JP2006263544A - Apparatus for feeding coating liquid - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、コーティング液供給装置に関するものである。 The present invention relates to a coating liquid supply apparatus.
近年、電子機器の小型化、細密化が進み、電子機器を構成する部品においても、精度の高い微細なパターンが求められている。
特に、携帯電話やノート型パーソナルコンピュータの普及により、これらの表示装置に求められるカラー液晶ディスプレイの精細さの向上には著しいものがある。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been reduced in size and densification, and a fine pattern with high accuracy has been demanded also for parts constituting electronic devices.
In particular, with the widespread use of mobile phones and notebook personal computers, there is a significant improvement in the fineness of color liquid crystal displays required for these display devices.
カラー液晶ディスプレイは、通常、赤、緑、青の三原色の着色パターンを備えたカラーフィルタを有しており、赤、緑、青のそれぞれの画素に対応する電極を流れる電流をＯＮ、ＯＦＦすることにより、液晶がシャッタとして作動し、それぞれの画素を光が通過してカラー表示を行う。 A color liquid crystal display usually has a color filter having a coloring pattern of three primary colors of red, green, and blue, and the current flowing through the electrodes corresponding to the respective pixels of red, green, and blue is turned on and off. Thus, the liquid crystal operates as a shutter, and light is transmitted through each pixel to perform color display.
カラーフィルタの着色方法としては、基板を染色浴に浸漬する染色法や、顔料を分散した感光性樹脂層を形成して、これをパターニングする顔料分散法などがあるが、近年、インクジェット方式で着色インクを基板に吹きつける方法が提案されている。 Color filter coloring methods include a dyeing method in which a substrate is immersed in a dyeing bath, and a pigment dispersion method in which a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is formed and patterned, but in recent years, coloring is performed by an inkjet method. A method for spraying ink onto a substrate has been proposed.
インクジェット方式を用いる場合、基板表面には、あらかじめ親インク性と撥インク性のパターンを形成しておく必要がある（特許文献１）。 When the ink jet method is used, it is necessary to form an ink-philic and ink-repellent pattern in advance on the substrate surface (Patent Document 1).
このような処理を行った基板表面にインクを吹きつけると、親インク面にのみインクが定着するため、所望の着色層のパターンを形成することができる。 When ink is sprayed onto the surface of the substrate that has been subjected to such treatment, the ink is fixed only on the parent ink surface, so that a desired colored layer pattern can be formed.
ここで、基板に塗布するコーティング液は、２種類以上の溶液からなる場合がある。
このように、使用直前に混合しなくてはならない溶液としては、混合することで硬化、凝集、分解、その他特性劣化が起こるものが挙げられ、２液硬化型塗料や２液型接着剤がその代表例である。
前述の親インク性と撥インク性のパターンを形成するためのコーティング液には、混合することで特性が経時劣化するものがあり、これをミキサに接続された精密定量塗布装置、例えばダイコータやビードコータ、キャップコータ等を用いて基板上に塗布することがある（特許文献２）。
As described above, examples of the solution that must be mixed immediately before use include those in which curing causes agglomeration, aggregation, decomposition, and other characteristic deterioration, and two-component curable paints and two-component adhesives are used. This is a representative example.
Some of the coating liquids for forming ink-repellent and ink-repellent patterns described above deteriorate in characteristics over time, and this is a precision quantitative coating device connected to a mixer, such as a die coater or bead coater. In some cases, coating is performed on a substrate using a cap coater or the like (Patent Document 2).
しかしながら、コーティング液をダイコータ等を用いて基板上に塗布する際は、ｕｌ単位の塗布量の調整が必要となるため、従来のようにミキサ等から直接塗布装置にコーティング液を供給する方式は不可能であった。 However, when applying the coating liquid onto the substrate using a die coater or the like, it is necessary to adjust the coating amount in units of ul, so there is no conventional method for supplying the coating liquid directly from a mixer or the like to the coating apparatus. It was possible.
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的は混合装置と精密定量塗布装置を連動可能とし、安定したコーティング液の供給を行えるコーティング液供給装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a coating liquid supply apparatus that can link a mixing apparatus and a precision quantitative application apparatus and can supply a stable coating liquid.
前述した目的を達成するために、本発明は、複数の種類の溶液をそれぞれ保持する複数のタンクと、前記複数の溶液を混合させて、コーティング液を生成する混合装置と、前記混合装置からの前記コーティング液を一時的に保持し、精密塗布装置に前記コーティング液を供給する中間タンクと、を有することを特徴とするコーティング液供給装置である。
前記中間タンクは、前記中間タンクに保持された前記コーティング液の量を測定する測定手段を有してもよい。
前記中間タンクは、前記中間タンク内の前記コーティング液を加圧するコンプレッサを有してもよい。
前記混合装置と前記中間タンクの間の流路に逆流防止弁を有してもよい。
前記中間タンクと前記精密塗布装置の間に、前記中間タンク内のコーティング液を前記精密塗布装置に供給するための、精密に定量できる輸液ポンプを有してもよい。
In order to achieve the above-described object, the present invention provides a plurality of tanks each holding a plurality of types of solutions, a mixing device that mixes the plurality of solutions to generate a coating solution, An intermediate tank that temporarily holds the coating liquid and supplies the coating liquid to a precision coating apparatus.
