[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2007027043A - Organic el display device - Google Patents

Organic el display device Download PDF

Info

Publication number
JP2007027043A
JP2007027043A JP2005211356A JP2005211356A JP2007027043A JP 2007027043 A JP2007027043 A JP 2007027043A JP 2005211356 A JP2005211356 A JP 2005211356A JP 2005211356 A JP2005211356 A JP 2005211356A JP 2007027043 A JP2007027043 A JP 2007027043A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
layer
display device
wavelength
transmittance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005211356A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Ishimaru
雅司 石丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd filed Critical Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
Priority to JP2005211356A priority Critical patent/JP2007027043A/en
Publication of JP2007027043A publication Critical patent/JP2007027043A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display device sufficiently restrained from deterioration caused by irradiation of external light. <P>SOLUTION: The organic EL display device has organic EL element OLEDs and a ultraviolet-ray shielding layer MFL of which transmissivity of visible light at wave length of 418 nm or shorter is not more than 3%, and that from 450 nm to 770 nm is not less than 40%. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (EL) display device.

有機EL表示装置を搭載した電子機器では、表示パネルの前面側に偏光板を配置することがある。これら偏光板の多くは紫外線遮断機能を有しており、したがって、有機EL素子の紫外線照射による劣化を抑制する役割を担っている。しかしながら、そのような偏光板を有機EL表示パネルの前面側に配置したとしても、外光照射による有機EL素子の劣化を十分に抑制できる訳ではない。   In an electronic device equipped with an organic EL display device, a polarizing plate may be disposed on the front side of the display panel. Many of these polarizing plates have an ultraviolet blocking function, and therefore play a role of suppressing deterioration of the organic EL element due to ultraviolet irradiation. However, even if such a polarizing plate is disposed on the front side of the organic EL display panel, deterioration of the organic EL element due to external light irradiation cannot be sufficiently suppressed.

本発明の目的は、有機EL素子の外光照射による劣化を十分に抑制することにある。   An object of the present invention is to sufficiently suppress deterioration of an organic EL element due to external light irradiation.

本発明の第1側面によると、有機EL素子と、その前面側に配置されると共に可視光線についての透過率が418nm以下の各波長で3%以下であり且つ450nm乃至770nmの各波長で40%以上である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置が提供される。   According to the first aspect of the present invention, the organic EL element is disposed on the front side thereof, and the transmittance for visible light is 3% or less at each wavelength of 418 nm or less and 40% at each wavelength of 450 nm to 770 nm. An organic EL display device comprising the ultraviolet blocking layer as described above is provided.

本発明の第2側面によると、有機EL素子と、その前面側に配置されると共に波長が418nmの光についての透過率T418と波長が450nmの光についての透過率T450との比T418/T450が0.1以下である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置が提供される。 According to a second aspect of the present invention, an organic EL element, the ratio between the transmittance T 450 for light transmittance T 418 and wavelength 450nm for the light wavelength of 418nm while being disposed on the front surface side T 418 An organic EL display device comprising an ultraviolet blocking layer having / T 450 of 0.1 or less is provided.

本発明の第3側面によると、有機EL素子と、その前面側に配置されると共に波長が418nm以下の可視光線についての透過率の最大値Tmaxと波長が450nm乃至770nmの範囲内にある光についての透過率の最小値Tminとの比Tmax/Tminが0.1以下である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置が提供される。 According to the third aspect of the present invention, the organic EL element and the light that is disposed on the front side thereof and has a maximum transmittance T max and a wavelength in the range of 450 nm to 770 nm for visible light having a wavelength of 418 nm or less. There is provided an organic EL display device comprising an ultraviolet blocking layer having a ratio T max / T min of 0.1 or less to the minimum value T min of the transmittance for the above.

本発明によると、有機EL素子の外光照射による劣化を十分に抑制することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to sufficiently suppress deterioration of an organic EL element due to external light irradiation.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in each figure, the same referential mark is attached | subjected to the component which exhibits the same or similar function, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

図1は、本発明の一態様に係る表示装置を概略的に示す平面図である。図2は、図1の表示装置に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図である。なお、図2では、表示装置を、その表示面,すなわち前面又は光出射面,が下方を向き、背面が上方を向くように描いている。   FIG. 1 is a plan view schematically showing a display device according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a structure that can be employed in the display device of FIG. In FIG. 2, the display device is drawn such that its display surface, that is, the front surface or the light emitting surface faces downward, and the back surface faces upward.

図1及び図2の表示装置は、アクティブマトリクス型駆動方式を採用した下面発光型の有機EL表示装置である。この有機EL表示装置は、表示パネルDPと、映像信号線ドライバXDRと、走査信号線ドライバYDRと、多層フィルムMLFとを含んでいる。   The display device in FIGS. 1 and 2 is a bottom emission organic EL display device that employs an active matrix drive system. This organic EL display device includes a display panel DP, a video signal line driver XDR, a scanning signal line driver YDR, and a multilayer film MLF.

表示パネルDPは、アレイ基板ASと、封止基板CSと、それらの間に介在したシール層SSとを含んでいる。アレイ基板ASと封止基板CSとは向き合っている。シール層SSは、枠形状を有しており、アレイ基板ASと封止基板CSとの間に密閉空間を形成している。この密閉空間は、不活性ガスで満たされている。   The display panel DP includes an array substrate AS, a sealing substrate CS, and a seal layer SS interposed therebetween. The array substrate AS and the sealing substrate CS face each other. The seal layer SS has a frame shape, and forms a sealed space between the array substrate AS and the sealing substrate CS. This sealed space is filled with an inert gas.

