JP2006169446A - Adhesive composition and cover lay film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、耐熱性に優れる接着剤硬化物および該硬化物を用いたカバーレイフィルム、ならびにそれらの製造に有用な接着剤組成物に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an adhesive cured product having excellent heat resistance, a coverlay film using the cured product, and an adhesive composition useful for production thereof.
電子回路の高密度化や電子機器の小型化に伴い、より薄型で柔軟性を付加した材料として、従来使用されてきたリジット銅張積層板に代わって、フレキシブル銅張積層板が広く使用されるようになってきており、その市場規模は年々拡大している。 With the increase in the density of electronic circuits and the downsizing of electronic devices, flexible copper-clad laminates are widely used in place of rigid copper-clad laminates that have been used in the past as thinner and more flexible materials. The market is growing year by year.
このフレキシブル銅張積層板の銅箔を加工して配線パターンを形成した後、その配線パターン形成面を被覆して保護するために、接着剤の付いたポリイミドフィルム等の電気絶縁性フィルム(カバーレイフィルム)が使用される。これらのフレキシブル銅張積層板とカバーレイフィルム(以下、フレキシブル銅張積層板等という)に求められる特性としては、例えば、電気絶縁性フィルムと銅箔との間の接着性、耐熱性、耐溶剤性、電気特性(耐マイグレーション性)、寸法安定性、保存安定性、難燃性等が挙げられる。 After processing the copper foil of this flexible copper-clad laminate to form a wiring pattern, in order to cover and protect the wiring pattern formation surface, an electrically insulating film (coverlay) such as a polyimide film with an adhesive is used. Film). Properties required for these flexible copper-clad laminates and coverlay films (hereinafter referred to as flexible copper-clad laminates, etc.) include, for example, adhesion between an electrically insulating film and copper foil, heat resistance, and solvent resistance. Properties, electrical properties (migration resistance), dimensional stability, storage stability, flame retardancy, and the like.
近年、フレキシブル銅張積層板等には、プリント基板の高密度化のために異方導電性フィルム(ACF)の実装等による高温、高圧の負荷がかかることが多く、また該フレキシブル銅媒積層板等は自動車用電子機器への搭載も検討されているので、該フレキシブル銅張積層板等の耐熱性の一層の向上が特に求められている。 In recent years, flexible copper-clad laminates are often subjected to high-temperature and high-pressure loads due to the mounting of anisotropic conductive films (ACF) to increase the density of printed circuit boards. Etc. are also being studied for mounting on automobile electronic devices, and therefore further improvement in heat resistance of the flexible copper-clad laminate is required.
フレキシブル銅張積層板に関しては、従来使用されてきたポリイミドフィルムと銅箔とを接着剤で張り合わせた3層フレキシブル銅張積層板に代わって、接着剤を用いないことで高耐熱性を実現した2層フレキシブル銅張積層板が急速に普及しつつある。一方、カバーレイフィルムに関しては、ポリイミドフィルムにエポキシ樹脂系接着剤を塗布しB段階化した材料を、2層フレキシブル銅張積層板と組み合わせて用いること等が試みられているが、このカバーレイフィルムでは耐熱性が未だ不十分である。 As for flexible copper clad laminates, high heat resistance has been realized by using no adhesives instead of the conventional three-layer flexible copper clad laminates, which are bonded with polyimide film and copper foil. Single layer flexible copper clad laminates are rapidly spreading. On the other hand, with regard to the coverlay film, it has been attempted to use a material obtained by applying an epoxy resin adhesive to a polyimide film and B-staged in combination with a two-layer flexible copper-clad laminate. However, heat resistance is still insufficient.
その他にも、カバーレイフィルム用の接着剤として、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤、およびカルボン酸で変性されたアクリロニトリル−ブタジエンゴム(以下、NBRという)を含有するエポキシ樹脂系接着剤組成物が広く使用されている。しかしながら、カルボン酸で変性されたNBRはガラス転移点(Tg)が−50℃付近であるので、エポキシ樹脂等と十分に混合し組成物を硬化させた場合でも、得られる硬化物の強度は該NBRの影響を受け、その結果として、該硬化物では耐熱性が不十分である。 In addition, an epoxy resin adhesive containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, and acrylonitrile-butadiene rubber (hereinafter referred to as NBR) modified with a carboxylic acid as an adhesive for the coverlay film Compositions are widely used. However, since NBR modified with carboxylic acid has a glass transition point (Tg) of around −50 ° C., even when the composition is sufficiently mixed with epoxy resin or the like and cured, the strength of the cured product obtained is Under the influence of NBR, as a result, the cured product has insufficient heat resistance.
また、特定構造を有するエポキシ樹脂、硬化剤、イオン補足剤、および平均粒径が1μm以下のコアシェル型の架橋ゴムを配合したエポキシ樹脂組成物ならびに該組成物を用いたカバーレイフィルムが提案されているが(特許文献1)、その耐熱性はやはり不十分である。 In addition, an epoxy resin composition containing an epoxy resin having a specific structure, a curing agent, an ion scavenger, and a core-shell type crosslinked rubber having an average particle size of 1 μm or less, and a coverlay film using the composition are proposed. However, the heat resistance is still insufficient.
本発明は、耐熱性に優れる接着剤硬化物および該硬化物を用いたカバーレイフィルム、ならびにそれらの製造に有用な接着剤組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an adhesive cured product excellent in heat resistance, a coverlay film using the cured product, and an adhesive composition useful for the production thereof.
本発明は、上記課題を解決するために、
(A)エポキシ樹脂、
(B)カルボン酸で変性された架橋アクリロニトリル−ブタジエンゴム、
(C)硬化剤、
(D)硬化促進剤、および
(E)無機充填剤
を含有してなる接着剤組成物、
を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention
(A) epoxy resin,
(B) a crosslinked acrylonitrile-butadiene rubber modified with a carboxylic acid,
(C) a curing agent,
(D) a curing accelerator, and (E) an adhesive composition comprising an inorganic filler,
I will provide a.
本発明は第二に、前記接着剤組成物の硬化物であって、硬化エポキシ樹脂からなる連続相と、該連続相中の該(B)カルボン酸で変性された架橋アクリロニトリル−ブタジエンゴムからなる平均粒径が1μm以下の分散相とを有し、貯蔵弾性率が85℃で200MPa以上である上記硬化物、を提供する。 Secondly, the present invention is a cured product of the adhesive composition, comprising a continuous phase composed of a cured epoxy resin, and a crosslinked acrylonitrile-butadiene rubber modified with the (B) carboxylic acid in the continuous phase. The cured product having a dispersed phase having an average particle size of 1 μm or less and a storage elastic modulus of 200 MPa or more at 85 ° C. is provided.
本発明は第三に、電気絶縁性フィルム層と、該フィルム層上に設けられた前記接着剤組成物からなる接着剤層とを有するカバーレイフィルム、を提供する。 Thirdly, the present invention provides a coverlay film having an electrically insulating film layer and an adhesive layer made of the adhesive composition provided on the film layer.
