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JP2006225181A - Glass substrate, method of manufacturing glass substrate, glass substrate for magnetic recording medium and method of manufacturing glass substrate for magnetic recording medium - Google Patents

Glass substrate, method of manufacturing glass substrate, glass substrate for magnetic recording medium and method of manufacturing glass substrate for magnetic recording medium Download PDF

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JP2006225181A
JP2006225181A JP2005037884A JP2005037884A JP2006225181A JP 2006225181 A JP2006225181 A JP 2006225181A JP 2005037884 A JP2005037884 A JP 2005037884A JP 2005037884 A JP2005037884 A JP 2005037884A JP 2006225181 A JP2006225181 A JP 2006225181A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate for a magnetic recording medium which has prescribed flatness attained by grinding and polishing. <P>SOLUTION: The glass substrate 1 has recessed surfaces 1a, 1b. The glass substrate is formed to have thickness d1 which is the thickest in the outer peripheral part 3 and gradually thinning toward the center part 2 and the thinnest in the center part 2 ((the thickness d1 of the outer peripheral part 3)≥(the thickness d2 of the center part 2)) that means the glass substrate is shaped so that the outer peripheral part 3 is projected compared to the center part 2 and the surface 1a and the surface 1b are warped in the opposed direction. In the grinding of both surfaces, the outer peripheral part 3 is gradually ground to be made flat. The outer peripheral part 3 being in contact with a grind stone of a grinder increases the contact area with the grind stone by the grinding to stably grind the glass substrate 1. The flatness of the the glass substrate is improved after grinding and sufficiently satisfies that required for the glass substrate for the magnetic recording medium. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、磁気ディスク記録装置の基板に用いられる磁気記録媒体用ガラス基板に関し、特に、研磨による平坦化が容易な磁気記録媒体用ガラス基板に関する。   The present invention relates to a glass substrate for a magnetic recording medium used for a substrate of a magnetic disk recording apparatus, and more particularly to a glass substrate for a magnetic recording medium that can be easily flattened by polishing.

コンピュータ等に用いられる磁気ディスク記録装置、例えばハードディスクには、アルミニウム合金又はガラスのディスクが基板として用いられている。この基板上に金属磁気薄膜が形成され、金属磁気薄膜を磁気ヘッドで磁化することにより情報が記録される。   An aluminum alloy or glass disk is used as a substrate in a magnetic disk recording device used in a computer or the like, for example, a hard disk. A metal magnetic thin film is formed on this substrate, and information is recorded by magnetizing the metal magnetic thin film with a magnetic head.

磁気記録媒体用の基板として、従来は、主にアルミニウム合金が用いられていた。しかし、近年は、ノート型パソコン等の携帯できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用されており、また、磁気ディスク記録装置の応答速度を高めるために、磁気記録媒体を10000[rpm]以上で高速回転させる必要がある。従って、高強度な磁気記録媒体用の基板が必要とされてきており、これらの必要性を満たすものとしてガラス基板が用いられるようになった。このガラス基板には、アモルファスガラス基板、結晶化ガラス基板、又は化学強化ガラス基板が用いられている。   Conventionally, aluminum alloys have been mainly used as substrates for magnetic recording media. However, in recent years, magnetic disk recording devices have also been adopted in portable personal computers such as notebook computers, and in order to increase the response speed of magnetic disk recording devices, magnetic recording media can be operated at high speeds of 10,000 [rpm] or more. Need to rotate. Accordingly, a substrate for a high-strength magnetic recording medium has been required, and a glass substrate has been used to satisfy these needs. As this glass substrate, an amorphous glass substrate, a crystallized glass substrate, or a chemically strengthened glass substrate is used.

ここで、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法について簡単に説明する。まず、アモルファスガラス基板の製造方法について説明する。はじめに、ガラス素材を溶融し(ガラス溶融工程)、溶融したガラスを平面形状の金型に流し込み、その金型で溶融ガラスを挟むことによりプレス成形し、円盤状のガラス基板を作製する(プレス成形工程)。このプレス成形工程により作製され、以下に示す研削・研磨工程が施される前段階の半製品のガラス基板を「ブランクス材」と称する。そのブランクス材の中心部に孔を開け、ドーナツ状のガラス基板(穴明きブランクス材)を作製する。   Here, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic recording media is demonstrated easily. First, a method for manufacturing an amorphous glass substrate will be described. First, a glass material is melted (glass melting step), the molten glass is poured into a planar mold, and the molten glass is sandwiched between the molds to be press-molded to produce a disk-shaped glass substrate (press molding) Process). A glass substrate of a semi-finished product that is produced by this press molding process and subjected to the grinding / polishing process described below is referred to as a “blank material”. A hole is made in the center of the blank material, and a doughnut-shaped glass substrate (perforated blank material) is produced.

ドーナツ状のガラス基板(穴明きブランクス材)は、両表面を研削加工され、基板の平行度、平坦度、及び厚さが予備調整される(第1ラッピング工程)。平行度等が予備調整されたガラス基板は、外周端面、孔の内周端面が研削され、面取りされて、ガラス基板の外径寸法及び真円度、並びに孔の内径寸法等が微調整される(端面研削加工工程)。なお、ダイヤモンドを用いて削る工程を研削工程と称する。外径寸法等が微調整されたガラス基板は、外周端面及び内周端面が研磨され、端面の鏡面化が行われる(端面研磨工程)。なお、CeOを用いて削る工程を研磨工程と称する。端面が研磨されたガラス基板は両表面を再度、研削加工され、ガラス基板の平行度、平坦度、及び厚さが微調整される(第2ラッピング工程)。平行度等が微調整されたガラス基板は、両表面が研磨され、表面の凹凸が均一にされ(ポリッシング工程)、最後に洗浄される。このようにして最終製品としての磁気記録媒体用ガラス基板が作製される。 The doughnut-shaped glass substrate (perforated blanks material) is ground on both surfaces, and the parallelism, flatness, and thickness of the substrate are preliminarily adjusted (first lapping step). The glass substrate whose parallelism is preliminarily adjusted is ground and chamfered on the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the hole, and the outer diameter and roundness of the glass substrate, the inner diameter of the hole, and the like are finely adjusted. (End grinding process). The process of cutting with diamond is called a grinding process. The glass substrate whose outer diameter is finely adjusted, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface are polished, and the end surface is mirror-finished (end surface polishing step). Note that the step of cutting using CeO 2 is referred to as a polishing step. The glass substrate whose end face is polished is ground again on both surfaces, and the parallelism, flatness, and thickness of the glass substrate are finely adjusted (second lapping step). The glass substrate whose degree of parallelism and the like has been finely adjusted is polished on both surfaces, the surface irregularities are made uniform (polishing step), and finally cleaned. In this way, a glass substrate for a magnetic recording medium as a final product is produced.

また、結晶化ガラス基板を作製する場合は、上記のプレス成形工程の後に、アモルファスガラス基板(ブランクス材)をセラミック製の板で挟んで熱処理して結晶化させる(結晶化工程)。アニール工程の後は、上述した第1ラッピング工程〜ポリッシング工程の処理が施される。   Moreover, when producing a crystallized glass substrate, after an above-mentioned press molding process, an amorphous glass substrate (blanks material) is pinched | interposed with the board | plates made from a ceramic, and it is made to crystallize (crystallization process). After the annealing process, the above-described first lapping process to polishing process are performed.

また、化学強化ガラス基板を作製する場合は、溶融及びプレス成形して得られたガラス基板(ブランクス材)に対して、ポリッシング工程までの処理を施した後、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム等の混合された溶融塩中に浸漬することにより表面に圧縮応力層を形成して破壊強度を高める。その後洗浄工程の処理が施される。   Moreover, when producing a chemically strengthened glass substrate, the glass substrate (blanks material) obtained by melting and pressing is subjected to the treatment up to the polishing step, and then mixed with sodium nitrate, potassium nitrate, and the like. By immersing in molten salt, a compressive stress layer is formed on the surface to increase the fracture strength. Thereafter, a cleaning process is performed.

このようにして作製されたガラス基板の表面に磁性層等を積層することにより、磁気記録媒体が作製される。また、最終製品としての磁気記録媒体用ガラス基板の平面度は、8[μm]以下、好ましくは5[μm]以下が要求され、一般的な規格となっている。この平面度は仮想の基準平面からの変位量のMax−Min値で表されている。   A magnetic recording medium is manufactured by laminating a magnetic layer or the like on the surface of the glass substrate thus manufactured. Further, the flatness of the glass substrate for a magnetic recording medium as a final product is required to be 8 [μm] or less, preferably 5 [μm] or less, which is a general standard. This flatness is represented by the Max-Min value of the amount of displacement from the virtual reference plane.

磁気記録媒体に記録された磁気記録情報を読み取るための磁気ヘッドは、磁気記録媒体に対してその表面から浮上した状態で移動するように構成されている。磁気記録媒体の平面度が高い(悪い)と、磁気ヘッドが移動するときに磁気記録媒体と磁気ヘッドとが衝突し、磁気ヘッドの損傷、磁気記録媒体の傷つき等の不具合が生じるおそれがある。   A magnetic head for reading magnetic recording information recorded on a magnetic recording medium is configured to move in a state of floating from the surface of the magnetic recording medium. If the flatness of the magnetic recording medium is high (bad), the magnetic recording medium and the magnetic head collide when the magnetic head moves, and there is a possibility that problems such as damage to the magnetic head and damage to the magnetic recording medium may occur.

また、磁性膜を成膜した磁気記録媒体をハードディスクドライブに組み込んで固定する際に、平面度が高い(悪い)と磁気記録媒体が割れてしまうおそれがある。   Further, when a magnetic recording medium having a magnetic film formed thereon is assembled and fixed in a hard disk drive, if the flatness is high (poor), the magnetic recording medium may be broken.