アレイ基板ASは、例えば、ガラス基板などの絶縁基板SUBを含んでいる。
基板SUB上には、図2に示すように、アンダーコート層UCとして、例えば、SiNx層とSiOx層とが順次積層されている。
The array substrate AS includes, for example, an insulating substrate SUB such as a glass substrate.
On the substrate SUB, as shown in FIG. 2, for example, a SiN x layer and a SiO x layer are sequentially stacked as the undercoat layer UC.

アンダーコート層UC上には、例えばチャネル及びソース・ドレインが形成されたポリシリコン層である半導体層SC、例えばTEOS(tetraethyl orthosilicate)などを用いて形成され得るゲート絶縁膜GI、及び例えばMoWなどからなるゲートGが順次積層されており、それらは電界効果トランジスタであるトップゲート型の薄膜トランジスタを構成している。この例では、これら薄膜トランジスタは、pチャネル薄膜トランジスタであり、図1の駆動制御素子DR及びスイッチSWa乃至SWcとして利用している。   On the undercoat layer UC, for example, a semiconductor layer SC which is a polysilicon layer in which a channel and a source / drain are formed, a gate insulating film GI which can be formed using, for example, TEOS (tetraethyl orthosilicate), and a MoW, for example, The gates G are sequentially stacked, and they constitute a top gate type thin film transistor which is a field effect transistor. In this example, these thin film transistors are p-channel thin film transistors and are used as the drive control element DR and the switches SWa to SWc in FIG.

ゲート絶縁膜GI上には、図1に示す走査信号線SL1及びSL2と、図示しない下部電極とがさらに配置されている。走査信号線SL1及びSL2並びに下部電極は、ゲートGと同一の工程で形成可能である。   On the gate insulating film GI, scanning signal lines SL1 and SL2 shown in FIG. 1 and a lower electrode (not shown) are further arranged. The scanning signal lines SL1 and SL2 and the lower electrode can be formed in the same process as the gate G.

走査信号線SL1及びSL2は、図1に示すように、各々が画素PXの行方向(X方向)に延びており、画素PXの列方向(Y方向)に交互に配列している。これら走査信号線SL1及びSL2は、走査信号線ドライバYDRに接続されている。   As shown in FIG. 1, the scanning signal lines SL1 and SL2 each extend in the row direction (X direction) of the pixels PX, and are alternately arranged in the column direction (Y direction) of the pixels PX. These scanning signal lines SL1 and SL2 are connected to the scanning signal line driver YDR.

下部電極は、駆動制御素子DRのゲートに接続されている。下部電極は、後述するキャパシタCの一方の電極として利用する。   The lower electrode is connected to the gate of the drive control element DR. The lower electrode is used as one electrode of a capacitor C described later.

ゲート絶縁膜GI、ゲートG、走査信号線SL1及びSL2、並びに下部電極は、図2に示す層間絶縁膜IIで被覆されている。層間絶縁膜IIは、例えばプラズマCVD法などにより成膜されたSiOxなどからなる。この層間絶縁膜IIのうち下部電極上の部分は、キャパシタCの誘電体層として利用する。 The gate insulating film GI, the gate G, the scanning signal lines SL1 and SL2, and the lower electrode are covered with an interlayer insulating film II shown in FIG. The interlayer insulating film II is made of, for example, SiO x formed by a plasma CVD method or the like. A portion of the interlayer insulating film II on the lower electrode is used as a dielectric layer of the capacitor C.

層間絶縁膜II上には、図2に示すソース電極SE及びドレイン電極DE、図1に示す映像信号線DL、電源線PSL、並びに図示しない上部電極が配置されている。これらは、同一工程で形成可能であり、例えば、Mo/Al/Moの三層構造を有している。   On the interlayer insulating film II, the source electrode SE and the drain electrode DE shown in FIG. 2, the video signal line DL and the power supply line PSL shown in FIG. 1, and an upper electrode (not shown) are arranged. These can be formed in the same process and have, for example, a three-layer structure of Mo / Al / Mo.

ソース電極SE及びドレイン電極DEは、層間絶縁膜IIに設けられたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタのソース及びドレインに電気的に接続されている。   The source electrode SE and drain electrode DE are electrically connected to the source and drain of the thin film transistor through contact holes provided in the interlayer insulating film II.

映像信号線DLは、図1に示すように、各々がY方向に延びており、X方向に配列している。これら映像信号線DLの各々の一端は、映像信号線ドライバXDRに接続されている。   As shown in FIG. 1, each video signal line DL extends in the Y direction and is arranged in the X direction. One end of each of the video signal lines DL is connected to the video signal line driver XDR.

電源線PSLは、この例では、各々がY方向に延びており、X方向に配列している。また、この例では、電源線PSLは、映像信号線ドライバXDRに接続されている。   In this example, the power supply lines PSL extend in the Y direction and are arranged in the X direction. In this example, the power supply line PSL is connected to the video signal line driver XDR.

上部電極は、電源線PSLに接続されている。上部電極は、キャパシタCの他方の電極として利用する。   The upper electrode is connected to the power supply line PSL. The upper electrode is used as the other electrode of the capacitor C.

ソース電極SE、ドレイン電極DE、映像信号線DL、電源線PSL、及び上部電極は、パッシベーション膜PSで被覆されている。パッシベーション膜PSは、例えばSiNxなどからなる。 The source electrode SE, the drain electrode DE, the video signal line DL, the power supply line PSL, and the upper electrode are covered with a passivation film PS. The passivation film PS is made of, for example, SiN x .

