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JP2006106452A - Forming method of original plate for forming single particle film and single particle film and electrophoresis display device - Google Patents

Forming method of original plate for forming single particle film and single particle film and electrophoresis display device Download PDF

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JP2006106452A
JP2006106452A JP2004294433A JP2004294433A JP2006106452A JP 2006106452 A JP2006106452 A JP 2006106452A JP 2004294433 A JP2004294433 A JP 2004294433A JP 2004294433 A JP2004294433 A JP 2004294433A JP 2006106452 A JP2006106452 A JP 2006106452A
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JP
Japan
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particles
adhesive layer
heat
single particle
original plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004294433A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Baba
淳 馬場
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2004294433A priority Critical patent/JP2006106452A/en
Publication of JP2006106452A publication Critical patent/JP2006106452A/en
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide forming methods of an original plate for forming a single particle film by arranging particles and the single particle film wherein particles using the original plate come close to each other and to provide an electrophoresis display device wherein high quality display is made possible. <P>SOLUTION: In the original plate having a base body and a plurality of recessed parts arranged in one surface of the base body, relations of d≤D≤1.5d, d≤P and 0.1d≤S≤1.5d are satisfied when an aperture diameter of the recessed part, arrangement pitch of the recessed parts, depth of the recessed part and average particle diameter are defined as D (μm), P (μm), S (μm) and d (μm), respectively. The particles are transferred onto an adhesive layer of a thermally shrinkable film in a single particle film state using the original plate, the thermally shrinkable film is thermally shrunk to form a transfer sheet and the particles on the adhesive layer of the transfer sheet are transferred to a body to be formed to form the single particle film. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、粒子を単粒子膜とするための原版、例えば、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある粒子を単粒子膜とするための原版と、この原版を用いた単粒子膜の形成方法、および、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセルを電気泳動表示素子として使用した電気泳動表示装置に関する。   The present invention relates to an original plate for making particles into a single particle film, for example, an original plate for making particles having an average particle diameter in the range of 10 to 100 μm into a single particle film, and a single particle film using this original plate. The present invention relates to a forming method and an electrophoretic display device using a microcapsule containing electrophoretic particles and a dispersion medium as an electrophoretic display element.

粒子を被形成体の表面に配列して単粒子膜を形成する方法として、例えば、予め粘着層を形成した被形成体上に粒子を散布し、ブレードにより掻き取る方法、粒子を分散させた塗布液を被形成体上に均一に塗布し、乾燥させる方法等がある。
また、所望のパターンで単粒子膜を形成する方法として、基材上に光熱変換層を設け、この光熱変換層上に、粒子をバインダーに分散させた塗布液を均一に塗布して粒子層を形成した転写シートを用いる方法がある。この方法では、粒子層が被形成体に接触するように、被形成体上に転写シートを載置した状態で、基材側から所望の部位にレーザーを照射したり、サーマルヘッドで熱を供給する。これにより、上記の部位の粒子層にてバインダーの溶融を生じ、バインダーとともに粒子が被形成体上に所望のパターンで転写される。
Examples of a method for forming a single particle film by arranging particles on the surface of the object to be formed include, for example, a method in which particles are dispersed on an object to be formed on which an adhesive layer has been previously formed and scraped with a blade. There is a method in which the liquid is uniformly applied on the object to be formed and dried.
In addition, as a method of forming a single particle film with a desired pattern, a photothermal conversion layer is provided on a substrate, and a coating liquid in which particles are dispersed in a binder is uniformly applied on the photothermal conversion layer to form a particle layer. There is a method using a formed transfer sheet. In this method, a laser beam is applied to a desired part from the substrate side, or heat is supplied by a thermal head, with the transfer sheet placed on the formed body so that the particle layer contacts the formed body. To do. As a result, the binder is melted in the particle layer at the above-mentioned part, and the particles are transferred together with the binder in a desired pattern onto the object to be formed.

一方、近年、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセルを電気泳動表示素子として2枚の電極間に挟み込み、この電気泳動表示素子に電圧を印加することにより、電気泳動粒子がマイクロカプセル内を異なる極性を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用した電気泳動表示装置が開発されている(特許文献1、2)。この電気泳動表示装置では、マイクロカプセルを分散させた塗布液を電極上に均一に塗布し、乾燥させることにより電気泳動表示素子層を形成することが行なわれていた。
上記のような電気泳動表示装置では、分散媒体をイエロー、シアン、マゼンタとした各色のマイクロカプセルを使用し、各色毎に各電極間に挟み込むことにより、カラー表示が可能となる。
特開2002−357853号公報 特開2002−333643号公報
On the other hand, in recent years, a microcapsule containing electrophoretic particles and a dispersion medium is sandwiched between two electrodes as an electrophoretic display element, and a voltage is applied to the electrophoretic display element, so that the electrophoretic particles move inside the microcapsule. An electrophoretic display device using a phenomenon of electrophoresis toward electrodes having different polarities has been developed (Patent Documents 1 and 2). In this electrophoretic display device, an electrophoretic display element layer is formed by uniformly applying a coating liquid in which microcapsules are dispersed on an electrode and drying it.
In the electrophoretic display device as described above, color display can be performed by using microcapsules of each color of yellow, cyan, and magenta as the dispersion medium and sandwiching each color between the electrodes.
JP 2002-357853 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-333643

しかしながら、従来の単粒子膜の形成方法では、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある均一な材質からなる粒子や、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセル等のように内部に異なる物質を包含した粒子等であって平均粒径が10〜100μmの範囲内にある粒子を、被形成体の表面に粒子が接近した単粒子膜状態で配列することは困難であった。例えば、マイクロカプセルを分散させた塗布液の調製段階では、電気泳動粒子の微油滴分散乳化やマイクロカプセルの製造を容易にするために、水溶液中でその処理を行っており、さらに、結合材としてポリビニルアルコール、その他の水溶性高分子材料を適当量含んでいる。したがって、マイクロカプセルを分散含有する塗布液は、水系のチキソトロピックな溶液であり、このため、塗布特性が悪く、泡の混入等を生じ易く、欠陥を生じることなくマイクロカプセルを配列することが困難であった。そして、電気泳動表示素子層を構成するマイクロカプセルに配列欠陥が存在する場合、画像品質の低下を来たすという問題があった。   However, in the conventional method of forming a single particle film, the inside is different, such as particles made of a uniform material having an average particle diameter in the range of 10 to 100 μm, or microcapsules containing electrophoretic particles and a dispersion medium. It has been difficult to arrange particles including substances having an average particle diameter in the range of 10 to 100 μm in a single particle film state in which the particles are close to the surface of the formed body. For example, in the preparation stage of a coating liquid in which microcapsules are dispersed, the treatment is performed in an aqueous solution in order to facilitate the dispersion and emulsification of electrophoretic particles and the production of microcapsules. As appropriate, polyvinyl alcohol and other water-soluble polymer materials are included. Therefore, the coating liquid containing microcapsules is a water-based thixotropic solution. For this reason, coating characteristics are poor, bubbles are likely to be mixed, and it is difficult to arrange the microcapsules without causing defects. Met. When the microcapsules constituting the electrophoretic display element layer have an arrangement defect, there is a problem that the image quality is deteriorated.

また、従来の転写シートを用いた方法では、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある粒子を所望のパターンで被形成体上に転写して単粒子膜を形成することは可能であるが、異なる粒子からなる単粒子膜を所望のパターンで転写形成することは不可能であった。これは、既に形成されている単粒子膜と被形成体との間に存在する段差により、異なる粒子からなる単粒子膜を近接して転写することが妨げられるためである。
また、従来の転写シートを用いた方法では、溶融状態で粒子とともに転写されたバインダーのダレが生じ、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が困難であり、また、バインダーのダレは、上記のような、異なる粒子からなる単粒子膜を隣接して形成する場合の支障にもなっていた。
In addition, in the method using the conventional transfer sheet, it is possible to transfer a particle having an average particle diameter in the range of 10 to 100 μm onto the object to be formed in a desired pattern to form a single particle film. It was impossible to transfer and form a single particle film composed of different particles in a desired pattern. This is because the step existing between the already formed single particle film and the object to be formed prevents the single particle film made of different particles from being transferred in close proximity.
Further, in the method using the conventional transfer sheet, sagging of the binder transferred together with the particles in a molten state occurs, and it is difficult to form a single particle film with a high-definition pattern. Thus, it has been a hindrance when a single particle film made of different particles is formed adjacently.

上述のような問題は、均一な材質からなる粒子や、電気泳動粒子と分散媒体を収納したマイクロカプセル等のように内部に異なる物質を包含した粒子等、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある全ての粒子における問題である。
さらに、従来の転写シートを用いた単粒子膜の形成方法では、バインダーが溶融状態とされる際に、粒子も加熱され、粒子によっては熱ダメージが発生するという問題もあった。また、所望のパターンで形成された単粒子膜では、粒子間にバインダーが存在するため、例えば、粒子を加圧変形させて密着させることができないという問題もあった。
本発明は上述のような実情に鑑みてなされたものであり、粒子を配列して単粒子膜を形成するための原版と、この原版を用いた粒子が接近した単粒子膜の形成方法、および、高品質表示が可能な電気泳動表示装置を提供することを目的とする。
The above-mentioned problem is that the average particle diameter is in the range of 10 to 100 μm, such as particles made of a uniform material, particles containing different substances inside such as microcapsules containing electrophoretic particles and a dispersion medium, etc. The problem with all particles in
Further, the conventional method for forming a single particle film using a transfer sheet has a problem that when the binder is brought into a molten state, the particles are also heated, and depending on the particles, thermal damage occurs. In addition, in a single particle film formed in a desired pattern, there is a problem that, for example, the particles cannot be brought into close contact by being deformed under pressure because the binder exists between the particles.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an original plate for arranging particles to form a single particle film, a method for forming a single particle film in which particles using the original plate approach, and An object of the present invention is to provide an electrophoretic display device capable of high-quality display.

このような目的を達成するために、本発明は、粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有し、該凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するような構成とした。
本発明の他の態様として、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
In order to achieve such an object, the present invention, in an original plate for disposing particles in a single particle film state, has a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate, Between the opening diameter D (μm) of the recesses, the arrangement pitch P (μm) of the recesses, the depth S (μm) of the recesses, and the average particle diameter d (μm), d ≦ D ≦ 1.5d , D ≦ P and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the adhesive layer is provided in the recess.

また、本発明は、粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、基体と、該基体に配列された複数の貫通孔とを有し、該貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するような構成とした。   Further, the present invention provides a master for arranging particles in a single particle film state, and has a base and a plurality of through holes arranged in the base, each having a hole diameter D (μm), Between the arrangement pitch P (μm) of the through holes, the thickness T (μm) of the substrate, and the average particle diameter d (μm), d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, 0.1d ≦ S ≦ The configuration is such that the relationship of 1.5d is established.

本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであるような構成とした。
The method for forming a single particle film of the present invention includes a step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate, and one of the heat shrinkable films. Forming a pressure-sensitive adhesive layer on the surface, transferring the particles placed on the original plate onto the pressure-sensitive adhesive layer in a single particle film state, and heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a substrate And a step of causing the particles on the adhesive layer to approach each other.
As another aspect of the present invention, the original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the original plate is configured to have an adhesive layer in the recess.

また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
In the method for forming a single particle film of the present invention, an adhesive layer is formed on one surface of the heat-shrinkable film, an original plate having a plurality of through holes arranged in a substrate is disposed on the adhesive layer, Placing the particles in the through holes of the original plate, then removing the original plate and disposing the particles in a single particle film state on the adhesive layer; and heating and shrinking the heat-shrinkable film Forming a base material, and making the particles on the adhesive layer approach each other.
As another aspect of the present invention, the original plate has a hole diameter D (μm) of the through holes, an arrangement pitch P (μm) of each through hole, a thickness T (μm) of the substrate, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d.

本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記基材における粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在するような構成とした。
As another aspect of the present invention, the heat shrinkable film is configured to be a uniaxial shrinkable heat shrinkable film.
As another aspect of the present invention, the array of particles in the base material is a stripe array in which the particles are in contact with each other along the heat shrink direction of the heat-shrinkable film. It was set as the structure where a particle | grain non-arrangement area | region exists in the width | variety of the integral multiple of the width | variety.

本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。   The method for forming a single particle film of the present invention includes a step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate, and one of the heat shrinkable films. On the surface, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer and an adhesive layer are formed in this order. Or a step of forming a pressure-sensitive adhesive layer having photothermal conversion foamability, a step of transferring particles placed on the original plate in a single particle film state onto the pressure-sensitive adhesive layer, and the heat-shrinkable film And heat shrinking to form a substrate and bringing the particles on the adhesive layer closer together.

本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであるような構成とした。
As another aspect of the present invention, the original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the original plate is configured to have an adhesive layer in the recess.

また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えるような構成とした。   Further, the method for forming a single particle film of the present invention comprises forming a foam layer and an adhesive layer in this order on one surface of a heat-shrinkable film and laminating them, or alternatively, a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer. Forming and laminating in order, or forming and laminating a photothermal conversion foam layer and an adhesive layer in this order, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability, and a plurality of through holes arranged in the substrate Placing the original plate on the adhesive layer, placing the particles in the through-holes of the original plate, and then removing the original plate and disposing the particles on the adhesive layer in a single particle film state; The heat shrinkable film is heated and thermally contracted to form a base material, and a step of bringing the particles on the adhesive layer closer to each other is provided.

本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
As another aspect of the present invention, the original plate has a hole diameter D (μm) of the through holes, an arrangement pitch P (μm) of each through hole, a thickness T (μm) of the substrate, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the heat shrinkable film is a biaxial shrinkable heat shrinkable film.
As another aspect of the present invention, the arrangement of the particles in the transfer sheet is a close-packed hexagonal lattice arrangement or a simple cubic lattice arrangement.

本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
The method for forming a single particle film of the present invention includes a step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate, and one of the heat shrinkable films. Forming a pressure-sensitive adhesive layer on the surface, transferring the particles placed on the original plate onto the pressure-sensitive adhesive layer in a single particle film state, and heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a substrate At the same time, the method includes a step of preparing a transfer sheet by bringing the particles on the adhesive layer close to each other, and a step of transferring the particles on the adhesive layer of the transfer sheet onto a body to be formed.
As another aspect of the present invention, the original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the original plate is configured to include an adhesive layer in the recess.

また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
In the method for forming a single particle film of the present invention, an adhesive layer is formed on one surface of the heat-shrinkable film, an original plate having a plurality of through holes arranged in a substrate is disposed on the adhesive layer, Placing the particles in the through holes of the original plate, then removing the original plate and disposing the particles in a single particle film state on the adhesive layer; and heating and shrinking the heat-shrinkable film A structure comprising: forming a base material; bringing a particle on the pressure-sensitive adhesive layer closer to produce a transfer sheet; and transferring a particle on the pressure-sensitive adhesive layer of the transfer sheet onto a body to be formed It was.
As another aspect of the present invention, the original plate has a hole diameter D (μm) of the through holes, an arrangement pitch P (μm) of each through hole, a thickness T (μm) of the substrate, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d.

本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在するような構成とした。
本発明の他の態様として、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写するような構成とした。
As another aspect of the present invention, the heat shrinkable film is configured to be a uniaxial shrinkable heat shrinkable film.
As another embodiment of the present invention, the particle arrangement in the transfer sheet is a stripe arrangement in which the particles are in contact with each other along the heat shrink direction of the heat-shrinkable film, and a stripe arrangement is provided between the stripe arrangements. It was set as the structure where a particle | grain non-arrangement area | region exists in the width | variety of the integral multiple of the width | variety.
As another aspect of the present invention, a plurality of types of transfer sheets having different particle types are prepared, and the stripe-shaped array of particles is transferred onto the object for each transfer sheet.

また、本発明の単粒子膜の形成方法は、基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。   The method for forming a single particle film of the present invention includes a step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate, and a heat shrinkable film. On one surface, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer and an adhesive layer are formed in this order. Forming and laminating in order, or forming a pressure-sensitive adhesive layer having photothermal conversion foamability, transferring the particles placed on the original plate in a single particle film state onto the pressure-sensitive adhesive layer, and heat shrinkage Forming a substrate by heating and shrinking the adhesive film to make a transfer sheet by bringing the particles on the adhesive layer closer to each other; Installed and opposed, opposite to the particle placement surface of the substrate of the transfer sheet By supplying light and / or heat to the desired part from the surface, the particles protrude in the direction of the formed body by foaming of the foam layer, the photothermal conversion foam layer or the photothermal conversion foaming adhesive layer of the part And a step of transferring the particles onto the object to be formed to form a single particle film with a desired pattern.

本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
As another aspect of the present invention, the original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the original plate is configured to include an adhesive layer in the recess.

また、本発明の単粒子膜の形成方法は、熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えるような構成とした。   Further, the method for forming a single particle film of the present invention comprises forming a foam layer and an adhesive layer in this order on one surface of a heat-shrinkable film and laminating them, or alternatively, a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer. Forming and laminating in order, or forming and laminating a photothermal conversion foam layer and an adhesive layer in this order, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability, and a plurality of through holes arranged in the substrate Placing the original plate on the adhesive layer, placing the particles in the through-holes of the original plate, and then removing the original plate and disposing the particles on the adhesive layer in a single particle film state; A step of heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a base material and making a particle on the adhesive layer approach to make a transfer sheet; The substrate particles of the transfer sheet are opposed to each other with a gap therebetween. Light and / or heat is supplied to a desired part from the surface opposite to the installation surface, and the particles are covered by foaming of the foam layer, the photothermal conversion foam layer, or the photothermal conversion foaming adhesive layer at the part. And a step of projecting in the direction of the forming body and transferring the particles onto the forming body to form a single particle film with a desired pattern.

本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであるような構成とした。
As another aspect of the present invention, the original plate has a hole diameter D (μm) of the through holes, an arrangement pitch P (μm) of each through hole, a thickness T (μm) of the substrate, and an average particle diameter d (μm). And d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d.
As another aspect of the present invention, the heat shrinkable film is a biaxial shrinkable heat shrinkable film.

本発明の他の態様として、前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
本発明の他の態様として、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上に所望のパターンで単粒子膜を形成するような構成とした。
As another aspect of the present invention, the arrangement of the particles in the transfer sheet is a close-packed hexagonal lattice arrangement or a simple cubic lattice arrangement.
As another aspect of the present invention, a plurality of types of transfer sheets having different particle types are prepared, and a single particle film is formed in a desired pattern on the formed body for each transfer sheet.

また、本発明は、電極間に電気泳動表示素子層を備えた電気泳動表示装置において、少なくとも一方の電極は、所定のパターン形状を有し、かつ、電気的に独立した複数系統のパターン電極であり、前記電気泳動表示素子層は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納してなる電気泳動表示素子を、上述の単粒子膜の形成方法により前記パターン電極上に単粒子膜状態となるように配列したものであり、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色が各系統のパターン電極毎に異なるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色は、少なくとも青色、赤色、黄色の3種であるような構成とした。
The present invention also provides an electrophoretic display device having an electrophoretic display element layer between electrodes, wherein at least one of the electrodes has a predetermined pattern shape and is a plurality of electrically independent pattern electrodes. The electrophoretic display element layer is an electrophoretic display element in which electrophoretic particles and a dispersion medium are housed in microcapsules, and is brought into a single particle film state on the pattern electrode by the above-described method of forming a single particle film. The color of the dispersion medium of the electrophoretic display element is different for each pattern electrode of each system.
As another aspect of the present invention, the color of the dispersion medium of the electrophoretic display element is at least three kinds of blue, red, and yellow.

本発明によれば、原版に形成された凹部、あるいは貫通孔に1個づつ粒子を確実に載置することができる。また、熱収縮性フィルムに設けた粘着層上に原版を用いて配設された粒子が単粒子膜状態となり、熱収縮性フィルムが熱収縮することにより、粒子が接近した単粒子膜を備えた基材が得られる。また、熱収縮性フィルムに設けた粘着層上に原版を用いて配設された粒子が単粒子膜状態となり、熱収縮性フィルムが熱収縮することにより、粒子が接近した単粒子膜を備えた転写シートが得られ、この転写シート上の単粒子膜を被形成体に転写することにより、単粒子膜を形成することができ、転写形成された単粒子膜にはバインダーが存在しないので、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が可能であるとともに、粒子を加圧変形させて密着させることも可能であり、また、溶融したバインダー中に粒子が置かれることがないので、粒子の受ける熱ダメージを最小限に抑えることができる。   According to the present invention, it is possible to reliably place particles one by one in the recesses or through holes formed in the original plate. In addition, the particles disposed using the original plate on the adhesive layer provided in the heat-shrinkable film are in a single-particle film state, and the heat-shrinkable film is heat-shrinked to provide a single-particle film in which the particles are close to each other. A substrate is obtained. In addition, the particles disposed using the original plate on the adhesive layer provided on the heat-shrinkable film are in a single-particle film state, and the heat-shrinkable film is heat-shrinked to provide a single-particle film in which the particles are close to each other. A transfer sheet is obtained, and the single particle film on the transfer sheet is transferred to an object to be formed, so that a single particle film can be formed. It is possible to form a single particle film with a fine pattern, and it is also possible to make the particles press-deform and adhere to each other, and because the particles are not placed in the melted binder, the particles receive Thermal damage can be minimized.

また、上記の熱収縮性フィルムとして、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを用いることにより、粒子がストライプ状配列し、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在する基材、あるいは転写シートを得ることができ、このような転写シートで、粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写することにより、既に形成されているストライプ状の単粒子膜に隣接させてストライプ状の単粒子膜を形成することができる。   In addition, by using a uniaxially shrinkable heat-shrinkable film as the heat-shrinkable film, the particles are arranged in stripes, and between each stripe-like arrangement, the particle non-width is a width that is an integral multiple of the stripe-like arrangement width. It is possible to obtain a base material or a transfer sheet having an arrangement region, and by using such a transfer sheet, a plurality of types of transfer sheets having different particle types are produced, and each transfer sheet has a stripe shape on the formed body. By transferring the arrayed particles, a striped single particle film can be formed adjacent to the already formed striped single particle film.