The intermediate tank may include a measuring unit that measures the amount of the coating liquid held in the intermediate tank.
The intermediate tank may include a compressor that pressurizes the coating liquid in the intermediate tank.
You may have a backflow prevention valve in the flow path between the said mixing apparatus and the said intermediate tank.
Between the intermediate tank and the precision coating apparatus, an infusion pump capable of precisely quantifying the coating liquid for supplying the coating liquid in the intermediate tank to the precision coating apparatus may be provided.
本発明では、コーティング液供給装置に中間タンクを備えており、コーティング液を一端中間タンクに保持した後に精密塗布装置に供給を行う。 In the present invention, the coating liquid supply device is provided with an intermediate tank, and the coating liquid is supplied to the precision coating device after being held in the intermediate tank at one end.
本発明によれば、コーティング液供給装置に中間タンクを備えているため、安定したコーティング液の供給ができ、コーティング膜の品質が改善される。 According to the present invention, since the coating liquid supply device includes the intermediate tank, the coating liquid can be stably supplied, and the quality of the coating film can be improved.
以下、図面に基づいて本発明に好適な実施形態であるカラーフィルタの作製を詳細に説明する。
最初に、図１を用いてカラーフィルタ用の基板７１の着色工程の概略を説明する。
Hereinafter, production of a color filter which is a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, the outline of the coloring process of the color filter substrate 71 will be described with reference to FIG.
図１は、本実施形態に係るカラーフィルタ用の基板７１の着色工程を示すフローチャートであって、図２は処理前の基板７１を示す図であり、図３はコーティング層１９を形成するための基板７１へのコーティング液１９ａの塗布工程を示す図である。
また、図４は基板７１にコーティング液１９ａを塗布して形成したコーティング層１９の乾燥工程を示す図、図５は基板７１の水洗工程を示す図、図６は基板７１の露光工程を示す図であり、図７は基板７１へのインクの吹き付け工程を示す図である。
FIG. 1 is a flowchart showing a coloring process of a color filter substrate 71 according to the present embodiment, FIG. 2 is a diagram showing a substrate 71 before processing, and FIG. 3 is a diagram for forming a coating layer 19. It is a figure which shows the application | coating process of the coating liquid 19a to the board | substrate 71. FIG.
4 is a diagram showing a drying process of the coating layer 19 formed by applying the coating liquid 19a to the substrate 71, FIG. 5 is a diagram showing a washing process of the substrate 71, and FIG. 6 is a diagram showing an exposure process of the substrate 71. FIG. 7 is a diagram showing a step of spraying ink onto the substrate 71.
図２に示すように、カラーフィルタ用の基板７１は、ガラス基板７３上にブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄを配置した構造を有している。 As shown in FIG. 2, the color filter substrate 71 has a structure in which black matrices 75 a, 75 b, 75 c, and 75 d are arranged on a glass substrate 73.
まず、図１および図３に示すように、ダイコートノズル７７を用いて、コーティング液１９ａを基板７１上に塗布し、コーティング層１９を形成する（ステップ１０１）。 First, as shown in FIGS. 1 and 3, the coating liquid 19a is applied on the substrate 71 using the die coat nozzle 77 to form the coating layer 19 (step 101).
次に、図１および図４に示すように、乾燥機８１内で基板７１上に塗布したコーティング層１９を乾燥させる（ステップ１０２）。
次に、図１に示すように、基板７１上に塗布したコーティング層１９を焼成する（ステップ１０３）。
なお、この状態では、コーティング層１９の表面はインクを弾く撥インク性を有している。
Next, as shown in FIGS. 1 and 4, the coating layer 19 applied on the substrate 71 is dried in the dryer 81 (step 102).
Next, as shown in FIG. 1, the coating layer 19 applied on the substrate 71 is baked (step 103).
In this state, the surface of the coating layer 19 has ink repellency to repel ink.
次に、図１および図５に示すように、コーティング層１９を塗布した基板７１をシャワー８３で水洗する（ステップ１０４）。
水洗を行う目的は基板７１上に付着したゴミを除去し、後述する露光の際の、ゴミによる点欠陥を除去するためである。
Next, as shown in FIGS. 1 and 5, the substrate 71 on which the coating layer 19 is applied is washed with water in a shower 83 (step 104).
The purpose of washing with water is to remove dust adhering to the substrate 71 and to remove point defects due to dust during the exposure described later.
