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JP2007088366A - Chip resistor - Google Patents

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JP2007088366A
JP2007088366A JP2005278064A JP2005278064A JP2007088366A JP 2007088366 A JP2007088366 A JP 2007088366A JP 2005278064 A JP2005278064 A JP 2005278064A JP 2005278064 A JP2005278064 A JP 2005278064A JP 2007088366 A JP2007088366 A JP 2007088366A
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Taiyosha Electric Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chip resistor suitable as the chip resistor for high electric power in which cooling efficiency can be enhanced when packaged in a printed circuit board (particularly, metal substrate), and withstand voltage is made to be high by lengthening insulation distance. <P>SOLUTION: In the chip resistor A1; the resistor 70 prepared between a pair of electrodes 20 is provided with high exoergic portions H1, H2, and a low exoergic portion L being connected in series, and a soldering side is formed in the undersurface region corresponding to the high exoergic portions H1, H2. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、チップ抵抗器に関するものであり、特に、高電力用に好適な角型チップ抵抗器に関するものである。   The present invention relates to a chip resistor, and more particularly to a square chip resistor suitable for high power use.

近年、エアコン、インバータ、自動車、通信機器等の種々の機器において、小型化、高集積化、ハイパワー化が進められているが、このような各機器に用いるハイパワー用のプリント基板として、いわゆる金属基板ベースプリント基板(以下「金属基板」とする)が存在する。この金属基板は、アルミ板と、アルミ板上に設けられた熱伝導性の高い絶縁層と、前記絶縁層上に設けられた導体箔(具体的には、銅箔)とから構成され、アルミナセラミック基板と同等以下の熱抵抗を実現した表面実装対応の高熱伝導性金属基板である。この金属基板は、熱伝導性がよいため、アルミベース側を放熱フィンに取り付けることにより導体箔面に表面実装した電子部品の発熱を効果的に冷却することができる。   In recent years, various devices such as air conditioners, inverters, automobiles, and communication devices have been reduced in size, increased integration, and increased in power, and so-called high-power printed boards used in such devices are so-called. There is a metal substrate base printed circuit board (hereinafter referred to as “metal substrate”). This metal substrate is composed of an aluminum plate, an insulating layer having high thermal conductivity provided on the aluminum plate, and a conductor foil (specifically, copper foil) provided on the insulating layer, and is made of alumina. This is a highly thermally conductive metal substrate that is surface mountable and has a thermal resistance equivalent to or lower than that of a ceramic substrate. Since this metal substrate has good thermal conductivity, it is possible to effectively cool the heat generated by the electronic component surface-mounted on the conductor foil surface by attaching the aluminum base side to the heat radiation fin.

前記のような金属基板に実装されるチップ抵抗器においては、チップ抵抗器にかかる電圧や電流による発熱によって消費電力が制限されることから、チップ抵抗器をなるべく冷却する必要があるが、そのため、チップ抵抗器における基板を熱伝導性の高いアルミナセラミックにより構成し、チップ抵抗器の電極を介して金属基板にハンダ付けしてチップ抵抗器の発熱を冷却していた。   In the chip resistor mounted on the metal substrate as described above, since the power consumption is limited by the heat generated by the voltage and current applied to the chip resistor, it is necessary to cool the chip resistor as much as possible. The substrate in the chip resistor is made of alumina ceramic having high thermal conductivity and soldered to the metal substrate through the electrode of the chip resistor to cool the heat generated by the chip resistor.

しかし、チップ抵抗器全体の発熱を小さな電極部分から熱伝導により放熱することから、消費電力が高くなるとチップ抵抗器の中心部分の温度が上昇し、限界に達してしまう。特に、金属基板にチップ抵抗器をハンダ付けした場合に、電極部分は十分冷却されるが、チップ抵抗器の中心部分は電極から離れているので冷却されにくく、金属基板を使用する効果をあまり発揮できないという問題があった。   However, since the heat generated by the entire chip resistor is dissipated by heat conduction from the small electrode portion, the temperature of the center portion of the chip resistor rises and reaches the limit when the power consumption increases. In particular, when a chip resistor is soldered to a metal substrate, the electrode portion is sufficiently cooled, but the center portion of the chip resistor is separated from the electrode, so it is difficult to cool, and the effect of using the metal substrate is demonstrated so much There was a problem that I could not.

このような問題に対応するための従来のチップ抵抗器として、図13に示すように、チップ抵抗器の基板に熱伝導性の高い窒化アルミを使用し、裏面のハンダ付け面をなるべく広くとって冷却効果を向上させようとするものがある。   As a conventional chip resistor for dealing with such problems, as shown in FIG. 13, aluminum nitride having high thermal conductivity is used for the chip resistor substrate, and the soldering surface on the back surface is made as wide as possible. Some attempt to improve the cooling effect.

また、出願人は、先行技術文献として、特許文献1や特許文献2を知得している。特に、特許文献2においては、従来例として、図3に、絶縁基板の下面に良熱伝導膜を設けて、放熱対策が施されたチップ抵抗器が開示されている。
特開平9−第162002号公報 特開平7−第176411号公報
Moreover, the applicant knows patent document 1 and patent document 2 as prior art documents. In particular, in Patent Document 2, as a conventional example, FIG. 3 discloses a chip resistor in which a good heat conductive film is provided on the lower surface of an insulating substrate and a heat dissipation measure is taken.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-162002 JP-A-7-176411

しかし、図13の第1例や第3例、第4例においては、チップ抵抗器の電極を基板の下面にも広く設けて、ハンダ付け面を広く設け、金属基板との接触面積を大きくして、冷却を促進しようとするものであるが、絶縁距離αが短くなってしまい、耐電圧が低い欠点がある。耐電圧が低いと、高電力用のチップ抵抗器には適さない。また、図13の第2例においては、基板の下面の両側のみに電極が設けられているので、抵抗体の中央付近で発生した熱を放熱できないという問題がある。   However, in the first example, the third example, and the fourth example of FIG. 13, the electrode of the chip resistor is also provided widely on the lower surface of the substrate, the soldering surface is provided wider, and the contact area with the metal substrate is increased. Thus, although it is intended to promote cooling, there is a drawback that the insulation distance α is shortened and the withstand voltage is low. If the withstand voltage is low, it is not suitable for a chip resistor for high power. Further, in the second example of FIG. 13, since the electrodes are provided only on both sides of the lower surface of the substrate, there is a problem that heat generated near the center of the resistor cannot be dissipated.

また、特許文献1のチップ電子部品においては、チップ基体の下面に電極(第3の電極4)が広く設けられているので、冷却効率はよいが、第1の電極2と第3の電極4との間の距離が短いため、絶縁距離が短く、耐電圧が低い欠点がある。   Further, in the chip electronic component of Patent Document 1, since the electrode (third electrode 4) is widely provided on the lower surface of the chip base, the cooling efficiency is good, but the first electrode 2 and the third electrode 4 are good. Since the distance between and is short, the insulation distance is short and the withstand voltage is low.

また、特許文献2の従来例については、良熱伝導膜を設けたことにより冷却効率はよいが、同じように、良熱伝導膜の両端と電極との距離が短いため、絶縁距離が短く、耐電圧が低い欠点がある。   Moreover, about the prior art example of patent document 2, although the cooling efficiency is good by providing the good heat conductive film, since the distance between both ends of the good heat conductive film and the electrode is short, the insulation distance is short, There is a disadvantage that withstand voltage is low.

そこで、本発明が解決しようとする問題点は、プリント基板(特に、金属基板)に実装した場合に冷却効率を高くすることができるとともに、絶縁距離を長くして耐電圧を高くして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供することである。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is that when mounted on a printed circuit board (especially a metal substrate), the cooling efficiency can be increased, and the insulation distance is increased to increase the withstand voltage, A chip resistor suitable as a power chip resistor is provided.

本発明は前記問題点を解決するために創作されたものであって、第1には、チップ抵抗器であって、絶縁基板と、前記絶縁基板に設けられた一対の電極部と、前記一対の電極部を接続するように設けられた抵抗体で、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられ、前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記電極部に近い側に設けられた抵抗体と、を有し、前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にまで前記電極部が形成されていることを特徴とする。   The present invention has been created to solve the above problems. First, the chip resistor is an insulating substrate, a pair of electrode portions provided on the insulating substrate, and the pair of electrodes. The resistor is provided so as to connect the electrode portions of the high heat generating portion and the low heat generating portion connected in series, and the high heat generating portion is provided closer to the electrode portion than the low heat generating portion. The electrode portion is formed up to at least a part of a lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate.

この第1の構成のチップ抵抗器においては、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられ、前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記電極部に近い側に設けられ、絶縁基板における、高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にまで電極部が形成されているので、高発熱部から発生した熱は電極部から放熱されやすく、低発熱部からの発熱は少ないので、チップ抵抗器全体の放熱効率を高くすることができる。また、2つの電極部間の距離は十分確保することができるため、絶縁距離を長くして耐電圧を高くできる。また、前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記電極部に近い側に設けられていて、絶縁基板における、高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にまで電極部が形成されているので、高発熱部から発生した熱は電極部から放熱されやすく、絶縁基板を薄くした方が金属基板への放熱効率がよく、よって、絶縁基板を薄くすることができる。以上のようにして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供することができる。   In the chip resistor having the first configuration, the high heat generation portion and the low heat generation portion are provided in series, and the high heat generation portion is provided closer to the electrode portion than the low heat generation portion, and is insulated. Since the electrode part is formed up to at least a part of the area on the lower surface side corresponding to the area of the high heat generating part in the substrate, the heat generated from the high heat generating part is easily radiated from the electrode part, Since the heat generation is small, the heat dissipation efficiency of the entire chip resistor can be increased. In addition, since a sufficient distance can be secured between the two electrode portions, the withstand voltage can be increased by increasing the insulation distance. Further, the high heat generating portion is provided closer to the electrode portion than the low heat generating portion, and the electrode portion extends to at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate. Since it is formed, the heat generated from the high heat-generating portion is easily radiated from the electrode portion, and the thinner the insulating substrate, the better the heat dissipation efficiency to the metal substrate, and thus the insulating substrate can be made thinner. As described above, a chip resistor suitable as a high-power chip resistor can be provided.

また、第2には、チップ抵抗器であって、絶縁基板と、前記絶縁基板に設けられた一対の電極部と、前記一対の電極部を接続するように設けられた抵抗体で、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられた抵抗体と、を有し、前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部には、はんだ付け面が形成されていることを特徴とする。   The second is a chip resistor, which is an insulating substrate, a pair of electrode portions provided on the insulating substrate, and a resistor provided so as to connect the pair of electrode portions. And a resistor provided in series with the low heat generation portion, and at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generation portion in the insulating substrate is a soldering surface Is formed.

この第2の構成のチップ抵抗器においては、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられ、前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部には、はんだ付け面が形成されているので、高発熱部から発生した熱は、高発熱部の直下領域の少なくとも一部にあるはんだ付け面から放熱されやすく、チップ抵抗器全体の放熱効率を高くできる。また、低発熱部からの発熱は小さいので、低発熱部の直下の領域ははんだ付け面を設ける必要がなく、絶縁距離を十分確保することが可能となり、耐電圧を高くできる。また、前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部には、はんだ付け面が形成されているので、高発熱部から発生した熱ははんだ付け面から放熱されやすく、絶縁基板を薄くした方が金属基板への放熱効率がよく、よって、絶縁基板を薄くすることができる。以上のようにして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供することができる。   In the chip resistor having the second configuration, the high heat generating portion and the low heat generating portion are connected in series, and at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate. Since the soldering surface is formed, the heat generated from the high heat generation part is easily radiated from the soldering surface in at least a part of the region directly under the high heat generation part, and the heat dissipation efficiency of the entire chip resistor is improved. Can be high. In addition, since the heat generation from the low heat generating portion is small, it is not necessary to provide a soldering surface in the region immediately below the low heat generating portion, so that a sufficient insulation distance can be secured and the withstand voltage can be increased. In addition, since the soldering surface is formed on at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate, the heat generated from the high heat generating portion is dissipated from the soldering surface. Therefore, it is easier to reduce the heat dissipation efficiency to the metal substrate by reducing the thickness of the insulating substrate, and therefore the insulating substrate can be made thinner. As described above, a chip resistor suitable as a high-power chip resistor can be provided.

また、第3には、前記第2の構成において、前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記上面電極側に設けられていることを特徴とする。   Thirdly, in the second configuration, the high heat generating portion is provided closer to the upper surface electrode than the low heat generating portion.

また、第4には、前記第2又は第3の構成において、前記はんだ付け面は、電極部の一部として形成されていることを特徴とする。   Fourthly, in the second or third configuration, the soldering surface is formed as a part of the electrode portion.

また、第5には、前記第1から第4までのいずれかの構成において、前記抵抗体における高発熱部は、抵抗体の一部を格子状に形成することにより形成されていることを特徴とする。このように抵抗体の一部を格子状とすることにより、格子状を形成する帯状部分を切断するようにトリミング溝を形成することにより、抵抗体にクラックが発生しにくくなり、低ノイズのチップ抵抗器を提供できる。また、複数のトリミング溝を分散して形成することにより、格子状の高発熱部における発熱を均一化することが可能となる。   According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth configurations, the high heat generating portion of the resistor is formed by forming a part of the resistor in a lattice shape. And By forming a trimming groove so as to cut a strip-shaped portion that forms a lattice shape by forming a part of the resistor in a lattice shape in this way, cracks are less likely to occur in the resistor, and a low noise chip Can provide resistors. Further, by forming the plurality of trimming grooves in a dispersed manner, it is possible to make the heat generation in the lattice-like high heat generating portion uniform.

また、第6には、前記第1から第5までのいずれかの構成において、前記抵抗体における高発熱部は、抵抗体をスリット状に形成することにより形成されていることを特徴とする。   Sixth, in any one of the first to fifth configurations, the high heat generating portion of the resistor is formed by forming the resistor in a slit shape.

また、第7には、前記第1から第6までのいずれかの構成において、前記抵抗体における高発熱部は、低発熱部よりも抵抗路の幅を狭くすることにより形成されていることを特徴とする。   Seventhly, in any one of the first to sixth configurations, the high heat generating portion in the resistor is formed by making the width of the resistance path narrower than the low heat generating portion. Features.

また、第8には、前記第7の構成において、前記高発熱部は、蛇行状に形成されていることを特徴とする。   Eighthly, in the seventh configuration, the high heat generation portion is formed in a meandering shape.

また、第9には、チップ抵抗器であって、絶縁基板と、絶縁基板の下面に形成された一対の下面電極と、絶縁基板の上面に形成され、前記下面電極よりも長く形成された一対の上面電極と、上面電極間に形成された抵抗体と、前記上面電極の一部を被覆する保護膜と、を有し、前記保護膜の幅は前記上面電極の幅よりも大きく形成され、前記上面電極が低発熱部であり、前記抵抗体における上面電極間の領域が高発熱部であって、前記絶縁基板における、高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面が形成されていることを特徴とする。   Ninth, a chip resistor is an insulating substrate, a pair of lower surface electrodes formed on the lower surface of the insulating substrate, and a pair formed on the upper surface of the insulating substrate and longer than the lower surface electrode. A top surface electrode, a resistor formed between the top surface electrodes, and a protective film covering a part of the top surface electrode, wherein the width of the protective film is formed larger than the width of the top surface electrode, The upper surface electrode is a low heat generating portion, the region between the upper surface electrodes of the resistor is a high heat generating portion, and at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate A soldering surface is formed.

この第9の構成のチップ抵抗器においては、高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面が形成されているので、高発熱部から発生した熱は、高発熱部の直下にあるはんだ付け面から放熱されやすく、チップ抵抗器全体の放熱効率を高くできる。また、低発熱部からの発熱は小さいので、低発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面を設ける必要がなく、また、上面電極は下面電極よりも長く形成されているので、はんだ付け面が設けられていない領域を十分確保することができ、絶縁距離を十分確保することが可能となり、耐電圧を高くできる。また、前記はんだ付け面が形成されているので、高発熱部から発生した熱ははんだ付け面から放熱されやすく、絶縁基板を薄くした方が金属基板への放熱効率がよく、よって、絶縁基板を薄くすることができる。以上のようにして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供することができる。   In the chip resistor of the ninth configuration, since the soldering surface is formed in at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion, the heat generated from the high heat generating portion is high. Heat is easily radiated from the soldering surface directly under the heat generating part, and the heat dissipation efficiency of the entire chip resistor can be increased. In addition, since the heat generation from the low heat generation portion is small, it is not necessary to provide a soldering surface in at least a part of the lower surface side corresponding to the region of the low heat generation portion, and the upper surface electrode is formed longer than the lower surface electrode. Therefore, it is possible to secure a sufficient area where the soldering surface is not provided, to ensure a sufficient insulation distance, and to increase the withstand voltage. In addition, since the soldering surface is formed, the heat generated from the high heat generating portion is easily radiated from the soldering surface, and the thinner the insulating substrate, the better the heat dissipation efficiency to the metal substrate. Can be thinned. As described above, a chip resistor suitable as a high-power chip resistor can be provided.

なお、前記各構成において、前記「高発熱部」を「高抵抗部」とし、前記「低発熱部」を「低抵抗部」としてもよい。   In each configuration described above, the “high heat generating portion” may be a “high resistance portion”, and the “low heat generating portion” may be a “low resistance portion”.

本発明に基づくチップ抵抗器によれば、プリント基板(特に、金属基板やアルミナセラミック基板)に実装した場合に冷却効率を高くすることができるとともに、絶縁距離を長くして耐電圧を高くして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供することができる。   According to the chip resistor based on the present invention, when mounted on a printed circuit board (particularly a metal substrate or an alumina ceramic substrate), the cooling efficiency can be increased, and the withstand voltage is increased by increasing the insulation distance. A chip resistor suitable as a high-power chip resistor can be provided.

本発明においては、プリント基板(特に、金属基板やアルミナセラミック基板)に実装した場合に冷却効率を高くすることができるとともに、絶縁距離を長くして耐電圧を高くして、高電力用のチップ抵抗器として好適なチップ抵抗器を提供するという目的を以下のようにして実現した。   In the present invention, when mounted on a printed circuit board (in particular, a metal substrate or an alumina ceramic substrate), the cooling efficiency can be increased, and the insulation distance is increased to increase the withstand voltage, thereby increasing the power consumption. The object of providing a chip resistor suitable as a resistor was realized as follows.

なお、前記図1、図3、図4、図7〜図12において、(a)はチップ抵抗器の断面図を示し、(b)は平面図を示し、(c)は底面図を示すものである。ここで、(a)の断面図は、(b)に示されたX−X線における断面図である。また、(b)は、平面図であるが、抵抗体と上面電極のみを示し、他の部材は省略して示すものである。また、(c)は下面電極のみを示すものであり、他の部材は省略して示すものである。また、図5、図6も平面図であるが、抵抗体と上面電極のみを示し、他の部材は省略して示すものである。   1, 3, 4, and 7 to 12, (a) shows a sectional view of the chip resistor, (b) shows a plan view, and (c) shows a bottom view. It is. Here, the sectional view of (a) is a sectional view taken along line XX shown in (b). Further, (b) is a plan view, but shows only the resistor and the upper surface electrode, and other members are omitted. Further, (c) shows only the lower surface electrode, and other members are omitted. 5 and 6 are also plan views, but only the resistor and the upper surface electrode are shown, and other members are omitted.