このような不具合の発生を抑制するため、プレス成形で得られたガラス基板(ブランクス材)に対して研削加工(第1ラッピング工程)が施され、第1ラッピング工程後において、平面度を8[μm]以下、好ましくは5[μm]以下にし、ガラス基板の表面を平行、平坦にする試みがなされている(例えば特許文献1)。   In order to suppress the occurrence of such defects, the glass substrate (blank material) obtained by press molding is subjected to grinding (first lapping step), and after the first lapping step, the flatness is set to 8 [ Attempts to make the surface of the glass substrate parallel and flat have been made (for example, Patent Document 1).

また、大量の磁気記録媒体用ガラス基板を上記の平面度で量産するために、基板間における平面度のばらつきを少なくし、標準偏差も小さくする必要がある。近年においては、平面度を3[μm]以下、標準偏差を0.2[μm]以下にしたガラス基板が要求されている。   Further, in order to mass-produce a large number of glass substrates for magnetic recording media with the above flatness, it is necessary to reduce the variation in flatness between the substrates and to reduce the standard deviation. In recent years, a glass substrate having a flatness of 3 [μm] or less and a standard deviation of 0.2 [μm] or less is required.

半製品のガラス基板(ブランクス材)は、上述したように、プレス成形工程において溶融されたガラス素材を金型でプレスすることにより作製される。その後、第1のラッピング工程が施される。プレス成形工程のプレス時間は数秒で、ガラス素材は千度以上に熱せされた高温状態から常温まで急冷される。   As described above, the semi-finished glass substrate (blank material) is produced by pressing the glass material melted in the press molding process with a mold. Thereafter, a first lapping process is performed. The press time in the press molding process is a few seconds, and the glass material is rapidly cooled from a high temperature state heated to 1000 degrees C to normal temperature.

通常、プレス成形工程後のガラス基板(ブランクス材)の平面度は100〜150[μm]である。結晶化ガラスは上述した熱処理(結晶化工程)において、平面を有するセラミック等の板でブランクス材を挟み込み、数百℃の高温で10〜30時間の熱処理を行う必要があるため、結晶化の他に、副次的に平面度が良好になり、平面度は約50[μm]になる。   Usually, the flatness of the glass substrate (blanks material) after a press molding process is 100-150 [micrometers]. Since crystallized glass needs to be subjected to heat treatment for 10 to 30 hours at a high temperature of several hundred degrees Celsius by sandwiching a blanks material with a flat plate such as ceramic in the heat treatment (crystallization step) described above, In addition, the flatness becomes secondary and the flatness becomes about 50 [μm].

このように結晶化工程を施すことにより、平面度を良好にすることが可能になるが、アモルファスガラス基板と比べて、結晶化工程が必要であるため、工程数が多くなりコストも増加してしまう。また、結晶化工程を施しても、平面度は約50[μm]にしかならない。   By performing the crystallization process in this way, it becomes possible to improve the flatness, but since the crystallization process is necessary as compared with the amorphous glass substrate, the number of processes increases and the cost also increases. End up. Further, even when the crystallization process is performed, the flatness is only about 50 [μm].

従って、プレス成形工程直後で平面度が100〜150[μm]のアモルファスガラス基板(ブランクス材)や、平面度が約50[μm]の結晶化ガラス(ブランクス材)を第1のラッピング工程にて研削し、平面度を8[μm]以下、好ましくは5[μm]以下に加工する必要がある。   Therefore, an amorphous glass substrate (blanks material) with a flatness of 100 to 150 [μm] immediately after the press molding process and a crystallized glass (blanks material) with a flatness of about 50 [μm] are used in the first lapping process. It is necessary to grind and process the flatness to 8 [μm] or less, preferably 5 [μm] or less.

特開2003−63831号公報JP 2003-63831 A

通常、第1ラッピング工程では、複数のガラス基板(ブランクス材)から表面の凹凸状態が似ている基板を選別し、ほぼ同一形状のガラス基板(ブランクス材)を加工単位(50〜150枚)にまとめ、その凹凸状態に対応した研磨を行っている。そして、その研磨の初期の条件(圧力・回転数)を適正化(低圧力・低回転数)して加工を行う。さらに、第1ラッピング工程終了後に、さらに平面度を基準にしてガラス基板を選別し、第2ラッピング工程にて更に平面度の改善を行う。従来においては、このように基板を選別する作業が必要であるため、製品化までの時間と手間が必要以上にかかってしまう問題があった。   Usually, in a 1st lapping process, the board | substrate with which the uneven | corrugated state of the surface is similar is selected from several glass substrates (blanks material), and the glass substrate (blanks material) of substantially the same shape is made into a processing unit (50-150 sheets). In summary, polishing corresponding to the uneven state is performed. Then, the initial polishing conditions (pressure and rotational speed) are optimized (low pressure and low rotational speed). Furthermore, after completion of the first lapping step, the glass substrate is further selected based on the flatness, and the flatness is further improved in the second lapping step. Conventionally, since it is necessary to sort the substrates in this way, there has been a problem that it takes more time than necessary to take the product and time and effort.

また、プレス成形工程において、プレス速度を遅くすることで平面度を向上させることは可能であるが、そのためには金型を加熱し、ガラスを固化させる速さを遅くする必要があり、生産性が阻害されてしまう。   Also, in the press molding process, it is possible to improve the flatness by slowing down the press speed, but for that purpose it is necessary to heat the mold and slow down the speed of solidifying the glass. Will be disturbed.

また、アモルファスガラス基板を結晶化させるためには、約700度の高温で熱処理を行う必要があるため、コストが増加してしまう。   Further, in order to crystallize the amorphous glass substrate, it is necessary to perform a heat treatment at a high temperature of about 700 degrees, so that the cost increases.

この発明は上記の問題を解決するものであり、表面を凹面にすることでガラス基板の中心部付近に比べて外周部側の厚さを厚くすることにより、研削によって比較的容易に所望の平面度が得られるガラス基板、及びそのガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-mentioned problem, and by making the surface concave, the thickness on the outer peripheral portion side is increased compared to the vicinity of the central portion of the glass substrate, so that a desired plane can be relatively easily obtained by grinding. It aims at providing the glass substrate from which a degree is obtained, and the manufacturing method of the glass substrate.

請求項1に記載の発明は、研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研磨及び前記研削される前のガラス基板であって、円盤状の形状を有し、少なくとも一方の面が凹面であり、前記凹面の曲率半径rが2〜12[m]であることを特徴とするガラス基板である。   The invention according to claim 1 is a glass substrate before being polished and ground to produce a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground, and has a disk shape, The glass substrate is characterized in that at least one surface is concave, and the radius of curvature r of the concave surface is 2 to 12 [m].

請求項2に記載の発明は、研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研磨及び前記研削される前のガラス基板であって、円盤状の形状を有し、少なくとも一方の面が凹面であり、前記円盤の半径をRとし、前記凹面の曲率半径をrとすると、r/Rが3〜10[1/m]となることを特徴とするガラス基板である。 The invention according to claim 2 is the glass substrate before being polished and ground to produce a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground, and has a disk shape, A glass substrate characterized in that at least one surface is concave, the radius of the disk is R, and the radius of curvature of the concave surface is r, r / R 2 is 3 to 10 [1 / m]. is there.

請求項3に記載の発明は、研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研磨及び前記研削される前のガラス基板であって、溶融したガラス素材を凸状形状のプレス用金型で挟んでプレスすることによって製造されることを特徴とするガラス基板である。   The invention according to claim 3 is a glass substrate before the grinding and grinding to produce a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground, and the molten glass material is formed into a convex shape. It is a glass substrate manufactured by sandwiching and pressing with a pressing mold.

請求項4に記載の発明は、研磨及び研削されることによって磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研磨及び前記研削される前のガラス基板の製造方法であって、溶融したガラス素材を凸状形状のプレス用金型で挟んでプレスすることによってガラス基板を作製することを特徴とするガラス基板の製造方法である。   Invention of Claim 4 is a manufacturing method of the glass substrate before the said grinding | polishing and said grinding for manufacturing the glass substrate for magnetic recording media by grinding | polishing and grinding, Comprising: The molten glass raw material is used. A glass substrate production method comprising producing a glass substrate by sandwiching and pressing between convex pressing dies.

請求項5に記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のガラス基板、又は請求項4に記載のガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板の両面を研磨及び研削することによって作製されることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板である。   The invention according to claim 5 polishes and grinds both surfaces of the glass substrate according to any one of claims 1 to 3 or the glass substrate produced by the method for producing a glass substrate according to claim 4. It is a glass substrate for magnetic recording media manufactured by this.

請求項6に記載の発明は、請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のガラス基板、又は請求項4に記載のガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板の両面を研磨及び研削することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法である。   The invention described in claim 6 polishes and grinds both surfaces of the glass substrate according to any one of claims 1 to 3 or the glass substrate manufactured by the method for manufacturing a glass substrate according to claim 4. This is a method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium.

この発明のガラス基板は、両面が研削及び研磨されることにより磁気記録媒体に用いられるガラス基板であり、研削加工が施される前段階のガラス基板(ブランクス材)である。このガラス基板(ブランクス材)は、片面又は両面が凹面となっているため、円盤状の基板の縁部が最も厚さがあり、中心部に向けて徐々に薄くなっている。   The glass substrate of the present invention is a glass substrate used for a magnetic recording medium by grinding and polishing both surfaces, and is a glass substrate (blanks material) in a previous stage where grinding is performed. Since this glass substrate (blank material) has a concave surface on one or both sides, the edge of the disk-shaped substrate has the greatest thickness and gradually becomes thinner toward the center.