パッシベーション膜PS上には、前面電極として、光透過性の画素電極PEが形成されている。画素電極PEは、パッシベーション膜PSに設けた貫通孔を介して、スイッチSWaのドレイン電極DEに接続されている。   On the passivation film PS, a light transmissive pixel electrode PE is formed as a front electrode. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode DE of the switch SWa through a through hole provided in the passivation film PS.

画素電極PEは、この例では陽極である。画素電極PEの材料としては、例えば、ITO(indium tin oxide)のような透明導電性酸化物を使用することができる。   The pixel electrode PE is an anode in this example. As a material of the pixel electrode PE, for example, a transparent conductive oxide such as ITO (indium tin oxide) can be used.

パッシベーション膜PS上には、さらに、図2に示す隔壁絶縁層PIが形成されている。隔壁絶縁層PIには、画素電極PEに対応した位置に貫通孔が設けられているか、或いは、画素電極PEが形成する列又は行に対応した位置にスリットが設けられている。ここでは、一例として、隔壁絶縁層PIには、画素電極PEに対応した位置に貫通孔が設けられていることとする。   A partition insulating layer PI shown in FIG. 2 is further formed on the passivation film PS. In the partition insulating layer PI, a through hole is provided at a position corresponding to the pixel electrode PE, or a slit is provided at a position corresponding to a column or row formed by the pixel electrode PE. Here, as an example, the partition insulating layer PI is provided with a through hole at a position corresponding to the pixel electrode PE.

隔壁絶縁層PIは、例えば、有機絶縁層である。隔壁絶縁層PIは、例えば、フォトリソグラフィ技術を用いて形成することができる。   The partition insulating layer PI is, for example, an organic insulating layer. The partition insulating layer PI can be formed using, for example, a photolithography technique.

画素電極PE上には、活性層として発光層を含んだ有機物層ORGが配置されている。発光層は、例えば、発光色が青、緑又は赤色のルミネセンス性有機化合物を含んだ薄膜である。この有機物層ORGは、発光層に加え、正孔注入層、正孔輸送層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などもさらに含むことができる。   On the pixel electrode PE, an organic layer ORG including a light emitting layer as an active layer is disposed. A light emitting layer is a thin film containing the luminescent organic compound whose luminescent color is blue, green, or red, for example. The organic layer ORG can further include a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like in addition to the light emitting layer.

隔壁絶縁層PI及び有機物層ORGは、図2に示すように、背面電極である対向電極CEで被覆されている。対向電極CEは、画素PX間で互いに接続された共通電極であり、この例では例えばアルミニウムからなる光反射性の陰極である。対向電極CEは、例えば、パッシベーション膜PSと隔壁絶縁層PIとに設けられたコンタクトホールを介して、映像信号線DLと同一の層上に形成された電極配線(図示せず)に電気的に接続されている。各々の有機EL素子OLEDは、画素電極PE、有機物層ORG及び対向電極CEで構成されている。   As shown in FIG. 2, the partition insulating layer PI and the organic layer ORG are covered with a counter electrode CE which is a back electrode. The counter electrode CE is a common electrode connected to each other between the pixels PX. In this example, the counter electrode CE is a light reflective cathode made of aluminum, for example. The counter electrode CE is electrically connected to an electrode wiring (not shown) formed on the same layer as the video signal line DL through, for example, a contact hole provided in the passivation film PS and the partition insulating layer PI. It is connected. Each organic EL element OLED includes a pixel electrode PE, an organic layer ORG, and a counter electrode CE.

画素PXの各々が含む画素回路は、この例では、駆動制御素子(駆動トランジスタ)DRと、出力制御スイッチSWaと、映像信号供給制御スイッチSWbと、ダイオード接続スイッチSWcと、キャパシタCとを含んでいる。上記の通り、この例では、駆動制御素子DR及びスイッチSWa乃至SWcはpチャネル薄膜トランジスタである。また、この例では、映像信号供給制御スイッチSWbとダイオード接続スイッチSWcとは、駆動制御素子DRのドレインと映像信号線DLと駆動制御素子DRのゲートとの接続状態を、それらが互いに接続された第1状態と、それらが互いから遮断された第2状態との間で切り替えるスイッチ群を構成している。   In this example, the pixel circuit included in each pixel PX includes a drive control element (drive transistor) DR, an output control switch SWa, a video signal supply control switch SWb, a diode connection switch SWc, and a capacitor C. Yes. As described above, in this example, the drive control element DR and the switches SWa to SWc are p-channel thin film transistors. In this example, the video signal supply control switch SWb and the diode connection switch SWc are connected to each other in the connection state between the drain of the drive control element DR, the video signal line DL, and the gate of the drive control element DR. The switch group which switches between a 1st state and the 2nd state from which they were interrupted | blocked from each other is comprised.

駆動制御素子DRと出力制御スイッチSWaと有機EL素子OLEDとは、第1電源端子ND1と第2電源端子ND2との間で、この順に直列に接続されている。この例では、第1電源端子ND1は高電位電源端子であり、第2電源端子ND2は低電位電源端子である。   The drive control element DR, the output control switch SWa, and the organic EL element OLED are connected in series in this order between the first power supply terminal ND1 and the second power supply terminal ND2. In this example, the first power supply terminal ND1 is a high potential power supply terminal, and the second power supply terminal ND2 is a low potential power supply terminal.