次に、図１および図６に示すように、コーティング層１９を塗布した基板７１に紫外線８９を照射し、コーティング層１９の一部を露光する（ステップ１０５）。
この際、基板７１の裏面、即ちガラス基板７３側から紫外線８９を照射するため、遮光部となるブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄの上部に塗布されたコーティング層１９には紫外線８９が当たらず、この部分は撥インク性を有する撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄのままである。
Next, as shown in FIGS. 1 and 6, the substrate 71 on which the coating layer 19 is applied is irradiated with ultraviolet rays 89 to expose a part of the coating layer 19 (step 105).
At this time, since the ultraviolet ray 89 is irradiated from the back surface of the substrate 71, that is, the glass substrate 73 side, the ultraviolet ray 89 is not applied to the coating layer 19 applied to the upper portions of the black matrices 75a, 75b, 75c, and 75d serving as light shielding portions. This portion remains the ink repellent portions 87a, 87b, 87c and 87d having ink repellency.
一方、ブラックマトリクス７５ａ、７５ｂ、７５ｃ、７５ｄが載置されていない部分に塗布されたコーティング層１９には紫外線８９が当たるため、この部分は紫外線によって感光されて物性が変化し、親インク性を有する親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃとなる（ステップ１０６）。 On the other hand, since the coating layer 19 applied to the portions where the black matrices 75a, 75b, 75c, and 75d are not placed is exposed to the ultraviolet rays 89, the portions are exposed to the ultraviolet rays to change their physical properties, thereby improving the ink affinity. The parent ink portions 85a, 85b, and 85c are provided (step 106).
次に、ノズル等を用い、カラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃを基板７１の表面に吹き付け、着色層を形成する（ステップ１０７）。
この際、図７に示すように、撥インク部８７ａ、８７ｂ、８７ｃ、８７ｄは撥インク性を有するためカラーインク９１ａ、９１ｂ、９１ｃは濡れ広がらず、親インク部８５ａ、８５ｂ、８５ｃのみにインクは濡れ広がり、着色層が形成される。
Next, using a nozzle or the like, the color inks 91a, 91b, 91c are sprayed on the surface of the substrate 71 to form a colored layer (step 107).
At this time, as shown in FIG. 7, since the ink repellent portions 87a, 87b, 87c, and 87d have ink repellency, the color inks 91a, 91b, and 91c do not wet and spread, and only the parent ink portions 85a, 85b, and 85c have ink. Spreads and a colored layer is formed.
このようにして、基板７１上にインクが塗布される。 In this way, ink is applied onto the substrate 71.
次に、コーティング液１９ａの塗布工程で用いられるコーティング液供給装置１の構造について詳細に説明する。図８はコーティング液供給装置１の構造を示す図である。 Next, the structure of the coating liquid supply apparatus 1 used in the coating process of the coating liquid 19a will be described in detail. FIG. 8 is a view showing the structure of the coating liquid supply apparatus 1.
図８に示すように混合装置４はＡ液タンク３を有し、Ａ液タンク３には流路６および流路１３ａを介してモーノモンプ１１ａが設けられている。
モーノモンプ１１ａには流路１３ｃを介してミキサ１０が設けられている。
As shown in FIG. 8, the mixing apparatus 4 has an A liquid tank 3, and the A liquid tank 3 is provided with a
The mixer 10 is provided in the
一方、混合装置４はＢ液タンク５を有し、Ｂ液タンク５には流路８および流路１３ｂを解してモーノモンプ１１ｂが設けられており、モーノモンプ１１ｂには流路１３ｄを介してミキサ１０が設けられている、 On the other hand, the mixing device 4 has a B liquid tank 5, and the B liquid tank 5 is provided with a monomonp 11b through the flow path 8 and the flow path 13b. The monomonp 11b is provided with a mixer via the flow path 13d. 10 is provided,
Ａ液タンク３はＡ液７を貯蔵する容器であり、Ｂ液タンク５はＢ液９を貯蔵する容器である。
Ａ液７及びＢ液９の具体例については後述する。
The A liquid tank 3 is a container for storing the
Specific examples of the
モーノポンプ１１ａは、流路６を介してＡ液タンク３から供給されたＡ液７を、流路１３ａか流路１３ｃのいずれかに供給するポンプであり、モーノポンプ１１ｂは、流路８を介してＢ液タンク５から供給されたＢ液９を、流路１３ｂか流路１３ｄのいずれかに供給するポンプである。
ミキサ１０は、Ａ液７とＢ液９を混合して撹拌し、コーティング液１９ａを生成する。
The
The mixer 10 mixes and stirs the
即ち、モーノポンプ１１ａがＡ液７を流路１３ａ側に供給する場合、Ａ液７は矢印Ｃ方向に流れ、Ａ液タンク３とモーノポンプ１１ａの間を循環する。
同様に、モーノポンプ１１ｂがＢ液９を流路１３ｂ側に供給する場合、Ｂ液９は矢印Ｄ方向に流れ、Ｂ液タンク５とモーノポンプ１１ｂの間を循環する。
この場合、Ａ液７、Ｂ液９はミキサ１０に供給されない。
That is, when the
Similarly, when the Mono pump 11b supplies the B liquid 9 to the flow path 13b, the B liquid 9 flows in the direction of arrow D and circulates between the B liquid tank 5 and the Mono pump 11b.
