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JP2007042668A - Led light emitting device - Google Patents

Led light emitting device Download PDF

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JP2007042668A
JP2007042668A JP2005221817A JP2005221817A JP2007042668A JP 2007042668 A JP2007042668 A JP 2007042668A JP 2005221817 A JP2005221817 A JP 2005221817A JP 2005221817 A JP2005221817 A JP 2005221817A JP 2007042668 A JP2007042668 A JP 2007042668A
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JP
Japan
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light
led chip
led
emitting device
phosphor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2005221817A
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Japanese (ja)
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Yukimura Minami
侑村 南
Yoshimasa Tatewaki
慶真 帯刀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Publication of JP2007042668A publication Critical patent/JP2007042668A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an LED light emitting device which has high light take-out efficiency, can stably maintain high light take-out efficiency for long time, can be manufactured with high yield and has superior reliability. <P>SOLUTION: In the LED light emitting device, an LED chip is loaded in a recess arranged in a substrate made from white resin. A substrate inner peripheral face surrounding the LED chip is covered with a resin layer comprising a filler of light reflectivity. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明はLEDチップを発光源としてLED発光装置に関する。   The present invention relates to an LED light emitting device using an LED chip as a light source.

基体(外装樹脂)でLEDチップを囲繞した基本構造を備えるLED発光装置において様々な改良が試みられている。中でも光取り出し効率を向上させることは、発光装置の基本性能である光度の向上に直結するものであり、最大の課題といえる。
一般に、光反射率の高い白色系樹脂で基体を構成することによって光取り出し率が高められる。ところが、LEDチップの光に曝される結果、基体のリフレクタ面(LEDチップに対向する面)は劣化(変色)し、長期間に亘り安定した反射率を維持できない。これによって光取り出し率が次第に低下し、経時的な光度低下を引き起こす。特に、青色発光LEDチップや紫外発光LEDチップなど、短波長側の光を放出するLEDチップを使用した場合にはリフレクタ面の劣化の程度が大きく、光度低下の問題が顕著となる。
光取り出し効率を改善する方法として、基体のリフレクタ面上に光反射率の高い金属層を形成することも提案されている(例えば特許文献1、2を参照)。しかしながら、このような金属層を設けた場合には回路とのショートの問題を考慮しつつLED発光装置を製造しなければならない。また、金属層と基体との間に十分な接着性が得られず金属層が剥離するおそれがあり、歩留まりの低下や信頼性の低下を招くことになる。
Various improvements have been attempted in LED light emitting devices having a basic structure in which an LED chip is surrounded by a substrate (exterior resin). In particular, improving the light extraction efficiency is directly related to the improvement in luminous intensity, which is the basic performance of the light emitting device, and can be said to be the greatest problem.
In general, the light extraction rate can be increased by forming the substrate with a white resin having a high light reflectance. However, as a result of exposure to the light from the LED chip, the reflector surface (surface facing the LED chip) of the substrate deteriorates (discolors) and cannot maintain a stable reflectance over a long period of time. As a result, the light extraction rate gradually decreases, causing a decrease in light intensity over time. In particular, when an LED chip that emits light on a short wavelength side, such as a blue light emitting LED chip or an ultraviolet light emitting LED chip, is used, the degree of deterioration of the reflector surface is large, and the problem of a decrease in luminous intensity becomes significant.
As a method for improving the light extraction efficiency, it has also been proposed to form a metal layer having a high light reflectance on the reflector surface of the substrate (see, for example, Patent Documents 1 and 2). However, when such a metal layer is provided, the LED light-emitting device must be manufactured in consideration of a short circuit problem. In addition, sufficient adhesion between the metal layer and the substrate cannot be obtained, and the metal layer may be peeled off, resulting in a decrease in yield and reliability.

特開2004−228549号公報JP 2004-228549 A 特開2004−288657号公報JP 2004-288657 A

上記従来の問題点に鑑み本発明は、光取り出し効率が高く、しかも長期間に亘り安定して高い光取り出し効率を維持することができるLED発光装置を提供することを課題とする。また、高い歩留まりで製造でき、信頼性にも優れたLED発光装置を提供することを課題とする。   In view of the above-described conventional problems, an object of the present invention is to provide an LED light emitting device that has high light extraction efficiency and can stably maintain high light extraction efficiency over a long period of time. It is another object of the present invention to provide an LED light-emitting device that can be manufactured with a high yield and has excellent reliability.

上記課題を解決するために本発明は、次の構成からなる。即ち、
LEDチップと、
白色系樹脂からなる基体であって、前記LEDチップを囲繞する部分を備える基体と、
光反射性フィラーを含有する樹脂層であって、前記基体の前記部分の内周面を被覆する樹脂層と、
前記LEDチップを被覆するように、前記樹脂層が囲繞する空間に充填される封止部材と、
を備えるLED発光装置である。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration. That is,
An LED chip;
A substrate made of a white resin, the substrate including a portion surrounding the LED chip;
A resin layer containing a light reflective filler, the resin layer covering the inner peripheral surface of the portion of the substrate;
A sealing member filled in a space surrounded by the resin layer so as to cover the LED chip;
It is an LED light-emitting device provided with.

以上の構成では、LEDチップから横方向に放射された光は封止部材内を進行した後、光反射性フィラーを含有する樹脂層に至り、そこで反射作用を受ける。つまり、樹脂層が主たる反射部材として機能する。これによって、基体のLEDチップに対向する面、即ちLEDチップを囲繞する部分の内周面へ到達する光量が減少することから、当該内周面の劣化を抑制することができる。その結果、当該内周面の劣化に伴う光取り出し効率の低下を防止できる。このような作用が奏されることから、本発明の発光装置は光取り出し効率が高く、しかも長期間に亘り安定して高い光取り出し効率を維持することができる。
一方、本発明の構成では、反射機能を発揮する層の基材を樹脂としたことによって、当該層と基体との間に良好な接着性を確保できる。従って、基体の表面に金属層を設けた従来の構成で生ずる剥離の問題が解消される。このように本発明の構成では高い歩留まりで製造することができ、また信頼性にも優れた発光装置となる。
In the above configuration, the light emitted from the LED chip in the lateral direction travels through the sealing member, and then reaches the resin layer containing the light-reflective filler, and receives a reflection action there. That is, the resin layer functions as a main reflecting member. As a result, the amount of light reaching the surface of the substrate facing the LED chip, that is, the inner peripheral surface of the portion surrounding the LED chip is reduced, so that deterioration of the inner peripheral surface can be suppressed. As a result, it is possible to prevent a decrease in light extraction efficiency due to the deterioration of the inner peripheral surface. Because of such an effect, the light emitting device of the present invention has high light extraction efficiency, and can maintain high light extraction efficiency stably over a long period of time.
On the other hand, in the configuration of the present invention, by using the base material of the layer exhibiting the reflection function as the resin, it is possible to ensure good adhesion between the layer and the base material. Therefore, the problem of peeling caused by the conventional configuration in which the metal layer is provided on the surface of the substrate is solved. As described above, the structure of the present invention can be manufactured with a high yield and is a light-emitting device with excellent reliability.

(LEDチップ)
使用できるLEDチップは特に限定されないが、主発光ピーク波長を500nm以下の波長領域に有するLEDチップ(例えば主発光ピーク波長が370nm〜500nmの範囲にあるLEDチップ)を好適に用いることができる。単一の発光ピークを有するLEDチップに限られず、複数の発光ピークを有するLEDチップを用いることもできる。尚、複数の発光ピークを有する場合には、500nmより長波長の領域に一又は二以上の発光ピークを有していてもよい。
(LED chip)
Although the LED chip which can be used is not particularly limited, an LED chip having a main emission peak wavelength in a wavelength region of 500 nm or less (for example, an LED chip having a main emission peak wavelength in the range of 370 nm to 500 nm) can be preferably used. The LED chip is not limited to an LED chip having a single emission peak, and an LED chip having a plurality of emission peaks can also be used. In addition, when it has a some light emission peak, you may have a 1 or 2 or more light emission peak in the area | region longer than 500 nm.

