JP2007025669A - 表示パネル及びそれを有する表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】タッチスクリーン機能を有する表示パネルにおいて遮光膜による光の反射を防止して位置情報検出の誤流を防止することができる表示パネル及びそれを有する表示装置を提供する。
【解決手段】画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され画像を表示するために前記表示領域上に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成された反射防止膜とを含む下部基板と、前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有する。
【選択図】 図１

Description

本発明は表示パネル及びそれを有する表示装置に関し、さらに詳細には光センサーを用いてタッチスクリーン機能を一体化させた表示パネル及びそれを有する表示装置に関する。

一般的に、タッチスクリーンパネルは表示パネル上に配置され、手、スタイラスペンなどのようなオブジェクトを通じてデータを入力する入力装置である。従来のタッチスクリーンパネルは第１基板、第１基板から所定の間隔分だけ離隔された第２基板、第１及び第２基板が互いに向き合う面にそれぞれ形成される第１及び第２透明電極で構成される。

このような従来のタッチスクリーン機能を有する表示装置は、タッチスクリーンパネルと表示パネルが別途であるため、全体的に光学的特性が低下し、表示装置の厚さが増加してしまうという問題があった。

それにより、近年では光センサーを用いてタッチスクリーン機能を一体化させた表示パネルが開発されるところとなった。一般的に表示パネルに具備されるタッチスクリーン機能のための光センサーは非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）またはポリシリコン（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）から形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）からなる。

このような表示パネルは下部に配置されたバックライトアセンブリからの光を反射させ、この反射光を通じてタッチ位置を検出する。即ち、表示パネルに具備された光センサーはバックライトアセンブリからの光が表示パネルの上部で反射され入ってくることに反応して感知信号を発生し、表示装置は光センサーから獲得した感知信号を信号処理してスクリーン内の位置情報を検出する。

表示パネルは実質的に画像を表示する表示領域と表示領域を取り囲む周辺領域とで区分される。表示領域はイメージを形成する複数の画素と、物体の位置を感知する複数の均一に配置された光センサーを含む。このような配置では、表示領域中央部位で光センサーの感知信号に対する均一性が自動的に確保される。

しかし、周辺領域と隣接した表示領域の端部位では周辺領域に形成された遮光膜による反射光によって光センサーの感知信号にノイズが誘発され、このような感知信号のノイズに起因して位置情報の正確な検出が難しくなるという問題が発生する。

そこで、本発明は上記従来のタッチスクリーン機能を一体化させた表示パネルにおける問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、遮光膜による光の反射を防止して位置情報検出の誤流を防止することができる表示パネルを提供することにある。

また、本発明の他の目的は、上記した表示パネルを有する表示装置を提供することにある。

上記目的を達成するためになされた本発明による表示パネルは、画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され画像を表示するために前記表示領域上に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成された反射防止膜とを含む下部基板と、前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有することを特徴とする。

前記画素部は、ゲートラインと、前記ゲートラインと、絶縁され交差するデータラインと、前記ゲートライン及びデータラインと連結された第１スイッチング素子と、前記第１スイッチング素子と連結された透明電極とを有することが好ましい。
前記下部基板は、前記透明電極と連結され、光の透過のための透過窓を有する反射電極をさらに有することが好ましい。
前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部と、前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部と、前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部とを有することが好ましい。
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと重畳しない領域に形成されることが好ましい。
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと重畳しない領域に形成されることが好ましい。
前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートライン及び前記データラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記光感知部は、第１感知ラインと、前記第１感知ラインと絶縁され交差する第２感知ラインと、前記第１感知ラインに連結され、光に対する感知信号を出力する第２スイッチング素子と、前記第２スイッチング素子から提供された前記感知信号を前記第２感知ラインに提供する第３スイッチング素子とを有することが好ましい。
前記上部基板は、前記表示領域に対応して形成されるカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層上に形成される共通電極とをさらに有することが好ましい。

上記目的を達成するためになされた本発明による表示装置は、光を発生させるバックライトアセンブリと、前記バックライトアセンブリの上部に配置され、バックライトアセンブリの光を用いて画像を表示する表示パネルとを有し、前記表示パネルは、画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され、画像を表示するために前記表示領域に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成され前記バックライトアセンブリからの光を遮断する反射防止膜とを含む下部基板と、前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有することを特徴とする。

