JP2006330851A - Improved pressure type flow rate controller - Google Patents
Improved pressure type flow rate controller Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006330851A JP2006330851A JP2005150057A JP2005150057A JP2006330851A JP 2006330851 A JP2006330851 A JP 2006330851A JP 2005150057 A JP2005150057 A JP 2005150057A JP 2005150057 A JP2005150057 A JP 2005150057A JP 2006330851 A JP2006330851 A JP 2006330851A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow rate
- signal
- control device
- pressure type
- input
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0623—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the set value given to the control element
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
Description
本発明は圧力式流量制御装置の改良に関するものであり、圧力式流量制御装置の構造の簡素化が図れると共に、ガス種の変更にも簡単に対応することができ、更に熱式質量流量制御装置(マスフローコントローラMFC)とも容易に交換をすることができるようにした圧力式流量制御装置に関するものである。 The present invention relates to an improvement of a pressure type flow rate control device, which can simplify the structure of the pressure type flow rate control device and can easily cope with a change in gas type, and further, a thermal mass flow rate control device. The present invention relates to a pressure type flow rate control device that can be easily replaced with (mass flow controller MFC).
圧力式流量制御装置は、マスフローコントローラに代表される熱式質量流量制御装置(MFC)に比較して、応答性や制御精度、製造コスト、制御の安定性、メンテナンス性等の点で勝る優れた特性を備えており、そのため半導体製造の技術分野等において広く実用に供されている。 The pressure type flow control device is superior to the thermal type mass flow control device (MFC) represented by the mass flow controller in terms of responsiveness, control accuracy, manufacturing cost, control stability, maintainability, etc. Therefore, it is widely used in the technical field of semiconductor manufacturing.
図5(a)及び図5(b)は、前記従前の圧力式流量制御装置FCSの基本構成の一例を示すものであり、コントロール弁2、圧力検出器6、27、オリフィス8、流量演算回路13・31、流量設定回路14、演算制御回路16、流量出力回路12等から圧力式流量制御装置FCSの要部が形成されている。
尚、図5(a)及び図5(b)において、3はオリフィス上流側配管、4は弁駆動部、5はオリフィス下流側配管、9はバルブ、15は流量変換回路、10、11、22、28は増幅器、7は温度検出器、17、18、29はA/D変換器、19は温度補正回路、20、30は演算回路、21は比較回路、Qcは演算流量信号、Qfは切換演算流量信号、Qeは流量設定信号、Qoは流量出力信号、Qyは流量制御信号、P1はオリフィス上流側気体圧力、P2オリフィス下流側気体圧力、kは流量変換率である。
5 (a) and 5 (b) show an example of the basic configuration of the conventional pressure type flow rate control device FCS. The
5A and 5B, 3 is an orifice upstream pipe, 4 is a valve drive section, 5 is an orifice downstream pipe, 9 is a valve, 15 is a flow rate conversion circuit, 10, 11, 22 , 28 is an amplifier, 7 is a temperature detector, 17, 18 and 29 are A / D converters, 19 is a temperature correction circuit, 20 and 30 are arithmetic circuits, 21 is a comparison circuit, Qc is an arithmetic flow rate signal, and Qf is switching An arithmetic flow rate signal, Qe is a flow rate setting signal, Qo is a flow rate output signal, Qy is a flow rate control signal, P 1 is an orifice upstream gas pressure, P 2 orifice downstream gas pressure, and k is a flow rate conversion rate.
前記図5(a)の圧力式流量制御装置FCSは、オリフィス上流側気体圧力P1とオリフィス下流側気体圧力P2との比P1/P2が流体の臨界値に等しいか若しくはこれより低い場合(所謂気体の流れが臨界状態下にあるとき)に、主として用いられるものであり、オリフィス8を流通する気体流量Qcは、Qc=KP1(但し、Kは比例定数)で与えられる。
また、前記図5(b)の圧力式流量制御装置FCSは、臨界状態と非臨界状態の両方の流れ状態となる気体の流量制御に主として用いられるものであり、オリフィス8を流れる気体の流量は、Qc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として与えられる。
In the pressure type flow rate control device FCS of FIG. 5A, the ratio P 1 / P 2 of the orifice upstream gas pressure P 1 and the orifice downstream gas pressure P 2 is equal to or lower than the critical value of the fluid. In this case (so-called gas flow is in a critical state), the gas flow rate Qc flowing through the
Further, the pressure type flow rate control device FCS of FIG. 5B is mainly used for the flow rate control of the gas in both the critical state and the non-critical state, and the flow rate of the gas flowing through the
また、前記図5(a)の圧力式流量制御装置において、流量値の設定値は、流量設定信号Qeとして電圧値で与えられ、例えば上流側圧力P1の圧力制御範囲0〜3(kgf/cm2 abs)を電圧範囲0〜5vで表示したとすると、Qe=5v(フルスケール値)は、3(kgf/cm2 abs)の圧力P1における流量Qcに相当することとなる。 5A, the set value of the flow rate value is given as a voltage value as the flow rate setting signal Qe. For example, the pressure control range 0 to 3 (kgf / kg) of the upstream pressure P 1 is used. Assuming that cm 2 abs) is displayed in a voltage range of 0 to 5 v, Qe = 5 v (full scale value) corresponds to a flow rate Qc at a pressure P 1 of 3 (kgf / cm 2 abs).