In this case, the
一方、モーノポンプ１１ａがＡ液７を流路１３ｃ側に供給する場合、Ａ液７は矢印Ｅ方向に流れ、ミキサ１０に供給される。
同様に、モーノポンプ１１ｂがＢ液９を流路１３ｄ側に供給する場合、Ｂ液９は矢印Ｆ方向に流れ、ミキサ１０に供給される。
On the other hand, when the
Similarly, when the Mono pump 11 b supplies the B liquid 9 to the flow path 13 d side, the B liquid 9 flows in the direction of arrow F and is supplied to the mixer 10.
なお、モーノポンプ１１ａ、モーノポンプ１１ｂ、ミキサ１０は、ポンプ制御装置６１に接続され、各機器の動作はポンプ制御装置６１によって制御されている。
The
一方、混合装置４のミキサ１０には、流路１５ａを介して中間タンク１７が接続されている。 On the other hand, an intermediate tank 17 is connected to the mixer 10 of the mixing device 4 via a flow path 15a.
中間タンク１７は、タンク２０を有し、タンク２０の底面には流路３３が接続されている。
なお、タンク２０の上面は流路１５ａに接続されており、流路１５ａには逆流防止弁３１が設けられている。
The intermediate tank 17 has a tank 20, and a flow path 33 is connected to the bottom surface of the tank 20.
The upper surface of the tank 20 is connected to the flow path 15a, and a backflow prevention valve 31 is provided in the flow path 15a.
中間タンク１７にはエアノズル２７が設けられており、エアノズル２７にはコンプレッサ２９が接続されている。なお、エアノズル２７の先端はタンク２０の内部に設けられている。
An
タンク２０の内部にはレベルゲージ２１が設けられ、レベルゲージ２１は上限ゲージ２３と下限ゲージ２５を有している。
なお、レベルゲージ２１はポンプ制御装置６１に接続されている。
A level gauge 21 is provided inside the tank 20, and the level gauge 21 has an upper limit gauge 23 and a lower limit gauge 25.
The level gauge 21 is connected to the
タンク２０はミキサ１０から供給されたコーティング液１９ａを一時的に貯蔵する。
コンプレッサ２９は、エアノズル２７を介してエアをタンク２０内（矢印Ｈ方向）に供給し、タンク２０内を与圧する。
The tank 20 temporarily stores the coating liquid 19a supplied from the mixer 10.
The
レベルゲージ２１は、タンク２０内のコーティング液１９ａの液面高さが、下限ゲージ２５から上限ゲージ２３の範囲内にあるかどうかを監視する。 The level gauge 21 monitors whether or not the liquid level of the coating liquid 19 a in the tank 20 is within the range from the lower limit gauge 25 to the upper limit gauge 23.
一方、流路３３の別の一端には脱気装置３５が設けられ、脱気装置３５には流路３７を介して１次フィルタ３９が設けられている。
１次フィルタ３９には、流路４１を介して３方向弁４３が設けられており、３方向弁４３には、流路４５を介してシリンジポンプ４９が設けられている。
また３方向弁４３には、流路４７を介して２次フィルタ５１が設けられている。
On the other hand, a deaeration device 35 is provided at another end of the flow path 33, and a primary filter 39 is provided in the deaeration device 35 via a flow path 37.
The primary filter 39 is provided with a three-way valve 43 via a flow path 41, and the three-way valve 43 is provided with a syringe pump 49 via a flow path 45.
The three-way valve 43 is provided with a secondary filter 51 via a flow path 47.
２次フィルタ５１には、流路５３を介してダイコートノズル５５が設けられている。
ダイコートノズル５５の下部にはステージ５７が設けられ、ステージ５７上には基板７１がセットされている。
The secondary filter 51 is provided with a die coat nozzle 55 via a flow path 53.
A stage 57 is provided below the die coat nozzle 55, and a substrate 71 is set on the stage 57.
脱気装置３５は、内部を減圧することにより、コーティング液１９ａ内の気泡を除去する。
１次フィルタ３９および２次フィルタ５１は、コーティング液１９ａ内、もしくはポンプ等の摩耗により発生するゴミ等を除去する。
３方向弁４３は、流路４１から供給されたコーティング液１９ａを流路４５もしくは流路４７のいずれかに供給する。
The deaerator 35 removes bubbles in the coating liquid 19a by reducing the pressure inside.