LEDチップから横方向に放出された光を反射する目的で現在使用されているリフレクタ材料の反射率は一般に、照射光の波長が短波長領域になると急激に低下する。具体的には、リフレクタ材料として頻用されるポリフタルアミド等の反射率はおよそ400〜430nmを境界として照射光の波長が短くなるに従って指数関数的な低下を示す。したがって、このようなリフレクタ材料の反射率の低下が著しい波長領域の光を放出するLEDチップ(例えば、主発光ピーク波長が400nm以下にあるLEDチップ)との組合わせにおいて後述の樹脂層を用いた場合、当該樹脂層の効果が一層顕著なものとなる。   In general, the reflectivity of the reflector material currently used for the purpose of reflecting the light emitted from the LED chip in the lateral direction is drastically lowered when the wavelength of the irradiation light is in a short wavelength region. Specifically, the reflectivity of polyphthalamide or the like frequently used as a reflector material shows an exponential decrease as the wavelength of irradiation light becomes shorter at a boundary of about 400 to 430 nm. Therefore, a resin layer described later was used in combination with an LED chip (for example, an LED chip having a main emission peak wavelength of 400 nm or less) that emits light in a wavelength region in which the reflectivity of the reflector material is significantly reduced. In this case, the effect of the resin layer becomes more remarkable.

LEDチップの構成は上記の波長特性を備えるものであれば特に限定されない。例えば、本発明におけるLEDチップとしてIII族窒化物系化合物半導体からなる発光層を備える半導体発光素子を採用することができる。ここで、一般に、III族窒化物系化合物半導体とは、一般式としてAlGaIn1−X−YN(0≦X≦1、0≦Y≦1、0≦X+Y≦1)の四元系で表され、AlN、GaN及びInNのいわゆる2元系、AlGa1−xN、AlIn1−xN及びGaIn1−xN(以上において0<x<1)のいわゆる3元系を包含する。III族元素の一部をボロン(B)、タリウム(Tl)等で置換しても良く、また、窒素(N)の一部も リン(P)、ヒ素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス(Bi)等で置換できる。また、発光層は任意のドーパントを含有するものであってもよい。 The configuration of the LED chip is not particularly limited as long as it has the above wavelength characteristics. For example, a semiconductor light emitting device including a light emitting layer made of a group III nitride compound semiconductor can be used as the LED chip in the present invention. Here, in general, a group III nitride compound semiconductor is a general formula of Al X Ga Y In 1-XY N (0 ≦ X ≦ 1, 0 ≦ Y ≦ 1, 0 ≦ X + Y ≦ 1). A so-called binary system of AlN, GaN and InN, Al x Ga 1-x N, Al x In 1-x N and Ga x In 1-x N (in the above, 0 <x <1) Includes so-called ternary systems. Part of group III elements may be substituted with boron (B), thallium (Tl), etc., and part of nitrogen (N) may also be phosphorus (P), arsenic (As), antimony (Sb), bismuth. It can be replaced with (Bi) or the like. Moreover, the light emitting layer may contain an arbitrary dopant.

(基体)
基体は白色系樹脂からなり、LEDチップを囲繞する部分を備える。本明細書での基体には、単一の部材からなるものと、複数の部材を組み合わせて構成されるものとが含まれる。前者の例としては、その中にLEDチップが搭載されることとなる凹部が片側に形成されるように、特定の材料を略カップ形状に成型したものを挙げることができる。この場合、LEDチップが搭載されるリードフレームを基体の下部(底部)が内包する構成としてもよい。換言すれば、本発明の一態様ではリードフレームがインサートされた基体が用いられる。一方、後者の例としては、その中にLEDチップが搭載されることとなる凹部が形成されるように、リング状の内周面を備える外装樹脂を基板上に載置・接着させたものを挙げることができる。
基体が備える凹部は例えばカップ形状に形成される。但し、本発明においては、当該凹部の形状はカップ形状に限られるものではない。
(Substrate)
The base is made of a white resin and includes a portion surrounding the LED chip. The substrate in the present specification includes those composed of a single member and those constituted by combining a plurality of members. As an example of the former, a material in which a specific material is molded into a substantially cup shape so that a concave portion in which an LED chip is to be mounted can be formed on one side. In this case, it is good also as a structure which the lower part (bottom part) of a base | substrate includes the lead frame in which an LED chip is mounted. In other words, in one embodiment of the present invention, a substrate into which a lead frame is inserted is used. On the other hand, as an example of the latter, a resin in which an exterior resin having a ring-shaped inner peripheral surface is placed and bonded on a substrate so as to form a recess in which the LED chip is to be mounted. Can be mentioned.
The recess provided in the base is formed in a cup shape, for example. However, in the present invention, the shape of the concave portion is not limited to the cup shape.

基体の材質は特に限定されない。例えばポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド系樹脂を含む)、液晶ポリマー、ポリフタルアミド、ナイロン6T等を用いて基体を構成することができる。酸化チタン、チタン酸カリウム、及びガラス繊維等を含有した材料を用いて基体を構成してもよい。   The material of the substrate is not particularly limited. For example, the substrate can be formed using a polyamide resin (including an aromatic polyamide resin), a liquid crystal polymer, polyphthalamide, nylon 6T, or the like. You may comprise a base | substrate using the material containing a titanium oxide, potassium titanate, a glass fiber, etc.

基体においてLEDチップを囲繞する部分(本明細書において「LED囲繞部」ともいう)の内周面(LEDチップに対向する面)をできるだけ平滑にすることが好ましい。本発明では後述の樹脂層が主たる反射部材として機能するが、通常、LEDチップから横方向に放射された光の一部、及び/又は樹脂層で反射されて生じた光の一部は基体のLED囲繞部の内周面に至る。このような光を効率的に反射することで光取り出し効率を高めるために、LED囲繞部の内周面を平滑にしてその反射率を高めることが好ましい。   It is preferable that the inner peripheral surface (the surface facing the LED chip) of the portion surrounding the LED chip in the substrate (also referred to as “LED surrounding portion” in this specification) be as smooth as possible. In the present invention, the resin layer to be described later functions as a main reflecting member, but usually, a part of the light emitted from the LED chip in the lateral direction and / or a part of the light generated by being reflected by the resin layer is a part of the substrate. It reaches the inner peripheral surface of the LED enclosure. In order to increase the light extraction efficiency by efficiently reflecting such light, it is preferable to increase the reflectance by smoothing the inner peripheral surface of the LED surrounding portion.

(樹脂層)
基体のLED囲繞部の内周面は樹脂層で被覆される。この樹脂層は光反射性フィラーを含有し、反射部材として機能する。光反射性のフィラーの種類は特に限定されないが、光反射率が高い材料を採用することが好ましい。例えば、酸化チタン、チタン酸カリウム等を光反射性フィラーとして用いることができる。
(Resin layer)
The inner peripheral surface of the LED surrounding portion of the base is covered with a resin layer. This resin layer contains a light reflective filler and functions as a reflective member. The type of the light reflective filler is not particularly limited, but it is preferable to employ a material having a high light reflectance. For example, titanium oxide, potassium titanate, or the like can be used as the light reflective filler.

一方、樹脂層の基材の種類も特に限定されず、例えばエポキシ樹脂又はシリコーン(シリコーン樹脂、シリコーンゴム、及びシリコーンエラストマーを含む)を用いることができる。好ましくはシリコーンを基材として樹脂層を構成する。シリコーンは短波長側の光に対する耐性が高い。従って特に、短波長側の光(青色光や紫外光)を放射するLEDチップを使用する場合において、樹脂層の劣化を有効に防止することができる。   On the other hand, the kind of the base material of the resin layer is not particularly limited, and for example, epoxy resin or silicone (including silicone resin, silicone rubber, and silicone elastomer) can be used. Preferably, the resin layer is composed of silicone as a base material. Silicone has high resistance to light on the short wavelength side. Therefore, particularly when an LED chip that emits light on a short wavelength side (blue light or ultraviolet light) is used, deterioration of the resin layer can be effectively prevented.

