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JP2006106087A - Method for manufacturing transflective display element - Google Patents

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JP2006106087A
JP2006106087A JP2004288836A JP2004288836A JP2006106087A JP 2006106087 A JP2006106087 A JP 2006106087A JP 2004288836 A JP2004288836 A JP 2004288836A JP 2004288836 A JP2004288836 A JP 2004288836A JP 2006106087 A JP2006106087 A JP 2006106087A
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JP
Japan
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base layer
display element
region
manufacturing
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP2004288836A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hikari Nakagawa
光 中川
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Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently manufacturing a transflective display element with excellent visibility by reducing occurrence of air bubbles in sticking of a base layer. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the transflective display element, having a transmissive region and a reflective region arranged inside a pixel, is provided with: a sticking step to stick the light transmitting base layer 104 with an uneven surface formed on the surface thereof to a rectangular transparent substrate 1000; and a film forming step to form a reflection diffusing film 105 on a region of the uneven surface corresponding to the reflective region. In particular, the sticking step is conducted by sticking the base layer 104 to the transparent substrate 1000 while pressing the surface of the base layer 104 by moving a pressing region from any one of corners (for example, the corner E) of the transparent substrate 1000. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

この発明は、半透過型表示素子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a transflective display element.

従来から携帯電話機等の表示手段として液晶表示素子が用いられている。
例えば、反射型液晶表示素子は、外部から入射される光を液晶表示素子の前面側へ向けて反射させて表示を行う。反射型液晶表示素子において、外光を効率良く利用して明るい表示を得るため、あらゆる角度からの入射光に対して、均一な光を表示画面に垂直な方向に射出させる構造が必要である。
Conventionally, liquid crystal display elements have been used as display means for mobile phones and the like.
For example, a reflective liquid crystal display element performs display by reflecting light incident from the outside toward the front side of the liquid crystal display element. In a reflective liquid crystal display element, in order to obtain a bright display by efficiently using external light, a structure for emitting uniform light in a direction perpendicular to the display screen with respect to incident light from all angles is required.

従来では、例えば、次のような反射型液晶表示素子の製造方法が提案されている。すなわち、基板に下地層(熱硬化・感光性樹脂)を貼り付けた後、熱硬化・感光性樹脂を露光することにより熱硬化・感光性樹脂を光硬化させて、傾斜角度が所定角度以下となる複数個の凹凸を形成する。そして、下地層を焼成した後、凹凸面上にアルミニウムや銀を材料とする金属薄膜を用いて、拡散反射膜を形成する。なお、凹凸面上に金属薄膜を形成しているため、金属薄膜は反射機能に加え、拡散機能をも具備する(例えば、非特許文献1)。   Conventionally, for example, the following manufacturing method of a reflective liquid crystal display element has been proposed. That is, after the base layer (thermosetting / photosensitive resin) is attached to the substrate, the thermosetting / photosensitive resin is photocured by exposing the thermosetting / photosensitive resin, and the inclination angle is less than a predetermined angle. A plurality of irregularities are formed. Then, after baking the base layer, a diffuse reflection film is formed on the uneven surface using a metal thin film made of aluminum or silver. In addition, since the metal thin film is formed on the uneven surface, the metal thin film has a diffusion function in addition to the reflection function (for example, Non-Patent Document 1).

しかし、近年において、携帯電話機等では、反射型液晶表示素子の光反射機能に加え、液晶表示素子の背面側に配置されるバックライトの光を液晶表示素子の前面側へ透過させる光透過機能を有する半透過型液晶表示素子が要求されてきている。半透過型液晶表示素子は、例えば、画素毎に反射膜を用いて入力される光を反射する反射領域と、反射膜を配置しないで入力される光を透過する透過領域とを有し、反射領域と透過領域とがそれぞれ連続領域として形成されたものがある(例えば、特許文献1)。   However, in recent years, in addition to the light reflection function of the reflective liquid crystal display element, a cellular phone or the like has a light transmission function for transmitting the light of the backlight arranged on the back side of the liquid crystal display element to the front side of the liquid crystal display element. There has been a demand for a transflective liquid crystal display element having the same. The transflective liquid crystal display element has, for example, a reflective region that reflects light input using a reflective film for each pixel and a transmissive region that transmits light input without a reflective film. There is one in which a region and a transmission region are each formed as a continuous region (for example, Patent Document 1).