The primary filter 39 and the secondary filter 51 remove dust or the like generated in the coating liquid 19a or due to wear of a pump or the like.
The three-way valve 43 supplies the coating liquid 19 a supplied from the channel 41 to either the channel 45 or the channel 47.
シリンジポンプ４９は、基板７１に塗布するコーティング液１９ａを計量し、所定の量のコーティング液１９ａをダイコートノズル５５に供給する。
ダイコートノズル５５はコーティング液１９ａを基板７１に塗布する。
The syringe pump 49 measures the coating liquid 19 a to be applied to the substrate 71 and supplies a predetermined amount of the coating liquid 19 a to the die coating nozzle 55.
The die coat nozzle 55 applies the coating liquid 19 a to the substrate 71.
なお、３方向弁４３、シリンジポンプ４９、ダイコートノズル５５にはコーター制御装置６３が接続され、各機器の動作はコーター制御装置６３によって制御されている。
A
ここで、Ａ液７とＢ液９の構成成分について説明する。Ａ液７とＢ液９は混合することによって親インク性と撥インク性のパターンを形成するためのコーティング液１９ａとなる溶液であり、Ａ液７は光触媒含有溶剤であり、Ｂ液９は特性付与剤である。
Here, the components of
まず、本実施形態に用いられる光触媒について説明する。本実施形態に用いられる光触媒は、エネルギー照射されることにより励起されて、後述する特性付与剤を分解又は変性等させることが可能なものであれば、特に限定されるものではない。
本実施形態においては、特に酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。
酸化チタンにはアナタ−ゼ型とルチル型があり、本実施形態ではいずれも使用可能であるが、アナタ−ゼ型を使用するのが好ましい。
アナタ−ゼ型は励起波長が３８０ｎｍ以下にある。
First, the photocatalyst used in this embodiment will be described. The photocatalyst used in the present embodiment is not particularly limited as long as it can be excited by energy irradiation and decompose or modify a property-imparting agent described later.
In this embodiment, titanium oxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available.
Titanium oxide includes an anatase type and a rutile type, both of which can be used in this embodiment, but it is preferable to use an anatase type.
The anatase type has an excitation wavelength of 380 nm or less.
また、酸化チタンの粒径は小さいほど、光触媒反応が効果的に起こることから、平均粒径５０ｎｍ以下であることが好ましく、特に２０ｎｍ以下の酸化チタンを使用することが好ましい。 Further, since the photocatalytic reaction occurs more effectively as the particle size of titanium oxide is smaller, the average particle size is preferably 50 nm or less, and particularly preferably 20 nm or less.
次に、本実施形態に用いられる特性付与剤について説明する。特性付与剤とはコーティング液１９ａが塗布されて層が形成された際に、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、例えば分解または変性等されて、表層面の濡れ性を変化させるものである。 Next, the property-imparting agent used in this embodiment will be described. The property-imparting agent is, for example, decomposed or modified by the action of a photocatalyst accompanying energy irradiation when the coating liquid 19a is applied to form a layer, thereby changing the wettability of the surface layer surface.
このような特性付与剤としては、光触媒の作用により劣化、分解しにくい主鎖を有するものであれば特に限定されるものではないが、特にオルガノポリシロキサンが用いられることが好ましい。オルガノポリシロキサンは、撥インク性を有する置換基がポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合している。 Such a property-imparting agent is not particularly limited as long as it has a main chain that is not easily deteriorated or decomposed by the action of a photocatalyst, but organopolysiloxane is particularly preferably used. In the organopolysiloxane, the substituent having ink repellency is directly bonded to Si atoms constituting the polysiloxane.
撥インク性を有する置換基としては、具体的には、アルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、フェニル基、イソシアネート基、クロロアルキル基等が挙げられる。
この撥インク性を有する置換基が、オルガノポリシロキサンを構成するＳｉと直接結合していることから、パターンを形成するためのコーティング液１９ａを塗布した際に、基板の表面が撥インク性を発現する。
Specific examples of the substituent having ink repellency include an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, a phenyl group, an isocyanate group, and a chloroalkyl group.
Since the substituent having ink repellency is directly bonded to Si constituting the organopolysiloxane, the surface of the substrate exhibits ink repellency when the coating liquid 19a for forming a pattern is applied. To do.
一方、コーティング液１９ａを塗布した基板に紫外線等を照射することにより、上記撥インク性を有する置換基は分解され、基板の表面は親インク性を発現する。 On the other hand, by irradiating the substrate coated with the coating liquid 19a with ultraviolet rays or the like, the substituent having the ink repellency is decomposed and the surface of the substrate exhibits ink affinity.