例えば、いま流量変換回路15の変換率kが1に設定されているときに、流量設定信号Qe=5vが入力されると、切換演算流量信号Qf(Qf=kQc)は5vとなり、上流側圧力P1が3(kgf/cm2 abs)になるまでコントロール弁2が開閉操作されることになり、P1=3(kgf/cm2 abs)に対応する流量Qc=KP1の気体がオリフィス8を流通することになる。
For example, when the conversion rate k of the flow
また、制御すべき圧力範囲を0〜2(kgf/cm2 abs)に切換え、この圧力範囲を0〜5(v)の流量設定信号Qeで表示する場合(即ち、フルスケール値5vが2(kgf/cm2 abs)を与える場合)には、前記流量変換率kが2/3に設定される。 Further, when the pressure range to be controlled is switched to 0 to 2 (kgf / cm 2 abs) and this pressure range is displayed by the flow rate setting signal Qe of 0 to 5 (v) (that is, the full scale value 5v is 2 ( In the case of (kgf / cm 2 abs)), the flow rate conversion rate k is set to 2/3.
その結果、流量設定信号Qe=5(v)が入力されたとすると、Qf=kQcから、切換演算流量信号QfはQf=5×2/3(v)となり、上流側圧力P1が3×2/3=2
(kgf/cm2 abs)になるまで、コントロール弁2が開閉操作される。
即ち、Qe=5vが、P1=2(kgf/cm2 abs)に相当する流量Qc=KP1を表すようにフルスケールの流量が変換される。
尚、前記図5(b)の圧力式流量制御装置においても同様であり、オリフィス8を流通する気体の流量Qcは、Qc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として与えられ、ガス種が変われば前記比例定数Kが変化する。
As a result, if the flow rate setting signal Qe = 5 (v) is input, the switching calculation flow rate signal Qf becomes Qf = 5 × 2/3 (v) from Qf = kQc, and the upstream pressure P 1 is 3 × 2 / 3 = 2
The
That is, the full-scale flow rate is converted so that Qe = 5v represents a flow rate Qc = KP 1 corresponding to P 1 = 2 (kgf / cm 2 abs).
The same applies to the pressure type flow rate control device of FIG. 5B, and the flow rate Qc of the gas flowing through the
更に、臨界状態下においては、オリフィス8を流通する気体流量Qcは、前述の通りQc=KP1なる式で与えられるが、流量制御すべきガス種が変れば、同一オリフィス8を使用している場合には、前記比例定数Kが変化する。
Further, under the critical condition, the gas flow rate Qc flowing through the
いま、水素、酸素、窒素に対する前記比例定数KをKh(H2の場合)、Ko(O2の場合)、Kn(N2の場合)で表すと、このKh、Ko、Knは、一般に窒素ガスを基準とするフローファクタF.F.を用いて表すことができる。
尚、当該フローファクタF.F.は、オリフィス8及び上流側圧力P1が同一の場合に、O2やH2等の実ガス流量がN2流量に対して何倍になるかを示す量であり、フローファクタF.F.=実ガスの流量/N2流量で定義される。またこのF.F.の具体的な値は表1のような値となり、ガスの比熱比等を用いて理論式から演算することができ、この演算値は実測値と高精度で一致することが実証されている(特開2000−322130号、特開2004−199109号等)。
Now, when the proportionality constant K with respect to hydrogen, oxygen, and nitrogen is expressed by Kh (in the case of H 2 ), Ko (in the case of O 2 ), and Kn (in the case of N 2 ), this Kh, Ko, and Kn are generally represented by nitrogen. Gas based flow factor F.R. F. Can be used.
The flow factor F.I. F. Is an amount indicating how many times the actual gas flow rate of O 2 , H 2, etc. is larger than the N 2 flow rate when the
例えば、前記H2ガスのフローファクタをF.Fh、O2ガスのフローファクタをF.Foとすると、F.Fh=Kh/Kn、F.Fo=Ko/Knで表現され、N2ガスのフローファクタは、勿論F.Fn=Kn/Kn=1となる。
図5(a)の圧力式流量制御装置FCSを参照して、いまこれにN2ガスを流通させてその流量測定を行っているとする。この時の流量変換率はk=1であるから、切換演算流量信号QfはQf=kQcとなり、流量指令信号Qeに等しくなる。
For example, the flow factor of the H 2 gas is F.D. Fh, O 2 gas flow factor If Fo, F. Fh = Kh / Kn, F.I. Fo = Ko / Kn, and the flow factor of N 2 gas is, of course, F.R. Fn = Kn / Kn = 1.
Referring to the pressure type flow rate control device FCS in FIG. 5A, it is assumed that N 2 gas is circulated through the pressure flow rate control device FCS and the flow rate is being measured. Since the flow rate conversion rate at this time is k = 1, the switching calculation flow rate signal Qf is Qf = kQc, which is equal to the flow rate command signal Qe.
また、図5(a)の圧力式流量制御装置FCSにH2ガスを送るには、流量変換回路15において流量変換率kがKh=3.731843に設定され、切換演算流量信号Qfは、Qf=kQcからQf=KhQeとなる。即ち、切換演算流量信号QfはN2ガスに対する流量設定信号QeのKh倍となり、オリフィス上流側圧力P1がN2ガスの場合のKh倍になるように、コントロール弁2の開閉操作が行われることになる。
尚、上記説明は、何れも図5(a)に基ずいて説明をしたが、図5(b)の圧力式流量制御装置であっても、基本的には同一である。
Further, in order to send the H 2 gas to the pressure type flow control device FCS of FIG. 5A, the flow rate conversion rate k is set to Kh = 3.731843 in the flow
In addition, although the above description was based on FIG. 5 (a), even the pressure type flow control device of FIG. 5 (b) is basically the same.
