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JP2007022848A - Scribing apparatus and method of cutting substrate using the same - Google Patents

Scribing apparatus and method of cutting substrate using the same Download PDF

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JP2007022848A
JP2007022848A JP2005207318A JP2005207318A JP2007022848A JP 2007022848 A JP2007022848 A JP 2007022848A JP 2005207318 A JP2005207318 A JP 2005207318A JP 2005207318 A JP2005207318 A JP 2005207318A JP 2007022848 A JP2007022848 A JP 2007022848A
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JP
Japan
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substrate
holding stage
covers
glass substrate
cutter
Prior art date
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Application number
JP2005207318A
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Japanese (ja)
Inventor
Sunao Aoki
青木  直
Nobuhiro Yonezawa
信宏 米沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the adhesion of a powder of the material, small material pieces or the like of a substrate generated by cutting onto the surface of a substrate, at a low cost. <P>SOLUTION: The scribe apparatus 10 is provided with a substrate holding stage 20 for holding a glass substrate 60, substrate covers 30 and 31 constituted movably between a standby position which is separated from the glass substrate 60 held at the substrate holding stage 20 and a substrate abutting position where they cover the part of the substrate to be utilized by abutting on the glass substrate 60 held at the substrate holding stage 20, and a substrate cutter 40 for cutting the part of the substrate held by the substrate holding stage 20 not covered by the substrate covers 30 and 31. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板の切断処理に用いられるスクライブ装置及びそれを用いた基板の切断方法に関する。   The present invention relates to a scribing apparatus used for substrate cutting processing and a substrate cutting method using the same.

LCP(Liquid Crystal Panel)やPDP(Plasma Display Panel)等の製造では、一般に、ガラス基板で形成された大型のパネルを所望の大きさの個別パネルに切断する工程を備えている。このようなガラス基板等を切断するものとして、スクライブ装置が知られている。ここで、スクライブ装置による基板の切断方法としては、基板にカッターで刻線を引いた後に圧力を加えてその刻線で切断するものや、高浸透カッターを用いることにより、基板を一気に切断するものがある。   In the manufacture of LCP (Liquid Crystal Panel), PDP (Plasma Display Panel) and the like, generally, a process of cutting a large panel formed of a glass substrate into individual panels having a desired size is provided. A scribing device is known for cutting such a glass substrate. Here, as a method for cutting a substrate by a scribe device, a substrate is cut with a cutter after drawing a line with a cutter, or a substrate is cut at once by using a high penetration cutter. There is.

しかし、基板を切断する際にはカレット(基板材料の粉や小片等)が発生し、基板の表面に飛散して付着してしまう。こうして基板の表面に付着したカレットには、ナイフエッジやダイヤモンドホイール等による除去、又は、純水洗浄やブラッシング洗浄による除去等が行われているが、いずれも十分に除去することができない。そのため、基板がその表面にカレットを付着させたまま後工程へ送られてしまい、実装工程での異物不良といったカレット起因の不良で著しく製造歩留まりを低下させることがある。   However, when cutting the substrate, cullet (powder or small pieces of substrate material) is generated and scattered and adhered to the surface of the substrate. The cullet attached to the surface of the substrate in this way is removed by a knife edge, a diamond wheel, or the like, or removed by pure water cleaning or brushing cleaning, but none can be removed sufficiently. For this reason, the substrate is sent to the subsequent process with the cullet attached to the surface thereof, and the manufacturing yield may be significantly reduced due to defects caused by the cullet such as foreign matter defects in the mounting process.

ここで、このような基板の表面へのカレット付着の防止を目的としたスクライブ装置として、例えば、特許文献1には、液晶を介して対向配置される透明ガラス基板を備え、その透明ガラス基板の液晶側の面にて微細加工による所定パターンの積層体が形成される液晶表示基板であって、透明ガラス基板の液晶側の面に積層体を形成した後に透明ガラス基板自体の加工処理がなされ、少なくとも加工個所を含む透明ガラス基板の面に均一な液体の流れを形成するものが開示されている。そして、これによれば、透明ガラス基板の切断工程によって生じるガラス破片屑の電極、信号線、およびアクティブ素子等への付着を防止するとができる、と記載されている。   Here, as a scribing device for preventing the adhesion of cullet to the surface of such a substrate, for example, Patent Document 1 includes a transparent glass substrate that is disposed to face each other through a liquid crystal. A liquid crystal display substrate in which a laminated body having a predetermined pattern is formed by fine processing on the liquid crystal side surface, and after forming the laminated body on the liquid crystal side surface of the transparent glass substrate, the transparent glass substrate itself is processed. A material that forms a uniform liquid flow on the surface of a transparent glass substrate including at least a processing point is disclosed. And according to this, it is described that it is possible to prevent adhesion of glass shards generated in the cutting process of the transparent glass substrate to electrodes, signal lines, active elements, and the like.

また、特許文献2には、基板を受入洗浄した後、信号入力端子上に溶剤で分解するポリオレフィン系樹脂、例えばポリスチレンまたはポリプロピレン等のマスキング材料を塗布して硬化させることによってマスキングを形成し、その後配向膜を塗布してラビングを行った後に基板の切断を行い、最後に基板を洗浄するものが開示されている。そして、これによれば、基板の切断等に起因する汚れが基板表面の信号入力端子へ付着することを防止することができる、と記載されている。   Further, in Patent Document 2, after receiving and cleaning the substrate, a masking material is formed by applying and curing a polyolefin-based resin that decomposes with a solvent on the signal input terminal, for example, a polystyrene or polypropylene masking material. It is disclosed that a substrate is cut after applying an alignment film and rubbed, and finally the substrate is washed. And according to this, it is described that the dirt resulting from the cutting of the substrate or the like can be prevented from adhering to the signal input terminal on the surface of the substrate.

特開平09-105924号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 09-105924 特開2000-039598号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-039598

しかしながら、上記特許文献1に示されるようなスクライブ装置では、基板の切断処理の際、基板の処理面全域を流れるように蒸留水等の液体の流れを形成しなければならない。このため、水槽の中で切断処理を行わなければならず、水を供給・廃棄する設備が必要となり、装置が大型になってしまい、その分コストがかかるという問題がある。さらに、蒸留水等による洗浄のみでは、基板に付着した材料粉や材料小片を十分に除去できない恐れがあるという問題もある。   However, in the scribing apparatus as shown in Patent Document 1, a liquid flow such as distilled water must be formed so as to flow over the entire processing surface of the substrate when the substrate is cut. For this reason, the cutting process must be performed in the water tank, and facilities for supplying and discarding water are required, resulting in a problem that the apparatus becomes large and costs are increased accordingly. Furthermore, there is a problem that the material powder and material pieces adhering to the substrate may not be sufficiently removed only by cleaning with distilled water or the like.