本発明の組成物を硬化させて得られる硬化物は、耐熱性に優れるだけでなく、剥離強度、半田耐熱性等にも優れている。特に、前記硬化物が硬化エポキシ樹脂からなる連続相と、該連続相中のカルボン酸で変性された架橋NBRからなる平均粒径が1μm以下の分散相とを有し、貯蔵弾性率が85℃で200MPa以上である実施形態では、該硬化物は耐熱性が顕著に優れたものとなる。したがって、本発明の組成物からなる接着剤層を有するカバーレイフィルムは、前記と同様の特性を有するので、特にフレキシブル銅張積層板等に好適に用いることができる。 The cured product obtained by curing the composition of the present invention is not only excellent in heat resistance but also excellent in peel strength, solder heat resistance, and the like. In particular, the cured product has a continuous phase composed of a cured epoxy resin, and a dispersed phase composed of crosslinked NBR modified with a carboxylic acid in the continuous phase and having an average particle size of 1 μm or less, and a storage elastic modulus of 85 ° C. In an embodiment at 200 MPa or more, the cured product has significantly excellent heat resistance. Therefore, since the coverlay film having the adhesive layer made of the composition of the present invention has the same characteristics as described above, it can be suitably used particularly for a flexible copper clad laminate.
<接着剤組成物>
以下、本発明の接着剤組成物を構成する各成分について詳細に説明する。本明細書中で室温とは25℃を意味する。また、不揮発性成分とは、本発明の組成物を硬化させて得られる硬化物を構成する不揮発性有機成分および不揮発性無機固体成分であり、具体的には主として下記(A)〜(E)成分であり、場合によって加えられる成分をも含むが、該接着剤組成物が有機溶剤を含む場合には、通常、有機溶剤は不揮発性成分に含まれない。
<Adhesive composition>
Hereinafter, each component which comprises the adhesive composition of this invention is demonstrated in detail. In this specification, room temperature means 25 ° C. The nonvolatile component is a nonvolatile organic component and a nonvolatile inorganic solid component constituting a cured product obtained by curing the composition of the present invention. Specifically, the following mainly (A) to (E) Although it is a component and also includes a component that is optionally added, when the adhesive composition includes an organic solvent, the organic solvent is usually not included in the nonvolatile component.
〔(A)エポキシ樹脂〕
(A)成分であるエポキシ樹脂は、1分子中に少なくとも平均2個以上のエポキシ基を有するものである。また、このエポキシ樹脂は、例えば、シリコーン、ウレタン、ポリイミド、ポリアミド等で変性されていてもよく、また、分子骨格中に、臭素原子、リン原子、硫黄原子、窒素原子等を含んでいてもよい。
[(A) Epoxy resin]
The epoxy resin as component (A) has at least two epoxy groups on average in one molecule. The epoxy resin may be modified with, for example, silicone, urethane, polyimide, polyamide, or the like, and may contain a bromine atom, a phosphorus atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, or the like in the molecular skeleton. .
本成分のエポキシ樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量は、特に限定されないが、組成物の接着性や硬化物の耐熱性等の観点から、360〜20,000の範囲内にあることが好ましい。また、該エポキシ樹脂のエポキシ当量は、組成物の接着性や硬化物の耐熱性等の観点から、180〜10,000の範囲内にあることが好ましい。 The polystyrene-reduced weight average molecular weight of the epoxy resin of this component is not particularly limited, but is preferably in the range of 360 to 20,000 from the viewpoint of the adhesiveness of the composition and the heat resistance of the cured product. Moreover, it is preferable that the epoxy equivalent of this epoxy resin exists in the range of 180-10,000 from viewpoints of the adhesiveness of a composition, the heat resistance of hardened | cured material, etc.
本成分のエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、あるいはこれらに水素添化したもの;フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂;ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル系エポキシ樹脂;トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂;エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油、CTBN変性エポキシ樹脂等の線状脂肪族エポキシ樹脂;NBR変性エポキシ樹脂等が挙げられ、好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂である。これらの市販品としては、例えば、商品名で、エピコート828(ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)、エピクロン830(大日本インキ化学工業製、一分子中のエポキシ基:2個)、エピコート154(ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個以上)、EOCN103S(日本化薬製、一分子中のエポキシ基:2個以上)等が挙げられる。 Examples of the epoxy resin of this component include, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, or those hydrogenated thereto; glycidyl ether type epoxy resins such as phenol novolac type epoxy resin and cresol novolac type epoxy resin; Glycidyl ester epoxy resin such as hexahydrophthalic acid glycidyl ester and dimer acid glycidyl ester; Glycidyl amine epoxy resin such as triglycidyl isocyanurate and tetraglycidyl diaminodiphenylmethane; Epoxidized polybutadiene, epoxidized soybean oil, CTBN modified epoxy resin, etc. A linear aliphatic epoxy resin; NBR-modified epoxy resin and the like, preferably bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, E Nord novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin. As these commercial products, for example, Epicoat 828 (manufactured by Japan Epoxy Resin, two epoxy groups in one molecule), Epicron 830 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, epoxy group in one molecule: 2 under the trade name) ), Epicoat 154 (manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy groups in one molecule: two or more), EOCN103S (manufactured by Nippon Kayaku, epoxy groups in one molecule: two or more), and the like.
また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂の分子中のベンゼン環に臭素原子が結合した臭素化エポキシ樹脂も、硬化物の難燃性が向上するので有効である。この臭素化エポキシ樹脂の市販品としては、臭素含有率が高いものと低いものの2種類があり、例えば、商品名で、エピコート5050(ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)、エピコート5046(ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)である。 A brominated epoxy resin in which a bromine atom is bonded to a benzene ring in the molecule of a bisphenol A type epoxy resin is also effective because the flame retardancy of the cured product is improved. There are two types of commercially available brominated epoxy resins, one with a high bromine content and one with a low bromine content. For example, under the trade name, Epicoat 5050 (made by Japan Epoxy Resin, two epoxy groups in one molecule), Epicoat 5046 (manufactured by Japan Epoxy Resin, epoxy groups in one molecule: 2).