ところで、従前のこの種圧力式流量制御装置FCSにおいては、前述の通り窒素ガスN2を基準として制御装置FCSの目盛校正がされており(具体的には、流量設定回路14の流量設定信号Qeが最大5vのときの流量値Vmを実測し(例えばVm=105sccm)、この流量値Vm=105sccmが設定流量Vs(例えばVs=100sccm)となるように前記Qeを調整して、この調整後の流量設定信号値を演算制御回路16へ入力するようにしたり、或いは、流量演算回路13の流量設定変換回路15で変換率kを調整し、流量設定回路14からの設定入力5vのときに、N2の設定流量値がフルスケール値FS(設定流量Vs=100sccm)となるように校正し、その後この時の変換率kを固定して、k=Kn=1とすることにより、目盛校正がされている。)、N2以外の実ガス(例えばガス種を酸素に変更したような場合)を制御する場合には、予め流量演算回路13内に組み込みしたフローファクタF.F.の記憶装置(図示省略)から酸素O2に対するフローファクタF.Foを読み出し、このフローファクタF.Fo値(即ち、流量変換率ko)をN2を基準とした演算流量信号Qcに乗じて、Qf=koQcなる切替演算流量信号が演算制御回路16へ出力することになる。
Incidentally, in this conventional pressure type flow rate control device FCS, as described above, the calibration of the control device FCS is performed with reference to the nitrogen gas N 2 (specifically, the flow rate setting signal Qe of the flow rate setting circuit 14). Measure the flow rate value Vm when the maximum is 5 V (for example, Vm = 105 sccm), adjust the Qe so that the flow rate value Vm = 105 sccm becomes the set flow rate Vs (for example, Vs = 100 sccm), When the flow rate setting signal value is input to the
換言すれば、圧力式流量制御装置FCSは、その制御部に必ず各種の実ガスに対するフローファクタF.F.値のテーブルを備える必要があり、当該F.F.値のテーブルを備えない限りガス種の変更に対応できないと云う構成になっている。
尚、このことは、マスフローコントローラ等の熱式流量制御装置においても同様であり、一般には、圧力式流量制御装置FCSのフローファクタF.F.に対応するコンバートファクタCFのテーブルを備えておき、これを用いて実ガスの変更に対処するよう構成されている。
In other words, the pressure type flow control device FCS always has a flow factor F.F. F. Need to have a table of values. F. Unless a value table is provided, the gas type cannot be changed.
This also applies to a thermal flow control device such as a mass flow controller. In general, the flow factor F. F. A conversion factor CF table corresponding to the above is prepared, and this is used to cope with changes in actual gas.
勿論、N2ガスを基準ガスとせずに、制御対象とする実ガスを基準として圧力式流量制御装置FCSを校正することも可能であるが、その場合には、(実ガスの種類×流量レンジグループ)の数だけの多種類の圧力式流量制御装置FCSを製作する必要があり、製造コストの削減が困難になるだけでなく生産管理や販売管理が複雑化すると云う問題を生ずることになる。 Of course, it is also possible to calibrate the pressure type flow rate control device FCS with reference to the actual gas to be controlled without using the N 2 gas as the reference gas, but in that case, (actual gas type × flow rate range) It is necessary to manufacture as many types of pressure type flow rate control devices FCS as the number of groups), which not only makes it difficult to reduce the manufacturing cost, but also causes problems such as complicated production management and sales management.
また、窒素ガスN2を基準として校正された圧力式流量制御装置FCSにおいて、実ガス(酸素O2)のF.F.値(例えばF.Fo=0.935237)を流量設定信号Qe=5vに乗じて目盛校正をする場合、Qf=F.FoQeには当然に端数が含まれることになり、出力信号Qo=Qfの方も端数を含む値となる。
その結果、切換演算流量信号Qfや出力信号Qoの電圧値の取り扱いがやっかいとなり、結果として流量制御精度の低下を招く等の問題がある。
Further, in the pressure type flow rate control device FCS calibrated with reference to the nitrogen gas N 2 , the actual gas (oxygen O 2 ) F.V. F. When scale calibration is performed by multiplying the flow rate setting signal Qe = 5v by a value (for example, F.Fo = 0.935237), Qf = F. FoQe naturally includes a fraction, and the output signal Qo = Qf also has a value including the fraction.
As a result, it is difficult to handle the voltage values of the switching calculation flow signal Qf and the output signal Qo, resulting in problems such as a decrease in flow control accuracy.
更に、近年既設の熱式流量制御装置MFCに替えて圧力式流量制御装置FCSを使用するケースが増えて来ている。このような場合、前者の設定流量信号Qe値と設定流量Q(sccm)との関係が、後者の設定流量信号Qe値と設定流量Q(sccm)との関係に夫々完全に一致している場合には、制御系の他の部分に大きな改修を加えることなしに、簡単に熱式質量流量制御装置MFCを圧力式(質量)流量制御装置FCSに取り替えすることができる。 Further, in recent years, there are increasing cases of using the pressure type flow rate control device FCS instead of the existing thermal type flow rate control device MFC. In such a case, the relationship between the former set flow signal Qe value and the set flow rate Q (sccm) completely matches the relationship between the latter set flow signal Qe value and the set flow rate Q (sccm). The thermal mass flow controller MFC can be easily replaced with the pressure (mass) flow controller FCS without major modifications to other parts of the control system.
しかし、両者の設定流量信号値Qe値と設定流量Q(sccm)との何れかが相互に異なっている場合(例えば、設定流量Qの方はQ=100sccmで同一であるが、これに対応する設定流量信号Qeの方がQe=5.000v(MFCの場合)とQe=4.439v(FCSの場合)のように夫々異なっているとき)には、従前の圧力式流量制御装置FCSにおいては、内部のフローファクタデータテーブルそのものを取り替え(又は書き替え)しなければ、現実に熱式質量流量制御装置MFCを圧力式流量制御装置FCSに取り替え出来ず、極めて煩雑な作業を必要とすると云う問題がある。 However, when either of the set flow signal value Qe value and the set flow rate Q (sccm) is different from each other (for example, the set flow rate Q is the same at Q = 100 sccm, this corresponds to this. When the set flow rate signal Qe is different between Qe = 5.000v (in the case of MFC) and Qe = 4.439v (in the case of FCS), in the conventional pressure type flow rate control device FCS, If the internal flow factor data table itself is not replaced (or rewritten), the thermal mass flow controller MFC cannot be actually replaced with the pressure flow controller FCS, and a very complicated operation is required. There is.
