JP2006221116A - Coating film for optical compensation, coating liquid for forming coating film, optical element manufactured by using the coating liquid, and method of manufacturing optical element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶セル等による位相差の光学補償を行うための光学補償用塗工膜、該塗工膜形成に好適な光学補償用塗工膜形成用塗工液、その塗工液を用いて製造した光学素子並びに光学素子の製造方法に関するものである。 The present invention uses an optical compensation coating film for optical compensation of retardation by a liquid crystal cell, an optical compensation coating film forming coating solution suitable for forming the coating film, and the coating liquid. The present invention relates to an optical element manufactured by the method and a method for manufacturing the optical element.
液晶表示装置には液晶セルの複屈折による位相差を補償して視野角の拡大を図るため、光学補償用の位相差フィルムが使用されている。例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したものが挙げられる(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。使用される液晶に合わせてポリカーボネートのような正の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムやポリスチレンのような負の固有複屈折値を有する材料からなるフィルムが使い分けられているが、これらのフィルムを用いるためには煩雑なフィルム化工程が必要であり、また、液晶表示装置構成部品に貼り付ける等の手間も要する。これを解消するために、nz<nx=nyの光学特性を有するポリイミドのペースト塗布が提案されている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、nz>nx≧nyの光学特性をもつもの、換言すれば、〔(nx+ny)/2−nz〕×dとして表される厚み位相差の値が負になるものについては提案されていない。
本発明の目的は、煩雑なフィルム化工程を必要とせずに〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の特性をもつ光学補償用塗工膜を提供し、フィルム貼り付け等の手間を必要とせずにその特性を有する光学素子を提供することである。 An object of the present invention is to provide an optical compensation coating film having a characteristic of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 without requiring a complicated film forming step, and film pasting It is an object of the present invention to provide an optical element having the characteristics without requiring such troubles.
このような課題を解決するために本発明者らは鋭意研究の結果、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜とすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。 Such problems present inventors to solve is the result of intense research, largest of the n x of the in-plane refractive index of the time of thinning, the smallest ones and n y, in the thickness direction refraction An optical compensation coating film comprising a polymer satisfying a relationship of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0, where the rate is n z and the film thickness is d As a result, the inventors have found that the above-described problems can be solved, and have reached the present invention.
すなわち、本発明は、
薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体を含有することを特徴とする光学補償用塗工膜(請求項1)であり、
前記重合体が、芳香族ビニル系重合体であることを特徴とする請求項1記載の光学補償用塗工膜(請求項2)であり、
重合体が、ポリ(1−ビニルナフタレン)、ポリ(2−ビニルナフタレン)、ポリ(4−ビニルビフェニル)から選ばれる少なくとも一つを含有するかその一つであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光学補償用塗工膜(請求項3,4)であり、
下記(A)、(B)を含有して形成される光学補償用塗工膜形成用塗工液(請求項5)であり、
(A)請求項1乃至請求項4記載の重合体
(B)(A)成分が可溶な溶媒
請求項5記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工した後、必要に応じ(B)成分の蒸気にさらして塗工膜をアニーリングし、乾燥する光学素子の製造方法(請求項6,7)であり、
請求項5記載の光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工、乾燥してなる光学素子(請求項8)であり、
請求項6または請求項7のいずれか1項に記載の製造方法により製造した光学素子(請求項9)である。
That is, the present invention
When largest of the n x of the in-plane refractive index of the time of thinning, the smallest ones and n y, the refractive index in the thickness direction n z, the film thickness is d, [(n x + n y ) / 2- nz ] × d <0, a coating film for optical compensation characterized in that it contains a polymer satisfying the relationship:
The optical compensation coating film (claim 2) according to claim 1, wherein the polymer is an aromatic vinyl polymer.
The polymer contains or is at least one selected from poly (1-vinylnaphthalene), poly (2-vinylnaphthalene), and poly (4-vinylbiphenyl). Or a coating film for optical compensation according to claim 2 (claims 3 and 4),
It is a coating liquid for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B) (claim 5),
(A) The polymer according to claims 1 to 4 (B) The solvent in which the component (A) is soluble After the coating liquid for forming an optical compensation coating film according to claim 5 is applied to a substrate, It is a method for producing an optical element (Claims 6 and 7), wherein the coating film is annealed by exposure to the vapor of the component (B) as necessary and dried.
An optical element (Claim 8) obtained by applying the coating liquid for forming an optical compensation coating film according to claim 5 to a substrate and drying the substrate.
It is an optical element (Claim 9) manufactured by the manufacturing method of any one of Claim 6 or Claim 7.
また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たすことを特徴とする光学補償用塗工膜を提供した。 The maximum one of n x of the in-plane refractive index, minimum one of the n y, the refractive index in the thickness direction n z, the thickness is taken as d, [(n x + n y) / 2 An optical compensation coating film characterized by satisfying the relationship of −n z ] × d <0 was provided.
また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体を使用して形成した光学補償用塗工膜を提供した。 Further, an unstretched film formed by the solution casting method when the maximum refractive index in the plane is nx , the minimum is ny , the refractive index in the thickness direction is nz , and the film thickness is d. The coating film for optical compensation formed using the polymer which satisfy | fills the relationship of [( nx + ny ) / 2- nz ] * d <0 was provided.
また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を提供した。 Further, an unstretched film formed by the solution casting method when the maximum refractive index in the plane is nx , the minimum is ny , the refractive index in the thickness direction is nz , and the film thickness is d. Provides a coating solution for forming an optical compensation coating film comprising a polymer satisfying the relationship of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 and a solvent capable of solubilizing the polymer. did.