また、上記特許文献2に示されるようなスクライブ装置では、基板の切断処理にあたり、前もって基板に保護膜を形成させなければならず、さらに切断後には基板を蒸留水等で洗浄しなければならない。このため、保護膜材料を塗布する工程及び硬化する工程、さらに最後に基板を洗浄して乾燥する工程が必要であり、製造工程が多くなるため、その分製造コストがかかるという問題がある。   In the scribing apparatus as shown in Patent Document 2, a protective film must be formed on the substrate in advance before the substrate is cut, and after the cutting, the substrate must be washed with distilled water or the like. For this reason, the process of apply | coating a protective film material, the process of hardening, and also the process of wash | cleaning and drying a board | substrate at the end are required, and since there are many manufacturing processes, there exists a problem that manufacturing cost will increase by that.

本発明は、斯かる諸点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、多大な製造コストをかけずに切断によって発生する基板の材料粉や材料小片等が基板の表面に付着するのを抑止することである。   The present invention has been made in view of such various points, and the object of the present invention is that the substrate material powder, the material pieces, and the like generated by cutting adhere to the surface of the substrate without enormous manufacturing costs. Is to deter

本発明に係るスクライブ装置は、基板を保持する基板保持ステージと、基板保持ステージの基板保持面に対向して設けられ、基板保持ステージに保持された基板から離間した待機位置と、基板保持ステージに保持された基板に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー部材と、基板保持ステージにより保持された基板の基板カバー部材で覆われていない部分を切断する基板カット手段と、を備えたことを特徴とする。   A scribing apparatus according to the present invention includes a substrate holding stage for holding a substrate, a standby position provided opposite to the substrate holding surface of the substrate holding stage and spaced from the substrate held on the substrate holding stage, and a substrate holding stage. A substrate cover member configured to be movable between a substrate contact position that contacts the held substrate and covers the use portion, and a portion of the substrate held by the substrate holding stage that is not covered by the substrate cover member And a substrate cutting means for cutting.

このような構成によれば、基板の利用部分を基板カバー部材で覆った状態で基板カット手段により基板を切断する。このため、切断により発生した基板の材料粉や材料小片等が基板の利用部分に付着することがない。従って、後工程において基板の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。   According to such a configuration, the substrate is cut by the substrate cutting means in a state where the used portion of the substrate is covered with the substrate cover member. For this reason, the material powder of the board | substrate generated by cutting | disconnection, a material piece, etc. do not adhere to the utilization part of a board | substrate. Therefore, these foreign substances do not adhere to the used part of the substrate in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.

また、本発明に係るスクライブ装置は、基板カバー部材の基板当接部分が弾性を有する材料で形成されていてもよい。   In the scribing apparatus according to the present invention, the substrate contact portion of the substrate cover member may be formed of an elastic material.

このような構成によれば、基板カバー部材が基板に当接する際に、基板カバー部材の基板当接部分が弾性を有する材料で形成されているため、基板カバー部材と基板との接触による基板表面の損傷を抑止することができる。   According to such a configuration, when the substrate cover member contacts the substrate, the substrate contact portion of the substrate cover member is formed of an elastic material, so that the substrate surface due to contact between the substrate cover member and the substrate Can prevent damage.

さらに、本発明に係るスクライブ装置は、基板カバー部材の基板当接部分が傾動可能に構成されていてもよい。   Furthermore, the scribing apparatus according to the present invention may be configured such that the substrate contact portion of the substrate cover member is tiltable.

このような構成によれば、基板保持ステージに保持された基板が水平でなく、傾いているものであっても、基板カバー部材の基板当接部分が傾動可能に構成されているため、基板の傾きに対応して当接し、その利用部分を覆うことができる。   According to such a configuration, even if the substrate held on the substrate holding stage is not horizontal but inclined, the substrate contact portion of the substrate cover member is configured to be tiltable. It can abut against the inclination and cover its use part.

本発明に係る基板の切断方法は、基板を基板保持ステージに保持するステップと、基板保持ステージに保持された基板の利用部分を基板カバー部材で覆うステップと、基板の基板カバー部材で覆われていない部分を切断するステップと、を備えていることを特徴とする。   A substrate cutting method according to the present invention includes a step of holding a substrate on a substrate holding stage, a step of covering a portion of the substrate held on the substrate holding stage with a substrate cover member, and a substrate covering member of the substrate. And a step of cutting off the non-existing portion.

このような構成によれば、基板の利用部分を基板カバー部材で覆った状態で基板カット手段により基板を切断する。このため、切断により発生した基板の材料粉や材料小片等が基板の利用部分に付着することがない。従って、後工程において基板の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。   According to such a configuration, the substrate is cut by the substrate cutting means in a state where the used portion of the substrate is covered with the substrate cover member. For this reason, the material powder of the board | substrate generated by cutting | disconnection, a material piece, etc. do not adhere to the utilization part of a board | substrate. Therefore, these foreign substances do not adhere to the used part of the substrate in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.

以上説明したように、本発明によれば、多大な製造コストをかけずに切断によって発生する基板の材料粉や材料小片等が基板の表面に付着するのを抑止することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the substrate material powder, the material small pieces, and the like generated by cutting from adhering to the surface of the substrate without incurring significant manufacturing costs.

以下、本発明の実施形態に係るスクライブ装置として、LCD製造工程において、TFT基板及びCF基板を貼り合わせてなるガラス基板を切断する処理を行うスクライブ装置10を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, as a scribing apparatus according to an embodiment of the present invention, a scribing apparatus 10 that performs a process of cutting a glass substrate formed by bonding a TFT substrate and a CF substrate in an LCD manufacturing process will be described in detail with reference to the drawings.

尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。   The present invention is not limited to the following embodiment.

(スクライブ装置10の構成)
図1は、本発明の実施形態に係るスクライブ装置10を示す。このスクライブ装置10は、基板保持ステージ20、基板カバー30,31(基板カバー部材)及び基板カッター40(基板カット手段)、基板カッター40の両側方に設けられたアライメントカメラ50,51、並びに、不図示の制御装置で構成されている。
(Configuration of scribing device 10)
FIG. 1 shows a scribing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. The scribing apparatus 10 includes a substrate holding stage 20, substrate covers 30, 31 (substrate cover member) and substrate cutter 40 (substrate cutting means), alignment cameras 50, 51 provided on both sides of the substrate cutter 40, It is comprised by the control apparatus of illustration.

スクライブ装置10は、装置内に基板載置エリア及びスクライブエリアが並設されている。   The scribe device 10 has a substrate placement area and a scribe area arranged in parallel in the device.

