JP2007022848A - Scribing apparatus and method of cutting substrate using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板の切断処理に用いられるスクライブ装置及びそれを用いた基板の切断方法に関する。 The present invention relates to a scribing apparatus used for substrate cutting processing and a substrate cutting method using the same.
LCP(Liquid Crystal Panel)やPDP(Plasma Display Panel)等の製造では、一般に、ガラス基板で形成された大型のパネルを所望の大きさの個別パネルに切断する工程を備えている。このようなガラス基板等を切断するものとして、スクライブ装置が知られている。ここで、スクライブ装置による基板の切断方法としては、基板にカッターで刻線を引いた後に圧力を加えてその刻線で切断するものや、高浸透カッターを用いることにより、基板を一気に切断するものがある。 In the manufacture of LCP (Liquid Crystal Panel), PDP (Plasma Display Panel) and the like, generally, a process of cutting a large panel formed of a glass substrate into individual panels having a desired size is provided. A scribing device is known for cutting such a glass substrate. Here, as a method for cutting a substrate by a scribe device, a substrate is cut with a cutter after drawing a line with a cutter, or a substrate is cut at once by using a high penetration cutter. There is.
しかし、基板を切断する際にはカレット(基板材料の粉や小片等)が発生し、基板の表面に飛散して付着してしまう。こうして基板の表面に付着したカレットには、ナイフエッジやダイヤモンドホイール等による除去、又は、純水洗浄やブラッシング洗浄による除去等が行われているが、いずれも十分に除去することができない。そのため、基板がその表面にカレットを付着させたまま後工程へ送られてしまい、実装工程での異物不良といったカレット起因の不良で著しく製造歩留まりを低下させることがある。 However, when cutting the substrate, cullet (powder or small pieces of substrate material) is generated and scattered and adhered to the surface of the substrate. The cullet attached to the surface of the substrate in this way is removed by a knife edge, a diamond wheel, or the like, or removed by pure water cleaning or brushing cleaning, but none can be removed sufficiently. For this reason, the substrate is sent to the subsequent process with the cullet attached to the surface thereof, and the manufacturing yield may be significantly reduced due to defects caused by the cullet such as foreign matter defects in the mounting process.
ここで、このような基板の表面へのカレット付着の防止を目的としたスクライブ装置として、例えば、特許文献1には、液晶を介して対向配置される透明ガラス基板を備え、その透明ガラス基板の液晶側の面にて微細加工による所定パターンの積層体が形成される液晶表示基板であって、透明ガラス基板の液晶側の面に積層体を形成した後に透明ガラス基板自体の加工処理がなされ、少なくとも加工個所を含む透明ガラス基板の面に均一な液体の流れを形成するものが開示されている。そして、これによれば、透明ガラス基板の切断工程によって生じるガラス破片屑の電極、信号線、およびアクティブ素子等への付着を防止するとができる、と記載されている。 Here, as a scribing device for preventing the adhesion of cullet to the surface of such a substrate, for example, Patent Document 1 includes a transparent glass substrate that is disposed to face each other through a liquid crystal. A liquid crystal display substrate in which a laminated body having a predetermined pattern is formed by fine processing on the liquid crystal side surface, and after forming the laminated body on the liquid crystal side surface of the transparent glass substrate, the transparent glass substrate itself is processed. A material that forms a uniform liquid flow on the surface of a transparent glass substrate including at least a processing point is disclosed. And according to this, it is described that it is possible to prevent adhesion of glass shards generated in the cutting process of the transparent glass substrate to electrodes, signal lines, active elements, and the like.
また、特許文献2には、基板を受入洗浄した後、信号入力端子上に溶剤で分解するポリオレフィン系樹脂、例えばポリスチレンまたはポリプロピレン等のマスキング材料を塗布して硬化させることによってマスキングを形成し、その後配向膜を塗布してラビングを行った後に基板の切断を行い、最後に基板を洗浄するものが開示されている。そして、これによれば、基板の切断等に起因する汚れが基板表面の信号入力端子へ付着することを防止することができる、と記載されている。 Further, in Patent Document 2, after receiving and cleaning the substrate, a masking material is formed by applying and curing a polyolefin-based resin that decomposes with a solvent on the signal input terminal, for example, a polystyrene or polypropylene masking material. It is disclosed that a substrate is cut after applying an alignment film and rubbed, and finally the substrate is washed. And according to this, it is described that the dirt resulting from the cutting of the substrate or the like can be prevented from adhering to the signal input terminal on the surface of the substrate.