さらに、反応性リン化合物を用いて、エポキシ樹脂にリン原子を結合させたリン含有エポキシ樹脂も難燃性を付与する材料として有効である。このリン含有エポキシ樹脂中のリン含有率は、優れた難燃性を硬化物に付与できるので、3〜4質量%であることが好ましい。リン含有エポキシ樹脂としては、例えば、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキシド(三光(株)製、商品名:HCA)、あるいはこの化合物のリン原子に結合した活性水素原子をヒドロキノンで置換した化合物(三光(株)製、商品名:HCA-HQ)を、前記エポキシ樹脂と反応させて得られる化合物等が挙げられる。これらの市販品としては、例えば、商品名で、FX305(東都化成(株)製、リン含有率:3質量%、一分子中のエポキシ基:2個)、エピクロンEXA9710(大日本インキ化学工業(株)製、リン含率:3質量%、一分子中のエポキシ基:2個)等が挙げられる。 Furthermore, a phosphorus-containing epoxy resin obtained by bonding a phosphorus atom to an epoxy resin using a reactive phosphorus compound is also effective as a material imparting flame retardancy. Since the phosphorus content rate in this phosphorus containing epoxy resin can provide the outstanding flame retardance to hardened | cured material, it is preferable that it is 3-4 mass%. Examples of the phosphorus-containing epoxy resin include 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide (manufactured by Sanko Co., Ltd., trade name: HCA), or a phosphorus atom of this compound. Examples thereof include compounds obtained by reacting a compound obtained by replacing bonded active hydrogen atoms with hydroquinone (trade name: HCA-HQ, manufactured by Sanko Co., Ltd.) with the epoxy resin. As these commercial products, for example, under the trade name, FX305 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., phosphorus content: 3% by mass, two epoxy groups in one molecule), Epicron EXA9710 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd., phosphorus content: 3 mass%, epoxy groups in one molecule: 2) and the like.
(A)成分のエポキシ樹脂は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。 (A) The epoxy resin of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
〔(B)カルボン酸で変性された架橋NBR〕
(B)成分であるカルボン酸で変性された架橋NBRは、硬化物に従来と同水準の剥離強度、半田耐熱性等を付与し、かつ優れた耐熱性をも付与するものである。
[(B) Crosslinked NBR modified with carboxylic acid]
The crosslinked NBR modified with the carboxylic acid component (B) gives the cured product the same level of peel strength, solder heat resistance, and the like as before, and also provides excellent heat resistance.
この架橋NBRの1次粒子の平均粒径は、特に限定されないが、硬化物中で本成分が平均粒径1μm以下の分散相を形成し易いので、通常、100nm以下である。 The average particle size of the primary particles of the crosslinked NBR is not particularly limited, but is usually 100 nm or less because this component easily forms a dispersed phase having an average particle size of 1 μm or less in the cured product.
架橋NBRがカルボン酸で変性されることにより導入されるカルボキシル基は、分子鎖末端に存在しても、分子鎖非末端に存在してもよい。 The carboxyl group introduced by modifying the crosslinked NBR with a carboxylic acid may be present at the molecular chain terminal or at the molecular chain non-terminal.
本成分のカルボン酸で変性された架橋NBRにおいて、少なくとも含有されるアクリロニトリルおよびブタジエンの含有量ならびに上述のとおりカルボン酸で変性されることにより導入されるカルボキシル基の含有量は、いずれも特に限定されないが、好ましくは以下のとおりである。アクリロニトリル含有量は、通常、10〜35質量%である。ブタジエン含有量は、通常、65〜85質量%である。カルボキシル基含有量は、通常、0.1〜10質量%であり、硬化物をカバーレイフィルムに適用した場合に、流れ性、半田耐熱性および安定性がより優れたものとなるので、好ましくは0.5〜1質量%である。 In the crosslinked NBR modified with the carboxylic acid of this component, the content of at least acrylonitrile and butadiene contained, and the content of the carboxyl group introduced by modification with the carboxylic acid as described above are not particularly limited. However, it is preferably as follows. The acrylonitrile content is usually 10 to 35% by mass. The butadiene content is usually 65 to 85% by mass. The carboxyl group content is usually 0.1 to 10% by mass, and when the cured product is applied to a cover lay film, the flowability, solder heat resistance and stability become more excellent, and preferably 0.5 to 1% by mass.
このカルボン酸で変性された架橋NBRは、如何なる方法で製造されたものであってもよく、通常、アクリロニトリルと、ブタジエンと、重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸モノマーとを共重合させて製造するが、その共重合段階で架橋性モノマーを添加して部分的に架橋させたもの等である。必要に応じて、架橋後に粒子状にしたものであってもよい。前記重合性不飽和二重結合を有するカルボン酸モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられ、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、より好ましくはアクリル酸である。 The crosslinked NBR modified with carboxylic acid may be produced by any method, and is usually obtained by copolymerizing acrylonitrile, butadiene and a carboxylic acid monomer having a polymerizable unsaturated double bond. Although it is produced, it is one that is partially crosslinked by adding a crosslinkable monomer in the copolymerization stage. If necessary, it may be in the form of particles after crosslinking. Examples of the carboxylic acid monomer having a polymerizable unsaturated double bond include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and the like, preferably acrylic acid, methacrylic acid, more preferably Is acrylic acid.
本成分のカルボン酸で変性された架橋NBRの具体例としては、例えば、商品名で、XER-91(JSR製)等が挙げられる。 Specific examples of the crosslinked NBR modified with the carboxylic acid of this component include, for example, XER-91 (manufactured by JSR) under the trade name.
(B)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して、通常、20〜100質量部であり、好ましくは25〜75質量部、より好ましくは30〜60質量部である。かかる範囲を満たすと、硬化物が後述の好ましい相構造を形成し易くなる(即ち、硬化物において、硬化エポキシ樹脂が連続相を形成し、架橋NBRが平均粒径1μm以下の分散相を形成し易くなる)ので、該硬化物は、従来と同水準の剥離強度、半田耐熱性等を有し、さらにより優れた耐熱性をも有するものとなる。 Although the compounding quantity of (B) component is not specifically limited, It is 20-100 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 25-75 mass parts, More preferably, it is 30-60 masses. Part. When this range is satisfied, the cured product can easily form a preferable phase structure described later (that is, in the cured product, the cured epoxy resin forms a continuous phase, and the crosslinked NBR forms a dispersed phase having an average particle size of 1 μm or less. Therefore, the cured product has the same level of peel strength and solder heat resistance as those of the prior art, and even better heat resistance.
(B)成分のカルボン酸で変性された架橋NBRは、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。 The crosslinked NBR modified with the carboxylic acid (B) may be used alone or in combination of two or more.