ここで、非特許文献1に記載の技術を、特許文献1に記載の技術(半透過型液晶表示素子)にも適用しようとしたとき、例えば、非特許文献1に記載の下地層を光透過性のものとし、下地層表面の凹凸面上に形成された拡散反射膜(金属膜)の一部を画素毎に除去することにより、透過領域を追加形成する方法が考えられる。
鶴岡恭生、嶋崎俊勝、吉田健、「反射型カラーLCD用反射下地フィルム材料」、日立化成テクニカルレポート、日立化成工業株式会社、2002年1月、第38号、p.15−18 特開2001−281648号公報(図1)
Here, when the technique described in Non-Patent Document 1 is also applied to the technique described in Patent Document 1 (semi-transmissive liquid crystal display element), for example, the base layer described in Non-Patent Document 1 is light-transmitted. A method of additionally forming a transmissive region by removing a part of the diffuse reflection film (metal film) formed on the concavo-convex surface of the base layer surface for each pixel is considered.
Tsuruoka Yasuo, Shimazaki Toshikatsu, Yoshida Ken, “Reflective Base Film Material for Reflective Color LCD”, Hitachi Chemical Technical Report, Hitachi Chemical Co., Ltd., January 2002, No. 38, p. 15-18 JP 2001-281648 A (FIG. 1)

しかしながら、発明者は、下地層と基板とを貼り合わせる時に、下地層と基板との間に空気が閉じ込められ、その結果、気泡が生じてしまうことを発見した。
また、透過領域における下地層と基板との間に気泡が存在する場合、透過領域では下地層内部を光が透過するため、気泡が例えばピンホール状に見えてしまい、液晶表示素子の視認性を大きく低下させてしまうことがわかった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、下地層の貼り付け時に生じる気泡の発生を低減し、視認性の良い半透過型表示素子を効率よく製造する半透過型表示素子の製造方法を提供することを目的とする。
However, the inventor has discovered that when the base layer and the substrate are bonded together, air is trapped between the base layer and the substrate, resulting in bubbles.
In addition, when a bubble exists between the base layer and the substrate in the transmissive region, light passes through the base layer in the transmissive region, so that the bubble looks like a pinhole, for example, and the visibility of the liquid crystal display element is reduced. It was found that it would greatly decrease.
The present invention has been made in order to solve such problems, and reduces the generation of bubbles generated when a base layer is attached, and efficiently produces a transflective display element with good visibility. An object is to provide a method for manufacturing a display element.

本発明に係る半透過型表示素子の製造方法は、画素内に透過領域および反射領域が設けられた半透過型表示素子の製造方法であって、凹凸面を有した光透過性の下地層を、矩形状の光透過性の基板に貼り付ける貼り付け工程、および上記凹凸面であって上記反射領域に対応する領域に、反射拡散膜を形成する膜形成工程を有し、上記貼り付け工程は、上記基板のいずれか1つの角から、押圧領域を移動させながら、上記下地層を押圧して貼り付けることを特徴とするものである。
このような方法により、下地層の貼り付け時に生じる気泡の発生を低減し、視認性の良い半透過型表示素子を効率よく製造できる半透過型表示素子の製造方法を提供することができる。
A method of manufacturing a transflective display device according to the present invention is a method of manufacturing a transflective display device in which a transmissive region and a reflective region are provided in a pixel, and a light-transmitting underlayer having an uneven surface is provided. A step of attaching to a rectangular light-transmitting substrate, and a step of forming a reflective diffusion film on the uneven surface and corresponding to the reflective region. The base layer is pressed and pasted while moving the pressing region from any one corner of the substrate.
By such a method, it is possible to provide a method for manufacturing a transflective display element that can reduce the generation of bubbles generated when the base layer is attached and can efficiently manufacture a transflective display element with high visibility.

