JP2006306977A - Composite, prepreg, metal foil-clad laminated board, printed-wiring board, multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、複合体、プリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線板及び多層プリント配線板並びにそれらの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a composite, a prepreg, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, a multilayer printed wiring board, and methods for producing them.
近年、導電ペーストにて層間の電気的接続を行う多層プリント配線板が知られている(例えば、特許文献1参照)。かかる多層プリント配線板の製造方法を図8に基づいて説明する。まず(A)に示すように、芳香性ポリアミド繊維に熱硬化性エポキシ樹脂を含浸させた多孔質基材802の両面にポリエステル等の離型フィルム803をラミネートする。次に(B)に示すように、多孔質基材802の所定の箇所にレーザ加工法により貫通孔804を形成する。次に(C)に示すように、貫通孔804に導電ペースト805を充填する。充填する方法としては、貫通孔804を有する多孔質基材802をスクリーン印刷機のテーブル上に設置し、直接導電ペースト805を離型フィルム503の上から印刷する。この際、印刷面の離型フィルム803は印刷マスクの役割と多孔質基材802表面の汚染防止の役割を果たしている。次に多孔質基材802の両面から離型フィルム803を剥離する。
In recent years, a multilayer printed wiring board that performs electrical connection between layers using a conductive paste is known (see, for example, Patent Document 1). A method for manufacturing such a multilayer printed wiring board will be described with reference to FIG. First, as shown in (A), a
次に、多孔質基材802の両面に銅箔等の金属箔808を貼り付ける。この状態で加熱加圧することにより、(D)に示すように、多孔質基材802と金属箔808とが接着される。この工程において、多孔質基材802は圧縮され、その厚さは薄くなる。その際、貫通孔804内の導電ペースト805も圧縮されるが、そのときに導電ペースト中のバインダ成分が押し出され、導電成分同士および導電成分と金属箔808間の結合が強固になり、導電ペースト805中の導電物質が緻密化され、層間の電気的接続が得られる。その後、多孔質基材802の構成成分である熱硬化性樹脂および導電ペースト805が硬化する。最後に(E)に示すように、金属箔808を所定のパターンに選択エッチングして両面プリント配線板が完成する。
しかしながら、上述のものを始めとする従来のプリント配線板は、その製造の際に配線板上に打痕が発生したり、配線の断線が発生したりすることがあり、十分な信頼性を有していないものがあった。特に、高密度化を図るために層厚を薄くする場合に、上記の不良が多発する傾向にあった。 However, conventional printed wiring boards such as those described above may have dents on the wiring board during production or disconnection of the wiring, and have sufficient reliability. There was something that did not. In particular, when the layer thickness is reduced to increase the density, the above-described defects tend to occur frequently.
そこで、本発明者らは、上記不良の原因について詳細に検討した結果、絶縁基板として用いる多孔質基材から脱落する樹脂粉又は繊維が上記不良の大きな原因であることを見出した。 Thus, as a result of examining the cause of the defect in detail, the present inventors have found that the resin powder or fiber that falls off the porous base material used as the insulating substrate is a major cause of the defect.
ここで、絶縁基板の材料として樹脂粉又繊維の脱落を抑制することのみ考慮したものを選択しても、プリント配線板に用いる絶縁基板に必要な接着信頼性を十分に有していなければ、結果として十分な信頼性を有するプリント配線板は得られない。 Here, even if the material for the insulating substrate is selected only considering the suppression of the dropping of resin powder or fiber, if it does not have sufficient adhesion reliability necessary for the insulating substrate used for the printed wiring board, As a result, a printed wiring board having sufficient reliability cannot be obtained.
本発明は、上記の課題を解決するものであり、接着信頼性に十分優れ、かつ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維等のケバの発生が十分抑制されている複合体を提供することを目的とする。また、本発明は、かかる複合体を用いたプリプレグ、金属箔張積層板、プリント配線板及び多層プリント配線板並びにそれらの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention solves the above-described problems, and provides a composite that is sufficiently excellent in adhesion reliability and that sufficiently suppresses the occurrence of scraps such as resin powder or fibers that may drop off. Objective. Another object of the present invention is to provide a prepreg, a metal foil-clad laminate, a printed wiring board, a multilayer printed wiring board, and a method for producing them using such a composite.
上記目的を達成するために、本発明の複合体は、繊維シートに硬化性樹脂組成物を含浸させてなる複合体であって、硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaであることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the composite of the present invention is a composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition, and the cured product of the curable resin composition has a storage elastic modulus at 20 ° C. 100 to 2000 MPa.
本発明の複合体は、硬化物の貯蔵弾性率が上記の範囲となる硬化性樹脂組成物が繊維シートに含浸されていることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明の複合体を絶縁基板の材料として用いることにより、信頼性に優れるプリント配線板を製造することができる。 In the composite of the present invention, the fiber sheet is impregnated with a curable resin composition in which the storage modulus of the cured product falls within the above range, thereby sufficiently suppressing the occurrence of resin powder or fibers that may fall off. In addition, the adhesive reliability is sufficiently excellent. Therefore, by using the composite of the present invention as a material for an insulating substrate, a printed wiring board having excellent reliability can be manufactured.
硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100MPa未満であると、取扱い性及び寸法安定性が低下して、十分な接着信頼性を得ることが困難となり、一方、2000MPaを越えると、硬化した樹脂が脆くなるために脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制し難くなる。 When the storage elastic modulus at 20 ° C. of the cured product of the curable resin composition is less than 100 MPa, the handleability and dimensional stability are lowered, and it becomes difficult to obtain sufficient adhesion reliability. If it exceeds, the cured resin becomes brittle and it is difficult to sufficiently suppress the generation of resin powder or fibers that may fall off.
更に、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物が粘弾性樹脂を含有することが好ましい。このような複合体は、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生がより確実に抑制され、かつ、一層優れた接着信頼性を有するものとなっている。 Furthermore, in the composite of the present invention, the curable resin composition preferably contains a viscoelastic resin. Such a composite is more reliably suppressed from generating resin powder or fibers that may fall off, and has better adhesion reliability.
また、本発明の複合体において、上記硬化性樹脂組成物は、重量平均分子量が30000以上であるアクリル重合体を含有し、このアクリル重合体はグリシジルアクリレートを重合成分として2〜20質量%含み、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。なお、エポキシ価は、HLC測定法により求めた値を採用する。 Further, in the composite of the present invention, the curable resin composition contains an acrylic polymer having a weight average molecular weight of 30000 or more, and the acrylic polymer contains 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component, The epoxy value is preferably 2 to 36. In addition, the value calculated | required by the HLC measuring method is employ | adopted for an epoxy value.
アクリル重合体の重量平均分子量が30000未満であると、柔軟性が低下し脆くなるの傾向にある。また、アクリル重合体に重合成分として含まれるグリシジルアクリレートが、2質量%未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、20質量%を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制し難くなる傾向にある。更に、アクリル重合体のエポキシ価が、2未満であると、硬化物のガラス転移温度Tgが低下して耐熱性が不十分となる傾向にあり、一方、36を超えると、硬化物の貯蔵弾性率が上昇して樹脂粉又は繊維の発生を十分に抑制し難くなる傾向にある。 When the weight average molecular weight of the acrylic polymer is less than 30,000, the flexibility tends to be lowered and the coating becomes fragile. Further, if the glycidyl acrylate contained as a polymerization component in the acrylic polymer is less than 2% by mass, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to be lowered and the heat resistance tends to be insufficient, whereas 20% by mass. If it exceeds 1, the storage elastic modulus of the cured product tends to increase, making it difficult to sufficiently suppress the generation of resin powder or fibers. Furthermore, when the epoxy value of the acrylic polymer is less than 2, the glass transition temperature Tg of the cured product tends to be lowered and the heat resistance tends to be insufficient. The rate tends to increase and it becomes difficult to sufficiently suppress the generation of resin powder or fibers.
更に、本発明の複合体において、上記繊維シートは、10〜200μmの厚みを有するガラス布であることが好ましい。かかる複合体によれば、一層十分な機械的強度を有するとともに寸法安定性が向上し、プリント配線板の高密度化を図ることがより容易となる絶縁基板を得ることができる。 Furthermore, in the composite of the present invention, the fiber sheet is preferably a glass cloth having a thickness of 10 to 200 μm. According to such a composite, it is possible to obtain an insulating substrate that has a further sufficient mechanical strength, improves dimensional stability, and makes it easier to increase the density of the printed wiring board.
また、本発明の複合体の総厚さが100μm以下であることが好ましい。複合体の総厚さが、100μm以下であることにより、プリント配線板を構成する絶縁基板として用いる場合に、高密度化を図ることがより容易となる。 Further, the total thickness of the composite of the present invention is preferably 100 μm or less. When the total thickness of the composite is 100 μm or less, it is easier to increase the density when used as an insulating substrate constituting a printed wiring board.
更に、本発明の複合体において、複合体が貫通孔を有することが好ましい。かかる複合体によれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このような複合体を用いることで信頼性に優れるIVH構造のプリント配線板を歩留まりよく製造することができる。 Furthermore, in the composite of the present invention, the composite preferably has a through hole. According to such a composite, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in a predetermined position in advance, and a printed wiring board having an IVH structure excellent in reliability by using such a composite is provided. It can be manufactured with good yield.
また、本発明のプリプレグは、上記本発明の複合体において、硬化性樹脂組成物が半硬化されてなることを特徴とする。 The prepreg of the present invention is characterized in that, in the composite of the present invention, the curable resin composition is semi-cured.
本発明のプリプレグは、上述の硬化性樹脂組成物を用いることにより、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維の発生が十分に抑制され、且つ、十分に優れた接着信頼性を有するものとなっている。したがって、本発明のプリプレグを用いてIVH構造を有するプリント配線板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線板を得ることができる。 By using the curable resin composition described above, the prepreg of the present invention is sufficiently suppressed in the generation of resin powder or fibers that may fall off and has sufficiently excellent adhesion reliability. Yes. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the prepreg of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained.
更に、本発明のプリプレグは貫通孔を有することが好ましい。かかるプリプレグによれば、予め所定位置に貫通孔が設けられていることで貫通孔を形成する工程を省略でき、このようなプリプレグを用いることで信頼性に優れるIVH構造のプリント配線板をより容易に製造することができる。 Furthermore, the prepreg of the present invention preferably has a through hole. According to such a prepreg, the step of forming the through-hole can be omitted by providing the through-hole in a predetermined position in advance, and the use of such a prepreg makes it easier to produce a printed wiring board having an IVH structure that is excellent in reliability. Can be manufactured.