〔(C)硬化剤〕
(C)成分である硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤として従来使用されてきたものであれば特に限定されない。この硬化剤としては、例えば、ポリアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール樹脂系硬化剤等が挙げられる。ポリアミン系硬化剤としては、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン等の脂肪族アミン系硬化剤;イソホロンジアミン等の脂環式アミン系硬化剤;ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン(DDS)、フェニレンジアミン等の芳香族アミン系硬化剤;ジシアンジアミド等が挙げられる。酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。フェノール樹脂系硬化剤としては、例えば、フェノールノボラック樹脂(昭和高分子社製、商品名:ショウノールBRG-558)、トリアジン系フェノール樹脂(大日本インキ社製、商品名:LA4055、窒素原子を含有した難燃性樹脂)等が挙げられる。これらの中でも、硬化剤としては、芳香族アミン系、フェノール樹脂系が、接着剤組成物の反応性および接着性や、硬化物の耐熱性の観点から好ましい。
[(C) curing agent]
The curing agent as component (C) is not particularly limited as long as it has been conventionally used as a curing agent for epoxy resins. Examples of the curing agent include a polyamine curing agent, an acid anhydride curing agent, and a phenol resin curing agent. Examples of polyamine curing agents include aliphatic amine curing agents such as diethylenetriamine, tetraethylenetetramine, and tetraethylenepentamine; alicyclic amine curing agents such as isophoronediamine; diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone (DDS), Aromatic amine curing agents such as phenylenediamine; dicyandiamide and the like. Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and the like. Examples of phenolic resin-based curing agents include phenol novolac resin (Showa High Polymer Co., Ltd., trade name: Shonor BRG-558), triazine phenolic resin (Dainippon Ink Co., Ltd., trade name: LA4055, containing nitrogen atom) Flame retardant resin). Among these, as the curing agent, aromatic amines and phenolic resins are preferable from the viewpoints of reactivity and adhesiveness of the adhesive composition and heat resistance of the cured product.
(C)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して、通常、1〜80質量部であり、好ましくは3〜60質量部である。 Although the compounding quantity of (C) component is not specifically limited, It is 1-80 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 3-60 mass parts.
(C)成分の硬化剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。 (C) The hardening | curing agent of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
〔(D)硬化促進剤〕
(D)成分である硬化促進剤は、(A)エポキシ樹脂と(C)硬化剤との反応を促進するものであれば、特に限定されない。この硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール化合物、トリオルガノホスフィン、ホスホニウム塩、第三級アミン、ホウフッ化物、オクチル酸塩等が挙げられる。イミダゾール化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、およびこれらの化合物のエチルイソシアネート化合物、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。トリオルガノホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリス(p−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(p−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(p−エトキシフェニル)ホスフィン、トリフェニルホスフィン・トリフェニルボレート、テトラフェニルホスフィン・テトラフェニルボレート等のトリオルガノホスフィン類等が挙げられる。ホスホニウム塩としては、例えば、第四級ホスホニウム塩等が挙げられる。第三級アミンとしては、例えば、トリエチレンアンモニウム・トリフェニルボレート等、およびそのテトラフェニルホウ素酸塩が挙げられる。ホウフッ化物としては、例えば、ホウフッ化亜鉛、ホウフッ化錫、ホウフッ化ニッケル等が挙げられる。オクチル酸塩としては、例えば、オクチル酸錫、オクチル酸亜鉛等が挙げられる。これらの中でも、ホウフッ化物が好ましい。
[(D) Curing accelerator]
The curing accelerator as component (D) is not particularly limited as long as it promotes the reaction between (A) the epoxy resin and (C) the curing agent. Examples of the curing accelerator include imidazole compounds, triorganophosphines, phosphonium salts, tertiary amines, borofluorides, octylates, and the like. Examples of imidazole compounds include 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and ethyl isocyanate compounds of these compounds, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2 -Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and the like. Examples of the triorganophosphine include triphenylphosphine, tributylphosphine, tris (p-methylphenyl) phosphine, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, tris (p-ethoxyphenyl) phosphine, triphenylphosphine / triphenylborate, And triorganophosphines such as tetraphenylphosphine and tetraphenylborate. Examples of phosphonium salts include quaternary phosphonium salts. Examples of the tertiary amine include triethyleneammonium triphenylborate and the tetraphenylborate salt thereof. Examples of the borofluoride include zinc borofluoride, tin borofluoride, nickel borofluoride, and the like. Examples of the octylate include tin octylate and zinc octylate. Among these, borofluoride is preferable.
(D)成分の配合量は、特に限定されないが、(A)成分100質量部に対して、通常、0.1〜30質量部であり、好ましくは1〜20質量部であり、特に好ましくは1〜5質量部である。 Although the compounding quantity of (D) component is not specifically limited, It is 0.1-30 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component, Preferably it is 1-20 mass parts, Most preferably, it is 1- 5 parts by mass.
(D)成分の硬化促進剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。 (D) The hardening accelerator of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
〔(E)無機充填剤〕
(E)成分である無機充填剤は、硬化物の難燃性の補助、剥離強度(硬化後の接着剤の凝集剥離)の向上、耐吸湿性の安定化等を目的として配合される成分である。この無機充填剤は、カバーレイフィルムに従来使用されてきたものであれば特に限定されないが、難燃助剤としても作用するものが好ましい。
[(E) inorganic filler]
The (E) component inorganic filler is a component blended for the purpose of assisting in flame retardancy of cured products, improving peel strength (cohesive peeling of the adhesive after curing), stabilizing moisture absorption resistance, and the like. is there. Although this inorganic filler will not be specifically limited if it is conventionally used for the coverlay film, What acts also as a flame-retardant adjuvant is preferable.
無機充填剤の具体例としては、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化モリブデン等の金属酸化物等;ホウ酸亜鉛、ホウ酸マグネシウム等のホウ酸化合物等が挙げられる。これらの中でも、難燃助剤として作用するので、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物;二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化モリブデン等の金属酸化物等が好ましく、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムが特に好ましい。 Specific examples of inorganic fillers include metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; metal oxides such as silicon dioxide, aluminum oxide and molybdenum oxide; boric acid compounds such as zinc borate and magnesium borate Etc. Among these, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; metal oxides such as silicon dioxide, aluminum oxide, and molybdenum oxide are preferable because they act as flame retardant aids. Aluminum hydroxide, hydroxide Magnesium is particularly preferred.
これらの無機充填剤の樹脂マトリックスへの密着性や耐水性を向上させ、硬化物の耐熱性、耐吸湿性等を向上させるために、該無機充填剤の表面が、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤等により疎水化処理されていることが好ましい。 In order to improve the adhesion and water resistance of these inorganic fillers to the resin matrix and to improve the heat resistance, moisture absorption resistance, etc. of the cured product, the surface of the inorganic filler is a silane coupling agent or titanate. Hydrophobic treatment with a system coupling agent or the like is preferred.
(E)成分の配合量は、特に限定されないが、組成物中の不揮発性成分の合計100質量部に対して、好ましくは5〜60質量部、より好ましくは10〜50質量部である。かかる範囲を満たすことにより、得られる組成物の接着性や硬化物の耐熱性がより良好なものとなる。 Although the compounding quantity of (E) component is not specifically limited, Preferably it is 5-60 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the non-volatile component in a composition, More preferably, it is 10-50 mass parts. By satisfy | filling this range, the adhesiveness of the composition obtained and the heat resistance of hardened | cured material will become a better thing.
