JP2006503958A - Continuous process for producing hot melt adhesive compositions - Google Patents
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Abstract
湿気硬化性ホットメルト接着剤組成物を製造する連続プロセスは、オルガノポリシロキサン、シリコーン樹脂、シラン架橋剤、触媒、及び溶媒を押出機に供給すること、及び揮発性成分を除去することを含む。連続プロセスを用いることにより、不揮発性成分含有量を調節し且つ一貫した製品を生産することができる。湿気に曝露した場合、上記ホットメルト組成物が硬化し、2つの基材間の接着をもたらす。A continuous process for making a moisture curable hot melt adhesive composition includes feeding an organopolysiloxane, silicone resin, silane crosslinker, catalyst, and solvent to the extruder and removing volatile components. By using a continuous process, the content of non-volatile components can be adjusted and a consistent product can be produced. When exposed to moisture, the hot melt composition cures and provides adhesion between the two substrates.
Description
(相互参照)
本出願は、米国特許仮出願第60/420,575号に基づく優先権を主張し、その全てを本出願に援用する。
(Cross-reference)
This application claims priority based on US Provisional Patent Application No. 60 / 420,575, the entirety of which is incorporated herein by reference.
(発明の分野)
本発明は、湿気硬化性ホットメルト接着剤組成物を製造するための連続法に関する。本方法は、オルガノポリシロキサン、シリコーン樹脂、シラン架橋剤、及び溶媒の混合物を押出機に供給すること、並びに揮発性成分を除去することを含む。連続プロセスを用いることによって、不揮発性成分含有量を調節し、且つ一定した製品を製造することができる。湿気に曝露した場合、このホットメルト接着剤組成物は硬化し、少なくとも2つの基材間の接着をもたらす。
(Field of Invention)
The present invention relates to a continuous process for producing a moisture curable hot melt adhesive composition. The method includes feeding a mixture of organopolysiloxane, silicone resin, silane crosslinker, and solvent to an extruder and removing volatile components. By using a continuous process, the content of non-volatile components can be adjusted and a consistent product can be produced. When exposed to moisture, the hot melt adhesive composition cures and provides adhesion between at least two substrates.
(背景技術)
湿気硬化性オルガノシロキサン組成物は多くの用途、例えば、要素間の接合部(ジョイント)に適用され、硬化してこれら要素間に弾性シールを提供することが可能なシーラント組成物として用いられている。これらの組成物は室温で硬化し、しかも、例えばハイウエイ・ジョイント、車両用ヘッドライトなどの物品のジョイント、及びビルディングのジョイントをシールするための、並びにガラス取り付け(グレージング)への応用のためのシーラント組成物としての使用に対して特に魅力的であるが、なぜなら、所望する品質のシールを形成するために通常必要とされる特別な加熱又はその他の硬化条件も必要とされないからである。
(Background technology)
Moisture curable organosiloxane compositions are used in many applications, such as sealant compositions that can be applied to joints between elements and cured to provide an elastic seal between the elements. . These compositions cure at room temperature, yet sealants for sealing highway joints, joints of articles such as vehicle headlights, and building joints, and for glass glazing applications It is particularly attractive for use as a composition because the special heating or other curing conditions normally required to form a seal of the desired quality are not required.
多くの湿気硬化性オルガノシロキサン組成物が提案され、そして、少なくとも2つのシラノール基を含む実質的に直線状の少なくとも1種のポリオルガノシロキサン、そのポリオルガノシロキサンと反応し架橋された網目をもたらすことができる架橋剤、及び触媒物質、から通常は作られる。これらの組成物は、湿気によって促進される縮合反応によって硬化する。 Many moisture curable organosiloxane compositions have been proposed and are capable of reacting with the polyorganosiloxane to form a crosslinked network that is at least one substantially linear polyorganosiloxane containing at least two silanol groups. It is usually made from a cross-linking agent capable of These compositions cure by a condensation reaction promoted by moisture.
湿気硬化性オルガノシロキサン組成物中の上記架橋剤は、容易に加水分解する多官能性シラン類から通常は選択される。通常用いられる架橋剤は、トリアセトキシシラン類、トリアルコキシシラン類、トリアミノシラン類、及びトリオキシモシラン類である。上記縮合反応は、例えば、ジアルコキシアルキルシリル基によるポリオルガノシロキサンのキャッピング、それに続くその末端キャップのアルコキシ基及び/又はシラノール基の相互作用が架橋構造をもたらすことを経て、縮合反応が進むと考えられる。 The crosslinking agent in the moisture curable organosiloxane composition is usually selected from polyfunctional silanes that readily hydrolyze. Commonly used crosslinking agents are triacetoxysilanes, trialkoxysilanes, triaminosilanes, and trioximosilanes. The condensation reaction is considered to proceed through, for example, the capping of polyorganosiloxane by dialkoxyalkylsilyl group and the subsequent interaction of the alkoxy group and / or silanol group of the end cap resulting in a crosslinked structure. It is done.
製造及び貯蔵中の上記組成物のいくらかの硬化は許容可能であるが、目的とする作業現場(ここにおいて大気中の湿気の影響下で硬化することが意図されている)で適用するはるか以前に硬化が進行しないことが重要である。したがって、上記組成物の湿気への曝露は、製造及び貯蔵の間、バッチからバッチへと一定の許容可能な低範囲に保たれるべきであり、さもなければ、上記組成物はその意図した目的に対して非実用的な程度までに硬化してしまう。 Some curing of the above composition during manufacture and storage is acceptable, but long before it is applied at the intended work site, where it is intended to cure under the influence of atmospheric moisture It is important that curing does not proceed. Thus, the exposure of the composition to moisture should be kept within a certain acceptable low range from batch to batch during manufacture and storage, otherwise the composition has its intended purpose. However, it will be hardened to a practical level.
有機ケイ素化合物をベースとする湿気硬化性組成物は、通常、微細に分散されたフィラーを含む。通常用いられるフィラーは、硬化した材料を強化し、製品のコストを下げ、あるいはそうでなければ、所望する特性の組み合わせを与えるものである。 Moisture curable compositions based on organosilicon compounds usually contain finely dispersed fillers. Commonly used fillers are those that strengthen the cured material, reduce the cost of the product, or otherwise provide the desired combination of properties.
典型的なフィラーは高表面積シリカ、石英粉末、酸化鉄、酸化亜鉛、カーボンブラック、炭酸カルシウム、及び珪藻土、を含むがこれらに限定されない。湿気硬化性オルガノシロキサン組成物は、バッチ法又は連続法を用いて製造でき、これらの方法においては、フィラー及びポリオルガノシロキサンが共に混合され、その混合物に架橋剤及び触媒が添加され、そして得られた組成物は次にカートリッジなどの容器にパッケージされ、これは次に湿気の侵入を防止するために気密状態に密封(シール)される。 Typical fillers include, but are not limited to, high surface area silica, quartz powder, iron oxide, zinc oxide, carbon black, calcium carbonate, and diatomaceous earth. Moisture curable organosiloxane compositions can be made using a batch or continuous process, in which filler and polyorganosiloxane are mixed together, to which the crosslinker and catalyst are added and obtained. The resulting composition is then packaged in a container, such as a cartridge, which is then hermetically sealed to prevent moisture ingress.
シリコーン粘着剤(本明細書中、PSAとも記す)は、典型的には少なくとも2種の主要成分、すなわち、直線状シロキサンポリマー、並びに本質的にトリオルガノシロキサン単位(すなわち、R3SiO1/2単位、ここでRは一価の有機基を表す)及びシリケート単位(すなわち、SiO4/2単位)からなる粘着付与樹脂、を含む。この2種の成分に加えて、いくつかのシリコーンPSA組成物は、最終粘着剤製品の様々な特性を最適化するために多少の架橋手段(例えば、パーオキサイド又はハイドロシレーション硬化システム)を含む。上記ポリマー成分によってもたらされる高粘度を考慮して、これらのPSA組成物は、典型的には、適用を容易にするための有機溶媒中に分散されている。これらのPSAのいくつかは、反応性基を含み、これが湿気への曝露によって組成物が硬化することを可能にしている。上述した樹脂及びポリマーの比率、並びにその他のパラメータが調整された場合、類似の組み合わせ物がコーティング用組成物へと配合されうる。特定の他の条件のもとでは、ホットメルトPSAを得ることができる。 Silicone adhesives (also referred to herein as PSA) typically have at least two major components: a linear siloxane polymer, as well as essentially triorganosiloxane units (ie R 3 SiO 1/2). Unit, where R represents a monovalent organic group) and a tackifying resin consisting of silicate units (ie, SiO 4/2 units). In addition to the two components, some silicone PSA compositions include some crosslinking means (eg, peroxide or hydrosilation curing systems) to optimize various properties of the final adhesive product. . In view of the high viscosity provided by the polymer components, these PSA compositions are typically dispersed in an organic solvent for ease of application. Some of these PSAs contain reactive groups that allow the composition to cure upon exposure to moisture. Similar combinations can be incorporated into the coating composition when the resin and polymer ratios described above, as well as other parameters, are adjusted. Under certain other conditions, hot melt PSA can be obtained.
(発明のまとめ)
本発明は、湿気硬化性ホットメルトシリコーン粘着剤組成物を製造するための連続法に関する。このプロセスは、オルガノポリシロキサン、シリコーン樹脂、シラン架橋剤、及び溶媒を混合すること;この組み合わせ物を押出機に供給し、揮発性成分を除去すること;並びに、95質量%以上の不揮発性成分含有量を有するホットメルト接着剤組成物を回収すること、を含む。本製造方法は、コスト、利便性、及び製品の一貫性の点で有利である。
(Summary of invention)
The present invention relates to a continuous process for producing a moisture curable hot melt silicone adhesive composition. This process involves mixing an organopolysiloxane, a silicone resin, a silane crosslinker, and a solvent; feeding the combination to an extruder to remove volatile components; and 95% by weight or more of non-volatile components Recovering a hot melt adhesive composition having a content. This manufacturing method is advantageous in terms of cost, convenience, and product consistency.