前記反射防止膜は、前記バックライトアセンブリからの光が前記遮光膜から反射され前記光感知部に流入することを防止するために前記遮光膜の下部に形成されることが好ましい。
前記画素部は、ゲートラインと、前記ゲートラインと絶縁され交差するデータラインと、前記ゲートライン及び前記データラインと連結されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子と連結された透明電極とを有することが好ましい。
前記下部基板は、外部からの光を反射させるために前記透明電極と連結された反射電極をさらに有し、前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部を有し、前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記周辺領域は、前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部を有し、前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。
前記周辺領域は、前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部を有し、前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は前記ゲートライン及びデータラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることが好ましい。

本発明に係る表示パネル及びそれを有する表示装置によれば、上部基板に形成された遮光膜による光の反射を防止して光感知部の誤動作を防止し、タッチ位置に対する正確で信頼性のある検出が可能となるという効果がある。

特に、下部基板が反射電極を有する半透過型基板の場合、下部基板の周辺領域に反射電極と同時に反射防止膜を形成することで、別途の追加工程なしに遮光膜による光反射を防止することができるという効果がある。
また、下部基板が反射電極を有しない透過型基板の場合、下部基板の周辺領域にゲートラインまたはデータラインと同時に反射防止膜を形成することで、別途の追加工程なしに遮光膜による光反射を防止することができるという効果がある。

次に、本発明に係る表示パネル及びそれを有する表示装置を実施するための最良の形態の具体例を図面を参照しながら説明する。

図１は、本発明の一実施形態による表示装置を示す断面図である。
図１に示すように、本発明の一実施形態による表示装置１００は光を発生するバックライトアセンブリ１１０、及びバックライトアセンブリ１１０からの光を用いて画像を表示する表示パネル２００を含む。

バックライトアセンブリ１１０は表示パネル２００の下部に配置され、発生した光を表示パネル２００に提供する。表示パネル２００は選択的にバックライトアセンブリ１１０の光をフィルタリングして表示パネル２００の上部表面にイメージを形成する。本実施形態において、バックライトアセンブリ１１０と表示パネル２００は水平に配置されているが、当該発明分野の当業者はこの構成要素が壁面設置用表示装置、デスクトップまたは表示パネルで垂直に配置し得ることがわかるだろう。

表示パネル２００は下部基板３００、下部基板３００と向き合う上部基板４００、及び下部基板３００と上部基板４００との間に配置された液晶層５００を含む。

下部基板３００は実質的に画像を表示する表示領域（ＤＡ）と、表示領域（ＤＡ）に隣接して実質的に画像を表示することができない周辺領域（ＰＡ）と、で区分される。

下部基板３００は画像を表示するために表示領域（ＤＡ）上に形成された複数の画素部３１０、及び位置感知のために表示領域（ＤＡ）上に形成された複数の光感知部３２０を含む。

画素部３１０及び光感知部３２０は同一の構造が反復されるように表示領域（ＤＡ）上に２次元マトリックス形態に形成される。この際、開口率の減少を防止するために、光感知部３２０が占める面積は画素部３１０が占める面積に比べて小さいほど望ましい。

光感知部３２０の形成個数及び形成位置は製品の仕様によっていくらでも変更することができる。例えば、一つの画素部３１０は同一の構造を有する三つのサブ画素からなり、光感知部３２０は三つのサブ画素の内一つのサブ画素にのみ形成される。これとは異なり、光感知部３２０は四個または九個などの複数の画素部３１０に対応して一つずつ形成されてもいい。

下部基板３００は周辺領域（ＰＡ）上に形成された反射防止膜３３０をさらに含む。反射防止膜３３０はバックライトアセンブリ１１０からの光が上部基板４００の遮光膜４２０によって反射され光感知部３２０に流入することを防止するために下部基板３００に形成される。反射防止膜３３０はバックライトアセンブリ１１０からの光の透過を遮断するために、例えば、不透明な金属からなる。

上部基板４００は表示領域（ＤＡ）に対応して形成されたカラーフィルタ層４１０、及び周辺領域（ＰＡ）に対応して形成された遮光膜４２０をさらに含む。

カラーフィルタ層４１０はバックライトアセンブリ１１０からの光に反応して所定のカラーを再現する複数の色画素からなる。例えば、カラーフィルタ層４１０はそれぞれの画素部３１０に対応してレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）からなる３色の色画素を具備する。