しかしながら、上記特許文献1に示されるようなスクライブ装置では、基板の切断処理の際、基板の処理面全域を流れるように蒸留水等の液体の流れを形成しなければならない。このため、水槽の中で切断処理を行わなければならず、水を供給・廃棄する設備が必要となり、装置が大型になってしまい、その分コストがかかるという問題がある。さらに、蒸留水等による洗浄のみでは、基板に付着した材料粉や材料小片を十分に除去できない恐れがあるという問題もある。 However, in the scribing apparatus as shown in Patent Document 1, a liquid flow such as distilled water must be formed so as to flow over the entire processing surface of the substrate when the substrate is cut. For this reason, the cutting process must be performed in the water tank, and facilities for supplying and discarding water are required, resulting in a problem that the apparatus becomes large and costs are increased accordingly. Furthermore, there is a problem that the material powder and material pieces adhering to the substrate may not be sufficiently removed only by cleaning with distilled water or the like.
また、上記特許文献2に示されるようなスクライブ装置では、基板の切断処理にあたり、前もって基板に保護膜を形成させなければならず、さらに切断後には基板を蒸留水等で洗浄しなければならない。このため、保護膜材料を塗布する工程及び硬化する工程、さらに最後に基板を洗浄して乾燥する工程が必要であり、製造工程が多くなるため、その分製造コストがかかるという問題がある。 In the scribing apparatus as shown in Patent Document 2, a protective film must be formed on the substrate in advance before the substrate is cut, and after the cutting, the substrate must be washed with distilled water or the like. For this reason, the process of apply | coating a protective film material, the process of hardening, and also the process of wash | cleaning and drying a board | substrate at the end are required, and since there are many manufacturing processes, there exists a problem that manufacturing cost will increase by that.
本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、多大な製造コストをかけずに切断によって発生する基板の材料粉や材料小片等が基板の表面に付着するのを抑止することである。 The present invention has been made in view of such various points, and the object of the present invention is that the substrate material powder, the material pieces, and the like generated by cutting adhere to the surface of the substrate without enormous manufacturing costs. Is to deter
本発明に係るスクライブ装置は、基板を保持する基板保持ステージと、基板保持ステージの基板保持面に対向して設けられ、基板保持ステージに保持された基板から離間した待機位置と、基板保持ステージに保持された基板に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー部材と、基板保持ステージにより保持された基板の基板カバー部材で覆われていない部分を切断する基板カット手段と、を備えたことを特徴とする。 A scribing apparatus according to the present invention includes a substrate holding stage for holding a substrate, a standby position provided opposite to the substrate holding surface of the substrate holding stage and spaced from the substrate held on the substrate holding stage, and a substrate holding stage. A substrate cover member configured to be movable between a substrate contact position that contacts the held substrate and covers the use portion, and a portion of the substrate held by the substrate holding stage that is not covered by the substrate cover member And a substrate cutting means for cutting.
このような構成によれば、基板の利用部分を基板カバー部材で覆った状態で基板カット手段により基板を切断する。このため、切断により発生した基板の材料粉や材料小片等が基板の利用部分に付着することがない。従って、後工程において基板の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。 According to such a configuration, the substrate is cut by the substrate cutting means in a state where the used portion of the substrate is covered with the substrate cover member. For this reason, the material powder of the board | substrate generated by cutting | disconnection, a material piece, etc. do not adhere to the utilization part of a board | substrate. Therefore, these foreign substances do not adhere to the used part of the substrate in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.
また、本発明に係るスクライブ装置は、基板カバー部材の基板当接部分が弾性を有する材料で形成されていてもよい。 In the scribing apparatus according to the present invention, the substrate contact portion of the substrate cover member may be formed of an elastic material.
このような構成によれば、基板カバー部材が基板に当接する際に、基板カバー部材の基板当接部分が弾性を有する材料で形成されているため、基板カバー部材と基板との接触による基板表面の損傷を抑止することができる。 According to such a configuration, when the substrate cover member contacts the substrate, the substrate contact portion of the substrate cover member is formed of an elastic material, so that the substrate surface due to contact between the substrate cover member and the substrate Can prevent damage.