本実施形態に用いられるオルガノポリシロキサンとしては、例えば、（ａ）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（ｂ）撥水性や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンを挙げることができる。 Examples of the organopolysiloxane used in the present embodiment include (a) an organopolysiloxane that exhibits high strength by hydrolyzing and polycondensing chloro or alkoxysilane by sol-gel reaction or the like, and (b) water repellency or water repellency. Mention may be made of organopolysiloxanes such as organopolysiloxanes which are crosslinked with reactive silicones which are excellent in oiliness.
上記の（ａ）の場合、一般式
Ｙｎ ＳｉＸ（４−ｎ）
（ここでＹはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である）で示されるケイ素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
In the case of (a) above, the general formula Y n SiX (4-n)
(Where Y is an alkyl group, fluoroalkyl group, vinyl group, amino group, phenyl group, chloroalkyl group, isocyanate group, epoxy group, or an organic group containing these, and X is an alkoxyl group, acetyl group or halogen group) N is an integer from 0 to 3), and is preferably an organopolysiloxane that is one or two or more hydrolysis condensates or cohydrolysis condensates of a silicon compound.
なお、ここでＸで示されるアルコキシル基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましく、またＹで示される有機基全体の炭素数は１〜２０の範囲内、中でも５〜１０の範囲内であることが好ましい。 Here, the alkoxyl group represented by X is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group, and the total number of carbon atoms of the organic group represented by Y is in the range of 1 to 20, and in particular, 5 It is preferable to be within the range of -10.
本実施形態においては、上記撥インク性を有する置換基の中でも、フルオロアルキル基であることが特に好ましい。 In the present embodiment, among the substituents having ink repellency, a fluoroalkyl group is particularly preferable.
次に、コーティング液供給装置１の冷却装置について説明する。
コーティング液１９ａは、時間の経過と共にその特性を低下させてしまうものがあるが、これを冷却することにより、特性低下時間を遅らせ、可使時間を伸ばすことができる。
そのため、コーティング液供給装置１には冷却装置を設けることが望ましい。
Next, the cooling device of the coating liquid supply apparatus 1 will be described.
Some coating liquid 19a deteriorates its characteristics with the passage of time. By cooling the coating liquid 19a, it is possible to delay the characteristic degradation time and extend the pot life.
Therefore, it is desirable to provide a cooling device in the coating liquid supply apparatus 1.
図９は図８における、Ａ液タンク３、Ｂ液タンク５、ミキサ１０、タンク２０、脱気装置３５、１次フィルタ３９付近を示す詳細図である。また、図１０は流路１５ａの断面図である。 FIG. 9 is a detailed view showing the vicinity of the A liquid tank 3, the B liquid tank 5, the mixer 10, the tank 20, the deaeration device 35, and the primary filter 39 in FIG. FIG. 10 is a cross-sectional view of the flow path 15a.
図９に示すように、Ａ液タンク３、Ｂ液タンク５、ミキサ１０、タンク２０、脱気装置３５、１次フィルタ３９には冷却装置として冷却パイプ３ａ、５ａ、１０ａ、１９ａ、３５ａ、３９ａがらせん状に巻きつけられており、冷却パイプ３ａ、５ａ、１９ａ、３５ａ、３９ａの内部には冷却水が流れている。 As shown in FIG. 9, the A liquid tank 3, the B liquid tank 5, the mixer 10, the tank 20, the deaeration device 35, and the primary filter 39 have cooling pipes 3a, 5a, 10a, 19a, 35a, 39a as cooling devices. The cooling water flows around the inside of the cooling pipes 3a, 5a, 19a, 35a, 39a.
即ち、冷却パイプ３ａ、５ａ、１０ａ、１９ａ、３５ａ、３９ａの内部を流れる冷却水によってＡ液タンク３、Ｂ液タンク５、ミキサ１０、タンク２０、脱気装置３５、１次フィルタ３９が冷却されている。 That is, the A liquid tank 3, the B liquid tank 5, the mixer 10, the tank 20, the deaerator 35, and the primary filter 39 are cooled by the cooling water flowing inside the cooling pipes 3a, 5a, 10a, 19a, 35a, and 39a. ing.
なお、本実施形態においては、シリンジポンプ４９、３方向弁４３、２次フィルタ５１およびダイコートノズル５５には冷却装置を設けていないが、これらに冷却装置を設けてもよい。 In the present embodiment, the syringe pump 49, the three-way valve 43, the secondary filter 51, and the die coat nozzle 55 are not provided with a cooling device, but may be provided with a cooling device.
一方、図１０に示すように、流路１５ａは、内管１５ｃの外部に冷却装置として外管１５ｂが設けられている。 On the other hand, as shown in FIG. 10, the flow path 15a is provided with an outer tube 15b as a cooling device outside the inner tube 15c.
内管１５ｃの内部にはコーティング液１９ａが流れており、外管１５ｂの内部でかつ内管１５ｃの外部には冷却水が流れている。
即ちコーティング液１９ａは、冷却水によって冷却されている。
流路３３、流路３７の構造も流路１５ａの構造と同様である。
The coating liquid 19a flows inside the inner tube 15c, and cooling water flows inside the outer tube 15b and outside the inner tube 15c.
