[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP2007058870A - Method of manufacturing memory card - Google Patents

Method of manufacturing memory card Download PDF

Info

Publication number
JP2007058870A
JP2007058870A JP2006270489A JP2006270489A JP2007058870A JP 2007058870 A JP2007058870 A JP 2007058870A JP 2006270489 A JP2006270489 A JP 2006270489A JP 2006270489 A JP2006270489 A JP 2006270489A JP 2007058870 A JP2007058870 A JP 2007058870A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory card
terminal
plating
gold plating
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006270489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tamaki Wada
環 和田
Masachika Masuda
正親 増田
Toshihiko Ota
敏彦 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Technology Corp
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Renesas Technology Corp
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Technology Corp, Hitachi ULSI Systems Co Ltd filed Critical Renesas Technology Corp
Priority to JP2006270489A priority Critical patent/JP2007058870A/en
Publication of JP2007058870A publication Critical patent/JP2007058870A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve attachment/detachment performance to a socket in a memory card. <P>SOLUTION: This invention is constituted of a wiring board 2, having a surface 2a and a reverse surface 2b mounted with a semiconductor chip 3, a bonding terminal 2c arranged on the surface 2a of the wiring board 2 and forming soft gold plating 2g on a surface 2f, an external connecting terminal 2d, arranged on the reverse surface 2b of the wiring board 2 and forming hard gold plating 2h on the surface 2f, a gold wire 4 for connecting the bonding terminal 2c to an electrode pad 3b of the semiconductor chip 3 and a cap 5 covering a resin sealing part 6 for sealing the semiconductor chip 3 and a plurality of gold wires 4. Metal plating of the surface 2f, of the external connecting terminal 2d of the memory card 1, is formed harder than or equal to metal plating of a surface 7b of a terminal 7a of the socket 7, and contact resistance between the external connecting terminal 2d of the memory card 1 and the terminal 7a of the socket 7 is reduced, and attaching-detaching performance of the memory card 1 to the socket 7 is improved. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体メモリカード(以降、単にメモリカードという)の製造方法に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a technique effective when applied to a method of manufacturing a semiconductor memory card (hereinafter simply referred to as a memory card).

種々のメモリカード技術について記載されている(例えば、非特許文献1参照)。
日経BP社、1998年9月21日発行、「NE日経エレクトロニクス9月21日号」、148〜155頁
Various memory card technologies are described (for example, see Non-Patent Document 1).
Nikkei Business Publications, September 21, 1998, “NE Nikkei Electronics September 21 issue”, pages 148-155

マルチメディアカード(米サンディスク社)やSD(Security Device)カード(パナソニック、東芝、サンディスク)などのようなメモリカードは、その内部の半導体メモリチップに情報を記憶する外部記憶装置の1つである。このメモリカードでは、半導体メモリチップに形成された不揮発性メモリに対して情報を直接的、かつ電気的にアクセスすることから、機械系の制御が無い分、他の外部記憶装置に比べて書き込み、読み出しの時間が速い上、記憶媒体の交換が可能である。   Memory cards such as multimedia cards (US SanDisk) and SD (Security Device) cards (Panasonic, Toshiba, SanDisk) are external storage devices that store information in their internal semiconductor memory chips. is there. In this memory card, since the information is directly and electrically accessed to the nonvolatile memory formed in the semiconductor memory chip, since there is no mechanical control, writing compared to other external storage devices, The reading time is fast and the storage medium can be exchanged.

また、小型で軽いことから、主に、携帯型パーソナルコンピュータ、携帯電話またはデジタルカメラなどのような可搬性が要求される機器の補助記憶装置として使用されている。   In addition, because of its small size and light weight, it is mainly used as an auxiliary storage device for devices that require portability such as portable personal computers, mobile phones, and digital cameras.

なお、前記マルチメディアカードでは、半導体メモリチップは薄型の配線基板に搭載され、配線基板の端子とワイヤボンディングによって電気的に接続されており、この半導体メモリチップと複数のワイヤが樹脂モールドやキャップなどによって封止されている。   In the multimedia card, the semiconductor memory chip is mounted on a thin wiring board and is electrically connected to the terminals of the wiring board by wire bonding, and the semiconductor memory chip and the plurality of wires are made of a resin mold, a cap, or the like. It is sealed by.

このような構造のメモリカードでは、両面配線の配線基板を用いており、配線基板における一方の面にワイヤボンディング用の端子が設けられ、その反対側の面にソケットの端子と接触するための端子が設けられている。   The memory card having such a structure uses a double-sided wiring board, a wire bonding terminal is provided on one side of the wiring board, and a terminal for contacting the socket terminal on the opposite side. Is provided.

そこで、配線基板の一方の面に設けられたワイヤボンディング用の端子は、金線でのワイヤボンディングの接合性を良好にするため、表面に硬度の低い柔らかな金めっき(以降、この金めっきをソフトめっきという)の形成が必要となり、その際、配線基板の製造としては、両面同時にめっきを行うため、配線基板のソケットの端子と接触する端子の表面にも金のソフトめっきが形成される。   Therefore, the wire bonding terminal provided on one surface of the wiring board has a soft gold plating (hereinafter referred to as gold plating) having a low hardness on the surface in order to improve the bonding property of the wire bonding with the gold wire. In this case, since both sides of the wiring board are plated at the same time, the gold soft plating is also formed on the surface of the terminal that contacts the terminal of the socket of the wiring board.