樹脂層の厚さは任意に設定することができる。樹脂層の厚さは均一でなくてもよい。積極的に樹脂層の厚さに変化をもたせても良い。例えば、LEDチップに近い領域ほど樹脂層を厚くし、これによって樹脂層の表面がLEDチップの光軸に対して傾斜する面(LEDチップに近い領域ほど光軸に近接する面)となるように樹脂層を形成することができる。このような樹脂層ではその表面において、LEDチップから横方向に放射された光を光の取り出し方向へと効率的に変換することができる。これによって光取り出し効率が向上する。   The thickness of the resin layer can be arbitrarily set. The thickness of the resin layer may not be uniform. The thickness of the resin layer may be positively changed. For example, the region closer to the LED chip is thickened so that the surface of the resin layer is inclined with respect to the optical axis of the LED chip (the region closer to the LED chip is closer to the optical axis). A resin layer can be formed. In such a resin layer, light emitted from the LED chip in the lateral direction can be efficiently converted in the light extraction direction on the surface. This improves the light extraction efficiency.

樹脂層の形成方法の一例を、図7を参照しながら説明する。まず、カップ形状に成形した基体100を用意する(図7a)。次に、LEDチップを囲繞することになる、基体100の凹部101に、当該凹部101に略相似形状で若干小さいヘッドを備える型具1025を挿入し、ヘッドの先端面がカップ状部101の底壁に密着した状態で型具102を固定する(図7b)。続いて、光反射性フィラーを含有する樹脂を基体100と型具102のヘッドとの隙間103に流し込む(図7b)。その後、樹脂を固化させる(図7c)。樹脂が固化したところで型具102を引き抜く(図7d)。以上の工程によって、基体100の内周面104上に、使用した型具102のヘッドの形状及び大きさを反映した樹脂層105が形成される。   An example of a resin layer forming method will be described with reference to FIG. First, a base body 100 formed into a cup shape is prepared (FIG. 7a). Next, a mold 1025 having a head substantially similar to the concave portion 101 and having a slightly smaller head is inserted into the concave portion 101 of the base body 100 that surrounds the LED chip, and the tip surface of the head is the bottom of the cup-shaped portion 101. The mold 102 is fixed in close contact with the wall (FIG. 7b). Subsequently, a resin containing a light reflective filler is poured into the gap 103 between the base 100 and the head of the mold tool 102 (FIG. 7b). Thereafter, the resin is solidified (FIG. 7c). When the resin is solidified, the mold 102 is pulled out (FIG. 7d). Through the above steps, the resin layer 105 reflecting the shape and size of the head of the mold 102 used is formed on the inner peripheral surface 104 of the base body 100.

(封止部材)
封止部材はLEDチップを被覆するように、上記樹脂層が囲繞する空間に充填される部材であり、主として外部環境からLEDチップを保護する目的で備えられる。封止部材の材料としてはLEDチップの光に対して透明であり、且つ耐久性、耐候性などに優れたものを採用することが好ましい。例えばシリコーン(シリコーン樹脂、シリコーンゴム、及びシリコーンエラストマーを含む)、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、ガラス等の中から、LEDチップの発光波長との関係で適当なものを選択することができる。LEDチップの光が短波長側の光(青色光や紫外光)を含む場合には、シリコーン等の当該光に対する耐性の高い材料を採用することが好ましい。
(Sealing member)
The sealing member is a member filled in the space surrounded by the resin layer so as to cover the LED chip, and is mainly provided for the purpose of protecting the LED chip from the external environment. As a material for the sealing member, it is preferable to adopt a material that is transparent to the light of the LED chip and is excellent in durability, weather resistance, and the like. For example, an appropriate material can be selected from silicone (including silicone resin, silicone rubber, and silicone elastomer), epoxy resin, urea resin, glass and the like in relation to the emission wavelength of the LED chip. When the light from the LED chip includes light on the short wavelength side (blue light or ultraviolet light), it is preferable to employ a material having high resistance to the light, such as silicone.

異なる材料からなる複数の層がLEDチップ上に積層して形成されるように封止部材を設けることもできる。
封止部材に蛍光体を含有させることもできる。蛍光体を用いることによりLEDチップの光の一部を異なる波長の光に変換することができ、発光装置の発光色を変化させ又は補正することができる。LEDチップの光により励起可能なものであれば任意の蛍光体を用いることができ、その選択においては発光装置の発光色等が考慮される。蛍光体を封止部材に一様に分散させても、また一部の領域に局在させてもよい。例えば蛍光体をLEDチップの近傍に局在させることにより、LEDチップから放射された光を効率的に蛍光体に照射できる。
The sealing member can be provided so that a plurality of layers made of different materials are stacked on the LED chip.
A phosphor can also be contained in the sealing member. By using the phosphor, part of the light from the LED chip can be converted into light having a different wavelength, and the emission color of the light emitting device can be changed or corrected. Any phosphor can be used as long as it can be excited by the light of the LED chip, and the light emission color of the light emitting device is considered in the selection. The phosphor may be uniformly dispersed in the sealing member or may be localized in a part of the region. For example, by localizing the phosphor in the vicinity of the LED chip, the light emitted from the LED chip can be efficiently irradiated onto the phosphor.

例えば白色光を発光可能な発光装置を構成しようとすれば、LEDチップとして青色発光LEDチップを採用し、封止部材内には黄色系蛍光体を含有させることができる。黄色系蛍光体としては例えば、一般式Y3−xGdAl5−yGa12:Ce(0≦x≦3、0≦y≦5)で表されるイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体を好適に用いることができる。かかる蛍光体は、青色系の光を黄色ないし黄緑色系の光に効率よく変換する。上記一般式において、イットリウム(Y)の一部又は全部をLu又はLaに置換したものを用いることもでき、また、アルミニウム(Al)の一部又は全部をIn又はScに置換したものを用いることもできる。
また、黄色系蛍光体として、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.750.25Si12.015:Ce3+、(Ca0.99ScSi12.015:Ce3+、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.500.50Si12.015:Ce3+、(Ca0.49Mg0.50(Sc0.50Lu0.50Si12.015:Ce3+、BaSiO:Eu2+(オルトケイ酸塩)等を用いることもできる。
For example, if it is going to comprise the light-emitting device which can light-emit white light, a blue light-emitting LED chip is employ | adopted as an LED chip, and a yellowish fluorescent substance can be contained in a sealing member. The yellow phosphor for example, the general formula Y 3-x Gd x Al 5 -y Ga y O 12: Ce (0 ≦ x ≦ 3,0 ≦ y ≦ 5) yttrium-aluminum-garnet fluorescent represented by The body can be preferably used. Such a phosphor efficiently converts blue light into yellow or yellow-green light. In the above general formula, yttrium (Y) partially or wholly substituted with Lu or La can be used, and aluminum (Al) partially or entirely replaced with In or Sc. You can also.
In addition, as a yellow phosphor, (Ca 0.49 Mg 0.50 ) 3 (Sc 0.75 Y 0.25 ) 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.99 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.015: Ce 3+, ( Ca 0.49 Mg 0.50) 3 (Sc 0.50 Y 0.50) 2 Si 3 O 12.015: Ce 3+, (Ca 0.49 Mg 0.50 ) 3 (Sc 0.50 Lu 0.50 ) 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , Ba 2 SiO 4 : Eu 2+ (orthosilicate) and the like can also be used.

