuit chips. The mounting pads are grouped and arranged. Then, an anisotropic conductive film is attached to each of the grouped mounting pads, and the mounting pattern and the bump electrodes of the semiconductor integrated circuit chip are conductively connected through the attached anisotropic conductive film. For example, in the case of the multi-chip module 3 in which the bare chips are arranged as shown in FIG. 3, as shown in FIG. 16, an anisotropic conductive film 66A is pasted with the array of memory chips 12a to 12d as one group. Then, one anisotropic conductive film 66B is pasted as a group of the array of the buffer chips 13a to 13e and the logic gate chip 14, and one anisotropic conductive film 66C is pasted for the data processor 11 alone. wear. Then, for each group, the bare chip is pressure-bonded on the anisotropic conductive film so that the corresponding bump electrode 65 of the bare chip is bonded to the corresponding mounting pad 71, and heat is collectively applied to cure the anisotropic conductive film. Let Accordingly, it is possible to reduce the number of times the anisotropic conductive films 66A, 66B, and 66C are attached and the number of times the bare chip is bonded to the anisotropic conductive films 66A, 66B, and 66C or the number of times of pressure heating to about three. Therefore, the number of steps for assembling the multichip module 3 can be reduced. The simplification of the assembly process contributes to the improvement of the yield and reliability of the multichip module. Furthermore, the manufacturing cost of the multichip module can be reduced.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づいて具体的に説明したが本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。   Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.

例えば、マルチチップモジュールに実装される半導体集積回路チップはベアチップに限定されず、CSP(チップ・サイズ・パッケージ)等の小型若しくは薄型のパッケージで封止されたものであってもよい。また、メモリチップの用途はメインメモリやキャッシュメモリに限定されず、データプロセッサがアクセスする用途であればよい。また、マルチチップモジュールは、その他に、データプロセッサの処理負担を軽減するための演算処理装置であるアクセラレータ、例えばグラフィックス処理、エラー訂正処理、圧縮処理などのための回路チップを一緒に実装してもよい。また、モジュール基板に実装されるメモリチップの数、バッファチップに数、データプロセッサの数などは上記説明に限定されない。   For example, a semiconductor integrated circuit chip mounted on a multi-chip module is not limited to a bare chip, and may be sealed with a small or thin package such as a CSP (chip size package). Further, the use of the memory chip is not limited to the main memory and the cache memory, and may be any use that is accessed by the data processor. In addition, the multi-chip module also includes an accelerator, which is an arithmetic processing unit for reducing the processing load on the data processor, such as a circuit chip for graphics processing, error correction processing, compression processing, etc. Also good. Further, the number of memory chips mounted on the module substrate, the number of buffer chips, the number of data processors, and the like are not limited to the above description.

本発明は、画像処理等のように高速のデータ処置を行う、画像処理装置、音声処理装置、マルチメディア機器、更には通信や画像表示等を行う形態情報端末若しくは携帯通信端末等に広く適用することができる。   The present invention is widely applied to an image processing device, a sound processing device, a multimedia device that performs high-speed data processing such as image processing, and a form information terminal or a portable communication terminal that performs communication, image display, and the like. be able to.