また、本発明の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明の複合体において、貫通孔に導電体を充填し、複合体の少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。 Further, the metal foil-clad laminate of the present invention is a composite of the present invention having a through hole, in which a through hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the composite. It is characterized by being obtained.
かかる金属箔張積層板は、上記本発明の複合体を用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有するプリント配線板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線板を歩留まりよく得ることができる。 By using the composite of the present invention, such a metal foil-clad laminate is sufficiently suppressed from falling off the resin powder or fibers from the metal foil-clad laminate and has sufficiently excellent adhesion reliability. is doing. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the metal foil tension laminated board of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained with a sufficient yield.
また、本発明の金属箔張積層板は、貫通孔を有する本発明のプリプレグにおいて、貫通孔に導電体を充填し、プリプレグの少なくとも一面上に金属箔を配したものを、加熱加圧して得られることを特徴とする。 Further, the metal foil-clad laminate of the present invention is obtained by heating and pressurizing a prepreg of the present invention having a through hole, in which the through hole is filled with a conductor and a metal foil is disposed on at least one surface of the prepreg. It is characterized by being able to.
かかる金属箔張積層板は、上記本発明のプリプレグを用いることにより、金属箔張積層板からの樹脂粉又は繊維の脱落が十分に抑制されているとともに、十分に優れた接着信頼性を有している。したがって、本発明の金属箔張積層板を用いてIVH構造を有するプリント配線板を製造する場合、信頼性に優れるプリント配線板を歩留まりよく得ることができる。 Such a metal foil-clad laminate has a sufficiently excellent adhesion reliability while sufficiently preventing the resin powder or fibers from falling off the metal foil-clad laminate by using the prepreg of the present invention. ing. Therefore, when manufacturing the printed wiring board which has IVH structure using the metal foil tension laminated board of this invention, the printed wiring board excellent in reliability can be obtained with a sufficient yield.
本発明のプリント配線板は、上述の複合体を含有する絶縁基板の厚さ方向に開けられた貫通孔に導電体が充填され、絶縁基板の両側に備えられた所定パターンを有する導電体層が導電体によって互いに電気的に接続されているプリント配線板であって、絶縁基板の両面に接着剤層が形成され、絶縁基板がフィルム状であり、少なくとも一方の導電体層が接着剤層部分に埋設されていることを特徴とする。 In the printed wiring board of the present invention, a conductor is filled in a through-hole opened in the thickness direction of an insulating substrate containing the above-described composite, and a conductor layer having a predetermined pattern provided on both sides of the insulating substrate A printed wiring board that is electrically connected to each other by a conductor, wherein an adhesive layer is formed on both sides of the insulating substrate, the insulating substrate is in the form of a film, and at least one of the conductor layers is formed on the adhesive layer portion. It is characterized by being buried.
本発明のプリント配線板は、上述の複合体を含有する絶縁基板の厚さ方向に開けられた貫通孔に導電体が充填され、絶縁基板の両側に備えられた所定パターンを有する導電体層が導電体によって互いに電気的に接続されているプリント配線板であって、絶縁基板の両面に接着剤層が形成され、絶縁基板がフィルム状であり、かつ少なくとも一方の導電体層が接着剤層に埋設され、絶縁基板が厚さ方向に歪んでいることを特徴とする。 In the printed wiring board of the present invention, a conductor is filled in a through-hole opened in the thickness direction of the insulating substrate containing the above-described composite, and a conductor layer having a predetermined pattern provided on both sides of the insulating substrate is provided. A printed wiring board that is electrically connected to each other by a conductor, wherein an adhesive layer is formed on both sides of the insulating substrate, the insulating substrate is in the form of a film, and at least one of the conductor layers is an adhesive layer It is buried and the insulating substrate is distorted in the thickness direction.
図8で示したような従来のプリント配線板の構成及び製造方法において、貫通孔804を微細にすると、初期接続抵抗値が高くなり、そのばらつきも大きくなる。また、温度サイクル試験やプレッシャークッカー試験等の信頼性試験により接続抵抗値が変動するという課題がある。これは、貫通孔804を微細にすると、貫通孔804の径と多孔質基材802の厚さとの比であるアスペクト比が1に近づき、電気的接続を安定化させるために必要な圧縮率が得られなくなるためと考えられる。
In the configuration and manufacturing method of the conventional printed wiring board as shown in FIG. 8, when the through
また、離型フィルム803を剥離する工程でも、貫通孔804の径が小さくなると貫通孔804端部での離型フィルム803の影響が無視できなくなり、離型フィルム803を剥離する際に導電ペースト805が離型フィルム803と共に剥離してしまい、結果として貫通孔804内への導電ペースト805の充填が阻害されるという問題を有している。
Even in the step of peeling the
一方、本発明のプリント配線板では、貫通孔内の導電体は充分圧縮され、高信頼性を有した微細ビアホールを形成することができる。すなわち、少なくとも一方の導電体層が接着剤層に埋設されることにより、貫通孔内の導電体が十分に圧縮され、その結果、導電体の導体成分が緻密化され、初期接続抵抗値が低く、高信頼性を有するビアホール接続が可能になる。 On the other hand, in the printed wiring board of the present invention, the conductor in the through hole is sufficiently compressed, and a fine via hole having high reliability can be formed. That is, by burying at least one of the conductor layers in the adhesive layer, the conductor in the through hole is sufficiently compressed. As a result, the conductor component of the conductor is densified and the initial connection resistance value is low. Highly reliable via-hole connection is possible.
本発明のプリント配線板の製造方法は、両面に接着剤層が形成された上述の複合体を含有する絶縁基板に貫通孔を設ける工程と、貫通孔に導電体を充填する工程と、絶縁基板の少なくとも片面に、所定のパターンを有しかつ接着剤層とほぼ等しい厚さを有するか又はそれよりも厚い導電体層が形成された支持基材を重ねる工程と、支持基材を重ねた絶縁基板を加熱加圧して圧縮することにより、接着剤層に導電体層を埋設する工程と、導電体層を残して支持基材を除去する工程とを有することを特徴とする。 The method for producing a printed wiring board according to the present invention includes a step of providing a through hole in an insulating substrate containing the above composite having an adhesive layer formed on both sides, a step of filling a conductive material in the through hole, and an insulating substrate. And a step of stacking a support substrate having a predetermined pattern and a conductor layer having a thickness substantially equal to or thicker than that of the adhesive layer on at least one surface of the substrate, and insulating the stack of the support substrate It is characterized by having a step of embedding a conductor layer in the adhesive layer by heating and pressurizing the substrate, and a step of removing the supporting base material while leaving the conductor layer.
これによると、支持基材によりパターニングした導電体層を支持しておき、積層プレス後に支持基材を除去するという簡便な方法で、微細な導電体層との高い接続信頼性を備えたビアホールを有するプリント配線板を提供できる。 According to this, a via hole having high connection reliability with a fine conductor layer can be formed by a simple method of supporting a patterned conductor layer by a support substrate and removing the support substrate after laminating press. The printed wiring board which has can be provided.
本発明のプリント配線板の製造方法は、上述の複合体を含有する絶縁基板の両面に、片面に接着剤層が形成された離型フィルムを接着剤層と絶縁基板とが当接するように貼り合わせる工程と、離型フィルムを備えた絶縁基板に貫通孔を設ける工程と、貫通孔に導電体を充填する工程と、接着剤層を絶縁基板に残して離型フィルムを剥離する工程と、絶縁基板の少なくとも片面に、所定のパターンを有しかつ接着剤層とほぼ等しい厚さを有するか又はそれよりも厚い導電体層が形成された支持基材を重ねる工程と、支持基材を重ねた絶縁基板を加熱加圧して圧縮することにより、接着剤層に導電体層を埋設する工程と、導電体層を残して支持基材を除去する工程とを有することを特徴とする。 In the method for producing a printed wiring board of the present invention, a release film having an adhesive layer formed on one side is attached to both sides of an insulating substrate containing the above composite so that the adhesive layer and the insulating substrate are in contact with each other. A step of combining, a step of providing a through hole in an insulating substrate provided with a release film, a step of filling the through hole with a conductor, a step of leaving the adhesive layer on the insulating substrate and peeling the release film, and an insulation A step of stacking a support substrate having a predetermined pattern and a conductor layer having a predetermined pattern and a thickness substantially equal to or thicker than the adhesive layer on at least one surface of the substrate; It is characterized by comprising a step of embedding a conductor layer in an adhesive layer by heating and pressurizing the insulating substrate, and a step of removing the supporting substrate while leaving the conductor layer.
これによると、絶縁基板の両面に薄い半硬化状態の接着剤層を同時に形成するといった製造上の困難を回避することができる。また、導電体層が形成された支持基材を積層プレスした後、支持基材を除去するという簡便な方法で、微細な導電体層との高い接続信頼性を備えたビアホールを有するプリント配線板を提供することができる。 According to this, it is possible to avoid manufacturing difficulties such as simultaneously forming thin semi-cured adhesive layers on both surfaces of the insulating substrate. In addition, a printed wiring board having a via hole having high connection reliability with a fine conductor layer by a simple method of removing the support substrate after laminating and pressing the support substrate on which the conductor layer is formed Can be provided.
加熱加圧する前の絶縁基板の表面に設けられた接着剤層の厚さが、接着剤層に埋設される導電体層の厚さとほぼ等しいか薄いと、絶縁基板とほぼ面一になるまで導電体層を埋め込むことができ、圧縮時に接着剤層が横方向に拡がることによる導電体(導電ペースト)の圧縮力の低下を最小にすることが可能となる。 When the thickness of the adhesive layer provided on the surface of the insulating substrate before heating and pressing is substantially equal to or thinner than the thickness of the conductor layer embedded in the adhesive layer, the conductive layer is conductive until it is substantially flush with the insulating substrate. The body layer can be embedded, and it is possible to minimize the decrease in the compression force of the conductor (conductive paste) due to the adhesive layer spreading in the lateral direction during compression.