本発明に使用可能な蛍光体は以上の黄色系蛍光体に限られるものではない。以下に、赤色系蛍光体、緑色蛍光体、及び青色系蛍光体の一例を示す。
(赤色系蛍光体)
赤色系蛍光体としては例えば、Y:Eu、YS:Eu、(Y,La)O:Eu、(Ca,Sr)S:Eu、YAl12:Eu、Y(Al,Ga)12:Eu、SrY:Eu、YS:Eu,Bi、YVO:Eu,Bi、SrS:Eu、CaLa:Ce等を採用することができる。
The phosphor usable in the present invention is not limited to the above yellow phosphor. Examples of red phosphors, green phosphors, and blue phosphors are shown below.
(Red phosphor)
Examples of red phosphors include Y 2 O 3 : Eu, Y 2 O 2 S: Eu, (Y, La) O 3 : Eu, (Ca, Sr) S: Eu, and Y 2 Al 5 O 12 : Eu. Y 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Eu, SrY 2 S 4 : Eu, Y 2 O 2 S: Eu, Bi, YVO 4 : Eu, Bi, SrS: Eu, CaLa 2 S 4 : Ce, etc. Can be adopted.

(緑色系蛍光体)
緑色系蛍光体としては例えば、(Y,Ce)(Al,Ga)12:Tb、BaMgAl1017:Eu、BaMgSi:Eu、(Sr,Ca,Ba)(Al,Ga):Eu、BaSiO:Eu、YBO:Ce,Tb、(Ca,Sr)p/2Si12−p−qAlp+q1−qN:Ce、CaMg(SiOCl:Eu、SrAl:Eu、SrAl1425:Eu、(Ca0.99ScSi12.015:Ce3+、(Ca0.49Zn0.50ScSi12.015:Ce3+等を採用することができる。
(Green phosphor)
Examples of green phosphors include (Y, Ce) 3 (Al, Ga) 5 O 12 : Tb, BaMgAl 10 O 17 : Eu, Ba 2 MgSi 2 O 7 : Eu, (Sr, Ca, Ba) (Al , Ga) 2 S 4: Eu , BaSiO 4: Eu, YBO 3: Ce, Tb, (Ca, Sr) p / 2 Si 12-p-q Al p + q O 1-q N: Ce, Ca 8 Mg (SiO 4 ) 4 Cl 2 : Eu, SrAl 2 O 4 : Eu, SrAl 14 O 25 : Eu, (Ca 0.99 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.015 : Ce 3+ , (Ca 0.49 Zn 0.50 ) 3 Sc 2 Si 3 O 12.15 : Ce 3+ can be employed.

(青色系蛍光体)
(Ba,Ca,Mg)(POCl:Eu2+、(Ba,Mg)Al1627:Eu2+、BaMgSi:Eu2+、BaMgAl1627:Eu2+等を用いることができる。
(Blue phosphor)
(Ba, Ca, Mg) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+ , (Ba, Mg) 2 Al 16 O 27 : Eu 2+ , Ba 3 MgSi 2 O 8 : Eu 2+ , BaMg 2 Al 16 O 27 : Eu 2+ or the like can be used.

複数種類の蛍光体を組み合わせて封止部材に含有させることもできる。この場合にはLEDチップの光により励起されて発光する蛍光体と、当該蛍光体の発する光により励起されて発光する蛍光体とを組み合わせて用いることもできる。
封止部材に光拡散材を含有させることで封止部材内での光の拡散を促進させ、発光ムラの減少を図ることもできる。特に上記のように蛍光体を用いる構成においては、LEDチップの光と蛍光体の光との混色を促進させて発光色のムラを少なくするために、このような光拡散材を用いることが好ましい。
以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明する。
A plurality of types of phosphors can be combined and contained in the sealing member. In this case, a phosphor that emits light when excited by light from the LED chip and a phosphor that emits light when excited by light emitted from the phosphor can be used in combination.
By containing a light diffusing material in the sealing member, it is possible to promote light diffusion in the sealing member and reduce light emission unevenness. In particular, in the configuration using the phosphor as described above, it is preferable to use such a light diffusing material in order to promote the color mixture of the light of the LED chip and the light of the phosphor and reduce the unevenness of the emission color. .
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

本発明の実施例であるLED発光装置1を図1及び図2に示す。図1はLED発光装置1の斜視図である。図2はLED発光装置1の断面図(図1のA−A線位置)である。LED発光装置1は表面実装型(SMDタイプ)LEDランプであって、例えば照明用光源として用いられる。
LED発光装置1は大別してLEDチップ10、基体20、リードフレーム30、樹脂層40、及び封止樹脂50から構成される。
An LED light-emitting device 1 that is an embodiment of the present invention is shown in FIGS. FIG. 1 is a perspective view of the LED light emitting device 1. FIG. 2 is a cross-sectional view of the LED light-emitting device 1 (a line AA in FIG. 1). The LED light emitting device 1 is a surface mount type (SMD type) LED lamp, and is used as a light source for illumination, for example.
The LED light emitting device 1 is roughly composed of an LED chip 10, a base 20, a lead frame 30, a resin layer 40, and a sealing resin 50.

LED発光装置1に使用されるLEDチップ10の模式断面図を図6に示す。LEDチップ10はサファイア基板上に複数のIII族窒化物系化合物半導体層が積層された構成からなり、発光ピーク波長を470nm付近に有する。LEDチップ10の各層のスペックは次の通りである。
層 : 組成
p型層15 : p−GaN:Mg
発光する層を含む層14 : InGaN層を含む
n型層13 : n−GaN:Si
バッファ層12 : AlN
基板11 : サファイア
A schematic cross-sectional view of the LED chip 10 used in the LED light emitting device 1 is shown in FIG. The LED chip 10 has a configuration in which a plurality of group III nitride compound semiconductor layers are stacked on a sapphire substrate, and has an emission peak wavelength in the vicinity of 470 nm. The specifications of each layer of the LED chip 10 are as follows.
Layer: Composition p-type layer 15: p-GaN: Mg
Layer 14 including light emitting layer: n-type layer including InGaN layer 13: n-GaN: Si
Buffer layer 12: AlN
Substrate 11: Sapphire