また、上記の熱収縮性フィルムとして、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを用い、転写シートを発泡可能なものとする場合には、所望の部位の粒子のみを突出させて被形成体に転写することができるので、既に形成されている単粒子膜に隣接させて所望のパターンで単粒子膜を形成することができる。
また、電気泳動表示装置の電気的に独立した複数系統のパターン電極上には、本発明の単粒子膜の形成方法により、パターン電極毎に分散媒体の色が異なる電気泳動表示素子が単粒子膜状態となるように配設されているので、パターン電極による電気泳動表示素子層への電圧印加により、電気泳動表示素子の電気泳動粒子がマイクロカプセル内を異なる電荷を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用したカラー表示が、ムラのない高品質なものとなる。
In addition, when a biaxial shrinkable heat shrinkable film is used as the heat shrinkable film and the transfer sheet can be foamed, only the particles at the desired site are projected and transferred to the object. Therefore, the single particle film can be formed in a desired pattern adjacent to the already formed single particle film.
In addition, on a plurality of electrically independent pattern electrodes of the electrophoretic display device, an electrophoretic display element in which the color of the dispersion medium is different for each pattern electrode is formed as a single particle film by the method for forming a single particle film of the present invention. The electrophoretic particles of the electrophoretic display element are electrophoresed in the microcapsule toward the electrodes having different charges by applying a voltage to the electrophoretic display element layer by the pattern electrode. Color display using the phenomenon becomes high quality with no unevenness.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
[単粒子膜形成用の原版]
図1は、本発明の原版の一実施形態を示す縦断面図である。図1に示されるように、本発明の原版1は、基体2と、この基体2の表面2a側に設けられた複数の凹部3を有している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[Original for forming single particle film]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the original plate of the present invention. As shown in FIG. 1, the original plate 1 of the present invention has a base 2 and a plurality of recesses 3 provided on the surface 2 a side of the base 2.

原版1を構成する凹部3は、球面形状であり、凹部3の円形の開口径D(μm)、各凹部3の配列ピッチP(μm)、凹部3の深さS(μm)と、単粒子膜を形成する粒子100の平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、好ましくはd≦D≦1.4dの関係、d≦Pの関係、0.1d≦S≦1.5d、好ましくは0.25d≦S≦1.25dの関係が成立する。凹部3の開口径D、各凹部3の配列ピッチP、凹部3の深さSと、粒子100の平均粒子径dとの間に上記の関係が成立することにより、粒子を含有する塗布液等を原版1に塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各凹部3に粒子を1個づつ確実に載置することができる。尚、各凹部3の配列ピッチP(μm)と粒子100の平均粒子径d(μm)との関係における配列ピッチPの下限はd≦Pであるが、上限には特に制限はなく、形成しようとする単粒子膜のパターン形状、各粒子100の要求される距離等に応じて適宜設定することができる。したがって、原版1の中に、例えば、P=dの領域と、P=5dの領域とが存在してもよく、また、P=2dの領域と、凹部3が形成されていない領域(あるいはPが極めて大きい領域)とが存在してもよい。
尚、本発明において、粒子100の平均粒径dは、JIS Z2500に準拠して測定するものとする。
The concave portion 3 constituting the original 1 has a spherical shape, a circular opening diameter D (μm) of the concave portion 3, an arrangement pitch P (μm) of the concave portions 3, a depth S (μm) of the concave portion 3, and a single particle Between the average particle diameter d (μm) of the particles 100 forming the film, d ≦ D ≦ 1.5d, preferably d ≦ D ≦ 1.4d, d ≦ P, 0.1d ≦ S ≦ 1.5d, preferably 0.25d ≦ S ≦ 1.25d. When the above relationship is established among the opening diameter D of the recesses 3, the arrangement pitch P of the recesses 3, the depth S of the recesses 3, and the average particle diameter d of the particles 100, a coating solution containing particles, etc. Is applied to the original plate 1 and the excess coating solution is removed with a blade or the like, the particles can be reliably placed one by one in each recess 3. The lower limit of the arrangement pitch P in the relationship between the arrangement pitch P (μm) of the recesses 3 and the average particle diameter d (μm) of the particles 100 is d ≦ P, but the upper limit is not particularly limited and will be formed. Can be appropriately set according to the pattern shape of the single particle film, the required distance of each particle 100, and the like. Therefore, for example, there may be a region of P = d and a region of P = 5d in the original 1, and a region of P = 2d and a region where the recess 3 is not formed (or P May be present).
In the present invention, the average particle diameter d of the particles 100 is measured according to JIS Z2500.

図2は、本発明の原版の他の実施形態を示す縦断面図である。図2に示されるように、原版11は、基体12と、この基体12に設けられた複数の貫通孔13を備えている。   FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing another embodiment of the original plate of the present invention. As shown in FIG. 2, the original plate 11 includes a base 12 and a plurality of through holes 13 provided in the base 12.

原版11を構成する貫通孔13は断面円形の貫通孔であり、その孔径D(μm)、各貫通孔13の配列ピッチP(μm)、基体12の厚みT(μm)と、単粒子膜を形成する粒子100の平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、好ましくはd≦D≦1.4dの関係、d≦Pの関係、0.1d≦T≦1.5d、好ましくは0.25d≦T≦1.25dの関係が成立する。貫通孔13の孔径D、各貫通孔13の配列ピッチP、基体12の厚みTと、粒子100の平均粒子径dとの間に上記の関係が成立することにより、例えば、被形成体上に原版11を配置し、粒子を含有する塗布液等を原版11に塗布し、余分な塗布液をブレード等により除去した際に、各貫通孔13に粒子を1個づつ確実に載置することができる。この原版11においても、各貫通孔13の配列ピッチP(μm)と粒子100の平均粒子径d(μm)との関係における配列ピッチPの下限はd≦Pであるが、上限には特に制限はなく、形成しようとする単粒子膜のパターン形状、各粒子100の要求される距離等に応じて適宜設定することができる。したがって、原版11の中に、例えば、P=2dの領域と、P=10dの領域とが存在してもよく、また、P=2dの領域と、貫通孔13が形成されていない領域(あるいはPが極めて大きい領域)とが存在してもよい。   The through-holes 13 constituting the original plate 11 are through-holes having a circular cross section, the hole diameter D (μm), the arrangement pitch P (μm) of each through-hole 13, the thickness T (μm) of the substrate 12, and a single particle film Between the average particle diameter d (μm) of the particles 100 to be formed, d ≦ D ≦ 1.5 d, preferably d ≦ D ≦ 1.4 d, d ≦ P, 0.1 d ≦ T ≦ 1 .5d, preferably 0.25d ≦ T ≦ 1.25d. The above relationship is established among the hole diameter D of the through holes 13, the arrangement pitch P of the through holes 13, the thickness T of the base body 12, and the average particle diameter d of the particles 100. When the original plate 11 is arranged, a coating solution containing particles is applied to the original plate 11, and the excess coating solution is removed by a blade or the like, the particles can be surely placed in each through-hole 13 one by one. it can. Also in this original plate 11, the lower limit of the arrangement pitch P in the relationship between the arrangement pitch P (μm) of each through-hole 13 and the average particle diameter d (μm) of the particles 100 is d ≦ P, but the upper limit is particularly limited. Rather, it can be appropriately set according to the pattern shape of the single particle film to be formed, the required distance of each particle 100, and the like. Therefore, for example, there may be a region of P = 2d and a region of P = 10d in the original plate 11, and a region of P = 2d and a region where the through hole 13 is not formed (or A region where P is extremely large).

尚、図2に示される例では、貫通孔13は、基体12の両面での孔径が等しいものであるが、これに限定されるものではない。すなわち、基体12の各面の孔径が平均粒径と上記関係を満足すればよく、また、粒子が供給される面の孔径のみが平均粒径と上記関係を満足する場合には、反対面の孔径がより大きいものであれば問題はない。また、貫通孔13の内壁面形状には特に制限はない。   In the example shown in FIG. 2, the through hole 13 has the same hole diameter on both surfaces of the base 12, but is not limited thereto. That is, it is only necessary that the pore diameter of each surface of the substrate 12 satisfies the above relationship with the average particle diameter, and when only the pore diameter of the surface to which the particles are supplied satisfies the above relationship with the average particle diameter, There is no problem if the pore diameter is larger. Further, the inner wall surface shape of the through hole 13 is not particularly limited.

本発明の原版1における凹部3は、例えば、図3に示すように、上述の範囲で設定されたピッチPを有する最密六方格子配列とすることができる。また、本発明の原版11における貫通孔13は、例えば、図4に示すように、上述の範囲で設定されたピッチPを有する単純立方格子配列とすることができる。これらの凹部3、貫通孔13の配列は例示であり、凹部3が単純立方格子配列をとり、貫通孔13が最密六方格子配列をとってもよく、また、他の配列であってもよい。   For example, as shown in FIG. 3, the recesses 3 in the original plate 1 of the present invention can be a close-packed hexagonal lattice array having a pitch P set in the above range. Moreover, the through-holes 13 in the original plate 11 of the present invention can be a simple cubic lattice array having a pitch P set in the above-mentioned range, for example, as shown in FIG. The arrangement of the recesses 3 and the through holes 13 is merely an example, and the recesses 3 may take a simple cubic lattice arrangement, and the through holes 13 may take a close-packed hexagonal lattice arrangement, or other arrangements.

このような原版1,11を構成する基体2,12は、ガラス板、アルミニウム、銅、クロム、インバー、スーパーインバー、42鉄ニッケル合金、コバール、工具鋼(SKD11)等の金属、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルホン、ポリサルホン等の耐熱性のある有機材料を使用することができる。また、原版の繰り返し使用における耐久性を向上させる目的で、少なくとも表面2a,12a側にクロム、ニッケル、炭化珪素、窒化チタン等の薄膜を形成してもよい。また、基体2の厚みは特に制限されず、例えば、50μm〜10mmの範囲で使用する材質等を考慮して適宜設定することができる。   The bases 2 and 12 constituting the original plates 1 and 11 are made of glass plate, aluminum, copper, chromium, invar, super invar, 42 iron nickel alloy, kovar, tool steel (SKD11), etc., polyimide, fluororesin Further, organic materials having heat resistance such as polyether ether ketone, polyether sulfone, polysulfone can be used. Further, for the purpose of improving the durability in the repeated use of the original plate, a thin film of chromium, nickel, silicon carbide, titanium nitride or the like may be formed at least on the surfaces 2a and 12a side. Further, the thickness of the base 2 is not particularly limited, and can be appropriately set in consideration of, for example, a material used in a range of 50 μm to 10 mm.

また、基体への凹部や貫通孔の形成は、エレクトロフォーミング法、サンドブラスト法、エキシマレーザー法、イオンビーム法等の乾式法、エッチング液浸漬法等の湿式法により行なうことができる。
尚、原版を構成する凹部や貫通孔の開口部の形状は円形に限定されず、3角形以上の多角形、楕円形等であってもよく、凹部の開口径、貫通孔の孔径が均一ではない場合は、最も小さい開口径、孔径が上記関係を満足するものとする。
Further, the formation of the recesses and the through holes in the substrate can be performed by an electroforming method, a sand blast method, an excimer laser method, a dry method such as an ion beam method, or a wet method such as an etching solution immersion method.
In addition, the shape of the opening part of the recessed part and through-hole which comprise an original plate is not limited to circular, A polygon more than a triangle, an ellipse etc. may be sufficient, and the opening diameter of a recessed part and the hole diameter of a through-hole are not uniform. If not, the smallest opening diameter and hole diameter satisfy the above relationship.

[単粒子膜の形成方法]
次に、本発明の単粒子膜の形成方法について説明する。
図5は、上述の本発明の単粒子膜形成用の原版1を使用した本発明の単粒子膜の形成方法の一実施形態を示す工程図である。
本発明では、まず、粒子100を原版1の各凹部3に1個づつ載置する(図5(A))。各凹部3内への粒子100の載置は、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある粉体100を原版1上に散布し、ブレード5により不要な粉体100を除去する方法、粉体100を分散させた分散液を原版1上に塗布し、ブレード5により不要な粉体100を除去する方法等を用いることができる。ブレード5による不要な粉体100の除去では、ブレード5と原版1とのギャップを、粉体100の平均粒子径d未満に設定することが好ましい。
[Method of forming single particle film]
Next, the method for forming a single particle film of the present invention will be described.
FIG. 5 is a process diagram showing an embodiment of the method for forming a single particle film of the present invention using the above-described original plate 1 for forming a single particle film of the present invention.
In the present invention, first, the particles 100 are placed one by one in each concave portion 3 of the original 1 (FIG. 5A). The particles 100 are placed in the respective recesses 3 by a blade coating method, for example, a method in which the powder 100 in a dry state is dispersed on the original plate 1 and the unnecessary powder 100 is removed by the blade 5. For example, a method in which a dispersion liquid in which is dispersed is applied onto the original plate 1 and unnecessary powder 100 is removed by the blade 5 can be used. In removing the unnecessary powder 100 by the blade 5, it is preferable to set the gap between the blade 5 and the original plate 1 to be less than the average particle diameter d of the powder 100.

次に、熱収縮性フィルム22′上に粘着層23を形成し、この粘着層23を、原版1上に載置された粒子100に接触させ(図5(B))、その後、原版1を取り除くことにより、粘着層23上に単粒子膜状態で粒子100を転写する(図5(C))。
次いで、熱収縮性フィルム22′を加熱して熱収縮させて基材22を形成するとともに、粘着層23上の粒子100を接近させて転写シート21を作製する(図5(D))。
Next, an adhesive layer 23 is formed on the heat-shrinkable film 22 ', and this adhesive layer 23 is brought into contact with the particles 100 placed on the original plate 1 (FIG. 5B). By removing, the particles 100 are transferred onto the adhesive layer 23 in a single particle film state (FIG. 5C).
Next, the heat-shrinkable film 22 ′ is heated and thermally shrunk to form the base material 22, and the transfer sheet 21 is produced by bringing the particles 100 on the adhesive layer 23 close to each other (FIG. 5D).

上述の熱収縮性フィルム22′の熱収縮は、例えば、図6(A)に示されるように、離型層26,28を備えた1組の基板25,27で転写シート21を挟持(離型層26,28が転写シート21側となるようにして挟持)し、この状態で加熱し、その後、冷却することにより行うことができる。1組の基板25,27で挟持された状態の転写基材21は、熱収縮性フィルム22′が離型層28上にて加熱により熱収縮を生じて、また、粘着層23は加熱によりタック値が低下する。これに伴って、粒子100は熱収縮性フィルム22′と離型層26との間を移動して相互に接近する(図6(B))。加熱時の昇温速度は、熱収縮性フィルム22′に厚み方向の凹凸が生じないような穏やかな条件で設定することが好ましい。その後、室温まで冷却することにより、粒子100は粘着層23に保持された単粒子膜を構成する。   For example, as shown in FIG. 6A, the heat shrinkage of the heat-shrinkable film 22 ′ described above is performed by sandwiching (releasing) the transfer sheet 21 between a pair of substrates 25 and 27 having release layers 26 and 28. The mold layers 26 and 28 are sandwiched so as to be on the transfer sheet 21 side, heated in this state, and then cooled. In the transfer base material 21 sandwiched between a pair of substrates 25 and 27, the heat-shrinkable film 22 'is thermally contracted by heating on the release layer 28, and the adhesive layer 23 is tacked by heating. The value drops. Accordingly, the particles 100 move between the heat-shrinkable film 22 ′ and the release layer 26 and approach each other (FIG. 6B). The heating rate during heating is preferably set under mild conditions such that unevenness in the thickness direction does not occur in the heat-shrinkable film 22 '. Then, the particle | grains 100 comprise the single particle film hold | maintained at the adhesion layer 23 by cooling to room temperature.

上記のような熱収縮処理に使用する1組の基板25,27としては、ガラス基板、金属基板、樹脂基板、合金基板等を挙げることができる。また、上記の離型層26,28は、加熱冷却工程において、熱収縮する熱収縮性フィルム22′の挙動、および、熱収縮応力による粒子100の挙動の妨げとなる摩擦抵抗を低減するものである。この離型層26,28は、例えば、長鎖アルキル基を有するアクリルエステル、ビニルエステル、ビニルエーテル、アクリルアマイド、マイレン酸誘導体、アリルエステル等、および、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン化合物、フッ素化合物、アミノアルキド化合物、ポリエステル化合物等の従来公知の材料を用いて形成することができる。尚、両基板25,27が、例えば、シリコーン樹脂基板等のように離型性を具備している場合には、離型層26,28は不要である。   Examples of the set of substrates 25 and 27 used for the heat shrink treatment as described above include a glass substrate, a metal substrate, a resin substrate, and an alloy substrate. In addition, the release layers 26 and 28 reduce the frictional resistance that hinders the behavior of the heat-shrinkable film 22 ′ that undergoes heat shrinkage and the behavior of the particles 100 due to heat shrinkage stress in the heating and cooling process. is there. The release layers 26 and 28 include, for example, acrylic ester having a long chain alkyl group, vinyl ester, vinyl ether, acrylic amide, maleic acid derivative, allyl ester, etc., and silicone compounds such as polydimethylsiloxane, fluorine compounds, amino acids, etc. It can form using conventionally well-known materials, such as an alkyd compound and a polyester compound. Note that the release layers 26 and 28 are not necessary when both the substrates 25 and 27 have release properties such as a silicone resin substrate.

次に、粘着層32を表面に形成した被形成体31上に、転写シート21に保持した粒子100を接触させ、その後、転写シート21を剥離することにより、被形成体31上に粒子100を転写して単粒子膜を形成する(図5(E))。
上述の実施形態では、被形成体31は、表面に粘着層32を備えたものであるが、この粘着層32には特に制限はない。また、被形成体31が粘着性を有している場合、あるいは、粒子100が粘着性を有している(配列工程後、加熱等により粒子100が粘着性を発現する)場合には、粘着層32は不要である。
尚、上述の単粒子膜の形成方法の実施形態では、原版1を使用した例を示したが、本発明の形成方法は、原版11を使用して単粒子膜を形成することができる。この場合、原版11は、熱収縮性フィルム22′の粘着層23上に配置され、この状態で貫通孔13に1個づつ粒子が載置され、その後、原版11を取り除き、熱収縮性フィルム22′を加熱収縮させることにより、上記転写シート21を作製することができる。
Next, the particles 100 held on the transfer sheet 21 are brought into contact with the formed body 31 having the adhesive layer 32 formed on the surface, and then the transfer sheet 21 is peeled off, whereby the particles 100 are formed on the formed body 31. Transfer to form a single particle film (FIG. 5E).
In the above-described embodiment, the object to be formed 31 includes the adhesive layer 32 on the surface, but the adhesive layer 32 is not particularly limited. Moreover, when the to-be-formed body 31 has adhesiveness, or when the particle 100 has adhesiveness (the particle 100 exhibits adhesiveness by heating or the like after the arranging step), it is adhesive. Layer 32 is not necessary.
In the above-described embodiment of the method for forming a single particle film, an example in which the original plate 1 is used is shown. However, in the forming method of the present invention, a single particle film can be formed using the original plate 11. In this case, the original plate 11 is disposed on the adhesive layer 23 of the heat-shrinkable film 22 ′. In this state, particles are placed one by one in the through holes 13, and then the original plate 11 is removed and the heat-shrinkable film 22 is removed. The transfer sheet 21 can be produced by heat-shrinking ′.

上述の本発明の単粒子膜の形成方法で使用する熱収縮性フィルム22′としては、例えば、熱収縮率が1〜80%、好ましくは10〜50%の範囲内にある一軸収縮型、あるいは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用することができる。このような熱収縮性フィルムとしては、例えば、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂等の一軸延伸フィルム、あるいは、二軸延伸フィルム等を使用することができる。尚、本発明における熱収縮率は、50〜100℃の範囲で各温度に設定したウォーターバス中に10cm平方のフィルムを10秒間浸漬して収縮させ、浸漬前後のフィルムの寸法変化から算出[(10cm−浸漬後の一辺の長さ(cm))/(10cm)×100]する。尚、熱収縮フィルムが一軸延伸フィルムの場合は、延伸方向に平行な一辺について測定する。   Examples of the heat-shrinkable film 22 ′ used in the above-described method for forming a single particle film of the present invention include a uniaxial shrinkage type having a heat shrinkage rate in the range of 1 to 80%, preferably 10 to 50%, or A biaxially shrinkable heat-shrinkable film can be used. As such a heat-shrinkable film, for example, a uniaxially stretched film such as a vinyl chloride resin or a polyester resin, or a biaxially stretched film can be used. In addition, the thermal shrinkage rate in this invention is calculated from the dimensional change of the film before and behind immersion by immersing a 10 cm square film for 10 second in the water bath set to each temperature in the range of 50-100 degreeC, and shrink | contracting it. 10 cm-the length of one side after immersion (cm) / (10 cm) x 100]. In addition, when a heat shrink film is a uniaxially stretched film, it measures about one side parallel to an extending | stretching direction.