本発明において、導電体層を残して支持基材を除去する工程が、支持基材を選択的に溶解除去する工程であると好ましい。支持基材を溶解除去することにより、導電体層に機械的な外力が加えられることがないので、断線や変形がない微細な導電体層を有するプリント配線板を歩留まり良く製造することができる。また、大面積のプリント配線板でも容易に製造することができる。 In the present invention, it is preferable that the step of removing the supporting substrate while leaving the conductor layer is a step of selectively dissolving and removing the supporting substrate. By dissolving and removing the supporting base material, no mechanical external force is applied to the conductor layer, so that a printed wiring board having a fine conductor layer without disconnection or deformation can be manufactured with high yield. Moreover, even a large-sized printed wiring board can be easily manufactured.
本発明の第1の多層プリント配線板は、導電体が充填された厚さ方向の貫通孔を備えた上述の複合体を含有する絶縁基板が2以上積層された多層プリント配線板であって、絶縁基板がフィルムを備え、多層プリント配線板の少なくとも一方の表面には接着剤層が設けられ、接着剤層部分に導電体層が埋設されて絶縁基板の導電体と電気的に接続されていることを特徴とする。 The first multilayer printed wiring board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which two or more insulating substrates containing the above-mentioned composite having a through hole in the thickness direction filled with a conductor are laminated, The insulating substrate includes a film, and an adhesive layer is provided on at least one surface of the multilayer printed wiring board, and the conductive layer is embedded in the adhesive layer portion and is electrically connected to the conductive material of the insulating substrate. It is characterized by that.
本発明の第1の多層プリント配線板は、導電体が充填された厚さ方向の貫通孔を備えた上述の複合体を含有する絶縁基板が2以上積層された多層プリント配線板であって、絶縁基板がフィルムを備え、多層プリント配線板の少なくとも一方の表面には接着剤層が設けられ、接着剤層中に導電体層が埋設されてフィルムが厚さ方向に歪んで絶縁基板の導電体と電気的に接続されていることを特徴とする。 The first multilayer printed wiring board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which two or more insulating substrates containing the above-mentioned composite having a through hole in the thickness direction filled with a conductor are laminated, The insulating substrate includes a film, and an adhesive layer is provided on at least one surface of the multilayer printed wiring board. The conductor layer is embedded in the adhesive layer, and the film is distorted in the thickness direction so that the conductor of the insulating substrate is provided. It is electrically connected to.
かかる構成によると、高信頼性で微細なビアホールを有する多層プリント配線板を提供できる。 According to this configuration, a multilayer printed wiring board having highly reliable and fine via holes can be provided.
本発明の第1の多層プリント配線板の製造方法は、両面に接着剤層が形成された上述の複合体を含有する絶縁基板に貫通孔を設ける工程と、貫通孔に導電体を充填する工程と、絶縁基板の少なくとも片面に、所定のパターンを有しかつ接着剤層とほぼ等しい厚さを有するか又はそれよりも厚い導電体層が形成された支持基材を重ねる工程と、支持基材を重ねた絶縁基板を加熱加圧して圧縮することにより、接着剤層に導電体層を埋設する工程と、導電体層を残して支持基材を除去する工程とを有することを特徴とする。かかる構成によると、簡易な多層プリント配線板の製造方法を提供できる。 The first method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention includes a step of providing a through hole in an insulating substrate containing the above-described composite having an adhesive layer formed on both sides, and a step of filling the through hole with a conductor. And a step of superimposing a support base material having a predetermined pattern and having a conductor layer having a predetermined pattern and a thickness substantially equal to or thicker than the adhesive layer on at least one surface of the insulating substrate; It is characterized by having a step of embedding a conductor layer in an adhesive layer by heating and pressing an insulating substrate on which the layers are stacked, and a step of removing a supporting base material while leaving the conductor layer. According to this configuration, a simple method for manufacturing a multilayer printed wiring board can be provided.
本発明の第2の多層プリント配線板は、第1の多層プリント配線板の表層に形成された所定パターンを有する導電体層、及び所定の絶縁体層と導電体層とを有するコア基板の表層の導電体層が、両面に接着剤層と導電体が充填された貫通孔とをそれぞれ備えた絶縁基板を介して電気的に接続されており、第1の多層プリント配線板の表層の導電体層及びコア基板の表層の導電体層のうちの少なくとも一方が接着剤層に埋設されていることを特徴とする。 The second multilayer printed wiring board of the present invention is a conductor layer having a predetermined pattern formed on a surface layer of the first multilayer printed wiring board, and a surface layer of a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer. Are electrically connected to each other through insulating substrates each having an adhesive layer and a through hole filled with the conductor on both sides, and the conductor on the surface layer of the first multilayer printed wiring board. At least one of the layer and the conductor layer on the surface of the core substrate is embedded in the adhesive layer.
かかる構成によると、コア基板の表層の導電体層と、複数層からなる微細な配線と微細なビアホールを有する第1の多層プリント配線板の表層における導電体層とが電気的に接続された多層プリント配線板を提供することができる。 According to such a configuration, a multilayer in which the conductor layer on the surface layer of the core substrate is electrically connected to the conductor layer on the surface layer of the first multilayer printed wiring board having fine wiring and fine via holes made of a plurality of layers. A printed wiring board can be provided.
本発明の第2の多層プリント配線板の製造方法は、第1の多層プリント配線板を、所定の絶縁体層と導電体層とを有するコア基板に、両面に接着剤層と導電体が充填された貫通孔とをそれぞれ備えた絶縁基板を介して重ねる工程と、絶縁基板を介して重ねられたコア基板と多層プリント配線板とを加熱加圧することにより、多層プリント配線板の表層に形成された導電体層及びコア基板の表層の導電体層のうちの少なくとも一方を接着剤層に埋設する工程とを有することを特徴とする。かかる構成によると、簡易な多層プリント配線板の製造方法を提供できる。 In the second multilayer printed wiring board manufacturing method of the present invention, the first multilayer printed wiring board is filled in a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer with an adhesive layer and a conductor on both sides. Are formed on the surface layer of the multilayer printed wiring board by heating and pressurizing the core substrate and the multilayer printed wiring board stacked via the insulating substrate. And a step of embedding at least one of the conductor layer and the conductor layer on the surface of the core substrate in the adhesive layer. According to this configuration, a simple method for manufacturing a multilayer printed wiring board can be provided.
また、加熱加圧する前の絶縁基板の表面上に設けられた接着剤層の厚さが、接着剤層に埋設される導電体層の厚さとほぼ等しいか薄いことが好ましい。 Moreover, it is preferable that the thickness of the adhesive layer provided on the surface of the insulating substrate before heating and pressing is substantially equal to or thinner than the thickness of the conductor layer embedded in the adhesive layer.
本発明において、加熱加圧する前の絶縁基板が、接着剤層の構成材料を収容することができる空間を有すると、加熱加圧時に溶融した接着剤層の構成材料を絶縁基板中に収容することにより、導電体層が埋め込まれることによる絶縁基板の歪みを抑制することができる。 In the present invention, when the insulating substrate before being heated and pressurized has a space capable of accommodating the constituent material of the adhesive layer, the constituent material of the adhesive layer melted during the heating and pressing is accommodated in the insulating substrate. Thus, distortion of the insulating substrate due to the embedded conductor layer can be suppressed.
本発明において、加熱加圧する前の絶縁基板が両面に設けられた接着剤層の構成材料が行き来できる微細な孔を有すると、加熱加圧時に溶融した接着剤層の構成材料を絶縁基板の上下に流すことができるため、絶縁基板の歪みを更に抑制することができる。 In the present invention, when the insulating substrate before heating and pressing has fine holes through which the constituent material of the adhesive layer provided on both sides can go back and forth, the constituent material of the adhesive layer melted at the time of heating and pressing is transferred to the upper and lower sides of the insulating substrate. Therefore, distortion of the insulating substrate can be further suppressed.
本発明では、加熱加圧する前の絶縁基板をフィルム状にする又は絶縁基板にフィルムを備えることにより、例えば有機材料を主体とするフィルムであると、接着剤層を半硬化状態の有機樹脂とすることもできる。また、フィルム材料に高耐熱、高剛性のものを選ぶことにより、半導体実装に適した性質を持たせることができる。また、接着剤層の材料に電気絶縁性や埋め込み性を考慮したものを自由に選ぶことができ、高性能のプリント配線板を実現できる。さらにフィルムは均一な組成を有した薄いものを作成することができるので、微細径のビアホールを形成するには好都合である。 In the present invention, the insulating substrate before being heated and pressurized is formed into a film or provided with a film on the insulating substrate, for example, when the film is mainly composed of an organic material, the adhesive layer is a semi-cured organic resin. You can also Further, by selecting a film material having a high heat resistance and a high rigidity, it is possible to impart properties suitable for semiconductor mounting. In addition, the material of the adhesive layer can be freely selected in consideration of electrical insulation and embedding properties, and a high-performance printed wiring board can be realized. Further, since a thin film having a uniform composition can be produced, it is convenient for forming a via hole having a small diameter.
本発明において、貫通孔内に充填する導電体が導電ペーストであると、貫通孔内の導電ペーストに圧力が印加された際、導電ペースト中の樹脂成分が貫通孔内より排出され導電ペースト中の導体成分が緻密化される結果、初期接続抵抗値が低く、高信頼性を有するビアホール接続を得やすくなるので好ましい。この場合において、導電体層と絶縁基板との間に導電ペーストの樹脂成分が存在すると、初期接続抵抗値が低く、高信頼性を有するビアホール接続を一層得やすくなるのでより好ましい。 In the present invention, if the conductor filled in the through hole is a conductive paste, when pressure is applied to the conductive paste in the through hole, the resin component in the conductive paste is discharged from the through hole and As a result of the densification of the conductor component, the initial connection resistance value is low, and it becomes easy to obtain highly reliable via-hole connection, which is preferable. In this case, the presence of the resin component of the conductive paste between the conductor layer and the insulating substrate is more preferable because the initial connection resistance value is low and it becomes easier to obtain a highly reliable via hole connection.
本発明において貫通孔が導電体層で覆われていると、充填された導電体が表面に露出し難くなる。したがって、このような貫通孔を基板の表層に設けると有効である。 In the present invention, when the through hole is covered with the conductor layer, the filled conductor is difficult to be exposed on the surface. Therefore, it is effective to provide such a through hole in the surface layer of the substrate.