また、面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをny、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時に、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体と、この重合体を可溶可能な溶媒からなる光学補償用塗工膜形成用塗工液を基板に塗工し、必要に応じ前記重合体を可溶可能な溶媒の蒸気にさらしてアニーリングし、更に乾燥する光学素子の製造方法を提供した。 Further, an unstretched film formed by the solution casting method when the maximum refractive index in the plane is nx , the minimum is ny , the refractive index in the thickness direction is nz , and the film thickness is d. A coating solution for forming an optical compensation coating film comprising a polymer satisfying the relationship of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 and a solvent capable of solubilizing the polymer. An optical element manufacturing method is provided in which the polymer is annealed by being exposed to a vapor of a solvent capable of being dissolved as necessary and further dried.
本発明の光学補償用塗工膜を用いると、煩雑なフィルム化工程やフィルム貼り付け等の手間を必要とせずに〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の光学補償層を有する光学素子が製造できることから、工業的に極めて有用である。 When the optical compensation coating film of the present invention is used, an optical compensation of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 is achieved without the need for complicated film forming steps and film sticking. Since an optical element having a layer can be produced, it is extremely useful industrially.
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本発明における、薄膜化した際の面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnz、膜厚をdとした時、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体、または、溶液キャスト法で製膜した未延伸膜において〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体としては(以下(A)成分と言うことがある)、前記式を満たすことが可能である点から、芳香族ビニル系重合体が好適に使用できる。 In the present invention, when the largest of the n x of the in-plane refractive index of the time of thinning, the smallest ones and n y, the refractive index in the thickness direction n z, the film thickness is d, [( n x + n y) / 2 -n z ] × d <polymer satisfies the relationship of 0, or, in the unstretched film was formed into a film by a solution casting method [(n x + n y) / 2-n z ] × d As the polymer satisfying the relationship <0 (hereinafter sometimes referred to as the component (A)), an aromatic vinyl polymer can be suitably used from the viewpoint that the above formula can be satisfied.
(A)成分は、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の関係を満たす重合体である。例えば、ポリスチレン;ポリ(α−メチルスチレン);ポリ(2−メチルスチレン)、ポリ(3−メチルスチレン)、ポリ(4−メチルスチレン)、ポリ(2,4−ジメチルスチレン)、ポリ(2,5−ジメチルスチレン)、ポリ(3,4−ジメチルスチレン)、ポリ(3,5−ジメチルスチレン)、ポリ(2−エチルスチレン)、ポリ(3−エチルスチレン)、ポリ(4−エチルスチレン)、ポリ(2,4−ジエチルスチレン)、ポリ(2,5−ジエチルスチレン)、ポリ(3,4−ジエチルスチレン)、ポリ(3,5−ジエチルスチレン)、ポリ(2−プロピルスチレン)、ポリ(3−プロピルスチレン)、ポリ(4−プロピルスチレン)、ポリ(2,4−ジプロピルスチレン)、ポリ(2,5−ジプロピルスチレン)、ポリ(3,4−ジプロピルスチレン)、ポリ(3,5−ジプロピルスチレン)、ポリ(2−ブチルスチレン)、ポリ(3−ブチルスチレン)、ポリ(4−ブチルスチレン)、ポリ(2,4−ジブチルスチレン)、ポリ(2,5−ジブチルスチレン)、ポリ(3,4−ジブチルスチレン)、ポリ(3,5−ジブチルスチレン)等のポリ(アルキルスチレン);ポリ(2−メトキシスチレン)、ポリ(3−メトキシスチレン)、ポリ(4−メトキシスチレン)、ポリ(2,4−ジメトキシスチレン)、ポリ(2,5−ジメトキシスチレン)、ポリ(3,4−ジメトキシスチレン)、ポリ(3,5−ジメトキシスチレン)、ポリ(2−エトキシスチレン)、ポリ(3−エトキシスチレン)、ポリ(4−エトキシスチレン)、ポリ(2,4−ジエトキシスチレン)、ポリ(2,5−ジエトキシスチレン)、ポリ(3,4−ジエトキシスチレン)、ポリ(3,5−ジエトキシスチレン)、ポリ(2−プロポキシスチレン)、ポリ(3−プロポキシスチレン)、ポリ(4−プロポキシスチレン)、ポリ(2,4−ジプロポキシスチレン)、ポリ(2,5−ジプロポキシスチレン)、ポリ(3,4−ジプロポキシスチレン)、ポリ(3,5−ジプロポキシスチレン)、ポリ(2−ブトキシスチレン)、ポリ(3−ブトキシスチレン)、ポリ(4−ブトキシスチレン)、ポリ(2,4−ジブトキシスチレン)、ポリ(2,5−ジブトキシスチレン)、ポリ(3,4−ジブトキシスチレン)、ポリ(3,5−ジブトキシスチレン)等のポリ(アルコキシスチレン);ポリ(2−クロロスチレン)、ポリ(3−クロロスチレン)、ポリ(4−クロロスチレン)、ポリ(2,4−ジクロロスチレン)、ポリ(2,5−ジクロロスチレン)、ポリ(2,6−ジクロロスチレン)、ポリ(3,4−ジクロロスチレン)、ポリ(2−ブロモスチレン)、ポリ(3−ブロモスチレン)、ポリ(4−ブロモスチレン)、ポリ(2,4−ジブロモスチレン)、ポリ(2,5−ジブロモスチレン)、ポリ(2,6−ジブロモスチレン)、ポリ(3,4−ジブロモスチレン)、ポリ(2−ヨードスチレン)、ポリ(3−ヨードスチレン)、ポリ(4−ヨードスチレン)、ポリ(2,4−ジヨードスチレン)、ポリ(2,5−ジヨードスチレン)、ポリ(2,6−ジヨードスチレン)、ポリ(3,4−ジヨードスチレン)、ポリ(2−フルオロスチレン)、ポリ(3−フルオロスチレン)、ポリ(4−フルオロスチレン)、ポリ(2,4−ジフルオロスチレン)、ポリ(2,5−ジフルオロスチレン)、ポリ(2,6−ジフルオロスチレン)、ポリ(3,4−ジフルオロスチレン)等のポリ(ハロゲン化スチレン);ポリ(2−メトキシカルボニルスチレン)、ポリ(4−メトキシカルボニルスチレン)、ポリ(2−エトキシカルボニルスチレン)、ポリ(4−エトキシカルボニルスチレン)、ポリ(2−プロポキシカルボニルスチレン)、ポリ(4−プロポキシカルボニルスチレン)、ポリ(2−ブトキシカルボニルスチレン)、ポリ(4−ブトキシカルボニルスチレン)等のポリ(ビニル安息香酸エステル);ポリ(o−ヒドロキシスチレン)、ポリ(m−ヒドロキシスチレン)、ポリ(p−ヒドロキシスチレン)等のポリ(ヒドロキシスチレン);ポリ(1−ビニルナフタレン)、ポリ(2−ビニルナフタレン)等のビニルナフタレン系重合体;ポリ(4−ビニルビフェニル)、ポリ(3−(4−ビフェニル)スチレン)、ポリ(4−(4−ビフェニル)スチレン)等のポリ(アリールスチレン);ポリアセナフチレン等が挙げられる。また、これらの2種以上の共重合体;これらの1種又は2種以上と他のポリマーとの共重合体も用いることができる。