ところが、前記した技術のマルチメディアカードなどのメモリカードでは、プッシュ−プッシュタイプのソケット(取り出す際に再度カードを押すとカードが飛び出すタイプのソケット)にメモリカードを挿着して使用した後、これを取り出す際にメモリカードが抜けにくいという問題が起こる。   However, in the memory card such as the multimedia card of the above-described technology, the memory card is inserted and used in a push-push type socket (a type in which the card pops out when the card is pushed again when taking out). When removing the memory card, it is difficult to remove the memory card.

これは、ソケットの端子に接触するメモリカードの端子の表面がソフトめっきで柔らかいため、接触抵抗が高く引っ掛かり易いことが原因と思われる。   This is probably because the surface of the memory card terminal that contacts the terminal of the socket is soft and soft, so that the contact resistance is high and it is easily caught.

なお、接触抵抗が高い状態でメモリカードの抜き差しを続けると、表面のめっきが削れて接触不良を引き起こすことが問題となる。   If the memory card is continuously inserted and removed in a state where the contact resistance is high, the problem is that the surface plating is scraped to cause contact failure.

さらに、メモリカードの着脱性(抜き差し性)を向上させるために、カード組み立て後の工程に、メモリカードの端子部に封孔材(潤滑材)を塗布する工程を追加しているが、TAT(Turn Around Time) が長くなることや、封孔材が塗布されているか確認をする作業が困難なことなどの問題が生じる。   Furthermore, in order to improve the detachability (removability) of the memory card, a process of applying a sealing material (lubricant) to the terminal portion of the memory card is added to the process after the card assembly. Problems such as a longer turn around time) and difficulty in confirming whether or not the sealing material is applied occur.

本発明の目的は、メモリカードにおける着脱性の向上を図ることができる技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique capable of improving the detachability of a memory card.

さらに、本発明の他の目的は、メモリカードの組み立て工程の短縮化を図ることができる技術を提供することにある。   Furthermore, another object of the present invention is to provide a technique capable of shortening the assembly process of the memory card.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   Of the inventions disclosed in this application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、本発明は、表面と裏面を有する配線基板を用意する工程、前記配線基板の表面および裏面上に、銅箔を形成する工程、前記銅箔上にニッケルめっきを形成する工程、前記ニッケルめっき上に第1金めっきを形成する工程、前記配線基板の裏面の第1金めっき上に、その硬度が前記第1金めっきよりも高い第2金めっきを形成することで、前記配線基板の表面に前記銅箔、ニッケルめっきおよび第1金めっきを有するボンディング端子を形成する工程であって、前記配線基板の裏面に前記銅箔、ニッケルめっき、第1金めっきおよび第2金めっきを有する外部接続端子を形成する工程、前記配線基板の表面に、電極パッドを有する半導体チップを搭載する工程、前記電極パッドと前記ボンディング端子の第1金めっきとを、ワイヤによって電気的に接続する工程、前記配線基板の表面に、前記半導体チップ、ワイヤおよびボンディング端子を封止する樹脂封止部を形成する工程、を有するものである。   That is, the present invention includes a step of preparing a wiring board having a front surface and a back surface, a step of forming a copper foil on the front surface and the back surface of the wiring substrate, a step of forming nickel plating on the copper foil, the nickel plating Forming a first gold plating on the first gold plating on the back surface of the wiring board; forming a second gold plating having a hardness higher than that of the first gold plating on the surface of the wiring board; Forming a bonding terminal having the copper foil, nickel plating and first gold plating, and having the copper foil, nickel plating, first gold plating and second gold plating on the back surface of the wiring board. A step of forming a terminal, a step of mounting a semiconductor chip having an electrode pad on the surface of the wiring substrate, and a first gold plating of the electrode pad and the bonding terminal. A step of electrically connecting I, on the surface of the wiring substrate, the step of forming the semiconductor chip, a resin sealing portion of the wire and the bonding terminal for sealing, and has a.

本願によって開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。   The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.

メモリカードにおいて、ソケットと係合する端子の表面の金属めっきの硬度をソケットの端子の表面の金属めっきの硬度と同じかそれより高くすることにより、両端子間の接触抵抗を低くすることができ、メモリカードをソケットから引き抜く際にも滑らかに容易に引き抜くことができる。これにより、メモリカードの着脱性を向上できる。   In a memory card, the contact resistance between both terminals can be reduced by making the hardness of the metal plating on the surface of the terminal engaged with the socket equal to or higher than the hardness of the metal plating on the surface of the socket terminal. The memory card can be pulled out smoothly and easily even when it is pulled out from the socket. Thereby, the detachability of the memory card can be improved.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof will be omitted.