さらに、本発明に係るスクライブ装置は、基板カバー部材の基板当接部分が傾動可能に構成されていてもよい。 Furthermore, the scribing apparatus according to the present invention may be configured such that the substrate contact portion of the substrate cover member is tiltable.
このような構成によれば、基板保持ステージに保持された基板が水平でなく、傾いているものであっても、基板カバー部材の基板当接部分が傾動可能に構成されているため、基板の傾きに対応して当接し、その利用部分を覆うことができる。 According to such a configuration, even if the substrate held on the substrate holding stage is not horizontal but inclined, the substrate contact portion of the substrate cover member is configured to be tiltable. It can abut against the inclination and cover its use part.
本発明に係る基板の切断方法は、基板を基板保持ステージに保持するステップと、基板保持ステージに保持された基板の利用部分を基板カバー部材で覆うステップと、基板の基板カバー部材で覆われていない部分を切断するステップと、を備えていることを特徴とする。 A substrate cutting method according to the present invention includes a step of holding a substrate on a substrate holding stage, a step of covering a portion of the substrate held on the substrate holding stage with a substrate cover member, and a substrate covering member of the substrate. And a step of cutting off the non-existing portion.
このような構成によれば、基板の利用部分を基板カバー部材で覆った状態で基板カット手段により基板を切断する。このため、切断により発生した基板の材料粉や材料小片等が基板の利用部分に付着することがない。従って、後工程において基板の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。 According to such a configuration, the substrate is cut by the substrate cutting means in a state where the used portion of the substrate is covered with the substrate cover member. For this reason, the material powder of the board | substrate generated by cutting | disconnection, a material piece, etc. do not adhere to the utilization part of a board | substrate. Therefore, these foreign substances do not adhere to the used part of the substrate in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.
以上説明したように、本発明によれば、多大な製造コストをかけずに切断によって発生する基板の材料粉や材料小片等が基板の表面に付着するのを抑止することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the substrate material powder, the material small pieces, and the like generated by cutting from adhering to the surface of the substrate without incurring significant manufacturing costs.
以下、本発明の実施形態に係るスクライブ装置として、LCD製造工程において、TFT基板及びCF基板を貼り合わせてなるガラス基板を切断する処理を行うスクライブ装置10を図面に基づいて詳細に説明する。
Hereinafter, as a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention, a
尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 The present invention is not limited to the following embodiment.
(スクライブ装置10の構成)
図1は、本発明の実施形態に係るスクライブ装置10を示す。このスクライブ装置10は、基板保持ステージ20、基板カバー30,31(基板カバー部材)及び基板カッター40(基板カット手段)、基板カッター40の両側方に設けられたアライメントカメラ50,51、並びに、不図示の制御装置で構成されている。
(Configuration of scribing device 10)
FIG. 1 shows a
スクライブ装置10は、装置内に基板載置エリア及びスクライブエリアが並設されている。
The
基板保持ステージ20は、スクライブ装置10の最下部に水平に設けられている。基板保持ステージ20は、基板載置エリアとスクライブエリアとの間を水平方向に往復直線移動するように、不図示のガイドレール上に設けられている。基板保持ステージ20は、例えば、縦75〜100cm、横100〜150cm及び厚さ20〜50cmの直方体に形成されている。基板保持ステージ20は、鉄や鋼、又は、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス等で形成されている。
The
基板保持ステージ20は、不図示の制御部に接続されており、その上面の法線方向を軸として回転するように構成されている。
The
基板保持ステージ20は、その上面に載置されるガラス基板60を吸引固定するように構成されている。すなわち、基板保持ステージ20は、その内部が内空に形成されている。基板保持ステージ20は、その上面に内空まで到達する不図示の複数の吸引孔が形成されている。基板保持ステージ20は、その側面に不図示の真空ポンプ等の減圧吸引装置に連通する連通孔が形成されている。減圧吸引装置は、不図示の制御装置に接続されている。
The