基板保持ステージ20は、スクライブ装置10の最下部に水平に設けられている。基板保持ステージ20は、基板載置エリアとスクライブエリアとの間を水平方向に往復直線移動するように、不図示のガイドレール上に設けられている。基板保持ステージ20は、例えば、縦75〜100cm、横100〜150cm及び厚さ20〜50cmの直方体に形成されている。基板保持ステージ20は、鉄や鋼、又は、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス等で形成されている。   The substrate holding stage 20 is provided horizontally at the lowermost part of the scribing apparatus 10. The substrate holding stage 20 is provided on a guide rail (not shown) so as to reciprocate linearly in the horizontal direction between the substrate placement area and the scribe area. The substrate holding stage 20 is formed in, for example, a rectangular parallelepiped having a length of 75 to 100 cm, a width of 100 to 150 cm, and a thickness of 20 to 50 cm. The substrate holding stage 20 is made of iron, steel, or stainless steel such as austenite, ferrite, martensite, or precipitation hardening.

基板保持ステージ20は、不図示の制御部に接続されており、その上面の法線方向を軸として回転するように構成されている。   The substrate holding stage 20 is connected to a control unit (not shown), and is configured to rotate around the normal direction of the upper surface thereof.

基板保持ステージ20は、その上面に載置されるガラス基板60を吸引固定するように構成されている。すなわち、基板保持ステージ20は、その内部が内空に形成されている。基板保持ステージ20は、その上面に内空まで到達する不図示の複数の吸引孔が形成されている。基板保持ステージ20は、その側面に不図示の真空ポンプ等の減圧吸引装置に連通する連通孔が形成されている。減圧吸引装置は、不図示の制御装置に接続されている。   The substrate holding stage 20 is configured to suck and fix the glass substrate 60 placed on the upper surface thereof. That is, the inside of the substrate holding stage 20 is formed in the inner space. The substrate holding stage 20 has a plurality of suction holes (not shown) that reach the inner space on the upper surface. The substrate holding stage 20 is formed with a communication hole on its side surface that communicates with a vacuum suction device such as a vacuum pump (not shown). The vacuum suction device is connected to a control device (not shown).

尚、基板保持ステージ20は、吸着チャックをさらに形成することにより、基板をより強固に吸引固定するように構成されていてもよい。すなわち、この場合、基板保持ステージ20の上面にポリエーテルエーテルケトン樹脂(PEEK樹脂)、フェノール樹脂(PH樹脂)、ポリイミド樹脂(PI樹脂)等を構成材料とする吸着チャックが形成されている。そして、吸着チャックの上面には、同心円状の環状吸着溝が形成されており、さらにこれらの環状吸着溝の全てを横切って連通した直線状吸着溝が放射状に形成されている。また、環状吸着溝及び直線状吸着溝は、基板保持ステージ20の内空に連通されている。   The substrate holding stage 20 may be configured to suck and fix the substrate more firmly by further forming a suction chuck. That is, in this case, an adsorption chuck made of a polyether ether ketone resin (PEEK resin), a phenol resin (PH resin), a polyimide resin (PI resin) or the like is formed on the upper surface of the substrate holding stage 20. A concentric annular suction groove is formed on the top surface of the suction chuck, and linear suction grooves communicating across all of the annular suction grooves are formed radially. Further, the annular suction groove and the linear suction groove communicate with the inner space of the substrate holding stage 20.

基板保持ステージ20は、その上面に3本の不図示のピンアライメントが設けられている。   The substrate holding stage 20 is provided with three pin alignments (not shown) on the upper surface thereof.

ピンアライメントは、それぞれ直径が例えば0.5〜1.5cmの円柱状に形成されている。ピンアライメントは、それぞれ鉄や鋼、又は、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、又は、PEEK、セラミック、MCナイロン、アクリル、ユニレート等の樹脂で形成されている。ピンアライメントは、基板保持ステージ20の上面に、それぞれがステージに載置するガラス基板60の所定の3辺に当接するような位置に形成されている。すなわち、ピンアライメントは、ガラス基板60をこれらのピンアライメントに当接させることで、基板保持ステージ20上の所定の位置に位置決めできるような位置に形成されている。   Each pin alignment is formed in a cylindrical shape having a diameter of, for example, 0.5 to 1.5 cm. The pin alignment is made of iron, steel, stainless steel such as austenite, ferrite, martensite, and precipitation hardening, or resin such as PEEK, ceramic, MC nylon, acrylic, unilate, and the like. The pin alignment is formed on the upper surface of the substrate holding stage 20 at a position where it abuts on predetermined three sides of the glass substrate 60 placed on the stage. That is, the pin alignment is formed at a position where the glass substrate 60 can be positioned at a predetermined position on the substrate holding stage 20 by bringing the glass substrate 60 into contact with the pin alignment.

また、基板保持ステージ20の形状は、長方形でなくてもよく、円形であってもよい。さらに、基板保持ステージ20は、板状でなくてもよく、立方体の台状に形成されていてもよい。   Further, the shape of the substrate holding stage 20 may not be a rectangle but may be a circle. Furthermore, the substrate holding stage 20 does not have to be plate-shaped, and may be formed in a cubic base.

また、ピンアライメントは3本で構成されるものでなくてもよく、例えば2本のピンアライメントで構成されていてもよい。   Further, the pin alignment does not have to be configured by three, and may be configured by, for example, two pin alignments.

基板カバー30,31は、それぞれスクライブエリアの上方に設けられている。基板カバー30,31は、それぞれ、例えば、縦40〜120cm、横30〜80cm及び厚さ0.5〜2cmの長方形の板状に形成されている。基板カバー30,31は、図2に示すように、その大きさがそれぞれ基板ステージに載置される処理対象のガラス基板60の表示エリアを覆うようなものが選択される。ここで、基板カバー30,31の大きさは、後述する基板カッター40によるスクライブライン70からそれぞれ例えば両側1mmの幅以外の全てのガラス基板60の表面を覆うようなものであるのが好適である。   The substrate covers 30 and 31 are respectively provided above the scribe area. The substrate covers 30 and 31 are each formed in, for example, a rectangular plate shape having a length of 40 to 120 cm, a width of 30 to 80 cm, and a thickness of 0.5 to 2 cm. As shown in FIG. 2, the substrate covers 30 and 31 are selected so as to cover the display area of the glass substrate 60 to be processed placed on the substrate stage. Here, the sizes of the substrate covers 30 and 31 are preferably such that they cover the surfaces of all glass substrates 60 except for a width of 1 mm on both sides from a scribe line 70 by a substrate cutter 40 described later. .

基板カバー30,31は、図3に示すように、それぞれ上下に2層の構造となるように形成されている。基板カバー30,31の上層32は、鉄や鋼、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金等で形成されており、特に軽量化の観点からアルミニウムやアルミニウム合金で形成されているものが好適に用いられる。   As shown in FIG. 3, the substrate covers 30 and 31 are each formed to have a two-layer structure in the vertical direction. The upper layer 32 of the substrate covers 30 and 31 is made of stainless steel such as iron, steel, austenite, ferrite, martensite, precipitation hardening, etc., aluminum, aluminum alloy, copper, copper alloy, etc. From this viewpoint, those formed of aluminum or aluminum alloy are preferably used.