(実施の形態)
図1は本発明の実施の形態の半導体装置の一例であるメモリカードの構造を示す平面図、図2は図1に示すメモリカードの構造を示す底面図、図3は図1に示すメモリカードに組み込まれる配線基板の構造の一例を示す平面図、図4は図3に示す配線基板の構造の一例を示す底面図、図5は図3のA−A線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図、図6は図4のB−B線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図、図7は図1に示すメモリカードの組み立てにおけるワイヤボンディング終了後の構造の一例を示す平面図、図8は図1に示すメモリカードと係合するソケットの構造の一例を示す平面図、図9は図8に示すソケットの構造の一例を示す底面図、図10は図1に示すメモリカードを図8に示すソケットに挿着した際の構造の一例を示す平面図、図11は図10に示すメモリカード挿着状態の構造の一例を示す底面図、図12は図11のC−C線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図である。
(Embodiment)
1 is a plan view showing the structure of a memory card as an example of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a bottom view showing the structure of the memory card shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a memory card shown in FIG. FIG. 4 is a bottom view showing an example of the structure of the wiring board shown in FIG. 3, and FIG. 5 is an example of a cross-sectional structure taken along the line AA of FIG. FIG. 6 is an enlarged partial cross-sectional view showing an example of a cross-sectional structure taken along line BB in FIG. 4, and FIG. 7 is an example of the structure after wire bonding in the assembly of the memory card shown in FIG. 8 is a plan view showing an example of the structure of a socket that engages with the memory card shown in FIG. 1, FIG. 9 is a bottom view showing an example of the structure of the socket shown in FIG. 8, and FIG. When the memory card shown in Fig. 8 is inserted into the socket shown in Fig. FIG. 11 is a bottom view showing an example of the structure of the memory card inserted state shown in FIG. 10, and FIG. 12 is an enlarged partial cross section showing an example of a cross section taken along line CC in FIG. FIG.

図1および図2に示す本実施の形態の半導体装置は、例えば、携帯電話やデジタル・カメラなどのような小型の電子装置の外部記憶装置として使用可能なマルチメディアカード(米サンディスク社)やSDカード(パナソニック、東芝、サンディスク)などと呼ばれるメモリカード1である。   The semiconductor device of this embodiment shown in FIGS. 1 and 2 is a multimedia card (US SanDisk Corporation) that can be used as an external storage device of a small electronic device such as a mobile phone or a digital camera. A memory card 1 called an SD card (Panasonic, Toshiba, SanDisk) or the like.

このメモリカード1は、平面矩形状の小さな薄板からなり、その厚さは、例えば、1.4mm程度である。   The memory card 1 is made of a small thin plate having a planar rectangular shape, and its thickness is, for example, about 1.4 mm.

メモリカード1の構成について説明すると、半導体チップ3が搭載された第1の主面である表面2aおよびその反対側の第2の主面である裏面2bを備えた配線基板2と、配線基板2の表面2aに設けられ、かつ表面2fに第1の金めっきであるソフト金めっき2gが形成されたボンディング用端子(第1の端子部)2cと、配線基板2の裏面2bに設けられ、かつ表面2fに第2の金めっきであるハード金めっき2hが形成された外部接続用端子(第2の端子部)2dと、ボンディング用端子2cのソフト金めっき2gと図12に示す半導体チップ3の電極パッド(表面電極)3bとを接続する金線(ワイヤ)4と、半導体チップ3や複数の金線4を封止する樹脂封止部6を覆うキャップ5とからなる。   The configuration of the memory card 1 will be described. A wiring board 2 having a front surface 2a, which is a first main surface on which a semiconductor chip 3 is mounted, and a back surface 2b, which is a second main surface on the opposite side, and the wiring substrate 2 A bonding terminal (first terminal portion) 2c provided on the front surface 2a and having a soft gold plating 2g as a first gold plating formed on the front surface 2f; and a back surface 2b of the wiring board 2, and An external connection terminal (second terminal portion) 2d having a hard gold plating 2h as the second gold plating formed on the surface 2f, a soft gold plating 2g of the bonding terminal 2c, and the semiconductor chip 3 shown in FIG. It consists of a gold wire (wire) 4 that connects the electrode pad (surface electrode) 3b, and a cap 5 that covers the resin sealing portion 6 that seals the semiconductor chip 3 and the plurality of gold wires 4.

さらに、本実施の形態のメモリカード1では、裏面2bの外部接続用端子2dのハード金めっき2hの硬度が、図12に示す外部接続用端子2dと接触するソケット7の端子7aの表面7bの金属めっきと同じかもしくはそれ以上であるとともに、ソフト金めっき2gより高くなっている。   Furthermore, in the memory card 1 of the present embodiment, the hardness of the hard gold plating 2h of the external connection terminal 2d on the back surface 2b is the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7 that contacts the external connection terminal 2d shown in FIG. It is the same as or higher than metal plating and higher than 2 g of soft gold plating.

すなわち、メモリカード1の裏面2bの外部接続用端子2dの表面2fの金属めっきを、メモリカード1を差し込むソケット7の端子7aの表面7bの金属めっきより硬くするか、もしくは同等にして、メモリカード1の外部接続用端子2dと、この外部接続用端子2dと電気的に接続するソケット7の端子7aとの接触抵抗を少なくし、メモリカード1のソケット7に対しての着脱性(抜き差し性)を向上させるものである。   That is, the metal plating of the surface 2f of the external connection terminal 2d on the back surface 2b of the memory card 1 is made harder than or equivalent to the metal plating of the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7 into which the memory card 1 is inserted. The contact resistance between the external connection terminal 2d and the terminal 7a of the socket 7 that is electrically connected to the external connection terminal 2d is reduced, and the memory card 1 is attachable to and removable from the socket 7 (removability). Is to improve.