また、前記各図において、Y1−Y2方向は、X1−X2方向に直角な方向を示し、Z1−Z2方向は、X1−X2方向及びY1−Y2方向に直角な方向を示すものである。   In each figure, the Y1-Y2 direction indicates a direction perpendicular to the X1-X2 direction, and the Z1-Z2 direction indicates a direction perpendicular to the X1-X2 direction and the Y1-Y2 direction.

本発明に基づくチップ抵抗器A1は、高電力用(具体的には、数ワット〜十数ワット)のチップ抵抗器であり、図1に示すように構成され、絶縁基板10と、電極部20と、抵抗体70と、保護膜80を有している。   A chip resistor A1 according to the present invention is a chip resistor for high power (specifically, several watts to several tens of watts), and is configured as shown in FIG. And a resistor 70 and a protective film 80.

ここで、絶縁基板10は、含有率96%程度のアルミナにて形成された絶縁体である。この絶縁基板10は、全体には、略直方体形状を呈している。なお、図1に示す例では、絶縁基板10は平面視では長方形状を呈するが、他の形状、例えば、正方形状でもよい。なお、この絶縁基板10は、窒化アルミニウムにより形成してもよい。   Here, the insulating substrate 10 is an insulator formed of alumina having a content rate of about 96%. The insulating substrate 10 has a substantially rectangular parallelepiped shape as a whole. In the example shown in FIG. 1, the insulating substrate 10 has a rectangular shape in plan view, but may have another shape, for example, a square shape. The insulating substrate 10 may be made of aluminum nitride.

また、電極部20は、図1に示すように、絶縁基板10の相対する辺部に沿って計一対設けられている。具体的には、絶縁基板10の一方の短手辺(Y1−Y2方向の辺)に沿って電極部20が設けられているとともに、他方の短手辺に沿って電極部20が設けられている。なお、電極部20は、短手辺に沿って形成されているとしたが、長手辺に沿って形成されたものとしてもよい。   Further, as shown in FIG. 1, a total of a pair of electrode portions 20 are provided along the opposing side portions of the insulating substrate 10. Specifically, the electrode part 20 is provided along one short side (side in the Y1-Y2 direction) of the insulating substrate 10, and the electrode part 20 is provided along the other short side. Yes. In addition, although the electrode part 20 was formed along the short side, it may be formed along the long side.

ここで、電極部20は、図1に示すように、上面電極30と、下面電極40と、側面電極50と、メッキ60とを有している。   Here, the electrode part 20 has the upper surface electrode 30, the lower surface electrode 40, the side surface electrode 50, and the plating 60, as shown in FIG.

上面電極30は、絶縁基板10の上面の長手方向(X1−X2方向(図1参照))の両端部領域に一対形成されている。つまり、一方の上面電極30は、絶縁基板10の上面のX1側の端部から所定の長さに形成されているとともに、他方の上面電極30は、絶縁基板10の上面のX2側の端部から所定長さに形成されている。この上面電極30は、具体的には、銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)により形成されている。また、上面電極30のY1−Y2方向(幅方向)の幅は、抵抗体70のY1−Y2方向の幅よりも若干大きく形成されていて、絶縁基板10のY1−Y2方向の幅よりも小さく形成されている。また、Y1−Y2方向には、上面電極30と絶縁基板10の端部には隙間が形成されている。なお、この上面電極30のY1−Y2方向の幅を抵抗体70のY1−Y2方向の幅と同一としてもよい。   A pair of upper surface electrodes 30 are formed at both end regions in the longitudinal direction (X1-X2 direction (see FIG. 1)) of the upper surface of the insulating substrate 10. That is, one upper surface electrode 30 is formed to have a predetermined length from the end portion on the X1 side of the upper surface of the insulating substrate 10, and the other upper surface electrode 30 is an end portion on the X2 side of the upper surface of the insulating substrate 10. To a predetermined length. Specifically, the upper surface electrode 30 is formed of a silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film). The width of the upper electrode 30 in the Y1-Y2 direction (width direction) is slightly larger than the width of the resistor 70 in the Y1-Y2 direction, and smaller than the width of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction. Is formed. Further, a gap is formed between the upper surface electrode 30 and the end portion of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction. The width of the upper surface electrode 30 in the Y1-Y2 direction may be the same as the width of the resistor 70 in the Y1-Y2 direction.

また、下面電極40は、図1に示すように、前記絶縁基板10の下面の長手方向(X1−X2方向(図1参照))の両端部領域に一対形成されている。つまり、一方の下面電極40は、絶縁基板10の下面のX1側の端部から所定の長さに形成されているとともに、他方の下面電極40は、絶縁基板10の下面のX2側の端部から所定の長さに形成されている。この下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)は、上面電極30よりも長く形成され、側面視において、横方向(X1−X2方向)に第2抵抗体74の端部の位置にまで形成されている。つまり、X1側の下面電極40のX2側の端部の位置と、第2抵抗体74のX1側の端部の位置とは、横方向においては一致しており、また、X2側の下面電極40のX1側の端部の位置と、第2抵抗体74のX2側の端部の位置とは、横方向においては一致している。別の言い方をすると、下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)は、第2抵抗体74の端部(X1−X2方向の端部)から絶縁基板の上面の端部(X1−X2方向の端部)までの長さと同一であるといえる。   Further, as shown in FIG. 1, a pair of lower surface electrodes 40 are formed in both end regions in the longitudinal direction (X1-X2 direction (see FIG. 1)) of the lower surface of the insulating substrate 10. That is, one lower surface electrode 40 is formed to have a predetermined length from the end portion on the X1 side of the lower surface of the insulating substrate 10, and the other lower surface electrode 40 is an end portion on the X2 side of the lower surface of the insulating substrate 10. To a predetermined length. The length of the lower surface electrode 40 (length in the X1-X2 direction) is formed longer than that of the upper surface electrode 30, and the position of the end of the second resistor 74 in the lateral direction (X1-X2 direction) in a side view. It is formed up to. In other words, the position of the end portion on the X2 side of the lower electrode 40 on the X1 side and the position of the end portion on the X1 side of the second resistor 74 coincide in the lateral direction, and the lower surface electrode on the X2 side. The position of the end portion on the X1 side of 40 and the position of the end portion on the X2 side of the second resistor 74 coincide with each other in the lateral direction. In other words, the length of the lower surface electrode 40 (the length in the X1-X2 direction) is from the end portion (the end portion in the X1-X2 direction) of the second resistor 74 to the end portion (X1) of the upper surface of the insulating substrate. It can be said that it is the same as the length to the end in the −X2 direction.

なお、下面電極40のY1−Y2方向の幅は、絶縁基板10のY1−Y2方向の幅と略同一(同一としてもよい)に形成されている。この下面電極40は、銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)により形成されている。   Note that the width of the bottom electrode 40 in the Y1-Y2 direction is substantially the same as the width of the insulating substrate 10 in the Y1-Y2 direction (may be the same). The lower surface electrode 40 is formed of a silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film).

なお、下面電極40は、側面視において、横方向(X1−X2方向)に第2抵抗体74の端部の位置にまで形成されていて、下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)は、第2抵抗体74の端部(X1−X2方向の端部)から絶縁基板の上面の端部(X1−X2方向の端部)までの長さと同一であるとしたが、下面電極40の端部の位置と第2抵抗体74の端部の位置が横方向において略一致していて、下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)は、第2抵抗体74の端部(X1−X2方向の端部)から絶縁基板の上面の端部(X1−X2方向の端部)までの長さと略同一であるものとしてもよい。   The bottom electrode 40 is formed up to the position of the end of the second resistor 74 in the lateral direction (X1-X2 direction) in a side view, and the length of the bottom electrode 40 (the length in the X1-X2 direction). ) Is the same as the length from the end of the second resistor 74 (end in the X1-X2 direction) to the end of the upper surface of the insulating substrate (end in the X1-X2 direction). The position of the end portion of the electrode 40 and the position of the end portion of the second resistor 74 substantially coincide with each other in the horizontal direction, and the length of the lower surface electrode 40 (the length in the X1-X2 direction) is the second resistor 74. The length from the end portion (end portion in the X1-X2 direction) to the end portion (end portion in the X1-X2 direction) of the upper surface of the insulating substrate may be substantially the same.

なお、下面電極40の端部の位置が第2抵抗体74の端部の位置とは一致せず若干ずれる場合には、下面電極40の端部の位置は、他方の下面電極40の側にずれるのが好ましい。つまり、X1側の下面電極40については、X2側の端部の位置は、X1側ではなくX2側にずれるのが好ましく、また、X2側の下面電極40については、X1側の端部の位置は、X2側ではなくX1側にずれるのが好ましい。このようにすることにより、より冷却効果を向上させることができる。以上のように、低発熱部L(後述)の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面(又は電極部)が形成されていない構成であればよいといえる。   When the position of the end portion of the lower surface electrode 40 does not coincide with the position of the end portion of the second resistor 74 and slightly deviates, the position of the end portion of the lower surface electrode 40 is located on the other lower surface electrode 40 side. It is preferable to shift. That is, for the lower electrode 40 on the X1 side, the position of the end portion on the X2 side is preferably shifted to the X2 side instead of the X1 side, and for the lower electrode 40 on the X2 side, the position of the end portion on the X1 side is preferred. Is preferably shifted to the X1 side instead of the X2 side. By doing in this way, a cooling effect can be improved more. As described above, it can be said that any configuration in which the soldering surface (or electrode portion) is not formed in at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the low heat generation portion L (described later) may be used.

また、側面電極50は、上面電極30の一部と、下面電極40の一部と、絶縁基板10の側面(つまり、X1側の側面と、X2側の側面と、Y1側の側面の一部と、Y2側の側面の一部)を被覆するように断面略コ字状に層状に形成されている。この側面電極50は、X1側の端部とX2側の端部にそれぞれ設けられている。   The side electrode 50 includes a part of the upper surface electrode 30, a part of the lower surface electrode 40, a side surface of the insulating substrate 10 (that is, a side surface on the X1 side, a side surface on the X2 side, and a part of the side surface on the Y1 side. And a part of the side surface on the Y2 side) is formed in a layer shape with a substantially U-shaped cross section. The side electrodes 50 are provided at the end on the X1 side and the end on the X2 side, respectively.

また、メッキ60は、ニッケルメッキ(Niメッキ)と、錫メッキとから構成されていて、X1側の端部領域とX2側の端部領域にそれぞれ設けられている。つまり、チップ抵抗器の接続用の電極部の表面にメッキ60が設けられていて、内側層がニッケルメッキで、外側層が錫メッキとなっている。   The plating 60 is composed of nickel plating (Ni plating) and tin plating, and is provided in the end region on the X1 side and the end region on the X2 side, respectively. That is, the plating 60 is provided on the surface of the electrode portion for connecting the chip resistor, the inner layer is nickel plating, and the outer layer is tin plating.

ここで、ニッケルメッキは、上面電極30の一部と、側面電極50と、下面電極40の一部とを被覆するように形成されている。つまり、上面電極30と側面電極50と下面電極40の露出部分を被覆するように形成されている。このニッケルメッキは、電気メッキにより略均一の膜厚で形成されている。このニッケルメッキは、ニッケルにて形成されており、上面電極30等の内部電極のはんだ食われを防止するために形成されている。このニッケルメッキは、ニッケル以外にも銅メッキが用いられる場合もある。   Here, the nickel plating is formed so as to cover a part of the upper surface electrode 30, the side surface electrode 50, and a part of the lower surface electrode 40. That is, it is formed so as to cover the exposed portions of the upper electrode 30, the side electrode 50, and the lower electrode 40. This nickel plating is formed with a substantially uniform film thickness by electroplating. This nickel plating is made of nickel, and is formed to prevent internal corrosion of internal electrodes such as the upper surface electrode 30. In addition to nickel, this nickel plating may use copper plating.

また、錫メッキは、ニッケルメッキの表面を被覆するように略均一の膜厚で配設されている。なお、錫メッキ以外にはんだメッキが用いられる場合もある。   Further, the tin plating is disposed with a substantially uniform film thickness so as to cover the surface of the nickel plating. Note that solder plating may be used in addition to tin plating.

なお、電極部20において絶縁基板10の下方に形成された部分は、下面電極部22を構成し、この下面電極部22がはんだ付け面を形成する。つまり、はんだ付け面が電極部20の一部により形成されている。この下面電極部22は、下面電極40と、メッキ60の一部と、側面電極50の一部を含むことになる。   In addition, the part formed in the lower part of the insulating substrate 10 in the electrode part 20 comprises the lower surface electrode part 22, and this lower surface electrode part 22 forms a soldering surface. That is, the soldering surface is formed by a part of the electrode portion 20. The lower surface electrode portion 22 includes the lower surface electrode 40, a part of the plating 60, and a part of the side surface electrode 50.

また、抵抗体70は、図1に示すように、基本的に前記絶縁基板10の上面に設けられていて、X1−X2方向の両端部は上面電極30に積層して形成されている。つまり、抵抗体70は、長手方向(電極間方向、通電方向としてもよい))(X1−X2方向(図1参照))に帯状に形成されていて、平面視において略長方形状に形成されている。この抵抗体70は、一対の上面電極30間を接続するように形成されている。   As shown in FIG. 1, the resistor 70 is basically provided on the upper surface of the insulating substrate 10, and both end portions in the X1-X2 direction are laminated on the upper surface electrode 30. In other words, the resistor 70 is formed in a strip shape in the longitudinal direction (inter-electrode direction or energization direction) (X1-X2 direction (see FIG. 1)), and is formed in a substantially rectangular shape in plan view. Yes. The resistor 70 is formed so as to connect between the pair of upper surface electrodes 30.

この抵抗体70は、第1抵抗体72と、第2抵抗体74とを有していて、第2抵抗体74は、絶縁基板10の上面に層状に形成され、平面視においては方形状を呈している。この第2抵抗体74の端部(X1−X2方向の端部)の位置は、上述したように、下面電極40の端部の位置と横方向に一致していている。この第2抵抗体74は、酸化ルテニウム系厚膜(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ厚膜)により形成されている。なお、この第2抵抗体74を上面電極30と同じ素材により形成してもよい。つまり、上面電極を構成する銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)の抵抗値は、一般に、抵抗体を構成する酸化ルテニウム系厚膜(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ厚膜)の抵抗値よりも低いことから、第2抵抗体74を銀系厚膜(銀系メタルグレーズ厚膜)により形成してもよい。この場合には、第2抵抗体74は、電極材料からなる低抵抗導電体により形成されているといえる。   The resistor 70 includes a first resistor 72 and a second resistor 74. The second resistor 74 is formed in a layered manner on the upper surface of the insulating substrate 10, and has a rectangular shape in plan view. Presents. The position of the end portion (end portion in the X1-X2 direction) of the second resistor 74 coincides with the position of the end portion of the bottom electrode 40 in the lateral direction as described above. The second resistor 74 is formed of a ruthenium oxide thick film (for example, a ruthenium oxide metal glaze thick film). Note that the second resistor 74 may be formed of the same material as that of the upper surface electrode 30. That is, the resistance value of the silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film) constituting the upper surface electrode is generally the resistance value of the ruthenium oxide-based thick film (for example, ruthenium oxide-based metal glaze thick film) constituting the resistor. Therefore, the second resistor 74 may be formed of a silver-based thick film (silver-based metal glaze thick film). In this case, it can be said that the second resistor 74 is formed of a low-resistance conductor made of an electrode material.

この第2抵抗体74は、低抵抗体であり、第1抵抗体72における第2抵抗体74の上面に積層した領域の抵抗値よりも低い抵抗値に形成されている。例えば、第2抵抗体74の素材は、第1抵抗体72の素材よりも抵抗値が小さい素材により形成されている。つまり、同一形状、同一の大きさの2つの抵抗体とした場合に、第2抵抗体74の抵抗値が第1抵抗体72の抵抗値よりも小さくする。第2抵抗体74の素材を第1抵抗体72の素材よりも低い抵抗値とするには、例えば、酸化ルテニウムの含有割合(重量比)を第1抵抗体72に比べて多くし、ガラス成分の含有割合(重量比)を第1抵抗体72に比べて少なくすることが考えられる。   The second resistor 74 is a low resistor, and has a resistance value lower than the resistance value of the region of the first resistor 72 laminated on the upper surface of the second resistor 74. For example, the material of the second resistor 74 is formed of a material having a smaller resistance value than the material of the first resistor 72. That is, when two resistors having the same shape and the same size are used, the resistance value of the second resistor 74 is made smaller than the resistance value of the first resistor 72. In order to make the material of the second resistor 74 lower in resistance value than the material of the first resistor 72, for example, the content ratio (weight ratio) of ruthenium oxide is increased compared to the first resistor 72, and the glass component It is conceivable to reduce the content ratio (weight ratio) of the first resistor 72 as compared with the first resistor 72.

また、第1抵抗体72は、絶縁基板10と第2抵抗体74の上面に設けられていて、X1−X2方向の両端部は上面電極30上に積層して形成されている。つまり、第1抵抗体72は、長手方向(電極間方向、通電方向としてもよい))(X1−X2方向(図1参照))に帯状に形成されていて、平面視において略長方形状に形成されている。また、第1抵抗体72の中央の領域は、第2抵抗体74の上面に接触して積層していて、その領域の厚みは第1抵抗体72の他の領域の厚みよりも薄く形成されている。この第1抵抗体72も、酸化ルテニウム系厚膜(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ厚膜)により形成されている。   The first resistor 72 is provided on the upper surfaces of the insulating substrate 10 and the second resistor 74, and both end portions in the X1-X2 direction are stacked on the upper surface electrode 30. In other words, the first resistor 72 is formed in a band shape in the longitudinal direction (inter-electrode direction or energization direction) (X1-X2 direction (see FIG. 1)), and is formed in a substantially rectangular shape in plan view. Has been. The central region of the first resistor 72 is stacked in contact with the upper surface of the second resistor 74, and the thickness of the region is thinner than the thickness of the other regions of the first resistor 72. ing. The first resistor 72 is also formed of a ruthenium oxide thick film (for example, a ruthenium oxide metal glaze thick film).

なお、この抵抗体70の両端部間に通電した場合には、第2抵抗体74が形成されている領域においては、電流はほとんど第2抵抗体74を流れるので、抵抗体70の平面視において、第2抵抗体74が形成されている領域の発熱は、抵抗体70の他の領域の発熱に比べると小さい。すなわち、図1に示すように、抵抗体70において、第2抵抗体74が設けられている領域が低発熱部Lとなり、第2抵抗体74が設けられていない領域が高発熱部H1、H2となる。そして、高発熱部H1と低発熱部Lと高発熱部H2とは、直列接続して設けられている。なお、抵抗体70における上面電極30と接している領域は、上面電極30と接しているため発熱が小さく、高発熱部とはならない。   Note that, when current is passed between both ends of the resistor 70, almost the current flows through the second resistor 74 in the region where the second resistor 74 is formed. The heat generation in the region where the second resistor 74 is formed is smaller than the heat generation in other regions of the resistor 70. That is, as shown in FIG. 1, in the resistor 70, the region where the second resistor 74 is provided is the low heat generating portion L, and the region where the second resistor 74 is not provided is the high heat generating portion H1, H2. It becomes. The high heat generating portion H1, the low heat generating portion L, and the high heat generating portion H2 are provided in series connection. Note that the region of the resistor 70 that is in contact with the upper surface electrode 30 is in contact with the upper surface electrode 30 and therefore generates little heat and does not become a high heat generation portion.