本発明は、従前の圧力式流量制御装置FCSにおける上述の如き問題、即ちイ.窒素ガスN2を基準として校正した流量設定信号Qeに実ガスのフローファクタF.F.を乗じたものを切換演算流量信号Qfや流量出力信号Qoとしているため、必然的に信号値Qf、Qoが端数を含んだ数値となり、電圧値の取り扱いが極めてやっかいなものになること、ロ.各種の実ガスに対応したフローファクタF.F.のデータテーブルを制御部に必要とすること、ハ.熱式質量流量制御装置MFCに替えて圧力式流量制御装置FCSを簡単に使用することができず、流量設定信号Qeと設定流量(制御流量)Qcとの相互関係によっては圧力式流量制御装置FCSの使用が困難となること等の問題を解決せんとするものであり、切換演算流量信号Qfや流量出力信号Qoを端数の無い数値に変換でき、しかも熱式質量流量制御装置MFCとも簡単に交換して使用することができるようにした改良された圧力式流量制御装置FCSを提供することを発明の主目的とするものである。 The present invention has the above-described problems in the conventional pressure type flow rate control device FCS, namely, a. The flow rate setting signal Qe calibrated on the basis of the nitrogen gas N 2 is added to the flow factor F. F. Since the switching calculation flow signal Qf and the flow output signal Qo are multiplied by the above, the signal values Qf and Qo inevitably become numerical values including fractions, and the handling of voltage values becomes extremely troublesome. Flow factor F. corresponding to various real gas F. A data table is required for the control unit, c. The pressure type flow control device FCS cannot be easily used in place of the thermal mass flow control device MFC, and the pressure type flow control device FCS depends on the correlation between the flow setting signal Qe and the set flow (control flow) Qc. It is intended to solve problems such as the difficulty of use, and can change the switching calculation flow rate signal Qf and flow rate output signal Qo to numerical values with no fractions, and it can be easily replaced with the thermal mass flow controller MFC It is a main object of the present invention to provide an improved pressure type flow rate control device FCS which can be used as a product.
請求項1の発明は、オリフィス上流側圧力P1とオリフィス下流側圧力P2を用いて、オリフィス8を流通する流体の流量をQc=KP1(Kは比例定数)又はQc=KP2 m(P1−P2)n(Kは比例定数、mとnは定数)として演算するようにした圧力式流量制御装置において、当該圧力式流量制御装置を流量演算装置23と、流量演算装置23へ設定流量信号Qerに関連する設定出力信号Qe′を入力すると共に流量演算装置23から制御流量出力信号Qo′に関連する制御流量信号Qorを出力する入出力コンバータ25と、オリフィス8の上流側に設けられ、流量演算装置23からの流量制御信号Qyにより開閉制御されるコントロール弁2とから構成すると共に、前記入出力コンバータ25の前記設定流量信号Qerと設定入力信号Qe′との比である変換率(Qe′/Qer)及び前記流量出力信号Qorと制御流量出力Qo′との比である変換率(Qo′/Qor)を調整可能な構成としたことを発明の基本構成とするものである。
In the first aspect of the invention, the flow rate of the fluid flowing through the
請求項2の発明は、請求項1の発明において、入出力コンバータ25の前記変換率(Qe′/Qer)及び(Qo′/Qor)を適用する実ガスのフローファクタF.F.とするようにしたものである。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the actual gas flow factor F.F. applied to the conversion ratios (Qe ′ / Qer) and (Qo ′ / Qor) of the input /
請求項3の発明は、請求項1の発明において、入出力コンバータ25を圧力式流量制御装置本体1へ着脱自在に設けると共に、入出力コンバータ25の前記変換率(Qe′/Qer)及び(Qo′/Qor)の設定値を一種の実ガスのフローファクタF.F.のみとするようにしたものである。
According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the input /
請求項4の発明は、請求項1の発明において、入出力コンバータ25を、複数の実ガスに対する複数の変換率を設けた構成とすると共に、複数の流量測定範囲に切換え可能な流量切換機構を設けた構成としたものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the input /
本発明においては、圧力式流量制御装置本体1に入出力コンバータ25を着脱自在に取り付けると共に、入出力コンバータ25に設定流量信号Qerと設定入力信号Qe′との比である変換率(Qe′/Qer)及び流量出力信号Qorと制御流量出力信号Qo′との比である変換率(Qo′/Qor)を調整可能に設け、ガス種に応じて前記変換率を調整する構成としている。
その結果、ガス種が変っても、入出力コンバータ25の変換率を変えるだけで、窒素ガスに基づいて較正をした圧力式流量制御装置をそのまま容易に当該ガス種の流量制御に適用することができると共に、設定流量信号Qer及び制御流量出力信号Qorの電圧値に端数が含まれないようにすることができ、電圧信号の取り扱いが容易になる。
In the present invention, the input /
As a result, even if the gas type changes, the pressure type flow rate control device calibrated based on nitrogen gas can be easily applied to the flow rate control of the gas type simply by changing the conversion rate of the input /
また、入出力コンバータ25の適用により、ガス種の変更に際して必要となる従前の圧力式流量制御装置の制御部に設けたフローファクタテーブルが不要となり、圧力式流量制御装置の構造の簡素化が可能となる。
In addition, the application of the input /
更に、入出力コンバータ25の変換率の調整により、熱式質量流量制御装置MFCに換えて本発明の圧力式流量制御装置を容易に適用することが可能となる。
Furthermore, by adjusting the conversion rate of the input /
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
図1は、本発明に係る圧力式流量制御装置の基本構成を示すブロック図であり、図において、1は圧力式流量制御装置本体、25は入出力コンバータ(I/Oコンバータ)、25aはコンバータ本体部、25bは流量設定部、25cは流量出力部、Qerは実ガス流量設定信号、Qorは実ガス流量出力信号であり、入出力コンバータ25はコンバータ本体25aと流量設定部25bと流量出力部25cとから形成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing a basic configuration of a pressure type flow rate control device according to the present invention. In the figure, 1 is a pressure type flow rate control device body, 25 is an input / output converter (I / O converter), and 25a is a converter.