基板の平行度、平坦度、及び厚さを予備調整するために、このガラス基板の両面を研削する。この研削加工は第1のラッピング工程に相当する。このガラス基板の両面を研削すると、厚さが最も厚い縁部から研削され、徐々に中心部に向かって研削されていく。基板の両面が平坦になるまで研削する。ガラス基板の外周部側が砥石に接してその外周部側から研削されるため、安定して研削することが可能となる。つまり、外周部はガラス基板の円周となるため、研磨機の砥石と接する部分の面積が比較的大きくなり、ガラス基板に局部的な応力集中を発生させることなく、表面を研削することが可能となる。その結果、研削後の表面の平面度を比較的低く(良く)することが可能となるため、最終製品としての磁気記録媒体用ガラス基板に求められている平面度の要求を満たすことが可能となる。   In order to precondition the parallelism, flatness, and thickness of the substrate, both sides of the glass substrate are ground. This grinding process corresponds to the first lapping step. When both surfaces of the glass substrate are ground, the glass is ground from the thickest edge and gradually ground toward the center. Grind until both sides of the substrate are flat. Since the outer peripheral side of the glass substrate is in contact with the grindstone and is ground from the outer peripheral side, it is possible to perform stable grinding. In other words, since the outer periphery is the circumference of the glass substrate, the area of the portion that contacts the grinding wheel of the polishing machine becomes relatively large, and the surface can be ground without causing local stress concentration on the glass substrate. It becomes. As a result, the flatness of the surface after grinding can be made relatively low (good), and the flatness requirement required for the glass substrate for magnetic recording media as the final product can be satisfied. Become.

このように、縁部から中心部に向かって徐々に研削されていくことにより、研削後のガラス基板の平面度は低く(良く)なり、例えば、モバイルに用いられる2.5インチの磁気記録媒体用のガラス基板に要求される平面度の基準を十分に満たすことができる。また、磁気記録媒体の大きさに関係なく、この発明のガラス基板を用いることにより、平面度を容易に低く(良く)することが可能となる。   Thus, by gradually grinding from the edge toward the center, the flatness of the ground glass substrate becomes low (good). For example, a 2.5-inch magnetic recording medium used for mobile The standard of flatness required for a glass substrate can be sufficiently satisfied. Further, by using the glass substrate of the present invention regardless of the size of the magnetic recording medium, the flatness can be easily lowered (good).

なお、この発明のガラス基板にはホウ珪酸ガラスやアルミノシリケートガラス等のアモルファスガラス基板が用いられるが、特にそれらの材料に限定されるものではない。   In addition, although amorphous glass substrates, such as a borosilicate glass and an aluminosilicate glass, are used for the glass substrate of this invention, it does not specifically limit to those materials.

また、研削の加工時間を考慮すると、凹面の曲率半径rを2[m]以上、又はr/Rを3[1/m]以上とすることが望ましく、この発明のガラス基板の製造可能な範囲を考慮すると、凹面の曲率半径rを12[m]以下、又はr/Rを10[1/m]以下とすることが望ましい。 In consideration of the grinding time, it is desirable that the radius of curvature r of the concave surface is 2 [m] or more, or r / R 2 is 3 [1 / m] or more, and the glass substrate of the present invention can be manufactured. Considering the range, it is desirable that the radius of curvature r of the concave surface is 12 [m] or less, or r / R 2 is 10 [1 / m] or less.

この発明によると、ガラス基板の外周部側が砥石に接してその外周部側から研削されるため、安定して研削することが可能となり、研削後の表面の平面度を比較的低くすることが可能となる。その結果、最終製品としての磁気記録媒体用ガラス基板に求められている平面度の要求を満たすことが可能となる。   According to the present invention, since the outer peripheral side of the glass substrate is in contact with the grindstone and is ground from the outer peripheral side, it is possible to perform stable grinding, and the flatness of the surface after grinding can be made relatively low. It becomes. As a result, it is possible to satisfy the flatness requirement required for a glass substrate for a magnetic recording medium as a final product.

例えば、2.5インチ基板を用いた場合、研削後の平面度を5μm程度にすることが可能となり、平面度が低い(良い)磁気記録媒体用ガラス基板を作製することが可能となる。そして、その磁気記録媒体用ガラス基板を用いると、表面が傷つきにくい磁気記録媒体を製造することができる。   For example, when a 2.5 inch substrate is used, the flatness after grinding can be reduced to about 5 μm, and a glass substrate for a magnetic recording medium having a low (good) flatness can be produced. When the glass substrate for magnetic recording medium is used, a magnetic recording medium whose surface is hardly damaged can be manufactured.

さらに、この発明によると、プレス成型工程にてガラスを固化させる速さを遅くさせる必要もなく、また、平面度を得るため結晶化させる必要もないため、ガラス基板(ブランクス材)の生産性が向上し、生産コストを削減することが可能となる。   Furthermore, according to the present invention, it is not necessary to slow down the speed of solidifying the glass in the press molding process, and it is not necessary to crystallize in order to obtain flatness, so the productivity of the glass substrate (blanks material) is increased. It is possible to improve and reduce production costs.

以下、この発明の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板について、図1乃至図7を参照しつつ説明する。   Hereinafter, a glass substrate for a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

[第1の実施の形態]
まず、この発明の第1の実施形態に係る磁気記録媒体用のガラス基板について、図1乃至図5を参照しつつ説明する。
[First Embodiment]
First, a glass substrate for a magnetic recording medium according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(構成)
第1の実施形態に係る磁気記録媒体用のガラス基板1の構成について、図1を参照しつつ説明する。図1は、この発明の第1の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の構造を示すものであり、図1(a)はガラス基板1の斜視図、図1(b)は図1(a)に示すガラス基板1の断面図である。
(Constitution)
The structure of the glass substrate 1 for magnetic recording media according to the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows the structure of a glass substrate for a magnetic recording medium according to the first embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a perspective view of the glass substrate 1, and FIG. 1 (b) is FIG. It is sectional drawing of the glass substrate 1 shown to a).

本実施形態に係るガラス基板1は、円盤状の形状を有し、ハードディスク等の磁気記録媒体の基板として用いられる。図1に示されているガラス基板1は、第1ラッピング工程が施される前の段階の半製品としてのガラス基板(ブランクス材)である。このガラス基板(ブランクス材)に対して、上述した第1ラッピング工程〜ポリッシング工程を施すことにより、磁性膜を成膜する前の、最終製品としての磁気記録媒体用のガラス基板が得られる。   The glass substrate 1 according to the present embodiment has a disk shape and is used as a substrate for a magnetic recording medium such as a hard disk. A glass substrate 1 shown in FIG. 1 is a glass substrate (blanks material) as a semi-finished product at a stage before the first lapping step. By performing the above-described first lapping process to polishing process on the glass substrate (blank material), a glass substrate for a magnetic recording medium as a final product before the magnetic film is formed can be obtained.

このガラス基板1はアモルファスガラスからなり、図1(a)に示すように、その表面1a、1b(表面1bは表面1aの裏面)は凹面となっている。この構造について更に図1(b)を参照しつつ説明する。この断面図は、ガラス基板1の直径における断面を示している。なお、図1(a)には、表面1aが示されているが、その反対の面である表面1bも凹面となっている。   The glass substrate 1 is made of amorphous glass, and as shown in FIG. 1A, the front surfaces 1a and 1b (the front surface 1b is the back surface of the front surface 1a) are concave. This structure will be further described with reference to FIG. This cross-sectional view shows a cross section of the diameter of the glass substrate 1. In addition, although the surface 1a is shown by Fig.1 (a), the surface 1b which is the opposite surface is also concave.

図1(b)に示すように、表面1a、1bが凹面で曲面となっていることにより、ガラス基板1は外周部3の厚さd1が最も厚く、中心部2に向かって徐々にその厚さが薄くなり、中心部2の厚さd2が最も薄くなるように形成されている(外周部3の厚さd1≧中心部2の厚さd2)。つまり、中心部2に比べて外周部3の方が突出した形状をなし、表面1aと表面1bとは互いに反対の方向に反っている。また、このガラス基板1の表面1aと表面1bは同じ曲率を有しているが、曲率が異なっても構わない。例えば、表面1aの曲率よりも表面1bの曲率の方が大きく、表面1bの反りが表面1aよりも大きくても良い。また、その逆であっても構わない。ここで、ガラス基板1の半径をR(直径を2R)とする。   As shown in FIG. 1 (b), the surfaces 1a and 1b are concave and curved, so that the glass substrate 1 has the thickest thickness d1 of the outer peripheral portion 3 and gradually increases toward the central portion 2. And the thickness d2 of the center portion 2 is formed to be the thinnest (thickness d1 of the outer peripheral portion 3 ≧ thickness d2 of the center portion 2). That is, the outer peripheral portion 3 has a shape protruding from the center portion 2, and the surface 1a and the surface 1b are warped in opposite directions. Moreover, although the surface 1a and the surface 1b of this glass substrate 1 have the same curvature, a curvature may differ. For example, the curvature of the surface 1b may be larger than the curvature of the surface 1a, and the curvature of the surface 1b may be larger than that of the surface 1a. The reverse is also possible. Here, the radius of the glass substrate 1 is R (diameter is 2R).

なお、本実施形態においては、模式的に表面1a、1bは滑らかに形成されているが、これは便宜的に説明するためであって、実際のガラス基板においては、その表面には「うねり」や「微小うねり」が発生している。このような「うねり」等が発生しているガラス基板であっても、巨視的に見て、外周部3から中心部2に向けて徐々に厚さが薄くなって、中心部2に比べて外周部3が突出していれば良い。つまり、その「うねり」が無視できるように、「うねり」の大きさに比べて、ガラス基板1の表面1a、1bの反りが大きければ良い。   In the present embodiment, the surfaces 1a and 1b are schematically formed smoothly, but this is for the sake of convenience. In an actual glass substrate, the surface is “swelled”. And “micro swell”. Even in a glass substrate in which such “swells” or the like occur, the thickness gradually decreases from the outer peripheral portion 3 toward the central portion 2 as compared with the central portion 2 when viewed macroscopically. The outer peripheral part 3 should just protrude. That is, it is only necessary that the warpage of the surfaces 1a and 1b of the glass substrate 1 is larger than the size of the “swell” so that the “swell” can be ignored.