基板11の上にはバッファ層12を介してn型不純物としてSiをドープしたGaNからなるn型層13を形成した。ここで、基板11にはサファイアを用いたが、これに限定されることはなく、サファイア、スピネル、シリコン、炭化シリコン、酸化亜鉛、リン化ガリウム、ヒ化ガリウム、酸化マグネシウム、酸化マンガン、III族窒化物系化合物半導体単結晶等を用いることができる。さらにバッファ層はAlNを用いてMOCVD法で形成されるがこれに限定されることはなく、材料としてはGaN、InN、AlGaN、InGaN及びAlInGaN等を用いることができ、製法としては分子線結晶成長法(MBE法)、ハライド系気相成長法(HVPE法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、電子シャワー法等を用いることができる。III族窒化物系化合物半導体を基板として用いた場合は、当該バッファ層を省略することができる。
さらに基板とバッファ層は半導体素子形成後に、必要に応じて、除去することもできる。
ここでn型層13はGaNで形成したが、AlGaN、InGaN若しくはAlInGaNを用いることができる。
また、n型層13はn型不純物としてSiをドープしたが、このほかにn型不純物として、Ge、Se、Te、C等を用いることもできる。
n型層13は発光する層を含む層14側の低電子濃度n-層とバッファ層12側の高電子濃度n層とからなる2層構造とすることができる。
発光する層を含む層14は量子井戸構造(多重量子井戸構造、若しくは単一量子井戸構造)を含んでいてもよく、また発光素子の構造としてはシングルへテロ型、ダブルへテロ型及びホモ接合型のものなどでもよい。
発光する層を含む層14はp型層15の側にマグネシウム等のアクセプタをドープしたバンドギャップの広いIII族窒化物系化合物半導体層を含むこともできる。これは発光する層を含む層14中に注入された電子がp型層15に拡散するのを効果的に防止するためである。
発光する層を含む層14の上にp型不純物としてMgをドープしたGaNからなるp型層15を形成した。このp型層はAlGaN、InGaN又はInAlGaNとすることもできる、また、p型不純物としてはZn、Be、Ca、Sr、Baを用いることもできる。
さらに、p型層15を発光する層を含む層14側の低ホール濃度p層と電極側の高ホール濃度p層とからなる2層構造とすることができる。
上記構成の発光素子において、各III族窒化物系化合物半導体層は一般的な条件でMOCVDを実行して形成するか、分子線結晶成長法(MBE法)、ハライド系気相成長法(HVPE法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、電子シャワー法等の方法で形成することもできる。
An n-type layer 13 made of GaN doped with Si as an n-type impurity was formed on the substrate 11 via a buffer layer 12. Here, sapphire is used as the substrate 11, but the substrate 11 is not limited to this, and sapphire, spinel, silicon, silicon carbide, zinc oxide, gallium phosphide, gallium arsenide, magnesium oxide, manganese oxide, group III A nitride compound semiconductor single crystal or the like can be used. Further, the buffer layer is formed by MOCVD using AlN, but the present invention is not limited to this, and GaN, InN, AlGaN, InGaN, AlInGaN, etc. can be used as the material, and molecular beam crystal growth is used as the manufacturing method. A method (MBE method), a halide vapor phase epitaxy method (HVPE method), a sputtering method, an ion plating method, an electron shower method, or the like can be used. When a group III nitride compound semiconductor is used as the substrate, the buffer layer can be omitted.
Further, the substrate and the buffer layer can be removed as necessary after the semiconductor element is formed.
Here, the n-type layer 13 is formed of GaN, but AlGaN, InGaN, or AlInGaN can be used.
The n-type layer 13 is doped with Si as an n-type impurity, but Ge, Se, Te, C, or the like can also be used as an n-type impurity.
The n-type layer 13 can have a two-layer structure including a low electron concentration n layer on the layer 14 side including a light emitting layer and a high electron concentration n + layer on the buffer layer 12 side.
The layer 14 including the light emitting layer may include a quantum well structure (multiple quantum well structure or single quantum well structure), and the light emitting element has a single hetero type, a double hetero type, and a homojunction. It may be of a type.
The layer 14 including the light emitting layer may include a group III nitride compound semiconductor layer having a wide band gap doped with an acceptor such as magnesium on the p-type layer 15 side. This is to effectively prevent the electrons injected into the layer 14 including the light emitting layer from diffusing into the p-type layer 15.
A p-type layer 15 made of GaN doped with Mg as a p-type impurity was formed on the layer 14 including the light-emitting layer. The p-type layer may be AlGaN, InGaN, or InAlGaN, and Zn, Be, Ca, Sr, or Ba may be used as the p-type impurity.
Further, the p-type layer 15 can have a two-layer structure including a low hole concentration p layer on the layer 14 side including a light emitting layer and a high hole concentration p + layer on the electrode side.
In the light emitting device having the above-described configuration, each group III nitride compound semiconductor layer is formed by performing MOCVD under general conditions, a molecular beam crystal growth method (MBE method), a halide vapor phase epitaxy method (HVPE method). ), A sputtering method, an ion plating method, an electron shower method, or the like.

n電極19はAlとVの2層で構成され、p型層15を形成した後、p型層15、発光する層を含む層14、及びn型層13の一部をエッチングにより除去し、蒸着によりn型層13上に形成される。
透光性電極17は金を含む薄膜であり、p型層15の上に積層される。p電極18も金を含む材料で構成されており、蒸着により透光性電極17の上に形成される。
上記の工程により各半導体層及び各電極を形成した後、各チップの分離工程を行う。
The n-electrode 19 is composed of two layers of Al and V, and after forming the p-type layer 15, the p-type layer 15, the layer 14 including the light emitting layer, and a part of the n-type layer 13 are removed by etching, It is formed on the n-type layer 13 by vapor deposition.
The translucent electrode 17 is a thin film containing gold and is laminated on the p-type layer 15. The p-electrode 18 is also made of a material containing gold, and is formed on the translucent electrode 17 by vapor deposition.
After forming each semiconductor layer and each electrode by the above process, a separation process of each chip is performed.

発光する層を含む層14と基板11との間、又は基板11の半導体層が形成されない面に反射層を設けることもできる。反射層を設けることにより、発光する層を含む層14で生じ、基板側に向かった光を効率的に光の取り出し方向へと反射でき、その結果、発光効率の向上を図れる。反射層は、窒化チタン、窒化ジルコニウム、及び窒化タンタルの中から選択される1種類又は2種類以上により形成することができる。また、Al、In、Cu、Ag、Pt、Ir、Pd、Rh、W、Mo、Ti、Ni等の金属の単体又はこれらの中から任意に選択される2種以上の金属からなる合金を用いて反射層を形成することもできる。   A reflective layer can also be provided between the layer 14 including the light emitting layer and the substrate 11 or on the surface of the substrate 11 where the semiconductor layer is not formed. By providing the reflective layer, the light generated in the layer 14 including the light emitting layer and directed toward the substrate can be efficiently reflected in the light extraction direction, and as a result, the light emission efficiency can be improved. The reflective layer can be formed of one or more selected from titanium nitride, zirconium nitride, and tantalum nitride. In addition, a single metal such as Al, In, Cu, Ag, Pt, Ir, Pd, Rh, W, Mo, Ti, Ni, or an alloy made of two or more metals arbitrarily selected from these metals is used. A reflective layer can also be formed.

基体20は白色系樹脂(ポリフタルアミド)からなり、その外形は略カップ状である。基体20の上部には凹部21が形成されている。当該凹部21の内周面22はLEDチップ10を囲繞する。当該内周面22は、LEDチップ10の光軸に対して所望の角度となるように成形されている。一方、基体20の下部はリードフレーム30をインモールドしている。このようにLED発光装置1は、白色系の樹脂でリードフレーム30をインモールドしたパッケージ構造を備える。尚、リードフレーム30はいずれも銅(Cu)合金からなる。   The substrate 20 is made of a white resin (polyphthalamide), and its outer shape is substantially cup-shaped. A recess 21 is formed in the upper portion of the base body 20. The inner peripheral surface 22 of the recess 21 surrounds the LED chip 10. The inner peripheral surface 22 is formed to have a desired angle with respect to the optical axis of the LED chip 10. On the other hand, a lead frame 30 is in-molded at the lower part of the base body 20. Thus, the LED light emitting device 1 includes a package structure in which the lead frame 30 is in-molded with a white resin. The lead frame 30 is made of a copper (Cu) alloy.

基体上部の内周面22は樹脂層40で被覆されている。樹脂層40は、光反射性フィラーとして酸化チタンを約30%(w/w)含有するシリコーン樹脂であって、高い反射性を有する。樹脂層40は下方に向かってその厚さが漸増しており、最も厚い部分の厚さは約300μmである。本実施例では、このように厚さを徐変させることによって樹脂層40の表面を、LEDチップ10の光軸に対して所望の角度で傾斜する面としている。   The inner peripheral surface 22 of the upper part of the base is covered with a resin layer 40. The resin layer 40 is a silicone resin containing about 30% (w / w) of titanium oxide as a light reflective filler, and has high reflectivity. The thickness of the resin layer 40 gradually increases downward, and the thickness of the thickest portion is about 300 μm. In this embodiment, the surface of the resin layer 40 is inclined at a desired angle with respect to the optical axis of the LED chip 10 by gradually changing the thickness in this way.

樹脂層40の表面と基体凹部21の底壁で画成される空間には封止樹脂50が充填される。本実施例では封止樹脂50の材料としてシリコーン樹脂が用いられる。封止樹脂50にレンズ効果を付与してもよい。例えば封止樹脂50の表面形状を凹レンズ型、又は凸レンズ型等にし、所望のレンズ効果を得ることができる。
一方、封止樹脂50内に拡散剤を分散させてもよい。拡散剤を用いることにより封止樹脂50内において光の拡散、混色を促進でき、発光ムラを低減することができる。拡散剤としては酸化チタン、窒化チタン、窒化タンタル、酸化アルミニウム、酸化珪素、チタン酸バリウム等が用いられる。
A space defined by the surface of the resin layer 40 and the bottom wall of the base recess 21 is filled with a sealing resin 50. In this embodiment, a silicone resin is used as the material of the sealing resin 50. A lens effect may be imparted to the sealing resin 50. For example, the surface shape of the sealing resin 50 can be a concave lens type or a convex lens type, and a desired lens effect can be obtained.
On the other hand, a diffusing agent may be dispersed in the sealing resin 50. By using the diffusing agent, light diffusion and color mixing can be promoted in the sealing resin 50, and uneven light emission can be reduced. As the diffusing agent, titanium oxide, titanium nitride, tantalum nitride, aluminum oxide, silicon oxide, barium titanate, or the like is used.