図2は、本発明に係る改良型圧力式流量制御装置の概要を示す斜面図であり、流量圧力制御装置本体1と、当該本体1へ着脱自在に固定した入出力コンバータ25と、コネクター26等から本発明に係る改良型圧力式流量制御装置は構成されている。
FIG. 2 is a perspective view showing an outline of the improved pressure type flow rate control device according to the present invention. The flow rate pressure control device
前記圧力式流量制御装置本体1は、基本的には前記図5(a)及び図5(b)に示した圧力式流量制御装置FCSと同様の構成を有するものである。しかし、図5(a)及び図5(b)の圧力式流量制御装置FCSが具備している各種ガス種に対するフローファクタテーブル等(即ち、図5(a)及び図5(b)の流量変換回路15等)は具備していない。
The pressure type flow control device
図3(a)及び図3(b)は、圧力式流量制御装置本体1の回路構成を示すブロック図である。図3(a)及び図3(b)を参照して、1は圧力式流量制御装置本体、2はコントロール弁、3はオリフィス上流側配管、4はコントロール弁の駆動装置、5はオリフィス下流側配管、6、27は圧力検出器、7は温度検出器、8はオリフィス、10、11、22、28は増幅器、17、18、29はAD変換器、19は温度補正回路、20、30は演算回路、21は比較回路、23は流量演算装置である。
また、Qerは実ガス流量設定信号、Qorは実ガス流量出力信号、Qcは演算流量信号、Qyは流量制御信号である。
FIG. 3A and FIG. 3B are block diagrams showing a circuit configuration of the pressure type flow control device
Qer is an actual gas flow rate setting signal, Qor is an actual gas flow rate output signal, Qc is a calculated flow rate signal, and Qy is a flow rate control signal.
オリフィス8を流通する実ガスGが音速下にある場合(即ち、所謂実ガスが臨界条件下にあるとき)には、オリフィス8を流通する実ガスGの制御流量Qcは、Qc=KP1(但しKはオリフィス8により定まる定数)として演算され、この演算された制御流量(演算流量)Qcに対応する制御流量信号と、I/Oコンバータ25からの設定流量信号Qerに対応する設定入力信号(電圧値)Qe′とが比較器21で比較され、その差に相当する流量制御信号Qyに相当する出力がコントロールバルブ2の駆動装置4へ入力される。これによってコントロール弁2が開閉操作され、オリフィス上流側管路3内の圧力P1がオリフィス8を流通する実ガスGの流量が設定流量信号Qerに対応する設定流量になるように調整される。
同様に、図3(b)の圧力式流量制御装置FCSでは、実ガスGの流れの状態に拘らず、流量QcはQc=KP2 m(P1−P2)nなる式を適用して演算されることになる(但し、Kはオリフィス8により定まる比例定数、mとnは流体流量の実測値から求められた定数である)。
When the actual gas G flowing through the
Similarly, in the pressure type flow rate control device FCS of FIG. 3B, the flow rate Qc applies the equation Qc = KP 2 m (P 1 −P 2 ) n regardless of the flow state of the actual gas G. (Where K is a proportionality constant determined by the
前記流量設定部25bへは、各実ガスの制御流量に対応する実ガス設定流量信号Qerが設定される。例えばN2(5v・FS〜1v・20%FS)、O2(5v・FS〜1v・20%FS)、He(5v・FS〜1v・20%FS)及びH2(5v・FS〜1v・20%FS)の如く、各種の実ガスGに対する設定流量信号Qerが設定される。尚、各信号Qerは現実には電圧値で入力される。
In the flow
上記流量設定部25bへ入力された実ガスGの各設定流量信号Qerは、直接にI/Oコンバーター25のコンバーター本体25aへ入力され、ここでオリフィス8の各規格及び各実ガス種毎に予め定められた設定入力信号Qe′(電圧値)に変換される。
Each set flow rate signal Qer of the actual gas G input to the flow
例えば、フルスケール1000SCCMの圧力式流量制御装置であって、実ガスGがN2の場合には、Qer=5vのときに、オリフィス8の制御(流通)流量QcがQc=1000SCCMとなる圧力P1が得られるようにコントロール弁2を調整するための設定入力信号Qe′が、I/Oコンバータ本体25aから流量演算装置23の比較回路21へ出力される。尚、実ガスGが窒素N2の場合には、当該設定入力信号Qe′は約5vとなるように、流量演算装置23の増幅器10、11等が調整されている。
For example, in a full-scale 1000 SCCM pressure-type flow control device, when the actual gas G is N 2 , the pressure P at which the control (circulation) flow rate Qc of the
同様に、流量演算装置23の流量演算回路20からは、演算流量(Qc、即ち制御流量Qc)に対応する制御流量信号と同じ制御流量出力信号(電圧値)Qo′(=Qc)がI/Oコンバータ本体25aへ入力され、例えば制御流量Qcが定格流量であるときの制御流量出力信号Qo′が4.9890vであれば、この制御流量出力信号Qo′がここでフルスケールに対応する5vに変換されたあと、流量出力信号Qor=5vとして出力される。
Similarly, from the flow
尚、N2の場合には、前記コンバート比Qe′/Qer及びQo′/Qorは夫々1に極めて近い値となるが、厳密には1でない値となる。
また、ガス種がO2やAr、He、H2等の場合には、前記設定流量信号Qer側のコンバート比Qe′/Qer及び制御流量出力信号Qor側のコンバート比Qo′/Qorは、夫々圧力式流量制御装置本体1の型式毎に定まる一定値となる。
In the case of N 2, the conversion ratios Qe ′ / Qer and Qo ′ / Qor are extremely close to 1, but are not strictly 1.