よって、絶縁基板10における、前記高発熱部H1、H2の形成領域に対応する下面側の領域(「絶縁基板10の下面領域における、高発熱部H1、H2の領域の直下の領域」としてもよい)には、下面電極40が形成され、はんだ付け面が形成されているといえる。また、低発熱部Lの領域に対応する下面側の領域にははんだ付け面が形成されていないといえる。   Therefore, a region on the lower surface side corresponding to the formation region of the high heat generating portions H1 and H2 in the insulating substrate 10 (“region immediately below the region of the high heat generating portions H1 and H2 in the lower surface region of the insulating substrate 10”) may be used. ), The lower surface electrode 40 is formed, and it can be said that the soldering surface is formed. Moreover, it can be said that the soldering surface is not formed in the lower surface side region corresponding to the region of the low heat generation portion L.

なお、第2抵抗体74の端部と下面電極40の端部とが横方向に一致している場合には、電極部20において絶縁基板10の下方に形成された下面電極部22は、メッキ60の分だけ内側に突出しているといえるが、メッキ60を含めた下面電極部22の端部の位置が、第2抵抗体74の端部の位置と一致(略一致としてもよい)しているようにしてもよい。また、前記の例では、第2抵抗体74は第1抵抗体72の下面に積層しているが、第2抵抗体74が第1抵抗体72の上面に積層するものとしてもよい。   When the end of the second resistor 74 and the end of the lower electrode 40 are aligned in the horizontal direction, the lower electrode 22 formed below the insulating substrate 10 in the electrode 20 is plated. Although it can be said that it protrudes inward by 60, the position of the end of the lower surface electrode part 22 including the plating 60 coincides with the position of the end of the second resistor 74 (may be substantially coincident). You may make it. In the above example, the second resistor 74 is laminated on the lower surface of the first resistor 72, but the second resistor 74 may be laminated on the upper surface of the first resistor 72.

なお、抵抗体70において、第2抵抗体74を形成した領域を低抵抗部ととらえ、抵抗体70における前記低抵抗部以外の領域を高抵抗部ととらえることもできる。   In the resistor 70, a region where the second resistor 74 is formed can be regarded as a low resistance portion, and a region other than the low resistance portion in the resistor 70 can be regarded as a high resistance portion.

また、保護膜80は、図1に示すように、主に、抵抗体70を被覆するように配設されている。すなわち、この保護膜80の配設位置をさらに詳しく説明すると、Y1−Y2方向には、前記絶縁基板10の幅と略同一(同一としてもよい)に形成され(絶縁基板10の幅よりも短く形成されていてもよい)、さらに、X1−X2方向には、抵抗体70と上面電極30の一部を被覆するように設けられている。この保護膜80は、樹脂(エポキシ、フェノール、シリコン等)により形成されている。なお、ほう珪酸鉛ガラスにより形成してもよい。   Further, as shown in FIG. 1, the protective film 80 is mainly disposed so as to cover the resistor 70. That is, the arrangement position of the protective film 80 will be described in more detail. In the Y1-Y2 direction, the protective film 80 is formed to be substantially the same (or the same as) the width of the insulating substrate 10 (shorter than the width of the insulating substrate 10). Further, the resistor 70 and a part of the upper surface electrode 30 are provided so as to cover the X1-X2 direction. The protective film 80 is made of resin (epoxy, phenol, silicon, etc.). In addition, you may form with a borosilicate glass.

前記構成のチップ抵抗器A1の製造方法について、簡単に説明すると、まず、表面と裏面の両面に一次スリットと二次スリットが形成されている無垢のアルミナ基板(このアルミナ基板は、複数のチップ抵抗器の絶縁基板の大きさを少なくとも有する大判のものである)を用意し、このアルミナ基板の裏面(すなわち、底面)に下面電極を形成する。つまり、下面電極用のペースト(例えば、銀系メタルグレーズ等の銀系ペースト)を印刷し、乾燥・焼成する。なお、この下面電極の形成に際しては、隣接するチップ抵抗器について同時に下面電極を形成する。つまり、電極間方向に隣接する2つのチップ抵抗器に対応するアルミナ基板の領域について、一次スリットを跨ぐように1つの印刷領域で下面電極を形成する。さらには、電極間方向に直角な方向には、帯状に連続して下面電極を形成する。つまり、Y方向には複数のチップ抵抗器分まとめて一連の帯状に下面電極を形成し、さらに、X方向に隣接する2つの下面電極については、その2つの下面電極をまとめて形成する。   The manufacturing method of the chip resistor A1 having the above-described configuration will be briefly described. First, a solid alumina substrate having primary and secondary slits formed on both the front surface and the back surface (this alumina substrate has a plurality of chip resistors). And a bottom electrode is formed on the back surface (that is, the bottom surface) of the alumina substrate. That is, a paste for the lower surface electrode (for example, a silver-based paste such as silver-based metal glaze) is printed, dried and fired. In forming the lower surface electrode, the lower surface electrode is simultaneously formed for adjacent chip resistors. That is, the bottom electrode is formed in one printing region so as to straddle the primary slit in the region of the alumina substrate corresponding to the two chip resistors adjacent in the inter-electrode direction. Furthermore, in the direction perpendicular to the inter-electrode direction, a bottom electrode is formed continuously in a strip shape. That is, a plurality of chip resistors are collectively formed in the Y direction to form the bottom electrode in a series of strips, and two bottom electrodes adjacent to the X direction are formed together.

次に、アルミナ基板の表側の面(すなわち、上面)に上面電極を形成する。すなわち、上面電極ペーストを印刷し、乾燥・焼成する。この場合の上面電極ペーストは、銀系ペースト(例えば、銀系メタルグレーズ)又は銀パラジウムペーストである。なお、チップ抵抗器となった場合に隣接するチップ抵抗器の上面電極で互いに隣接し合う上面電極については1つの印刷領域で形成する。   Next, an upper surface electrode is formed on the front surface (that is, the upper surface) of the alumina substrate. That is, the top electrode paste is printed, dried and fired. The upper electrode paste in this case is a silver paste (for example, a silver metal glaze) or a silver palladium paste. In addition, when it becomes a chip resistor, the upper surface electrode which adjoins mutually by the upper surface electrode of an adjacent chip resistor is formed in one printing area | region.

次に、前記アルミナ基板の表側の面(すなわち、上面)に抵抗体70を形成する。つまり、第2抵抗体74を形成し、その後、第1抵抗体72を形成する。具体的には、第2抵抗体74の抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成し、その後、第1抵抗体72の抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成する。なお、第1抵抗体72、第2抵抗体74ともに、この抵抗体ペーストは、酸化ルテニウム系ペースト(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ)である。この第1抵抗体72を形成する際の抵抗体ペーストの印刷においては、一対の上面電極の内側の端部に積層するように形成する。   Next, the resistor 70 is formed on the front surface (that is, the upper surface) of the alumina substrate. That is, the second resistor 74 is formed, and then the first resistor 72 is formed. Specifically, the resistor paste of the second resistor 74 is printed and then dried and baked to form a resistor, and then the resistor paste of the first resistor 72 is printed and dried and baked to form a resistor. Form the body. For both the first resistor 72 and the second resistor 74, this resistor paste is a ruthenium oxide paste (for example, ruthenium oxide metal glaze). In the printing of the resistor paste when the first resistor 72 is formed, the first resistor 72 is formed so as to be laminated on the inner ends of the pair of upper surface electrodes.

なお、第2抵抗体74を上面電極30と同じ素材で形成する場合には、上面電極を形成する際に同時に第2抵抗体74を形成すればよい。つまり、上面電極ペーストの印刷時に第2抵抗体74の領域にも前記上面電極ペーストを印刷して、乾燥、焼成する。   In the case where the second resistor 74 is formed of the same material as that of the upper surface electrode 30, the second resistor 74 may be formed simultaneously with the formation of the upper surface electrode. That is, when the upper surface electrode paste is printed, the upper surface electrode paste is also printed in the region of the second resistor 74, and is dried and fired.

次に、抵抗体70にトリミング溝を形成して抵抗値を調整する。つまり、レーザートリミングにより抵抗体70にトリミング溝を形成する。トリミング溝を形成する領域は、低発熱部Lと高発熱部H1、H2のいずれでもよい。   Next, a trimming groove is formed in the resistor 70 to adjust the resistance value. That is, a trimming groove is formed in the resistor 70 by laser trimming. The region for forming the trimming groove may be either the low heat generating portion L or the high heat generating portions H1 and H2.

次に、少なくとも抵抗体70を覆うように保護膜を形成する。つまり、樹脂ペーストを帯状に印刷し、乾燥・硬化させる。なお、Y1−Y2方向には、絶縁基板の端から離間させて保護膜を形成する。   Next, a protective film is formed so as to cover at least the resistor 70. That is, the resin paste is printed in a strip shape, dried and cured. Note that a protective film is formed in the Y1-Y2 direction so as to be separated from the end of the insulating substrate.

その後は、一次スリットに沿って一次分割する。次に、前記短冊状基板に対して、側面電極を形成する。つまり、側面電極用ペーストを印刷し、乾燥・硬化する。なお、側面電極用ペーストを印刷し、乾燥・焼成する方法としてもよい。また、スパッタ法により側面電極を金属薄膜で形成してもよい。その後、二次スリットに沿って二次分割する。次に、ニッケルメッキを形成し、その後、錫メッキを形成する。   Thereafter, primary division is performed along the primary slit. Next, side electrodes are formed on the strip substrate. That is, the side electrode paste is printed, dried and cured. Alternatively, the side electrode paste may be printed, dried, and fired. Further, the side electrode may be formed of a metal thin film by sputtering. Thereafter, secondary division is performed along the secondary slit. Next, nickel plating is formed, and then tin plating is formed.

チップ抵抗器A1の使用状態について説明すると、配線基板(プリント基板としてもよい)に実装して使用する。図2は、金属基板ベースプリント基板90にチップ抵抗器A1を実装した例であり、金属基板ベースプリント基板90は、アルミ板92と、アルミ板92上に設けられた絶縁層94と、絶縁層94上に設けられた導体箔(具体的には、銅箔)96とから構成され、チップ抵抗器A1は、電極部20と導体箔96間にはんだ98を設けることにより、金属基板ベースプリント基板90に実装されている。   The usage state of the chip resistor A1 will be described. The chip resistor A1 is used by being mounted on a wiring board (may be a printed board). FIG. 2 is an example in which the chip resistor A1 is mounted on the metal substrate base printed board 90. The metal substrate base printed board 90 includes an aluminum plate 92, an insulating layer 94 provided on the aluminum plate 92, and an insulating layer. 94, the chip resistor A1 is provided with a solder 98 between the electrode portion 20 and the conductor foil 96, thereby providing a metal substrate base printed circuit board. 90.

チップ抵抗器A1の使用に際して、一対の電極部20間に電流が流れると、抵抗体70に電流が流れるが、抵抗体70の低発熱部Lには第2抵抗体74が設けられているので、低発熱部Lにおいては、電流はほとんど第2抵抗体74を流れ、低発熱部Lからの発熱は少ない。一方、高発熱部H1、H2からは低発熱部Lに比べて発熱量が多いが、高発熱部H1、H2の形成領域に対応する絶縁基板10の下面領域には、下面電極部22が設けられているので、高発熱部H1、H2からの発熱は、絶縁基板10を通して下面電極部22から放熱される。つまり、本実施例のチップ抵抗器A1においては、放熱が困難な抵抗体70の中央の領域に第2抵抗体74を設けることにより、発熱量を小さくするとともに、高発熱部H1、H2に対応する位置には下面電極部22を設けて、高発熱部H1、H2からの発熱を下面電極部22から放熱するので、チップ抵抗器A1全体の冷却を効率的に行うことができるように構成されている。なお、高発熱部H1、H2からの熱は、主として下面電極部22から放熱されるが、厳密には、下面電極部22以外の電極部20からも放熱される。   When the chip resistor A1 is used, if a current flows between the pair of electrode portions 20, a current flows through the resistor 70. However, the second resistor 74 is provided in the low heat generating portion L of the resistor 70. In the low heat generating portion L, almost the current flows through the second resistor 74, and the heat generation from the low heat generating portion L is small. On the other hand, the heat generation amount from the high heat generation portions H1 and H2 is larger than that of the low heat generation portion L, but the lower surface electrode portion 22 is provided in the lower surface region of the insulating substrate 10 corresponding to the formation region of the high heat generation portions H1 and H2. Therefore, the heat generated from the high heat generating portions H 1 and H 2 is radiated from the lower surface electrode portion 22 through the insulating substrate 10. That is, in the chip resistor A1 of the present embodiment, the second resistor 74 is provided in the central region of the resistor 70 that is difficult to dissipate heat, thereby reducing the amount of heat generated and corresponding to the high heat generating portions H1 and H2. The lower surface electrode portion 22 is provided at the position where the heat is generated, and the heat generated from the high heat generation portions H1 and H2 is radiated from the lower surface electrode portion 22, so that the entire chip resistor A1 can be efficiently cooled. ing. In addition, although the heat from the high heat generating portions H1 and H2 is mainly radiated from the lower surface electrode portion 22, strictly speaking, it is also radiated from the electrode portions 20 other than the lower surface electrode portion 22.

また、一対の下面電極部22間の距離を長く確保しても、下面電極部22間の領域に対応する領域に第2抵抗体74を設けることにより発熱を抑えることができるので、チップ抵抗器の発熱を抑えながら、絶縁距離、すなわち、一対の下面電極部22間の距離を十分確保することができ、耐電圧を高くすることができる。つまり、低発熱部Lが設けられていることにより、低発熱部Lの直下に下面電極部22を設ける必要がなく(つまり、下面電極部22自体の長さを図13の第3例のように長く確保する必要がなく)、絶縁距離を十分確保することができる。   Further, even if a long distance between the pair of lower surface electrode portions 22 is ensured, heat generation can be suppressed by providing the second resistor 74 in a region corresponding to the region between the lower surface electrode portions 22, so that the chip resistor The insulation distance, that is, the distance between the pair of lower surface electrode portions 22 can be sufficiently secured while suppressing the heat generation, and the withstand voltage can be increased. That is, since the low heat generating portion L is provided, it is not necessary to provide the lower surface electrode portion 22 immediately below the low heat generating portion L (that is, the length of the lower surface electrode portion 22 itself is set as in the third example of FIG. It is not necessary to secure the insulation distance for a long time), and a sufficient insulation distance can be secured.

以上のように、本実施例のチップ抵抗器A1によれば、チップ抵抗器A1を金属基板にはんだ付けして実装した場合に、チップ抵抗器全体の冷却を効率的に行うことができ、また、絶縁距離を確保して耐電圧を高くすることができるので、高電力で使用できるチップ抵抗器が得られる。また、本実施例のチップ抵抗器A1においては、下面電極部22の長さをある程度長く確保することから、金属基板に実装した場合に、金属基板における銅箔は熱伝導率がよいことと相俟って、高発熱部H1、H2の発熱を均一化することができ、従来のチップ抵抗器に比べて高電力で使用できる。   As described above, according to the chip resistor A1 of the present embodiment, when the chip resistor A1 is mounted by soldering to a metal substrate, the entire chip resistor can be efficiently cooled. Since the insulation distance can be secured and the withstand voltage can be increased, a chip resistor that can be used with high power can be obtained. Further, in the chip resistor A1 of the present embodiment, the length of the lower surface electrode portion 22 is secured to some extent, so that when mounted on a metal substrate, the copper foil on the metal substrate has a good thermal conductivity. Therefore, the heat generation of the high heat generating portions H1 and H2 can be made uniform, and can be used with higher power than the conventional chip resistor.

なお、チップ抵抗器全体の冷却を効率的に行うことができ、絶縁距離を確保して耐電圧を高くできるという効果は、金属基板のみならずアルミナセラミック基板やガラスエポキシ基板の場合でも得ることができる。なお、アルミナセラミック基板は、板状のアルミナセラミックの上面に銅箔が形成されたものであり、また、ガラスエポキシ基板は、板状のガラスエポキシの上面に銅箔が形成されたものであり、これらの場合も銅箔が熱伝導率がよいことから、高発熱部H1、H2の発熱を均一化することができ、従来のチップ抵抗器に比べて高電力で使用できる。   Note that the entire chip resistor can be efficiently cooled, and the effect of securing an insulation distance and increasing the withstand voltage can be obtained not only for metal substrates but also for alumina ceramic substrates and glass epoxy substrates. it can. The alumina ceramic substrate is a plate-shaped alumina ceramic with a copper foil formed on the top surface, and the glass epoxy substrate is a plate-shaped glass epoxy with a copper foil formed on the top surface, Also in these cases, since the copper foil has good thermal conductivity, the heat generation of the high heat generating portions H1 and H2 can be made uniform, and can be used with higher power than conventional chip resistors.

また、本実施例のチップ抵抗器A1においては、絶縁基板10の下面の高発熱部H1、H2に対応する領域には下面電極部22が設けられている(つまり、第2抵抗体74に対応する領域以外の領域には下面電極部22が設けられている)ので、基板を薄くした方が配線基板への放熱効率がよく、絶縁基板を薄くすることができる。つまり、従来のチップ抵抗器においては、配線基板への放熱効率がよくないことから、絶縁基板を厚くして周りの空気への熱伝導や周囲への輻射により放熱するようにしていたが、本実施例の場合には、配線基板への放熱を十分に行うことができるので、絶縁基板を薄くすることにより周りの空気への熱伝導や周囲への輻射による放熱効果が小さくなっても、十分に放熱することができ、よって、安価な薄い絶縁基板を使用して高電力用のチップ抵抗器を提供することができる。また、薄い絶縁基板を用いるので、チップ抵抗器の小型化にも資する。   Further, in the chip resistor A1 of the present embodiment, the lower surface electrode portion 22 is provided in a region corresponding to the high heat generation portions H1 and H2 on the lower surface of the insulating substrate 10 (that is, corresponding to the second resistor 74). Since the lower surface electrode portion 22 is provided in a region other than the region to be performed), the heat radiation efficiency to the wiring substrate is better when the substrate is thinned, and the insulating substrate can be thinned. In other words, in the conventional chip resistor, since the heat dissipation efficiency to the wiring board is not good, the insulating board is made thick to dissipate heat by heat conduction to the surrounding air and radiation to the surroundings. In the case of the embodiment, the heat radiation to the wiring board can be sufficiently performed, so even if the insulating board is thinned, the heat radiation effect due to the heat conduction to the surrounding air and the radiation to the surroundings becomes small enough. Therefore, it is possible to provide a chip resistor for high power using an inexpensive thin insulating substrate. In addition, since a thin insulating substrate is used, the chip resistor can be miniaturized.

また、絶縁基板10に窒化アルミ等の高熱伝導材料を使用することによってさらに高電力で使用できるチップ抵抗器を得ることができる。   Further, a chip resistor that can be used with higher power can be obtained by using a high thermal conductive material such as aluminum nitride for the insulating substrate 10.

以上のように、本実施例のチップ抵抗器によれば、インバータや通信機器等の金属基板を使用した機器のハイパワー化や小型化、高集積化に適した高電力用チップ抵抗器を得ることができる。   As described above, according to the chip resistor of the present embodiment, a high-power chip resistor suitable for high power, miniaturization, and high integration of devices using metal substrates such as inverters and communication devices is obtained. be able to.