上記の塩化ビニル系樹脂としては、例えば、数平均重合度が800〜2500、好ましくは1000〜1800のポリ塩化ビニル、塩化ビニルを主体とする共重合体(例えば、エチレン−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−ハロゲン化オレフィン共重合体等)、あるいは、これらのポリ塩化ビニルまたは塩化ビニル共重合体を主体とする他の相溶性樹脂(例えば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリル−スチレン−ブタジエン共重合体、部分ケン化ポリビニルアルコール等)とのブレンド物等を挙げることができ、これらを単独で、あるいは2種以上の組み合わせで使用することができる。これらの塩化ビニル系樹脂は、塊状重合法、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法等の公知の製造方法により得られたものであってよい。   Examples of the vinyl chloride-based resin include, for example, polyvinyl chloride having a number average polymerization degree of 800 to 2500, preferably 1000 to 1800, and a copolymer mainly composed of vinyl chloride (for example, ethylene-vinyl chloride copolymer, Vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, vinyl chloride-halogenated olefin copolymer, etc.) or other compatible resins based on these polyvinyl chlorides or vinyl chloride copolymers (for example, polyester resins, epoxies) Resin, acrylic resin, vinyl acetate resin, urethane resin, acrylonitrile-styrene-butadiene copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol, etc.) and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Can be used in These vinyl chloride resins may be those obtained by known production methods such as bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization, and solution polymerization.

また、上記のポリエステル系樹脂としては、例えば、芳香族ジカルボン酸、それらのエステル形成誘導体、脂肪族ジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、多価アルコール成分を主成分とするものである。芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−1,4−ジカルボン酸、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。また、これらのエステル誘導体としては、ジアルキルエステル、ジアリールエステル等の誘導体が挙げられる。また、脂肪族ジカルボン酸としては、例えば、ダイマー酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シュウ酸、コハク酸等が挙げられる。また、p−オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の多価のカルボン酸を必要に応じて併用してもよい。   Moreover, as said polyester-type resin, dicarboxylic acid components, such as aromatic dicarboxylic acid, those ester formation derivatives, aliphatic dicarboxylic acid, and a polyhydric alcohol component are mentioned as a main component, for example. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalene-1,4-dicarboxylic acid, naphthalene-2,6-dicarboxylic acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid. Examples of these ester derivatives include derivatives such as dialkyl esters and diaryl esters. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include dimer acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, oxalic acid, and succinic acid. Further, an oxycarboxylic acid such as p-oxybenzoic acid, and a polyvalent carboxylic acid such as trimellitic anhydride or pyromellitic anhydride may be used in combination as necessary.

上記の多価アルコール成分としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ダイマージオール、プロピレングリコール、トリエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール等のアルキレングリコール、ビスフェノール化合物、またはその誘導体のエチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられる。また、多価アルコールではないが、イプシロンカプロラクトンも同様に使用可能である。上記したジカルボン酸成分と多価アルコール成分を通常それぞれ1種類以上組み合わせて用いることが好ましい。   Examples of the polyhydric alcohol component include ethylene glycol, diethylene glycol, dimer diol, propylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,3-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol. 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 1,9-nonanediol, Alkylene glycol such as 1,10-decanediol, ethylene oxide adducts of bisphenol compounds or derivatives thereof, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, polyoxytetramethylene glycol, polyethylene glycol, etc. It is below. Moreover, although it is not a polyhydric alcohol, epsilon caprolactone can be used similarly. It is preferable to use one or more of the above dicarboxylic acid components and polyhydric alcohol components in combination.

上述の熱収縮性フィルム22′の厚みは、例えば、5〜200μm、好ましくは20〜100μmの範囲とすることができる。熱収縮性フィルム22′の厚みが5μm未満であると、熱収縮時の応力が弱く、粘着層23上での粒子100の十分な接近が得られない場合がある。また、200μmを超えると、厚み方向の熱収縮歪により粒子の接近が妨げられる場合がある。   The thickness of the above-described heat-shrinkable film 22 ′ can be, for example, in the range of 5 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm. If the thickness of the heat-shrinkable film 22 ′ is less than 5 μm, the stress at the time of heat-shrinking is weak, and sufficient access of the particles 100 on the adhesive layer 23 may not be obtained. On the other hand, if it exceeds 200 μm, the approach of the particles may be hindered by heat shrinkage strain in the thickness direction.

本発明の単粒子膜の形成方法にて転写シート21を構成する粘着層23は、常温でのタック値が50〜100℃におけるタック値よりも大きいことが好ましい。また、粘着層23は、例えば、常温でのタック値が3〜32、好ましくは5〜20の範囲内にあり、50〜100℃におけるタック値が2〜18、好ましくは3〜12の範囲内にあるものとすることができる。これにより、上述の熱収縮性フィルム22′が熱収縮を生じる温度において、粘着層23に載置された粒子100が、熱収縮性フィルム22′の熱収縮応力により粘着層23上を移動して接近することが可能となり、最も接近した状態では、最密充填状態が得られる。また、粘着層23は、タック値が低下する温度(熱収縮応力により粒子が粘着層23上を移動可能となる温度)が、上述の熱収縮性フィルム22′の熱収縮開始温度以下であることが好ましい。   The adhesive layer 23 constituting the transfer sheet 21 by the method for forming a single particle film of the present invention preferably has a tack value at room temperature larger than the tack value at 50 to 100 ° C. The adhesive layer 23 has, for example, a tack value at room temperature of 3 to 32, preferably 5 to 20, and a tack value at 50 to 100 ° C. of 2 to 18, preferably 3 to 12. Can be. As a result, the particles 100 placed on the adhesive layer 23 move on the adhesive layer 23 due to the heat shrinkage stress of the heat-shrinkable film 22 ′ at a temperature at which the heat-shrinkable film 22 ′ causes heat shrinkage. It is possible to approach, and in the closest state, the closest packed state is obtained. In addition, the adhesive layer 23 has a temperature at which the tack value decreases (temperature at which particles can move on the adhesive layer 23 due to thermal shrinkage stress) is equal to or lower than the thermal shrinkage start temperature of the above-described heat-shrinkable film 22 ′. Is preferred.

尚、本発明におけるタック値は、JIS Z0237に準拠し、(株)上島製作所製のボールタックテスタ(VR−5710)を使用し、30°に傾斜したガラス基板上に測定試料をセットし、種々の大きさのクロム鋼球を転がし、粘着層上で停止する球の大きさをタック値として測定する。
上記のような粘着層23を構成する材料としては、例えば、粘着剤、光硬化型剥離性粘着剤等を挙げることができる。
粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
The tack value in the present invention is based on JIS Z0237, using a ball tack tester (VR-5710) manufactured by Ueshima Seisakusho Co., Ltd. A chrome steel ball having a size of 2 is rolled, and the size of the sphere stopped on the adhesive layer is measured as a tack value.
As a material which comprises the above adhesive layers 23, an adhesive, a photocurable peelable adhesive, etc. can be mentioned, for example.
As the pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, an acrylic pressure-sensitive adhesive, or the like can be used.

ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー(ゴム状物質)である。エラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。   The rubber-based adhesive is a polymer (rubber-like substance) having an elastomer as a base polymer, a low glass transition temperature, and a wide rubber range up to a high temperature. Examples of the elastomer include natural rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, butyl rubber, polyisobutylene, silicone rubber, polyvinyl isobutyl ether, chloroprene rubber, nitrile rubber, Examples thereof include graft rubber, recycled rubber, polyvinyl ether, atactic polypropylene, polyester, polyurethane, butadiene rubber and the like. Moreover, you may contain a tackifier, a softening agent, anti-aging agent, a filler etc. other than said elastomer as a structural component of an adhesive.

アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等の主モノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記の主モノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。   Acrylic adhesives are used to improve co-monomer, crosslinkability and adhesion at high glass transition temperature to give adhesion and cohesion to main monomers such as soft acrylate esters with low glass transition temperature that give tackiness. These functional group-containing monomers are copolymerized. Examples of the main monomer include acrylic monomers such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and octyl acrylate-methacrylic acid copolymer.

光硬化型剥離性粘着剤は、上述の転写シート21の加熱冷却を行った後、光照射することにより粘着層23に剥離性を付与し、転写工程にて被形成体に粒子を容易に転写可能とすることを目的とするものである。光硬化型剥離性粘着剤としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これに乳化剤、脱イオン水、重合開始剤を添加して通常の手段によりエマルジョン重合して得ることができる。また、モノマー種を選択することにより粘着力を調整することができる。このようなアクリル樹脂エマルジョン系の光硬化型剥離性粘着剤は、ガラス転移温度が0℃未満となるようなモノマー組成で選定される。   The photocurable peelable pressure-sensitive adhesive heats and cools the transfer sheet 21 described above, and is then irradiated with light to impart peelability to the pressure-sensitive adhesive layer 23, and easily transfer the particles to the formed body in the transfer step. The purpose is to make it possible. Examples of the photocurable peelable adhesive include, for example, (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, ethyl acrylate, and butyl acrylate as main monomers, and emulsifiers and deionized water. It can be obtained by adding a polymerization initiator and emulsion polymerization by a usual means. Moreover, adhesive force can be adjusted by selecting a monomer seed | species. Such an acrylic resin emulsion-based photocurable peelable adhesive is selected with a monomer composition such that the glass transition temperature is less than 0 ° C.

このような粘着層23の厚みは、対象となる粒子100の平均粒径よりも小さいものとし、例えば、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある粒子を対象とする場合、粘着層23の厚みは1〜5μm程度の範囲で設定することができる。粘着層23の厚みが1μm未満であると、粒子を確実に載置することができず、5μmを超えると、熱収縮性フィルム22′の熱収縮時に粘着層23上での粒子の十分な接近が得られない場合があり、また、被形成体31への粒子100の転写に支障を来す場合がある。
ここで、上述の熱収縮性フィルム22′の熱収縮により粒子100を接近させて転写シート21を作製する際の粒子100の挙動について図7および図8にて説明する。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 23 is smaller than the average particle size of the target particles 100. For example, when the particles having an average particle size in the range of 10 to 100 μm are targeted, The thickness can be set in the range of about 1 to 5 μm. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 23 is less than 1 μm, the particles cannot be placed reliably. If the thickness exceeds 5 μm, sufficient proximity of the particles on the pressure-sensitive adhesive layer 23 during heat shrinkage of the heat-shrinkable film 22 ′. May not be obtained, and the transfer of the particles 100 to the object 31 may be hindered.
Here, the behavior of the particles 100 when the transfer sheet 21 is produced by bringing the particles 100 closer by the heat shrinkage of the heat-shrinkable film 22 ′ will be described with reference to FIGS. 7 and 8.

図7(A)は、原版1を用いて熱収縮性フィルム22′の粘着層23上に転写された粒子100の配列が、ピッチPを有する最密六方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム22′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図7(B)に示されるように、熱収縮性フィルム22′が一軸収縮(矢印a方向への収縮)を生じ、この収縮方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート21では、粒子100が面心立方格子配列をとる。また、熱収縮性フィルム22′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図7(C)に示されるように、熱収縮性フィルム22′が二軸収縮(矢印a方向と矢印b方向への収縮)を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート21では、粒子100が最密六方格子配列をとる。   FIG. 7A is a diagram showing a case where the array of particles 100 transferred onto the adhesive layer 23 of the heat-shrinkable film 22 ′ using the original 1 is a close-packed hexagonal lattice array having a pitch P. . When a uniaxially shrinkable heat-shrinkable film is used as the heat-shrinkable film 22 ', the heat-shrinkable film 22' is uniaxially shrunk (shrink in the direction of arrow a) as shown in FIG. 7B. ) And particle approach in this shrinking direction causes the particles 100 to have a face-centered cubic lattice arrangement in the produced transfer sheet 21. In addition, when a biaxial shrinkable heat shrinkable film is used as the heat shrinkable film 22 ', as shown in FIG. 7C, the heat shrinkable film 22' is biaxially shrunk (in the direction of arrow a). In the transfer sheet 21 produced, the particles 100 take a close-packed hexagonal lattice arrangement.

図8(A)は、原版1を用いて熱収縮性フィルム22′の粘着層23上に転写された粒子100の配列が、ピッチPを有する単純立方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム22′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図8(B)に示されるように、熱収縮性フィルム22′が一軸収縮(矢印a方向への収縮)を生じ、この収縮方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート21では、粒子100がストライプ状配列をとる。また、熱収縮性フィルム22′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図8(C)に示されるように、熱収縮性フィルム22′が二軸収縮(矢印a方向と矢印b方向への収縮)を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート21では、粒子100が単純立方格子配列をとる。   FIG. 8A is a diagram showing a case where the array of particles 100 transferred onto the adhesive layer 23 of the heat-shrinkable film 22 ′ using the original plate 1 is a simple cubic lattice array having a pitch P. When a uniaxially shrinkable heat-shrinkable film is used as the heat-shrinkable film 22 ', the heat-shrinkable film 22' is uniaxially shrunk (shrink in the direction of arrow a) as shown in FIG. 8B. ) And the approach of particles in this shrinking direction occurs, and in the produced transfer sheet 21, the particles 100 take a stripe arrangement. In addition, when a biaxial shrinkable heat shrinkable film is used as the heat shrinkable film 22 ', as shown in FIG. 8C, the heat shrinkable film 22' is biaxially shrunk (in the direction of arrow a). (Shrinkage in the direction of arrow b) and particle approach in two orthogonal directions occur, and in the produced transfer sheet 21, the particles 100 take a simple cubic lattice arrangement.

本発明では、上述の図8(B)のように、得られた転写シート21において粒子100がストライプ状配列をとる場合、例えば、図8(D)のように、各ストライプ状配列間に存在する粒子非配設領域24の幅W2を、ストライプ状配列幅W1の整数倍(図示例では2倍)として、以下のように被形成体31に粒子100の転写を行うことができる。
まず、粒子100Aを保持した転写シート21Aを、上述の転写シート21と同様にして作製する(図9(A))。この転写シート21Aでは、粒子100Aがストライプ状配列をとり、各ストライプ状配列間に、粒子100Aの平均粒径dの2倍の幅を有する粒子非配設領域24が存在する。また、同様の粒子非配設領域24を有し、粒子100Bを保持した転写シート21B(図示せず)、同様の粒子非配設領域24を有し、粒子100Cを保持した転写シート21C(図示せず)を作製する。
In the present invention, when the particles 100 take a stripe arrangement in the obtained transfer sheet 21 as shown in FIG. 8B, for example, the particles 100 exist between the stripe arrangements as shown in FIG. 8D. When the width W2 of the particle non-arrangement region 24 to be performed is an integral multiple of the stripe arrangement width W1 (twice in the illustrated example), the particles 100 can be transferred to the object 31 as follows.
First, the transfer sheet 21A holding the particles 100A is produced in the same manner as the transfer sheet 21 described above (FIG. 9A). In this transfer sheet 21A, the particles 100A take a stripe arrangement, and a particle non-arrangement region 24 having a width twice as large as the average particle diameter d of the particles 100A exists between the stripe arrangements. In addition, a transfer sheet 21B (not shown) having the same particle non-arrangement region 24 and holding the particles 100B, and a transfer sheet 21C having the same particle non-arrangement region 24 and holding the particles 100C (see FIG. (Not shown).

次に、粘着層32を表面に形成した被形成体31上に、転写シート21Aに保持した粒子100Aを接触させ、その後、転写シート21Aを剥離することにより、被形成体31上に粒子100Aを転写してストライプ状の単粒子膜を形成する(図9(B))。
次いで、転写シート21Bにストライプ状に保持されている粒子100Bを、既にストライプ状に転写されている粒子100Aに隣接させて被形成体31上に転写する(図9(C))。この転写時に、既に被形成体31に転写されているストライプ状の粒子100Aは、転写シート21Bの粒子非配設領域24に位置する。このため、既に転写されている粒子100Aと被形成体31との段差に影響されることなく、粒子100Bからなるストライプ状の単粒子膜を、粒子100Aからなるストライプ状の単粒子膜100Aに隣接して形成することができる。
Next, the particles 100A held on the transfer sheet 21A are brought into contact with the formed body 31 having the adhesive layer 32 formed on the surface, and then the transfer sheet 21A is peeled off, whereby the particles 100A are formed on the formed body 31. Transfer is performed to form a striped single particle film (FIG. 9B).
Next, the particles 100B held in the stripe shape on the transfer sheet 21B are transferred onto the object 31 to be adjacent to the particles 100A already transferred in the stripe shape (FIG. 9C). At the time of this transfer, the stripe-shaped particles 100A that have already been transferred to the object 31 are located in the particle non-arrangement region 24 of the transfer sheet 21B. Therefore, the stripe-shaped single particle film made of the particles 100B is adjacent to the stripe-shaped single particle film 100A made of the particles 100A without being affected by the step between the already transferred particle 100A and the object 31. Can be formed.

次に、転写シート21Cにストライプ状に保持されている粒子100Cを、既にストライプ状に転写されている粒子100A、粒子100Bに隣接させて被形成体31上に転写する(図9(D))。この転写時にも、既に被形成体31に転写されているストライプ状の粒子100A、粒子100Bは、転写シート21Cの粒子非配設領域24に位置するので、既に転写されている粒子100A、粒子100Bと被形成体31との段差に影響されることなく、粒子100Cからなるストライプ状の単粒子膜を、粒子100A、粒子100Bからなるストライプ状の単粒子膜100Aに隣接して形成することができる。   Next, the particles 100C held in a stripe shape on the transfer sheet 21C are transferred onto the object 31 so as to be adjacent to the particles 100A and 100B that have already been transferred in a stripe shape (FIG. 9D). . Even during this transfer, the stripe-shaped particles 100A and particles 100B that have already been transferred to the forming body 31 are located in the particle non-arrangement region 24 of the transfer sheet 21C, and thus the particles 100A and particles 100B that have already been transferred. A stripe-shaped single particle film composed of the particles 100C can be formed adjacent to the stripe-shaped single particle film 100A composed of the particles 100A and the particles 100B without being affected by a step between the substrate 100 and the formation body 31. .

このようにして、3種の粒子100A、粒子100B、粒子100Cからなる各パターンを隣接して形成することができる。尚、このような複数種の粒子を用いて単粒子膜を形成する場合の粒子の種類の数には制限はない。また、上述の例では、粒子が一列に配列して1本のストライプ状配列が構成されたものであるが、ストライプ状配列における幅方向の粒子数は2個以上であってもよい。   In this way, each pattern composed of the three types of particles 100A, particles 100B, and particles 100C can be formed adjacent to each other. In addition, there is no restriction | limiting in the number of the kind of particle | grains in the case of forming a single particle film | membrane using such multiple types of particle | grains. Further, in the above-described example, the particles are arranged in a line to form a single stripe array, but the number of particles in the width direction in the stripe array may be two or more.

次に、上述の本発明の単粒子膜形成用の原版11を使用した本発明の単粒子膜の形成方法を説明する。
図10〜図12は、本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
本発明では、まず、熱収縮性フィルム42′上に光熱変換層43、発泡層44、粘着層45をこの順に積層する(図10(A))。
熱収縮性フィルム42′としては、上述の実施形態の熱収縮性フィルム22′として挙げたものを使用することができる。
Next, a method for forming a single particle film of the present invention using the above-mentioned original plate 11 for forming a single particle film of the present invention will be described.
FIGS. 10-12 is process drawing for demonstrating other embodiment of the formation method of the single particle film of this invention.
In the present invention, first, the photothermal conversion layer 43, the foam layer 44, and the adhesive layer 45 are laminated in this order on the heat-shrinkable film 42 ′ (FIG. 10A).
As the heat-shrinkable film 42 ′, those listed as the heat-shrinkable film 22 ′ in the above embodiment can be used.

光熱変換層43は、後工程にて作製される転写シートに照射された光を効率良く熱に変換するためのものであり、例えば、樹脂バインダー中にシアニン系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリウム系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系の有機金属錯体等の赤外吸収色素を含有したもの、あるいは、酸化鉄(Fe23)、鉛丹(Pb34)、黄鉛(PbCrO4)、銀朱(HgS)、群青(Na6Al6Si6244)、酸化コバルト(CoO又はCo34)、二酸化チタン(TiO2)、二酸化チタン被覆雲母(TiO2/K2O・3Al23・6SiO2・2H2O)、ストロンチウムクロメイト(SrCrO4))、チタニウム・イエロー(ニッケルイエロー、クロムイエロー)、鉄黒(Fe34)、モリブデン赤(PbCrO4・nPbMoO4・mPbSO4・xAl(OH)3)、モリブデンホワイト(ZnMoO4・ZnO又はCaZnMoO4・CaCO3)、リトポン(BaSO4+ZnS)、カドミウム赤(CdS・nCdSe)、ブロンズ粉(銅と亜鉛の合金)、アルミニウム粉等の近赤外領域に吸収帯をもつ金属酸化物やカーボンブラックを含有したもの、あるいは、上記物質単体からなる薄膜とすることができる。上記の樹脂バインダーとしては、上述の発泡層で挙げたような樹脂バインダーを使用することができる。また、樹脂バインダー中に含有される光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲で設定することが好ましい。 The photothermal conversion layer 43 is for efficiently converting light irradiated to a transfer sheet produced in a later process into heat. For example, cyanine-based, polymethine-based, azulenium-based, squalium-based in a resin binder , thiopyrylium, naphthoquinone, organic compounds such as anthraquinone dyes, phthalocyanine, azo, those containing an infrared absorbing dye, such as an organic metal complex of a thioamide compound, or iron oxide (Fe 2 O 3), lead Dan (Pb 3 O 4 ), yellow lead (PbCrO 4 ), silver red (HgS), ultramarine (Na 6 Al 6 Si 6 O 24 S 4 ), cobalt oxide (CoO or Co 3 O 4 ), titanium dioxide (TiO 2) ), mica coated with titanium (TiO 2 / K 2 O · 3Al 2 O 3 · 6SiO 2 · 2H 2 O dioxide), strontium chromate (SrCrO 4)), titanium Yi Low (nickel yellow, chrome yellow), iron black (Fe 3 O 4), molybdate orange (PbCrO 4 · nPbMoO 4 · mPbSO 4 · xAl (OH) 3), molybdenum White (ZnMoO 4 · ZnO or CaZnMoO 4 · CaCO 3 ), Lithopone (BaSO 4 + ZnS), cadmium red (CdS · nCdSe), bronze powder (copper and zinc alloy), aluminum powder, etc. containing metal oxides or carbon black having an absorption band in the near infrared region Or it can be set as the thin film which consists of the said substance single-piece | unit. As said resin binder, the resin binders mentioned in the above-mentioned foamed layer can be used. Moreover, it is preferable to set content of the photothermal conversion substance contained in a resin binder in the range of 0.1-5 weight part with respect to 100 weight part of resin binders.