When the gas type is O 2 , Ar, He, H 2 or the like, the conversion ratio Qe ′ / Qer on the set flow rate signal Qer side and the conversion ratio Qo ′ / Qor on the control flow rate output signal Qor side are respectively It is a constant value determined for each model of the pressure type flow control device
また、実ガスN2の流量制御範囲を1/2流量(例えば、フルスケール1000sccmを0〜500sccm)に切換えする場合には、前記流量設定信号Qerが5v(フルスケールFS)のときにオリフィス8の制御(流通)流量Qcが500sccmとなるようにオリフィス上流側管路3の圧力P1を調整するための設定入力信号Qe′が、流量演算装置23へ入力される。
尚、この時のI/Oコンバータ本体25aのコンバート比Qe′/Qer及びQo′/Qorは、オリフィス8の規格毎に異なった値となるために、予めオリフィス8の規格毎に実測により求めておく必要があることは勿論である。
また、流量出力信号Qorについてのコンバート比Qo′/Qorは、前記設定入力信号Qerについてのコンバート比Qe′/Qerと同じ値となる。
When the flow control range of the actual gas N 2 is switched to a ½ flow rate (for example, full scale 1000 sccm is 0 to 500 sccm), the
Note that the conversion ratios Qe '/ Qer and Qo' / Qor of the I / O converter
Further, the conversion ratio Qo ′ / Qor for the flow rate output signal Qor has the same value as the conversion ratio Qe ′ / Qer for the setting input signal Qer.
前記入出力コンバータ25としては、複数の実ガス(例えば、水素やHe、Ar、O2等)の流量制御にも適応可能とするために、夫々異なる実ガスに対して前記コンバート比Qe′/Qer及びQo′/Qorを個別に設定できるように構成するのが望ましいが、一種類の実ガス(例えばArガス)のみに対するコンバート比Qe′/Qer、Qo′/Qorを設定した入出力コンバータ25を各ガス種について準備しておき、ガス種が切り換わる毎に、入出力コンバータ25を取り替えするようにすることも可能である。
又、圧力式流量制御装置本体1への入出力コンバータ25の取付け位置や取付け姿勢等は自由に選択可能であり、前記図2に示したものに限定されないことは勿論である。
The input /
Further, the mounting position and mounting posture of the input /
窒素ガス用の定格制御流量(フルスケール流量・1000SCCM)の圧力式流量制御装置をガス種Arに適用する場合、入出力コンバータ25を下記の各値に設定する。
・ 設定流量信号 Qer=5v(DC)
・ 設定入力信号 Qe′=4.4391(Qer×F.F.=5×0.88781
4)
・ コンバート比 Qe′/Qer=0.8878
・ 流量出力信号 Qor=5v(DC)
・ 制御流量出力信号 Qo′=4.4391v
・ コンバート比 Qo′=Qor=0.8878
具体的には、圧力式流量制御装置本体1のフルスケール流量(FS)及び使用ガス種を確認し、工場出荷時に入出力コンバータ25をセットすると共に、入・出力側の各種電圧値をガス種毎に予め定められたコンバート比に設定する。
When the pressure type flow rate control device with the rated control flow rate for nitrogen gas (full scale flow rate / 1000 SCCM) is applied to the gas type Ar, the input /
・ Set flow rate signal Qer = 5v (DC)
Setting input signal Qe ′ = 4.4391 (Qer × FF = 5 × 0.88781
4)
・ Conversion ratio Qe '/ Qer = 0.8878
・ Flow rate output signal Qor = 5v (DC)
・ Control flow rate output signal Qo '= 4.4391v
・ Conversion ratio Qo '= Qor = 0.8878
Specifically, the full-scale flow rate (FS) of the pressure type flow
図4に示す如く定格流量(FS流量)100sccm・流量出力信号5,000v(100sccm)のAr用の熱式質量流量制御装置(MFC)を、F130型圧力式流量制御装置FCS(130sccm・N2)を取り替えする場合を想定する。 As shown in FIG. 4, a thermal mass flow controller (MFC) for Ar having a rated flow rate (FS flow rate) of 100 sccm and a flow rate output signal of 5,000 v (100 sccm) is replaced with an F130 type pressure flow rate control device FCS (130 sccm · N 2 ) Is assumed to be replaced.
先ず、F130型圧力式流量制御装置のガス種をアルゴンAr(フローファクタF.F.=0.887814)とした場合のArの最大流量は、115.4(sccm)となる(N2130sccm×F.F.=130×0.887814=115.4(sccm))。
また、Arの制御流量100(sccm)の時の設定入力信号は、5v×100/115.4=4.3327vとなる。
即ち、入出力コンバータ25では、設定入力信号Qe′=4.3327vを5.000vの設定流量信号Qerに、また、制御流量出力信号Qo′=4.3327vを5.000vの流量出力信号Qorに夫々変換すればよい。
設定入力信号 Qe′=4.3327v
設定流量信号 Qer=5.0000v
コンバート比 Qe′/Qer=0.887814
流量出力信号 Qor=5.0000v
制御流量出力信号 Qo′=4.3327v
コンバート比 Qo′/Qor=0.887814
となる。
First, the maximum flow rate of Ar when the gas type of the F130 type pressure type flow rate control device is Argon Ar (flow factor FF = 0.887814) is 115.4 (sccm) (N 2 130 sccm × FF = 130 × 0.887814 = 15.4 (sccm)).