図1はマルチチップモジュールを用いた本発明に係る電子回路の一例を示す外観図である。FIG. 1 is an external view showing an example of an electronic circuit according to the present invention using a multichip module. 図2はマルチチップモジュールを採用していない比較例に係る電子回路の外観図である。FIG. 2 is an external view of an electronic circuit according to a comparative example that does not employ a multichip module. 図3はマルチチップモジュールのチップレイアウトの一例を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing an example of a chip layout of the multichip module. 図4は図3に示されるマルチチップモジュールの底面図である。4 is a bottom view of the multichip module shown in FIG. 図5はマルチチップモジュールの外部接続電極に対する機能割り当ての状態を例示する説明図である。FIG. 5 is an explanatory view illustrating the state of function assignment to the external connection electrodes of the multichip module. 図6はマルチチップモジュールのブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of the multichip module. 図7はデータプロセッサチップとメモリチップとの接続態様の一例を端子対応で示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing an example of a connection mode between the data processor chip and the memory chip in correspondence with terminals. 図8はデータプロセッサチップの一例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing an example of a data processor chip. 図9は出力バッファの論理回路図である。FIG. 9 is a logic circuit diagram of the output buffer. 図10は入出力バッファ及び論理ゲートチップのブロック図である。FIG. 10 is a block diagram of an input / output buffer and a logic gate chip. 図11はセンタパッドのメモリチップのボンディングパッドに対するアドレス信号線の配置を例示する平面図である。FIG. 11 is a plan view illustrating the arrangement of address signal lines with respect to the bonding pads of the center chip memory chip. 図12はメモリチップとアドレスバスの信号線との接続状態をマルチチップモジュール3全体で示した説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing the connection state between the memory chip and the signal line of the address bus for the entire multi-chip module 3. 図13は多層配線基板における多層配線構造の一例を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing an example of a multilayer wiring structure in a multilayer wiring board. 図14はフリップチップ方式でモジュール基板にベアチップを実装する過程における幾つかの要所を示した説明図である。FIG. 14 is an explanatory view showing some important points in the process of mounting the bare chip on the module substrate by the flip chip method. 図15はバンプ電極と実装パッドと接合部の断面構造を例示する断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional structure of a bump electrode, a mounting pad, and a joint. 図16はベアチップのグループごとに異方導電性フィルムを貼り付けて複数のベアチップを実装する状態を示したマルチチップモジュールの説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram of a multi-chip module showing a state in which a plurality of bare chips are mounted by attaching an anisotropic conductive film to each bare chip group. 図17はマルチチップモジュールの別の機能ブロック図である。FIG. 17 is another functional block diagram of the multichip module. 図18は図17のデータ入出力バッファとそれを制御する論理ゲートチップの一部を例示する論理回路図である。FIG. 18 is a logic circuit diagram illustrating a part of the data input / output buffer and the logic gate chip that controls the data input / output buffer of FIG. 図19は図17のアドレス入出力バッファ及び制御信号入出力バッファとそれを制御する論理ゲートチップの一部を例示する論理回路図である。FIG. 19 is a logic circuit diagram illustrating a part of the address input / output buffer and the control signal input / output buffer of FIG. 図20は半導体集積回路チップに設けられたグランド端子乃至電源端子などの金バンプ電極と多層配線基板に形成される各外部接続電極との接続関係を示す図13の詳細説明図である。FIG. 20 is a detailed explanatory view of FIG. 13 showing a connection relationship between gold bump electrodes such as ground terminals or power supply terminals provided on the semiconductor integrated circuit chip and each external connection electrode formed on the multilayer wiring board. 図21は半導体集積回路チップに設けられた信号端子としての金バンプ電極と多層配線基板に形成される各外部接続電極との接続関係を示す図13の詳細説明図である。FIG. 21 is a detailed explanatory view of FIG. 13 showing a connection relationship between a gold bump electrode as a signal terminal provided on the semiconductor integrated circuit chip and each external connection electrode formed on the multilayer wiring board. 図22はプリント基板としての配線基板の一例を示す断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view showing an example of a wiring board as a printed board.

符号の説明Explanation of symbols

10 モジュール基板
11 データプロセッサチップ
12a〜12d メモリチップ
13a〜13e バッファチップ
14 論理ゲートチップ
66A,66B,66C 異方導電性フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Module substrate 11 Data processor chip 12a-12d Memory chip 13a-13e Buffer chip 14 Logic gate chip 66A, 66B, 66C Anisotropic conductive film

Claims (1)

一方の面に複数個の外部接続電極が配列されたモジュール基板の他方の面に実装パターンが形成され、
前記実装パターンは、高さ寸法のほぼ等しい半導体集積回路チップのグループ毎にそれら半導体集積回路チップを一列に並べて実装可能なグループ化されたパターンを有し、
前記グループ化されたパターン毎に貼り付けられた異方導電性フィルムを介して実装パターンと半導体集積回路チップのバンプ電極とが導電接続されて成るものであることを特徴とする半導体モジュール。
A mounting pattern is formed on the other surface of the module substrate in which a plurality of external connection electrodes are arranged on one surface,
The mounting pattern has a grouped pattern that can be mounted by arranging the semiconductor integrated circuit chips in a line for each group of semiconductor integrated circuit chips having substantially the same height.
A semiconductor module, wherein a mounting pattern and a bump electrode of a semiconductor integrated circuit chip are conductively connected through an anisotropic conductive film attached to each of the grouped patterns.
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