次に、前記実施例1の変形例について説明する。実施例1の変形例におけるチップ抵抗器A1’は、図3に示すように、チップ抵抗器A1と略同様の構成であるが、下面電極40の長さが異なる。すなわち、実施例1のチップ抵抗器A1においては、下面電極40の端部は、横方向に第2抵抗体74の端部位置まで形成されているが、チップ抵抗器A1’においては、下面電極40は、横方向に第2抵抗体74の端部位置までは形成されておらず、絶縁基板10の上面の端部から第2抵抗体74の端部までの長さの略半分の位置にまで形成されている。つまり、一対の下面電極40における各下面電極40においては、下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)α1は、絶縁基板10の上面の端部から第2抵抗体74の端部までの長さα2の略半分となっていて、例えば、長さα1は、長さα2の40〜60%となっている。   Next, a modification of the first embodiment will be described. As shown in FIG. 3, the chip resistor A <b> 1 ′ in the modified example of the first embodiment has substantially the same configuration as the chip resistor A <b> 1, but the length of the bottom electrode 40 is different. That is, in the chip resistor A1 of the first embodiment, the end portion of the lower surface electrode 40 is formed in the lateral direction to the end portion position of the second resistor 74, but in the chip resistor A1 ′, the lower surface electrode is formed. 40 is not formed in the lateral direction to the position of the end of the second resistor 74, and is approximately half the length from the end of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end of the second resistor 74. Is formed. That is, in each of the lower surface electrodes 40 in the pair of lower surface electrodes 40, the length of the lower surface electrode 40 (the length in the X1-X2 direction) α1 is from the end of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end of the second resistor 74. For example, the length α1 is 40 to 60% of the length α2.

このように、下面電極40の長さが、絶縁基板10の上面の端部から第2抵抗体74の端部までの長さよりも短い場合でも、高発熱部H1、H2からの発熱は、電極部20(特に、下面電極部22)から放熱されるので、十分チップ抵抗器A1’全体の放熱効率を高くすることができる。つまり、高発熱部H1、H2からの発熱は、電極部20(特に、下面電極部22)から放熱され、また、低発熱部Lからの発熱は少ないので、チップ抵抗器A1’全体の放熱効率を高くすることができる。すなわち、抵抗体70が高発熱部H1、H2と低発熱部Lとを有し、高発熱部H1、H2が低発熱部Lよりも電極部20に近い側にあるので、高発熱部H1、H2からの発熱を効率的に放熱することができる。   Thus, even when the length of the lower surface electrode 40 is shorter than the length from the end of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end of the second resistor 74, the heat generation from the high heat generating portions H1 and H2 Since heat is radiated from the portion 20 (particularly, the lower surface electrode portion 22), the heat radiation efficiency of the entire chip resistor A1 ′ can be sufficiently increased. That is, the heat generation from the high heat generation portions H1 and H2 is radiated from the electrode portion 20 (particularly, the lower surface electrode portion 22), and the heat generation from the low heat generation portion L is small. Can be high. That is, since the resistor 70 has the high heat generating portions H1 and H2 and the low heat generating portion L, and the high heat generating portions H1 and H2 are closer to the electrode portion 20 than the low heat generating portion L, the high heat generating portion H1 and Heat generated from H2 can be efficiently dissipated.

なお、高発熱部H1、H2からの熱を効率よく放熱するには、絶縁基板10の下面領域において、少なくとも高発熱部H1、H2の平面領域に対応する領域における少なくとも一部には下面電極40(下面電極部22としてもよい)が形成されているものとするのが好ましい。すなわち、下面電極40(下面電極部22としてもよい)の一部が、高発熱部H1、H2の領域の少なくとも一部に上下方向に重なる状態とするのが好ましい。例えば、図3の例では、下面電極40におけるRで示された領域が高発熱部H1と上下方向に重なっているといえる。なお、X2側の下面電極40においても同様となっている。つまり、実施例1のように、高発熱部H1、H2に対応する領域には下面電極40が設けられているものとするのが好ましく、下面電極40の端部位置もなるべく第2抵抗体74の端部位置にまで形成されているものとするのが好ましいが、下面電極40(下面電極部22としてもよい)の一部が、高発熱部H1、H2の領域の少なくとも一部に上下方向に重なる状態とするものでもよい。   In order to efficiently dissipate heat from the high heat generating portions H1 and H2, at least a part of the lower surface region of the insulating substrate 10 corresponding to the planar region of the high heat generating portions H1 and H2 is provided on the lower surface electrode 40. It is preferable that the lower electrode portion 22 may be formed. That is, it is preferable that a part of the lower surface electrode 40 (which may be the lower surface electrode part 22) overlaps at least a part of the regions of the high heat generation parts H1 and H2 in the vertical direction. For example, in the example of FIG. 3, it can be said that the region indicated by R in the bottom electrode 40 overlaps the high heat generation portion H1 in the vertical direction. The same applies to the lower electrode 40 on the X2 side. That is, as in the first embodiment, it is preferable that the lower surface electrode 40 is provided in the region corresponding to the high heat generating portions H1 and H2, and the end position of the lower surface electrode 40 is as much as possible as the second resistor 74. However, it is preferable that a part of the lower surface electrode 40 (or the lower surface electrode part 22) is vertically formed on at least a part of the regions of the high heat generation parts H1 and H2. It may be in a state of overlapping.

次に、実施例2について説明する。この実施例2のチップ抵抗器A2は、図4〜図6に示すように構成され、前記実施例1のチップ抵抗器A1と略同様の構成であるが、抵抗体70の構成が異なる。   Next, Example 2 will be described. The chip resistor A2 according to the second embodiment is configured as shown in FIGS. 4 to 6 and has substantially the same configuration as the chip resistor A1 according to the first embodiment, but the configuration of the resistor 70 is different.

すなわち、チップ抵抗器A2における抵抗体70は、方形状の第1抵抗体172と、格子状の第2抵抗体174と、帯状に配列した形状の第3抵抗体176とを有している。   That is, the resistor 70 in the chip resistor A2 includes a first resistor 172 having a square shape, a second resistor 174 having a lattice shape, and a third resistor 176 having a shape arranged in a strip shape.

つまり、第1抵抗体172は、方形状の層状を呈し、第2抵抗体174と第3抵抗体176の間の位置に設けられている。   That is, the first resistor 172 has a rectangular layer shape and is provided at a position between the second resistor 174 and the third resistor 176.

また、第2抵抗体174は、第1抵抗体172の一方の上面電極30側の端部から連設されていて、格子状を呈している。また、格子状を形成する開口部の電極間方向(X1−X2方向)の幅は、上面電極30側に行くに従い、徐々に大きくなるように形成されている。   The second resistor 174 is connected from the end of the first resistor 172 on the one upper surface electrode 30 side, and has a lattice shape. In addition, the width in the inter-electrode direction (X1-X2 direction) of the openings forming the lattice shape is formed so as to gradually increase toward the upper surface electrode 30 side.

すなわち、第2抵抗体174は、電極間方向に伸びる複数(図4〜図6の例では、6つ)の帯状部174aと、複数の帯状部174a間に設けられた連結部174bと連結部174cと連結部174dとを有している。   That is, the second resistor 174 includes a plurality of (six in the examples of FIGS. 4 to 6) strip-shaped portions 174a extending in the inter-electrode direction, and a coupling portion 174b and a coupling portion provided between the plurality of strip-shaped portions 174a. 174c and a connecting portion 174d.

ここで、帯状部174aは、第1抵抗体172のX1側の端部から連設され、帯状、すなわち、細長の長方形状を呈している。各帯状部174aの上面電極30側の端部は、上面電極30上に積層して接している。   Here, the belt-like portion 174a is continuously provided from the end portion on the X1 side of the first resistor 172, and has a belt-like shape, that is, an elongated rectangular shape. The end of each strip 174a on the upper surface electrode 30 side is stacked on and in contact with the upper surface electrode 30.

また、連結部174bは、第1抵抗体172のX1側の端部から長さaの隙間を介した位置に電極間方向とは直角の方向(Y1−Y2方向)に設けられ、隣接する帯状部174a間をつなぐように設けられている。この連結部174bは、計5つ設けられているが、5つの連結部174bは、Y1−Y2方向に一列に設けられている。また、連結部174cは、連結部174bのX1側の端部から長さcの隙間を介した位置に電極間方向とは直角の方向(Y1−Y2方向)に設けられ、隣接する帯状部174a間をつなぐように設けられている。この連結部174cは、計5つ設けられているが、5つの連結部174cは、Y1−Y2方向に一列に設けられている。また、連結部174dは、連結部174cのX1側の端部から長さeの隙間を介した位置に電極間方向とは直角の方向(Y1−Y2方向)に設けられ、隣接する帯状部174a間をつなぐように設けられている。この連結部174dは、計5つ設けられているが、5つの連結部174dは、Y1−Y2方向に一列に設けられている。以上のように、帯状部174aと、連結部174b〜174dが設けられていることにより第2抵抗体174は全体に格子状に形成されている。   Further, the connecting portion 174b is provided in a direction perpendicular to the inter-electrode direction (Y1-Y2 direction) at a position through a gap having a length a from the end portion on the X1 side of the first resistor 172, and is adjacent to the band shape. It is provided so as to connect the portions 174a. A total of five connecting portions 174b are provided, but the five connecting portions 174b are provided in a line in the Y1-Y2 direction. Further, the connecting portion 174c is provided in a direction (Y1-Y2 direction) perpendicular to the inter-electrode direction at a position through a gap having a length c from the end portion on the X1 side of the connecting portion 174b, and is adjacent to the strip-like portion 174a. It is provided to connect the gaps. Although a total of five connecting portions 174c are provided, the five connecting portions 174c are provided in a line in the Y1-Y2 direction. In addition, the connecting portion 174d is provided in a direction (Y1-Y2 direction) perpendicular to the inter-electrode direction at a position through a gap having a length e from the end portion on the X1 side of the connecting portion 174c, and the adjacent belt-like portion 174a. It is provided to connect the gaps. Although a total of five connecting portions 174d are provided, the five connecting portions 174d are provided in a line in the Y1-Y2 direction. As described above, the second resistor 174 is formed in a lattice shape as a whole by providing the belt-like portion 174a and the connecting portions 174b to 174d.

ここで、連結部174bの幅bと、連結部174cの幅dと、連結部174dの幅fとは同じ幅に形成されているが、開口部175aの長さaと、開口部175bの長さcと、開口部175cの長さeとは、a<c<eに形成されていて、上面電極30側に行くに従い開口部の長さが大きくなるように形成されている。前記のように、上面電極30側に行くに従い開口部の長さが大きくなるように形成されているので、この第2抵抗体74においては、X1−X2方向に上面電極30側に行くに従い抵抗値が大きくなっている。   Here, the width b of the connecting portion 174b, the width d of the connecting portion 174c, and the width f of the connecting portion 174d are formed to be the same width, but the length a of the opening 175a and the length of the opening 175b. The length c and the length e of the opening 175c are formed such that a <c <e, and the length of the opening increases toward the upper surface electrode 30 side. As described above, since the length of the opening is increased as it goes to the upper surface electrode 30 side, the second resistor 74 has a resistance as it goes to the upper surface electrode 30 side in the X1-X2 direction. The value is increasing.

なお、各帯状部174aにおける連結部174dより先端側の部分の長さhは、開口部175cの幅eよりも長く形成され、また、前記先端側の部分における上面電極30に接触していない部分の長さgは、開口部175cの幅eよりも大きくすることが好ましい。   In addition, the length h of the part on the tip side of the connecting part 174d in each band-like part 174a is formed longer than the width e of the opening 175c, and the part not in contact with the upper surface electrode 30 in the part on the tip side Is preferably larger than the width e of the opening 175c.

以上のように、第2抵抗体174は、方形状の形状に方形状の開口部と端部においては方形状の切欠部を設けることにより、第2抵抗体174の形状を形成しているといえる。   As described above, the second resistor 174 is formed in the shape of the second resistor 174 by providing a rectangular opening in the rectangular shape and a rectangular notch at the end. I can say that.

次に、第3抵抗体176は、複数(図4〜図6の例では、6つ)の帯状部176aから形成され、各帯状部176aは、帯状、すなわち、細長の長方形状を呈している。各帯状部176aは、第1抵抗体172の端部(X2側の端部)から連設されている。各帯状部176aの長さと幅は、同一に形成されていて、各帯状部176a間の隙間も同一に形成されている。各帯状部176aの上面電極30側の端部は、上面電極30上に積層して接している。この第3抵抗体176は、抵抗体の一部をスリット状に形成して設けられたものといえる。   Next, the third resistor 176 is formed of a plurality (six in the example of FIGS. 4 to 6) of belt-like portions 176a, and each belt-like portion 176a has a belt shape, that is, an elongated rectangular shape. . Each belt-like portion 176a is connected from the end portion (the end portion on the X2 side) of the first resistor 172. The lengths and widths of the strips 176a are the same, and the gaps between the strips 176a are also the same. The end of each strip 176a on the upper surface electrode 30 side is laminated on and in contact with the upper surface electrode 30. It can be said that the third resistor 176 is provided by forming a part of the resistor in a slit shape.

また、抵抗体70は、全体に一体に形成され、全体に同一の材質により形成され、その厚みも同一に形成されている。   Further, the resistor 70 is integrally formed as a whole, is formed of the same material as a whole, and has the same thickness.

本実施例の抵抗体70が前記のように構成されていることによって、第2抵抗体174は、第1抵抗体172よりも抵抗値が高く構成され、また、第3抵抗体176は、第1抵抗体172よりも抵抗値が高く構成されている。これにより、抵抗体70は、図4に示すように、高発熱部H1、H2と低発熱部Lとが形成される。すなわち、低発熱部Lは、第1抵抗体172により構成され、高発熱部H1は、第2抵抗体174の上面電極30に接していない領域により構成され、高発熱部H2は、第3抵抗体176の上面電極30に接していない領域により構成される。ここで、第2抵抗体174と第3抵抗体176の上面電極30と接している領域は、上面電極30と接しているため発熱が小さく、高発熱部とはならない。   Since the resistor 70 of the present embodiment is configured as described above, the second resistor 174 is configured to have a higher resistance value than the first resistor 172, and the third resistor 176 is The resistance value is higher than that of the one resistor 172. Thereby, as shown in FIG. 4, the resistor 70 is formed with high heat generating portions H <b> 1 and H <b> 2 and a low heat generating portion L. That is, the low heat generating portion L is configured by the first resistor 172, the high heat generating portion H1 is configured by a region not in contact with the upper surface electrode 30 of the second resistor 174, and the high heat generating portion H2 is configured by the third resistance. The body 176 is constituted by a region not in contact with the upper surface electrode 30. Here, the regions of the second resistor 174 and the third resistor 176 that are in contact with the upper surface electrode 30 are in contact with the upper surface electrode 30 and thus generate little heat and do not become a high heat generation portion.

よって、絶縁基板10における、前記高発熱部H1、H2の形成領域に対応する下面側の領域(「絶縁基板10の下面領域における、高発熱部H1、H2の領域の直下の領域」としてもよい)には、下面電極40が形成され、はんだ付け面が形成されているといえる。   Therefore, a region on the lower surface side corresponding to the formation region of the high heat generating portions H1 and H2 in the insulating substrate 10 (“region immediately below the region of the high heat generating portions H1 and H2 in the lower surface region of the insulating substrate 10”) may be used. ), The lower surface electrode 40 is formed, and it can be said that the soldering surface is formed.

なお、抵抗体70において、第1抵抗体172の領域を低抵抗部ととらえ、第2抵抗体174や第3抵抗体176の領域を高抵抗部ととらえることもできる。   In the resistor 70, the region of the first resistor 172 can be regarded as a low resistance portion, and the region of the second resistor 174 and the third resistor 176 can be regarded as a high resistance portion.

チップ抵抗器A2における前記の点以外の構成は実施例1のチップ抵抗器A1と同様の構成であるので、詳しい説明を省略する。   Since the configuration of the chip resistor A2 other than those described above is the same as that of the chip resistor A1 of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.

本実施例のチップ抵抗器A2の製造方法は、前記実施例1のチップ抵抗器A1と同様であるが、抵抗体70の形成に当たっては、抵抗体70の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成する。つまり、抵抗体70は、全体に同時に形成される。   The manufacturing method of the chip resistor A2 of this embodiment is the same as that of the chip resistor A1 of the first embodiment. However, in forming the resistor 70, the resistor paste is printed in the shape of the resistor 70 and then dried.・ Bake to form a resistor. That is, the resistor 70 is formed simultaneously on the whole.

また、抵抗体70の抵抗値の調整に際しては、第2抵抗体174又は第3抵抗体176にトリミングを行う。具体的には、第2抵抗体174又は第3抵抗体176に電極間方向に直角な方向(Y1−Y2方向)にトリミング溝を形成することにより抵抗値を上昇させて抵抗値を調整する。   Further, when the resistance value of the resistor 70 is adjusted, the second resistor 174 or the third resistor 176 is trimmed. Specifically, the resistance value is adjusted by increasing the resistance value by forming a trimming groove in the second resistor 174 or the third resistor 176 in a direction perpendicular to the inter-electrode direction (Y1-Y2 direction).

なお、第2抵抗体174にトリミング溝を形成する場合には、開口部175aと開口部175bと開口部175cの少なくともいずれかの位置にY1−Y2方向にトリミング溝を形成して抵抗値を調整する。連結部174dよりも先端側(X1側)の領域(つまり、長さhの領域(図5参照))にトリミング溝を形成してもよい。   When a trimming groove is formed in the second resistor 174, a trimming groove is formed in the Y1-Y2 direction in at least one of the opening 175a, the opening 175b, and the opening 175c to adjust the resistance value. To do. A trimming groove may be formed in a region on the tip side (X1 side) from the connecting portion 174d (that is, a region having a length h (see FIG. 5)).

この第2抵抗体174においては、開口部175a〜175cの長さが上面電極30側に行くほど大きく形成されているので、抵抗値の粗調整と微調整とを行うことができる。つまり、長さが長い方の開口部の方が同じ長さのトリミング溝を形成しても抵抗値の上昇が大きいので、図6に示すように、開口部175cの位置にトリミング溝T1を形成して抵抗値を粗調整した後に、開口部175bの位置にトリミング溝T2を形成して抵抗値を微調整することが可能となる。なお、トリミング溝の先端は、図6に示すように、開口部の位置とし、帯状部174aの途中の位置とはしない。これは、トリミング溝の先端を帯状部174aの途中の位置とすると、第2抵抗体174にクラックの発生の問題があるからである。実施例2のチップ抵抗器A2においては、第2抵抗体174において、長さの異なる開口部が3種類設けられているので、抵抗値の調整段階を3段階設けることができ、例えば、開口部175cの位置で最も荒い調整をしておき、開口部175bの位置で次に荒い調整を行い、開口部175aの位置で最後の微調整を行うようにすることができる。なお、第2抵抗体174における連結部174dよりも先端側の領域(つまり、長さhの領域(図5参照))もトリミング溝形成位置に利用すれば、a<c<e<gとすることにより、4段階の調整が可能となる。   In the second resistor 174, since the lengths of the openings 175a to 175c are formed to increase toward the upper surface electrode 30, the resistance value can be roughly adjusted and finely adjusted. In other words, even if the trimming groove having the same length is formed in the opening having the longer length, the resistance value increases greatly. Therefore, as shown in FIG. 6, the trimming groove T1 is formed at the position of the opening 175c. Then, after roughly adjusting the resistance value, the trimming groove T2 can be formed at the position of the opening 175b to finely adjust the resistance value. Note that, as shown in FIG. 6, the tip of the trimming groove is the position of the opening, not the middle position of the strip-shaped portion 174a. This is because if the tip of the trimming groove is located in the middle of the strip-shaped portion 174a, the second resistor 174 has a problem of cracking. In the chip resistor A2 according to the second embodiment, since the three openings having different lengths are provided in the second resistor 174, three resistance adjustment stages can be provided. It is possible to make the roughest adjustment at the position of 175c, perform the next rough adjustment at the position of the opening 175b, and perform the final fine adjustment at the position of the opening 175a. Note that if the region of the second resistor 174 on the tip side of the connecting portion 174d (that is, the region having the length h (see FIG. 5)) is also used as the trimming groove forming position, a <c <e <g. Thus, four stages of adjustment are possible.