Further, the setting input signal at the Ar control flow rate of 100 (sccm) is 5v × 100 / 115.4 = 4.3327v.
That is, in the input /
Setting input signal Qe '= 4.3327v
Set flow rate signal Qer = 5.0000v
Conversion ratio Qe ′ / Qer = 0.887814
Flow rate output signal Qor = 5.0000v
Control flow rate output signal Qo '= 4.3327v
Conversion ratio Qo ′ / Qor = 0.887814
It becomes.
即ち、入出力コンバータ25の各コンバート比を前記のQe′/Qer、Qo′/Qorの値となるように設定すれば、Ar100sccmの熱式質量流量制御装置(MFC)をF130型(N2基準で、定格流量が130sccm)圧力式流量制御装置FCSと交換することができ、しかも、制御流量出力Qorをフルスケール5vで表示することができると共に、フルスケール(定格流量)100sccmArガスを流量制御することが可能となる。
That is, if the respective conversion ratios of the input /
本発明に係る改良型圧力式流量制御装置は、半導体製造装置の分野におけるガス体のみならず、あらゆる流体の流量制御装置や流量計として利用可能なものである。 The improved pressure type flow control device according to the present invention can be used not only as a gas body in the field of semiconductor manufacturing equipment but also as a flow control device and flow meter for all fluids.
FCSは圧力式流量制御装置、MFCは熱式質量流量制御装置、Qerは実ガス流量設定信号、Qorは実ガス流量出力信号、Qcは演算流量信号、Qyは流量制御信号、Qe′は設定入力信号、Qo′は制御流量出力信号、FSはフルスケール、1は圧力式流量制御装置本体、2はコントロール弁、3はオリフィス上流側配管、4はコントロール弁駆動装置、5はオリフィス下流側配管、6,27は圧力検出器、7は温度検出器、8はオリフィス、9はバルブ、10,11,28は増幅器、12は流量出力回路、13は流量演算装置、14は流量設定回路、15は流量変換回路、16は流量制御回路、17・18,29はA/D変換器、19は温度補正回路、20,30は演算回路、21は比較回路、22は増幅器、25は入出力コンバータ(I/oコンバータ)、25aはコンバータ本体、25bは流量設定部、25cは流量出力部、26はコネクター。 FCS is a pressure flow control device, MFC is a thermal mass flow control device, Qer is an actual gas flow rate setting signal, Qor is an actual gas flow rate output signal, Qc is an arithmetic flow rate signal, Qy is a flow rate control signal, and Qe 'is a setting input Signal, Qo ′ is a control flow rate output signal, FS is full scale, 1 is a pressure type flow rate control device body, 2 is a control valve, 3 is an orifice upstream piping, 4 is a control valve driving device, 5 is an orifice downstream piping, 6, 27 is a pressure detector, 7 is a temperature detector, 8 is an orifice, 9 is a valve, 10, 11 and 28 are amplifiers, 12 is a flow rate output circuit, 13 is a flow rate calculation device, 14 is a flow rate setting circuit, 15 is Flow rate conversion circuit, 16 is a flow rate control circuit, 17, 18 and 29 are A / D converters, 19 is a temperature correction circuit, 20 and 30 are arithmetic circuits, 21 is a comparison circuit, 22 is an amplifier, and 25 is an input / output converter (I / o converters), 25a converter body, 25b are flow rate setting unit, 25c are flow rate output unit, 26 connectors.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005150057A JP4572139B2 (en) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | Improved pressure flow controller |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005150057A JP4572139B2 (en) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | Improved pressure flow controller |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006330851A true JP2006330851A (en) | 2006-12-07 |
JP4572139B2 JP4572139B2 (en) | 2010-10-27 |
Family
ID=37552510
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005150057A Expired - Fee Related JP4572139B2 (en) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | Improved pressure flow controller |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4572139B2 (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140053397A (en) | 2011-09-30 | 2014-05-07 | 가부시키가이샤 후지킨 | Gas supply device |
JP2015503134A (en) * | 2011-09-29 | 2015-01-29 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Method for in-situ calibration of flow controller |
WO2015064035A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 株式会社フジキン | Pressure-type flow rate control device |
WO2015111391A1 (en) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | Pressure-type flow control device and method for preventing overshooting at start of flow control performed by said device |
KR20160028474A (en) | 2013-12-05 | 2016-03-11 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
KR20160114705A (en) | 2014-07-23 | 2016-10-05 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
US9471065B2 (en) | 2012-11-02 | 2016-10-18 | Fujikin Incorporated | Integrated type gas supplying apparatus |
US9772629B2 (en) | 2011-09-29 | 2017-09-26 | Applied Materials, Inc. | Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9188989B1 (en) | 2011-08-20 | 2015-11-17 | Daniel T. Mudd | Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device |
US9958302B2 (en) | 2011-08-20 | 2018-05-01 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10838437B2 (en) | 2018-02-22 | 2020-11-17 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same |
US11144075B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-10-12 | Ichor Systems, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10679880B2 (en) | 2016-09-27 | 2020-06-09 | Ichor Systems, Inc. | Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same |
US10303189B2 (en) | 2016-06-30 | 2019-05-28 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10663337B2 (en) | 2016-12-30 | 2020-05-26 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for controlling flow and method of calibrating same |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6421512A (en) * | 1987-07-16 | 1989-01-24 | Nec Corp | Gas mass flow rate control device |
JPH0894410A (en) * | 1994-09-22 | 1996-04-12 | Oval Corp | Flow-rate arithmetic device |
JP2000066732A (en) * | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Tadahiro Omi | Fluid variable-type flow rate controller |
JP2000323464A (en) * | 1999-04-22 | 2000-11-24 | Tokyo Electron Ltd | Apparatus and method for supplying gas for semiconductor manufacturing apparatus |
JP2000322130A (en) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Fujikin Inc | Method for variable fluid flow rate control by flow factor and its device |
JP2003195948A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Tadahiro Omi | Improved pressure type flow control device |
JP2004132891A (en) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Yazaki Corp | Flow meter |
-
2005
- 2005-05-23 JP JP2005150057A patent/JP4572139B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6421512A (en) * | 1987-07-16 | 1989-01-24 | Nec Corp | Gas mass flow rate control device |