光熱変換層43の形成は、上述の樹脂バインダーに光熱変換性物質と、必要に応じて架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで熱収縮性フィルム42′上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。このような光熱変換層43の厚みは、樹脂バインダー中に光熱変換性物質を含有する場合、例えば、1〜100μmの範囲で設定することができ、また、光熱変換性物質の薄膜である場合には、0.001〜10μmの範囲で設定することができる。   The photothermal conversion layer 43 is formed by dissolving a photothermal conversion substance and, if necessary, a crosslinking agent or the like into the above-mentioned resin binder in an appropriate organic solvent, a mixture of an organic solvent and water, or water. Or a dispersed solution or dispersion is prepared, and this is heat-shrinkable at a desired thickness by a known means such as screen printing, gravure coating, gravure reverse coating, air knife coating, etc. It can be formed by coating on the film 42 'and drying. The thickness of such a photothermal conversion layer 43 can be set, for example, in the range of 1 to 100 μm when the photothermal conversion substance is contained in the resin binder, or when the photothermal conversion layer 43 is a thin film of the photothermal conversion substance. Can be set in the range of 0.001 to 10 μm.

上述の発泡層44は、下記の樹脂バインダーに発泡剤と、必要に応じて熱伝導性物質、架橋剤等を添加したものを、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで光熱変換層43上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。   The above-mentioned foamed layer 44 is obtained by adding a foaming agent and, if necessary, a heat conductive material, a crosslinking agent, etc. to the following resin binder, an appropriate organic solvent, a mixture of an organic solvent and water, or water. A solution or dispersion dissolved in or dispersed in the solution is prepared, and this is heated to a desired thickness by a known means such as screen printing, gravure coating, gravure reverse coating, air knife coating, etc. It can be formed by applying on the conversion layer 43 and drying.

使用する発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N′ジニトロソ−N,N′ジメチルテレフタルアミド、P−トルエンスルホニルヒドラジド、ヒドラゾルカルボンアミド、P−トルエンスルホニルアジド、アセトンバーP−スルホニルヒドラゾン等の有機系発泡剤、重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム等の無機系発泡剤、内部に低温で揮発する溶媒を含有した熱膨張性マイクロカプセル等が挙げられる。   Examples of the blowing agent to be used include azodicarbonamide, azobisisobutyronitrile, dinitrosopentamethylenetetramine, N, N′dinitroso-N, N′dimethylterephthalamide, P-toluenesulfonylhydrazide, hydrazolecarbonamide. , P-toluenesulfonyl azide, acetone-based organic foaming agents such as P-sulfonylhydrazone, inorganic foaming agents such as sodium bicarbonate, ammonium carbonate, ammonium bicarbonate, etc. A microcapsule etc. are mentioned.

上記の熱膨張性マイクロカプセルは、低温で揮発する炭化水素を熱可塑性樹脂からなる壁材の内部に包含させたカプセル構造をとるものであり、光照射(加熱)等により、未発泡状態の10〜150倍程度の体積膨張を生じる。熱膨張性マイクロカプセルに内包させる炭化水素としては、塩化メチル、臭化メチル、トリクロロエタン、ジクロロエタン、n−ヘキサン、n−ペンタン、イソブタン、イソヘプタン、ネオペンタン、石油エーテル、フレオン等のフッ素原子をもつ脂肪族炭化水素、あるいは、これらの炭化水素の複合混合体等を用いることができる。   The above-described thermally expandable microcapsule has a capsule structure in which hydrocarbons that volatilize at a low temperature are included in a wall material made of a thermoplastic resin, and is in an unfoamed state by light irradiation (heating) or the like. Volume expansion of about 150 times occurs. Hydrocarbons encapsulated in thermally expandable microcapsules include aliphatics having fluorine atoms such as methyl chloride, methyl bromide, trichloroethane, dichloroethane, n-hexane, n-pentane, isobutane, isoheptane, neopentane, petroleum ether, freon, etc. Hydrocarbons or complex mixtures of these hydrocarbons can be used.

また、熱膨張性マイクロカプセルの壁材としては、塩化ビニリデン、塩化ビニル、アクリロニトリル、スチレン、ポリカーボネート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニルのポリマー、あるいは、これらの樹脂の共重合体や混合物等を用いることができる。また、必要の応じて、架橋剤を使用することもできる。このような熱膨張性マイクロカプセルの平均粒径は、例えば、0.1〜50μm程度であってよい。   The wall material of the thermally expandable microcapsule includes vinylidene chloride, vinyl chloride, acrylonitrile, styrene, polycarbonate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinyl acetate polymers, or copolymers and mixtures of these resins. Can be used. Moreover, a crosslinking agent can also be used as needed. The average particle diameter of such thermally expandable microcapsules may be, for example, about 0.1 to 50 μm.

発泡層44を構成する樹脂バインダーとしては、例えば、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニルやポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリアミド、ポリウレタン、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデン共重合体、また、加硫ゴムや未加硫ゴム等のゴム系樹脂等を挙げることができる。上記のゴム系樹脂としては、クロロプレンゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、合成イソプレンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、ポリイソプレンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、塩素化ブチルゴム等の合成ゴムや天然ゴム等の未加硫ゴム、あるいは、加硫ゴムを挙げることができる。特に好ましいものとしては、ポリエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ゴム系樹脂を挙げることができる。   Examples of the resin binder constituting the foam layer 44 include phenoxy resin, vinyl resins such as polyvinyl acetate, polyacrylic acid ester, and polymethacrylic acid ester, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polystyrene, polyamide, and polyurethane. Acrylonitrile, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, acrylonitrile-vinylidene chloride copolymer, and rubber resins such as vulcanized rubber and unvulcanized rubber. Examples of the rubber-based resin include chloroprene rubber, fluorine rubber, silicone rubber, synthetic isoprene rubber, butyl rubber, urethane rubber, styrene-butadiene rubber, ethylene-propylene rubber, polyisoprene rubber, butadiene rubber, nitrile rubber, chlorinated butyl rubber, and the like. And unvulcanized rubber such as synthetic rubber and natural rubber, or vulcanized rubber. Particularly preferable examples include polyester, acrylonitrile, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, and rubber resin.

発泡層44では、光照射(加熱)等により、含有される発泡剤が発泡した際に、光照射(加熱)した部位と、他の部位との境界で正確に発泡層が盛り上がることが必要であり、このため、上記のバインダー樹脂の数平均分子量は1000〜30000、好ましくは3000〜25000の範囲であることが望ましい。
発泡層44における発泡剤の含有量は、有機系発泡剤や無機系発泡剤の場合、樹脂バインダー100重量部に対して5〜100重量部の範囲で設定することが好ましい。また、発泡剤が熱膨張性マイクロカプセルの場合、樹脂バインダー100重量部に対して5〜80重量部の範囲で設定することが好ましい。発泡剤の含有量が上記の範囲未満であると、発泡層が充分に発泡せず、また、上記の範囲を超えると、発泡層の破裂を生じ、正確な突出形状が形成できなくなり好ましくない。
In the foam layer 44, when the foaming agent contained is foamed by light irradiation (heating) or the like, it is necessary that the foam layer rises accurately at the boundary between the light irradiated (heated) part and another part. For this reason, the number average molecular weight of the binder resin is preferably 1000 to 30000, preferably 3000 to 25000.
In the case of an organic foaming agent or an inorganic foaming agent, the content of the foaming agent in the foam layer 44 is preferably set in the range of 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin binder. Moreover, when a foaming agent is a thermally expansible microcapsule, it is preferable to set in the range of 5-80 weight part with respect to 100 weight part of resin binders. When the content of the foaming agent is less than the above range, the foamed layer does not sufficiently foam, and when the content exceeds the above range, the foamed layer is ruptured and an accurate protruding shape cannot be formed.

上述のような発泡剤、バインダー樹脂を含有する発泡層44の厚みは、使用する発泡剤、発泡剤の含有量、粒子100の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子100の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、1〜150μmの範囲で設定することができる。
尚、発泡層44には、熱伝導性に優れた物質、例えば、銅、アルミニウム、酸化スズ、二硫化モリブデン等の金属、金属酸化物、あるいは、金属硫化物、カーボンブラック等の炭素質物質等を含有させてもよい。
The thickness of the foaming layer 44 containing the foaming agent and binder resin as described above is higher than the size of the particle 100 during foaming in consideration of the foaming agent used, the content of the foaming agent, the size of the particle 100, and the like. It is desirable to set so that it can protrude, for example, it can set in the range of 1-150 micrometers.
The foam layer 44 is made of a material having excellent thermal conductivity, for example, a metal such as copper, aluminum, tin oxide or molybdenum disulfide, a metal oxide, or a carbonaceous material such as metal sulfide or carbon black. May be included.

また、上述の粘着層45は、転写対象となる粒子100を保持可能であり、かつ、光照射(加熱)等により、発泡層44が突出したときに、粒子の転写が可能なものである。このような粘着層45は、例えば、微粘着タイプあるいは再剥離性タイプの粘着剤を用いて形成することができる。また、粘着層45の膜切れを良好なものとして、粘着層45ごと粒子100を転写可能としてもよい。粘着層45の形成は、上記の粘着性物質を、適当な有機溶剤、有機溶剤と水との混合体、または水に溶解したり、あるいは分散させた溶液、または分散体を調製し、これを、例えば、スクリーン印刷、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法等の公知の手段により所望の厚みで発泡層44上に塗布し、乾燥することにより形成することができる。粘着層45の厚みは、使用する材料の粘着性、膜切れ性等を考慮して適宜設定することができ、例えば、1〜10μmの範囲で設定することができる。   Moreover, the above-mentioned adhesive layer 45 can hold the particles 100 to be transferred, and can transfer the particles when the foam layer 44 protrudes by light irradiation (heating) or the like. Such an adhesive layer 45 can be formed using, for example, a slightly adhesive type or a releasable type adhesive. Moreover, it is good also as transferability of the particle | grains 100 with the adhesion layer 45 making the film breakage | shortage of the adhesion layer 45 favorable. The adhesive layer 45 is formed by preparing a solution or dispersion in which the above-mentioned adhesive substance is dissolved or dispersed in a suitable organic solvent, a mixture of an organic solvent and water, or water. For example, it can be formed by applying on the foamed layer 44 with a desired thickness by a known means such as screen printing, gravure coating, gravure reverse coating, air knife coating, and drying. The thickness of the adhesive layer 45 can be appropriately set in consideration of the adhesiveness of the material to be used, the film cutting property, etc., and can be set, for example, in the range of 1 to 10 μm.

次に、粘着層45上に本発明の原版11を配置し(図10(B))、原版11の貫通孔13内に粒子100を1個づつ載置し(図10(C))、その後、原版11を取り除くことにより、粘着層45上に単粒子膜状態で粒子100を転写する(図10(D))。各貫通孔13内への粒子100の載置は、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある粉体100を原版11上に散布し、ブレード15により不要な粉体100を除去する方法、粉体100を分散させた分散液を原版11上に塗布し、ブレード15により不要な粉体100を除去する方法等を用いることができる。ブレード15による不要な粉体100の除去では、ブレード15と原版11とのギャップを、粉体100の平均粒子径d未満に設定することが好ましい。   Next, the original plate 11 of the present invention is placed on the adhesive layer 45 (FIG. 10B), and the particles 100 are placed one by one in the through holes 13 of the original plate 11 (FIG. 10C), and thereafter Then, by removing the original 11, the particles 100 are transferred in a single particle film state onto the adhesive layer 45 (FIG. 10D). The particle 100 is placed in each through-hole 13 by a blade coating method, for example, a method in which the powder 100 in a dry state is dispersed on the original plate 11 and the unnecessary powder 100 is removed by the blade 15. A method of applying a dispersion liquid in which 100 is dispersed onto the original plate 11 and removing unnecessary powder 100 with the blade 15 can be used. In removing the unnecessary powder 100 with the blade 15, it is preferable to set the gap between the blade 15 and the original plate 11 to be less than the average particle diameter d of the powder 100.

次いで、熱収縮性フィルム42′を加熱して熱収縮させて基材42を形成するとともに、粘着層45上の粒子100を接近させて転写シート41を作製する(図11(A))。この熱収縮性フィルム42′の熱収縮は、例えば、図6に示した熱収縮性フィルム22′の熱収縮と同様に行うことができる。尚、熱収縮性フィルム42′の熱収縮により粒子100を接近させて転写シート41を作製する際の粒子100の挙動は、図7および図8に基づいた上述の説明と同様である。   Next, the heat-shrinkable film 42 ′ is heated and thermally shrunk to form the base material 42, and the transfer sheet 41 is produced by bringing the particles 100 on the adhesive layer 45 close to each other (FIG. 11A). The heat shrinkage of the heat shrinkable film 42 ′ can be performed, for example, in the same manner as the heat shrinkage of the heat shrinkable film 22 ′ shown in FIG. The behavior of the particles 100 when the transfer sheet 41 is produced by bringing the particles 100 close to each other by the heat shrinkage of the heat-shrinkable film 42 ′ is the same as described above based on FIGS. 7 and 8.

以下の工程の説明では、上述の転写シート41の作製を3種の粒子100A,100B,100Cについて行い、3種の転写シート41A,41B,41C(図示せず)を作製した場合を例とする。
まず、粒子100Aを保持した転写シート41Aの粒子配設面を、被形成体51に間隔を設けて対向させ、転写シート41Aの基材42側(粒子配設面と反対側の面)から所望の部位40Aに光および/または熱を供給する(図11(B))。
In the following description of the steps, the transfer sheet 41 described above is manufactured for the three types of particles 100A, 100B, and 100C, and three types of transfer sheets 41A, 41B, and 41C (not shown) are manufactured as an example. .
First, the particle arrangement surface of the transfer sheet 41A holding the particles 100A is opposed to the object 51 with a gap, and desired from the substrate 42 side (the surface opposite to the particle arrangement surface) of the transfer sheet 41A. Light and / or heat is supplied to the region 40A (FIG. 11B).

被形成体51は特に制限はなく、図示例では、基板52の一方の面に粘着層53をそなえたものである。
転写シート41Aと被形成体51の対向間隔は、後述のように、発泡層44の発泡による盛り上がりによって突出した粒子100Aが、被形成体51に当接し得る間隔であり、使用する転写シートに応じて、例えば、10〜110μmの範囲で設定することができる。
所望の部位40Aに供給する光としてはレーザー光を用い、供給された光は光熱変換層43により熱に変換される。また、所望の部位40Aに熱を直接供給する場合には、サーマルヘッド、赤外線照射装置等を用いることができる。
There is no restriction | limiting in particular in the to-be-formed body 51, In the example of illustration, it has the adhesion layer 53 on the one surface of the board | substrate 52. As shown in FIG.
As will be described later, the facing interval between the transfer sheet 41A and the formed body 51 is an interval at which the particles 100A protruding due to the rising of the foam layer 44 due to foaming can come into contact with the formed body 51, and depends on the transfer sheet used. For example, it can set in the range of 10-110 micrometers.
Laser light is used as the light to be supplied to the desired portion 40 </ b> A, and the supplied light is converted into heat by the photothermal conversion layer 43. Moreover, when supplying heat directly to the desired part 40A, a thermal head, an infrared irradiation device, or the like can be used.

上述のように所望の部位40Aに光および/または熱を供給することにより、転写シート41Aの発泡層44のうち、部位40Aに対応する部位にて、含有する発泡剤が発泡する。これにより、発泡層44が盛り上がり、粒子100Aが被形成体51方向に突出し、被形成体51の粘着層53上に当接する(図11(C))。その後、転写シート41Aを除去することにより、粒子100Aが被形成体51に所望のパターンで単粒子状態で転写される。
次に、粒子100Bを保持した転写シート41Bの粒子配設面を、既に粒子100Aが単粒子状態で転写されている被形成体51に間隔を設けて対向させ、転写シート41Bの基材42側(粒子配設面と反対側の面)から所望の部位40Bに光および/または熱を供給する(図12(A))。この部位40Bは、上述の部位40Aに隣接した部位とすることができる。
By supplying light and / or heat to the desired part 40A as described above, the foaming agent contained in the foamed layer 44 of the transfer sheet 41A is foamed at the part corresponding to the part 40A. As a result, the foamed layer 44 rises, and the particles 100A protrude in the direction of the body 51 to be in contact with the adhesive layer 53 of the body 51 (FIG. 11C). Thereafter, the transfer sheet 41A is removed, whereby the particles 100A are transferred to the object 51 in a single particle state in a desired pattern.
Next, the particle arrangement surface of the transfer sheet 41B holding the particles 100B is opposed to the formation body 51 on which the particles 100A have already been transferred in a single particle state with a gap, and the transfer sheet 41B side of the substrate 42 Light and / or heat is supplied from the (surface opposite to the particle arrangement surface) to the desired portion 40B (FIG. 12A). This part 40B can be a part adjacent to the above-mentioned part 40A.

転写シート41Bと被形成体51の対向間隔、所望の部位40Bへの光、熱の供給は、上記の転写シート41Aの場合と同様である。
光および/または熱が供給された部位40Bでは、転写シート41Bの発泡層44のうち、部位40Bに対応する部位にて、発泡剤の発泡が生じる。これにより、発泡層44が盛り上がり、粒子100Bが被形成体51方向に突出し、被形成体51の粘着層53上(既に単粒子状態で転写されている粒子100Aに隣接する部位)に当接する(図12(B))。その後、転写シート41Bを除去することにより、粒子100Bが被形成体51に所望のパターンで単粒子状態で転写される。
The facing distance between the transfer sheet 41B and the object 51, and the supply of light and heat to the desired portion 40B are the same as in the case of the transfer sheet 41A.
In the part 40B to which light and / or heat is supplied, foaming of the foaming agent occurs in the part corresponding to the part 40B in the foam layer 44 of the transfer sheet 41B. As a result, the foamed layer 44 rises, and the particles 100B protrude in the direction of the body 51 to be in contact with the adhesive layer 53 of the body 51 (the part adjacent to the particles 100A already transferred in a single particle state) ( FIG. 12 (B)). Thereafter, by removing the transfer sheet 41B, the particles 100B are transferred to the formation target 51 in a single particle state in a desired pattern.

上述のように、所望の部位40Bの粒子100Bのみを突出させて被形成体51に転写することができるので、既に形成されている粒子100Aと被形成体51との段差に影響されることなく、粒子100Aからなる単粒子膜に隣接させて粒子100Bからなる単粒子膜を所望のパターンで形成することができる。
次いで、粒子100Cを保持した本発明の転写シート41C(図示せず)を用いて、上述の転写シート41Bによる粒子100Bの転写と同様の操作により、粒子100Aおよび粒子100Bが転写されていない被転写体51上に粒子100Cを転写する。これにより、被転写体51の粘着層53に、単粒子状態の粒子100A,100B,100Cからなる各パターンを隣接して形成することができる(図12(C))。
As described above, only the particle 100B at the desired portion 40B can be projected and transferred to the object 51, so that it is not affected by the step between the already formed particle 100A and the object 51. A single particle film made of particles 100B can be formed in a desired pattern adjacent to the single particle film made of particles 100A.
Next, using the transfer sheet 41C (not shown) of the present invention holding the particles 100C, the transfer of the particles 100A and the particles 100B to which the particles 100B are not transferred is performed by the same operation as the transfer of the particles 100B by the transfer sheet 41B described above. The particles 100C are transferred onto the body 51. Thereby, each pattern which consists of the particle | grains 100A, 100B, 100C of a single particle state can be adjacently formed in the adhesion layer 53 of the to-be-transferred body 51 (FIG.12 (C)).

上述の単粒子膜の形成方法では、3種の粒子100A,100B,100Cを用いた例であるが、粒子の種類の数には制限はない。また、原版11の代わりに、原版1を使用してもよい。
また、本発明の単粒子膜の形成方法で成膜対象となる粒子の大きさには、特に制限はなく、例えば、平均粒径が10〜100μmの範囲内にある粒子を対象とすることができ、粒子の種類は、均一な材質からなる粒子、内部に異なる材料を包含するカプセル素子のような粒子等、特に制限はない。
The method for forming a single particle film described above is an example using three types of particles 100A, 100B, and 100C, but the number of types of particles is not limited. Further, instead of the original plate 11, the original plate 1 may be used.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the magnitude | size of the particle | grains used as the film-forming object by the formation method of the single particle film | membrane of this invention, For example, it may target the particle | grains in the range whose average particle diameter is 10-100 micrometers. The type of particles is not particularly limited, such as particles made of a uniform material, particles such as capsule elements containing different materials inside, and the like.