また、上記貼り付け工程は、上記基板のいずれか1つの角から対角線上の角の方向へ、押圧領域を移動させながら、上記下地層を押圧して貼り付けてもよい。   Further, in the attaching step, the base layer may be pressed and attached while moving the pressing region from any one corner of the substrate to a diagonal corner.

また、上記貼り付け工程は、ローラーを用いて行ってもよい。   Moreover, you may perform the said sticking process using a roller.

本発明により、下地層の貼り付け時に生じる気泡の発生を低減し、視認性の良い半透過型表示素子を効率よく製造できる半透過型表示素子の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a transflective display element that can reduce the generation of bubbles generated when the base layer is attached and can efficiently manufacture a transflective display element with high visibility.

発明の実施の形態1.
本発明の実施の形態1について、図に基づいて説明する。
図1は半透過型液晶表示素子の断面を示す図である。
図1において、半透過型液晶表示素子10は2枚の透明基板101、102で液晶103を挟持して構成される。透明基板101、102は例えば光透過性のあるガラス、ポリカーボネート、アクリル樹脂等により矩形状に形成される。
液晶表示素子10の透明基板102の前面には下地層104、反射拡散膜105、カラーフィルタ層106、平坦化膜106a、透明電極107、配向膜108が順次積層されて設けられている。
Embodiment 1 of the Invention
Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a transflective liquid crystal display element.
In FIG. 1, a transflective liquid crystal display element 10 is configured by sandwiching a liquid crystal 103 between two transparent substrates 101 and 102. The transparent substrates 101 and 102 are formed in a rectangular shape using, for example, light transmissive glass, polycarbonate, acrylic resin, or the like.
On the front surface of the transparent substrate 102 of the liquid crystal display element 10, a base layer 104, a reflection diffusion film 105, a color filter layer 106, a planarization film 106a, a transparent electrode 107, and an alignment film 108 are sequentially stacked.

下地層104は、反射拡散膜105を形成するための下地層であって、光透過性の熱硬化・感光性物質で形成される。下地層104の前面には複数の凹凸が形成された凹凸面104a、背面は平坦面が形成されている。
反射拡散膜105は、下地層104の表面にアルミニウムや銀などの反射率の高い金属を、金属スパッタ法または真空蒸着法により成膜して形成される。また、反射拡散膜105は、画素内に透過領域150および反射領域160が構成されるように、透過領域150に対応する部分で除去される。
The underlayer 104 is an underlayer for forming the reflective diffusion film 105, and is formed of a light transmissive thermosetting / photosensitive material. The ground layer 104 has a concavo-convex surface 104a formed with a plurality of concavo-convex surfaces on the front surface and a flat surface on the back surface.
The reflection diffusion film 105 is formed by depositing a metal having high reflectivity such as aluminum or silver on the surface of the base layer 104 by a metal sputtering method or a vacuum evaporation method. The reflective diffusion film 105 is removed at a portion corresponding to the transmissive region 150 so that the transmissive region 150 and the reflective region 160 are formed in the pixel.

透明電極107は例えば、フォトリソグラフィ法により透明導電性薄膜(ITO:Indium Tin Oxide)により形成される。配向膜108は、例えば高分子材料であるポリイミド薄膜等の有機薄膜で形成され、液晶103の分子を所定の方向に揃える役割を果たす。   The transparent electrode 107 is formed of, for example, a transparent conductive thin film (ITO: Indium Tin Oxide) by photolithography. The alignment film 108 is formed of, for example, an organic thin film such as a polyimide thin film that is a polymer material, and plays a role of aligning the molecules of the liquid crystal 103 in a predetermined direction.