(E)成分の無機充填剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。 (E) The inorganic filler of a component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
〔その他の成分〕
上記(A)〜(E)成分以外にも、その他の成分を添加してもよい。その具体例としては、ハロゲンフリーのリン系難燃剤、NBR加硫剤等が挙げられる。リン系難燃剤としては、例えば、商品名で、SP-703(四国化成製)等が挙げられる。NBR加硫剤としては、例えば、酸化亜鉛(ZnO)等が挙げられる。
[Other ingredients]
In addition to the components (A) to (E), other components may be added. Specific examples thereof include a halogen-free phosphorus-based flame retardant and an NBR vulcanizing agent. Examples of the phosphorus-based flame retardant include SP-703 (manufactured by Shikoku Kasei) and the like under the trade name. Examples of the NBR vulcanizing agent include zinc oxide (ZnO).
・(B)成分以外のゴム
さらに、本発明の組成物には、硬化物の耐熱性を損なわない範囲で、(B)成分以外のゴムを併用してもよい。(B)成分以外のゴムとしては、例えば、アクリルゴムやNBR等が挙げられる。このNBRの具体例としては、カルボン酸で変性された非架橋NBR(例えば、日本ゼオン社製のニッポール1072(商品名))、水素添加したNBR(例えば、日本ゼオン社製のゼットポール2020(商品名))等の非架橋NBR等が挙げられる。このアクリルゴムとしては、例えば、カルボン酸で変性されたアクリルゴム(共同薬品製の03-72-23(商品名))等が挙げられる。これらの(B)成分以外のゴムは、各々、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
-Rubber other than component (B) Furthermore, a rubber other than component (B) may be used in combination with the composition of the present invention as long as the heat resistance of the cured product is not impaired. Examples of the rubber other than the component (B) include acrylic rubber and NBR. Specific examples of this NBR include non-crosslinked NBR modified with a carboxylic acid (for example, NIPPOL 1072 (trade name) manufactured by ZEON CORPORATION), hydrogenated NBR (for example, ZETPOL 2020 manufactured by ZEON CORPORATION (commercial product) Non-crosslinked NBR such as name)). Examples of this acrylic rubber include acrylic rubber modified with carboxylic acid (03-72-23 (trade name) manufactured by Kyodo Kagaku). These rubbers other than the component (B) may be used alone or in combination of two or more.
これらの(B)成分以外のゴムは、硬化物中の硬化エポキシ樹脂が連続層を形成し、(B)カルボン酸で変性された架橋NBRが平均粒径1μm以下に分散するのを妨げない範囲で配合することができ、具体的には、(A)成分100質量部に対して、通常、0〜10質量部である。 The rubber other than the component (B) is a range in which the cured epoxy resin in the cured product forms a continuous layer and (B) the crosslinked NBR modified with the carboxylic acid is not prevented from being dispersed to an average particle size of 1 μm or less. Specifically, it is 0-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of (A) component.
・有機溶剤
上記(A)〜(E)成分、および場合によって加えられる成分は、そのまま用いても、有機溶剤に溶解または分散させ、該組成物を溶液または分散液(以下、単に「溶液」という)として調製して用いてもよい。この有機溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン(MEK)、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、THF、アセトン等が挙げられ、好ましくは、MEK、トルエンである。
Organic solvent The above components (A) to (E) and optionally added components may be used as they are or dissolved or dispersed in an organic solvent, and the composition is dissolved or dispersed (hereinafter simply referred to as “solution”). ) May be used as prepared. Examples of the organic solvent include N, N-dimethylacetamide, methyl ethyl ketone (MEK), N, N-dimethylformamide, cyclohexanone, N-methyl-2-pyrrolidone, toluene, methanol, ethanol, isopropanol, THF, acetone and the like. Preferably, MEK and toluene are used.
これらの有機溶剤は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。 These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
上記有機溶剤を含む接着剤組成物中の不揮発性成分の合計濃度は、通常、10〜45質量%であり、好ましくは20〜40質量%である。この濃度がかかる範囲を満たすと、接着剤組成物は電気絶縁性フィルム等の基材への塗布性が良好なものとなるので、塗工時にムラを生じることがなく作業性に優れ、かつ環境面、経済性等にも優れたものとなる。 The total concentration of nonvolatile components in the adhesive composition containing the organic solvent is usually 10 to 45% by mass, preferably 20 to 40% by mass. When this concentration satisfies such a range, the adhesive composition has good applicability to a substrate such as an electrical insulating film, so that it has excellent workability without causing unevenness during coating and the environment. It is also excellent in terms of surface and economy.
〔調製方法〕
上記の(A)〜(E)成分、および場合によって加えられるその他の成分は、如何なる手段で混合されてもよいが、通常、例えば、ポットミル、ボールミル、ホモジナイザー、スーパーミル等を用いて混合される。この際、各成分の混合条件は、特に限定されないが、組成物を硬化させて得られる硬化物が下記の好ましい相構造を形成するように混合されることが望ましい。
[Preparation method]
The above components (A) to (E) and other components optionally added may be mixed by any means, but are usually mixed using, for example, a pot mill, a ball mill, a homogenizer, a super mill or the like. . At this time, the mixing condition of each component is not particularly limited, but it is desirable that the cured product obtained by curing the composition is mixed so as to form the following preferable phase structure.
〔相構造〕
前記組成物を硬化させて得られる硬化物は、硬化エポキシ樹脂が連続相となり、カルボン酸で変性された架橋NBRが分散相となる構造を形成している。この連続相は硬化物の耐熱性の向上に特に寄与し、分散相は硬化物の柔軟性の向上に特に寄与する。この分散相の平均粒径は、通常、1μm以下であり、好ましくは0.1〜0.8μmである。かかる範囲を満たすと、ゴム成分が硬化物中に均一に分散し、硬化エポキシ樹脂が連続相となる。また、前記硬化物の85℃における貯蔵弾性率は、好ましくは200MPa以上である。これら分散相の平均粒径および硬化物の貯蔵弾性率が、同時にかかる範囲を満たすと、硬化物が特に優れた耐熱性、剥離強度および半田耐熱性を併有するものとなる。
[Phase structure]
The cured product obtained by curing the composition has a structure in which a cured epoxy resin becomes a continuous phase and a crosslinked NBR modified with a carboxylic acid becomes a dispersed phase. This continuous phase particularly contributes to improving the heat resistance of the cured product, and the dispersed phase particularly contributes to improving the flexibility of the cured product. The average particle size of this dispersed phase is usually 1 μm or less, preferably 0.1 to 0.8 μm. When this range is satisfied, the rubber component is uniformly dispersed in the cured product, and the cured epoxy resin becomes a continuous phase. Further, the storage elastic modulus at 85 ° C. of the cured product is preferably 200 MPa or more. When the average particle diameter of these dispersed phases and the storage modulus of the cured product satisfy the above ranges at the same time, the cured product has particularly excellent heat resistance, peel strength and solder heat resistance.
<カバーレイフィルム>
上記組成物は、カバーレイフィルムの製造に用いることができる。
<Coverlay film>
The said composition can be used for manufacture of a coverlay film.