(本発明の詳細な説明)
本発明は、ホットメルト接着剤組成物を製造するための連続プロセスに関する。このプロセスは、オルガノポリシロキサン、シリコーン樹脂、シラン架橋剤、及び溶媒を混合すること;この組み合わせ物を押出機に供給し、揮発性成分を除去すること;並びに、95質量%以上の不揮発性成分含有量を有するホットメルト接着剤組成物を回収すること、を含む。
(Detailed Description of the Invention)
The present invention relates to a continuous process for producing a hot melt adhesive composition. This process involves mixing an organopolysiloxane, a silicone resin, a silane crosslinker, and a solvent; feeding the combination to an extruder to remove volatile components; and 95% by weight or more of non-volatile components Recovering a hot melt adhesive composition having a content.
本発明で有用な上記シリコーン樹脂は、R1 3SiO1/2で表される一官能性単位、及びSiO4/2で表される四官能性単位を含む。R1は置換又は無置換の一価の炭化水素残基を表す。このタイプのシリコーン樹脂は、粘着剤として用いられるオルガノシロキサン組成物中に存在する成分の一つとして当技術分野において周知である。 The silicone resin useful in the present invention comprises a monofunctional unit represented by R 1 3 SiO 1/2 and a tetrafunctional unit represented by SiO 4/2 . R 1 represents a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon residue. This type of silicone resin is well known in the art as one of the components present in organosiloxane compositions used as adhesives.
上記シリコーン樹脂は、液状炭化水素、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ヘプタン、及びその他同様のもの、又は液状有機ケイ素化合物、例えば低粘度環状及び直鎖状ポリジオルガノシロキサン類、に可溶である。 The silicone resin is soluble in liquid hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, heptane, and the like, or liquid organosilicon compounds such as low viscosity cyclic and linear polydiorganosiloxanes.
R1 3SiO1/2単位中、R1は、典型的には20以下の炭素原子、典型的には1〜10の炭素原子を含む一価の炭化水素残基である。R1として適当な炭化水素残基の例には、アルキル残基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ペンチル、オクチル、ウンデシル、及びオクタデシル;アルケニル残基、例えば、ビニル、アリル、及び5−ヘキセニル;脂環式残基、例えば、シクロへキシル及びシクロヘキセニルエチル;並びに、アリール残基、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ベンジル、及び2−フェニルエチル、が含まれる。R1上に存在しうる非反応性の置換基には、ハロゲン及びシアノが含まれるがこれらに限定されない。R1で表されうる典型的な置換炭化水素残基には、クロロメチル及び3,3,3−トリフルオロプロピルが含まれるが、これらに限定されない。 In R 1 3 SiO 1/2 units, R 1 is a monovalent hydrocarbon residue typically containing 20 or fewer carbon atoms, typically 1 to 10 carbon atoms. Examples of hydrocarbon residues suitable as R 1 include alkyl residues such as methyl, ethyl, propyl, pentyl, octyl, undecyl, and octadecyl; alkenyl residues such as vinyl, allyl, and 5-hexenyl; Alicyclic residues such as cyclohexyl and cyclohexenylethyl; and aryl residues such as phenyl, tolyl, xylyl, benzyl, and 2-phenylethyl are included. Non-reactive substituents that may be present on R 1 include, but are not limited to, halogen and cyano. Exemplary substituted hydrocarbon residues that may be represented by R 1 include, but are not limited to, chloromethyl and 3,3,3-trifluoropropyl.
R1 3SiO1/2単位中のR1残基の少なくとも3分の1、あるいは少なくとも3分の2は、メチル残基である。R1 3SiO1/2単位の例には、Me3SiO1/2、PhMe2SiO1/2、及びMe2ViSiO1/2(ここでMe、Ph、及びViは、それぞれメチル、フェニル、及びビニルを表す)が含まれるが、これらに限定されない。上記シリコーン樹脂は、これらの単位の2種以上を含むことができる。 At least one third or at least two thirds of the R 1 residues in the R 1 3 SiO 1/2 unit are methyl residues. Examples of R 1 3 SiO 1/2 units include Me 3 SiO 1/2 , PhMe 2 SiO 1/2 , and Me 2 ViSiO 1/2 (where Me, Ph, and Vi are methyl, phenyl, And vinyl)), but is not limited thereto. The said silicone resin can contain 2 or more types of these units.
上記シリコーン樹脂中のR1 3SiO1/2単位及びSiO4/2単位のモル比は、典型的には0.5/1〜1.5/1、好ましくは0.6/1〜0.9/1である。これらのモル比は、都合良く、Si29n.m.r.分光法によって測定される。この手法は、上記シリコーン樹脂、及び当初のシリコーン樹脂中に存在するネオペンタマー(Si(Me3SiO)4)に由来する、R1 3SiO1/2(「M」)単位及びSiO4/2(「Q」)単位の濃度を定量的に決定し、加えて、上記シリコーン樹脂の合計ヒドロキシル含有量を定量的に決定することができる。 The molar ratio of R 1 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units in the silicone resin is typically 0.5 / 1 to 1.5 / 1, preferably 0.6 / 1 to 0.00. 9/1. These molar ratios are conveniently the Si 29 n. m. r. Measured by spectroscopy. This approach involves the R 1 3 SiO 1/2 (“M”) units and SiO 4/2 (SiO 2/2 units derived from the silicone resin and neopentamer (Si (Me 3 SiO) 4 ) present in the original silicone resin. The “Q”) unit concentration can be determined quantitatively, and in addition, the total hydroxyl content of the silicone resin can be determined quantitatively.
本発明の目的のためには、上記R1 3SiO1/2対SiO4/2比を{M(樹脂)+M(ネオペンタマー)}/{Q(樹脂)+Q(ネオペンタマー)}として表すことができ、上記シリコーン樹脂の、樹脂及びネオペンタマー部分のシリケート基の合計数に対する、樹脂及びネオペンタマー部分のトリオルガノシロキシ基の合計数の割合を表す。 For purposes of the present invention, the above R 1 3 SiO 1/2 to SiO 4/2 ratio can be expressed as {M (resin) + M (neopentamer)} / {Q (resin) + Q (neopentamer)}. Represents the ratio of the total number of triorganosiloxy groups of the resin and neopentamer moiety to the total number of silicate groups of the resin and neopentamer moiety of the silicone resin.
上記シリコーン樹脂は、2.0質量%以下、又は0.7質量%以下、又は0.3質量%以下の、式XSiO3/2で表される末端単位を含み、ここでXは、ヒドロキシル又は加水分解性基、例えばメトキシ及びエトキシなどのアルコキシ;イソプロペニルオキシなどのアルケニルオキシ;メチルエチルケトキシモなどのケトキシモ;アセトキシなどのカルボキシ;アセタミドキシなどのアミドキシ;並びに、N,N−ジメチルアミノキシなどのアミノキシ、を表す。上記シリコーン樹脂に存在するシラノール基の濃度は、フーリエ変換赤外分光分析(FTIR)を用いて決定することができる。 The silicone resin comprises 2.0% by weight or less, or 0.7% by weight or less, or 0.3% by weight or less of terminal units represented by the formula XSiO 3/2 , where X is hydroxyl or Hydrolyzable groups such as alkoxy such as methoxy and ethoxy; alkenyloxy such as isopropenyloxy; ketoximo such as methylethylketoximo; carboxy such as acetoxy; amidoxy such as acetamidoxy; and aminoxy such as N, N-dimethylaminoxy Represents. The concentration of silanol groups present in the silicone resin can be determined using Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR).
上記シリコーン樹脂の所望する流動特性(フロー特性)を達成するために必要な数平均分子量Mnは、上記シリコーン樹脂の分子量、及び、R1によって表され、この成分中に存在する炭化水素残基の種類(タイプ)に少なくともある程度左右される。本明細書中で用いるMnは、上記ネオペンタマーによって現れるピークを測定から除外したときに、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した分子量を表す。上記シリコーン樹脂のMnは、典型的には3000より大きく、さらに典型的には4500〜7500である。典型的には、150℃を超える耐熱性(すなわち、高温において接着を維持する、接着剤の能力)は、Mnが3000を超える場合にかなりの程度になる。 The number average molecular weight M n required to achieve the desired flow characteristics (flow characteristics) of the silicone resin is represented by the molecular weight of the silicone resin and R 1 and is a hydrocarbon residue present in this component. Depends on at least some extent. M n used in the present specification represents a molecular weight measured using gel permeation chromatography when a peak appearing by the neopentamer is excluded from the measurement. The Mn of the silicone resin is typically greater than 3000 and more typically 4500-7500. Typically, heat resistance above 150 ° C. (ie, the ability of the adhesive to maintain adhesion at high temperatures) becomes significant when M n is greater than 3000.
上記シリコーン樹脂はいずれかの適当な方法で調製できる。このタイプのシリコーン樹脂は、報告されているところでは、対応するシラン類の共加水分解によって、又は当技術分野で公知のシリカヒドロゾル・キャッピング法によって製造されてきている。上記シリコーン樹脂は好ましくは、Daudtら、米国特許第2,676,182号;Rivers-Farrellら、米国特許第4,611,042号;及び、Butlerら、米国特許第4,774,310号のシリカヒドロゾルキャッピング法によって製造される。 The silicone resin can be prepared by any suitable method. This type of silicone resin has been reportedly produced by co-hydrolysis of the corresponding silanes or by silica hydrosol capping methods known in the art. The silicone resins are preferably those of Daudt et al., US Pat. No. 2,676,182; Rivers-Farrell et al., US Pat. No. 4,611,042; and Butler et al., US Pat. No. 4,774,310. Manufactured by a silica hydrosol capping method.