例えば、スチレン−(α−メチルスチレン)共重合体、スチレン−(2−メチルスチレン)共重合体、スチレン−(3−メチルスチレン)共重合体、スチレン−(4−メチルスチレン)共重合体、スチレン−(2−メトキシスチレン)共重合体、スチレン−(3−メトキシスチレン)共重合体、スチレン−(4−メトキシスチレン)共重合体、スチレン−(2−クロロスチレン)共重合体、スチレン−(3−クロロスチレン)共重合体、スチレン−(4−クロロスチレン)共重合体、スチレン−(2−メトキシカルボニルスチレン)共重合体、スチレン−(4−メトキシカルボニルスチレン)共重合体、スチレン−(o−ヒドロキシスチレン)共重合体、スチレン−(m−ヒドロキシスチレン)共重合体、スチレン−(p−ヒドロキシスチレン)共重合体、スチレン−(1−ビニルナフタレン)共重合体、スチレン−(2−ビニルナフタレン)共重合体、スチレン−(4−ビニルビフェニル)共重合体、スチレン−アクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−酢酸ビニル共重合体等のスチレン系2元共重合体;(α−メチルスチレン)−(2−メチルスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(3−メチルスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(4−メチルスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(2−メトキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(3−メトキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(4−メトキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(2−クロロスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(3−クロロスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(4−クロロスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(2−メトキシカルボニルスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(4−メトキシカルボニルスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(o−ヒドロキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(m−ヒドロキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(p−ヒドロキシスチレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(1−ビニルナフタレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(2−ビニルナフタレン)共重合体、(α−メチルスチレン)−(4−ビニルビフェニル)共重合体、(α−メチルスチレン)−アクリル酸メチル共重合体、(α−メチルスチレン)−メタクリル酸メチル共重合体、(α−メチルスチレン)−イソプレン共重合体、(α−メチルスチレン)−ブタジエン共重合体、(α−メチルスチレン)−アクリロニトリル共重合体、(α−メチルスチレン)−無水マレイン酸共重合体、(α−メチルスチレン)−酢酸ビニル共重合体等のα−メチルスチレン系2元共重合体;スチレン−アクリル酸メチル−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−(α−メチルスチレン)−アクリロニトリル共重合体、スチレン−(α−メチルスチレン)−メタクリル酸メチル共重合体等の3元共重合体等が挙げられる。これらの重合体は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 The component (A) is a polymer that satisfies a relationship of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0. For example, polystyrene; poly (α-methylstyrene); poly (2-methylstyrene), poly (3-methylstyrene), poly (4-methylstyrene), poly (2,4-dimethylstyrene), poly (2, 5-dimethylstyrene), poly (3,4-dimethylstyrene), poly (3,5-dimethylstyrene), poly (2-ethylstyrene), poly (3-ethylstyrene), poly (4-ethylstyrene), Poly (2,4-diethylstyrene), poly (2,5-diethylstyrene), poly (3,4-diethylstyrene), poly (3,5-diethylstyrene), poly (2-propylstyrene), poly ( 3-propyl styrene), poly (4-propyl styrene), poly (2,4-dipropyl styrene), poly (2,5-dipropyl styrene), poly (3,4- Propylstyrene), poly (3,5-dipropylstyrene), poly (2-butylstyrene), poly (3-butylstyrene), poly (4-butylstyrene), poly (2,4-dibutylstyrene), poly Poly (alkylstyrene) such as (2,5-dibutylstyrene), poly (3,4-dibutylstyrene), poly (3,5-dibutylstyrene); poly (2-methoxystyrene), poly (3-methoxystyrene) ), Poly (4-methoxystyrene), poly (2,4-dimethoxystyrene), poly (2,5-dimethoxystyrene), poly (3,4-dimethoxystyrene), poly (3,5-dimethoxystyrene), Poly (2-ethoxystyrene), poly (3-ethoxystyrene), poly (4-ethoxystyrene), poly (2,4-diethoxystyrene), poly Poly (2,5-diethoxystyrene), poly (3,4-diethoxystyrene), poly (3,5-diethoxystyrene), poly (2-propoxystyrene), poly (3-propoxystyrene), poly (4-propoxystyrene), poly (2,4-dipropoxystyrene), poly (2,5-dipropoxystyrene), poly (3,4-dipropoxystyrene), poly (3,5-dipropoxystyrene) , Poly (2-butoxystyrene), poly (3-butoxystyrene), poly (4-butoxystyrene), poly (2,4-dibutoxystyrene), poly (2,5-dibutoxystyrene), poly (3 , 4-dibutoxystyrene), poly (3,5-dibutoxystyrene) and the like; poly (alkoxystyrene); poly (2-chlorostyrene), poly (3-chlorostyrene) ), Poly (4-chlorostyrene), poly (2,4-dichlorostyrene), poly (2,5-dichlorostyrene), poly (2,6-dichlorostyrene), poly (3,4-dichlorostyrene) , Poly (2-bromostyrene), poly (3-bromostyrene), poly (4-bromostyrene), poly (2,4-dibromostyrene), poly (2,5-dibromostyrene), poly (2,6 -Dibromostyrene), poly (3,4-dibromostyrene), poly (2-iodostyrene), poly (3-iodostyrene), poly (4-iodostyrene), poly (2,4-diiodostyrene), Poly (2,5-diiodostyrene), poly (2,6-diiodostyrene), poly (3,4-diiodostyrene), poly (2-fluorostyrene), poly (3-fluorostyrene) ), Poly (4-fluorostyrene), poly (2,4-difluorostyrene), poly (2,5-difluorostyrene), poly (2,6-difluorostyrene), poly (3,4-difluorostyrene), etc. Poly (halogenated styrene); poly (2-methoxycarbonylstyrene), poly (4-methoxycarbonylstyrene), poly (2-ethoxycarbonylstyrene), poly (4-ethoxycarbonylstyrene), poly (2-propoxycarbonyl) Styrene), poly (4-propoxycarbonylstyrene), poly (2-butoxycarbonylstyrene), poly (4-butoxycarbonylstyrene) and the like poly (vinyl benzoate); poly (o-hydroxystyrene), poly (m -Hydroxystyrene), poly (p-hydroxystyrene), etc. Poly (hydroxystyrene); vinyl naphthalene polymers such as poly (1-vinylnaphthalene) and poly (2-vinylnaphthalene); poly (4-vinylbiphenyl), poly (3- (4-biphenyl) styrene), poly Poly (arylstyrene) such as (4- (4-biphenyl) styrene); polyacenaphthylene and the like can be mentioned. Moreover, these 2 or more types of copolymers; The copolymer of these 1 type, or 2 or more types and another polymer can also be used. For example, styrene- (α-methylstyrene) copolymer, styrene- (2-methylstyrene) copolymer, styrene- (3-methylstyrene) copolymer, styrene- (4-methylstyrene) copolymer, Styrene- (2-methoxystyrene) copolymer, styrene- (3-methoxystyrene) copolymer, styrene- (4-methoxystyrene) copolymer, styrene- (2-chlorostyrene) copolymer, styrene- (3-chlorostyrene) copolymer, styrene- (4-chlorostyrene) copolymer, styrene- (2-methoxycarbonylstyrene) copolymer, styrene- (4-methoxycarbonylstyrene) copolymer, styrene- (O-hydroxystyrene) copolymer, styrene- (m-hydroxystyrene) copolymer, styrene- (p-hydroxystyrene) ) Copolymer, styrene- (1-vinylnaphthalene) copolymer, styrene- (2-vinylnaphthalene) copolymer, styrene- (4-vinylbiphenyl) copolymer, styrene-methyl acrylate copolymer, Styrenes such as styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-isoprene copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, styrene-vinyl acetate copolymer Binary copolymer; (α-methylstyrene)-(2-methylstyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(3-methylstyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(4- Methylstyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(2-methoxystyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(3-methoxy Tylene) copolymer, (α-methylstyrene)-(4-methoxystyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(2-chlorostyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(3- (Chlorostyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(4-chlorostyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(2-methoxycarbonylstyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-( 4-methoxycarbonylstyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(o-hydroxystyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(m-hydroxystyrene) copolymer, (α-methylstyrene) -(P-hydroxystyrene) copolymer, (α-methylstyrene)-(1-vinylnaphthalene) copolymer, (α-methylstyrene)-(2-vinylnaphthalene) copolymer , (Α-methylstyrene)-(4-vinylbiphenyl) copolymer, (α-methylstyrene) -methyl acrylate copolymer, (α-methylstyrene) -methyl methacrylate copolymer, (α-methyl (Styrene) -isoprene copolymer, (α-methylstyrene) -butadiene copolymer, (α-methylstyrene) -acrylonitrile copolymer, (α-methylstyrene) -maleic anhydride copolymer, (α-methyl) Α-methylstyrene binary copolymers such as styrene) -vinyl acetate copolymer; styrene-methyl acrylate-methyl methacrylate copolymer, styrene- (α-methylstyrene) -acrylonitrile copolymer, styrene- And terpolymers such as (α-methylstyrene) -methyl methacrylate copolymer. These polymers may be used alone or in combination of two or more.
上記重合体は、単独のモノマー又は2種以上のモノマーをラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤又はカチオン重合開始剤の存在下で重合することにより製造できる。 The polymer can be produced by polymerizing a single monomer or two or more monomers in the presence of a radical polymerization initiator, an anionic polymerization initiator, or a cationic polymerization initiator.
尚、(A)成分としては、特にポリ(1−ビニルナフタレン)、ポリ(2−ビニルナフタレン)、ポリ(4−ビニルビフェニル)から選ばれる少なくとも一つを含有するかその一つであることが耐熱性と、入手の容易さの点で好ましい。 The component (A) contains at least one selected from poly (1-vinylnaphthalene), poly (2-vinylnaphthalene), and poly (4-vinylbiphenyl). It is preferable in terms of heat resistance and availability.
また、(A)成分の重量平均分子量の下限は好ましくは10000、より好ましくは20000、さらに好ましくは30000であり、上限は好ましくは1000000、より好ましくは800000、さらに好ましくは600000である。重量平均分子量が10000より小さいと塗工膜強度が低下する傾向があり、重量平均分子量が1000000より大きいと溶媒に溶け難くなる傾向がある。なお、当該重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により測定した値である。本発明では、重量平均分子量が異なる重合体の2種以上を併用してもよく、単独で使用してもよい。 Further, the lower limit of the weight average molecular weight of the component (A) is preferably 10,000, more preferably 20000, still more preferably 30000, and the upper limit is preferably 1000000, more preferably 800000, and further preferably 600000. If the weight average molecular weight is less than 10,000, the coating film strength tends to decrease, and if the weight average molecular weight is greater than 1,000,000, it tends to be difficult to dissolve in the solvent. The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography (GPC). In the present invention, two or more polymers having different weight average molecular weights may be used in combination, or may be used alone.