上述のような本発明の単粒子膜の形成方法は、転写形成された単粒子膜にバインダーが存在しないので、高精細なパターンでの単粒子膜の形成が可能である。また、転写された粒子間にバインダーが存在しないので、粒子を加圧変形させて密着させることも可能である。さらに、溶融したバインダー中に粒子が置かれることがないので、粒子の受ける熱ダメージを最小限に抑えることができる。
尚、本発明の単粒子膜の形成方法では、転写シートとして、光熱変換層43を備えていないもの、光熱変換層43と発泡層44の代わりに光熱変換発泡層を備えるもの、光熱変換層43と発泡層44と粘着層45の代わりに光熱変換発泡性粘着層を備えているもの、基材42の裏面に光熱変換層を備えるもの等を使用することもできる。
In the method for forming a single particle film of the present invention as described above, since the binder is not present in the transferred single particle film, it is possible to form a single particle film with a high-definition pattern. Further, since there is no binder between the transferred particles, the particles can be brought into close contact by being deformed under pressure. Furthermore, since the particles are not placed in the melted binder, the thermal damage received by the particles can be minimized.
In the method for forming a single particle film of the present invention, the transfer sheet does not include the photothermal conversion layer 43, the transfer sheet includes a photothermal conversion foam layer instead of the photothermal conversion layer 43 and the foam layer 44, and the photothermal conversion layer 43. Further, instead of the foamed layer 44 and the adhesive layer 45, those having a photothermal conversion foamable adhesive layer, those having a photothermal conversion layer on the back surface of the substrate 42, and the like can also be used.

上記の光熱変換発泡層は、樹脂バインダー、発泡剤として上述の発泡層44で挙げたような樹脂バインダー、発泡剤を使用することができ、また、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層43で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。光熱変換発泡層における発泡剤の含有量は、樹脂バインダー100重量部に対して5〜100重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、樹脂バインダー100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、1〜150μmの範囲で設定することができる。   The photothermal conversion foam layer can use the resin binder and the foaming agent as mentioned in the above foam layer 44 as the resin binder and foaming agent, and the photothermal conversion layer 43 can be used as the photothermal conversion substance. The photothermal conversion substance mentioned in the above can be used. The content of the foaming agent in the photothermal conversion foamed layer is in the range of 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin binder, and the content of the photothermal conversion substance is 0.1 to 5 parts with respect to 100 parts by weight of the resin binder. It is preferable to set each in the range of parts by weight. The thickness of such a photothermal conversion foam layer is set so that it can protrude higher than the size of the particles when foaming, taking into account the foaming agent and photothermal conversion material used, their content, the size of the particles, etc. For example, it can be set in the range of 1 to 150 μm.

また、上記の光熱変換発泡性粘着層は、上述の発泡層44と光熱変換層43と粘着層45の全機能を備えたものであり、粘着性を有する樹脂バインダー中に発泡剤と光熱変換性物質を含有するものである。光熱変換発泡性粘着層を構成する粘着性を有する樹脂バインダーとしては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー(ゴム状物質)であるものを使用することができる。上記のエラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
Moreover, said light-heat conversion foaming adhesion layer is equipped with all the functions of the above-mentioned foaming layer 44, the light-heat conversion layer 43, and the adhesion layer 45, and a foaming agent and light-heat conversion property in the resin binder which has adhesiveness. It contains substances. As the resin binder having adhesiveness constituting the photothermal conversion foamable adhesive layer, rubber adhesives, acrylic adhesives and the like can be used.
As the rubber-based pressure-sensitive adhesive, it is possible to use a rubber-based polymer (rubber-like substance) having an elastomer as a base polymer, a low glass transition temperature, and a wide rubber range up to a high temperature. Examples of the elastomer include natural rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, butyl rubber, polyisobutylene, silicone rubber, polyvinyl isobutyl ether, chloroprene rubber, and nitrile. Examples thereof include rubber, graft rubber, recycled rubber, polyvinyl ether, atactic polypropylene, polyester, polyurethane, and butadiene rubber. Moreover, you may contain a tackifier, a softening agent, anti-aging agent, a filler etc. other than said elastomer as a structural component of an adhesive.

アクリル系粘着剤は、粘着性を与えるガラス転移温度の低い柔らかいアクリル酸エステル等のモノマーに、接着性や凝集力を与えるための高ガラス転移温度で硬いコモノマー、架橋や接着性の改良のための官能基含有モノマーが共重合されたものである。上記のモノマーとしては、例えば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、アクリル酸オクチル−メタクリル酸共重合体等のアクリル系モノマーを挙げることができる。
また、発泡剤は、上述の発泡層44で挙げたような発泡剤を使用することができ、光熱変換物質としては、上述の光熱変換層43で挙げた光熱変換性物質を用いることができる。
Acrylic adhesives are adhesives and comonomers that are hard at high glass transition temperatures to give cohesive strength to monomers such as soft acrylates with low glass transition temperatures that provide tackiness, and for improved crosslinking and adhesion. A functional group-containing monomer is copolymerized. As said monomer, acrylic monomers, such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, an octyl acrylate-methacrylic acid copolymer, can be mentioned, for example.
Further, as the foaming agent, the foaming agent as exemplified in the above-described foaming layer 44 can be used, and as the photothermal conversion substance, the photothermal conversion substance exemplified in the above-described photothermal conversion layer 43 can be used.

光熱変換発泡性粘着層における発泡剤の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー100重量部に対して5〜100重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡性粘着層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、1〜150μmの範囲で設定することができる。
尚、上述の単粒子膜の形成方法では、熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製するものであったが、本発明では、熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、粘着層上の粒子を接近させて、基材上に単粒子膜を形成するものであってもよい。
The content of the foaming agent in the photothermal conversion foamable adhesive layer is in the range of 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin binder having adhesiveness, and the content of the photothermal conversion substance is the resin binder 100 having adhesiveness. It is preferable to set within a range of 0.1 to 5 parts by weight with respect to parts by weight. The thickness of such a photothermal conversion foamable pressure-sensitive adhesive layer can be projected higher than the size of the particles during foaming in consideration of the foaming agent and photothermal conversion material used, their content, the size of the particles, etc. For example, it can be set in the range of 1 to 150 μm.
In the above-described method for forming a single particle film, a heat-shrinkable film is heated and thermally contracted to form a substrate, and particles on the adhesive layer are brought close to produce a transfer sheet. In the present invention, the heat-shrinkable film may be heated and thermally contracted to form a base material, and particles on the adhesive layer may be brought close to form a single particle film on the base material. .

[電気泳動表示装置]
次に、本発明の電気泳動表示装置について説明する。
図13は、本発明の電気泳動表示装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。図13において、本発明の電気泳動表示装置71は、透明パターン電極73を一方の面に備えた透明基板72と、透明パターン電極77を一方の面に備えた透明基板76とを電気泳動表示素子層80を介して対向させたものである。電気泳動表示素子層80は、透明パターン電極73と透明パターン電極77の間に、電気泳動表示素子81が、図14に示されるように最密充填で単粒子膜状態となるように配列したものである。
[Electrophoretic display device]
Next, the electrophoretic display device of the present invention will be described.
FIG. 13 is a partial longitudinal sectional view showing an embodiment of the electrophoretic display device of the present invention. In FIG. 13, an electrophoretic display device 71 of the present invention comprises an electrophoretic display element comprising a transparent substrate 72 having a transparent pattern electrode 73 on one surface and a transparent substrate 76 having a transparent pattern electrode 77 on one surface. It is made to face through the layer 80. In the electrophoretic display element layer 80, the electrophoretic display element 81 is arranged between the transparent pattern electrode 73 and the transparent pattern electrode 77 so as to be in a single particle film state with the closest packing as shown in FIG. It is.

透明パターン電極73は、電気的に独立した3種の透明パターン電極73Y,73M,73Cからなり、また、透明パターン電極77も電気的に独立した3種の透明パターン電極77Y,77M,77Cからなっている。そして、透明パターン電極73Yと77Yが電気泳動表示素子81Yを介して対向し、透明パターン電極73Mと77Mが電気泳動表示素子81Mを介して対向し、透明パターン電極73Cと77Cが電気泳動表示素子81Cを介して対向するように透明基板72と透明基板76とが配設されている。   The transparent pattern electrode 73 is composed of three electrically independent transparent pattern electrodes 73Y, 73M, and 73C, and the transparent pattern electrode 77 is also composed of three electrically independent transparent pattern electrodes 77Y, 77M, and 77C. ing. The transparent pattern electrodes 73Y and 77Y face each other via the electrophoretic display element 81Y, the transparent pattern electrodes 73M and 77M face each other via the electrophoretic display element 81M, and the transparent pattern electrodes 73C and 77C face the electrophoretic display element 81C. A transparent substrate 72 and a transparent substrate 76 are disposed so as to face each other.

透明基板72,76は、例えば、ガラス基板、透明樹脂基板等を使用することができ、厚みは10μm〜5mm、好ましくは25〜200μmの範囲で適宜設定することができる。尚、透明基板72,76の一方、すなわち、表示認識者から見て背面に位置する基板を、不透明な基板とすることもできる。この場合、基板として、電極面とは異なるもう一方の基板表面を粗面化あるいは金属膜を蒸着した不透明なガラス基板、染料または顔料を練り込んだ不透明樹脂基板等を使用することができ、この基板上に形成される電極も、下記のような透明電極でなく、Cu、Ag、Au、Al等の金属電極であってもよい。   As the transparent substrates 72 and 76, for example, a glass substrate, a transparent resin substrate, or the like can be used, and the thickness can be appropriately set in the range of 10 μm to 5 mm, preferably 25 to 200 μm. Note that one of the transparent substrates 72 and 76, that is, the substrate positioned on the back as viewed from the display recognizer, can be an opaque substrate. In this case, as the substrate, an opaque glass substrate in which the other substrate surface different from the electrode surface is roughened or a metal film is deposited, an opaque resin substrate in which a dye or a pigment is kneaded can be used. The electrode formed on the substrate may also be a metal electrode such as Cu, Ag, Au, or Al instead of the transparent electrode as described below.

上記の透明パターン電極73Yと77Y、透明パターン電極73Mと77M、透明パターン電極73Cと77Cは、それぞれ図示していない電圧印加装置に接続され、例えば、印加電圧1〜100Vの範囲で任意に電極の電荷を制御可能とされている。上記のような透明パターン電極は、例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等を用いて、スパッタリング、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成することができる。また、各透明パターン電極の線幅は10〜100μm程度の範囲で、電極の間隙は10〜100μm程度の範囲でそれぞれ設定することができる。
尚、本発明におけるパターン電極とは、上記のような微細パターンからなるパターン電極のみではなく、例えば、表示画面の全面に設けられた透明電極であって、基板の周辺部のシールド部に相当する部位には電極が存在しないようなパターンからなる電極も含むものである。
The transparent pattern electrodes 73Y and 77Y, the transparent pattern electrodes 73M and 77M, and the transparent pattern electrodes 73C and 77C are each connected to a voltage application device (not shown). The charge can be controlled. The transparent pattern electrode as described above is, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO) or the like, and a general film forming method such as sputtering, vacuum evaporation, or CVD. Can be formed. The line width of each transparent pattern electrode can be set in the range of about 10 to 100 μm, and the gap between the electrodes can be set in the range of about 10 to 100 μm.
Note that the pattern electrode in the present invention is not only a pattern electrode having a fine pattern as described above, but also, for example, a transparent electrode provided on the entire surface of the display screen, and corresponds to a shield part at the periphery of the substrate. The part includes an electrode having a pattern in which no electrode exists.

電気泳動表示素子81は、電気泳動粒子82と分散媒体83をマイクロカプセル84に収納したものであり、平均粒径は、例えば、10〜100μm、好ましくは10〜50μmの範囲で設定できる。図示例では、電気泳動表示素子81Yに分散媒体83としてイエロー色の分散媒体83Yが用いられ、電気泳動表示素子81Mに分散媒体83としてマゼンタ色の分散媒体83Mが用いられ、また、電気泳動表示素子81Cに分散媒体83としてシアン色の分散媒体83Cが用いられている。
電気泳動粒子82としては、有色または無色(白色)の無機顔料粒子、有機顔料粒子を用いることが可能である。無機顔料粒子としては、鉛白、亜鉛華、リトポン、二酸化チタン、硫化亜鉛、酸化アンチモン、炭酸カルシウム、カオリン、雲母、硫酸バリウム、グロスホワイト、アルミナホワイト、タルク、シリカ、ケイ酸カルシウム、カドミウムイエロー、カドミウムリトポンホワイト、黄色酸化鉄、チタンイエロー、チタンバリウムイエロー、カドミウムオレンジ、カドミウムリトポンオレンジ、モリブデートオレンジ、ベンガラ、鉛丹、銀朱、カドミウムレッド、カドミウムリトポンレッド、アンバー、褐色酸化鉄、亜鉛鉄クロムブラウン、クロムグリーン、酸化クロム、ピリジアン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、チタンコバルトグリーン、紺青、コバルトブルー、群青、セルリアンブルー、コバルトアルミニウムクロムブルー、コバルトバイオレット、ミネラルバイオレット、カーボンブラック、鉄黒、マンガンフェライトブラック、コバルトフェライトブラック、銅クロムブラック、銅クロムマンガンブラック、黒色低次酸化チタン(チタンブラック)、アルミニウム粉、銅粉、鉛粉、錫粉、亜鉛粉等を使用することができる。また、有機顔料粒子としては、ファストイエロー、ジスアゾイエロー、縮合アゾイエロー、アントラピリミジンイエロー、イソインドリンイエロー、銅アゾメチンイエロー、キノフタロインイエロー、ベンズイミダゾロンイエロー、ニッケルジオキシムイエロー、モノアゾイエローレーキ、ジニトロアニリンオレンジ、ピラゾロンオレンジ、ペリノンオレンジ、ナフトールレッド、トルイジンレッド、パーマネントカーミン、ブリリアントファストスカーレッド、ピラゾロンレッド、ローダミン6Gレーキ、パーマネントレッド、リソールレッド、ボンレーキレッド、レーキレッド、ブリリアントカーミン、ボルドー10B、ナフトールレッド、キナクリドンマゼンタ、縮合アゾレッド、ナフトールカーミン、ペリレンスカーレッド、縮合アゾスカーレッド、ベンズイミダゾロンカーミン、アントラキノニルレッド、ペリレンレッド、ペリレンマルーン、キナクリドンマルーン、キナクリドンスカーレッド、キナクリドンレッド、ジケトピロロピロールレッド、ベンズイミダゾロンブラウン、フタロシアニングリーン、ビクトリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、ファストスカイブルー、アルカリブルートーナー、インダントロンブルー、ローダミンBレーキ、メチルバイオレットレーキ、ジオキサジンバイオレット、ナフトールバイオレット等を使用することができる。電気泳動粒子82の平均粒径は20nm〜1μm程度が好ましい。尚、電気泳動粒子82は上記のものに限定されるものではない。
The electrophoretic display element 81 has electrophoretic particles 82 and a dispersion medium 83 housed in a microcapsule 84, and the average particle diameter can be set in the range of, for example, 10 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm. In the illustrated example, a yellow dispersion medium 83Y is used as the dispersion medium 83 for the electrophoretic display element 81Y, a magenta dispersion medium 83M is used as the dispersion medium 83 for the electrophoretic display element 81M, and the electrophoretic display element A cyan dispersion medium 83C is used as the dispersion medium 83 in 81C.
As the electrophoretic particles 82, colored or colorless (white) inorganic pigment particles or organic pigment particles can be used. Inorganic pigment particles include lead white, zinc white, lithopone, titanium dioxide, zinc sulfide, antimony oxide, calcium carbonate, kaolin, mica, barium sulfate, gloss white, alumina white, talc, silica, calcium silicate, cadmium yellow, Cadmium lithopone white, yellow iron oxide, titanium yellow, titanium barium yellow, cadmium orange, cadmium lithopone orange, molybdate orange, bengara, red rose, silver vermilion, cadmium red, cadmium lithopone red, amber, brown iron oxide, zinc Iron chrome brown, chrome green, chromium oxide, pyridiane, cobalt green, cobalt chrome green, titanium cobalt green, bitumen, cobalt blue, ultramarine, cerulean blue, cobalt aluminum chrome blue, Baltic violet, mineral violet, carbon black, iron black, manganese ferrite black, cobalt ferrite black, copper chrome black, copper chrome manganese black, black low-order titanium oxide (titanium black), aluminum powder, copper powder, lead powder, tin powder Zinc powder or the like can be used. Organic pigment particles include fast yellow, disazo yellow, condensed azo yellow, anthrapyrimidine yellow, isoindoline yellow, copper azomethine yellow, quinophthaloin yellow, benzimidazolone yellow, nickel dioxime yellow, monoazo yellow lake, dinitro Aniline Orange, Pyrazolone Orange, Perinone Orange, Naphthol Red, Toluidine Red, Permanent Carmine, Brilliant Fast Scar Red, Pyrazolone Red, Rhodamine 6G Lake, Permanent Red, Resol Red, Bon Lake Red, Lake Red, Brilliant Carmine, Bordeaux 10B, Naphthol Red, Quinacridone Magenta, Condensed Azo Red, Naphthol Carmine, Perylene Scar Red, Condensed Acetate Scarred, benzimidazolone carmine, anthraquinonyl red, perylene red, perylene maroon, quinacridone maroon, quinacridone scarred, quinacridone red, diketopyrrolopyrrole red, benzimidazolone brown, phthalocyanine green, Victoria blue lake, phthalocyanine blue, Fast sky blue, alkali blue toner, indanthrone blue, rhodamine B lake, methyl violet lake, dioxazine violet, naphthol violet and the like can be used. The average particle diameter of the electrophoretic particles 82 is preferably about 20 nm to 1 μm. The electrophoretic particles 82 are not limited to the above.

分散媒体83は、例えば、芳香族炭化水素として、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン等のアルキルベンゼン誘導体、フェニルキシリルエタン、1,1−ジトリルエタン、1,2−ジトリルエタン、1,2−ビス(3,4−ジメチルフェニルエタン)(BDMF)等のジアリルアルカン誘導体、ジイソプロピルナフタレン等のアルキルナフタレン誘導体、モノイソプロピルフェニル、イソプロピルフェニル、イソアミルビフェニル等のアルキルビフェニル誘導体、各種割合にて水素化されたターフェニル誘導体、ジベンジルトルエン等のトリアリルジメタン誘導体、ベンジルナフタレン誘導体、フェニレンオキサイド誘導体、ジアルリアルキレン誘導体、アリルインダン誘導体、ポリ塩素化ビフェニル誘導体、ナフテン系炭化水素等が挙げられる。また、ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、アイソバー、パラフィン系炭化水素等の脂肪族炭化水素類、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ジクロロメタン、臭化エチル等のハロゲン化炭化水素類、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、リン酸オクチルジフェニル、リン酸トリシクロヘキシル等のリン酸エステル類、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジウラシル、フタル酸ジシクロヘキシル等のフタル酸エステル類、オレイン酸ブチル、ジエチレングリコールジベンゾエート、セバシン酸ジオクチル、セバシン酸ジブチル、アジピン酸ジオクチル、トリメリット酸トリオクチル、クエン酸アセチルトリエチル、マレイン酸オクチル、マレイン酸ジブチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、塩素化パラフィン、N,N−ジブチル−2−ブトキシ−5−ターシャリオクチルアニリン等が挙げられる。尚、分散媒体83は上記のものに限定されるものではない。さらに、本発明においては、上記の分散媒体を単独で、または、2種以上を混合して使用することができる。   The dispersion medium 83 includes, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, dodecylbenzene, and other alkylbenzene derivatives, phenylxylylethane, 1,1-ditolylethane, 1,2-ditolylethane, 1,2-bis. Diallylalkane derivatives such as (3,4-dimethylphenylethane) (BDMF), alkylnaphthalene derivatives such as diisopropylnaphthalene, alkylbiphenyl derivatives such as monoisopropylphenyl, isopropylphenyl and isoamylbiphenyl, hydrogenated tars in various proportions Phenyl derivatives, triallyldimethane derivatives such as dibenzyltoluene, benzylnaphthalene derivatives, phenylene oxide derivatives, diallyalkylene derivatives, allylindane derivatives, polychlorinated biphenyl derivatives Naphthenic hydrocarbons, and the like. Also, aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, kerosene, isobar, paraffinic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chloroform, trichloroethylene, tetrachloroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, dichloromethane, ethyl bromide, phosphorus Phosphate esters such as tricresyl acid, trioctyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, tricyclohexyl phosphate, phthalates such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diuracil phthalate, dicyclohexyl phthalate, butyl oleate, diethylene glycol Dibenzoate, dioctyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl adipate, trioctyl trimellitic acid, acetyl triethyl citrate, octyl maleate, male Phosphate, dibutyl acid esters such as ethyl acetate, chlorinated paraffin, N, N-dibutyl-2-butoxy-5-tert-octyl aniline, and the like. The dispersion medium 83 is not limited to the above. Furthermore, in this invention, said dispersion medium can be used individually or in mixture of 2 or more types.

これらの分散媒体に、スピリットブラック(SB、SSBB、AB)、ニグロシンベース(SA、SAP、SAPL、EE、EEL、EX、EXBP、EB)、オイルイエロー(105、107、129、3G、GGS)、オイルオレンジ(201、PS、PR)、ファーストオレンジ、オイルレッド(5B、RR、OG)、オイルスカーレット、オイルピンク312、オイルバイオレット#730、マクロレックスブルーRR、スミブラストグリーンG、オイルブラウン(GR、416)、スーダンブラックX60、オイルグリーン(502、BG)、オイルブルー(613、2N、BOS)、オイルブラック(HBB、860、BS)、バリファーストイエロー(1101、1105、3108、4120)、バリファーストオレンジ(3209、3210)、バリファーストレッド(1306、1355、2303、3304、3306、3320)、バリファーストピンク2310N、バリファーストブラウン(2402、3405)、バリファーストブルー(3405、1501、1603、1605、1607、2606、2610)、バリファーストバイオレット(1701、1702)、バリファーストブラック(1802、1807、3804、3810、3820、3830)等の染料を適宜選択して含有させることにより、各色の分散媒体83Y,83M,83Cとすることができる。   These dispersion media include Spirit Black (SB, SSBB, AB), Nigrosine Base (SA, SAP, SAPL, EE, EEL, EX, EXBP, EB), Oil Yellow (105, 107, 129, 3G, GGS), Oil Orange (201, PS, PR), Fast Orange, Oil Red (5B, RR, OG), Oil Scarlet, Oil Pink 312, Oil Violet # 730, Macrolex Blue RR, Sumiblast Green G, Oil Brown (GR, 416), Sudan Black X60, Oil Green (502, BG), Oil Blue (613, 2N, BOS), Oil Black (HBB, 860, BS), Bali First Yellow (1101, 1105, 3108, 4120), Bali First Orange( 209, 3210), Bali First Red (1306, 1355, 2303, 3304, 3306, 3320), Bali First Pink 2310N, Bali First Brown (2402, 3405), Bali First Blue (3405, 1501, 1603, 1605, 1607, 2606, 2610), Bali First Violet (1701, 1702), Vari First Black (1802, 1807, 3804, 3810, 3820, 3830) and the like, by appropriately selecting and containing a dye, each color dispersion medium 83Y, 83M , 83C.