液晶表示素子10の透明基板101の背面には、透明電極109、配向膜110が積層されて設けられている。透明電極109は、透明電極107と直交するように形成されている。偏光板111、112は入射光に対して特定の偏光成分のみを透過させる機能を有する光学部材である。偏光板111は透明基板101の前面と、光学補償板115を介して貼り付けられている。また、偏光板112は透明基板102の背面と、光学補償板116を介して貼り付けられている。スペーサ113は、透明基板101、102間の液晶103の高さ(セルギャップ)を制御する樹脂粒子で、透明基板101、102間の全範囲に亘り、散布される。シール剤114は、矩形状の透明基板101、102を周囲で貼り合わせるための接着剤である。   A transparent electrode 109 and an alignment film 110 are laminated on the back surface of the transparent substrate 101 of the liquid crystal display element 10. The transparent electrode 109 is formed so as to be orthogonal to the transparent electrode 107. The polarizing plates 111 and 112 are optical members having a function of transmitting only a specific polarization component with respect to incident light. The polarizing plate 111 is attached to the front surface of the transparent substrate 101 via the optical compensation plate 115. The polarizing plate 112 is attached to the back surface of the transparent substrate 102 via the optical compensation plate 116. The spacers 113 are resin particles that control the height (cell gap) of the liquid crystal 103 between the transparent substrates 101 and 102, and are spread over the entire range between the transparent substrates 101 and 102. The sealant 114 is an adhesive for bonding the rectangular transparent substrates 101 and 102 around.

また、図1に示されるように、透過領域150では、液晶表示素子10の背面側から入射される光(例えばバックライトの光)は、矢印Mで示される経路に沿って、液晶表示素子10の前面側へ透過される。また、反射領域160では、液晶表示素子10の前面から入射される光(例えば自然光)は、矢印Nで示される経路に沿って、拡散反射膜105で拡散反射され、液晶表示素子10の前面側へ射出される。   As shown in FIG. 1, in the transmissive region 150, light incident from the back side of the liquid crystal display element 10 (for example, backlight light) passes along the path indicated by the arrow M. Is transmitted to the front side of the screen. Further, in the reflection region 160, light (for example, natural light) incident from the front surface of the liquid crystal display element 10 is diffusely reflected by the diffuse reflection film 105 along the path indicated by the arrow N, and the front side of the liquid crystal display element 10. Is injected into.

次に、本発明に係る半透過型液晶表示素子10の製造方法について、図に基づいて説明する。
図2は、本発明に係る半透過型液晶表示素子の製造方法を示す図である。
図2において、洗浄後の透明基板102の前面に、一体化されたベースフィルム104bおよび下地層104を、保護シート104cを剥がしながら熱圧着により貼り付ける(図2(a))。
具体的に、図3および図4を用いて、図2(a)に対応する下地層104の貼り付け処理を説明する。
Next, a method for manufacturing the transflective liquid crystal display element 10 according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 2 is a diagram showing a method for manufacturing a transflective liquid crystal display element according to the present invention.
In FIG. 2, the integrated base film 104b and base layer 104 are attached to the front surface of the cleaned transparent substrate 102 by thermocompression bonding while removing the protective sheet 104c (FIG. 2 (a)).
Specifically, the base layer 104 attachment process corresponding to FIG. 2A will be described with reference to FIGS. 3 and 4.

図3は、本発明との差異を明確にするために、下地層の一般的な貼り付け処理を説明する図である。
図3では、透明基板102を多面取りする例で説明する。マザー基板(透明基板)1000は、複数の透明基板102を配列する。下地層104はマザー基板1000の外形よりも小さい矩形状に形成されている。また、下地層104は、マザー基板1000の外周よりも内側に貼り付けられる。
FIG. 3 is a diagram for explaining a general bonding process of the underlayer in order to clarify the difference from the present invention.
In FIG. 3, an example in which the transparent substrate 102 is multi-faceted will be described. A mother substrate (transparent substrate) 1000 arranges a plurality of transparent substrates 102. The underlayer 104 is formed in a rectangular shape that is smaller than the outer shape of the mother substrate 1000. In addition, the base layer 104 is attached to the inner side of the outer periphery of the mother substrate 1000.