尚、基板保持ステージ20は、吸着チャックをさらに形成することにより、基板をより強固に吸引固定するように構成されていてもよい。すなわち、この場合、基板保持ステージ20の上面にポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK樹脂)、フェノール樹脂(PH樹脂)、ポリイミド樹脂(PI樹脂)等を構成材料とする吸着チャックが形成されている。そして、吸着チャックの上面には、同心円状の環状吸着溝が形成されており、さらにこれらの環状吸着溝の全てを横切って連通した直線状吸着溝が放射状に形成されている。また、環状吸着溝及び直線状吸着溝は、基板保持ステージ20の内空に連通されている。
The
基板保持ステージ20は、その上面に3本の不図示のピンアライメントが設けられている。
The
ピンアライメントは、それぞれ直径が例えば0.5〜1.5cmの円柱状に形成されている。ピンアライメントは、それぞれ鉄や鋼、又は、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、又は、PEEK、セラミック、MCナイロン、アクリル、ユニレート等の樹脂で形成されている。ピンアライメントは、基板保持ステージ20の上面に、それぞれがステージに載置するガラス基板60の所定の3辺に当接するような位置に形成されている。すなわち、ピンアライメントは、ガラス基板60をこれらのピンアライメントに当接させることで、基板保持ステージ20上の所定の位置に位置決めできるような位置に形成されている。
Each pin alignment is formed in a cylindrical shape having a diameter of, for example, 0.5 to 1.5 cm. The pin alignment is made of iron, steel, stainless steel such as austenite, ferrite, martensite, and precipitation hardening, or resin such as PEEK, ceramic, MC nylon, acrylic, unilate, and the like. The pin alignment is formed on the upper surface of the
また、基板保持ステージ20の形状は、長方形でなくてもよく、円形であってもよい。さらに、基板保持ステージ20は、板状でなくてもよく、立方体の台状に形成されていてもよい。
Further, the shape of the
また、ピンアライメントは3本で構成されるものでなくてもよく、例えば2本のピンアライメントで構成されていてもよい。 Further, the pin alignment does not have to be configured by three, and may be configured by, for example, two pin alignments.
基板カバー30,31は、それぞれスクライブエリアの上方に設けられている。基板カバー30,31は、それぞれ、例えば、縦40〜120cm、横30〜80cm及び厚さ0.5〜2cmの長方形の板状に形成されている。基板カバー30,31は、図2に示すように、その大きさがそれぞれ基板ステージに載置される処理対象のガラス基板60の表示エリアを覆うようなものが選択される。ここで、基板カバー30,31の大きさは、後述する基板カッター40によるスクライブライン70からそれぞれ例えば両側1mmの幅以外の全てのガラス基板60の表面を覆うようなものであるのが好適である。
The substrate covers 30 and 31 are respectively provided above the scribe area. The substrate covers 30 and 31 are each formed in, for example, a rectangular plate shape having a length of 40 to 120 cm, a width of 30 to 80 cm, and a thickness of 0.5 to 2 cm. As shown in FIG. 2, the substrate covers 30 and 31 are selected so as to cover the display area of the
基板カバー30,31は、図3に示すように、それぞれ上下に2層の構造となるように形成されている。基板カバー30,31の上層32は、鉄や鋼、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金等で形成されており、特に軽量化の観点からアルミニウムやアルミニウム合金で形成されているものが好適に用いられる。
As shown in FIG. 3, the substrate covers 30 and 31 are each formed to have a two-layer structure in the vertical direction. The
基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)は、その構成材料として、例えば、シリコンゴムや、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)及びスチレン−ブタジエンゴム(SBR)等のジエン系ゴム、天然ゴム(NR)、さらにフェノール系やエポキシ系、ウレタン系の樹脂材料等を用いることができる。 The lower layer 33 (substrate contact portion) of the substrate covers 30 and 31 is made of, for example, silicon rubber, diene rubbers such as acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) and styrene-butadiene rubber (SBR), or natural rubber. (NR), and further, phenol-based, epoxy-based, and urethane-based resin materials can be used.
尚、基板カバー30,31の下層33は、図5のように、基板カバー30,31の上層32の全面に亘って形成されていてもよいし、図6のように、基板カバー30,31の上層32の四方の端部にのみ、例えば幅10〜15cmとなるように形成されていてもよい。また、図7のように、後述する基板の切断方向に沿って両側端部にのみ、例えば幅10〜15cmとなるように形成されていてもよい。
The
基板カバー30,31は、それぞれ互いに例えば2〜4mmの間隔を空けて並設されている。 The substrate covers 30 and 31 are arranged side by side with a space of 2 to 4 mm, for example.