そこで、本実施の形態では、ソケット7の端子7aの表面7bがハード金めっき2hの場合を取り上げて説明する。   Therefore, in the present embodiment, the case where the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7 is the hard gold plating 2h will be described.

なお、ハード金めっき2hは、一般的に、例えば、モジュール基板やパーソナルコンピュータのメイン基板などの端子部に採用されているものであり、信頼性も高いものである。ハード金めっき2hの硬度は、例えば、ビッカース硬さ180〜200(Hv)であり、さらに、金の純度が99.8〜99.9%のものである。   In addition, the hard gold plating 2h is generally employed in, for example, a terminal portion such as a module substrate or a main substrate of a personal computer, and has high reliability. The hardness of the hard gold plating 2h is, for example, a Vickers hardness of 180 to 200 (Hv) and a gold purity of 99.8 to 99.9%.

一方、ソフト金めっき2gは、ハード金めっき2hに比べて遥かに柔らかく、ワイヤボンディングの金線4と接続可能なものであり、その硬度は、例えば、ビッカース硬さ100(Hv)程度であるとともに、金の純度が99.99%以上のものである。   On the other hand, the soft gold plating 2g is much softer than the hard gold plating 2h and can be connected to the gold wire 4 for wire bonding, and the hardness thereof is, for example, about Vickers hardness 100 (Hv). The gold purity is 99.99% or more.

なお、メモリカード1は、半導体チップ3が、金線4を用いたワイヤボンディングによって電気的に接続されるものであるため、半導体チップ3が搭載される表面2a側のボンディング用端子2cの表面2fは、金線4と接続可能なソフト金めっき2gでなければならない。   In the memory card 1, since the semiconductor chip 3 is electrically connected by wire bonding using the gold wire 4, the surface 2f of the bonding terminal 2c on the surface 2a side on which the semiconductor chip 3 is mounted. Must be 2 g of soft gold plating connectable to the gold wire 4.

ここで、メモリカード1の配線基板2に設けられた図3に示す表面2aのボンディング用端子2cと、図4に示す裏面2bの外部接続用端子2dのそれぞれの組成について説明すると、図5に示すように、ボンディング用端子2cは、3層構造であり、基材2k側から順に、最下層がCu箔(Cuめっきを含む)2i、中間層がNiめっき2j、最上層がソフト金めっき2gとなっている。   Here, the respective compositions of the bonding terminal 2c on the front surface 2a shown in FIG. 3 provided on the wiring board 2 of the memory card 1 and the external connection terminal 2d on the back surface 2b shown in FIG. 4 will be described. As shown, the bonding terminal 2c has a three-layer structure, and in order from the substrate 2k side, the lowermost layer is Cu foil (including Cu plating) 2i, the intermediate layer is Ni plating 2j, and the uppermost layer is soft gold plating 2g. It has become.

最上層がソフト金めっき2gであるため、金線4によるワイヤボンディングが可能となる。   Since the uppermost layer is 2 g of soft gold plating, wire bonding with the gold wire 4 is possible.

また、図6に示すように、外部接続用端子2dは、最下層がCu箔(Cuめっきを含む)2i、第1中間層がNiめっき2j、第2中間層がソフト金めっき2g、最上層がハード金めっき2hとなっている。   As shown in FIG. 6, the external connection terminal 2d has a lowermost layer of Cu foil (including Cu plating) 2i, a first intermediate layer of Ni plating 2j, a second intermediate layer of soft gold plating 2g, and an uppermost layer. Is hard gold plating 2h.

最上層がハード金めっき2hであるため、ソケット7の端子7aの表面7bのハード金めっき2hと同じであり、したがって、メモリカード1の外部接続用端子2dとこれに電気的に接続するソケット7の端子7aとの接触抵抗を少なくできる。   Since the uppermost layer is the hard gold plating 2h, it is the same as the hard gold plating 2h on the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7. Therefore, the external connection terminal 2d of the memory card 1 and the socket 7 electrically connected thereto are used. The contact resistance with the terminal 7a can be reduced.

なお、表裏面の各めっきの厚さは、例えば、Cu箔2iが約20μm、Niめっき2jが約8μm、ソフト金めっき2gが0.1〜0.8μm、ハード金めっき2hが0.1〜0.8μm程度であるが、これらの数値は、一例であり、これらの数値に限定されるものではない。   The thickness of each plating on the front and back surfaces is, for example, about 20 μm for Cu foil 2i, about 8 μm for Ni plating 2j, 0.1 to 0.8 μm for soft gold plating, and 0.1 to 0.8 for hard gold plating 2h. Although it is about 0.8 μm, these numerical values are merely examples, and are not limited to these numerical values.

また、本実施の形態のメモリカード1に搭載された半導体チップ3には、例えば、フラッシュメモリ(EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory))が形成されており、図7に示すように、その主面(素子形成面)3aを上に向けた状態で配線基板2の表面2aのチップ搭載部2eに実装されている。   Further, for example, a flash memory (EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)) is formed on the semiconductor chip 3 mounted on the memory card 1 of the present embodiment, and as shown in FIG. It is mounted on the chip mounting portion 2e on the surface 2a of the wiring board 2 with the surface (element forming surface) 3a facing upward.

なお、配線基板2は、例えば、薄型のガラス入りエポキシ基板などであり、図5や図6に示す基材2k上には、図12に示すような絶縁性のソルダレジスト2lが形成されている。   The wiring substrate 2 is, for example, a thin glass-filled epoxy substrate, and an insulating solder resist 21 as shown in FIG. 12 is formed on the base material 2k shown in FIGS. .