That is, the coating liquid 19a is cooled by the cooling water.
The structures of the flow path 33 and the flow path 37 are the same as the structure of the flow path 15a.
なお、本実施形態においては、流路４１、４５、４７，５３には冷却装置を設けていないが、これらに冷却装置を設けてもよい。 In the present embodiment, no cooling device is provided in the flow paths 41, 45, 47, 53, but a cooling device may be provided in these.
このように、コーティング液供給装置１に冷却装置を設けることにより、コーティング液１９ａが変質する時間を遅らせることができる。 Thus, by providing the cooling device in the coating liquid supply apparatus 1, it is possible to delay the time during which the coating liquid 19a is altered.
次に、コーティング液供給装置１の動作について説明する。
図１１は、コーティング液供給装置１の動作の手順を示すフローチャートである。
Next, the operation of the coating liquid supply apparatus 1 will be described.
FIG. 11 is a flowchart showing an operation procedure of the coating liquid supply apparatus 1.
まず、ポンプ制御装置６１は、レベルゲージ２１の示す液面高さが、下限ゲージ２５以下かどうかを判断し、下限ゲージ２５以下の場合は次のステップに進む（ステップ２０１）。
First, the
ポンプ制御装置６１は、Ａ液７、Ｂ液９をミキサ１０に供給すべく、モーノポンプ１１ａ、１１ｂを駆動させる（ステップ２０２）。
The
ポンプ制御装置６１は、ミキサ１０を駆動させてＡ液７とＢ液９を混合し、コーティング液１９ａを生成する（ステップ２０３）。
The
ポンプ制御装置６１は、ミキサ１０内のコーティング液１９ａを中間タンク１７のタンク２０に供給する（ステップ２０４）。
The
ポンプ制御装置６１は、レベルゲージ２１の示す液面高さが、上限ゲージ２３以上かどうかを判断し、上限ゲージ２３以上の場合は次のステップに進む（ステップ２０５）。
The
ポンプ制御装置６１は、コーティング液１９ａのタンク２０への供給を停止し、ステップ２０１に戻る（ステップ２０６）。これは、コーティング液１９ａがタンク２０から溢れるのを防ぐためである。
The
ポンプ制御装置６１が以上のような制御を行うことにより、タンク２０内のコーティング液１９ａの液量は、常に下限ゲージ２５以上で、かつ上限ゲージ２３以下に保たれる。
When the
ここで、基板７１へのコーティング液１９ａの塗布の手順について簡単に説明する。
まず、コーター制御装置６３は、図示しないアクチュエータ等に対して、ダイコートノズル５５を所定の位置に移動する指令を出す。
Here, a procedure for applying the coating liquid 19a to the substrate 71 will be briefly described.
First, the
次に、コーター制御装置６３は、シリンジポンプ４９に、一定量のコーティング液１９ａを計量し、これをダイコートノズル５５に供給する指令を出す。
Next, the
この際、コーティング液１９ａはタンク２０内に常に一定量が保持されているため、シリンジポンプ４９はタンク２０から安定してコーティング液１９ａの供給を受けることができる。
従ってシリンジポンプ４９は、安定してコーティング液１９ａをダイコートノズル５５に供給することができる。
At this time, since a constant amount of the coating liquid 19a is always held in the tank 20, the syringe pump 49 can stably receive the supply of the coating liquid 19a from the tank 20.
Accordingly, the syringe pump 49 can stably supply the coating liquid 19a to the die coat nozzle 55.
また、タンク２０は常時加圧されているため、コーティング液１９ａがタンク２０からシリンジポンプ４９に供給される際にシリンジポンプ４９にかかる負荷を小さくすることができる。
従って、シリンジポンプ４９はタンク２０から安定してコーティング液１９ａの供給を受けることができ、シリンジポンプ４９は、安定してコーティング液１９ａをダイコートノズル５５に供給することができる。
Further, since the tank 20 is constantly pressurized, the load applied to the syringe pump 49 when the coating liquid 19a is supplied from the tank 20 to the syringe pump 49 can be reduced.
Therefore, the syringe pump 49 can stably receive the coating liquid 19a from the tank 20, and the syringe pump 49 can stably supply the coating liquid 19a to the die coat nozzle 55.
このように、本実施の形態によれば、コーティング液供給装置１が中間タンク１７を有しており、コーティング液１９ａは、一旦中間タンク１７に保持された後にダイコートノズル５５に供給される。
従って、ダイコートノズル５５に安定してコーティング液１９ａを供給することができ、基板７１の品質が改善される。
Thus, according to the present embodiment, the coating liquid supply apparatus 1 has the intermediate tank 17, and the coating liquid 19 a is once held in the intermediate tank 17 and then supplied to the die coating nozzle 55.