なお、前記の説明においては、トリミング溝T1、T2を形成するものとして説明したが、図6に示すように、トリミング溝T3、T4のように第2抵抗体174において分散してトリミング溝を形成することによって(この場合には、トリミング溝T1、T2は形成しない)、発熱が均一化しより高電力のチップ抵抗器を実現することができる。   In the above description, the trimming grooves T1 and T2 are formed. However, as shown in FIG. 6, the trimming grooves are formed by being dispersed in the second resistor 174 like the trimming grooves T3 and T4. By doing so (in this case, the trimming grooves T1 and T2 are not formed), the heat generation becomes uniform and a higher-power chip resistor can be realized.

また、第3抵抗体176においては、Y1−Y2方向にトリミング溝を形成して、帯状部176aを切断することによりトリミングを行う。この場合も、トリミング溝の先端を帯状部176aの途中の位置とはせずに、トリミング溝が帯状部176a間の隙間の位置にあるようにする。   In the third resistor 176, trimming is performed by forming a trimming groove in the Y1-Y2 direction and cutting the strip-shaped portion 176a. Also in this case, the trimming groove is located at the position of the gap between the band-like portions 176a without setting the tip of the trimming groove to a position in the middle of the band-like portion 176a.

以上のように、トリミング溝の先端を、第2抵抗体174における開口部の位置や、第3抵抗体176における帯状部176a間の隙間の位置として、抵抗体の途中の位置としないようにすることにより、切断した部分には確実に電流が流れないようにすることができるので、低ノイズのチップ抵抗器を提供できる。   As described above, the tip of the trimming groove is not set as a position in the middle of the resistor as the position of the opening in the second resistor 174 or the position of the gap between the strips 176a in the third resistor 176. As a result, it is possible to ensure that no current flows through the cut portion, and thus a low-noise chip resistor can be provided.

また、本実施例のチップ抵抗器A2の使用状態は、前記実施例1のチップ抵抗器A1と同様であり、金属基板ベースプリント基板やアルミナセラミック基板等の配線基板に実装して使用する。チップ抵抗器A2の使用に際して、一対の電極部20間に電流が流れると、抵抗体70に電流が流れるが、第1抵抗体172の抵抗値は第2抵抗体174や第3抵抗体176よりも小さいので、第1抵抗体172(低発熱部L)からの発熱は少なく、また、高発熱部H1、H2からは低発熱部Lに比べて発熱量が多いが、高発熱部H1、H2の形成領域に対応する絶縁基板10の下面には、下面電極部22が設けられているので、高発熱部H1、H2からの発熱は、絶縁基板10を通して下面電極部22から放熱される。つまり、本実施例のチップ抵抗器A2においては、放熱が困難な抵抗体70の中央の領域を低発熱の領域とすることにより発熱量を小さくするとともに、高発熱部H1、H2に対応する位置には下面電極部22を設けて、高発熱部H1、H2からの発熱を下面電極部22から放熱するので、チップ抵抗器A2全体の冷却を効率的に行うことができるように構成されている。特に、第2抵抗体74においては、X1−X2方向に上面電極30側に行くに従い抵抗値が大きくなっているので、高発熱部としての第2抵抗体174において上面電極30に近い方がより発熱するが、電極部20に近い側となるため放熱効率は高くなるといえる。なお、高発熱部H1、H2からの熱は、主として下面電極部22から放熱されるが、厳密には、下面電極部22以外の電極部20からも放熱される。   The chip resistor A2 in this embodiment is used in the same manner as the chip resistor A1 in the first embodiment, and is mounted on a wiring board such as a metal substrate base printed board or an alumina ceramic board. When the chip resistor A2 is used, if a current flows between the pair of electrode portions 20, a current flows through the resistor 70. The resistance value of the first resistor 172 is greater than that of the second resistor 174 and the third resistor 176. Therefore, the heat generation from the first resistor 172 (low heat generation portion L) is small, and the heat generation amount from the high heat generation portions H1 and H2 is larger than that of the low heat generation portion L, but the high heat generation portions H1 and H2 are high. Since the lower surface electrode portion 22 is provided on the lower surface of the insulating substrate 10 corresponding to the formation region, heat generated from the high heat generation portions H1 and H2 is radiated from the lower surface electrode portion 22 through the insulating substrate 10. That is, in the chip resistor A2 of the present embodiment, the heat generation amount is reduced by making the central region of the resistor 70, which is difficult to radiate heat, a low heat generation region, and the positions corresponding to the high heat generation portions H1 and H2. Is provided with a lower surface electrode portion 22, and heat generated from the high heat generation portions H1 and H2 is radiated from the lower surface electrode portion 22, so that the entire chip resistor A2 can be efficiently cooled. . In particular, since the resistance value of the second resistor 74 increases in the X1-X2 direction toward the upper surface electrode 30 side, the closer to the upper surface electrode 30 in the second resistor 174 as the high heat generating portion, the more Although it generates heat, it can be said that the heat dissipation efficiency is increased because it is closer to the electrode portion 20. In addition, although the heat from the high heat generating portions H1 and H2 is mainly radiated from the lower surface electrode portion 22, strictly speaking, it is also radiated from the electrode portions 20 other than the lower surface electrode portion 22.

また、一対の下面電極部22間の距離を長く確保しても、下面電極部22間の領域に対応する領域に低発熱部Lとしての第1抵抗体172を設けることにより発熱を抑えることができるので、チップ抵抗器の発熱を抑えながら、絶縁距離、すなわち、一対の下面電極部22間の距離を十分確保することができ、耐電圧を高くすることができる。   Further, even if a long distance between the pair of lower surface electrode portions 22 is secured, heat generation can be suppressed by providing the first resistor 172 as the low heat generating portion L in a region corresponding to the region between the lower surface electrode portions 22. Therefore, while suppressing the heat generation of the chip resistor, the insulation distance, that is, the distance between the pair of lower surface electrode portions 22 can be sufficiently secured, and the withstand voltage can be increased.

よって、本実施例のチップ抵抗器A2によれば、チップ抵抗器A2を金属基板にはんだ付けして実装した場合に、チップ抵抗器全体の冷却を効率的に行うことができ、また、絶縁距離を確保して耐電圧を高くすることができるので、高電力で使用できるチップ抵抗器が得られる。また、本実施例のチップ抵抗器A2においては、下面電極部22の長さをある程度長く確保することから、金属基板に実装した場合に、金属基板における銅箔は熱伝導率がよいことと相俟って、高発熱部H1、H2の発熱を均一化することができ、従来のチップ抵抗器に比べて高電力で使用できる。   Therefore, according to the chip resistor A2 of the present embodiment, when the chip resistor A2 is soldered and mounted on the metal substrate, the entire chip resistor can be efficiently cooled, and the insulation distance As a result, the withstand voltage can be increased and a chip resistor that can be used with high power can be obtained. Further, in the chip resistor A2 of the present embodiment, the length of the lower surface electrode portion 22 is ensured to a certain extent. Therefore, when mounted on the metal substrate, the copper foil on the metal substrate has a good thermal conductivity. Therefore, the heat generation of the high heat generating portions H1 and H2 can be made uniform, and can be used with higher power than the conventional chip resistor.

なお、チップ抵抗器全体の冷却を効率的に行うことができ、絶縁距離を確保して耐電圧を高くできるという効果は、金属基板のみならずアルミナセラミック基板やガラスエポキシ基板の場合でも得ることができる。   Note that the entire chip resistor can be efficiently cooled, and the effect of securing an insulation distance and increasing the withstand voltage can be obtained not only for metal substrates but also for alumina ceramic substrates and glass epoxy substrates. it can.

また、本実施例のチップ抵抗器A2においては、前記チップ抵抗器A1と同様に、絶縁基板10の下面の高発熱部H1、H2に対応する領域には下面電極部22が設けられている(つまり、第1抵抗体172に対応する領域以外の領域には下面電極部22が設けられている)ので、基板を薄くした方が配線基板への放熱効率がよく、絶縁基板を薄くすることができる。よって、安価な薄い絶縁基板を使用して高電力用のチップ抵抗器を提供することができる。また、薄い絶縁基板を用いるので、チップ抵抗器の小型化にも資する。   Further, in the chip resistor A2 of the present embodiment, the lower surface electrode portion 22 is provided in a region corresponding to the high heat generation portions H1 and H2 on the lower surface of the insulating substrate 10 as in the case of the chip resistor A1 ( In other words, the lower surface electrode portion 22 is provided in a region other than the region corresponding to the first resistor 172), so that the heat radiation efficiency to the wiring substrate is better when the substrate is thinner, and the insulating substrate is thinner. it can. Therefore, a chip resistor for high power can be provided using an inexpensive thin insulating substrate. In addition, since a thin insulating substrate is used, the chip resistor can be miniaturized.

また、絶縁基板10に窒化アルミ等の高熱伝導材料を使用することによってさらに高電力で使用できるチップ抵抗器を得ることができる。   Further, a chip resistor that can be used with higher power can be obtained by using a high thermal conductive material such as aluminum nitride for the insulating substrate 10.

以上のように、本実施例のチップ抵抗器によれば、インバータや通信機器等の金属基板を使用した機器のハイパワー化や小型化、高集積化に適した高電力用チップ抵抗器を得ることができる。   As described above, according to the chip resistor of the present embodiment, a high-power chip resistor suitable for high power, miniaturization, and high integration of devices using metal substrates such as inverters and communication devices is obtained. be able to.

また、実施例2においても、実施例1の変形例のように、下面電極40の長さを短くしてもよい。すなわち、下面電極40を横方向に第1抵抗体172の端部位置まで形成せず、絶縁基板10の上面の端部から第1抵抗体172の端部までの長さの略半分の位置にまで形成する。つまり、下面電極40の長さ(X1−X2方向の長さ)を絶縁基板10の上面の端部から第1抵抗体172の端部までの略半分(具体的には、40〜60%)とする。   In the second embodiment, the length of the lower surface electrode 40 may be shortened as in the modification of the first embodiment. That is, the lower surface electrode 40 is not formed in the lateral direction to the end portion position of the first resistor 172, and is approximately half the length from the end portion of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end portion of the first resistor body 172. Form up to. That is, the length of the lower surface electrode 40 (the length in the X1-X2 direction) is approximately half from the end of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end of the first resistor 172 (specifically, 40 to 60%). And

このように、下面電極40の長さが、絶縁基板10の上面の端部から第1抵抗体172の端部までの長さよりも短い場合でも、高発熱部H1、H2からの発熱は、下面電極部22から放熱されるので、十分チップ抵抗器全体の放熱効率を高くすることができる。   Thus, even when the length of the lower surface electrode 40 is shorter than the length from the end of the upper surface of the insulating substrate 10 to the end of the first resistor 172, the heat generation from the high heat generating portions H1 and H2 Since heat is radiated from the electrode part 22, the heat dissipation efficiency of the entire chip resistor can be sufficiently increased.

なお、高発熱部H1、H2からの熱を効率よく放熱するには、絶縁基板10の下面領域において、少なくとも高発熱部H1、H2の平面領域に対応する領域における少なくとも一部には下面電極40(下面電極部22としてもよい)が形成されているものとするのが好ましい。すなわち、下面電極40(下面電極部22としてもよい)の一部が、高発熱部H1、H2の領域の少なくとも一部に上下方向に重なる状態とするのが好ましい。つまり、前記実施例2のように、高発熱部H1、H2に対応する領域には下面電極40が設けられているものとするのが好ましく、下面電極40の端部位置もなるべく第1抵抗体172の端部位置にまで形成されているものとするのが好ましいが、下面電極40(下面電極部22としてもよい)の一部が、高発熱部H1、H2の領域の少なくとも一部に上下方向に重なる状態とするものでもよい。   In order to efficiently dissipate heat from the high heat generating portions H1 and H2, at least a part of the lower surface region of the insulating substrate 10 corresponding to the planar region of the high heat generating portions H1 and H2 is provided on the lower surface electrode 40. It is preferable that the lower electrode portion 22 may be formed. That is, it is preferable that a part of the lower surface electrode 40 (which may be the lower surface electrode part 22) overlaps at least a part of the regions of the high heat generation parts H1 and H2 in the vertical direction. That is, as in the second embodiment, it is preferable that the lower surface electrode 40 is provided in the region corresponding to the high heat generating portions H1 and H2, and the position of the end portion of the lower surface electrode 40 is as much as possible. 172 is preferably formed up to the end position, but a part of the lower surface electrode 40 (which may be the lower surface electrode part 22) is located above and below at least a part of the regions of the high heat generation parts H1 and H2. You may make it the state which overlaps with a direction.

なお、前記の実施例2において、第2抵抗体174を格子状とし、第3抵抗体176を帯状としたが、これに限らず、両方を格子状としてもよいし、両方を帯状としてもよい。また、第2抵抗体174において、格子状を形成する開口部の大きさ(特に、X1−X2方向の幅)が上面電極30側にいくに従い大きくなっているものとして説明したが、抵抗値の粗調整と微調整を行うという意味では、上面電極30側にいくに従い開口部の大きさが小さくなっている構成としてもよい。また、抵抗値の粗調整と微調整の作用を得なくてよいのであれば、開口部の大きさ(特に、X1−X2方向の幅)を同じとして、通常の格子状としてもよい。   In the second embodiment, the second resistor 174 has a lattice shape and the third resistor 176 has a strip shape. However, the present invention is not limited to this, and both may be a lattice shape, or both may be a strip shape. . In the second resistor 174, the size of the opening forming the lattice shape (particularly, the width in the X1-X2 direction) has been described as increasing toward the upper surface electrode 30 side. In terms of performing coarse adjustment and fine adjustment, the size of the opening may be reduced toward the top electrode 30 side. In addition, if it is not necessary to obtain the effect of rough adjustment and fine adjustment of the resistance value, the size of the opening (particularly, the width in the X1-X2 direction) may be the same and a normal lattice shape may be used.

次に、実施例3について説明する。この実施例3のチップ抵抗器A3は、図7に示すように構成され、前記チップ抵抗器A1やチップ抵抗器A2と略同様の構成であるが、抵抗体70の構成が異なる。   Next, Example 3 will be described. The chip resistor A3 according to the third embodiment is configured as shown in FIG. 7 and has substantially the same configuration as the chip resistor A1 and the chip resistor A2, but the configuration of the resistor 70 is different.

すなわち、チップ抵抗器A3における抵抗体70は、方形状の第1抵抗体272と、蛇行状の第2抵抗体274と、蛇行状の第3抵抗体276とを有している。   That is, the resistor 70 in the chip resistor A <b> 3 includes a rectangular first resistor 272, a serpentine second resistor 274, and a serpentine third resistor 276.

つまり、第1抵抗体272は、方形状の層状を呈し、第2抵抗体274と第3抵抗体276の間の位置に設けられている。   That is, the first resistor 272 has a rectangular layer shape and is provided at a position between the second resistor 274 and the third resistor 276.

また、第2抵抗体274は、第1抵抗体272のX1側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その端部は上面電極30に積層している。つまり、第2抵抗体274は、縦方向部274aと、横方向部274bと、縦方向部274cと、横方向部274dと、縦方向部274eと、横方向部274fと、縦方向部274gとを有していて、蛇行状に形成されている。   The second resistor 274 is connected from the end of the first resistor 272 on the X1 side, has a meandering shape, and the end is stacked on the upper surface electrode 30. That is, the second resistor 274 includes the vertical portion 274a, the horizontal portion 274b, the vertical portion 274c, the horizontal portion 274d, the vertical portion 274e, the horizontal portion 274f, and the vertical portion 274g. And has a meandering shape.

また、第3抵抗体276は、第1抵抗体272のX2側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その端部は上面電極30に積層している。つまり、第3抵抗体276は、縦方向部276aと、横方向部276bと、縦方向部276cと、横方向部276dと、縦方向部276eと、横方向部276fと、縦方向部276gとを有していて、蛇行状に形成されている。   The third resistor 276 is connected from the end of the first resistor 272 on the X2 side, has a meandering shape, and the end is stacked on the upper surface electrode 30. That is, the third resistor 276 includes a vertical portion 276a, a horizontal portion 276b, a vertical portion 276c, a horizontal portion 276d, a vertical portion 276e, a horizontal portion 276f, and a vertical portion 276g. And has a meandering shape.

なお、第2抵抗体274と第3抵抗体276とは、互いに点対称に形成されていて、抵抗体70全体を180度回転しても同一の形状になるようになっている。また、第2抵抗体274と第3抵抗体276とは、各抵抗体の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して形成されている。なお、抵抗体70は、全体に一体に形成されている。   The second resistor 274 and the third resistor 276 are formed symmetrically with respect to each other so that they have the same shape even when the entire resistor 70 is rotated 180 degrees. The second resistor 274 and the third resistor 276 are formed by drying and firing after printing a resistor paste in the shape of each resistor. The resistor 70 is integrally formed as a whole.

本実施例の抵抗体70が前記のように構成されていて、第2抵抗体274や第3抵抗体276の電流路の幅が第1抵抗体272の電流路の幅よりも狭いので、第2抵抗体274や第3抵抗体276は、第1抵抗体272よりも抵抗値が高く構成されている。これにより、抵抗体70は、図7に示すように、高発熱部H1、H2と低発熱部Lとが形成される。すなわち、低発熱部Lは、第1抵抗体272により構成され、高発熱部H1は、第2抵抗体274の上面電極30に接していない領域により構成され、高発熱部H2は、第3抵抗体276の上面電極30に接していない領域により構成される。ここで、第2抵抗体274と第3抵抗体276の上面電極30と接している領域は、上面電極30と接しているため発熱が小さく、高発熱部とはならない。   Since the resistor 70 of the present embodiment is configured as described above, the width of the current path of the second resistor 274 and the third resistor 276 is narrower than the width of the current path of the first resistor 272. The two-resistor 274 and the third resistor 276 are configured to have a higher resistance value than the first resistor 272. Thereby, as shown in FIG. 7, the resistor 70 is formed with high heat generating portions H <b> 1 and H <b> 2 and a low heat generating portion L. That is, the low heat generating portion L is configured by the first resistor 272, the high heat generating portion H1 is configured by a region not in contact with the upper surface electrode 30 of the second resistor 274, and the high heat generating portion H2 is configured by the third resistance. The body 276 is constituted by a region not in contact with the upper surface electrode 30. Here, since the region of the second resistor 274 and the third resistor 276 in contact with the upper surface electrode 30 is in contact with the upper surface electrode 30, heat generation is small and does not become a high heat generating portion.