貫通孔の一部が露出するように導電体層が形成され、これを内層に使用すると、ビアホール径よりも小さい配線でビアホールを圧縮するランドレスビアを実現でき、さらに微細な配線を形成することができる。 A conductor layer is formed so that a part of the through hole is exposed, and if this is used for the inner layer, a landless via that compresses the via hole with a wiring smaller than the via hole diameter can be realized, and a finer wiring can be formed. Can do.
少なくとも貫通孔に向かい合う導電体層表面が粗化処理されていると、導電体層と貫通孔内に充填する導電体との接触面積が増え、また、導電体層と接着剤層との密着性も向上するので、微細ビアホールの信頼性を更に高めるのに有効である。 If at least the surface of the conductor layer facing the through hole is roughened, the contact area between the conductor layer and the conductor filled in the through hole is increased, and the adhesion between the conductor layer and the adhesive layer is increased. Therefore, it is effective to further improve the reliability of the fine via hole.
本発明において絶縁基板に用いられる複合体が半硬化していてもよく、接着剤層が熱硬化性樹脂であってもよい。これにより、絶縁基板に上記複合体を用いているため、接着剤層を特別に付与する工程が不要となりプリント配線板や多層プリント配線板を容易に製造できる。 In the present invention, the composite used for the insulating substrate may be semi-cured, and the adhesive layer may be a thermosetting resin. Thereby, since the said composite_body | complex is used for an insulated substrate, the process of providing an adhesive bond layer specially becomes unnecessary, and a printed wiring board and a multilayer printed wiring board can be manufactured easily.
本発明において、導電体層が接着剤層部分に埋設されている側の表面が平坦であると、多層に積層しても表面に凹凸が発生することなく、高多層にできるので好ましい。 In the present invention, it is preferable that the surface on the side where the conductor layer is embedded in the adhesive layer portion is flat, because even if the conductor layer is laminated in multiple layers, unevenness is not generated on the surface.
本発明の第3の多層プリント配線板は、第1の多層プリント配線板、及び所定の絶縁体層と導電体層とを有するコア基板が、導電体が充填された貫通孔を備えた基板接合体を介して積層されてなり、第1の多層プリント配線板の表層に形成された所定パターンを有する導電体層とコア基板の表層の導電体層とが導電体を介して電気的に接続されており、積層前の基板接合体は被圧縮性を有するものであることを特徴とする。 A third multilayer printed wiring board according to the present invention includes a first multilayer printed wiring board, and a substrate bonding in which a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer has a through hole filled with a conductor. The conductor layer having a predetermined pattern formed on the surface layer of the first multilayer printed wiring board and the conductor layer on the surface layer of the core substrate are electrically connected via the conductor. In addition, the substrate bonded body before lamination has compressibility.
かかる構成によると、コア基板の表層の導電体層と、複数層からなる微細な配線と微細なビアホールを有する第1の多層プリント配線板の表層の導電体層とが接続された多層プリント配線板を提供することができる。 According to such a configuration, the multilayer printed wiring board in which the conductor layer on the surface layer of the core substrate and the conductor layer on the surface layer of the first multilayer printed wiring board having fine wirings and fine via holes connected to each other are connected. Can be provided.
ここで、「基板接合体が被圧縮性を有する」とは基板接合体が圧縮可能な性質を有することを意味し、例えば基板接合体が内部に空孔を有する多孔質基材を含有する等により圧縮可能な性質を有することをいう。基板接合体が多孔質基材からなる場合、空孔率が2〜35体積%であると好ましい。空孔率が2体積%未満だと圧縮が困難となり、導電体と導電体層との間の電気的接続抵抗が高くなったり、接続不良を生じたりする傾向にある。一方、空孔率が35体積%を超えると、基板接合体の圧縮時に圧縮方向に対して垂直方向に変形しやすくなったり、空孔内に導電性樹脂が侵入したりして、導電性樹脂が十分に圧縮されなくなるので、導電体と導電体層との電気的接続抵抗が高くなる傾向にある。 Here, “the substrate assembly has compressibility” means that the substrate assembly has a compressible property, for example, the substrate assembly contains a porous base material having pores therein. It has a compressible property. When the substrate assembly is made of a porous base material, the porosity is preferably 2 to 35% by volume. When the porosity is less than 2% by volume, compression becomes difficult, and the electrical connection resistance between the conductor and the conductor layer tends to increase or connection failure tends to occur. On the other hand, when the porosity exceeds 35% by volume, it becomes easy to deform in the direction perpendicular to the compression direction when the substrate bonded body is compressed, or the conductive resin penetrates into the pores. Is not sufficiently compressed, so that the electrical connection resistance between the conductor and the conductor layer tends to increase.
第3の多層プリント配線板において、基板接合体を構成する材料が、本発明の複合体を含有すると好ましい。これにより、多層プリント配線板の電気特性と機械特性が更に向上する。 In the third multilayer printed wiring board, the material constituting the substrate assembly preferably contains the composite of the present invention. Thereby, the electrical characteristics and mechanical characteristics of the multilayer printed wiring board are further improved.
本発明の第3の多層プリント配線板の製造方法は、第1の多層プリント配線板を、所定の絶縁体層と導電体層とを有するコア基板に、貫通孔に導電体が充填された被圧縮性を有する基板接合体を介して重ねる工程と、基板接合体を介して重ねられた多層プリント配線板とコア基板とを加熱加圧することにより多層プリント配線板の表層に形成された導電体層とコア基板の導電体層とを導電体を介して電気的に接続する工程とを有することを特徴とする。これにより、簡易な多層プリント配線板の製造方法を提供できる。 According to a third method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the first multilayer printed wiring board is coated on a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer, and a through hole is filled with a conductor. A step of stacking through a substrate bonded body having compressibility, and a conductor layer formed on the surface layer of the multilayer printed wiring board by heating and pressing the multilayer printed wiring board and the core substrate stacked through the substrate bonded body And a step of electrically connecting the conductor layer of the core substrate to each other through the conductor. Thereby, the manufacturing method of a simple multilayer printed wiring board can be provided.
第3の多層プリント配線板の製造方法において導電体が導電ペーストである場合、加熱加圧する前の基板接合体の貫通孔に充填された導電ペーストが基板接合体表面から突出していると好ましい。これによると、導電ペーストを介して両導電体層の電気的接続を低抵抗かつ確実に行うことができる。 In the third method for producing a multilayer printed wiring board, when the conductor is a conductive paste, it is preferable that the conductive paste filled in the through holes of the substrate bonded body before heating and pressing protrude from the surface of the substrate bonded body. According to this, electrical connection between the two conductor layers can be reliably performed with low resistance via the conductive paste.
本発明によれば、接着信頼性に十分優れ、かつ、脱落の虞のある樹脂粉又は繊維等のケバの発生が十分抑制されている複合体を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the composite_body | complex which is excellent in adhesion reliability sufficiently and generation | occurrence | production of injuries, such as resin powder or a fiber which may drop | omit is fully suppressed can be provided.
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.
まず、本発明の複合体の実施形態について説明する。図1は、本発明の複合体の一実施形態を示す模式断面図である。図1の複合体100は、繊維シート101に硬化性樹脂組成物102が含浸してなるものである。また、複合体100は、貫通孔103を備えている。
First, an embodiment of the composite of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of the composite of the present invention. A composite 100 in FIG. 1 is formed by impregnating a
繊維シート101としては、例えば、紙、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布等のガラス布、アラミド不織布等の耐熱性合成繊維が挙げられる。これらのうち、ガラス繊維織布及びガラス繊維不織布が好ましく、ガラス繊維織布が特に好ましい。ガラスの材質としては、Eガラス、Sガラス、Dガラス等が挙げられる。また、繊維シートとして織布を用いる場合の繊維の織り方については、例えば、平織、朱子織、綾織等が挙げられる。
Examples of the
繊維シートの厚みについては、繊維シートが十分な強度を有するのであれば薄い方が好ましい。具体的には、例えば、10〜200μmであることが好ましく、10〜80μmであることがより好ましい。また、繊維シートは、線膨張率がより小さいものが好ましい。 About the thickness of a fiber sheet, if the fiber sheet has sufficient intensity | strength, the thinner one is preferable. Specifically, for example, the thickness is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 10 to 80 μm. The fiber sheet is preferably one having a smaller linear expansion coefficient.
硬化性樹脂組成物102としては、その硬化物の20℃における貯蔵弾性率が100〜2000MPaとなるものであればよく、例えば、硬化性樹脂とこの硬化性樹脂を硬化させる硬化剤とを含有するものが挙げられる。硬化性樹脂の樹脂成分としては、粘弾性樹脂を用いることが好ましく、例えば、エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、SBR、NBR、CTBN、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、シリコーン変性ポリアミドイミド等が挙げられる。また、硬化剤としては、ジシアンジアミド、フェノール樹脂、イミダゾール、アミン化合物、酸無水物等が挙げられる。
The
また、硬化性樹脂組成物102は繊維シートに含浸させる目的で、所定の溶媒を含有したワニスとして使用することができる。用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;メチルセロソルブ、ジエチレングリコール等のグリコールエーテル系溶媒;メチルセロソルブアセテート等のエステル系溶媒;エチレングリコールジメチルエーテル等のジアルキルグリコール系溶媒;N−メチルピロリドン、N,N’−ジメチルホルムアミド、N,N’−ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;メタノール、ブタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒;2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のエーテルアルコール系溶媒等を用いることができ、これらの1種又は2種以上を用いることができる。
The
本実施形態においては、硬化性樹脂組成物として、硬化性のアクリル重合体と、このアクリル重合体を硬化させる硬化剤とを組み合わせたものを用いることが好ましい。この場合、アクリル重合体100質量部に対して、硬化剤を60〜350質量部の割合で用いることが好ましい。硬化剤が、アクリル重合体100質量部に対して60質量部未満であると、硬化物の貯蔵弾性率が300MPaを下回る傾向にあり、取扱い性が低下するとともに、硬化物のTgが低下して高温放置時の劣化による寸法収縮、半田耐熱性の低下等の問題が生じやすくなる傾向にある。一方、硬化剤の割合が350質量部を越えると、硬化物の貯蔵弾性率が2000MPaを上回る傾向にあり、この場合、硬化物が脆くなるので樹脂粉又は繊維が脱落しやすくなる傾向にある。 In the present embodiment, it is preferable to use a combination of a curable acrylic polymer and a curing agent that cures the acrylic polymer as the curable resin composition. In this case, it is preferable to use the curing agent in a proportion of 60 to 350 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer. When the curing agent is less than 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer, the storage elastic modulus of the cured product tends to be less than 300 MPa, the handleability is lowered, and the Tg of the cured product is lowered. There is a tendency that problems such as dimensional shrinkage due to deterioration when left at high temperature and solder heat resistance decrease tend to occur. On the other hand, when the ratio of the curing agent exceeds 350 parts by mass, the storage elastic modulus of the cured product tends to exceed 2000 MPa. In this case, the cured product becomes brittle, and thus the resin powder or fibers tend to fall off.