下地層104のマザー基板1000への貼り付けは、温度100℃〜140℃の環境下で、ローラー200を用いて、熱圧着により行う。その際、マザー基板1000は50℃程度に予備加熱しておく。
図3(a)に示されるように、ローラー200は、矩形状のマザー基板1000の一辺(例えば辺EF)と平行に配置される。ローラー200を、辺EFから辺GHの方向(図3(a)のB方向)へ向けて、押圧領域(ローラー200とベースフィルム104bとの接触領域)を移動させながら、ベースフィルム104bを介して下地層104を押圧して、下地層104とマザー基板1000とを貼り付ける。
図3(b)に示されるように、ローラー200の移動に合せて、保護フィルム104cを剥離する。
The base layer 104 is attached to the mother substrate 1000 by thermocompression using the roller 200 in an environment at a temperature of 100 ° C. to 140 ° C. At that time, the mother substrate 1000 is preheated to about 50 ° C.
As shown in FIG. 3A, the roller 200 is arranged in parallel with one side (for example, the side EF) of the rectangular mother substrate 1000. While moving the pressing area (the contact area between the roller 200 and the base film 104b) from the side EF toward the side GH (the B direction in FIG. 3A), the roller 200 moves through the base film 104b. The base layer 104 is pressed to attach the base layer 104 and the mother substrate 1000.
As shown in FIG. 3B, the protective film 104c is peeled off in accordance with the movement of the roller 200.

この場合、保護フィルム104cを剥がした後、辺EF近傍で、最初に下地層104をマザー基板1000にローラー200により押圧したとき、押圧領域内でマザー基板1000と下地層104との間に空気が閉じ込められ、マザー基板1000と下地層104との間に気泡が生じてしまう。図3(a)において、気泡が生じる領域は、L1=約20mm〜約30mmとしたとき、EF辺の長さ×L1に相当する領域(図3(a)の斜線部)に気泡が生じる。このとき、例えばマザー基板1000は例えば480mm×360mmの大きさであったとし、透明基板102を10個(一列)×10個(一行)で多面取りできたとすると、少なくとも10個の透明基板102上において、表示領域の一部に気泡が生じてしまう。従って、図3で示された下地層の一般的な貼り付け処理では、気泡のない視認性の良い半透過型液晶表示素子をより多く得るには、あまりにも非効率的である。   In this case, after the protective film 104c is peeled off, when the base layer 104 is first pressed against the mother substrate 1000 by the roller 200 in the vicinity of the side EF, there is air between the mother substrate 1000 and the base layer 104 in the pressing region. The trapped air bubbles are generated between the mother substrate 1000 and the base layer 104. In FIG. 3A, the region where bubbles are generated is such that when L1 = about 20 mm to about 30 mm, bubbles are generated in a region corresponding to the length of EF × L1 (shaded portion in FIG. 3A). At this time, for example, if the mother substrate 1000 has a size of, for example, 480 mm × 360 mm, and the number of the transparent substrates 102 is 10 (one row) × 10 (one line), the number of the transparent substrates 102 is at least 10 on the transparent substrate 102. In this case, bubbles are generated in a part of the display area. Therefore, the general pasting process of the underlayer shown in FIG. 3 is too inefficient to obtain more transflective liquid crystal display elements with no air bubbles and good visibility.