また、マイクロカプセル84の壁膜材料としては、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリ尿素−ポリウレタン、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリスルホンアミド、ポリカーボネート、ポリスルフィネート、エポキシリ、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、酢酸ビニル、ゼラチン等を使用することができ、壁膜の厚みは50nm〜1μm、マイクロカプセル84の直径は10〜100μm、好ましくは10〜50μm程度の範囲で設定することができる。   As the wall film material of the microcapsule 84, polyurethane, polyurea, polyurea-polyurethane, urea-formaldehyde resin, melamine-formaldehyde resin, polyamide, polyester, polysulfonamide, polycarbonate, polysulfinate, epoxy, acrylate ester Methacrylic acid ester, vinyl acetate, gelatin and the like can be used. The wall film thickness can be set in the range of 50 nm to 1 μm, and the diameter of the microcapsule 84 can be set in the range of 10 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm. .

電気泳動表示素子層80は、上記のような電気泳動表示素子81が透明パターン電極73上に最密充填状態で単粒子膜として配列されたものであり、均一な厚みを有するものとすることができる。
このような本発明の電気泳動表示装置71では、透明パターン電極73(73Y,73M,73C)と透明パターン電極77(77Y,77M,77C)による電気泳動表示素子層80への電圧印加により、電気泳動表示素子層80を構成する電気泳動表示素子81の電気泳動粒子82がマイクロカプセル84内を異なる電荷を有する電極に向かって電気泳動する現象を利用したカラー表示が可能である。そして、電気泳動表示素子層80を構成する電気泳動表示素子81が、図14に示されるように最密充填で単粒子膜状態となるように配設されているので、ムラのない高品質の画像表示が可能である。
The electrophoretic display element layer 80 is such that the electrophoretic display element 81 as described above is arranged as a single particle film in a close-packed state on the transparent pattern electrode 73 and has a uniform thickness. it can.
In the electrophoretic display device 71 of the present invention as described above, the voltage is applied to the electrophoretic display element layer 80 by the transparent pattern electrode 73 (73Y, 73M, 73C) and the transparent pattern electrode 77 (77Y, 77M, 77C). Color display using a phenomenon in which the electrophoretic particles 82 of the electrophoretic display element 81 constituting the electrophoretic display element layer 80 migrate in the microcapsule 84 toward electrodes having different charges is possible. Since the electrophoretic display element 81 constituting the electrophoretic display element layer 80 is disposed so as to be in a single particle film state with the closest packing as shown in FIG. Image display is possible.

また、本発明の電気泳動表示装置71では、電気泳動表示素子層80(透明パターン電極73,77)が存在しない部位の色を背景色として利用した表示が可能となり、コントラストに優れた高品質表示が可能な電気泳動表示装置となる。例えば、表示認識者から見て背面に位置する基板を着色基板としたり、この基板に着色層や光反射層を設けることにより、電気泳動表示素子層80(透明パターン電極73,77)が存在しない部位において、基板の色を背景色として積極的に利用することが可能となる。   Further, in the electrophoretic display device 71 of the present invention, it is possible to perform display using the color of the portion where the electrophoretic display element layer 80 (transparent pattern electrodes 73 and 77) does not exist as a background color, and high quality display with excellent contrast. It becomes an electrophoretic display device capable of. For example, the electrophoretic display element layer 80 (transparent pattern electrodes 73 and 77) does not exist by using a colored substrate or a light reflecting layer as the colored substrate as the substrate positioned on the back as viewed by the display recognizer. In the part, the color of the substrate can be positively used as the background color.

尚、図14に示される電気泳動表示素子81の最密充填状態の配列においても、電気泳動表示素子81間には間隙部が存在し、このような間隙部は表示に寄与しないものである。本発明では、透明パターン電極73と77の距離が電気泳動表示素子81の平均粒径よりもやや小さくなるように透明基板82と透明基板86を接近させることにより、図15に示されるように、電気泳動表示素子81を構成するマイクロカプセル84を若干押しつぶして、電気泳動表示素子81の幅(図15の矢印a方向)を高さよりも大きくすることにより、電気泳動表示素子81間に存在する間隙部を減少させてもよい。   In the close-packed arrangement of the electrophoretic display elements 81 shown in FIG. 14, there are gaps between the electrophoretic display elements 81, and such gaps do not contribute to display. In the present invention, by bringing the transparent substrate 82 and the transparent substrate 86 closer so that the distance between the transparent pattern electrodes 73 and 77 is slightly smaller than the average particle diameter of the electrophoretic display element 81, as shown in FIG. The microcapsules 84 constituting the electrophoretic display element 81 are slightly crushed so that the width of the electrophoretic display element 81 (in the direction of arrow a in FIG. 15) is larger than the height, thereby providing a gap between the electrophoretic display elements 81. The number of parts may be reduced.

また、上述の電気泳動表示装置の実施形態は、Y,M,Cの3色カラー表示が可能なものであるが、本発明の電気泳動表示装置はこれに限定されるものではない。例えば、分散媒体83の色を所望の色とした1種類の電気泳動表示素子81を使用して電気泳動表示素子層80を形成することにより、分散媒体83の色と電気泳動粒子82の色を用いた単色表示の電気泳動表示装置とすることもできる。   Moreover, although the above-described embodiment of the electrophoretic display device can display three colors of Y, M, and C, the electrophoretic display device of the present invention is not limited to this. For example, by forming the electrophoretic display element layer 80 using one type of electrophoretic display element 81 in which the color of the dispersion medium 83 is a desired color, the color of the dispersion medium 83 and the color of the electrophoretic particles 82 are changed. The electrophoretic display device of the single color display used can also be used.

本発明の電気泳動表示装置は、上述した本発明の単粒子膜形成用の原版を使用し、本発明の単粒子膜の形成方法(例えば、上述の図9に示される方法、上述の図10〜図12に示される方法)により、パターン電極上に電気泳動表示素子を単粒子膜状態となるように配設して電気泳動表示素子層を形成したものである。そして、本発明では、転写された電気泳動表示素子間にバインダーが存在しないので、上述のように電気泳動表示素子81を構成するマイクロカプセル84を若干押しつぶして密着させることも可能である。
尚、電気泳動表示素子のマイクロカプセル化は、従来公知の一般的マイクロカプセル化技術を使用することができる。一般的マイクロカプセル化法としては、合成反応を用いる界面重合法、in-situ重合法、高分子物性変化を生じさせる液中硬化被覆法等が挙げられる。また、物理化学的作製方法として、相分離を利用したコアセルベーション法、界面沈殿法(液中濃縮法、液中乾燥法、二次エマルジョン法)および融解分離法等が挙げられる。
The electrophoretic display device of the present invention uses the above-described original plate for forming a single particle film of the present invention, and forms the single particle film of the present invention (for example, the method shown in FIG. 9 described above, the above-described FIG. 10). ~ The method shown in Fig. 12), an electrophoretic display element layer is formed by disposing an electrophoretic display element on a pattern electrode so as to be in a single particle film state. In the present invention, since no binder exists between the transferred electrophoretic display elements, the microcapsules 84 constituting the electrophoretic display element 81 can be slightly crushed and brought into close contact as described above.
For the microencapsulation of the electrophoretic display element, a conventionally known general microencapsulation technique can be used. Examples of general microencapsulation methods include an interfacial polymerization method using a synthetic reaction, an in-situ polymerization method, and a submerged curing coating method that causes changes in polymer properties. Examples of the physicochemical production method include a coacervation method using phase separation, an interfacial precipitation method (concentration method in liquid, drying method in liquid, secondary emulsion method), a melt separation method, and the like.

上記の界面重合法は重縮合あるいは重付加反応するような2種のモノマーとして、水溶性のものと油溶性のものを選択し、いずれかを分散させて界面で反応させる方法である。また、上記のin-situ重合法は、核材の内または外の一方からリアクタント(モノマーや開始剤)を供給し、カプセル壁膜表面で反応させる方法である。液中硬化被覆法(オリフィス法)は、予め核材を壁膜材でカプセル化した後、その壁膜を硬化液中で硬化する方法である。   The above interfacial polymerization method is a method in which water-soluble and oil-soluble monomers are selected as two types of monomers that undergo polycondensation or polyaddition reaction, and either is dispersed and reacted at the interface. The above-mentioned in-situ polymerization method is a method in which a reactant (monomer or initiator) is supplied from one or the other of the core materials and reacted on the capsule wall membrane surface. The liquid curing coating method (orifice method) is a method in which a core material is encapsulated in advance with a wall film material, and then the wall film is cured in a curing liquid.

上記のコアセルベーション法は、水溶液系および有機溶媒系のいずれでも用いることができる。水溶液系では、溶解性の減少により相分離を生じさせる単純コアセルベーション法、電気的相互作用により相分離を生じさせる複合コアセルベーション法を用いることができる。有機溶媒系では、溶解性や温度等の変化による相分離現象を利用することができる。また、上記の界面沈殿法は、激しい反応や急激なpH変化等を伴わない、温和な条件でカプセル化が可能な方法であり、例えば、電気泳動表示素子を分散した水溶液を疎水性高分子の溶剤溶液中に分散させた後、さらに保護コロイド溶液に分散させるものである。上記の融解分散法は、壁膜材としてワックスやポリエチレンのような蝋状物質を用いるものであり、加熱下で核材を蝋状物質と共に液中に分散した後冷却する方法である。   The above coacervation method can be used in either an aqueous solution system or an organic solvent system. In the aqueous solution system, a simple coacervation method in which phase separation is caused by a decrease in solubility or a complex coacervation method in which phase separation is caused by an electrical interaction can be used. In an organic solvent system, a phase separation phenomenon caused by changes in solubility, temperature, or the like can be used. In addition, the interfacial precipitation method is a method that can be encapsulated under mild conditions without violent reaction or rapid pH change. For example, an aqueous solution in which an electrophoretic display element is dispersed is treated with a hydrophobic polymer. After being dispersed in a solvent solution, it is further dispersed in a protective colloid solution. The melt dispersion method uses a waxy material such as wax or polyethylene as the wall film material, and is a method in which the core material is dispersed in a liquid together with the waxy material under heating and then cooled.

電気泳動表示素子は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納したものであり、上述のような各種基本的な乳化油滴法やカプセル化法を応用することにより、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子を作製することができる。
尚、上述の本発明の電気泳動表示装置の実施形態では、電気泳動表示素子81が最密充填で単粒子膜状態となるように配列されているが、本発明の電気泳動表示装置では、電気泳動表示素子81が単粒子膜であればよく、最密充填状態に限定されるものではない。
An electrophoretic display element is one in which electrophoretic particles and a dispersion medium are housed in a microcapsule. By applying various basic emulsified oil droplet methods and encapsulation methods as described above, electrophoretic electrophoresis is performed. A display element can be manufactured.
In the above-described embodiment of the electrophoretic display device of the present invention, the electrophoretic display elements 81 are arranged so as to be in a close-packed and single particle film state. The electrophoretic display element 81 may be a single particle film, and is not limited to the closest packed state.

次に、より具体的な実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
[実施例1]
<単粒子膜形成用の原版の作製>
厚さ3mmのほう珪酸ガラス板(縦100mm×横100mm)を基体とし、この基体上に真空蒸着法によりクロム薄膜(厚さ1000Å)を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト(日本ゼオン(株)製 ZPP1800)を塗布した。その後、基体の両面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ2μmのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は365nmで150mJ/cm2とした。また、現像は現像液(日本ゼオン(株)製 ZTMA−U20)を使用して行なった。
Next, the present invention will be described in more detail by showing more specific examples.
[Example 1]
<Preparation of original plate for forming single particle film>
A borosilicate glass plate (length 100 mm × width 100 mm) having a thickness of 3 mm was used as a substrate, and a chromium thin film (thickness 1000 mm) was formed on the substrate by a vacuum evaporation method to form a substrate.
Next, a photoresist (ZPP1800 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was applied on the chromium thin film. Thereafter, both surfaces of the substrate were exposed through a predetermined photomask and developed to form a resist pattern having a thickness of 2 μm. For the exposure, an ultrahigh pressure mercury lamp was used as the light source, and the irradiation amount was set to 150 mJ / cm 2 at 365 nm. Further, development was performed using a developer (ZTMA-U20 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).

次いで、酸化セリウム系のエッチング液を用いて、湿式エッチングによりクロム薄膜をエッチングした。これにより、クロム薄膜とレジストパターンとの2層構造であり、円形の開口部(直径60μm)を有するエッチングマスクを、基体両面に、円形の開口部の中心が一致するように形成した。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、エッチングすることによって貫通孔を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版Aを得た。この原版Aは、図2に示されるような構造であり、両面の孔径が60μmである貫通孔(中央部の内径は約55μm)を図4に示すような単純立方格子配列(ピッチ100μm)で複数備えるものであった。
Next, the chromium thin film was etched by wet etching using a cerium oxide-based etchant. Thus, an etching mask having a two-layer structure of a chromium thin film and a resist pattern and having a circular opening (diameter 60 μm) was formed on both surfaces of the substrate so that the centers of the circular openings coincided.
Next, the substrate provided with the above-described etching mask is immersed in a hydrofluoric acid-based etchant and etched to form a through hole, and then washed with water, and the resist pattern is removed using a resist stripper. Further, the chromium thin film was removed using a cerium oxide-based etching solution to obtain an original plate A. This original plate A has a structure as shown in FIG. 2, and has a simple cubic lattice arrangement (pitch of 100 μm) as shown in FIG. It was equipped with multiple.

<単粒子膜の形成>
粒子(電気泳動表示素子)の作製
二酸化チタン粒子(平均粒径200nm)12重量部、界面活性剤(ポリカルボン酸誘導体(花王(株)製 デモールEP))1.5重量部、チタン系カップリング剤(味の素ファインテクノ(株)製 プレンアクトKRTTS)0.5重量部、青色アントラキノン系染料(Oil Blue G extra)1重量部、ヘキシルベンゼン85重量部とを、超音波分散により混和し、この混合液を使用してアラビアゴムゼラチン系の複合コアセルベーション法により、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子A(マイクロカプセルの平均径50μm)を作製し、分散含有液とした。
<Formation of single particle film>
Preparation of particles (electrophoretic display element) 12 parts by weight of titanium dioxide particles (average particle size 200 nm), 1.5 parts by weight of a surfactant (polycarboxylic acid derivative (Demol EP manufactured by Kao Corporation)), titanium-based coupling 0.5 parts by weight of the agent (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Preneact KRTTS), 1 part by weight of blue anthraquinone dye (Oil Blue G extra) and 85 parts by weight of hexylbenzene are mixed by ultrasonic dispersion, and this mixture is mixed. Was used to prepare a microencapsulated electrophoretic display element A (average diameter of microcapsules of 50 μm) by a gum arabic gelatin-based complex coacervation method to obtain a dispersion-containing liquid.

また、上記の青色アントラキノン系染料の代わりに、赤色ジアゾ系染料(Oil Red B)を用いることにより、マイクロカプセル化した電気泳動表示素子B(マイクロカプセルの平均径50μm)を作製し、分散含有液とした。   In addition, by using a red diazo dye (Oil Red B) instead of the blue anthraquinone dye, a microencapsulated electrophoretic display element B (microcapsule average diameter 50 μm) is prepared, and a dispersion-containing liquid It was.

光熱変換層、発泡層、粘着層の形成
熱収縮性フィルムとして、厚さ30μmの二軸収縮型フィルム(三菱樹脂(株)製 ヒシペットPS−40S)を準備した。このフィルムの一方の面に、下記組成の光熱変換層塗布液をブレードコート法により塗布し乾燥して、光熱変換層(厚み5μm)を形成した。
(光熱変換層塗布液)
・アクリル樹脂(綜研化学(株)製 M−2000) … 20重量部
・ポリメチン系赤外吸収色素 … 1重量部
(日本化薬(株)製 IR−820B)
・トルエン/メチルエチルケトン/酢酸ブチル … 80重量部
As a heat-shrinkable film for forming a photothermal conversion layer, a foamed layer, and an adhesive layer, a biaxial shrinkable film (Hispet PS-40S manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 30 μm was prepared. On one surface of the film, a photothermal conversion layer coating solution having the following composition was applied by a blade coating method and dried to form a photothermal conversion layer (thickness 5 μm).
(Photothermal conversion layer coating solution)
Acrylic resin (M-2000, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 20 parts by weight Polymethine infrared absorbing dye 1 part by weight (IR-820B, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
・ Toluene / methyl ethyl ketone / butyl acetate: 80 parts by weight

次に、この光熱変換層上に、下記組成の発泡層塗布液をブレードコート法により塗布し乾燥して、発泡層(厚み30μm)を形成した。
(発泡層塗布液)
・ポリエステル水分散液 … 40重量部
(東洋紡績(株)製 バイロナールMD−1930、
固形文濃度30%、樹脂の数平均分子量25000)
・発泡性マイクロカプセル … 15重量部
(松本油脂製薬(株)製 マツモトマイクロスフェアーF−20VS)
・水 … 20重量部
Next, on this photothermal conversion layer, a foam layer coating solution having the following composition was applied by a blade coating method and dried to form a foam layer (thickness 30 μm).
(Foaming layer coating solution)
-Polyester aqueous dispersion: 40 parts by weight (Toyobo Co., Ltd. Bironal MD-1930,
30% solid sentence concentration, number average molecular weight of resin 25000)
・ Effervescent microcapsule: 15 parts by weight (Matsumoto Yushi Seiyaku Co., Ltd. Matsumoto Microsphere F-20VS)
・ Water: 20 parts by weight

次いで、この発泡層上に、アクリル系粘着剤(東亜合成(株)製 アロンS−1601)をバーコート法により塗布し乾燥して、粘着層(厚み3μm)を形成した。この粘着層の25℃、100℃におけるタック値を下記の測定条件にて測定した、その結果、25℃でのタック値は19、100℃でのタック値は10であった。
(タック値の測定条件)
JIS Z0237に準拠し、(株)上島製作所製のボールタックテスタ(VR−57
10)を使用し、30°に傾斜したガラス基板上に測定試料をセットし、種々の大き
さのクロム鋼球を転がし、粘着層上で停止する球の大きさをタック値とした。
Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive (Aron S-1601 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) was applied on the foamed layer by a bar coating method and dried to form an adhesive layer (thickness 3 μm). The tack value of this adhesive layer at 25 ° C. and 100 ° C. was measured under the following measurement conditions. As a result, the tack value at 25 ° C. was 19, and the tack value at 100 ° C. was 10.
(Tack value measurement conditions)
According to JIS Z0237, ball tack tester (VR-57) manufactured by Ueshima Seisakusho Co., Ltd.
10), a measurement sample was set on a glass substrate inclined at 30 °, chrome steel balls of various sizes were rolled, and the size of the spheres that stopped on the adhesive layer was taken as the tack value.

原版Aへの粒子(電気泳動表示素子)の載置と転写シートの作製
次に、上記の粘着層上に上述のように作製した原版Aを設置し、電気泳動表示素子Aの分散含有液をブレードコート法により塗布した。この際、原版Aとブレードとのギャップは20μmとした。これにより、原版Aの各貫通孔の開口部に電気泳動表示素子Aが1個づつ載置された。その後、原版Aを取り除いて、粘着層上に電気泳動表示素子Aの単粒子膜(単純立方格子配列)を形成した。
また、同様に、別の熱収縮性フィルムの粘着層上に電気泳動表示素子Bを1個づつ載置して、単粒子膜を形成した。
Placement of particles (electrophoretic display element) on original plate A and preparation of transfer sheet Next, the original plate A prepared as described above is placed on the adhesive layer, and the dispersion-containing liquid of the electrophoretic display element A is added. It was applied by a blade coating method. At this time, the gap between the original A and the blade was 20 μm. Thus, one electrophoretic display element A was placed in each opening of the through hole of the original A. Thereafter, the original plate A was removed, and a single particle film (simple cubic lattice arrangement) of the electrophoretic display element A was formed on the adhesive layer.
Similarly, one electrophoretic display element B was placed on the adhesive layer of another heat-shrinkable film to form a single particle film.

上記の電気泳動表示素子A、Bについて、画像解析により粒子占有面積比から粒子充填率を計測(粒子が最密充填状態にあるときを100%とする)した結果、粒子充填率は33%であった。
次に、シリコーン剥離剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製 SH200)を塗布して離型層を形成した1組のガラス基板を準備した。このガラス基板を用いて、離型層が対向するようにして上記の電気泳動表示素子Aの単粒子膜を保持した熱収縮性フィルムを挟持し、ガラス基板の周縁部に厚み85μmのスぺーサを介装させて、ガラス基板の間隙距離を一定なものとした。
For the electrophoretic display elements A and B, the particle filling rate was measured from the particle occupation area ratio by image analysis (the particle filling rate is 100%). As a result, the particle filling rate was 33%. there were.
Next, a set of glass substrates on which a release layer was formed by applying a silicone release agent (SH200 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) was prepared. Using this glass substrate, a heat-shrinkable film holding the single particle film of the electrophoretic display element A is sandwiched so that the release layers face each other, and a spacer having a thickness of 85 μm is disposed on the peripheral edge of the glass substrate. The gap distance of the glass substrate was made constant.