また、上記アクリル重合体は、重量平均分子量(Mw)が、30000以上であることが好ましく、更にこのアクリル重合体は、重合体中に重合成分として2〜20質量%のグリシジルアクリレートを有し、エポキシ価が2〜36であることが好ましい。 The acrylic polymer preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 30000 or more. Further, the acrylic polymer has 2 to 20% by mass of glycidyl acrylate as a polymerization component in the polymer. The epoxy value is preferably 2 to 36.
複合体100の製造方法としては、例えば、硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させて乾燥した後、所定の位置に貫通孔を形成する方法が挙げられる。硬化性樹脂組成物を繊維シートに含浸させる方法としては、例えば、ウェット方式やドライ方式等の樹脂組成物溶液に繊維シートを浸漬させる方法や、繊維シートに硬化性樹脂組成物を塗工する方法等が挙げられる。 Examples of the method for producing the composite 100 include a method in which a fiber sheet is impregnated with a curable resin composition and dried, and then a through hole is formed at a predetermined position. Examples of the method of impregnating the fiber sheet with the curable resin composition include, for example, a method of immersing the fiber sheet in a resin composition solution such as a wet method and a dry method, and a method of applying the curable resin composition to the fiber sheet. Etc.
次に、本発明のプリプレグの好適な実施形態について説明する。 Next, a preferred embodiment of the prepreg of the present invention will be described.
図2は、本発明のプリプレグの一実施形態を示す模式断面図である。図2に示すプリプレグ200は、繊維シート201と、この繊維シート201に含浸した硬化性樹脂組成物を半硬化させた半硬化樹脂組成物層202とからなる。また、プリプレグ200は、貫通孔203を備えている。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the prepreg of the present invention. A
プリプレグ200は、上述の複合体100における硬化性樹脂組成物102を半硬化させることにより得ることができる。この場合、繊維シート201は繊維シート101と同様であり、半硬化樹脂組成物層202は硬化性樹脂組成物102を半硬化させてなるものである。また、別の方法として、プリプレグ200は、上記の硬化性樹脂組成物を上記の繊維シートに含浸させて乾燥したものを用意し、次いで、硬化性樹脂組成物を半硬化させて半硬化樹脂組成物層202を形成した後、所定の位置に貫通孔203を形成することにより得ることもできる。
The
硬化性樹脂組成物を半硬化させる方法としては、加熱、紫外線照射、電子線照射等の方法が挙げられる。加熱により半硬化を行う場合の条件としては、例えば、100〜200℃、1〜30分間の条件が挙げられる。 Examples of the method for semi-curing the curable resin composition include methods such as heating, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation. Examples of the conditions for semi-curing by heating include conditions of 100 to 200 ° C. and 1 to 30 minutes.
本実施形態のプリプレグにおいては、硬化性樹脂組成物の硬化率を10〜70%の範囲とすることが好ましい。硬化性樹脂組成物の硬化率が10%未満であると、導電体と一体化した場合、一体化した導電体層表面に繊維シートの凹凸が反映されて表面平滑性が低下する傾向にあり、また、絶縁基板の厚みの制御が困難となる傾向にある。一方、硬化性樹脂組成物の硬化率が70%を越えると、導電体層と一体化する場合に樹脂成分が不足し、高速で一体化させると気泡やかすれが生じやすくなり、導電体との接着力が不十分となる傾向にある。 In the prepreg of this embodiment, it is preferable that the curing rate of the curable resin composition be in the range of 10 to 70%. When the curing rate of the curable resin composition is less than 10%, when integrated with the conductor, the unevenness of the fiber sheet is reflected on the surface of the integrated conductor layer, and the surface smoothness tends to decrease, Further, it tends to be difficult to control the thickness of the insulating substrate. On the other hand, when the curing rate of the curable resin composition exceeds 70%, the resin component is insufficient when integrated with the conductor layer, and when integrated at a high speed, bubbles and blurring tend to occur. Adhesive strength tends to be insufficient.
次に、本発明の金属箔張積層板の好適な実施形態について説明する。 Next, a preferred embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention will be described.
図3は、本発明の金属箔張積層板の一実施形態を示す模式断面図である。図3に示される金属箔張積層板300は、貫通孔303を有する絶縁基板301と、貫通孔303に充填された導電体304と、絶縁基板301上に積層された導電体層302とから構成されている。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the metal foil-clad laminate of the present invention. A metal foil-clad
導電体層302としては、例えば、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔等の金属箔が挙げられる。本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302が銅箔であることが好ましく、その厚さは1〜70μmであることが好ましい。また、銅箔は、電解銅箔、圧延銅箔等を用いることができる。なお、本実施形態の金属箔張積層板においては、導電体層302は導電性を有する膜であればよく、上記の金属箔以外に、例えば、金属、有機物及びこれらの複合物であってもよい。
Examples of the
導電体304としては、例えば、金、銀、ニッケル、銅、白金、パラジウム若しくは酸化ルテニウム等の金属若しくは金属酸化物又は有機金属化合物等を含む導電ペーストの加熱加圧されたものが挙げられる。
Examples of the
貫通孔303を有する絶縁基板301は、上述した複合体100又はプリプレグ200を用いて形成されている。
The insulating
例えば、プリプレグ200を用いて金属箔張積層板300を得る場合、先ず、プリプレグ200の貫通孔203に導電体である導電ペーストを充填する。次に、プリプレグ200の表面上に導電体層としての金属箔を配し、金属箔とプリプレグとを一体化し金属箔張積層板300を製造することができる。また、プリプレグ200の代わりに複合体100を用いても同様に金属箔張積層板300を製造することができる。
For example, when the metal foil-clad
金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する方法としては、例えば、メタライズ、プレス積層方法、熱ロール連続積層法等が挙げられる。本実施形態においては、効率よく導電体層を形成する観点から、プレス積層法を用いることが好ましい。プレス積層法により、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを一体化する際の加熱加圧条件としては、例えば、温度120〜230℃、圧力10〜60kg/cm2、加熱時間30〜120分の範囲の条件が挙げられる。 Examples of the method for integrating the metal foil with the prepreg or the composite include metallization, press lamination method, and hot roll continuous lamination method. In the present embodiment, it is preferable to use the press lamination method from the viewpoint of efficiently forming the conductor layer. Examples of the heating and pressing conditions for integrating the metal foil and the prepreg or the composite by the press lamination method include a temperature of 120 to 230 ° C., a pressure of 10 to 60 kg / cm 2 , and a heating time of 30 to 120 minutes. A range condition is mentioned.
また、金属箔と、プリプレグ又は複合体とを連続積層する前に、金属箔の表面にプリプレグ又は複合体に含まれているものと同様の感光性樹脂組成物を塗布し、かかる樹脂組成物からなる層を形成することが好ましい。これにより、プリプレグ又は複合体に含まれる繊維シートの表面の凹凸が導電体層の表面に反映されることを更に低減することができる。 Further, before continuously laminating the metal foil and the prepreg or the composite, the same photosensitive resin composition as that contained in the prepreg or the composite is applied to the surface of the metal foil, and the resin composition It is preferable to form a layer. Thereby, it can further reduce that the unevenness | corrugation of the surface of the fiber sheet contained in a prepreg or a composite_body | complex is reflected in the surface of a conductor layer.
次に本発明のプリント配線板及びその製造方法の好適な実施形態について説明する。 Next, preferred embodiments of the printed wiring board and the manufacturing method thereof of the present invention will be described.
図4は、本発明のプリント配線板(両面プリント配線板)の製造方法の第1の実施形態を示す工程断面図である。 FIG. 4 is a process cross-sectional view illustrating a first embodiment of a method for producing a printed wiring board (double-sided printed wiring board) according to the present invention.