以下、光学補償用塗工膜形成用塗工液(以下、単に塗工液と言うことがある)について説明する。塗工液は、(A)前記重合体,(B)(A)成分が可溶な溶媒、を含有して形成されていることが好ましい。 Hereinafter, a coating solution for forming an optical compensation coating film (hereinafter sometimes simply referred to as a coating solution) will be described. The coating solution is preferably formed containing (A) the polymer and (B) a solvent in which the component (A) is soluble.
(B)成分の溶媒としては、(A)成分が可溶であれば特に限定されるものではなが、具体的な例としては、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ジエチルベンゼンの異性体混合物等の炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、ヘキサクロロエタン、1−クロロプロパン、2−クロロプロパン、1,1−ジクロロプロパン、1,2−ジクロロプロパン、1,3−ジクロロプロパン、2,2−ジクロロプロパン、1,2,3−トリクロロプロパン、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロロベンゼン、1,2,3−トリクロロベンゼン、1,2,4−トリクロロベンゼン、1,3,5−トリクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1−メチル−2−ピロリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。 The solvent for the component (B) is not particularly limited as long as the component (A) is soluble. Specific examples include benzene, toluene, o-xylene, m-xylene, and p-xylene. Hydrocarbon solvents such as isomer mixtures of ethylbenzene, isopropylbenzene and diethylbenzene; methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, furfuryl alcohol, Alcohol solvents such as benzyl alcohol; ether solvents such as ethyl ether, isopropyl ether, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, tetrahydropyran, tetrahydrofuran; acetone, 2-butanone, 4-methyl-2-pentanone, Ketone solvents such as cyclohexanone; methylene chloride , Chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane , Pentachloroethane, hexachloroethane, 1-chloropropane, 2-chloropropane, 1,1-dichloropropane, 1,2-dichloropropane, 1,3-dichloropropane, 2,2-dichloropropane, 1,2,3-tri Chloropropane, chlorobenzene, 1,2-dichlorobenzene, 1,3-dichlorobenzene, 1,4-dichlorobenzene, 1,2,3-trichlorobenzene, 1,2,4-trichlorobenzene, 1,3,5-tri Halogen solvents such as chlorobenzene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, acetic acid Examples include ester solvents such as butyl; amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and 1-methyl-2-pyrrolidinone. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
本発明では、溶媒量は、(A)成分と(B)成分の総重量に対する(A)成分の割合が下限1重量%、上限70重量%の範囲で用いるのが好ましく、下限2重量%、上限60重量%の範囲で用いるのがより好ましく、下限3重量%、上限50重量%の範囲で用いるのがさらに好ましい。(A)成分の割合が1重量%より小さい場合は塗工膜厚が薄くなり、必要な膜厚が得られ難くなる傾向があり、70重量%より大きい場合は塗工液の粘度が高くなり、作業性が劣る傾向がある。 In the present invention, the amount of the solvent is preferably such that the ratio of the component (A) to the total weight of the components (A) and (B) is 1% by weight lower limit and 70% by weight upper limit, More preferably, the upper limit is 60% by weight, and the lower limit is 3% by weight and the upper limit is 50% by weight. When the proportion of the component (A) is less than 1% by weight, the coating film thickness tends to be thin and the required film thickness tends to be difficult to obtain, and when it is greater than 70% by weight, the viscosity of the coating liquid increases. , Workability tends to be inferior.
次に、本発明の塗工膜の特性を改質する目的で添加することが可能な樹脂について説明する。当該添加することが可能な樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂等が例示されるが、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。 Next, resins that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film of the present invention will be described. The resin that can be added includes polycarbonate resin, acrylic resin, polyester resin, polyolefin resin, polyamide resin, polyimide resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, cellulose resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, epoxy. Resins, silicone resins, phenol resins, urethane resins and the like are exemplified, but these can be added within a range that does not impair the object and effect of the present invention.
次に、本発明の塗工膜、塗工液の特性を改質する目的で加えることが可能な添加剤について説明する。 Next, additives that can be added for the purpose of modifying the properties of the coating film and coating solution of the present invention will be described.
添加剤としては、酸化防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGANOX 1010、IRGANOX 1135、IRGANOX 1330等のヒンダードフェノール類)、加工安定剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製HP−136、IRGANOX E201、IRGAFOS 168等)、光安定剤(例えば、三共ライフテック製サノールLS−765、サノールLS−770等のヒンダードアミン類)、紫外線吸収剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製TINUVIN P、TINUVIN 213、TINUVIN 326等のベンゾトリアゾール類)、接着性改良剤(例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤)、シラノール縮合触媒(例えば、川研ファインケミカル製アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミキレートM等のアルミニウムキレート類)、可塑剤(例えば、ジ2−エチルヘキシルフタレート、ジイソブチルアジペート等のエステル類)、界面活性剤(例えば、住友スリーエム製Fluorad FC−430、Fluorad FC−4430等のフッ素系化合物)、帯電防止剤(例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製IRGASTAT P18、IRGASTAT P22等)等が挙げられ、これらは本発明の目的及び効果を損なわない範囲において添加することができる。 Additives include antioxidants (eg, hindered phenols such as IRGANOX 1010, IRGANOX 1135, IRGANOX 1330, etc. manufactured by Ciba Specialty Chemicals), processing stabilizers (eg, HP-136, IRGANOX manufactured by Ciba Specialty Chemicals). E201, IRGAFOS 168, etc.), light stabilizers (eg, hindered amines such as Sanol LS-765 and Sanol LS-770 manufactured by Sankyo Lifetech), ultraviolet absorbers (eg, TINUVIN P, TINUVIN 213 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) Benzotriazoles such as TINUVIN 326), adhesion improvers (eg, silane compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane) Pulling agent), silanol condensation catalyst (eg, aluminum tris (ethyl acetoacetate) manufactured by Kawaken Fine Chemicals, aluminum chelate M, etc.), plasticizer (eg, esters such as di-2-ethylhexyl phthalate, diisobutyl adipate) And surfactants (for example, fluorine compounds such as Fluorad FC-430 and Fluorad FC-4430 manufactured by Sumitomo 3M), antistatic agents (for example, IRGASTAT P18 and IRGASTAT P22 manufactured by Ciba Specialty Chemicals), and the like. These can be added as long as the objects and effects of the present invention are not impaired.