そこで、図4に示される方法により、下地層104を貼り付ける。
図4は、本発明に係る半透過型液晶表示素子の下地層の貼り付け処理を説明する図である。
図4において、図3とは、ローラー200の移動の仕方の点で相違する。なお、図4のC−C断面は図3(b)と同様の構成である。
図4において、下地層104の貼り付けは、マザー基板1000のいずれか1つの角(図4では角Eであって、角周辺部も含む)から、全ての辺(図4ではEF辺、FG辺、GH辺、HE辺)とは平行にならない方向へ、押圧領域(ローラー200とベースフィルム104bとの接触領域)を移動させながら、ベースフィルム104bを介して下地層104をローラー200で押圧して、下地層104とマザー基板1000とを貼り付ける。
ここで、ローラー200の移動方向は、ローラー200の回転軸に対して垂直方向である。また、最初にローラー200で下地層104を押圧したとき、ローラー200の回転軸は、辺EFに対して斜めの方向、すなわち平行とならないように設定されているものとし、ローラー200の移動方向は、辺EFに対して斜めの方向、すなわち辺EFに対して平行とならない方向であるとする。
なお、下地層104は、マザー基板1000の外形よりも小さく切断されたものを用いる。
また、ローラー200に代えて、回転しない部材を用いてもよい。
Therefore, the base layer 104 is attached by the method shown in FIG.
FIG. 4 is a diagram for explaining the base layer pasting process of the transflective liquid crystal display device according to the present invention.
4 differs from FIG. 3 in the way the roller 200 moves. 4 has a configuration similar to that of FIG. 3B.
In FIG. 4, the base layer 104 is pasted from any one of the corners of the mother substrate 1000 (the corner E in FIG. 4 includes the corner peripheral portion) to all the sides (the EF side and the FG in FIG. 4). The base layer 104 is pressed by the roller 200 through the base film 104b while moving the pressing region (the contact region between the roller 200 and the base film 104b) in a direction that is not parallel to the side, the GH side, and the HE side. Then, the base layer 104 and the mother substrate 1000 are attached.
Here, the moving direction of the roller 200 is a direction perpendicular to the rotation axis of the roller 200. In addition, when the base layer 104 is first pressed by the roller 200, the rotation axis of the roller 200 is set to be oblique with respect to the side EF, that is, not to be parallel, and the moving direction of the roller 200 is , It is assumed that the direction is oblique to the side EF, that is, the direction is not parallel to the side EF.
Note that the base layer 104 is cut to be smaller than the outer shape of the mother substrate 1000.
Further, instead of the roller 200, a non-rotating member may be used.

この場合は、保護フィルム104cを剥がした後、角Eで、最初に下地層104をマザー基板1000にローラー200で押圧したとき、押圧領域内でマザー基板1000と下地層104との間に、空気が閉じ込められ、気泡が生じる。気泡が生じる領域は、下地層104の一般的な貼り付け処理と異なり、図4で示されたL2=約20mm〜約30mmとなる角Eの周辺の三角形状の領域(図4の斜線部)のみとなる。このとき、気泡の発生を角E周辺の三角形状の領域にのみに抑えることができるため、例えばマザー基板(透明基板)1000で、10個(一列)×10個(一行)の透明基板102を多面取りできたとすると、表示領域の一部に気泡が生じてしまう透明基板102の数は、1、2個程度にまで低減することができる。このように、下地層104の貼り付け時に生じる気泡の発生を低減することができる。
また、好ましくは、マザー基板1000のいずれかの角周辺(例えば角E)から対角線上の角(例えば角H)の方向へ、押圧領域を移動させながら、ローラー200を用いて、ベースフィルム104bを介して下地層104を押圧して、下地層104とマザー基板1000とを貼り付ける。
また、ローラー200の押圧動作完了後、押圧力を解除するが、このときも気泡が発生することがある。押圧の終点を角部とすると、終点での泡の発生領域が小さくなるという利点もある。
In this case, after the protective film 104c is peeled off, when the base layer 104 is first pressed against the mother substrate 1000 with the roller 200 at the corner E, air is interposed between the mother substrate 1000 and the base layer 104 in the pressing region. Is trapped and bubbles are generated. The region where bubbles are generated is different from the general pasting process of the underlayer 104, and is a triangular region around the corner E where L2 = about 20 mm to about 30 mm shown in FIG. 4 (shaded portion in FIG. 4). It becomes only. At this time, since the generation of bubbles can be suppressed only to the triangular region around the corner E, for example, 10 (one row) × 10 (one row) transparent substrates 102 are formed on the mother substrate (transparent substrate) 1000. Assuming that multiple surfaces can be obtained, the number of transparent substrates 102 in which bubbles are generated in a part of the display area can be reduced to about one or two. As described above, the generation of bubbles generated when the base layer 104 is attached can be reduced.
In addition, preferably, the base film 104b is moved using the roller 200 while moving the pressing region from the periphery of any corner (for example, the corner E) of the mother substrate 1000 toward the diagonal corner (for example, the corner H). Then, the base layer 104 is pressed to attach the base layer 104 and the mother substrate 1000 to each other.
Further, after the pressing operation of the roller 200 is completed, the pressing force is released, but bubbles may also be generated at this time. If the end point of the press is a corner, there is an advantage that the bubble generation area at the end point is reduced.