次にLED発光装置1の製造方法を説明する。まず、上記の手順でLEDチップ10を用意する。一方、リードフレーム30の形状に合わせて型抜きした銅合金製の金属板を用意し、リードフレーム部に白色系樹脂をインジェクションモールドする。次に、所望の位置で金属板を切断することで、リードフレーム30が白色系樹脂でインモールドされたパッケージを分離し、最後にリードフレーム30の端部を整形する。このようにして作製したパッケージにおいて、上述した要領(図7を参照)で樹脂層40を形成した後、常法に従いLEDチップ10のリードフレーム30への搭載、ワイヤーボンディング、封止樹脂50の充填などを実施する。   Next, a method for manufacturing the LED light emitting device 1 will be described. First, the LED chip 10 is prepared by the above procedure. On the other hand, a copper alloy metal plate that has been die-cut according to the shape of the lead frame 30 is prepared, and a white resin is injection-molded into the lead frame portion. Next, by cutting the metal plate at a desired position, the package in which the lead frame 30 is in-molded with a white resin is separated, and finally the end of the lead frame 30 is shaped. In the package thus manufactured, after the resin layer 40 is formed as described above (see FIG. 7), the LED chip 10 is mounted on the lead frame 30 in accordance with the usual method, wire bonding, and the sealing resin 50 is filled. And so on.

続いてLED発光装置1の発光態様を説明する。まず、給電を受けてLEDチップ10から青色系の光が出射する。上方に出射した光の多くは、封止樹脂50を通り、封止樹脂の上面を介して外部に取り出される。一方、横方向に出射した光は封止樹脂50内を進行し、樹脂層40に至る。そして樹脂層40内のフィラー(酸化チタン)によって反射される。このようにLEDチップ10から横方向に出射した光の多くは樹脂層40による反射作用を受ける。つまり、樹脂層40が主たる反射部材として機能する。その結果、LEDチップ10から横方向に出射した光の中で基体内周面22へ到達する光の量は少なく、基体内周面22の光劣化が防止される。このように、基体内周面22ではなくその上に形成した樹脂層40を反射部材として利用することによって、基体内周面22の経時的な劣化を実質的に伴うことなく、高い光取り出し効率を達成できる。尚、樹脂層40の表面を傾斜面としたことによって、樹脂層40による反射光の多くをLED発光装置1の光放出方向(図示上方)に進行させることができることから、LED発光装置1では非常に高い光取り出し効率が得られる。
一方、樹脂層40及び封止樹脂50を、短波長側の光に高い耐性を発揮するシリコーン樹脂で形成したことによって、これらの経時的な劣化・変色は少ない。従って、使用に伴う光度及び発光色の変化が少ない高品質の発光装置となる。ここで、樹脂層40には反射作用に伴い光が集中することから、その光劣化を防止することはLED発光装置1の光度や発光色の経時的な変化の防止に特に有効である。
さらに、樹脂製の基体20に対して樹脂層40は良好な接着性を有することから、形成過程において或いは形成後に樹脂層40が剥離するおそれが少なく、製造歩留まり及び信頼性の向上といった効果も得られる。
Then, the light emission aspect of the LED light-emitting device 1 is demonstrated. First, blue light is emitted from the LED chip 10 by receiving power. Most of the light emitted upward passes through the sealing resin 50 and is extracted outside through the upper surface of the sealing resin. On the other hand, the light emitted in the lateral direction travels in the sealing resin 50 and reaches the resin layer 40. And it is reflected by the filler (titanium oxide) in the resin layer 40. Thus, most of the light emitted from the LED chip 10 in the lateral direction is reflected by the resin layer 40. That is, the resin layer 40 functions as a main reflecting member. As a result, the amount of light reaching the substrate inner peripheral surface 22 among the light emitted from the LED chip 10 in the lateral direction is small, and light deterioration of the substrate inner peripheral surface 22 is prevented. Thus, by using the resin layer 40 formed on the substrate inner peripheral surface 22 instead of the substrate inner peripheral surface 22 as a reflecting member, a high light extraction efficiency can be obtained without substantial deterioration of the substrate inner peripheral surface 22 over time. Can be achieved. Since the surface of the resin layer 40 is an inclined surface, most of the reflected light from the resin layer 40 can travel in the light emission direction (upward in the drawing) of the LED light-emitting device 1. High light extraction efficiency can be obtained.
On the other hand, since the resin layer 40 and the sealing resin 50 are formed of a silicone resin that exhibits high resistance to light on the short wavelength side, their deterioration and discoloration with time are small. Therefore, a high-quality light-emitting device with little change in luminous intensity and emission color with use is obtained. Here, since the light concentrates on the resin layer 40 due to the reflection action, preventing the light deterioration is particularly effective for preventing the light intensity and the emission color of the LED light emitting device 1 from changing with time.
Furthermore, since the resin layer 40 has good adhesiveness to the resin substrate 20, there is little possibility that the resin layer 40 will be peeled off during or after the forming process, and the effects of improving the manufacturing yield and reliability can be obtained. It is done.

以上、LEDチップ10の使用によって青色光を発光するLED発光装置について説明したが、使用するLEDチップを適宜選択することによって所望の発光色の発光装置を構成することができる。使用できるLEDチップの例としては、紫外領域の光(例えば主発光ピーク波長を380nm付近に有する光)を出射するLEDチップや、緑色光を出射するLEDチップなどを挙げることができる。   As described above, the LED light-emitting device that emits blue light by using the LED chip 10 has been described. However, a light-emitting device having a desired light emission color can be configured by appropriately selecting the LED chip to be used. Examples of LED chips that can be used include LED chips that emit light in the ultraviolet region (for example, light having a main emission peak wavelength in the vicinity of 380 nm), LED chips that emit green light, and the like.

本発明の他の実施例を図3に示す。図3はLED発光装置2の断面図である。尚、上記実施例と同一の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。
LED発光装置2は白色発光のSMD(表面実装)型LEDランプであって、例えば照明用光源や、液晶表示装置等のバックライト光源などとして利用することができる。
LED発光装置2では、LEDチップ10を封止する蛍光体樹脂層60が備えられる。蛍光体樹脂層60は蛍光体:YAl12:Ce(YAG)61を20%(w/w)含有するシリコーン樹脂からなる。このような蛍光体樹脂層60は、蛍光体を含有する樹脂材料を、LEDチップ10搭載後にLEDチップ10の上からポッティングすることや、LEDチップ10表面に塗布することなどによって形成することができる。
以上の構成のLED発光装置2では、LEDチップ10から出射した光の一部が、蛍光体樹脂層60を通過する過程で蛍光体61を励起し、これによって黄色系の蛍光が生ずる。その結果、LED発光装置2からは青色系の光と黄色光との混色による白色光が放射することになる。一方、樹脂層40内のフィラーが反射作用に加えて光拡散作用を発揮する結果、青色光と黄色光の混色が促進され、色ムラや色分かれの少ない白色光が得られる。また、上記実施例のLED発光装置1と同様の作用効果、即ち高い光取り出し効率の達成、光度及び発光色の経時的変化の防止、製造歩留まりの向上、信頼性の向上という作用効果も奏される。
Another embodiment of the present invention is shown in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the LED light emitting device 2. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as the said Example, and the description is abbreviate | omitted.
The LED light emitting device 2 is a white light emitting SMD (surface mount) type LED lamp, and can be used as a light source for illumination, a backlight light source such as a liquid crystal display device, and the like.
The LED light emitting device 2 includes a phosphor resin layer 60 that seals the LED chip 10. The phosphor resin layer 60 is made of a silicone resin containing 20% (w / w) of phosphor: Y 3 Al 5 O 12 : Ce (YAG) 61. Such a phosphor resin layer 60 can be formed by potting a resin material containing a phosphor from the top of the LED chip 10 after being mounted on the LED chip 10 or by applying it to the surface of the LED chip 10. .
In the LED light emitting device 2 having the above configuration, part of the light emitted from the LED chip 10 excites the phosphor 61 in the process of passing through the phosphor resin layer 60, thereby generating yellowish fluorescence. As a result, the LED light-emitting device 2 emits white light that is a mixed color of blue light and yellow light. On the other hand, as a result of the filler in the resin layer 40 exhibiting a light diffusing action in addition to a reflecting action, the color mixture of blue light and yellow light is promoted, and white light with less color unevenness and color separation is obtained. In addition, the same operational effects as the LED light emitting device 1 of the above embodiment, that is, achievement of high light extraction efficiency, prevention of change in luminous intensity and emission color over time, improvement of manufacturing yield, and improvement of reliability are also exhibited. The