出力制御スイッチSWaのゲートは、走査信号線SL1に接続されている。映像信号供給制御スイッチSWbは映像信号線DLと駆動制御素子DRのドレインとの間に接続されており、そのゲートは走査信号線SL2に接続されている。ダイオード接続スイッチSWcは駆動制御素子DRのゲートとドレインとの間に接続されており、そのゲートは走査信号線SL2に接続されている。   The gate of the output control switch SWa is connected to the scanning signal line SL1. The video signal supply control switch SWb is connected between the video signal line DL and the drain of the drive control element DR, and its gate is connected to the scanning signal line SL2. The diode connection switch SWc is connected between the gate and the drain of the drive control element DR, and the gate is connected to the scanning signal line SL2.

キャパシタCは、駆動制御素子DRのゲートと定電位端子ND1’との間に接続されている。定電位端子ND1’は、例えば第1電源端子ND1に接続する。   The capacitor C is connected between the gate of the drive control element DR and the constant potential terminal ND1 '. The constant potential terminal ND1 'is connected to the first power supply terminal ND1, for example.

映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRは、この例では、アレイ基板AS上に配置されている。すなわち、この例では、映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRをCOG(chip on glass)実装している。映像信号線ドライバXDR及び走査信号線ドライバYDRは、COG実装する代わりに、TCP(tape carrier package)実装してもよい。   In this example, the video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR are arranged on the array substrate AS. That is, in this example, the video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR are mounted on a COG (chip on glass). The video signal line driver XDR and the scanning signal line driver YDR may be mounted by TCP (tape carrier package) instead of COG mounting.

多層フィルムMLFは、表示パネルDPの前面に貼り付けられている。多層フィルムMLFは、偏光フィルタとしての機能を有する紫外線遮断層である。   The multilayer film MLF is attached to the front surface of the display panel DP. The multilayer film MLF is an ultraviolet blocking layer having a function as a polarizing filter.

図3は、図1及び図2の有機EL表示装置で使用可能な多層フィルムの一例を概略的に示す断面図である。この多層フィルムMLFは、位相差板RTDと、接着剤層AD1と、偏光板PLZと、硬質樹脂層HRと、紫外線吸収層UVAと、反射防止層ARとを含んでいる。多層フィルムMLFは、位相差板RTDが基板SUBと向き合うように配置されてると共に、接着剤層AD2を介してアレイ基板ASに貼り付けられている。偏光板PLZと紫外線吸収層UVAとは、図3に示したのとは逆の順番で積層してもよい。   FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a multilayer film that can be used in the organic EL display device of FIGS. 1 and 2. The multilayer film MLF includes a retardation film RTD, an adhesive layer AD1, a polarizing plate PLZ, a hard resin layer HR, an ultraviolet absorption layer UVA, and an antireflection layer AR. The multilayer film MLF is disposed so that the retardation plate RTD faces the substrate SUB, and is attached to the array substrate AS via the adhesive layer AD2. The polarizing plate PLZ and the ultraviolet absorbing layer UVA may be laminated in the reverse order shown in FIG.

多層フィルムMLFは、紫外線を遮断するのに加え、可視光線のうち波長の短い光線を遮断する。典型的には、この光学特性は、主として、紫外線吸収層UVAによりもたらされる。   The multilayer film MLF blocks not only ultraviolet rays but also rays having a short wavelength among visible rays. Typically, this optical property is mainly provided by the UV absorbing layer UVA.

紫外線吸収層UVAとしては、例えば、有機高分子フィルムに金属酸化物からなる超微粒子を支持させたものを使用することができる。例えば、紫外線吸収層UVAとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にATO(antimony tin oxide)やITO(indium tin oxide)などからなる超微粒子を分散させたものを使用することができる。また、この紫外線吸収層UVAの代わりに、誘電体多層膜からなる干渉フィルタを使用することもできる。   As the ultraviolet absorption layer UVA, for example, an organic polymer film in which ultrafine particles made of a metal oxide are supported can be used. For example, as the ultraviolet absorbing layer UVA, a polyethylene terephthalate film in which ultra fine particles made of ATO (antimony tin oxide) or ITO (indium tin oxide) are dispersed can be used. Further, instead of the ultraviolet absorption layer UVA, an interference filter made of a dielectric multilayer film can be used.

この有機EL表示装置で画像を表示する場合、例えば、走査信号線SL1及びSL2の各々を線順次駆動する。そして、或る行の画素PXに映像信号を書き込む書込期間では、まず、走査信号線ドライバYDRから、先の画素PXが接続された走査信号線SL1にスイッチSWaを開く(OFF)走査信号を電圧信号として出力し、続いて、先の画素PXが接続された走査信号線SL2にスイッチSWb及びSWcを閉じる(ON)走査信号を電圧信号として出力する。この状態で、映像信号線ドライバXDRから、先の画素PXが接続された映像信号線DLに映像信号を電流信号としてそれぞれ出力し、駆動制御素子DRのゲート−ソース間電圧を、先の映像信号に対応した大きさに設定する。その後、走査信号線ドライバYDRから、先の画素PXが接続された走査信号線SL2にスイッチSWb及びSWcを開く(OFF)走査信号を電圧信号として出力し、続いて、先の画素PXが接続された走査信号線SL1にスイッチSWaを閉じる(ON)走査信号を電圧信号として出力する。   When an image is displayed on this organic EL display device, for example, each of the scanning signal lines SL1 and SL2 is line-sequentially driven. In the writing period in which the video signal is written to the pixels PX in a certain row, first, the scanning signal line driver YDR opens the switch SWa to the scanning signal line SL1 to which the previous pixel PX is connected (OFF). A voltage signal is output, and subsequently, a scan signal that closes the switches SWb and SWc (ON) is output as a voltage signal to the scan signal line SL2 to which the previous pixel PX is connected. In this state, the video signal line driver XDR outputs the video signal as a current signal to the video signal line DL to which the previous pixel PX is connected, and the gate-source voltage of the drive control element DR is changed to the previous video signal. Set to a size corresponding to. Thereafter, the scanning signal line driver YDR outputs a scanning signal as a voltage signal that opens (OFF) the switches SWb and SWc to the scanning signal line SL2 to which the previous pixel PX is connected, and then the previous pixel PX is connected. The scanning signal line SL1 closes the switch SWa (ON) and outputs a scanning signal as a voltage signal.