Therefore, the coating liquid 19a can be stably supplied to the die coat nozzle 55, and the quality of the substrate 71 is improved.
以上、添付図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明したが、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に左右されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, the technical scope of this invention is not influenced by embodiment mentioned above. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs.
例えば、本実施形態では流路１５ａにおいて、外管１５ｃの内部でかつ内管１５ｂの外部には冷却水が流れているが、冷却水の代わりに断熱材等を充填してもよい。 For example, in the present embodiment, in the flow path 15a, cooling water flows inside the outer tube 15c and outside the inner tube 15b, but a heat insulating material or the like may be filled instead of the cooling water.
また、本実施形態では、Ａ液タンク３、Ｂ液タンク５、ミキサ１０およびタンク２０に冷却パイプ３ａ、５ａ、１０ａを設けて冷却を行っているが、混合装置４全体および中間タンク１７全体を冷却してもよい。 In the present embodiment, the cooling liquids 3a, 5a, and 10a are provided in the A liquid tank 3, the B liquid tank 5, the mixer 10 and the tank 20 for cooling, but the entire mixing device 4 and the entire intermediate tank 17 are It may be cooled.
さらに、本実施形態では、基板７１に塗布するコーティング液１９ａの量をシリンジポンプ４９で計量しているが、ギヤポンプ等を用いて計量してもよい。 Further, in this embodiment, the amount of the coating liquid 19a applied to the substrate 71 is measured by the syringe pump 49, but may be measured using a gear pump or the like.
また、本発明の装置は、カラーフィルタの着色層を設けるとき以外にも、有機ＥＬの発光層を設けるとき、ディスプレイの電極を設けるとき、基板に電子回路を設けるとき等の微細なパターンを形成する際にも利用することができる。
また、基板上に遮光部を設けて、基板、遮光部、及び、感光層が一体となった例について説明してきたが、感光層付基板と遮光部が別体となっていてもよく、また、遮光部はブラックマトリクス以外にも、ストライプ状でも曲線状であってもよい。
In addition to providing a colored layer of a color filter, the apparatus of the present invention forms a fine pattern when providing an organic EL light emitting layer, providing a display electrode, or providing an electronic circuit on a substrate. It can also be used when
Moreover, although the example which provided the light-shielding part on the board | substrate and integrated the board | substrate, the light-shielding part, and the photosensitive layer has been demonstrated, the board | substrate with a photosensitive layer and the light-shielding part may be separate, In addition to the black matrix, the light-shielding portion may be striped or curved.
１…………コーティング液供給装置
３…………Ａ液タンク
５…………Ｂ液タンク
７…………Ａ液
９…………Ｂ液
１１ａ……モーノポンプ
１３ａ……流路
１５ａ……流路
１７………中間タンク
１９………コーティング層
１９ａ……コーティング液
２１………タンク
２３………上限ゲージ
２５………下限ゲージ
２７………エアノズル
２９………コンプレッサ
３１………逆流防止弁
３３………流路
３５………脱気装置
３７………流路
３９………１次フィルタ
４１………流路
４３………３方向弁
４９………シリンジポンプ
５１………２次フィルタ
５５………ダイコートノズル
６１………ポンプ制御装置
６３………コーター制御装置
７１………基板
７３………ガラス基板
７５ａ……ブラックマトリクス
７７………ダイコートノズル
８１………乾燥機
８３………シャワー
８５ａ……撥インキ部
８７ａ……親インキ部
８９………紫外線
９１ａ……カラーインク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ......... Coating liquid supply apparatus 3 ......... A liquid tank 5 ............
Claims (5)
前記複数の溶液を混合させて、コーティング液を生成する混合装置と、
前記混合装置からの前記コーティング液を一時的に保持し、精密塗布装置に前記コーティング液を供給する中間タンクと、
を有することを特徴とするコーティング液供給装置。 A plurality of tanks each holding a plurality of types of solutions;
A mixing device that mixes the plurality of solutions to generate a coating liquid;
An intermediate tank that temporarily holds the coating liquid from the mixing device and supplies the coating liquid to a precision coating device;
A coating liquid supply apparatus comprising:
Priority Applications (1)
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013108913A1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-07-25 | 兵神装備株式会社 | Coating agent reference apparatus |
| KR20230036905A (en) * | 2021-09-08 | 2023-03-15 | 세메스 주식회사 | Apparatus for suppying liquid and apparatus for treating substrate |
-
2005
- 2005-03-23 JP JP2005083662A patent/JP2006263544A/en not_active Withdrawn
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| KR20230036905A (en) * | 2021-09-08 | 2023-03-15 | 세메스 주식회사 | Apparatus for suppying liquid and apparatus for treating substrate |
| KR102666437B1 (en) | 2021-09-08 | 2024-05-20 | 세메스 주식회사 | Apparatus for suppying liquid and apparatus for treating substrate |
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