蛍光体樹脂層60を別途設けることに代え、封止樹脂50内に蛍光体61を含有させて蛍光作用を得てもよい。この形態ではLEDチップ10から出射した光の一部が、封止樹脂50内を通過する際に蛍光体による波長変換作用を受ける。その結果生じた黄色光と、蛍光体の励起に使用されなかった青色光とが混色することによって白色光が外部放射することになる。   Instead of providing the phosphor resin layer 60 separately, the phosphor 61 may be contained in the sealing resin 50 to obtain a fluorescence action. In this embodiment, part of the light emitted from the LED chip 10 is subjected to wavelength conversion action by the phosphor when passing through the sealing resin 50. The resulting yellow light and the blue light that has not been used for excitation of the phosphor are mixed to emit white light to the outside.

一方、LEDチップ10の表面をコーティングするように蛍光体樹脂層60を形成してもよい。例えば、蛍光体61を分散させた樹脂材料にLEDチップ10をディップすることでその表面をコーティングし、その後LEDチップ10の実装を行うことによって、LEDチップ10の表面が蛍光体樹脂でコーティングされたLED発光装置を作製することができる。尚、上記ディッピングによる他、スパッタリング、塗布、又は塗装等により同様のコーティング処理を施すことができる。   On the other hand, the phosphor resin layer 60 may be formed so as to coat the surface of the LED chip 10. For example, the surface of the LED chip 10 is coated with the phosphor resin by coating the surface of the LED chip 10 by dipping the resin material in which the phosphor 61 is dispersed and then mounting the LED chip 10. An LED light-emitting device can be manufactured. In addition to the above dipping, the same coating treatment can be performed by sputtering, coating, painting, or the like.

本発明の他の実施例を図4に示す。図4はLED発光装置3の断面図である。尚、上記実施例と同一の部材には同一の符号を付してその説明を省略する。
図4に示したLED発光装置3は白色発光のSMD(表面実装)型LEDランプであって、例えば照明用光源や液晶表示装置等のバックライト光源などとして利用することができる。
LED発光装置3は、紫外領域の光を出射するLEDチップ70を内蔵する。LEDチップ70はサファイア基板上に複数のIII族窒化物系化合物半導体層が積層された構成からなり、発光ピーク波長を380nm付近に有する。
Another embodiment of the present invention is shown in FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the LED light emitting device 3. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as the said Example, and the description is abbreviate | omitted.
The LED light emitting device 3 shown in FIG. 4 is a white light emitting SMD (surface mount) type LED lamp, and can be used as a backlight light source such as an illumination light source or a liquid crystal display device.
The LED light emitting device 3 includes an LED chip 70 that emits light in the ultraviolet region. The LED chip 70 has a configuration in which a plurality of group III nitride compound semiconductor layers are stacked on a sapphire substrate, and has an emission peak wavelength in the vicinity of 380 nm.

LED発光装置3では基板71と外装樹脂72を用いてパッケージが構成される。尚、ここでの基板71及び外装樹脂72が上記説明における基体に相当する。基板71の導体パターン73上にLEDチップ70が搭載され、ワイヤボンディングが施される。外装樹脂72はポリフタルアミドの成形品である。外装樹脂72と基板20を接着させることによって、カップ状の凹部を備える基体となる。外装樹脂72の内周面74上には、光反射性フィラー含有の樹脂層45が形成される。この実施例では樹脂層45の厚さを均一とした。   In the LED light emitting device 3, a package is configured using the substrate 71 and the exterior resin 72. Here, the substrate 71 and the exterior resin 72 correspond to the base in the above description. The LED chip 70 is mounted on the conductor pattern 73 of the substrate 71, and wire bonding is performed. The exterior resin 72 is a molded product of polyphthalamide. By bonding the exterior resin 72 and the substrate 20, a base having a cup-shaped recess is obtained. On the inner peripheral surface 74 of the exterior resin 72, a resin layer 45 containing a light reflective filler is formed. In this embodiment, the thickness of the resin layer 45 is uniform.

一方、LEDチップ70を封止するように蛍光体樹脂層75が備えられる。蛍光体樹脂層75は、赤色系蛍光体(第1蛍光体76)、緑色系蛍光体(第2蛍光体77)及び青色系蛍光体(第3蛍光体78)を分散させたシリコーン樹脂である。各蛍光体の使用量は、各蛍光体の変換効率・発光色を考慮して定める。
封止樹脂50内にも蛍光体を含有させてもよい。この場合、3種類全ての蛍光体を封止樹脂50に含有させるのではなく、一部の蛍光体のみ(例えば第1蛍光体76と第2蛍光体77のみ)を含有させることにしてもよい。
On the other hand, a phosphor resin layer 75 is provided to seal the LED chip 70. The phosphor resin layer 75 is a silicone resin in which a red phosphor (first phosphor 76), a green phosphor (second phosphor 77), and a blue phosphor (third phosphor 78) are dispersed. . The amount of each phosphor used is determined in consideration of the conversion efficiency and emission color of each phosphor.
The sealing resin 50 may also contain a phosphor. In this case, not all three types of phosphors may be contained in the sealing resin 50, but only some of the phosphors (for example, only the first phosphor 76 and the second phosphor 77) may be contained. .

以上のように構成されたLED発光装置3では、LEDチップ70から放出された紫外光は蛍光体樹脂層75を通過する際、第1蛍光体76、第2蛍光体77、第3蛍光体78を励起、発光させる。これにより生じた蛍光が混色し、全体として白色系の光が外部放射することになる。尚、LEDチップ70から横方向に出射した光は樹脂層45によって反射されることで、蛍光体(76〜78)の励起に効率的に利用される。   In the LED light emitting device 3 configured as described above, when the ultraviolet light emitted from the LED chip 70 passes through the phosphor resin layer 75, the first phosphor 76, the second phosphor 77, and the third phosphor 78. Is excited to emit light. The resulting fluorescence mixes and white light as a whole is emitted externally. In addition, the light radiate | emitted from LED chip 70 in the horizontal direction is efficiently utilized for excitation of fluorescent substance (76-78) by being reflected by the resin layer 45. FIG.