スイッチSWaを閉じ(ON)ている有効表示期間では、有機EL素子OLEDには、駆動制御素子DRのゲート−ソース間電圧に対応した大きさの駆動電流が流れる。有機EL素子OLEDは、駆動電流の大きさに対応した輝度で発光する。   In the effective display period in which the switch SWa is closed (ON), a drive current having a magnitude corresponding to the gate-source voltage of the drive control element DR flows through the organic EL element OLED. The organic EL element OLED emits light with a luminance corresponding to the magnitude of the drive current.

さて、この有機EL表示装置で使用している多層フィルムMLFは、紫外線を遮断するのに加え、可視光線のうち波長の短い光線を遮断する。そのため、有機EL素子OLEDの太陽光等の外光照射による劣化を十分に抑制することが可能となる。これについて、以下に詳細に説明する。   Now, the multilayer film MLF used in this organic EL display device blocks not only ultraviolet rays but also rays having a short wavelength among visible rays. For this reason, it is possible to sufficiently suppress the deterioration of the organic EL element OLED due to irradiation with external light such as sunlight. This will be described in detail below.

図4は、有機EL素子が含む有機物層の光学特性の一例を示すグラフである。図中、横軸は波長を示し、縦軸は屈折率及び消衰係数を示している。また、曲線Cnは有機物層ORGの屈折率を示し、曲線Ckは有機物層ORGの消衰係数を示している。 FIG. 4 is a graph illustrating an example of the optical characteristics of the organic layer included in the organic EL element. In the figure, the horizontal axis indicates the wavelength, and the vertical axis indicates the refractive index and the extinction coefficient. A curve C n indicates the refractive index of the organic layer ORG, and a curve C k indicates the extinction coefficient of the organic layer ORG.

図4に示すように、有機EL素子OLEDの有機物層ORGは、波長が400nm以下の紫外域に吸収のピークがある。但し、有機物層ORGは、紫外線のみを吸収する訳ではなく、波長が400nmよりも長い可視光線のうち波長が短い光線も吸収する。そのため、紫外線のみを遮断しても、有機EL素子OLEDの外光照射による劣化を十分に抑制することはできない。   As shown in FIG. 4, the organic material layer ORG of the organic EL element OLED has an absorption peak in the ultraviolet region having a wavelength of 400 nm or less. However, the organic layer ORG does not absorb only ultraviolet rays but also absorbs light rays having a short wavelength among visible rays having a wavelength longer than 400 nm. Therefore, even if only ultraviolet rays are blocked, deterioration due to external light irradiation of the organic EL element OLED cannot be sufficiently suppressed.

これに対し、上記の通り、多層フィルムMLFは、紫外線を遮断するのに加え、可視光線のうち波長の短い光線を遮断する。そのため、有機EL素子OLEDの外光照射による劣化を十分に抑制することができる。   On the other hand, as described above, the multilayer film MLF blocks not only ultraviolet rays but also rays having a short wavelength among visible rays. Therefore, deterioration due to external light irradiation of the organic EL element OLED can be sufficiently suppressed.

なお、波長が450nm以上の可視光線を遮断すると、波長が約500nm以下の光線を遮断すれば、有機EL素子OLEDの外光照射による劣化をほぼ完全に防止できる。しかしながら、この場合、色再現性が不十分となる。したがって、多層フィルムMLFは、波長が450nm以上の可視光線を透過するように設計し、より高い色再現性が要求される場合には波長が430nm以上の可視光線を透過するように設計する。   When visible light having a wavelength of 450 nm or more is blocked, deterioration of the organic EL element OLED due to external light irradiation can be almost completely prevented by blocking light having a wavelength of about 500 nm or less. However, in this case, the color reproducibility becomes insufficient. Therefore, the multilayer film MLF is designed to transmit visible light having a wavelength of 450 nm or more, and is designed to transmit visible light having a wavelength of 430 nm or more when higher color reproducibility is required.

図5は、図1及び図2の有機EL表示装置で使用可能な多層フィルムの光学特性の一例を示すグラフである。図6は、図5の一部を拡大して示すグラフである。図5及び図6において、横軸は波長を示し、縦軸は透過率を示している。   FIG. 5 is a graph showing an example of optical characteristics of a multilayer film that can be used in the organic EL display device of FIGS. 1 and 2. FIG. 6 is an enlarged graph showing a part of FIG. 5 and 6, the horizontal axis indicates the wavelength, and the vertical axis indicates the transmittance.