基板カバー30,31は、それぞれその上面の中央でカバーアーム34に取り付けられている。
The substrate covers 30 and 31 are each attached to the
カバーアーム34は、それぞれスクライブエリアの上方に設けられている。カバーアーム34は、それぞれ水平面から垂直に、且つ、上下に延びるように設けられている。カバーアーム34は、それぞれ例えば直径20〜40cmの円柱状に形成されている。カバーアーム34は、それぞれ鉄や鋼、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金等で形成されている。
Each of the
カバーアーム34は、図3のように、それぞれその下方の先端部にカバーアーム34を横に貫通するカバーアーム貫通孔80,81が形成されている。カバーアーム34のカバーアーム貫通孔80,81は、例えばその直径が4〜8cmとなるように形成されている。
As shown in FIG. 3, the
カバーアーム34は、その下方の先端が2枚の台形状のカバーアーム取付板82,83で狭持されている。カバーアーム34は、それぞれその下方の先端と基板カバー30,31とが例えば2〜5cmの間隔を空けるように取り付けられている。
The lower end of the
カバーアーム取付板82,83は、それぞれ底辺で基板カバー30,31の上面に固定されている。カバーアーム取付板82,83は、それぞれその中央に直径が例えば4〜8cmの取付板貫通孔84,85が形成されている。カバーアーム取付板82,83は、それぞれその取付板貫通孔84,85がカバーアーム34の先端部のカバーアーム貫通孔80,81と重なるように設けられており、これらの貫通孔80,81,84,85に貫通するように回転軸86が取り付けられている。
The cover
カバーアーム34は、不図示の制御部に接続されており、上下動可能に構成されている。
The
また、カバーアーム34は、それぞれ基板カバー30,31の上層32と一体形成されていてもよい。
Further, the
また、カバーアーム34は、1つの基板カバー30,31に対して1つでなく、例えば図4のように4つのカバーアーム34等、複数のカバーアーム34が取り付けられていてもよい。
Further, the number of
基板カッター40は、スクライブエリアの上方で、且つ、基板カバー30,31の間に位置するように設けられている。基板カッター40は、刃先(カッターホイールチップ71)及びカッターホイールチップ71の上部に取り付けられたカッターヘッド72で構成されている。
The
基板カッター40は、高浸透カッターにより構成されている。すなわち、基板カッター40は、そのスクライブによりガラス基板に深い垂直クラックを形成させることにより、一気にガラス基板を切断するように構成されている。
The
カッターホイールチップ71は、円盤状に形成されており、その中心を軸として回転するように構成されている。カッターホイールチップ71は、例えば、その外周が超硬合金や焼結ダイヤ等で形成されている。
The
カッターヘッド72は、上下に延びるような直方体に形成されている。カッターヘッド72は、内部にバネやガス圧で刃先を基板に押し付ける不図示の圧力調整部が設けられている。カッターヘッド72は、その上面の中央で不図示のカッターアームに取り付けられている。
The
カッターアームは、水平面から垂直に、且つ、上下に延びるように設けられている。カッターアームは、不図示の制御装置に接続されており、基板カバー30,31と基板カバー30,31との隙間に設けられる処理対象のガラス基板60のスクライブライン70に沿ってカッターホイールチップ71及びカッターヘッド72が往復直線運動するように構成されている。カッターアームは、カバーアーム34の上下動と連動して上下するように構成されている。
The cutter arm is provided so as to extend vertically from the horizontal plane and up and down. The cutter arm is connected to a control device (not shown), and the
尚、カッターアームは、カバーアーム34と別々に上下するように構成されていてもよい。
The cutter arm may be configured to move up and down separately from the
ガラス基板60に予め付されたアライメントマークを読み取る一対のアライメントカメラ50,51は、基板カバー30,31のそれぞれの外側の側方に設けられている。アライメントカメラ50,51は、それぞれ基板ステージに載置されるガラス基板60の外側の側部の上方に設けられている。アライメントカメラ50,51は、それぞれ読み取った画像を処理する画像処理装置に接続されている。
A pair of
(スクライブ装置10を用いた基板の切断方法)
次に、スクライブ装置10を用いたガラス基板60の切断方法について説明する。
(Substrate cutting method using scribing device 10)
Next, a method for cutting the
まず、不図示のアライメントマークを端部に付したガラス基板60を基板載置エリアにある基板保持ステージ20の中央に載置する。このとき、ガラス基板60を基板保持ステージ20上の3本のピンアライメントに当接させるように載置する。
First, the
次に、減圧吸引装置を作動させて、基板保持ステージ20の内空を真空引きすることにより、吸引孔からの吸引力でガラス基板60を強固に基板保持ステージ20に吸着固定する。