(研削工程:ラッピング工程)
次に、本実施形態のガラス基板1を用いて、最終製品の磁気記録媒体用ガラス基板を作製する工程について図2及び図3を参照しつつ説明する。図2は、この発明の第1の実施形態に係るガラス基板を研削する工程を順番に示す基板の断面図である。図3は、ガラス基板を研削する状態を模式的に示す斜視図である。この工程は上述した第1ラッピング工程に相当し、ガラス基板1(ブランクス材)の両面を研削することにより、基板の平行度、平面度、及び厚さを調整する。なお、第1ラッピング工程を施す前に、ガラス基板1(ブランクス材)の中心部に孔を開け、ドーナツ状のガラス基板(穴明きブランクス材)を作製するが、図3においては、説明の便宜上、中心部の孔の図示を省略する。
(Grinding process: lapping process)
Next, a process for producing a glass substrate for a magnetic recording medium as a final product using the glass substrate 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a cross-sectional view of the substrate sequentially illustrating the steps of grinding the glass substrate according to the first embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view schematically showing a state in which the glass substrate is ground. This step corresponds to the above-described first lapping step, and the parallelism, flatness, and thickness of the substrate are adjusted by grinding both surfaces of the glass substrate 1 (blanks material). In addition, before giving a 1st lapping process, a hole is made in the center part of the glass substrate 1 (blanks material), and a doughnut-shaped glass substrate (perforated blanks material) is produced, but in FIG. For convenience, the illustration of the central hole is omitted.

第1ラッピング工程では、図3に示すように、通常、上型12aの砥石13aと下型12bの砥石13bとの間に加工用キャリア11を挟み、キャリア11にガラス板1を保持する。このキャリア11を、矢印Aのように回転させることによって、各ガラス板1を所定の厚さに研削することができる。   In the first lapping step, as shown in FIG. 3, the processing carrier 11 is usually sandwiched between the grindstone 13 a of the upper mold 12 a and the grindstone 13 b of the lower mold 12 b, and the glass plate 1 is held on the carrier 11. By rotating the carrier 11 as indicated by an arrow A, each glass plate 1 can be ground to a predetermined thickness.

次に、ガラス基板1が研削される様子を説明する。図2(a)に示すように、まず、ガラス基板1(ブランクス材)を砥石13a、13bで両面から挟み込み、この状態でガラス基板1の両表面1a、1bを研削していく。この状態においては、ガラス基板1の表面1a、1bの外周部3が砥石13a、13bに接している。   Next, how the glass substrate 1 is ground will be described. As shown in FIG. 2 (a), first, the glass substrate 1 (blanks material) is sandwiched from both sides by the grindstones 13a and 13b, and both surfaces 1a and 1b of the glass substrate 1 are ground in this state. In this state, the outer peripheral portions 3 of the surfaces 1a and 1b of the glass substrate 1 are in contact with the grindstones 13a and 13b.

研削を続けると、ガラス基板1の外周部3は徐々に削られ、削られた部分は平坦になっていく。外周部3が、研磨機の砥石13a、13bと接しているため、砥石13a、13bとの接触面積は大きくなり、局部的な応力集中を発生させることなくガラス基板1を研削することができる。つまり、外周部3は円盤状のガラス基板1の円周となるため、砥石13a、13bとの接触部分が多くなる。そして、図2(b)に示すように、外周部6が平坦化されたガラス基板4が作製される。   When grinding continues, the outer peripheral portion 3 of the glass substrate 1 is gradually scraped, and the shaved portion becomes flat. Since the outer peripheral portion 3 is in contact with the grindstones 13a and 13b of the polishing machine, the contact area with the grindstones 13a and 13b is increased, and the glass substrate 1 can be ground without causing local stress concentration. That is, since the outer peripheral part 3 becomes the circumference of the disk-shaped glass substrate 1, a contact part with the grindstones 13a and 13b increases. And as shown in FIG.2 (b), the glass substrate 4 with which the outer peripheral part 6 was planarized is produced.

さらに研削を続けると、外周部6から中心部5に向かって徐々に削られていき、図2(c)に示すように、中心部8まで研削され、両表面が平坦になるまで研削される。そして、図2(d)に示すように、所望の厚さになるまで研削を続け、磁気記録媒体用のガラス基板10を作製する。   As the grinding continues further, it is gradually cut from the outer peripheral portion 6 toward the central portion 5, and is ground to the central portion 8 as shown in FIG. 2 (c) and is ground until both surfaces are flattened. . Then, as shown in FIG. 2D, grinding is continued until a desired thickness is obtained, and a glass substrate 10 for a magnetic recording medium is manufactured.

このように、両面が凹面となっているガラス基板1(ブランクス材)を研削することにより、研削後のガラス基板10の平面度は良好となり、例えば、モバイルに用いられる2.5インチの磁気記録媒体用のガラス基板に要求される平面度の基準を十分に満たすことが可能となる。   Thus, by grinding the glass substrate 1 (blank material) whose both surfaces are concave, the flatness of the glass substrate 10 after grinding becomes good. For example, 2.5-inch magnetic recording used for mobiles. It becomes possible to sufficiently satisfy the standard of flatness required for the glass substrate for the medium.

なお、両面が凸面となっているガラス基板(ブランクス材)を研削すると、表面が凸面となっているため、表面の中心部と砥石13a、13bとが接触し、その接触面積は小さくなる。その結果、局部的な応力集中を発生させずにガラス基板を研削することができず、平面度を低く(良く)することは困難となる。本実施形態に係るガラス基板1のように、表面を凹面とすることで、安定してガラス基板1を研削することができ、平面度を低く(良く)することが可能となる。   In addition, when the glass substrate (blanks material) which has both surfaces convex is ground, since the surface is convex, the center of the surface and the grindstones 13a and 13b are in contact with each other, and the contact area is reduced. As a result, the glass substrate cannot be ground without causing local stress concentration, and it becomes difficult to reduce (good) the flatness. By setting the surface to be concave like the glass substrate 1 according to this embodiment, the glass substrate 1 can be stably ground, and the flatness can be lowered (good).

以上の加工は第1ラッピング工程に相当し、研削して得られたガラス基板10に対して、さらに、端面研削工程、端面研磨工程、第2ラッピング工程、ポリッシング工程を施すことにより、最終製品としての磁気記録媒体用ガラス基板が得られる。そして、この磁気記録媒体用ガラス基板に磁性膜を成膜することにより、磁気記録媒体が作製される。   The above processing corresponds to the first lapping step, and the glass substrate 10 obtained by grinding is further subjected to an end surface grinding step, an end surface polishing step, a second lapping step, and a polishing step as a final product. A glass substrate for a magnetic recording medium is obtained. And a magnetic recording medium is produced by forming a magnetic film on this glass substrate for magnetic recording media.

また、表面1a、1bに「うねり」が発生しているガラス基板であっても、この発明の効果を奏することが可能とである。「うねり」が発生していても、中心部2に比べて外周部3が突出することにより、中心部2よりも外周部3の方が厚さは厚く、外周部3から中心部2に向けて薄くなるため、面積が大きい外周部3が砥石13a、13bに接触する。その結果、ガラス基板1が安定して研削されるため、研削後の表面の平面度は比較的良くなる。   In addition, even if the glass substrate has “swells” on the surfaces 1a and 1b, the effect of the present invention can be achieved. Even if “undulation” occurs, the outer peripheral portion 3 protrudes more than the central portion 2, so that the outer peripheral portion 3 is thicker than the central portion 2, and the outer peripheral portion 3 moves toward the central portion 2. Therefore, the outer peripheral portion 3 having a large area comes into contact with the grindstones 13a and 13b. As a result, since the glass substrate 1 is stably ground, the flatness of the surface after grinding is relatively good.

(製造方法)
次に、本実施形態に係るガラス基板1の製造方法について、図4を参照しつつ説明する。図4は、この発明の第1の実施形態に係るガラス基板の製造方法を順番に示す基板の断面図である。この製造方法は上述したプレス成形工程に相当する。図4(a)に示すように、凸面を有する金型14a、14bを用意する。
(Production method)
Next, the manufacturing method of the glass substrate 1 which concerns on this embodiment is demonstrated, referring FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the substrate sequentially illustrating the glass substrate manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. This manufacturing method corresponds to the press molding step described above. As shown in FIG. 4A, molds 14a and 14b having convex surfaces are prepared.

次に、図4(b)に示すように、溶融したガラス素材15を金型14aと金型14bとで挟み込み、プレス成形し、円盤状のガラス基板1を作製する。このように、凸面を有する金型を用いてプレス成形することにより、本実施形態のガラス基板1が得られる。   Next, as shown in FIG. 4B, the molten glass material 15 is sandwiched between a mold 14a and a mold 14b and press-molded to produce a disk-shaped glass substrate 1. Thus, the glass substrate 1 of this embodiment is obtained by press-molding using the metal mold | die which has a convex surface.

本実施形態に係るガラス基板1によれば、プレス成型工程においてガラスを固化させる速さを遅くしたり、結晶化させたりする必要もないため、ガラス基板の生産性を向上させ、生産コストを削減することが可能となる。   According to the glass substrate 1 according to the present embodiment, it is not necessary to slow down or crystallize the glass in the press molding process, thereby improving the productivity of the glass substrate and reducing the production cost. It becomes possible to do.