また、メモリカード1が差し込まれる(係合する)ソケット7は、図8、図9に示すように、メモリカード1の抜き差しを行うための開口部7cを有している。さらに、内部に、メモリカード1の外部接続用端子2dと接触する端子7aが設けられており、この端子7aは、その表面7bが、ハード金めっき2hとなっている。   Further, the socket 7 into which the memory card 1 is inserted (engaged) has an opening 7c for inserting and removing the memory card 1, as shown in FIGS. Further, a terminal 7a that contacts the external connection terminal 2d of the memory card 1 is provided inside, and the surface 7b of the terminal 7a is a hard gold plating 2h.

なお、図8および図9に示すソケット7は、プッシュ−プッシュタイプのソケット7であり、挿着したメモリカード1を取り出す際に、再度カードを押すとメモリカード1が飛び出すタイプのものである。   The socket 7 shown in FIGS. 8 and 9 is a push-push type socket 7, and when the inserted memory card 1 is taken out, the memory card 1 pops out when the card is pushed again.

図10〜図12は、メモリカード1がソケット7に挿着された状態を示す図であり、メモリカード1の外部接続用端子2dとソケット7の端子7aとが接触して電気的に接続された状態となっている。   10 to 12 are views showing a state in which the memory card 1 is inserted into the socket 7, and the external connection terminal 2d of the memory card 1 and the terminal 7a of the socket 7 are in contact and electrically connected. It is in the state.

次に、本実施の形態のメモリカード1の製造方法について説明する。   Next, a method for manufacturing the memory card 1 of the present embodiment will be described.

まず、図5に示すようにソフト金めっき2gが表面2fに形成されたボンディング用端子2cを半導体チップ搭載側の面に有し、かつ、係合するソケット7の端子7aの表面7bのハード金めっき2hと同じハード金めっき2hが図6に示すように表面2fに形成された外部接続用端子2dを有する図3および図4に示す配線基板2を準備する。   First, as shown in FIG. 5, the hard gold on the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7 which has the bonding terminal 2c formed on the surface 2f with the soft gold plating 2g on the surface on the semiconductor chip mounting side. The wiring board 2 shown in FIG. 3 and FIG. 4 having the external connection terminal 2d formed on the surface 2f as shown in FIG. 6 is prepared by the same hard gold plating 2h as the plating 2h.

なお、配線基板2の表面2aのボンディング用端子2cと裏面2bの外部接続用端子2dにおいて、基材2k側から順に、Cu箔2i、Niめっき2j、ソフト金めっき2gを形成していくが、表裏面のそれぞれ同一めっきについては同一工程で形成してもよいし、別々の工程で形成してもよい。   In addition, in the terminal 2c for bonding on the front surface 2a of the wiring board 2 and the terminal 2d for external connection on the back surface 2b, the Cu foil 2i, the Ni plating 2j, and the soft gold plating 2g are sequentially formed from the base 2k side. About the same plating of front and back, you may form in the same process, and may form in a separate process.

その後、配線基板2のボンディング用端子2cが設けられた表面2aのチップ搭載部2eに半導体チップ3を搭載する。   Thereafter, the semiconductor chip 3 is mounted on the chip mounting portion 2e on the surface 2a where the bonding terminals 2c of the wiring board 2 are provided.

さらに、図7および図12に示すように半導体チップ3の電極パッド3bと、配線基板2の表面2aのボンディング用端子2cとを金線4を用いたワイヤボンディングによって電気的に接続する。   Further, as shown in FIGS. 7 and 12, the electrode pads 3 b of the semiconductor chip 3 and the bonding terminals 2 c on the surface 2 a of the wiring substrate 2 are electrically connected by wire bonding using a gold wire 4.

その後、ワイヤボンディングによって接続された複数の金線4および半導体チップ3を樹脂モールドによって封止して樹脂封止部6を形成し、さらに樹脂封止部6をキャップ5によって覆う。   Thereafter, the plurality of gold wires 4 and the semiconductor chip 3 connected by wire bonding are sealed with a resin mold to form a resin sealing portion 6, and the resin sealing portion 6 is covered with a cap 5.

なお、キャップ5は、例えば、接着剤などで固定する。   The cap 5 is fixed with, for example, an adhesive.

これにより、図1および図2に示すようなカード型の半導体装置であるメモリカード1を組み立てることができる。   Thereby, the memory card 1 which is a card-type semiconductor device as shown in FIGS. 1 and 2 can be assembled.

本実施の形態のメモリカード1およびその製造方法では、メモリカード1のソケット7と係合する外部接続用端子2dの表面2fの金属めっきの硬度をソケット7の端子7aの表面7bの金属めっきの硬度と同等にすることにより、メモリカード1の外部接続用端子2dとソケット7の端子7aとの接触抵抗を低くすることができ、メモリカード1をソケット7から引き抜く際にも滑らかに容易に引き抜くことができる。   In the memory card 1 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment, the hardness of the metal plating of the surface 2f of the external connection terminal 2d that engages with the socket 7 of the memory card 1 is set to the metal plating hardness of the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7. By making it equal to the hardness, the contact resistance between the external connection terminal 2d of the memory card 1 and the terminal 7a of the socket 7 can be lowered, and when the memory card 1 is pulled out from the socket 7, it can be pulled out smoothly and easily. be able to.