まず、(A)に示すように、その両面に接着剤層401が形成された絶縁基板402を準備する。絶縁基板402としては、本発明の複合体を含有するものが用いられる。
First, as shown in (A), an insulating
接着剤層401としては、熱硬化性樹脂としてエポキシ系接着剤やイミド系接着剤を、熱可塑性接着剤としてはシリコン系の高耐熱グレードの接着剤を用いることができる。熱硬化性樹脂は導電体層の埋め込み性を確保するために半硬化状態にしておいてもよい。接着剤層の厚さ特に限定されず、例えば片側5μmずつであってもよい。
As the
次いで(B)に示すように、その両面に接着剤層401が形成された絶縁基板402の更に両面にポリエステル、ポリエチレンテレフタラート等の離型フィルム403をラミネートする。ラミネートの温度は、例えば80℃程度の温度で行うことができる。これにより接着剤層401の表面が適度に溶融して離型フィルム403を貼り付けることができる。離型フィルムの厚さは特に制限されず、例えば10〜20μm程度であってもよい。
Next, as shown in (B), a
次に(C)に示すように、離型フィルム403を設けた絶縁基板402にレーザ光線を用いて貫通孔404を形成する。レーザ光線としては波長307nmのエキシマレーザや波長355nmの3倍高調波YAG固体レーザ等の短波長レーザを用いることができる。貫通孔404の孔径は特に限定されないが、導電ペーストを後述する方法により充填する場合、その充填性を考慮して決定することが好ましい。
Next, as shown in (C), a through-
続いて(D)に示すように、貫通孔404に導電体である導電ペースト405を充填する。充填方法としては、例えば、スクリーン印刷機により直接導電ペースト405を離型フィルム403上から印刷する方法等が挙げられる。この場合、印刷面と反対側より和紙等の多孔質シートを介して真空吸着することにより、貫通孔404内の導電ペースト405中の樹脂成分を吸い取り、導体成分の割合を増加させることで、導体成分をさらに緻密に充填することができる。また、この場合、離型フィルム403は印刷マスクの役割と接着剤層401表面の汚染防止の役割を果たすことができる。貫通孔の孔径と孔長とのアスペクト比(孔径/孔長)が0.3程度以上であれば、この方法により導電ペーストを充填することができる。
Subsequently, as shown in (D), the through-
次いで(E)に示すように、離型フィルム403を両面より剥離する。このとき、貫通孔404が微細であると、端部の影響が無視できず、離型フィルム403の貫通孔内の導電ペーストが離型フィルムとともに剥離する場合もある。しかしながら、導電ペースト405の残り方は、その剥離の度合いが大きな場合であっても、接着剤層401と面一になる程度である。
Next, as shown in (E), the
次に(F)に示すように、銅箔を所定の形状に形成した導電体層407を備えたアルミ箔からなる支持基材406を、少なくとも導電ペースト405が充填された貫通孔404の直上に導電体層107が配置されるように、絶縁基板402の両側から重ね合わせ、加熱加圧する。加熱加圧は例えば真空プレスにより行う。
Next, as shown in (F), a
この加熱加圧により、(G)に示すように、接着剤層401は流動し、導電体層407は接着剤層401内に埋め込まれる。このように導電体層407が接着剤層401に埋め込まれることにより、貫通孔404内の導電ペースト405が圧縮され、導電ペースト405内の樹脂成分が接着剤層401に流れ出し、導電ペースト405中の導体成分が緻密化され、絶縁基板402表裏の導電体層407間の電気的接続が得られる。その後、接着剤層401と導電ペースト405を硬化する。
By this heating and pressing, as shown in (G), the
最後に(H)に示すように、接着剤層401に埋め込まれた導電体層407を残して支持基材406を除去し、両面プリント配線板を完成させる。支持基材406や導電体層407の構成材料はその機能を発揮可能なものであれば特に限定されない、よって、上述のように、例えば支持基材406にアルミ箔を用い、導電体層407には銅箔を用いることができる。この場合、支持基材406の除去はアルミ箔及び銅箔の選択エッチングにより、アルミ箔を溶解除去することにより行うことができる。溶解除去により支持基材406を除去すると、両面プリント配線板に大きな応力が加わり難くなるので、その破壊を抑制することができる。また溶解除去を採用すると、一貫ラインでの除去が容易となるので生産性が向上する。選択エッチングの場合のエッチング液としては過硫酸アンモニウム等を用いることができる。
Finally, as shown in (H), the
導電体層407を所定パターンに形成する際にも同様な方法を用いることができる。アルミ箔及び銅箔の複合材としては、例えば三井金属(株)製、アルミキャリア付き銅箔UTC−Foil(商品名)が挙げられる。かかる複合材を用いると、銅箔厚さが5μm又は9μmと薄いため、ファインパターンの形成が可能となる。
A similar method can be used when forming the
また、アルミ箔上に予めレジストパターンを形成しておき、酸性のジンケート処理後、電解銅めっきを行うことにより得られる複合材を用いてもよい。電解銅めっきを採用すると、ファインパターンでしかも銅箔厚さの厚いものを得ることができる。本実施形態によると、例えば、銅箔厚さ9μm、接着剤層401の厚さは片側5μmと銅箔の厚さよりも薄く設定してもよい。
Moreover, a composite material obtained by forming a resist pattern on an aluminum foil in advance and performing electrolytic copper plating after an acidic zincate treatment may be used. When electrolytic copper plating is employed, a fine pattern and a thick copper foil can be obtained. According to the present embodiment, for example, the thickness of the copper foil may be set to 9 μm, and the thickness of the
本実施形態によると、貫通孔404内の導電ペースト405中の樹脂成分が接着剤層に押し出されることにより、貫通孔404内は導体成分が緻密化され、低抵抗で高信頼性のビアホールを得ることができる。また、導電体層407として用いられる銅箔の導電ペースト405と接する側が粗面化処理されていると、接着剤層401と銅箔との密着性が向上し、ピール強度が強くなる。さらに、銅箔と導電ペースト405との接触面積も増えるため、接続信頼性が向上する。
According to the present embodiment, the resin component in the
なお、上記実施形態では、絶縁基板402の両面に接着剤層401を設けたものを用いたが、これに代えて、離型フィルム403に接着剤層401を設けたものを絶縁基板402に貼り付けて形成してもよい。このような製造方法をとることにより、離型フィルム403の片側に接着剤層401を塗布し、半硬化状態に乾燥させることができ、絶縁基板402の両面に同時に接着剤層401を塗布し、半硬化状態に乾燥させる工程よりも、より簡便に接着剤層401を絶縁基板402の両面に形成することができる。
In the above embodiment, the insulating
また、図4では導電体層407は貫通孔404を覆うような構成となっているが、貫通孔404の全ての部分を導電体層が覆う必要はない。導電体層は貫通孔内で所定の圧縮率がとれるように埋め込まれればよいので、貫通孔の一部を覆っていればよい。すなわち、貫通孔内の導電ペーストが上下に設けられた導電体層にて圧縮されるように重なっていれば、貫通孔の一部は露出していてもよい。例えば、本実施形態における貫通孔の径を50μmとし、導電体層のライン幅を30μmとしても、導電ペーストは圧縮され、導電体層間の電気的接続を得ることができる。このような構成をとることにより、いわゆるランドが不必要となり、より微細な配線を形成することができる。特に上記構成は多層プリント配線板の内層に適用すると効果的である。
In FIG. 4, the
なお、上記実施形態では接着剤層401として熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂を用いた場合について説明したが、接着剤層の材料として絶縁基板の材料と同様のもの、すなわち本発明の複合体を用いてもよい。これにより、より簡便に本発明を実施することができる。
In the above embodiment, the case where a thermosetting resin or a thermoplastic resin is used as the
図5は、本発明のプリント配線板(両面プリント配線板)の製造方法の第2の実施形態を示す工程断面図である。 FIG. 5 is a process cross-sectional view illustrating a second embodiment of the method for producing a printed wiring board (double-sided printed wiring board) according to the present invention.
まず(A)に示すように、第1の実施形態と同様に両面に接着剤層501が形成された絶縁基板502に貫通孔504を設け、導電ペースト505を充填する。
First, as shown in (A), through
次に(B)に示すように、所定の形状に形成された導電体層507を備えた支持基材506を、少なくとも導電ペースト505が充填された貫通孔504の直上に導電体層507が配置されるように、片側から重ね合わせ、もう一方の側に銅箔508を重ね合わせる。その後、例えば真空プレスにより加熱加圧を行う。
Next, as shown in (B), the
この加熱加圧により、(C)に示すように、接着剤層501は流動し、導電体層507は接着剤層501内に埋め込まれる。このように、導電体層507が接着剤層501に埋め込まれることにより、絶縁基板502は変形し、貫通孔504内の導電ペースト505が圧縮され、導電ペースト505内の樹脂成分が接着剤層501に流れ出し、導電ペースト505中の導体成分が緻密化され、絶縁基板502の一方の面側の導電体層507と他方の面側の銅箔508との間の電気的接続が得られる。その後、接着剤層501及び導電ペースト505を硬化させる。
By this heating and pressurization, as shown in (C), the
最後に(D)に示すように、接着剤層501に埋め込まれた導電体層507を残して支持基材506を除去し、両面プリント配線板が完成する。この第2の実施形態が第1の実施形態と異なるのは、絶縁基板502の片側より圧縮していることである。
Finally, as shown in (D), the
この実施形態では、加熱加圧前の絶縁基板502の厚さ(フィルム厚さ)、接着剤層501の厚さ、導電体層507の厚さを適当に設定することにより、導電体層507を接着剤層501に押し込む際に、絶縁基板502を十分に変形させ、接着剤層501の貫通孔径が拡がることなく、導電ペースト505を圧縮することができる。本実施形態によると、貫通孔504内は導体成分が緻密化され、低抵抗で高信頼性のビアホールを得ることができる。
In this embodiment, the
なお、接着剤層501の総厚さと導電体層507の厚さについて、導電体層の厚さが接着剤層の厚さよりも厚ければ電気的接続はより良好となる。ただし、接着剤は導電体層の導体間に収容されるので、導電体層を過剰に厚くすると、導体間を埋めることができなくなる。また、絶縁基板の変形量も大きくなることが予想される。この変形量は導電体層の密度により変化する。そこで、絶縁基板として、その両面に設けられた接着剤層の構成材料を収容することができる空間を形成した多孔質の素材を用いれば、加熱加圧して接着剤層が流動した際に、溶融した接着剤層の構成材料を収容することができるため、絶縁基板の変形量を抑制することができる。これにより、接続の安定性を向上することができる。また、導電体層下の接着剤層の構成材料は導電体層のパターン間に収容されるため、パターン配置により押し込み量が変化することが考えられるが、絶縁基板中に、その両面に設けられた接着剤層の構成材料を収容することができる空間があることにより、その変化量を最小限に抑えることができる。
As for the total thickness of the
更に、絶縁基板が、その両面に設けられた接着剤層の構成材料が行き来できる微細な孔を有した多孔質のものであれば、加熱加圧して接着剤層が流動した際に、溶融した接着剤層の構成材料が、絶縁基板の上下間を移動することができるため、より効果的である。この微細な孔は導電ペースト中の導体成分が漏れ出さない程度に微細であればよい。例えば、導体成分が10μm径の銅粉の場合、微細孔径としては5μm程度であればよい。 Furthermore, if the insulating substrate is a porous substrate having fine pores through which the constituent material of the adhesive layer provided on both sides thereof can go back and forth, it melts when the adhesive layer flows by heating and pressing. Since the constituent material of the adhesive layer can move between the upper and lower sides of the insulating substrate, it is more effective. The fine holes may be fine as long as the conductor component in the conductive paste does not leak out. For example, when the conductor component is copper powder having a diameter of 10 μm, the fine pore diameter may be about 5 μm.