図5及び図6において、曲線C1は、図3の構造を有する多層フィルムMLFの透過率を示している。ここでは、硬質樹脂層HRとしてポリカーボネート層層を使用し、紫外線吸収層UVAとしてポリエチレンテレフタレートフィルム上にATOからなる超微粒子を分散させたものを使用し、反射防止層ARとしてSiO2層とTiO2層との積層体を使用している。曲線C2は、先の多層フィルムMLFから紫外線吸収層UVAを省略したものの透過率を示している。また、曲線C3は、先の多層フィルムMLFから紫外線吸収層UVAと反射防止層ARとを省略したものの透過率を示している。 5 and 6, a curve C 1 shows the transmittance of the multilayer film MLF having the structure of FIG. Here, a polycarbonate layer is used as the hard resin layer HR, an ultra-fine particle composed of ATO is dispersed on a polyethylene terephthalate film as the ultraviolet absorbing layer UVA, and an SiO 2 layer and TiO 2 are used as the antireflection layer AR. A laminate with layers is used. A curve C 2 indicates the transmittance of the multilayer film MLF from which the ultraviolet absorbing layer UVA is omitted. Curve C 3 shows the transmittance of the multilayer film MLF from which the ultraviolet absorbing layer UVA and the antireflection layer AR are omitted.

この多層フィルムMLFは、曲線C1で示すように、紫外線についての透過率が0%であるのに加え、可視光線についての透過率が418nm以下の各波長で0%である。測定誤差が最大で2乃至3%であることを考慮すると、この多層フィルムMLFは、紫外線についての透過率が3%以下であるのに加え、可視光線についての透過率が418nm以下の各波長で3%以下である。また、この多層フィルムMLFは、可視光線についての透過率が420nm以上の各波長で10%以上であり、450nm乃至770nmの各波長で40%以上である。 As indicated by the curve C 1 , this multilayer film MLF has a transmittance for ultraviolet rays of 0%, and a transmittance for visible light of 0% at each wavelength of 418 nm or less. Considering that the maximum measurement error is 2 to 3%, this multilayer film MLF has a transmittance for ultraviolet rays of 3% or less and a transmittance for visible light of 418 nm or less at each wavelength. 3% or less. The multilayer film MLF has a visible light transmittance of 10% or more at each wavelength of 420 nm or more, and 40% or more at each wavelength of 450 nm to 770 nm.

すなわち、この多層フィルムMLFは、波長が紫外線に近い可視光線についての透過率とそれ以外の波長の可視光線についての透過率との比が小さい。例えば、この多層フィルムMLFは、波長が418nmの光についての透過率T418と波長が450nmの光についての透過率T450との比T418/T450は0.1以下である。また、この多層フィルムMLFは、波長が418nm以下の可視光線についての透過率の最大値Tmaxと波長が450nm乃至770nmの範囲内にある光についての透過率の最小値Tminとの比Tmax/Tminが0.1以下である。 That is, this multilayer film MLF has a small ratio between the transmittance for visible light having a wavelength close to that of ultraviolet light and the transmittance for visible light having other wavelengths. For example, the multilayer film MLF, the ratio T 418 / T 450 between the transmittance T 450 for light transmittance T 418 and wavelength 450nm for the light having a wavelength of 418nm is 0.1 or less. Further, the multilayer film MLF, the ratio T max between the minimum value T min of the transmittance for light maximum value T max and the wavelength of the transmittance of the wavelength for the following visible light 418nm is within the range of 450nm to 770nm / T min is 0.1 or less.

これに対し、先の多層フィルムMLFから紫外線吸収層UVAなどを省略すると、曲線C2及びC3から明らかなように、可視光線についての透過率は410nm以上の各波長で10%を超えてしまう。このように、先の多層フィルムMLFから紫外線吸収層UVAを省略すると、曲線C1で示すような透過率を実現できない。 On the other hand, if the ultraviolet absorbing layer UVA or the like is omitted from the multilayer film MLF, the transmittance for visible light exceeds 10% at each wavelength of 410 nm or more, as is apparent from the curves C 2 and C 3. . Thus, if the ultraviolet absorbing layer UVA is omitted from the previous multilayer film MLF, the transmittance as shown by the curve C 1 cannot be realized.

この光学特性の相違が有機EL表示装置の耐光特性に与える影響を調べるべく、以下の耐光試験を行った。すなわち、表示面に光を照射しながら有機EL表示装置を連続点灯し、一定時間毎に輝度を測定した。ここでは、光源としてサンシャインカーボンアークを使用し、温度は約63℃に、相対湿度は約30乃至約70%に管理した。また、波長300乃至700nmの光線についての照射照度は255W/m2とした。なお、この条件のもとでは、試験を360時間継続することは、表示装置を自動車の車内に設置してから15年間経過したことに相当する。 The following light resistance test was performed in order to investigate the influence of the difference in optical characteristics on the light resistance characteristics of the organic EL display device. That is, the organic EL display device was continuously lit while irradiating the display surface with light, and the luminance was measured at regular intervals. Here, a sunshine carbon arc was used as the light source, the temperature was controlled at about 63 ° C., and the relative humidity was controlled at about 30 to about 70%. Further, the irradiation illuminance with respect to light having a wavelength of 300 to 700 nm was set to 255 W / m 2 . Under this condition, continuing the test for 360 hours corresponds to the fact that 15 years have passed since the display device was installed in the car.

図7乃至図10は、有機EL表示装置の耐光特性を示すグラフである。図7には、有機EL表示装置に白色画像を表示させた場合に得られたデータを示している。図8には、有機EL表示装置に青色画像を表示させた場合に得られたデータを示している。図9には、有機EL表示装置に緑色画像を表示させた場合に得られたデータを示している。図10には、有機EL表示装置に赤色画像を表示させた場合に得られたデータを示している。   7 to 10 are graphs showing the light resistance characteristics of the organic EL display device. FIG. 7 shows data obtained when a white image is displayed on the organic EL display device. FIG. 8 shows data obtained when a blue image is displayed on the organic EL display device. FIG. 9 shows data obtained when a green image is displayed on the organic EL display device. FIG. 10 shows data obtained when a red image is displayed on the organic EL display device.