次に、ガラス基板で挟持した状態で、オーブン中にて、常温から100℃まで加熱(昇温速度10℃/分)し、その後、オーブンから取り出して室温まで冷却した。冷却後、ガラス基板を取り外した。これにより、粘着層上に電気泳動表示素子Aが単粒子膜状態で転写された転写シート1Aが得られた。
また、同様にして、粘着層上に電気泳動表示素子Bが単粒子膜状態で転写された転写シート1Bを作製した。
上述のように作製した転写シート1A、1Bにおける電気泳動表示素子A、Bの粒子充填率を上記と同様に測定した結果、粒子充填率は100%まで向上していることが確認された。
Next, in a state of being sandwiched between glass substrates, heating was performed from normal temperature to 100 ° C. (temperature increase rate: 10 ° C./min) in an oven, and then the product was taken out of the oven and cooled to room temperature. After cooling, the glass substrate was removed. As a result, a transfer sheet 1A in which the electrophoretic display element A was transferred in a single particle film state onto the adhesive layer was obtained.
Similarly, a transfer sheet 1B in which the electrophoretic display element B was transferred in a single particle film state onto the adhesive layer was produced.
As a result of measuring the particle filling rate of the electrophoretic display elements A and B in the transfer sheets 1A and 1B produced as described above in the same manner as described above, it was confirmed that the particle filling rate was improved to 100%.

次に、厚さ100μmのPETフィルム上に、幅50μmのストライプ形状の酸化インジウムスズ(ITO)蒸着膜を60μmピッチで170本形成して電極とした。このストライプ形状の電極は、1本おきに接続され、したがって、隣り合う電極は電気的に独立したものとした。この電気的に独立した2系統のストライプ形状電極の一方を電極A、他方を電極Bとした。
次に、このPETフィルムのITO電極を覆うようにアクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−1601)をバーコート法により塗布して、厚み10μmの粘着層を形成した。
Next, 170 indium tin oxide (ITO) vapor deposition films having a width of 50 μm were formed on a PET film having a thickness of 100 μm at a pitch of 60 μm to form electrodes. The stripe-shaped electrodes are connected every other line, and therefore adjacent electrodes are electrically independent. One of these two electrically independent stripe-shaped electrodes was electrode A, and the other was electrode B.
Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive (Aron S-1601 manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) was applied by a bar coating method so as to cover the ITO electrode of this PET film, thereby forming a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 μm.

次いで、電気泳動表示素子Aを保持した転写シート1Aを、電気泳動表示素子Aが、ITO電極上の粘着層と45μmの間隔をなすように、上記のPETフィルムに対向させた。この状態で、転写シート1Aの基材側からレーザー(半導体レーザー:波長830nm)を、ストライプ形状の電極Aに対応するように照射(照射量150mW)した。このレーザー照射により、照射部位の発泡層が約50μm盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Aが電極A上の粘着層に当接した。その後、転写シート1Aを除去した。これにより、レーザー照射部位の電気泳動表示素子Aがストライプ形状の電極A上に単粒子状態で転写された。   Next, the transfer sheet 1A holding the electrophoretic display element A was opposed to the PET film so that the electrophoretic display element A was spaced from the adhesive layer on the ITO electrode by 45 μm. In this state, a laser (semiconductor laser: wavelength 830 nm) was irradiated from the substrate side of the transfer sheet 1A so as to correspond to the stripe-shaped electrode A (irradiation amount 150 mW). By this laser irradiation, the foamed layer at the irradiated part was raised by about 50 μm, and the electrophoretic display element A at that part was in contact with the adhesive layer on the electrode A. Thereafter, the transfer sheet 1A was removed. Thereby, the electrophoretic display element A at the laser irradiation site was transferred in a single particle state onto the stripe-shaped electrode A.

次に、電気泳動表示素子Bを保持した転写シート1Bを、電気泳動表示素子Bが、ITO電極上の粘着層と50μmの間隔をなすように、上記のPETフィルム(既に電気泳動表示素子Aが転写されている)に対向させた。この状態で、転写シート1Bの基材側からレーザー(半導体レーザー:波長830nm)を、ストライプ形状の電極Bに対応するように照射(照射量150mW)した。このレーザー照射により、照射部位の発泡層が約50μm盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Bが電極B上の粘着層に当接した。その後、転写シート1Bを除去した。これにより、電気泳動表示素子Bがストライプ形状の電極B上に単粒子状態で転写された。   Next, the transfer sheet 1B holding the electrophoretic display element B is placed on the above PET film (the electrophoretic display element A is already present) so that the electrophoretic display element B is spaced 50 μm from the adhesive layer on the ITO electrode. (Transferred). In this state, a laser (semiconductor laser: wavelength 830 nm) was irradiated from the substrate side of the transfer sheet 1B so as to correspond to the stripe-shaped electrode B (irradiation amount 150 mW). By this laser irradiation, the foamed layer at the irradiated part was raised by about 50 μm, and the electrophoretic display element B at that part was in contact with the adhesive layer on the electrode B. Thereafter, the transfer sheet 1B was removed. As a result, the electrophoretic display element B was transferred onto the stripe-shaped electrode B in a single particle state.

このように電極A、電極B上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bは、電極Aと電極Bの境界において10μm以下の間隙をなして隣接するものであった。
次いで、電極A、電極B上にそれぞれ電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bを備えたPETフィルムの上記電気泳動表示素子上に、ITO蒸着膜(共通電極)を備えた厚さ100μmのPETフィルムを圧着し、単粒子膜を構成する電気泳動表示素子A,Bを変形させて、最密充填の間隙部を埋めながら密着した。この結果、表示に寄与しない電気泳動表示素子間の間隙部が極めて少ない電気泳動表示パネルを作製した。
Thus, the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B formed in the single particle state on the electrode A and the electrode B, respectively, are adjacent to each other with a gap of 10 μm or less at the boundary between the electrode A and the electrode B. there were.
Next, the PET film having the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B on the electrode A and the electrode B, respectively, and the PET film having a thickness of 100 μm having the ITO vapor deposition film (common electrode) on the electrophoretic display element. The film was pressure-bonded, and the electrophoretic display elements A and B constituting the single particle film were deformed to adhere to each other while filling the close-packed gap. As a result, an electrophoretic display panel having very few gaps between electrophoretic display elements that do not contribute to display was produced.

上記の電気泳動表示パネルの対向する電極Aと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Bと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。   When a DC voltage of ± 20 V is applied between the facing electrode A and the common electrode of the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the direction of voltage application in the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / blue display is possible by switching between positive and negative. When a DC voltage of ± 20 V is applied between the electrode B and the common electrode facing each other in the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the direction of voltage application in the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / red display was possible by switching between positive and negative.

[実施例2]
まず、基材上に、光熱変換層を設けず、発泡層と粘着層のみを形成した他は、実施例1と同様にして、転写シート2A(電気泳動表示素子Aを保持)と転写シート2B(電気泳動表示素子Bを保持)の作製までを行った。
次に、実施例1と同様に、厚さ100μmのPETフィルム上に、電気的に独立した2系統のストライプ形状のITO電極である電極A、電極Bを形成し、このITO電極を覆うように粘着層を形成した。
[Example 2]
First, the transfer sheet 2A (holding the electrophoretic display element A) and the transfer sheet 2B are the same as in Example 1 except that the photothermal conversion layer is not provided on the base material and only the foam layer and the adhesive layer are formed. Up to fabrication of (electrophoretic display element B) was performed.
Next, as in Example 1, electrodes A and B, which are two electrically independent stripe-shaped ITO electrodes, are formed on a PET film having a thickness of 100 μm so as to cover the ITO electrodes. An adhesive layer was formed.

次いで、電気泳動表示素子Aを保持した転写シート2Aを、電気泳動表示素子Aが、ITO電極上の粘着層と45μmの間隔をなすように、上記のPETフィルムに対向させた。この状態で、転写シート1Aの基材側からサーマルヘッド(グラフテック(株)製 TH38200)を用いて、ストライプ形状の電極Aに対応するように加熱した。このサーマルヘッドによる加熱により、加熱部位の発泡層が約50μm盛り上がり、その部位の電気泳動表示素子Aが電極A上の粘着層に当接した。その後、転写シート2Aを除去した。これにより、電気泳動表示素子Aがストライプ形状の電極A上に単粒子状態で転写された。   Next, the transfer sheet 2A holding the electrophoretic display element A was opposed to the PET film so that the electrophoretic display element A was spaced from the adhesive layer on the ITO electrode by 45 μm. In this state, heating was performed from the base material side of the transfer sheet 1A so as to correspond to the stripe-shaped electrode A using a thermal head (TH38200, manufactured by Graphtec Corporation). Due to the heating by the thermal head, the foamed layer at the heated part was raised by about 50 μm, and the electrophoretic display element A at that part was in contact with the adhesive layer on the electrode A. Thereafter, the transfer sheet 2A was removed. Thereby, the electrophoretic display element A was transferred onto the stripe-shaped electrode A in a single particle state.

次に、電気泳動表示素子Bを保持した転写シート2Bを、電気泳動表示素子Bが、ITO電極上の粘着層と50μmの間隔をなすように、上記のPETフィルムに対向させた。この状態で、転写シート2Bの基材側から、上記のサーマルヘッドを用いて、ストライプ形状の電極Bに対応するように加熱し、その後、転写シート2Bを除去した。これにより、電気泳動表示素子Bがストライプ形状の電極B上に単粒子状態で転写された。
このように電極A、電極B上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bは、電極Aと電極Bの境界において10μm以下の間隙をなして隣接するものであった。
Next, the transfer sheet 2B holding the electrophoretic display element B was opposed to the PET film so that the electrophoretic display element B was spaced 50 μm from the adhesive layer on the ITO electrode. In this state, the transfer sheet 2B was heated from the base material side so as to correspond to the stripe-shaped electrode B using the thermal head, and then the transfer sheet 2B was removed. As a result, the electrophoretic display element B was transferred onto the stripe-shaped electrode B in a single particle state.
Thus, the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B formed in the single particle state on the electrode A and the electrode B, respectively, are adjacent to each other with a gap of 10 μm or less at the boundary between the electrode A and the electrode B. there were.

次いで、実施例1と同様にして、電気泳動表示パネルを作製した。
この電気泳動表示パネルの対向する電極Aと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Bと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。
Next, an electrophoretic display panel was produced in the same manner as in Example 1.
When a DC voltage of ± 20 V is applied between the facing electrode A and the common electrode of the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the voltage application direction within the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / blue display is possible by switching between positive and negative. When a DC voltage of ± 20 V is applied between the electrode B and the common electrode facing each other in the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the direction of voltage application in the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / red display was possible by switching between positive and negative.

[実施例3]
<単粒子膜形成用の原版の作製>
厚さ3mmのほう珪酸ガラス板(縦100mm×横100mm)を基体とし、この基体上に真空蒸着法によりクロム薄膜(厚さ1000Å)を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト(日本ゼオン(株)製 ZPP1800)を塗布した。その後、基体の一方の面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ2μmのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は365nmで150mJ/cm2とした。また、現像は現像液(日本ゼオン(株)製 ZTMA−U20)を使用して行なった。
[Example 3]
<Preparation of original plate for forming single particle film>
A borosilicate glass plate (length 100 mm × width 100 mm) having a thickness of 3 mm was used as a substrate, and a chromium thin film (thickness 1000 mm) was formed on the substrate by a vacuum evaporation method to form a substrate.
Next, a photoresist (ZPP1800 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was applied on the chromium thin film. Thereafter, one surface of the substrate was exposed through a predetermined photomask and developed to form a resist pattern having a thickness of 2 μm. For the exposure, an ultrahigh pressure mercury lamp was used as the light source, and the irradiation amount was set to 150 mJ / cm 2 at 365 nm. Further, development was performed using a developer (ZTMA-U20 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.).

次いで、酸化セリウム系のエッチング液を用いて、湿式エッチングによりクロム薄膜をエッチングした。これにより、クロム薄膜とレジストパターンとの2層構造であり、円形の開口部(直径60μm)を有するエッチングマスクを基体に形成した。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、基体の凹部を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版Bを得た。この原版Bは図1に示されるような構造であり、円形開口(開口径60μm)をもつ凹部(深さ40μm)を一方の面に図4に示すような単純立方格子配列(ピッチ100μm)で複数備えるものであった。
Next, the chromium thin film was etched by wet etching using a cerium oxide-based etchant. As a result, an etching mask having a two-layer structure of a chromium thin film and a resist pattern and having a circular opening (diameter 60 μm) was formed on the substrate.
Next, the substrate provided with the etching mask is immersed in a hydrofluoric acid-based etching solution to form a recess in the substrate, and then washed with water, and the resist pattern is removed using a resist remover. The chromium thin film was removed using a cerium oxide-based etching solution to obtain an original plate B. This master B has a structure as shown in FIG. 1, and has a concave portion (depth 40 μm) having a circular opening (opening diameter 60 μm) in a simple cubic lattice arrangement (pitch 100 μm) as shown in FIG. It was equipped with multiple.

<単粒子膜の形成>
原版Bへの粒子(電気泳動表示素子)の載置
次に、上述のように作製した原版Bに、電気泳動表示素子Aの分散含有液(実施例1にて調製したもの)をブレードコート法により塗布した。この際、原版Bとブレードとのギャップは20μmとした。これにより、原版Bの各凹部に電気泳動表示素子Aが1個づつ載置された。
同様にして、別の原版Bの各凹部に電気泳動表示素子Bを1個づつ載置した。
<Formation of single particle film>
Placement of particles to precursor B (electrophoretic display) Next, the original plate B prepared as described above, dispersion liquid containing electrophoretic display device A (as prepared in Example 1) a blade coating method Was applied. At this time, the gap between the original plate B and the blade was 20 μm. As a result, one electrophoretic display element A was placed in each recess of the original B.
Similarly, one electrophoretic display element B was placed in each recess of another master B.

転写シートの作製
熱収縮性フィルムとして、厚さ30μmの一軸収縮型フィルム(三菱樹脂(株)製 ヒシペットLX−10S)を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤(東亜合成(株)製 アロンS−1601)をバーコート法により塗布し乾燥して、粘着層(厚み3μm)を形成した。この粘着層の25℃、100℃におけるタック値を実施例1と同様の測定条件にて測定した、その結果、25℃でのタック値は19、100℃でのタック値は10であった。
次に、粘着層上に原版Bに載置された電気泳動表示素子Aを転写した。また、別の熱収縮性フィルムの粘着層上に原版Bに載置された電気泳動表示素子Bを転写した。
Preparation of Transfer Sheet A uniaxial shrinkable film (Hishipet LX-10S manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 30 μm was prepared as a heat-shrinkable film. On one surface of this film, an acrylic pressure-sensitive adhesive (Aron S-1601 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) was applied by a bar coating method and dried to form an adhesive layer (thickness 3 μm). The tack value of this adhesive layer at 25 ° C. and 100 ° C. was measured under the same measurement conditions as in Example 1. As a result, the tack value at 25 ° C. was 19, and the tack value at 100 ° C. was 10.
Next, the electrophoretic display element A placed on the original B was transferred onto the adhesive layer. In addition, the electrophoretic display element B placed on the original B was transferred onto the adhesive layer of another heat-shrinkable film.

次に、実施例1と同様にして、熱収縮性フィルムの熱収縮を行い、粘着層上に電気泳動表示素子Aが単粒子膜状態で転写された転写シート3Aを作製した。この転写シート3Aでは、幅50μmのストライプ状配列が、幅60μmの粒子非配設領域を介して存在するものであった。
また、同様にして、粘着層上に電気泳動表示素子Bが単粒子膜状態で転写された転写シート3Bを作製した。
次いで、実施例1と同様に、厚さ100μmのPETフィルム上に、電気的に独立した2系統のストライプ形状のITO電極である電極A、電極Bを形成し、このITO電極を覆うように粘着層を形成した。
Next, in the same manner as in Example 1, the heat-shrinkable film was subjected to heat shrinkage, and a transfer sheet 3A in which the electrophoretic display element A was transferred onto the adhesive layer in a single particle film state was produced. In this transfer sheet 3A, a stripe array having a width of 50 μm was present via a particle non-arrangement region having a width of 60 μm.
Similarly, a transfer sheet 3B in which the electrophoretic display element B was transferred in a single particle film state onto the adhesive layer was produced.
Next, similarly to Example 1, electrodes A and B, which are two electrically independent stripe-shaped ITO electrodes, are formed on a PET film having a thickness of 100 μm, and are adhered to cover the ITO electrodes. A layer was formed.

次いで、電気泳動表示素子Aを保持した転写シート3A、および、電気泳動表示素子Bを保持した転写シート3Bを用いて、電極A上に単粒子状態で電気泳動表示素子Aを形成し、電極B上に単粒子状態で電気泳動表示素子Bを形成した。
このように電極A、電極B上にそれぞれ単粒子状態で形成された電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bは、電極Aと電極Bの境界において10μm以下の間隙をなして隣接するものであった。
次いで、実施例1と同様にして、電気泳動表示パネルを作製した。
Next, the electrophoretic display element A is formed in a single particle state on the electrode A using the transfer sheet 3A holding the electrophoretic display element A and the transfer sheet 3B holding the electrophoretic display element B, and the electrode B An electrophoretic display element B was formed in a single particle state thereon.
Thus, the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B formed in the single particle state on the electrode A and the electrode B, respectively, are adjacent to each other with a gap of 10 μm or less at the boundary between the electrode A and the electrode B. there were.
Next, an electrophoretic display panel was produced in the same manner as in Example 1.

この電気泳動表示パネルの対向する電極Aと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/青の鮮明な表示が可能であることが確認された。また、電気泳動表示パネルの対向する電極Bと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、電気泳動表示素子内に電気泳動粒子(二酸化チタン粒子)が電圧印加方向に移動し、印加電圧の正負の切り換えにより、白/赤の鮮明な表示が可能であることが確認された。   When a DC voltage of ± 20 V is applied between the facing electrode A and the common electrode of the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the voltage application direction within the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / blue display is possible by switching between positive and negative. When a DC voltage of ± 20 V is applied between the electrode B and the common electrode facing each other in the electrophoretic display panel, the electrophoretic particles (titanium dioxide particles) move in the direction of voltage application in the electrophoretic display element, and the applied voltage It was confirmed that clear white / red display was possible by switching between positive and negative.

[比較例1]
<単粒子膜形成用の転写シートの作製>
まず、実施例1と同様にして、基材上に光熱変換層を形成した。
次に、上記の光熱変換層上に、下記組成の粒子層塗布液Aをブレードコート法により塗布し乾燥して、厚み50μmの粒子層(バインダー中に粒子として電気泳動表示素子Aを含有)を形成して比較転写シートAを作製した。
(粒子層塗布液A)
・ポリビニルアルコール … 10重量部
(和光純薬工業(株)製 PVA3500)
・水 … 90重量部
・電気泳動表示素子A … 90重量部
[Comparative Example 1]
<Preparation of transfer sheet for single particle film formation>
First, in the same manner as in Example 1, a photothermal conversion layer was formed on a substrate.
Next, a particle layer coating liquid A having the following composition is applied onto the light-to-heat conversion layer by a blade coating method and dried to form a particle layer having a thickness of 50 μm (containing the electrophoretic display element A as particles in a binder). Thus, a comparative transfer sheet A was produced.
(Particle layer coating solution A)
・ Polyvinyl alcohol: 10 parts by weight (PVA3500 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Water: 90 parts by weight Electrophoretic display element A: 90 parts by weight

同様に、下記組成の粒子層塗布液Bを用いて、厚み50μmの粒子層(バインダー中に粒子として電気泳動表示素子Bを含有)を備えた比較転写シートBを作製した。
(粒子層塗布液B)
・ポリビニルアルコール … 10重量部
(和光純薬工業(株)製 PVA3500)
・水 … 90重量部
・電気泳動表示素子B … 90重量部
Similarly, a comparative transfer sheet B including a particle layer having a thickness of 50 μm (containing the electrophoretic display element B as particles in a binder) was prepared using a particle layer coating solution B having the following composition.
(Particle layer coating solution B)
・ Polyvinyl alcohol: 10 parts by weight (PVA3500 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
Water: 90 parts by weight Electrophoretic display element B: 90 parts by weight

<単粒子膜の形成>
実施例1と同様に、厚さ100μmのPETフィルム上に、電気的に独立した2系統のストライプ形状のITO電極である電極A、電極Bを形成した。
次いで、比較転写シートAの粒子層(厚み50μm)を、PETフィルムのITO電極に密着させ、比較転写シートAの基材側からレーザー(半導体レーザー:波長830nm)を、ストライプ形状の電極Aに対応するように照射(照射量150mW)した。その後、比較転写シートAを除去した。これにより、電気泳動表示素子Aがバインダーとともにストライプ形状の電極A上に転写された。しかし、転写時の熱によって、バインダーが溶融し、転写された際に広がりを生じ、ライン太り(幅約100μm)がみられた。
<Formation of single particle film>
In the same manner as in Example 1, electrodes A and B, which are two electrically independent stripe-shaped ITO electrodes, were formed on a PET film having a thickness of 100 μm.
Next, the particle layer (thickness 50 μm) of the comparative transfer sheet A is brought into close contact with the ITO electrode of the PET film, and a laser (semiconductor laser: wavelength 830 nm) is applied to the stripe-shaped electrode A from the base material side of the comparative transfer sheet A. (Irradiation amount 150 mW). Thereafter, the comparative transfer sheet A was removed. Thereby, the electrophoretic display element A was transferred onto the stripe-shaped electrode A together with the binder. However, the binder melted due to heat at the time of transfer, and spread when transferred, and line thickening (width about 100 μm) was observed.