図6は、本発明の多層プリント配線板の製造方法の第1の実施形態を示す工程断面図である。 FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating the first embodiment of the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
まず、(A)に示すように、上述の両面プリント配線板の製造方法の第2の実施形態と同様にして両面プリント配線板を作製する。よってこの両面プリント配線板は図示の通り、接着剤層601、絶縁基板602、貫通孔604、導電ペースト605、導電体層607及び銅箔608から構成されている。
First, as shown to (A), a double-sided printed wiring board is produced similarly to 2nd Embodiment of the manufacturing method of the above-mentioned double-sided printed wiring board. Therefore, this double-sided printed wiring board is composed of an
上記のように形成された両面プリント配線板の導電体層607側に、(B)に示すように両面に接着剤層611と所定位置に導電ペースト615を充填した貫通孔614とがそれぞれ設けられた絶縁基板612を、所定パターンに形成された導電体層617を備える支持基材616とともに重ね合わせる。
The double-sided printed wiring board formed as described above is provided with an
次いで、(C)に示すように、例えば真空プレスにより加熱加圧を行い、導電体層607及び導電体層617間の電気的接続を行う。次に(D)に示すように、支持基材616を除去する。
Next, as shown in (C), heating and pressing are performed by, for example, a vacuum press, and electrical connection between the
この(B)、(C)及び(D)に示すような工程を繰り返し、所定層数積層した後、(E)に示すように銅箔608を所定形状にエッチングして多層プリント配線板が完成する。
After repeating the steps shown in (B), (C), and (D) and laminating a predetermined number of layers, as shown in (E), the
本実施形態の多層プリント配線板では、ビアホール(例えば貫通孔604)上にビアホール(例えば貫通孔614)を形成することができるため、配線収容率が向上する。また、支持基材616を除去した後の表面は平坦であるため、多層に積層しても表面に凹凸が発生し難く、容易に高多層が可能となる。また、本実施形態の多層プリント配線板は、その表面が平滑であるため、半導体ベアチップを実装するには都合がよい。このような配線板に半導体ベアチップをフェースダウン実装すると、チップ下の平坦性が良好なため、実装歩留まりが良く、実装信頼性が向上する。
In the multilayer printed wiring board of this embodiment, since a via hole (for example, the through hole 614) can be formed on the via hole (for example, the through hole 604), the wiring accommodation rate is improved. In addition, since the surface after removing the
本実施形態の多層プリント配線板の製造方法では、銅箔608の上に各層を積層していくため、積層した後の寸法変化が抑制でき、高多層にしても位置ズレを小さなものとすることができ、微細な設計ルールで設計できる。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to this embodiment, each layer is laminated on the
図7は、本発明の多層プリント配線板の製造方法の第2の実施形態を示す工程断面図である。 FIG. 7 is a process sectional view showing a second embodiment of the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
まず、多層プリント配線板の製造方法の第1の実施形態と同様に作成された多層プリント配線板730と、所定数層の絶縁層及び導電体層を有するコア基板731を準備する。コア基板731の構成は特に制限されず、例えば図8に示す従来の多層プリント配線板を用いてもよい。
First, a multilayer printed
次いで、(A)に示すように、両面に接着剤層701と、所定位置に導電ペースト705が充填された貫通孔704とをそれぞれ備える絶縁基板702を介して重ね合わせる。絶縁基板702は本発明の複合体を含有しており、例えば上述の両面プリント配線板の第1の実施形態と同様の工程を経て得られる。
Next, as shown in FIG. 5A, the two layers are superposed via an insulating
次に、(B)に示すように、加熱加圧してコア基板731表層の導体737を接着剤層701に埋め込んで貫通孔704内の導電ペースト705を圧縮することにより、多層プリント配線板730及びコア基板731間の電気的接続を行った。そして(C)に示すように、多層プリント配線板730表層の銅箔708を所定の形状に選択エッチングして、上述の多層プリント配線板の表層に微細な配線パターンを有する多層プリント配線板を得る。
Next, as shown in (B), the multilayer printed
上述の多層プリント配線板は配線収容性に優れる基板であり、その表層に微細な配線パターンを設けることで、さらに配線収容性率が向上する。また、半導体ベアチップを実装するには、そのパッドピッチに対応した微細な配線パターンが表層に必要となるが、本実施形態によると、そのような半導体ベアチップ実装にも対応できる。 The above-mentioned multilayer printed wiring board is a substrate having excellent wiring capacity, and the wiring capacity ratio is further improved by providing a fine wiring pattern on the surface layer. In order to mount a semiconductor bare chip, a fine wiring pattern corresponding to the pad pitch is required on the surface layer. However, according to this embodiment, it is possible to support such a semiconductor bare chip mounting.
なお、本実施形態では、コア基板731である上述の多層プリント配線板の片面に別の多層プリント配線板を設けた例について説明したが、両面に設けた方が、配線板全体の反り等で有利である。
In the present embodiment, an example in which another multilayer printed wiring board is provided on one side of the above-described multilayer printed wiring board, which is the
本実施形態の多層プリント配線板では、コア基板731として図8に示す従来の多層プリント配線板を用いた例について説明したが、コア基板はこれに限るものではない。例えばコア基板としてガラスエポキシ多層プリント配線板を用いてもよい。この場合、ガラスエポキシ多層プリント配線板に微細配線を形成していく、いわゆるビルドアップ配線板と比較して、次のような利点を有する。すなわち、微細導電体層は銅箔上に別プロセスで形成できるため、プロセス条件等の自由度が増し、高性能にできる。また、銅箔上に微細導電体層を形成した後にコア基板に積層転写するため、位置合わせをそれほど厳密に行う必要がなく歩留まりが向上する。更に、大面積の多層プリント配線板を製造することができる。
In the multilayer printed wiring board of the present embodiment, the example using the conventional multilayer printed wiring board shown in FIG. 8 as the
また、本実施形態の多層プリント配線板の製造方法を用いると、表層の多層プリント配線板730及びコア基板731は別々に製造して検査され得るため、結果として歩留まりを向上させることができる。
Further, when the multilayer printed wiring board manufacturing method of the present embodiment is used, the surface multilayer printed
本実施形態では、コア基板731の表層の導体737を接着剤層701に埋設した例について説明したが、図6の(E)に示すような多層プリント配線板を、選択エッチングされた銅箔608からなる導電体層側を絶縁基板702側に配置して積層してもよい。この場合、多層プリント配線板730の表層の導電体層が接着剤層701に埋設される。銅箔608からなる導電体層が貫通孔704内の導電ペースト705を圧縮することができるので、上記と同様の効果を奏する。
In this embodiment, the example in which the
さらにこの場合、支持基材616を除去することなく加熱加圧して多層プリント配線板730の表層の銅箔608を接着剤層701に埋め込んだ後、最後に支持基材616を除去することもできる。これによると、表層の導電体層は加熱加圧時も含めて多層プリント配線板が完成する直前まで支持基材616により保護されることになるので、製造上有利である。
Further, in this case, the
また、コア基板731表層の導体737及び多層プリント配線板730表層の銅箔608の両方を接着剤層701に埋設してもよい。この場合、貫通孔704内の導電ペースト705は両側から圧縮されるので、導電ペーストの圧縮量がより大きくなり、導電ペーストによる接続信頼性を一層高めることができる。
Further, both the
次に、基板接合体を用いた場合の本発明の多層プリント配線板の製造方法に係る実施形態を説明する。 Next, an embodiment according to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention when a substrate assembly is used will be described.
本実施形態では、上述の多層プリント配線板の製造方法の第2の実施形態における両面に接着剤層701と、所定位置に導電ペースト705が充填された貫通孔704とをそれぞれ備える絶縁基板702の代わりに、所定位置に形成された貫通孔に導電ペーストが充填された被圧縮性を有する基板接合体を用いた場合について説明する。
In the present embodiment, the insulating
基板接合体の構成材料としては、電気絶縁性の材料で、例えば、ガラスエポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、アラミド樹脂等の材料を用いることができる。これらのなかで一般的なものとしては、アラミド不織布にエポキシ樹脂を含浸させてこれを半硬化状態(Bステージ状態)にしたプリプレグが挙げられる。かかるプリプレグにレーザ加工で所定の位置に貫通孔を形成し、この貫通孔に例えばAg、Cu又はAg−Cu合金等の導体成分を含有する導電ペーストを充填する。この際、導電ペーストを基板接合体の表面から突出するように形成しておくと、導電ペーストが良好に圧縮されて、多層プリント配線板730及びコア基板731間の電気的接続を低抵抗に行なうことができる。より具体的には、アラミド繊維の不織布にエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ(例えば厚さ0.1mm程度)にCO2レーザを用いて、所望の位置に貫通孔を形成し、その貫通孔の中にCuペーストを表面からやや突出するように充填してもよい。
As a constituent material of the substrate assembly, an electrically insulating material such as a glass epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyester resin, or an aramid resin can be used. Among these, a prepreg in which an aramid non-woven fabric is impregnated with an epoxy resin so as to be in a semi-cured state (B stage state) is mentioned as a general one. A through hole is formed in a predetermined position in the prepreg by laser processing, and the through hole is filled with a conductive paste containing a conductor component such as Ag, Cu, or an Ag—Cu alloy. At this time, if the conductive paste is formed so as to protrude from the surface of the substrate assembly, the conductive paste is compressed well, and electrical connection between the multilayer printed
次に、多層プリント配線板730と基板接合体とコア基板731とを加熱圧縮する。加熱加圧する際の圧力、温度及び時間等の諸条件については適宜設定すればよい。これにより、コア基板731の表面に突出している導体737が基板接合体のエポキシ樹脂中に没入する。それと同時に、導電ペーストは多層プリント配線板730の導電体層及びコア基板731の表面の導体737間に挟まれているため、内部に充填されている導体ペーストが圧縮されて上記導電体層及び導体737が電気的に接続される。
Next, the multilayer printed
本実施形態では、コア基板731の表面に突出している導体737を基板接合体に埋設した例について説明したが、多層プリント配線板の製造方法の第2の実施形態と同様に、多層プリント配線板730の積層面側に突出した導電体層を形成しておいても同様の効果を奏する。更にコア基板731の表面に突出している導体737及び多層プリント配線板730の表面に突出している導電体層の両方を基板接合体に埋設してもよい。この場合、貫通孔内の導電ペーストは両側から圧縮されるので、導電ペーストの圧縮量がより大きくなり、導電ペーストによる接続信頼性を一層高めることができる。
In the present embodiment, the example in which the
導電ペーストと接触する多層プリント配線板730の導電体層の表面、及びコア基板731の表面の導体737の表面に粗面化処理を施しておくと、導電ペーストによる接続信頼性が向上する。粗面化処理は適宜条件を設定して行えばよい。例えば、加熱加圧よりも前に、多層プリント配線板730の導電体層の表面及びコア基板731の導体737の表面を、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム及び亜塩素酸ナトリウムの混合水溶液を用いて黒化処理を施すことにより粗面化処理を行うことができる。黒化処理により銅箔表面に生成される膜は絶縁膜であるが、極めて薄いため、加熱加圧時に容易に破壊されて導通可能となる。
If the surface of the conductor layer of the multilayer printed
また、粗面化の方法としては、電解銅めっきを用いることもできる。この電解銅めっきの方法としては、例えば、銅箔を作成する条件よりも電流密度を上昇させ、銅をこぶ状に異常析出させる方法が一般的に知られている。この方法を用いると銅箔表面に生成される膜は銅であるので、より安定した接続を得ることができる。 Moreover, electrolytic copper plating can also be used as a roughening method. As a method of this electrolytic copper plating, for example, a method is known in which the current density is increased more than the conditions for forming a copper foil, and copper is abnormally deposited in a hump shape. When this method is used, since the film produced on the copper foil surface is copper, a more stable connection can be obtained.