・構成
本発明の接着剤組成物の硬化物からなる接着剤層を有するカバーレイフィルムの構成は、電気絶縁性フィルム層と、該フィルム層上に設けられた接着剤層とを有するものである。具体的には、例えば、電気絶縁性フィルム層と接着剤層とを有する2層構造;電気絶縁性フィルム層と接着剤層と離型材層とを有する3層構造が挙げられる。この接着剤層の厚さは、使用目的により任意の厚さを選択できるが、乾燥状態で、通常、5〜45μmであり、好ましくは5〜35μm、特に好ましくは15〜25μmである。
Configuration The configuration of the coverlay film having an adhesive layer made of a cured product of the adhesive composition of the present invention includes an electrically insulating film layer and an adhesive layer provided on the film layer. . Specifically, for example, a two-layer structure having an electrically insulating film layer and an adhesive layer; a three-layer structure having an electrically insulating film layer, an adhesive layer, and a release material layer can be given. The thickness of the adhesive layer can be selected depending on the purpose of use, but is usually 5 to 45 μm, preferably 5 to 35 μm, particularly preferably 15 to 25 μm in a dry state.
電気絶縁性フィルム層を構成する電気絶縁性フィルムとしては、通常、フレキシブル銅張積層板およびカバーレイフィルムに用いられるものであれば、特に限定されない。その具体例としては、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエステルフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、アラミドフィルム;ガラス繊維、アラミド繊維、ポリエステル繊維等をベースにして、これにマトリックスとなるエポキシ樹脂やポリエステル樹脂やジアリルフタレート樹脂を含浸して、フィルム状またはシート状にして銅箔と貼り合わせたもの等が挙げられ、耐熱性、寸法安定性、機械特性(弾性率、伸び等)等の点から、ポリイミドフィルム、ポリパラバン酸フィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムが好ましく、ポリイミドフィルムが特に好ましい。 The electrically insulating film constituting the electrically insulating film layer is not particularly limited as long as it is usually used for flexible copper-clad laminates and coverlay films. Specific examples thereof include polyimide film, polyethylene terephthalate (PET) film, polyester film, polyparabanic acid film, polyether ether ketone film, polyphenylene sulfide film, aramid film; glass fiber, aramid fiber, polyester fiber, etc. This is impregnated with a matrix epoxy resin, polyester resin, or diallyl phthalate resin, and film-like or sheet-like and bonded with copper foil. Heat resistance, dimensional stability, mechanical properties (elastic modulus) Polyimide film, polyparabanic acid film, and polyphenylene sulfide film are preferable, and a polyimide film is particularly preferable.
この電気絶縁性フィルム層の厚さは、使用目的により任意の厚さを選択してよいが、通常、12.5〜75μmであり、好ましくは12.5〜50μm、特に好ましくは12.5〜25μmである。また、接着剤層との密着性向上、フィルム表面の洗浄、寸法安定性の向上等のために、このフィルムの片面または両面に、低温プラズマ処理、コロナ放電処理、サンドブラスト処理等の表面処理を施してもよい。 The thickness of the electrically insulating film layer may be selected arbitrarily depending on the purpose of use, but is usually 12.5 to 75 μm, preferably 12.5 to 50 μm, particularly preferably 12.5 to 25 μm. In addition, in order to improve adhesion to the adhesive layer, clean the film surface, improve dimensional stability, etc., surface treatment such as low-temperature plasma treatment, corona discharge treatment, sandblast treatment, etc. is performed on one or both sides of this film. May be.
離型材層を構成する離型材としては、前記接着剤層の形状を損なうことなく剥離できるものであれば、特に限定されない。その具体例としては、ポリエチレン(PE)フィルム、ポリプロピレン(PP)フィルム、ポリメチルペンテン(TPX)フィルム;シリコーン離型材付きPEフィルムおよびPPフィルム;PE樹脂コート紙、PP樹脂コート紙、TPX樹脂コート紙等が挙げられる。この離型材の厚さは、任意の厚さでよいが、フィルムでは13〜75μm、紙では50〜200μmが好ましい。 The release material constituting the release material layer is not particularly limited as long as it can be removed without impairing the shape of the adhesive layer. Specific examples thereof include polyethylene (PE) film, polypropylene (PP) film, polymethylpentene (TPX) film; PE film and PP film with silicone release material; PE resin-coated paper, PP resin-coated paper, TPX resin-coated paper Etc. The release material may have any thickness, but is preferably 13 to 75 μm for a film and 50 to 200 μm for paper.
〔製造方法〕
次に、本発明のカバーレイフィルムの製造方法について、好ましい実施形態である有機溶剤を用いた3層構造のカバーレイフィルムを一例として説明する。
〔Production method〕
Next, the coverlay film manufacturing method of the present invention will be described by taking a coverlay film having a three-layer structure using an organic solvent as a preferred embodiment as an example.
まず、予め(A)〜(E)成分と場合によって加えられるその他の成分と有機溶剤とを混合して調製した接着剤組成物(溶液状態)を、リバースロールコーター、コンマコーター等を用いて電気絶縁性フィルム片面に塗布する。この接着剤組成物を塗布したフィルムをインラインドライヤーに通して80〜160℃で2〜10分間加熱処理して、接着剤組成物中の有機溶剤を除去することにより、接着剤組成物を半硬化状態とする。次いで、このフィルムの接着剤組成物の塗布面と離型材とを、ロールラミネータで圧着させ積層して、カバーレイフィルムとする。離型材は使用に際して剥離される。なお、「半硬化状態」とは、組成物が乾燥した状態、乃至、その一部において硬化反応が進行している状態を意味する。 First, an adhesive composition (solution state) prepared by previously mixing the components (A) to (E) with other components optionally added and an organic solvent is electrically converted using a reverse roll coater, a comma coater or the like. Apply to one side of insulating film. The adhesive composition is semi-cured by removing the organic solvent in the adhesive composition by heating the film coated with this adhesive composition through an in-line dryer at 80 to 160 ° C. for 2 to 10 minutes. State. Next, the application surface of the adhesive composition of the film and the release material are pressure-bonded and laminated with a roll laminator to form a coverlay film. The release material is peeled off during use. The “semi-cured state” means a state in which the composition is dried or a state in which the curing reaction proceeds in a part thereof.
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.
〔実施例、比較例〕
接着剤組成物の各成分には、表1に示す種類を、同表に示す配合量(質量部)で用いて、混合物を調製した。この混合物を、MEK/トルエンの混合溶剤に溶解させ、均一になるように攪拌して混合させ、不揮発性成分の合計濃度が35質量%の接着剤組成物(溶液状態)を調製した。
Examples and comparative examples
For each component of the adhesive composition, a mixture was prepared using the types shown in Table 1 in the compounding amounts (parts by mass) shown in the same table. This mixture was dissolved in a mixed solvent of MEK / toluene, stirred and mixed so as to be uniform, and an adhesive composition (solution state) having a total concentration of nonvolatile components of 35% by mass was prepared.