次に、比較転写シートBを、上記のPETフィルム(既に電気泳動表示素子Aが転写されている)に密着させ、上記と同様の条件で、基材側からストライプ形状の電極Bに対応するようにレーザー照射を行なった。これにより、電気泳動表示素子Bがバインダーとともにストライプ形状の電極B上に転写された。しかし、既に転写されている電気泳動表示素子Aのライン太りによって、電極Bの一部にもバインダーが存在しており、転写された電気泳動表示素子Bのラインは、電気泳動表示素子Aのラインのバインダー上に乗り上げる状態となった。このため、転写された電気泳動表示素子Bのラインと、既に転写されている電気泳動表示素子Aのラインとの間に約10〜50μm程度の段差が生じた。   Next, the comparative transfer sheet B is brought into close contact with the PET film (the electrophoretic display element A has already been transferred) so as to correspond to the stripe-shaped electrode B from the substrate side under the same conditions as described above. Laser irradiation was performed. Thereby, the electrophoretic display element B was transferred onto the stripe-shaped electrode B together with the binder. However, due to the thickening of the line of the electrophoretic display element A that has already been transferred, a binder is also present in part of the electrode B, and the transferred line of the electrophoretic display element B is the line of the electrophoretic display element A. It was in a state of riding on the binder. For this reason, a step of about 10 to 50 μm occurred between the transferred line of the electrophoretic display element B and the already transferred line of the electrophoretic display element A.

次いで、電極A、電極B上にそれぞれ電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bを備えた上記のPETフィルムの電気泳動表示素子上に、ITO蒸着膜(共通電極)を備えた厚さ100μmのPETフィルムを圧着し、電気泳動表示パネルを作製した。しかし、電気泳動表示素子間にバインダーが存在するため、充分に圧着できず、電気泳動表示素子間に隙間が残った。
上記の電気泳動表示パネルの対向する電極Aと共通電極間に±20Vの直流電圧を印加したところ、表示に寄与しない電気泳動表示素子間の間隙部が原因となり、実施例の電気泳動表示パネルに比べてコントラストが低いものであった。
また、上記の圧着を、加熱によりバインダーを柔軟な状態とした条件下で行なったが、上述の電気泳動表示素子Aと電気泳動表示素子Bの間の段差が原因となり、電気泳動表示素子Bが電気泳動表示素子Aを覆うように圧縮変形し、コントラストの低下を招いた。
Next, on the electrophoretic display element of the PET film provided with the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B on the electrode A and the electrode B, respectively, a thickness of 100 μm including the ITO vapor deposition film (common electrode) is provided. A PET film was pressure bonded to produce an electrophoretic display panel. However, since a binder is present between the electrophoretic display elements, the pressure bonding cannot be performed sufficiently, and a gap remains between the electrophoretic display elements.
When a DC voltage of ± 20 V is applied between the facing electrode A and the common electrode of the above-described electrophoretic display panel, the electrophoretic display panel of the embodiment causes a gap between electrophoretic display elements that do not contribute to display. The contrast was low.
In addition, the above-described pressure bonding is performed under the condition that the binder is in a flexible state by heating. However, due to the step between the electrophoretic display element A and the electrophoretic display element B, the electrophoretic display element B is The electrophoretic display element A was compressed and deformed so as to cover the contrast.

[比較例2]
実施例3と同様にして、比較原版Aを作製した。この比較原版Aは、円形開口(開口径80μm)をもつ凹部(深さ40μm)を一方の面に図4に示すような単純立方格子配列(ピッチ100μm)で複数備えるものであった。
次に、上述のように作製した比較原版Aに、電気泳動表示素子Aの分散含有液(実施例1にて調製したもの)をブレードコート法により塗布した。この際、比較原版Aとブレードとのギャップは20μmとした。しかし、比較原版Aには、電気泳動表示素子Aが複数載置された凹部が存在し、均一な単粒子膜を形成するための粒子の載置は困難であった。
[Comparative Example 2]
Comparative master A was produced in the same manner as in Example 3. This comparative original A was provided with a plurality of concave portions (depth 40 μm) having circular openings (opening diameter 80 μm) in a simple cubic lattice arrangement (pitch 100 μm) as shown in FIG. 4 on one surface.
Next, the dispersion containing liquid of the electrophoretic display element A (prepared in Example 1) was applied to the comparative original plate A produced as described above by a blade coating method. At this time, the gap between the comparative original plate A and the blade was 20 μm. However, the comparative original plate A has a recess in which a plurality of electrophoretic display elements A are placed, and it is difficult to place particles for forming a uniform single particle film.

[比較例3]
実施例3と同様にして、比較原版Bを作製した。この比較原版Bは、円形開口(開口径60μm)をもつ凹部(深さ20μm)を一方の面に図4に示すような単純立方格子配列(ピッチ100μm)で複数備えるものであった。
次に、上述のように作製した比較原版Bに、電気泳動表示素子Aの分散含有液(実施例1にて調製したもの)をブレードコート法により塗布した。この際、比較原版Bとブレードとのギャップは20μmとした。しかし、比較原版Bには、電気泳動表示素子Aが載置されていない凹部が存在し、均一な単粒子膜を形成するための粒子の載置は困難であった。
[Comparative Example 3]
A comparative original plate B was produced in the same manner as in Example 3. This comparative original plate B was provided with a plurality of concave portions (depth 20 μm) having circular openings (opening diameter 60 μm) in a simple cubic lattice arrangement (pitch 100 μm) as shown in FIG.
Next, the dispersion containing liquid of the electrophoretic display element A (prepared in Example 1) was applied to the comparative original plate B produced as described above by a blade coating method. At this time, the gap between the comparative original plate B and the blade was 20 μm. However, the comparative original plate B has a concave portion on which the electrophoretic display element A is not placed, and it is difficult to place particles for forming a uniform single particle film.

粒子を単粒子膜とすることが要求される種々の用途に利用可能である。   The present invention can be used for various applications in which particles are required to be a single particle film.

本発明の単粒子膜形成用の原版の一実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one Embodiment of the original plate for single particle film formation of this invention. 本発明の単粒子膜形成用の原版の他の実施形態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows other embodiment of the original plate for single particle film formation of this invention. 本発明の単粒子膜形成用の原版における凹部の配列例を示す図である。It is a figure which shows the example of an arrangement | sequence of the recessed part in the original plate for single particle film formation of this invention. 本発明の単粒子膜形成用の原版における貫通孔の配列例を示す図である。It is a figure which shows the example of an arrangement | sequence of the through-hole in the original plate for single particle film formation of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法の一実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows one Embodiment of the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮処理の一例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating an example of the heat shrink process of the heat-shrinkable film in the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the behavior of the particle | grains at the time of the heat shrink of the heat-shrinkable film in the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法における熱収縮性フィルムの熱収縮時の粒子の挙動を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the behavior of the particle | grains at the time of the heat shrink of the heat-shrinkable film in the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows other embodiment of the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows other embodiment of the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows other embodiment of the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の単粒子膜の形成方法の他の実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows other embodiment of the formation method of the single particle film of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の一実施形態を示す部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-section which shows one Embodiment of the electrophoretic display device of this invention. 本発明の電気泳動表示装置における電気泳動表示素子の配列を示す平面面である。It is a plane surface which shows the arrangement | sequence of the electrophoretic display element in the electrophoretic display apparatus of this invention. 本発明の電気泳動表示装置の他の実施形態を示す部分縦断面図である。It is a fragmentary longitudinal cross-section which shows other embodiment of the electrophoretic display device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1,11…原版
2,12…基体
3…凹部
13…貫通孔
21,41……転写シート
22′,42′…熱収縮性フィルム
22,42…基材
23…粘着層
43…光熱変換層
44…発泡層
45…粘着層
31,51…被形成体
71…電気泳動表示装置
73(73Y,73M,73C)…透明パターン電極
77(77Y,77M,77C)…透明パターン電極
80…電気泳動表示素子層
81(81Y,81M,81C)…電気泳動表示素子
82電気泳動粒子
83(83Y,83M,83C)…分散媒体
84…マイクロカプセル
100,100A,100B,100C…粒子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,11 ... Original plate 2,12 ... Base | substrate 3 ... Concave 13 ... Through-hole 21, 41 ... Transfer sheet 22 ', 42' ... Heat-shrinkable film 22, 42 ... Base material 23 ... Adhesive layer 43 ... Photothermal conversion layer 44 ... Foam layer 45 ... Adhesive layer 31, 51 ... Formed object 71 ... Electrophoretic display device 73 (73Y, 73M, 73C) ... Transparent pattern electrode 77 (77Y, 77M, 77C) ... Transparent pattern electrode 80 ... Electrophoretic display element Layer 81 (81Y, 81M, 81C) ... Electrophoretic display element 82 Electrophoretic particles 83 (83Y, 83M, 83C) ... Dispersion medium 84 ... Microcapsules 100, 100A, 100B, 100C ... Particles

Claims (35)

粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有し、該凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立することを特徴とする単粒子膜形成用の原版。
In the original plate for arranging particles in a single particle film state,
A substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate; an opening diameter D (μm) of the recesses; an arrangement pitch P (μm) of each recess; and a depth S (μm) of the recesses And the average particle diameter d (μm), d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d are satisfied. The original version.
前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項1に記載の単粒子膜形成用の原版。   The original plate for forming a single particle film according to claim 1, further comprising an adhesive layer in the recess. 粒子を単粒子膜状態で配設するための原版において、
基体と、該基体に配列された複数の貫通孔とを有し、該貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立することを特徴とする単粒子膜形成用の原版。
In the original plate for arranging particles in a single particle film state,
A substrate and a plurality of through holes arranged in the substrate; the diameter D (μm) of the through holes, the arrangement pitch P (μm) of each through hole, and the thickness T (μm) of the substrate; 1. An original plate for forming a single particle film, wherein the relationship of d ≦ D ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d is established between the particle diameter d (μm).
基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate;
Forming a pressure-sensitive adhesive layer on one surface of the heat-shrinkable film, and transferring the particles placed on the original plate onto the pressure-sensitive adhesive layer in a single particle film state;
And a step of heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a base material and bringing the particles on the adhesive layer closer to each other.
前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項4に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm), d ≦ D 5. The method for forming a single particle film according to claim 4, wherein relationships of ≦ 1.5 d, d ≦ P, and 0.1 d ≦ S ≦ 1.5 d are established. 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであることを特徴とする請求項4または請求項5に記載の単粒子膜の形成方法。   The method for forming a single particle film according to claim 4 or 5, wherein the original plate is provided with an adhesive layer in the recess. 熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
An adhesive layer is formed on one surface of the heat-shrinkable film, an original plate having a plurality of through holes arranged in a substrate is disposed on the adhesive layer, and particles are placed in the through holes of the original plate, Removing the original plate and disposing the particles in a single particle film state on the adhesive layer;
And a step of heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a base material and bringing the particles on the adhesive layer closer to each other.
前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項7に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has d ≦ D between the hole diameter D (μm) of the through holes, the arrangement pitch P (μm) of each through hole, the thickness T (μm) of the substrate, and the average particle diameter d (μm). 8. The method for forming a single particle film according to claim 7, wherein the relationships of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d are established. 前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項4乃至請求項8のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。   9. The method for forming a single particle film according to claim 4, wherein the heat-shrinkable film is a uniaxial shrinkable heat-shrinkable film. 前記基材における粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在することを特徴とする請求項9に記載の単粒子膜の形成方法。   The array of particles in the base material is a stripe array in which the particles are in contact with each other along the heat shrink direction of the heat-shrinkable film. Between each stripe array, the particles have a width that is an integral multiple of the stripe array width. The method for forming a single particle film according to claim 9, wherein a non-arranged region exists. 基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate;
A foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order on one surface of the heat-shrinkable film, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer. And forming an adhesive layer in this order and laminating, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability,
Transferring the particles placed on the original plate in a single particle film state on the adhesive layer;
And a step of heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a base material and bringing the particles on the adhesive layer closer to each other.
前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項11に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm), d ≦ D 12. The method for forming a single particle film according to claim 11, wherein the relations of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d are established. 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるものであることを特徴とする請求項11または請求項12に記載の単粒子膜の形成方法。   The method for forming a single particle film according to claim 11, wherein the original plate is provided with an adhesive layer in the concave portion. 熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させる工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order on one surface of the heat-shrinkable film, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer. And forming an adhesive layer in this order and laminating, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability,
An original plate having a plurality of through-holes arranged on a substrate is placed on the adhesive layer, particles are placed in the through-holes of the original plate, and then the original plate is removed to make particles single particles on the adhesive layer. Arranging in a film state;
And a step of heating the heat-shrinkable film to heat-shrink to form a base material and bringing the particles on the adhesive layer closer to each other.
前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項14に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has d ≦ D between the hole diameter D (μm) of the through holes, the arrangement pitch P (μm) of each through hole, the thickness T (μm) of the substrate, and the average particle diameter d (μm). 15. The method for forming a single particle film according to claim 14, wherein the relationships of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d are established. 前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項11乃至請求項15のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。   16. The method for forming a single particle film according to claim 11, wherein the heat-shrinkable film is a biaxial shrinkable heat-shrinkable film. 前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項16に記載の単粒子膜の形成方法。   17. The method for forming a single particle film according to claim 16, wherein the array of particles in the transfer sheet is a close-packed hexagonal lattice array or a simple cubic lattice array. 基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate;
Forming a pressure-sensitive adhesive layer on one surface of the heat-shrinkable film, and transferring the particles placed on the original plate onto the pressure-sensitive adhesive layer in a single particle film state;
Heat-shrinking the heat-shrinkable film to form a base material, and making a transfer sheet by bringing particles on the adhesive layer close to each other;
Transferring the particles on the pressure-sensitive adhesive layer of the transfer sheet onto an object to be formed, and a method for forming a single particle film.
前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項18に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm), d ≦ D 19. The method for forming a single particle film according to claim 18, wherein the relationship of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d is established. 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項18または請求項19に記載の単粒子膜の形成方法。   The method for forming a single particle film according to claim 18 or 19, wherein the original plate includes an adhesive layer in the recess. 熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上の粒子を被形成体上に転写する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
An adhesive layer is formed on one surface of the heat-shrinkable film, an original plate having a plurality of through holes arranged in a substrate is disposed on the adhesive layer, and particles are placed in the through holes of the original plate, Removing the original plate and disposing the particles in a single particle film state on the adhesive layer;
Heat-shrinking the heat-shrinkable film to form a base material, and making a transfer sheet by bringing particles on the adhesive layer close to each other;
Transferring the particles on the pressure-sensitive adhesive layer of the transfer sheet onto an object to be formed, and a method for forming a single particle film.
前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項20に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has d ≦ D between the hole diameter D (μm) of the through holes, the arrangement pitch P (μm) of each through hole, the thickness T (μm) of the substrate, and the average particle diameter d (μm). 21. The method for forming a single particle film according to claim 20, wherein the relationship of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ T ≦ 1.5d is established. 前記熱収縮性フィルムは、一軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項18乃至請求項22のいずれかに記載の単粒子膜の形成方法。   The method for forming a single particle film according to any one of claims 18 to 22, wherein the heat-shrinkable film is a uniaxial shrinkable heat-shrinkable film. 前記転写シートにおける粒子の配列は、前記熱収縮性フィルムの熱収縮方向に沿って粒子が接触するストライプ状配列であり、各ストライプ状配列間には、ストライプ状配列幅の整数倍の幅で粒子非配設領域が存在することを特徴とする請求項23に記載の単粒子膜の形成方法。   The arrangement of the particles in the transfer sheet is a stripe arrangement in which the particles are in contact with each other along the heat shrink direction of the heat-shrinkable film, and each stripe arrangement has a width that is an integral multiple of the stripe arrangement width. The method for forming a single particle film according to claim 23, wherein a non-arranged region exists. 粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上にストライプ状配列の粒子を転写することを特徴とする請求項24に記載の単粒子膜の形成方法。   25. The method for forming a single particle film according to claim 24, wherein a plurality of types of transfer sheets having different particle types are prepared, and the particles in a stripe arrangement are transferred onto the formed body for each transfer sheet. 基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A step of placing particles in each recess of an original plate having a substrate and a plurality of recesses arranged on one surface of the substrate;
A foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order on one surface of the heat-shrinkable film, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer. And forming an adhesive layer in this order and laminating, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability,
Transferring the particles placed on the original plate in a single particle film state on the adhesive layer;
Heat-shrinking the heat-shrinkable film to form a base material, and making a transfer sheet by bringing particles on the adhesive layer close to each other;
The transfer sheet has a particle-arranged surface facing the object to be formed with a gap, and light and / or heat is supplied to a desired part from the surface of the transfer sheet opposite to the particle-arranged surface of the substrate. The particles are projected in the direction of the formed body by foaming of the foam layer, the photothermal conversion foam layer, or the photothermal conversion foaming adhesive layer, and the particles are transferred onto the form body in a desired pattern. And a step of forming a single particle film.
前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項26に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has an opening diameter D (μm) of the recesses, an arrangement pitch P (μm) of the recesses, a depth S (μm) of the recesses, and an average particle diameter d (μm), d ≦ D 27. The method for forming a single particle film according to claim 26, wherein the relationship of ≦ 1.5d, d ≦ P, and 0.1d ≦ S ≦ 1.5d is established. 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項26または請求項27に記載の単粒子膜の形成方法。   The method for forming a single particle film according to claim 26 or 27, wherein the original plate includes an adhesive layer in the recess. 熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の粒子を接近させて転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粒子配設面を被形成体に間隔を設けて対向させ、転写シートの前記基材の粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を被形成体方向に突出させ、被形成体上に粒子を転写して所望のパターンで単粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする単粒子膜の形成方法。
A foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order on one surface of the heat-shrinkable film, or a photothermal conversion layer, a foam layer and an adhesive layer are formed and laminated in this order, or a photothermal conversion foam layer. And forming an adhesive layer in this order and laminating, or forming an adhesive layer having photothermal conversion foamability,
An original plate having a plurality of through-holes arranged on a substrate is placed on the adhesive layer, particles are placed in the through-holes of the original plate, and then the original plate is removed to make particles single particles on the adhesive layer. Arranging in a film state;
Heat-shrinking the heat-shrinkable film to form a base material, and making a transfer sheet by bringing particles on the adhesive layer close to each other;
The transfer sheet has a particle-arranged surface facing the object to be formed with a gap, and light and / or heat is supplied to a desired part from the surface of the transfer sheet opposite to the particle-arranged surface of the substrate. The particles are projected in the direction of the formed body by foaming of the foam layer, the photothermal conversion foam layer, or the photothermal conversion foaming adhesive layer, and the particles are transferred onto the form body in a desired pattern. And a step of forming a single particle film.
前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項29に記載の単粒子膜の形成方法。   The original plate has d ≦ D between the hole diameter D (μm) of the through holes, the arrangement pitch P (μm) of each through hole, the thickness T (μm) of the substrate, and the average particle diameter d (μm). 30. The method for forming a single particle film according to claim 29, wherein the relationship of ≦ 1.5d, d ≦ P, 0.1d ≦ T ≦ 1.5d is established. 前記熱収縮性フィルムは、二軸収縮型の熱収縮性フィルムであることを特徴とする請求項26乃至請求項30に記載の単粒子膜の形成方法。   31. The method for forming a single particle film according to claim 26, wherein the heat-shrinkable film is a biaxial shrinkable heat-shrinkable film. 前記転写シートにおける粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項31に記載の単粒子膜の形成方法。   32. The method of forming a single particle film according to claim 31, wherein the particle arrangement in the transfer sheet is a close-packed hexagonal lattice arrangement or a simple cubic lattice arrangement. 粒子種が異なる複数種の転写シートを作製し、各転写シート毎に被形成体上に所望のパターンで単粒子膜を形成することを特徴とする請求項26乃至請求項32に記載の単粒子膜の形成方法。   The single particle according to any one of claims 26 to 32, wherein a plurality of types of transfer sheets having different particle types are prepared, and a single particle film is formed in a desired pattern on the formed body for each transfer sheet. Method for forming a film. 電極間に電気泳動表示素子層を備えた電気泳動表示装置において、
少なくとも一方の電極は、所定のパターン形状を有し、かつ、電気的に独立した複数系統のパターン電極であり、前記電気泳動表示素子層は、電気泳動粒子と分散媒体をマイクロカプセルに収納してなる電気泳動表示素子を、請求項25または請求項33に記載の単粒子膜の形成方法により前記パターン電極上に単粒子膜状態となるように配列したものであり、前記電気泳動表示素子の分散媒体の色が各系統のパターン電極毎に異なることを特徴とする電気泳動表示装置。
In an electrophoretic display device comprising an electrophoretic display element layer between electrodes,
At least one of the electrodes has a predetermined pattern shape and is a plurality of electrically independent pattern electrodes, and the electrophoretic display element layer contains electrophoretic particles and a dispersion medium in a microcapsule. An electrophoretic display element is arranged so as to be in a single particle film state on the pattern electrode by the method of forming a single particle film according to claim 25 or 33, and the dispersion of the electrophoretic display element is performed. An electrophoretic display device, wherein the color of the medium is different for each pattern electrode of each system.
前記電気泳動表示素子の分散媒体の色は、少なくとも青色、赤色、黄色の3種であることを特徴とする請求項35に記載の電気泳動表示装置。   36. The electrophoretic display device according to claim 35, wherein the color of the dispersion medium of the electrophoretic display element is at least three kinds of blue, red, and yellow.
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