これにより、メモリカード1の着脱性を向上できる。   Thereby, the detachability of the memory card 1 can be improved.

また、メモリカード1とソケット7の接触抵抗が低くなるため、金属めっきの削れも少なくでき、接触不良の発生を防ぐことができる。   In addition, since the contact resistance between the memory card 1 and the socket 7 is reduced, metal plating can be reduced and the occurrence of contact failure can be prevented.

さらに、メモリカード1のソケット7との接続信頼性を向上できる。   Furthermore, the connection reliability with the socket 7 of the memory card 1 can be improved.

また、メモリカード1とソケット7の接触抵抗を低くできるため、メモリカード1の組み立てにおける封孔材(潤滑材)塗布工程を削除することができる。   Further, since the contact resistance between the memory card 1 and the socket 7 can be reduced, the sealing material (lubricant) application step in the assembly of the memory card 1 can be eliminated.

これにより、メモリカード1の組み立て工程を短縮してTAT(製品が完全に仕上がるまでに要する時間)を短くすることができる。   Thereby, the assembly process of the memory card 1 can be shortened, and TAT (time required until the product is completely finished) can be shortened.

さらに、封孔材の塗布を行わないため、封孔材が塗布されているか否かの外観検査を行わなくて済み、したがって、メモリカード1の検査作業の簡略化を図ることができる。   Further, since the sealing material is not applied, it is not necessary to inspect the appearance of whether or not the sealing material is applied. Therefore, the inspection work of the memory card 1 can be simplified.

また、封孔材の有無の検査に代えて配線基板2のボンディング用端子2cや外部接続用端子2dのめっき厚の測定による検査を実施することにより、基板メーカでの配線基板出荷時と半導体メーカでの配線基板納入時とで2回のめっき厚の測定検査を行えるため、不良品の配線基板2を組み立て工程に流してしまうことを低減できる。   Also, instead of checking for the presence or absence of the sealing material, by performing an inspection by measuring the plating thickness of the bonding terminal 2c and the external connection terminal 2d of the wiring board 2, the wiring board is shipped from the board manufacturer and the semiconductor manufacturer. Since the plating thickness can be measured and inspected twice at the time of delivery of the wiring board at, it is possible to reduce the flow of the defective wiring board 2 to the assembly process.

すなわち、メモリカード1の組み立て工程での不良ポテンシャルを低減でき、製造コストを低減することができる。   That is, the defective potential in the assembly process of the memory card 1 can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced.

以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the present invention is not limited to the embodiments of the invention, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. It goes without saying that it is possible.

例えば、前記実施の形態では、メモリカード1の裏面2bの外部接続用端子2dの表面2fをハード金めっき2hにする場合を説明したが、前記ハード金めっき2hの代わりとして、金よりも硬度が高いパラジウム(Pd)めっきを用いてもよい。   For example, in the above embodiment, the case where the front surface 2f of the external connection terminal 2d on the back surface 2b of the memory card 1 is the hard gold plating 2h has been described, but the hardness is higher than that of the gold instead of the hard gold plating 2h. High palladium (Pd) plating may be used.

すなわち、メモリカード1の外部接続用端子2dの表面2fの金属めっきは、ソケット7の端子7aの表面7bの金属めっきに比較して硬度が同等かまたはそれ以上であればハード金めっき2h以外のパラジウム(Pd)めっきなどの他の金属めっきであってもよい。   That is, the metal plating of the surface 2f of the external connection terminal 2d of the memory card 1 is not the hard gold plating 2h if the hardness is equal to or higher than the metal plating of the surface 7b of the terminal 7a of the socket 7. Other metal plating such as palladium (Pd) plating may be used.

さらに、ハード金めっき2hの代わりとして、まず、パラジウム(Pd)めっきを形成し、その上層に厚さ0.05μm以下のソフト金めっき2gを形成してもよく、この場合、外部接続用端子2dとしての硬度はパラジウム(Pd)めっきの硬度と同等とすることができ、さらに、外観上は金めっきとすることができる。   Further, instead of the hard gold plating 2h, first, palladium (Pd) plating may be formed, and a soft gold plating 2g having a thickness of 0.05 μm or less may be formed thereon, in which case the external connection terminal 2d The hardness can be equivalent to the hardness of palladium (Pd) plating, and can be gold plating in appearance.

なお、メモリカード1のボンディング用端子2cの表面2fの金属めっきは、ワイヤボンディングによるワイヤとの接続が良好な金属めっきでなければならず、前記実施の形態のように、ワイヤが金線4である場合には、ソフト金めっき2gを採用することが好ましい。   Note that the metal plating on the surface 2f of the bonding terminal 2c of the memory card 1 must be metal plating with good connection to the wire by wire bonding, and the wire is the gold wire 4 as in the above embodiment. In some cases, it is preferable to employ 2 g of soft gold plating.

また、前記実施の形態では、フラッシュメモリ(EEPROM)を内蔵するメモリカード1に適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく、例えば、SRAM(Static Random Access Memory) 、FRAM(Ferroelectric Random Access Memory)またはMRAM(Magnetic Random Access Memory) などのような他のメモリ回路を内蔵するメモリカード1にも適用できる。   In the above embodiment, the case where the present invention is applied to the memory card 1 incorporating the flash memory (EEPROM) has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, SRAM (Static Random Access Memory), FRAM (Ferroelectric Random) The present invention can also be applied to a memory card 1 incorporating another memory circuit such as an access memory (MRAM) or a magnetic random access memory (MRAM).

さらに、メモリ回路を有していないIC(Integrated Circuit)カードにも適用することができる。   Furthermore, the present invention can be applied to an IC (Integrated Circuit) card that does not have a memory circuit.

本発明は、メモリカードの組み立てに好適である。   The present invention is suitable for assembling a memory card.

本発明の実施の形態の半導体装置の一例であるメモリカードの構造を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the memory card which is an example of the semiconductor device of embodiment of this invention. 図1に示すメモリカードの構造を示す底面図である。It is a bottom view which shows the structure of the memory card shown in FIG. 図1に示すメモリカードに組み込まれる配線基板の構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the structure of the wiring board integrated in the memory card shown in FIG. 図3に示す配線基板の構造の一例を示す底面図である。It is a bottom view which shows an example of the structure of the wiring board shown in FIG. 図3のA−A線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図である。FIG. 4 is an enlarged partial cross-sectional view illustrating an example of a cross-sectional structure along the line AA in FIG. 3. 図4のB−B線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図である。FIG. 5 is an enlarged partial cross-sectional view illustrating an example of a cross-sectional structure along the line BB in FIG. 4. 図1に示すメモリカードの組み立てにおけるワイヤボンディング終了後の構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the structure after completion | finish of wire bonding in the assembly of the memory card shown in FIG. 図1に示すメモリカードと係合するソケットの構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the structure of the socket engaged with the memory card shown in FIG. 図8に示すソケットの構造の一例を示す底面図である。It is a bottom view which shows an example of the structure of the socket shown in FIG. 図1に示すメモリカードを図8に示すソケットに挿着した際の構造の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of a structure at the time of inserting the memory card shown in FIG. 1 in the socket shown in FIG. 図10に示すメモリカード挿着状態の構造の一例を示す底面図である。It is a bottom view which shows an example of the structure of the memory card insertion state shown in FIG. 図11のC−C線に沿う断面の構造の一例を示す拡大部分断面図である。It is an expanded partial sectional view which shows an example of the structure of the cross section along CC line of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 メモリカード(半導体装置)
2 配線基板
2a 表面(第1の主面)
2b 裏面(第2の主面)
2c ボンディング用端子(第1の端子部)
2d 外部接続用端子(第2の端子部)
2e チップ搭載部
2f 表面
2g ソフト金めっき(第1の金属めっき)
2h ハード金めっき(第2の金属めっき)
2i Cu箔
2j Niめっき
2k 基材
2l ソルダレジスト
3 半導体チップ
3a 主面
3b 電極パッド(表面電極)
4 金線(ワイヤ)
5 キャップ
6 樹脂封止部
7 ソケット
7a 端子
7b 表面
7c 開口部
1 Memory card (semiconductor device)
2 Wiring board 2a Surface (first main surface)
2b Back surface (second main surface)
2c Bonding terminal (first terminal part)
2d External connection terminal (second terminal part)
2e Chip mounting part 2f Surface 2g Soft gold plating (first metal plating)
2h Hard gold plating (second metal plating)
2i Cu foil 2j Ni plating 2k Base material 2l Solder resist 3 Semiconductor chip 3a Main surface 3b Electrode pad (surface electrode)
4 Gold wire
5 Cap 6 Resin sealing part 7 Socket 7a Terminal 7b Surface 7c Opening part

Claims (9)