100…複合体、101…繊維シート、102…硬化性樹脂組成物、103、203、303、411、421、422a、422b…貫通孔、200…プリプレグ、201…繊維シート、202…半硬化樹脂組成物層、300…金属箔張積層板、301…絶縁基板、302…導電体層、304…導電体。
DESCRIPTION OF
Claims (21)
前記硬化性樹脂組成物の硬化物の20℃における貯蔵弾性率が、100〜2000MPaである複合体。 A composite comprising a fiber sheet impregnated with a curable resin composition,
The composite whose storage elastic modulus in 20 degreeC of the hardened | cured material of the said curable resin composition is 100-2000 Mpa.
前記貫通孔に導電体を充填する工程と、
前記絶縁基板の少なくとも片面に、所定のパターンを有しかつ前記接着剤層とほぼ等しい厚さを有するか又はそれよりも厚い導電体層が形成された支持基材を重ねる工程と、
前記支持基材を重ねた前記絶縁基板を加熱加圧して圧縮することにより、前記接着剤層に前記導電体層を埋設する工程と、
前記導電体層を残して前記支持基材を除去する工程と
を有するプリント配線板の製造方法。 A step of providing a through hole in an insulating substrate containing the composite according to any one of claims 1 to 5 wherein an adhesive layer is formed on both sides;
Filling the through hole with a conductor;
A step of superimposing a support base material on which at least one surface of the insulating substrate has a predetermined pattern and a conductor layer having a thickness substantially equal to or thicker than the adhesive layer;
A step of embedding the conductor layer in the adhesive layer by heating and pressing the insulating substrate on which the support base material is stacked;
And a step of removing the supporting base material while leaving the conductor layer.
前記離型フィルムを備えた絶縁基板に貫通孔を設ける工程と、
前記貫通孔に導電体を充填する工程と、
前記接着剤層を前記絶縁基板に残して前記離型フィルムを剥離する工程と、
前記絶縁基板の少なくとも片面に、所定のパターンを有しかつ前記接着剤層とほぼ等しい厚さを有するか又はそれよりも厚い導電体層が形成された支持基材を重ねる工程と、
前記支持基材を重ねた前記絶縁基板を加熱加圧して圧縮することにより、前記接着剤層に前記導電体層を埋設する工程と、
前記導電体層を残して前記支持基材を除去する工程と
を有するプリント配線板の製造方法。 A release film having an adhesive layer formed on one side of the insulating substrate containing the composite according to any one of claims 1 to 5 so that the adhesive layer and the insulating substrate are in contact with each other. And the process of attaching to
Providing a through hole in an insulating substrate provided with the release film;
Filling the through hole with a conductor;
Leaving the adhesive layer on the insulating substrate and peeling the release film;
A step of superimposing a support base material on which at least one surface of the insulating substrate has a predetermined pattern and a conductor layer having a thickness substantially equal to or thicker than the adhesive layer;
A step of embedding the conductor layer in the adhesive layer by heating and pressing the insulating substrate on which the support base material is stacked;
And a step of removing the supporting base material while leaving the conductor layer.
加熱加圧して圧縮することにより前記接着剤層に前記導電体層を埋設する工程と、
前記導電体層を残して前記支持基材を除去する工程と
を繰り返してなる多層プリント配線板の製造方法。 It has a predetermined pattern on one side of an insulating substrate containing the composite according to any one of claims 1 to 5, comprising an adhesive layer on both sides and a through hole filled with a conductor. Stacking a support substrate on which a conductor layer having a thickness approximately equal to or thicker than the adhesive layer is formed;
Burying the conductor layer in the adhesive layer by compressing by heating and pressing; and
The manufacturing method of the multilayer printed wiring board formed by repeating the process of leaving the said conductor layer and removing the said support base material.
前記絶縁基板を介して重ねられたコア基板と前記多層プリント配線板とを加熱加圧することにより、前記多層プリント配線板の表層に形成された導電体層及び前記コア基板の表層の導電体層のうちの少なくとも一方を前記接着剤層に埋設する工程と
を有する多層プリント配線板の製造方法。 15. Insulation comprising the multilayer printed wiring board according to claim 13 or 14, each comprising a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer, and through-holes filled with an adhesive layer and a conductor on both sides. A step of stacking through a substrate;
By heating and pressing the core substrate and the multilayer printed wiring board stacked via the insulating substrate, the conductor layer formed on the surface layer of the multilayer printed wiring board and the conductor layer of the surface layer of the core substrate And a step of embedding at least one of them in the adhesive layer.
前記基板接合体を介して重ねられた前記多層プリント配線板とコア基板とを加熱加圧することにより前記多層プリント配線板の表層に形成された導電体層と前記コア基板の導電体層とを前記導電体を介して電気的に接続する工程と
を有する多層プリント配線板の製造方法。
The multilayer printed wiring board according to claim 13 or 14 is connected to a core substrate having a predetermined insulator layer and a conductor layer through a substrate bonded body having a compressibility by filling a through hole with a conductor. The process of stacking,
The conductor layer formed on the surface layer of the multilayer printed wiring board by heating and pressurizing the multilayer printed wiring board and the core substrate stacked via the substrate assembly and the conductor layer of the core substrate are A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising the step of electrically connecting via a conductor.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006307067A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method |
JP2006348225A (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate |
JP2010278361A (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Kyocer Slc Technologies Corp | Method of manufacturing wiring board |
JP2011258779A (en) * | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Fujitsu Ltd | Layer circuit board and method for producing circuit board |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222851A (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of circuit board |
JPH10163603A (en) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for manufacturing circuit board |
JPH10330513A (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Toray Ind Inc | Prepreg and fiber-reinforced composite material |
JP2000077800A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Wiring board and manufacture thereof |
JP2000349440A (en) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Manufacture of multilayer copper clad circuit board containing inner layer circuit |
JP2000349444A (en) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Manufacture of multilayered copper clad circuit board having internal layer circuit |
JP2001220565A (en) * | 1999-06-18 | 2001-08-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Adhesive, adherend member, semiconductor-mounting printing. wiring board provided with adhrend member and semiconductor device using the same |
JP2003246838A (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-05 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Epoxy resin composition, resin composition and resin for electronic material, coating agent and process for preparing cured film of coating agent |
JP2004265126A (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Sato Corp | Laminate tag and its usage |
JP2006036869A (en) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | Prepreg, laminate and printed wiring board |
JP2006057013A (en) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | Resin composition |
JP2006117888A (en) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg using the same, metal foil-clad laminate plate, circuit board and method for producing the circuit board |
JP2006152261A (en) * | 2004-10-25 | 2006-06-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate, and multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof |
JP2006152260A (en) * | 2004-10-26 | 2006-06-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate and multilayer printed wiring board obtained using the same, and manufacturing method of multilayer printed wiring board |
JP2006176677A (en) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate |
JP2006182900A (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite material, prepreg, metal-clad laminate, multilayer substrate, and method for producing the same |
JP2006299189A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board |
-
2005
- 2005-04-27 JP JP2005130252A patent/JP2006306977A/en active Pending
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222851A (en) * | 1995-02-15 | 1996-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of circuit board |
JPH10163603A (en) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for manufacturing circuit board |
JPH10330513A (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Toray Ind Inc | Prepreg and fiber-reinforced composite material |
JP2000077800A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Wiring board and manufacture thereof |
JP2000349440A (en) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Manufacture of multilayer copper clad circuit board containing inner layer circuit |
JP2000349444A (en) * | 1999-06-09 | 2000-12-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Manufacture of multilayered copper clad circuit board having internal layer circuit |
JP2001220565A (en) * | 1999-06-18 | 2001-08-14 | Hitachi Chem Co Ltd | Adhesive, adherend member, semiconductor-mounting printing. wiring board provided with adhrend member and semiconductor device using the same |
JP2003246838A (en) * | 2002-02-27 | 2003-09-05 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | Epoxy resin composition, resin composition and resin for electronic material, coating agent and process for preparing cured film of coating agent |
JP2004265126A (en) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Sato Corp | Laminate tag and its usage |
JP2006036869A (en) * | 2004-07-26 | 2006-02-09 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | Prepreg, laminate and printed wiring board |
JP2006057013A (en) * | 2004-08-20 | 2006-03-02 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | Resin composition |
JP2006117888A (en) * | 2004-10-25 | 2006-05-11 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg using the same, metal foil-clad laminate plate, circuit board and method for producing the circuit board |
JP2006152261A (en) * | 2004-10-25 | 2006-06-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate, and multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof |
JP2006152260A (en) * | 2004-10-26 | 2006-06-15 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal foil-clad laminated plate and multilayer printed wiring board obtained using the same, and manufacturing method of multilayer printed wiring board |
JP2006176677A (en) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg using the same, metallic foil lined laminate, printed wiring substrate and method for manufacturing printed wiring substrate |
JP2006182900A (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite material, prepreg, metal-clad laminate, multilayer substrate, and method for producing the same |
JP2006299189A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Hitachi Chem Co Ltd | Prepreg sheet, metal foil-clad laminate, circuit board, and method for manufacturing circuit board |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006307067A (en) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metal-clad laminated board, printed-wiring board and its manufacturing method |
JP2006348225A (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Hitachi Chem Co Ltd | Composite, prepreg, metallic foil clad laminate and printed wiring substrate using the same, and method for manufacturing printed wiring substrate |
JP2010278361A (en) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Kyocer Slc Technologies Corp | Method of manufacturing wiring board |
JP2011258779A (en) * | 2010-06-09 | 2011-12-22 | Fujitsu Ltd | Layer circuit board and method for producing circuit board |
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