JPH0894410A (en) * | 1994-09-22 | 1996-04-12 | Oval Corp | Flow-rate arithmetic device |
JP2000066732A (en) * | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Tadahiro Omi | Fluid variable-type flow rate controller |
JP2000323464A (en) * | 1999-04-22 | 2000-11-24 | Tokyo Electron Ltd | Apparatus and method for supplying gas for semiconductor manufacturing apparatus |
JP2000322130A (en) * | 1999-05-10 | 2000-11-24 | Fujikin Inc | Method for variable fluid flow rate control by flow factor and its device |
JP2003195948A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Tadahiro Omi | Improved pressure type flow control device |
JP2004132891A (en) * | 2002-10-11 | 2004-04-30 | Yazaki Corp | Flow meter |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015503134A (en) * | 2011-09-29 | 2015-01-29 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Method for in-situ calibration of flow controller |
KR102062596B1 (en) | 2011-09-29 | 2020-01-06 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Methods for in-situ calibration of a flow controller |
US10222810B2 (en) | 2011-09-29 | 2019-03-05 | Applied Materials, Inc. | Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber |
US9772629B2 (en) | 2011-09-29 | 2017-09-26 | Applied Materials, Inc. | Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber |
US9556966B2 (en) | 2011-09-30 | 2017-01-31 | Fujikin Incorporated | Gas supplying apparatus |
KR20140053397A (en) | 2011-09-30 | 2014-05-07 | 가부시키가이샤 후지킨 | Gas supply device |
US9471065B2 (en) | 2012-11-02 | 2016-10-18 | Fujikin Incorporated | Integrated type gas supplying apparatus |
WO2015064035A1 (en) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | 株式会社フジキン | Pressure-type flow rate control device |
US10386863B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-08-20 | Fuiikin Incorporated | Pressure-type flow controller |
KR20180108851A (en) | 2013-12-05 | 2018-10-04 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
KR20160028474A (en) | 2013-12-05 | 2016-03-11 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
US10372145B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-08-06 | Fujikin Incorporated | Pressure-type flow rate control device |
KR20160040285A (en) | 2014-01-21 | 2016-04-12 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow control device and method for preventing overshooting at start of flow control performed by said device |
JP2015138338A (en) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | Pressure type flow rate control apparatus, and preventing method for overshooting of the same upon starting flow rate control |
WO2015111391A1 (en) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | 株式会社フジキン | Pressure-type flow control device and method for preventing overshooting at start of flow control performed by said device |
KR20160114705A (en) | 2014-07-23 | 2016-10-05 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
KR20180108906A (en) | 2014-07-23 | 2018-10-04 | 가부시키가이샤 후지킨 | Pressure-type flow rate control device |
US10261522B2 (en) | 2014-07-23 | 2019-04-16 | Fujikin Incorporated | Pressure-type flow rate control device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4572139B2 (en) | 2010-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4572139B2 (en) | Improved pressure flow controller | |
JP5635160B2 (en) | Discontinuous flow rate switching control method for fluid using pressure type flow rate control device | |
JP4204400B2 (en) | Differential pressure type flow meter and differential pressure type flow control device | |
JP2010216807A (en) | Mass flow meter, mass flow controller, mass flow meter system including these, and mass flow controller system | |
JP4856905B2 (en) | Flow rate variable type flow control device | |
KR100537445B1 (en) | Pressure sensor, pressure controller and temperature drift corrector of pressure type flow controller | |
TW455751B (en) | Fluid-switchable flow rate controller | |
KR100427563B1 (en) | Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device | |
JP4585035B2 (en) | Flow rate ratio controller | |
CN101636641B (en) | Controller gain scheduling for mass flow controllers | |
JP5091821B2 (en) | Mass flow controller | |
JP5175965B2 (en) | Flow rate variable type flow control device | |
TW201506567A (en) | Mass flow controller and method for improved performance across fluid types | |
JP2000323464A (en) | Apparatus and method for supplying gas for semiconductor manufacturing apparatus | |
JP6754648B2 (en) | Inspection method of gas supply system, calibration method of flow controller, and calibration method of secondary reference device | |
WO2006065528A1 (en) | System and method for measuring flow | |
KR20120093788A (en) | Fluid control device and pressure control device | |
JP4977669B2 (en) | Differential pressure type flow meter | |
JP3910139B2 (en) | Fluid flow control method using pressure type flow control device | |
JP4300846B2 (en) | Flow sensor, flow meter and flow controller | |
US20210303007A1 (en) | Flow Rate Control System, Control Method of FlowRate Control System, and Control Program of FlowRate Control System | |
US11841720B2 (en) | Flow rate controller, flow rate control method, and program recording medium for flow rate controller | |
US10884435B2 (en) | Pressure type flow rate control device, and flow rate calculating method and flow rate control method for same | |
JP5110006B2 (en) | Flow sensor, flow meter and flow controller | |
JP2009116904A (en) | Pressure type flow control device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100329 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100412 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100430 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100707 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100714 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100806 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100816 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4572139 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |