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JP2007058070A - Liquid crystal display apparatus - Google Patents

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JP2007058070A
JP2007058070A JP2005246116A JP2005246116A JP2007058070A JP 2007058070 A JP2007058070 A JP 2007058070A JP 2005246116 A JP2005246116 A JP 2005246116A JP 2005246116 A JP2005246116 A JP 2005246116A JP 2007058070 A JP2007058070 A JP 2007058070A
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Japan
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electrode
array substrate
substrate
liquid crystal
counter substrate
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Application number
JP2005246116A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuyuki Manabe
敦行 真鍋
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Japan Display Central Inc
Original Assignee
Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal panel in which detection of pushing pressure or sensitivity to pushing can be controlled. <P>SOLUTION: Protruded strip electrodes 47 on a color filter layer 43 of a counter substrate 41 are fabricated comprising first protruded electrodes 51 and second protruded electrodes 52 with different heights in an inverse proportion to the distance from a spacer 57. When the counter substrate 41 is pushed at relatively weak force, only the first protruded electrodes 51 having a larger height acts to switch. When the counter substrate 41 is pushed at relatively strong force, the second protruded electrode 52 having a smaller height as well as the first protruded electrode 51 act to switch. The number of protruded electrodes 47 for switching can be changed according to the force pushing the counter substrate 41, and thereby, the pressure upon pushing the counter substrate 41 can be detected. By controlling the heights of the first protruded electrode 51 and the second protruded electrode 52, the force to push the counter substrate 41 necessary to switch the first protruded electrode 51 or the second protruded electrode 52 can be controlled. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、アレイ基板と対向基板との間に電極層および突条電極を有する液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device having an electrode layer and a protruding electrode between an array substrate and a counter substrate.

従来、この種の液晶表示装置は、複数の画素子がマトリクス状に設けられたアレイ基板と対向基板との間に液晶層を介在させて構成されている。この液晶表示装置は、ノートパソコン(PC)、タブレットパソコン、カーナビゲーション、関数電卓、中小型テレビジョン(TV)、大型テレビジョン、携帯電話機、電子手帳およびPDA(Personal Digital Assistant)など様々な分野に応用されて用いられている。そして、これら応用分野の中でも、これら液晶表示装置が応用されるノートパソコン、タブレットパソコン、携帯電話機、電子手帳およびPDAなどは、液晶表示装置の表示素子が軽薄短小である特長から、携帯用として利用される機会が多い。また、これら液晶表示装置は、宣伝(POP)用途や、ATM(Automated-Teller Machine)用途、券売機用途など、公共の場で利用される機会も多い。   Conventionally, this type of liquid crystal display device is configured by interposing a liquid crystal layer between an array substrate on which a plurality of image elements are provided in a matrix and a counter substrate. This liquid crystal display device is used in various fields such as notebook personal computers (PCs), tablet personal computers, car navigation systems, scientific calculators, small and medium sized televisions (TVs), large televisions, mobile phones, electronic notebooks and PDAs (Personal Digital Assistants). Applied and used. Among these application fields, notebook computers, tablet computers, mobile phones, electronic notebooks, and PDAs to which these liquid crystal display devices are applied are used as portable devices because the display elements of the liquid crystal display devices are light and thin. There are many opportunities. Further, these liquid crystal display devices are often used in public places such as advertising (POP) applications, ATM (Automated-Teller Machine) applications, and ticket vending machine applications.

これらの用途の中には、液晶表示装置の各画素にタッチセンサを設けた構成が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この液晶表示装置は、ATMとして用いた場合、操作ボタンや暗証番号入力ボタンなどを表示させ、これら操作ボタンや暗証番号入力ボタンが表示されている部分に指を触れることによってタッチセンサがスイッチングして入力が可能となる。また、この液晶表示装置を駅の券売機として用いた場合には、この液晶表示装置に行き先やチケットの値段などを表示させ、これら行き先やチケットの値段などが表示されている部分に指を触れることによってタッチセンサがスイッチングして入力が可能となる。   Among these applications, a configuration in which a touch sensor is provided in each pixel of a liquid crystal display device is known (see, for example, Patent Document 1). When this liquid crystal display device is used as an ATM, it displays an operation button, a password input button, and the like, and a touch sensor is switched by touching a part where the operation button or the password input button is displayed. Input is possible. Further, when this liquid crystal display device is used as a ticket vending machine at a station, the liquid crystal display device displays destinations and ticket prices, etc., and touches a portion where these destinations and ticket prices are displayed. As a result, the touch sensor switches to enable input.

近年、この種の液晶表示装置としては、この液晶表示装置の所定位置を指やペンで押すことによって各種の機能操作が可能なタブレットパソコンが注目されている。そして、この種のタブレットパソコンは、液晶表示装置の表面に触れた座標を感知して特定できる透明なタッチパネルが液晶表示装置に重ねられて取り付けられた構成が知られている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2001−75074号公報 特開2004−348204号公報
In recent years, as this type of liquid crystal display device, a tablet personal computer that can perform various functional operations by pressing a predetermined position of the liquid crystal display device with a finger or a pen has attracted attention. And this kind of tablet personal computer has a known configuration in which a transparent touch panel that can be identified by sensing coordinates touching the surface of the liquid crystal display device is overlaid on the liquid crystal display device (for example, Patent Document 2). reference.).
JP 2001-75074 A JP 2004-348204 A

しかしながら、上述のタッチパネルが重ねて取り付けられた液晶表示装置では、この液晶表示装置の厚さに加えてタッチパネル自体の厚さが必要であるとともに、この液晶表示装置の重さに加えてタッチパネル自体の重さが加わるので、厚くて重い液晶表示装置となってしまう。また、透明なタッチパネルとしても、このタッチパネルによって液晶表示装置の透過率が低下し、この液晶表示装置にて表示される画像が色変化してしまう。さらに、このタッチパネルは、このタッチパネルの所定位置を指やペンで押すことによって、押した位置を座標として感知して特定できるに過ぎないから、このタッチパネルを押す圧力の検知や押す感度の調整などができないという問題を有している。   However, in the liquid crystal display device in which the above-described touch panel is attached in an overlapping manner, the thickness of the touch panel itself is necessary in addition to the thickness of the liquid crystal display device, and the touch panel itself has a thickness in addition to the weight of the liquid crystal display device. Since the weight is added, the liquid crystal display device becomes thick and heavy. Moreover, even if it is a transparent touch panel, the transmittance | permeability of a liquid crystal display device falls with this touch panel, and the image displayed on this liquid crystal display device will change color. Furthermore, since this touch panel can only be identified by detecting the pressed position as coordinates by pressing a predetermined position on this touch panel with a finger or a pen, detection of pressure for pressing this touch panel, adjustment of pressing sensitivity, etc. Has the problem of not being able to.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、押す圧力の検知や押す感度の調整ができる液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these points, and an object thereof is to provide a liquid crystal display device capable of detecting a pressing pressure and adjusting a pressing sensitivity.

本発明は、一主面に複数の画素がマトリクス状に設けられたアレイ基板と、このアレイ基板の一主面に一主面を対向させて配設された対向基板と、前記アレイ基板の一主面と前記対向基板の一主面との間に介在された液晶とを具備し、前記アレイ基板および前記対向基板のいずれか一方の一主面に設けられた電極層と、この電極層に対向して前記アレイ基板および前記対向電極のいずれか他方の一主面にこの一主面より突出して設けられ、前記電極層との間の距離の変化によって導通し、前記アレイ基板と対向基板との間の間隔より小さな高さ寸法であるとともに高さ寸法の異なる複数の突条電極とを備えたものである。   The present invention provides an array substrate in which a plurality of pixels are provided in a matrix on one main surface, a counter substrate disposed with one main surface facing the one main surface of the array substrate, and one of the array substrates. A liquid crystal interposed between a main surface and one main surface of the counter substrate; an electrode layer provided on one main surface of either the array substrate or the counter substrate; and the electrode layer Oppositely provided on one other main surface of the array substrate and the counter electrode from the one main surface, and is conducted by a change in distance between the electrode layer, the array substrate and the counter substrate, And a plurality of protrusion electrodes having a height dimension smaller than the interval between them and different height dimensions.

そして、アレイ基板および対向基板のいずれか一方の一主面に設けた電極層との間の距離の変化によって導通する突条電極を、これらアレイ基板と対向基板との間の間隔より小さな高さ寸法であるとともに高さ寸法の異なる複数の突条電極とした。この結果、アレイ基板および対向基板のいずれかを比較的弱く押した場合には、比較的高さ寸法が大きな突条電極のみが導通する。また、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを比較的強い力で押した場合には、比較的高さ寸法が大きな突条電極とともに、これら比較的高さ寸法が大きな突条電極より高さ寸法が小さな突条電極も導通する。したがって、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを押す力に応じて導通する突条電極の個数を異ならせることができるから、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを押す圧力を検知できる。また、これら突条電極の高さを調整することによって、アレイ基板および対向基板のいずれかを押す圧力に応じて導通される突条電極を調整できるから、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを押す感度を調整できる。   Then, projecting electrodes that are conducted by a change in the distance between the electrode layer provided on one main surface of either the array substrate or the counter substrate have a height smaller than the distance between the array substrate and the counter substrate. A plurality of protruding electrodes having different dimensions and heights were used. As a result, when one of the array substrate and the counter substrate is pressed relatively weakly, only the protruding electrode having a relatively large height dimension is conducted. When either one of the array substrate and the counter substrate is pressed with a relatively strong force, the height of the projection electrode is larger than that of the projection electrode having a relatively large height, as well as the projection electrode having a relatively large height. Even small protruding electrodes are conductive. Therefore, since the number of the protruding electrodes that are conducted can be varied according to the force of pressing either the array substrate or the counter substrate, the pressure for pressing either the array substrate or the counter substrate can be detected. In addition, by adjusting the height of the protruding electrodes, the protruding protruding electrodes can be adjusted according to the pressure pushing either the array substrate or the counter substrate, so that either the array substrate or the counter substrate can be adjusted. Press sensitivity can be adjusted.

本発明によれば、アレイ基板および対向基板のいずれかを押す力に応じて導通する突条電極の個数が異なるから、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを押す圧力を検知できるとともに、これら突条電極の高さを調整することによって、アレイ基板および対向基板のいずれかを押す圧力に応じて導通される突条電極を調整できるから、これらアレイ基板および対向基板のいずれかを押す感度を調整できる。   According to the present invention, since the number of protruding electrodes that conduct is different according to the force of pressing either the array substrate or the counter substrate, the pressure for pressing either the array substrate or the counter substrate can be detected, and these protrusions can be detected. By adjusting the height of the strip electrode, it is possible to adjust the protruding electrode that is conducted according to the pressure that presses either the array substrate or the counter substrate, so the sensitivity to press either the array substrate or the counter substrate is adjusted. it can.

以下、本発明の液晶表示装置の第1の実施の形態の構成を図1ないし図3を参照して説明する。   The configuration of the first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図1ないし図3において、1は平面表示装置としての液晶パネルで、この液晶パネル1は、タッチパネルセンサが内蔵された座標入力機能付きの液晶表示装置としての液晶セルである。すなわち、この液晶パネル1は、センサ機能を兼ね備えた表示素子である。また、この液晶パネル1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor:TFT)を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示素子である。そして、この液晶パネル1は、アクティブマトリクス基板としての略矩形平板状のアレイ基板2を備えている。このアレイ基板2は、XGA(eXtended Graphics Array)型の薄膜トランジスタ(TFT)基板であって、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板3を有している。   1 to 3, reference numeral 1 denotes a liquid crystal panel as a flat display device, and the liquid crystal panel 1 is a liquid crystal cell as a liquid crystal display device with a coordinate input function in which a touch panel sensor is incorporated. That is, the liquid crystal panel 1 is a display element having a sensor function. The liquid crystal panel 1 is an active matrix type liquid crystal display element using a thin film transistor (TFT) as a switching element. The liquid crystal panel 1 includes a substantially rectangular flat plate array substrate 2 as an active matrix substrate. The array substrate 2 is an XGA (eXtended Graphics Array) type thin film transistor (TFT) substrate, and has a glass substrate 3 which is a translucent substrate as a substantially transparent rectangular flat plate-like insulating substrate.

このガラス基板3の一主面である表面上の中央部には、図2および図3に示すように、画像表示領域としてのアクティブエリア(Active Area)である画面部4が形成されている。そして、この画面部4には、複数の画素5がマトリクス状に設けられて配置されている。これら複数の画素5は、ガラス基板3の縦方向に沿ってn個形成されており、このガラス基板3の横方向に沿ってm個形成されている。したがって、これら複数の画素5は、ガラス基板3上にn×m個形成されている。さらに、これら画素5のそれぞれには、表示電極としての画素電極6、蓄積容量としての画素補助容量である補助容量7、および薄膜トランジスタ8がそれぞれ1つずつ配置されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a screen portion 4 that is an active area as an image display area is formed in the central portion on the surface that is one main surface of the glass substrate 3. In the screen unit 4, a plurality of pixels 5 are arranged in a matrix. A plurality of these pixels 5 are formed along the vertical direction of the glass substrate 3, and m pixels are formed along the horizontal direction of the glass substrate 3. Accordingly, n × m pixels 5 are formed on the glass substrate 3. Further, each of these pixels 5 is provided with a pixel electrode 6 as a display electrode, an auxiliary capacitor 7 as a pixel auxiliary capacitor as a storage capacitor, and a thin film transistor 8.

また、ガラス基板3の表面には、ゲート電極配線としての複数の走査線11が、このガラス基板3の幅方向に沿って配設されている。これら走査線11は、ガラス基板3の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。また、これら走査線11間のそれぞれには、電極配線としての画像信号配線である複数の信号線12が、ガラス基板3の縦方向に沿って配設されている。これら信号線12は、ガラス基板3の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。したがって、これら走査線11および信号線12は、ガラス基板3上に交差して格子状であるマトリクス状に配線されている。そして、これら走査線11および信号線12の各交点に対応して、画素電極6、補助容量7および薄膜トランジスタ8のそれぞれが各画素5毎に設けられている。   A plurality of scanning lines 11 serving as gate electrode wirings are arranged on the surface of the glass substrate 3 along the width direction of the glass substrate 3. These scanning lines 11 are spaced in parallel at equal intervals toward the lateral direction of the glass substrate 3. Further, between each of the scanning lines 11, a plurality of signal lines 12 that are image signal wirings as electrode wirings are arranged along the vertical direction of the glass substrate 3. These signal lines 12 are spaced in parallel at equal intervals toward the lateral direction of the glass substrate 3. Therefore, the scanning lines 11 and the signal lines 12 cross the glass substrate 3 and are wired in a matrix shape that is a lattice shape. A pixel electrode 6, an auxiliary capacitor 7, and a thin film transistor 8 are provided for each pixel 5 corresponding to each intersection of the scanning line 11 and the signal line 12.

一方、ガラス基板3の周縁には、信号線駆動回路としての細長矩形平板状のYドライバ回路14が配設されている。このYドライバ回路14は、ガラス基板3の横方向に沿った一側縁に設けられている。さらに、このYドライバ回路14は、ガラス基板3の縦方向に沿って設けられており、このガラス基板3上の各走査線11それぞれの一端部が電気的に接続されている。   On the other hand, on the peripheral edge of the glass substrate 3, an elongated rectangular flat plate Y driver circuit 14 is disposed as a signal line driving circuit. The Y driver circuit 14 is provided on one side edge along the lateral direction of the glass substrate 3. Further, the Y driver circuit 14 is provided along the vertical direction of the glass substrate 3, and one end of each scanning line 11 on the glass substrate 3 is electrically connected.

また、このガラス基板3の縦方向に沿った一端には、走査線駆動回路としての細長矩形平板状のXドライバ回路15が配設されている。このXドライバ回路15は、ガラス基板3の横方向に沿って設けられており、このガラス基板3上の各信号線12それぞれの一端部が電気的に接続されている。なお、これらYドライバ回路14およびXドライバ回路15は、Yドライバ回路14から各走査線11に供給される走査信号によって、薄膜トランジスタ8をオンオフさせるタイミングに同期して、Xドライバ回路15から各信号線12に画素信号を供給させることによって、アレイ基板2の画面部4に所定の画像を表示させる。   Further, an X driver circuit 15 having an elongated rectangular flat plate shape as a scanning line driving circuit is disposed at one end along the vertical direction of the glass substrate 3. The X driver circuit 15 is provided along the horizontal direction of the glass substrate 3, and one end of each signal line 12 on the glass substrate 3 is electrically connected. The Y driver circuit 14 and the X driver circuit 15 are connected to each signal line from the X driver circuit 15 in synchronization with a timing at which the thin film transistor 8 is turned on / off by a scanning signal supplied from the Y driver circuit 14 to each scanning line 11. By supplying the pixel signal to 12, a predetermined image is displayed on the screen unit 4 of the array substrate 2.

次いで、図1に示すように、ガラス基板3の表面には、薄膜トランジスタ8が1画素構成要素として配設されている。この薄膜トランジスタ8は、スイッチング素子であるとともに半導体素子としてのTFT素子である。そして、これら薄膜トランジスタ8は、半導体層としての図示しない活性層を備えている。この活性層は、多結晶半導体としてのポリシリコン(p−Si)にて構成された多結晶半導体層としてのポリシリコン半導体層である。言い換えると、この活性層は、非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)をエキシマレーザ溶解結晶化でアニールしてからパターニングして作成した島状のポリシリコン薄膜である。   Next, as shown in FIG. 1, on the surface of the glass substrate 3, a thin film transistor 8 is disposed as one pixel component. The thin film transistor 8 is a switching element and a TFT element as a semiconductor element. These thin film transistors 8 include an active layer (not shown) as a semiconductor layer. This active layer is a polysilicon semiconductor layer as a polycrystalline semiconductor layer made of polysilicon (p-Si) as a polycrystalline semiconductor. In other words, this active layer is an island-shaped polysilicon thin film formed by annealing amorphous silicon (a-Si) as an amorphous semiconductor by excimer laser dissolution crystallization and then patterning.

さらに、薄膜トランジスタ8は、ガラス基板3上に積層されて形成された導電性を有するゲート電極21を備えている。このゲート電極21は、図2に示すように、走査線11の一側縁に一体的に接続されて、この走査線11の一部を構成する。すなわち、このゲート電極21は、走査線11に電気的に接続されている。また、このゲート電極21は、活性層に対向して設けられている。   Furthermore, the thin film transistor 8 includes a gate electrode 21 having conductivity formed by being laminated on the glass substrate 3. As shown in FIG. 2, the gate electrode 21 is integrally connected to one side edge of the scanning line 11 to constitute a part of the scanning line 11. That is, the gate electrode 21 is electrically connected to the scanning line 11. The gate electrode 21 is provided to face the active layer.

そして、このゲート電極21を含むガラス基板3上には、ゲート絶縁膜22が積層されて設けられている。このゲート絶縁膜22は、ガラス基板3上の略全面に設けられている。また、ゲート電極21に対向したゲート絶縁膜22上には、ソース電極23およびドレイン電極24のそれぞれが積層されて設けられている。これらソース電極23およびドレイン電極24は、所定の間隙を介して電気的に絶縁されている。そして、このソース電極23は信号線12に電気的に接続され、ドレイン電極24は補助容量7に電気的に接続されている。   A gate insulating film 22 is laminated and provided on the glass substrate 3 including the gate electrode 21. The gate insulating film 22 is provided on substantially the entire surface of the glass substrate 3. A source electrode 23 and a drain electrode 24 are stacked on the gate insulating film 22 facing the gate electrode 21. The source electrode 23 and the drain electrode 24 are electrically insulated via a predetermined gap. The source electrode 23 is electrically connected to the signal line 12 and the drain electrode 24 is electrically connected to the auxiliary capacitor 7.

また、これらソース電極23およびドレイン電極24を含むゲート絶縁膜22上には、絶縁性を有する絶縁層としての層間絶縁膜25が積層されて形成されている。この層間絶縁膜25は、感光性アクリル樹脂にて形成されており、アレイ基板2の少なくとも画面部4の略全域を覆っている。そして、この層間絶縁膜25には、各薄膜トランジスタ8のドレイン電極24を開口させる導通部としてのコンタクトホール26が形成されている。これらコンタクトホール26は、各薄膜トランジスタ8のドレイン電極24を層間絶縁膜25上に導通させている。   On the gate insulating film 22 including the source electrode 23 and the drain electrode 24, an interlayer insulating film 25 as an insulating layer having an insulating property is laminated. This interlayer insulating film 25 is made of a photosensitive acrylic resin and covers at least substantially the entire area of the screen portion 4 of the array substrate 2. In the interlayer insulating film 25, a contact hole 26 is formed as a conduction portion for opening the drain electrode 24 of each thin film transistor 8. These contact holes 26 make the drain electrode 24 of each thin film transistor 8 conductive to the interlayer insulating film 25.

さらに、これらコンタクトホール26を含む層間絶縁膜25上には、画素電極6と電極層としてのセンサ用電極27とのそれぞれが積層されて設けられている。これら画素電極6およびセンサ用電極27のそれぞれは、インジウム・錫酸化物であるITO(Indium Tin Oxide)にて構成された透明電極である。そして、画素電極6は、各画素5に対応してアレイ基板2の画面部4にマトリクス状にパターニングされて設けられている。また、この画素電極6は、コンタクトホール26を介して薄膜トランジスタ8のドレイン電極24に導通されて電気的に接続されている。すなわち、この画素電極6は、この画素電極6にドレイン電極24が電気的に接続されている薄膜トランジスタ8によって制御される。   Further, on the interlayer insulating film 25 including the contact holes 26, the pixel electrode 6 and the sensor electrode 27 as an electrode layer are laminated and provided. Each of the pixel electrode 6 and the sensor electrode 27 is a transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) which is indium tin oxide. The pixel electrode 6 is provided in a matrix pattern on the screen portion 4 of the array substrate 2 corresponding to each pixel 5. The pixel electrode 6 is electrically connected to the drain electrode 24 of the thin film transistor 8 through the contact hole 26. That is, the pixel electrode 6 is controlled by the thin film transistor 8 in which the drain electrode 24 is electrically connected to the pixel electrode 6.

また、センサ用電極27は、各画素5に対応して設けられた各画素電極6から絶縁されて、これら画素電極6間に間にパターニングされて設けられている。すなわち、このセンサ用電極27と画素電極6との間には所定の間隙が形成されている。さらに、このセンサ用電極27は、画素電極6と同じ材料で同時に同一工程で形成されている。また、このセンサ用電極27は、アレイ基板2に対向基板41を対向させた状態で、この対向基板41の各突条電極47の表面電極55の電極部56に対向する位置のそれぞれに設けられている。さらに、このセンサ用電極27は、突条電極47の表面電極55の電極部56の大きさに略等しい略正方形状に形成されている。すなわち、このセンサ用電極27は、電極部56の幅寸法に略等しい幅寸法を有している。   The sensor electrode 27 is insulated from each pixel electrode 6 provided corresponding to each pixel 5, and is provided by being patterned between the pixel electrodes 6. That is, a predetermined gap is formed between the sensor electrode 27 and the pixel electrode 6. Further, the sensor electrode 27 is formed of the same material as the pixel electrode 6 and simultaneously in the same process. The sensor electrode 27 is provided at each position facing the electrode portion 56 of the surface electrode 55 of each protruding electrode 47 of the counter substrate 41 with the counter substrate 41 facing the array substrate 2. ing. Further, the sensor electrode 27 is formed in a substantially square shape substantially equal to the size of the electrode portion 56 of the surface electrode 55 of the protruding electrode 47. That is, the sensor electrode 27 has a width dimension substantially equal to the width dimension of the electrode portion 56.

さらに、これら画素電極6およびセンサ用電極27を含む層間絶縁膜25上には、配向膜28が積層されて設けられている。この配向膜28は、各画素電極6およびセンサ用電極27それぞれの表面を覆っているとともに、これら画素電極6およびセンサ用電極27を含む層間絶縁膜25の略全面を覆っている。そして、この配向膜28は、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してからラビングなどの配向処理がされて形成されている。   Further, an alignment film 28 is laminated on the interlayer insulating film 25 including the pixel electrode 6 and the sensor electrode 27. The alignment film 28 covers the surface of each pixel electrode 6 and sensor electrode 27, and covers substantially the entire surface of the interlayer insulating film 25 including the pixel electrode 6 and sensor electrode 27. The alignment film 28 is formed by applying an alignment film material made of polyimide and then performing an alignment process such as rubbing.

一方、アレイ基板2の表面には、矩形平板状の対向基板41が対向して配設されている。この対向基板41は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板42を備えている。このガラス基板42におけるアレイ基板2に対向した側の一主面である表面には、着色層としてのカラーフィルタ層43が積層されて設けられている。このカラーフィルタ層43は、ガラス基板42の表面より突出して設けられている。   On the other hand, a rectangular flat plate-like counter substrate 41 is disposed on the surface of the array substrate 2. The counter substrate 41 includes a glass substrate 42 which is a translucent substrate as a substantially transparent rectangular flat plate-like insulating substrate. A color filter layer 43 as a colored layer is laminated on the surface which is one main surface of the glass substrate 42 facing the array substrate 2. The color filter layer 43 is provided so as to protrude from the surface of the glass substrate.

具体的に、このカラーフィルタ層43は、少なくとも2色以上である1組の色単位、例えば赤(Red:R)色の着色層である赤色層としての赤色フィルタ部44と、緑(Green:G)色の着色層である緑色層としての緑色フィルタ部45と、青(Blue:B)色の着色層である青色層としての青色フィルタ部46との3つのドットがガラス基板42の縦方向および横方向のそれぞれに向けて繰り返し配置されて構成されている。   Specifically, the color filter layer 43 includes a red filter unit 44 as a red layer which is a colored layer of a set of color units of at least two colors, for example, red (Red: R), and green (Green: G) Three dots of a green filter portion 45 as a green layer that is a colored layer and a blue filter portion 46 as a blue layer that is a blue (Blue: B) colored layer are in the vertical direction of the glass substrate 42. And are arranged repeatedly in each of the lateral directions.

そして、これら赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46は、アレイ基板2の各画素5に対応するようにガラス基板3上にマトリクス状に形成されている。すなわち、これら赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46のそれぞれは、アレイ基板2の各画素5の大きさに略等しい平面視矩形状に形成されている。よって、これら複数の赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46は、アレイ基板2に対向基板41を対向させた際に、このアレイ基板2の各画素5に対応して対向するように設けられている。   The red filter portion 44, the green filter portion 45, and the blue filter portion 46 are formed in a matrix on the glass substrate 3 so as to correspond to each pixel 5 of the array substrate 2. That is, each of the red filter portion 44, the green filter portion 45, and the blue filter portion 46 is formed in a rectangular shape in plan view that is substantially equal to the size of each pixel 5 of the array substrate 2. Therefore, when the counter substrate 41 is opposed to the array substrate 2, the plurality of red filter portions 44, green filter portions 45, and blue filter portions 46 are opposed to correspond to the respective pixels 5 of the array substrate 2. Is provided.

ここで、赤色フィルタ部44は、赤色の顔料を分散させて赤色に着色された紫外線硬化型アクリル系赤色レジスト液にて形成された赤色カラーフィルタである。また、緑色フィルタ部45は、緑色の顔料を分散させて緑色に着色された紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液にて形成された緑色カラーフィルタである。さらに、青色フィルタ部46は、青色の顔料を分散させて青色に着色された紫外線硬化型アクリル系青色レジスト液にて形成された青色カラーフィルタである。そして、これら赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46のそれぞれは、等しい厚さに形成されている。   Here, the red filter portion 44 is a red color filter formed of an ultraviolet curable acrylic red resist solution that is colored red by dispersing a red pigment. The green filter portion 45 is a green color filter formed of an ultraviolet curable acrylic green resist solution that is colored green by dispersing a green pigment. Further, the blue filter unit 46 is a blue color filter formed of an ultraviolet curable acrylic blue resist solution that is colored blue by dispersing a blue pigment. Each of the red filter portion 44, the green filter portion 45, and the blue filter portion 46 is formed to have an equal thickness.

さらに、赤色フィルタ部および青色フィルタ部それぞれの一主面上には、この一主面より突出したセンサ用構造物である突条電極47が設けられている。これら突条電極47は、アレイ基板2と対向基板41との間のセル厚Aより小さな高さ寸法を有しており、アレイ基板2のセンサ用電極27に対向した位置に設けられている。さらに、これら突条電極47は、対向基板を押して湾曲させない通常の状態でアレイ基板2のセンサ用電極27と電気的に導通しない程度の高さ寸法に形成されている。また、これら突条電極47は、アレイ基板2の画面部4上の画素5内の周縁部に設けられている。すなわち、これら突条電極47は、画素5内における平面視で薄膜トランジスタ8上に設けられている。そして、これら突条電極47は、アレイ基板2の画面部4の縦方向および横方向のそれぞれに沿って等間隔に離間されている。   Further, on each main surface of each of the red filter portion and the blue filter portion, a protruding electrode 47 that is a sensor structure projecting from the one main surface is provided. These protruding electrodes 47 have a height dimension smaller than the cell thickness A between the array substrate 2 and the counter substrate 41, and are provided at positions facing the sensor electrodes 27 on the array substrate 2. Further, the protruding electrodes 47 are formed to have a height that is not electrically connected to the sensor electrode 27 of the array substrate 2 in a normal state in which the counter substrate is not pushed and bent. Further, the protruding electrodes 47 are provided at the peripheral edge in the pixel 5 on the screen portion 4 of the array substrate 2. That is, these protruding electrodes 47 are provided on the thin film transistor 8 in a plan view in the pixel 5. The projecting electrodes 47 are spaced at equal intervals along the vertical direction and the horizontal direction of the screen portion 4 of the array substrate 2.

また、これら突条電極47は、アレイ基板2のセンサ用電極27とともに圧力センサ機能を有するタッチセンサ48を構成している。このタッチセンサ48は、突条電極47とアレイ基板2のセンサ用電極27との間の距離の変化に基づく電気的な合成抵抗や合成容量、すなわちインピーダンスの変化で導通してスイッチングする。言い換えると、これらタッチセンサ48は、突条電極47とセンサ用電極27とで構成されており、対向基板41の裏面側を指などで押してスペーサ57およびセンサ用突起53を弾性変形させて、対向基板41の突条電極47とアレイ基板2のセンサ用電極27との電気的な接触によってオンしてセンサ検出する圧力センサである。   In addition, the protruding electrodes 47 constitute a touch sensor 48 having a pressure sensor function together with the sensor electrodes 27 of the array substrate 2. The touch sensor 48 conducts and switches by a change in electrical combined resistance or combined capacitance, that is, impedance based on a change in the distance between the protruding electrode 47 and the sensor electrode 27 of the array substrate 2. In other words, these touch sensors 48 are constituted by the protruding electrodes 47 and the sensor electrodes 27, and the spacer 57 and the sensor projections 53 are elastically deformed by pressing the back surface side of the counter substrate 41 with a finger or the like, so as to face each other. It is a pressure sensor that is turned on and detected by electrical contact between the protruding electrode 47 of the substrate 41 and the sensor electrode 27 of the array substrate 2.

さらに、これら突条電極47は、高さ寸法が何段階かに分かれて構成されている。すなわち、これら突条電極47は、アレイ基板2と対向基板41との間のセル厚Aより小さな高さ寸法であるとともに少なくとも2種対以上の異なる高さ寸法を有する複数の第1の突条電極51と第2の突条電極52とを備えている。そして、第1の突条電極51は、カラーフィルタ層43の赤色フィルタ部44上に積層された突条電極47であり、第2の突条電極52は、カラーフィルタ層43の青色フィルタ部46上に積層された突条電極47である。   Further, these protruding electrodes 47 are configured by dividing the height dimension into several stages. That is, the protrusion electrodes 47 have a plurality of first protrusions having a height dimension smaller than the cell thickness A between the array substrate 2 and the counter substrate 41 and at least two kinds of different height dimensions. An electrode 51 and a second protruding electrode 52 are provided. The first protrusion electrode 51 is a protrusion electrode 47 laminated on the red filter portion 44 of the color filter layer 43, and the second protrusion electrode 52 is a blue filter portion 46 of the color filter layer 43. This is a protruding electrode 47 laminated on top.

そして、第1の突条電極51は、第2の突条電極52の高さ寸法より大きな高さ寸法を有するとともに、この第2の突条電極52の幅寸法より大きな幅寸法を有している。具体的に、この第1の突条電極51は、一辺が約18μmの平面視略正方形状に形成されている。さらに、この第1の突条電極51は、赤色フィルタ部44と緑色フィルタ部45との間よりも若干赤色フィルタ部44側に積層されている。すなわち、この第1の突条電極51は、スペーサ57から距離Bほど離れた位置に設けられている。また、この第1の突条電極51とアレイ基板2の配向膜28との間には、所定の間隙Cが設けられている。   The first protrusion electrode 51 has a height dimension larger than the height dimension of the second protrusion electrode 52 and a width dimension larger than the width dimension of the second protrusion electrode 52. Yes. Specifically, the first protruding electrode 51 is formed in a substantially square shape in a plan view having a side of about 18 μm. Further, the first protruding electrode 51 is laminated slightly closer to the red filter portion 44 than between the red filter portion 44 and the green filter portion 45. That is, the first protruding electrode 51 is provided at a position separated from the spacer 57 by a distance B. Further, a predetermined gap C is provided between the first protruding electrode 51 and the alignment film 28 of the array substrate 2.

さらに、第2の突条電極52は、第1の突条電極51の高さ寸法より小さな高さ寸法を有しているとともに、この第1の突条電極51の幅寸法より小さな幅寸法を有している。具体的に、この第2の突条電極52は、一辺が約12μmの平面視略正方形状に形成されている。また、この第2の突条電極52は、青色フィルタ部46と赤色フィルタ部44との間よりも若干青色フィルタ部46側に積層されている。すなわち、この第2の突条電極52は、スペーサ57から距離Dほど離れた位置に設けられている。言い換えると、この第2の突条電極52は、第1の突条電極51からスペーサ57までの距離Bより離れた位置に設けられている。また、この第2の突条電極52とアレイ基板2の配向膜28との間には、第1の突条電極51とアレイ基板2の配向膜28との間の間隙Cより大きな、所定の間隙Eが設けられている。   Further, the second protrusion electrode 52 has a height dimension smaller than the height dimension of the first protrusion electrode 51 and a width dimension smaller than the width dimension of the first protrusion electrode 51. Have. Specifically, the second protruding electrode 52 is formed in a substantially square shape in a plan view having a side of about 12 μm. In addition, the second protruding electrode 52 is laminated slightly closer to the blue filter portion 46 than between the blue filter portion 46 and the red filter portion 44. That is, the second protruding electrode 52 is provided at a position separated from the spacer 57 by a distance D. In other words, the second ridge electrode 52 is provided at a position away from the distance B from the first ridge electrode 51 to the spacer 57. Further, a predetermined gap larger than the gap C between the first protruding electrode 51 and the alignment film 28 of the array substrate 2 is provided between the second protruding electrode 52 and the alignment film 28 of the array substrate 2. A gap E is provided.

ここで、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52は、対向基板41の裏面を押圧する圧力に応じてスイッチングするように、スペーサ57からの距離に応じて高さ寸法が調整されている。すなわち、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52は、対向基板41の裏面を押す圧力が比較的小さい場合に第1の突条電極51のみがセンサ用電極27に接触してスイッチングし、対向基板41の裏面を押す圧力が比較的大きい場合に第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれがセンサ用電極27に接触してスイッチングして、対向基板41の裏面を押圧する圧力が検知できるように高さ寸法が調整されている。   Here, the first ridge electrode 51 and the second ridge electrode 52 have a height dimension corresponding to the distance from the spacer 57 so as to switch according to the pressure pressing the back surface of the counter substrate 41. It has been adjusted. In other words, when the pressure pushing the back surface of the counter substrate 41 is relatively small, only the first ridge electrode 51 contacts the sensor electrode 27. When the pressure that presses the back surface of the counter substrate 41 is relatively large, each of the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 contacts and switches to the sensor electrode 27 to switch the counter substrate. The height dimension is adjusted so that the pressure pressing the back surface of 41 can be detected.

具体的に、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52は、スペーサ57から離れた位置に設けられているものほど、高さおよび大きさのそれぞれが小さく形成されている。言い換えると、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52は、スペーサ57から離れるに従って高さが低くなるように配列されている。例えば、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52は、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52からスペーサ57までの距離に反比例あるいは直線的に傾斜した高さ寸法を有している。   Specifically, the height and size of the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 are made smaller as the distance from the spacer 57 is increased. In other words, the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 are arranged so that the height decreases as the distance from the spacer 57 increases. For example, the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 are inclined in inverse proportion or linearly to the distance from the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 to the spacer 57. Has a height dimension.

そして、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれは、絶縁性を有する細長略角柱状の絶縁部としての突条のセンサ用突起53を備えている。これらセンサ用突起53は、導電性を有さない樹脂にて形成されており、カラーフィルタ層43上に下端面を当接させた状態で、このカラーフィルタ層43の一主面上に積層されて設けられている。   Each of the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 includes a protruding sensor protrusion 53 as an elongated, substantially prismatic insulating portion having insulating properties. These sensor projections 53 are formed of a resin having no electrical conductivity, and are laminated on one main surface of the color filter layer 43 with the lower end surface being in contact with the color filter layer 43. Is provided.

さらに、これらセンサ用突起53を除くカラーフィルタ層43の一主面上には、電極層としてのコモン電極である矩形平板状の対向電極54が積層されて設けられている。この対向電極54は、透明電極としてのITOにて約100μmの膜厚に積層されて構成された第2の電極部としての共通電極である。そして、この対向電極54は、赤色フィルタ部44、緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46それぞれの上側面および外側面のそれぞれを覆うようにパターニングされている。また、この対向電極54は、対向基板41とアレイ基板2とを対向させた際に、このアレイ基板2のガラス基板3の画面部4全体に亘って対向する平面視矩形状の大きな電極である。言い換えると、この対向電極54は、アレイ基板2に対向基板41を対向させた際に、このアレイ基板2の各画素5の画素電極6それぞれと相対するように配置されている。   Further, on one main surface of the color filter layer 43 excluding these sensor protrusions 53, a rectangular flat plate-like counter electrode 54, which is a common electrode as an electrode layer, is provided by being laminated. The counter electrode 54 is a common electrode as a second electrode portion formed by laminating ITO with a thickness of about 100 μm as a transparent electrode. The counter electrode 54 is patterned so as to cover the upper surface and the outer surface of each of the red filter portion 44, the green filter portion 45, and the blue filter portion 46. The counter electrode 54 is a large electrode having a rectangular shape in plan view and facing the entire screen portion 4 of the glass substrate 3 of the array substrate 2 when the counter substrate 41 and the array substrate 2 are opposed to each other. . In other words, the counter electrode 54 is disposed so as to face the pixel electrode 6 of each pixel 5 of the array substrate 2 when the counter substrate 41 is opposed to the array substrate 2.

また、各センサ用突起53の上端面および外周面のそれぞれである表面には、透明電極としてのITOにて構成された導電部としての電極部である表面電極55が積層されている。この表面電極55は、対向電極54と同じ材料の導電性を有する樹脂にて形成され、この対向電極54と同じ工程で同時に形成されている。すなわち、この表面電極55は、対向電極54に対して連続して設けられ、この対向電極54と一体的に設けられている。したがって、この表面電極55は、対向電極54の厚さ寸法に等しい厚さ寸法を有しており、センサ用突起53の表面を覆っている。   In addition, a surface electrode 55 as an electrode portion as a conductive portion made of ITO as a transparent electrode is laminated on the surface which is the upper end surface and the outer peripheral surface of each sensor protrusion 53. The surface electrode 55 is formed of a resin having the same material as that of the counter electrode 54 and is formed at the same time as the counter electrode 54 in the same process. That is, the surface electrode 55 is provided continuously with the counter electrode 54 and is provided integrally with the counter electrode 54. Therefore, the surface electrode 55 has a thickness dimension equal to the thickness dimension of the counter electrode 54, and covers the surface of the sensor projection 53.

また、これら表面電極55のうち、センサ用突起53の上端面を覆う部分が電極部56として機能する。この電極部56は、第1の突条電極51および第2の突条電極52それぞれの先端部を構成しており、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52とアレイ基板2のセンサ用電極27とをスイッチングさせてオンさせる際に、このセンサ用電極27に対して配向膜28を介して機械的に接触する部分である。   In addition, a portion of the surface electrode 55 that covers the upper end surface of the sensor projection 53 functions as the electrode portion 56. The electrode portion 56 constitutes a tip portion of each of the first and second protruding electrodes 51 and 52, and the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 and the array substrate. This is a portion that mechanically contacts the sensor electrode 27 via the alignment film 28 when the two sensor electrodes 27 are switched on.

さらに、カラーフィルタ層43の各緑色フィルタ部45それぞれに対向した対向電極54の一主面上には、アレイ基板2と対向基板41との間を一定間隔に保持する細長略角柱状のスペーサ57が設けられている。これらスペーサ57は、弾性変形可能で絶縁性を有する黒色着色層で形成されており、アレイ基板2の配向膜28と対向基板41の配向膜58と間のセルギャップとしてのセル厚Aの厚さ寸法に等しい高さ寸法を有している。また、これらスペーサ57は、アレイ基板2のセンサ用電極27とは対向しない位置であるとともに、平面視でセンサ用電極27間に設けられている。さらに、このスペーサ57は、平面視で第1の突条電極51と第2の突条電極52との間に設けられている。   Further, on one main surface of the counter electrode 54 facing each of the green filter portions 45 of the color filter layer 43, an elongated substantially prismatic spacer 57 that holds the array substrate 2 and the counter substrate 41 at a constant interval. Is provided. These spacers 57 are formed of an elastically deformable black colored layer having an insulating property, and have a cell thickness A as a cell gap between the alignment film 28 of the array substrate 2 and the alignment film 58 of the counter substrate 41. Has a height dimension equal to the dimension. The spacers 57 are not opposed to the sensor electrodes 27 of the array substrate 2 and are provided between the sensor electrodes 27 in plan view. Further, the spacer 57 is provided between the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 in plan view.

すなわち、これらスペーサ57は、画面部4の縦方向および横方向のそれぞれに向けて所定個数の画素5を介した部分の画素5に対向する位置に設けられている。よって、これらスペーサ57は、アレイ基板2の画面部4上に等間隔に離間されて設けられている。さらに、これらスペーサ57は、絶縁性を有する材料にて形成されており、緑色フィルタ部45の幅方向の略中央部に突設されている。よって、これらスペーサ57は、第2の突条電極52より第1の突条電極51に近い位置に設けられている。また、これらスペーサ57は、開口率の低下を防止するために平面視で薄膜トランジスタ8からずれた位置に設けられている。   In other words, the spacers 57 are provided at positions facing the pixels 5 in the portion through the predetermined number of pixels 5 in the vertical direction and the horizontal direction of the screen unit 4. Therefore, these spacers 57 are provided on the screen portion 4 of the array substrate 2 at regular intervals. Furthermore, these spacers 57 are made of an insulating material, and project from the substantially central portion of the green filter portion 45 in the width direction. Therefore, these spacers 57 are provided closer to the first protrusion electrode 51 than the second protrusion electrode 52. The spacers 57 are provided at positions shifted from the thin film transistor 8 in plan view in order to prevent a decrease in the aperture ratio.

さらに、これらスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52を除く対向電極54の一主面上には、配向膜58が積層されて設けられている。この配向膜58は、第1の突条電極51および第2の突条電極52それぞれの表面電極55とスペーサ57とのそれぞれを覆っておらず、これら第1の突条電極51、第2の突条電極52およびスペーサ57間に位置する対向電極54上に設けられている。また、この配向膜58は、第1の突条電極51、第2の突条電極52およびスペーサ57それぞれの外周面の下端縁までに亘って積層されている。さらに、この配向膜58は、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してからラビングなどの配向処理がされて形成されている。   Further, an alignment film 58 is laminated on one main surface of the counter electrode 54 excluding the spacer 57, the first protruding electrode 51, and the second protruding electrode 52. This alignment film 58 does not cover the surface electrode 55 and the spacer 57 of each of the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52, and the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 51 are not covered. It is provided on the counter electrode 54 located between the protruding electrode 52 and the spacer 57. Further, the alignment film 58 is laminated to the lower end edge of the outer peripheral surface of each of the first protruding electrode 51, the second protruding electrode 52, and the spacer 57. Further, the alignment film 58 is formed by applying an alignment film material made of polyimide and then performing an alignment process such as rubbing.

そして、対向基板41のガラス基板42上のカラーフィルタ層43の周縁には、このカラーフィルタ層43の外周縁を周縁する遮光層としての額縁部59が積層されて設けられている。この額縁部59は、カラーフィルタ層43の外周縁に連続して設けられており、このカラーフィルタ層43の周方向に沿って、このカラーフィルタ層43の外周を覆っている。そして、この額縁部59は、額縁状の遮光領域であって、スペーサと同様の黒色着色層にて構成されており、このスペーサと同じ材料で同時に同一工程で形成されている。さらに、この額縁部59は、カラーフィルタ層43の厚さ寸法より小さな厚さ寸法を有している。すなわち、この額縁部59は、カラーフィルタ層43より薄く形成されている。   A frame portion 59 serving as a light shielding layer that surrounds the outer periphery of the color filter layer 43 is provided on the periphery of the color filter layer 43 on the glass substrate 42 of the counter substrate 41. The frame portion 59 is provided continuously on the outer peripheral edge of the color filter layer 43, and covers the outer periphery of the color filter layer 43 along the circumferential direction of the color filter layer 43. The frame portion 59 is a frame-shaped light shielding region, and is formed of a black colored layer similar to the spacer. The frame portion 59 is formed of the same material as the spacer and simultaneously in the same process. Further, the frame portion 59 has a thickness dimension smaller than the thickness dimension of the color filter layer 43. That is, the frame portion 59 is formed thinner than the color filter layer 43.

さらに、対向基板41は、この対向基板41の配向膜58をアレイ基板2の配向膜28に対向させた状態で、アレイ基板2に取り付けられている。すなわち、この対向基板41は、この対向基板41上に設けられている各スペーサ57をアレイ基板2の配向膜28に当接させて、これらアレイ基板2と対向基板41との間に所定の間隔であるセル厚Aを有する液晶封止領域Fが形成されるように、平行に離間された状態で取り付けられている。   Further, the counter substrate 41 is attached to the array substrate 2 with the alignment film 58 of the counter substrate 41 facing the alignment film 28 of the array substrate 2. That is, the counter substrate 41 is configured such that each spacer 57 provided on the counter substrate 41 is brought into contact with the alignment film 28 of the array substrate 2 so that a predetermined distance is provided between the array substrate 2 and the counter substrate 41. The liquid crystal sealing region F having the cell thickness A is attached in a state of being separated in parallel.

すなわち、これらアレイ基板2と対向基板41との間の周縁部は、これらアレイ基板2と対向基板41との間の液晶封止領域Fに液晶組成物を封止させる液晶封止部としての周辺シールであるシール材61が取り付けられて封止されている。このシール材61は、アレイ基板2と対向基板41との間に塗布されてから焼成されて接着され、これらアレイ基板2と対向基板41との間をシールしている。また、このシール材61は、アレイ基板2の画面部4の周縁を覆うように設けられており、このアレイ基板2の画面部4と対向基板41との間に液晶封止領域Fを形成させる。そして、このシール材61は、対向基板41の額縁部59の外側部とアレイ基板2のガラス基板3の画面部4より外側の部分と間に設けられている。   That is, the peripheral portion between the array substrate 2 and the counter substrate 41 is a periphery as a liquid crystal sealing portion that seals the liquid crystal composition in the liquid crystal sealing region F between the array substrate 2 and the counter substrate 41. A sealing material 61 as a seal is attached and sealed. The sealing material 61 is applied between the array substrate 2 and the counter substrate 41 and then baked and bonded to seal between the array substrate 2 and the counter substrate 41. The sealing material 61 is provided so as to cover the periphery of the screen portion 4 of the array substrate 2, and a liquid crystal sealing region F is formed between the screen portion 4 of the array substrate 2 and the counter substrate 41. . The sealing material 61 is provided between the outer portion of the frame portion 59 of the counter substrate 41 and the portion outside the screen portion 4 of the glass substrate 3 of the array substrate 2.

さらに、図3に示すように、このシール材61の一部には、液晶封止領域Fを開口させる注入口としての液晶注入口62が形成されている。この液晶注入口62は、アレイ基板2の角部の一端寄りの位置に設けられている。そして、液晶封止領域Fには、カイラル材が添加されたネマチィック液晶材料である図示しない液晶組成物が液晶注入口62から注入されて挟持されて光変調層としての液晶層63が形成されている。   Further, as shown in FIG. 3, a liquid crystal injection port 62 as an injection port for opening the liquid crystal sealing region F is formed in a part of the sealing material 61. The liquid crystal injection port 62 is provided at a position near one end of the corner of the array substrate 2. In the liquid crystal sealing region F, a liquid crystal composition (not shown), which is a nematic liquid crystal material to which a chiral material is added, is injected from a liquid crystal injection port 62 and sandwiched therebetween to form a liquid crystal layer 63 as a light modulation layer. Yes.

この液晶層63は、対向基板41の配向膜58とアレイ基板2の配向膜28との間に液晶組成物が介挿されて封止されて構成されている。さらに、この液晶層63は、アレイ基板2の画素電極6と対向基板41の対向電極54との間に液晶容量を形成させる。また、液晶注入口62は、液晶封止領域Fに液晶組成物が注入されて封止された状態で、紫外線硬化樹脂が封止材64として塗布されて封止されている。   The liquid crystal layer 63 is configured by sealing a liquid crystal composition interposed between the alignment film 58 of the counter substrate 41 and the alignment film 28 of the array substrate 2. Further, the liquid crystal layer 63 forms a liquid crystal capacitance between the pixel electrode 6 of the array substrate 2 and the counter electrode 54 of the counter substrate 41. The liquid crystal injection port 62 is sealed by applying an ultraviolet curable resin as the sealing material 64 in a state where the liquid crystal composition is injected into the liquid crystal sealing region F and sealed.

そして、アレイ基板2のガラス基板3の他主面である裏面と対向基板41のガラス基板42の他主面である裏面とのそれぞれには、矩形平板状の偏光板65,66が重ね合わされて配置されている。   Then, rectangular plate-like polarizing plates 65 and 66 are superimposed on each of the back surface which is the other main surface of the glass substrate 3 of the array substrate 2 and the back surface which is the other main surface of the glass substrate 42 of the counter substrate 41. Has been placed.

次に、上記第1の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment will be described.

まず、アレイ基板2は、ガラス基板3上にゲート電極21を形成してから、このゲート電極21を含むガラス基板3上にゲート絶縁膜22を形成する。   First, in the array substrate 2, the gate electrode 21 is formed on the glass substrate 3, and then the gate insulating film 22 is formed on the glass substrate 3 including the gate electrode 21.