よって、絶縁基板10における、前記高発熱部H1、H2の形成領域に対応する下面側の領域(「絶縁基板10の下面領域における、高発熱部H1、H2の領域の直下の領域」としてもよい)には、下面電極40が形成され、はんだ付け面が形成されているといえる。   Therefore, a region on the lower surface side corresponding to the formation region of the high heat generating portions H1 and H2 in the insulating substrate 10 (“region immediately below the region of the high heat generating portions H1 and H2 in the lower surface region of the insulating substrate 10”) may be used. ), The lower surface electrode 40 is formed, and it can be said that the soldering surface is formed.

なお、抵抗体70において、第1抵抗体272の領域を低抵抗部ととらえ、第2抵抗体274や第3抵抗体276の領域を高抵抗部ととらえることもできる。   In the resistor 70, the region of the first resistor 272 can be regarded as a low resistance portion, and the regions of the second resistor 274 and the third resistor 276 can be regarded as a high resistance portion.

チップ抵抗器A3における前記の点以外の構成は実施例1のチップ抵抗器A1と同様の構成であるので、詳しい説明を省略する。   Since the configuration of the chip resistor A3 other than the above point is the same as that of the chip resistor A1 of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.

本実施例のチップ抵抗器A3の製造方法は、前記実施例1のチップ抵抗器A1と同様であるが、抵抗体70の形成に当たっては、抵抗体70の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成する。つまり、抵抗体70は、全体に同時に形成される。また、抵抗体70の抵抗値の調整に際しては、抵抗体70にトリミングを行うが、トリミング溝を形成する位置としては、例えば、第1抵抗体272とする。また、第2抵抗体274や第3抵抗体276の蛇行状を形成する2本の溝部において、一方を抵抗パターンにより形成し、他方をトリミング溝により形成して抵抗値調整を行ってもよい。その場合、第2抵抗体274と第3抵抗体276の両方にトリミング溝を形成してもよいし、いずれか一方に形成してもよい。   The manufacturing method of the chip resistor A3 of the present embodiment is the same as that of the chip resistor A1 of the first embodiment. However, in forming the resistor 70, the resistor paste is printed in the shape of the resistor 70 and then dried.・ Bake to form a resistor. That is, the resistor 70 is formed simultaneously on the whole. Further, when the resistance value of the resistor 70 is adjusted, trimming is performed on the resistor 70. The position where the trimming groove is formed is, for example, the first resistor 272. In addition, the resistance value may be adjusted by forming one of the two groove portions forming the meandering shape of the second resistor 274 and the third resistor 276 with a resistance pattern and the other with a trimming groove. In that case, trimming grooves may be formed in both the second resistor 274 and the third resistor 276, or may be formed in either one.

本実施例のチップ抵抗器A3の使用状態、作用、効果は、前記チップ抵抗器A1やチップ抵抗器A2と同様であるので、詳しい説明を省略する。   Since the use state, operation, and effect of the chip resistor A3 of the present embodiment are the same as those of the chip resistor A1 and the chip resistor A2, detailed description thereof is omitted.

以上のように、本実施例のチップ抵抗器によれば、インバータや通信機器等の金属基板を使用した機器のハイパワー化や小型化、高集積化に適した高電力用チップ抵抗器を得ることができる。   As described above, according to the chip resistor of the present embodiment, a high-power chip resistor suitable for high power, miniaturization, and high integration of devices using metal substrates such as inverters and communication devices is obtained. be able to.

また、実施例3においても、実施例1の変形例のように、下面電極の長さを短くしてもよい。その場合の構成や効果は、実施例1の変形例と同様であるので詳しい説明を省略する。   In the third embodiment, the length of the bottom electrode may be shortened as in the modification of the first embodiment. Since the configuration and effects in this case are the same as those of the modification of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.

次に、実施例4について説明する。この実施例4のチップ抵抗器A4は、図8に示すように構成され、前記各チップ抵抗器、特に、前記チップ抵抗器A3と略同様の構成であるが、抵抗体70の構成が異なる。すなわち、抵抗体70における第2抵抗体や第3抵抗体が蛇行状に形成されているが、第2抵抗体の形成の仕方が異なり、トリミング溝により蛇行状に形成されている。   Next, Example 4 will be described. The chip resistor A4 according to the fourth embodiment is configured as shown in FIG. 8 and has the same configuration as each of the chip resistors, particularly the chip resistor A3, but the configuration of the resistor 70 is different. That is, the second resistor and the third resistor in the resistor 70 are formed in a meandering manner, but the way of forming the second resistor is different and is formed in a meandering manner by the trimming groove.

すなわち、チップ抵抗器A4における抵抗体70は、方形状の第1抵抗体372と、蛇行状の第2抵抗体374と、蛇行状の第3抵抗体376とを有している。   That is, the resistor 70 in the chip resistor A4 includes a rectangular first resistor 372, a meandering second resistor 374, and a meandering third resistor 376.

つまり、第1抵抗体372は、方形状の層状を呈し、第2抵抗体374と第3抵抗体376の間の位置に設けられている。   That is, the first resistor 372 has a rectangular layer shape and is provided at a position between the second resistor 374 and the third resistor 376.

また、第2抵抗体374は、第1抵抗体372のX1側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その端部は上面電極30に積層している。この第2抵抗体374は、方形状の抵抗体本体374aと、前記抵抗体本体374aと上面電極30間とを接続する接続部374bと、前記抵抗体本体374aと第1抵抗体372間とを接続する接続部374cとを有していて、抵抗体本体374aにトリミング溝T11やT12を形成することにより蛇行状に形成されている。   The second resistor 374 is connected to the end of the first resistor 372 on the X1 side, has a meandering shape, and the end is stacked on the upper surface electrode 30. The second resistor 374 includes a rectangular resistor body 374a, a connection portion 374b connecting the resistor body 374a and the upper surface electrode 30, and the resistor body 374a and the first resistor 372. The resistor body 374a is formed in a meandering manner by forming trimming grooves T11 and T12 in the resistor body 374a.

また、第3抵抗体376は、第1抵抗体372のX2側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その端部は上面電極30上に積層している。つまり、第3抵抗体376は、縦方向部376aと、横方向部376bと、縦方向部376cと、横方向部376dと、縦方向部376eと、横方向部376fと、縦方向部376gとを有していて、蛇行状に形成されている。また、この第3抵抗体376は、前記抵抗体の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して形成されている。なお、抵抗体70は、全体に一体に形成されている。   The third resistor 376 is connected to the end of the first resistor 372 on the X2 side, has a meandering shape, and the end is stacked on the upper surface electrode 30. That is, the third resistor 376 includes the vertical portion 376a, the horizontal portion 376b, the vertical portion 376c, the horizontal portion 376d, the vertical portion 376e, the horizontal portion 376f, and the vertical portion 376g. And has a meandering shape. The third resistor 376 is formed by printing a resistor paste in the shape of the resistor, followed by drying and baking. The resistor 70 is integrally formed as a whole.

本実施例の抵抗体70が前記のように構成されていて、第2抵抗体374や第3抵抗体376の電流路の幅が第1抵抗体372の電流路の幅よりも狭いので、第2抵抗体374や第3抵抗体376は、第1抵抗体372よりも抵抗値が高く構成されている。これにより、抵抗体70は、図8に示すように、高発熱部H1、H2と低発熱部Lとが形成される。すなわち、低発熱部Lは、第1抵抗体372により構成され、高発熱部H1は、第2抵抗体374の上面電極30に接していない領域により構成され、高発熱部H2は、第3抵抗体376の上面電極30に接していない領域により構成される。ここで、第2抵抗体374と第3抵抗体376の上面電極30と接している領域は、上面電極30と接しているため発熱が小さく、高発熱部とはならない。   Since the resistor 70 of the present embodiment is configured as described above, the width of the current path of the second resistor 374 and the third resistor 376 is narrower than the width of the current path of the first resistor 372. The two-resistor 374 and the third resistor 376 are configured to have a higher resistance value than the first resistor 372. Thereby, as shown in FIG. 8, the resistor 70 is formed with high heat generating portions H <b> 1 and H <b> 2 and a low heat generating portion L. That is, the low heat generating portion L is configured by the first resistor 372, the high heat generating portion H1 is configured by a region not in contact with the upper surface electrode 30 of the second resistor 374, and the high heat generating portion H2 is configured by the third resistance. The body 376 is constituted by a region not in contact with the upper surface electrode 30. Here, the regions of the second resistor 374 and the third resistor 376 that are in contact with the upper surface electrode 30 are in contact with the upper surface electrode 30 and therefore generate little heat and do not become a high heat generation portion.

よって、絶縁基板10における、前記高発熱部H1、H2の形成領域に対応する下面側の領域(「絶縁基板10の下面領域における、高発熱部H1、H2の領域の直下の領域」としてもよい)には、下面電極40が形成され、はんだ付け面が形成されているといえる。   Therefore, a region on the lower surface side corresponding to the formation region of the high heat generating portions H1 and H2 in the insulating substrate 10 (“region immediately below the region of the high heat generating portions H1 and H2 in the lower surface region of the insulating substrate 10”) may be used. ), The lower surface electrode 40 is formed, and it can be said that the soldering surface is formed.

なお、抵抗体70において、第1抵抗体372の領域を低抵抗部ととらえ、第2抵抗体374や第3抵抗体376の領域を高抵抗部ととらえることもできる。   In the resistor 70, the region of the first resistor 372 can be regarded as a low resistance portion, and the regions of the second resistor 374 and the third resistor 376 can be regarded as a high resistance portion.

チップ抵抗器A4における前記の点以外の構成は実施例3のチップ抵抗器A3と同様の構成であるので、詳しい説明を省略する。   Since the configuration of the chip resistor A4 other than those described above is the same as that of the chip resistor A3 of the third embodiment, detailed description thereof is omitted.

本実施例のチップ抵抗器A4の製造方法は、前記実施例3のチップ抵抗器A3と同様であるが、抵抗体70の形成に当たっては、抵抗体70の形状においてトリミング溝T11、T12が形成されていない形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成し、その後、トリミング溝T11とトリミング溝T12を形成して抵抗体を形成する。なお、図8の例では、トリミング溝T11によりまず抵抗値の粗調整を行い、その後、トリミング溝T12により抵抗値の微調整を行っている。なお、トリミング溝T12を形成して粗調整を行い、その後、トリミング溝T11を形成して微調整を行ってもよい。   The manufacturing method of the chip resistor A4 of this embodiment is the same as that of the chip resistor A3 of the third embodiment. However, when forming the resistor 70, the trimming grooves T11 and T12 are formed in the shape of the resistor 70. After the resistor paste is printed in a non-printed shape, it is dried and fired, and then a trimming groove T11 and a trimming groove T12 are formed to form a resistor. In the example of FIG. 8, the resistance value is first roughly adjusted by the trimming groove T11, and then the resistance value is finely adjusted by the trimming groove T12. Note that the trimming groove T12 may be formed to perform coarse adjustment, and then the trimming groove T11 may be formed to perform fine adjustment.

本実施例のチップ抵抗器A4の使用状態、作用、効果は、前記チップ抵抗器A1〜A3と同様であるので、詳しい説明を省略する。   Since the use state, operation, and effect of the chip resistor A4 of this embodiment are the same as those of the chip resistors A1 to A3, detailed description thereof is omitted.

また、実施例4においても、実施例1の変形例のように、下面電極の長さを短くしてもよい。その場合の構成や効果は、実施例1の変形例と同様であるので詳しい説明を省略する。   In the fourth embodiment, the length of the bottom electrode may be shortened as in the modification of the first embodiment. Since the configuration and effects in this case are the same as those of the modification of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.

次に、実施例5について説明する。この実施例5のチップ抵抗器A5は、図9に示すように構成され、前記チップ抵抗器A3と略同様の構成であるが、抵抗体70の構成が異なる。すなわち、チップ抵抗器A3においては、抵抗体70を一体に構成したのに対して、本実施例の抵抗体70においては、第1抵抗体と第2抵抗体と第3抵抗体とが別体に形成されている。また、第1抵抗体の素材は、第2抵抗体や第3抵抗体の素材に比べて抵抗値が小さい素材により形成されている。   Next, Example 5 will be described. The chip resistor A5 of the fifth embodiment is configured as shown in FIG. 9 and has substantially the same configuration as the chip resistor A3, but the configuration of the resistor 70 is different. That is, the resistor 70 is integrally formed in the chip resistor A3, whereas in the resistor 70 of the present embodiment, the first resistor, the second resistor, and the third resistor are separated. Is formed. The material of the first resistor is formed of a material having a smaller resistance value than the materials of the second resistor and the third resistor.

すなわち、チップ抵抗器A5における抵抗体70は、方形状の第1抵抗体472と、蛇行状の第2抵抗体474と、蛇行状の第3抵抗体476とを有している。   That is, the resistor 70 in the chip resistor A5 includes a rectangular first resistor 472, a meandering second resistor 474, and a meandering third resistor 476.

つまり、第1抵抗体472は、方形状の層状を呈し、第2抵抗体474と第3抵抗体476の間の位置に設けられている。この第1抵抗体472の素材は、第2抵抗体474や第3抵抗体476の素材に比べて抵抗値が小さい素材により形成されている。このように第1抵抗体472の素材を第2抵抗体474や第3抵抗体476の素材よりも低い抵抗値とするには、例えば、酸化ルテニウムの含有割合(重量比)を第2抵抗体474や第3抵抗体476に比べて多くする。なお、第1抵抗体472を上面電極30と同一の素材により形成してもよい。つまり、第1抵抗体472を電極材料からなる低抵抗導電体により形成してもよい。   That is, the first resistor 472 has a rectangular layer shape and is provided at a position between the second resistor 474 and the third resistor 476. The material of the first resistor 472 is formed of a material having a smaller resistance value than the materials of the second resistor 474 and the third resistor 476. Thus, in order to set the material of the first resistor 472 to a resistance value lower than that of the material of the second resistor 474 or the third resistor 476, for example, the content ratio (weight ratio) of ruthenium oxide is set to the second resistor. More than 474 and the third resistor 476. Note that the first resistor 472 may be formed of the same material as that of the upper surface electrode 30. That is, the first resistor 472 may be formed of a low resistance conductor made of an electrode material.

また、第2抵抗体474は、第1抵抗体472のX1側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その上面電極30側の端部は上面電極30上に積層し、第1抵抗体472側の端部は第1抵抗体472上に積層している。この第2抵抗体474の構成は、チップ抵抗器A3における第2抵抗体274と同様であるので詳しい説明を省略する。   The second resistor 474 is connected to the end portion on the X1 side of the first resistor 472 and has a meandering shape, and the end portion on the upper surface electrode 30 side is laminated on the upper surface electrode 30 to form the first resistor. The end on the body 472 side is stacked on the first resistor 472. Since the configuration of the second resistor 474 is the same as that of the second resistor 274 in the chip resistor A3, detailed description thereof is omitted.

また、第3抵抗体476は、第1抵抗体472のX2側の端部から連設され、蛇行状を呈し、その上面電極30側の端部は上面電極30上に積層し、第1抵抗体472側の端部は第1抵抗体472上に積層している。この第3抵抗体476の構成は、チップ抵抗器A3における第3抵抗体276と同様であるので詳しい説明を省略する。   The third resistor 476 is connected to the end of the first resistor 472 on the X2 side, has a meandering shape, and the end of the upper surface electrode 30 is stacked on the upper surface electrode 30 to form the first resistor. The end on the body 472 side is stacked on the first resistor 472. Since the configuration of the third resistor 476 is the same as that of the third resistor 276 in the chip resistor A3, detailed description thereof is omitted.

なお、第2抵抗体474と第3抵抗体476とは、互いに点対称に形成されていて、抵抗体70全体を180度回転しても同一の形状になるようになっている。また、第2抵抗体474と第3抵抗体476とは、各抵抗体の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して形成されている。   Note that the second resistor 474 and the third resistor 476 are formed symmetrically with respect to each other so that the same shape is obtained even when the entire resistor 70 is rotated 180 degrees. The second resistor 474 and the third resistor 476 are formed by drying and firing after printing a resistor paste in the shape of each resistor.

本実施例の抵抗体70が前記のように構成されていて、第2抵抗体474や第3抵抗体476の電流路の幅が第1抵抗体472の電流路の幅よりも狭く形成され、また、第1抵抗体472の素材が第2抵抗体474や第3抵抗体476の素材に比べて抵抗値が低い素材により形成されているので、第2抵抗体474や第3抵抗体476は、第1抵抗体472よりも抵抗値が高く構成されている。これにより、抵抗体70は、図9に示すように、高発熱部H1、H2と低発熱部Lとが形成される。すなわち、低発熱部Lは、第1抵抗体472により構成され、高発熱部H1は、第2抵抗体474の上面電極30や第1抵抗体472に接していない領域により構成され、高発熱部H2は、第3抵抗体476の上面電極30や第1抵抗体472に接していない領域により構成される。ここで、第2抵抗体474と第3抵抗体476の上面電極30や第1抵抗体472と接している領域は、発熱が小さく、高発熱部とはならない。   The resistor 70 of the present embodiment is configured as described above, and the width of the current path of the second resistor 474 and the third resistor 476 is formed narrower than the width of the current path of the first resistor 472, Further, since the material of the first resistor 472 is formed of a material having a lower resistance value than the material of the second resistor 474 or the third resistor 476, the second resistor 474 and the third resistor 476 are The resistance value is higher than that of the first resistor 472. Thereby, as shown in FIG. 9, the resistor 70 is formed with the high heat generation portions H1 and H2 and the low heat generation portion L. That is, the low heat generating portion L is configured by the first resistor 472, and the high heat generating portion H1 is configured by a region that is not in contact with the upper surface electrode 30 of the second resistor 474 or the first resistor 472. H <b> 2 is configured by a region not in contact with the upper surface electrode 30 or the first resistor 472 of the third resistor 476. Here, the region in contact with the upper surface electrode 30 and the first resistor 472 of the second resistor 474 and the third resistor 476 is small in heat generation and does not become a high heat generating portion.

よって、絶縁基板10における、前記高発熱部H1、H2の形成領域に対応する下面側の領域(「絶縁基板10の下面領域における、高発熱部H1、H2の領域の直下の領域」としてもよい)には、下面電極40が形成され、はんだ付け面が形成されているといえる。   Therefore, a region on the lower surface side corresponding to the formation region of the high heat generating portions H1 and H2 in the insulating substrate 10 (“region immediately below the region of the high heat generating portions H1 and H2 in the lower surface region of the insulating substrate 10”) may be used. ), The lower surface electrode 40 is formed, and it can be said that the soldering surface is formed.

なお、抵抗体70において、第1抵抗体472の領域を低抵抗部ととらえ、第2抵抗体474や第3抵抗体476の領域を高抵抗部ととらえることもできる。   In the resistor 70, the region of the first resistor 472 can be regarded as a low resistance portion, and the region of the second resistor 474 or the third resistor 476 can be regarded as a high resistance portion.

チップ抵抗器A5における前記の点以外の構成は、前記チップ抵抗器A3と同様の構成であるので、詳しい説明を省略する。   Since the configuration of the chip resistor A5 other than the above points is the same as that of the chip resistor A3, detailed description thereof is omitted.