本発明の塗工液は、例えば上記各成分を溶媒の融点以上、沸点以下の温度で、混合後静置又は攪拌混合等することにより得られる。 The coating liquid of the present invention can be obtained, for example, by mixing the above-mentioned components at a temperature not lower than the melting point of the solvent and not higher than the boiling point, after standing, stirring and mixing.
次に、光学素子用の基板について説明する。基板としては、各種のものが使用可能であるが、特に用途から考えると透明であることが好ましい。具体的な例としては、ビスフェノールAと塩化カルボニルより重縮合して製造されたポリカーボネート系重合体;ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のポリアクリル酸エステル;アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の2塩基酸とエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等のグリコールとの縮合又はラクトン類の開環重合で得られるポリエステル系重合体;ポリスチレン、ポリ(α−メチルスチレン)等のスチレン系重合体;アクリル酸エステルとスチレンとの共重合体;ポリエチレン、ポリノルボルネン、ポリイソプレンの水素添加物、ポリブタジエンの水素添加物等のポリオレフィン系重合体;トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂;ナイロン6、ナイロン66等のポリアミド;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリビニルアルコール;塩化ビニル;ポリエーテルスルホン;エポキシ樹脂;シリコーン樹脂;国際公開第01/37007号パンフレットに記載される化合物等のポリマーを溶液流延法、溶液流延後乾燥品の一軸延伸法、溶液流延後乾燥品の二軸延伸法、押出法、押出品の一軸延伸法、押出品の二軸延伸法、カレンダー法等によりフィルム化したもの、これらのフィルムを偏光板に貼り付けたもの、ガラス板、カラーフィルター、液晶セル等が挙げられる。 Next, the substrate for the optical element will be described. Various substrates can be used as the substrate, but it is preferable that the substrate is transparent particularly from the viewpoint of use. Specific examples include polycarbonate polymers produced by polycondensation from bisphenol A and carbonyl chloride; polyacrylic acid esters such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate; adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, Polyester polymers obtained by condensation of dibasic acids such as terephthalic acid and glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, or ring-opening polymerization of lactones; polystyrene, poly (α- Styrene polymers such as methylstyrene); copolymers of acrylic acid ester and styrene; polyolefin polymers such as polyethylene, polynorbornene, hydrogenated polyisoprene, and hydrogenated polybutadiene; triacetyl cellulose Cellulose-based resins: polyamides such as nylon 6 and nylon 66; polyimides; polyamide-imides; polyvinyl alcohol; vinyl chloride; polyethersulfone; epoxy resins: silicone resins: compounds described in WO 01/37007 Polymer casting method, solution casting uniaxial stretching method, solution casting dried product biaxial stretching method, extrusion method, extruded product uniaxial stretching method, extruded product biaxial stretching method, calendar method And the like, films obtained by attaching these films to polarizing plates, glass plates, color filters, liquid crystal cells, and the like.
次に、光学素子の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing an optical element will be described.
光学素子は、前記基板の片面又は両面に本発明の塗工液を塗工後、乾燥、又は塗工後、アニーリング、乾燥することにより好適に製造できる。塗工方法としては、グラビヤロールコート法、マイヤーバーコート法、ドクターブレードコート法、リバースロールコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カレンダーコート法、スキーズコート法、キスコート法、バーコート法、スロットダイコート法、スピンコート法等が挙げられる。 The optical element can be suitably manufactured by applying the coating liquid of the present invention to one side or both sides of the substrate, drying, or annealing and drying after coating. As coating methods, gravure roll coating method, Mayer bar coating method, doctor blade coating method, reverse roll coating method, dip coating method, air knife coating method, calendar coating method, skies coating method, kiss coating method, bar coating method , Slot die coating method, spin coating method and the like.
乾燥方法としては、例えば空気中又は窒素等の不活性ガス中に放置(風乾)、熱風オーブン、赤外線加熱炉等での加熱乾燥、真空乾燥機等での減圧乾燥等により行うことができる。乾燥温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限300℃の温度範囲が好ましく、下限0℃、上限280℃がより好ましく、下限10℃、上限260℃がさらに好ましい。乾燥温度が−30℃より低いと乾燥時間が長くなる傾向があり、300℃より高いと塗工膜や基板の熱劣化が生じ易くなる傾向がある。 As a drying method, it can be performed, for example, by leaving in air or in an inert gas such as nitrogen (air drying), heat drying in a hot air oven, an infrared heating furnace, or the like, drying under reduced pressure in a vacuum dryer, or the like. Although various drying temperatures can be set, a temperature range of a lower limit of −30 ° C. and an upper limit of 300 ° C. is preferable, a lower limit of 0 ° C. and an upper limit of 280 ° C. are more preferable, and a lower limit of 10 ° C. and an upper limit of 260 ° C. are more preferable. When the drying temperature is lower than −30 ° C., the drying time tends to be longer, and when it is higher than 300 ° C., the coating film and the substrate tend to be thermally deteriorated.