この後、ゲート電極21に対向するゲート絶縁膜22上にソース電極23およびドレイン電極24を形成して薄膜トランジスタ8としてから、これら薄膜トランジスタ8のソース電極23およびドレイン電極23を含むゲート絶縁膜22上に層間絶縁膜25を形成する。   Thereafter, a source electrode 23 and a drain electrode 24 are formed on the gate insulating film 22 facing the gate electrode 21 to form the thin film transistor 8, and then on the gate insulating film 22 including the source electrode 23 and the drain electrode 23 of the thin film transistor 8. An interlayer insulating film 25 is formed.

次いで、この層間絶縁膜25にコンタクトホール26を設けて、各薄膜トランジスタ8それぞれのドレイン電極24を開口させてから、これらコンタクトホール26を含む層間絶縁膜25上にITOをスパッタ法にて成膜した後に、このITOを各画素5に対応させてパターニングして画素電極6およびセンサ用電極27を形成する。   Next, a contact hole 26 is provided in the interlayer insulating film 25, the drain electrode 24 of each thin film transistor 8 is opened, and ITO is formed on the interlayer insulating film 25 including the contact hole 26 by sputtering. Later, this ITO is patterned to correspond to each pixel 5 to form the pixel electrode 6 and the sensor electrode 27.

この後、これら画素電極6およびセンサ用電極27を含む層間絶縁膜25上の全面に、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してから配向処理して配向膜28を形成してアレイ基板2とする。   Thereafter, an alignment film material made of polyimide is applied to the entire surface of the interlayer insulating film 25 including the pixel electrode 6 and the sensor electrode 27, and then an alignment process is performed to form the alignment film 28, thereby forming the array substrate 2. .

一方、対向基板41は、ガラス基板42上に、紫外線硬化型アクリル系赤色レジストを図示しないスピンナにて塗布してから、約90℃で約5分間プリベークとして焼成してから、このガラス基板42上の赤色を着色したい部分に光が照射されるような図示しないマスクパターンを形成する。   On the other hand, the counter substrate 41 is coated with a UV curable acrylic red resist on a glass substrate 42 with a spinner (not shown) and baked as a prebake at about 90 ° C. for about 5 minutes. A mask pattern (not shown) is formed so as to irradiate light to a portion to be colored red.

この後、このガラス基板42上に、マスクパターンを介して例えば150mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。このとき、このマスクパターンには、赤色フィルタ部44に対応するストライプパターンが形成されている。 Thereafter, the glass substrate 42 is exposed to ultraviolet rays having an intensity of, for example, 150 mJ / cm 2 through a mask pattern. At this time, a stripe pattern corresponding to the red filter portion 44 is formed in this mask pattern.

次いで、この露光されたガラス基板42を、約0.1質量%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液を用いて約60秒間現像してから水洗いした後に、約200℃で1時間ポストベークとして焼成して赤色フィルタ部44を形成する。   Next, the exposed glass substrate 42 is developed for about 60 seconds using an aqueous solution of about 0.1% by mass of TMAH (tetramethylammonium hydride), washed with water, and then baked as post-baking at about 200 ° C. for 1 hour. Thus, the red filter portion 44 is formed.

さらに、この赤色フィルタ部44を形成する場合と同様に緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46のそれぞれを形成して、ガラス基板42の表示領域にカラーフィルタ層43を形成する。   Further, each of the green filter portion 45 and the blue filter portion 46 is formed similarly to the case of forming the red filter portion 44, and the color filter layer 43 is formed in the display region of the glass substrate.

次いで、このカラーフィルタ層43上に、導電性樹脂で高さが異なるセンサ用突起53を同時に形成する。このとき、これらセンサ用突起53の高さは、これらセンサ用突起53の平面視の大きさ、すなわちマスクサイズを変えて調整する。   Next, sensor protrusions 53 having different heights made of conductive resin are simultaneously formed on the color filter layer 43. At this time, the heights of the sensor protrusions 53 are adjusted by changing the size of the sensor protrusions 53 in a plan view, that is, the mask size.

すなわち、図4に示すように、センサ用突起53のマスクサイズが一辺約25μm以下の正方形状の場合には、これらセンサ用突起53のマスクサイズが大きいほど、これらセンサ用突起53の高さを高くできる。これに対し、センサ用突起53のマスクサイズが一辺約25μm以上の正方形状の場合には、これらセンサ用突起53のマスクサイズが大きいほど、これらセンサ用突起53の中央部が窪んでしまって、これらセンサ用突起53の平均的な高さが低くなり、これらセンサ用突起53とセンサ用電極27との間の電気的な容量の変化が大きくなってしまう。   That is, as shown in FIG. 4, in the case where the mask size of the sensor projection 53 is a square shape having a side of about 25 μm or less, the height of the sensor projection 53 increases as the mask size of the sensor projection 53 increases. Can be high. On the other hand, when the mask size of the sensor projection 53 is a square shape having a side of about 25 μm or more, the larger the mask size of the sensor projection 53, the more the central portion of the sensor projection 53 is depressed. The average height of the sensor protrusions 53 decreases, and the change in electrical capacitance between the sensor protrusions 53 and the sensor electrode 27 increases.

したがって、この場合には、第1の突条電極51用のセンサ用突起53のマスクサイズを一辺約18μmの正方形状とするとともに、第2の突条電極52用のセンサ用突起53のマスクサイズを一辺約15μmの正方形状として、これら第1の突条電極51用のセンサ用突起53と第2の突条電極52用のセンサ用突起53のマスクサイズを変えて同時に形成する。   Therefore, in this case, the mask size of the sensor protrusion 53 for the first protrusion electrode 51 is a square shape having a side of about 18 μm, and the mask size of the sensor protrusion 53 for the second protrusion electrode 52 is set. Are formed at the same time by changing the mask size of the sensor protrusion 53 for the first protrusion electrode 51 and the sensor protrusion 53 for the second protrusion electrode 52.

この後、これらセンサ用突起53を含むカラーフィルタ層43上にITOをスパッタ法にて約100μmの厚さに成膜した後に、このITOをパターニングして対向電極54を形成するとともに表面電極55を形成して第1の突条電極51および第2の突条電極52をそれぞれ形成する。   Thereafter, ITO is deposited on the color filter layer 43 including the sensor projections 53 by a sputtering method to a thickness of about 100 μm, and then the ITO is patterned to form the counter electrode 54 and the surface electrode 55. The first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 are formed, respectively.

次いで、この対向電極54上およびカラーフィルタ層43の周縁のそれぞれに黒色着色層を積層させてスペーサ57および額縁部59を同時に同じ材料で形成してから、これらスペーサ57および第1の突条電極51および第2の突条電極52を除くカラーフィルタ層43上に、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してから配向処理して配向膜58を形成して対向基板41とする。   Next, a black colored layer is laminated on the counter electrode 54 and on the periphery of the color filter layer 43 to form the spacer 57 and the frame portion 59 of the same material at the same time, and then the spacer 57 and the first protruding electrode are formed. An alignment film 58 made of polyimide is applied on the color filter layer 43 excluding 51 and the second protruding electrode 52, and then subjected to an alignment process to form an alignment film 58, thereby forming the counter substrate 41.

この後、この対向基板41のガラス基板42の一主面の周縁における液晶注入口62を形成する部分を除く部分にシール材61を塗布してから、この対向基板41にアレイ基板2を対向させて貼り合わせる。   Thereafter, a sealing material 61 is applied to a portion of the counter substrate 41 other than a portion where the liquid crystal injection port 62 is formed at the periphery of one main surface of the glass substrate 42, and then the array substrate 2 is opposed to the counter substrate 41. And paste them together.

この状態で、液晶注入口62からアレイ基板2と対向基板41との間の液晶封止領域Fに液晶組成物を注入してから、この液晶注入口62を封止材64として紫外線硬化樹脂で封止した後に、これらアレイ基板2および対向基板41それぞれの裏面に偏光板65,66を配置して、カラー表示が可能でタッチパネル機能を有する液晶パネル1を作製する。   In this state, a liquid crystal composition is injected from the liquid crystal injection port 62 into the liquid crystal sealing region F between the array substrate 2 and the counter substrate 41, and then the liquid crystal injection port 62 is used as a sealing material 64 with an ultraviolet curable resin. After sealing, the polarizing plates 65 and 66 are disposed on the back surfaces of the array substrate 2 and the counter substrate 41, so that the liquid crystal panel 1 capable of color display and having a touch panel function is manufactured.

上述したように、上記第1の実施の形態によれば、対向基板41の裏面を押したときの圧力に比例して、スペーサ57の弾性変形量が変化し対向基板41のたわみ量が変化する。そこで、この対向基板41のカラーフィルタ層43上の突条電極47の高さをスペーサ57からの距離に反比例させて、高さ寸法の異なる第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれを形成した。   As described above, according to the first embodiment, the amount of elastic deformation of the spacer 57 changes and the amount of deflection of the counter substrate 41 changes in proportion to the pressure when the back surface of the counter substrate 41 is pressed. . Therefore, the height of the protruding electrode 47 on the color filter layer 43 of the counter substrate 41 is inversely proportional to the distance from the spacer 57, so that the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode having different height dimensions are used. Each of 52 formed.

この結果、対向基板41の裏面を比較的弱く押してスペーサ57を若干弾性変形させた場合には、高さ寸法が大きな第1の突条電極51の電極部56のみが、アレイ基板2のセンサ用電極27に電気的に接触してスイッチングする。また、対向基板41の裏面を比較的強い力で押してスペーサ57をより大きく弾性変形させた場合には、第1の突条電極51の電極部56とともに、この第1の突条電極51より高さ寸法が小さな第2の突条電極52の電極部56もが、アレイ基板2のセンサ用電極27にそれぞれ電気的に接触してスイッチングする。   As a result, when the back surface of the counter substrate 41 is relatively weakly pressed and the spacer 57 is slightly elastically deformed, only the electrode portion 56 of the first protruding electrode 51 having a large height dimension is used for the sensor of the array substrate 2. Switching is performed in electrical contact with the electrode 27. Further, when the back surface of the counter substrate 41 is pushed with a relatively strong force and the spacer 57 is elastically deformed more greatly, the electrode portion 56 of the first protruding electrode 51 and the first protruding electrode 51 are higher than the first protruding electrode 51. The electrode portions 56 of the second protrusion electrodes 52 having small dimensions are also electrically contacted with the sensor electrodes 27 of the array substrate 2 for switching.

したがって、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれの高さをスペーサ57からの距離に反比例させたことにより、対向基板41の裏面を押す力に応じて、スイッチングする突条電極47の個数を異ならせて変化させることができる。このため、これら突条電極47それぞれのスイッチングを読み取って解析することによって、対向基板41の裏面を押したときの圧力の検知が可能となる。   Therefore, by switching the height of each of the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 in inverse proportion to the distance from the spacer 57, switching is performed according to the force pressing the back surface of the counter substrate 41. The number of the protruding electrodes 47 can be varied. For this reason, it is possible to detect the pressure when the back surface of the counter substrate 41 is pressed by reading and analyzing the switching of each of the protruding electrodes 47.

また、これら突条電極47を構成する第1の突条電極51および第2の突条電極52それぞれの高さ寸法を適宜調整することによって、これら第1の突条電極51あるいは第2の突条電極52をスイッチングさせるために必要な対向基板41の裏面を押す力を任意に調整できる。したがって、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52のスイッチング加減を調整できるから、第1の突条電極51あるいは第2の突条電極52のスイッチング感度を調整できるとともに、対向基板41の裏面を押す際のスイッチング感度を調整できる。よって、液晶パネル1の圧力検知感度を希望する感度に合わせて調整できる。   Further, by appropriately adjusting the height of each of the first and second protrusion electrodes 51 and 52 constituting the protrusion electrodes 47, the first protrusion electrodes 51 or the second protrusion electrodes 51 are adjusted. The force for pressing the back surface of the counter substrate 41 required for switching the strip electrode 52 can be arbitrarily adjusted. Accordingly, since the switching adjustment of the first and second ridge electrodes 51 and 52 can be adjusted, the switching sensitivity of the first and second ridge electrodes 51 and 52 can be adjusted. The switching sensitivity when pressing the back surface of the substrate 41 can be adjusted. Therefore, the pressure detection sensitivity of the liquid crystal panel 1 can be adjusted to the desired sensitivity.

さらに、タッチパネル機能を有するシート状のタッチパネルを液晶パネルに重ね合わせた場合に比べ、液晶パネル1のアレイ基板2と対向基板41との間にタッチセンサ48を設けたことにより、液晶表示機能とタッチパネル機能とを一体化でき、厚さおよび重量の増加や透過率の低下、色味変化がないタッチパネル機能付き液晶パネル1にできる。   Furthermore, compared with the case where a sheet-like touch panel having a touch panel function is overlapped on the liquid crystal panel, a touch sensor 48 is provided between the array substrate 2 and the counter substrate 41 of the liquid crystal panel 1, so that the liquid crystal display function and the touch panel are provided. It is possible to make the liquid crystal panel 1 with a touch panel function capable of integrating the functions and having no increase in thickness and weight, a decrease in transmittance, and no change in color.

なお、上記第1の実施の形態では、対向基板41にカラーフィルタ層43を設け、このカラーフィルタ層43上にスペーサ57および突条電極47を設けたが、図5に示す第2の実施の形態のように、アレイ基板2上にカラーフィルタ層43を設け、このカラーフィルタ43層上にスペーサ57および突条電極47を設けることもできる。そして、このアレイ基板2は、層間絶縁膜25上にカラーフィルタ層43が積層されて設けられている。これらカラーフィルタ層43および層間絶縁膜25には、薄膜トランジスタ8のドレイン電極24に連通したコンタクトホール26が開口されている。そして、このコンタクトホール26を含むカラーフィルタ層43上には、各画素5に対応して画素電極6が積層されて設けられている。   In the first embodiment, the color filter layer 43 is provided on the counter substrate 41, and the spacer 57 and the protruding electrode 47 are provided on the color filter layer 43. However, the second embodiment shown in FIG. As in the embodiment, the color filter layer 43 may be provided on the array substrate 2, and the spacer 57 and the protruding electrode 47 may be provided on the color filter 43 layer. The array substrate 2 is provided with a color filter layer 43 laminated on the interlayer insulating film 25. A contact hole 26 communicating with the drain electrode 24 of the thin film transistor 8 is opened in the color filter layer 43 and the interlayer insulating film 25. On the color filter layer 43 including the contact hole 26, pixel electrodes 6 are stacked corresponding to the respective pixels 5.

また、これら画素電極6間のカラーフィルタ層43上には、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれが突設されている。ここで、第1の突条電極51は、赤色フィルタ部44と緑色フィルタ部45との間上に積層されている。また、第2の突条電極52は、緑色フィルタ部45と青色フィルタ部46との間よりも若干緑色フィルタ部45側に積層されている。さらに、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52それぞれのセンサ用突起53は、カラーフィルタ層43上に積層されて設けられている。そして、これら第1の突条電極51および第2の突条電極52それぞれの表面電極55は、画素電極6に電気的に接続されている。   Further, on the color filter layer 43 between the pixel electrodes 6, a first protrusion electrode 51 and a second protrusion electrode 52 are provided so as to protrude. Here, the first protruding electrode 51 is stacked between the red filter portion 44 and the green filter portion 45. Further, the second protruding electrode 52 is slightly laminated on the green filter part 45 side than between the green filter part 45 and the blue filter part 46. Further, the sensor protrusions 53 of the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 are stacked on the color filter layer 43. The surface electrode 55 of each of the first and second protrusion electrodes 51 and 52 is electrically connected to the pixel electrode 6.

さらに、緑色フィルタ部45上に積層された画素電極6上には、スペーサ57が突設されている。このスペーサ57は、緑色フィルタ部45の幅方向の中央部に設けられている。そして、このスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52を除き画素電極6を含む層間絶縁膜25上には、配向膜28が積層されている。   Further, a spacer 57 is projected from the pixel electrode 6 stacked on the green filter portion 45. The spacer 57 is provided at the center of the green filter portion 45 in the width direction. An alignment film 28 is laminated on the interlayer insulating film 25 including the pixel electrode 6 except for the spacer 57, the first protruding electrode 51, and the second protruding electrode 52.

一方、対向基板41は、ガラス基板42上に、電極層として対向電極54が積層されている。この対向電極54は、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれが電気的に接触してスイッチングするセンサ用電極27として機能する。したがって、タッチセンサ48は、第1の突条電極51、第2の突条電極52および対向電極54にて構成される。さらに、この対向電極54上には、配向膜58が積層されている。この配向膜58は、対向基板41の表示領域の略全面を覆っている。   On the other hand, the counter substrate 41 has a counter electrode 54 laminated on the glass substrate 42 as an electrode layer. The counter electrode 54 functions as a sensor electrode 27 that is switched by the first protruding electrode 51 and the second protruding electrode 52 being in electrical contact with each other. Accordingly, the touch sensor 48 includes the first protruding electrode 51, the second protruding electrode 52, and the counter electrode 54. Further, an alignment film 58 is laminated on the counter electrode 54. This alignment film 58 covers substantially the entire display area of the counter substrate 41.

次に、上記第2の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to the second embodiment will be described.

まず、アレイ基板2は、ガラス基板3上に薄膜トランジスタ8を形成してから、これら薄膜トランジスタ8を含むゲート絶縁膜22上に層間絶縁膜25を形成する。   First, in the array substrate 2, the thin film transistor 8 is formed on the glass substrate 3, and then the interlayer insulating film 25 is formed on the gate insulating film 22 including the thin film transistor 8.

この後、この層間絶縁膜25上に、紫外線硬化型アクリル系赤色レジストを図示しないスピンナにて塗布してから、約90℃で約5分間プリベークとして焼成してから、この層間絶縁膜25上の赤色を着色したい部分に光が照射されるような図示しないマスクパターンを形成する。   Thereafter, an ultraviolet curable acrylic red resist is applied onto the interlayer insulating film 25 with a spinner (not shown), and baked as a pre-bake at about 90 ° C. for about 5 minutes. A mask pattern (not shown) is formed so as to irradiate light to a portion to be colored red.

この後、このプリベークされた紫外線硬化型アクリル系赤色レジスト上にマスクパターンが形成された層間絶縁膜25上に、このマスクパターンを介して例えば150mJ/cmの強度の紫外線を照射して露光する。このとき、このマスクパターンには、赤色フィルタ部44に対応するストライプパターンと、コンタクトホール26に対応する直径15μm程度の円形状パターンが形成されている。 Thereafter, the interlayer insulating film 25 having a mask pattern formed on the pre-baked UV-curable acrylic red resist is irradiated with UV light having an intensity of, for example, 150 mJ / cm 2 through the mask pattern. . At this time, a stripe pattern corresponding to the red filter portion 44 and a circular pattern having a diameter of about 15 μm corresponding to the contact hole 26 are formed in this mask pattern.

次いで、この露光されたガラス基板3を、約0.1質量%のTMAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶液を用いて約60秒間現像してから水洗いした後に、約200℃で1時間ポストベークとして焼成して、コンタクトホール26が形成された赤色フィルタ部44を形成する。   Next, the exposed glass substrate 3 is developed with an aqueous solution of about 0.1% by mass of TMAH (tetramethylammonium hydride) for about 60 seconds, washed with water, and then baked as post-baking at about 200 ° C. for 1 hour. Thus, the red filter portion 44 in which the contact hole 26 is formed is formed.

さらに、この赤色フィルタ部44を形成する場合と同様にして、コンタクトホール26が形成された緑色フィルタ部45および青色フィルタ部46のそれぞれを形成して、ガラス基板42の表示領域にカラーフィルタ層43を形成する。   Further, in the same manner as when the red filter portion 44 is formed, each of the green filter portion 45 and the blue filter portion 46 in which the contact holes 26 are formed is formed, and the color filter layer 43 is formed in the display region of the glass substrate 42. Form.

次いで、これらコンタクトホール26を含むカラーフィルタ層43上にITOをスパッタ法にて成膜した後に、このITOを各画素5に対応させてパターニングして画素電極6を形成する。   Next, ITO is deposited on the color filter layer 43 including the contact holes 26 by sputtering, and then patterned to correspond to each pixel 5 to form pixel electrodes 6.

この後、これら画素電極6間のカラーフィルタ層43上に、導電性樹脂でセンサ用突起53を形成する。ここで、これらセンサ用突起53の高さを、マスクサイズを変えて調整する。   Thereafter, sensor protrusions 53 are formed of a conductive resin on the color filter layer 43 between the pixel electrodes 6. Here, the height of the sensor projections 53 is adjusted by changing the mask size.

次いで、これらセンサ用突起53を含むカラーフィルタ層43上にITOをスパッタ法にて約100μmの厚さに成膜した後に、このITOをパターニングして表面電極55を形成して第1の突条電極51および第2の突条電極52をそれぞれ形成する。   Next, ITO is formed on the color filter layer 43 including the sensor projections 53 by sputtering to a thickness of about 100 μm, and then the ITO is patterned to form a surface electrode 55 to form the first protrusions. An electrode 51 and a second protruding electrode 52 are formed respectively.

次いで、カラーフィルタ層43の緑色フィルタ部45上に積層された画素電極6上とこのカラーフィルタ層43の周縁とのそれぞれに黒色着色層を積層させてスペーサ57および額縁部59を同時に同じ材料で形成してから、これらスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52を除き画素電極6を含むカラーフィルタ層43上に、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してから配向処理して配向膜28を形成してアレイ基板2とする。   Next, a black colored layer is laminated on each of the pixel electrodes 6 laminated on the green filter portion 45 of the color filter layer 43 and the periphery of the color filter layer 43, and the spacer 57 and the frame portion 59 are simultaneously made of the same material. After the formation, the alignment film material made of polyimide is applied on the color filter layer 43 including the pixel electrode 6 except for the spacer 57, the first protruding electrode 51, and the second protruding electrode 52, and then aligned. The alignment film 28 is formed by processing to form the array substrate 2.

一方、対向基板41は、ガラス基板42上にITOをスパッタ法にて約100μmの厚さに成膜した後に、このITOをパターニングして対向電極54を形成する。   On the other hand, the counter substrate 41 is formed by depositing ITO on the glass substrate 42 to a thickness of about 100 μm by sputtering, and then patterning the ITO to form the counter electrode 54.

次いで、この対向電極54上に、ポリイミドからなる配向膜材料を塗布してから配向処理して配向膜58を形成して対向基板41とする。   Next, an alignment film material made of polyimide is applied onto the counter electrode 54 and then subjected to an alignment process to form an alignment film 58 to form the counter substrate 41.

この後、この対向基板41とアレイ基板2とをシール材61にて貼り合わせた後、これらアレイ基板2と対向基板41との間の液晶封止領域Fに液晶注入口62から液晶組成物を注入する。   Thereafter, the counter substrate 41 and the array substrate 2 are bonded together with a sealing material 61, and then a liquid crystal composition is applied from the liquid crystal injection port 62 to the liquid crystal sealing region F between the array substrate 2 and the counter substrate 41. inject.

次いで、この液晶注入口62を封止材64で封止した後に、これらアレイ基板2および対向基板41それぞれの裏面に偏光板65,66を配置して、カラー表示が可能でタッチパネル機能を有する液晶パネル1を作製する。   Next, after the liquid crystal injection port 62 is sealed with a sealing material 64, polarizing plates 65 and 66 are arranged on the back surfaces of the array substrate 2 and the counter substrate 41, respectively, and a liquid crystal capable of color display and having a touch panel function. Panel 1 is produced.

上述したように、上記第2の実施の形態によれば、アレイ基板2上の突条電極47を、スペーサ57からの距離に反比例させて高さ寸法の異なる第1の突条電極51および第2の突条電極52で形成したので、上記第1の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。さらに、カラーフィルタ層43をアレイ基板2側に形成したことにより、液晶パネル1の画素開口率を向上できるので、液晶パネル1を明るくでき、視認性を向上できる。   As described above, according to the second embodiment, the first protrusion electrode 51 and the first protrusion electrode 51 and the first protrusion electrodes 51 on the array substrate 2 having different height dimensions in inverse proportion to the distance from the spacer 57 are used. Since the two protruding electrodes 52 are formed, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Further, since the color filter layer 43 is formed on the array substrate 2 side, the pixel aperture ratio of the liquid crystal panel 1 can be improved, so that the liquid crystal panel 1 can be brightened and visibility can be improved.

次いで、図6および図7に示す第3の実施の形態のように、アレイ基板2のガラス基板3上に設けられている突条電極47の高さをスペーサ57からの距離に反比例させて高さ寸法の異なる第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71のそれぞれを形成することもできる。このとき、第3の突条電極71は、第2の突条電極52の高さ寸法より小さな高さ寸法を有している。   Next, as in the third embodiment shown in FIGS. 6 and 7, the height of the protruding electrode 47 provided on the glass substrate 3 of the array substrate 2 is increased in inverse proportion to the distance from the spacer 57. Each of the first protrusion electrode 51, the second protrusion electrode 52, and the third protrusion electrode 71 having different dimensions can be formed. At this time, the third protrusion electrode 71 has a height dimension smaller than the height dimension of the second protrusion electrode 52.

さらに、これら第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71のそれぞれは、ガラス基板3上に等間隔に離間されて設けられている。また、これら第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71のそれぞれは、等しい差を介して段階的に高さ寸法および幅寸法のそれぞれが設定されている。すなわち、これら第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71のそれぞれは、高さ寸法および幅寸法のそれぞれがスペーサ57からの距離に応じて変更されている。   Further, each of the first projecting electrode 51, the second projecting electrode 52, and the third projecting electrode 71 is provided on the glass substrate 3 at regular intervals. In addition, each of the first protruding electrode 51, the second protruding electrode 52, and the third protruding electrode 71 has a height dimension and a width dimension set in stages through equal differences. Yes. That is, each of the first protruding electrode 51, the second protruding electrode 52, and the third protruding electrode 71 has a height dimension and a width dimension that are changed in accordance with the distance from the spacer 57. Yes.

この結果、対向基板41の裏面を指GやペンHなどで比較的弱い力で押すことによって、図7に示すように、この対向基板41がたわみ、この対向基板41に設けられている対向電極54がアレイ基板2上の第3の突条電極71のみに電気的に接続してスイッチングするので、この対向基板41の裏面に圧力が加わったことを感知できる。また、この対向基板41の裏面を指GやペンHなどで比較的強いで押して対向基板41をよりたわませると、この対向基板41の対向電極54がアレイ基板2上の第2の突条電極52および第3の突条電極71それぞれに電気的に接続してスイッチングする。さらに、この対向基板41の裏面を指GやペンHなどでより強いで押して対向基板41をさらにたわませると、この対向基板41の対向電極54がアレイ基板2上の第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71それぞれに電気的に接続してスイッチングする。   As a result, by pressing the back surface of the counter substrate 41 with a relatively weak force with a finger G or a pen H, the counter substrate 41 bends as shown in FIG. Since 54 is electrically connected to only the third protrusion electrode 71 on the array substrate 2 for switching, it can be sensed that pressure is applied to the back surface of the counter substrate 41. Further, when the counter substrate 41 is further bent by pressing the back surface of the counter substrate 41 with a finger G or a pen H with a relatively strong force, the counter electrode 54 of the counter substrate 41 becomes a second protrusion on the array substrate 2. The electrode 52 and the third protrusion electrode 71 are electrically connected to each other for switching. Further, when the counter substrate 41 is further bent by pressing the back surface of the counter substrate 41 with a finger G or pen H more strongly, the counter electrode 54 of the counter substrate 41 becomes the first protruding electrode on the array substrate 2. 51, the second ridge electrode 52 and the third ridge electrode 71 are electrically connected to each other for switching.

よって、これら高さ寸法の異なる第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71それぞれをスペーサ57からの距離に応じてアレイ基板2上に設けることによって、この対向基板41の裏面を押す圧力を段階的に感知できる。ただし、高さの異なる第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71をアレイ基板2上にランダム、すなわち無秩序に配置させた場合には、アレイ基板2内で若干のばらつきが生じてしまう。   Therefore, by providing the first protruding electrode 51, the second protruding electrode 52, and the third protruding electrode 71 having different heights on the array substrate 2 according to the distance from the spacer 57, The pressure pushing the back surface of the counter substrate 41 can be sensed step by step. However, when the first ridge electrode 51, the second ridge electrode 52, and the third ridge electrode 71 having different heights are randomly arranged on the array substrate 2, that is, the array substrate 2 Some variation will occur.

さらに、図8および図9に示す第4の実施の形態のように、アレイ基板2上に複数のスペーサ57をマトリクス状に設け、これらスペーサ57間の中心に第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれをパターニングして設けることもできる。そして、スペーサ57は、アレイ基板2の画面部4内に、このアレイ基板2の縦方向および横方向のそれぞれに沿って等間隔に離間されて設けられている。すなわち、これらスペーサ57は、アレイ基板2の縦方向に沿って2画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って6画素毎に設けられている。   Further, as in the fourth embodiment shown in FIGS. 8 and 9, a plurality of spacers 57 are provided on the array substrate 2 in a matrix, and the first protruding electrodes 51 and the Each of the two protruding electrodes 52 can be provided by patterning. The spacers 57 are provided in the screen portion 4 of the array substrate 2 so as to be spaced apart at equal intervals along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. That is, the spacers 57 are provided for every two pixels along the vertical direction of the array substrate 2, and are provided for every six pixels along the horizontal direction of the array substrate 2.

また、第1の突条電極51は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿ったスペーサ57間の中央部に設けられている。すなわち、これら第1の突条電極51は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿って隣接するスペーサ57から等間隔に離間された位置に設けられている。したがって、これら第1の突条電極51もまた、スペーサ57と同様に、アレイ基板2の縦方向に沿って2画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って6画素毎に設けられている。   In addition, the first protruding electrode 51 is provided in the central portion between the spacers 57 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. That is, these first protruding electrodes 51 are provided at positions spaced at equal intervals from the adjacent spacers 57 along the vertical and horizontal directions of the array substrate 2. Accordingly, the first protruding electrodes 51 are also provided for every two pixels along the vertical direction of the array substrate 2 and are provided for every six pixels along the horizontal direction of the array substrate 2, similarly to the spacer 57. It has been.

さらに、第2の突条電極52は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿った第1の突条電極51間の中央部に設けられている。すなわち、これら第2の突条電極52は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿って隣接する第1の突条電極51から等間隔に離間された位置に設けられている。したがって、これら第2の突条電極52もまた、アレイ基板2の縦方向に沿って2画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って6画素毎に設けられている。よって、これら第2の突条電極52は、第1の突条電極51よりもスペーサ57から離れた位置に設けられている。   Further, the second protruding electrode 52 is provided in the central portion between the first protruding electrodes 51 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. That is, these second protruding electrodes 52 are provided at positions spaced at equal intervals from the adjacent first protruding electrodes 51 along the vertical and horizontal directions of the array substrate 2. Accordingly, the second protruding electrodes 52 are also provided for every two pixels along the vertical direction of the array substrate 2 and are provided every six pixels along the horizontal direction of the array substrate 2. Therefore, these second protrusion electrodes 52 are provided at positions farther from the spacer 57 than the first protrusion electrodes 51.

この結果、図9に示すように、対向基板41の裏面を弱く押した場合には、第1の突条電極51のみが対向電極54に電気的に接続してスイッチングされる。また、この対向基板54の裏面を強く押した場合には、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれが対向電極54に電気的に接続してスイッチングされる。したがって、この対向基板41の裏面を押す力によって、この対向基板41上の対向電極54に接触する突条電極47の種類や個数を変化できるので、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができるとともに、対向基板41の裏面を押す力を感知できる液晶パネル1にできる。   As a result, as shown in FIG. 9, when the back surface of the counter substrate 41 is weakly pressed, only the first protrusion electrode 51 is electrically connected to the counter electrode 54 and switched. Further, when the back surface of the counter substrate 54 is strongly pressed, each of the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 is electrically connected to the counter electrode 54 and switched. Therefore, the type and number of the protruding electrodes 47 that come into contact with the counter electrode 54 on the counter substrate 41 can be changed by the force pressing the back surface of the counter substrate 41, so that the same effects as those in the above embodiments can be obtained. In addition, the liquid crystal panel 1 can sense the force pushing the back surface of the counter substrate 41.

また、突条電極47をスペーサ57からの距離に応じて規則的に配置させたため、液晶パネル1の圧力に対する感度の面内分布を小さくできる。さらに、上述のスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれに対応したマスクパターンを形成すれば、これらスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれを同時の工程で形成できる。   Further, since the protruding electrodes 47 are regularly arranged according to the distance from the spacer 57, the in-plane distribution of sensitivity to the pressure of the liquid crystal panel 1 can be reduced. Furthermore, if a mask pattern corresponding to each of the spacer 57, the first protrusion electrode 51, and the second protrusion electrode 52 is formed, the spacer 57, the first protrusion electrode 51, and the second protrusion electrode 52 are formed. Each of the strip electrodes 52 can be formed in the same process.

さらに、図示しない制御ソフトを設定して突条電極47を任意に選択できるように構成することによって、これら高さ寸法が異なる第1の突条電極51および第2の突条電極52にて構成された突条電極47による感度調整ができる。例えば、第1の突条電極51が対向電極54に電気的に接触した際に感知するように設定すれば、対向基板41の裏面を比較的弱い力で押しても感知できるようになる。一方、第2の突条電極52が対向電極54に電気的に接触した際に感知するように設定すれば、対向基板41の裏面を比較的強い力で押して対向基板41のたわみを大きくしなければ感知しないようにできる。   Further, by configuring control software (not shown) so that the protrusion electrode 47 can be arbitrarily selected, the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 having different height dimensions are used. The sensitivity can be adjusted by the projected electrode 47. For example, if the first protrusion electrode 51 is set to detect when it electrically contacts the counter electrode 54, it can be detected even if the back surface of the counter substrate 41 is pressed with a relatively weak force. On the other hand, if the second protrusion electrode 52 is set to sense when it makes electrical contact with the counter electrode 54, the back surface of the counter substrate 41 must be pushed with a relatively strong force to increase the deflection of the counter substrate 41. If you do not perceive.

また、図10および図12に示す第5の実施の形態のように、アレイ基板2上に複数のスペーサ57をマトリクス状に設け、これらスペーサ57間に第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71をスペーサ57からの距離に応じて規則的にパターニングして設けることもできる。そして、各スペーサ57は、アレイ基板2の縦方向に沿って4画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って10画素毎に設けられている。   Further, as in the fifth embodiment shown in FIGS. 10 and 12, a plurality of spacers 57 are provided in a matrix on the array substrate 2, and the first protruding electrodes 51 and the second spacers 57 are provided between the spacers 57. The projecting electrode 52 and the third projecting electrode 71 may be provided by regular patterning according to the distance from the spacer 57. Each spacer 57 is provided for every four pixels along the vertical direction of the array substrate 2, and is provided for every ten pixels along the horizontal direction of the array substrate 2.

さらに、第1の突条電極51は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿ったスペーサ57間の中央部に設けられている。したがって、これら第1の突条電極51もまた、スペーサ57と同様に、アレイ基板2の縦方向に沿って4画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って10画素毎に設けられている。そして、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿った第1の突条電極51間の中央部に、第3の突条電極71がそれぞれ設けられている。   Further, the first protruding electrode 51 is provided at a central portion between the spacers 57 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. Accordingly, the first protruding electrodes 51 are also provided for every four pixels along the vertical direction of the array substrate 2 and are provided for every ten pixels along the horizontal direction of the array substrate 2, similarly to the spacer 57. It has been. And the 3rd protrusion electrode 71 is each provided in the center part between the 1st protrusion electrodes 51 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2.

すなわち、これら第3の突条電極71は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿って隣接する第1の突条電極51から等間隔に離間されて設けられている。よって、これら第3の突条電極71もまた、アレイ基板2の縦方向に沿って4画素毎に設けられ、このアレイ基板2の横方向に沿って10画素毎に設けられている。したがって、これら第3の突条電極71は、第1の突条電極51よりもスペーサ57から離れた位置に設けられている。   That is, the third protrusion electrodes 71 are provided at equal intervals from the adjacent first protrusion electrodes 51 along the longitudinal direction and the lateral direction of the array substrate 2. Therefore, the third protruding electrodes 71 are also provided for every four pixels along the vertical direction of the array substrate 2 and are provided for every ten pixels along the horizontal direction of the array substrate 2. Therefore, these third protrusion electrodes 71 are provided at positions farther from the spacer 57 than the first protrusion electrodes 51.

さらに、第2の突条電極52は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿った第1の突条電極51と第3の突条電極71との間に設けられている。また、これら第2の突条電極52は、アレイ基板2の縦方向および横方向に沿った第1の突条電極51と第3の突条電極71との間の中間部より第1の突条電極51側に位置する画素5内に設けられている。したがって、これら第2の突条電極52は、第1の突条電極51よりもスペーサ57から離れた位置であるとともに、第3の突条電極71よりもスペーサ57に近接した位置に設けられている。   Further, the second protruding electrode 52 is provided between the first protruding electrode 51 and the third protruding electrode 71 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. Further, the second protrusion electrodes 52 are formed in the first protrusion from the intermediate portion between the first protrusion electrodes 51 and the third protrusion electrodes 71 along the vertical direction and the horizontal direction of the array substrate 2. It is provided in the pixel 5 located on the strip electrode 51 side. Therefore, the second protruding electrode 52 is provided at a position farther from the spacer 57 than the first protruding electrode 51 and at a position closer to the spacer 57 than the third protruding electrode 71. Yes.

この結果、図11および図12に示すように、対向基板41の裏面を弱い力f1で押した場合には、この対向基板41とアレイ基板2との間のセル厚Aがd0からd1(<d0)へと変化する。よって、第1の突条電極51のみが対向電極54に電気的に接続してスイッチングされる。また、この対向基板41の裏面を強い力f2(>f1)で押した場合には、セル厚Aがd0からd2(<d1)へと変化する。よって、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれが対向電極54に電気的に接続してスイッチングされる。さらに、この対向基板41の裏面をより強い力f3(>f2)で押した場合には、セル厚Aがd0からd3(<d2)へと変化する。よって、第1の突条電極51、第2の突条電極52および第3の突条電極71のそれぞれが対向電極54に電気的に接続してスイッチングされる。   As a result, as shown in FIGS. 11 and 12, when the back surface of the counter substrate 41 is pressed with a weak force f1, the cell thickness A between the counter substrate 41 and the array substrate 2 is changed from d0 to d1 (< d0). Therefore, only the first protrusion electrode 51 is electrically connected to the counter electrode 54 and switched. When the back surface of the counter substrate 41 is pressed with a strong force f2 (> f1), the cell thickness A changes from d0 to d2 (<d1). Therefore, each of the first protrusion electrode 51 and the second protrusion electrode 52 is electrically connected to the counter electrode 54 and switched. Further, when the back surface of the counter substrate 41 is pressed with a stronger force f3 (> f2), the cell thickness A changes from d0 to d3 (<d2). Therefore, each of the 1st protrusion electrode 51, the 2nd protrusion electrode 52, and the 3rd protrusion electrode 71 is electrically connected to the counter electrode 54, and is switched.