基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)は、その構成材料として、例えば、シリコンゴムや、アクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)及びスチレン−ブタジエンゴム(SBR)等のジエン系ゴム、天然ゴム(NR)、さらにフェノール系やエポキシ系、ウレタン系の樹脂材料等を用いることができる。   The lower layer 33 (substrate contact portion) of the substrate covers 30 and 31 is made of, for example, silicon rubber, diene rubbers such as acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) and styrene-butadiene rubber (SBR), or natural rubber. (NR), and further, phenol-based, epoxy-based, and urethane-based resin materials can be used.

尚、基板カバー30,31の下層33は、図5のように、基板カバー30,31の上層32の全面に亘って形成されていてもよいし、図6のように、基板カバー30,31の上層32の四方の端部にのみ、例えば幅10〜15cmとなるように形成されていてもよい。また、図7のように、後述する基板の切断方向に沿って両側端部にのみ、例えば幅10〜15cmとなるように形成されていてもよい。   The lower layer 33 of the substrate covers 30 and 31 may be formed over the entire surface of the upper layer 32 of the substrate covers 30 and 31 as shown in FIG. 5, or the substrate covers 30 and 31 as shown in FIG. For example, it may be formed to have a width of 10 to 15 cm only at the four end portions of the upper layer 32. Moreover, as shown in FIG. 7, it may be formed so as to have a width of, for example, 10 to 15 cm only at both end portions along the cutting direction of the substrate described later.

基板カバー30,31は、それぞれ互いに例えば2〜4mmの間隔を空けて並設されている。   The substrate covers 30 and 31 are arranged side by side with a space of 2 to 4 mm, for example.

基板カバー30,31は、それぞれその上面の中央でカバーアーム34に取り付けられている。   The substrate covers 30 and 31 are each attached to the cover arm 34 at the center of the upper surface thereof.

カバーアーム34は、それぞれスクライブエリアの上方に設けられている。カバーアーム34は、それぞれ水平面から垂直に、且つ、上下に延びるように設けられている。カバーアーム34は、それぞれ例えば直径20〜40cmの円柱状に形成されている。カバーアーム34は、それぞれ鉄や鋼、オーステナイト系、フェライト系、マルテンサイト系、析出硬化系等のステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金等で形成されている。   Each of the cover arms 34 is provided above the scribe area. The cover arms 34 are provided so as to extend vertically from the horizontal plane and vertically. The cover arms 34 are each formed in a columnar shape having a diameter of 20 to 40 cm, for example. Each of the cover arms 34 is made of stainless steel such as iron, steel, austenite, ferrite, martensite, precipitation hardening, or the like, aluminum, aluminum alloy, copper, copper alloy, or the like.

カバーアーム34は、図3のように、それぞれその下方の先端部にカバーアーム34を横に貫通するカバーアーム貫通孔80,81が形成されている。カバーアーム34のカバーアーム貫通孔80,81は、例えばその直径が4〜8cmとなるように形成されている。   As shown in FIG. 3, the cover arm 34 is formed with cover arm through holes 80 and 81 penetrating the cover arm 34 laterally at the tip portions below the cover arm 34. The cover arm through holes 80 and 81 of the cover arm 34 are formed to have a diameter of 4 to 8 cm, for example.

カバーアーム34は、その下方の先端が2枚の台形状のカバーアーム取付板82,83で狭持されている。カバーアーム34は、それぞれその下方の先端と基板カバー30,31とが例えば2〜5cmの間隔を空けるように取り付けられている。   The lower end of the cover arm 34 is sandwiched between two trapezoidal cover arm mounting plates 82 and 83. The cover arms 34 are attached so that the lower ends of the cover arms 34 and the substrate covers 30 and 31 are spaced apart by, for example, 2 to 5 cm.

カバーアーム取付板82,83は、それぞれ底辺で基板カバー30,31の上面に固定されている。カバーアーム取付板82,83は、それぞれその中央に直径が例えば4〜8cmの取付板貫通孔84,85が形成されている。カバーアーム取付板82,83は、それぞれその取付板貫通孔84,85がカバーアーム34の先端部のカバーアーム貫通孔80,81と重なるように設けられており、これらの貫通孔80,81,84,85に貫通するように回転軸86が取り付けられている。   The cover arm mounting plates 82 and 83 are fixed to the upper surfaces of the substrate covers 30 and 31 at the bottoms, respectively. The cover arm mounting plates 82 and 83 are respectively formed with mounting plate through holes 84 and 85 having a diameter of, for example, 4 to 8 cm at the center thereof. The cover arm mounting plates 82 and 83 are provided so that the mounting plate through holes 84 and 85 overlap with the cover arm through holes 80 and 81 at the front end portion of the cover arm 34, respectively. A rotating shaft 86 is attached so as to penetrate through 84 and 85.

カバーアーム34は、不図示の制御部に接続されており、上下動可能に構成されている。   The cover arm 34 is connected to a control unit (not shown) and is configured to be movable up and down.

また、カバーアーム34は、それぞれ基板カバー30,31の上層32と一体形成されていてもよい。   Further, the cover arm 34 may be integrally formed with the upper layer 32 of the substrate covers 30 and 31, respectively.

また、カバーアーム34は、1つの基板カバー30,31に対して1つでなく、例えば図4のように4つのカバーアーム34等、複数のカバーアーム34が取り付けられていてもよい。   Further, the number of cover arms 34 is not limited to one for the substrate covers 30 and 31, and a plurality of cover arms 34 such as four cover arms 34 as shown in FIG.

基板カッター40は、スクライブエリアの上方で、且つ、基板カバー30,31の間に位置するように設けられている。基板カッター40は、刃先(カッターホイールチップ71)及びカッターホイールチップ71の上部に取り付けられたカッターヘッド72で構成されている。   The substrate cutter 40 is provided above the scribe area and between the substrate covers 30 and 31. The substrate cutter 40 includes a cutting edge (cutter wheel chip 71) and a cutter head 72 attached to the upper part of the cutter wheel chip 71.

基板カッター40は、高浸透カッターにより構成されている。すなわち、基板カッター40は、そのスクライブによりガラス基板に深い垂直クラックを形成させることにより、一気にガラス基板を切断するように構成されている。   The substrate cutter 40 is constituted by a high penetration cutter. That is, the substrate cutter 40 is configured to cut the glass substrate at once by forming deep vertical cracks in the glass substrate by the scribe.

カッターホイールチップ71は、円盤状に形成されており、その中心を軸として回転するように構成されている。カッターホイールチップ71は、例えば、その外周が超硬合金や焼結ダイヤ等で形成されている。   The cutter wheel chip 71 is formed in a disk shape and is configured to rotate about the center thereof. The cutter wheel chip 71 has, for example, an outer periphery made of cemented carbide or sintered diamond.