次に、この接着剤組成物(溶液状態)を、ポリイミドフィルム(東レデュポン社製、商品名:カプトンV、厚さ:25μm)上に、乾燥後の厚さが25μmとなるようにアプリケータを用いて塗布した。その後、送風オーブン内で、90℃、10分の加熱乾燥条件でMEKおよびトルエンを除去することにより、該接着剤組成物を半硬化状態とし、カバーレイフィルムを得た。このカバーレイフィルムを用いて、下記の測定・評価方法に従って、特性の評価を行った。 Next, an applicator is applied to the adhesive composition (solution state) on a polyimide film (manufactured by Toray DuPont, trade name: Kapton V, thickness: 25 μm) so that the thickness after drying is 25 μm. Applied. Thereafter, MEK and toluene were removed under a heating and drying condition at 90 ° C. for 10 minutes in a blowing oven, whereby the adhesive composition was made into a semi-cured state to obtain a coverlay film. Using this coverlay film, characteristics were evaluated according to the following measurement / evaluation methods.
〔測定・評価方法〕
1.剥離強度
JIS C6481に準拠して、厚さ35μmの電解銅箔(ジャパンエナジー製)の光沢面とカバーレイフィルムの接着剤層とをプレス装置(加工条件;温度:160℃、圧力:50kg/cm2、時間:40分)を用いて貼り合わせた後、150℃で4時間かけてアフターキュアを行い、試験サンプルを作製した。このサンプルを幅1cm、長さ15cmの大きさに切断して試験片とし、その試験片のポリイミドフィルム面を固定し、25℃の条件下で、電解銅箔を90度の方向に50mm/分の速度で連続的に引き剥がしたときの荷重の最低値を測定し剥離強度(N/cm)とした。
[Measurement and evaluation method]
1. Peel strength
According to JIS C6481, press machine (processing conditions; temperature: 160 ° C, pressure: 50 kg / cm 2 ) with a glossy surface of 35 µm thick electrolytic copper foil (manufactured by Japan Energy) and the adhesive layer of the coverlay film. Time: 40 minutes) and after-curing at 150 ° C. for 4 hours to prepare a test sample. This sample is cut to a size of 1cm in width and 15cm in length to make a test piece. The polyimide film surface of the test piece is fixed, and an electrolytic copper foil is placed in a direction of 90 degrees at 50mm / min at 25 ° C. The minimum value of the load when peeled continuously at a speed of was measured and taken as the peel strength (N / cm).
2.半田耐熱性(常態・吸湿)
前記「1.剥離強度」の項で作製した試験サンプルを25mm角に切断して試験片を作製した。半田耐熱性(常態)は、その試験片を半田浴上に30秒間浮かべた後、該試験片の外観を目視により確認し、膨れ、剥がれ等の有無を調べた。半田浴の温度を変えて、この操作を繰り返し、該サンプルに膨れ、剥がれ等が生じない最高温度(℃)を測定した。また、半田耐熱性(吸湿)は、前記半田耐熱性(常態)測定と同様にして作製した試験片を、温度40℃、相対湿度90%の雰囲気下で24時間放置した後、その試験片を半田浴上に30秒間浮かべた後、該試験片の外観を目視により確認し、膨れ、剥がれ等の有無を調べた。半田浴の温度を変えて、この操作を繰り返し、該サンプルに膨れ、剥がれ等が生じない最高温度(℃)を測定した。
2. Solder heat resistance (normal condition, moisture absorption)
The test sample prepared in the section “1. Peel strength” was cut into 25 mm squares to prepare test pieces. With respect to solder heat resistance (normal state), the test piece was floated on a solder bath for 30 seconds, and then the appearance of the test piece was visually confirmed to check for swelling and peeling. This operation was repeated while changing the temperature of the solder bath, and the maximum temperature (° C.) at which the sample did not swell and peel off was measured. Solder heat resistance (moisture absorption) was determined by leaving a test piece prepared in the same manner as the solder heat resistance (normal state) measurement for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90%. After floating on the solder bath for 30 seconds, the appearance of the test piece was visually confirmed to check for swelling, peeling, and the like. This operation was repeated while changing the temperature of the solder bath, and the maximum temperature (° C.) at which the sample did not swell and peel off was measured.
3.相構造
前記「1.剥離強度」の項で作製した試験サンプルの電解銅箔をエッチング処理により除去した接着剤付フィルムを酸化オスミウムで染色した後、透過型電子顕微鏡(日本電子製、商品名:JEM-1010)を用いて硬化物の相構造を観察した。この硬化物の透過型電子顕微鏡観察により、硬化エポキシ樹脂が連続相、架橋NBRが平均粒径1μm以下の分散相を形成していることを確認した。
3. Phase structure After dyeing an adhesive-attached film obtained by removing the electrolytic copper foil of the test sample prepared in the section “1. Peel strength” by etching treatment with osmium oxide, a transmission electron microscope (manufactured by JEOL, trade name: JEM-1010) was used to observe the phase structure of the cured product. By observation of the cured product with a transmission electron microscope, it was confirmed that the cured epoxy resin formed a continuous phase and the crosslinked NBR formed a dispersed phase having an average particle size of 1 μm or less.
4.耐熱性(貯蔵弾性率)
前記接着剤溶液を、厚さ35μmの電解銅箔(ジャパンエナジー製)の光沢面に、乾燥後の厚さが25μmとなるようにアプリケータを用いて塗布した。その後、送風オーブン内で、90℃、10分の加熱乾燥条件で、該接着剤溶液中のMEKおよびトルエンを除去することにより、該接着剤組成物を半硬化状態とした。該接着剤組成物塗布面に厚さ35μmの電解銅箔(ジャパンエナジー社製)の光沢面を接着させ、160℃×50kgf/cm2×40分の条件にてプレス加工し、さらに160℃×3時間アフターキュアーを行った。その次に、前記電解銅箔を全面エッチング処理して除去することにより、貯蔵弾性率測定用接着剤硬化物フィルムを作製した。次いで、このフィルムを用いて、粘弾性測定装置(ティーエーインスツルメント社製、商品名:RSAIII)により、引張測定モード、周波数:5Hz、昇温速度:10℃/分の条件で、85℃における貯蔵弾性率(MPa)を測定した。この貯蔵弾性率が高い程、硬化物の膜強度は高く、耐熱性が優れると評価される。
4). Heat resistance (storage modulus)
The adhesive solution was applied to a glossy surface of 35 μm thick electrolytic copper foil (manufactured by Japan Energy) using an applicator so that the thickness after drying was 25 μm. Then, the adhesive composition was made into a semi-cured state by removing MEK and toluene in the adhesive solution in a blast oven under heating and drying conditions at 90 ° C. for 10 minutes. A glossy surface of 35 μm thick electrolytic copper foil (manufactured by Japan Energy Co., Ltd.) is adhered to the surface to which the adhesive composition is applied, and is pressed under conditions of 160 ° C. × 50 kgf / cm 2 × 40 minutes, and further 160 ° C. × After cure for 3 hours. Then, the electrolytic copper foil was removed by etching the entire surface to prepare a cured adhesive film for measuring storage elastic modulus. Next, using this film, it was measured at 85 ° C. under the conditions of tensile measurement mode, frequency: 5 Hz, temperature increase rate: 10 ° C./min, using a viscoelasticity measuring device (trade name: RSAIII, manufactured by TA Instruments). The storage elastic modulus (MPa) was measured. It is evaluated that the higher the storage elastic modulus, the higher the film strength of the cured product and the better the heat resistance.