Next, the vacuum suction device is operated to evacuate the inner space of the
次いで、基板保持ステージ20をガイドレールに沿ってスクライブエリアのカメラ読み取り位置へ搬送する。このとき、ガラス基板60を吸着固定しているため、搬送途中にガラス基板60がずれたり基板保持ステージ20から落下するような問題が生じない。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。
Next, the
続いて、スクライブエリアのカメラ読み取り位置へ搬送したガラス基板60のアライメントマークをガラス基板60の両側端上方に位置する一対のアライメントカメラ50,51で読み取る。
Subsequently, the alignment mark of the
次いで、アライメントカメラ50,51で読みとったアライメントマークの画像は、画像処理装置へ送信される。
Next, the image of the alignment mark read by the
次に、画像を受け取った画像処理装置は、カッターホイールチップ71によるスクライブライン70に対するガラスの傾き等を演算する。
Next, the image processing apparatus that has received the image calculates the tilt of the glass with respect to the
続いて、制御装置がその演算結果に基づいて、X方向、Y方向及びθ方向に傾きを補正するように基板保持ステージ20を移動することにより、ガラス基板60のアライメントを実行する。
Subsequently, the control device moves the
次に、ガラス基板60上のスクライブ開始位置、すなわちスクライブライン70の先端がカッターホイールチップ71の真下に位置するように、基板保持ステージ20を搬送する。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。
Next, the
続いて、上方の待機位置にある基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に下降させる。このとき、これらを同時に連動して下降させることで、別々に下降させるものと比べて処理時間のロスを無くすことができる。基板カッター40は、その刃先であるカッターホイールチップ71がガラス基板60の上面に当接する位置まで下降させる。基板カバー30,31は、その下層33の弾性材料で形成された当接部がガラス基板60の表面に当接する位置(基板当接位置)まで下降させる。このとき、基板カバー30,31は、ガラス基板60を例えば10〜20Paの圧力で押圧している。
Subsequently, the
ここで、カバーアーム取付板82,83の取付板貫通孔84,85がカバーアーム34の先端部の貫通孔80,81と重なるように設けられており、これらの貫通孔80,81,84,85に貫通するように回転軸86が取り付けられていることにより、その回転軸86を中心としてカバーアーム取付板82,83に取り付けられた基板カバー30,31が傾く。従って、基板カバー30,31が下降してガラス基板60に当接したとき、ガラス基板60が傾いていても、その傾きに応じて基板カバー30,31も傾くことで、ガラス基板60に基板カバー30,31の下面の全面を当接させることができる。
Here, the mounting plate through
また、図2に示すように、基板カバー30,31は、それぞれガラス基板60の利用部分すなわち、液晶表示予定部90,91及びその周辺を覆っている。
In addition, as shown in FIG. 2, the substrate covers 30 and 31 cover portions of the
次に、カッターホイールチップ71をカッターヘッド72の圧力(荷重)調整部でガラス基板60に押し付けながら回転させる。
Next, the
続いて、この回転するカッターホイールチップ71を基板カバー30,31で覆われていない部分に設定されたスクライブライン70に沿って移動させてガラス基板60を切断する。このとき、ガラス基板60の切断によりガラス粉やガラス小片等のカレットが発生して飛散するが、ガラス基板60の表面が基板カバー30,31で覆われているため、このカレットがガラス基板60の表面に付着しない。
Subsequently, the rotating
次に、基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に上昇させる。
Next, the
続いて、基板保持ステージ20を移動させて、次のスクライブライン70の先端をカッターホイールチップ71の真下に位置させる。
Subsequently, the
次いで、上記と同様に再度基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に下降させて、カッターホイールチップ71を回転させ、スクライブライン70に沿って移動させることにより、ガラス基板60を切断する。
Next, similarly to the above, the
次に、上記と同様の操作を、さらに次のスクライブライン70へと順次行うことにより、全てのスクライブライン70に沿ってガラス基板60を切断する。このとき、ガラス基板60は、所望の大きさに分断されている。
Next, the
最後のスクライブライン70に沿ってガラス基板60を切断した後、基板カッター40のカッターホイールチップ71の回転を止める。