カッターヘッド72は、上下に延びるような直方体に形成されている。カッターヘッド72は、内部にバネやガス圧で刃先を基板に押し付ける不図示の圧力調整部が設けられている。カッターヘッド72は、その上面の中央で不図示のカッターアームに取り付けられている。   The cutter head 72 is formed in a rectangular parallelepiped extending vertically. The cutter head 72 is provided with a pressure adjusting unit (not shown) that presses the blade edge against the substrate with a spring or gas pressure. The cutter head 72 is attached to a cutter arm (not shown) at the center of the upper surface thereof.

カッターアームは、水平面から垂直に、且つ、上下に延びるように設けられている。カッターアームは、不図示の制御装置に接続されており、基板カバー30,31と基板カバー30,31との隙間に設けられる処理対象のガラス基板60のスクライブライン70に沿ってカッターホイールチップ71及びカッターヘッド72が往復直線運動するように構成されている。カッターアームは、カバーアーム34の上下動と連動して上下するように構成されている。   The cutter arm is provided so as to extend vertically from the horizontal plane and up and down. The cutter arm is connected to a control device (not shown), and the cutter wheel chip 71 and the cutter wheel chip 71 along the scribe line 70 of the glass substrate 60 to be processed provided in the gap between the substrate covers 30 and 31 and the substrate covers 30 and 31. The cutter head 72 is configured to reciprocate linearly. The cutter arm is configured to move up and down in conjunction with the vertical movement of the cover arm 34.

尚、カッターアームは、カバーアーム34と別々に上下するように構成されていてもよい。   The cutter arm may be configured to move up and down separately from the cover arm 34.

ガラス基板60に予め付されたアライメントマークを読み取る一対のアライメントカメラ50,51は、基板カバー30,31のそれぞれの外側の側方に設けられている。アライメントカメラ50,51は、それぞれ基板ステージに載置されるガラス基板60の外側の側部の上方に設けられている。アライメントカメラ50,51は、それぞれ読み取った画像を処理する画像処理装置に接続されている。   A pair of alignment cameras 50 and 51 for reading alignment marks previously attached to the glass substrate 60 are provided on the outer sides of the substrate covers 30 and 31. The alignment cameras 50 and 51 are respectively provided above the outer side portions of the glass substrate 60 placed on the substrate stage. The alignment cameras 50 and 51 are connected to image processing apparatuses that process the read images.

(スクライブ装置10を用いた基板の切断方法)
次に、スクライブ装置10を用いたガラス基板60の切断方法について説明する。
(Substrate cutting method using scribing device 10)
Next, a method for cutting the glass substrate 60 using the scribe device 10 will be described.

まず、不図示のアライメントマークを端部に付したガラス基板60を基板載置エリアにある基板保持ステージ20の中央に載置する。このとき、ガラス基板60を基板保持ステージ20上の3本のピンアライメントに当接させるように載置する。   First, the glass substrate 60 with an alignment mark (not shown) at the end is placed on the center of the substrate holding stage 20 in the substrate placement area. At this time, the glass substrate 60 is placed in contact with the three pin alignments on the substrate holding stage 20.

次に、減圧吸引装置を作動させて、基板保持ステージ20の内空を真空引きすることにより、吸引孔からの吸引力でガラス基板60を強固に基板保持ステージ20に吸着固定する。   Next, the vacuum suction device is operated to evacuate the inner space of the substrate holding stage 20, so that the glass substrate 60 is firmly fixed to the substrate holding stage 20 by the suction force from the suction holes.

次いで、基板保持ステージ20をガイドレールに沿ってスクライブエリアのカメラ読み取り位置へ搬送する。このとき、ガラス基板60を吸着固定しているため、搬送途中にガラス基板60がずれたり基板保持ステージ20から落下するような問題が生じない。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。   Next, the substrate holding stage 20 is conveyed along the guide rail to the camera reading position in the scribe area. At this time, since the glass substrate 60 is fixed by suction, there is no problem that the glass substrate 60 is displaced or dropped from the substrate holding stage 20 during the conveyance. This transfer is performed by a robot or the like connected to the control device.

続いて、スクライブエリアのカメラ読み取り位置へ搬送したガラス基板60のアライメントマークをガラス基板60の両側端上方に位置する一対のアライメントカメラ50,51で読み取る。   Subsequently, the alignment mark of the glass substrate 60 conveyed to the camera reading position in the scribe area is read by a pair of alignment cameras 50 and 51 located above both side ends of the glass substrate 60.

次いで、アライメントカメラ50,51で読みとったアライメントマークの画像は、画像処理装置へ送信される。   Next, the image of the alignment mark read by the alignment cameras 50 and 51 is transmitted to the image processing apparatus.

次に、画像を受け取った画像処理装置は、カッターホイールチップ71によるスクライブライン70に対するガラスの傾き等を演算する。   Next, the image processing apparatus that has received the image calculates the tilt of the glass with respect to the scribe line 70 by the cutter wheel chip 71.

続いて、制御装置がその演算結果に基づいて、X方向、Y方向及びθ方向に傾きを補正するように基板保持ステージ20を移動することにより、ガラス基板60のアライメントを実行する。   Subsequently, the control device moves the substrate holding stage 20 so as to correct the tilt in the X direction, the Y direction, and the θ direction based on the calculation result, thereby executing the alignment of the glass substrate 60.

次に、ガラス基板60上のスクライブ開始位置、すなわちスクライブライン70の先端がカッターホイールチップ71の真下に位置するように、基板保持ステージ20を搬送する。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。   Next, the substrate holding stage 20 is transported so that the scribe start position on the glass substrate 60, that is, the tip of the scribe line 70 is positioned directly below the cutter wheel chip 71. This transfer is performed by a robot or the like connected to the control device.

続いて、上方の待機位置にある基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に下降させる。このとき、これらを同時に連動して下降させることで、別々に下降させるものと比べて処理時間のロスを無くすことができる。基板カッター40は、その刃先であるカッターホイールチップ71がガラス基板60の上面に当接する位置まで下降させる。基板カバー30,31は、その下層33の弾性材料で形成された当接部がガラス基板60の表面に当接する位置(基板当接位置)まで下降させる。このとき、基板カバー30,31は、ガラス基板60を例えば10〜20Paの圧力で押圧している。   Subsequently, the substrate cutter 40 and the substrate covers 30 and 31 in the upper standby position are simultaneously lowered by controlling the cutter arm and the cover arm 34. At this time, it is possible to eliminate the loss of processing time by lowering them in conjunction with each other at the same time as compared with the case where they are lowered separately. The substrate cutter 40 is lowered to a position where the cutter wheel chip 71 that is the cutting edge contacts the upper surface of the glass substrate 60. The substrate covers 30 and 31 are lowered to a position (substrate contact position) where the contact portion formed of the elastic material of the lower layer 33 contacts the surface of the glass substrate 60. At this time, the substrate covers 30 and 31 press the glass substrate 60 with a pressure of 10 to 20 Pa, for example.