図7乃至図10において、横軸は耐光試験開始からの経過時間を示し、縦軸は初期輝度を基準とした相対輝度を示している。また、曲線CAは、図5及び図6において曲線C1で表す光学特性を有する多層フィルムMLFを用いた場合のデータを示している。他方、曲線CBは、この多層フィルムMLFの代わりに、図5及び図6において曲線C2で表す光学特性を有するフィルムを用いた場合のデータを示している。 7 to 10, the horizontal axis represents the elapsed time from the start of the light resistance test, and the vertical axis represents the relative luminance with reference to the initial luminance. Curve C A shows data in the case of using the multilayer film MLF having optical properties represented by the curve C 1 in FIGS. On the other hand, the curve C B, instead of the multilayer film MLF, shows data in the case of using the film having optical properties represented by the curve C 2 in FIGS.

曲線CAと曲線CBとの比較から明らかなように、紫外線吸収層UVAを含む多層フィルムMLFを用いた場合には、相対輝度の低下を十分に抑制することができた。すなわち、紫外線吸収層UVAを含む多層フィルムMLFを用いた場合、優れた耐光特性を実現することができた。 As it is apparent from a comparison between curves C A and the curve C B, in the case of using the multilayer film MLF containing the ultraviolet absorbing layer UVA could be sufficiently suppressed a decrease in relative brightness. That is, when the multilayer film MLF including the ultraviolet absorbing layer UVA is used, excellent light resistance can be realized.

また、紫外線遮蔽層UVAをパネル外側に配置することにより、紫外線遮蔽層UVA内で吸収する熱が有機EL素子OLEDへ及ぼす影響を抑制することが可能となる。したがって、パネル内部に紫外線遮蔽層UVAを設けた場合と比べ、より長寿命な表示装置を実現することが可能となる。   In addition, by disposing the ultraviolet shielding layer UVA on the outside of the panel, it is possible to suppress the influence of heat absorbed in the ultraviolet shielding layer UVA on the organic EL element OLED. Therefore, it is possible to realize a display device having a longer life compared to the case where the ultraviolet shielding layer UVA is provided inside the panel.

本態様では、本発明を下面発光型の有機EL表示装置に適用したが、本発明は上面発光型の有機EL表示装置にも適用可能である。また、本態様では、画素回路に映像信号として電流信号を書き込む構成を採用したが、画素回路に映像信号として電圧信号を書き込む構成を採用することも可能である。   In this embodiment, the present invention is applied to a bottom emission type organic EL display device, but the present invention is also applicable to a top emission type organic EL display device. Further, in this aspect, the configuration in which the current signal is written as the video signal in the pixel circuit is adopted, but the configuration in which the voltage signal is written in the pixel circuit as the video signal may be employed.

本発明の本発明の一態様に係る表示装置を概略的に示す平面図。The top view which shows schematically the display apparatus which concerns on 1 aspect of this invention of this invention. 図1の表示装置に採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a structure that can be employed in the display device of FIG. 1. 図1及び図2の有機EL表示装置で使用可能な多層フィルムの一例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows roughly an example of the multilayer film which can be used with the organic electroluminescence display of FIG.1 and FIG.2. 有機EL素子が含む有機物層の光学特性の一例を示すグラフ。The graph which shows an example of the optical characteristic of the organic substance layer which an organic EL element contains. 図1及び図2の有機EL表示装置で使用可能な多層フィルムの光学特性の一例を示すグラフ。The graph which shows an example of the optical characteristic of the multilayer film which can be used with the organic electroluminescence display of FIG.1 and FIG.2. 図5の一部を拡大して示すグラフ。The graph which expands and shows a part of FIG. 有機EL表示装置の耐光特性を示すグラフ。The graph which shows the light resistance characteristic of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の耐光特性を示すグラフ。The graph which shows the light resistance characteristic of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の耐光特性を示すグラフ。The graph which shows the light resistance characteristic of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の耐光特性を示すグラフ。The graph which shows the light resistance characteristic of an organic electroluminescence display.

符号の説明Explanation of symbols

AD1…接着剤層、AD2…接着剤層、AR…反射防止層、AS…アレイ基板、C…キャパシタ、C1…透過率、C2…透過率、C3…透過率、CA…相対輝度、CB…相対輝度、Ck…消衰係数、Cn…屈折率、CE…対向電極、CS…封止基板、DE…ドレイン電極、DL…映像信号線、DP…表示パネル、DR…駆動制御素子、G…ゲート、GI…ゲート絶縁膜、HR…硬質樹脂層、II…層間絶縁膜、MLF…多層フィルム、ND1…電源端子、ND1’…定電位端子、ND2…電源端子、OLED…有機EL素子、ORG…有機物層、PE…画素電極、PI…隔壁絶縁層、PLZ…偏光板、PS…パッシベーション膜、PSL…電源線、PX…画素、RTD…位相差板、SC…半導体層、SE…ソース電極、SL1…走査信号線、SL2…走査信号線、SS…シール層、SUB…絶縁基板、SWa…出力制御スイッチ、SWb…映像信号供給制御スイッチ、SWc…ダイオード接続スイッチ、UC…アンダーコート層、UVA…紫外線吸収層、XDR…映像信号線ドライバ、YDR…走査信号線ドライバ。 AD1 ... adhesive layer, AD2 ... adhesive layer, AR ... antireflection layer, AS ... array substrate, C ... capacitors, C 1 ... transmittance, C 2 ... transmittance, C 3 ... transmittance, C A ... relative luminance C B ... Relative luminance, C k ... extinction coefficient, C n ... refractive index, CE ... counter electrode, CS ... sealing substrate, DE ... drain electrode, DL ... video signal line, DP ... display panel, DR ... drive Control element, G ... gate, GI ... gate insulating film, HR ... hard resin layer, II ... interlayer insulating film, MLF ... multilayer film, ND1 ... power supply terminal, ND1 '... constant potential terminal, ND2 ... power supply terminal, OLED ... organic EL element, ORG ... organic layer, PE ... pixel electrode, PI ... partition insulating layer, PLZ ... polarizing plate, PS ... passivation film, PSL ... power line, PX ... pixel, RTD ... retardation plate, SC ... semiconductor layer, SE ... Source electrode, SL1 ... Scanning signal line, S L2 ... Scanning signal line, SS ... Sealing layer, SUB ... Insulating substrate, SWa ... Output control switch, SWb ... Video signal supply control switch, SWc ... Diode connection switch, UC ... Undercoat layer, UVA ... UV absorbing layer, XDR ... Video signal line driver, YDR... Scanning signal line driver.