本実施例のチップ抵抗器A5の製造方法は、前記実施例1のチップ抵抗器A1と同様であるが、抵抗体70の形成に当たっては、第1抵抗体472を形成した後に、第2抵抗体474と第3抵抗体476を形成する。つまり、第1抵抗体472の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成して第1抵抗体472を形成し、その後、第2抵抗体474と第3抵抗体476の形状に抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥・焼成して抵抗体を形成して第2抵抗体474と第3抵抗体476を形成する。つまり、第2抵抗体474と第3抵抗体476は同時に形成される。なお、第1抵抗体472を上面電極30と同一の素材により形成する場合には、上面電極30の形成と同時に第1抵抗体472を形成すればよい。また、抵抗体70の抵抗値の調整に際しては、抵抗体70にトリミングを行うが、トリミング溝を形成する位置としては、第1抵抗体472とするのが好ましい。   The manufacturing method of the chip resistor A5 of the present embodiment is the same as that of the chip resistor A1 of the first embodiment. However, in forming the resistor 70, the first resistor 472 is formed and then the second resistor. 474 and a third resistor 476 are formed. That is, after the resistor paste is printed in the shape of the first resistor 472, it is dried and baked to form a resistor to form the first resistor 472, and then the second resistor 474 and the third resistor 476 are formed. After the resistor paste is printed in the above shape, the resistor is formed by drying and baking to form the second resistor 474 and the third resistor 476. That is, the second resistor 474 and the third resistor 476 are formed simultaneously. In the case where the first resistor 472 is formed of the same material as that of the upper surface electrode 30, the first resistor 472 may be formed simultaneously with the formation of the upper surface electrode 30. Further, when the resistance value of the resistor 70 is adjusted, trimming is performed on the resistor 70, and the first resistor 472 is preferably used as a position where the trimming groove is formed.

本実施例のチップ抵抗器A5の使用状態、作用、効果は、前記チップ抵抗器A1〜A4と同様であるので、詳しい説明を省略する。   Since the use state, operation, and effect of the chip resistor A5 of this embodiment are the same as those of the chip resistors A1 to A4, detailed description thereof is omitted.

また、実施例5においても、実施例1の変形例のように、下面電極の長さを短くしてもよい。その場合の構成や効果は、実施例1の変形例と同様であるので詳しい説明を省略する。   In the fifth embodiment, the length of the bottom electrode may be shortened as in the modification of the first embodiment. Since the configuration and effects in this case are the same as those of the modification of the first embodiment, detailed description thereof is omitted.

次に、実施例6について説明する。実施例6のチップ抵抗器A6は、図10に示すように構成され、前記各チップ抵抗器とは異なり、上面電極30を比較的長く確保するとともに、絶縁基板10の下面の抵抗体70の高発熱部に対応した領域に熱伝導膜42を設けた点が特徴である。   Next, Example 6 will be described. The chip resistor A6 according to the sixth embodiment is configured as shown in FIG. 10, and unlike the chip resistors, the upper surface electrode 30 is secured relatively long and the resistor 70 on the lower surface of the insulating substrate 10 is high. A feature is that a heat conductive film 42 is provided in a region corresponding to the heat generating portion.

すなわち、チップ抵抗器A6は、高電力用のチップ抵抗器であり、図10に示すように構成され、絶縁基板10と、電極部20と、抵抗体70と、保護膜80と、熱伝導部24とを有している。   That is, the chip resistor A6 is a high-power chip resistor, which is configured as shown in FIG. 10, and includes the insulating substrate 10, the electrode unit 20, the resistor 70, the protective film 80, and the heat conducting unit. 24.

ここで、絶縁基板10の構成は、前記各チップ抵抗器A1〜A5における絶縁基板10の構成と同様である。   Here, the configuration of the insulating substrate 10 is the same as the configuration of the insulating substrate 10 in each of the chip resistors A1 to A5.

また、電極部20の構成も前記各チップ抵抗器の電極部20の構成と略同様であるが、上面電極30が下面電極40よりも電極間方向(X1−X2方向)に長く設けられている点が異なる。なお、上面電極30は、横方向に熱伝導膜42の端部の位置にまで形成され、下面電極部22と熱伝導部24間の距離、すなわち、絶縁距離を確保するとともに、抵抗体70の長さもある程度確保するため、上面電極30の長さ(電極間方向の長さ)は下面電極40の長さ(電極間方向の長さ)の2倍以上とするのが好ましく、また、上面電極30の長さ(電極間方向の長さ)は、絶縁基板10の長さ(電極間方向の長さ)の25〜35%とするのが好ましい。電極部20における前記の点以外の構成は、チップ抵抗器A1にける電極部20と同様であるので詳しい説明を省略する。   The configuration of the electrode unit 20 is substantially the same as the configuration of the electrode unit 20 of each chip resistor, but the upper surface electrode 30 is longer than the lower surface electrode 40 in the inter-electrode direction (X1-X2 direction). The point is different. The upper surface electrode 30 is formed in the lateral direction up to the position of the end portion of the heat conductive film 42 to secure a distance between the lower surface electrode portion 22 and the heat conductive portion 24, that is, an insulation distance, and In order to secure the length to some extent, the length of the upper surface electrode 30 (length in the interelectrode direction) is preferably at least twice the length of the lower surface electrode 40 (length in the interelectrode direction). The length 30 (length in the interelectrode direction) is preferably 25 to 35% of the length of the insulating substrate 10 (length in the interelectrode direction). Since the configuration of the electrode unit 20 other than the above points is the same as that of the electrode unit 20 in the chip resistor A1, detailed description thereof is omitted.

また、抵抗体70は、基本的に前記絶縁基板10の上面に設けられていて、X1−X2方向の両端部は上面電極30上に積層して形成されている。つまり、抵抗体70は、長手方向(電極間方向)(X1−X2方向(図10参照))に帯状に形成されていて、平面視において略長方形状に形成されている。この抵抗体70は、一対の上面電極30間を接続するように形成されている。この抵抗体70は、酸化ルテニウム系厚膜(例えば、酸化ルテニウム系メタルグレーズ厚膜)により形成され、全体に一体に形成されている。なお、この抵抗体70には、前記各実施例のように高発熱部と低発熱部は設けられていない。   The resistor 70 is basically provided on the upper surface of the insulating substrate 10, and both end portions in the X1-X2 direction are laminated on the upper surface electrode 30. That is, the resistor 70 is formed in a strip shape in the longitudinal direction (inter-electrode direction) (X1-X2 direction (see FIG. 10)), and is formed in a substantially rectangular shape in plan view. The resistor 70 is formed so as to connect between the pair of upper surface electrodes 30. The resistor 70 is formed of a ruthenium oxide thick film (for example, a ruthenium oxide metal glaze thick film), and is integrally formed as a whole. The resistor 70 is not provided with a high heat generating portion and a low heat generating portion as in the above embodiments.

また、保護膜80の構成は、前記チップ抵抗器A1における保護膜80と同様であるが、少なくとも抵抗体70の全体と上面電極30の一部を覆うように構成する。その際、上面電極30は、Y1−Y2方向においては完全に保護膜80に覆われる。すなわち、本実施例のチップ抵抗器A6の場合には、上面電極30のX1−X2方向の長さが比較的長くなるので、上面電極30の露出を防止するために、保護膜80の幅(Y1−Y2方向の幅)を上面電極30の幅よりも大きくして、上面電極30をY1−Y2方向においては完全に覆うとともに、X1−X2方向にもなるべく長く覆うようにする。つまり、例えば、上面電極30が露出して上面電極30に水分等が付着すると電流が過度に流れて耐電圧が低下するので、保護膜80とメッキ60によって確実に上面電極30を覆うようにする。なお、この点は、後述する実施例7の上面電極30及び上面電極32や、実施例8の上面電極30−1、30−2においても同様である。   The configuration of the protective film 80 is the same as that of the protective film 80 in the chip resistor A1, but is configured to cover at least the entire resistor 70 and a part of the upper surface electrode 30. At this time, the upper surface electrode 30 is completely covered with the protective film 80 in the Y1-Y2 direction. That is, in the case of the chip resistor A6 of the present embodiment, the length of the upper surface electrode 30 in the X1-X2 direction is relatively long, so that the width of the protective film 80 ( The width in the Y1-Y2 direction) is made larger than the width of the upper surface electrode 30 so that the upper surface electrode 30 is completely covered in the Y1-Y2 direction and as long as possible in the X1-X2 direction. That is, for example, if the upper surface electrode 30 is exposed and moisture or the like adheres to the upper surface electrode 30, current flows excessively and the withstand voltage decreases, so that the upper surface electrode 30 is surely covered by the protective film 80 and the plating 60. . This also applies to the upper surface electrode 30 and the upper surface electrode 32 of Example 7 described later, and the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 of Example 8.

また、熱伝導部24は、熱伝導膜42と、メッキ60とから構成され、熱伝導膜42は、下面電極40と同じ素材により形成され、方形状に形成されている。   In addition, the heat conducting part 24 is composed of a heat conducting film 42 and a plating 60, and the heat conducting film 42 is formed of the same material as the lower surface electrode 40 and is formed in a square shape.

熱伝導膜42(熱伝導部24としてもよい)の幅(Y1−Y2方向の幅)は絶縁基板の幅と同様に形成され、その長さ(X1−X2方向の長さ)は一対の上面電極30間の距離と同一に形成され、熱伝導膜42の一方の端部(X1側の端部)は、横方向に、一方の上面電極30(X1側の上面電極30)の内側の端部(X2側の端部)と一致しており、また、熱伝導膜42の他方の端部(X2側の端部)は、横方向に、他方の上面電極30(X2側の上面電極30)の内側の端部(X1側の端部)と一致している。つまり、抵抗体70の上面電極30に積層していない領域に対応した領域に熱伝導膜42が形成されている。また、熱伝導部24におけるメッキ60は、熱伝導膜42の表面を被覆するように形成されている。   The width (width in the Y1-Y2 direction) of the heat conductive film 42 (which may be the heat conduction portion 24) is formed in the same manner as the width of the insulating substrate, and the length (length in the X1-X2 direction) is a pair of upper surfaces. One end portion (X1 side end portion) of the heat conductive film 42 is formed in the same distance as the distance between the electrodes 30, and is an end on the inner side of one upper surface electrode 30 (X1 side upper surface electrode 30). And the other end portion (X2 side end portion) of the heat conductive film 42 in the lateral direction is the other upper surface electrode 30 (X2 side upper surface electrode 30). ) On the inner end (X1 end). That is, the heat conductive film 42 is formed in a region corresponding to a region not stacked on the upper surface electrode 30 of the resistor 70. Further, the plating 60 in the heat conducting portion 24 is formed so as to cover the surface of the heat conducting film 42.

チップ抵抗器A6は、前記のように構成されているので、抵抗体70における上面電極30に接していない領域は高発熱部Hとなり、上面電極30の領域は低発熱部L1、L2となる。上面電極30は、低発熱部として機能するので、上面電極30における保護膜80により被覆されている領域は、少なくとも低発熱部として機能する。以上のように、絶縁基板10の下面において高発熱部Hに対応した領域に熱伝導膜42が設けられているといえる。よって、前記絶縁基板10における、前記抵抗体70における上面電極30と接していない領域に対応する下面側の領域には、はんだ付け面が形成されているといえる。   Since the chip resistor A6 is configured as described above, the region of the resistor 70 that is not in contact with the upper surface electrode 30 becomes the high heat generation portion H, and the region of the upper surface electrode 30 becomes the low heat generation portions L1 and L2. Since the upper surface electrode 30 functions as a low heat generating portion, the region covered with the protective film 80 on the upper surface electrode 30 functions as at least a low heat generating portion. As described above, it can be said that the heat conductive film 42 is provided in the region corresponding to the high heat generation portion H on the lower surface of the insulating substrate 10. Therefore, it can be said that a soldering surface is formed in a region on the lower surface side of the insulating substrate 10 corresponding to a region not in contact with the upper surface electrode 30 in the resistor 70.

なお、前記の説明では、抵抗体70の上面電極30に積層していない領域に対応した領域に熱伝導膜42が形成されているとしたが、抵抗体70の上面電極30に積層していない領域に対応した領域に熱伝導部24が形成されているとしてもよい。すなわち、熱伝導部24の一方の端部(X1側の端部)が、横方向に、一方の上面電極30(X1側の上面電極30)の内側の端部(X2側の端部)と一致しており、また、熱伝導部24の他方の端部(X2側の端部)は、横方向に、他方の上面電極30(X2側の上面電極30)の内側の端部(X1側の端部)と一致しているものとしてもよい。   In the above description, the heat conductive film 42 is formed in a region corresponding to a region not stacked on the upper surface electrode 30 of the resistor 70, but is not stacked on the upper surface electrode 30 of the resistor 70. The heat conducting portion 24 may be formed in a region corresponding to the region. That is, one end portion (X1 side end portion) of the heat conducting portion 24 is in the lateral direction, and the inner end portion (X2 side end portion) of one upper surface electrode 30 (X1 side upper surface electrode 30). In addition, the other end portion (X2 side end portion) of the heat conducting portion 24 is in the lateral direction, and the inner end portion (X1 side) of the other upper surface electrode 30 (X2 side upper surface electrode 30). It is good also as what corresponds with the edge part.

なお、低発熱部L1、L2からの発熱は少ないので、絶縁基板10における、低発熱部L1、L2の領域に対応する下面側の領域には、はんだ付け面は特に必要なく、その意味では、絶縁基板10における、低発熱部L1、L2の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面が形成されていない構成であればよく、また、高発熱部からの熱を放熱するには、高発熱部Hの領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面が形成されている構成とする必要があるといえる。   In addition, since the heat generation from the low heat generation portions L1 and L2 is small, the lower surface side region corresponding to the region of the low heat generation portions L1 and L2 in the insulating substrate 10 does not particularly require a soldering surface. The insulating substrate 10 may have a configuration in which a soldering surface is not formed in at least a part of the lower surface side region corresponding to the regions of the low heat generation portions L1 and L2, and also dissipates heat from the high heat generation portion. In order to achieve this, it can be said that it is necessary to have a configuration in which a soldering surface is formed in at least a part of the lower surface side region corresponding to the region of the high heat generating portion H.

チップ抵抗器A6の製造方法は、チップ抵抗器A1と略同様であるが、下面電極40の形成に当たっては、熱伝導膜42も同時に形成し、上面電極30の形成に当たっては、前記のように下面電極40よりも長く形成するとともに、抵抗体70の形成に当たっては、通常の抵抗体と同様に、抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥、焼成して形成する。また、メッキに際しては、熱伝導膜42にもメッキを形成する。   The manufacturing method of the chip resistor A6 is substantially the same as that of the chip resistor A1, but when the lower surface electrode 40 is formed, the heat conductive film 42 is also formed at the same time. When the upper surface electrode 30 is formed, the lower surface electrode is formed as described above. In addition to forming the resistor 70 longer than the electrode 40, the resistor 70 is formed by printing and drying and baking the resistor paste in the same manner as a normal resistor. In plating, the heat conductive film 42 is also plated.

本実施例のチップ抵抗器A6の使用状態、作用、効果は、前記チップ抵抗器A1〜A5と同様であるので、詳しい説明を省略するが、本実施例においては、下面電極部22のみならず、熱伝導部24もはんだ付け面となり、チップ抵抗器A6の使用に際して、一対の電極部20間に電流が流れると、抵抗体70に電流が流れるが、抵抗体70における高発熱部Hから発生した熱は、熱伝導部24から放熱され、また、低発熱部L1、L2からの発熱は小さいので、効率的にチップ抵抗器を冷却することができる。また、上面電極30が下面電極40よりも長く形成されているので、上面電極30の長さをある程度長く確保することにより、下面電極部22と熱伝導部24との間の距離α11、α12の長さを確保できるので、絶縁距離を十分確保でき、耐電圧を高くすることができる。   Since the usage state, operation, and effect of the chip resistor A6 of the present embodiment are the same as those of the chip resistors A1 to A5, detailed description thereof is omitted, but in the present embodiment, not only the lower surface electrode portion 22 is used. When the chip resistor A6 is used, when the current flows between the pair of electrode portions 20, when the current flows between the pair of electrode portions 20, a current flows through the resistor 70. The generated heat is dissipated from the heat conducting portion 24, and the heat generation from the low heat generating portions L1 and L2 is small, so that the chip resistor can be efficiently cooled. In addition, since the upper surface electrode 30 is formed longer than the lower surface electrode 40, the distances α11 and α12 between the lower surface electrode portion 22 and the heat conducting portion 24 are ensured by securing the length of the upper surface electrode 30 to some extent. Since the length can be secured, a sufficient insulation distance can be secured and the withstand voltage can be increased.

次に、実施例7について説明する。実施例7のチップ抵抗器A7は、図11に示すように構成され、実施例6のチップ抵抗器A6と略同様の構成であるが、チップ抵抗器A6においては、上面電極30が長く形成されていたのに対して、チップ抵抗器A7においては、上面電極30の内側に第2上面電極32を設けることにより、上面電極の長さを長く確保している点が異なる。   Next, Example 7 will be described. The chip resistor A7 according to the seventh embodiment is configured as shown in FIG. 11 and has substantially the same configuration as the chip resistor A6 according to the sixth embodiment, but the upper surface electrode 30 is formed longer in the chip resistor A6. In contrast, the chip resistor A7 is different in that the length of the upper surface electrode is secured long by providing the second upper surface electrode 32 inside the upper surface electrode 30.

すなわち、上面電極30の長さ(X1−X2方向の長さ)は、下面電極40の長さと同じであるが、第2上面電極32がさらに、上面電極30の内側に接続して設けられている。上面電極30と第2上面電極32の接続部分においては、第2上面電極32が上面電極30の上に積層している。このように上面電極30と第2上面電極32とによって、上面電極30と第2上面電極32からなる上面電極の全体の長さ(電極間方向の長さ)α21は、下面電極40の長さ(電極間方向の長さ)の2倍以上とするのが好ましく、また、前記長さα21は、絶縁基板10の長さ(電極間方向の長さ)の25〜35%とするのが好ましい。電極部20における前記の点以外の構成は、チップ抵抗器A6と同様であるので詳しい説明を省略する。   In other words, the length of the upper surface electrode 30 (the length in the X1-X2 direction) is the same as the length of the lower surface electrode 40, but the second upper surface electrode 32 is further connected to the inside of the upper surface electrode 30. Yes. In the connection portion between the upper surface electrode 30 and the second upper surface electrode 32, the second upper surface electrode 32 is laminated on the upper surface electrode 30. Thus, the total length (length in the inter-electrode direction) α21 of the upper surface electrode composed of the upper surface electrode 30 and the second upper surface electrode 32 by the upper surface electrode 30 and the second upper surface electrode 32 is the length of the lower surface electrode 40. The length α21 is preferably 25% to 35% of the length of the insulating substrate 10 (the length in the inter-electrode direction). . Since the configuration of the electrode unit 20 other than the above points is the same as that of the chip resistor A6, detailed description thereof is omitted.

なお、保護膜80の構成は、前記チップ抵抗器A7における保護膜80と同様であり、少なくとも抵抗体70の全体と上面電極32の大部分を覆うように構成する。その際、上面電極32は、Y1−Y2方向においては完全に保護膜80に覆われる。すなわち、本実施例のチップ抵抗器A7の場合には、上面電極30と上面電極32とからなる上面電極のX1−X2方向の長さが比較的長くなるので、上面電極の露出を防止するために、上面電極をY1−Y2方向においては完全に覆うとともに、X1−X2方向にもなるべく長く覆うようにする。   The configuration of the protective film 80 is the same as that of the protective film 80 in the chip resistor A7, and is configured to cover at least the entire resistor 70 and most of the upper surface electrode 32. At that time, the upper surface electrode 32 is completely covered with the protective film 80 in the Y1-Y2 direction. That is, in the case of the chip resistor A7 of this embodiment, the length of the upper surface electrode composed of the upper surface electrode 30 and the upper surface electrode 32 in the X1-X2 direction is relatively long, so that the upper surface electrode is prevented from being exposed. In addition, the upper surface electrode is completely covered in the Y1-Y2 direction and is also covered as long as possible in the X1-X2 direction.