ここで、カバーアーム取付板82,83の取付板貫通孔84,85がカバーアーム34の先端部の貫通孔80,81と重なるように設けられており、これらの貫通孔80,81,84,85に貫通するように回転軸86が取り付けられていることにより、その回転軸86を中心としてカバーアーム取付板82,83に取り付けられた基板カバー30,31が傾く。従って、基板カバー30,31が下降してガラス基板60に当接したとき、ガラス基板60が傾いていても、その傾きに応じて基板カバー30,31も傾くことで、ガラス基板60に基板カバー30,31の下面の全面を当接させることができる。   Here, the mounting plate through holes 84 and 85 of the cover arm mounting plates 82 and 83 are provided so as to overlap with the through holes 80 and 81 at the tip of the cover arm 34, and these through holes 80, 81, 84, Since the rotation shaft 86 is attached so as to penetrate through 85, the substrate covers 30, 31 attached to the cover arm attachment plates 82, 83 are tilted around the rotation shaft 86. Therefore, when the substrate covers 30 and 31 are lowered and come into contact with the glass substrate 60, even if the glass substrate 60 is inclined, the substrate covers 30 and 31 are also inclined according to the inclination, so that the substrate cover is attached to the glass substrate 60. The entire lower surfaces of 30, 31 can be brought into contact with each other.

また、図2に示すように、基板カバー30,31は、それぞれガラス基板60の利用部分すなわち、液晶表示予定部90,91及びその周辺を覆っている。   In addition, as shown in FIG. 2, the substrate covers 30 and 31 cover portions of the glass substrate 60 that are used, that is, the liquid crystal display scheduled portions 90 and 91 and the periphery thereof.

次に、カッターホイールチップ71をカッターヘッド72の圧力(荷重)調整部でガラス基板60に押し付けながら回転させる。   Next, the cutter wheel chip 71 is rotated while being pressed against the glass substrate 60 by the pressure (load) adjusting portion of the cutter head 72.

続いて、この回転するカッターホイールチップ71を基板カバー30,31で覆われていない部分に設定されたスクライブライン70に沿って移動させてガラス基板60を切断する。このとき、ガラス基板60の切断によりガラス粉やガラス小片等のカレットが発生して飛散するが、ガラス基板60の表面が基板カバー30,31で覆われているため、このカレットがガラス基板60の表面に付着しない。   Subsequently, the rotating cutter wheel chip 71 is moved along a scribe line 70 set in a portion not covered with the substrate covers 30 and 31 to cut the glass substrate 60. At this time, cullet such as glass powder or small glass pieces is generated and scattered by cutting the glass substrate 60, but since the surface of the glass substrate 60 is covered with the substrate covers 30, 31, this cullet is formed on the glass substrate 60. Does not adhere to the surface.

次に、基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に上昇させる。   Next, the substrate cutter 40 and the substrate covers 30 and 31 are simultaneously raised by controlling the cutter arm and the cover arm 34.

続いて、基板保持ステージ20を移動させて、次のスクライブライン70の先端をカッターホイールチップ71の真下に位置させる。   Subsequently, the substrate holding stage 20 is moved so that the tip of the next scribe line 70 is positioned directly below the cutter wheel chip 71.

次いで、上記と同様に再度基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に下降させて、カッターホイールチップ71を回転させ、スクライブライン70に沿って移動させることにより、ガラス基板60を切断する。   Next, similarly to the above, the substrate cutter 40 and the substrate covers 30 and 31 are again lowered simultaneously by controlling the cutter arm and the cover arm 34 to rotate the cutter wheel chip 71, along the scribe line 70. The glass substrate 60 is cut | disconnected by moving.

次に、上記と同様の操作を、さらに次のスクライブライン70へと順次行うことにより、全てのスクライブライン70に沿ってガラス基板60を切断する。このとき、ガラス基板60は、所望の大きさに分断されている。   Next, the glass substrate 60 is cut along all the scribe lines 70 by sequentially performing the same operation as described above to the next scribe line 70. At this time, the glass substrate 60 is divided into a desired size.

最後のスクライブライン70に沿ってガラス基板60を切断した後、基板カッター40のカッターホイールチップ71の回転を止める。   After cutting the glass substrate 60 along the last scribe line 70, the rotation of the cutter wheel chip 71 of the substrate cutter 40 is stopped.

続いて、基板カッター40及び基板カバー30,31を、カッターアーム及びカバーアーム34を制御することにより、それぞれ同時に上昇させる。上昇した基板カッター40及び基板カバー30,31は、それぞれ待機位置へ移動させる。   Subsequently, the substrate cutter 40 and the substrate covers 30 and 31 are simultaneously raised by controlling the cutter arm and the cover arm 34. The raised substrate cutter 40 and the substrate covers 30 and 31 are moved to the standby positions, respectively.

次に、切断したガラス基板60及び基板保持ステージ20を、ガイドレールに沿って基板載置エリアまで搬送する。このとき、ガラス基板60を吸着固定しているため、搬送途中にガラス基板60がずれたり基板保持ステージ20から落下するような問題が生じない。この搬送は、制御装置に接続されたロボット等により行う。   Next, the cut glass substrate 60 and the substrate holding stage 20 are transported to the substrate placement area along the guide rail. At this time, since the glass substrate 60 is fixed by suction, there is no problem that the glass substrate 60 is displaced or dropped from the substrate holding stage 20 during the conveyance. This transfer is performed by a robot or the like connected to the control device.

次いで、基板保持ステージ20に接続した減圧吸引装置からの真空引きを止める。これにより、ガラス基板60の基板保持ステージ20による吸引固定が解除される。   Next, evacuation from the vacuum suction device connected to the substrate holding stage 20 is stopped. Thereby, the suction fixation of the glass substrate 60 by the substrate holding stage 20 is released.

次に、吸引固定を解除したガラス基板60を、基板保持ステージ20上から取り出す。   Next, the glass substrate 60 whose suction fixation is released is taken out from the substrate holding stage 20.

以上により、ガラス基板60の切断処理が終了する。   Thus, the cutting process of the glass substrate 60 is completed.

ここで、上記の基板保持ステージ20、ロボット、減圧吸引装置、カバーアーム34、カッターアーム及びカッターホイールチップ71の動作は制御部によってそれぞれ制御している。   Here, the operations of the substrate holding stage 20, the robot, the vacuum suction device, the cover arm 34, the cutter arm, and the cutter wheel chip 71 are controlled by the control unit.

また、以上に示した本実施形態に係るガラス基板60の切断方法について、従来の切断方法との異なる点を明確にするべく、図10及び11にそれぞれの切断方法に係るフローチャートを示した。   Moreover, in order to clarify the difference with the conventional cutting method about the cutting method of the glass substrate 60 which concerns on this embodiment shown above, the flowchart which concerns on each cutting method was shown to FIG.