なお、表中、(A)〜(E)成分およびその他の成分は、以下のとおりである。 In the table, components (A) to (E) and other components are as follows.
・(A)エポキシ樹脂
(1)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコート828、ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)
(2)ビスフェノールA型エポキシ樹脂(商品名:エピコート828EL、ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)
(3)臭素含有エポキシ樹脂(商品名:エピコート5046、ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)
(4)臭素含有エポキシ樹脂(商品名:エピコート5050、ジャパンエポキシレジン製、一分子中のエポキシ基:2個)
(5)キレート変性エポキシ樹脂(商品名:EP-49-20、旭電化製、一分子中のエポキシ基:2個以上)
(6)NBR変性エポキシ樹脂(商品名:EPR-50-30、旭電化製、一分子中のエポキシ基:2個以上)
(7)オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(商品名:EOCN-103S、日本化薬製、一分子中のエポキシ基:2個以上)
・(B)架橋NBR
(1)カルボン酸で変性された架橋NBR(商品名:XER-91、JSR製)
・(C)硬化剤
(1)フェノールノボラック樹脂(商品名:BRG-558、大日本インキ化学製)
(2)ジアミン系硬化剤(4,4'−ジアミノジフェニルスルホン(DDS))
・(D)硬化促進剤
(1)イミダゾール系硬化促進剤(商品名:2E4MZ、四国化成工業製)
(2)ホウフッ化錫(ステラケミカル製)
・(E)無機充填剤
(1)水酸化アルミニウム(商品名:ハイジライトH43STE、昭和電工製)
・その他の成分
(1)コアシェル型架橋ブタジエン(商品名:EXL2655、ロームアンドハ−ス製)
(2)コアシェル型架橋アクリルゴム(商品名:EXL2314、ロームアンドハ−ス製)
(3)非架橋型水素添加NBR(商品名:ゼットポール2020、日本ゼオン製)
(4)非架橋型カルボキシル基含有NBR(商品名:PNR-1H、JSR製、高純度品)
(5)芳香族リン酸エステルアミド(リン系難燃剤、商品名:SP-703、四国化成工業製)
(6)酸化亜鉛(NBR加硫剤、ZnO)
・ (A) Epoxy resin (1) Bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 828, manufactured by Japan Epoxy Resin, 2 epoxy groups in one molecule)
(2) Bisphenol A type epoxy resin (trade name: Epicoat 828EL, made by Japan Epoxy Resin, 2 epoxy groups in one molecule)
(3) Bromine-containing epoxy resin (trade name: Epicoat 5046, manufactured by Japan Epoxy Resin, 2 epoxy groups in one molecule)
(4) Bromine-containing epoxy resin (trade name: Epicoat 5050, manufactured by Japan Epoxy Resin, 2 epoxy groups in one molecule)
(5) Chelate-modified epoxy resin (trade name: EP-49-20, manufactured by Asahi Denka, epoxy groups in one molecule: 2 or more)
(6) NBR modified epoxy resin (trade name: EPR-50-30, manufactured by Asahi Denka, epoxy groups in one molecule: 2 or more)
(7) Ortho-cresol novolac type epoxy resin (trade name: EOCN-103S, manufactured by Nippon Kayaku, epoxy groups in one molecule: 2 or more)
・ (B) Cross-linked NBR
(1) Crosslinked NBR modified with carboxylic acid (trade name: XER-91, manufactured by JSR)
・ (C) Curing agent (1) Phenol novolac resin (Brand name: BRG-558, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals)
(2) Diamine-based curing agent (4,4′-diaminodiphenylsulfone (DDS))
・ (D) Curing accelerator (1) Imidazole-based curing accelerator (trade name: 2E4MZ, manufactured by Shikoku Chemicals)
(2) Tin borofluoride (Stella Chemical)
・ (E) Inorganic filler (1) Aluminum hydroxide (trade name: Hygielite H43STE, Showa Denko)
・ Other components (1) Core-shell type cross-linked butadiene (trade name: EXL2655, manufactured by Rohm and Haas)
(2) Core-shell type cross-linked acrylic rubber (trade name: EXL2314, manufactured by Rohm and Haas)
(3) Non-bridging hydrogenated NBR (trade name: Zetpol 2020, manufactured by Nippon Zeon)
(4) Non-crosslinked carboxyl group-containing NBR (trade name: PNR-1H, manufactured by JSR, high-purity product)
(5) Aromatic phosphoric ester amide (phosphorous flame retardant, trade name: SP-703, manufactured by Shikoku Chemicals)
(6) Zinc oxide (NBR vulcanizing agent, ZnO)
<評価>
実施例で調製した組成物は、請求項1の要件を満足するものであって、その硬化物乃至カバーレイフィルムは、剥離強度および半田耐熱性に優れており、さらに85℃での貯蔵弾性率が200MPa以上であり、耐熱性に優れていた。
一方、比較例で調製した組成物は、請求項1の要件のうち、必須成分である(B)成分を含有しないものであって、その硬化物乃至カバーレイフィルムは、剥離強度、半田耐熱性および高温での耐熱性の少なくとも一種の特性が、実施例で調製したものに比べて劣っていた。
<Evaluation>
The compositions prepared in the examples satisfy the requirements of claim 1, and the cured or coverlay film is excellent in peel strength and solder heat resistance, and further has a storage elastic modulus at 85 ° C. Was 200 MPa or more, and was excellent in heat resistance.
On the other hand, the composition prepared in the comparative example does not contain the essential component (B) among the requirements of claim 1, and the cured product or coverlay film has a peel strength and a solder heat resistance. And at least one characteristic of heat resistance at high temperatures was inferior to that prepared in the examples.
Claims (4)
(B)カルボン酸で変性された架橋アクリロニトリル−ブタジエンゴム、
(C)硬化剤、
(D)硬化促進剤、および
(E)無機充填剤
を含有してなる接着剤組成物。 (A) epoxy resin,
(B) a crosslinked acrylonitrile-butadiene rubber modified with a carboxylic acid,
(C) a curing agent,
An adhesive composition comprising (D) a curing accelerator and (E) an inorganic filler.
The coverlay film according to claim 3, wherein the electrically insulating film layer is a polyimide film layer.
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