上記シリコーン樹脂を製造するために用いられる中間体は、典型的には、式R1 3SiX’のトリオルガノシラン類(ここでX’は加水分解性基を表す)、及び4つの加水分解性基(例えば、ハロゲン、アルコキシ、若しくはヒドロキシル)を有するシラン又はアルカリ金属シリケート(例えばナトリウムシリケート)のいずれか、である。 The intermediates used to make the silicone resin are typically triorganosilanes of the formula R 1 3 SiX ′ (where X ′ represents a hydrolyzable group), and four hydrolysables Either a silane having a group (eg, halogen, alkoxy, or hydroxyl) or an alkali metal silicate (eg, sodium silicate).
上記シリコーン樹脂中のケイ素に結合した水酸基(すなわち、HOR1SiO1/2、又はHOSiO3/2基)は、シリコーン樹脂の全質量の0.7質量%以下、あるいは0.3質量%以下であることが好ましい。上記シリコーン樹脂を製造する間に形成されたケイ素に結合した水酸基は、適当な末端基を含有するシラン、ジシロキサン、又はジシラザンにそのシリコーン樹脂を反応させることによって、トリヒドロカルビルシロキシ基又は加水分解性基に変換される。加水分解性基を含有するシラン類は、典型的には、シリコーン樹脂のケイ素に結合した水酸基と反応するために必要な量よりも過剰に添加される。 The silicon-bonded hydroxyl group (that is, HOR 1 SiO 1/2 or HOSiO 3/2 group) in the silicone resin is 0.7% by mass or less, or 0.3% by mass or less of the total mass of the silicone resin. Preferably there is. Silicon-bonded hydroxyl groups formed during the production of the silicone resin can be converted to trihydrocarbylsiloxy groups or hydrolyzable by reacting the silicone resin with silane, disiloxane, or disilazane containing appropriate end groups. Converted to the base. Silanes containing hydrolyzable groups are typically added in excess of the amount required to react with the silicon-bonded hydroxyl groups of the silicone resin.
ここに有用な上記オルガノポリシロキサンは、式R2R3SiOの二官能性単位、及び式R4 aX’3−aSiG−の末端単位を含み、ここでR2はアルコキシ基又は一価の無置換又は置換炭化水素残基;R3は無置換又は置換一価炭化水素残基;R4はアミノアルキル又はR1基;X’は加水分解性基;Gは末端単位のケイ素原子を別のケイ素原子と連結する二価の基であり、且つaは0又は1である。上記オルガノポリシロキサンは、場合により、合計を基準にして約20%以下の式R3SiO3/2の三官能性単位を含むことができ、ここでR3は既に説明したとおりである。R2R3SiO単位のR2及びR3によって表される残基の少なくとも50%、典型的には少なくとも80%が、低級アルキル、例えばメチル、である。 The organopolysiloxane useful herein comprises a difunctional unit of formula R 2 R 3 SiO and a terminal unit of formula R 4 a X ′ 3-a SiG—, wherein R 2 is an alkoxy group or a monovalent R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon residue; R 4 is an aminoalkyl or R 1 group; X ′ is a hydrolyzable group; G is a silicon atom of the terminal unit; A divalent group linked to another silicon atom, and a is 0 or 1; The organopolysiloxane can optionally contain up to about 20% of trifunctional units of the formula R 3 SiO 3/2 based on the total, where R 3 is as already described. At least 50%, typically at least 80% of the residues represented by R 2 and R 3 of the R 2 R 3 SiO unit are lower alkyl, such as methyl.
上記オルガノポリシロキサンに存在する末端単位は、式R4 aX’3−aSiG−で表され、ここでX’は加水分解性基、R4はアミノアルキル又はR1、Gは末端単位のケイ素原子を別のケイ素原子と連結する二価の基であり、そしてaは0又は1である。典型的には、上記オルガノポリシロキサンは、架橋生成物を形成するために1分子当たり2以上の加水分解性基(X’)を含有する。X’で表される典型的な加水分解性基には、ヒドロキシ、メトキシ及びエトキシなどのアルコキシ、イソプロペニルオキシなどのアルケニルオキシ、メチルエチルケトキシモなどのケトキシモ、アセトキシなどのカルボキシ、アセタミドキシなどのアミドキシ、及びN,N−ジメチルアミノキシなどのアミノキシ、が含まれるがこれらに限定されない。 The terminal unit present in the organopolysiloxane is represented by the formula R 4 a X ′ 3-a SiG—, where X ′ is a hydrolyzable group, R 4 is aminoalkyl or R 1 , and G is a terminal unit. A divalent group linking a silicon atom to another silicon atom, and a is 0 or 1. Typically, the organopolysiloxane contains two or more hydrolyzable groups (X ′) per molecule to form a crosslinked product. Typical hydrolyzable groups represented by X ′ include alkoxy such as hydroxy, methoxy and ethoxy, alkenyloxy such as isopropenyloxy, ketoximo such as methylethylketoximo, carboxy such as acetoxy, amidoxy such as acetamidoxy, And aminoxy such as N, N-dimethylaminoxy, but are not limited thereto.
上記末端基においては、aが0の場合、X’によって表される基はアルコキシ、ケトキシモ、アルケニルオキシ、カルボキシ、アミノキシ、又はアミドキシであることができる。aが1の場合、X’は典型的にはアルコキシであり、R5は、メチル又はエチルなどのアルキル、又はアミノプロピル若しくは3−(2−アミノエチルアミノ)プロピルなどのアミノアルキルである。上記アミノアルキル残基のアミノ部分は、一級、二級、又は三級であることができる。 In the above terminal groups, when a is 0, the group represented by X ′ can be alkoxy, ketoximo, alkenyloxy, carboxy, aminoxy, or amidoxy. When a is 1, X ′ is typically alkoxy and R 5 is alkyl, such as methyl or ethyl, or aminoalkyl, such as aminopropyl or 3- (2-aminoethylamino) propyl. The amino moiety of the aminoalkyl residue can be primary, secondary, or tertiary.
上記末端単位の式において、Gは、加水分解に対して安定な二価の基又は原子である。「加水分解に対して安定」は、それが加水分解性ではなく、それにより上記末端単位は組成物が硬化する間に除去されず、かつ、硬化反応が悪影響を受けないことを意味する。Gによって表される加水分解に対して安定な連結基には、酸素、アルキレン及びフェニレンなどのヒドロカルビレン、酸素、窒素、及びイオウから選択される1つ以上のヘテロ原子を含有するヒドロカルビレン、及びこれらの連結基の組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。Gは、−(OSiMe2)CH2CH2−、−(CH2CH2SiMe2)(OSiMe2)CH2CH2−、−(CH2CH2SiMe2)O−、(CH2CH2SiMe2)OSiMe2)O−、−(CH2CH2SiMe2)CH2CH2−、及び−CH2CH2−などのシラアルキレン連結基、−(OSiMe2)O−などのシロキサン連結基、又は、より好ましくは酸素原子、を表しうる。 In the above terminal unit formula, G is a divalent group or atom that is stable to hydrolysis. “Stable to hydrolysis” means that it is not hydrolysable, so that the terminal unit is not removed while the composition is cured, and the curing reaction is not adversely affected. Hydrolytically stable linking groups represented by G include hydrocarbylene containing one or more heteroatoms selected from hydrocarbylene such as oxygen, alkylene and phenylene, oxygen, nitrogen, and sulfur. , And combinations of these linking groups. G represents — (OSiMe 2 ) CH 2 CH 2 —, — (CH 2 CH 2 SiMe 2 ) (OSiMe 2 ) CH 2 CH 2 —, — (CH 2 CH 2 SiMe 2 ) O—, (CH 2 CH 2 Silaalkylene linking groups such as SiMe 2 ) OSiMe 2 ) O—, — (CH 2 CH 2 SiMe 2 ) CH 2 CH 2 —, and —CH 2 CH 2 —, and siloxane linking groups such as — (OSiMe 2 ) O—. Or, more preferably, an oxygen atom.
好ましい末端単位の具体例は、(MeO)3SiCH2CH2−、(MeO)3SiO−、Me(MeO)2SiO−、H2NCH2CH2N(H)(CH2)3SiO−、(EtO)3SiO−、(MeO)3SiCH2CH2SiMeCH2SiMeCH2CH2SiMe2O−、Me2NOSiO−、MeC(O)N(H)SiO−、及びCH2=C(CH3)OSiO−、を含むがこれらに限定されない。これらの式中、Mはメチルを表し、Etはエチルを表す。 Specific examples of preferred terminal units are (MeO) 3 SiCH 2 CH 2 —, (MeO) 3 SiO—, Me (MeO) 2 SiO—, H 2 NCH 2 CH 2 N (H) (CH 2 ) 3 SiO— , (EtO) 3 SiO -, (MeO) 3 SiCH 2 CH 2 SiMeCH 2 SiMeCH 2 CH 2 SiMe 2 O-, Me 2 NOSiO-, MeC (O) N (H) SiO-, and CH 2 = C (CH 3 ) including, but not limited to, OSiO-. In these formulas, M represents methyl and Et represents ethyl.