遮光膜４２０は実質的に画像を表示しない周辺領域（ＰＡ）で光が漏れることを防止するために上部基板４００に形成される。示されてはいないが、遮光膜４２０はカラーフィルタ層４１０のそれぞれの色画素の間にも形成される。

遮光膜４２０は光の透過を防止するために不透明な物質からなることができる。例えば、遮光膜４２０はクロムオキサイド（ＣｒＯｘ）、クロム（Ｃｒ）及びクロムオキサイド（ＣｒＯｘ）が順次に積層された構造を有する。

上部基板４００はカラーフィルタ層４１０上に形成された共通電極４３０をさらに含む。共通電極４３０は光の透過のために透明な導電性物質からなる。例えば、共通電極４３０はインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）からなる。

液晶層５００は異方性屈折率、異方性誘電率などの光学的、電気的特性を有する液晶分子が一定の形態に配列された構造を有する。液晶層５００は下部基板３００と上部基板４００との間に形成される電界によって液晶分子の配列が変化され、液晶分子の配列変化によって通過する光の透過率を制御する。

図２は、図１に示した表示パネルを具体的に示した断面図であり、図３は図２に示した下部基板を具体的に示した平面図である。

図２及び図３に示すように、下部基板３００は画像を表示するための画素部３１０及び位置検出のための光感知部３２０を含む。画素部３１０は、一例として、３個のサブ画素からなり、光感知部３２０は３個のサブ画素の内のいずれか一つのサブ画素と隣接するように形成される。

画素部３１０は、第１方向（Ｄ１）に延長されるゲートライン（ＧＬ）、ゲートライン（ＧＬ）と絶縁され、第１方向（Ｄ１）と直交する第２方向（Ｄ２）に延長されゲートライン（ＧＬ）と交差されるデータライン（ＤＬ）、ゲートライン（ＧＬ）及びデータライン（ＤＬ）と連結された第１スイッチング素子（Ｔ１）、及び第１スイッチング素子（Ｔ１）と連結された透明電極（ＴＥ）を含む。

第１スイッチング素子（Ｔ１）はゲートライン（ＧＬ）から分岐されたゲート電極、データライン（ＤＬ）から分岐されたソース電極、及び透明電極（ＴＥ）と連結されたドレイン電極を含む。ここで、第１スイッチング素子（Ｔ１）は非晶質シリコン（ａ−Ｓｉ）からなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）で構成される。これとは異なり、第１スイッチング素子（Ｔ１）はポリシリコンからなる薄膜トランジスタで構成されてもいい。

光感知部３２０は第１方向（Ｄ１）に延長される第１感知ライン（ＳＬ１）、第１感知ライン（ＳＬ１）と絶縁され、第１方向（Ｄ１）と直交する第２方向（Ｄ２）に延長され第１感知ライン（ＳＬ１）と交差される第２感知ライン（ＳＬ２）、第１感知ライン（ＳＬ１）と連結され光に対する感知信号を出力する第２スイッチング素子（Ｔ２）、及び第２スイッチング素子（Ｔ２）と電気的に連結された第３スイッチング素子（Ｔ３）を含む。

第１感知ライン（ＳＬ１）はゲートライン（ＧＬ）と同一の層に形成され、ゲートライン（ＧＬ）と所定の間隔で離隔され絶縁するように形成される。

第２感知ライン（ＳＬ２）はデータライン（ＤＬ）と同一の層に形成され、データライン（ＤＬ）と所定の間隔で離隔され絶縁するように形成される。

第２スイッチング素子（Ｔ２）はバックライトアセンブリ１１０からの指、スタイラスペンなどのような物体から反射された光に応答して対象物体の位置を示す感知信号を出力する。即ち、バックライトアセンブリ１１０から出射された光は表示パネル２００を通過した後、表示パネル２００の上部に位置した反射ペンなどのタッチ部材によって反射される。第２スイッチング素子（Ｔ２）はこれら物体によって反射された光に応答して位置情報を示すための感知信号を出力する。