これらのフローチャートを比較しても明確な通り、本実施形態に係る切断方法は、従来と比べて、ガラス基板60が載置された基板保持ステージ20をスクライブライン70へ移動させた後、基板カッター40でガラス基板60を切断する前に、基板カバー30,31をガラス基板60の表面に当接させている点で大きな違いがある。   As is clear from comparison of these flowcharts, the cutting method according to the present embodiment moves the substrate holding stage 20 on which the glass substrate 60 is placed to the scribe line 70 and then moves the substrate cutter compared to the conventional method. There is a great difference in that the substrate covers 30 and 31 are brought into contact with the surface of the glass substrate 60 before the glass substrate 60 is cut at 40.

尚、上記実施形態では、基板保持ステージ20が水平となるように、且つ、基板カバー30,31及び基板カッター40がその上方へ位置するように設けられているが、基板保持ステージ20が垂直となるように、且つ、基板カバー30,31及び基板カッター40がその同じ側の側方へそれぞれ位置するように設けられていてもよい。この場合、基板カバー30,31及び基板カッター40は、待機位置から基板当接位置へ水平に移動するように構成されている。また、基板保持ステージ20を板カバー30,31及び基板カッター40が一方の側面を所定の圧力で押圧するため、それに耐えうるように他方の側面が支持台等により支持されている。   In the above embodiment, the substrate holding stage 20 is horizontal and the substrate covers 30 and 31 and the substrate cutter 40 are positioned above the substrate holding stage 20, but the substrate holding stage 20 is vertical. In addition, the substrate covers 30 and 31 and the substrate cutter 40 may be provided so as to be located on the same side. In this case, the substrate covers 30 and 31 and the substrate cutter 40 are configured to move horizontally from the standby position to the substrate contact position. Moreover, since the board | substrate cover 30 and 31 and the board | substrate cutter 40 press the one side surface with a predetermined pressure, the other side surface is supported by the support stand etc. so that it can endure it.

また、上記実施形態では、基板カッター40を高浸透カッターで構成することにより、そのスクライブでガラス基板60に深い垂直クラックを形成させて、一気に切断するように構成されているが、このようなカッターでなくてもよい。すなわち、カッターはガラス基板60の表面を削って刻線を引くだけのものを用い、さらにこのガラス基板60に裏側から圧力を加えて分断するためのブレーカ(分断装置)を組み合わせてなるものにより、ガラス基板60を切断してもよい。   In the above embodiment, the substrate cutter 40 is composed of a high penetration cutter, so that a deep vertical crack is formed in the glass substrate 60 with the scribe and is cut at a stroke. It does not have to be. That is, by using a cutter that only cuts the surface of the glass substrate 60 and draws a score line, and further combines a breaker (splitting device) for dividing the glass substrate 60 by applying pressure from the back side, The glass substrate 60 may be cut.

尚、この場合であっても、カッターによりガラス基板上に刻線を引く前に基板カバー30,31でガラス基板60の表面を覆っていることは同様である。   Even in this case, it is the same that the surface of the glass substrate 60 is covered with the substrate covers 30 and 31 before the engraved line is drawn on the glass substrate by the cutter.

さらに、スクライブ装置10による切断処理を施す基板は、ガラスだけでなく、その他の種々の材料で構成された基板であってもよい。例えば、石英、ガリウム砒素やシリコンなどの各種半導体材料、サファイアや窒化ボロンなどのセラミクスで形成された基板であってもよい。   Furthermore, the substrate subjected to the cutting process by the scribing apparatus 10 may be a substrate made of not only glass but also various other materials. For example, it may be a substrate formed of various semiconductor materials such as quartz, gallium arsenide, or silicon, or ceramics such as sapphire or boron nitride.

また、本実施形態では、LCD(liquid crystal display;液晶表示ディスプレイ)の製造工程におけるガラス基板60の切断に係るスクライブ装置10及び切断方法について示したが、PDP(plasma display panel;プラズマディスプレイパネル)、有機EL(organic electroluminescence )、FED(field emission display;電界放出ディスプレイ)、又は、SED(surface-conduction electron-emitter display;表面電界ディスプレイ)等の製造工程において実施されるガラス基板等の切断に係るものであってもよい。   In the present embodiment, the scribing apparatus 10 and the cutting method related to the cutting of the glass substrate 60 in the manufacturing process of the LCD (liquid crystal display) have been described. However, a plasma display panel (PDP), Related to cutting of glass substrates and the like performed in the manufacturing process of organic EL (organic electroluminescence), FED (field emission display), or SED (surface-conduction electron-emitter display) It may be.

(作用効果)
次に作用効果について説明する。
(Function and effect)
Next, the function and effect will be described.

本実施形態に係るスクライブ装置10は、ガラス基板60を保持する基板保持ステージ20と、基板保持ステージ20の基板保持面に対向して設けられ、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60から離間した待機位置と、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー30,31と、基板保持ステージ20により保持されたガラス基板60の基板カバー30,31で覆われていない部分を切断する基板カッター40と、を備えたことを特徴とする。   The scribing apparatus 10 according to the present embodiment is provided facing the substrate holding stage 20 that holds the glass substrate 60 and the substrate holding surface of the substrate holding stage 20, and is separated from the glass substrate 60 held by the substrate holding stage 20. The substrate holding stage 20 and the substrate covers 30 and 31 configured to be movable between the standby position and the substrate contact position that contacts the glass substrate 60 held on the substrate holding stage 20 and covers the use portion. And a substrate cutter 40 that cuts a portion of the glass substrate 60 that is not covered by the substrate covers 30 and 31.

このような構成によれば、ガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆った状態で基板カッター40によりガラス基板60を切断する。このため、切断により発生したガラス基板60のガラス粉やガラス小片等がガラス基板60の利用部分に付着することがない。従って、後工程においてガラス基板60の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。   According to such a configuration, the glass substrate 60 is cut by the substrate cutter 40 in a state where the used portion of the glass substrate 60 is covered with the substrate covers 30 and 31. For this reason, the glass powder of the glass substrate 60, the small glass piece, etc. which were generated by cutting do not adhere to the utilization part of the glass substrate 60. Therefore, these foreign substances do not adhere to the utilization part of the glass substrate 60 in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.

また、本発明に係るスクライブ装置10は、基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)が弾性を有する材料で形成されていてもよい。   In the scribing apparatus 10 according to the present invention, the lower layer 33 (substrate contact portion) of the substrate covers 30 and 31 may be formed of an elastic material.

このような構成によれば、基板カバー30,31がガラス基板60に当接する際に、基板カバー30,31の下層33が弾性を有する材料で形成されているため、基板カバー30,31とガラス基板60との接触による基板表面の損傷を抑止することができる。   According to such a configuration, when the substrate covers 30 and 31 come into contact with the glass substrate 60, the lower layer 33 of the substrate covers 30 and 31 is formed of an elastic material. Damage to the substrate surface due to contact with the substrate 60 can be suppressed.

さらに、本発明に係るスクライブ装置10は、基板カバー30,31の下層33(基板当接部分)が傾動可能に構成されていてもよい。   Furthermore, the scribing apparatus 10 according to the present invention may be configured such that the lower layer 33 (substrate contact portion) of the substrate covers 30 and 31 can tilt.