図2において、次に、マザー基板1000の表面にベースフィルム104bおよび下地層104を貼り付けた状態で、ベースフィルム104bに対して露光により光を照射することにより、ベースフィルム104bを光硬化させる(図2(b))。このとき、下地層104にも架橋が生じる。
次に、光硬化されたベースフィルム104bを剥離して、下地層104の表面上に形成された凹凸面104aを露出させる(同図(c))。
次に、下地層104を200℃以上250℃前後以下で約30分以上かけて焼成(ベーク)する(同図(d))。なお、焼成は、下地層104の光硬化後のさらなる硬化により、架橋密度を高めるのが目的である。
次に、下地層104の表面上に形成された凹凸面104aの表面に、銀薄膜やアルミニウム薄膜等の反射拡散膜105を例えば金属スパッタ法や真空蒸着法により形成する(同図(e))。
次に、反射拡散膜105の透過領域150に対応する部分を例えばエッチングにより除去する(同図(f))。
In FIG. 2, next, the base film 104b is photocured by irradiating the base film 104b with light with the base film 104b and the base layer 104 attached to the surface of the mother substrate 1000 (see FIG. 2). FIG. 2 (b)). At this time, the base layer 104 is also crosslinked.
Next, the photocured base film 104b is peeled off to expose the uneven surface 104a formed on the surface of the base layer 104 (FIG. 3C).
Next, the base layer 104 is baked (baked) at 200 ° C. or more and around 250 ° C. or less for about 30 minutes or more ((d) in the figure). The purpose of firing is to increase the crosslinking density by further curing after the photocuring of the underlayer 104.
Next, a reflective diffusion film 105 such as a silver thin film or an aluminum thin film is formed on the surface of the concavo-convex surface 104a formed on the surface of the underlayer 104 by, for example, a metal sputtering method or a vacuum evaporation method ((e) in the figure). .
Next, the portion of the reflective diffusion film 105 corresponding to the transmission region 150 is removed by, for example, etching ((f) in the figure).