第２スイッチング素子（Ｔ２）は第１感知ライン（ＳＬ１）から分岐されたゲート電極、データライン（ＤＬ）から分岐されたソース電極、及び第３スイッチング素子（Ｔ３）と連結されたドレイン電極を具備する。

第３スイッチング素子（Ｔ３）は第２スイッチング素子（Ｔ２）から提供された感知信号を第２感知ライン（ＳＬ２）に提供する。第３スイッチング素子（Ｔ３）はゲートライン（ＧＬ）から分岐されたゲート電極、第２スイッチング素子（Ｔ２）のソース電極と連結されたソース電極、及び第２感知ライン（ＳＬ２）から分岐されたドレイン電極を含む。

第２スイッチング素子（Ｔ２）及び第３スイッチング素子（Ｔ３）は第１スイッチング素子（Ｔ１）と同一の薄膜工程を通じて同時に形成する。例えば、第２スイッチング素子（Ｔ２）及び第３スイッチング素子（Ｔ３）は第１スイッチング素子（Ｔ１）と同一に非晶質シリコンからなる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）で構成する。それとは異なり、第１スイッチング素子（Ｔ１）はポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）からなる薄膜トランジスタで構成することもできる。

一方、透明電極（ＴＦ）は第１乃至第３スイッチング素子（Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３）をカバーする絶縁膜３４０上で第１スイッチング素子（Ｔ１）のドレイン電極を露出させるコンタクトホール（ＣＯＮ）を通じて第１スイッチング素子（Ｔ１）と電気的に連結される。透明電極（ＴＥ）は透明性導電物質であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）からなる。

本実施形態において、下部基板３００は外部からの光を反射させるために透明電極（ＴＥ）と連結された反射電極（ＲＥ）をさらに含む半透過基板からなる。

表示パネル２００の外部から入射する光はパネルを通過し反射電極（ＲＥ）によって反射される。反射電極（ＲＥ）は画素部３１０及び光感知部３２０上に形成され、透明電極（ＴＥ）を露出させるための透過窓（Ｗ１）及び第２スイッチング素子（Ｔ２）を露出させるための開口窓（Ｗ２）を有する。例えば、反射電極（ＲＥ）は反射率が高いアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）からなる単一反射膜またはアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）とモリブデンタングステン（ＭｏＷ）からなる二重反射膜で構成される。

透過窓（Ｗ１）は表示パネル２００の下部に配置されたバックライトアセンブリ１１０から発生した光が表示パネル２００を透過することができるように透過領域を提供する。反面、反射電極（ＲＥ）は表示パネル２００の外部からもたらされる自然光を反射させることができるように反射領域を提供する。

一方、バックライトアセンブリ１１０から透過窓（Ｗ１）を通過した後、表示パネル２００の外部から使用者によって故意的に反射された光は開口窓（Ｗ２）を通じて第２スイッチング素子（Ｔ２）に印加される。この際、反射電極（ＲＥ）は第１スイッチング素子（Ｔ１）及び第３スイッチング素子（Ｔ３）をカバーすることで、第１スイッチング素子（Ｔ３）に光が入射することを防止する。

図２に示すように、下部基板３００の周辺領域（ＰＡ）には反射防止膜３３０が形成される。本実施形態において、反射防止膜３３０は反射電極（ＲＥ）と同一の物質で同一の層に形成される。例えば、反射防止膜３３０はアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）からなる単一膜またはアルミニウム−ネオジム（ＡｌＮｄ）とモリブデンタングステン（ＭｏＷ）からなる二重膜で構成される。

反射防止膜３３０はバックライトアセンブリ１１０からの光が上部基板４００の遮光膜４２０によって反射され周辺領域（ＰＡ）に隣接した光感知部３２０に流入することを防止する。従って、周辺領域（ＰＡ）と隣接した表示領域（ＤＡ）で、遮光膜４２０の光反射による光感知部３２０の誤動作を防止することができる。

図４は、本発明の他の実施形態による表示パネルを示した平面図であり、図５は図４のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図であり、図６は図４のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。本実施形態において、下部基板を除いた残りの構成要素は図１及び図２に示したのと同一であるので、同一の構成要素に対しては同一の参照番号を使用し、その重複される詳細な説明は省略する。