本実施例では、各蛍光体を蛍光体樹脂層75内に一様に分散させる構成としたが、蛍光体樹脂層75内で蛍光体の濃度分布に傾斜を設けることもできる。例えば、蛍光体添加濃度の異なるシリコーン樹脂をLEDチップ70の上に順に積層する。一方、図5に示すように、含有する蛍光体が異なる複数の蛍光体樹脂層を形成させてもよい。この例ではLEDチップ70を被覆するように二つの蛍光体樹脂層80、81が形成されている。LEDチップ70に近い側の蛍光体樹脂層80には第1蛍光体76が含有される。他方の蛍光体樹脂層81には第2蛍光体77及び第3蛍光体78が含有される。蛍光体樹脂層80、81の基材は共にシリコーン樹脂である。尚、これら二つの樹脂層が封止樹脂を兼ねている。この例のLED発光装置4では、光変換効率の比較的低い赤色系蛍光体(第1蛍光体76)をLEDチップ70の近傍に配置している。これにより赤色蛍光体に照射するLEDチップ70の光の量を増大させ、他の蛍光体からの光の量とのバランスをとっている。このように蛍光体の配置態様を工夫することによって、各蛍光体からの光の量を均一化し、色成分バランスが良好な演色性に優れた白色光を得ることができる。   In this embodiment, each phosphor is uniformly dispersed in the phosphor resin layer 75. However, it is possible to provide a gradient in the concentration distribution of the phosphor in the phosphor resin layer 75. For example, silicone resins having different phosphor addition concentrations are sequentially stacked on the LED chip 70. On the other hand, as shown in FIG. 5, a plurality of phosphor resin layers having different phosphors may be formed. In this example, two phosphor resin layers 80 and 81 are formed so as to cover the LED chip 70. The phosphor resin layer 80 on the side close to the LED chip 70 contains the first phosphor 76. The other phosphor resin layer 81 contains a second phosphor 77 and a third phosphor 78. The base materials of the phosphor resin layers 80 and 81 are both silicone resins. Note that these two resin layers also serve as a sealing resin. In the LED light emitting device 4 of this example, a red phosphor (first phosphor 76) having a relatively low light conversion efficiency is disposed in the vicinity of the LED chip 70. This increases the amount of light of the LED chip 70 that irradiates the red phosphor, and balances the amount of light from other phosphors. Thus, by devising the arrangement mode of the phosphors, the amount of light from each phosphor can be made uniform, and white light with a good color component balance and excellent color rendering can be obtained.

尚、本実施例のLED発光装置3、4においても、上記実施例のLED発光装置1と同様の作用効果、即ち高い光取り出し効率の達成、光度及び発光色の経時的変化の防止、製造歩留まりの向上、信頼性の向上という作用効果が奏される。   In the LED light-emitting devices 3 and 4 of the present embodiment, the same effects as the LED light-emitting device 1 of the above-described embodiment, that is, achievement of high light extraction efficiency, prevention of changes in light intensity and luminescent color with time, and production yield. The effect of improving the reliability and reliability is achieved.

本発明のLED発光装置は様々な装置の光源として利用され得る。例えば、車両室内や居室内用の照明装置の光源や、液晶表示装置などのバックライト用光源などに本発明を適用することが可能である。   The LED light-emitting device of the present invention can be used as a light source for various devices. For example, the present invention can be applied to a light source of an illumination device for a vehicle interior or a living room, a backlight light source such as a liquid crystal display device, and the like.

この発明は、上記発明の実施の形態及び実施例の説明に何ら限定されるものではない。特許請求の範囲の記載を逸脱せず、当業者が容易に想到できる範囲で種々の変形態様もこの発明に含まれる。
本明細書の中で明示した論文、公開特許公報、及び特許公報などの内容は、その全ての内容を援用によって引用することとする。
The present invention is not limited to the description of the embodiments and examples of the invention described above. Various modifications may be included in the present invention as long as those skilled in the art can easily conceive without departing from the description of the scope of claims.
The contents of papers, published patent gazettes, patent gazettes, and the like specified in this specification are incorporated by reference in their entirety.

本発明の実施例であるLED発光装置1の斜視図である。It is a perspective view of the LED light-emitting device 1 which is an Example of this invention. 本発明の実施例であるLED発光装置1の断面図である。It is sectional drawing of the LED light-emitting device 1 which is an Example of this invention. 他の実施例であるLED発光装置2の断面図である。It is sectional drawing of the LED light-emitting device 2 which is another Example. さらに他の実施例であるLED発光装置3の断面図である。It is sectional drawing of the LED light-emitting device 3 which is another Example. さらに他の実施例であるLED発光装置4の断面図である。It is sectional drawing of the LED light-emitting device 4 which is another Example. 実施例のLED発光装置に使用されるLEDチップ10の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the LED chip 10 used for the LED light-emitting device of an Example. 本発明のLED発光装置内に備えられる樹脂層の形成方法を示す図である。It is a figure which shows the formation method of the resin layer with which the LED light-emitting device of this invention is equipped.

符号の説明Explanation of symbols

1、2、3、4 LED発光装置
10 青色発光LEDチップ
20 基体
21 基体の凹部
22 基体内周面
30 リードフレーム
40 光反射性フィラー含有樹脂層
50 封止樹脂
60、75、80、81 蛍光体樹脂層
61 黄色系蛍光体
70 紫外発光LEDチップ
71 基板
72 外装樹脂
73 導体パターン
76 赤色系蛍光体
77 緑色系蛍光体
78 青色系蛍光体
1, 2, 3, 4 LED light emitting device 10 Blue light emitting LED chip 20 Base 21 Base recess 22 Base inner peripheral surface 30 Lead frame 40 Light reflecting filler-containing resin layer 50 Sealing resin 60, 75, 80, 81 Phosphor Resin layer 61 Yellow phosphor 70 UV light emitting LED chip 71 Substrate 72 Exterior resin 73 Conductive pattern 76 Red phosphor 77 Green phosphor 78 Blue phosphor

Claims (6)

LEDチップと、
白色系樹脂からなる基体であって、前記LEDチップを囲繞する部分を備える基体と、
光反射性フィラーを含有する樹脂層であって、前記基体の前記部分の内周面を被覆する樹脂層と、
前記LEDチップを被覆するように、前記樹脂層が囲繞する空間に充填される封止部材と、
を備えるLED発光装置。
An LED chip;
A substrate made of a white resin, the substrate including a portion surrounding the LED chip;
A resin layer containing a light reflective filler, the resin layer covering the inner peripheral surface of the portion of the substrate;
A sealing member filled in a space surrounded by the resin layer so as to cover the LED chip;
An LED light emitting device comprising:
前記樹脂層の基材がシリコーンである、請求項1に記載のLED発光装置。   The LED light-emitting device according to claim 1, wherein a base material of the resin layer is silicone. 前記封止部材がシリコーンからなる、請求項1又は2に記載のLED発光装置。   The LED light-emitting device according to claim 1, wherein the sealing member is made of silicone. 前記LEDチップに近い領域ほど前記樹脂層が厚く、これによって前記樹脂層の表面が前記LEDチップの光軸に対して傾斜する面となる、請求項1〜3のいずれかに記載のLED発光装置。   The LED light-emitting device according to claim 1, wherein the resin layer is thicker in a region closer to the LED chip, whereby the surface of the resin layer becomes a surface inclined with respect to the optical axis of the LED chip. . 前記LEDチップが青色発光LEDチップであり、
前記封止部材が、青色系の光を受けて黄色系の光を放射する蛍光体を含有する、
請求項1〜4のいずれかに記載のLED発光装置。
The LED chip is a blue light emitting LED chip;
The sealing member contains a phosphor that receives blue light and emits yellow light.
The LED light-emitting device in any one of Claims 1-4.
前記LEDチップが紫外発光LEDチップであり、
前記封止部材が、紫外光を受けて赤色系の光を放出する蛍光体と、紫外光を受けて緑色色系の光を放出する蛍光体と、及び紫外光を受けて青色系の光を放出する蛍光体とを含有する、
請求項1〜4のいずれかに記載のLED発光装置。
The LED chip is an ultraviolet light emitting LED chip;
The sealing member receives a phosphor that emits red light upon receiving ultraviolet light, a phosphor that emits green light upon receiving ultraviolet light, and a blue light upon receiving ultraviolet light. A phosphor that emits,
The LED light-emitting device in any one of Claims 1-4.
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