次に、反射拡散膜105の表面に、カラーフィルタ層106、平坦化膜106a、透明電極107、配向膜108を形成する。また、透明基板101の背面に透明電極109および配向膜110を形成する。
次に、透明電極107、109等が各々設けられた透明基板101および透明基板102を、透明基板101または102の全面にスペーサ113を散布した後、透明基板101および102をシール剤114で貼り合わせる。そして、液晶注入口(不図示)から液晶103を注入した後、液晶注入口を封止して、更に光学補償板115、116および偏光板111、112を、透明基板101および102に取り付けると、液晶表示素子10が完成する。
以上のような製造方法により、下地層104の貼り付け時に生じる気泡の発生を低減し、視認性の良い半透過型表示素子を効率よく製造できる。
Next, a color filter layer 106, a planarizing film 106a, a transparent electrode 107, and an alignment film 108 are formed on the surface of the reflective diffusion film 105. Further, the transparent electrode 109 and the alignment film 110 are formed on the back surface of the transparent substrate 101.
Next, the transparent substrate 101 and the transparent substrate 102 provided with the transparent electrodes 107 and 109, respectively, are dispersed on the entire surface of the transparent substrate 101 or 102, and then the transparent substrates 101 and 102 are bonded together with a sealant 114. . Then, after injecting the liquid crystal 103 from the liquid crystal injection port (not shown), sealing the liquid crystal injection port, and further attaching the optical compensators 115 and 116 and the polarizing plates 111 and 112 to the transparent substrates 101 and 102, The liquid crystal display element 10 is completed.
By the manufacturing method as described above, the generation of bubbles generated when the base layer 104 is attached can be reduced, and a transflective display element with high visibility can be efficiently manufactured.

半透過型液晶表示素子の断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of a transflective liquid crystal display element. 本発明に係る半透過型液晶表示素子の製造方法を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the transflective liquid crystal display element which concerns on this invention. 下地層の一般的な貼り付け処理を説明する図である。It is a figure explaining the general affixing process of a base layer. 本発明に係る半透過型液晶表示素子の下地層の貼り付け処理を説明する図である。It is a figure explaining the affixing process of the base layer of the transflective liquid crystal display element which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 液晶表示素子、 101、102 透明基板、 103 液晶、 104 下地層、 104a 凹凸面、 104b ベースフィルム、 104c 保護シート、 105 反射拡散膜、 106 カラーフィルタ層、 107、109 透明電極、 108、110 配向膜、 111、112 偏光板、 200 ローラー、 1000 マザー基板(透明基板)。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display element, 101,102 Transparent substrate, 103 Liquid crystal, 104 Underlayer, 104a Irregular surface, 104b Base film, 104c Protective sheet, 105 Reflection diffusion film, 106 Color filter layer, 107, 109 Transparent electrode, 108, 110 Orientation Membrane, 111, 112 Polarizing plate, 200 roller, 1000 Mother substrate (transparent substrate).

Claims (3)

画素内に透過領域および反射領域が設けられた半透過型表示素子の製造方法であって、
凹凸面を有した光透過性の下地層を、矩形状の光透過性の基板に貼り付ける貼り付け工程、
および上記凹凸面であって上記反射領域に対応する領域に、反射拡散膜を形成する膜形成工程を有し、
上記貼り付け工程は、上記基板のいずれか1つの角から、押圧領域を移動させながら、上記下地層を押圧して貼り付けることを特徴とする半透過型表示素子の製造方法。
A method of manufacturing a transflective display element in which a transmissive region and a reflective region are provided in a pixel,
An attaching step of attaching a light-transmitting underlayer having an uneven surface to a rectangular light-transmitting substrate;
And a film forming step of forming a reflection diffusion film on the uneven surface and corresponding to the reflection region,
The method for manufacturing a transflective display element, wherein the attaching step comprises pressing the base layer while moving the pressing region from any one corner of the substrate.
上記貼り付け工程は、上記基板のいずれか1つの角から対角線上の角の方向へ、押圧領域を移動させながら、上記下地層を押圧して貼り付けることを特徴とする請求項1に記載の半透過型表示素子の製造方法。   The said affixing process presses and affixes the said foundation | substrate layer, moving a press area | region to the direction of the corner | angular on a diagonal line from the corner of any one of the said board | substrates, It is characterized by the above-mentioned. Manufacturing method of transflective display element. 上記貼り付け工程は、ローラーを用いて行うことを特徴とする請求項1に記載の半透過型表示素子の製造方法。   The method of manufacturing a transflective display device according to claim 1, wherein the attaching step is performed using a roller.
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