図４及び図５に示すように、本発明の他の実施形態による表示パネル６００は下部基板６１０、下部基板６１０と向き合う上部基板４００、及び下部基板６１０と上部基板４００との間に配置された液晶層５００を含む。

下部基板６１０は実質的に画像を表示する表示領域（ＤＡ）と、表示領域（ＤＡ）に隣接し実質的に画像を表示することができない周辺領域（ＰＰ１〜ＰＰ３）と、で区分される。

周辺領域（ＰＰ１〜ＰＰ３）はデータライン（ＤＬ）の入力端が配置される第１周辺部（ＰＰ１）、ゲートライン（ＧＬ）の入力端が配置される第２周辺部（ＰＰ２）、及び第１周辺部（ＰＰ１）と第２周辺部（ＰＰ２）を除いた残りの第３周辺部（ＰＰ３）を含む。

下部基板６１０は画像を表示するために表示領域（ＤＡ）上に形成された複数の画素部６１１及び位置感知のために表示領域（ＤＡ）上に形成された複数の光感知部６１２をさらに含む。画素部６１１及び光感知部６１２は同一の構造が反復されるように表示領域（ＤＡ）上に２次元マトリックス形態に形成される。

本実施形態において、下部基板６１０は反射電極を含まない純粋な透過型基板からなる。この際、絶縁膜及び反射電極を除いた画素部６１１及び光感知部６１２の構造は図２及び図３に示したのと同一であるので、その重複される詳細な説明は省略する。

一方、下部基板６１０の第１周辺部（ＰＰ１）には第１反射防止膜６１３が形成される。第１周辺部（ＰＰ１）に形成される第１反射防止膜６１３はゲートライン（ＧＬ）と同一の物質で同一の層に形成される。

第１周辺部（ＰＰ１）にはデータライン（ＤＬ）が形成されているので、データライン（ＤＬ）に及ぶ影響を最小化するために、第１反射防止膜６１３は第１周辺部（ＰＰ１）領域のデータライン（ＤＬ）と重畳しない領域に形成されることが望ましい。

従って、第１反射防止膜６１３はバックライトアセンブリからの光が上部基板４００の遮光膜４２０によって反射され第１周辺部（ＰＰ１）に隣接した光感知部６１２に流入することを防止する。

図４及び図６に参照すると、下部基板６１０の第２周辺部（ＰＰ２）には第２反射防止膜６１４が形成される。第２周辺部（ＰＰ２）に形成される第２反射防止膜６１４はデータライン（ＤＬ）と同一の物質で同一の層に形成される。

第２周辺部（ＰＰ２）にはゲートライン（ＧＬ）が形成されているので、ゲートライン（ＧＬ）に及ぶ影響を最小化するために、第２反射防止膜６１４は第２周辺部（ＰＰ２）領域のゲートライン（ＧＬ）と重畳しない領域に形成されゲートライン（ＧＬ）から空間を確保することが望ましい。

従って、第２反射防止膜６１４はバックライトアセンブリからの光が上部基板４００の遮光膜４２０によって反射され第２周辺部（ＰＰ２）に隣接した光感知部６１２に流入することを防止する。

図示してはいないが、下部基板６１０の第３周辺部（ＰＰ３）には第３反射防止膜が形成される。第３周辺部（ＰＰ３）に形成される第３反射防止膜はゲートライン（ＧＬ）及びデータライン（ＤＬ）の内、いずれか一つと同一の物質を含むことができ、同一の層に形成される。

第３周辺部（ＰＰ３）にはゲートライン（ＧＬ）及びデータライン（ＤＬ）が形成されないので、第３反射防止膜はゲートライン（ＧＬ）またはデータライン（ＤＬ）の形成の際、同時に形成してもいい。

従って、第３反射防止膜はバックライトアセンブリからの光が上部基板４００の遮光膜４２０によって反射され第３周辺部（ＰＰ３）に隣接した光感知部６１２に流入することを防止する。

尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。

本発明の一実施形態による表示装置を示した断面図である。 図１に示した表示パネルを具体的に示した断面図である。 図２に示した下部基板を具体的に示した平面図である。 本発明の他の実施形態による表示パネルを示した平面図である。 図４のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。 図４のＩＩ−ＩＩ’線に沿って切断した断面図である。

符号の説明

１００ 表示装置
１１０ バックライトアセンブリ
２００、６００ 表示パネル
３００、６１０ 下部基板
３１０、６１１ 画素部
３２０、６１２ 光感知部
３３０ 反射防止膜
３４０ 絶縁膜
４００ 上部基板
４１０ カラーフィルタ層
４２０ 遮光膜
４３０ 共通電極
５００ 液晶層
６１３ 第１反射防止膜
６１４ 第２反射防止膜
Ｗ１ 透過窓
Ｗ２ 開口窓

Claims (19)

1. 画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され画像を表示するために前記表示領域上に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成された反射防止膜とを含む下部基板と、
   前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、
   前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有することを特徴とする表示パネル。
2. 前記画素部は、ゲートラインと、
   前記ゲートラインと、絶縁され交差するデータラインと、
   前記ゲートライン及びデータラインと連結された第１スイッチング素子と、
   前記第１スイッチング素子と連結された透明電極とを有することを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
3. 前記下部基板は、前記透明電極と連結され、光の透過のための透過窓を有する反射電極をさらに有することを特徴とする請求項２記載の表示パネル。
4. 前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項３記載の表示パネル。
5. 前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部と、
   前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部と、
   前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部とを有することを特徴とする請求項２記載の表示パネル。
6. 前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
7. 前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと重畳しない領域に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
8. 前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
9. 前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートラインと重畳しない領域に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
10. 前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は、前記ゲートライン及び前記データラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項５記載の表示パネル。
11. 前記光感知部は、第１感知ラインと、
    前記第１感知ラインと絶縁され交差する第２感知ラインと、
    前記第１感知ラインに連結され、光に対する感知信号を出力する第２スイッチング素子と、
    前記第２スイッチング素子から提供された前記感知信号を前記第２感知ラインに提供する第３スイッチング素子とを有することを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
12. 前記上部基板は、前記表示領域に対応して形成されるカラーフィルタ層と、
    前記カラーフィルタ層上に形成される共通電極とをさらに有することを特徴とする請求項１記載の表示パネル。
13. 光を発生させるバックライトアセンブリと、
    前記バックライトアセンブリの上部に配置され、バックライトアセンブリの光を用いて画像を表示する表示パネルとを有し、
    前記表示パネルは、画像を表示する表示領域と、前記表示領域に隣接した周辺領域とで区分され、画像を表示するために前記表示領域に形成された複数の画素部と、位置を感知するために前記表示領域上に形成された複数の光感知部と、前記周辺領域上に形成され前記バックライトアセンブリからの光を遮断する反射防止膜とを含む下部基板と、
    前記下部基板と向き合い、前記周辺領域に対応して形成された遮光膜を含む上部基板と、
    前記下部基板と前記上部基板との間に配置された液晶層とを有することを特徴とする表示装置。
14. 前記反射防止膜は、前記バックライトアセンブリからの光が前記遮光膜から反射され前記光感知部に流入することを防止するために前記遮光膜の下部に形成されることを特徴とする請求項１３記載の表示装置。
15. 前記画素部は、ゲートラインと、
    前記ゲートラインと絶縁され交差するデータラインと、
    前記ゲートライン及び前記データラインと連結されたスイッチング素子と、
    前記スイッチング素子と連結された透明電極とを有することを特徴とする請求項１３記載の表示装置。
16. 前記下部基板は、外部からの光を反射させるために前記透明電極と連結された反射電極をさらに有し、
    前記反射防止膜は、前記反射電極と同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項１５記載の表示装置。
17. 前記周辺領域は、前記データラインの入力端が配置される第１周辺部を有し、
    前記第１周辺部に形成される前記反射防止膜は前記ゲートラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項１５記載の表示装置。
18. 前記周辺領域は、前記ゲートラインの入力端が配置される第２周辺部を有し、
    前記第２周辺部に形成される前記反射防止膜は前記データラインと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項１７記載の表示装置。
19. 前記周辺領域は、前記第１周辺部及び第２周辺部を除いた残りの第３周辺部を有し、
    前記第３周辺部に形成される前記反射防止膜は前記ゲートライン及びデータラインの内のいずれか一つと同一の物質で同一の層に形成されることを特徴とする請求項１８記載の表示装置。
    

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