チップ抵抗器A7は、前記のように構成されているので、抵抗体70における第2上面電極32に接していない領域は高発熱部Hとなり、上面電極30や第2上面電極32の領域は低発熱部L1、L2となる。つまり、絶縁基板10の下面において高発熱部Hに対応した領域に熱伝導膜42が設けられているといえる。よって、前記絶縁基板10における、前記抵抗体70における第2上面電極32と接していない領域に対応する下面側の領域には、はんだ付け面が形成されているといえる。   Since the chip resistor A7 is configured as described above, the region of the resistor 70 that is not in contact with the second upper surface electrode 32 becomes the high heat generation portion H, and the region of the upper surface electrode 30 and the second upper surface electrode 32 is low. It becomes the heat generating parts L1 and L2. That is, it can be said that the heat conductive film 42 is provided in a region corresponding to the high heat generating portion H on the lower surface of the insulating substrate 10. Therefore, it can be said that a soldering surface is formed in a region on the lower surface side of the insulating substrate 10 corresponding to a region not in contact with the second upper surface electrode 32 in the resistor 70.

なお、前記の説明では、抵抗体70の第2上面電極32に積層していない領域に対応した領域に熱伝導膜42が形成されているとしたが、抵抗体70の第2上面電極32に積層していない領域に対応した領域に熱伝導部24が形成されているとしてもよい。すなわち、熱伝導部24の一方の端部(X1側の端部)が、横方向に、一方の第2上面電極32(X1側の第2上面電極32)の内側の端部(X2側の端部)と一致しており、また、熱伝導部24の他方の端部(X2側の端部)は、横方向に、他方の第2上面電極32(X2側の第2上面電極32)の内側の端部(X1側の端部)と一致しているものとしてもよい。   In the above description, the heat conductive film 42 is formed in the region corresponding to the region not stacked on the second upper surface electrode 32 of the resistor 70, but the second upper surface electrode 32 of the resistor 70 is formed. The heat conducting portion 24 may be formed in a region corresponding to a region that is not stacked. That is, one end portion (X1 side end portion) of the heat conducting portion 24 is in the lateral direction, and the inner end portion (X2 side end portion) of one second upper surface electrode 32 (X1 side second upper surface electrode 32). And the other end portion (X2 side end portion) of the heat conducting portion 24 in the lateral direction is the other second upper surface electrode 32 (X2 side second upper surface electrode 32). It is good also as what corresponds with the edge part inside (X1 side edge part).

チップ抵抗器A7の製造方法は、チップ抵抗器A6と略同様であるが、上面電極30を形成した後に第2上面電極32を形成する。なお、下面電極40の形成に当たっては、熱伝導膜42も同時に形成する。   The manufacturing method of the chip resistor A7 is substantially the same as that of the chip resistor A6, but the second upper surface electrode 32 is formed after the upper surface electrode 30 is formed. In forming the lower surface electrode 40, the heat conductive film 42 is also formed at the same time.

チップ抵抗器A7の使用状態や得られる効果は、チップ抵抗器A6と同様であるので、詳しい説明を省略する。   Since the usage state and the obtained effect of the chip resistor A7 are the same as those of the chip resistor A6, detailed description thereof is omitted.

次に、実施例8について説明する。実施例8のチップ抵抗器A8は、図12に示すように構成され、一対の下面電極のうちの一方を長く形成して、抵抗体の高発熱部の下側に配置させる構成となっている。   Next, Example 8 will be described. The chip resistor A8 of Example 8 is configured as shown in FIG. 12, and has a configuration in which one of the pair of lower surface electrodes is formed long and disposed below the high heat generating portion of the resistor. .

すなわち、チップ抵抗器A8は、絶縁基板10と、電極部20と、抵抗体70と、保護膜80を有している。   That is, the chip resistor A8 includes the insulating substrate 10, the electrode unit 20, the resistor 70, and the protective film 80.

ここで、絶縁基板10の構成は、前記各チップ抵抗器A1〜A7における絶縁基板10の構成と同様である。   Here, the configuration of the insulating substrate 10 is the same as the configuration of the insulating substrate 10 in each of the chip resistors A1 to A7.

また、電極部20の構成も前記各チップ抵抗器の電極部20の構成と略同様であるが、一対の上面電極においては、X1側の上面電極30−1がX2側の上面電極30−2よりも電極間方向(X1−X2方向)に短く形成されている。   The configuration of the electrode unit 20 is substantially the same as the configuration of the electrode unit 20 of each chip resistor. However, in the pair of upper surface electrodes, the upper electrode 30-1 on the X1 side is the upper electrode 30-2 on the X2 side. And shorter in the inter-electrode direction (X1-X2 direction).

また、一対の下面電極においては、X1側の下面電極40−1がX2側の下面電極40−2よりも電極間方向(X1−X2方向)に長く形成されている。さらに、一対の下面電極のうち長く形成されている下面電極40−1は、電極間方向に上面電極30−1よりも長く形成されていて、抵抗体70の上面電極に積層していない領域の下側に位置するように設けられている。すなわち、下面電極40−1のX2側の端部は、抵抗体70の上面電極30−1、30−2に接していない領域のX2側の端部と一致している。これにより、抵抗体70において上面電極30−1、30−2に接していない領域が高発熱部Hとなるが、絶縁基板10の下面の高発熱部Hに対応する領域(つまり、高発熱部Hの下側の領域)には、下面電極40−1が設けられていることになる。また、下面電極40−2は、電極間方向に上面電極30−2よりも短く形成されている。   In the pair of lower surface electrodes, the lower surface electrode 40-1 on the X1 side is formed longer in the inter-electrode direction (X1-X2 direction) than the lower surface electrode 40-2 on the X2 side. Furthermore, the long bottom electrode 40-1 of the pair of bottom electrodes is formed longer than the top electrode 30-1 in the inter-electrode direction, and is a region not stacked on the top electrode of the resistor 70. It is provided to be located on the lower side. That is, the end portion on the X2 side of the lower surface electrode 40-1 coincides with the end portion on the X2 side of the region not in contact with the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 of the resistor 70. As a result, the region of the resistor 70 that is not in contact with the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 becomes the high heat generation portion H, but the region corresponding to the high heat generation portion H on the lower surface of the insulating substrate 10 (that is, The lower surface electrode 40-1 is provided in the lower region of H). The lower surface electrode 40-2 is formed shorter than the upper surface electrode 30-2 in the inter-electrode direction.

なお、保護膜80の構成は、前記チップ抵抗器A7、A8における保護膜80と同様であり、少なくとも抵抗体70の全体と上面電極30−1、30−2の一部を覆うように構成する。その際、上面電極30−1、30−2は、Y1−Y2方向においては完全に保護膜80に覆われる。すなわち、本実施例のチップ抵抗器A8の場合には、特に、上面電極30−2のX1−X2方向の長さが比較的長くなるので、上面電極の露出を防止するために、上面電極30−2をY1−Y2方向においては完全に覆うとともに、X1−X2方向にもなるべく長く覆うようにする。   The configuration of the protective film 80 is the same as that of the protective film 80 in the chip resistors A7 and A8, and is configured to cover at least the entire resistor 70 and a part of the upper surface electrodes 30-1 and 30-2. . At this time, the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 are completely covered with the protective film 80 in the Y1-Y2 direction. That is, in the case of the chip resistor A8 of this embodiment, in particular, since the length of the upper surface electrode 30-2 in the X1-X2 direction is relatively long, the upper surface electrode 30 is prevented in order to prevent the upper surface electrode from being exposed. -2 is completely covered in the Y1-Y2 direction, and is also covered as long as possible in the X1-X2 direction.

チップ抵抗器A8は、前記のように構成されているので、抵抗体70における上面電極30−1、30−2に接していない領域は高発熱部Hとなり、上面電極30−1、30−2の領域は低発熱部L1、L2となる。つまり、絶縁基板10の下面において高発熱部Hに対応した領域(つまり、高発熱部Hの下側の領域)には下面電極40−1が設けられているといえる。よって、前記絶縁基板10における、前記抵抗体70における上面電極30−1、30−2と接していない領域に対応する下面側の領域には、はんだ付け面(つまり、下面電極40−1)が形成されているといえる。   Since the chip resistor A8 is configured as described above, the region of the resistor 70 that is not in contact with the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 becomes the high heat generation portion H, and the upper surface electrodes 30-1 and 30-2. These regions are the low heat generation portions L1 and L2. That is, it can be said that the lower surface electrode 40-1 is provided in a region corresponding to the high heat generation portion H on the lower surface of the insulating substrate 10 (that is, a region below the high heat generation portion H). Therefore, a soldering surface (that is, the lower surface electrode 40-1) is provided in a region on the lower surface side of the insulating substrate 10 corresponding to a region not in contact with the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 in the resistor 70. It can be said that it is formed.

なお、前記の説明では、抵抗体70の上面電極30−1、30−2に積層していない領域に対応した領域に下面電極40−1が形成されているとしたが、抵抗体70の上面電極30−1、30−2に積層していない領域に対応した領域に下面電極部22−1が形成されているとしてもよい。すなわち、下面電極部22−1の端部(X2側の端部)が、横方向に、高発熱部HのX2側の端部と一致しているものとしてもよい。   In the above description, the lower surface electrode 40-1 is formed in the region corresponding to the region not stacked on the upper surface electrodes 30-1 and 30-2 of the resistor 70. The lower surface electrode portion 22-1 may be formed in a region corresponding to a region not stacked on the electrodes 30-1 and 30-2. That is, the end portion (the end portion on the X2 side) of the lower surface electrode portion 22-1 may be aligned with the end portion on the X2 side of the high heat generating portion H in the lateral direction.

チップ抵抗器A8の製造方法は、チップ抵抗器A1と略同様であるが、下面電極の形成に当たっては、下面電極40−1を下面電極40−2よりも長く形成し、上面電極の形成に当たっては、上面電極30−2を上面電極30−1よりも長く形成する。また、抵抗体70の形成に当たっては、通常の抵抗体と同様に、抵抗体ペーストを印刷した後に乾燥、焼成して形成する。   The manufacturing method of the chip resistor A8 is substantially the same as the chip resistor A1, but in forming the lower surface electrode, the lower surface electrode 40-1 is formed longer than the lower surface electrode 40-2, and in forming the upper surface electrode. The upper surface electrode 30-2 is formed longer than the upper surface electrode 30-1. In forming the resistor 70, the resistor paste is printed and then dried and fired in the same manner as a normal resistor.

本実施例のチップ抵抗器A8の使用状態、作用、効果は、前記チップ抵抗器A1〜A7と同様であるので、詳しい説明を省略するが、チップ抵抗器A8の使用に際して、一対の電極部20間に電流が流れると、抵抗体70に電流が流れるが、抵抗体70における高発熱部Hから発生した熱は、下側に位置する下面電極部22−1から放熱され、また、低発熱部L1、L2からの発熱は小さいので、効率的にチップ抵抗器を冷却することができる。また、上面電極30−2が下面電極40−2よりも長く形成されているので、上面電極30−2の長さをある程度長く確保することにより、下面電極部22−1と下面電極部22−2との距離の長さを確保できるので、絶縁距離を十分確保でき、耐電圧を高くすることができる。   Since the usage state, operation, and effect of the chip resistor A8 of this embodiment are the same as those of the chip resistors A1 to A7, detailed description is omitted, but when using the chip resistor A8, the pair of electrode portions 20 is used. When a current flows between them, a current flows through the resistor 70, but the heat generated from the high heat generating portion H in the resistor 70 is dissipated from the lower surface electrode portion 22-1 located on the lower side, and the low heat generating portion. Since the heat generated from L1 and L2 is small, the chip resistor can be efficiently cooled. Further, since the upper surface electrode 30-2 is formed longer than the lower surface electrode 40-2, by ensuring the length of the upper surface electrode 30-2 to some extent, the lower surface electrode portion 22-1 and the lower surface electrode portion 22- 2 can be secured, the insulation distance can be sufficiently secured, and the withstand voltage can be increased.

なお、前記各実施例においては、抵抗体70は、上面電極30、30−1、30−2(又は第2上面電極32)との接続領域においては、抵抗体70が上面電極30、30−1、30−2(又は第2上面電極32)の上面に積層しているものとして説明したが、上面電極30、30−1、30−2(又は第2上面電極32)との接続領域において、上面電極30、30−1、30−2(又は第2上面電極32)が抵抗体70の上面に積層する構成としてもよい。   In each of the embodiments, the resistor 70 is connected to the upper surface electrodes 30, 30-1, 30-2 (or the second upper surface electrode 32). 1 and 30-2 (or the second upper surface electrode 32) are described as being stacked on the upper surface, but in the connection region with the upper surface electrodes 30, 30-1, 30-2 (or the second upper surface electrode 32). The upper surface electrodes 30, 30-1 and 30-2 (or the second upper surface electrode 32) may be laminated on the upper surface of the resistor 70.

本発明のチップ抵抗器は、特に、高電力用のチップ抵抗器に利用可能である。   The chip resistor of the present invention is particularly applicable to a high power chip resistor.

実施例1のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 1, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例1のチップ抵抗器の使用状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the use condition of the chip resistor of Example 1. FIG. 実施例1の変形例としてのチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor as a modification of Example 1, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例2のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 2, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例2のチップ抵抗器の平面図である。6 is a plan view of a chip resistor of Example 2. FIG. 実施例2のチップ抵抗器におけるトリミングの例を示す説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating an example of trimming in the chip resistor of the second embodiment. 実施例3のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 3, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例4のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 4, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例5のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 5, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例6のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 6, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例7のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 7, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 実施例8のチップ抵抗器を示す図であり、断面図と平面図と底面図を示す図である。It is a figure which shows the chip resistor of Example 8, and is a figure which shows sectional drawing, a top view, and a bottom view. 従来における高電圧用チップ抵抗器の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the conventional high voltage chip resistor.

符号の説明Explanation of symbols

A1、A1’、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8 チップ抵抗器
10 絶縁基板
20 電極部
22、22−1、22−2 下面電極部
24 熱伝導部
30、30−1、30−2 上面電極
32 第2上面電極
40、40−1、40−2 下面電極
42 熱伝導膜
50 側面電極
60 メッキ
70 抵抗体
72、172、272、372、472 第1抵抗体
74、174、274、374、474 第2抵抗体
80 保護膜
90 金属基板ベースプリント基板
176、276、376、476 第3抵抗体
H1、H2、H 高発熱部
L、L1、L2 低発熱部
A1, A1 ′, A2, A3, A4, A5, A6, A7, A8 Chip resistor 10 Insulating substrate 20 Electrode part 22, 22-1, 22-2 Lower surface electrode part 24 Heat conduction part 30, 30-1, 30 -2 upper surface electrode 32 second upper surface electrode 40, 40-1, 40-2 lower surface electrode 42 thermal conductive film 50 side electrode 60 plating 70 resistor 72, 172, 272, 372, 472 first resistor 74, 174, 274 374, 474 Second resistor 80 Protective film 90 Metal substrate Base printed circuit board 176, 276, 376, 476 Third resistor H1, H2, H High heat generating part L, L1, L2 Low heat generating part

Claims (9)

チップ抵抗器であって、
絶縁基板と、
前記絶縁基板に設けられた一対の電極部と、
前記一対の電極部を接続するように設けられた抵抗体で、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられ、前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記電極部に近い側に設けられた抵抗体と、
を有し、
前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にまで前記電極部が形成されていることを特徴とするチップ抵抗器。
A chip resistor,
An insulating substrate;
A pair of electrode portions provided on the insulating substrate;
A resistor provided to connect the pair of electrode portions, wherein a high heat generating portion and a low heat generating portion are connected in series, and the high heat generating portion is closer to the electrode portion than the low heat generating portion. A resistor provided in
Have
2. The chip resistor according to claim 1, wherein the electrode portion is formed up to at least a part of a region on the lower surface side corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate.
チップ抵抗器であって、
絶縁基板と、
前記絶縁基板に設けられた一対の電極部と、
前記一対の電極部を接続するように設けられた抵抗体で、高発熱部と低発熱部とが直列接続して設けられた抵抗体と、
を有し、
前記絶縁基板における、前記高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部には、はんだ付け面が形成されていることを特徴とするチップ抵抗器。
A chip resistor,
An insulating substrate;
A pair of electrode portions provided on the insulating substrate;
A resistor provided to connect the pair of electrode portions, a resistor provided by connecting a high heat generating portion and a low heat generating portion in series;
Have
A chip resistor, wherein a soldering surface is formed in at least a part of a region on a lower surface side corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate.
前記高発熱部が前記低発熱部よりも前記上面電極側に設けられていることを特徴とする請求項2に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 2, wherein the high heat generating portion is provided closer to the upper surface electrode than the low heat generating portion. 前記はんだ付け面は、電極部の一部として形成されていることを特徴とする請求項2又は3に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 2, wherein the soldering surface is formed as a part of an electrode portion. 前記抵抗体における高発熱部は、抵抗体の一部を格子状に形成することにより形成されていることを特徴とする請求項1又は2又は3又は4に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the high heat generating portion in the resistor is formed by forming a part of the resistor in a lattice shape. 前記抵抗体における高発熱部は、抵抗体をスリット状に形成することにより形成されていることを特徴とする請求項1又は2又は3又は4又は5に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 1, 2, 3, 4, or 5, wherein the high heat generating portion in the resistor is formed by forming the resistor in a slit shape. 前記抵抗体における高発熱部は、低発熱部よりも抵抗路の幅を狭くすることにより形成されていることを特徴とする請求項1又は2又は3又は4又は5又は6に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 1, 2, 3, 4, 5, or 6, wherein the high heat generating portion in the resistor is formed by narrowing the width of the resistance path as compared with the low heat generating portion. vessel. 前記高発熱部は、蛇行状に形成されていることを特徴とする請求項7に記載のチップ抵抗器。 The chip resistor according to claim 7, wherein the high heat generating portion is formed in a meandering shape. チップ抵抗器であって、
絶縁基板と、
絶縁基板の下面に形成された一対の下面電極と、
絶縁基板の上面に形成され、前記下面電極よりも長く形成された一対の上面電極と、
上面電極間に形成された抵抗体と、
前記上面電極の一部を被覆する保護膜と、
を有し、
前記保護膜の幅は前記上面電極の幅よりも大きく形成され、
前記上面電極が低発熱部であり、前記抵抗体における上面電極間の領域が高発熱部であって、
前記絶縁基板における、高発熱部の領域に対応する下面側の領域の少なくとも一部にははんだ付け面が形成されていることを特徴とするチップ抵抗器。
A chip resistor,
An insulating substrate;
A pair of lower surface electrodes formed on the lower surface of the insulating substrate;
A pair of upper surface electrodes formed on the upper surface of the insulating substrate and formed longer than the lower surface electrode;
A resistor formed between the top electrodes;
A protective film covering a part of the upper surface electrode;
Have
The width of the protective film is formed larger than the width of the upper surface electrode,
The upper surface electrode is a low heat generating portion, and the region between the upper surface electrodes in the resistor is a high heat generating portion,
A chip resistor, wherein a soldering surface is formed in at least a part of a region on the lower surface side corresponding to the region of the high heat generating portion in the insulating substrate.
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