また、上述したガラス基板1は両面が凹面となっているが、この発明はそれに限られず、例えば図5(a)に示す基板の断面図のように、一方の面(片面)のみが凹面であっても良い。片面のみが凹面であっても、研削後のガラス基板の平面度は良好になる。図5(a)に示すガラス基板20は上述のガラス基板1と同様に円盤状の形状を有し、その表面20aは凹面となっている。また、図5(a)においては、表面20bを平坦に図示したが、これは説明上便宜的なものであり、実際は、「うねり」等によって平面度が高くなっている。このように、ガラス基板20は外周部22の厚さが最も厚く、中止部21に向かって徐々にその厚さが薄くなり、中心部21の厚さが最も薄くなるように形成されている。   Further, the glass substrate 1 described above is concave on both sides, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in the cross-sectional view of the substrate shown in FIG. 5A, only one side (one side) is concave. There may be. Even if only one surface is concave, the flatness of the glass substrate after grinding is good. The glass substrate 20 shown to Fig.5 (a) has a disk shape similarly to the above-mentioned glass substrate 1, The surface 20a is a concave surface. Further, in FIG. 5A, the surface 20b is illustrated as being flat, but this is for convenience of explanation, and the flatness is actually increased due to “swell” or the like. Thus, the glass substrate 20 is formed so that the outer peripheral portion 22 has the largest thickness, the thickness gradually decreases toward the stop portion 21, and the central portion 21 has the smallest thickness.

図3に示すキャリア11にガラス基板20を保持し、ガラス基板20の上下両面を砥石13a、13bによって研削する。このような構造を有するガラス基板20であってもこの発明の効果を奏することが可能である。上述のガラス基板1と同様に、ガラス基板20の両面を研削すると、外周部22が砥石13a、13bに接触するため、接触する部分が多くなり、安定して研削することができる。   The glass substrate 20 is held on the carrier 11 shown in FIG. 3, and the upper and lower surfaces of the glass substrate 20 are ground by the grindstones 13a and 13b. Even the glass substrate 20 having such a structure can achieve the effects of the present invention. Similarly to the glass substrate 1 described above, when both surfaces of the glass substrate 20 are ground, the outer peripheral portion 22 comes into contact with the grindstones 13a and 13b.

まず、図5(a)に示すように、ガラス基板20(ブランクス材)を砥石13a、13bで両面から挟み込み、この状態でガラス基板20の両表面20a、20bを研削していく。この状態においては、ガラス基板20の表面20aの外周部22が砥石13aに接している。   First, as shown to Fig.5 (a), the glass substrate 20 (blanks material) is inserted | pinched with the grindstones 13a and 13b from both surfaces, and both surfaces 20a and 20b of the glass substrate 20 are ground in this state. In this state, the outer peripheral portion 22 of the surface 20a of the glass substrate 20 is in contact with the grindstone 13a.

研削を続けると、ガラス基板20の表面20aの外周部22と表面20bとが徐々に削られ、削られた部分は平坦になっていく。表面20aにおいては、外周部22が砥石13aに接しているため、砥石13aとの接触面積が大きくなり、安定してガラス基板20を研削することができる。従って、図5(b)に示すように、表面23aの外周部25が平坦化されたガラス基板23が作製される。   If grinding is continued, the outer peripheral portion 22 and the surface 20b of the surface 20a of the glass substrate 20 are gradually scraped, and the shaved portion becomes flat. Since the outer peripheral portion 22 is in contact with the grindstone 13a on the surface 20a, the contact area with the grindstone 13a is increased, and the glass substrate 20 can be ground stably. Therefore, as shown in FIG. 5B, the glass substrate 23 in which the outer peripheral portion 25 of the surface 23a is flattened is manufactured.

さらに研削を続けると、表面23aについては、外周部25から中心部24に向かって徐々に削られていく。そして、図5(c)に示すように、両表面が平坦になるまで研削され、図5(d)に示すように、所望の厚さになるまで研削を続け、磁気記録媒体用のガラス基板28を作製する。   As the grinding continues further, the surface 23 a is gradually scraped from the outer peripheral portion 25 toward the central portion 24. Then, as shown in FIG. 5 (c), the surface is ground until both surfaces become flat, and as shown in FIG. 5 (d), the grinding is continued until a desired thickness is obtained, and a glass substrate for a magnetic recording medium is obtained. 28 is produced.

このように、片面が凹面となっているガラス基板20(ブランクス材)の両面を研削することにより、研削後のガラス基板28の平面度は良好となる。   Thus, the flatness of the glass substrate 28 after grinding becomes good by grinding both surfaces of the glass substrate 20 (blanks material) whose one surface is concave.

[第2の実施の形態]
次に、この発明の第2の実施形態に係るガラス基板について、図6を参照しつつ説明する。第1の実施形態に係るガラス基板は、片面又は両面が凹面で、表面が曲面になっているが、曲面となっていなくても良い。
[Second Embodiment]
Next, a glass substrate according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The glass substrate according to the first embodiment is concave on one side or both sides and has a curved surface, but may not be curved.

(構成)
第2の実施形態に係るガラス基板60の構成について、図6を参照しつつ説明する。図6は、この発明の第2の実施形態に係るガラス基板の断面図である。
(Constitution)
The configuration of the glass substrate 60 according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a sectional view of a glass substrate according to the second embodiment of the present invention.

本実施形態に係るガラス基板60は、第1の実施形態と同様に円盤状の形状を有し、その表面60a、60bはガラス基板60の内部に凹んでいるが、第1の実施形態と異なり、曲面となっていない。   The glass substrate 60 according to the present embodiment has a disk-like shape as in the first embodiment, and the surfaces 60a and 60b are recessed in the glass substrate 60, but unlike the first embodiment. It is not curved.

図6に示すように、その表面60a、60bはガラス基板60の内部に窪み、中心部61に対して外周部62が突出している。そして、中心部61の厚さが最も薄く、外周部62に向けて徐々に厚さが増し、外周部62の厚さが最も厚くなっている(外周部の厚さd6≧中心部の厚さd7)。そして、中心部61から外周部62への傾斜は直線になっている。   As shown in FIG. 6, the surfaces 60 a and 60 b are recessed inside the glass substrate 60, and the outer peripheral portion 62 projects from the central portion 61. The thickness of the central portion 61 is the smallest, the thickness gradually increases toward the outer peripheral portion 62, and the thickness of the outer peripheral portion 62 is the thickest (the thickness of the outer peripheral portion d6 ≧ the thickness of the central portion. d7). And the inclination from the center part 61 to the outer peripheral part 62 is a straight line.

このような構造を有するガラス基板60であってもこの発明の効果を奏することが可能である。第1の実施形態と同様に、ガラス基板60の両面を研削すると、外周部62が砥石13a、13bに接触するため、接触する部分が多くなり、安定して研削することができる。研削を続けると、ガラス基板60の外周部62から中心部61に向けて徐々に削られ、削られた部分は平坦になっていく。そして、中心部61まで研削し、両表面が平坦になるまで研削する。そして、所望の厚さになるまで研削を続け、磁気記録媒体用のガラス基板を作製する。   Even the glass substrate 60 having such a structure can exhibit the effects of the present invention. As in the first embodiment, when both surfaces of the glass substrate 60 are ground, the outer peripheral portion 62 comes into contact with the grindstones 13a and 13b. When grinding is continued, the glass substrate 60 is gradually scraped from the outer peripheral portion 62 toward the central portion 61, and the shaved portion becomes flat. And it grinds to the center part 61 and grinds until both surfaces become flat. Then, grinding is continued until a desired thickness is obtained, and a glass substrate for a magnetic recording medium is manufactured.

このように、両面が曲面の凹面となっていなくても、中心部に対して外周部が突出していることにより、研削後のガラス基板の平面度は良好になる。また、本実施形態におけるガラス基板60は両面が窪んでいたが、第1の実施形態のように、片面のみが窪んで、その片面が平坦でも構わない。片面のみが窪んでいる場合であっても、その片面においては砥石との接触部分が増えるため、安定して研削することが可能となる。   Thus, even if both surfaces are not curved concave surfaces, the flatness of the ground glass substrate is improved by the outer peripheral portion projecting from the central portion. Moreover, although both surfaces of the glass substrate 60 in the present embodiment are recessed, only one surface may be recessed and the one surface may be flat as in the first embodiment. Even when only one surface is depressed, the contact portion with the grindstone increases on that one surface, so that stable grinding is possible.

また、本実施形態においては、両面の傾斜の傾きが同じであるが、異なる傾きであっても構わない。例えば、図7(a)に示すガラス基板の断面図のように、ガラス基板70の表面70bの傾きに比べて表面70aの傾きが急になっていても、中心部71に比べて外周部72が突出しているため、砥石13a、13bとの接触部分が増え、安定して研削することが可能となる。   Moreover, in this embodiment, although the inclination of the inclination of both surfaces is the same, it may be different. For example, as shown in the cross-sectional view of the glass substrate in FIG. 7A, the outer peripheral portion 72 compared to the central portion 71 even when the inclination of the surface 70 a is steep compared to the inclination of the surface 70 b of the glass substrate 70. Therefore, the contact portions with the grindstones 13a and 13b are increased, and stable grinding can be performed.