After cutting the
続いて、基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に上昇させる。上昇した基板カッター40及び基板カバー30,31は、それぞれ待機位置へ移動させる。
Subsequently, the
次に、切断したガラス基板60及び基板保持ステージ20を、ガイドレールに沿って基板載置エリアまで搬送する。このとき、ガラス基板60を吸着固定しているため、搬送途中にガラス基板60がずれたり基板保持ステージ20から落下するような問題が生じない。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。
Next, the
次いで、基板保持ステージ20に接続した減圧吸引装置からの真空引きを止める。これにより、ガラス基板60の基板保持ステージ20による吸引固定が解除される。
Next, evacuation from the vacuum suction device connected to the
次に、吸引固定を解除したガラス基板60を、基板保持ステージ20上から取り出す。
Next, the
以上により、ガラス基板60の切断処理が終了する。
Thus, the cutting process of the
ここで、上記の基板保持ステージ20、ロボット、減圧吸引装置、カバーアーム34、カッターアーム及びカッターホイールチップ71の動作は制御部によってそれぞれ制御している。
Here, the operations of the
また、以上に示した本実施形態に係るガラス基板60の切断方法について、従来の切断方法との異なる点を明確にするべく、図10及び11にそれぞれの切断方法に係るフローチャートを示した。
Moreover, in order to clarify the difference with the conventional cutting method about the cutting method of the
これらのフローチャートを比較しても明確な通り、本実施形態に係る切断方法は、従来と比べて、ガラス基板60が載置された基板保持ステージ20をスクライブライン70へ移動させた後、基板カッター40でガラス基板60を切断する前に、基板カバー30,31をガラス基板60の表面に当接させている点で大きな違いがある。
As is clear from comparison of these flowcharts, the cutting method according to the present embodiment moves the
尚、上記実施形態では、基板保持ステージ20が水平となるように、且つ、基板カバー30,31及び基板カッター40がその上方へ位置するように設けられているが、基板保持ステージ20が垂直となるように、且つ、基板カバー30,31及び基板カッター40がその同じ側の側方へそれぞれ位置するように設けられていてもよい。この場合、基板カバー30,31及び基板カッター40は、待機位置から基板当接位置へ水平に移動するように構成されている。また、基板保持ステージ20を板カバー30,31及び基板カッター40が一方の側面を所定の圧力で押圧するため、それに耐えうるように他方の側面が支持台等により支持されている。
In the above embodiment, the
また、上記実施形態では、基板カッター40を高浸透カッターで構成することにより、そのスクライブでガラス基板60に深い垂直クラックを形成させて、一気に切断するように構成されているが、このようなカッターでなくてもよい。すなわち、カッターはガラス基板60の表面を削って刻線を引くだけのものを用い、さらにこのガラス基板60に裏側から圧力を加えて分断するためのブレーカ(分断装置)を組み合わせてなるものにより、ガラス基板60を切断してもよい。
In the above embodiment, the
尚、この場合であっても、カッターによりガラス基板上に刻線を引く前に基板カバー30,31でガラス基板60の表面を覆っていることは同様である。
Even in this case, it is the same that the surface of the
さらに、スクライブ装置10による切断処理を施す基板は、ガラスだけでなく、その他の種々の材料で構成された基板であってもよい。例えば、石英、ガリウム砒素やシリコンなどの各種半導体材料、サファイアや窒化ボロンなどのセラミクスで形成された基板であってもよい。
Furthermore, the substrate subjected to the cutting process by the
また、本実施形態では、LCD(liquid crystal display;液晶表示ディスプレイ)の製造工程におけるガラス基板60の切断に係るスクライブ装置10及び切断方法について示したが、PDP(plasma display panel;プラズマディスプレイパネル)、有機EL(organic electroluminescence )、FED(field emission display;電界放出ディスプレイ)、又は、SED(surface-conduction electron-emitter display;表面電界ディスプレイ)等の製造工程において実施されるガラス基板等の切断に係るものであってもよい。
In the present embodiment, the
(作用効果)
次に作用効果について説明する。
(Function and effect)
Next, the function and effect will be described.
本実施形態に係るスクライブ装置10は、ガラス基板60を保持する基板保持ステージ20と、基板保持ステージ20の基板保持面に対向して設けられ、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60から離間した待機位置と、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー30,31と、基板保持ステージ20により保持されたガラス基板60の基板カバー30,31で覆われていない部分を切断する基板カッター40と、を備えたことを特徴とする。
The
このような構成によれば、ガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆った状態で基板カッター40によりガラス基板60を切断する。このため、切断により発生したガラス基板60のガラス粉やガラス小片等がガラス基板60の利用部分に付着することがない。従って、後工程においてガラス基板60の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。
According to such a configuration, the
また、本発明に係るスクライブ装置10は、基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)が弾性を有する材料で形成されていてもよい。
In the
このような構成によれば、基板カバー30,31がガラス基板60に当接する際に、基板カバー30,31の下層33が弾性を有する材料で形成されているため、基板カバー30,31とガラス基板60との接触による基板表面の損傷を抑止することができる。
According to such a configuration, when the substrate covers 30 and 31 come into contact with the
さらに、本発明に係るスクライブ装置10は、基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)が傾動可能に構成されていてもよい。
Furthermore, the
このような構成によれば、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60が水平でなく、傾いているものであっても、基板カバー30,31の下層33が傾動可能に構成されているため、ガラス基板60の傾きに対応して当接し、その利用部分を覆うことができる。
According to such a configuration, even if the
本発明に係るガラス基板60の切断方法は、ガラス基板60を基板保持ステージ20に保持するステップと、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆うステップと、ガラス基板60の基板カバー30,31で覆われていない部分を切断するステップと、を備えていることを特徴とする。
The method for cutting the
このような構成によれば、ガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆った状態で基板カッター40によりガラス基板60を切断する。このため、切断により発生したガラス基板60のガラス粉やガラス小片等がガラス基板60の利用部分に付着することがない。従って、後工程においてガラス基板60の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。
According to such a configuration, the
以上説明したように、本発明は、基板の切断処理に用いられるスクライブ装置及びそれを用いた基板の切断方法について有用である。 As described above, the present invention is useful for a scribing apparatus used for substrate cutting processing and a substrate cutting method using the scribing device.
10 スクライブ装置
20 基板保持ステージ
30,31 基板カバー
32 上層
33 下層
34 カバーアーム
40 基板カッター
80,81 カバーアーム貫通孔
84,85 取付板貫通孔
86 回転軸
DESCRIPTION OF
Claims (4)
上記基板保持ステージの基板保持面に対向して設けられ、該基板保持ステージに保持された基板から離間した待機位置と、該基板保持ステージに保持された基板に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー部材と、
上記基板保持ステージにより保持された基板の上記基板カバー部材で覆われていない部分を切断する基板カット手段と、
を備えたスクライブ装置。 A substrate holding stage for holding the substrate;
A standby position provided opposite to the substrate holding surface of the substrate holding stage, separated from the substrate held on the substrate holding stage, and a substrate that abuts on the substrate held on the substrate holding stage and covers the use portion A substrate cover member configured to be movable between contact positions;
Substrate cutting means for cutting a portion of the substrate held by the substrate holding stage that is not covered by the substrate cover member;
A scribing device with
上記基板カバー部材は、その基板当接部分が弾性を有する材料で形成されているスクライブ装置。 The scribing device according to claim 1, wherein
The substrate cover member is a scribing device in which a substrate contact portion is formed of an elastic material.
上記基板カバー部材は、その基板当接部分が傾動可能に構成されているスクライブ装置。 The scribing device according to claim 1, wherein
The substrate cover member is a scribe device in which a substrate contact portion is configured to be tiltable.
上記基板保持ステージに保持された基板の利用部分を基板カバー部材で覆うステップと、
上記基板の上記基板カバー部材で覆われていない部分を切断するステップと、
を備えた基板の切断方法。 Holding the substrate on a substrate holding stage;
Covering the used portion of the substrate held by the substrate holding stage with a substrate cover member;
Cutting a portion of the substrate not covered with the substrate cover member;
A method for cutting a substrate comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005207318A JP2007022848A (en) | 2005-07-15 | 2005-07-15 | Scribing apparatus and method of cutting substrate using the same |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011230479A (en) * | 2010-04-30 | 2011-11-17 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd | Apparatus and method for breaking substrate made of brittle material |
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-
2005
- 2005-07-15 JP JP2005207318A patent/JP2007022848A/en active Pending
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