Claims (5)

有機EL素子と、その前面側に配置されると共に可視光線についての透過率が418nm以下の各波長で3%以下であり且つ450nm乃至770nmの各波長で40%以上である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置。   An organic EL element and an ultraviolet blocking layer that is disposed on the front surface side thereof and has a visible light transmittance of 3% or less at each wavelength of 418 nm or less and 40% or more at each wavelength of 450 nm to 770 nm. An organic EL display device characterized by that. 前記紫外線遮断層は可視光線についての透過率が420nm以上の各波長で10%以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   2. The organic EL display device according to claim 1, wherein the ultraviolet blocking layer has a visible light transmittance of 10% or more at each wavelength of 420 nm or more. 有機EL素子と、その前面側に配置されると共に波長が418nmの光についての透過率T418と波長が450nmの光についての透過率T450との比T418/T450が0.1以下である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置。 In the organic EL element, the wavelength while being disposed on the front surface side of the ratio T 418 / T 450 between the transmittance T 450 for transmission T 418 and the wavelength of 450nm light for the light of 418nm is 0.1 or less An organic EL display device comprising an ultraviolet blocking layer. 有機EL素子と、その前面側に配置されると共に波長が418nm以下の可視光線についての透過率の最大値Tmaxと波長が450nm乃至770nmの範囲内にある光についての透過率の最小値Tminとの比Tmax/Tminが0.1以下である紫外線遮断層とを具備したことを特徴とする有機EL表示装置。 The maximum value T max of the transmittance for visible light having a wavelength of 418 nm or less and the minimum value T min of the transmittance for light having a wavelength in the range of 450 nm to 770 nm, disposed on the front side of the organic EL element. And an ultraviolet blocking layer having a ratio T max / T min of 0.1 or less. 前記紫外線遮断層は偏光板を含んでいることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the ultraviolet blocking layer includes a polarizing plate.
JP2005211356A 2005-07-21 2005-07-21 Organic el display device Pending JP2007027043A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211356A JP2007027043A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Organic el display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005211356A JP2007027043A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Organic el display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007027043A true JP2007027043A (en) 2007-02-01

Family

ID=37787529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005211356A Pending JP2007027043A (en) 2005-07-21 2005-07-21 Organic el display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007027043A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012023039A (en) * 2010-07-16 2012-02-02 Samsung Mobile Display Co Ltd Organic light-emitting device
JP2014179335A (en) * 2010-01-04 2014-09-25 Samsung Display Co Ltd Organic light-emitting display device
KR20160014574A (en) 2013-06-03 2016-02-11 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 Polarizing element and polarizing plate for display device having blue light emitting element
KR20200114055A (en) * 2019-03-27 2020-10-07 주식회사 엘지화학 Transparent light emitting device display

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014179335A (en) * 2010-01-04 2014-09-25 Samsung Display Co Ltd Organic light-emitting display device
JP2012023039A (en) * 2010-07-16 2012-02-02 Samsung Mobile Display Co Ltd Organic light-emitting device
KR20160014574A (en) 2013-06-03 2016-02-11 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 Polarizing element and polarizing plate for display device having blue light emitting element
KR20200114055A (en) * 2019-03-27 2020-10-07 주식회사 엘지화학 Transparent light emitting device display
KR102721329B1 (en) 2019-03-27 2024-10-23 주식회사 엘지화학 Transparent light emitting device display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8487840B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
KR101499179B1 (en) Display device and manufacturing method thereof
US9853249B2 (en) Display device including reflecting layer
JP2004006284A (en) Electroluminescent(el) display device
US20180190730A1 (en) Display device
US20180159083A1 (en) Organic light emitting display device
US10644253B2 (en) Organic light-emitting diode display device
WO2019176457A1 (en) Organic el display device and method for manufacturing organic el display device
TWI222049B (en) Color display unit
JP2007027043A (en) Organic el display device
JP4939919B2 (en) Display device
JP5025123B2 (en) Display device and electronic device
JP4942223B2 (en) Organic EL device
KR20220080923A (en) Electroluminescence Display
KR20170064606A (en) Organic Light Emitting Diode Display Panel AND Organic Light Emitting Diode Display Device having the same
KR20210033233A (en) Electroluminescent Display
US20230200117A1 (en) Display device and method of fabricating the same
US20230217694A1 (en) Display apparatus
KR102200020B1 (en) Organic light emitting display device