さらに、本実施形態においては、中心部61の厚さが最も薄く、外周部62の厚さが最も厚くなっているが、図7(b)に示すガラス基板の断面図のように、ガラス基板80の中心部付近が斜めに形成されていなくても良い。同図に示すように、外周部82が内部に比べて突出していることにより、外周部82が砥石13a、13bと接触するため、ガラス基板80と砥石13a、13bとが接触する部分(面積)が多くなるため、安定して研削することができ、平面度が良い磁気記録媒体用ガラス基板を作製することが可能となる。なお、図7(b)においては、中心部81付近を平坦に図示したが、これは説明上便宜的なものであり、実際は、「うねり」等によって平面度が高くなっている。   Furthermore, in the present embodiment, the thickness of the central portion 61 is the smallest and the thickness of the outer peripheral portion 62 is the thickest. However, as shown in the cross-sectional view of the glass substrate in FIG. The vicinity of the central portion of 80 may not be formed obliquely. As shown in the figure, since the outer peripheral portion 82 protrudes in comparison with the inner portion, the outer peripheral portion 82 comes into contact with the grindstones 13a and 13b, so that the glass substrate 80 and the grindstones 13a and 13b come into contact with each other (area). Therefore, a glass substrate for a magnetic recording medium that can be stably ground and has good flatness can be produced. In FIG. 7B, the vicinity of the central portion 81 is illustrated as being flat. However, this is for convenience of explanation, and the flatness is actually increased due to “swell” or the like.

さらに、この発明は上述した実施形態に限定されるものではない。ガラス基板の表面が曲面又は直線状のいずれであっても良く、研削される際に砥石との接触部分が増えるように外周部側が中心部に比べて突出していれば、この発明の効果を奏することが可能となる。従って、外周部の最端部が最も突出している場合が好ましい形態であるが、突出している部分が最端部から内側に位置している場合であっても構わない。   Furthermore, the present invention is not limited to the embodiment described above. The surface of the glass substrate may be either a curved surface or a straight line, and the effect of the present invention can be achieved as long as the outer peripheral side protrudes from the center so as to increase the contact portion with the grindstone when grinding. It becomes possible. Therefore, although the case where the outermost edge part protrudes most is a preferable form, you may be a case where the protruded part is located inside the outermost part.

つまり、ガラス基板の端部は円周の長さを有するため、中心部が砥石と接触するよりも、外周部側が砥石と接触する方が、接触部分(面積)が多くなり、ガラス基板が安定して研削され、平面度が良い磁気記録媒体用ガラス基板を作製することが可能となる。   In other words, since the end of the glass substrate has a circumferential length, the contact portion (area) is larger when the outer peripheral side is in contact with the grindstone than when the central portion is in contact with the grindstone, and the glass substrate is stable. Thus, it becomes possible to produce a glass substrate for a magnetic recording medium that is ground and has good flatness.

[実施例]
次に、この発明の具体的な実施例について説明する。
[Example]
Next, specific examples of the present invention will be described.

(実施例1)
まず、実施例1として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例1としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=3737[mm](=3.737[m])
表面1a及び表面1bのr/R=3.33[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
Example 1
First, as Example 1, a specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 as Example 1 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 67 [mm]
Thickness of the central part 2: d2 = 0.95 [mm]
The thickness of the outer peripheral part 3: d1 = 1.25 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 3737 [mm] (= 3.737 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 3.33 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

この実施例1のガラス基板1の両面を第1ラッピング工程において研削することにより、両面が平坦なガラス基板10を作製する。この第1のラッピング工程における研削の条件を説明する。
研磨機:スピードファム社製の16B型両面研磨機
研磨材:ダイヤモンドをペレット状に焼成成型した「ダイヤモンドペレット(DP)」を研磨定磐上に貼り付けた「ダイヤモンドプレート」
タイヤモンドペレットは三井研削砥石社製であり、ダイヤモンドの粒子径は10〜30[μm](平均15[μm])
加工圧:100〜300[g/cm](通常、200[g/cm])
回転数:5〜50[rpm](通常、30[rpm])
By grinding both surfaces of the glass substrate 1 of the first embodiment in the first lapping step, the glass substrate 10 having both flat surfaces is produced. The grinding conditions in the first lapping step will be described.
Polishing machine: 16B type double-side polishing machine manufactured by Speed Fam Co., Ltd. Abrasive: “Diamond Pellet (DP)” made by baking and molding diamond into a pellet shape “Diamond Plate” pasted on a polishing plate
Tiremond pellets are manufactured by Mitsui Grinding Wheel Co., Ltd., and the diamond particle size is 10 to 30 [μm] (average 15 [μm]).
Processing pressure: 100 to 300 [g / cm 2 ] (normally 200 [g / cm 2 ])
Rotation speed: 5-50 [rpm] (normally 30 [rpm])

以上の条件でガラス基板1の両面を研削し、加工前のガラス基板1と加工後のガラス基板10の平面度の評価を行った。平面度の評価には、基板での反射が十分にあり、光学的に行える場合は、基準平面と測定物との光学的な干渉(ニュートンリング)を利用した「光干渉法」によって行う。一方、反射が低く、光学的な測定が困難な場合は、「光干渉法」の代用法としてダイヤルゲージ法を用いる。   The both surfaces of the glass substrate 1 were ground on the above conditions, and the flatness of the glass substrate 1 before processing and the glass substrate 10 after processing was evaluated. The flatness is evaluated by “optical interference method” using optical interference (Newton ring) between the reference plane and the object to be measured, when there is sufficient reflection on the substrate and it can be optically performed. On the other hand, when reflection is low and optical measurement is difficult, the dial gauge method is used as an alternative to the “light interference method”.

例えば、数ミクロンレベルの平面度を評価する場合には、ニュートンリングを利用した「光干渉法」によって評価を行い、数十ミクロンレベルの平面度で反射が低い場合は、ダイヤルゲージ法によって評価を行った。光干渉法では、ニディック社製の光干渉計を用い、ダイヤルゲージ法では、ミツトヨ製のダイヤルゲージを用いた自社製の測定治具を用いた。ガラス基板1の平面度の評価は、外周部を基準として、中央部の変位量をダイヤルゲージで測定する方法で行った。なお、第1のラッピング工程後のガラス基板10に対しては、「光干渉法」で行った。   For example, when evaluating flatness on the order of several microns, use the “light interference method” using Newton rings, and when the reflection is low at a flatness of several tens of microns, use the dial gauge method. went. In the optical interference method, an optical interferometer manufactured by Nidick was used, and in the dial gauge method, an in-house measuring jig using a Mitutoyo dial gauge was used. Evaluation of the flatness of the glass substrate 1 was performed by a method of measuring a displacement amount of the central portion with a dial gauge with reference to the outer peripheral portion. It should be noted that the glass substrate 10 after the first lapping process was performed by “optical interference method”.

(研削前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.165[mm]
標準偏差:0.025[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0035[mm](=3.5[μm])
標準偏差:0.00023[mm](=0.23[μm])
以上のように、本実施例に係るガラス基板を用いると、第1ラッピング工程にて平面度が良好なガラス基板を得ることが可能となる。このことにより、例えば、2.5インチのハードディスクに用いられるガラス基板に要求される平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.165 [mm]
Standard deviation: 0.025 [mm]
(Evaluation results for glass substrate 10 after grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.0035 [mm] (= 3.5 [μm])
Standard deviation: 0.00023 [mm] (= 0.23 [μm])
As described above, when the glass substrate according to the present embodiment is used, it is possible to obtain a glass substrate with good flatness in the first lapping step. Thus, for example, it is possible to satisfy the flatness standard required for a glass substrate used for a 2.5-inch hard disk.

なお、光学的に平面度を評価できない場合は、触針式の粗さ計等を用いても構わない。その場合は、ガラス基板1又はガラス基板10の端から反対側の端までをスキャンし、凹凸を線状に測定する。そして、基準に対するMax−Min値を求め、最大変位量をもって平面度とし、評価を行っても良い。   If the flatness cannot be optically evaluated, a stylus roughness meter or the like may be used. In that case, the scanning is performed from the end of the glass substrate 1 or the glass substrate 10 to the opposite end, and the unevenness is measured in a linear shape. Then, the Max-Min value with respect to the reference may be obtained, and the maximum displacement amount may be used as the flatness for evaluation.

また、実施例1に係るガラス基板の製造条件について具体的に説明する。本実施例に係るガラス基板を製造するためには、凸面を有する金型を用意する。この金型で溶融したガラス素材を挟んでプレス成形することにより、実施例1に係るガラス基板を得ることができる。以下に、ガラスの種類及び金型の一例を示す。
ガラスの種類:ホウ珪酸ガラス、アルミノシリケートガラス
凸面を有する金型:凸面の曲率半径が2500[mm](=2.5[m])、外周部に比べて中心部が0.15[mm]だけ突出している。
Moreover, the manufacturing conditions of the glass substrate which concerns on Example 1 are demonstrated concretely. In order to manufacture the glass substrate according to the present embodiment, a mold having a convex surface is prepared. The glass substrate according to Example 1 can be obtained by press-molding with a glass material melted by this mold. Below, an example of the kind of glass and a metal mold | die is shown.
Type of glass: Borosilicate glass, aluminosilicate glass Mold with convex surface: curvature radius of convex surface is 2500 [mm] (= 2.5 [m]), center part is 0.15 [mm] compared to outer peripheral part Only protruding.

(実施例2)
次に、実施例2として、第1の実施形態に係るガラス基板1の別の具体例を説明する。実施例2のガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.05[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=11222[mm](=11.22[m])
表面1a及び表面1bのr/R=10.0[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
(Example 2)
Next, as Example 2, another specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 of Example 2 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 67 [mm]
Thickness of the central part 2: d2 = 0.95 [mm]
The thickness of the outer peripheral part 3: d1 = 1.05 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 11222 [mm] (= 111.22 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 10.0 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1と同じ条件(光干渉法又はダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Example 1 (first lapping step). Then, the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated under the same conditions (optical interference method or dial gauge method) as in Example 1.

(研削前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.045[mm]
標準偏差:0.0027[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0031[mm](=3.1[μm])
標準偏差:0.00013[mm](=0.13[μm])
以上のように、実施例2についても実施例1と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.045 [mm]
Standard deviation: 0.0027 [mm]
(Evaluation results for glass substrate 10 after grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.0031 [mm] (= 3.1 [μm])
Standard deviation: 0.00013 [mm] (= 0.13 [μm])
As described above, also in Example 2, it is possible to obtain a glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less in the same manner as in Example 1, and it is possible to satisfy the standard of flatness.

(実施例3)
次に、実施例3として、第1の実施形態に係るガラス基板1の別の具体例を説明する。実施例3のガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.95[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=5611[mm](=5.611[m])
表面1a及び表面1bのr/R=5.00[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
(Example 3)
Next, as Example 3, another specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 of Example 3 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 67 [mm]
Thickness of the central part 2: d2 = 0.95 [mm]
The thickness of the outer peripheral part 3: d1 = 1.25 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 5611 [mm] (= 5.611 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 5.00 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1と同じ条件(光干渉法又はダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Example 1 (first lapping step). Then, the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated under the same conditions (optical interference method or dial gauge method) as in Example 1.

(研削前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.098[mm]
標準偏差:0.0022[mm」
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0032[mm](=3.2[μm])
標準偏差:0.00010[mm](=0.10[μm])
以上のように、実施例2についても実施例1と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.098 [mm]
Standard deviation: 0.0022 [mm]
(Evaluation results for glass substrate 10 after grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.0032 [mm] (= 3.2 [μm])
Standard deviation: 0.00010 [mm] (= 0.10 [μm])
As described above, also in Example 2, it is possible to obtain a glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less in the same manner as in Example 1, and it is possible to satisfy the standard of flatness.

上記の実施例1から実施例3では、直径(2R)が67[mm]のガラス基板を用いた例について説明した。以下に示す実施例4から実施例6では、直径(2R)が49[mm]のガラス基板を用いた例について説明する。   In Example 1 to Example 3 described above, an example in which a glass substrate having a diameter (2R) of 67 [mm] is used has been described. In the following Example 4 to Example 6, an example in which a glass substrate having a diameter (2R) of 49 [mm] is used will be described.

(実施例4)
次に、実施例4として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例4としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.25[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=2000mm(=2[m])
表面1a及び表面1bのr/R=3.33[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
Example 4
Next, as Example 4, a specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 as Example 4 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 49 [mm]
Center part 2 thickness: d2 = 0.98 [mm]
The thickness of the outer peripheral part 3: d1 = 1.25 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 2000 mm (= 2 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 3.33 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1〜3と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1〜3と同じ条件(光干渉法又はダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Examples 1 to 3 (first lapping step). And the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated on the same conditions (optical interference method or dial gauge method) as Examples 1-3.

(研削前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.152[mm]
標準偏差:0.034[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0028[mm](=2.8[μm])
標準偏差:0.00011[mm](=0.11[μm])
以上のように、実施例4についても実施例1〜3と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before grinding)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.152 [mm]
Standard deviation: 0.034 [mm]
(Evaluation results for glass substrate 10 after grinding)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.0028 [mm] (= 2.8 [μm])
Standard deviation: 0.00011 [mm] (= 0.11 [μm])
As described above, the glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less can be obtained in the fourth embodiment as well as the first to third embodiments, and the flatness criterion can be satisfied.

(実施例5)
次に、実施例5として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例5としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.18[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=3000[mm](=3[m])
表面1a及び表面1bのr/R=5.00[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
(Example 5)
Next, as Example 5, a specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 as Example 5 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 49 [mm]
Center part 2 thickness: d2 = 0.98 [mm]
Thickness of outer peripheral part 3: d1 = 1.18 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 3000 [mm] (= 3 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 5.00 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1〜4と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1〜4と同じ条件(光干渉法又はダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Examples 1 to 4 (first lapping step). And the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated on the same conditions (optical interference method or dial gauge method) as Examples 1-4.

(研削前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.103[mm]
標準偏差:0.024[mm]
(研削後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0024[mm](=2.4[μm])
標準偏差:0.00009[mm](=0.09[μm])
以上のように、実施例5についても実施例1〜4と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before grinding)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.103 [mm]
Standard deviation: 0.024 [mm]
(Evaluation results for glass substrate 10 after grinding)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.0024 [mm] (= 2.4 [μm])
Standard deviation: 0.00009 [mm] (= 0.09 [μm])
As described above, also in Example 5, it is possible to obtain a glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less in the same manner as in Examples 1 to 4, and the flatness standard can be satisfied.

(実施例6)
次に、実施例6として、第1の実施形態に係るガラス基板1の具体例を説明する。実施例6としてのガラス基板1の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=49[mm]
中心部2の厚さ:d2=0.98[mm]
外周部3の厚さ:d1=1.08[mm]
表面1a及び表面1bの曲率半径r:r=6000[mm](=6[m])
表面1a及び表面1bのr/R=10.0[1/m]
また、このガラス基板1は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
(Example 6)
Next, as Example 6, a specific example of the glass substrate 1 according to the first embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 1 as Example 6 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 49 [mm]
Center part 2 thickness: d2 = 0.98 [mm]
Thickness of the outer peripheral portion 3: d1 = 1.08 [mm]
Radius of curvature r of surface 1a and surface 1b: r = 6000 [mm] (= 6 [m])
R / R 2 of the surface 1a and the surface 1b = 10.0 [1 / m]
The glass substrate 1 is composed of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1〜5と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1〜5と同じ条件(光干渉法、ダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Examples 1 to 5 (first lapping step). Then, the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated under the same conditions (optical interference method, dial gauge method) as in Examples 1-5.

(研磨前のガラス基板1に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.054[mm]
標準偏差:0.0052[mm]
(研磨後のガラス基板10に対する評価結果)
評価枚数:350
平面度:0.0021[mm](=2.1[μm])
標準偏差:0.00008[mm](=0.08[μm])
以上のように、実施例6についても実施例1〜5と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 1 before polishing)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.054 [mm]
Standard deviation: 0.0052 [mm]
(Evaluation results for the polished glass substrate 10)
Evaluation number: 350
Flatness: 0.0021 [mm] (= 2.1 [μm])
Standard deviation: 0.00008 [mm] (= 0.08 [μm])
As described above, also in Example 6, it is possible to obtain a glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less as in Examples 1 to 5, and it is possible to satisfy the standard of flatness.

上記に示した実施例1から実施例6のように、表面1a及び表面1bを凹面とすることにより、研磨及び研削後の平面度を5[μm]以下とすることができ、要求される平面度の基準を満たすことが可能となる。また、ガラス基板1の寸法にかかわらず平面度を5[μm]以下にすることが可能である。なお、上記の実施例はこの発明の一例であり、この発明が上記の実施例に限定されることはなく、表面1a又は表面1bのうち少なくとも1面が凹面であれば、この発明の作用及び効果を奏することが可能である。   By making the surface 1a and the surface 1b concave as in the first to sixth embodiments shown above, the flatness after polishing and grinding can be made 5 [μm] or less, and the required plane It is possible to meet the degree standard. Further, the flatness can be made 5 [μm] or less regardless of the size of the glass substrate 1. In addition, said Example is an example of this invention, This invention is not limited to said Example, If at least 1 surface is the concave surface among the surface 1a or the surface 1b, the effect | action of this invention and It is possible to produce an effect.

また、上記の実施例1から実施例6により、曲率半径rを2000[mm](=2[m])以上(または、r/Rを3[1/m]以上)とすることにより、研削の加工時間が長くならずにガラス基板を研削することが可能となるため、製造時間を短縮することができる。さらに、ガラス基板の製造可能な範囲を考慮すると、曲率半径rを12000[mm](=12[m])以下(または、r/Rを10[1/m]以下)とすることが望ましい。なお、曲率半径rが2[m](r/Rが3[1/m])より小さくても、研削の加工時間を延ばすことにより、この発明の効果を奏することが可能である。 Further, according to the first to sixth embodiments, the curvature radius r is set to 2000 [mm] (= 2 [m]) or more (or r / R 2 is set to 3 [1 / m] or more). Since the glass substrate can be ground without increasing the grinding time, the manufacturing time can be shortened. Furthermore, in consideration of the range in which the glass substrate can be manufactured, it is desirable that the radius of curvature r is 12000 [mm] (= 12 [m]) or less (or r / R 2 is 10 [1 / m] or less). . Even if the curvature radius r is smaller than 2 [m] (r / R 2 is 3 [1 / m]), it is possible to achieve the effects of the present invention by extending the grinding time.

つまり、この発明の実施形態に係るガラス基板1においては、表面1a及び表面1bの曲率半径rを2〜12[m](または、r/Rを3〜10[1/m])とすることが望ましい。曲率半径rが2〜12[m]の範囲内では、ガラス基板1の製造が可能であり、曲率半径rが大きくなるほど研削の加工時間が短くて済む。 That is, in the glass substrate 1 according to the embodiment of the present invention, the curvature radius r of the surface 1a and the surface 1b is 2 to 12 [m] (or r / R 2 is 3 to 10 [1 / m]). It is desirable. When the curvature radius r is in the range of 2 to 12 [m], the glass substrate 1 can be manufactured, and the larger the curvature radius r, the shorter the grinding time.

(実施例7)
次に、実施例7として、第2の実施形態に係るガラス基板60の具体例を説明する。実施例7としてのガラス基板60の寸法は、以下のようになっている。
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部61の厚さ:d7=0.98[mm]
外周部62の厚さ:d6=1.18[mm]
また、このガラス基板60は、ホウ珪酸ガラスのアモルファスガラス基板からなる。
(Example 7)
Next, as Example 7, a specific example of the glass substrate 60 according to the second embodiment will be described. The dimensions of the glass substrate 60 as Example 7 are as follows.
Size: Diameter (2R) = 67 [mm]
Thickness of the central portion 61: d7 = 0.98 [mm]
The thickness of the outer peripheral part 62: d6 = 1.18 [mm]
The glass substrate 60 is made of an amorphous glass substrate of borosilicate glass.

実施例1から実施例6と同じ条件でこのガラス基板の両面を研削する(第1ラッピング工程)。そして、実施例1から実施例6と同じ条件(光干渉法又はダイヤルゲージ法)で研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of this glass substrate are ground under the same conditions as in Examples 1 to 6 (first lapping step). Then, the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated under the same conditions (optical interference method or dial gauge method) as in Example 1 to Example 6.

(研削前のガラス基板60に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.1[mm]
標準偏差:0.0033[mm]
(研削後のガラス基板に対する評価結果)
評価枚数:300
平面度:0.0031[mm](=3.1[μm])
標準偏差:0.00023[mm](=0.23[μm])
以上のように、実施例7についても実施例1から実施例6と同様に平面度が5[μm]以下のガラス基板を得ることが可能となり、平面度の基準を満たすことが可能となる。
(Evaluation results for the glass substrate 60 before grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.1 [mm]
Standard deviation: 0.0033 [mm]
(Evaluation results for glass substrate after grinding)
Evaluation number: 300
Flatness: 0.0031 [mm] (= 3.1 [μm])
Standard deviation: 0.00023 [mm] (= 0.23 [μm])
As described above, also in Example 7, it is possible to obtain a glass substrate having a flatness of 5 [μm] or less in the same manner as in Examples 1 to 6, and the flatness standard can be satisfied.

(比較例)
次に、実施例1〜実施例7に対する比較例を以下に説明する。実施例1〜実施例7のガラス基板は、凸面を有する金型を用いて成型されているが、比較例のガラス基板は、表面が平坦な金型を用いて成型されている。つまり、実施例1〜実施例7のガラス基板は、表面が意図的に凹面になるように、凸面の金型を用いて成型しているが、この比較例のガラス基板は、従来から用いられている平坦な金型を用いて成型されている。
(Comparative example)
Next, comparative examples for Examples 1 to 7 will be described below. Although the glass substrate of Example 1- Example 7 is shape | molded using the metal mold | die which has a convex surface, the glass substrate of a comparative example is shape | molded using the metal mold | die with a flat surface. In other words, the glass substrates of Examples 1 to 7 are molded using a convex mold so that the surface is intentionally concave, but the glass substrate of this comparative example has been conventionally used. It is molded using a flat mold.

比較例としてのガラス基板の寸法は、以下のようになっている。
評価枚数:100枚
大きさ:直径(2R)=67[mm]
中心部及び外周部の厚さの平均値:1.25[mm]
100枚のガラス基板における、中心部と外周部との厚さの差(外周部の厚さ−中心部の厚さ)は、以下のようになっている。
100枚の平均値:0.03[mm]
最大値:0.12[mm]
最小値:−0.11[mm](外周部よりも中心部の方が厚い)
標準偏差:0.06[mm]
このように、平坦な金型を用いて成型すると、ガラス基板の厚さは均一にならず、部分的に厚さが異なってしまう。
The dimensions of the glass substrate as a comparative example are as follows.
Evaluation number: 100 Size: Diameter (2R) = 67 [mm]
Average thickness of the central part and the outer peripheral part: 1.25 [mm]
The difference in thickness between the central portion and the outer peripheral portion (the thickness of the outer peripheral portion−the thickness of the central portion) in 100 glass substrates is as follows.
Average value of 100 sheets: 0.03 [mm]
Maximum value: 0.12 [mm]
Minimum value: -0.11 [mm] (the central part is thicker than the outer peripheral part)
Standard deviation: 0.06 [mm]
Thus, if it molds using a flat metallic mold, the thickness of a glass substrate will not become uniform, but thickness will differ partially.

この比較例のガラス基板の両面を第1ラッピング工程において研削及する。第1ラッピング工程における研削の条件は、実施例1と同じである。そして、実施例1〜実施例7と同じ条件で、研削後のガラス基板の平面度を評価する。   Both surfaces of the glass substrate of this comparative example are ground in the first lapping step. The grinding conditions in the first lapping step are the same as those in the first embodiment. And the flatness of the glass substrate after grinding is evaluated on the same conditions as Examples 1-7.

(研削後のガラス基板に対する評価結果)
評価枚数:100枚
平面度(平均値):0.0042[mm](=4.2[μm])
標準偏差:0.0015[mm](=1.5[μm])
平面度の平均値は、5[μm]以下となるが、100枚中、23枚のガラス基板においては、平面度は5[μm]より大きくなり、この発明の実施例のような良好な結果が得られなかった。
(Evaluation results for glass substrate after grinding)
Evaluation number: 100 Flatness (average value): 0.0042 [mm] (= 4.2 [μm])
Standard deviation: 0.0015 [mm] (= 1.5 [μm])
The average value of the flatness is 5 [μm] or less. However, in 23 out of 100 glass substrates, the flatness is larger than 5 [μm], which is a good result as in the example of the present invention. Was not obtained.

以上の結果から、平坦な金型を用いてガラス基板を成型すると、ガラス基板全体がうねりの様に変形してしまい、そのうねりの中でうねりが最も大きい部分から研削されるため、その部分に大きな応力が集中し、その結果、研削後の平面度を大きく(悪く)してしまうと考えられる。   From the above results, when a glass substrate is molded using a flat mold, the entire glass substrate is deformed like a swell, and since the swell is ground from the largest part of the swell, the part is ground. It is considered that a large stress is concentrated, and as a result, the flatness after grinding is increased (deteriorated).

この発明の第1の実施形態に係るガラス基板の構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of the glass substrate which concerns on 1st Embodiment of this invention. この発明の第1の実施形態に係るガラス基板を研削する工程を順番に示す基板の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate which shows the process of grinding the glass substrate which concerns on 1st Embodiment of this invention in order. ガラス基板を研削する状態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which grinds a glass substrate typically. この発明の第1の実施形態に係るガラス基板の製造方法を順番に示す基板の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate which shows the manufacturing method of the glass substrate which concerns on 1st Embodiment of this invention in order. この発明の第1の実施形態に係るガラス基板を研削する工程を順番に示す基板の断面図である。It is sectional drawing of the board | substrate which shows the process of grinding the glass substrate which concerns on 1st Embodiment of this invention in order. この発明の第2の実施形態に係るガラス基板の断面図である。It is sectional drawing of the glass substrate which concerns on 2nd Embodiment of this invention. この発明の第2の実施形態に係るガラス基板の断面図である。It is sectional drawing of the glass substrate which concerns on 2nd Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1、10、20、28、60、70、80 ガラス基板
1a、1b、20a、20b、60a、60b、70a、70b、80a、80b 表面
2、21、61、71、81 中心部
3、22、62、72、82 外周部
13a、13b 砥石
14a、14b 金型
15 溶融したガラス素材
1, 10, 20, 28, 60, 70, 80 Glass substrate 1a, 1b, 20a, 20b, 60a, 60b, 70a, 70b, 80a, 80b Surface 2, 21, 61, 71, 81 Center part 3, 22, 62, 72, 82 Outer peripheral portion 13a, 13b Grinding wheel 14a, 14b Mold 15 Melted glass material

Claims (6)

研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研削される前のガラス基板であって、
円盤状の形状を有し、少なくとも一方の面が凹面であり、
前記凹面の曲率半径rが2〜12[m]
であることを特徴とするガラス基板。
The glass substrate before being ground for producing a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground,
Having a disk-like shape, at least one surface being concave,
The radius of curvature r of the concave surface is 2 to 12 [m].
A glass substrate characterized by being:
研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研削される前のガラス基板であって、
円盤状の形状を有し、少なくとも一方の面が凹面であり、
前記円盤の半径をRとし、
前記凹面の曲率半径をrとすると、
r/Rが3〜10[1/m]
となることを特徴とするガラス基板。
The glass substrate before being ground for producing a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground,
Having a disk-like shape, at least one surface being concave,
Let R be the radius of the disk,
If the radius of curvature of the concave surface is r,
r / R 2 is 3 to 10 [1 / m]
A glass substrate characterized by:
研磨及び研削されることにより磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研削される前のガラス基板であって、
溶融したガラス素材を凸状形状のプレス用金型で挟んでプレスすることによって製造されることを特徴とするガラス基板。
The glass substrate before being ground for producing a glass substrate for a magnetic recording medium by being polished and ground,
A glass substrate manufactured by sandwiching and pressing a molten glass material with a convex pressing mold.
研磨及び研削されることによって磁気記録媒体用ガラス基板を製造するための前記研削される前のガラス基板の製造方法であって、
溶融したガラス素材を凸状形状のプレス用金型で挟んでプレスすることによってガラス基板を作製することを特徴とするガラス基板の製造方法。
A method of manufacturing a glass substrate before being ground for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium by polishing and grinding,
A method for producing a glass substrate, comprising producing a glass substrate by sandwiching and pressing a molten glass material with a convex pressing mold.
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のガラス基板、又は請求項4に記載のガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板の両面を研磨及び研削することによって作製されることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。   It is produced by polishing and grinding both surfaces of the glass substrate according to any one of claims 1 to 3 or the glass substrate produced by the method for producing a glass substrate according to claim 4. A glass substrate for magnetic recording media. 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のガラス基板、又は請求項4に記載のガラス基板の製造方法によって製造されたガラス基板の両面を研磨及び研削することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。

A glass substrate according to any one of claims 1 to 3, or a glass substrate produced by the method for producing a glass substrate according to claim 4, wherein both surfaces of the glass substrate are polished and ground. A method for producing a glass substrate.

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