このような構成によれば、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60が水平でなく、傾いているものであっても、基板カバー30,31の下層33が傾動可能に構成されているため、ガラス基板60の傾きに対応して当接し、その利用部分を覆うことができる。   According to such a configuration, even if the glass substrate 60 held on the substrate holding stage 20 is not horizontal but inclined, the lower layer 33 of the substrate covers 30 and 31 is configured to be tiltable. The glass substrate 60 can be brought into contact with the inclination of the glass substrate 60 to cover the use portion.

本発明に係るガラス基板60の切断方法は、ガラス基板60を基板保持ステージ20に保持するステップと、基板保持ステージ20に保持されたガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆うステップと、ガラス基板60の基板カバー30,31で覆われていない部分を切断するステップと、を備えていることを特徴とする。   The method for cutting the glass substrate 60 according to the present invention includes a step of holding the glass substrate 60 on the substrate holding stage 20, and a step of covering the use portions of the glass substrate 60 held on the substrate holding stage 20 with substrate covers 30 and 31. And a step of cutting portions of the glass substrate 60 that are not covered with the substrate covers 30 and 31.

このような構成によれば、ガラス基板60の利用部分を基板カバー30,31で覆った状態で基板カッター40によりガラス基板60を切断する。このため、切断により発生したガラス基板60のガラス粉やガラス小片等がガラス基板60の利用部分に付着することがない。従って、後工程においてガラス基板60の利用部分にこれらの異物が付着せず、異物不良によって製造歩留まりが低くなることを抑えることができる。   According to such a configuration, the glass substrate 60 is cut by the substrate cutter 40 in a state where the used portion of the glass substrate 60 is covered with the substrate covers 30 and 31. For this reason, the glass powder of the glass substrate 60, the small glass piece, etc. which were generated by cutting do not adhere to the utilization part of the glass substrate 60. Therefore, these foreign substances do not adhere to the utilization part of the glass substrate 60 in the subsequent process, and it can be suppressed that the manufacturing yield is lowered due to the defective foreign substances.

以上説明したように、本発明は、基板の切断処理に用いられるスクライブ装置及びそれを用いた基板の切断方法について有用である。   As described above, the present invention is useful for a scribing apparatus used for substrate cutting processing and a substrate cutting method using the scribing device.

本発明の実施形態に係るスクライブ装置10の概略図である。1 is a schematic view of a scribe device 10 according to an embodiment of the present invention. 基板カバー30及び31に覆われたガラス基板60に設定されたスクライブライン70を示す概略図である。It is the schematic which shows the scribe line 70 set to the glass substrate 60 covered with the substrate covers 30 and 31. FIG. 本発明の実施形態に係る基板カバー30,31、カバーアーム34の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of substrate covers 30 and 31 and a cover arm 34 according to an embodiment of the present invention. 4本で構成されるカバーアーム34が取り付けられた基板カバー30,31の概略図である。It is the schematic of the board | substrate covers 30 and 31 to which the cover arm 34 comprised by four was attached. 本発明の実施形態に係る基板カバー30,31の下層33の裏面を示す概略図である。It is the schematic which shows the back surface of the lower layer 33 of the board | substrate covers 30 and 31 which concern on embodiment of this invention. 裏面の四方の端部にのみ下層33が形成された基板カバー30,31の裏面を示す概略図である。It is the schematic which shows the back surface of the substrate covers 30 and 31 in which the lower layer 33 was formed only in the edge part of the back surface. 裏面の両側方の端部にのみ下層33が形成された基板カバー30,31の裏面を示す概略図である。It is the schematic which shows the back surface of the substrate covers 30 and 31 in which the lower layer 33 was formed only in the edge part of the both sides of a back surface. 裏面の四方の端部にのみ下層33が形成された基板カバー30,31の側面図である。It is a side view of the board | substrate covers 30 and 31 in which the lower layer 33 was formed only in the edge part of the back surface. 裏面の両側方の端部にのみ下層33が形成された基板カバー30,31の側面図である。It is a side view of the board | substrate covers 30 and 31 in which the lower layer 33 was formed only in the edge part of the both sides of a back surface. 従来のスクライブ装置によるガラス基板60の切断方法の概略を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the outline of the cutting method of the glass substrate 60 by the conventional scribe apparatus. 本発明の実施形態に係るスクライブ装置10によるガラス基板60の切断方法の概略を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the outline of the cutting method of the glass substrate 60 by the scribing apparatus 10 which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 スクライブ装置
20 基板保持ステージ
30,31 基板カバー
32 上層
33 下層
34 カバーアーム
40 基板カッター
80,81 カバーアーム貫通孔
84,85 取付板貫通孔
86 回転軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Scribing apparatus 20 Substrate holding stage 30, 31 Substrate cover 32 Upper layer 33 Lower layer 34 Cover arm 40 Substrate cutter 80, 81 Cover arm through hole 84, 85 Mounting plate through hole 86 Rotating shaft

Claims (4)

基板を保持する基板保持ステージと、
上記基板保持ステージの基板保持面に対向して設けられ、該基板保持ステージに保持された基板から離間した待機位置と、該基板保持ステージに保持された基板に当接してその利用部分を覆う基板当接位置との間で可動に構成された基板カバー部材と、
上記基板保持ステージにより保持された基板の上記基板カバー部材で覆われていない部分を切断する基板カット手段と、
を備えたスクライブ装置。
A substrate holding stage for holding the substrate;
A standby position provided opposite to the substrate holding surface of the substrate holding stage, separated from the substrate held on the substrate holding stage, and a substrate that abuts on the substrate held on the substrate holding stage and covers the use portion A substrate cover member configured to be movable between contact positions;
Substrate cutting means for cutting a portion of the substrate held by the substrate holding stage that is not covered by the substrate cover member;
A scribing device with
請求項1に記載されたスクライブ装置において、
上記基板カバー部材は、その基板当接部分が弾性を有する材料で形成されているスクライブ装置。
The scribing device according to claim 1, wherein
The substrate cover member is a scribing device in which a substrate contact portion is formed of an elastic material.
請求項1に記載されたスクライブ装置において、
上記基板カバー部材は、その基板当接部分が傾動可能に構成されているスクライブ装置。
The scribing device according to claim 1, wherein
The substrate cover member is a scribe device in which a substrate contact portion is configured to be tiltable.
基板を基板保持ステージに保持するステップと、
上記基板保持ステージに保持された基板の利用部分を基板カバー部材で覆うステップと、
上記基板の上記基板カバー部材で覆われていない部分を切断するステップと、
を備えた基板の切断方法。
Holding the substrate on a substrate holding stage;
Covering the used portion of the substrate held by the substrate holding stage with a substrate cover member;
Cutting a portion of the substrate not covered with the substrate cover member;
A method for cutting a substrate comprising:
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