(a)表面と裏面を有する配線基板を用意する工程、
(b)前記配線基板の表面および裏面上に、銅箔を形成する工程、
(c)前記銅箔上にニッケルめっきを形成する工程、
(d)前記ニッケルめっき上に第1金めっきを形成する工程、
(e)前記配線基板の裏面の第1金めっき上に、その硬度が前記第1金めっきよりも高い第2金めっきを形成することで、前記配線基板の表面に前記銅箔、ニッケルめっきおよび第1金めっきを有するボンディング端子を形成する工程であって、前記配線基板の裏面に前記銅箔、ニッケルめっき、第1金めっきおよび第2金めっきを有する外部接続端子を形成する工程、
(f)前記配線基板の表面に、電極パッドを有する半導体チップを搭載する工程、
(g)前記電極パッドと前記ボンディング端子の第1金めっきとを、ワイヤによって電気的に接続する工程、
(h)前記配線基板の表面に、前記半導体チップ、ワイヤおよびボンディング端子を封止する樹脂封止部を形成する工程、
を有することを特徴とするメモリカードの製造方法。
(A) preparing a wiring board having a front surface and a back surface;
(B) forming a copper foil on the front and back surfaces of the wiring board;
(C) forming a nickel plating on the copper foil;
(D) forming a first gold plating on the nickel plating;
(E) On the first gold plating on the back surface of the wiring board, by forming a second gold plating whose hardness is higher than that of the first gold plating, the copper foil, nickel plating and Forming a bonding terminal having a first gold plating, and forming an external connection terminal having the copper foil, nickel plating, first gold plating and second gold plating on the back surface of the wiring board;
(F) mounting a semiconductor chip having electrode pads on the surface of the wiring board;
(G) electrically connecting the electrode pad and the first gold plating of the bonding terminal by a wire;
(H) forming a resin sealing portion for sealing the semiconductor chip, the wire and the bonding terminal on the surface of the wiring board;
A method for manufacturing a memory card, comprising:
請求項1記載のメモリカードの製造方法において、更に、
(i)前記(h)工程後に、前記配線基板の表面および前記樹脂封止部を覆うキャップを形成する工程、
を有することを特徴とするメモリカードの製造方法。
The method of manufacturing a memory card according to claim 1, further comprising:
(I) A step of forming a cap that covers the surface of the wiring board and the resin sealing portion after the step (h),
A method for manufacturing a memory card, comprising:
請求項1または2記載のメモリカードの製造方法において、
前記第1金めっきの金の純度は、前記第2金めっきの金の純度より高いことを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card according to claim 1 or 2,
The method of manufacturing a memory card, wherein the gold purity of the first gold plating is higher than the gold purity of the second gold plating.
請求項3記載のメモリカードの製造方法において、
前記第1金めっきの金の純度は99.99%以上であり、前記第2金めっきの金の純度は99.8〜99.9%の範囲であることを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card of Claim 3,
The gold purity of the first gold plating is 99.99% or more, and the gold purity of the second gold plating is in the range of 99.8 to 99.9%. .
請求項1,2,3または4記載のメモリカードの製造方法において、
前記第1金めっきのビッカース硬さは100(Hv)程度であり、前記第2金めっきのビッカース硬さは180〜200(Hv)の範囲であることを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card according to claim 1, 2, 3, or 4,
The Vickers hardness of the first gold plating is about 100 (Hv), and the Vickers hardness of the second gold plating is in the range of 180 to 200 (Hv).
請求項1,2,3,4または5記載のメモリカードの製造方法において、
前記ワイヤは、金ワイヤであることを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card according to claim 1, 2, 3, 4 or 5,
The method of manufacturing a memory card, wherein the wire is a gold wire.
請求項1,2,3,4,5または6記載のメモリカードの製造方法において、
前記半導体チップは、メモリ回路を内蔵することを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card according to claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6,
A method of manufacturing a memory card, wherein the semiconductor chip includes a memory circuit.
請求項7記載のメモリカードの製造方法において、
前記メモリ回路は、フラッシュメモリを構成することを特徴とするメモリカードの製造方法。
In the manufacturing method of the memory card according to claim 7,
A method of manufacturing a memory card, wherein the memory circuit constitutes a flash memory.
請求項1,2,3,4,5,6,7または8記載のメモリカードの製造方法において、 前記外部接続端子は、メモリカード装着用のカードコネクタの接続端子に接続するための端子であることを特徴とするメモリカードの製造方法。   9. The method of manufacturing a memory card according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8, wherein the external connection terminal is a terminal for connecting to a connection terminal of a card connector for mounting a memory card. A method for manufacturing a memory card.
JP2006270489A 2006-10-02 2006-10-02 Method of manufacturing memory card Pending JP2007058870A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006270489A JP2007058870A (en) 2006-10-02 2006-10-02 Method of manufacturing memory card

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006270489A JP2007058870A (en) 2006-10-02 2006-10-02 Method of manufacturing memory card

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001358751A Division JP2003162702A (en) 2001-11-26 2001-11-26 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007058870A true JP2007058870A (en) 2007-03-08

Family

ID=37922248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006270489A Pending JP2007058870A (en) 2006-10-02 2006-10-02 Method of manufacturing memory card

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007058870A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009007656A (en) * 2007-06-29 2009-01-15 Japan Pure Chemical Co Ltd Electrolytic gold-plating solution and gold plated film obtained using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009007656A (en) * 2007-06-29 2009-01-15 Japan Pure Chemical Co Ltd Electrolytic gold-plating solution and gold plated film obtained using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7608787B2 (en) Semiconductor memory device and USB memory device using the same
US7855446B2 (en) Semiconductor memory device and semiconductor memory card
KR100769759B1 (en) Semiconductor memory card and manufacturing method thereof
US7768796B2 (en) Die module system
CN101471270B (en) Low profile wire bonded USB device
CN101252115A (en) Semiconductor package and manufacture method thereof as well as electric system and manufacture method thereof
US20100187690A1 (en) Semiconductor device
CN103545280A (en) Multi-chip package
KR20030038460A (en) Semiconductor device, electric card, and pad rearrangement substrate
KR20090091114A (en) Methods of forming a single layer substrate for high capacity memory cards
JP2005122657A (en) Ic card
KR100843274B1 (en) Memory card having double sided contact pad and method making that
JP2007058870A (en) Method of manufacturing memory card
US8376238B2 (en) Semiconductor storage device
EP2426624A1 (en) A USB device structure
KR100603932B1 (en) Semiconductor device with chip-on-board structure
JP2006351664A (en) Semiconductor device
JP2005100293A (en) Ic card and manufacturing method for it
JP2003162702A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
US20070210175A1 (en) Semiconductor memory card
JP5184951B2 (en) Semiconductor package
JP2006086360A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2007005443A (en) Semiconductor device and its manufacturing method
JP2008205320A (en) Semiconductor device
TWM290327U (en) Memory card structure of mini-SD and RS-MMC

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090106

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090507