この結果、この対向基板41の裏面を押す力によって、この対向基板41上の対向電極54に接触する突条電極47の種類や個数を変化できるので、上記第4の実施の形態と同様の作用効果を奏するとともに、この対向基板41の裏面を押す力を3段階に分けて感知できる。   As a result, the type and number of the protruding electrodes 47 that come into contact with the counter electrode 54 on the counter substrate 41 can be changed by the force pressing the back surface of the counter substrate 41. While having an effect, the force which pushes the back surface of this opposing board | substrate 41 can be detected in 3 steps.

なお、上記各実施の形態では、各突条電極47のセンサ用突起53をスペーサ57とは別個の材料で形成したが、これらセンサ用突起53をスペーサ57と同じ導電性の無い樹脂を用いて同時に同一工程で形成するとともに、これらセンサ用突起53を覆う表面電極55をITOのパターニングで形成して、このセンサ用突起53に導電性を付加することもできる。さらに、これらセンサ用突起53およびスペーサ57それぞれの高さは、マスクサイズを変えることによって調整できる。具体的に、スペーサ57のマスクサイズを一辺が約30μmの正方形状とし、第1の突条電極51用のセンサ用突起53のマスクサイズを一辺が約18μmの正方形状とし、第2の突条電極52用のセンサ用突起53のマスクサイズを一辺が約12μmの正方形状とした。この場合も、対向基板41の裏面を指GまたはペンHで押した際の圧力を段階的に感知できるので、上記各実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。   In each of the above embodiments, the sensor protrusions 53 of each protruding electrode 47 are formed of a material different from that of the spacers 57. However, the sensor protrusions 53 are made of the same non-conductive resin as the spacers 57. At the same time, the surface electrode 55 covering the sensor projections 53 can be formed by ITO patterning to add conductivity to the sensor projections 53. Further, the height of each of the sensor protrusion 53 and the spacer 57 can be adjusted by changing the mask size. Specifically, the mask size of the spacer 57 is a square shape with a side of about 30 μm, the mask size of the sensor projection 53 for the first protrusion electrode 51 is a square shape with a side of about 18 μm, and the second protrusion The mask size of the sensor projection 53 for the electrode 52 is a square shape having a side of about 12 μm. Also in this case, since the pressure when the back surface of the counter substrate 41 is pressed with the finger G or the pen H can be sensed stepwise, the same effects as those in the above embodiments can be achieved.

また、突条電極47がセンサ用電極27あるいは対向電極54に電気的に接触した際にスイッチングして圧力を感知する方式のタッチセンサ48について説明したが、これら突条電極47とセンサ用電極27あるいは対向電極54との間の距離の変化に基づく電気的な容量の変化を感知する容量感知式のタッチセンサ48とすることもできる。そして、この容量感知式のタッチセンサ48とする場合は、対向基板41の裏面を押した場合のセル厚Aの変動による容量変動を少しでも大きくするために、可能な限り突条電極47の平面視での大きさを大きくすることが好ましい。   Further, the touch sensor 48 that switches and senses the pressure when the protruding electrode 47 is in electrical contact with the sensor electrode 27 or the counter electrode 54 has been described. However, the protruding electrode 47 and the sensor electrode 27 are described. Alternatively, a capacitive sensing touch sensor 48 that senses a change in electrical capacitance based on a change in the distance to the counter electrode 54 may be used. In the case of the capacitive sensing type touch sensor 48, in order to increase the capacitance variation due to the variation of the cell thickness A when the back surface of the counter substrate 41 is pressed, the plane of the protruding electrode 47 is as much as possible. It is preferable to increase the visual size.

さらに、各タッチセンサ48それぞれの突条電極47を、絶縁性のセンサ用突起53の表面を表面電極55で覆った構成としたが、これら突条電極47を、導電性を有する樹脂のみで形成したり、所定の位置に導電性を有する樹脂球などを接着して形成したりすることもできる。また、上述のスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれに対応したマスクパターンを形成して、これらスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれを同時に形成したが、露光量を変化させることによっても、高さが異なるスペーサ57、第1の突条電極51および第2の突条電極52のそれぞれを同時に形成できる。   Further, the protrusion electrodes 47 of each touch sensor 48 are configured such that the surface of the insulating sensor protrusion 53 is covered with the surface electrode 55. However, the protrusion electrodes 47 are formed only of conductive resin. Alternatively, it may be formed by adhering conductive resin balls or the like at predetermined positions. A mask pattern corresponding to each of the spacer 57, the first protrusion electrode 51, and the second protrusion electrode 52 is formed, and the spacer 57, the first protrusion electrode 51, and the second protrusion are formed. Although each of the strip electrodes 52 is formed at the same time, the spacer 57, the first projecting electrode 51, and the second projecting electrode 52 having different heights can be formed simultaneously by changing the exposure amount.

さらに、液晶パネル1のスペーサ57の高さや、各配向膜28,58に用いる配向膜材料、これら配向膜28,58のラビング方向、液晶組成物を適宜変更して、OCB(Optically Compensated Bend)型、VA(Vertically Aligned)型あるいはホモジニアス型の液晶パネル1としても、TN(Twisted Nematic)型の液晶パネル1より視野角や応答時間の特性が良く表示品位を高くできるから、上記各実施の形態の液晶パネル1のタッチパネル機能と変わらない性能を有する液晶パネル1にできる。   Furthermore, the height of the spacer 57 of the liquid crystal panel 1, the alignment film material used for the alignment films 28 and 58, the rubbing direction of the alignment films 28 and 58, and the liquid crystal composition are appropriately changed to form an OCB (Optically Compensated Bend) type. Since the VA (Vertically Aligned) type or homogeneous type liquid crystal panel 1 also has better viewing angle and response time characteristics than the TN (Twisted Nematic) type liquid crystal panel 1, the display quality can be improved. The liquid crystal panel 1 having the same performance as the touch panel function of the liquid crystal panel 1 can be obtained.

また、薄膜トランジスタ8としては、トップゲート型や、ボトムゲート型あるいはコプラナ型の薄膜トランジスタ8であっても対応させて用いることができる。さらに、アレイ基板2のガラス基板3の画面部4の周縁にYドライバ回路14やXドライバ回路15などの周辺駆動回路を作り込んだが、これらYドライバ回路14やXドライバ回路15などの周辺駆動回路をアレイ基板2と別個に形成して、このアレイ基板2に接続させてもよい。   As the thin film transistor 8, a top gate type, a bottom gate type, or a coplanar type thin film transistor 8 can be used correspondingly. Further, peripheral drive circuits such as a Y driver circuit 14 and an X driver circuit 15 are formed on the periphery of the screen portion 4 of the glass substrate 3 of the array substrate 2, but these peripheral drive circuits such as the Y driver circuit 14 and the X driver circuit 15 are formed. May be formed separately from the array substrate 2 and connected to the array substrate 2.

本発明の液晶表示装置の第1の実施の形態を示す説明断面図である。1 is an explanatory cross-sectional view showing a first embodiment of a liquid crystal display device of the present invention. 同上液晶表示装置を示す説明回路構成図である。It is explanatory circuit block diagram which shows a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置を示す説明平面図である。It is a description top view which shows a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の突条電極の大きさと露光後の高さとの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the magnitude | size of the protrusion electrode of a liquid crystal display device same as the above, and the height after exposure. 本発明の液晶表示装置の第2の実施の形態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 本発明の液晶表示装置の第3の実施の形態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows 3rd Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 同上液晶表示装置を押した状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which pushed the liquid crystal display device same as the above. 本発明の液晶表示装置の第4の実施の形態を示す説明平面図である。It is explanatory drawing which shows 4th Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 同上液晶表示装置を押した状態を示す説明側面図である。It is explanatory side view which shows the state which pushed the liquid crystal display device same as the above. 本発明の液晶表示装置の第5の実施の形態を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows 5th Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 同上液晶表示装置を押した状態を示す説明側面図である。It is explanatory side view which shows the state which pushed the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置を押す力とセルギャップとの関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the force which pushes a liquid crystal display device same as the above, and a cell gap.

符号の説明Explanation of symbols

1 液晶表示装置としての液晶パネル
2 アレイ基板
5 画素
27 電極層としてのセンサ用電極
41 対向基板
43 カラーフィルタ層
47 突条電極
53 絶縁部としてのセンサ用突起
54 電極層としての対向電極
55 導電部としての表面電極
57 スペーサ
63 液晶としての液晶層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Liquid crystal panel as a liquid crystal display device 2 Array substrate 5 Pixel
27 Sensor electrode as electrode layer
41 Counter substrate
43 Color filter layer
47 ridge electrode
53 Sensor protrusion as insulation
54 Counter electrode as electrode layer
55 Surface electrode as conductive part
57 Spacer
63 Liquid crystal layer as liquid crystal

Claims (5)

一主面に複数の画素がマトリクス状に設けられたアレイ基板と、
このアレイ基板の一主面に一主面を対向させて配設された対向基板と、
前記アレイ基板の一主面と前記対向基板の一主面との間に介在された液晶とを具備し、
前記アレイ基板および前記対向基板のいずれか一方の一主面に設けられた電極層と、
この電極層に対向して前記アレイ基板および前記対向電極のいずれか他方の一主面にこの一主面より突出して設けられ、前記電極層との間の距離の変化によって導通し、前記アレイ基板と対向基板との間の間隔より小さな高さ寸法であるとともに高さ寸法の異なる複数の突条電極と
を備えたことを特徴とした液晶表示装置。
An array substrate in which a plurality of pixels are provided in a matrix on one main surface;
A counter substrate disposed with one main surface facing one main surface of the array substrate;
Comprising a liquid crystal interposed between one main surface of the array substrate and one main surface of the counter substrate;
An electrode layer provided on one main surface of either the array substrate or the counter substrate;
Opposite this electrode layer, one of the array substrate and the counter electrode is provided on one other main surface so as to protrude from the one main surface, and is conducted by a change in distance between the electrode layer and the array substrate. A liquid crystal display device comprising: a plurality of projecting electrodes having a height dimension smaller than a distance between the opposite substrate and a different height dimension.
アレイ基板と対向基板との間に設けられ絶縁性を有し前記アレイ基板と対向基板との間の間隔を保持するスペーサを備え、
複数の突条電極は、前記スペーサから離れるに従って高さが低く形成されている
ことを特徴とした請求項1記載の液晶表示装置。
A spacer provided between the array substrate and the counter substrate and having an insulating property to maintain a distance between the array substrate and the counter substrate;
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the plurality of protruding electrodes are formed to have a height that decreases with distance from the spacer.
アレイ基板と対向基板との間に設けられ絶縁性を有し前記アレイ基板と対向基板との間の間隔を保持するスペーサを備え、
突条電極は、絶縁性を有し前記スペーサと同じ材料で形成された絶縁部と、導電性を有し前記絶縁部の少なくとも表面の一部を覆う導電部とを有している
ことを特徴とした請求項1または2記載の液晶表示装置。
A spacer provided between the array substrate and the counter substrate and having an insulating property to maintain a distance between the array substrate and the counter substrate;
The protruding electrode has an insulating part formed of the same material as the spacer and having an insulating property, and a conductive part having a conductive property and covering at least part of the surface of the insulating part. The liquid crystal display device according to claim 1 or 2.
対向基板の一主面に設けられたカラーフィルタ層を備え、
突条電極は、前記カラーフィルタ層の一主面に設けられ、
電極層は、アレイ基板の一主面に設けられている
ことを特徴とした請求項1ないし3いずれか記載の液晶表示装置。
A color filter layer provided on one main surface of the counter substrate;
The protruding electrode is provided on one main surface of the color filter layer,
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the electrode layer is provided on one main surface of the array substrate.
アレイ基板の一主面に設けられたカラーフィルタ層を備え、
電極層は、対向基板の一主面に設けられた対向電極で、
突条電極は、前記カラーフィルタ層の一主面に設けられている
ことを特徴とした請求項1ないし3いずれか記載の液晶表示装置。
A color filter layer provided on one main surface of the array substrate;
The electrode layer is a counter electrode provided on one main surface of the counter substrate,
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the protruding electrode is provided on one main surface of the color filter layer.
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