X’がアルコキシ基を含む場合、このX’基を最も近いシロキサン単位から、エチレンなどのアルキレン残基によって分離することが好ましい。例えば、R4 aX’3−aSiG−は、(MeO)3SiCH2CH2Si(Me2)O−でありうる。アルコキシ基をトリアルコキシシリルアルキル基に変換する方法は、従来技術で説明される。例えば、式(MeO)3SiO−及びMe(MeO)2SiO−を有する湿気反応性基は、それぞれ式(MeO)4Si及びMe(MeO)3Siを有する化合物によって、シラノール末端ポリオルガノシロキサンに導入されうる。それに代わり、ポリオルガノシロキサンがシラノール基又はビニルなどのアルケニル基、並びに白金族金属又はそれらの化合物をハイドロシレーション反応触媒として含む場合、それぞれ式(MeO)3SiH及びMe(MeO)2SiHを有する化合物が用いられうる。その他の加水分解性基、例えばジアルキルケトキシモ、アルケニルオキシ、及びカルボキシが、アルコキシ基と入れ替わることができることが理解されよう。 When X ′ contains an alkoxy group, it is preferable to separate this X ′ group from the nearest siloxane unit by an alkylene residue such as ethylene. For example, R 4 a X '3- a SiG- may be a O- (MeO) 3 SiCH 2 CH 2 Si (Me 2). Methods for converting alkoxy groups to trialkoxysilylalkyl groups are described in the prior art. For example, a moisture-reactive group having the formula (MeO) 3 SiO— and Me (MeO) 2 SiO— can be converted to a silanol-terminated polyorganosiloxane by a compound having the formula (MeO) 4 Si and Me (MeO) 3 Si, respectively. Can be introduced. Instead, when the polyorganosiloxane contains silanol groups or alkenyl groups such as vinyl, and platinum group metals or their compounds as hydrosilation reaction catalysts, they have the formula (MeO) 3 SiH and Me (MeO) 2 SiH, respectively. Compounds can be used. It will be appreciated that other hydrolyzable groups such as dialkylketoximo, alkenyloxy, and carboxy can be substituted for alkoxy groups.
上記ホットメルト接着剤に用いられる上記オルガノポリシロキサンは、好ましくは、3つのアルコキシ又はケトキシモ基、アルキル又はアミノアルキル残基のいずれかとともに2つのケトキシモ基又は2つのアルコキシ基、を含むポリジメチルシロキサンである。 The organopolysiloxane used in the hot melt adhesive is preferably a polydimethylsiloxane containing three alkoximo groups or two alkoxy groups with either three alkoxy or ketoximo groups, alkyl or aminoalkyl residues. is there.
上記オルガノポリシロキサンの粘度は、25℃で0.02Pa・s〜100Pa・s、典型的には0.35〜約60Pa・sの範囲内にある。 The viscosity of the organopolysiloxane is in the range of 0.02 Pa · s to 100 Pa · s, typically 0.35 to about 60 Pa · s at 25 ° C.
上記シリコーン樹脂及びオルガノポリシロキサンは、シリコーン樹脂及びオルガノポリシロキサンの量を基準にして55〜75樹脂固形分となる量で存在する。より多い量の樹脂を用いることができるが、基材へ上記湿気硬化性ホットメルト接着剤組成物を適用するためには、より高い適用温度が必要となる。 The silicone resin and organopolysiloxane are present in an amount that provides 55 to 75 resin solids based on the amount of silicone resin and organopolysiloxane. Larger amounts of resin can be used, but higher application temperatures are required to apply the moisture curable hot melt adhesive composition to the substrate.
上記シラン架橋剤は、式R1 nSiZ(4−n)で表され、ここでR1は上述したとおりであり、Zは環境条件下で少なくとも上記オルガノポリシロキサンの末端基と反応して硬化した材料を形成する加水分解性基であり、そしてnは0、1、又は2である。典型的には、R1はアルキル及び/又はフェニル基である。Zによって表される適当な加水分解性基は、1〜4の炭素原子を含むアルコキシ、アセトキシなどのカルボキシ、メチルエチルケトキシモなどのケトキシモ、及びアミノオキシを含むが、これらに限定されない。上記シラン架橋剤においてn=2の場合、上記オルガノポリシロキサンは典型的には3X’基(例えば、a=0)を含む。 The silane crosslinking agent is represented by the formula R 1 n SiZ (4-n) , where R 1 is as described above, and Z is cured by reacting with at least the end groups of the organopolysiloxane under environmental conditions. And n is 0, 1, or 2. Typically R 1 is an alkyl and / or phenyl group. Suitable hydrolyzable groups represented by Z include, but are not limited to, alkoxy containing 1 to 4 carbon atoms, carboxy such as acetoxy, ketoximo such as methyl ethyl ketoximo, and aminooxy. When n = 2 in the silane crosslinker, the organopolysiloxane typically contains 3X ′ groups (eg, a = 0).
適当なシラン架橋剤は、メチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、メチルトリス(メチルエチルケトキシモ)シラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、及びエチルオルソシリケートなどのアルキルオルソシリケート類を含むが、これらに限定されない。 Suitable silane crosslinkers are alkyl orthosilicates such as methyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, methyltris (methylethylketoximo) silane, methyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, methyltriacetoxysilane, and ethyl orthosilicate. Including, but not limited to.
用いられるシラン架橋剤の量は、シリコーン樹脂及びポリマーの量を基準にして、100分の0.5〜100分の15部(0.5〜15pph(parts per hundred))の範囲であり、典型的には100分の8部(8pph)である。多すぎるシラン架橋剤が存在する場合、グリーン強度及び/又はホットメルト接着剤の硬化速度が低下する。シラン架橋剤が揮発性である場合、過剰量用いて最終のホットメルト接着剤組成物中に100分の1.5〜100分の15部(1.5pph〜15pph)とすることが必要となりうる。当業者は1.5〜15pph有する組成物を製造するために必要な量を決定することができる。 The amount of silane crosslinker used ranges from 0.5 to 100 parts per hundred (0.5 to 15 pph (parts per hundred)) based on the amount of silicone resin and polymer, typically Specifically, it is 8 parts per hundred (8 pph). If too much silane crosslinker is present, the green strength and / or the cure rate of the hot melt adhesive will be reduced. If the silane crosslinker is volatile, it may be necessary to use an excess to make 15 parts per hundred to 15 parts per hundred (1.5 pph to 15 pph) in the final hot melt adhesive composition. . One skilled in the art can determine the amount necessary to produce a composition having 1.5-15 pph.
上記オルガノポリシロキサン及び/又は上記シラン架橋剤がケトキシム官能基を含む場合を除き、上記ホットメルト接着剤組成物にチタネート触媒が典型的に用いられる。チタネート触媒は、テトラブチルチタネートなどの有機チタン化合物、及びアセト酢酸エステル及びベータ−ジケトンなどのキレート剤によるこれらの塩の部分キレート誘導体、である。用いられるチタネート触媒の量は、樹脂及びポリマーの量を基準にして100分の0.01〜100分の2部(0.01〜2pph)であり、典型的には0.05〜1pphである。多すぎるチタネート触媒が添加された場合、組成物の硬化が不良になる。加えて、触媒の量が増加するにつれて、ホットメルト接着剤の粘度が増加し、その材料を適用するためにより高い溶融温度が必要となる。 A titanate catalyst is typically used in the hot melt adhesive composition except where the organopolysiloxane and / or the silane crosslinker contains a ketoxime functional group. Titanate catalysts are organotitanium compounds such as tetrabutyl titanate and partial chelate derivatives of these salts with chelating agents such as acetoacetate and beta-diketones. The amount of titanate catalyst used is 0.01 to 100 parts per hundred (0.01 to 2 pph), typically 0.05 to 1 pph, based on the amount of resin and polymer. . If too much titanate catalyst is added, the composition will be poorly cured. In addition, as the amount of catalyst increases, the viscosity of the hot melt adhesive increases and higher melting temperatures are required to apply the material.
上記ホットメルト接着剤組成物は、樹脂及びポリマーを基準にして、100分の0.05〜100分の2部(0.05〜2pph)の接着促進剤を含むことができる。接着促進剤は当技術分野で公知であり、そして、典型的なシラン類は式R5 cR6 dSi(OR)4−(c+d)を有し、ここでR5は独立して置換又は無置換の、少なくとも3つの炭素原子を有する一価の炭化水素基であり、そしてR6は接着促進基、例えばアミノ、エポキシ、メルカプト、又はアクリレート基、を有する少なくとも1つのSiC結合基を含み、cは0〜2の値であり、かつ、dは1又は2のいずれかであり、c+dの合計は3より大きくない。上記接着促進剤はまた、上記シランの部分縮合物であることもできる。 The hot melt adhesive composition may include 2 to 100 parts per hundred (0.05 to 2 pph) adhesion promoter based on resin and polymer. Adhesion promoters are known in the art, and typical silanes has the formula R 5 c R 6 d Si ( OR) 4- (c + d), substituted or wherein R 5 is independently An unsubstituted monovalent hydrocarbon group having at least 3 carbon atoms, and R 6 comprises at least one SiC bonding group having an adhesion promoting group, such as an amino, epoxy, mercapto, or acrylate group; c is a value from 0 to 2, and d is either 1 or 2, and the sum of c + d is not greater than 3. The adhesion promoter can also be a partial condensate of the silane.
上記ホットメルト接着剤組成物は、全接着剤を基準に0.1〜40質量%の処理された及び/又は未処理のフィラーを含むことができる。適当なフィラーの例には、炭酸カルシウム、ヒュームド・シリカ、ケイ酸塩(シリケート)、金属酸化物、金属水酸化物、カーボンブラック、硫酸塩、又はジルコン酸塩(ジルコネート)、が含まれる。 The hot melt adhesive composition may include 0.1 to 40% by weight treated and / or untreated filler based on total adhesive. Examples of suitable fillers include calcium carbonate, fumed silica, silicate (silicate), metal oxide, metal hydroxide, carbon black, sulfate, or zirconate (zirconate).
上記ホットメルト接着剤を製造する場合に、溶媒が典型的には用いられる。溶媒は、流動性、並びに、上記シリコーン樹脂及びオルガノポリシロキサンポリマーの導入、を助ける。しかし、本質的には全ての溶媒は、上記ホットメルト接着剤の製造のための連続プロセスにおいて除去される。「本質的に」は、上記ホットメルト接着剤組成物が、ホットメルト接着剤の質量を基準にして、たかだか0.05〜5質量%、好ましくは0.5%未満の溶媒しか含まないことを意味する。多すぎる溶媒が存在する場合、ホットメルト接着剤の粘度が低くなりすぎて製品の性能が妨げられる。 A solvent is typically used in producing the hot melt adhesive. The solvent aids fluidity and the introduction of the silicone resin and organopolysiloxane polymer. However, essentially all of the solvent is removed in a continuous process for the production of the hot melt adhesive. “Essentially” means that the hot melt adhesive composition contains no more than 0.05 to 5% by weight of solvent, preferably less than 0.5%, based on the weight of the hot melt adhesive. means. If too much solvent is present, the viscosity of the hot melt adhesive will be too low, impeding product performance.
ここで用いられる溶媒は、上記ホットメルト接着剤の製造に用いられる成分を流動化させる助けになる溶媒であるが、本質的にホットメルト接着剤中のどの成分とも反応しない。適した溶媒は有機溶媒、例えば、トルエン、キシレン、塩化メチレン、ナフサ・ミネラルスピリット、及び低分子量シロキサン類、である。 The solvent used here is a solvent that helps fluidize the components used in the manufacture of the hot melt adhesive, but essentially does not react with any components in the hot melt adhesive. Suitable solvents are organic solvents such as toluene, xylene, methylene chloride, naphtha mineral spirits, and low molecular weight siloxanes.
上記シリコーン樹脂、オルガノポリシロキサン、シラン架橋剤、溶媒、及びいずれかの任意の成分は、連続混合装置に供給される。連続混合装置に添加する順序は、上記ホットメルト接着剤組成物を製造するために決定的に重要なことではない。上記樹脂が典型的に0.7質量%より多いシラノールを有する場合、いずれかの反応が起こり、かつ、反応生成物(すなわち、揮発成分)が除去されることを可能にするため、上記シラン架橋剤及び/又は触媒並びに樹脂を共に加えることが好ましい。上記連続混合装置は、上記成分を混合することができ、かつ溶媒を除去する手段を含むべきである。典型的には押出機が用いられ、さらに典型的には二軸押出機が用いられる。 The silicone resin, organopolysiloxane, silane crosslinker, solvent, and any optional components are fed to a continuous mixing device. The order of addition to the continuous mixing device is not critical to producing the hot melt adhesive composition. When the resin has typically more than 0.7% by weight of silanol, the silane crosslinks to allow any reaction to occur and the reaction products (ie, volatile components) to be removed. It is preferred to add the agent and / or catalyst and resin together. The continuous mixing device should be able to mix the components and include means for removing the solvent. Typically, an extruder is used, and more typically a twin screw extruder is used.
押出機を用いる場合、上記成分は押出機中に供給され、そして50〜250℃、あるいは80〜150℃の範囲の温度に加熱される。押出機中で上記組成物を加熱することによって、粘度が低下し、成分を充分混合することができる。典型的には押出機においては、上記シリコーン樹脂及びオルガノポリシロキサン及び溶媒がその装置内に供給される。シラン架橋剤及び任意の触媒もまた、この時点で添加されうるか又はそれらはいくらか混合が行われた後で装置内のさらに下流で添加されることができる。同方向回転二軸押出機でのホットメルト接着剤の連続ステップは、T. Peitz, “Continuous Processing of Hot Melt Adhesives on Co-Rotating Twin Screw Extruder”, 1996 Hot Melt Symposium, p. 37-45に記載されている。 When using an extruder, the components are fed into the extruder and heated to a temperature in the range of 50-250 ° C, alternatively 80-150 ° C. By heating the composition in an extruder, the viscosity is reduced and the components can be mixed well. Typically, in an extruder, the silicone resin and organopolysiloxane and solvent are fed into the apparatus. Silane crosslinkers and optional catalysts can also be added at this point, or they can be added further downstream in the apparatus after some mixing has taken place. The continuous steps of hot melt adhesive in a co-rotating twin screw extruder are described in T. Peitz, “Continuous Processing of Hot Melt Adhesives on Co-Rotating Twin Screw Extruder”, 1996 Hot Melt Symposium, p. 37-45 Has been.
上記溶媒は、連続混合プロセスの間に除去される。典型的には、連続混合装置に真空が適用され、溶媒、及びホットメルト接着剤組成物中に存在する全ての他の揮発成分の除去を容易にする。真空は、上記連続混合装置の単一又は複数段階に適用されうる。複数の真空段階の使用は、溶媒に対する改善された除去を提供することが発見された。上記シラン架橋剤は揮発性でありうることから、溶媒とともに架橋剤が除去されることを防止するために、ほとんどの溶媒が除去された後でシラン架橋剤を添加することが好ましい。 The solvent is removed during the continuous mixing process. Typically, a vacuum is applied to the continuous mixing device to facilitate removal of the solvent and any other volatile components present in the hot melt adhesive composition. A vacuum can be applied to the single or multiple stages of the continuous mixing device. It has been discovered that the use of multiple vacuum stages provides improved removal to the solvent. Since the silane crosslinking agent can be volatile, it is preferred to add the silane crosslinking agent after most of the solvent has been removed to prevent removal of the crosslinking agent along with the solvent.
上記ホットメルト接着剤組成物は、少なくとも2つの基材を共に接着するために用いることができる。典型的には、上記ホットメルト接着剤組成物は、2つの基材の間の層として用いられ、第一の基材、硬化したホットメルト接着剤、及び第二の基材、の積層体を作り出す。ここで作り出される積層構造は、これらの三層に限定されない。硬化接着剤及び基材の追加の層が適用されうる。上記積層体中のホットメルト接着剤組成物の層は、連続又は不連続であることができる。例えば、連続層は、図1で以下に示す窓100などの積層体を形成するために用いられうる。それに代えて、不連続層は、図2で以下に示す蓋の密封材(シール)を有するハウジング200などの積層体を形成するために用いられうる。
The hot melt adhesive composition can be used to bond at least two substrates together. Typically, the hot melt adhesive composition is used as a layer between two substrates, comprising a laminate of a first substrate, a cured hot melt adhesive, and a second substrate. produce. The laminated structure created here is not limited to these three layers. Additional layers of cured adhesive and substrate can be applied. The layer of hot melt adhesive composition in the laminate can be continuous or discontinuous. For example, a continuous layer can be used to form a laminate such as the window 100 shown below in FIG. Alternatively, the discontinuous layer can be used to form a laminate such as a
さらに、基材として用いられうる材料にはいかなる制限もない。ホットメルト接着剤組成物、又はそれらの硬化生成物を適用することができる適当な基材には、ガラス;金属、例えば、アルミニウム、銅、金、ニッケル、シリコン、銀、ステンレススチール合金、及びチタン;セラミック材料;エンジニアリングプラスチック、例えばエポキシ、ポリカーボネート、ポリ(ブチレンテレフタレート)樹脂、ポリアミド樹脂、及びそれらのブレンド物、例えば、ポリアミド樹脂と例えばMidland, Michigan, U. S. A. のザ・ダウ・ケミカル・カンパニーから販売されているシンジオタクティックポリスチレンとのブレンド物、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、スチレン変性されたポリ(フェニレンオキシド)、ポリ(フェニレンサルファイド)、ビニルエステル、ポリフタルアミド、及びポリイミド、を含むプラスチック;セルロース質基材、例えば、紙、布、及び木材;並びにそれらの組み合わせ物、が含まれるがこれらに限定されない。1より多い基材が用いられる場合は、その基材について同じ材料から作られていることは必要とされない。例えば、ガラス及び金属基材、又はガラス及びプラスチック基材の積層体を形成することが可能である。 Furthermore, there are no restrictions on the materials that can be used as the substrate. Suitable substrates to which the hot melt adhesive composition or their cured product can be applied include glass; metals such as aluminum, copper, gold, nickel, silicon, silver, stainless steel alloys, and titanium. Ceramic materials; engineering plastics such as epoxies, polycarbonates, poly (butylene terephthalate) resins, polyamide resins, and blends thereof such as polyamide resins and sold for example by The Dow Chemical Company of Midland, Michigan, USA; Including blends with syndiotactic polystyrene, acrylonitrile-butadiene-styrene, styrene-modified poly (phenylene oxide), poly (phenylene sulfide), vinyl esters, polyphthalamides, and polyimides Plastics; cellulosic substrates such as paper, cloth, and wood; and combinations thereof include, but are not limited to. If more than one substrate is used, it is not required that the substrate be made from the same material. For example, it is possible to form a laminate of glass and metal substrate, or glass and plastic substrate.
上記積層構造体を作るための一つの方法は、第一の基材の表面上にホットメルト接着剤組成物のフィルムを適用することである。第二の基材の表面が次にそのホットメルト接着剤組成物を接触され、そして第一及び第二の表面が共に押しつけられる。溶融材料とともに用いるために適した従来の適用方法には、ディッピング、スプレー、共押出、及び加熱したドクターブレード、ドロー・ダウン・バー、及びカレンダー・ロールを用いて広げること、が含まれるがこれらに限定されない。典型的には、上記ホットメルト接着剤組成物は、80〜150℃の温度に加熱されることによって適用され、かつホースを通しての圧力によって適用される。このタイプの装置は当技術分野で公知であり、市販されている。湿気に曝した場合、上記ホットメルト接着剤は硬化する。上記ホットメルト接着剤組成物は、空気中の湿気と接触させることにより、又は湿気の直接導入、例えば、積層体をスチームと接触させることにより又は積層体を加湿庫内に置くことにより、湿気にさらすことができる。 One method for making the laminated structure is to apply a film of hot melt adhesive composition on the surface of the first substrate. The surface of the second substrate is then contacted with the hot melt adhesive composition and the first and second surfaces are pressed together. Conventional application methods suitable for use with molten materials include dipping, spraying, coextrusion, and spreading using heated doctor blades, draw down bars, and calendar rolls. It is not limited. Typically, the hot melt adhesive composition is applied by heating to a temperature of 80-150 ° C. and is applied by pressure through a hose. This type of device is known in the art and is commercially available. When exposed to moisture, the hot melt adhesive cures. The hot melt adhesive composition can be brought into moisture by contact with moisture in the air or by direct introduction of moisture, for example by contacting the laminate with steam or placing the laminate in a humidifier. Can be exposed.
上記ホットメルト接着剤組成物のフィルムを形成し、そして次にそのホットメルト接着剤組成物のフィルムを硬化させることによって積層体を形成することもできる。硬化したフィルムの第一の表面を、第一の基材の表面に接触させる。第二の基材の表面を次に硬化したフィルムの別の表面と接触させ、そして第一及び第二の表面を共に押しつけて積層体を形成する。 It is also possible to form a laminate by forming a film of the hot melt adhesive composition and then curing the film of the hot melt adhesive composition. The first surface of the cured film is brought into contact with the surface of the first substrate. The surface of the second substrate is then contacted with another surface of the cured film and the first and second surfaces are pressed together to form a laminate.
積層体を製造するための別の代替法は、ホットメルト接着剤組成物のフィルムを、第一の基材の表面上に適用することである。このホットメルト接着剤組成物を次に湿気に曝露することによって硬化させ、硬化したフィルムを作る。第二の基材を、次いで第一の基材上の硬化したフィルムと接触させ、そして第一及び第二の表面を共に押しつけて積層体を形成する。 Another alternative for producing a laminate is to apply a film of hot melt adhesive composition onto the surface of the first substrate. The hot melt adhesive composition is then cured by exposure to moisture to produce a cured film. The second substrate is then contacted with the cured film on the first substrate and the first and second surfaces are pressed together to form a laminate.
本発明によるホットメルト接着剤組成物を硬化させることによって調製される硬化フィルムは、多くの産業、例えば自動車、電気、建築、宇宙、及び医療、における実用性を見いだしている。上記硬化フィルムは、熱及び湿気などの不利な環境に抵抗する接着剤を提供しうる。例えば、上記硬化フィルムは、印刷回路基板及び電気又は電子部品を含むその他の基板などの基材のための絶縁保護コーティングとして用いることができる。 Cured films prepared by curing hot melt adhesive compositions according to the present invention have found utility in many industries such as automotive, electrical, architecture, space, and medical. The cured film can provide an adhesive that resists adverse environments such as heat and moisture. For example, the cured film can be used as an insulating protective coating for substrates such as printed circuit boards and other substrates including electrical or electronic components.
さまざまな積層体が、本発明に従い、上記ホットメルト接着剤組成物を用いて作成されうる。例えば、積層体は、エアーバッグの一部、自動車内装、窓、又は蓋の密封材となりうる。図1は本発明によって作成された窓の一部を示す。この窓はサッシ100を含み、その上にホットメルト接着剤組成物のフィルム101が適用される。スペーサー105によって隔てられた2枚の窓ガラス103、104を含む断熱ガラスユニット102が、ホットメルト接着剤組成物のフィルム101に適用される。ホットメルト接着剤組成物のフィルム101は、サッシ100に適用される前、サッシ100に適用後、断熱ガラスユニット102への適用前、又は断熱ガラスユニット102への適用後、に硬化されることができる。2枚の窓ガラス103、104は、ホットメルト接着剤組成物のフィルム106によってスペーサー105に取り付けられることができる。ホットメルト接着剤組成物のフィルム106は、窓ガラス103又は104への適用前、窓ガラス103又は104への適用後、スペーサー105への適用前、又はスペーサー105への適用後、に硬化されることができる。
Various laminates can be made using the hot melt adhesive composition described above in accordance with the present invention. For example, the laminate can be a part of an air bag, an automobile interior, a window, or a lid sealing material. FIG. 1 shows a portion of a window made in accordance with the present invention. The window includes a sash 100 on which a film 101 of a hot melt adhesive composition is applied. A heat insulating
図2は本発明によって調製された蓋のシール(密封材)を有する、電子部品204のためのハウジング200の略図を示す。ハウジング200は例えば、
(1)上述したホットメルト接着剤組成物201を容器202としてここに示される第一の基材の枠の上に適用し、
(2)蓋203の端部がホットメルト接着剤組成物201と接触するように、容器202の上に蓋203としてここに示される第二の基材を置き、そして
(3)ホットメルト接着剤組成物201を硬化させて、容器202及び蓋203の間に蓋のシールを形成する、
ことによって作ることができる。
FIG. 2 shows a schematic diagram of a
(1) Applying the hot melt
(2) Place the second substrate shown here as
Can be made.
当業者は、上記ホットメルト接着剤組成物が最初に上記蓋203の端部に適用され、そしてその後、蓋203が容器202の上に配置されうることがわかるだろう。当業者は、ホットメルト接着剤組成物201を硬化させることは、基材の1つ又は両者(蓋203及び容器202)に適用する前、適用する間、又は適用した後で行われうることがわかるだろう。それに代わり、ホットメルト接着剤組成物又はホットメルト接着剤組成物を硬化させることによって作られたホットメルト接着剤が、蓋が容器の上に配置された後で、蓋の端部に適用されうる。
One skilled in the art will appreciate that the hot melt adhesive composition can be first applied to the end of the
(例)
材料:
〔シリコーン樹脂〕
樹脂A:SiO2単位1モル当たり0.8モルのトリオルガノシロキシ単位のモル比でトリオルガノシロキシ単位及びSiO2単位を含むキシレン可溶性樹脂コポリマーであり、ここで上記トリオルガノシロキシ単位がトリメチルシロキシ及びジメチルビニルシロキシであり、かつ上記コポリマーが、1.9質量%のビニル残基、及び1.5質量%の、Siに結合した水酸基、を含んでいる。この樹脂はキシレン中に溶解し、70質量%固形分の溶液を与える。
(Example)
material:
〔Silicone resin〕
Resin A: a xylene-soluble resin copolymer containing triorganosiloxy units and SiO 2 units in a molar ratio of triorganosiloxy units of SiO 2 units per mole 0.8 mole, wherein the triorganosiloxy units and trimethylsiloxy Dimethylvinylsiloxy and the copolymer contains 1.9% by weight vinyl residues and 1.5% by weight Si-bonded hydroxyl groups. This resin dissolves in xylene to give a 70 wt% solids solution.
樹脂B:0.8のモル比でトリオルガノシロキシ単位及びSiO2単位を含むキシレン可溶性樹脂コポリマー。この樹脂はトリメチルシロキシ基でキャップされ、0.7質量%のSiに結合した水酸基をもつ樹脂を与える。この樹脂はキシレン中に溶解され、60質量%固形分の溶液を与える。 Resin B: A xylene soluble resin copolymer containing triorganosiloxy units and SiO 2 units in a molar ratio of 0.8. This resin is capped with trimethylsiloxy groups to give a resin with 0.7% by weight Si bonded hydroxyl groups. This resin is dissolved in xylene to give a 60 wt% solids solution.
〔オルガノポリシロキサン〕
ポリマーA:−CH2CH2Si(OMe)3末端基を終端とする、およその粘度が70000csの主として直線状のポリジメチルシロキサンポリマー。
[Organopolysiloxane]
Polymer A: —CH 2 CH 2 Si (OMe) A primarily linear polydimethylsiloxane polymer terminated with 3 terminal groups and having an approximate viscosity of 70000 cs.
ポリマーB:末端の約80%が−CH2CH2SiOSiCH2CH2Si(OMe)3を終端とし、残りの末端がビニル基を終端とし、およその粘度が70000csの主として直線状のポリジメチルシロキサンポリマー。 Polymer B: about 80% of the ends are terminated with —CH 2 CH 2 SiOSiCH 2 CH 2 Si (OMe) 3 , the remaining ends are terminated with vinyl groups, and an approximately viscosity of 70,000 cs, mainly linear polydimethylsiloxane polymer.
ポリマーC:25℃で50Pa・sの粘度を有する、主として直線状のヒドロキシ末端ポリジメチルシロキサン液体。 Polymer C: A primarily linear hydroxy-terminated polydimethylsiloxane liquid having a viscosity of 50 Pa · s at 25 ° C.
〔架橋剤〕
アルコキシシランA:i−BuSi(OMe)3、イソブチルトリメトキシシラン
[Crosslinking agent]
Alkoxysilane A: i-BuSi (OMe) 3 , isobutyltrimethoxysilane
アルコキシシランB:MeSi(OMe)3、メチルトリメトキシシラン Alkoxysilane B: MeSi (OMe) 3 , methyltrimethoxysilane
オキシムシランC:メチルトリ(エチルメチルケトキシム)シラン Oxime silane C: Methyltri (ethylmethylketoxime) silane
オキシムシランD:ビニルトリ(メチルエチルケトキシム)シラン Oxime silane D: Vinyl tri (methyl ethyl ketoxime) silane
〔任意成分〕
アルコキシシランC:NH2CH2CH2NHCH2CH2CH2Si(OMe)3
[Optional ingredients]
Alkoxysilane C: NH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 Si (OMe) 3
アルコキシシランD:74質量部(parts by weight(pbw))のグリシドキシプロピルトリメトキシシランと26pbwのアミノプロピルトリメトキシシランとの反応混合物であって、これらのシランを混合し、室温で16時間置いたもの。
CaCO3 − ステアリン酸塩で処理された、平均2ミクロンの粒径の炭酸カルシウム粉末。米国Kennesaw GAのジョージア・マーブル社から入手可能。
Alkoxysilane D: reaction mixture of 74 parts by weight (parts by weight (pbw)) of glycidoxypropyltrimethoxysilane and 26 pbw of aminopropyltrimethoxysilane, these silanes being mixed for 16 hours at room temperature What you put.
Calcium carbonate powder with an average particle size of 2 microns treated with CaCO 3 -stearate. Available from Georgia Marble, Kennesaw GA, USA.
〔チタネート触媒〕
チタネート触媒A:Ti(OtBu)4、テトラ−ターシャリーブチルチタン
[Titanate catalyst]
Titanate catalyst A: Ti (OtBu) 4 , tetra-tertiary butyl titanium
チタネート触媒B:Ti(OBu)4、テトラ−nブチルチタン Titanate catalyst B: Ti (OBu) 4 , tetra-n-butyltitanium
チタネート触媒C:Ti(iOPr)2(EAA)2、ジイソプロピル−ビス−エチルアセトアセテートチタン Titanate catalyst C: Ti (iOPr) 2 (EAA) 2 , diisopropyl-bis-ethyl acetoacetate titanium
これら全てのチタネート触媒は、米国Deepwater NJのDuPont社から販売されている。 All these titanate catalysts are sold by DuPont of Deepwater NJ, USA.
錫触媒D:ジブチル錫ジラウレート Tin catalyst D: Dibutyltin dilaurate
〔試験方法〕
NVC:不揮発成分含有量(NVC)は、約1gのホットメルト接着剤をアルミニウム秤量皿に入れ、110℃に16時間加熱し、質量変化を記録することによって決定した(備考;例10は1h/150℃条件)。
〔Test method〕
NVC: Nonvolatile content (NVC) was determined by placing about 1 g of hot melt adhesive in an aluminum weighing pan, heating to 110 ° C. for 16 hours, and recording mass change (remarks; Example 10 is 1 h / 150 ° C. condition).
粘度:使用した装置は、ミツトヨ・マイクロメーター及び温度コントローラーを取り付けたボーリン・インスツルメンツVORレオメーター(Bohlin Instruments VOR Rheometer)である。プレート間は1.5mmギャップで、パラレルプレート構造を使用した。試験は、周波数=1Hz及び振幅=25%(ひずみ=0.0518)を用いて振動モードで行った。上記ホットメルトが入れられた金属カートリッジを110℃のオーブン内に置き、粘度試験のためのサンプルを得た。サンプルは次に上記プレートとプレートの間に置き、1.5mmのギャップに到達するまで共に近づけた。このプロセスの間、サンプルをたかだか160℃から180℃まで加熱し、かつ、余分なサンプルを上記プレートの側面から落とした。所望する温度及びギャップに到達したら、サンプルを160〜180℃から25℃まで、冷却速度=3℃/2minで傾斜をつけて降下させ、2分ごとにデータを収集した。 Viscosity: The equipment used is a Bohlin Instruments VOR Rheometer equipped with a Mitutoyo micrometer and a temperature controller. A parallel plate structure was used with a 1.5 mm gap between the plates. The test was performed in vibration mode using frequency = 1 Hz and amplitude = 25% (strain = 0.0518). The metal cartridge containing the hot melt was placed in an oven at 110 ° C. to obtain a sample for viscosity test. The sample was then placed between the plates and brought close together until a 1.5 mm gap was reached. During this process, the sample was heated up to 160 ° C. to 180 ° C. and excess sample was dropped from the side of the plate. Once the desired temperature and gap were reached, the sample was ramped from 160-180 ° C. to 25 ° C. with a cooling rate = 3 ° C./2 min and data collected every 2 minutes.
〔例1〜9〕
樹脂及びポリマーを5ガロンの金属製バケツ中で混合し、次にシラン及び触媒スラリーを前もって混合したスラリーを添加し混合した。この混合物を約10 lbs/hrのフローレートで、30mm二軸押出機に供給した。バレル温度(bl temp)、スクリュー速度(rpm)及び真空条件(真空mmHg)を表に示した。
[Examples 1 to 9]
The resin and polymer were mixed in a 5 gallon metal bucket, and then a premixed slurry of silane and catalyst slurry was added and mixed. This mixture was fed to a 30 mm twin screw extruder at a flow rate of about 10 lbs / hr. The table shows the barrel temperature (bl temp), screw speed (rpm), and vacuum conditions (vacuum mmHg).
上記二軸押出機においては、各真空段階の前に、その真空の前にシールを作り出すために用いられた2つの逆進エレメント(10/10左巻き)がある。各真空ポートの下には、3〜4の長い搬送エレメント(42/42)が用いられ、上記材料がより多くの表面領域を有し、且つ真空に対するいっそう長い滞留時間を有することができる。 In the twin screw extruder, before each vacuum stage, there are two reversing elements (10/10 counterclockwise) used to create a seal before the vacuum. Under each vacuum port, 3-4 long transport elements (42/42) are used, the material can have more surface area and have a longer residence time to the vacuum.
樹脂Bを用いた場合、混合物(樹脂、ポリマー、シラン、及び触媒)の粘度はずっと低かった。10 lbs/hrのフローレートを用い、顕著なうねり(サージング)が観測され、そして材料は良好にストリッピングされることができなかった。この問題を解決するため、より小さな押出能力をもつ搬送エレメント(例えば20/20の代わりに42/42及び28/28を用いる)を用い、且つ、1つの逆進エレメントを第二及び第三の真空の間に加えた。 When resin B was used, the viscosity of the mixture (resin, polymer, silane, and catalyst) was much lower. Using a flow rate of 10 lbs / hr, significant swell (surging) was observed and the material could not be stripped well. To solve this problem, transport elements with smaller extrusion capabilities (eg using 42/42 and 28/28 instead of 20/20) and one reverse element for the second and third Added during vacuum.
〔例1〕
例1は、nvc及び粘度に対する真空及びrpmの影響を示す。
[Example 1]
Example 1 shows the effect of vacuum and rpm on nvc and viscosity.
〔例2〕
例2は、2つの異なる樹脂含有量において、粘度に対する触媒レベルの変化の影響を示す。
[Example 2]
Example 2 shows the effect of changing catalyst levels on viscosity at two different resin contents.
〔例3〕
例3は、nvc及び粘度に対する架橋剤の揮発度の影響を示す。
[Example 3]
Example 3 shows the effect of crosslinker volatility on nvc and viscosity.
〔例4〕
例4は、上記ホットメルト接着剤を作るために、部分的にキャップされたポリマーが用いられうることを示す。
[Example 4]
Example 4 shows that a partially capped polymer can be used to make the hot melt adhesive.
〔例5〕
例5は、主に、nvcに対する真空の影響を示す。これらの場合においては、Me3キャップされた樹脂が用いられる。最後の3つのサンプルは、互いに繰り返しである。
[Example 5]
Example 5 mainly shows the effect of vacuum on nvc. In these cases, Me 3 capped resin is used. The last three samples are repeats of each other.
〔例6〕
このサンプルは、粘度に与える触媒の影響を示し、樹脂はMe3キャップされている。
[Example 6]
This sample shows the effect of the catalyst on the viscosity and the resin is Me 3 capped.
〔例7〕
例7は、ホットメルト接着剤を作るためにその他のチタネート触媒を用いることができることを示す。
[Example 7]
Example 7 shows that other titanate catalysts can be used to make hot melt adhesives.
〔例8〕
例8は、フィラー及び接着促進剤を用いることができることを示す。
[Example 8]
Example 8 shows that fillers and adhesion promoters can be used.
〔例9〕
例9は、有用なホットメルト材料が、オキシム硬化によって製造されうることを示す。
[Example 9]
Example 9 shows that useful hot melt materials can be made by oxime curing.
〔例10〕
これらのサンプルについては、L/D=50の50mm二軸混合機を使用した。樹脂及びポリマーはタンク内でプレミックスし、次に混合機に供給するために用いられる別のタンクに移した(両方のタンクは加熱可能であり、樹脂及びポリマー混合物の供給温度は以下に示した);このプロセスから溶媒を除去するために3つの真空段階を使用し、この3つの真空段階は、13.93D、20.86D、及び30.87Dにある;架橋剤及び触媒の混合物は35.87Dで供給した;最終の真空は45.86Dで適用した。
[Example 10]
For these samples, a 50 mm twin screw mixer with L / D = 50 was used. The resin and polymer were premixed in the tank and then transferred to another tank used to feed the mixer (both tanks can be heated and the feed temperature of the resin and polymer mixture is shown below. ); Use three vacuum stages to remove solvent from the process, the three vacuum stages are at 13.93D, 20.86D, and 30.87D; the mixture of crosslinker and catalyst is 35. The final vacuum was applied at 45.86D.
例10は、樹脂及びポリマーが架橋剤及び触媒と分離して供給されて、ホットメルト接着剤が作られうることを示す。同様に、混合機に導入される前に、樹脂及びポリマーの流れが加熱されることができることを示す。 Example 10 shows that the resin and polymer can be supplied separately from the crosslinker and catalyst to make a hot melt adhesive. Similarly, it shows that the resin and polymer streams can be heated before being introduced into the mixer.
〔例11〕
樹脂B(65pbw(質量部))及びポリマーA(35pbw)を30分間混合した。アルコキシシランA(8pbw)及びチタネート触媒A(0.1pbw)を前もって混合したスラリーを、樹脂及びポリマーの混合物に加え、10分間撹拌した。得られた混合物を加熱及び真空下で二軸押出機を通して送り出し、ホットメルトシーラントを製造した。
[Example 11]
Resin B (65 pbw (parts by mass)) and polymer A (35 pbw) were mixed for 30 minutes. A slurry pre-mixed with alkoxysilane A (8 pbw) and titanate catalyst A (0.1 pbw) was added to the resin and polymer mixture and stirred for 10 minutes. The resulting mixture was fed through a twin screw extruder under heat and vacuum to produce a hot melt sealant.
上記ホットメルトシーラントは、0.254センチメートル(cm)厚さをもつフィルムを調製し室温で21日硬化させることによって、硬化フィルムを作るために用いた。硬化フィルムは2.54×2.54cm片に切断した。各片を第一の基材上に適用し、さらに第二の基材をその硬化フィルム片の上にプレスして、硬化フィルム積層体を作成した。 The hot melt sealant was used to make a cured film by preparing a film having a thickness of 0.254 centimeters (cm) and curing at room temperature for 21 days. The cured film was cut into 2.54 × 2.54 cm pieces. Each piece was applied onto a first substrate, and the second substrate was pressed onto the cured film piece to create a cured film laminate.
上記ホットメルトシーラントを121℃に加熱し、第一の基材上に適用した。第二の基材をそのホットメルトの上にプレスし、第一及び第二の基材の間に0.254cm厚さを作り出し、ウェットフィルム積層体を形成した。全ての積層体は少なくとも21日間、室温で硬化させた。 The hot melt sealant was heated to 121 ° C. and applied onto the first substrate. A second substrate was pressed over the hot melt, creating a 0.254 cm thickness between the first and second substrates to form a wet film laminate. All laminates were cured at room temperature for at least 21 days.
表11は、積層体番号、各積層体で用いた基材、及び硬化後の積層体のそれぞれについて、Sintech剪断試験装置によって測定した剪断力(shear force)を示す。表11において、Gはガラスを表し、Aはアルミニウムを表し、PCはポリカーボネートを表し、そしてWは木材を表す。 Table 11 shows the shear force measured by the Sintech shear test apparatus for each of the laminate number, the substrate used in each laminate, and the cured laminate. In Table 11, G represents glass, A represents aluminum, PC represents polycarbonate, and W represents wood.
例11は、本発明の方法によって作られたホットメルト接着剤組成物が、様々な基材を有効に積層することを示す。
〔比較例1〕
表11Aの成分を混合することによりサンプルを調製する。
Example 11 shows that a hot melt adhesive composition made by the method of the present invention effectively laminates various substrates.
[Comparative Example 1]
Samples are prepared by mixing the ingredients in Table 11A.
比較例1及び例11の組成物を用いて積層体を作成した。6.45平方cmの重なり及び0.254cmの厚さ(の接着剤層)をもつ積層体について、0.0847cm/secで引張り剪断(Lap shear)を測定した。引張り剪断は、組成物を14日にわたって硬化させたときに数回測定した。結果は表12にある。 A laminate was prepared using the compositions of Comparative Examples 1 and 11. Lap shear was measured at 0.0847 cm / sec for a laminate having an overlap of 6.45 square cm and a thickness of (adhesive layer) of 0.254 cm. Tensile shear was measured several times when the composition was cured for 14 days. The results are in Table 12.
上記ホットメルト接着剤組成物及びホットメルト接着剤組成物を硬化させることによって調製されたホットメルト接着剤は、建築及びエレクトロニクス産業における使用を見いだしている。上記ホットメルト接着剤組成物及びホットメルト接着剤は、建築産業、例えば、窓への応用に用いることができる。上記ホットメルト接着剤組成物及びホットメルト接着剤は、エレクトロニクス産業、例えば、蓋の密封への応用に用いることができる。 The hot melt adhesive compositions and hot melt adhesives prepared by curing the hot melt adhesive compositions have found use in the building and electronics industries. The said hot-melt-adhesive composition and hot-melt-adhesive can be used for the construction industry, for example, the application to a window. The hot melt adhesive composition and the hot melt adhesive can be used in the electronics industry, for example, in lid sealing applications.
100…サッシ
101…ホットメルト接着剤組成物
102…断熱ガラスユニット
103…窓ガラス
104…窓ガラス
105…スペーサー
106…ホットメルト接着剤組成物
200…ハウジング
201…ホットメルト接着剤組成物
202…容器
203…蓋
204…電子部品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Sash 101 ... Hot-melt-
Claims (16)
(A)連続混合装置内に、
(1)2質量%未満のシラノール含有量を有し、かつ、R1 3SiO1/2で表される一官能性単位、及びSiO4/2で表される四官能性単位を含むシリコーン樹脂(ここでR1は置換又は無置換の一価炭化水素残基である)、
(2)式R2R3SiOの二官能性単位、及び式R4 aX’3−aSiG−の末端単位を含むオルガノポリシロキサン(ここでR2はアルコキシ基又は一価の無置換又は置換炭化水素残基;R3は一価の無置換又は置換炭化水素残基;R4はアミノアルキル又はR1基、X’は加水分解性基;Gは前記末端単位のケイ素原子を別のケイ素原子と連結する二価の基、そしてaは0又は1である)、
(3)シリコーン樹脂及びオルガノポリシロキサンの100分の0.5〜15部のシラン架橋剤、及び
(4)溶媒
を供給すること;
(B)前記連続混合装置内で上記(1)〜(4)の混合物を作り出すこと;
(C)前記混合物が、少なくとも97質量%の不揮発性成分含有量を有するまで、前記連続混合装置内で前記混合物から揮発性成分を充分に除去すること;及び
(D)ホットメルト接着剤組成物を回収すること、
を含む、ホットメルト接着剤組成物を製造するための連続プロセス。 The following steps:
(A) In a continuous mixing device,
(1) A silicone resin having a silanol content of less than 2% by mass and containing a monofunctional unit represented by R 1 3 SiO 1/2 and a tetrafunctional unit represented by SiO 4/2 (Where R 1 is a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon residue),
(2) an organopolysiloxane containing a difunctional unit of the formula R 2 R 3 SiO and a terminal unit of the formula R 4 a X ′ 3-a SiG— (where R 2 is an alkoxy group or a monovalent unsubstituted or R 3 is a monovalent unsubstituted or substituted hydrocarbon residue; R 4 is aminoalkyl or R 1 group, X ′ is a hydrolyzable group; G is a silicon atom of the terminal unit; A divalent group linked to a silicon atom, and a is 0 or 1),
(3) 0.5-15 parts silane crosslinker of silicone resin and organopolysiloxane, and (4) supplying a solvent;
(B) creating the mixture of (1) to (4) in the continuous mixing apparatus;
(C) sufficiently removing volatile components from the mixture in the continuous mixing apparatus until the mixture has a non-volatile component content of at least 97% by weight; and (D) a hot melt adhesive composition. Collecting,
A continuous process for producing a hot melt adhesive composition comprising:
(A)請求項1に記載の連続プロセスで製造されるホットメルト接着剤組成物のフィルムを第一の基材の表面に適用すること;
(B)前記ホットメルト接着剤組成物のフィルムに第二の基材の表面を接触させること;
(C)前記第一及び第二の基材を共に押しつけること;
(D)前記ホットメルト接着剤組成物を湿気に曝露し、前記ホットメルト接着剤組成物を硬化させ且つ積層体を製造すること、
を含む、積層体を製造するためのプロセス。 The following steps:
(A) applying the film of the hot melt adhesive composition produced by the continuous process according to claim 1 to the surface of the first substrate;
(B) bringing the surface of the second substrate into contact with the film of the hot melt adhesive composition;
(C) pressing the first and second substrates together;
(D) exposing the hot melt adhesive composition to moisture, curing the hot melt adhesive composition and producing a laminate;
A process for manufacturing a laminate comprising:
(A)請求項1記載の連続プロセスで製造されるホットメルト接着剤組成物の薄いフィルムを調製すること;
(B)前記ホットメルト接着剤組成物のフィルムを湿気に曝露し、前記ホットメルト接着剤組成物を硬化させて硬化したフィルムを形成すること;
(C)前記硬化したフィルムを第一の基材の表面に適用すること;
(D)第二の基材の表面を前記硬化したフィルムと接触させること;
(E)前記第一及び第二の基材をともに押しつけて、積層体を製造すること、
を含む、積層体を製造するためのプロセス。 The following steps:
(A) preparing a thin film of the hot melt adhesive composition produced by the continuous process of claim 1;
(B) exposing the film of the hot melt adhesive composition to moisture and curing the hot melt adhesive composition to form a cured film;
(C) applying the cured film to the surface of the first substrate;
(D) contacting the surface of the second substrate with the cured film;
(E) pressing the first and second substrates together to produce a laminate;
A process for manufacturing a laminate comprising:
Use of a hot melt adhesive composition according to claim 14 in applications in the construction industry or in the electronics industry.
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