また、アニーリングは塗工膜のレベリング性向上、応力緩和等の為に行うことが好ましく、例えば面内位相差の低減、面内位相差の振れの低減等に有効である。本発明では、アニーリングは、(B)成分の蒸気中に塗工基板の塗工膜を上にして水平に静置して行うことが好ましい。アニーリング時の温度は種々設定できるが、下限−30℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)〕の範囲が好ましく、下限−15℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−5℃〕がより好ましく、下限0℃、上限〔(B)成分の沸点(℃)−10℃〕がさらに好ましい。アニーリング時の温度が−30℃より低いとアニーリング時間が長くなる傾向があり、アニーリング時の温度が(B)成分の沸点(℃)より高いと塗工膜の基板からの流れ出しが生じ易くなる傾向がある。アニーリング時の圧力も種々設定でき、大気圧、加圧下、又は減圧下で行うことができるが、作業性の点で大気圧が好ましい。 Annealing is preferably performed for improving the leveling property of the coating film, stress relaxation, and the like, and is effective for, for example, reducing in-plane retardation and reducing in-plane retardation fluctuation. In the present invention, the annealing is preferably performed in the vapor of the component (B) with the coating film of the coating substrate facing up and left still horizontally. The temperature at the time of annealing can be variously set, but the lower limit is preferably −30 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.)], and the lower limit is −15 ° C. and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) −5 ° C.] is more preferable, and the lower limit is 0 ° C., and the upper limit [(B) component boiling point (° C.) − 10 ° C.] is more preferable. If the annealing temperature is lower than −30 ° C., the annealing time tends to be longer, and if the annealing temperature is higher than the boiling point (° C.) of the component (B), the coating film tends to flow out from the substrate. There is. The pressure at the time of annealing can also be set variously, and it can carry out under atmospheric pressure, pressurization, or pressure reduction, but atmospheric pressure is preferred at the point of workability.
次に、本発明における光学補償用塗工膜の光学特性について説明する。 Next, the optical characteristics of the optical compensation coating film in the present invention will be described.
本発明の光学補償用塗工膜は〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の特性をもつことが好ましい。光学補償用塗工膜の厚みをdとすると、面内位相差は、(nx−ny)×dで表され、厚み位相差は、〔(nx+ny)/2−nz〕×dで表されるが、面内位相差は下限0nm、上限100nmが好ましく、下限0nm、上限80nmがより好ましく、下限0nm、上限60nmがさらに好ましい。面内位相差が100nmより大きいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。また、厚み位相差は下限−1000nm、上限−1nmが好ましく、下限−800nm、上限−10nmがより好ましく、下限−600nm、上限−20nmがさらに好ましい。厚み位相差が−1000nmより小さいと液晶セルの複屈折による位相差の補償が困難になる傾向がある。 The coating film for optical compensation of the present invention preferably has a characteristic of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0. When the thickness of the optical compensation for coated film is d, the in-plane retardation is represented by (n x -n y) × d , the thickness retardation, [(n x + n y) / 2-n z ] Although represented by xd, the lower limit of the in-plane retardation is preferably 0 nm and the upper limit is 100 nm, more preferably the lower limit is 0 nm and the upper limit is 80 nm, and further preferably the lower limit is 0 nm and the upper limit is 60 nm. If the in-plane retardation is larger than 100 nm, it tends to be difficult to compensate for the retardation due to the birefringence of the liquid crystal cell. The thickness retardation is preferably lower limit −1000 nm and upper limit −1 nm, more preferably lower limit −800 nm and upper limit −10 nm, further preferably lower limit −600 nm and upper limit −20 nm. When the thickness phase difference is smaller than −1000 nm, it tends to be difficult to compensate for the phase difference due to the birefringence of the liquid crystal cell.
また、本発明の光学補償用塗工膜、該塗工膜形成用塗工液及びその塗工液を用いて製造した光学素子は、ビデオ、カメラ、携帯電話、パソコン、テレビ、モニター、自動車のインパネ等の液晶表示装置作製部品等に好適に使用できる。 Further, the optical compensation coating film of the present invention, the coating film forming coating liquid and the optical element produced using the coating liquid are used in video, camera, mobile phone, personal computer, TV, monitor, automobile, etc. It can be used suitably for liquid crystal display device manufacturing parts such as instrument panels.
以下に、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。 Examples are shown below to describe the present invention in more detail, but the present invention is not limited to these examples.
(実施例1)
ポリ(2−ビニルナフタレン)(アルドリッチ製、重量平均分子量:175000)12.0gに塩化メチレン88.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を下記の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の光学素子が得られた。
Example 1
To 12.0 g of poly (2-vinylnaphthalene) (Aldrich, weight average molecular weight: 175000), 88.0 g of methylene chloride was added and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm-thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 6 ° C. at 25 ° C. The optical element was produced by air-drying in air for a period of time. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the following method, and the results are shown in Table 1. Here, an optical element of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 was obtained.
(1)屈折率(nx,ny,nz)の測定
王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−21ADHを用いて、25℃下で590nm光における屈折率を測定した。得られた結果から、面内位相差を(nx−ny)×dにより求めた。また、厚み位相差を〔(nx+ny)/2−nz〕×dにより求めた。
(1) Refractive index (n x, n y, n z) using the measured Oji Scientific Instruments Ltd. automatic birefringence meter KOBRA-21ADH of, the refractive index was measured at 590nm light under 25 ° C.. From the results obtained, it was determined plane retardation by (n x -n y) × d . In addition, the thickness retardation was determined by [( nx + ny ) / 2- nz ] × d.
(実施例2)
ポリ(4−ビニルビフェニル)(アルドリッチ製、重量平均分子量:115000)5.0gに塩化メチレン95.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の光学素子が得られた。
(Example 2)
95.0 g of methylene chloride was added to 5.0 g of poly (4-vinylbiphenyl) (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight: 115000), and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm-thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater, and then 6 ° C. at 25 ° C. The optical element was produced by air-drying in air for a period of time. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the method described in Example 1, and the results are shown in Table 1. Here, an optical element of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 was obtained.
(実施例3)
スチレン−無水マレイン酸共重合体(ノヴァケミカル製ダイラークD332)30.0gにクロロホルム70.0gを加え、25℃下で溶解した。次に、この塗工液をバーコーターを用いて150μm厚のガラス基板(平均屈折率:1.52,面内位相差:0nm,厚み位相差:1nm)に塗工した後、この塗布基板を大気圧でクロロホルム蒸気が充満したガラス容器に入れ、密閉後、25℃で48時間アニーリングした。その後、塗布基板を取り出し、25℃で6時間、空気中で風乾して光学素子を作製した。乾燥後の塗工膜厚(d(nm))は、光学素子全体の厚みを測定し、ガラス基板の厚みを差し引くことにより求めた。次に、上記によって得られた光学素子の物性測定を実施例1記載の方法によって行い、結果を表1に示した。ここでは、〔(nx+ny)/2−nz〕×d<0の光学素子が得られた。
(Example 3)
70.0 g of chloroform was added to 30.0 g of a styrene-maleic anhydride copolymer (Dylark D332 manufactured by Nova Chemical) and dissolved at 25 ° C. Next, this coating solution was applied to a 150 μm thick glass substrate (average refractive index: 1.52, in-plane retardation: 0 nm, thickness retardation: 1 nm) using a bar coater. The glass container was filled with chloroform vapor at atmospheric pressure, sealed, and then annealed at 25 ° C. for 48 hours. Thereafter, the coated substrate was taken out and air-dried at 25 ° C. for 6 hours to produce an optical element. The coating thickness after drying (d (nm)) was determined by measuring the thickness of the entire optical element and subtracting the thickness of the glass substrate. Next, the physical properties of the optical element obtained as described above were measured by the method described in Example 1, and the results are shown in Table 1. Here, an optical element of [(n x + ny ) / 2− nz ] × d <0 was obtained.
Claims (14)
(A)請求項1乃至請求項4記載の重合体
(B)(A)成分が可溶な溶媒 A coating solution for forming an optical compensation coating film formed by containing the following (A) and (B).
(A) Polymer according to claims 1 to 4 (B) A solvent in which component (A) is soluble
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009046613A (en) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | Cycloolefin copolymer and film |
JP2010522900A (en) * | 2007-03-29 | 2010-07-08 | アクロン ポリマー システムズ | Optical compensation film with positive birefringence for liquid crystal display |
JP2010522902A (en) * | 2007-03-29 | 2010-07-08 | アクロン ポリマー システムズ | Optical field-expansion film with substituents to increase birefringence for liquid crystal displays |
JP2012500997A (en) * | 2008-08-22 | 2012-01-12 | アクロン ポリマー システムズ | Optical compensation film based on stretched polymer film |
US8545970B2 (en) | 2006-09-05 | 2013-10-01 | Tosoh Corporation | Optical compensation film and retardation film |
US8821994B2 (en) | 2007-03-29 | 2014-09-02 | Akron Polymer Systems | Liquid crystal display having improved wavelength dispersion characteristics |
KR20150037422A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 주식회사 엘지화학 | Optical film having inverse wavelength dispersion and method for manufacturing the same |
US9096719B2 (en) | 2007-03-29 | 2015-08-04 | Akron Polymer Systems | Optical compensation films with mesogen groups for liquid crystal display |
JP2022000674A (en) * | 2020-06-19 | 2022-01-04 | 日本ゼオン株式会社 | LONG-SIZED CIRCULAR POLARIZATION PLATE, LONG-SIZED WIDE-BAND λ/4 PLATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE |
-
2005
- 2005-02-14 JP JP2005036958A patent/JP2006221116A/en active Pending
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8545970B2 (en) | 2006-09-05 | 2013-10-01 | Tosoh Corporation | Optical compensation film and retardation film |
KR101522041B1 (en) * | 2007-03-29 | 2015-05-20 | 아크론 폴리머 시스템즈, 인코포레이티드 | Optical compensation films with birefringence enhancing substituents for liquid crystal display |
US9011992B2 (en) | 2007-03-29 | 2015-04-21 | Akron Polymer Systems | Optical compensation films based on stretched polymer films |
US9785011B2 (en) | 2007-03-29 | 2017-10-10 | Akron Polymer Systems | Liquid crystal display having improved wavelength dispersion characteristics |
JP2010522900A (en) * | 2007-03-29 | 2010-07-08 | アクロン ポリマー システムズ | Optical compensation film with positive birefringence for liquid crystal display |
US8821994B2 (en) | 2007-03-29 | 2014-09-02 | Akron Polymer Systems | Liquid crystal display having improved wavelength dispersion characteristics |
TWI468811B (en) * | 2007-03-29 | 2015-01-11 | Akron Polymer Systems | Optical compensation films with birefringence enhancing substituents for liquid crystal display |
US9096719B2 (en) | 2007-03-29 | 2015-08-04 | Akron Polymer Systems | Optical compensation films with mesogen groups for liquid crystal display |
JP2010522902A (en) * | 2007-03-29 | 2010-07-08 | アクロン ポリマー システムズ | Optical field-expansion film with substituents to increase birefringence for liquid crystal displays |
JP2009046613A (en) * | 2007-08-21 | 2009-03-05 | Fujifilm Corp | Cycloolefin copolymer and film |
JP2012500997A (en) * | 2008-08-22 | 2012-01-12 | アクロン ポリマー システムズ | Optical compensation film based on stretched polymer film |
KR20150037422A (en) * | 2013-09-30 | 2015-04-08 | 주식회사 엘지화학 | Optical film having inverse wavelength dispersion and method for manufacturing the same |
KR101705934B1 (en) * | 2013-09-30 | 2017-02-10 | 주식회사 엘지화학 | Optical film having inverse wavelength dispersion and method for manufacturing the same |
JP2022000674A (en) * | 2020-06-19 | 2022-01-04 | 日本ゼオン株式会社 | LONG-SIZED CIRCULAR POLARIZATION PLATE, LONG-SIZED WIDE-BAND λ/4 PLATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY DEVICE |
JP7405013B2 (en) | 2020-06-19 | 2023-12-26 | 日本ゼオン株式会社 | Long circularly polarizing plate, long broadband λ/4 plate, organic electroluminescent display device, and liquid crystal display device |
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